JP2011186240A - Method of manufacturing panel for information display - Google Patents

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Kaoru Sugie
薫 杉江
Osamu Shiino
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a panel for information display capable of solving a problem of the displacement of a pixel electrode and a partition, and reducing a manufacture cost by reducing the number of processes. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the panel for information display which is actively driven by using a thin film transistor (TFT) includes: a protective film and partition forming process of applying a resist being the protective film of the TFT to a back surface substrate where the TFT is formed, continuously processing the applied resist, and integrally forming the protective film having a through-hole and a partition on the back surface substrate; a pixel electrode forming process of forming the pixel electrode by printing a conductive material on the protective film between partitions and the through-hole; and a sticking process of filling a display medium inside a cell, then bonding a front surface substrate provided with a common electrode and the partition, and sticking the front surface substrate and the back surface substrate to each other. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、透明な視認側の前面基板と背面側の画素毎に薄膜トランジスタ(TFT)を形成した背面基板との間に、隔壁により互いに隔離されたセルを形成し、セル内に粒子群からなる少なくとも1種類以上の表示媒体を封入し、前面基板に設けた共通電極と背面基板のTFTに対応して設けた画素電極との間に印加した電圧に応じた電界を表示媒体に付与することにより、表示媒体を移動させて情報を表示する情報表示用パネルの製造方法に関するものである。   In the present invention, cells separated from each other by partition walls are formed between a transparent front substrate on the viewing side and a rear substrate on which a thin film transistor (TFT) is formed for each pixel on the back side, and the cells are composed of particles. By enclosing at least one type of display medium and applying an electric field corresponding to the voltage applied between the common electrode provided on the front substrate and the pixel electrode provided corresponding to the TFT on the rear substrate to the display medium The present invention relates to a method for manufacturing an information display panel that displays information by moving a display medium.

従来、透明な表示面側のパネル基板と背面側のパネル基板との間に、隔壁により互いに隔離されたセルを形成し、セル内に粒子群からなる少なくとも1種類以上の表示媒体を封入し、パネル基板に設けた電極間に印加した電圧に応じた電界を表示媒体に付与することにより、表示媒体を移動させて情報を表示する情報表示用パネルが知られている。そして、隔壁はフォトリソグラフィーにより形成すること、および、通常はライン電極によるパッシブ駆動で情報を表示することが開示されている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, a cell separated from each other by a partition is formed between a transparent display surface side panel substrate and a back side panel substrate, and at least one kind of display medium composed of particles is enclosed in the cell, 2. Description of the Related Art An information display panel that displays information by moving a display medium by applying an electric field according to a voltage applied between electrodes provided on a panel substrate to the display medium is known. In addition, it is disclosed that the partition wall is formed by photolithography, and usually displays information by passive driving using a line electrode (see, for example, Patent Document 1).

上述した構成の従来の情報表示用パネルにおいて、ライン電極を用いたパッシブ駆動で情報を表示する代わりに、下部基板上に薄膜トランジスタ(TFT)と画素電極とを形成し、薄膜トランジスタにより画素のON/OFFを制御するアクティブ駆動方式により、高応答速度や高コントラストが実現できるため、TFT基板を使用したアクティブ駆動で情報を表示する情報表示用パネルの要望が高くなってきている。   In the conventional information display panel having the above-described configuration, instead of displaying information by passive driving using a line electrode, a thin film transistor (TFT) and a pixel electrode are formed on the lower substrate, and the pixel is turned on / off by the thin film transistor. Since an active drive system that controls the above can realize a high response speed and high contrast, there is an increasing demand for an information display panel that displays information by active drive using a TFT substrate.

特開2003−202601号公報JP 2003-202601 A

図6はTFT基板を利用したアクティブ駆動方式の情報表示用パネルの一例を説明するための図である。図6において、51は背面側の背面基板、52は視認側の前面基板、53Wは帯電性白色粒子53Waを含んだ粒子群として構成した白色表示媒体、53Bは帯電性黒色粒子53Baを含んだ粒子群として構成した黒色表示媒体、54は背面基板51と前面基板52との間に例えば格子状に設けてセルを形成するための隔壁、55はTFT層57を介して背面基板51上に形成された画素電極、56は前面基板52に設けた共通電極である。また、TFT層57は、背面基板52上にゲート電極61およびゲート絶縁膜62を設け、ゲート絶縁膜62上にドレイン電極63、ソース電極64およびチャネル層65を設け、さらにその上に、スルーホール66を有する保護膜67を形成して構成されている。画素電極55は、保護膜67の表面およびスルーホール66内に設けられ、ドレイン電極63と接続している。   FIG. 6 is a diagram for explaining an example of an active display type information display panel using a TFT substrate. In FIG. 6, 51 is a rear substrate on the rear side, 52 is a front substrate on the viewing side, 53W is a white display medium configured as a particle group including charged white particles 53Wa, and 53B is a particle including charged black particles 53Ba. A black display medium configured as a group, 54 is provided on the back substrate 51 via a TFT layer 57, and 54 is provided between the back substrate 51 and the front substrate 52, for example, in a lattice shape to form cells. The pixel electrode 56 is a common electrode provided on the front substrate 52. The TFT layer 57 is provided with a gate electrode 61 and a gate insulating film 62 on the back substrate 52, a drain electrode 63, a source electrode 64 and a channel layer 65 are provided on the gate insulating film 62, and a through hole is further formed thereon. A protective film 67 having 66 is formed. The pixel electrode 55 is provided in the surface of the protective film 67 and in the through hole 66, and is connected to the drain electrode 63.

図7(a)〜(h)はそれぞれ図6に示す反射型の情報表示用パネルの製造方法の一例を説明するための図である。図7(a)〜(h)に示す例において、図6に示す部材と同一の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。本例では、図7(a)〜(d)に示す保護膜形成工程、図7(e)〜(f)に示す画素電極形成工程、図7(g)〜(h)に示す貼り合わせ工程により、情報表示用パネルを製造する。   FIGS. 7A to 7H are views for explaining an example of a manufacturing method of the reflective information display panel shown in FIG. In the example illustrated in FIGS. 7A to 7H, the same members as those illustrated in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. In this example, the protective film forming process shown in FIGS. 7A to 7D, the pixel electrode forming process shown in FIGS. 7E to 7F, and the bonding process shown in FIGS. 7G to 7H. Thus, an information display panel is manufactured.

図7(a)〜(h)に従って製造方法を説明すると、まず、図7(a)に示すように、保護膜67以外のTFT層57を設けた背面基板51を準備する。次に、図7(b)に示すように、TFT層57を設けた背面基板51上に、保護膜67を形成するためのレジスト71を塗布する。次に、図7(c)に示すように、レジスト71のスルーホール形成位置の上にマスク72を設け、マスク72を介して上方からレジスト71を露光する。次に、図7(d)に示すように、現像して未硬化のレジスト71を除去することで、スルーホール66を有する保護膜67を形成する。以上で保護膜形成工程を終了する。次に、図7(f)に示すように、バンプ73を利用して保護膜67の表面およびスルーホール66内に電極材料を印刷して設けることで、画素電極55を形成する。以上で画素電極形成工程を終了する。次に、図7(g)に示すように、隔壁54を設けるとともに隔壁54により形成されたセル内に表示媒体53W、53Bを充填した前面基板52を準備し、隔壁54の頂上部と画素電極55の端部の保護膜67とを接着剤で貼り合わせることで貼り合わせ工程を終了することにより、図7(h)に示すように、情報表示用パネルを得ている。   The manufacturing method will be described with reference to FIGS. 7A to 7H. First, as shown in FIG. 7A, a back substrate 51 provided with a TFT layer 57 other than the protective film 67 is prepared. Next, as shown in FIG. 7B, a resist 71 for forming a protective film 67 is applied on the back substrate 51 provided with the TFT layer 57. Next, as shown in FIG. 7C, a mask 72 is provided on the through hole formation position of the resist 71, and the resist 71 is exposed from above through the mask 72. Next, as shown in FIG. 7D, the protective film 67 having the through hole 66 is formed by developing and removing the uncured resist 71. The protective film forming step is thus completed. Next, as shown in FIG. 7F, the electrode material is printed on the surface of the protective film 67 and in the through hole 66 using the bump 73, thereby forming the pixel electrode 55. This completes the pixel electrode formation step. Next, as shown in FIG. 7G, a front substrate 52 in which a partition wall 54 is provided and a cell formed by the partition wall 54 is filled with display media 53W and 53B is prepared. As shown in FIG. 7 (h), an information display panel is obtained by finishing the bonding step by bonding the protective film 67 at the end of 55 with an adhesive.

上述した製造方法で製造した情報表示用パネルでは、図7(g)に示す隔壁54と保護膜67との貼り合わせ時の位置決めが難しく、図8に示すように、画素電極55と隔壁54との位置ずれが発生する問題があった。この問題は図7(g)の貼り合わせ工程におけるアライメント精度の不足や熱・応力による基板伸縮によって生じ、結果として得られた情報表示用パネルにおけるコントラスト低下や駆動不良といった不具合を引き起こす。また、上述した製造方法では、保護層形成、画素電極形成、隔壁形成と3回のフォトリソ工程を経るために、プロセスコストが高く、より安価に製造できるプロセスの開発が必要であった。さらに、上述した製造方法とは異なるが、画素電極を真空成膜法を用いて形成した場合、スルーホール部分が凹部として残るため、粒子移動に不具合を生じることがあった。   In the information display panel manufactured by the manufacturing method described above, it is difficult to position the partition wall 54 and the protective film 67 shown in FIG. 7G when they are bonded together. As shown in FIG. There has been a problem that misalignment occurs. This problem arises due to insufficient alignment accuracy in the bonding step of FIG. 7G and expansion / contraction of the substrate due to heat and stress, and causes problems such as a decrease in contrast and drive failure in the resulting information display panel. Further, in the manufacturing method described above, since the protective layer formation, the pixel electrode formation, the partition wall formation, and the three photolithography processes are performed, the process cost is high and it is necessary to develop a process that can be manufactured at a lower cost. Furthermore, although different from the manufacturing method described above, when the pixel electrode is formed by using a vacuum film forming method, the through hole portion remains as a concave portion, which may cause a problem in particle movement.

本発明の目的は上述した問題点を解消して、画素電極と隔壁との位置ずれの問題を解決することができ、かつ工程数の減少による製造コスト削減を行うことが出来る情報表示用パネルの製造方法を提供しようとするものである。   The object of the present invention is to solve the above-described problems, solve the problem of positional deviation between the pixel electrode and the partition wall, and reduce the manufacturing cost by reducing the number of processes. A manufacturing method is to be provided.

本発明の情報表示用パネルの製造方法は、透明な視認側の前面基板と背面側の画素毎に薄膜トランジスタ(TFT)を形成した背面基板との間に、隔壁により互いに隔離されたセルを形成し、セル内に粒子群からなる少なくとも1種類以上の表示媒体を封入し、前面基板に設けた共通電極と背面基板のTFTに対応して設けた画素電極との間に印加した電圧に応じた電界を表示媒体に付与することにより、表示媒体を移動させて情報を表示する情報表示用パネルの製造方法であって、
前記TFTを形成した背面基板に、TFTの保護膜とするレジストを塗布し、塗布したレジストを連続的に加工して、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成する保護膜及び隔壁形成工程と、
前記隔壁間の保護膜上及びスルーホールに導電性材料を印刷することで画素電極を形成する画素電極形成工程と、
前記表示媒体をセル内に充填した後、前記共通電極を設けた前面基板と前記隔壁とを接合して前面基板と背面基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
からなることを特徴とするものである。
In the method for manufacturing an information display panel according to the present invention, cells separated from each other by partition walls are formed between a transparent front substrate on the viewing side and a rear substrate on which a thin film transistor (TFT) is formed for each pixel on the back side. An electric field corresponding to a voltage applied between a common electrode provided on the front substrate and a pixel electrode provided corresponding to the TFT on the rear substrate, in which at least one type of display medium composed of particle groups is enclosed in the cell Is a manufacturing method of an information display panel that displays information by moving the display medium by applying to the display medium,
A protective film in which a protective film having a through hole and a partition wall are integrally formed on the rear substrate by applying a resist as a TFT protective film to the rear substrate on which the TFT is formed, and continuously processing the applied resist. A film and partition formation step;
A pixel electrode forming step of forming a pixel electrode by printing a conductive material on the protective film between the partition walls and in the through hole;
After filling the display medium in the cell, a bonding step of bonding the front substrate and the back substrate by bonding the front substrate provided with the common electrode and the partition,
It is characterized by comprising.

本発明の情報表示用パネルの製造方法の好適例としては、保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光硬化型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁を形成する部分のみ露光する一次露光と、保護膜にスルーホールを形成する部分のみ露光する二次露光を行った後、現像を行って未硬化のレジストを除去することで、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成すること、および、前記露光条件として、レジストの塗布厚みTを保護層の厚みt1と隔壁厚みt2の和(T=t1+t2)とし、厚みTのレジストを完全に硬化するのに必要なエネルギーをEとすると、一次露光でE×(t2/T)以上のエネルギーを与え、二次露光でE×(t1/T)以下のエネルギーを与えること、がある。   As a preferred example of the method for producing an information display panel of the present invention, in the protective film and partition wall forming step, a photo-curing resist is used as a resist, and the coated resist is exposed to only a portion where the partition wall is formed. Then, after the secondary exposure that exposes only the part where the through hole is formed in the protective film, development is performed to remove the uncured resist, so that the protective film having the through hole and the partition wall are integrated on the back substrate. As an exposure condition, the application thickness T of the resist is the sum of the protective layer thickness t1 and the partition wall thickness t2 (T = t1 + t2), and the energy required to completely cure the resist having the thickness T If E is E, energy of E × (t2 / T) or more may be given by primary exposure, and energy of E × (t1 / T) or less may be given by secondary exposure.

また、本発明の情報表示用パネルの製造方法の他の好適例としては、保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光可塑型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁部分のみをマスクして一次露光を行い、次にマスクを用いてスルーホールの部分のみ二次露光した後、現像を行ってスルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成すること、および、前記露光条件として、レジストの塗布厚みTを保護層の厚みt1と隔壁厚みt2の和(T=t1+t2)とし、厚みTのレジストを十分に可塑化するのに必要なエネルギーをEとすると、一次露光でE×(t2/T)以下のエネルギーを与え、二次露光でE×(t1/T)以上のエネルギーを与えること、がある。   As another preferred example of the method for manufacturing the information display panel of the present invention, in the protective film and partition wall forming step, a photoresist is used as a resist, and only the partition wall portion is masked against the applied resist. First exposure is performed, and then a second exposure is performed only on the through hole portion using a mask, followed by development to form a protective film having a through hole and a partition integrally on the back substrate, and the exposure. As a condition, assuming that the coating thickness T of the resist is the sum of the thickness t1 of the protective layer and the thickness t2 of the partition wall (T = t1 + t2), and the energy required to sufficiently plasticize the resist having the thickness T is E, There are cases where energy of E × (t2 / T) or less is given and energy of E × (t1 / T) or more is given by secondary exposure.

さらに、本発明の情報表示用パネルの製造方法のさらに他の好適例としては、前記画素電極形成工程における画素電極の形成方法が、インクジェット法であり、その際に用いるインクの粘度が0.1mP・sec〜10mP・secであること、および、前記画素電極形成工程における画素電極の形成において、画素電極印刷時のインクの流動を利用することで、画素電極を平坦化すること、がある。   Furthermore, as still another suitable example of the method for manufacturing the information display panel of the present invention, the pixel electrode forming method in the pixel electrode forming step is an ink jet method, and the viscosity of the ink used at that time is 0.1 mP. There are cases where the pixel electrode is flattened by using the flow of ink during printing of the pixel electrode in the formation of the pixel electrode in the pixel electrode formation step.

本発明によれば、隔壁と保護膜とを同一の材料で連続的に形成することで、隔壁を前面基板ではなく背面基板に形成するとともに、作製した隔壁を、画素電極を印刷形成する際のバンク(堤防)として利用することができる。そのため、必要な工程数を減少させることができ、より低コストかつ高スループットでの製造が可能となる。また、隔壁の位置に合わせて画素電極が形成されるため、画素電極と隔壁の位置ずれは本質的に発生せず、精密なアライメントも不要になる。これにより、得られる情報表示用パネルのコントラスト向上や製造時のスループット向上が可能になる。   According to the present invention, the partition wall and the protective film are continuously formed of the same material, so that the partition wall is formed on the back substrate instead of the front substrate, and the fabricated partition wall is formed when the pixel electrode is printed. It can be used as a bank. Therefore, the number of necessary steps can be reduced, and manufacturing at a lower cost and higher throughput becomes possible. In addition, since the pixel electrode is formed in accordance with the position of the partition wall, the positional displacement between the pixel electrode and the partition wall does not occur essentially, and precise alignment becomes unnecessary. As a result, the contrast of the obtained information display panel can be improved and the throughput in manufacturing can be improved.

本発明の好適例として、保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光硬化型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁を形成する部分のみ露光する一次露光と、保護膜にスルーホールを形成する部分のみ露光する二次露光を行った後、現像を行って未硬化のレジストを除去することで、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成すること、および、前記露光条件として、レジストの塗布厚みTを保護層の厚みt1と隔壁厚みt2の和(T=t1+t2)とし、厚みTのレジストを完全に硬化するのに必要なエネルギーをEとすると、一次露光でE×(t2/T)以上のエネルギーを与え、二次露光でE×(t1/T)以下のエネルギーを与える場合は、製造方法および露光条件をより最適化することができ、より好適に、得られる情報表示用パネルのコントラスト向上や製造時のスループット向上が可能になる。   As a preferred example of the present invention, in the protective film and partition wall forming step, a photo-curing resist is used as a resist, and the applied resist is subjected to primary exposure for exposing only a portion where the partition wall is formed, and through holes are formed in the protective film. After performing the secondary exposure to expose only a part, the development is performed to remove the uncured resist, so that a protective film having a through hole and a partition are integrally formed on the back substrate, and the exposure As a condition, if the coating thickness T of the resist is the sum of the thickness t1 of the protective layer and the partition wall thickness t2 (T = t1 + t2), and E is the energy required to completely cure the resist having the thickness T, E When energy of x (t2 / T) or more is given and energy of E x (t1 / T) or less is given in secondary exposure, the manufacturing method and exposure conditions can be further optimized. More preferably, the contrast of the obtained information display panel can be improved and the throughput at the time of manufacturing can be improved.

また、本発明の他の好適例として、保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光可塑型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁部分のみをマスクして一次露光を行い、次にマスクを用いてスルーホールの部分のみ二次露光した後、現像を行ってスルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成すること、および、前記露光条件として、レジストの塗布厚みTを保護層の厚みt1と隔壁厚みt2の和(T=t1+t2)とし、厚みTのレジストを十分に可塑化するのに必要なエネルギーをEとすると、一次露光でE×(t2/T)以下のエネルギーを与え、二次露光でE×(t1/T)以上のエネルギーを与える場合も、製造方法および露光条件をより最適化することができ、より好適に、得られる情報表示用パネルのコントラスト向上や製造時のスループット向上が可能になる。   As another preferred embodiment of the present invention, in the protective film and partition wall forming step, a photoresist is used as a resist, and the coated resist is subjected to primary exposure while masking only the partition wall portion, and then the mask is formed. After the secondary exposure is performed only for the through-hole portion, development is performed to form a protective film having a through-hole and a partition integrally on the rear substrate, and the resist coating thickness T is set as the exposure condition. When the sum of the protective layer thickness t1 and the partition wall thickness t2 (T = t1 + t2) is assumed, and E is energy necessary for sufficiently plasticizing the resist having the thickness T, the primary exposure is less than E × (t2 / T). Even when energy is applied and energy of E × (t1 / T) or more is applied in the secondary exposure, the manufacturing method and exposure conditions can be further optimized, and the information display pattern obtained can be more suitably obtained. It is possible to improve the contrast of the channel and the throughput during manufacturing.

さらに、本発明のさらに他の好適例として、前記画素電極形成工程における画素電極の形成方法が、インクジェット法であり、その際に用いるインクの粘度が0.1mP・sec〜10mP・secであること、および、前記画素電極形成工程における画素電極の形成において、画素電極印刷時のインクの流動を利用する場合は、画素形成をより最適化することができ、より好適に、得られる情報表示用パネルのコントラスト向上や製造時のスループット向上が可能になる。   Furthermore, as yet another preferred embodiment of the present invention, the pixel electrode forming method in the pixel electrode forming step is an ink jet method, and the viscosity of the ink used at that time is 0.1 mP · sec to 10 mP · sec. In the formation of the pixel electrode in the pixel electrode formation step, when the flow of ink at the time of printing the pixel electrode is used, the pixel formation can be further optimized, and the obtained information display panel is more preferably obtained Contrast and manufacturing throughput can be improved.

(a)、(b)は本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの基本的な構成の一例を示す図である。(A), (b) is a figure which shows an example of the fundamental structure of the information display panel used as the object of the manufacturing method of this invention. 本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの一例の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of an example of the information display panel used as the object of the manufacturing method of this invention. (a)〜(h)はそれぞれ図2に示す本発明の情報表示用パネルの製造方法の一例を説明するための図である。(A)-(h) is a figure for demonstrating an example of the manufacturing method of the information display panel of this invention shown in FIG. 2, respectively. (a)〜(h)はそれぞれ図2に示す本発明の情報表示用パネルの製造方法の他の例を説明するための図である。(A)-(h) is a figure for demonstrating the other example of the manufacturing method of the information display panel of this invention shown in FIG. 2, respectively. 本発明の製造方法に従って製造した情報表示用パネルの画素電極と隔壁との関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the relationship between the pixel electrode and partition of the information display panel manufactured according to the manufacturing method of this invention. TFT基板を利用したアクティブ駆動方式の情報表示用パネルの一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the information display panel of the active drive system using a TFT substrate. (a)〜(h)はそれぞれ図6に示す反射型の情報表示用パネルの製造方法の一例を説明するための図である。(A)-(h) is a figure for demonstrating an example of the manufacturing method of the reflection type information display panel shown in FIG. 6, respectively. 従来の製造方法に従って製造した情報表示用パネルの画素電極と隔壁との関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the relationship between the pixel electrode of the information display panel manufactured according to the conventional manufacturing method, and a partition.

<本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの基本的な構成について>
まず、本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの一例である帯電粒子電界駆動方式情報表示用パネルの基本的な構成について説明する。前記情報表示用パネルでは、対向する2枚の基板間に封入した帯電性粒子を含んだ粒子群として構成した表示媒体に対向対電極から電界が付与される。付与された電界方向にそって、表示媒体が電界による力やクーロン力などによって引き寄せられ、表示媒体が電界方向の変化によって移動方向が切り換わることにより、画像等の情報表示がなされる。従って、表示媒体が、均一に移動し、かつ、表示情報を書き換える時あるいは表示した情報を継続して表示する時の安定性を維持できるように、情報表示用パネルを設計する必要がある。ここで、表示媒体を構成する粒子にかかる力は、粒子同士のクーロン力により引き付けあう力の他に、電極や基板との電気鏡像力、分子間力、液架橋力、重力などが考えられる。
<Basic Configuration of Information Display Panel Targeted by Manufacturing Method of the Present Invention>
First, a basic configuration of a charged particle electric field driving system information display panel, which is an example of an information display panel that is an object of the manufacturing method of the present invention, will be described. In the information display panel, an electric field is applied from a counter counter electrode to a display medium configured as a particle group including charged particles sealed between two opposing substrates. Along with the applied electric field direction, the display medium is attracted by an electric field force or a Coulomb force, and the moving direction of the display medium is switched by a change in the electric field direction, whereby information such as an image is displayed. Therefore, it is necessary to design the information display panel so that the display medium can move uniformly and maintain the stability when the display information is rewritten or when the displayed information is continuously displayed. Here, as the force applied to the particles constituting the display medium, in addition to the force attracting each other by the Coulomb force between the particles, an electric mirror image force between the electrode and the substrate, an intermolecular force, a liquid cross-linking force, gravity and the like can be considered.

本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルに適用している情報表示の原理を、図1(a)、(b)に基づき説明する。図1(a)、(b)に示す例では、少なくとも光学的反射率および帯電性を有する粒子を含んだ粒子群として構成した少なくとも2種類の表示媒体(ここでは負帯電性白色粒子3Waを含んだ粒子群として構成した白色表示媒体3Wと正帯電性黒色粒子3Baを含んだ粒子群として構成した黒色表示媒体3Bを示す)を、隔壁4で形成された各セルにおいて、基板1に設けた電極5(TFT(薄膜トランジスタ)付き画素電極)と基板2に設けた電極6(共通電極)との間に電圧を印加することにより発生する電界に応じて、基板1、2と垂直に移動させる。そして、図1(a)に示すように白色表示媒体3Wを観察者に視認させて白色の表示を、あるいは、図1(b)に示すように黒色表示媒体3Bを観察者に視認させて黒色の表示を白黒のドットでマトリックス表示している。なお、図1(a)、(b)において、手前にある隔壁は省略している。また、ここではセルと画素(ドット)とが1対1に対応する例を示している。ここでは、セル空間が気体で満たされている帯電粒子気体中移動方式の表示パネルの例を説明したが、気体の代わりに、絶縁液体を用いた帯電粒子液体中移動方式(電気泳動方式)の表示パネルとすることもできる。   The principle of information display applied to the information display panel that is the subject of the manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 (a) and 1 (b). In the example shown in FIGS. 1A and 1B, at least two types of display media (in this case, including negatively charged white particles 3Wa) configured as a particle group including particles having at least optical reflectance and chargeability are included. The electrode provided on the substrate 1 in each cell formed by the partition walls 4 is a white display medium 3W configured as a particle group and a black display medium 3B configured as a particle group including positively charged black particles 3Ba). 5 (pixel electrode with TFT (thin film transistor)) and the electrode 6 (common electrode) provided on the substrate 2 are moved vertically to the substrates 1 and 2 in accordance with an electric field generated by applying a voltage. Then, the white display medium 3W is visually recognized by the observer as shown in FIG. 1A, or the white display is displayed by the observer, or the black display medium 3B is visually recognized by the observer as shown in FIG. Is displayed in a matrix with black and white dots. In addition, in FIG. 1 (a), (b), the partition in front is abbreviate | omitted. Here, an example is shown in which cells and pixels (dots) correspond one-to-one. Here, an example of a charged particle gas moving type display panel in which the cell space is filled with gas has been described. It can also be a display panel.

<本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの具体的な構成について>
図2は本発明の製造方法の対象となる情報表示用パネルの一例の構成を示す図である。図2に示す例において、図1(a)、(b)に示した部材と同一の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。図2に示す例において、1は背面側の背面基板、2は視認側の前面基板、3Wは帯電性白色粒子3Waを含んだ粒子群として構成した白色表示媒体、3Bは帯電性黒色粒子3Baを含んだ粒子群として構成した黒色表示媒体、4は背面基板1と前面基板2との間に例えば格子状に設けてセルを形成するための隔壁、5はTFT層7を介して背面基板1上に形成された画素電極、6は前面基板2に設けた共通電極である。また、TFT層7は、背面基板2上にゲート電極11およびゲート絶縁膜12を設け、ゲート絶縁膜12上にドレイン電極13、ソース電極14およびチャネル層15を設け、さらにその上に、スルーホール16を有する保護膜17を形成して構成されている。画素電極15は、保護膜17の表面およびスルーホール16内に設けられ、ドレイン電極13と接続している。
<Concerning Specific Configuration of Information Display Panel Targeted by Manufacturing Method of the Present Invention>
FIG. 2 is a view showing a configuration of an example of an information display panel which is a target of the manufacturing method of the present invention. In the example shown in FIG. 2, the same members as those shown in FIGS. 1A and 1B are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. In the example shown in FIG. 2, 1 is a back substrate on the back side, 2 is a front substrate on the viewing side, 3W is a white display medium configured as a particle group including the chargeable white particles 3Wa, and 3B is the chargeable black particles 3Ba. A black display medium configured as a group of particles including 4 is provided between the rear substrate 1 and the front substrate 2 in a lattice shape, for example, to form cells, and 5 is provided on the rear substrate 1 via the TFT layer 7. A pixel electrode 6 formed on the front substrate 2 is a common electrode provided on the front substrate 2. Further, the TFT layer 7 is provided with a gate electrode 11 and a gate insulating film 12 on the back substrate 2, a drain electrode 13, a source electrode 14 and a channel layer 15 are provided on the gate insulating film 12, and a through hole is further formed thereon. A protective film 17 having 16 is formed. The pixel electrode 15 is provided in the surface of the protective film 17 and in the through hole 16 and is connected to the drain electrode 13.

<本発明の情報表示用パネルの製造方法について>
本発明の情報表示用パネルの製造方法の特徴は、図2に示す構造の情報表示用パネルを製造するにあたり、(1)TFTを形成した背面基板に、TFTの保護膜とするレジストを塗布し、塗布したレジストを連続的に加工して、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成する保護膜及び隔壁形成工程と、(2)隔壁間の保護膜上及びスルーホールに導電性材料を印刷することで画素電極を形成する画素電極形成工程と、(3)表示媒体をセル内に充填した後、前記共通電極を設けた前面基板と前記隔壁とを接合して前面基板と背面基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、を実施する点にある。
<About the manufacturing method of the information display panel of this invention>
The characteristics of the information display panel manufacturing method of the present invention are as follows. (1) A resist as a TFT protective film is applied to the back substrate on which the TFT is formed. A protective film and partition forming step for continuously processing the coated resist to form a protective film having a through hole and a partition on the back substrate integrally; and (2) on the protective film between the partition and the through hole. A pixel electrode forming step of forming a pixel electrode by printing a conductive material on the surface; and (3) after filling the display medium in the cell, the front substrate provided with the common electrode and the partition are joined together And a bonding step of bonding the substrate and the back substrate.

<第1実施例の説明>
図3(a)〜(h)はそれぞれ図2に示す本発明の情報表示用パネルの製造方法の一例を説明するための図である。図3(a)〜(h)に示す例において、図2に示す部材と同一の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。本例では、図3(a)〜(e)に示す保護膜および隔壁形成工程、図3(f)に示す画素電極形成工程、図3(g)〜(h)に示す貼り合わせ工程により、情報表示用パネルを製造する。
<Description of the first embodiment>
3A to 3H are views for explaining an example of a method for manufacturing the information display panel of the present invention shown in FIG. In the example shown in FIGS. 3A to 3H, the same members as those shown in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. In this example, the protective film and partition wall forming step shown in FIGS. 3A to 3E, the pixel electrode forming step shown in FIG. 3F, and the bonding step shown in FIGS. Manufacture information display panels.

図3(a)〜(h)に従って本発明の情報表示用パネルの製造方法を説明すると、まず、図3(a)に示すように、保護膜17以外のTFT層を設けた背面基板1を準備する。次に、図3(b)に示すように、TFT層7を設けた背面基板1上に、保護膜17および隔壁4を形成するための光硬化型のレジスト21を塗布する。レジスト21の塗布厚は、保護膜17の厚さに隔壁4の厚さを加味した厚さとする。次に、図3(c)に示すように、レジスト21の隔壁形成位置以外の部分にマスク22を設け、マスク22を介して上方からレジスト21を強露光する一次露光を実施する。次に、図3(d)に示すように、マスク22を除去し、レジスト21のスルーホール形成位置の上にマスク23を設け、マスク23を介して上方からレジスト21を弱露光する二次露光を実施する。次に、図3(e)に示すように、現像して未硬化のレジスト21を除去することで、スルーホール16を有する保護膜17と隔壁4とを一体に形成する。また、ここでは説明しなかったが、必要に応じて、さらに保護膜全面を露光して保護膜17を完全に硬化させることもできる。以上で保護膜および隔壁形成工程を終了する。次に、図3(f)に示すように、隔壁4をバンプとして利用することで、保護膜17の表面およびスルーホール16内に電極材料を印刷して設けることで、画素電極5を形成する。以上で画素電極形成工程を終了する。次に、図3(g)に示すように、背面基板1の隔壁4により形成されたセル内に表示媒体3W、3Bを充填した後、共通電極6を有する前面基板2を準備し、隔壁4の頂上部と前面基板2の共通電極6とを接着剤で貼り合わせることで貼り合わせ工程を終了することにより、図3(h)に示すように、本発明の製造対象となる情報表示用パネルを得ている。   The manufacturing method of the information display panel of the present invention will be described with reference to FIGS. 3A to 3H. First, as shown in FIG. 3A, a back substrate 1 provided with a TFT layer other than the protective film 17 is formed. prepare. Next, as shown in FIG. 3B, a photocurable resist 21 for forming the protective film 17 and the partition walls 4 is applied on the back substrate 1 provided with the TFT layer 7. The coating thickness of the resist 21 is a thickness obtained by adding the thickness of the partition wall 4 to the thickness of the protective film 17. Next, as shown in FIG. 3C, a mask 22 is provided in a portion other than the partition formation position of the resist 21, and primary exposure is performed in which the resist 21 is strongly exposed from above through the mask 22. Next, as shown in FIG. 3D, the mask 22 is removed, a mask 23 is provided on the through hole formation position of the resist 21, and the secondary exposure in which the resist 21 is weakly exposed from above through the mask 23. To implement. Next, as shown in FIG. 3E, the protective film 17 having the through holes 16 and the partition walls 4 are integrally formed by developing and removing the uncured resist 21. Although not described here, the entire surface of the protective film can be further exposed to completely cure the protective film 17 as necessary. The protective film and partition formation process is thus completed. Next, as shown in FIG. 3 (f), the pixel electrode 5 is formed by printing the electrode material on the surface of the protective film 17 and in the through hole 16 by using the partition walls 4 as bumps. . This completes the pixel electrode formation step. Next, as shown in FIG. 3G, after the display medium 3W, 3B is filled in the cell formed by the partition 4 of the back substrate 1, the front substrate 2 having the common electrode 6 is prepared, and the partition 4 By finishing the bonding process by bonding the top of the substrate and the common electrode 6 of the front substrate 2 with an adhesive, as shown in FIG. 3 (h), the information display panel to be manufactured according to the present invention Have gained.

上述した本発明の情報表示用パネルの製造方法において、露光条件として、レジストの塗布厚みTを保護層の厚みt1と隔壁厚みt2の和(T=t1+t2)とし、厚みTのレジストを完全に硬化するのに必要なエネルギーをEとすると、一次露光でE×(t2/T)以上のエネルギーを与え、二次露光でE×(t1/T)以下のエネルギーを与えることが好ましい。ここで、一次露光でE×(t2/T)以上のエネルギーを与え、二次露光でE×(t1/T)以下のエネルギーを与えることが好ましいのは、二次露光量がE×(t1/T)を超えると保護層部分の硬化が進んでエッチングが困難となる場合があるためである。その結果、保護層厚みt1が設計よりも厚くなる、エッチング形状がすり鉢状になるなどの不具合を生じることがある。また、隔壁部分は2回の露光により完全に硬化される必要があるため、一次露光と二次露光の総和が必要露光量Eを超えるように二次露光量に合わせて一次露光量を調節することが好ましい。   In the manufacturing method of the information display panel of the present invention described above, the resist coating thickness T is the sum of the protective layer thickness t1 and the partition wall thickness t2 (T = t1 + t2) as the exposure condition, and the resist having the thickness T is completely cured. Assuming that the energy required for this is E, it is preferable to give energy of E × (t2 / T) or more in primary exposure and energy of E × (t1 / T) or less in secondary exposure. Here, it is preferable to apply energy of E × (t2 / T) or more in the primary exposure and energy of E × (t1 / T) or less in the secondary exposure because the secondary exposure amount is E × (t1 This is because if the thickness exceeds / T), the protective layer portion is hardened and etching may be difficult. As a result, problems such as the protective layer thickness t1 becoming thicker than the design and the etching shape becoming a mortar shape may occur. Further, since the partition wall portion needs to be completely cured by two exposures, the primary exposure amount is adjusted according to the secondary exposure amount so that the sum of the primary exposure and the secondary exposure exceeds the required exposure amount E. It is preferable.

また、画素電極形成工程における画素電極の形成方法が、インクジェット法であり、その際に用いるインクの粘度が0.1mP・sec〜10mP・secであること、および、前記画素電極形成工程における画素電極の形成において、画素電極印刷時のインクの流動を利用することで、画素電極を平坦化することが好ましい。画素電極の形成方法としては、インクジェット法の他、グラビア法、グラビアオフセット法、平版オフセット法、スクリーン印刷法などの印刷法を用いることもできる。中でも、画素電極の平坦性や加工の容易性からインクジェット法が最も良い。インクの粘度はスルーホールへの充填がスムーズに行われる範囲で自由に選択が可能で、0.1mP・sec〜10mP・secの範囲が好ましく、必要な電極厚みに応じた量のインクを隔壁内の任意の位置に滴下する。インクが隔壁内を流動することが必要なため、溶剤及び濃度によって乾燥速度を遅らせると良い。   Further, the pixel electrode forming method in the pixel electrode forming step is an ink jet method, and the viscosity of the ink used at that time is 0.1 mP · sec to 10 mP · sec, and the pixel electrode in the pixel electrode forming step In forming the pixel electrode, it is preferable to flatten the pixel electrode by utilizing the flow of ink during pixel electrode printing. As a method for forming the pixel electrode, a printing method such as a gravure method, a gravure offset method, a lithographic offset method, or a screen printing method can be used in addition to the inkjet method. Among these, the inkjet method is the best because of the flatness of the pixel electrode and the ease of processing. The viscosity of the ink can be freely selected as long as the through hole is smoothly filled, and is preferably in the range of 0.1 mP · sec to 10 mP · sec. An amount of ink corresponding to the required electrode thickness is contained in the partition wall. Drip at any position. Since it is necessary for the ink to flow in the partition walls, the drying rate may be delayed depending on the solvent and concentration.

<第2実施例の説明>
図4(a)〜(h)はそれぞれ図2に示す本発明の情報表示用パネルの製造方法の他の例を説明するための図である。図4(a)〜(h)に示す例において、図2に示す部材と同一の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。本例では、図4(a)〜(e)に示す保護膜および隔壁形成工程、図4(f)に示す画素電極形成工程、図4(g)〜(f)に示す貼り合わせ工程により、情報表示用パネルを製造する。
<Description of the second embodiment>
4A to 4H are views for explaining another example of the method for manufacturing the information display panel of the present invention shown in FIG. In the example shown in FIGS. 4A to 4H, the same members as those shown in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. In this example, the protective film and partition formation step shown in FIGS. 4A to 4E, the pixel electrode formation step shown in FIG. 4F, and the bonding step shown in FIGS. Manufacture information display panels.

図4(a)〜(h)に従って本発明の情報表示用パネルの製造方法を説明すると、まず、図4(a)に示すように、保護膜17以外のTFT層を設けた背面基板1を準備する。次に、図4(b)に示すように、TFT層7を設けた背面基板1上に、保護膜17および隔壁4を形成するための光可塑型のレジスト24を塗布する。レジスト21の塗布厚は、保護膜17の厚さに隔壁4の厚さを加味した厚さとする。次に、図4(c)に示すように、レジスト24の隔壁形成位置の部分に隔壁用のマスク25を設け、隔壁用マスク25を介して上方から弱露光を行う。次に、図4(d)に示すように、隔壁用マスク25を除去し、保護膜となるレジスト24のスルーホール形成位置以外の部分にスルーホール加工用のマスク26を設け、スルーホール加工用マスク26を介して上方からレジスト24を強露光する。次に、図4(e)に示すように、現像して未硬化のレジスト24を除去することで、スルーホール16を有する保護膜17と隔壁4とを一体に形成する。また、ここでは説明しなかったが、必要に応じて、さらに保護膜全面を加熱して保護膜17を完全に硬化させることもできる。以上で保護膜および隔壁形成工程を終了する。次に、図4(f)に示すように、隔壁4をバンプとして利用することで、保護膜17の表面およびスルーホール16内に電極材料を印刷して設けることで、画素電極5を形成する。以上で画素電極形成工程を終了する。次に、図4(g)に示すように、背面基板1の隔壁4により形成されたセル内に表示媒体3W、3Bを充填した後、共通電極6を有する前面基板2を準備し、隔壁4の頂上部と前面基板2の共通電極6とを接着剤で貼り合わせることで貼り合わせ工程を終了することにより、図4(h)に示すように、本発明の製造対象となる情報表示用パネルを得ている。   The manufacturing method of the information display panel of the present invention will be described with reference to FIGS. 4A to 4H. First, as shown in FIG. 4A, the back substrate 1 provided with a TFT layer other than the protective film 17 is formed. prepare. Next, as shown in FIG. 4B, a photo resist 24 for forming the protective film 17 and the partition walls 4 is applied on the back substrate 1 provided with the TFT layer 7. The coating thickness of the resist 21 is a thickness obtained by adding the thickness of the partition wall 4 to the thickness of the protective film 17. Next, as shown in FIG. 4C, a partition mask 25 is provided at the partition formation position of the resist 24, and weak exposure is performed from above through the partition mask 25. Next, as shown in FIG. 4D, the partition mask 25 is removed, and a through hole processing mask 26 is provided at a portion other than the through hole formation position of the resist 24 serving as a protective film. The resist 24 is strongly exposed from above through the mask 26. Next, as shown in FIG. 4E, the protective film 17 having the through holes 16 and the partition walls 4 are integrally formed by developing and removing the uncured resist 24. Although not described here, if necessary, the entire protective film can be further heated to completely cure the protective film 17. The protective film and partition formation process is thus completed. Next, as shown in FIG. 4F, the pixel electrode 5 is formed by printing the electrode material on the surface of the protective film 17 and in the through hole 16 by using the partition walls 4 as bumps. . This completes the pixel electrode formation step. Next, as shown in FIG. 4G, after the display medium 3W, 3B is filled in the cell formed by the partition 4 of the back substrate 1, the front substrate 2 having the common electrode 6 is prepared, and the partition 4 By finishing the bonding process by bonding the top of the substrate and the common electrode 6 of the front substrate 2 with an adhesive, as shown in FIG. 4 (h), the information display panel to be manufactured according to the present invention Have gained.

上述した本発明の情報表示用パネルの製造方法において、露光条件として、レジストの塗布厚みTを保護層の厚みt1と隔壁厚みt2の和(T=t1+t2)とし、厚みTのレジストを十分に可塑化するのに必要なエネルギーをEとすると、一次露光でE×(t2/T)以下のエネルギーを与え、二次露光でE×(t1/T)以上のエネルギーを与えることが好ましい。ここで、一次露光でE×(t2/T)以下のエネルギーを与え、二次露光でE×(t1/T)以上のエネルギーを与えることが好ましいのは、一次露光量がE×(t2/T)を超えると保護層部分まで可塑化が進み、保護層厚みt1が薄くなりすぎる場合があるためである。また、スルーホール部分は2回の露光により十分に可塑化される必要があるため、一次露光と二次露光の総和が必要露光量Eを超えるように、一次露光量に合わせて二次露光量を調節することが好ましい。   In the information display panel manufacturing method of the present invention described above, the resist coating thickness T is set to the sum of the protective layer thickness t1 and the partition wall thickness t2 (T = t1 + t2) as the exposure condition, and the resist having the thickness T is sufficiently plasticized. Assuming that the energy required for conversion to E is E, it is preferable to give an energy of E × (t2 / T) or less in the primary exposure and give an energy of E × (t1 / T) or more in the secondary exposure. Here, it is preferable to give energy of E × (t2 / T) or less in the primary exposure and to give energy of E × (t1 / T) or more in the secondary exposure because the primary exposure amount is E × (t2 / T). If T) is exceeded, plasticization proceeds to the protective layer portion, and the protective layer thickness t1 may become too thin. In addition, since the through-hole portion needs to be sufficiently plasticized by two exposures, the secondary exposure amount is matched to the primary exposure amount so that the sum of the primary exposure and the secondary exposure exceeds the required exposure amount E. Is preferably adjusted.

また、画素電極形成工程における画素電極の形成方法が、インクジェット法であり、その際に用いるインクの粘度が0.1mP・sec〜10mP・secであること、および、前記画素電極形成工程における画素電極の形成において、画素電極印刷時のインクの流動を利用することで、画素電極を平坦化することが好ましい。画素電極の形成方法としては、インクジェット法の他、グラビア法、グラビアオフセット法、平版オフセット法、スクリーン印刷法などの印刷法を用いることもできる。中でも、画素電極の平坦性や加工の容易性からインクジェット法が最も良い。インクの粘度はスルーホールへの充填がスムーズに行われる範囲で自由に選択が可能で、0.1mP・sec〜10mP・secの範囲が好ましく、必要な電極厚みに応じた量のインクを隔壁内の任意の位置に滴下する。インクが隔壁内を流動することが必要なため、溶剤及び濃度によって乾燥速度を遅らせると良い。   Further, the pixel electrode forming method in the pixel electrode forming step is an ink jet method, and the viscosity of the ink used at that time is 0.1 mP · sec to 10 mP · sec, and the pixel electrode in the pixel electrode forming step In forming the pixel electrode, it is preferable to flatten the pixel electrode by utilizing the flow of ink during pixel electrode printing. As a method for forming the pixel electrode, a printing method such as a gravure method, a gravure offset method, a lithographic offset method, or a screen printing method can be used in addition to the inkjet method. Among these, the inkjet method is the best because of the flatness of the pixel electrode and the ease of processing. The viscosity of the ink can be freely selected as long as the through hole is smoothly filled, and is preferably in the range of 0.1 mP · sec to 10 mP · sec. An amount of ink corresponding to the required electrode thickness is contained in the partition wall. Drip at any position. Since it is necessary for the ink to flow in the partition walls, the drying rate may be delayed depending on the solvent and concentration.

上述した本発明の第1実施例および第2実施例に係る情報表示用パネルの製造方法によれば、隔壁と保護膜とを同一の材料で連続的に形成することで、隔壁を前面基板ではなく背面基板に形成するとともに、作製した隔壁を、画素電極を印刷形成する際のバンク(堤防)として利用することができる。そのため、必要な工程数を減少させることができ、より低コストかつ高スループットでの製造が可能となる。また、隔壁の位置に合わせて画素電極が形成されるため、画素電極と隔壁の位置ずれは本質的に発生せず、精密なアライメントも不要になる。これにより、得られる情報表示用パネルのコントラスト向上や製造時のスループット向上が可能になる。具体的には、上述した本発明の製造方法で製造した情報表示用パネルでは、画素電極と隔壁とを一体に形成しているので、図5に示すように、画素電極5と隔壁4との位置合わせは良好となる。   According to the method for manufacturing the information display panel according to the first and second embodiments of the present invention described above, the partition walls are formed on the front substrate by continuously forming the partition walls and the protective film with the same material. The barrier ribs can be used as banks (banks) when the pixel electrodes are printed and formed. Therefore, the number of necessary steps can be reduced, and manufacturing at a lower cost and higher throughput becomes possible. In addition, since the pixel electrode is formed in accordance with the position of the partition wall, the positional displacement between the pixel electrode and the partition wall does not occur essentially, and precise alignment becomes unnecessary. As a result, the contrast of the obtained information display panel can be improved and the throughput in manufacturing can be improved. Specifically, in the information display panel manufactured by the manufacturing method of the present invention described above, the pixel electrode and the partition wall are integrally formed, so that the pixel electrode 5 and the partition wall 4 are formed as shown in FIG. The alignment is good.

<実施例1>
基板には、ガラス基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜、チャネル層、ソール・ドレイン電極を順次積層したボトムゲート・トップコンタクト型の薄膜トランジスタ(TFT)を作製したTFT基板を用いた。ゲート電極には酸化インジウム錫(ITO)、ゲート絶縁膜にはフッ素樹脂、チャネル層にはペンタセン、ソース・ドレイン電極には金を用いたが、これらの材料及び成膜・パターニング手法は本発明とは関連しないため、自由に選択することができる。
<Example 1>
As the substrate, a TFT substrate in which a bottom gate / top contact type thin film transistor (TFT) in which a gate electrode, a gate insulating film, a channel layer, and a sole / drain electrode were sequentially laminated on a glass substrate was used. Indium tin oxide (ITO) was used for the gate electrode, fluororesin was used for the gate insulating film, pentacene was used for the channel layer, and gold was used for the source / drain electrodes. Is not relevant and can be chosen freely.

上記TFT基板上にドライフィルムレジストをラミネートした。ドライフィルムレジストは日立化成の光硬化型ドライフィルムレジスト(商品名:レイテック)、厚みは50μmのものを使用した。次に、隔壁用マスクをセットして一次露光を行い、450mJのエネルギーを照射した。次に、スルーホール加工用マスクを用いて50mJのエネルギーを照射した。次に、炭酸ナトリウム水溶液での現像、純水での洗浄を実施後、全面を1000mJで露光して完全に硬化させた。形成した隔壁の高さは45μm、保護層の厚みは5μmであった。   A dry film resist was laminated on the TFT substrate. The dry film resist used was a photo-curable dry film resist (trade name: Raytec) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., having a thickness of 50 μm. Next, a partition mask was set and primary exposure was performed, and energy of 450 mJ was irradiated. Next, energy of 50 mJ was irradiated using a through-hole processing mask. Next, after developing with an aqueous sodium carbonate solution and washing with pure water, the entire surface was exposed at 1000 mJ and completely cured. The height of the partition wall formed was 45 μm, and the thickness of the protective layer was 5 μm.

画素電極はインクジェット法で成膜した。使用したインクは、フィラー径が数十nmの銀粒子を含有したインクを用いた。インクの粘度は0.1mP・secに調節した。ピエゾ型ノズルを持つインクジェット装置で10pl程度の液滴を連続で滴下してスルーホールへのインク充填及び画素電極の形成を行った。その後前面基板を貼り合わせて、本発明に係る情報表示用パネルを得た。得られた情報表示用パネルにおいて、画素電極と隔壁とは一体であるため、画素電極と隔壁との位置ずれは一切発生しなかった。   The pixel electrode was formed by an inkjet method. The ink used was an ink containing silver particles with a filler diameter of several tens of nanometers. The viscosity of the ink was adjusted to 0.1 mP · sec. A droplet of about 10 pl was continuously dropped by an inkjet apparatus having a piezo-type nozzle to fill the through hole with ink and form a pixel electrode. Thereafter, the front substrate was bonded to obtain an information display panel according to the present invention. In the obtained information display panel, since the pixel electrode and the partition were integrated, no displacement between the pixel electrode and the partition occurred.

<実施例2>
実施例1と同様にして、TFT基板を準備した。そして、本例では、準備したTFT基板上に光可塑型ドライフィルムレジストをラミネートした。その後、レジストに対し隔壁部分のみをマスクして一次露光を行った。次に、保護膜上のスルーホール形成箇所以外の部分をマスクして、スルーホール部のみに光を照射し、現像・洗浄によってスルーホールを形成した。次に、実施例1と同様の条件で、画素電極をインクジェット印刷で形成した。最後に、実施例1と同様に、前面基板を貼り合わせて、本発明に係る情報表示用パネルを得た。得られた情報表示用パネルにおいて、画素電極と隔壁とは一体であるため、画素電極と隔壁との位置ずれは一切発生しなかった。
<Example 2>
A TFT substrate was prepared in the same manner as in Example 1. In this example, a photo-plastic dry film resist was laminated on the prepared TFT substrate. Thereafter, the resist was subjected to primary exposure while masking only the partition wall portion. Next, a portion other than the through hole formation portion on the protective film was masked, and only the through hole portion was irradiated with light, and a through hole was formed by development and washing. Next, pixel electrodes were formed by inkjet printing under the same conditions as in Example 1. Finally, as in Example 1, the front substrate was bonded to obtain an information display panel according to the present invention. In the obtained information display panel, since the pixel electrode and the partition were integrated, no displacement between the pixel electrode and the partition occurred.

本発明の情報表示用パネルの製造方法は、薄膜トランジスタ(TFT)を用いてアクティブ駆動する情報表示用パネルにおいて、画素電極と隔壁との位置ずれの問題を解消し、かつ、工程数の減少による製造コスト削減を行うことができ、コントラストの向上やスループットの向上が必要な種々の用途に好適に用いることができる。   The method for manufacturing an information display panel according to the present invention is an information display panel that is actively driven using a thin film transistor (TFT). Cost reduction can be performed, and it can be suitably used for various applications that require improvement in contrast and throughput.

1、2 基板
3W 白色表示媒体
3Wa 負帯電性白色粒子
3B 黒色表示媒体
3Ba 正帯電性黒色粒子
4 隔壁
5、6 電極
7 TFT層
11 ゲート電極
12 ゲート絶縁膜
13 ドレイン電極
14 ソース電極
15 チャネル層
16 スルーホール
17 保護層
21 光硬化型のレジスト
22、23 マスク
24 光可塑型のレジスト
25、26 マスク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Substrate 3W White display medium 3Wa Negatively charged white particle 3B Black display medium 3Ba Positively charged black particle 4 Partition 5, 6 Electrode 7 TFT layer 11 Gate electrode 12 Gate insulating film 13 Drain electrode 14 Source electrode 15 Channel layer 16 Through hole 17 Protective layer 21 Photo-curing resist 22, 23 Mask 24 Photo-plastic resist 25, 26 Mask

Claims (7)

透明な視認側の前面基板と背面側の画素毎に薄膜トランジスタ(TFT)を形成した背面基板との間に、隔壁により互いに隔離されたセルを形成し、セル内に粒子群からなる少なくとも1種類以上の表示媒体を封入し、前面基板に設けた共通電極と背面基板のTFTに対応して設けた画素電極との間に印加した電圧に応じた電界を表示媒体に付与することにより、表示媒体を移動させて情報を表示する情報表示用パネルの製造方法であって、
前記TFTを形成した背面基板に、TFTの保護膜とするレジストを塗布し、塗布したレジストを連続的に加工して、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成する保護膜及び隔壁形成工程と、
前記隔壁間の保護膜上及びスルーホールに導電性材料を印刷することで画素電極を形成する画素電極形成工程と、
前記表示媒体をセル内に充填した後、前記共通電極を設けた前面基板と前記隔壁とを接合して前面基板と背面基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
からなることを特徴とする情報表示用パネルの製造方法。
A cell separated from each other by a partition wall is formed between a transparent front substrate on the viewing side and a rear substrate on which a thin film transistor (TFT) is formed for each pixel on the back side, and at least one kind of particle group is formed in the cell. The display medium is encapsulated and an electric field corresponding to the voltage applied between the common electrode provided on the front substrate and the pixel electrode provided corresponding to the TFT on the rear substrate is applied to the display medium. A method of manufacturing an information display panel that displays information by moving it,
A protective film in which a protective film having a through hole and a partition wall are integrally formed on the rear substrate by applying a resist as a TFT protective film to the rear substrate on which the TFT is formed, and continuously processing the applied resist. A film and partition formation step;
A pixel electrode forming step of forming a pixel electrode by printing a conductive material on the protective film between the partition walls and in the through hole;
After filling the display medium in the cell, a bonding step of bonding the front substrate and the back substrate by bonding the front substrate provided with the common electrode and the partition,
A method for producing an information display panel comprising the steps of:
前記保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光硬化型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁を形成する部分のみ露光する一次露光と、保護膜にスルーホールを形成する部分のみ露光する二次露光を行った後、現像を行って未硬化のレジストを除去することで、スルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成することを特徴とする請求項1に記載の情報表示用パネルの製造方法。   In the protective film and partition formation step, a photo-curing resist is used as a resist, and a primary exposure that exposes only a portion where the partition is formed and a secondary exposure that exposes only a portion where the through hole is formed in the protective film are applied to the applied resist. 2. The information according to claim 1, wherein after the exposure, development is performed to remove the uncured resist, thereby forming a protective film having a through hole and a partition integrally on the back substrate. Manufacturing method of display panel. 前記露光条件として、レジストの塗布厚みTを保護層の厚みt1と隔壁厚みt2の和(T=t1+t2)とし、厚みTのレジストを完全に硬化するのに必要なエネルギーをEとすると、一次露光でE×(t2/T)以上のエネルギーを与え、二次露光でE×(t1/T)以下のエネルギーを与えることを特徴とする請求項2に記載の情報表示用パネルの製造方法。   As the exposure conditions, assuming that the resist coating thickness T is the sum of the protective layer thickness t1 and the partition wall thickness t2 (T = t1 + t2), and the energy required to completely cure the resist having the thickness T is E, the primary exposure is performed. 3. The method for manufacturing an information display panel according to claim 2, wherein energy of not less than E × (t 2 / T) is applied and energy of not more than E × (t 1 / T) is applied in the secondary exposure. 前記保護膜及び隔壁形成工程において、レジストとして光可塑型レジストを用い、塗布したレジストに対し、隔壁部分のみをマスクして一次露光を行い、次にマスクを用いてスルーホールの部分のみ二次露光した後、現像を行ってスルーホールを有する保護膜と隔壁とを一体に背面基板上に形成することを特徴とする請求項1に記載の情報表示用パネルの製造方法。   In the protective film and partition formation step, a photoresist is used as a resist, and the applied resist is subjected to primary exposure by masking only the partition wall, and then only the through hole portion is subjected to secondary exposure using the mask. 2. The method for manufacturing an information display panel according to claim 1, wherein the protective film having through holes and the partition walls are integrally formed on the rear substrate after development. 前記露光条件として、レジストの塗布厚みTを保護層の厚みt1と隔壁厚みt2の和(T=t1+t2)とし、厚みTのレジストを十分に可塑化するのに必要なエネルギーをEとすると、一次露光でE×(t2/T)以下のエネルギーを与え、二次露光でE×(t1/T)以上のエネルギーを与えることを特徴とする請求項4に記載の情報表示用パネルの製造方法。   As the exposure condition, assuming that the resist coating thickness T is the sum of the protective layer thickness t1 and the partition wall thickness t2 (T = t1 + t2), and the energy required to sufficiently plasticize the resist having the thickness T is E, 5. The method for manufacturing an information display panel according to claim 4, wherein energy of E * (t2 / T) or less is given by exposure and energy of E * (t1 / T) or more is given by secondary exposure. 前記画素電極形成工程における画素電極の形成方法が、インクジェット法であり、その際に用いるインクの粘度が0.1mP・sec〜10mP・secであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の情報表示用パネルの製造方法。   The pixel electrode forming method in the pixel electrode forming step is an inkjet method, and the viscosity of the ink used at that time is 0.1 mP · sec to 10 mP · sec. 2. A method for producing an information display panel according to item 1. 前記画素電極形成工程における画素電極の形成において、画素電極印刷時のインクの流動を利用することで、画素電極を平坦化することを特徴とする請求項6に記載の情報表示用パネルの製造方法。   The method for manufacturing an information display panel according to claim 6, wherein in forming the pixel electrode in the pixel electrode forming step, the pixel electrode is flattened by using a flow of ink at the time of printing the pixel electrode. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014165241A (en) * 2013-02-22 2014-09-08 Toppan Printing Co Ltd Thin film transistor and image display device

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