JP2011167682A - Air bubble generation device and gas-liquid contact device - Google Patents

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俊次 根岸
Genzo Eguchi
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an air bubble generation device capable of changing gas passed by to air bubbles with desired uniform diameters and a gas-liquid contact device provided therewith. <P>SOLUTION: An air bubble generation device 10 is used by being contacted with liquid (Liq) and includes a flexible resin sheet 20, a first perforated plate 30 and a second perforated plate 40. A plurality of swinging pieces 22 are dispersed and formed by being cut in the resin sheet 20. The first perforated plate 30 is provided with a plurality of large diameter parts 32 larger than the outer diameter of the swinging pieces 22. The second perforated plate 40 is provided with a plurality of small diameter parts 42 smaller than the outer diameter of the swinging pieces 22 and holds the resin sheet 20 together with the first perforated plate 30. The air bubble generation device 10 makes gas (Air), which flows in from the small diameter parts 42 and flows out from the large diameter parts 32 by energizing the swinging pieces 22, into bubbles. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、気泡発生機およびこれを備える気液接触装置に関する。   The present invention relates to a bubble generator and a gas-liquid contact device including the same.

この種の技術に関し、特許文献1には、空気中に含まれる汚染物質を処理する空気清浄システムが記載されている。このシステムでは、循環路内に留められている汚染物質を含んだ空気を、エアーポンプの運転により散気管からバブリングして水槽に送給している。散気管は、逆止弁で整流された空気が供給されて、これを気泡に分散させる多孔体である。   With regard to this type of technology, Patent Document 1 describes an air cleaning system for treating pollutants contained in air. In this system, air containing pollutants, which are retained in the circulation path, is bubbled from the air diffusing pipe by the operation of the air pump and supplied to the water tank. The air diffuser is a porous body that is supplied with air rectified by a check valve and disperses the air into bubbles.

また、特許文献2には、外気を室内に導く給気経路に、外気を洗浄水に通して大気汚染物質を除去する空気環境浄化システムが記載されている。このシステムでは、清浄化手段として、外気を直径0.01〜0.05mmのマイクロバブルにして洗浄水に通すバブル発生部を用いている。   Patent Document 2 describes an air environment purification system that removes air pollutants by passing outside air through wash water in an air supply path that guides outside air into the room. In this system, as a cleaning means, a bubble generating unit is used that converts the outside air into microbubbles having a diameter of 0.01 to 0.05 mm and passes them through washing water.

特開2005−230280号公報JP-A-2005-230280 特開2006−205036号公報JP 2006-205036 A

しかしながら、特許文献1の散気管では、バブリングされた気泡の径を均一化することが困難である。
また、特許文献2の清浄化手段では、外気(気体)を0.1mm以下のマイクロバブルに変えるため、バブル発生部における圧力損失(圧損)が大きく、気体の十分な処理流量を得ることが困難である。また、かかる圧損を補償するためには、バブル発生部に専用のエアーポンプが必要であり、ランニングコストを要するという問題が生じる。
However, in the air diffuser of Patent Document 1, it is difficult to make the diameter of the bubble bubbled uniform.
Moreover, in the cleaning means of patent document 2, since outside air (gas) is changed into microbubbles of 0.1 mm or less, the pressure loss (pressure loss) in a bubble generation part is large, and it is difficult to obtain sufficient processing flow rate of gas. It is. Further, in order to compensate for such pressure loss, a dedicated air pump is required at the bubble generating portion, which causes a problem that running costs are required.

ここで、気液接触装置においては、気液接触効率と、気体の処理流量とを両立して向上することが求められる。一般に、気泡径を小さくして気液接触効率を向上した場合には気体の圧損が大きくなり、単位時間あたりの処理流量が低下することとなる。   Here, in the gas-liquid contact device, it is required to improve both the gas-liquid contact efficiency and the gas processing flow rate. In general, when the bubble diameter is reduced to improve the gas-liquid contact efficiency, the pressure loss of the gas increases, and the processing flow rate per unit time decreases.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、通過する気体を所望の均一な径の気泡に変えることのできる気泡発生機、およびこれを備える気液接触装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a bubble generator that can change a passing gas into bubbles having a desired uniform diameter, and a gas-liquid contact device including the bubble generator. .

本発明の気泡発生機は、液体に接触させて用いられる気泡発生機であって、複数の揺動片が分散して切り込み形成された可撓性の樹脂シートと、前記揺動片の外径よりも大きな大径口を複数備える第一の多孔板と、前記揺動片の外径よりも小さな小径口を複数備え、前記第一の多孔板とともに前記樹脂シートを挟持する第二の多孔板と、を有し、前記小径口から流入し、前記揺動片を付勢して前記大径口より流出する気体を気泡化する。   The bubble generator of the present invention is a bubble generator that is used in contact with a liquid, and includes a flexible resin sheet in which a plurality of swing pieces are dispersed and cut and an outer diameter of the swing piece. A first perforated plate having a plurality of larger large-diameter ports and a second perforated plate having a plurality of small-diameter ports smaller than the outer diameter of the swing piece and sandwiching the resin sheet together with the first perforated plate And flows in from the small-diameter port, energizes the swing piece, and bubbles the gas flowing out from the large-diameter port.

また本発明の気液接触装置は、上記の気泡発生機を備え、多段に設けられた複数の液体層と気泡化された気体とを接触させる気液接触装置であって、前記気泡発生機により気泡化されて前記大径口より流出した気体が、前記第三の多孔板の下流側に接して配置された前記液体層とさらに接触することを特徴とする。   The gas-liquid contact device of the present invention is a gas-liquid contact device that includes the bubble generator described above, and that contacts a plurality of liquid layers provided in multiple stages and the gas that has been bubbled. The gas that has been bubbled and has flowed out of the large-diameter port is further in contact with the liquid layer disposed in contact with the downstream side of the third porous plate.

なお、本発明の各種の構成要素は、個々に独立した存在である必要はなく、複数の構成要素が一個の部材として形成されていること、一つの構成要素が複数の部材で形成されていること、ある構成要素が他の構成要素の一部であること、ある構成要素の一部と他の構成要素の一部とが重複していること、等でもよい。   Note that the various components of the present invention do not have to be individually independent, that a plurality of components are formed as one member, and one component is formed of a plurality of members. It may be that a certain component is a part of another component, a part of a certain component overlaps a part of another component, and the like.

本発明の気泡発生機によれば、小径口から大径口に抜ける気体の流路に、樹脂シートの揺動片が個別に設けられている。そして、大径口の側を気体の流出側とすることで、気体に付勢された揺動片の変位が多孔板によって損なわれることがない。このため、樹脂シートの可撓性により、流路ごとに気体の圧力が調整されて均一な径の気泡が発生する。また、本発明の気泡発生機を備える気液接触装置は、液体と接触する気体が所望の均一な径の気泡に変えられるため、気液接触効率と気体の処理流量とをバランスよく好適化することができる。   According to the bubble generator of the present invention, the swing piece of the resin sheet is individually provided in the gas flow path that passes from the small diameter port to the large diameter port. And the displacement of the rocking | fluctuation piece urged | biased by gas is not impaired by a perforated plate by making the large diameter opening | mouth side into the outflow side of gas. For this reason, the pressure of gas is adjusted for every flow path by the flexibility of a resin sheet, and the bubble of a uniform diameter generate | occur | produces. In addition, the gas-liquid contact device including the bubble generator of the present invention can optimize the gas-liquid contact efficiency and the gas processing flow rate in a balanced manner because the gas in contact with the liquid can be changed to bubbles having a desired uniform diameter. be able to.

(a)は本発明の実施形態にかかる気液接触装置を模式的に示す正面図であり、(b)はその右側面図である。(A) is a front view which shows typically the gas-liquid contact apparatus concerning embodiment of this invention, (b) is the right view. (a)は気泡発生機の部分斜視図であり、(b)は気泡発生機の使用状態を示す部分断面図である。(A) is a fragmentary perspective view of a bubble generator, (b) is a fragmentary sectional view which shows the use condition of a bubble generator. 気泡発生機の変形例にかかる部分切欠平面図である。It is a partial notch top view concerning the modification of a bubble generator. (a)から(c)は、本実施形態の気液接触装置の動作説明図である。(A)-(c) is operation | movement explanatory drawing of the gas-liquid contact apparatus of this embodiment. 排気処理部の変形例を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the modification of an exhaust_gas | exhaustion process part typically.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
なお、本実施の形態では図示するように前後左右上下の方向を規定して説明する。しかし、これは構成要素の相対関係を簡単に説明するために便宜的に規定するものであり、本発明を実施する製品の製造時や使用時の方向を限定するものではない。
以下、本実施形態の気液接触装置は、略水平に設置された気泡発生機に対して鉛直下方から上方に気体を通過させる吹き上げ型を例示的に説明するが、本発明はこれに限られない。例えば、気体の通過方向を上方から下方への吹き下ろし型としてもよく、または起立させた気泡発生機に対して気体を水平方向に通過させてもよい。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.
In the present embodiment, description will be made by defining the front-rear, left-right, up-down directions as shown. However, this is provided for convenience in order to simply explain the relative relationship of the components, and does not limit the direction during the manufacture or use of the product implementing the present invention.
Hereinafter, the gas-liquid contact device of the present embodiment will exemplarily describe a blow-up type that allows gas to pass upward from the vertically downward direction to the bubble generator installed substantially horizontally, but the present invention is limited to this. Absent. For example, the gas passage direction may be a blow-down type from the upper side to the lower side, or the gas may be passed in the horizontal direction with respect to the standing bubble generator.

図1(a)は本発明の実施形態にかかる気液接触装置100を模式的に示す正面図であり、同図(b)はその右側面図である。図1各図では、説明のため、筐体90の一部を不図示として、気液接触装置100の内部を図示している。
図2(a)は気泡発生機10の部分斜視図であり、同図(b)は気泡発生機10の使用状態を示す部分断面図である。
Fig.1 (a) is a front view which shows typically the gas-liquid contact apparatus 100 concerning embodiment of this invention, The same figure (b) is the right view. In each figure of FIG. 1, the inside of the gas-liquid contact apparatus 100 is illustrated for the sake of explanation, with a part of the housing 90 not shown.
FIG. 2A is a partial perspective view of the bubble generator 10, and FIG. 2B is a partial cross-sectional view showing a use state of the bubble generator 10.

はじめに、本実施形態の気泡発生機10および気液接触装置100の概要について説明する。   First, the outline | summary of the bubble generator 10 and the gas-liquid contact apparatus 100 of this embodiment is demonstrated.

気泡発生機10は、液体Liq(図2を参照)に接触させて用いられる。本実施形態の気泡発生機10は、可撓性の樹脂シート20、第一の多孔板30および第二の多孔板40を有する。
樹脂シート20には、複数の揺動片22が分散して切り込み形成されている。
第一の多孔板30は、揺動片22の外径よりも大きな大径口32を複数備えている。
第二の多孔板40は、揺動片22の外径よりも小さな小径口42を複数備え、第一の多孔板30とともに樹脂シート20を挟持する。
そして、気泡発生機10は、小径口42から流入し、揺動片22を付勢して大径口32より流出する気体Airを気泡化する。
The bubble generator 10 is used in contact with the liquid Liq (see FIG. 2). The bubble generator 10 of this embodiment includes a flexible resin sheet 20, a first perforated plate 30, and a second perforated plate 40.
In the resin sheet 20, a plurality of swing pieces 22 are dispersed and cut.
The first porous plate 30 includes a plurality of large-diameter ports 32 that are larger than the outer diameter of the swing piece 22.
The second porous plate 40 includes a plurality of small-diameter ports 42 smaller than the outer diameter of the swing piece 22, and sandwiches the resin sheet 20 together with the first porous plate 30.
The bubble generator 10 flows in from the small diameter port 42, energizes the swing piece 22, and bubbles the air Air flowing out from the large diameter port 32.

気液接触装置100は、上記の気泡発生機10を備え、多段に設けられた複数の液体層L1、L2と、気泡化された気体Airと、を接触させる装置である。
そして、本実施形態の気液接触装置100においては、気泡発生機10により気泡化されて大径口32より流出した気体Airが、第三の多孔板50の下流側に接して配置された液体層L2とさらに接触する。
The gas-liquid contact device 100 includes the bubble generator 10 described above, and is a device that brings a plurality of liquid layers L1 and L2 provided in multiple stages into contact with the bubbled gas Air.
In the gas-liquid contact device 100 of the present embodiment, the gas Air that has been bubbled by the bubble generator 10 and has flowed out of the large-diameter port 32 is disposed in contact with the downstream side of the third porous plate 50. Further contact with layer L2.

つぎに、本実施形態の気泡発生機10および気液接触装置100について詳細に説明する。   Next, the bubble generator 10 and the gas-liquid contact device 100 of this embodiment will be described in detail.

気泡発生機10を構成する第一の多孔板30と第二の多孔板40は、ステンレス鋼(SUS)やアルミニウムなどの金属板材料に多数の開口(大径口32、小径口42)を形成したものである。第一の多孔板30および第二の多孔板40の種別は特に限定されず、例えば、打ち抜き加工もしくはレーザー加工により多数の開口を通孔形成したパンチングプレートでもよく、または線材を編組したメッシュ部材でもよい。
第一の多孔板30と第二の多孔板40とは、開口の径を除いて互いに共通としてもよく、または種別や厚み寸法を互いに相違させてもよい。
The first perforated plate 30 and the second perforated plate 40 constituting the bubble generator 10 form a large number of openings (large diameter port 32, small diameter port 42) in a metal plate material such as stainless steel (SUS) or aluminum. It is a thing. The type of the first perforated plate 30 and the second perforated plate 40 is not particularly limited, and may be, for example, a punching plate in which a large number of openings are formed by punching or laser processing, or a mesh member braided with a wire. Good.
The first perforated plate 30 and the second perforated plate 40 may be common to each other except for the diameter of the opening, or may have different types and thickness dimensions.

樹脂シート20は、膜厚が50μmから500μmの樹脂製のシートまたはフィルム材料からなる。樹脂材料の例としては、ポリオレフィン、具体的にはポリプロピレンが挙げられる。なお、本実施形態においてはシートとフィルムとを区別しない。   The resin sheet 20 is made of a resin sheet or film material having a film thickness of 50 μm to 500 μm. Examples of the resin material include polyolefin, specifically, polypropylene. In the present embodiment, a sheet and a film are not distinguished.

図2(a)に示す気泡発生機10では、大径口32(および図示しない小径口42)が正方格子状に配置されている。ただし、気泡発生機10の変形例として、図3に示すように、大径口32および小径口42をそれぞれ千鳥状に配置してもよい。   In the bubble generator 10 shown in FIG. 2A, the large-diameter ports 32 (and the small-diameter ports 42 not shown) are arranged in a square lattice pattern. However, as a modification of the bubble generator 10, as shown in FIG. 3, the large-diameter ports 32 and the small-diameter ports 42 may be arranged in a staggered manner.

図3は、気泡発生機10の部分切欠平面図である。同図は、第一の多孔板30、樹脂シート20および第二の多孔板40が互いに積層されてなる気泡発生機10を、第一の多孔板30の側から目視した平面図である。説明のため、図3においては、第一の多孔板30に斜線を付し、またその一部を切り欠き樹脂シート20の揺動片22を露出させて図示している。
揺動片22、大径口32および小径口42がそれぞれ千鳥状に配置されている点を除き、図3の気泡発生機10は図2と共通である。
FIG. 3 is a partially cutaway plan view of the bubble generator 10. The figure is a plan view of the bubble generator 10 formed by laminating the first porous plate 30, the resin sheet 20, and the second porous plate 40 as viewed from the first porous plate 30 side. For the sake of explanation, in FIG. 3, the first perforated plate 30 is hatched, and a part of the first porous plate 30 is cut away to expose the swing piece 22 of the resin sheet 20.
The bubble generator 10 of FIG. 3 is the same as that of FIG. 2 except that the swing piece 22, the large diameter port 32, and the small diameter port 42 are arranged in a staggered manner.

揺動片22は略円形をなし、大径口32、小径口42および揺動片22は同心状に配置されている。   The swing piece 22 has a substantially circular shape, and the large diameter port 32, the small diameter port 42, and the swing piece 22 are arranged concentrically.

個々の揺動片22は円弧部24と裾部26とからなり、その外形はΩ字状をなしている。すなわち、揺動片22は樹脂シート20をΩ字状に切り込んで形成されている。   Each swing piece 22 includes an arc portion 24 and a skirt portion 26, and its outer shape is Ω-shaped. That is, the swing piece 22 is formed by cutting the resin sheet 20 into a Ω shape.

円弧部24は大径口32から露出して、気体により付勢されて揺動する部位である。本実施形態の円弧部24は、円周の二分の一以上、好ましくは四分の三以上の長さを有している。
裾部26は、円弧部24を樹脂シート20に対して揺動可能に接続する部位である。裾部26は末広がり形状をなし、円弧部24の両端を拡幅している。
The arc portion 24 is a portion that is exposed from the large-diameter opening 32 and is oscillated by being biased by gas. The arc portion 24 of the present embodiment has a length that is at least one half of the circumference, preferably at least three quarters.
The skirt portion 26 is a portion that connects the arc portion 24 to the resin sheet 20 so as to be swingable. The skirt portion 26 has a divergent shape, and widens both ends of the arc portion 24.

ここで、揺動片22が略円形であるとは、円弧部24が真円および真円に近い円形、または真円に近似される非円形を含む。   Here, the swing piece 22 being substantially circular includes a circular shape 24 and a circular shape close to a perfect circle, or a non-circular shape approximated to a perfect circle.

また、大径口32、小径口42および揺動片22が同心状であるとは、これらの少なくとも一部同士が、気泡発生機10の平面視方向に互いに重複していることをいう。
本実施形態の気泡発生機10では、図3に示す平面図において、大径口32は揺動片22の円弧部24を内包し、円弧部24は小径口42を内包している。
The large diameter port 32, the small diameter port 42, and the swing piece 22 being concentric means that at least some of them overlap each other in the plan view direction of the bubble generator 10.
In the bubble generator 10 of the present embodiment, in the plan view shown in FIG. 3, the large diameter port 32 includes the arc portion 24 of the swing piece 22, and the arc portion 24 includes the small diameter port 42.

円弧部24の直径は5〜10mmとすることが好ましい。隣接する揺動片22同士の間隔は、10〜30mmとするとよい。そして、大径口32の直径は円弧部24の直径よりも1〜10mm大きくし、小径口42の直径は円弧部24の直径よりも1〜4mm小さくするとよい。   The diameter of the arc portion 24 is preferably 5 to 10 mm. The interval between the adjacent rocking pieces 22 is preferably 10 to 30 mm. The diameter of the large diameter port 32 is preferably 1 to 10 mm larger than the diameter of the arc portion 24, and the diameter of the small diameter port 42 is preferably 1 to 4 mm smaller than the diameter of the arc portion 24.

裾部26は、揺動片22のうち、第一の多孔板30と第二の多孔板40とで挟まれる部位である。すなわち、揺動片22は、第一の多孔板30と第二の多孔板40とで裾部26が挟持され、円弧部24が揺動可能となる。なお、裾部26が第一の多孔板30と第二の多孔板40とで挟持されていることで、円弧部24の揺動時に裾部26の終端部28に引裂力が生じることはない。ただし、終端部28を丸加工して円孔とし、裾部26の延伸を防止してもよい。   The skirt portion 26 is a portion of the swing piece 22 that is sandwiched between the first porous plate 30 and the second porous plate 40. That is, the oscillating piece 22 has the skirt portion 26 sandwiched between the first perforated plate 30 and the second perforated plate 40, and the arc portion 24 can swing. In addition, since the skirt portion 26 is sandwiched between the first perforated plate 30 and the second perforated plate 40, no tearing force is generated at the terminal portion 28 of the skirt portion 26 when the arc portion 24 is swung. . However, the end portion 28 may be rounded into a circular hole to prevent the skirt portion 26 from being stretched.

樹脂シート20の揺動片22は、小径口42の側への変位が規制され大径口32の側に変位自在に構成された逆止弁である。   The swing piece 22 of the resin sheet 20 is a check valve configured to be freely displaced toward the large diameter port 32 while being restricted from being displaced toward the small diameter port 42.

図2(b)に示すように、円弧部24は第二の多孔板40により、同図下方側への変位が規制されている。   As shown in FIG. 2B, the arc portion 24 is restricted from being displaced downward by the second perforated plate 40.

気泡発生機10は、液体Liqに浸漬されて、または第一の多孔板30を液体Liqの界面に接触させて用いられる。本実施形態では、図2(b)に示すように、液体Liqの下方に気泡発生機10が設けられ、第一の多孔板30が液体Liqの下側界面に接している。   The bubble generator 10 is used by being immersed in the liquid Liq or by bringing the first porous plate 30 into contact with the interface of the liquid Liq. In the present embodiment, as shown in FIG. 2B, the bubble generator 10 is provided below the liquid Liq, and the first porous plate 30 is in contact with the lower interface of the liquid Liq.

この状態で、第二の多孔板40の小径口42より気体Airを吹き込むことで、気体Airを気泡化する。ここで、揺動片22の円弧部24は、気体Airの通過時には第一の多孔板30の側に押し上げられて大径口32より突出する。そして、通過する気体Airに対して、樹脂シート20の弾性反力と液体Liqの自重とが負荷される。これにより、気体Airの通過量が制限されて微細に気泡化される。すなわち、気体Airの通過時に円弧部24は連続的に揺動して気体Airを分断し、これを気泡化する。   In this state, the gas Air is bubbled by blowing the gas Air from the small diameter port 42 of the second porous plate 40. Here, the arc portion 24 of the rocking piece 22 is pushed up toward the first porous plate 30 and protrudes from the large diameter port 32 when the gas Air passes. Then, the elastic reaction force of the resin sheet 20 and the weight of the liquid Liq are loaded on the passing air Air. Thereby, the passage amount of the gas Air is limited, and bubbles are finely formed. That is, when the gas Air passes, the circular arc portion 24 continuously swings to divide the gas Air and bubble it.

なお、本実施形態の気泡発生機10では、気体Airの流量、樹脂シート20の膜厚、円弧部24の直径、および液体Liqの量を調整することにより、5〜30mm程度の直径の気泡が形成される。   In the bubble generator 10 of this embodiment, by adjusting the flow rate of the gas Air, the film thickness of the resin sheet 20, the diameter of the arc portion 24, and the amount of the liquid Liq, bubbles having a diameter of about 5 to 30 mm are formed. It is formed.

図1に戻り、本実施形態の気液接触装置100を説明する。
気液接触装置100は、多段に配置された液体層L1、L2(液体Liq)に対して、気泡発生機10で気泡化された気体Airを接触させ、気体Airに含有する成分を液体層L1、L2に溶解させて除去する装置である。
Returning to FIG. 1, the gas-liquid contact device 100 of this embodiment will be described.
The gas-liquid contact device 100 makes the gas Air bubbled by the bubble generator 10 contact the liquid layers L1 and L2 (liquid Liq) arranged in multiple stages, and the components contained in the gas Air are liquid layer L1. , An apparatus for removing by dissolving in L2.

気液接触装置100の筐体90は箱形をなし、前面側(図1(b)の左方)は配管収容部92であり、奥行側(同図の右方)は気泡発生機10が設置されて気体Airの気泡化および気液接触が行われる気液接触部94である。   The casing 90 of the gas-liquid contact device 100 has a box shape, the front side (the left side in FIG. 1B) is a pipe accommodating portion 92, and the depth side (the right side in the same figure) is the bubble generator 10. It is a gas-liquid contact portion 94 that is installed to make the gas Air bubble and gas-liquid contact.

気液接触部94は縦型2チャンバー構造をなす。
下部チャンバー95は、下部空洞74から流入する気体Airを液体層L1と気液接触させるチャンバーである。下部チャンバー95には、気体Airの流入部にあたる最下部に気泡発生機10が設けられ、その上部に液体層L1が貯留されている。液体層L1の上部には気体層G2が存在している。
下部チャンバー95に貯留された液体層L1は、気泡発生機10の揺動片22(逆止弁:図2を参照)に下方支持され、下部空洞74に落下することはない。
The gas-liquid contact portion 94 has a vertical two-chamber structure.
The lower chamber 95 is a chamber for bringing the gas Air flowing in from the lower cavity 74 into gas-liquid contact with the liquid layer L1. In the lower chamber 95, the bubble generator 10 is provided at the lowermost portion corresponding to the inflow portion of the gas Air, and the liquid layer L1 is stored in the upper portion thereof. A gas layer G2 exists above the liquid layer L1.
The liquid layer L1 stored in the lower chamber 95 is supported downward by the swing piece 22 (check valve: see FIG. 2) of the bubble generator 10 and does not fall into the lower cavity 74.

上部チャンバー96は、下部チャンバー95で気液接触した気体Airを、さらに液体層L2と気液接触させるチャンバーである。上部チャンバー96には、気体Airの流入部にあたる最下部に第三の多孔板50が設けられ、その上部に液体層L2が貯留されている。液体層L2の上部には気体層G3が存在している。   The upper chamber 96 is a chamber in which the gas Air that has been in gas-liquid contact with the lower chamber 95 is further in gas-liquid contact with the liquid layer L2. In the upper chamber 96, a third porous plate 50 is provided at the lowermost portion corresponding to the inflow portion of the gas Air, and the liquid layer L2 is stored in the upper portion. A gas layer G3 exists above the liquid layer L2.

第三の多孔板50は、液体層L1を通過した気体Airを上部チャンバー96に導入するとともに、液体層L2を下方支持する部材である。気泡発生機10と第三の多孔板50とは略並行に対向して設置されている。   The third porous plate 50 is a member that introduces the gas Air that has passed through the liquid layer L1 into the upper chamber 96 and supports the liquid layer L2 downward. The bubble generator 10 and the third perforated plate 50 are installed facing each other substantially in parallel.

第三の多孔板50は多数の開口を有する板状の部材であり、第一の多孔板30や第二の多孔板40と同様に、パンチングプレートやメッシュ部材を用いることができる。
すなわち、第三の多孔板50の開口には逆止弁が設けられておらず、気体Airおよび液体層L2は双方向に通過可能である。
The third porous plate 50 is a plate-like member having a large number of openings, and a punching plate or a mesh member can be used similarly to the first porous plate 30 and the second porous plate 40.
That is, a check valve is not provided in the opening of the third porous plate 50, and the gas Air and the liquid layer L2 can pass in both directions.

筐体90の下部には車輪98が取り付けられており、気泡発生機10は移送が可能である。   Wheels 98 are attached to the lower part of the housing 90, and the bubble generator 10 can be transferred.

本実施形態は、気液接触部94において、下方から上方に向かって気体Airを流動させる吹き上げ型の気液接触装置100である。   The present embodiment is a blow-up type gas-liquid contact device 100 that causes the gas Air to flow upward from below in the gas-liquid contact portion 94.

気液接触装置100は、気体Airを連続的に供給する給気路70と、給気路70に対して所定の排気圧で気体Airを圧送するブロア(排気ブロア75)と、を有している。
給気路70の吸気口71には、気体Air中の塵埃を除去するためのフィルター(図示せず)を任意で備えてもよい。かかるフィルターとしては、PET(Polyethylene Terephthalate)やポリプロピレンなどの樹脂材料からなる不織布フィルターを用いることができる。
The gas-liquid contact device 100 includes an air supply path 70 that continuously supplies the gas Air, and a blower (exhaust blower 75) that pumps the gas Air to the air supply path 70 at a predetermined exhaust pressure. Yes.
The intake port 71 of the air supply path 70 may optionally include a filter (not shown) for removing dust in the gas Air. As such a filter, a nonwoven fabric filter made of a resin material such as PET (Polyethylene Terephthalate) or polypropylene can be used.

排気ブロア75は、環状流路72を通じて気体Airを遠心加速する。給気路70には、環状流路72の下流側に、下降路73と下部空洞74がこの順に連通して設けられている。
下部空洞74は、気泡発生機10の下面側にあたる第二の多孔板40(図2を参照)に接して設けられている。
The exhaust blower 75 centrifugally accelerates the gas Air through the annular flow path 72. In the air supply path 70, a descending path 73 and a lower cavity 74 are provided on the downstream side of the annular channel 72 in this order.
The lower cavity 74 is provided in contact with the second perforated plate 40 (see FIG. 2) on the lower surface side of the bubble generator 10.

すなわち、気泡発生機10の下流側(上部)に液体層L1が接触して設けられ、上流側(下部)に気体層G1が設けられている。   That is, the liquid layer L1 is provided in contact with the downstream side (upper part) of the bubble generator 10, and the gas layer G1 is provided on the upstream side (lower part).

そして、下部空洞74に到達した気体Airには、図2(b)に示すように、排気ブロア75の排気圧に基づく押し上げ力が、気泡発生機10の下面側にあたる第二の多孔板40のうち、小径口42に対して集中的に負荷される。このため、気体Airが気液接触部94を通過するために必要な排気ブロア75の排気圧およびランニングコストを抑制することができる。   Then, as shown in FIG. 2 (b), the pushing force based on the exhaust pressure of the exhaust blower 75 is applied to the gas Air that has reached the lower cavity 74 of the second perforated plate 40 that hits the lower surface side of the bubble generator 10. Of these, the load is concentrated on the small diameter opening 42. For this reason, the exhaust pressure and running cost of the exhaust blower 75 required for the gas Air to pass through the gas-liquid contact portion 94 can be suppressed.

気泡発生機10と第三の多孔板50とは、ともに略水平に配置されている。気泡発生機10と第三の多孔板50の個別の水平度は特に限定されるものではなく、互いに相違する水平度で気液接触部94に設置されていてもよい。   Both the bubble generator 10 and the third perforated plate 50 are arranged substantially horizontally. The individual horizontalities of the bubble generator 10 and the third porous plate 50 are not particularly limited, and may be installed in the gas-liquid contact portion 94 with different horizontalities.

第三の多孔板50の下部側には気体層G2が存在している。気泡発生機10で発生した気泡は、液体層L1から浮上すると、液膜に気体Airを内包した泡沫となって、または泡沫がはじけて気体Airとなって、第三の多孔板50に至る。そして、かかる気体Airは、第三の多孔板50により再び気泡化されて液体層L2と接触する。   A gas layer G <b> 2 exists on the lower side of the third porous plate 50. When the bubbles generated by the bubble generator 10 rise from the liquid layer L <b> 1, they become bubbles in which the gas Air is contained in the liquid film, or the bubbles are repelled to become the gas Air and reach the third porous plate 50. The gas Air is bubbled again by the third porous plate 50 and comes into contact with the liquid layer L2.

ここで、排気ブロア75により気体Airを連続的に吹き上げることにより、泡沫化した液体層L1が上部チャンバー96に上昇して液体層L2となる速度と、液体層L2が下部チャンバー95に落下して液体層L1に戻る速度とが釣り合う。これにより、第三の多孔板50に逆止弁がなくとも、上部チャンバー96には所定量の液体層L2が常に貯留される。そして、排気ブロア75を停止することで、液体層L2は第三の多孔板50から落下して液体層L1となる。なお、第三の多孔板50は、上部チャンバー96の内壁に対して密に装着され、第三の多孔板50の周囲から下部チャンバー95に液体層L2が漏れ落ちることはない。   Here, by continuously blowing up the gas Air by the exhaust blower 75, the foamed liquid layer L1 rises to the upper chamber 96 and becomes the liquid layer L2, and the liquid layer L2 falls to the lower chamber 95. The speed of returning to the liquid layer L1 is balanced. Thus, even if the third porous plate 50 does not have a check valve, a predetermined amount of the liquid layer L2 is always stored in the upper chamber 96. Then, by stopping the exhaust blower 75, the liquid layer L2 falls from the third porous plate 50 and becomes the liquid layer L1. The third porous plate 50 is closely attached to the inner wall of the upper chamber 96, and the liquid layer L2 does not leak from the periphery of the third porous plate 50 into the lower chamber 95.

本実施形態の気泡発生機10は、排気ブロア75により気体Airを吹き上げることで、下部チャンバー95に貯留された液体層L1の一部を分離して第三の多孔板50に液体層L2を形成し、これをもって気体Airの吸収液を多段化する。これにより、液体層L1、L2は各層が薄くなるため、高い気液接触効率を維持しつつも、通過する気体Airの圧損が低減される。   The bubble generator 10 according to the present embodiment forms a liquid layer L2 on the third porous plate 50 by separating a part of the liquid layer L1 stored in the lower chamber 95 by blowing up the gas Air by the exhaust blower 75. In this way, the gas Air absorption liquid is multistaged. Thereby, since each layer of the liquid layers L1 and L2 is thin, the pressure loss of the passing air Air is reduced while maintaining high gas-liquid contact efficiency.

気体Airの成分は特に限定されないが、本実施形態の気体Airは揮発性有機化合(VOC)を含有するものとする。
そして、気液接触装置100は、液体層L1を冷却する冷却装置76をさらに備えている。冷却装置76には、一例として、液体浸漬型のピエゾ素子が用いられる。
Although the component of gas Air is not specifically limited, The gas Air of this embodiment shall contain a volatile organic compound (VOC).
The gas-liquid contact device 100 further includes a cooling device 76 that cools the liquid layer L1. For example, a liquid immersion type piezo element is used for the cooling device 76.

これにより、気体Airに含有するVOCは、液体層L1に溶解されるのみならず、液体層L1で冷却されて凝集し、気体Airからさらに除去される。
このため、本実施形態の気液接触装置100は、気体Air中のVOCを高効率で除去することができる。
Thereby, the VOC contained in the gas Air is not only dissolved in the liquid layer L1, but also cooled and aggregated in the liquid layer L1, and further removed from the gas Air.
For this reason, the gas-liquid contact apparatus 100 of this embodiment can remove VOC in the gas Air with high efficiency.

図1に示すように、気泡発生機10は、気泡発生機10の上部に液体層L1を供給する供給路80をさらに備えている。   As shown in FIG. 1, the bubble generator 10 further includes a supply path 80 that supplies the liquid layer L <b> 1 to the top of the bubble generator 10.

供給路80には、開閉弁81と圧送ポンプ82が設けられている。
供給路80は、給気路70の下部空洞74と、気液接触部94における気泡発生機10の上部と、を連通している。そして、下部空洞74に貯留された液体Liqを、供給路80を通じて塗液口83から吐出し、かかる液体Liqを液体層L1として気泡発生機10の上部に供給する。なお、塗液口83の高さ位置は特に限定されず、第三の多孔板50よりも上部でもよく、または気泡発生機10と第三の多孔板50との間でもよい。
The supply path 80 is provided with an on-off valve 81 and a pressure feed pump 82.
The supply path 80 communicates the lower cavity 74 of the air supply path 70 and the upper part of the bubble generator 10 in the gas-liquid contact portion 94. Then, the liquid Liq stored in the lower cavity 74 is discharged from the coating liquid port 83 through the supply path 80, and the liquid Liq is supplied to the upper part of the bubble generator 10 as the liquid layer L1. The height position of the coating liquid port 83 is not particularly limited, and may be above the third porous plate 50 or between the bubble generator 10 and the third porous plate 50.

気液接触装置100は、気泡発生機10と第三の多孔板50との間に第四の多孔板60をさらに備えている。すなわち、下部チャンバー95の中間高さに、第四の多孔板60が架設されている。   The gas-liquid contact device 100 further includes a fourth porous plate 60 between the bubble generator 10 and the third porous plate 50. That is, the fourth perforated plate 60 is installed at an intermediate height of the lower chamber 95.

第四の多孔板60は、気泡発生機10との間隔D1(図4(c)を参照)が可変である。気泡発生機10の上部に供給された液体層L1が気体Airとともに第三の多孔板50の上部に移動する量が、間隔D1の変更により増減調整される。   The fourth porous plate 60 has a variable distance D1 (see FIG. 4C) from the bubble generator 10. The amount by which the liquid layer L1 supplied to the upper part of the bubble generator 10 moves to the upper part of the third porous plate 50 together with the gas Air is adjusted to increase or decrease by changing the interval D1.

下部チャンバー95には、第四の多孔板60を昇降調整するための一対の調整部62が設けられている。調整部62は、第四の多孔板60を吊り下げるワイヤーと、このワイヤーを巻き取る輪軸とからなる。第四の多孔板60は四隅がワイヤーで吊り下げられており、一対の調整部62の巻き取り量を調整することで、第四の多孔板60を水平支持したままで、または任意の角度に傾斜させて、これを昇降調整することができる。   The lower chamber 95 is provided with a pair of adjusting portions 62 for adjusting the fourth porous plate 60 to move up and down. The adjustment unit 62 includes a wire that suspends the fourth porous plate 60 and a wheel shaft that winds the wire. The fourth porous plate 60 is suspended at the four corners by wires, and by adjusting the winding amount of the pair of adjusting portions 62, the fourth porous plate 60 is supported horizontally or at an arbitrary angle. It can be tilted and adjusted up and down.

一方、上部チャンバー96の中間高さには、第三の多孔板50のさらに上方に、第五の多孔板64が架設されている。
上部チャンバー96にも、下部チャンバー95と同様に、第五の多孔板64を昇降調整するための一対の調整部66が設けられている。調整部66は、第五の多孔板64を吊り下げるワイヤーと、このワイヤーを巻き取る輪軸とからなり、その巻き取り量を調整することで、第五の多孔板64を任意の設置角度で昇降調整することができる。
On the other hand, at the intermediate height of the upper chamber 96, a fifth porous plate 64 is installed above the third porous plate 50.
Similarly to the lower chamber 95, the upper chamber 96 is also provided with a pair of adjustment portions 66 for adjusting the fifth porous plate 64 up and down. The adjustment unit 66 includes a wire that suspends the fifth porous plate 64 and a wheel shaft that winds up the wire. By adjusting the winding amount, the fifth porous plate 64 is raised and lowered at an arbitrary installation angle. Can be adjusted.

第四の多孔板60と第五の多孔板64は、液体層L1、L2から飛散して上昇する泡沫を捕捉し、液化して落下させる部材であり、第三の多孔板50と同様にパンチングプレートやメッシュ部材を用いることができる。第四の多孔板60と第五の多孔板64の開口率は10〜40パーセント、好ましくは20〜30%とするとよい。   The fourth perforated plate 60 and the fifth perforated plate 64 are members that capture bubbles rising from the liquid layers L <b> 1 and L <b> 2, liquefy them and drop them, and punch the same as the third perforated plate 50. A plate or a mesh member can be used. The aperture ratio of the fourth porous plate 60 and the fifth porous plate 64 is 10 to 40%, preferably 20 to 30%.

第四の多孔板60および第五の多孔板64は、それぞれ下部チャンバー95または上部チャンバー96の内壁面に対して非接触に吊り下げられており、液化した泡沫が第四の多孔板60および第五の多孔板64の周囲から流下する。このため、第四の多孔板60、第五の多孔板64の上に液体層L1、L2が他の液体層を形成することはない。   The fourth perforated plate 60 and the fifth perforated plate 64 are suspended in a non-contact manner with respect to the inner wall surface of the lower chamber 95 or the upper chamber 96, respectively. It flows down from the periphery of the five perforated plates 64. For this reason, the liquid layers L1 and L2 do not form other liquid layers on the fourth porous plate 60 and the fifth porous plate 64.

ここで、第四の多孔板60を下降させて液体層L1の液面からの距離を小さくすると、液体層L1の液面のうねりが第四の多孔板60に衝突して、液体層L1の対流速度が向上し、気液接触効率が向上する。このため、液体層L1の粘度が比較的高い場合(例えば、100cPs程度の場合)に特に有効である。   Here, when the fourth porous plate 60 is lowered to reduce the distance from the liquid surface of the liquid layer L1, the undulation of the liquid surface of the liquid layer L1 collides with the fourth porous plate 60, and the liquid layer L1 Convection speed is improved and gas-liquid contact efficiency is improved. For this reason, it is particularly effective when the viscosity of the liquid layer L1 is relatively high (for example, about 100 cPs).

一方、第四の多孔板60を上昇させて液体層L1の液面からの距離を大きくすると、液体層L1の液面のうねりが第四の多孔板60に衝突することが低減し、液体層L1の対流速度が抑制される。液体層L1の粘度が比較的低い場合(例えば、10cPs以下の場合)に、第四の多孔板60を上昇させて、液体層L1の液面のうねりを抑えることが有効である。   On the other hand, when the fourth porous plate 60 is raised to increase the distance from the liquid surface of the liquid layer L1, the undulation of the liquid surface of the liquid layer L1 is reduced from colliding with the fourth porous plate 60, and the liquid layer The convection speed of L1 is suppressed. When the viscosity of the liquid layer L1 is relatively low (for example, in the case of 10 cPs or less), it is effective to raise the fourth porous plate 60 to suppress the liquid surface undulation of the liquid layer L1.

このとき、第四の多孔板60を足掛かりとして第三の多孔板50に移動する液体層L1の液量も低減する。このため、第四の多孔板60と気泡発生機10との間隔D1を増大させることで、液体層L1から上部チャンバー96に上昇する液体層L2の液量が減り、逆に間隔D1を減少させることで液体層L2の液量が増える。   At this time, the amount of the liquid layer L1 that moves to the third porous plate 50 using the fourth porous plate 60 as a foothold is also reduced. For this reason, by increasing the distance D1 between the fourth porous plate 60 and the bubble generator 10, the amount of the liquid layer L2 rising from the liquid layer L1 to the upper chamber 96 decreases, and conversely, the distance D1 is decreased. As a result, the amount of the liquid layer L2 increases.

下部チャンバー95、上部チャンバー96には、それぞれ観察窓67、68が設けられている。これにより、液体層L1、L2の液量が目視観察可能である。観察窓67、68は、液体層L1、L2の液面と、第四、第五の多孔板60、64をともに含む位置に形成されている。   The lower chamber 95 and the upper chamber 96 are provided with observation windows 67 and 68, respectively. Thereby, the liquid amount of the liquid layers L1 and L2 can be visually observed. The observation windows 67 and 68 are formed at positions including both the liquid surfaces of the liquid layers L1 and L2 and the fourth and fifth porous plates 60 and 64.

気液接触装置100は、第三の多孔板50の下流側に流出した液体層L2を捕集する捕集部85と、捕集された液体層L2を回収する回収流路86と、をさらに備える。具体的には、上部チャンバー96の下流側に排気処理部110が設けられている。排気処理部110は、第五の多孔板64で捕集されずに通過した液体層L2の泡沫を含む気体Airが導入される導入路84と、導入路84の下流側に設置された捕集部85と、捕集部85を通過した気体Airを大気放出する排気口88とを含む。排気処理部110は筐体90の上部に設置されている。   The gas-liquid contact device 100 further includes a collection unit 85 that collects the liquid layer L2 that has flowed out downstream of the third porous plate 50, and a collection channel 86 that collects the collected liquid layer L2. Prepare. Specifically, an exhaust processing unit 110 is provided on the downstream side of the upper chamber 96. The exhaust processing unit 110 has an introduction path 84 into which a gas Air containing bubbles of the liquid layer L2 that has passed without being collected by the fifth porous plate 64 is introduced, and a collection system installed downstream of the introduction path 84. Part 85 and an exhaust port 88 for releasing the air Air that has passed through the collection part 85 into the atmosphere. The exhaust processing unit 110 is installed on the top of the housing 90.

これにより、第五の多孔板64を通過した液体層L2の泡沫を捕集部85で捕集して液体層L2または液体層L1として再利用することができる。捕集部85には、SUSまたはアルミニウムなどの金属板からなるフィルターを用いることができる。より具体的には、捕集部85として、屈曲した金属板により気流方向を多段に転換して泡沫を衝突分離するスクリーン装置を用いるとよい。   Thereby, the foam of the liquid layer L2 which has passed through the fifth porous plate 64 can be collected by the collecting unit 85 and reused as the liquid layer L2 or the liquid layer L1. A filter made of a metal plate such as SUS or aluminum can be used for the collection unit 85. More specifically, a screen device that collides and separates bubbles by changing the airflow direction in multiple stages using a bent metal plate may be used as the collection unit 85.

捕集部85および回収流路86を備えることにより、気液接触装置100を連続的に運転しても液体層L1、L2が減少することが抑えられる。
ここで、本実施形態の液体層L1、L2は、水よりも比重の高い溶質が溶解した水溶液からなるVOCの吸着液である。溶質として、エポキシ系などの高分子を例示することができる。
このとき、捕集部85を気液接触部94よりも上部に設けたことにより、かりに液体層L2の泡沫が捕集部85を通過して排気口88に至ったとしても、かかる泡沫の成分は比重の低い水が支配的となる。このため、気液接触装置100の連続運転により液体層L1、L2の液量が漸減したとしても、水を補充するだけで、液体層L1、L2は濃度および液量を維持することができる。
By providing the collection part 85 and the collection | recovery flow path 86, even if it operates the gas-liquid contact apparatus 100 continuously, it can suppress that the liquid layers L1 and L2 reduce.
Here, the liquid layers L1 and L2 of the present embodiment are VOC adsorbents composed of an aqueous solution in which a solute having a specific gravity higher than that of water is dissolved. Examples of the solute include an epoxy-based polymer.
At this time, by providing the collection part 85 above the gas-liquid contact part 94, even if the foam of the liquid layer L2 passes through the collection part 85 and reaches the exhaust port 88, the component of the foam The water with the lower specific gravity is dominant. For this reason, even if the liquid amounts of the liquid layers L1 and L2 are gradually reduced by the continuous operation of the gas-liquid contact device 100, the liquid layers L1 and L2 can maintain the concentration and the liquid amount only by replenishing water.

図4(a)から(c)は、本実施形態の気液接触装置100の動作説明図である。
同図(a)は、初期状態を表している。初期状態では、注入口(図示せず)から気液接触部94に投入された液体Liqが、給気路70の下部空洞74に貯留されている。
液体Liqは、下部空洞74と、下部チャンバー95の下部に貯留され、気泡発生機10は液体Liqに浸漬されている。
FIGS. 4A to 4C are operation explanatory views of the gas-liquid contact device 100 of the present embodiment.
FIG. 4A shows the initial state. In the initial state, the liquid Liq introduced into the gas-liquid contact portion 94 from the inlet (not shown) is stored in the lower cavity 74 of the air supply path 70.
The liquid Liq is stored in the lower cavity 74 and the lower part of the lower chamber 95, and the bubble generator 10 is immersed in the liquid Liq.

ここで、開閉弁81を開き、圧送ポンプ82を駆動することで、液体Liqは供給路80を通じて揚送される。そして、塗液口83から上部チャンバー96に吐出された液体Liqは、第三の多孔板50を流下して下部チャンバー95に落下し、気泡発生機10の上部に蓄積される。気泡発生機10は、揺動片22(図2を参照)が逆止弁として機能し、塗液口83から吐出された液体Liqを下部チャンバー95内に保持する。   Here, the liquid Liq is pumped through the supply path 80 by opening the on-off valve 81 and driving the pressure feed pump 82. Then, the liquid Liq discharged from the coating liquid port 83 into the upper chamber 96 flows down the third porous plate 50 and falls into the lower chamber 95 and is accumulated on the upper part of the bubble generator 10. In the bubble generator 10, the swing piece 22 (see FIG. 2) functions as a check valve, and the liquid Liq discharged from the coating liquid port 83 is held in the lower chamber 95.

同図(b)は、排気ブロア75の動作開始時の状態を表している。このとき、液体Liqは下部空洞74から完全に排出されて下部チャンバー95に蓄積されている。排気ブロア75を作動することで、VOCが含有した気体Airが給気路70に導入されて、さらに下部空洞74に至る。   FIG. 7B shows a state when the exhaust blower 75 starts operating. At this time, the liquid Liq is completely discharged from the lower cavity 74 and accumulated in the lower chamber 95. By operating the exhaust blower 75, the gas Air contained in the VOC is introduced into the air supply path 70 and further reaches the lower cavity 74.

同図(c)は、気液接触装置100の安定動作時の状態を表している。泡沫化した液体層L1の一部が気体Airとともに第三の多孔板50を通過し、液化して液体層L2となっている状態を示している。液体層L2は、第三の多孔板50から落下する速度と、新たな泡沫が液体層L2に追加される速度とがバランスしている。
気体Airは、下部チャンバー95の液体層L1と、上部チャンバー96の液体層L2とで二度にわたって気液接触し、VOC成分が溶解除去される。
FIG. 3C shows the state of the gas-liquid contact device 100 during stable operation. A part of the foamed liquid layer L1 passes through the third porous plate 50 together with the gas Air, and is liquefied to form the liquid layer L2. In the liquid layer L2, the speed at which the liquid layer L2 drops from the third porous plate 50 and the speed at which new foam is added to the liquid layer L2 are balanced.
The gas Air makes gas-liquid contact twice in the liquid layer L1 of the lower chamber 95 and the liquid layer L2 of the upper chamber 96, and the VOC component is dissolved and removed.

なお、同図(c)の安定動作中も圧送ポンプ82を駆動させてもよい。これにより、下部空洞74に落下した僅かな液体層L1を塗液口83に揚送し、液体層L1、L2として再利用することが可能である。   Note that the pressure feed pump 82 may be driven during the stable operation of FIG. As a result, the slight liquid layer L1 that has fallen into the lower cavity 74 can be transported to the coating liquid port 83 and reused as the liquid layers L1 and L2.

図5は、排気処理部110の変形例を模式的に示す説明図である。   FIG. 5 is an explanatory diagram schematically showing a modified example of the exhaust processing unit 110.

捕集部85は、第三の多孔板50の下流側に流出した液体層L2の飛沫DRを含む気体(飛沫含有気体IN:太矢印)を導入する導入路84と、導入される飛沫DRおよび気体Air(飛沫含有気体IN)に対して逆風(飛沫防止逆風HW:細矢印)を吹き付けて飛沫DRと気体Airとを分離させる気流発生部850と、を含む。   The collection part 85 introduces the introduction path 84 for introducing the gas (splash-containing gas IN: thick arrow) containing the droplet DR of the liquid layer L2 that has flowed out to the downstream side of the third porous plate 50; An air flow generation unit 850 that blows a reverse wind (splash prevention reverse wind HW: thin arrow) against the gas Air (splash-containing gas IN) to separate the droplet DR and the gas Air.

気流発生部850は、飛沫防止逆風HWを生成して飛沫含有気体INを減速する手段である。飛沫防止逆風HWは、気液接触装置100の外部から給気してもよく、または本変形例のように気液接触装置100(空洞部857)の内部の気体を循環させてもよい。   The airflow generation unit 850 is a means for generating the splash-preventing reverse wind HW and decelerating the droplet-containing gas IN. The splash-preventing reverse wind HW may be supplied from the outside of the gas-liquid contact device 100, or the gas inside the gas-liquid contact device 100 (cavity portion 857) may be circulated as in this modification.

本変形例の気流発生部850は、捕集部85の内部の気体を循環させて逆風(飛沫防止逆風HW)を発生させるブロア(循環ブロア851)と、導入路84よりも大径の開口をもち導入路84に対向配置された飛沫防止逆風HWの吹付口854と、を含む。   The air flow generation unit 850 of the present modification includes a blower (circulation blower 851) that circulates gas inside the collection unit 85 to generate a reverse wind (splash prevention reverse wind HW), and an opening that is larger in diameter than the introduction path 84. And a spray port 854 for the splash-preventing reverse wind HW, which is disposed to face the mochi introduction path 84.

より具体的には、気流発生部850は、循環ブロア851が設置された循環路852と、循環路852がテーパー状に拡張する拡張部853と、この拡張部853の先端に設けられた吹付口854と、循環ブロア851に導入される気体から飛沫DRを除去するフィルタ855と、を含む。   More specifically, the airflow generation unit 850 includes a circulation path 852 in which a circulation blower 851 is installed, an expansion section 853 in which the circulation path 852 expands in a tapered shape, and a spray port provided at the tip of the expansion section 853. 854 and a filter 855 for removing the splash DR from the gas introduced into the circulation blower 851.

本変形例の導入路84は、上部チャンバー96よりも小径であって飛沫含有気体INを収束させて空洞部857に導入する。導入路84は上部チャンバー96から連続的に縮径するテーパー部と、当該テーパー部の先端に延在するストレート部とからなる。   The introduction path 84 of this modification has a smaller diameter than the upper chamber 96 and converges the droplet-containing gas IN and introduces it into the cavity 857. The introduction path 84 includes a tapered portion that continuously decreases in diameter from the upper chamber 96 and a straight portion that extends to the tip of the tapered portion.

飛沫含有気体INは、VOCが除去された気体Airと、液体層L2の飛沫DRとの二相混合気体である。かかる飛沫含有気体INに対して飛沫防止逆風HWを正面から吹き付けることにより、気体Airよりも慣性力が大きい飛沫DRが顕著に減速して、気体Airと飛沫DRとは互いに分離される。分離された飛沫DRの一部は導入路84から上部チャンバー96の内部に落下する。他の飛沫DRは、導入路84の外部で気体Airから分離されて、集液部856に集められ、さらに回収流路86aを通じて塗液口83(図1を参照)に送られる。   The droplet-containing gas IN is a two-phase mixed gas of the gas Air from which the VOC has been removed and the droplet DR of the liquid layer L2. By spraying the splash-preventing reverse wind HW from the front against the droplet-containing gas IN, the droplet DR having a larger inertial force than the gas Air is remarkably decelerated, and the gas Air and the droplet DR are separated from each other. A part of the separated droplet DR falls from the introduction path 84 into the upper chamber 96. The other droplets DR are separated from the gas Air outside the introduction channel 84, collected in the liquid collection unit 856, and further sent to the coating liquid port 83 (see FIG. 1) through the collection channel 86a.

集液部856は、導入路84の外部に周設された環状の貯液溝である。本変形例の集液部856は導入路84の外周面と空洞部857の内面とで挟まれた領域であり、その底面の一箇所または複数箇所に回収流路(飛沫ドレーン)86aが連通して設けられている。   The liquid collection part 856 is an annular liquid storage groove provided around the outside of the introduction path 84. The liquid collection part 856 of this modification is an area sandwiched between the outer peripheral surface of the introduction path 84 and the inner surface of the cavity part 857, and a recovery flow path (spray drain) 86a communicates with one or more of its bottom face. Is provided.

飛沫DRが分離除去された飛沫含有気体INは、排気EX(白抜矢印)となって排気口88から排出される。飛沫DRが分離されずに残った飛沫含有気体INは、飛沫防止逆風HWと混合されて循環路852に導入される。そして、フィルタ855にて飛沫含有気体INから飛沫DRが分離される。ここで分離された飛沫DRは回収流路86bを通じて塗液口83(図1を参照)に送られる。フィルタ855にはメッシュデミスタを用いることができる。   The droplet-containing gas IN from which the droplets DR are separated and removed becomes exhaust EX (white arrow) and is discharged from the exhaust port 88. The droplet-containing gas IN remaining without the droplets DR being separated is mixed with the splash-preventing headwind HW and introduced into the circulation path 852. The droplets DR are separated from the droplet-containing gas IN by the filter 855. The droplets DR separated here are sent to the coating liquid port 83 (see FIG. 1) through the recovery channel 86b. A filter 855 can be a mesh demister.

このように、本変形例の排気処理部110では、集液部856とフィルタ855とで飛沫含有気体INから飛沫DRが分離され、再び液体層L1、L2となって塗液口83から気液接触部94に供給される。ここで、空洞部857に飛沫含有気体INが導入される導入路84の開口端面と、吹付口854の開口端面とは、互いに略同心位置かつ略同一平面上にあり、吹付口854の開口端面は導入路84の開口端面を内包している。これにより、飛沫含有気体INに対して正面から飛沫防止逆風HWが吹き付けられて飛沫含有気体IN(飛沫DR)が減速される。   As described above, in the exhaust processing unit 110 according to the present modification, the droplet DR is separated from the droplet-containing gas IN by the liquid collection unit 856 and the filter 855, and again becomes the liquid layers L1 and L2 from the coating liquid port 83. It is supplied to the contact portion 94. Here, the opening end surface of the introduction path 84 through which the droplet-containing gas IN is introduced into the cavity portion 857 and the opening end surface of the spraying port 854 are substantially concentric and on the same plane, and the opening end surface of the spraying port 854 is open. Encloses the opening end face of the introduction path 84. Thereby, the splash prevention reverse wind HW is sprayed from the front with respect to the droplet containing gas IN, and the droplet containing gas IN (splash DR) is decelerated.

ただし、導入路84の開口端面が吹付口854の内部に位置して、導入路84と吹付口854とが入れ籠状に配置されてもよい。これにより、飛沫含有気体INと飛沫防止逆風HWとが確実に衝突する。   However, the opening end surface of the introduction path 84 may be located inside the spray port 854, and the introduction path 84 and the spray port 854 may be arranged in a bowl shape. Thereby, the droplet-containing gas IN and the splash-preventing head wind HW collide with each other with certainty.

吹付口854の開口径は、導入路84の開口径の2倍以上3倍以下の比率(以下、開口比)が好適である。開口比を2倍以上とすることで、導入される飛沫含有気体INに対して遺漏なく飛沫防止逆風HWが吹き付けられるため、飛沫DRを含んだまま飛沫含有気体INが排気口88に至ることが防止される。また、開口比を3倍以下とすることで、飛沫防止逆風HWが過度に拡散することがなく、飛沫含有気体INが導入路84の外周に沿って押し返されて空洞部857の内部で略N字状の気流が形成される。これにより、飛沫DRが飛沫含有気体INから好適に除去されて集液部856に集められる。   The opening diameter of the blowing port 854 is preferably a ratio (hereinafter referred to as an opening ratio) of not less than 2 times and not more than 3 times the opening diameter of the introduction path 84. By setting the opening ratio to be twice or more, since the splash-preventing headwind HW is blown to the introduced droplet-containing gas IN without omission, the droplet-containing gas IN may reach the exhaust port 88 while containing the droplet DR. Is prevented. In addition, by setting the opening ratio to 3 times or less, the splash-preventing headwind HW is not excessively diffused, and the splash-containing gas IN is pushed back along the outer periphery of the introduction path 84 and is substantially within the cavity portion 857. An N-shaped airflow is formed. Thereby, the droplets DR are suitably removed from the droplet-containing gas IN and collected in the liquid collection unit 856.

排気ブロア75(図1を参照)に対する循環ブロア851の流量比は特に限定されないが、100%を超えてもよい。すなわち、排気ブロア75により吸気口71から給気される気体Airの流量よりも、循環ブロア851によって生じる飛沫防止逆風HWの流量の方が大きくてもよい。これにより、飛沫DRを飛沫含有気体INから好適に分離することができる。   The flow ratio of the circulation blower 851 to the exhaust blower 75 (see FIG. 1) is not particularly limited, but may exceed 100%. That is, the flow rate of the splash-preventing reverse wind HW generated by the circulation blower 851 may be larger than the flow rate of the gas Air supplied from the intake port 71 by the exhaust blower 75. Thereby, the droplet DR can be suitably separated from the droplet-containing gas IN.

(実施例)
図1に示した上記実施形態で説明した気液接触装置100の動作結果の一例を以下に示す。
気温22℃の空気に、50℃に加熱したメチルエチルケトン(MEK)を下表1の濃度で混合した気体Airを、排気ブロア75により分速50mの流量で気液接触装置100に導入した。この気体Airを、水性の液体Liqに連続的に通過させて、MEKの除去試験を行った。
下部チャンバー95に設置した冷却装置76の設定温度を3℃とした。気液接触装置100の雰囲気温度は27℃であり、試験開始時の液体Liqの温度は26℃(常温)で安定した。
(Example)
An example of the operation result of the gas-liquid contact device 100 described in the above embodiment shown in FIG. 1 is shown below.
Gas Air in which methyl ethyl ketone (MEK) heated to 50 ° C. was mixed with air at a temperature of 22 ° C. at a concentration shown in Table 1 below was introduced into the gas-liquid contactor 100 by the exhaust blower 75 at a flow rate of 50 m 3 / min. This gas Air was continuously passed through the aqueous liquid Liq to perform a MEK removal test.
The set temperature of the cooling device 76 installed in the lower chamber 95 was 3 ° C. The atmospheric temperature of the gas-liquid contact device 100 was 27 ° C., and the temperature of the liquid Liq at the start of the test was stabilized at 26 ° C. (normal temperature).

また、図3に示す気泡発生機10を用い、隣接する揺動片22同士の間隔を20mm、円弧部24の直径を6mmとした。   Moreover, the bubble generator 10 shown in FIG. 3 was used, the interval between adjacent rocking pieces 22 was set to 20 mm, and the diameter of the arc portion 24 was set to 6 mm.

下表1に、VOCの除去試験の結果を表す。   Table 1 below shows the results of the VOC removal test.

Figure 2011167682
Figure 2011167682

表1の結果より、吸気口71における入口側のVOC濃度が7500ppmを超える高濃度の気体Airに対して、排気口88で排出されるVOC濃度は1000ppm以下となり、85%以上という高い吸収率でVOCが除去された。また、運転開始から5分と短時間のうちに吸収率は85%を超え、気液接触装置100によるVOCの吸収動作は安定した。そして、1.5時間にわたる連続運転を行っても、VOCの吸収率は85%以上を維持した。この間、液体Liqの補充は行わなかった。   From the results shown in Table 1, the VOC concentration discharged from the exhaust port 88 is 1000 ppm or less, and the absorption rate is as high as 85% or more, with respect to the high-concentration gas Air in which the VOC concentration on the inlet side at the intake port 71 exceeds 7500 ppm. VOC was removed. In addition, the absorption rate exceeded 85% within 5 minutes from the start of operation, and the VOC absorption operation by the gas-liquid contact device 100 was stabilized. And even if it continued for 1.5 hours, the absorption rate of VOC maintained 85% or more. During this time, liquid Liq was not replenished.

また、1週間を超える連続試験を行ったところ、VOCの吸収率は85%以上を維持した。この間、液体Liqの減少分に対しては水のみを補充した。   Moreover, when the continuous test over 1 week was done, the absorption rate of VOC maintained 85% or more. During this time, only the water was replenished with respect to the decrease in the liquid Liq.

さらに、吸気口71に導入されるVOCをトルエンおよび酢酸エチルにそれぞれ変更した場合についても、表1と同様に85%以上の吸収率が達成された。   Furthermore, even when the VOC introduced into the intake port 71 was changed to toluene and ethyl acetate, respectively, an absorption rate of 85% or more was achieved as in Table 1.

以上より、気液接触装置100による気液接触効率の高さと、VOCの吸収率の高さが明らかとなった。   From the above, it was revealed that the gas-liquid contact efficiency by the gas-liquid contact device 100 and the high VOC absorption rate were high.

10 気泡発生機
20 樹脂シート
22 揺動片
24 円弧部
26 裾部
28 終端部
30 第一の多孔板
32 大径口
40 第二の多孔板
42 小径口
50 第三の多孔板
60 第四の多孔板
64 第五の多孔板
62、66 調整部
67、68 観察窓
70 給気路
71 吸気口
72 環状流路
73 下降路
74 下部空洞
75 排気ブロア
76 冷却装置
80 供給路
81 開閉弁
82 圧送ポンプ
83 塗液口
84 導入路
85 捕集部
850 気流発生部
851 循環ブロア
852 循環路
853 拡張部
854 吹付口
855 フィルタ
856 集液部
857 空洞部
86、86a、86b 回収流路
88 排気口
90 筐体
92 配管収容部
94 気液接触部
95 下部チャンバー
96 上部チャンバー
98 車輪
100 気液接触装置
110 排気処理部
Air 気体
DR 飛沫
EX 排気
HW 飛沫防止逆風
IN 飛沫含有気体
Liq 液体
G1、G2、G3 気体層
L1、L2 液体層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Bubble generator 20 Resin sheet 22 Oscillating piece 24 Arc part 26 Bottom part 28 Termination part 30 First porous plate 32 Large diameter opening 40 Second porous plate 42 Small diameter opening 50 Third porous plate 60 Fourth porous Plate 64 Fifth porous plate 62, 66 Adjusting section 67, 68 Observation window 70 Air supply path 71 Air inlet 72 Annular flow path 73 Lowering path 74 Lower cavity 75 Exhaust blower 76 Cooling device 80 Supply path 81 On-off valve 82 Pressure feed pump 83 Coating port 84 Introduction channel 85 Collection unit 850 Airflow generation unit 851 Circulation blower 852 Circulation channel 853 Expansion unit 854 Spray port 855 Filter 856 Liquid collection unit 857 Cavity 86, 86a, 86b Recovery channel 88 Exhaust port 90 Housing 92 Piping accommodating portion 94 Gas-liquid contact portion 95 Lower chamber 96 Upper chamber 98 Wheel 100 Gas-liquid contact device 110 Exhaust treatment portion Air Gas DR Splash EX Exhaust HW Fly Prevention headwind IN splash-containing gas Liq liquid G1, G2, G3 gas layer L1, L2 liquid layer

Claims (11)

液体に接触させて用いられる気泡発生機であって、
複数の揺動片が分散して切り込み形成された可撓性の樹脂シートと、
前記揺動片の外径よりも大きな大径口を複数備える第一の多孔板と、
前記揺動片の外径よりも小さな小径口を複数備え、前記第一の多孔板とともに前記樹脂シートを挟持する第二の多孔板と、を有し、
前記小径口から流入し、前記揺動片を付勢して前記大径口より流出する気体を気泡化する気泡発生機。
A bubble generator used in contact with a liquid,
A flexible resin sheet in which a plurality of swing pieces are dispersed and cut, and
A first perforated plate having a plurality of large-diameter openings larger than the outer diameter of the swing piece;
A plurality of small-diameter openings smaller than the outer diameter of the swing piece, and having a second perforated plate sandwiching the resin sheet together with the first perforated plate,
A bubble generator for bubbling gas flowing in from the small diameter port and energizing the swing piece to flow out of the large diameter port.
前記揺動片が、前記小径口の側への変位が規制され前記大径口の側に変位自在に構成された逆止弁である請求項1に記載の気泡発生機。   2. The bubble generator according to claim 1, wherein the swing piece is a check valve configured to be freely displaced toward the large-diameter port while being restricted from being displaced toward the small-diameter port. 前記揺動片が略円形をなし、前記大径口、前記小径口および前記揺動片が同心状に配置されている請求項1または2に記載の気泡発生機。   The bubble generator according to claim 1 or 2, wherein the swing piece has a substantially circular shape, and the large-diameter port, the small-diameter port, and the swing piece are arranged concentrically. 請求項1から3のいずれかに記載の気泡発生機を備え、多段に設けられた複数の液体層と気泡化された気体とを接触させる気液接触装置であって、
前記気泡発生機により気泡化されて前記大径口より流出した気体が、第三の多孔板の下流側に接して配置された前記液体層とさらに接触することを特徴とする気液接触装置。
A gas-liquid contact device comprising the bubble generator according to any one of claims 1 to 3, wherein a plurality of liquid layers provided in multiple stages and a bubbled gas are brought into contact with each other.
The gas-liquid contactor characterized in that the gas that has been bubbled by the bubble generator and flows out of the large-diameter port further contacts the liquid layer disposed in contact with the downstream side of the third porous plate.
前記気泡発生機の下流側に前記液体層が接触して設けられ、上流側に気体層が設けられている請求項4に記載の気液接触装置。   The gas-liquid contact device according to claim 4, wherein the liquid layer is provided in contact with the downstream side of the bubble generator and a gas layer is provided on the upstream side. 前記気泡発生機と前記第三の多孔板とがともに略水平に配置され、下方から上方に向かって前記気体を流動させる吹き上げ型の気液接触装置であって、
前記気泡発生機の上部に前記液体層を供給する供給路をさらに備える請求項4または5に記載の気液接触装置。
Both the bubble generator and the third perforated plate are arranged substantially horizontally, and is a blow-up type gas-liquid contact device that allows the gas to flow from below to above,
The gas-liquid contact device according to claim 4 or 5, further comprising a supply path for supplying the liquid layer to an upper portion of the bubble generator.
前記気泡発生機と前記第三の多孔板との間に第四の多孔板をさらに備え、
前記第四の多孔板は、前記気泡発生機との間隔が可変であって、前記気泡発生機の上部に供給された前記液体層が前記気体とともに前記第三の多孔板の上部に移動する量が、前記間隔の変更により増減調整されることを特徴とする請求項6に記載の気液接触装置。
Further comprising a fourth porous plate between the bubble generator and the third porous plate;
The distance between the fourth porous plate and the bubble generator is variable, and the amount of the liquid layer supplied to the upper part of the bubble generator moves to the upper part of the third porous plate together with the gas The gas-liquid contact device according to claim 6, wherein the increase / decrease adjustment is performed by changing the interval.
前記第三の多孔板の下流側に流出した前記液体層を捕集する捕集部と、捕集された前記液体層を回収する回収流路と、をさらに備える請求項4から7のいずれかに記載の気液接触装置。   The collection part which collects the said liquid layer which flowed out to the downstream of said 3rd perforated plate, and the collection | recovery flow path which collect | recovers the collected said liquid layers are further provided in any one of Claim 4 to 7 The gas-liquid contact apparatus described in 1. 前記捕集部が、前記第三の多孔板の下流側に流出した前記液体層の飛沫を含む気体を導入する導入路と、導入される前記飛沫および前記気体に対して逆風を吹き付けて前記飛沫と前記気体とを分離させる気流発生部と、を含む請求項8に記載の気液接触装置。   The collection part introduces a gas containing the droplets of the liquid layer that has flowed out to the downstream side of the third perforated plate, and the splashes are blown against the introduced splashes and the gas by blowing back air. The gas-liquid contact apparatus of Claim 8 containing the airflow generation part which isolate | separates and the said gas. 前記気流発生部が、前記捕集部の内部の気体を循環させて前記逆風を発生させるブロアと、前記導入路よりも大径の開口をもち前記導入路に対向配置された前記逆風の吹付口と、を含む請求項9に記載の気液接触装置。   The air flow generation unit circulates the gas inside the collection unit to generate the back wind, and the back wind blowing port that has an opening larger in diameter than the introduction path and is opposed to the introduction path And the gas-liquid contact device according to claim 9. 前記液体層を冷却する冷却装置をさらに備え、
前記気体が揮発性有機化合物を含有する請求項4から10のいずれかに記載の気液接触装置。
A cooling device for cooling the liquid layer;
The gas-liquid contact device according to any one of claims 4 to 10, wherein the gas contains a volatile organic compound.
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