JP2011152740A - Inkjet head - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inkjet head which permits densification and miniaturization and manpower reduction to be realized at the same time and upper and lower pressure chambers to be operated independently by arranging a common wiring layer between the upper pressure chamber and the lower pressure chamber arranged one above the other in a two-stage structure. <P>SOLUTION: The inkjet head discharges ink from nozzles by a pressure generation means, and has a first layer 10 in which a first pressure chamber 11 is formed and which has a first pressure generation means arranged in a first vibration plate 13 forming part of the wall of the first pressure chamber 11, a second layer 20 in which a second pressure chamber 21 is formed and which has a second pressure generation means arranged in a second vibration plate 23 forming part of the wall of the second pressure chamber 21, and a wiring layer 30 in which wiring is formed to apply voltage to the first pressure generation means of the first layer 10 and the second pressure generation means of the second layer 20, respectively. The wiring layer 30 is arranged between the first layer 10 and the second layer 20. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明はインクジェットヘッドに関し、詳しくは、圧力室を複数の層に立体的に配置することによって高密度化及び小型化を図ったインクジェットヘッドに関する。   The present invention relates to an ink-jet head, and more particularly to an ink-jet head that achieves higher density and smaller size by three-dimensionally arranging pressure chambers in a plurality of layers.

軽印刷用途として高精細描画が可能なインクジェットプリンタが望まれており、インクジェットヘッドの高集積化が市場のニーズとしてある。   Inkjet printers capable of high-definition drawing are desired for light printing applications, and high integration of inkjet heads is a market need.

インクジェットヘッドには、インクをノズルから吐出するための圧力発生手段として、電気信号を機械エネルギーに変換するPZT等の圧電素子を用い、圧力室の一面に形成された振動板を圧電素子によって振動させることで、圧力室内のインクにノズルから吐出するための圧力変化を与えるものが知られている。これは、電気信号を熱エネルギーに変換するヒーターを用いて圧力室内のインクに吐出のための圧力変化を与えるサーマル方式のものと異なり、圧力室に大きさが必要となるため、物理的な集積限界がある。   The inkjet head uses a piezoelectric element such as PZT that converts electrical signals into mechanical energy as pressure generating means for ejecting ink from the nozzles, and a diaphragm formed on one surface of the pressure chamber is vibrated by the piezoelectric element. Thus, it is known that the ink in the pressure chamber is changed in pressure for discharging from the nozzle. Unlike the thermal method, which uses a heater that converts electrical signals into thermal energy to change the pressure for ejection to the ink in the pressure chamber, the pressure chamber needs to be large, so it is physically integrated. There is a limit.

このため、従来、圧力室を上下方向に2段に積層することによって圧力室の高密度な集積を可能とする技術が提案されている(特許文献1、2及び3)。   For this reason, conventionally, there has been proposed a technique that enables high-pressure integration of pressure chambers by stacking the pressure chambers in two stages in the vertical direction (Patent Documents 1, 2, and 3).

特開2001−146010号公報JP 2001-146010 A 特開2005−153501号公報JP 2005-153001 A 特開2005−231258号公報JP 2005-231258 A

特許文献1、2記載の技術では、圧力室を平面的に配置した層を2層積層することによって圧力室を上下2段に積層する形となっている。従って、各層の圧力室にそれぞれ設けられる圧電素子に対して電圧を印加するための配線が、各層にそれぞれ必要となる。これにより、インクジェットヘッドを作製するための工数が増加すると共に歩留まりが悪化する原因ともなり、コスト高となる問題がある。   In the techniques described in Patent Documents 1 and 2, the pressure chambers are stacked in two upper and lower stages by stacking two layers in which the pressure chambers are arranged in a plane. Accordingly, wiring for applying a voltage to the piezoelectric elements provided in the pressure chambers of each layer is required for each layer. As a result, the number of steps for producing the ink jet head is increased and the yield is deteriorated, resulting in an increase in cost.

また、特許文献2記載の技術は、上下2段に積層された2つの圧力室の間に1つの圧電素子を共通に配置することで、ノズル数に対する圧電素子数を削減できるようにしているが、圧電素子を共通にする2つの圧力室のうち一方がインクを吐出している状態のとき、他方はインクを吐出することができない。つまり、圧電素子を共通にする2つの圧力室は独立して動作させることができないので、液滴量のコントロール時等に悪影響を及ぼす問題がある。   In addition, the technique described in Patent Document 2 can reduce the number of piezoelectric elements with respect to the number of nozzles by arranging one piezoelectric element in common between two pressure chambers stacked in two upper and lower stages. When one of the two pressure chambers sharing the piezoelectric element is ejecting ink, the other cannot eject ink. That is, since the two pressure chambers that share the piezoelectric element cannot be operated independently, there is a problem of adversely affecting the droplet amount control.

そこで、本発明は、上下2段に配置した圧力室の間に共通の配線層を配置することにより、高密度化及び小型化と工数の簡略化とを同時に図ることができると共に、上下の各圧力室を独立して動作させることが可能なインクジェットヘッドを提供することを課題とする。   Therefore, the present invention can simultaneously increase the density and reduce the size and simplify the man-hours by arranging a common wiring layer between the pressure chambers arranged in two upper and lower stages. It is an object of the present invention to provide an ink jet head capable of operating a pressure chamber independently.

本発明の他の課題は、以下の記載により明らかとなる。   Other problems of the present invention will become apparent from the following description.

上記課題は、以下の各発明によって解決される。   The above problems are solved by the following inventions.

請求項1記載の発明は、圧力発生手段によってインクをノズルから吐出するインクジェットヘッドであって、
第1の圧力室が形成され、該第1の圧力室の壁面の一部を形成する第1の振動板に配設された第1の圧力発生手段を有する第1の層と、
第2の圧力室が形成され、該第2の圧力室の壁面の一部を形成する第2の振動板に配設された第2の圧力発生手段を有する第2の層と、
前記第1の層の前記第1の圧力発生手段及び前記第2の層の前記第2の圧力発生手段にそれぞれ電圧を印加する配線が形成された配線層とを有し、
前記配線層は、前記第1の層と前記第2の層との間に配置されていることを特徴とするインクジェットヘッドである。
The invention according to claim 1 is an ink jet head that discharges ink from a nozzle by pressure generating means,
A first layer having a first pressure chamber formed and having a first pressure generating means disposed on a first diaphragm forming a part of a wall surface of the first pressure chamber;
A second layer having a second pressure generating means disposed on a second diaphragm forming a second pressure chamber and forming a part of a wall surface of the second pressure chamber;
A wiring layer on which wirings for applying a voltage are respectively applied to the first pressure generating means of the first layer and the second pressure generating means of the second layer;
In the inkjet head, the wiring layer is disposed between the first layer and the second layer.

請求項2記載の発明は、前記第1の圧力発生手段は、前記第1の層の底面に形成され、
前記第2の圧力発生手段は、前記第2の層の天面に形成されていることを特徴とする請求項1記載のインクジェットヘッドである。
According to a second aspect of the present invention, the first pressure generating means is formed on the bottom surface of the first layer,
The inkjet head according to claim 1, wherein the second pressure generating unit is formed on a top surface of the second layer.

請求項3記載の発明は、前記配線層は、一方の面に、前記第1の層の前記第1の圧力発生手段と該第1の圧力発生手段に電圧を印加するための前記配線とを電気的に接続する第1の電気的接続手段を有し、他方の面に、前記第2の層の前記第2の圧力発生手段と該第2の圧力発生手段に電圧を印加するための前記配線とを電気的に接続する第2の電気的接続手段を有することを特徴とする請求項1又は2記載のインクジェットヘッドである。   According to a third aspect of the present invention, the wiring layer includes, on one surface, the first pressure generating unit of the first layer and the wiring for applying a voltage to the first pressure generating unit. A first electrical connection means for electrical connection, and the second surface generating means of the second layer on the other surface and the voltage for applying a voltage to the second pressure generating means 3. The ink jet head according to claim 1, further comprising a second electrical connection means for electrically connecting the wiring.

請求項4記載の発明は、前記第2の層は、ノズルを形成したノズルプレートを有し、
前記第2の層と前記配線層とに亘り、前記第1の圧力室と前記ノズルとを連通させるインク吐出用の流路を有することを特徴とする請求項1、2又は3記載のインクジェットヘッドである。
According to a fourth aspect of the present invention, the second layer has a nozzle plate in which nozzles are formed,
4. The ink jet head according to claim 1, further comprising an ink discharge channel that communicates the first pressure chamber and the nozzle across the second layer and the wiring layer. 5. It is.

請求項5記載の発明は、前記第1の層の上層に、前記第1の圧力室及び前記第2の圧力室へ共通にインクを供給する共通インク室を有し、
前記第1の層と前記配線層とに亘り、前記共通インク室と前記第2の圧力室とを連通するインク供給用の流路を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のインクジェットヘッドである。
The invention according to claim 5 has a common ink chamber for supplying ink to the first pressure chamber and the second pressure chamber in an upper layer of the first layer,
5. The ink supply flow path that communicates between the common ink chamber and the second pressure chamber across the first layer and the wiring layer. 6. It is an inkjet head of description.

本発明によれば、上下2段の配置した圧力室の間に共通の配線層を配置することにより、高密度化及び小型化と工数の簡略化とを同時に図ることができると共に、上下の各圧力室を独立して動作させることが可能なインクジェットヘッドを提供することができる。   According to the present invention, by arranging a common wiring layer between the pressure chambers arranged in two upper and lower stages, it is possible to simultaneously achieve high density and miniaturization and simplification of man-hours. An ink jet head capable of operating the pressure chambers independently can be provided.

本発明に係るインクジェットヘッドの層構成を示す部分断面図1 is a partial cross-sectional view showing a layer structure of an inkjet head according to the present invention 本発明に係るインクジェットヘッドをノズル側から見た斜視図The perspective view which looked at the ink jet head concerning the present invention from the nozzle side 圧力室の配置構成を示す平面透視図Plane perspective view showing arrangement of pressure chambers 配線層の作製方法を説明する図The figure explaining the production method of a wiring layer 配線層の作製方法を説明する図The figure explaining the production method of a wiring layer インクジェットヘッドの作製方法を説明する図FIG. 6 illustrates a method for manufacturing an inkjet head

本発明は、圧力発生手段によってインクをノズルから吐出するインクジェットヘッドであって、第1の圧力室が形成され、該第1の圧力室の壁面の一部を形成する第1の振動板に配設された第1の圧力発生手段を有する第1の層と、第2の圧力室が形成され、該第2の圧力室の壁面の一部を形成する第2の振動板に配設された第2の圧力発生手段を有する第2の層と、前記第1の層の前記第1の圧力発生手段及び前記第2の層の前記第2の圧力発生手段にそれぞれ電圧を印加する配線が形成された配線層とを有し、前記配線層は、前記第1の層と前記第2の層との間に配置されていることを特徴とする。   The present invention is an ink jet head that discharges ink from a nozzle by a pressure generating means, in which a first pressure chamber is formed and disposed on a first diaphragm that forms a part of the wall surface of the first pressure chamber. A first layer having a first pressure generating means and a second pressure chamber are formed and disposed on a second diaphragm that forms part of the wall surface of the second pressure chamber. A second layer having second pressure generating means, and wiring for applying a voltage to each of the first pressure generating means of the first layer and the second pressure generating means of the second layer are formed. And the wiring layer is disposed between the first layer and the second layer.

第1の圧力室及び第2の圧力室は、第1の層及び第2の層においてそれぞれマトリックス状に平面的に配列されるため、第1の圧力室及び第2の圧力室が上下2段に配置されることで、インクジェットヘッドの高密度化及び小型化が図られる。また、第1の層の第1の圧力発生手段及び第2の層の第2の圧力発生手段に対する電圧印加のための配線は、共通の配線層に形成され、この配線層が第1の層と第2の層との間に配置されることで、配線を各層に形成する場合に比べて工数の簡略化をも図ることができる。しかも、本発明によれば、第1の圧力室と第2の圧力室にそれぞれ専用の第1の圧力発生手段及び第2の圧力発生手段が配設されるため、上下の各圧力室を独立して動作させることが可能である。   Since the first pressure chamber and the second pressure chamber are arranged in a matrix in the first layer and the second layer, respectively, the first pressure chamber and the second pressure chamber are arranged in two upper and lower stages. As a result, the density and size of the inkjet head can be reduced. The wiring for applying a voltage to the first pressure generating means of the first layer and the second pressure generating means of the second layer is formed in a common wiring layer, and this wiring layer is the first layer. And the second layer, the man-hours can be simplified as compared with the case where the wiring is formed in each layer. Moreover, according to the present invention, the first pressure chamber and the second pressure chamber are provided in the first pressure chamber and the second pressure chamber, respectively. Can be operated.

圧力発生手段としては、電気信号を機械エネルギーに変換する電気機械変換素子である圧電素子が用いられる。このような圧電素子としては、一般にPZTが好ましく用いられる。   As the pressure generating means, a piezoelectric element that is an electromechanical conversion element that converts an electrical signal into mechanical energy is used. In general, PZT is preferably used as such a piezoelectric element.

第1の層に設けられる第1の圧力室は、壁面のうちの底壁が第1の振動板とされ、この第1の振動板の底面(第1の圧力室の外側の面)に第1の圧力発生手段が設けられる。従って、この第1の圧力発生手段は、第1の層の底面に形成されている。また、第2の層に設けられる第2の圧力室は、壁面のうちの天井壁が第2の振動板とされ、この第2の振動板の天面(第2の圧力室の外側の面)に第2の圧力発生手段が設けられる。従って、この第2の圧力発生手段は、第2の層の天面に形成されている。   In the first pressure chamber provided in the first layer, the bottom wall of the wall surface is the first diaphragm, and the first diaphragm is placed on the bottom surface (the outer surface of the first pressure chamber) of the first diaphragm. One pressure generating means is provided. Therefore, the first pressure generating means is formed on the bottom surface of the first layer. The second pressure chamber provided in the second layer has a ceiling wall of the wall surface as the second diaphragm, and the top surface of the second diaphragm (the outer surface of the second pressure chamber). ) Is provided with second pressure generating means. Therefore, the second pressure generating means is formed on the top surface of the second layer.

なお、本発明のインクジェットヘッドにおいて、ノズルが開口する面を下面、その反対面を上面と定義する。従って、本発明においてノズルが開口する面が下となるように配置させたときに下側となる壁及び面をそれぞれ底壁、底面といい、上側となる壁及び面をそれぞれ天井壁、天面という。   In the ink jet head of the present invention, the surface where the nozzle opens is defined as the lower surface, and the opposite surface is defined as the upper surface. Accordingly, in the present invention, the lower wall and the surface when the nozzle is disposed so that the surface on which the nozzle is opened are referred to as the bottom wall and the bottom surface, respectively, and the upper wall and the surface are respectively the ceiling wall and the top surface. That's it.

配線層は、一方の面に、第1の層の第1の圧力発生手段と該第1の圧力発生手段に電圧を印加するための配線とを電気的に接続する第1の電気的接続手段を有し、他方の面に、第2の層の第2の圧力発生手段と該第2の圧力発生手段に電圧を印加するための配線とを電気的に接続する第2の電気的接続手段を有している。配線層は、前記一方の面が第1の層、前記他方の面が第2の層にそれぞれ面するように配置され、第1の層と第2の層との間に積層される。この積層状態で、配線層の第1の電気的接続手段は、第1の層の第1の圧力発生手段と電気的に接続され、また、配線層の第2の電気的接続手段は、第2の層の第2の圧力発生手段と電気的に接続されている。   The wiring layer has, on one surface, first electrical connection means for electrically connecting the first pressure generating means of the first layer and the wiring for applying a voltage to the first pressure generating means. A second electrical connecting means for electrically connecting the second pressure generating means of the second layer and a wiring for applying a voltage to the second pressure generating means on the other surface have. The wiring layer is disposed so that the one surface faces the first layer and the other surface faces the second layer, and is laminated between the first layer and the second layer. In this laminated state, the first electrical connection means of the wiring layer is electrically connected to the first pressure generating means of the first layer, and the second electrical connection means of the wiring layer is the first It is electrically connected to the second pressure generating means of the two layers.

本発明において、第2の層はノズルプレートを有している。第1の圧力室及び第2の圧力室にそれぞれ対応するノズルは、第2の層の底面(第1の層及び配線層の積層側と反対側の面)を構成するノズルプレートに形成される。このため、第1の層の第1の圧力室と第2の層の底面に形成されたノズルとを連通させるインク吐出用の流路が、第2の層と配線層とに亘って、これらを貫通するように形成される。   In the present invention, the second layer has a nozzle plate. The nozzles respectively corresponding to the first pressure chamber and the second pressure chamber are formed on the nozzle plate constituting the bottom surface of the second layer (the surface on the side opposite to the stacked side of the first layer and the wiring layer). . For this reason, an ink discharge flow path for communicating the first pressure chamber of the first layer and the nozzle formed on the bottom surface of the second layer extends over the second layer and the wiring layer. It is formed so as to penetrate.

また、本発明において、第1の層の上層(第2の層及び配線層の積層側と反対側の層)に、第1の圧力室及び第2の圧力室へ共通にインクを供給する共通インク室を有することができる。この場合、共通インク室と第2の圧力室とを連通するためのインク供給用の流路が、第1の層と配線層とに亘って、これらを貫通するように形成される。   Further, in the present invention, common ink is supplied to the first pressure chamber and the second pressure chamber on the upper layer of the first layer (the layer on the side opposite to the stacked side of the second layer and the wiring layer). It can have an ink chamber. In this case, an ink supply channel for communicating the common ink chamber and the second pressure chamber is formed across the first layer and the wiring layer.

次に、本発明の具体的な実施の形態について図面を用いて説明する。   Next, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明に係るインクジェットヘッドの層構成を示す部分断面図、図2は、本発明に係るインクジェットヘッドをノズル側から見た斜視図、図3は、圧力室の配置構成を示す平面透視図である。   FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a layer structure of an ink jet head according to the present invention, FIG. 2 is a perspective view of the ink jet head according to the present invention as viewed from the nozzle side, and FIG. 3 is a plan view showing an arrangement structure of pressure chambers. FIG.

インクジェットヘッド1は、図1に示すように、複数の層が積層されることによって形成されており、それぞれ内部にインクが供給される第1圧力室11と第2圧力室21とが、積層方向である図示上下方向に2段に立体的に配置されている。   As shown in FIG. 1, the inkjet head 1 is formed by laminating a plurality of layers, and a first pressure chamber 11 and a second pressure chamber 21 into which ink is supplied are respectively laminated in a laminating direction. Are arranged three-dimensionally in two stages in the illustrated vertical direction.

第1圧力室11は、Si(シリコン)基板12の厚み方向にエッチング加工されることによって、図1における左右方向に亘ってマトリックス状に多数配列形成される。第1圧力室11の底壁111の一部は、Si基板12がエッチング加工し残されることによって、薄壁状の第1振動板13を構成しており、この第1振動板13の底面(第1振動板13の外側の面)に、第1圧力室11内のインクに吐出のための圧力を付与する第1圧力発生手段である圧電素子14が設けられている。なお、圧電素子14は、不図示の上部電極及び下部電極を有している。   A large number of first pressure chambers 11 are formed in a matrix form in the left-right direction in FIG. 1 by being etched in the thickness direction of the Si (silicon) substrate 12. A part of the bottom wall 111 of the first pressure chamber 11 constitutes a thin-walled first diaphragm 13 by leaving the Si substrate 12 etched, and the bottom surface of the first diaphragm 13 ( On the outer surface of the first diaphragm 13, there is provided a piezoelectric element 14 that is a first pressure generating unit that applies pressure for ejection to the ink in the first pressure chamber 11. The piezoelectric element 14 has an upper electrode and a lower electrode (not shown).

Si基板12の上面には、感光性ドライフィルムからなる接着剤層15を介してSi基板からなる天板16が積層されている。本実施形態では、以上のSi基板12、圧電素子14、接着剤層15及び天板16によって第1の層である第1アクチュエータ層10が構成される。従って、第1アクチュエータ層10において、底面に圧電素子14が配置されている。   A top plate 16 made of a Si substrate is laminated on the upper surface of the Si substrate 12 via an adhesive layer 15 made of a photosensitive dry film. In the present embodiment, the first actuator layer 10 that is the first layer is configured by the Si substrate 12, the piezoelectric element 14, the adhesive layer 15, and the top plate 16. Therefore, the piezoelectric element 14 is disposed on the bottom surface of the first actuator layer 10.

一方、第2圧力室21は、Si基板22の厚み方向にエッチング加工されることによって、図1における左右方向に亘ってマトリックス状に多数配列形成される。第2圧力室21の天井壁211の一部は、Si基板22がエッチング加工し残されることによって、薄壁状の第2振動板23を構成しており、この第2振動板23の天面(第2振動板23の外側の面)に、第2圧力室21内のインクに吐出のための圧力を付与する第2圧力発生手段である圧電素子24が設けられている。なお、圧電素子24は、不図示の上部電極及び下部電極を有している。   On the other hand, the second pressure chambers 21 are formed in a matrix form in the left-right direction in FIG. 1 by being etched in the thickness direction of the Si substrate 22. A part of the ceiling wall 211 of the second pressure chamber 21 constitutes a thin-walled second diaphragm 23 by leaving the Si substrate 22 etched, and the top surface of the second diaphragm 23 A piezoelectric element 24 as second pressure generating means for applying pressure for ejection to the ink in the second pressure chamber 21 is provided on the outer surface of the second diaphragm 23. The piezoelectric element 24 has an upper electrode and a lower electrode (not shown).

かかる第1圧力室11及び第2圧力室21は、図3に示すように、平面視で互いに部分的にオーバーラップするように配置されている。このため、第1圧力室11と第2圧力室21の水平方向の広がりが抑えられ、高密度化及び小型化が一層発揮される。   As shown in FIG. 3, the first pressure chamber 11 and the second pressure chamber 21 are arranged so as to partially overlap each other in plan view. For this reason, the horizontal expansion of the 1st pressure chamber 11 and the 2nd pressure chamber 21 is suppressed, and density increase and size reduction are further exhibited.

Si基板22の下面には、感光性ドライフィルムからなる接着剤層25を介してSi基板からなるノズルプレート26が積層されている。本実施形態では、以上のSi基板22、圧電素子24、接着剤層25及びノズルプレート26によって第2の層である第2アクチュエータ層20が構成される。従って、第2アクチュエータ層20において、天面に圧電素子24が配置されている。   On the lower surface of the Si substrate 22, a nozzle plate 26 made of an Si substrate is laminated via an adhesive layer 25 made of a photosensitive dry film. In the present embodiment, the Si actuator 22, the piezoelectric element 24, the adhesive layer 25, and the nozzle plate 26 constitute the second actuator layer 20 that is the second layer. Accordingly, in the second actuator layer 20, the piezoelectric element 24 is disposed on the top surface.

配線層30は、かかる第1アクチュエータ層10と第2アクチュエータ層20との間に配置され、感光性ドライフィルムからなる接着剤層361、362によって該第1アクチュエータ層10及び第2アクチュエータ層20と接合されている。   The wiring layer 30 is disposed between the first actuator layer 10 and the second actuator layer 20, and the first actuator layer 10 and the second actuator layer 20 are separated by adhesive layers 361 and 362 made of a photosensitive dry film. It is joined.

配線層30は、Si基板31の両面に、それぞれ圧電素子14、24に電圧を印加するための配線321、322がパターン形成されている。配線321の一端は、第1アクチュエータ層10の各圧電素子14の上部電極(図示せず)の直下に配置され、配線322の一端は、第2アクチュエータ層20の各圧電素子24の上部電極(図示せず)の直上に配置されると共に、各他端は、所定の電圧を出力する駆動回路(図示せず)と電気的に接続されている。   In the wiring layer 30, wirings 321 and 322 for applying a voltage to the piezoelectric elements 14 and 24 are patterned on both surfaces of the Si substrate 31. One end of the wiring 321 is disposed immediately below the upper electrode (not shown) of each piezoelectric element 14 of the first actuator layer 10, and one end of the wiring 322 is the upper electrode (each of the piezoelectric elements 24 of the second actuator layer 20). The other end is electrically connected to a drive circuit (not shown) that outputs a predetermined voltage.

配線321は、絶縁膜(SiO膜)331によって、Si基板31の上面に対して絶縁されていると共に該配線321の上面も絶縁膜331によって被覆されることで絶縁されている。絶縁膜331における配線321の一端に対応する部位は、絶縁膜331が部分的に除去されて非絶縁部341を形成しており、配線321の一端を上面に向けて露出させている。この非絶縁部341に臨む配線321の一端に、低融点半田からなる接点部351が上方に突出するように形成されており、この接点部351が上方に位置する第1アクチュエータ層10の圧電素子14の上部電極(図示せず)と接合することにより、圧電素子14と配線321とを電気的に接続している。 The wiring 321 is insulated from the upper surface of the Si substrate 31 by an insulating film (SiO 2 film) 331, and the upper surface of the wiring 321 is also insulated by being covered with the insulating film 331. In a portion corresponding to one end of the wiring 321 in the insulating film 331, the insulating film 331 is partially removed to form a non-insulating portion 341, and one end of the wiring 321 is exposed toward the upper surface. A contact portion 351 made of low melting point solder is formed so as to protrude upward at one end of the wiring 321 facing the non-insulating portion 341, and the piezoelectric element of the first actuator layer 10 where the contact portion 351 is located above. The piezoelectric element 14 and the wiring 321 are electrically connected by bonding to the upper electrode 14 (not shown).

また、同様に、配線322も、絶縁膜332によって、Si基板31の下面に対して絶縁されていると共に該配線322の下面も絶縁膜332によって被覆されることで絶縁されている。絶縁膜332における配線322の一端に対応する部位は、絶縁膜332が部分的に除去されて非絶縁部342を形成しており、配線322の一端を下面に向けて露出させている。この非絶縁部342に臨む配線322の一端に、低融点半田からなる接点部352が下方に突出するように形成されており、この接点部352が下方に位置する第2アクチュエータ層20の圧電素子24の上部電極(図示せず)と接合することにより、圧電素子24と配線322とを電気的に接続している。   Similarly, the wiring 322 is insulated from the lower surface of the Si substrate 31 by the insulating film 332, and the lower surface of the wiring 322 is also insulated by being covered with the insulating film 332. In a portion of the insulating film 332 corresponding to one end of the wiring 322, the insulating film 332 is partially removed to form a non-insulating portion 342, and one end of the wiring 322 is exposed toward the lower surface. A contact portion 352 made of low melting point solder is formed at one end of the wiring 322 facing the non-insulating portion 342 so as to protrude downward, and the piezoelectric element of the second actuator layer 20 where the contact portion 352 is located below. The piezoelectric element 24 and the wiring 322 are electrically connected by bonding to the upper electrode 24 (not shown).

このように、1枚のSi基板31の両面に、第1圧力室11の圧電素子14のための配線321と、第2圧力室21の圧電素子24のための配線322とをまとめて形成しているため、各圧電素子14、24に対する電圧印加を共通の配線層30によって行うことができると共に、第1圧力室11と第2圧力室21とで圧電素子14、24を独立して動作させることができる。   In this way, the wiring 321 for the piezoelectric element 14 of the first pressure chamber 11 and the wiring 322 for the piezoelectric element 24 of the second pressure chamber 21 are collectively formed on both surfaces of one Si substrate 31. Therefore, voltage application to the piezoelectric elements 14 and 24 can be performed by the common wiring layer 30, and the piezoelectric elements 14 and 24 are operated independently in the first pressure chamber 11 and the second pressure chamber 21. be able to.

ノズルプレート26には、第1圧力室11及び第2圧力室21内のインクを吐出するためのノズル261、262が開口形成されている。   Nozzles 261 and 262 for discharging ink in the first pressure chamber 11 and the second pressure chamber 21 are formed in the nozzle plate 26.

ノズル261は第1圧力室11内とインク吐出用流路41によって連通しており、圧電素子14が駆動した際、該インク吐出用流路41を通って第1圧力室11内のインクをノズル261から吐出させる。第1圧力室11は、最上位の第1アクチュエータ層10に設けられているため、インク吐出用流路41が、第1圧力室11の底壁111及び配線層30を上下に貫通し、更に第2アクチュエータ層20を通ってノズルプレート26に形成されたノズル261と連通している。第1圧力室11へのインクの供給は、天板16に開口形成されたインレット161を介して行われる。天板16の外側には、第1圧力室11及び第2圧力室21に対して共通にインクを供給するための共通インク室50(図2)が形成されており、インレット161は、この共通インク室50内に臨んで開口している。   The nozzle 261 communicates with the inside of the first pressure chamber 11 by the ink discharge channel 41, and when the piezoelectric element 14 is driven, the ink in the first pressure chamber 11 passes through the ink discharge channel 41 to be a nozzle. The ink is discharged from H.261. Since the first pressure chamber 11 is provided in the uppermost first actuator layer 10, the ink discharge flow path 41 passes vertically through the bottom wall 111 and the wiring layer 30 of the first pressure chamber 11, and The nozzles 261 formed on the nozzle plate 26 are communicated with each other through the second actuator layer 20. Ink supply to the first pressure chamber 11 is performed via an inlet 161 formed in the top plate 16. A common ink chamber 50 (FIG. 2) for supplying ink to the first pressure chamber 11 and the second pressure chamber 21 in common is formed on the outside of the top plate 16. The ink chamber 50 is opened facing the interior.

一方、ノズル262は第2圧力室21内と連通しており、圧電素子24が駆動した際、第2圧力室21内のインクをノズル262から吐出させる。第2圧力室21は、最下位の第2アクチュエータ層20に設けられているため、共通インク室50からのインクを供給するためのインク供給用流路42が、第1アクチュエータ層10及び配線層30を上下に貫通して天板16に開口形成されたインレット162と連通している。インレット162は、共通インク室50内に臨んで開口している。   On the other hand, the nozzle 262 communicates with the inside of the second pressure chamber 21, and ejects ink in the second pressure chamber 21 from the nozzle 262 when the piezoelectric element 24 is driven. Since the second pressure chamber 21 is provided in the lowest second actuator layer 20, the ink supply flow path 42 for supplying ink from the common ink chamber 50 includes the first actuator layer 10 and the wiring layer. 30 is communicated with an inlet 162 penetrating up and down in the top plate 16. The inlet 162 is open facing the common ink chamber 50.

なお、配線層30に形成される配線321、322は、これらインク吐出用流路41及びインク供給用流路42を避けた位置にパターン形成されている。   The wirings 321 and 322 formed in the wiring layer 30 are pattern-formed at positions avoiding the ink discharge flow channel 41 and the ink supply flow channel 42.

また、図2中、51は共通インク室50へのインク流入のための流入管、52は共通インク室50からのインク流出のための流出管である。   In FIG. 2, 51 is an inflow pipe for inflow of ink into the common ink chamber 50, and 52 is an outflow pipe for outflow of ink from the common ink chamber 50.

次に、かかるインクジェットヘッド1の作製方法について図4〜図6を用いて説明する。   Next, a method for manufacturing the inkjet head 1 will be described with reference to FIGS.

第1アクチュエータ層10及び第2アクチュエータ層20は、第1圧力室11の第1振動板13が該第1圧力室11の底壁111によって構成され、第2圧力室21の第2振動板23が該第2圧力室21の天井壁211によって構成されて、両者が上下対称形状となる以外、従来公知の積層工程を経て作製することができる。従って、ここでは本発明の特徴である配線層30の作製方法について図4、図5を用いて説明する。   In the first actuator layer 10 and the second actuator layer 20, the first diaphragm 13 of the first pressure chamber 11 is constituted by the bottom wall 111 of the first pressure chamber 11, and the second diaphragm 23 of the second pressure chamber 21. Is constituted by the ceiling wall 211 of the second pressure chamber 21 and can be manufactured through a conventionally known laminating process except that both are vertically symmetrical. Therefore, here, a method for manufacturing the wiring layer 30 which is a feature of the present invention will be described with reference to FIGS.

まず、配線層30の基板となる所定厚のSi基板31を用意し(図4(a))、このSi基板31の一方の面にSiOからなる絶縁膜33をCVD(Chemical Vapour Deposition)法によって形成する(図4(b))。 First, a Si substrate 31 having a predetermined thickness as a substrate of the wiring layer 30 is prepared (FIG. 4A), and an insulating film 33 made of SiO 2 is formed on one surface of the Si substrate 31 by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. (FIG. 4B).

次いで、絶縁膜33の上面にレジスト100を被覆した後、該レジスト100を露光、現像処理によってパターニングし、配線321となる領域321aのレジスト100を除去して絶縁膜33を露出させ(図4(c))、配線321を形成するための金属材料、例えばAlをスパッタリング等によって被覆して、絶縁膜33及びレジスト100の上面全面に金属膜32を形成する(図4(d))。   Next, after the resist 100 is coated on the upper surface of the insulating film 33, the resist 100 is patterned by exposure and development, and the resist 100 in the region 321a to be the wiring 321 is removed to expose the insulating film 33 (FIG. 4 ( c)), a metal material for forming the wiring 321, for example, Al is coated by sputtering or the like, and the metal film 32 is formed on the entire upper surface of the insulating film 33 and the resist 100 (FIG. 4D).

金属膜32の形成後、レジスト100を除去することによって、絶縁膜33の上面に所定パターンからなる配線321を作製する(図4(e))。その後、その配線321を含む上面全面に更にSiOからなる絶縁膜33をCVD法によって形成し、配線321を絶縁膜33によって被覆する(図4(f))。 After the metal film 32 is formed, the resist 100 is removed, thereby forming a wiring 321 having a predetermined pattern on the upper surface of the insulating film 33 (FIG. 4E). Thereafter, an insulating film 33 made of SiO 2 is further formed on the entire upper surface including the wiring 321 by the CVD method, and the wiring 321 is covered with the insulating film 33 (FIG. 4F).

次いで、絶縁膜33の上面に再びレジスト100を被覆した後、該レジスト100を露光、現像処理によってパターニングし、配線321の一端に対応する領域321b、インク吐出用流路41に対応する領域321c及びインク供給用流路42に対応する領域321dのレジスト100をそれぞれ除去して絶縁膜33を露出させ(図4(g))、RIE(Reactive Ion Etching)法によって、各領域321b〜321dにおいて露出する部位の絶縁膜33をエッチングする。ここで、領域321bの直下には配線321が形成されており、領域321c、領域321dの直下には配線321が形成されておらず、Si基板31を直接被覆している(図4(h))。   Next, after the resist 100 is again coated on the upper surface of the insulating film 33, the resist 100 is patterned by exposure and development processing, and a region 321 b corresponding to one end of the wiring 321, a region 321 c corresponding to the ink discharge channel 41, and The resist 100 in the region 321d corresponding to the ink supply flow path 42 is removed to expose the insulating film 33 (FIG. 4G), and the regions 321b to 321d are exposed by the RIE (Reactive Ion Etching) method. The insulating film 33 at the site is etched. Here, the wiring 321 is formed immediately below the region 321b, and the wiring 321 is not formed immediately below the region 321c and the region 321d, and directly covers the Si substrate 31 (FIG. 4H). ).

この後、レジスト100を除去すると、Si基板31の一方の面に、エッチング後の絶縁膜331によって被覆された配線321が形成され、該配線321の一端が非絶縁部341によって露出する。これにより、Si基板31に第1アクチュエータ層10の圧電素子14に対する配線321が形成される。また、インク吐出用流路41及びインク供給用流路42に対応する領域321c、321dには、それぞれSi基板31の表面がそれぞれ露出する(図5(a))。   Thereafter, when the resist 100 is removed, the wiring 321 covered with the insulating film 331 after etching is formed on one surface of the Si substrate 31, and one end of the wiring 321 is exposed by the non-insulating portion 341. Thereby, the wiring 321 for the piezoelectric element 14 of the first actuator layer 10 is formed on the Si substrate 31. Further, the surfaces of the Si substrate 31 are exposed in the regions 321c and 321d corresponding to the ink discharge flow channel 41 and the ink supply flow channel 42, respectively (FIG. 5A).

同様にして、Si基板31の他方の面にも、絶縁膜332に非絶縁部342、凹設された領域322c、322dをそれぞれ形成し、非絶縁部342において一端を露出させた配線322を形成する(図5(b))。   Similarly, a non-insulating portion 342 and recessed regions 322c and 322d are formed in the insulating film 332 on the other surface of the Si substrate 31, respectively, and a wiring 322 having one end exposed in the non-insulating portion 342 is formed. (FIG. 5B).

次いで、RIE法によって両面にそれぞれエッチングを行い、絶縁膜331、332の一部とSi基板31とを除去する。SiOのエッチングレートをSiよりも遅くすることで、絶縁膜331、332よりもSi基板31を深掘りすることができる。これにより、インク吐出用流路41及びインク供給用流路42をそれぞれ貫通形成する(図5(c))。 Next, etching is performed on both surfaces by the RIE method, and part of the insulating films 331 and 332 and the Si substrate 31 are removed. By making the etching rate of SiO 2 slower than Si, the Si substrate 31 can be deeper than the insulating films 331 and 332. As a result, the ink discharge flow channel 41 and the ink supply flow channel 42 are formed to penetrate each other (FIG. 5C).

その後、更に絶縁膜331の上面及び絶縁膜332の下面に接着剤層361、362を被覆し、これを露光、現像処理によってパターニングし、インク吐出用流路41及びインク供給用流路42に対応する部位を除去する(図5(d))。   Thereafter, the adhesive layers 361 and 362 are further coated on the upper surface of the insulating film 331 and the lower surface of the insulating film 332, which are patterned by exposure and development processing, and correspond to the ink discharge flow channel 41 and the ink supply flow channel 42. The site to be removed is removed (FIG. 5D).

次いで、各非絶縁部341、342にそれぞれ露出する配線321、322上に、低融点半田ペーストを付与することによって接点部351、352を形成する(図5(e))。これにより配線層30が作製される。   Next, contact portions 351 and 352 are formed on the wirings 321 and 322 exposed to the non-insulating portions 341 and 342 by applying a low melting point solder paste (FIG. 5E). Thereby, the wiring layer 30 is produced.

このようにして作製された配線層30は、図6に示すように、一対の圧着機200、200の間に、上から第1アクチュエータ層10、配線層30、第2アクチュエータ層20の順に位置決めして積層配置させた後、圧着機200、200を締め付けて一体に積層させ、圧着する。このとき、ヒーター(図示せず)によって熱を掛けることにより、低融点半田からなる接点部351、352を溶融させ、それぞれ対応する圧電素子14、24の上部電極と接合させ、該圧電素子14、24と対応する配線321、322との電気的接続を図ると同時に、接着剤層361、362によって、第1アクチュエータ層10、配線層30及び第2アクチュエータ層20を一体に接合する。   As shown in FIG. 6, the wiring layer 30 thus manufactured is positioned between the pair of crimping machines 200 and 200 in the order of the first actuator layer 10, the wiring layer 30, and the second actuator layer 20 from the top. Then, after the laminated arrangement, the crimping machines 200 and 200 are tightened to be laminated together and crimped. At this time, by applying heat with a heater (not shown), the contact portions 351 and 352 made of low melting point solder are melted and joined to the upper electrodes of the corresponding piezoelectric elements 14 and 24, respectively. The first actuator layer 10, the wiring layer 30, and the second actuator layer 20 are joined together by the adhesive layers 361 and 362 at the same time as the electrical connection between the corresponding wirings 321 and 322 is achieved.

本発明において接点部351、352は低融点半田に限らないが、本実施形態に示すように低融点半田を用いることにより、第1アクチュエータ層10、配線層30、第2アクチュエータ層20を積層一体化する際、熱を掛けることで、圧電素子14、24と接点部351、352との間の接合及び電気的接続を一度に得ることができる。しかも、層の異なる第1圧力室11の圧電素子14と第2圧力室21の圧電素子24に対する接点部351、352の接合を同時に行えるため、例えば一方の層の接点部に熱を掛けたときに他方の層の接点部が溶融してしまう問題を回避することができ、製造プロセスをより簡略化できるために好ましい。   In the present invention, the contact portions 351 and 352 are not limited to the low melting point solder, but the first actuator layer 10, the wiring layer 30, and the second actuator layer 20 are laminated and integrated by using the low melting point solder as shown in the present embodiment. When the heat treatment is applied, heat and heat can be applied to obtain bonding and electrical connection between the piezoelectric elements 14 and 24 and the contact portions 351 and 352 at a time. Moreover, since the contact portions 351 and 352 can be simultaneously bonded to the piezoelectric element 14 of the first pressure chamber 11 and the piezoelectric element 24 of the second pressure chamber 21 in different layers, for example, when the contact portion of one layer is heated. In addition, the problem that the contact portion of the other layer melts can be avoided, and the manufacturing process can be simplified, which is preferable.

1:インクジェットヘッド
10:第1アクチュエータ層
11:第1圧力室
111:底壁
12:Si基板
13:第1振動板
14:圧電素子
15:接着剤層
16:天板
161、162:インレット
20:第2アクチュエータ層
21:第2圧力室
211:底壁
22:Si基板
23:第2振動板
24:圧電素子
25:接着剤層
26:ノズル板
261、262:ノズル
30:配線層
31:Si基板
32:金属膜
321、322:配線
33、331、332:絶縁膜
341、342:非絶縁部
351、352:接点部
361、362:接着剤層
41:インク吐出用流路
42:インク供給用流路
50:共通インク室
51:流入管
52:流出管
1: Inkjet head 10: First actuator layer 11: First pressure chamber 111: Bottom wall 12: Si substrate 13: First vibration plate 14: Piezoelectric element 15: Adhesive layer 16: Top plate 161, 162: Inlet 20: Second actuator layer 21: Second pressure chamber 211: Bottom wall 22: Si substrate 23: Second diaphragm 24: Piezoelectric element 25: Adhesive layer 26: Nozzle plate 261, 262: Nozzle 30: Wiring layer 31: Si substrate 32: Metal film 321, 322: Wiring 33, 331, 332: Insulating film 341, 342: Non-insulating part 351, 352: Contact part 361, 362: Adhesive layer 41: Ink ejection flow path 42: Ink supply flow Path 50: Common ink chamber 51: Inflow pipe 52: Outflow pipe

Claims (5)

圧力発生手段によってインクをノズルから吐出するインクジェットヘッドであって、
第1の圧力室が形成され、該第1の圧力室の壁面の一部を形成する第1の振動板に配設された第1の圧力発生手段を有する第1の層と、
第2の圧力室が形成され、該第2の圧力室の壁面の一部を形成する第2の振動板に配設された第2の圧力発生手段を有する第2の層と、
前記第1の層の前記第1の圧力発生手段及び前記第2の層の前記第2の圧力発生手段にそれぞれ電圧を印加する配線が形成された配線層とを有し、
前記配線層は、前記第1の層と前記第2の層との間に配置されていることを特徴とするインクジェットヘッド。
An ink jet head that discharges ink from a nozzle by pressure generating means,
A first layer having a first pressure chamber formed and having a first pressure generating means disposed on a first diaphragm forming a part of a wall surface of the first pressure chamber;
A second layer having a second pressure generating means disposed on a second diaphragm forming a second pressure chamber and forming a part of a wall surface of the second pressure chamber;
A wiring layer on which wirings for applying a voltage are respectively applied to the first pressure generating means of the first layer and the second pressure generating means of the second layer;
The ink-jet head, wherein the wiring layer is disposed between the first layer and the second layer.
前記第1の圧力発生手段は、前記第1の層の底面に形成され、
前記第2の圧力発生手段は、前記第2の層の天面に形成されていることを特徴とする請求項1記載のインクジェットヘッド。
The first pressure generating means is formed on the bottom surface of the first layer,
The inkjet head according to claim 1, wherein the second pressure generating unit is formed on a top surface of the second layer.
前記配線層は、一方の面に、前記第1の層の前記第1の圧力発生手段と該第1の圧力発生手段に電圧を印加するための前記配線とを電気的に接続する第1の電気的接続手段を有し、他方の面に、前記第2の層の前記第2の圧力発生手段と該第2の圧力発生手段に電圧を印加するための前記配線とを電気的に接続する第2の電気的接続手段を有することを特徴とする請求項1又は2記載のインクジェットヘッド。   The wiring layer has a first surface for electrically connecting the first pressure generating means of the first layer and the wiring for applying a voltage to the first pressure generating means on one surface. Electrical connection means is provided, and on the other surface, the second pressure generating means of the second layer and the wiring for applying a voltage to the second pressure generating means are electrically connected. 3. The ink jet head according to claim 1, further comprising second electrical connection means. 前記第2の層は、ノズルを形成したノズルプレートを有し、
前記第2の層と前記配線層とに亘り、前記第1の圧力室と前記ノズルとを連通させるインク吐出用の流路を有することを特徴とする請求項1、2又は3記載のインクジェットヘッド。
The second layer has a nozzle plate on which nozzles are formed,
4. The ink jet head according to claim 1, further comprising an ink discharge channel that communicates the first pressure chamber and the nozzle across the second layer and the wiring layer. 5. .
前記第1の層の上層に、前記第1の圧力室及び前記第2の圧力室へ共通にインクを供給する共通インク室を有し、
前記第1の層と前記配線層とに亘り、前記共通インク室と前記第2の圧力室とを連通するインク供給用の流路を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のインクジェットヘッド。
A common ink chamber for supplying ink in common to the first pressure chamber and the second pressure chamber on an upper layer of the first layer;
5. The ink supply flow path that communicates between the common ink chamber and the second pressure chamber across the first layer and the wiring layer. 6. The inkjet head as described.
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