JP2011152675A - Transfer system and transfer method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To carry out transfer with efficiency improved in a transfer system for transferring a minute transfer pattern formed in a mold to a molded article. <P>SOLUTION: The transfer system 1 has a position adjusting device 5 for adjusting the relative positions of the mold M and the molded article W in order to transfer the minute transfer pattern formed in the mold M to an exact position of the molded article W, a transfer device 7 for transferring the minute transfer pattern formed in the mold M by pressing the molded article W by the mold M with the relative position adjusted to the molded article W, and a releasing device 9 for separating the mold M and the molded article W which are adhered to each other after the transfer with the use of the transfer device 7 is carried out from each other. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、転写システムおよび転写方法に係り、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写するものに関する。   The present invention relates to a transfer system and a transfer method, and more particularly to a method for transferring a fine transfer pattern formed on a mold onto a molded product.

近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成して型(モールド)を作製し、被成型品に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成された転写パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている(たとえば、非特許文献1参照)。   In recent years, a mold (mold) is formed by forming an ultrafine transfer pattern on a quartz substrate or the like by an electron beam drawing method or the like, and the mold is pressed to a molded product with a predetermined pressure, and the mold is formed. A nanoimprint technique for transferring a transfer pattern has been researched and developed (for example, see Non-Patent Document 1).

ナノオーダーの微細なパターン(転写パターン)を低コストで成型する方法としてリソグラフィ技術を用いたインプリント法が考案されている。この成型法は大別して熱インプリント法とUVインプリント法とに分類される。   As a method for forming a nano-order fine pattern (transfer pattern) at a low cost, an imprint method using a lithography technique has been devised. This molding method is roughly classified into a thermal imprint method and a UV imprint method.

熱インプリント法では、型を基板に押圧し、熱可塑性ポリマからなる樹脂(熱可塑性樹脂)が十分に流動可能となる温度になるまで加熱して微細パターンに樹脂を流入させたのち、型と樹脂をガラス転移温度以下になるまで冷却し、基板に転写された微細パターンを固化したのち型を引き離す。   In the thermal imprint method, a mold is pressed against a substrate, heated to a temperature at which a resin made of a thermoplastic polymer (thermoplastic resin) can flow sufficiently, and the resin flows into a fine pattern. The resin is cooled to below the glass transition temperature, and after the fine pattern transferred to the substrate is solidified, the mold is pulled apart.

UVインプリント法では、光を透過できる透明な型を使用し、UV硬化性液に型を押しつけてUV放射光を加える。適当な時間放射光を加えて液を硬化させ微細パターンを転写したのち型を引き戻す。   In the UV imprint method, a transparent mold capable of transmitting light is used, and the UV radiation is applied by pressing the mold against the UV curable liquid. Radiant light is applied for an appropriate time to cure the solution and transfer the fine pattern, and then pull back the mold.

ハードディスクやCD、DVDなど回転式の記憶装置では、最近、高密度のデータをディスクに形成するための記憶媒体(記録媒体)を成型する手段として、こうしたナノインプリント技術を活用する方法への関心が高くなってきている。   Recently, in rotary storage devices such as hard disks, CDs, and DVDs, there is a high interest in methods that utilize such nanoimprint technology as a means for forming a storage medium (recording medium) for forming high-density data on a disk. It has become to.

図28、図29は、熱インプリント法で使用される従来の転写装置300の概略構成を示す図である。   FIG. 28 and FIG. 29 are diagrams showing a schematic configuration of a conventional transfer apparatus 300 used in the thermal imprint method.

従来の転写装置300は、位置決めユニット302と被成型品ベース設置体304と被成型品ベース306と型ベース押圧体308と型ベース310とベローズ312とを備えて構成されている。型ベース310には型Mが設置され被成型品ベース306には被成型品Wが設置されるようになっている。   The conventional transfer apparatus 300 includes a positioning unit 302, a molded product base installation body 304, a molded product base 306, a mold base pressing body 308, a mold base 310, and a bellows 312. A mold M is installed on the mold base 310, and a molded product W is installed on the molded product base 306.

また、従来の転写装置300には、型Mに形成されているアイマークと被成型品Wに形成されているアイマークとを撮影するためのカメラ314が設けられている。カメラ314は、図28に示す撮影位置(撮影可能位置;観察位置)から図29に示す退避位置へ、また、退避位置から撮影位置へ移動できるようになっている。   Further, the conventional transfer apparatus 300 is provided with a camera 314 for photographing the eye mark formed on the mold M and the eye mark formed on the molded product W. The camera 314 can move from the shooting position (shootable position; observation position) shown in FIG. 28 to the retracted position shown in FIG. 29 and from the retracted position to the shooting position.

そして、転写装置300では、図28に示すように、型Mや転写前の被成型品Wが設置されている状態で、制御装置316の制御の下、撮影位置に位置しているカメラ314で各アイマークを撮影し、この撮影結果に応じて位置決めユニット302を稼動し、被成型品Wに対する型Mの位置を正確なものにしている。   In the transfer device 300, as shown in FIG. 28, the camera 314 located at the photographing position is controlled under the control of the control device 316 in a state where the mold M and the molded product W before transfer are installed. Each eye mark is photographed, and the positioning unit 302 is operated in accordance with the photographing result, so that the position of the mold M with respect to the workpiece W is made accurate.

続いて、カメラ314を退避位置に退避させ、型Mや被成型品Wを加熱し、型ベース押圧体308を下降し、型Mで被成型品Wを所定の時間押圧し、この押圧後に型Mや被成型品Wを冷却し、型Mに形成されている微細な転写パターンを被成型品Wに転写している。   Subsequently, the camera 314 is retracted to the retracted position, the mold M and the molded product W are heated, the mold base pressing body 308 is lowered, and the molded product W is pressed with the mold M for a predetermined time. M and the molded product W are cooled, and a fine transfer pattern formed on the mold M is transferred to the molded product W.

この後、型ベース押圧体308を上昇させて型Mを被成型品Wから離すと、図29で示すように、被成型品Wへの微細な転写パターンの転写が終了する。   Thereafter, when the mold base pressing body 308 is raised and the mold M is separated from the molded product W, the transfer of the fine transfer pattern to the molded product W is completed as shown in FIG.

なお、従来の技術に関連する文献として、たとえば特許文献1を掲げることができる。   For example, Patent Document 1 can be cited as a document related to the prior art.

特開2006−318973号公報JP 2006-318773 A

Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25 (2001) 192-199

ところで、従来の転写装置300では、被成型品への転写が効率良く行われないという問題がある。   By the way, the conventional transfer apparatus 300 has a problem that the transfer to the molding object is not performed efficiently.

すなわち、型や被成型品を加熱し型で被成型品を押圧した後、型や被成型品が冷えるまで、型と被成型品とをそのままにして待つ必要がある。この間、カメラを観察位置に移動して型や被成型品を撮影することできず、カメラを退避位置に待機させておく必要があり、転写の効率が低下している。   That is, after the mold or the molded product is heated and pressed with the mold, it is necessary to wait while the mold and the molded product are left until the mold or the molded product cools down. During this time, the camera cannot be moved to the observation position to photograph the mold or the molded product, and it is necessary to keep the camera in the retracted position, which reduces the transfer efficiency.

なお、上記問題は、UVインプリント法でも同様に発生する問題である。   Note that the above problem occurs similarly in the UV imprint method.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムおよび転写方法において、従来よりも効率良く転写をすることができるものを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and in a transfer system and transfer method for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a molded product, the transfer can be performed more efficiently than before. The purpose is to provide what can be done.

請求項1に記載の発明は、被成型品の正確な位置に、型に形成されている微細な転写パターンを転写すべく、前記型と前記被成型品との相対的な位置の調整を行う位置調整装置と、前記位置調整装置とは別個に設けられ、前記相対的な位置の調整がされた型で前記相対的な位置の調整がされた被成型品を押圧して前記型に形成されている微細な転写パターンを前記被成型品に転写する転写装置と、前記転写装置とは別個に設けられ、前記転写装置を用いた転写がされた後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型装置とを有する転写システムである。   According to the first aspect of the present invention, the relative position between the mold and the molded product is adjusted in order to transfer a fine transfer pattern formed on the mold to an accurate position of the molded product. The position adjusting device and the position adjusting device are provided separately, and are formed on the mold by pressing the relative position-adjusted product with the mold whose relative position is adjusted. The transfer device that transfers the fine transfer pattern to the molding product and the transfer device are provided separately from the transfer device, and are attached to each other after being transferred using the transfer device and the molding device A transfer system having a release device for separating an article.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の転写システムにおいて、前記位置調整装置と前記離型装置とが共用されている転写システムである。   According to a second aspect of the present invention, in the transfer system according to the first aspect, the position adjusting device and the release device are shared.

請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の転写システムにおいて、前記転写装置による転写は、真空成型室内でなされるように構成されており、前記位置調整装置で位置決めがされた型と前記位置調整装置で位置決めがされた被成型品とが、これらの相対的な位置が前記真空成型室で保持されて前記転写装置に供給されるように構成されている転写システムである。   According to a third aspect of the present invention, in the transfer system according to the first or second aspect, the transfer by the transfer device is configured to be performed in a vacuum molding chamber, and positioning is performed by the position adjusting device. A transfer system configured such that a relative shape of the mold and the molding object positioned by the position adjustment device are held in the vacuum molding chamber and supplied to the transfer device. is there.

請求項4に記載の発明は、型に形成されている微細な転写パターンを、前記型で被成型品を押圧して前記被成型品に転写する転写装置と、前記転写装置とは別個に設けられ、前記転写装置を用いた転写後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型装置とを有する転写システムである。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a transfer device that transfers a fine transfer pattern formed on a mold onto the product by pressing the product to be molded with the mold and the transfer device. And a mold release device that separates the mold and the molded product that are adhered to each other after the transfer using the transfer apparatus.

請求項5に記載の発明は、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の転写システムを用いてなされる転写方法である。   A fifth aspect of the present invention is a transfer method performed using the transfer system according to any one of the first to fourth aspects.

請求項6に記載の発明は、被成型品の正確な位置に、型に形成されている微細な転写パターンを転写すべく、前記型と前記被成型品との相対的な位置の調整を行う位置調整工程と、前記位置調整工程とは別の場所で、前記位置調整工程により前記相対的な位置の調整がされた型で前記位置調整工程により前記相対的な位置の調整がされた被成型品を押圧して前記型に形成されている微細な転写パターンを前記被成型品に転写する転写工程と、前記転写工程とは別の場所で、前記転写工程により転写がされた後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型工程とを有する転写方法である。   The invention according to claim 6 adjusts the relative position between the mold and the molded product in order to transfer a fine transfer pattern formed on the mold to an accurate position of the molded product. The mold in which the relative position is adjusted by the position adjusting step in a mold in which the relative position is adjusted by the position adjusting step at a place different from the position adjusting step and the position adjusting step. The transfer process of pressing a product to transfer a fine transfer pattern formed on the mold to the product to be molded, and the transfer process are separated from each other after being transferred by the transfer process. And a mold release step for separating the mold from the molded product.

本発明によれば、型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムおよび転写方法において、従来よりも効率良く転写をすることができるという効果を奏する。   According to the present invention, in a transfer system and a transfer method for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a molded product, there is an effect that transfer can be performed more efficiently than before.

本発明の第1の実施形態に係る転写システムの概略構成を示す平面図である。1 is a plan view showing a schematic configuration of a transfer system according to a first embodiment of the present invention. 位置調整装置や仮保持ユニットの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a position adjustment apparatus and a temporary holding unit. 位置調整装置や仮保持ユニットの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a position adjustment apparatus and a temporary holding unit. 位置調整装置や仮保持ユニットの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a position adjustment apparatus and a temporary holding unit. 位置調整装置や仮保持ユニットの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a position adjustment apparatus and a temporary holding unit. 熱インプリント法で転写をする転写装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the transfer apparatus which transfers by a thermal imprint method. 熱インプリント法で転写をする転写装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the transfer apparatus which transfers by a thermal imprint method. 熱インプリント法で転写をする転写装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the transfer apparatus which transfers by a thermal imprint method. 離型装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a mold release apparatus. 離型装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a mold release apparatus. 離型装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a mold release apparatus. 離型装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a mold release apparatus. 本発明の第2の実施形態に係る転写システムの概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the transfer system which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 離型装置と仮保持ユニットの変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a mold release apparatus and a temporary holding unit. 離型装置と仮保持ユニットの変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a mold release apparatus and a temporary holding unit. 離型装置と仮保持ユニットの変形例と引き剥がし装置とを示す図である。It is a figure which shows the modified example and peeling apparatus of a mold release apparatus and a temporary holding unit. UVインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、位置調整装置で使用する場合を示す図である。It is a figure which shows the case where the temporary holding unit etc. which are used with UV imprint method are used with a position adjustment apparatus. UVインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、位置調整装置で使用する場合を示す図である。It is a figure which shows the case where the temporary holding unit etc. which are used with UV imprint method are used with a position adjustment apparatus. UVインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、位置調整装置で使用する場合を示す図である。It is a figure which shows the case where the temporary holding unit etc. which are used with UV imprint method are used with a position adjustment apparatus. UVインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、位置調整装置で使用する場合を示す図である。It is a figure which shows the case where the temporary holding unit etc. which are used with UV imprint method are used with a position adjustment apparatus. UVインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、転写装置で使用する場合を示す図である。It is a figure which shows the case where the temporary holding unit etc. which are used with UV imprint method are used with a transfer apparatus. UVインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、転写装置で使用する場合を示す図である。It is a figure which shows the case where the temporary holding unit etc. which are used with UV imprint method are used with a transfer apparatus. UVインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、転写装置で使用する場合を示す図である。It is a figure which shows the case where the temporary holding unit etc. which are used with UV imprint method are used with a transfer apparatus. UVインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、離型装置で使用する場合を示す図である。It is a figure which shows the case where the temporary holding unit etc. which are used with UV imprint method are used with a mold release apparatus. UVインプリント法で使用される仮保持ユニット等を、離型装置で使用する場合を示す図である。It is a figure which shows the case where the temporary holding unit etc. which are used with UV imprint method are used with a mold release apparatus. ベローズの代わりに維持装置を用いて、型と被成型品との位置関係を維持する仮保持ユニットの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the temporary holding unit which maintains the positional relationship of a type | mold and a to-be-molded product using a maintenance apparatus instead of a bellows. 本発明の第3の実施形態に係る転写システムの概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the transfer system which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 熱インプリント法で使用される従来の転写装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the conventional transfer apparatus used by the thermal imprint method. 熱インプリント法で使用される従来の転写装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the conventional transfer apparatus used by the thermal imprint method.

[第1の実施形態]
図1は、本発明の第1の実施形態に係る転写システム1の概略構成を示す平面図である。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a transfer system 1 according to the first embodiment of the present invention.

転写システム(ナノインプリントシステム)1は、型(モールド)Mに形成されている微細な転写パターン(微細な凹凸で形成された転写パターン)を被成型品(被転写素材)Wに転写するためのシステムであり、たとえば、転写前被成型品ストッカ3と位置調整装置5と転写装置7と離型装置9と転写後被成型品ストッカ11とを備えて構成されている。なお、本明細書では、説明の便宜のために、水平な一方向をX軸方向とし、水平な他の一方向であってX軸方向に直交する方向をY軸方向とし、鉛直方向(上下方向)をZ軸方向という場合がある。   A transfer system (nanoimprint system) 1 is a system for transferring a fine transfer pattern (transfer pattern formed by fine irregularities) formed on a mold M to a product to be molded (transfer material) W. For example, it comprises a pre-transfer molded product stocker 3, a position adjusting device 5, a transfer device 7, a release device 9, and a post-transfer molded product stocker 11. In this specification, for convenience of explanation, one horizontal direction is defined as the X-axis direction, another horizontal direction that is orthogonal to the X-axis direction is defined as the Y-axis direction, and the vertical direction (up and down Direction) may be referred to as the Z-axis direction.

転写前被成型品ストッカ3は、微細な転写パターンが転写される前の被成型品Wを複数枚格納することができるストッカである。   The pre-transfer molded product stocker 3 is a stocker capable of storing a plurality of molded products W before a fine transfer pattern is transferred.

位置調整装置(位置調整ステーション)5は、型Mに形成されている微細な転写パターンを被成型品Wに転写する前に、型Mと被成型品Wとの相対的な位置の調整(型Mに対する被成型品Wの位置決め)を行う装置である。この位置の調整は、被成型品Wの正確な位置に、型Mに形成されている微細な転写パターンを転写するためにするものである。   The position adjustment device (position adjustment station) 5 adjusts the relative position between the mold M and the molding target W (mold) before transferring the fine transfer pattern formed on the mold M to the molding target W. This is a device that performs positioning of the workpiece W with respect to M). This adjustment of the position is for transferring a fine transfer pattern formed on the mold M to an accurate position of the molding target W.

転写装置(転写ステーション)7は、位置調整装置5とは別個に設けられており、位置調整装置5で相対的な位置の調整がされた型Mで被成型品(位置調整装置5で相対的な位置の調整がされた被成型品)Wを押圧して、型Mに形成されている微細な転写パターンを被成型品Wに転写する装置である。   The transfer device (transfer station) 7 is provided separately from the position adjusting device 5, and is a molded product (relatively adjusted by the position adjusting device 5) with a mold M whose relative position is adjusted by the position adjusting device 5. This is an apparatus that presses a molded product (W) adjusted in a proper position) and transfers a fine transfer pattern formed on the mold M onto the molded product W.

型Mや被成型品Wは、たとえば、矩形状もしくは円形状等で平板状に形成されている。微細な転写パターンは、型Mの厚さ方向の一方の面に形成されている。また、微細な転写パターンが転写されて、型Mの微細な凹凸とは反転した微細な凹凸が、被成型品Wの厚さ方向の一方の面に形成されるようになっている。   The mold M and the molded product W are formed in a flat plate shape such as a rectangular shape or a circular shape, for example. A fine transfer pattern is formed on one surface of the mold M in the thickness direction. In addition, a fine transfer pattern is transferred, and fine unevenness that is opposite to the fine unevenness of the mold M is formed on one surface in the thickness direction of the molded product W.

離型装置(離型ステーション)9は、位置調整装置5や転写装置7とは別個に設けられており、転写装置7を用いて転写がされた後にお互いにくっついている型Mと被成型品Wとを分離する(被成型品Wから型Mを離す)装置である。   The mold release device (release station) 9 is provided separately from the position adjusting device 5 and the transfer device 7, and after being transferred using the transfer device 7, the mold M and the product to be molded are adhered to each other. This is an apparatus for separating W from mold (separating mold M from article W).

転写後被成型品ストッカ11は、微細な転写パターンが転写された被成型品Wを複数枚格納することができるストッカである。   The post-transfer molded product stocker 11 is a stocker capable of storing a plurality of molded products W transferred with a fine transfer pattern.

位置調整装置5での型Mと被成型品Wとの位置合わせ、転写装置7での転写、離型装置9での被成型品Wからの型Mの分離、位置調整装置5と転写装置7との間における型Mと被成型品Wとの搬送、および、転写装置7と離型装置9との間における型Mと被成型品Wとの搬送は、詳しくは後述する型・被成型品仮保持ユニット(以下、「仮保持ユニット」という。)13(図2等を参照)を用いてなされるようになっている。   Position alignment between the mold M and the molded product W in the position adjusting device 5, transfer in the transfer device 7, separation of the mold M from the molded product W in the mold release device 9, position adjustment device 5 and transfer device 7 The conveyance of the mold M and the molded product W between the transfer device 7 and the transfer of the mold M and the molded product W between the transfer device 7 and the release device 9 will be described later in detail. A temporary holding unit (hereinafter referred to as “temporary holding unit”) 13 (see FIG. 2 and the like) is used.

転写前被成型品ストッカ3と位置調整装置5との間には、ロボット等で構成された搬送装置(図示せず)が設けられており、図1に矢印A11で示すように、転写前被成型品ストッカ3から位置調整装置5へ、被成型品Wをたとえば枚葉で搬送(供給)することができるようになっている。   A transfer device (not shown) constituted by a robot or the like is provided between the pre-transfer molded product stocker 3 and the position adjusting device 5, and as shown by an arrow A11 in FIG. For example, the molded product W can be conveyed (supplied) from the molded product stocker 3 to the position adjusting device 5 in a single sheet.

転写装置7は、1台の位置調整装置5と1台の離型装置9とに対してたとえば複数台設けられており、位置調整装置5および離型装置9と、各転写装置7との間には、レール15上にロボット(図1に矢印A12で示す方向に移動位置決め自在なロボット)17を配置した搬送装置19が設けられている。   For example, a plurality of transfer devices 7 are provided for one position adjusting device 5 and one mold release device 9, and between the position adjusting device 5 and the mold release device 9 and each transfer device 7. Is provided with a transfer device 19 in which a robot (a robot that can be moved and positioned in a direction indicated by an arrow A12 in FIG. 1) 17 is arranged on a rail 15.

そして、仮保持ユニット13を用いて位置調整装置5で位置決めされた型Mと被成型品Wとが、仮保持ユニット13と共に、搬送装置19によって、各転写装置7のうちのいずれかの転写装置7に搬送(供給)されるようになっている。   Then, the mold M positioned by the position adjustment device 5 using the temporary holding unit 13 and the product W are transferred together with the temporary holding unit 13 by any one of the transfer devices 7 by the transport device 19. 7 is conveyed (supplied).

また、各転写装置7のうちのいずれかの転写装置7で転写がされた被成型品Wとこの転写に使用された型(被成型品Wに張り付いている型)Mとが、仮保持ユニット13と共に、搬送装置19によって、転写装置7から離型装置9に搬送(搬出)されるようになっている。   In addition, the molded product W transferred by any one of the transfer devices 7 and the mold (mold attached to the molded product W) M used for the transfer are temporarily held. Together with the unit 13, the transfer device 19 transports (unloads) the transfer device 7 to the release device 9.

離型装置9と位置調整装置5との間には、ロボット等で構成された搬送装置(図示せず)が設けられており、図1に矢印A13で示すように、離型装置9から位置調整装置5へ、型Mとこの型Mを保持しているが被成型品Wが取り外された仮保持ユニット13とを搬送(供給)することができるようになっている。この供給された仮保持ユニット13等は、再び型Mと被成型品Wとの位置決め等に使用される。   Between the mold release device 9 and the position adjustment device 5, a transfer device (not shown) configured by a robot or the like is provided, and the position from the mold release device 9 is indicated by an arrow A <b> 13 in FIG. 1. The adjusting device 5 can be transported (supplied) the mold M and the temporary holding unit 13 that holds the mold M but has the molded product W removed. The supplied temporary holding unit 13 or the like is used again for positioning the mold M and the workpiece W or the like.

離型装置9と転写後被成型品ストッカ11との間には、ロボット等で構成された搬送装置(図示せず)が設けられており、図1に矢印A14で示すように、離型装置9から転写後被成型品ストッカ11へ、転写がされた被成型品Wをたとえば枚葉で搬送(搬出)することができるようになっている。   A transfer device (not shown) constituted by a robot or the like is provided between the release device 9 and the post-transfer molded product stocker 11, and as shown by an arrow A14 in FIG. The transferred molded product W can be transported (unloaded), for example, as a single sheet from 9 to the post-transfer molded product stocker 11.

ここで、仮保持ユニット13について詳しく説明する(たとえば、図2〜図5参照)。   Here, the temporary holding unit 13 will be described in detail (for example, see FIGS. 2 to 5).

仮保持ユニット13は、平板状の型ベース21と平板状の被成型品ベース(素材ベース)23とを備えて構成されている。型ベース21には、型Mが型取付具25を用いて一体的に設置されている。型Mが型ベース21に設置されている状態では、型ベース21のほぼ中央に型Mが位置していると共に、平板状の型Mの厚さ方向の他方の面(上面;微細な転写パターンが形成されている面とは反対側の面)が、型ベース21の平面状の下面に面接触している。   The temporary holding unit 13 includes a flat mold base 21 and a flat molded product base (material base) 23. A mold M is integrally installed on the mold base 21 using a mold fixture 25. In a state in which the mold M is installed on the mold base 21, the mold M is positioned almost at the center of the mold base 21, and the other surface (upper surface; fine transfer pattern) of the plate-shaped mold M in the thickness direction. The surface on the side opposite to the surface on which is formed is in surface contact with the planar lower surface of the mold base 21.

被成型品ベース23には、被成型品Wが載置されて設置されるようになっている。また、被成型品Wを被成型品ベース23に設置したときに、たとえば、型取付具25と同様に構成された被成型品取付具(図示せず)によって、被成型品ベース23で被成型品Wを一体的に保持するようになっている。   A molded product W is placed and placed on the molded product base 23. Further, when the molded product W is installed on the molded product base 23, the molded product base 23 is molded by a molded product fixture (not shown) configured similarly to the mold fixture 25, for example. The product W is integrally held.

なお、転写をすべく型Mで被成型品Wを押圧したときに、型取付具25と被成型品取付具とは、お互いが干渉しない位置に設けられているものとする。たとえば、Z軸方向から見たときに、型Mよりも被成型品Wのほうが大きく形成されており、被成型品Wの内側に型Mが位置しており、被成型品取付具が被成型品Wの周辺(縁の近傍)を把持している。そして、型取付具25と被成型品取付具とはお互いが干渉しないようになっている。なお、型取付具25や被成型品取付具に代えてもしく加えて、真空吸着により、型Mや被成型品Wを保持する構成であってもよい。   It is assumed that the mold fixture 25 and the molded product fixture are provided at positions where they do not interfere with each other when the molded product W is pressed with the mold M to transfer. For example, when viewed from the Z-axis direction, the molded product W is formed larger than the mold M, the mold M is located inside the molded product W, and the molded product fixture is molded. The periphery of the product W (near the edge) is gripped. Then, the mold fixture 25 and the molded product fixture do not interfere with each other. In addition, it may replace with the mold fixture 25 and a to-be-molded product fixture, and may be the structure which hold | maintains the type | mold M and the to-be-molded product W by vacuum suction.

被成型品Wが被成型品ベース23に設置されている状態では、被成型品ベース23のほぼ中央に被成型品Wが位置していると共に、平板状の被成型品Wの厚さ方向の他方の面(下面;微細な転写パターンが転写される面とは反対側の面)が、被成型品ベース23の平面状の上面に面接触している。   In a state where the molded product W is installed on the molded product base 23, the molded product W is positioned substantially at the center of the molded product base 23, and the thickness of the flat molded product W is increased. The other surface (the lower surface; the surface opposite to the surface to which the fine transfer pattern is transferred) is in surface contact with the planar upper surface of the molded product base 23.

型ベース21には、ベローズ27等の筒状の弾性体もしくは軸方向に伸縮自在な筒状の部材が一体的に設けられており、型ベース21とベローズ27と被成型品ベース23とで、転写の際に型Mと被成型品Wとが内部に入る真空成型室29(図3等参照)が形成されるようになっている。   The mold base 21 is integrally provided with a cylindrical elastic body such as a bellows 27 or a cylindrical member that can be expanded and contracted in the axial direction. The mold base 21, the bellows 27, and the article base 23 to be molded are A vacuum molding chamber 29 (see FIG. 3 and the like) is formed in which the mold M and the workpiece W are inserted during transfer.

詳しく説明すると、円筒状のベローズ27の軸方向の一端部(上端部)には、リング状の上側ベローズ支持体31が一体的に設けられている。また、円筒状のベローズ27の軸方向の他端部(下端部)には、リング状の下側ベローズ支持体33が一体的に設けられている。   More specifically, a ring-shaped upper bellows support 31 is integrally provided at one end (upper end) in the axial direction of the cylindrical bellows 27. In addition, a ring-shaped lower bellows support 33 is integrally provided at the other end (lower end) in the axial direction of the cylindrical bellows 27.

そして、型取付具25やこの型取付具25を用いて型ベース21に一体的に設置されている型Mがベローズ27の内側に入るように、上側ベローズ支持体31が型ベース21の下面の外周部近傍に一体的に設けられている。なお、上側ベローズ支持体31と型ベース21との間の気密性を確保するために、上側ベローズ支持体31には、Oリング35等のシール部材が設けられている。下側ベローズ支持体33の下端にも、Oリング37等のシール部材が設けられている。   Then, the upper bellows support 31 is formed on the lower surface of the mold base 21 so that the mold fixture 25 and the mold M installed integrally with the mold base 21 using the mold fixture 25 enter the inside of the bellows 27. It is integrally provided in the vicinity of the outer periphery. In addition, in order to ensure the airtightness between the upper bellows support 31 and the mold base 21, the upper bellows support 31 is provided with a seal member such as an O-ring 35. A seal member such as an O-ring 37 is also provided at the lower end of the lower bellows support 33.

図2で示すように、型ベース21に設置された型Mが、被成型品ベース23に設置された被成型品Wから大きく離れているときには(型ベース21に設置された型Mの下面が被成型品ベース23に設置された被成型品Wの上面から距離H1だけ離れているときには)、下側ベローズ支持体33に設けられているOリング37が、被成型品ベース23から距離H2だけ離れており、真空成型室29は形成されない。なお、距離H2の値は、距離H1の値よりも大きい。   As shown in FIG. 2, when the mold M installed on the mold base 21 is far away from the molded product W installed on the molded product base 23 (the lower surface of the mold M installed on the mold base 21 is The O-ring 37 provided on the lower bellows support 33 is only a distance H2 from the molding base 23 when the distance H1 is away from the upper surface of the molding W placed on the molding base 23). The vacuum forming chamber 29 is not formed. Note that the value of the distance H2 is larger than the value of the distance H1.

図2に示す状態から、型Mを保持している型ベース21を下降して、図3で示すように、下側ベローズ支持体33に設けられているOリング37を被成型品ベース23の上面に接触させることにより、型Mと被成型品Wとが内部に入る真空成型室(転写の際に被成型品Wの微細な凹凸に気泡が入り込むことを防止するための真空成型室)29が形成されるようになっている。なお、図3に示す状態では、型ベース21に設置された型Mの下面が被成型品ベース23に設置された被成型品Wの上面から距離H3(距離H2−距離H1)だけ離れている。   From the state shown in FIG. 2, the mold base 21 holding the mold M is lowered, and as shown in FIG. 3, the O-ring 37 provided on the lower bellows support 33 is attached to the molded product base 23. A vacuum molding chamber 29 (a vacuum molding chamber for preventing bubbles from entering fine irregularities of the molding target W during transfer) 29 in which the mold M and the molding target W enter the inside by contacting with the upper surface 29 Is to be formed. In the state shown in FIG. 3, the lower surface of the mold M installed on the mold base 21 is separated from the upper surface of the molded product W installed on the molded product base 23 by a distance H3 (distance H2−distance H1). .

図3に示す状態から、型Mを保持している型ベース21をさらに下降すると、ベローズ27が圧縮されて軸方向(上下方向)の長さが短くなるように弾性変形し、図4で示すように、型ベース21に設置された型Mが被成型品ベース23に設置された被成型品Wに接触するようになっている。   When the mold base 21 holding the mold M is further lowered from the state shown in FIG. 3, the bellows 27 is compressed and elastically deformed so that the length in the axial direction (vertical direction) becomes short, and is shown in FIG. In this way, the mold M installed on the mold base 21 comes into contact with the molded product W installed on the molded product base 23.

なお、ベローズ27が、型ベース21ではなくて、被成型品ベース23に一体的に設けられている構成であってもよいし、ベローズ27が、軸方向(上下方向)の中間部で2つに分割されており、上側のベローズが型ベース21に一体的に設けられており、下側のベローズが被成型品ベース23に一体的に設けられている構成であってもよい。   The bellows 27 may be provided integrally with the molded product base 23 instead of the mold base 21, or two bellows 27 may be provided in the middle portion in the axial direction (vertical direction). The upper bellows may be provided integrally with the mold base 21, and the lower bellows may be provided integrally with the molded product base 23.

被成型品ベース23には、真空成型室29内をほぼ真空になるまで減圧するための空気経路39が設けられている。空気経路39の一方の端部は、真空成型室29内につながるようになっている。空気経路39の他方の端部には、たとえば、パイロットチェック弁41が設けられており、このパイロットチェック弁41からは、主経路43とパイロット圧供給路45とが延出している。主経路43の先端部には、開閉バルブ(たとえば、ワンタッチ継ぎ手)43が設けられており、パイロット圧供給路45の先端部にも、開閉バルブ(たとえば、ワンタッチ継ぎ手)49が設けられている。   The molding target base 23 is provided with an air path 39 for reducing the pressure in the vacuum molding chamber 29 until the vacuum is almost evacuated. One end of the air path 39 is connected to the vacuum forming chamber 29. For example, a pilot check valve 41 is provided at the other end of the air path 39, and a main path 43 and a pilot pressure supply path 45 extend from the pilot check valve 41. An open / close valve (for example, a one-touch joint) 43 is provided at the distal end of the main path 43, and an open / close valve (for example, a one-touch joint) 49 is also provided at the distal end of the pilot pressure supply path 45.

なお、図2、図3等では、空気経路39の一部とパイロットチェック弁41と主経路43とパイロット圧供給路45と各開閉バルブ47,49とが、被成型品ベース23とは別個に設けられているように図示しているが、実際には、上述した39空気経路の一部等は、被成型品ベース23に一体的に設けられている。   2, 3, etc., a part of the air path 39, the pilot check valve 41, the main path 43, the pilot pressure supply path 45, and the open / close valves 47 and 49 are separated from the molded product base 23. Although shown as being provided, in practice, a part of the 39 air path described above is provided integrally with the base 23 to be molded.

そして、図3に示す状態で、主経路43の開閉バルブ47に真空ポンプ51を接続し、真空成型室29内の空気圧を減圧し、型Mが設けられている型ベース21を下降し、図4で示すように、ほぼ真空の雰囲気内で被成型品Wに型Mを接触させることができるようになっている。この後、開閉バルブ47から真空ポンプ51を外しても、真空成型室29のほぼ真空の雰囲気を維持することができるようになっている。   In the state shown in FIG. 3, a vacuum pump 51 is connected to the opening / closing valve 47 of the main path 43, the air pressure in the vacuum molding chamber 29 is reduced, and the mold base 21 provided with the mold M is lowered. As shown by 4, the mold M can be brought into contact with the workpiece W in a substantially vacuum atmosphere. Thereafter, even if the vacuum pump 51 is removed from the opening / closing valve 47, the vacuum atmosphere in the vacuum molding chamber 29 can be maintained.

次に、位置調整装置(アライメント装置)5について詳しく説明する。   Next, the position adjusting device (alignment device) 5 will be described in detail.

位置調整装置5は、ベース体53と位置決めユニット55と被成型品ベース設置体(素材ベース設置体)57と型ベース押圧体(型ベース設置体)59とを備えて構成されている(図2等参照)。   The position adjusting device 5 includes a base body 53, a positioning unit 55, a molded product base installation body (material base installation body) 57, and a mold base pressing body (mold base installation body) 59 (FIG. 2). Etc.).

位置決めユニット55は、ベース体53の下方に設けられており、位置決めユニット55のベース部がベース体53に一体的に設けられている。位置決めユニット55の可動部の上面(Z軸方向に対して直交している平面)には、詳しくは後述する被成型品ベース着脱装置62を用いて、平板状の被成型品ベース設置体57が一体的に設けられるようになっている。位置決めユニット55の可動部に被成型品ベース設置体57が設置されている状態では、被成型品ベース設置体57の平面状の上面が、Z軸方向に対して直交している。   The positioning unit 55 is provided below the base body 53, and the base portion of the positioning unit 55 is provided integrally with the base body 53. On the upper surface of the movable portion of the positioning unit 55 (a plane orthogonal to the Z-axis direction), a plate-shaped molded product base installation body 57 is formed by using a molded product base attaching / detaching device 62 described later in detail. It is designed to be integrated. In a state where the molded product base installation body 57 is installed on the movable part of the positioning unit 55, the planar upper surface of the molded product base installation body 57 is orthogonal to the Z-axis direction.

位置決めユニット55は、たとえば、XYステージとθステージとで構成されており、位置決めユニット55の可動部に設けられている被成型品ベース設置体57が、制御装置61の制御の下、X軸方向、Y軸方向で移動位置決めされるようになっていると共に、θ軸(位置決めユニット55の中心を通ってZ軸方向に延びている軸)まわりで回動位置決めされるようになっている。   The positioning unit 55 is composed of, for example, an XY stage and a θ stage, and the molded product base installation body 57 provided in the movable part of the positioning unit 55 is controlled in the X-axis direction under the control of the control device 61. In addition to being moved and positioned in the Y-axis direction, it is rotationally positioned around the θ-axis (an axis extending in the Z-axis direction through the center of the positioning unit 55).

型ベース押圧体59は、ベース体53や被成型品ベース設置体57の上方で、被成型品ベース設置体57から離れてベース体53に設けられている。また、型ベース押圧体59は、図示しないリニアガイドベアリングを介してベース体53に設けられており、ベース体53に対して上下方向(Z軸方向)で移動自在になっている。さらに、図示しないサーボモータ等のアクチュエータやボールねじを用いて、制御装置61の制御の下、型ベース押圧体59が移動位置決めされるようになっている。   The mold base pressing body 59 is provided on the base body 53 above the base body 53 and the molded product base installation body 57 and away from the molded product base installation body 57. The mold base pressing body 59 is provided on the base body 53 via a linear guide bearing (not shown), and is movable in the vertical direction (Z-axis direction) with respect to the base body 53. Further, the mold base pressing body 59 is moved and positioned under the control of the control device 61 using an actuator such as a servo motor (not shown) or a ball screw.

なお、型ベース押圧体59を移動することに代えてもしくは加えて被成型品ベース設置体57を上下方向でベース体53に対して移動位置決め自在な構成にしてもよい。すなわち、被成型品ベース設置体57と型ベース押圧体59とが、お互いが接近・離反する方向で相対的に移動位置決め自在になっていればよい。   Instead of or in addition to moving the mold base pressing body 59, the molded product base installation body 57 may be configured to be movable and positionable with respect to the base body 53 in the vertical direction. In other words, it is only necessary that the molded product base installation body 57 and the mold base pressing body 59 are relatively movable and positionable in the directions in which they approach and separate from each other.

また、被成型品ベース設置体57をX軸方向、Y軸方向およびθ軸まわりに移動(回動)位置決め自在に設けることに代えてもしく加えて、型ベース(詳しくは後述する型ベース着脱装置63を用いて型ベース押圧体59に一体的に設けられている型ベース)21を、X軸方向、Y軸方向およびθ軸まわりに移動(回動)位置決め自在に設けてあってもよい。すなわち、X軸方向、Y軸方向およびθ軸まわりで、被成型品ベース設置体57に対して型ベース21が相対的に移動(回動)位置決め自在になっている構成になっていればよい。   Further, in addition to providing the molded product base mounting body 57 so that it can be moved (rotated) around the X-axis direction, the Y-axis direction, and the θ-axis, it can be positioned freely. The mold base 21 provided integrally with the mold base pressing body 59 using the device 63 may be provided so as to be movable (rotatable) and positionable around the X axis direction, the Y axis direction, and the θ axis. . That is, the mold base 21 may be configured to be relatively movable (rotating) relative to the molded product base installation body 57 around the X axis direction, the Y axis direction, and the θ axis. .

型ベース押圧体59の下面は、Z軸方向に対して直交した平面状に形成されている。被成型品ベース設置体57の上面も、前述したように、Z軸方向に対して直交した平面状に形成されている。そして、型ベース押圧体59の下面と、被成型品ベース設置体57の上面とは、お互いが所定の距離だけ離れ平行になって対向している。   The lower surface of the mold base pressing body 59 is formed in a planar shape orthogonal to the Z-axis direction. As described above, the upper surface of the molded product base installation body 57 is also formed in a planar shape orthogonal to the Z-axis direction. The lower surface of the mold base pressing body 59 and the upper surface of the molded product base mounting body 57 are opposed to each other with a predetermined distance therebetween in parallel.

型ベース押圧体59には、型ベース着脱装置63が設けられている。型ベース着脱装置63は、たとえば、「L」字状に形成された保持部材65を備えて構成されている。保持部材65は、型ベース押圧体59の下面の周辺部に複数設けられている。また、保持部材65は、Z軸方向に延出している柱状の基端部側部位と、この基端部側部位の先端部で水平方向に突出している先端部側部位とを備えて「L」字状に形成されている。   The mold base pressing body 59 is provided with a mold base attaching / detaching device 63. The mold base attaching / detaching device 63 includes, for example, a holding member 65 formed in an “L” shape. A plurality of holding members 65 are provided on the periphery of the lower surface of the mold base pressing body 59. The holding member 65 includes a columnar base end portion that extends in the Z-axis direction, and a tip end portion that protrudes in the horizontal direction at the tip of the base end portion. It is formed in a letter shape.

そして、制御装置61の制御の下、図示しない空気圧シリンダ等のアクチュエータで、基端部側部位の中心を通ってZ軸方向に延びている軸Z1を回動中心にして回動位置決め自在になっていると共に、Z軸方向で移動位置決め自在になっている。すなわち、図2で示す保持位置P1と開放位置P2との間を移動するようになっている。   Under the control of the control device 61, an actuator such as a pneumatic cylinder (not shown) can be rotated and positioned with the axis Z1 extending in the Z-axis direction passing through the center of the base end side portion as the rotation center. In addition, it can be moved and positioned in the Z-axis direction. That is, it moves between the holding position P1 and the opening position P2 shown in FIG.

保持位置P1は、保持部材65が型ベース21を保持している位置であり、この保持により、型ベース(型ベース21に保持されている型M、ベローズ27)21が、型ベース押圧体59の所定の位置に一体的に設置されている。開放位置は、保持部材65が型ベース21を開放するときの位置である。   The holding position P <b> 1 is a position where the holding member 65 holds the mold base 21, and by this holding, the mold base (the mold M and the bellows 27 held by the mold base 21) 21 is moved to the mold base pressing body 59. Are integrally installed at predetermined positions. The open position is a position when the holding member 65 opens the mold base 21.

被成型品ベース設置体57にも、型ベース着脱装置63と同様であって前述した被成型品ベース着脱装置62が設けられているが、被成型品ベース設置体57の被成型品ベース着脱装置62を削除し、被成型品ベース23を被成型品ベース設置体57に載置するだけで設置する構成であってもよい。   The molded product base installation body 57 is also provided with the molded product base installation / removal device 62, which is similar to the mold base attachment / detachment device 63. However, the molded product base installation / removal device of the molded product base installation body 57 is provided. The configuration may be such that 62 is deleted and the molded product base 23 is installed simply by placing it on the molded product base installation body 57.

型ベース着脱装置63を用いて仮保持ユニット13を型ベース押圧体59に設置した状態では、仮保持ユニット13の型ベース21の上面が型ベース押圧体59の下面に面接触して、型ベース21(ベローズ27、型M)が型ベース押圧体59に一体的に設置されるようになっている。また、被成型品ベース着脱装置62を用いて仮保持ユニット13を設置した状態では、仮保持ユニット13の被成型品ベース23の下面が被成型品ベース設置体57の上面に面接触して、被成型品ベース23(被成型品W)が被成型品ベース設置体57に一体的に設置されるようになっている。   In a state where the temporary holding unit 13 is installed on the mold base pressing body 59 using the mold base attaching / detaching device 63, the upper surface of the mold base 21 of the temporary holding unit 13 comes into surface contact with the lower surface of the mold base pressing body 59, 21 (bellows 27, mold M) is integrally installed on the mold base pressing body 59. Further, in a state where the temporary holding unit 13 is installed using the molded product base attaching / detaching device 62, the lower surface of the molded product base 23 of the temporary holding unit 13 is in surface contact with the upper surface of the molded product base installation body 57, The molded product base 23 (molded product W) is integrally installed on the molded product base installation body 57.

また、位置調整装置5には、撮像装置(カメラ)67が設けられている。カメラ67は、カメラ移動装置69によって、型Mや被成型品Wを撮影可能な位置(観察位置)から型Mの微細な転写パターンを被成型品Wに転写するときに型Mや被成型品Wや仮保持ユニット13と干渉しない退避位置へ移動し、また、退避位置から観察位置へ移動できるようになっている。   The position adjustment device 5 is provided with an imaging device (camera) 67. The camera 67 uses the camera moving device 69 to transfer the fine transfer pattern of the mold M from the position where the mold M and the molded article W can be photographed (observation position) to the molded article W. It moves to the retracted position where it does not interfere with W and the temporary holding unit 13, and can move from the retracted position to the observation position.

さらに説明すると、図2で示すように、型Mと被成型品Wとが所定の距離H2だけ離れており、また、ベローズ27のOリング37が被成型品ベース23から所定の距離H1だけ離れているときに、カメラ67が、型Mと被成型品Wとの間に型Mや被成型品Wから離れた状態で入り込み、撮影可能位置(観察位置)に位置することができるようになっている。   More specifically, as shown in FIG. 2, the mold M and the molded product W are separated by a predetermined distance H2, and the O-ring 37 of the bellows 27 is separated from the molded product base 23 by a predetermined distance H1. The camera 67 can enter between the mold M and the molded product W in a state of being separated from the mold M or the molded product W, and can be positioned at a photographing position (observation position). ing.

なお、図2で示す状態では、型ベース押圧体59がたとえば上昇端に位置しており、仮保持ユニット13に型Mと被成型品Wとが設置されており、仮保持ユニット13の型ベース21が型ベース着脱装置63で型ベース押圧体59に一体的に設けられており、仮保持ユニット13の被成型品ベース23が被成型品ベース着脱装置62で被成型品ベース設置体57に一体的に設けられている。   In the state shown in FIG. 2, the mold base pressing body 59 is located at the rising end, for example, the mold M and the product W are installed in the temporary holding unit 13, and the mold base of the temporary holding unit 13 is 21 is provided integrally with the mold base pressing body 59 by the mold base attaching / detaching device 63, and the molded product base 23 of the temporary holding unit 13 is integrated with the molded product base installing body 57 by the molded product base attaching / detaching device 62. Provided.

撮影可能位置に位置しているカメラ67によって、型Mに形成されているアイマークと被成型品Wに形成されているアイマークとをほぼ同時に撮影することができるようになっている。そして、カメラ67の撮影結果(各アイマークの位置)を用いて、制御装置61の制御の下、位置決めユニット55を駆動し、型Mに対する被成型品Wの位置決め(X軸方向、Y軸方向、θ軸まわりの位置決め)をすることができるようになっている。   An eye mark formed on the mold M and an eye mark formed on the molding target W can be photographed almost simultaneously by the camera 67 located at the photographing position. Then, using the photographing result of each camera 67 (the position of each eye mark), the positioning unit 55 is driven under the control of the control device 61 to position the workpiece W with respect to the mold M (X-axis direction, Y-axis direction). , Positioning around the θ axis).

また、型Mに対する被成型品Wの位置決めをした後、カメラ67を退避位置に位置させ、ベローズ27のOリング37と被成型品ベース23とがお互いに接触するまで型ベース押圧体59を下降すると、図3で示すように、真空成型室29が形成されるようになっている。   Further, after positioning the molded product W with respect to the mold M, the camera 67 is positioned at the retracted position, and the mold base pressing body 59 is lowered until the O-ring 37 of the bellows 27 and the molded product base 23 come into contact with each other. Then, as shown in FIG. 3, a vacuum forming chamber 29 is formed.

真空成型室29を減圧して、図4で示すように、型Mが被成型品Wに接触するまで、型ベース押圧体59をさらに下降し、真空ポンプ51を開閉バルブ47から取り外すことにより、型Mと被成型品Wとが大気圧によって仮保持ユニット13で保持され、型Mと被成型品Wと仮保持ユニット13との相対的な位置が維持されるようになっている。   The vacuum molding chamber 29 is depressurized, and as shown in FIG. 4, the mold base pressing body 59 is further lowered until the mold M comes into contact with the workpiece W, and the vacuum pump 51 is removed from the opening / closing valve 47. The mold M and the molded product W are held by the temporary holding unit 13 by atmospheric pressure, and the relative positions of the mold M, the molded product W, and the temporary holding unit 13 are maintained.

図4に示した状態から、各着脱装置62,63を開放すると、図5で示すように、型Mと被成型品Wとを保持している仮保持ユニット13を、真空成型室29を維持(真空成型室29をほぼ真空の状態で維持)し、型Mと被成型品Wと仮保持ユニット13との相対的な位置を維持したまま、位置調整装置5から搬出することができるようになっている。   When the attachment / detachment devices 62 and 63 are opened from the state shown in FIG. 4, the temporary holding unit 13 holding the mold M and the product W is maintained in the vacuum forming chamber 29 as shown in FIG. 5. (The vacuum molding chamber 29 is maintained in a substantially vacuum state) so that the relative positions of the mold M, the molded product W, and the temporary holding unit 13 can be maintained, and can be carried out from the position adjusting device 5. It has become.

熱インプリント法で転写をする転写装置(図6参照)7は、ベース体71と被成型品ベース設置体(素材ベース設置体;被成型品側加熱冷却プレート)73と型ベース押圧体(型側加熱冷却プレート)75とを備えて構成されている。被成型品ベース設置体73は、ベース体71の下方でベース体71に一体的に設けられている。型ベース押圧体75は、ベース体71や被成型品ベース設置体73の上方で、被成型品ベース設置体73から離れてベース体71に設けられている。また、型ベース押圧体75は、図示しないリニアガイドベアリングを介してベース体71に設けられており、ベース体71に対して上下方向(Z軸方向)で移動自在になっている。さらに、図示しないサーボモータ等のアクチュエータやボールねじを用いて、制御装置77の制御の下、型ベース押圧体75が移動位置決めされるようになっている。   A transfer device (see FIG. 6) for transferring by a thermal imprint method includes a base body 71, a molded product base installation body (material base installation body; molded product side heating / cooling plate) 73, and a mold base pressing body (mold). Side heating / cooling plate) 75. The molded product base installation body 73 is provided integrally with the base body 71 below the base body 71. The mold base pressing body 75 is provided on the base body 71 away from the molded product base installation body 73 above the base body 71 and the molded product base installation body 73. The mold base pressing body 75 is provided on the base body 71 via a linear guide bearing (not shown), and is movable in the vertical direction (Z-axis direction) with respect to the base body 71. Further, the mold base pressing body 75 is moved and positioned under the control of the control device 77 using an actuator such as a servo motor (not shown) or a ball screw.

なお、型ベース押圧体75を移動することに代えてもしくは加えて被成型品ベース設置体73を上下方向でベース体71に対して移動位置決め自在な構成にしてもよい。すなわち、被成型品ベース設置体73と型ベース押圧体75とが、お互いが接近・離反する方向で相対的に移動位置決め自在になっていればよい。   Instead of or in addition to moving the mold base pressing body 75, the molded product base installation body 73 may be configured to be movable and positionable with respect to the base body 71 in the vertical direction. That is, it is only necessary that the molded product base installation body 73 and the mold base pressing body 75 are relatively movable and positionable in the direction in which they approach and separate from each other.

型ベース押圧体75の下面は、Z軸方向に対して直交した平面状に形成されている。被成型品ベース設置体71の上面も、Z軸方向に対して直交した平面状に形成されている。そして、型ベース押圧体75の下面と、被成型品ベース設置体71の上面とは、お互いが所定の距離だけ離れ平行になって対向している。   The lower surface of the mold base pressing body 75 is formed in a planar shape orthogonal to the Z-axis direction. The upper surface of the molded product base installation body 71 is also formed in a planar shape orthogonal to the Z-axis direction. The lower surface of the mold base pressing body 75 and the upper surface of the molded product base installation body 71 are opposed to each other with a predetermined distance therebetween in parallel.

被成型品ベース設置体73には、熱可塑性樹脂で構成されている被成型品Wを加熱するための加熱手段79と被成型品Wを冷却するための冷却手段81とが設けられている。   The molded product base installation body 73 is provided with a heating unit 79 for heating the molded product W made of a thermoplastic resin and a cooling unit 81 for cooling the molded product W.

たとえば、被成型品ベース設置体73には、温度媒体(たとえば油や水)を流すための媒体用貫通孔が設けられており、この媒体用貫通孔内に、被成型品ベース設置体73の外部に設置されている媒体加熱装置(図示せず)で加熱された熱媒体(温媒体)を流すことにより、被成型品ベース設置体73を加熱して被成型品ベース設置体73(仮保持ユニット13の被成型品ベース23、被成型品W)の温度を上げることができるようになっている。   For example, the molded product base installation body 73 is provided with a medium through-hole for flowing a temperature medium (for example, oil or water), and the molded product base installation body 73 is inserted into the through-hole for the medium. By passing a heating medium (warm medium) heated by a medium heating device (not shown) installed outside, the molded article base installation body 73 is heated to temporarily hold the molded article base installation body 73 (temporary holding). The temperature of the molded product base 23 of the unit 13 and the molded product W) can be raised.

また、たとえば、媒体用貫通孔内に、被成型品ベース設置体73の外部に設置されている媒体冷却装置(図示せず)で冷却された熱媒体(冷媒)を温媒体に代えて流すことにより、被成型品ベース設置体73を冷却して被成型品ベース設置体(仮保持ユニット13の被成型品ベース23、被成型品W)の温度をたとえば常温まで下げることができるようになっている。   Further, for example, a heat medium (refrigerant) cooled by a medium cooling device (not shown) installed outside the molded article base installation body 73 is caused to flow in the medium through hole instead of the heat medium. As a result, the molded product base installation body 73 is cooled, and the temperature of the molded product base installation body (the molded product base 23 of the temporary holding unit 13 and the molded product W) can be lowered to, for example, room temperature. Yes.

型ベース押圧体75にも、被成型品ベース設置体73の場合と同様な加熱手段83と冷却手段85とが設けられている。   The mold base pressing body 75 is also provided with heating means 83 and cooling means 85 similar to the case of the molded product base installation body 73.

なお、型ベース押圧体75に設けられている加熱手段83と冷却手段85、被成型品ベース設置体73に設けられている加熱手段79と冷却手段81の少なくともいずれかを削除した構成であってもよい。すなわち、型ベース押圧体75、被成型品ベース設置体73の少なくとも一方に加熱手段と冷却手段とを設けた構成であってもよい。   The heating unit 83 and the cooling unit 85 provided on the mold base pressing body 75 and at least one of the heating unit 79 and the cooling unit 81 provided on the molded product base installation body 73 are omitted. Also good. That is, the structure which provided the heating means and the cooling means in at least one of the type | mold base press body 75 and the to-be-molded product base installation body 73 may be sufficient.

さらに、冷却手段を削除した構成であってもよいし、型ベース押圧体75に加熱手段を設け被成型品ベース設置体73に冷却手段を設けた構成であってもよいし、または、被成型品ベース設置体73に加熱手段を設け型ベース押圧体75に冷却手段を設けた構成であってもよい。   Furthermore, the structure which deleted the cooling means may be sufficient, the structure which provided the heating means in the type | mold base press body 75, and provided the cooling means in the to-be-molded article base installation body 73, or a to-be-molded The product base installation body 73 may be provided with heating means, and the mold base pressing body 75 may be provided with cooling means.

転写装置7には、位置調整装置5から搬出された仮保持ユニット13が設置されるようになっている。この仮保持ユニット13では、図5で示すように、ほぼ真空状態の真空成型室29が形成され、型Mと被成型品Wとがお互いに接触して型Mと被成型品Wとの相対的な位置が維持されている。   The transfer device 7 is provided with a temporary holding unit 13 carried out from the position adjusting device 5. In the temporary holding unit 13, as shown in FIG. 5, a vacuum forming chamber 29 in a substantially vacuum state is formed, and the mold M and the molded product W come into contact with each other so that the mold M and the molded product W are relative to each other. Position is maintained.

詳しく説明すると、図6に示すように、型ベース押圧体75がたとえば上昇端に位置している状態で、仮保持ユニット13の被成型品ベース23の平面状の下面が被成型品ベース設置体73の平面状の上面に面接触するようにして、仮保持ユニット13が被成型品ベース設置体73に載置されるようになっている。この載置がされている状態では、仮保持ユニット13の型ベース21と型ベース押圧体75との間は、所定の間隔があいている。なお、ほぼ真空状態の真空成型室29は、離型装置9で被成型品Wから型Mを分離する直前まで維持されるようになっている。   More specifically, as shown in FIG. 6, in the state where the mold base pressing body 75 is located at the rising end, for example, the planar lower surface of the molded product base 23 of the temporary holding unit 13 is the molded product base installation body. The temporary holding unit 13 is placed on the molded product base installation body 73 so as to be in surface contact with the planar upper surface of 73. In this mounted state, there is a predetermined gap between the mold base 21 and the mold base pressing body 75 of the temporary holding unit 13. The vacuum molding chamber 29 in a substantially vacuum state is maintained until immediately before the mold M is separated from the molded product W by the mold release device 9.

図6で示したように、転写装置7に仮保持ユニット13が載置されている状態で、制御装置77の制御の下、加熱手段79,83で型Mと被成型品Wとを被成型品Wが軟化し転写に適した程度の硬さになるまで加熱するようになっている。被成型品Wが適度に軟化した後、図7で示すように、型ベース押圧体75を図7に二点鎖線で示す位置まで下降して仮保持ユニット13(型Mと被成型品W)を被成型品ベース設置体73と型ベース押圧体75とで挟み込み、型Mで被成型品Wを押圧するようになっている。なお、加熱手段79,83による加熱を、型ベース押圧体75が図7に二点鎖線で示す位置まで下降したときに開始するように構成されていてもよい。   As shown in FIG. 6, with the temporary holding unit 13 placed on the transfer device 7, the mold M and the product W are molded by the heating means 79 and 83 under the control of the control device 77. The product W is heated until it becomes soft and has a hardness suitable for transfer. After the article to be molded W is softened moderately, as shown in FIG. 7, the mold base pressing body 75 is lowered to the position indicated by the two-dot chain line in FIG. 7, and the temporary holding unit 13 (the mold M and the article to be molded W). Is sandwiched between the molded product base installation body 73 and the mold base pressing body 75, and the molded product W is pressed by the mold M. In addition, you may be comprised so that the heating by the heating means 79 and 83 may be started when the type | mold base press body 75 descend | falls to the position shown with a dashed-two dotted line in FIG.

被成型品ベース設置体73と型ベース押圧体75とで仮保持ユニット13の挟み込みをしている状態では、仮保持ユニット13の型ベース21の上面が型ベース押圧体75の下面に面接触しており、仮保持ユニット13の被成型品ベース23の下面が被成型品ベース設置体73の上面に面接触しており、押圧のための被成型品Wの軟化の度合いが維持されるように、加熱手段79,83による加熱がなされるようになっている。   In a state where the temporary holding unit 13 is sandwiched between the molded product base installation body 73 and the mold base pressing body 75, the upper surface of the mold base 21 of the temporary holding unit 13 is in surface contact with the lower surface of the mold base pressing body 75. The lower surface of the molded product base 23 of the temporary holding unit 13 is in surface contact with the upper surface of the molded product base installation body 73 so that the degree of softening of the molded product W for pressing is maintained. The heating means 79 and 83 are used for heating.

上記押圧開始から所定の時間が経過して、軟化した被成型品Wに型Mの微細な転写パターンが転写された後(被成型品Wに型Mの逆パターンが形成された後)、冷却手段81,85で、仮保持ユニット13(型M、被成型品W)が常温になるまで仮保持ユニット13を冷却して被成型品Wを固化させるようになっている。また、この固化後に、図7に実線で示す位置まで、型ベース押圧体75を上昇させ、仮保持ユニット13から型ベース押圧体75を離すようになっている。そして、図8で示すように、転写装置7から仮保持ユニット13を搬出することができるようになっている。   After a predetermined time has elapsed from the start of pressing, the fine transfer pattern of the mold M is transferred to the softened molded product W (after the reverse pattern of the mold M is formed on the molded product W), and then cooled. The means 81 and 85 are configured to cool the temporary holding unit 13 until the temporary holding unit 13 (the mold M, the product to be molded W) reaches room temperature, and to solidify the product to be molded W. Further, after this solidification, the mold base pressing body 75 is raised to the position shown by the solid line in FIG. 7, and the mold base pressing body 75 is separated from the temporary holding unit 13. Then, as shown in FIG. 8, the temporary holding unit 13 can be carried out from the transfer device 7.

なお、図8で示す仮保持ユニット13には、型Mと被成型品Wとが設置されており、型Mが被成型品Wに張り付いており、さらに、真空成型室29の真空が維持されている。   The temporary holding unit 13 shown in FIG. 8 is provided with a mold M and a molded product W, the mold M is stuck to the molded product W, and the vacuum in the vacuum molding chamber 29 is maintained. Has been.

次に、離型装置9について詳しく説明する。   Next, the release device 9 will be described in detail.

離型装置9は、ベース体87と被成型品ベース設置体(素材ベース設置体)89と型ベース移動体(型ベース設置体)91とを備えて構成されている(図9等参照)。   The mold release device 9 includes a base body 87, a molded product base installation body (material base installation body) 89, and a mold base moving body (mold base installation body) 91 (see FIG. 9 and the like).

被成型品ベース設置体89は、ベース体87の下方でベース体87に一体的に設けられている。型ベース移動体91は、ベース体87の上方や被成型品ベース設置体89の上方で、被成型品ベース設置体89から離れてベース体87に設けられている。また、型ベース移動体91は、図示しないリニアガイドベアリングを介してベース体87に設けられており、ベース体87に対して上下方向(Z軸方向)で移動自在になっている。さらに、図示しないサーボモータ等のアクチュエータやボールねじを用いて、制御装置93の制御の下、型ベース移動体91が移動位置決めされるようになっている。   The molded product base installation body 89 is provided integrally with the base body 87 below the base body 87. The mold base moving body 91 is provided on the base body 87 away from the molded product base installation body 89 above the base body 87 and above the molded product base installation body 89. The mold base moving body 91 is provided on the base body 87 via a linear guide bearing (not shown), and is movable in the vertical direction (Z-axis direction) with respect to the base body 87. Furthermore, the mold base moving body 91 is moved and positioned under the control of the control device 93 using an actuator such as a servo motor (not shown) and a ball screw.

なお、型ベース移動体91を移動することに代えてもしくは加えて被成型品ベース設置体89を上下方向でベース体87に対して移動位置決め自在な構成にしてもよい。すなわち、被成型品ベース設置体89と型ベース移動体91とが、お互いが接近・離反する方向で相対的に移動位置決め自在になっていればよい。   Instead of or in addition to moving the mold base moving body 91, the molded product base installation body 89 may be configured to be movable and positionable with respect to the base body 87 in the vertical direction. That is, it suffices that the molded product base installation body 89 and the mold base moving body 91 are relatively movable and positionable in the directions in which they approach and separate from each other.

型ベース移動体91の下面は、Z軸方向に対して直交した平面状に形成されている。被成型品ベース設置体89の上面も、Z軸方向に対して直交した平面状に形成されている。そして、型ベース移動体91の下面と、被成型品ベース設置体89の上面とは、お互いが所定の距離だけ離れ平行になって対向している。   The lower surface of the mold base moving body 91 is formed in a planar shape orthogonal to the Z-axis direction. The upper surface of the molded product base installation body 89 is also formed in a planar shape orthogonal to the Z-axis direction. The lower surface of the mold base moving body 91 and the upper surface of the molded product base installation body 89 are opposed to each other with a predetermined distance therebetween in parallel.

型ベース移動体91には、位置調整装置5の場合と同様な型ベース着脱装置95が設けられており、被成型品ベース設置体89にも、位置調整装置5の場合と同様な被成型品着脱装置97が設けられている。   The mold base movable body 91 is provided with a mold base attaching / detaching device 95 similar to the case of the position adjusting device 5, and the molded product base installing body 89 is also similar to the case of the position adjusting device 5. An attachment / detachment device 97 is provided.

そして、図9で示すように、型ベース移動体91がたとえば上昇端に位置している状態で、図8で示す仮保持ユニット(型Mが被成型品Wに張り付いており、真空成型室29が形成されており、ほぼ常温まで冷却された仮保持ユニット)13を、離型装置9に載置するようになっている。この後、制御装置93の制御の下、被成型品着脱装置97を用いて、仮保持ユニット13の被成型品ベース23が離型装置9の被成型品ベース設置体89に一体的に保持されるようになっている。仮保持ユニット13を、被成型品ベース設置体89に載置した状態では、仮保持ユニット13の被成型品ベース23の下面が被成型品ベース設置体89の上面に面接触している。   Then, as shown in FIG. 9, with the mold base moving body 91 positioned at the rising end, for example, the temporary holding unit shown in FIG. 29 is formed, and the temporary holding unit 13) cooled to substantially room temperature is placed on the mold release device 9. Thereafter, the molded product base 23 of the temporary holding unit 13 is integrally held by the molded product base installation body 89 of the release device 9 using the molded product attachment / detachment device 97 under the control of the control device 93. It has become so. In a state where the temporary holding unit 13 is placed on the molded product base installation body 89, the lower surface of the molded product base 23 of the temporary holding unit 13 is in surface contact with the upper surface of the molded product base installation body 89.

図9で示す状態から、型ベース移動体91が仮保持ユニット13の型ベース21に接触するまで型ベース移動体91を下降すると、図10で示すように、型ベース着脱装置95が仮保持ユニット13の型ベース21を保持するようになっている。ここで、パイロット圧供給路45に圧縮空気を供給すると、パイロットチェック弁41が開き、主経路43と空気通路39とを通って、空気が真空成型室29内に入り込み、真空成型室29内の圧力を大気圧にすることができるようになっている。   When the mold base moving body 91 is lowered from the state shown in FIG. 9 until the mold base moving body 91 contacts the mold base 21 of the temporary holding unit 13, as shown in FIG. 10, the mold base attaching / detaching device 95 is moved to the temporary holding unit. Thirteen mold bases 21 are held. Here, when compressed air is supplied to the pilot pressure supply passage 45, the pilot check valve 41 is opened, and the air enters the vacuum forming chamber 29 through the main passage 43 and the air passage 39. The pressure can be set to atmospheric pressure.

真空成型室29内を大気圧にした後、型ベース移動体91を上昇すると、図11に示すように、ベローズ27の下側のOリング37が被成型品ベース23から離れて真空成型室29が無くなると共に、型Mが被成型品Wから離れて離型がされるようになっている。   When the mold base moving body 91 is raised after the inside of the vacuum forming chamber 29 is brought to atmospheric pressure, the O-ring 37 on the lower side of the bellows 27 is separated from the base 23 to be molded as shown in FIG. In addition, the mold M is separated from the workpiece W and released from the mold.

図11で示す状態で、仮保持ユニット13等を離型装置9から取り外す等すると図12で示す状態になる。図12で示す状態では、仮保持ユニット13に型Mが設けられており、仮保持ユニット13のベローズ27が被成型品ベース23から離れて真空成型室29が開放されており、転写がされた被成型品Wが被成型品ベース23をから取り外されている。   When the temporary holding unit 13 or the like is removed from the mold release device 9 in the state shown in FIG. 11, the state shown in FIG. In the state shown in FIG. 12, the mold M is provided in the temporary holding unit 13, the bellows 27 of the temporary holding unit 13 is separated from the molded product base 23, the vacuum molding chamber 29 is opened, and the transfer is performed. The molded product W is removed from the molded product base 23.

この後、搬送装置(図示せず)を用いて、ベローズ27や型Mが設置されている型ベース21と被成型品Wが取り外された被成型品ベース23とが、図1に矢印A13で示すように位置調整装置5に搬送され、微細な転写パターンが転写された被成型品Wが、図1に矢印A14で示すように転写後被成型品ストッカ11に搬送されるようになっている。   Thereafter, using a conveying device (not shown), the mold base 21 on which the bellows 27 and the mold M are installed and the molded product base 23 from which the molded product W is removed are indicated by an arrow A13 in FIG. As shown in FIG. 1, the molded product W, which has been transferred to the position adjusting device 5 and onto which the fine transfer pattern has been transferred, is transferred to the post-transfer molded product stocker 11 as indicated by an arrow A14 in FIG. .

なお、図1に示す転写システム1には図示しない制御装置が設けられており、この制御装置が各搬送装置を制御していると共に、各装置5,7,9に設けられている各制御装置61,77,93を制御しているものとする。   The transfer system 1 shown in FIG. 1 is provided with a control device (not shown). The control device controls each transport device, and each control device provided in each of the devices 5, 7, 9. It is assumed that 61, 77, and 93 are controlled.

ところで、離型装置9に、引き剥がし装置(離型補助装置)99を設けてもよい。引き剥がし装置99は、被成型品Wから型Mを離すときに、より小さい力で型Mを離すためのものであり、たとえば、図16に示すように、楔型の器具101を備えて構成されている。そして、制御装置93の制御の下、図示しない移動装置で楔型器具101を移動し、楔型器具101の尖った先端を、お互いが貼り付いている型Mと被成型品Wと境界の周辺部に差し込み、上記周辺部およびこの近傍の部位で、被成型品Wから型をごく僅かに引き剥がすようになっている。これにより、型ベース移動体91を小さな力で上昇しても、被成型品Wから型Mを離すことができるようになっている。   By the way, the release device 9 may be provided with a peeling device (release auxiliary device) 99. The peeling device 99 is for separating the mold M with a smaller force when separating the mold M from the workpiece W. For example, as shown in FIG. Has been. Then, under the control of the control device 93, the wedge-shaped instrument 101 is moved by a moving device (not shown), and the sharp tip of the wedge-shaped instrument 101 is placed around the boundary between the mold M to be molded and the article W to be molded. The mold is slightly peeled off from the workpiece W at the peripheral portion and the vicinity thereof. Thereby, even if the mold base moving body 91 is raised with a small force, the mold M can be separated from the product W.

なお、真空成型室29が形成されている状態では、楔型器具101が型Mや被成型品Wに接触できない。そこで、図14〜図16に示す仮保持ユニット13には、ベローズ27を縮めるためのアクチュエータ(たとえば、単動型の空気圧シリンダ103)が設けられている。   In the state where the vacuum molding chamber 29 is formed, the wedge-shaped instrument 101 cannot contact the mold M or the workpiece W. Accordingly, the temporary holding unit 13 shown in FIGS. 14 to 16 is provided with an actuator (for example, a single-acting pneumatic cylinder 103) for contracting the bellows 27.

空気圧シリンダ103に圧縮空気を供給していない状態では、図14〜図16に示す仮保持ユニット13は、図9〜図12に示す仮保持ユニット13と同様に動作する(離型装置9や仮保持ユニット13等が同様に動作する)が、空気圧シリンダ103に圧縮空気を供給すると、仮保持ユニット13のベローズ27が縮むようになっている。   In a state where compressed air is not supplied to the pneumatic cylinder 103, the temporary holding unit 13 shown in FIGS. 14 to 16 operates in the same manner as the temporary holding unit 13 shown in FIGS. 9 to 12 (the mold release device 9 and the temporary holding unit 13). The holding unit 13 and the like operate in the same manner. However, when compressed air is supplied to the pneumatic cylinder 103, the bellows 27 of the temporary holding unit 13 is contracted.

すなわち、図15に示す状態で、真空成型室29内を大気圧にし、空気圧シリンダ103に圧縮空気を供給すると、図16で示すように、型ベース移動体91を上昇させなくてもベローズ27が縮んで、真空成型室29が解放され(無くなり)、被成型品Wに型Mがくっついている状態であっても、楔型器具101が型Mや被成型品Wに接触できるようになっている。   That is, in the state shown in FIG. 15, when the inside of the vacuum forming chamber 29 is brought to atmospheric pressure and compressed air is supplied to the pneumatic cylinder 103, the bellows 27 can be moved without raising the mold base moving body 91 as shown in FIG. Shrinking, the vacuum molding chamber 29 is released (lost), and the wedge-shaped tool 101 can come into contact with the mold M and the molded product W even when the mold M is attached to the molded product W. Yes.

なお、図14〜図16に示す仮保持ユニット13では、被成型品ベース23が被成型品Wを保持している構成であるが、被成型品ベース23が被成型品Wを保持しておらず、被成型品Wが被成型品ベース23に載置しているだけであってもよい。そして、空気圧シリンダ103でベローズ27を持ち上げた後(縮めた後)であって型ベース移動体91を上昇させて型Mを被成型品Wから離す前に、図示しない保持装置(たとえば離型装置9に設けられている保持装置)で、被成型品Wを被成型品ベース23に一体的に保持する構成であってもよい。   The temporary holding unit 13 shown in FIGS. 14 to 16 has a configuration in which the molded product base 23 holds the molded product W, but the molded product base 23 holds the molded product W. Instead, the molded product W may only be placed on the molded product base 23. Then, after the bellows 27 is lifted (compressed) by the pneumatic cylinder 103 and before the mold base moving body 91 is lifted to separate the mold M from the molded product W, a holding device (not shown) (for example, a mold release device). 9), the molded product W may be integrally held on the molded product base 23.

ここで、図1に示す転写システム1を構成している位置調整装置5、転写装置7、離型装置9の台数について説明する。なお、型Mや被成型品Wは、1台の装置では、たとえば枚葉で、転写等がなされるようになっており、1つの仮保持ユニット13には、1枚の型Mと1枚の被成型品Wとが設置されるようになっているものとする。   Here, the number of the position adjusting device 5, the transfer device 7, and the release device 9 constituting the transfer system 1 shown in FIG. 1 will be described. Note that the mold M and the molded product W are transferred by, for example, a single sheet in one apparatus, and one temporary holding unit 13 includes one mold M and one sheet. It is assumed that the product to be molded W is installed.

位置調整装置5、転写装置7、離型装置9の台数の比は、転写システム1で型Mに形成されている微細な転写パターンを被成型品Wに転写するときに、各装置5,7,9の待ち時間が最小になるか、もしくは、従来よりも少なくなる値になっている。   The ratio of the number of the position adjusting device 5, the transfer device 7, and the release device 9 is determined when the transfer system 1 transfers the fine transfer pattern formed on the mold M to the molding product W. , 9 has a minimum waiting time, or a value that is less than the conventional waiting time.

たとえば、位置調整装置5において、1枚の型Mと1枚の被成型品Wと1つの仮保持ユニット13を設置し、型Mと被成型品Wとを位置決めし、真空成型室29を形成するのに(図2〜図5参照)、1分程度の時間を要するものとする。   For example, in the position adjusting device 5, one mold M, one molded product W, and one temporary holding unit 13 are installed, the mold M and the molded product W are positioned, and the vacuum molding chamber 29 is formed. It takes about 1 minute to do this (see FIGS. 2 to 5).

また、転写装置7において、1枚の型Mや1枚の被成型品Wを加熱し、型Mで被成型品Wを押圧し、型Mと被成型品Wを冷却するのに(図6〜図8参照)、10分程度の時間を要するものとする。   Further, in the transfer device 7, one mold M and one molded product W are heated, the molded product W is pressed by the mold M, and the mold M and the molded product W are cooled (FIG. 6). (See FIG. 8) It takes about 10 minutes.

また、離型装置9において、1枚の被成型品Wに張り付いている1枚の型Mを、被成型品Wから分離するのに(図9〜図12参照)、1分程度の時間を要するものとする。   Further, in the mold release device 9, it takes about 1 minute to separate one mold M attached to one molded article W from the molded article W (see FIGS. 9 to 12). Is required.

この場合、転写システム1は、1台の位置調整装置5と10台の転写装置7と1台の離型装置9とで構成されている。なお、転写装置7の台数を9台以下の複数台もしくは1台にしてもよい。   In this case, the transfer system 1 includes one position adjusting device 5, ten transfer devices 7, and one release device 9. Note that the number of transfer devices 7 may be a plurality of nine or less or one.

また、複数台の転写装置7のうちの1台の転写装置が押圧機能(転写のために型Mで被成型品Wを押圧する機能)と加熱機能(転写のために型Mや被成型品Wを加熱する機能)を備えており、複数台の転写装置7のうちの他の一部の転写装置(1台でもよいし複数台でもよい。)が、加熱機能のみを備えており、複数台の転写装置7のうちのさらなる他の一部の転写装置(1台でもよいし複数台でもよい。)が、冷却機能(転写のために型や被成型品を冷却する機能)のみを備えている構成であってもよい。   In addition, one of the plurality of transfer devices 7 has a pressing function (a function of pressing the molded product W with the mold M for transfer) and a heating function (the mold M or the molded product for transfer). (A function of heating W), and some of the plurality of transfer devices 7 (one or more) may have only a heating function. Still another part of the transfer devices 7 (one or a plurality of transfer devices) may have only a cooling function (a function of cooling a mold or a molded product for transfer). It may be a configuration.

この場合、位置調整装置5から供給された型Mと被成型品Wと仮保持ユニット13とは、まず、加熱機能のみを有する転写装置7に供給されて加熱され、続いて、押圧機能と加熱機能とを備えた転写装置7に供給されて加熱されつつ押圧され、続いて、冷却機能のみを備えた転写装置7で冷却されるようになっているものとする。   In this case, the mold M, the workpiece W, and the temporary holding unit 13 supplied from the position adjusting device 5 are first supplied to the transfer device 7 having only the heating function and heated, and then the pressing function and heating. It is assumed that it is supplied to a transfer device 7 having a function and pressed while being heated, and subsequently cooled by a transfer device 7 having only a cooling function.

さらに、冷却機能のみを備えた転写装置7が、冷却機能を備えておらず、単なる仮保持ユニット13の載置台で構成されており、強制冷却ではない自然冷却によって、仮保持ユニット13や型Mや被成型品Wを冷却するようになっていてもよい。   Furthermore, the transfer device 7 having only a cooling function is not provided with a cooling function, and is configured by a simple mounting table for the temporary holding unit 13, and the temporary holding unit 13 and the mold M are formed by natural cooling that is not forced cooling. Alternatively, the molded product W may be cooled.

ここで、転写システム1の動作について説明する。   Here, the operation of the transfer system 1 will be described.

転写前被成型品ストッカ3から位置調整装置5(仮保持ユニット13)に被成型品Wを供給すると、位置調整装置5で、被成型品Wの正確な位置に、型Mに形成されている微細な転写パターンを転写すべく、仮保持ユニット13を用いて、型Mと被成型品Wとの相対的な位置の調整がなされる。   When the molded product W is supplied from the pre-transfer molded product stocker 3 to the position adjusting device 5 (temporary holding unit 13), the position adjusting device 5 forms the mold M at an accurate position of the molded product W. In order to transfer a fine transfer pattern, the relative positions of the mold M and the workpiece W are adjusted using the temporary holding unit 13.

続いて、位置調整装置5とは別の場所に設けられた転写装置7を用い、位置調整装置5により、相対的な位置の調整がされた型Mで相対的な位置の調整がされた被成型品Wを押圧して型Mに形成されている微細な転写パターンを被成型品Wに転写する。   Subsequently, the transfer device 7 provided at a location different from the position adjustment device 5 is used, and the position adjustment device 5 adjusts the relative position with the mold M whose relative position has been adjusted. The molded product W is pressed to transfer a fine transfer pattern formed on the mold M onto the molded product W.

続いて、位置調整装置5や転写装置7とは別の場所に設けられた離型装置9を用い、転写がされた後にお互いにくっついている型Mと被成型品Wとを分離する(被成型品Wから型Mを離す)。   Subsequently, a mold release device 9 provided at a location different from the position adjustment device 5 and the transfer device 7 is used to separate the mold M and the molding product W that are adhered to each other after being transferred (the coated product). Separate the mold M from the molded product W).

続いて、転写がされた被成型品Wを転写後被成型品ストッカ11に搬送し、仮保持ユニット13を位置調整装置5に搬送する(戻す)。   Subsequently, the transferred molded product W is transferred to the molded product stocker 11 after transfer, and the temporary holding unit 13 is transferred (returned) to the position adjusting device 5.

転写システム1によれば、転写システム1が、位置調整装置5と転写装置7と離型装置9とに分かれて構成されているので、たとえば、転写装置7で型Mや被成型品Wを冷却している間であっても、位置調整装置5や位置決めユニット55や離型装置9を稼動させることができ、従来よりも効率良く転写をすることができる。   According to the transfer system 1, the transfer system 1 is configured by being divided into the position adjusting device 5, the transfer device 7, and the mold release device 9. For example, the transfer device 7 cools the mold M and the product W to be molded. Even during the operation, the position adjusting device 5, the positioning unit 55, and the release device 9 can be operated, and transfer can be performed more efficiently than in the past.

具体例を掲げて詳しく説明する。従来の転写装置300を用いて1枚の被成型品Wに型Mに形成されている微細な転写パターンを転写する場合、1枚の型Mが設置されている転写装置300に1枚の被成型品Wを設置し、設置された被成型品Wと型Mとの位置決めをするのに、たとえば、1分程度の時間を要するものとする。   This will be described in detail with specific examples. When a fine transfer pattern formed on the mold M is transferred to a single workpiece W using the conventional transfer apparatus 300, one transfer target 300 is placed on the transfer apparatus 300 on which the single mold M is installed. For example, it is assumed that it takes about one minute to install the molded product W and position the installed molding target W and the mold M.

この位置決め後に、型Mや被成型品Wを加熱し、型ベース押圧体308を下降し、型Mで被成型品Wを所定の時間押圧し、この後、型Mと被成型品Wとを冷却して被成型品Wに微細な転写パターンを転写するのに、たとえば、10分程度の時間を要するものとする。   After this positioning, the mold M and the molded product W are heated, the mold base pressing body 308 is lowered, the molded product W is pressed with the mold M for a predetermined time, and then the mold M and the molded product W are moved. For example, it takes about 10 minutes to transfer the fine transfer pattern onto the workpiece W after cooling.

この転写後に、型ベース押圧体308を上昇させて、型Mを被成型品Wから離し、転写がされた被成型品Wを転写装置300から取り外すのに、たとえば、1分程度の時間を要するものとする。   After this transfer, it takes, for example, about 1 minute to raise the mold base pressing body 308 to separate the mold M from the molded product W and to remove the transferred molded product W from the transfer device 300. Shall.

つまり、1枚の被成型品Wに微細な転写パターンを形成するために、12分程度の時間を要してしまうことになる。1分程度の時間で、1枚の被成型品Wに微細な転写パターンを形成するためには、従来の転写装置300を12台用いた転写システムが必要になる。   That is, it takes about 12 minutes to form a fine transfer pattern on one molded product W. In order to form a fine transfer pattern on a single workpiece W in a time of about 1 minute, a transfer system using 12 conventional transfer apparatuses 300 is required.

上記12台の転写装置300のそれぞれでは、たとえば、上記転写のための10分間において、カメラ314や位置決めユニット302等が待機している状態であり、12台の転写装置300で構成されている転写システムでは、被成型品Wへの転写が効率良くなされているとは言えない。   In each of the 12 transfer devices 300, for example, the camera 314, the positioning unit 302, and the like are on standby for 10 minutes for the transfer, and the transfer configured by the 12 transfer devices 300 is performed. In the system, it cannot be said that the transfer to the molded product W is efficiently performed.

これに対して、型Mと被成型品Wとの位置決めに1分点度の時間を要し、転写に10分程度の時間を要し、離型に1分程度の時間を要するとして、転写システム1では、1分程度の時間で1枚の被成型品Wに微細な転写パターンを形成するために、位置調整装置5を1台、転写装置7を10台、離型装置9を1台備えておればよく、さらに、位置調整装置5のカメラ67や位置決めユニット55および離型装置9の待機時間が少なくなっており、従来よりも効率のよい転写を行うことができる。   On the other hand, it takes a time of 1 minute for positioning the mold M and the workpiece W, a time of about 10 minutes for the transfer, and a time of about 1 minute for the mold release. In the system 1, in order to form a fine transfer pattern on one molded product W in about 1 minute, one position adjusting device 5, ten transfer devices 7, and one release device 9 are provided. In addition, the waiting time of the camera 67, the positioning unit 55, and the mold release device 9 of the position adjusting device 5 is reduced, and more efficient transfer than before can be performed.

また、転写システム1では、位置調整装置5には位置調整機能のみを持たせ、転写装置7には加熱機能等を含む転写機能のみを持たせ、離型装置9には、離型機能のみを持たせた構成であるので、すなわち、各機能を分散して設けてあるので、システム全体の構成が簡素化されており、従来よりも安価な転写システムとすることができる。   In the transfer system 1, the position adjusting device 5 has only a position adjusting function, the transfer device 7 has only a transfer function including a heating function, and the release device 9 has only a release function. In other words, since each function is provided in a distributed manner, the overall system configuration is simplified, and a transfer system that is less expensive than the conventional one can be obtained.

また、離型装置9では、被成型品Wから型Mを容易に剥がすための引き剥がし装置99(図16参照)を設けることがある。このように、引き剥がし装置99を設ける場合、従来の転写装置300では、カメラ314等に加えて引き剥がし装置を設けなければならず、カメラ314等に干渉することなく引き剥がし装置を設けることが困難である。さらに、強固に貼り付けている型Mを被成型品Wから離すための複雑な構成の引き剥がし装置を設けることは、一層困難である。   Moreover, in the mold release apparatus 9, the peeling apparatus 99 (refer FIG. 16) for peeling the type | mold M from the to-be-molded product W easily may be provided. As described above, when the peeling device 99 is provided, the conventional transfer device 300 must be provided with a peeling device in addition to the camera 314 and the like, and the peeling device can be provided without interfering with the camera 314 and the like. Have difficulty. Furthermore, it is more difficult to provide a peeling device having a complicated configuration for separating the firmly attached die M from the workpiece W.

これに対して、転写システム1では、位置調整装置5と別個に構成されている離型装置9に引き剥がし装置99を設ければよいので、引き剥がし装置99の設置が容易になる。また、引き剥がし装置99の構成を複雑にしても、引き剥がし装置99を容易に設置することができる。   On the other hand, in the transfer system 1, it is only necessary to provide the peeling device 99 in the release device 9 that is configured separately from the position adjusting device 5, so that the peeling device 99 can be easily installed. Even if the configuration of the peeling device 99 is complicated, the peeling device 99 can be easily installed.

また、前述したように、ベローズ27等を備えた仮保持ユニット13を使用することにより、転写装置7による転写が、真空成型室29内でなされるように構成されており、また、位置調整装置5で位置決めがされた型Mと位置調整装置5で位置決めがされた被成型品Wとは、これらの相対的な位置が真空成型室29で保持されて転写装置7に供給されるように構成されている。   Further, as described above, the temporary holding unit 13 including the bellows 27 and the like is used, so that the transfer by the transfer device 7 is performed in the vacuum forming chamber 29, and the position adjusting device. The mold M positioned at 5 and the molding target W positioned by the position adjusting device 5 are configured such that their relative positions are held in the vacuum molding chamber 29 and supplied to the transfer device 7. Has been.

これにより、転写をする際に被成型品Wに微細な気泡が発生することを防止することができると共に、位置決めがされた型Mと位置決めがされた被成型品Wとの位置関係を、別途の装置や機構や器具を設けることなく、維持することができる。   Thereby, it is possible to prevent generation of fine bubbles in the molded product W during the transfer, and the positional relationship between the positioned mold M and the positioned molded product W is separately It can maintain without providing the apparatus, mechanism, and instrument.

ところで、ベローズ27(真空成型室29)に代えてもしくは加えて、位置決めがされた型Mと位置決めがされた被成型品Wとの位置関係を維持する維持装置105を設けてもよい。   Incidentally, instead of or in addition to the bellows 27 (vacuum molding chamber 29), a maintenance device 105 may be provided for maintaining the positional relationship between the positioned mold M and the positioned molding target W.

ここで、維持装置105について図26を用いて詳しく説明する。   Here, the maintenance device 105 will be described in detail with reference to FIG.

図26は、ベローズ27(真空成型室29)の代わりに、維持装置105を用いて、型Mと被成型品Wとの位置関係を維持する仮保持ユニット13aの構成を示す図である。図26(a)は、型ベース21やから維持装置105が離れている状態を示す図であり、図26(b)は、被成型品ベース23に維持装置105が設置されて、型M(型ベース21)と被成型品W(被成型品ベース23)との位置関係が保持(維持)されている状態を示す図であり、図26(c)は、図26(b)におけるXXVIの部分矢視図である。   FIG. 26 is a diagram showing the configuration of the temporary holding unit 13a that maintains the positional relationship between the mold M and the product W by using the maintenance device 105 instead of the bellows 27 (vacuum molding chamber 29). FIG. 26A is a diagram showing a state in which the maintenance device 105 is separated from the mold base 21 and the like, and FIG. 26B is a diagram showing the mold M ( FIG. 26C is a diagram showing a state in which the positional relationship between the mold base 21) and the molded product W (molded product base 23) is maintained (maintained), and FIG. 26C is a view of XXVI in FIG. It is a partial arrow view.

仮保持ユニット13aでは、段差113を備えた切り欠きで構成された被係合部107が、型ベース21と被成型品ベース23とに設けられている。また、仮保持ユニット13aは、たとえば、単動の空気圧シリンダ111と、空気圧シリンダ111のヘッド(シリンダの先端)に細長い棒状の部材を介して設けられた鍔状の係合部109Aと、空気圧シリンダ111のロッド(ピストンロッド)の先端部に設けられた鍔状の係合部109Bとを備えて構成されている。   In the temporary holding unit 13 a, an engaged portion 107 configured by a notch provided with a step 113 is provided in the mold base 21 and the molded product base 23. The temporary holding unit 13a includes, for example, a single-acting pneumatic cylinder 111, a hook-like engagement portion 109A provided on a head (cylinder tip) of the pneumatic cylinder 111 via an elongated rod-like member, a pneumatic cylinder 111 and a rod-shaped engagement portion 109B provided at the tip of a rod (piston rod).

空気圧シリンダ111に圧縮空気が供給されている状態では、各係合部109A,109B間の距離L2が、各被係合部107における各段差113A,113B間の距離L1よりも大きくなっている。一方、空気圧シリンダ111に圧縮空気が供給されておらず空気圧シリンダ111のシリンダ室内が大気圧になっている状態では、各係合部109A,109B間の距離L2が、各被係合部107における各段差113A,113B間の距離L1よりも小さくなるようになっている。   In a state where compressed air is supplied to the pneumatic cylinder 111, the distance L2 between the engaging portions 109A and 109B is larger than the distance L1 between the steps 113A and 113B in the engaged portions 107. On the other hand, in a state in which compressed air is not supplied to the pneumatic cylinder 111 and the cylinder chamber of the pneumatic cylinder 111 is at atmospheric pressure, the distance L2 between the engaging portions 109A and 109B is The distance between the steps 113A and 113B is smaller than the distance L1.

したがって、図26(a)で示す状態で維持装置105を型ベース21や被成型品ベース23に適宜設置し、空気圧シリンダ111への圧縮空気の供給を停止すると、単動空気圧シリンダ111のバネにより、図26(b)で示すように各係合部109A、109Bが各段差113A,113Bに当接し、型ベース21と被成型品ベース23とがお互いに近づく方向の力を受けて、型ベース21(型M)と被成型品ベース23(被成型品W)とが一体化されるようになっている。   Therefore, when the maintenance device 105 is appropriately installed on the mold base 21 or the molded product base 23 in the state shown in FIG. 26A and the supply of compressed air to the pneumatic cylinder 111 is stopped, the spring of the single acting pneumatic cylinder 111 As shown in FIG. 26 (b), the engaging portions 109A and 109B come into contact with the respective steps 113A and 113B, and the die base 21 and the base 23 to be molded receive a force in a direction approaching each other. 21 (type M) and the molded product base 23 (molded product W) are integrated.

なお、被係合部107は、型ベース21や被成型品ベース23周辺の複数個所に設けられており、これらの被係合部107のそれぞれに、維持装置105が設置されるようになっている。   The engaged portions 107 are provided at a plurality of locations around the mold base 21 and the molded product base 23, and the maintenance device 105 is installed in each of the engaged portions 107. Yes.

ここで、UVインプリント法による転写等について説明する。   Here, transfer and the like by the UV imprint method will be described.

図17〜図20は、UVインプリント法で使用される仮保持ユニット13等を、位置調整装置5で使用する場合を示す図であり、図2〜図5に対応した図である。図21〜図23は、UVインプリント法で使用される仮保持ユニット13等を、転写装置7aで使用する場合を示す図であり、図6〜図9に対応した図である。また、図24、図25は、UVインプリント法で使用される仮保持ユニット13等を、離型装置9で使用する場合を示す図であり、図9、図12に対応した図である。   17-20 is a figure which shows the case where the temporary holding unit 13 grade | etc., Used with UV imprint method is used with the position adjustment apparatus 5, and is a figure corresponding to FIGS. 21 to 23 are diagrams showing a case where the temporary holding unit 13 or the like used in the UV imprint method is used in the transfer device 7a, and corresponds to FIGS. FIGS. 24 and 25 are diagrams showing a case where the temporary holding unit 13 or the like used in the UV imprint method is used in the mold release device 9 and corresponds to FIGS. 9 and 12.

UVインプリント法の被成型品Wは、たとえばガラスやシリコン等の材料で構成されている平板状の基材W1の厚さ方向の一方の面(上面)に、紫外線硬化樹脂W2の薄膜を設けて構成されている。そして、硬化前の紫外線硬化樹脂W2を型(紫外線を透過する石英等で構成された型)Mで図22で示すように押圧し、紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂W2を硬化させて、型Mに形成されている微細な転写パターンを被成型品Wに転写するようになっている。   The molded product W of the UV imprint method is provided with a thin film of an ultraviolet curable resin W2 on one surface (upper surface) in the thickness direction of a flat substrate W1 made of a material such as glass or silicon. Configured. Then, the uncured ultraviolet curable resin W2 is pressed with a mold (mold composed of quartz or the like that transmits ultraviolet rays) as shown in FIG. 22, irradiated with ultraviolet rays, and the ultraviolet curable resin W2 is cured to mold the mold. The fine transfer pattern formed on M is transferred to the product W.

UVインプリント法で使用される位置調整装置5は、硬化前の紫外線硬化樹脂W2を基材W1の上面に設けるための紫外線硬化樹脂設置装置(図示せず)が設けられている点が、熱インプリント法で使用される位置調整装置と異なり、その他の点は、熱インプリント法で使用される位置調整装置とほぼ同様に構成されている。なお、紫外線硬化樹脂設置装置を削除して、手動で紫外線硬化樹脂W2を設けるようにしてもよい。   The position adjustment device 5 used in the UV imprint method is provided with an ultraviolet curable resin installation device (not shown) for providing the ultraviolet curable resin W2 before curing on the upper surface of the substrate W1. Unlike the position adjusting device used in the imprint method, the other points are substantially the same as the position adjusting device used in the thermal imprint method. Note that the ultraviolet curable resin installation device may be omitted and the ultraviolet curable resin W2 may be manually provided.

また、UVインプリント法で使用される仮保持ユニット13は、たとえば、型ベース21の少なくとも一部が、紫外線を透過する部材(たとえば石英ガラス)115で構成されている点が、熱インプリント法で使用される仮保持ユニットとは異なる。   The temporary holding unit 13 used in the UV imprinting method is, for example, that at least a part of the mold base 21 is composed of a member (for example, quartz glass) 115 that transmits ultraviolet rays. This is different from the temporary holding unit used in

また、UVインプリント法で使用される転写装置7aは、型ベース押圧体75aに紫外線を透過する貫通孔75bと紫外線発生装置117が設けられており、しかも、加熱手段79,83や冷却手段81,85が削除されている点が、熱インプリント法で使用される転写装置7とは異なり、その他の点は、熱インプリント法で使用される転写装置7とほぼ同様に構成されている。   Further, the transfer device 7a used in the UV imprint method is provided with a through hole 75b that transmits ultraviolet rays and an ultraviolet ray generator 117 in the mold base pressing body 75a, and furthermore, heating means 79, 83 and cooling means 81. , 85 is different from the transfer device 7 used in the thermal imprint method, and the other points are configured in substantially the same manner as the transfer device 7 used in the thermal imprint method.

なお、紫外線を照射した後、被成型品Wを加熱したり冷却したりする場合もあるので、UVインプリント法で使用される転写装置7aに、加熱手段79,83や冷却手段81,85が設けられていてもよい。   In addition, since the molded article W may be heated or cooled after being irradiated with ultraviolet rays, the transfer device 7a used in the UV imprint method includes heating means 79 and 83 and cooling means 81 and 85. It may be provided.

UVインプリント法で使用される離型装置9は、熱インプリント法で使用される離型装置とほぼ同様に構成されている。   The mold release device 9 used in the UV imprint method is configured in substantially the same manner as the mold release device used in the thermal imprint method.

なお、UVインプリント法では、一般的に、転写後に型Mと被成型品Wとがより強固にくっついているので、転写後に型Mを被成型品Wから離す操作が熱インプリント法の場合よりも難しいが、UVインプリント法で使用される離型装置9であっても、カメラ等が設けられていないので、複雑な構成の引き剥がし装置を設置することが容易になる。   In the UV imprint method, generally, the mold M and the molded product W are more firmly attached after transfer, and therefore the operation of separating the mold M from the molded product W after transfer is the case of the thermal imprint method. Although it is more difficult, since even the release device 9 used in the UV imprint method is not provided with a camera or the like, it is easy to install a peeling device having a complicated configuration.

[第2の実施形態]
図13は、本発明の第2の実施形態に係る転写システム1aの概略構成を示す平面図である。
[Second Embodiment]
FIG. 13 is a plan view showing a schematic configuration of a transfer system 1a according to the second embodiment of the present invention.

転写システム1aは、第1の転写システム1で使用されている位置調整装置5と離型装置9とが共用されている点を除いては、第1の転写システム1とほぼ同様に構成されている。   The transfer system 1a is configured in substantially the same manner as the first transfer system 1 except that the position adjusting device 5 and the release device 9 used in the first transfer system 1 are shared. Yes.

すなわち、第1の実施形態に係る転写システム1で使用されている位置調整装置5と、第1の実施形態に係る転写システム1で使用されている離型装置9とは、お互いの構成が近似している。このことに着目して、第2の実施形態に係る転写システム1aでは、位置調整装置5と離型装置9とに代えて、位置調整装置5と離型装置9との機能を備えた(位置調整装置5と離型装置9とが合体されている)位置調整・離型装置119が配置されている。   That is, the configuration of the position adjusting device 5 used in the transfer system 1 according to the first embodiment and the release device 9 used in the transfer system 1 according to the first embodiment are similar to each other. is doing. Focusing on this, the transfer system 1a according to the second embodiment has functions of the position adjusting device 5 and the release device 9 instead of the position adjusting device 5 and the release device 9 (position). A position adjusting / releasing device 119 (in which the adjusting device 5 and the releasing device 9 are combined) is arranged.

転写システム1aでは、位置調整装置と離型装置とが共用してあるので、図1に示す態様に比べて、位置調整装置もしくは離型装置のいずれかがほぼ不要となり、システムの構成を簡素化することができると共に、転写装置7の台数を図1に示す態様に比べて少なくし、システム全体の規模を小さくすることができる。   In the transfer system 1a, since the position adjusting device and the release device are shared, either the position adjusting device or the release device is almost unnecessary compared to the mode shown in FIG. 1, and the system configuration is simplified. In addition, the number of transfer devices 7 can be reduced as compared with the embodiment shown in FIG. 1, and the scale of the entire system can be reduced.

[第3の実施形態]
図27は、本発明の第3の実施形態に係る転写システム1bの概略構成を示す平面図である。
[Third Embodiment]
FIG. 27 is a plan view showing a schematic configuration of a transfer system 1b according to the third embodiment of the present invention.

転写システム1bは、第1の転写システム1で使用されている位置調整装置5と転写装置7とが共用されている点を除いては、第1の転写システム1とほぼ同様に構成されている。   The transfer system 1b is configured in substantially the same manner as the first transfer system 1 except that the position adjusting device 5 and the transfer device 7 used in the first transfer system 1 are shared. .

すなわち、第3の実施形態に係る転写システム1bでは、位置調整装置5と転写装置7とに代えて、位置調整5と転写装置7との機能を備えた(位置調整装置5と転写装置7とが合体されている)位置調整・転写装置121が配置されている。   That is, in the transfer system 1b according to the third embodiment, instead of the position adjustment device 5 and the transfer device 7, functions of the position adjustment 5 and the transfer device 7 are provided (the position adjustment device 5 and the transfer device 7). The position adjustment / transfer device 121 is arranged.

さらに、転写の態様(種類)によっては、位置調整装置(型Mと被成型品Wとの精密な位置調整)が不要な場合もある。この場合には、位置調整装置を削除してもよい。   Further, depending on the transfer mode (type), a position adjusting device (precise position adjustment between the mold M and the workpiece W) may be unnecessary. In this case, the position adjusting device may be deleted.

1、1a、1b 転写システム
5 位置調整装置
7、7a 転写装置
9 離型装置
29 真空成型室
M 型
W 被成型品
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a, 1b Transfer system 5 Position adjusting device 7, 7a Transfer device 9 Mold release device 29 Vacuum molding chamber M type W Molded product

Claims (6)

被成型品の正確な位置に、型に形成されている微細な転写パターンを転写すべく、前記型と前記被成型品との相対的な位置の調整を行う位置調整装置と、
前記位置調整装置とは別個に設けられ、前記相対的な位置の調整がされた型で前記相対的な位置の調整がされた被成型品を押圧して前記型に形成されている微細な転写パターンを前記被成型品に転写する転写装置と、
前記転写装置とは別個に設けられ、前記転写装置を用いた転写がされた後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型装置と、
を有することを特徴とする転写システム。
A position adjusting device for adjusting a relative position between the mold and the molding product in order to transfer a fine transfer pattern formed on the mold to an accurate position of the molding product;
A fine transfer that is provided separately from the position adjusting device, and is formed on the mold by pressing the molded article whose relative position is adjusted with the mold whose relative position is adjusted. A transfer device for transferring a pattern to the molded product;
A mold release device that is provided separately from the transfer device and separates the mold and the molded product that are attached to each other after being transferred using the transfer device;
A transfer system comprising:
請求項1に記載の転写システムにおいて、
前記位置調整装置と前記離型装置とが共用されていることを特徴とする転写システム。
The transfer system according to claim 1.
The transfer system, wherein the position adjusting device and the release device are shared.
請求項1または請求項2に記載の転写システムにおいて、
前記転写装置による転写は、真空成型室内でなされるように構成されており、
前記位置調整装置で位置決めがされた型と前記位置調整装置で位置決めがされた被成型品とが、これらの相対的な位置が前記真空成型室で保持されて前記転写装置に供給されるように構成されていることを特徴とする転写システム。
The transfer system according to claim 1 or 2,
Transfer by the transfer device is configured to be performed in a vacuum molding chamber,
The mold positioned by the position adjusting device and the molding object positioned by the position adjusting device are held in the vacuum forming chamber and supplied to the transfer device. A transfer system characterized by being configured.
型に形成されている微細な転写パターンを、前記型で被成型品を押圧して前記被成型品に転写する転写装置と、
前記転写装置とは別個に設けられ、前記転写装置を用いた転写後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型装置と、
を有することを特徴とする転写システム。
A transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on the mold to the molded article by pressing the molded article with the mold;
A mold release device that is provided separately from the transfer device, and that separates the mold and the molded product that are attached to each other after transfer using the transfer device;
A transfer system comprising:
請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の転写システムを用いてなされることを特徴とする転写方法。   A transfer method comprising the transfer system according to any one of claims 1 to 4. 被成型品の正確な位置に、型に形成されている微細な転写パターンを転写すべく、前記型と前記被成型品との相対的な位置の調整を行う位置調整工程と、
前記位置調整工程とは別の場所で、前記位置調整工程により前記相対的な位置の調整がされた型で前記位置調整工程により前記相対的な位置の調整がされた被成型品を押圧して前記型に形成されている微細な転写パターンを前記被成型品に転写する転写工程と、
前記転写工程とは別の場所で、前記転写工程により転写がされた後にお互いにくっついている前記型と前記被成型品とを分離する離型工程と、
を有することを特徴とする転写方法。
A position adjusting step for adjusting a relative position between the mold and the molded product in order to transfer a fine transfer pattern formed on the mold to an accurate position of the molded product;
At a place different from the position adjusting step, the mold whose relative position has been adjusted by the position adjusting step is pressed on the molded product whose relative position has been adjusted by the position adjusting step. A transfer step of transferring a fine transfer pattern formed on the mold to the molded product;
A mold release step for separating the mold and the article to be molded, which are attached to each other after being transferred by the transfer step at a place different from the transfer step,
A transfer method characterized by comprising:
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