JP2011150502A - Capacitance type input device and electronic equipment equipped with the same - Google Patents

Capacitance type input device and electronic equipment equipped with the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a capacitance type input device wherein the degree of freedom of the selection of the materials of an electrode is increased and the light transparency is secured, and electronic equipment including the same. <P>SOLUTION: This capacitance type input device of an embodiment 1 includes: a base board (1) having light transparency; and first electrodes (10a to 10c) and second electrodes (20a to 20d) formed at the back face side of the base board (1), and respectively extended to Y and X directions crossing each other. The first electrode (10a) includes an opening (10a5). <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、静電容量型入力装置及びそれを備えた電子機器に関する。   The present invention relates to a capacitive input device and an electronic apparatus including the same.

特許文献1には、静電容量型の入力装置が開示されている。静電容量型の入力装置は、平面内における第1及び第2方向にそれぞれ延びた第1及び第2電極を採用している。第1及び第2電極の背面側には、第1及び第2電極の背面側から正面側に光を照射する発光手段を採用したものがある。発光手段としては、例えば、LEDや有機EL、発光すると共に映像を表示可能なディスプレイなどがある。   Patent Document 1 discloses a capacitance type input device. The capacitance type input device employs first and second electrodes extending in first and second directions in a plane, respectively. Some of the back sides of the first and second electrodes employ light emitting means for irradiating light from the back side of the first and second electrodes to the front side. Examples of the light emitting means include an LED, an organic EL, and a display that can emit light and display an image.

特開2009−123106号公報JP 2009-123106 A

一般的に、操作の検出精度を考慮して、第1及び第2電極はユーザの指が接触する操作領域の全面を覆うように形成される。また、第1及び第2電極が操作領域の全面を覆うことに伴い、発光手段からの光が第1及び第2電極に妨げられるおそれがある。この点を考慮して、第1及び第2電極としては透明な電極が採用されている。   In general, in consideration of operation detection accuracy, the first and second electrodes are formed so as to cover the entire operation region in contact with the user's finger. Further, as the first and second electrodes cover the entire surface of the operation region, the light from the light emitting means may be hindered by the first and second electrodes. Considering this point, transparent electrodes are employed as the first and second electrodes.

このように、従来の静電容量型の入力装置においては、第1及び第2電極としては透明な電極を採用することが前提となっている。発光手段からの光の透過性を考慮して第1及び第2電極として透明な電極を採用する場合、第1及び第2電極の材料の選択が制限される。即ち、コストや抵抗値等の特性を考慮して広範囲の材料の中から、電極に適した材料を選択することが困難であった。   Thus, in the conventional capacitance-type input device, it is assumed that transparent electrodes are employed as the first and second electrodes. When transparent electrodes are employed as the first and second electrodes in consideration of light transmission from the light emitting means, selection of materials for the first and second electrodes is limited. That is, it is difficult to select a material suitable for the electrode from a wide range of materials in consideration of characteristics such as cost and resistance value.

そこで本発明は、電極の材料の選択の自由度が向上し光透過性を確保した静電容量型入力装置及びそれを備えた電子機器を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a capacitance-type input device that improves the degree of freedom of selection of electrode materials and secures light transmittance, and an electronic apparatus including the same.

上記目的は、光透過性を有したベース板と、前記ベース板に対して一方側に形成され、互いに交差する第1及び第2方向にそれぞれ延びた第1及び第2電極と、を備え、前記第1電極は、開口部を含む、静電容量型入力装置によって達成できる。   The object includes a light-transmitting base plate, and first and second electrodes formed on one side of the base plate and extending in first and second directions intersecting each other, The first electrode can be achieved by a capacitive input device including an opening.

これにより、第1及び第2電極に透明以外の電極を採用した場合であっても、開口部では、第1及び第2電極の背面側から正面側に向かって光が透過する。これにより、電極の材料の選択の自由度が向上し、製造コストの低い印刷工法によって生産可能な、光透過性を確保した静電容量型入力装置を提供できる。   Thereby, even if it is a case where electrodes other than a transparency are employ | adopted as a 1st and 2nd electrode, in the opening part, light permeate | transmits toward the front side from the back side of a 1st and 2nd electrode. Thereby, the freedom degree of selection of the material of an electrode improves, and the electrostatic capacitance type input device which ensured the light transmittance which can be produced by the printing method with low manufacturing cost can be provided.

また、上記目的は、光透過性を有したベース板と、前記ベース板に対して一方側に形成され、互いに交差する第1及び第2方向にそれぞれ延びた第1及び第2電極と、基材部、前記基材部と光透過率が相違し模様が施された指標部、を有した装飾層と、を備え、前記第1及び第2電極は、前記ベース板の正面から見て前記指標部から退避している、静電容量型入力装置によって達成できる。   Further, the object is to provide a base plate having optical transparency, first and second electrodes formed on one side of the base plate and extending in first and second directions intersecting each other, and a base plate, A decorative layer having a material part and an indicator part having a light transmittance and a pattern different from that of the base part, and the first and second electrodes are seen from the front of the base plate. This can be achieved by a capacitive input device that is retracted from the indicator section.

これにより、第1及び第2電極に透明以外の電極を採用した場合であっても、指標部においては、第1及び第2電極の背面側から正面側に向かって光が透過する。これにより、電極の材料の選択の自由度が向上し光透過性を確保した静電容量型入力装置を提供できる。   Thereby, even if it is a case where electrodes other than a transparency are employ | adopted as a 1st and 2nd electrode, in an indicator part, light permeate | transmits toward the front side from the back side of a 1st and 2nd electrode. As a result, it is possible to provide a capacitance type input device in which the degree of freedom in selecting the electrode material is improved and the light transmission is ensured.

上記目的は、上記の静電容量型入力装置を備えた電子機器によっても達成できる。   The above object can also be achieved by an electronic apparatus equipped with the above capacitance type input device.

本発明によれば、電極の材料の選択の自由度が向上し光透過性を確保した静電容量型入力装置及びそれを備えた電子機器を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the freedom degree of selection of the material of an electrode improves and the electrostatic capacitance type input device which ensured the light transmittance and electronic device provided with the same can be provided.

図1は、実施例1の静電容量型入力装置を正面から見た透視図である。FIG. 1 is a perspective view of the capacitive input device according to the first embodiment when viewed from the front. 図2は、指標部周辺の拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view around the indicator portion. 図3A、3Bは、実施例1の静電容量型入力装置の断面図である。3A and 3B are cross-sectional views of the capacitive input device according to the first embodiment. 図4は、従来の静電容量型入力装置に採用される電極の形状の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of the shape of an electrode employed in a conventional capacitive input device. 図5A、5Bは、実施例1の静電容量型入力装置の製造方法の説明図である。5A and 5B are explanatory diagrams of the method for manufacturing the capacitive input device according to the first embodiment. 図6A、6Bは、実施例1の静電容量型入力装置の製造方法の説明図である。6A and 6B are explanatory diagrams of a method for manufacturing the capacitance-type input device according to the first embodiment. 図7A、7Bは、実施例1の静電容量型入力装置の製造方法の説明図である。7A and 7B are explanatory diagrams of a method for manufacturing the capacitance-type input device according to the first embodiment. 実施例2の静電容量型入力装置における指標部周辺の拡大図である。FIG. 10 is an enlarged view of the vicinity of an index unit in the capacitive input device according to the second embodiment. 図9A、9Bは、実施例2の静電容量型入力装置の断面図である。9A and 9B are cross-sectional views of the capacitive input device according to the second embodiment. 図10は、実施例3の静電容量型入力装置における指標部周辺の拡大図である。FIG. 10 is an enlarged view of the vicinity of the index unit in the capacitive input device according to the third embodiment. 図11は、実施例3の静電容量型入力装置の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of the capacitive input device according to the third embodiment. 図12は、実施例4の静電容量型入力装置の断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view of the capacitive input device according to the fourth embodiment. 図13は、実施例5の静電容量型入力装置の断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view of the capacitive input device according to the fifth embodiment.

以下、図面を参照して複数の実施例を説明する。   Hereinafter, a plurality of embodiments will be described with reference to the drawings.

図1は、実施例1の静電容量型入力装置を正面から見た透視図である。静電容量型入力装置は、薄いシート状である。図1に示すように、静電容量型入力装置は、ベース板1、装飾層3、導電層5、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20c、レジスト30、連結電極40、透明電極層51、背面電極層57を含む。第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20cは、詳しくは後述するがベース板1の背面側に形成されている。図1において、静電容量型入力装置の構成の一部を省略してある。   FIG. 1 is a perspective view of the capacitive input device according to the first embodiment when viewed from the front. The capacitance type input device is a thin sheet. As shown in FIG. 1, the capacitive input device includes a base plate 1, a decoration layer 3, a conductive layer 5, first electrodes 10 a to 10 c, second electrodes 20 a to 20 c, a resist 30, a connection electrode 40, and a transparent electrode. Layer 51 and back electrode layer 57 are included. The first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20c are formed on the back side of the base plate 1 as will be described in detail later. In FIG. 1, a part of the configuration of the capacitive input device is omitted.

第1電極10a〜10cのそれぞれは、静電容量型入力装置の平面内において第1方向、即ちY方向に延びている。第1電極10a〜10cは、ユーザの操作位置のX方向の位置を検出するためのものである。第2電極20a〜20dのそれぞれは、静電容量型入力装置の平面内において、第2方向、即ちX方向に延びている。第2電極20a〜20dは、ユーザの操作位置のY方向の位置を検出するためのものである。尚、第1電極10aが延びた第1方向と、第2電極20aが延びた第2方向とは互いに交差していれば直交していなくてもよい。   Each of the first electrodes 10a to 10c extends in the first direction, that is, the Y direction, in the plane of the capacitive input device. The first electrodes 10a to 10c are for detecting the position in the X direction of the user's operation position. Each of the second electrodes 20a to 20d extends in the second direction, that is, the X direction, in the plane of the capacitive input device. The second electrodes 20a to 20d are for detecting the position in the Y direction of the user's operation position. The first direction in which the first electrode 10a extends and the second direction in which the second electrode 20a extends may not be orthogonal as long as they intersect each other.

第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dは、それぞれ分離している。第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dは、導電性を有し光透過性を有しない材料によって形成され、有色である。尚、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dは、ITO(Indium Tin Oxide)等の光透過性の高い材料によって形成されていてもよい。   The first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d are separated from each other. The first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d are formed of a conductive material that does not have optical transparency and are colored. The first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d may be made of a material having high light transmittance such as ITO (Indium Tin Oxide).

装飾層3は、基材部、基材部の複数の所定箇所に模様が施された指標部3aが形成されている。指標部3aは、ユーザに、検出可能な位置を視認させる機能を有している。図1に例示した静電容量型入力装置においては、指標部3aに数字、記号が記載された例を示している。指標部3aは、数字、記号以外の文字や、図柄であってもよい。また、一つの指標部3aは、数字、記号、文字、及び図柄のうち少なくとも2つを組み合わせたものであってもよい。第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dは、指標部3aと重ならないように指標部3aから退避している。   The decoration layer 3 is formed with a base portion and an indicator portion 3a in which a pattern is formed at a plurality of predetermined locations of the base portion. The indicator unit 3a has a function of allowing the user to visually recognize a detectable position. In the capacitance-type input device illustrated in FIG. 1, an example in which numerals and symbols are described in the indicator portion 3a is shown. The indicator part 3a may be a character other than numerals and symbols, or a design. In addition, one index part 3a may be a combination of at least two of numbers, symbols, characters, and designs. The first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d are retracted from the indicator portion 3a so as not to overlap the indicator portion 3a.

ベース板1の正面から見て、複数の導電層5は、それぞれ複数の指標部3aに重なるように設けられている。導電層5は、それぞれ略円形状であるが、このような形状に限定されない。複数の導電層5は、互いに分離している。   When viewed from the front of the base plate 1, the plurality of conductive layers 5 are provided so as to overlap the plurality of indicator portions 3 a, respectively. Each of the conductive layers 5 has a substantially circular shape, but is not limited to such a shape. The plurality of conductive layers 5 are separated from each other.

指標部3a周辺の構造について説明する。
図2は、指標部3a周辺の拡大図である。第1電極10aは、Y方向に延びた直線状の主経路部11a1、11a2、主経路部11a1から分岐して再び主経路部11a2と連続した分岐路部12a、13aを有している。分岐路部12a、13aは、指標部3aを囲っている。分岐路部12a、13aは、全体で略円形状である。
The structure around the indicator portion 3a will be described.
FIG. 2 is an enlarged view around the indicator portion 3a. The first electrode 10a has linear main path portions 11a1 and 11a2 extending in the Y direction, and branch path portions 12a and 13a branched from the main path portion 11a1 and continuing to the main path portion 11a2. The branch path parts 12a and 13a surround the indicator part 3a. The branch path parts 12a and 13a are substantially circular as a whole.

分岐路部12a、13aは、全体で略多角形状であってもよい。分岐路部12a、13aの少なくとも一つが直線状であってもよい。分岐路部12a、13aは、指標部3a周囲を包囲しているが、一部分が破断していても、分岐路部12a、13aの少なくとも一方が再び主経路部11a2に連続すればよい。   The branch path portions 12a and 13a may be substantially polygonal as a whole. At least one of the branch path portions 12a and 13a may be linear. The branch path portions 12a and 13a surround the indicator portion 3a. However, even if a portion of the branch path portions 12a and 13a is broken, at least one of the branch path portions 12a and 13a may be continuous with the main path portion 11a2.

分岐路部12a、13aは、開口部10a5を画定する。即ち、第1電極10aは、開口部10a5を有している。開口部10a5内に指標部3aが位置している。開口部10a5は、略円形状であるがこれに限定されず例えば多角形状であってもよい。   The branch path portions 12a and 13a define an opening 10a5. That is, the first electrode 10a has an opening 10a5. The indicator portion 3a is located in the opening 10a5. The opening 10a5 has a substantially circular shape, but is not limited thereto, and may be, for example, a polygonal shape.

第2電極20bは、X方向に延びた直線状の主経路部21b1、21b2、主経路部21b1から分岐した22b1、23b1、主経路部21b2から分岐した分岐路部22b2、23b2を有している。後述するように、分岐路部23b1、23b2は、連結電極40を介して接続され、主経路部21b1と主経路部21b2とが連続したものとなっている。分岐路部22b1の終端は主経路部11a2と対向し、分岐路部23b1の終端は主経路部11a1と対向している。分岐路部22b2、23b2は、主経路部21b2から分岐している。分岐路部22b2の終端は主経路部11a2と対向している。分岐路部23b2の終端は主経路部11a1と対向している。分岐路部23b1の終端と分岐路部23b2の終端とは、連結電極40を介して導通している。   The second electrode 20b has linear main path portions 21b1, 21b2 extending in the X direction, 22b1, 23b1 branched from the main path portion 21b1, and branched path portions 22b2, 23b2 branched from the main path portion 21b2. . As will be described later, the branch path parts 23b1 and 23b2 are connected via the connecting electrode 40, and the main path part 21b1 and the main path part 21b2 are continuous. The end of the branch path part 22b1 faces the main path part 11a2, and the end of the branch path part 23b1 faces the main path part 11a1. The branch path parts 22b2 and 23b2 branch from the main path part 21b2. The end of the branch path part 22b2 faces the main path part 11a2. The end of the branch path part 23b2 faces the main path part 11a1. The terminal end of the branch path part 23b1 and the terminal end of the branch path part 23b2 are electrically connected via the connection electrode 40.

分岐路部22b1、23b1は、分岐路部12aに沿うように分岐路部12aの外側に形成され、円弧状である。分岐路部22b2、23b2も同様に、分岐路部13aに沿うように分岐路部13aの外側に形成され、円弧状である。分岐路部22b1、22b2、23b1、23b2全体で略円形状となる。第2電極20bは、ベース板1の正面から見て第1電極10aの外側に形成されている。   The branch path portions 22b1 and 23b1 are formed outside the branch path portion 12a along the branch path portion 12a and have an arc shape. Similarly, the branch path portions 22b2 and 23b2 are formed outside the branch path portion 13a along the branch path portion 13a and have an arc shape. The entire branch path portions 22b1, 22b2, 23b1, 23b2 are substantially circular. The second electrode 20b is formed outside the first electrode 10a when viewed from the front of the base plate 1.

分岐路部22b1、22b2、23b1、23b2は、全体で略多角形状であってもよい。分岐路部22b1、22b2、23b1、23b2の少なくとも一つが直線状であってもよい。   The branch path portions 22b1, 22b2, 23b1, 23b2 may be substantially polygonal as a whole. At least one of the branch path portions 22b1, 22b2, 23b1, 23b2 may be linear.

分岐路部22b1、22b2、23b1、23b2は、開口部20b5を画定する。即ち、第2電極20bは、開口部20b5を有している。開口部20b5内に、分岐路部12a、13a、指標部3aが位置している。開口部20b5は、略円形状であるがこれに限定されず例えば多角形状であってもよい。   The branch path portions 22b1, 22b2, 23b1, and 23b2 define an opening 20b5. That is, the second electrode 20b has an opening 20b5. In the opening 20b5, the branch path portions 12a and 13a and the indicator portion 3a are located. The opening 20b5 has a substantially circular shape, but is not limited thereto, and may be, for example, a polygonal shape.

導電層5は、指標部3a周囲に設けられた分岐路部12a、13a、22b1、22b2、23b1、23b2の形状に対応させるために略円形状に形成されている。導電層5は、ベース板1の正面から見て、指標部3a、分岐路部12a、13a、22b1、22b2、23b1、23b2に重なっている。導電層5は、光透過性の高い材料により形成されており、透明である。尚、隣接する導電層5同士は接触していない。   The conductive layer 5 is formed in a substantially circular shape so as to correspond to the shape of the branch path portions 12a, 13a, 22b1, 22b2, 23b1, 23b2 provided around the indicator portion 3a. The conductive layer 5 overlaps the indicator portion 3a and the branch path portions 12a, 13a, 22b1, 22b2, 23b1, and 23b2 when viewed from the front of the base plate 1. The conductive layer 5 is made of a material having a high light transmittance and is transparent. Note that adjacent conductive layers 5 are not in contact with each other.

図3A、3Bは、実施例1の静電容量型入力装置の断面図である。図3Aは、図2のA−A断面図、図3Bは、図2のB−B断面図である。図3Aに示すように、ベース板1の上面はユーザの指Fと接触する。静電容量型入力装置は、図3Aの上側から下側に順に、ベース板1、装飾層3、導電層5、絶縁層7、絶縁層50、透明電極層51、発光層53、誘電体層55、背面電極層57、保護層59が形成されている。絶縁層7の表面に、主経路部11a1、23b1、23b2、レジスト30、連結電極40が形成されている。ベース板1、装飾層3、導電層5、絶縁層7、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dは、静電容量検出層、即ちタッチパネルとしての機能を実現している。絶縁層50、透明電極層51、発光層53、誘電体層55、背面電極層57、保護層59は、発光手段の一例である無機エレクトロルミネッセンス(Inorganic Electro-Luminescence:無機EL)素子としての機能を実現している。(以降、無機エレクトロルミネッセンス素子を単に無機EL、無機ELを構成する前記絶縁層50〜保護層59までを無機EL層という。)発光層53は、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dの背面側から正面側に向かう方向Dへ照射する。   3A and 3B are cross-sectional views of the capacitive input device according to the first embodiment. 3A is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. As shown in FIG. 3A, the upper surface of the base plate 1 is in contact with the user's finger F. The capacitive input device includes a base plate 1, a decorative layer 3, a conductive layer 5, an insulating layer 7, an insulating layer 50, a transparent electrode layer 51, a light emitting layer 53, a dielectric layer in order from the upper side to the lower side of FIG. 55, a back electrode layer 57, and a protective layer 59 are formed. On the surface of the insulating layer 7, main path portions 11a1, 23b1, 23b2, a resist 30, and a connecting electrode 40 are formed. The base plate 1, the decoration layer 3, the conductive layer 5, the insulating layer 7, the first electrodes 10a to 10c, and the second electrodes 20a to 20d realize a function as a capacitance detection layer, that is, a touch panel. The insulating layer 50, the transparent electrode layer 51, the light emitting layer 53, the dielectric layer 55, the back electrode layer 57, and the protective layer 59 function as an inorganic electroluminescence (inorganic EL) element that is an example of a light emitting means. Is realized. (Hereinafter, the inorganic electroluminescence element is simply referred to as inorganic EL, and the insulating layer 50 to the protective layer 59 constituting the inorganic EL are referred to as inorganic EL layers.) The light emitting layer 53 includes the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20a. Irradiate in the direction D from the back side to the front side of 20d.

このように実施例1の静電容量型入力装置は、静電容量検出層と発光手段とが一体に形成されている。詳細には、静電容量検出層の基材となるベース板1に発光手段の一例である無機EL層が一体に形成されている。実施例1の静電容量型入力装置は、静電容量検出層と発光手段とを別体に設ける場合と比較して、部品としての取扱い性が向上する。また、静電容量検出層と発光手段とを別体に設けた場合と比較して、実施例1の静電容量型入力装置は薄型化が達成される。   As described above, in the capacitance type input device according to the first embodiment, the capacitance detection layer and the light emitting unit are integrally formed. Specifically, an inorganic EL layer, which is an example of a light emitting unit, is integrally formed on a base plate 1 that is a base material for a capacitance detection layer. In the capacitance type input device of the first embodiment, the handleability as a component is improved as compared with the case where the capacitance detection layer and the light emitting means are provided separately. Further, compared with the case where the capacitance detection layer and the light emitting means are provided separately, the capacitance type input device of Example 1 can be made thinner.

図3A、3Bに示すように、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dは、絶縁層7の表面上に形成され、同一の層に形成されている。図3Aに示すように、レジスト30は、主経路部11a1と、連結電極40との間の絶縁性を確保するための機能を有している。レジスト30は、主経路部11a1を覆うように形成されている。連結電極40は、導電性を有しており、分岐路部23b1と分岐路部23b2とを接続している。   As shown to FIG. 3A and 3B, the 1st electrodes 10a-10c and the 2nd electrodes 20a-20d are formed on the surface of the insulating layer 7, and are formed in the same layer. As shown in FIG. 3A, the resist 30 has a function for ensuring insulation between the main path portion 11 a 1 and the connection electrode 40. The resist 30 is formed so as to cover the main path portion 11a1. The connecting electrode 40 has conductivity, and connects the branch path portion 23b1 and the branch path portion 23b2.

導電層5は、接触の検出精度の向上させる機能を有している。図3A、3Bに示すように、導電層5は、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dが形成されている層よりも、正面側、即ち、ユーザの指が接触する側に形成されている。導電層5は、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dの何れにも接触していない。図3A、3Bに示すように、導電層5と、第1電極10a、第2電極20bとの間には絶縁層7が形成されている。   The conductive layer 5 has a function of improving contact detection accuracy. As shown in FIGS. 3A and 3B, the conductive layer 5 is formed on the front side, that is, on the side where the user's finger comes into contact with the layer on which the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d are formed. Has been. The conductive layer 5 is not in contact with any of the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d. As shown in FIGS. 3A and 3B, an insulating layer 7 is formed between the conductive layer 5 and the first electrode 10a and the second electrode 20b.

ユーザの指Fが導電層5と重なるように触れることにより、指Fと導電層5との間に静電容量が生じる。これに伴って、導電層5と第1電極10a、第2電極20bとの間に静電容量が生じる。これにより、検出精度が向上する。例えば、導電層5が設けられていない場合、ユーザの指Fが、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dのいずれにも重ならない場合、ユーザの指Fと第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dのいずれとの間にも十分な静電容量が生じずに、接触位置を検出できない恐れがある。導電層5が設けられていないと、例えば開口部10a5内の領域のみを触れた場合には、接触位置を検出できないおそれがある。しかしながら、導電層5が開口部10a5や指標部3aと重なるように設けられているので、上記のような検出精度の低下が防止されている。   By touching the user's finger F so as to overlap the conductive layer 5, a capacitance is generated between the finger F and the conductive layer 5. Along with this, electrostatic capacitance is generated between the conductive layer 5 and the first electrode 10a and the second electrode 20b. Thereby, detection accuracy improves. For example, when the conductive layer 5 is not provided, when the user's finger F does not overlap any of the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d, the user's finger F and the first electrodes 10a to 10c There is a possibility that the contact position cannot be detected without sufficient electrostatic capacitance between any of the second electrodes 20a to 20d. If the conductive layer 5 is not provided, for example, when only the region in the opening 10a5 is touched, the contact position may not be detected. However, since the conductive layer 5 is provided so as to overlap the opening 10a5 and the index part 3a, the above-described decrease in detection accuracy is prevented.

ここで、従来の静電容量型入力装置に採用される電極の形状について説明する。図4は、従来の静電容量型入力装置に採用される電極の形状の説明図である。図4に示すように、従来の静電容量型入力装置では、Y方向に延びた電極10xと、X方向に延びた電極20xとを有している。図4には一列しか示していないが、複数の電極10xが、X方向に並んでいる。同様に、複数の電極20xがY方向に並ぶ。電極10xは、Y方向に直線状に延びた主経路部11x1、11x2、11x3を有している。主経路部11x1と主経路部11x2との間には、主経路部11x1、11x2よりも面積が大きいパッド部15x1、主経路部11x2と主経路部11x3との間には、主経路部11x2、11x3よりも面積が大きいパッド部15x2が形成されている。パッド部15x1、15x2は、それぞれ平行四辺形状である。同様に、電極20xは、主経路部21x1と主経路部21x2との間にパッド部25x1が形成され、主経路部21x2と主経路部21x3との間にパッド部25x2が形成されている。   Here, the shape of the electrode employed in the conventional capacitive input device will be described. FIG. 4 is an explanatory diagram of the shape of an electrode employed in a conventional capacitive input device. As shown in FIG. 4, the conventional capacitive input device has an electrode 10x extending in the Y direction and an electrode 20x extending in the X direction. Although only one column is shown in FIG. 4, a plurality of electrodes 10x are arranged in the X direction. Similarly, a plurality of electrodes 20x are arranged in the Y direction. The electrode 10x has main path portions 11x1, 11x2, and 11x3 extending linearly in the Y direction. Between the main path part 11x1 and the main path part 11x2, the pad part 15x1 having a larger area than the main path parts 11x1 and 11x2, and between the main path part 11x2 and the main path part 11x3, the main path part 11x2, A pad portion 15x2 having a larger area than 11x3 is formed. Each of the pad portions 15x1 and 15x2 has a parallelogram shape. Similarly, in the electrode 20x, a pad portion 25x1 is formed between the main path portion 21x1 and the main path portion 21x2, and a pad portion 25x2 is formed between the main path portion 21x2 and the main path portion 21x3.

このように、従来の静電容量型入力装置において、電極10x、20xはそれぞれ複数のパッド部を有し、この複数のパッド部がユーザが触れる操作領域の略全面を覆うように形成されている。即ち、電極10x、20xは、ユーザが触れる操作領域の略全面を覆うように形成されている。このため、これら電極10x、20xの背面側に発光手段を配置した場合、発光手段からの光が電極10x、20xにより妨げられるおそれがある。この点を考慮して、従来の静電容量型入力装置においては、電極10x、20xに透明な電極が採用されている。しかしながら、電極10x、20xとして透明な電極しか採用できないため、電極10x、20xの材料の選択が制限される。即ち、コストや抵抗値等の特性を考慮して広範囲の材料の中から、電極に適した材料を選択することが困難であった。   As described above, in the conventional capacitive input device, the electrodes 10x and 20x each have a plurality of pad portions, and the plurality of pad portions are formed so as to cover substantially the entire operation area touched by the user. . That is, the electrodes 10x and 20x are formed so as to cover substantially the entire operation area touched by the user. For this reason, when the light emitting means is disposed on the back side of these electrodes 10x and 20x, the light from the light emitting means may be hindered by the electrodes 10x and 20x. Considering this point, in the conventional capacitive input device, transparent electrodes are employed as the electrodes 10x and 20x. However, since only transparent electrodes can be adopted as the electrodes 10x and 20x, selection of materials for the electrodes 10x and 20x is limited. That is, it is difficult to select a material suitable for the electrode from a wide range of materials in consideration of characteristics such as cost and resistance value.

本実施例の静電容量型入力装置は、図1、図2に例示したように、第1電極10aは、開口部10a5を有している。これにより、従来の静電容量型入力装置と異なり、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dは、静電容量型入力装置の操作領域の全面を覆っていはいない。このため、発光層53からの光は、開口部10a5を透過する。換言すれば、分岐路部12a、13aとの間を光が透過する。これにより、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dに透明以外の電極を採用した場合であっても、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dの背面側から正面側に向かって光の透過を確保することができる。これにより、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dの材料の選択の自由度が向上する。   In the capacitive input device of this embodiment, as illustrated in FIGS. 1 and 2, the first electrode 10a has an opening 10a5. Thus, unlike the conventional capacitive input device, the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d do not cover the entire operation area of the capacitive input device. For this reason, the light from the light emitting layer 53 is transmitted through the opening 10a5. In other words, light is transmitted between the branch path portions 12a and 13a. Thereby, even if it is a case where electrodes other than transparency are employ | adopted as 1st electrode 10a-10c and 2nd electrode 20a-20d, it is a front side from the back side of 1st electrode 10a-10c and 2nd electrode 20a-20d. The transmission of light can be ensured. Thereby, the freedom degree of selection of the material of the 1st electrodes 10a-10c and the 2nd electrodes 20a-20d improves.

第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dの材料として、例えば銀ペーストを採用できる。銀ペーストは、ITOよりもコストが安い。また、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dの材料としてITOを採用すると、蒸着工程やエッチング工程が必要となる。従って、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dの材料として例えば銀ペーストを採用して、スクリーン印刷工法を行なうことにより、ITOを採用した場合と比較しコストを抑えることができる。また銀は、ITOよりも抵抗値も低い。これにより抵抗値の低い第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dを形成できるので、検出精度が向上する。   As a material of the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d, for example, a silver paste can be adopted. Silver paste is cheaper than ITO. Moreover, when ITO is adopted as the material of the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d, a vapor deposition process and an etching process are required. Therefore, by adopting, for example, silver paste as the material of the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d and performing the screen printing method, the cost can be reduced compared with the case of using ITO. Silver also has a lower resistance than ITO. As a result, the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d having low resistance values can be formed, so that the detection accuracy is improved.

実施例1の静電容量型入力装置は、複数の導電層5を採用している。導電層5は透明であるが、複数の導電層5は、静電容量型入力装置の操作領域の全面を覆うように設けられているわけではない。従って、例えば導電層5をITOにより形成した場合であっても、従来の静電容量型入力装置のようにITOにより電極を形成した場合と比較し、製造コストを抑制できる。このように、実施例1の静電容量型入力装置は、できる限り製造コストを抑制しつつ検出精度も確保している。また、導電層5は透明であるので光の透過を妨げることはない。   The capacitive input device according to the first embodiment employs a plurality of conductive layers 5. Although the conductive layer 5 is transparent, the plurality of conductive layers 5 are not provided so as to cover the entire operation region of the capacitive input device. Therefore, for example, even when the conductive layer 5 is formed of ITO, the manufacturing cost can be suppressed as compared with the case where the electrode is formed of ITO as in the conventional capacitive input device. As described above, the capacitance-type input device according to the first embodiment secures detection accuracy while suppressing the manufacturing cost as much as possible. Further, since the conductive layer 5 is transparent, it does not hinder light transmission.

実施例1の静電容量型入力装置の製造方法について説明する。
実施例1の静電容量型入力装置は、大半の工程においてスクリーン印刷により製造する。図5A、5B、6A、6B、7A、7Bは、実施例1の静電容量型入力装置の製造方法の説明図である。図5A、5B、6A、6B、7A、7Bにおいては、背面側を示している。
A method for manufacturing the capacitive input device according to the first embodiment will be described.
The capacitive input device of Example 1 is manufactured by screen printing in most processes. 5A, 5B, 6A, 6B, 7A, and 7B are explanatory diagrams of a method for manufacturing the capacitance-type input device according to the first embodiment. 5A, 5B, 6A, 6B, 7A, and 7B, the back side is shown.

図5Aに示すように、スクリーン印刷により、ベース板1の背面側に装飾層3を形成する。ベース板1は、例えばPET(ポリエチレンテレフタラート)フィルム製であり厚みは約25〜200μmである。尚、ベース板1は、ポリカーボネートや、アクリル系、ポリイミド系であってもよい。ベース板1は、光透過性を有していればよい。ベース板1は可撓性を有しているが、可撓性を有していなくてもよい。装飾層3は、例えばポリエステル系樹脂製であり厚みは約5〜50μmである。装飾層3は、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリ塩化ビニル製であってもよい。尚、静電容量型入力装置を製造するにあたり、装飾層3を設けなくてもよい。   As shown in FIG. 5A, the decoration layer 3 is formed on the back side of the base plate 1 by screen printing. The base plate 1 is made of, for example, a PET (polyethylene terephthalate) film and has a thickness of about 25 to 200 μm. The base plate 1 may be polycarbonate, acrylic, or polyimide. The base plate 1 should just have a light transmittance. The base plate 1 has flexibility, but may not have flexibility. The decoration layer 3 is made of, for example, a polyester resin and has a thickness of about 5 to 50 μm. The decoration layer 3 may be made of a fluorine resin, an acrylic resin, polystyrene, polyurethane, polyimide, or polyvinyl chloride. It should be noted that the decorative layer 3 may not be provided in manufacturing the capacitive input device.

次に、図5Bに示すように、装飾層3の背面側に導電層5を形成する。導電層5は、例えばPEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)であり厚みは約1〜50μmである。導電層5は、ポリチオフェン系等の有機導電性インク、ITO分散インク、カーボンナノチューブ分散インク等により形成してもよい。   Next, as shown in FIG. 5B, the conductive layer 5 is formed on the back side of the decorative layer 3. The conductive layer 5 is, for example, PEDOT (polyethylenedioxythiophene) and has a thickness of about 1 to 50 μm. The conductive layer 5 may be formed of an organic conductive ink such as polythiophene, ITO dispersed ink, carbon nanotube dispersed ink, or the like.

次に、導電層5を覆うように、装飾層3、導電層5の背面側に絶縁層7をスクリーン印刷により形成する。絶縁層7は、例えばポリエステル系樹脂製であり厚みは約5〜50μmである。絶縁層7は、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリ塩化ビニル製であってもよい。   Next, the decoration layer 3 and the insulating layer 7 are formed on the back side of the conductive layer 5 by screen printing so as to cover the conductive layer 5. The insulating layer 7 is made of, for example, a polyester resin and has a thickness of about 5 to 50 μm. The insulating layer 7 may be made of a fluorine resin, an acrylic resin, polystyrene, polyurethane, polyimide, or polyvinyl chloride.

次に、図6Aに示すように、絶縁層7の背面側に第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dをスクリーン印刷により形成する。第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dは、例えば銀インク(銀フィラをバインダに混ぜたもの)により形成し、厚みは約5〜50μmである。第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dは、その他、ITO分散インク、カーボン、銀カーボンインク、金インク等により形成してもよい。   Next, as shown in FIG. 6A, the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d are formed on the back side of the insulating layer 7 by screen printing. The first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d are formed of, for example, silver ink (a silver filler mixed with a binder) and have a thickness of about 5 to 50 μm. In addition, the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d may be formed of ITO dispersed ink, carbon, silver carbon ink, gold ink, or the like.

次に、図6Bに示すように、第1電極10a〜10cの背面側の一部にレジスト30をスクリーン印刷により形成する。レジスト30は、例えばポリエステル系樹脂製であり厚みは約5〜50μmである。レジスト30は、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリウレタン製であってもよい。   Next, as shown in FIG. 6B, a resist 30 is formed on a part of the back side of the first electrodes 10a to 10c by screen printing. The resist 30 is made of, for example, a polyester resin and has a thickness of about 5 to 50 μm. The resist 30 may be made of a fluorine resin, an acrylic resin, polystyrene, or polyurethane.

次に、図7Aに示すように、レジスト30の背面側、及び第2電極20a〜20dの背面側の一部に、連結電極40をスクリーン印刷により形成する。連結電極40は、例えば銀インク(銀フィラをバインダに混ぜたもの)により形成し、厚みは約5〜50μmである。連結電極40は、ITO分散インク、カーボン、銀カーボンインク、金インク等により形成してもよい。   Next, as shown in FIG. 7A, the connection electrode 40 is formed by screen printing on the back side of the resist 30 and a part of the back side of the second electrodes 20a to 20d. The connecting electrode 40 is formed of, for example, silver ink (a silver filler mixed with a binder) and has a thickness of about 5 to 50 μm. The connecting electrode 40 may be formed of ITO dispersed ink, carbon, silver carbon ink, gold ink, or the like.

次に、絶縁層7、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20d、連結電極40の背面側を覆うように、絶縁層50をスクリーン印刷により形成する。絶縁層50は、例えばポリエステル系樹脂製であり厚みは約5〜50μmである。絶縁層50は、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリ塩化ビニル製であってもよい。   Next, the insulating layer 50 is formed by screen printing so as to cover the back side of the insulating layer 7, the first electrodes 10a to 10c, the second electrodes 20a to 20d, and the connecting electrode 40. The insulating layer 50 is made of, for example, a polyester resin and has a thickness of about 5 to 50 μm. The insulating layer 50 may be made of a fluorine resin, an acrylic resin, polystyrene, polyurethane, polyimide, or polyvinyl chloride.

次に、図7Bに示すように、絶縁層50の背面側に、透明電極層51をスクリーン印刷により形成する。透明電極層51は、例えばPEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)製であり厚みは約1〜30μmである。透明電極層51は、ポリチオフェン系の導電性インク、ITO分散インク、カーボンナノチューブ分散インクにより形成してもよい。透明電極層51は、無機EL用の電極として機能する。尚、図7Bにおいては、絶縁層50は省略してある。   Next, as shown in FIG. 7B, a transparent electrode layer 51 is formed on the back side of the insulating layer 50 by screen printing. The transparent electrode layer 51 is made of, for example, PEDOT (polyethylenedioxythiophene) and has a thickness of about 1 to 30 μm. The transparent electrode layer 51 may be formed of a polythiophene-based conductive ink, an ITO dispersed ink, or a carbon nanotube dispersed ink. The transparent electrode layer 51 functions as an electrode for inorganic EL. In FIG. 7B, the insulating layer 50 is omitted.

次に、透明電極層51の背面側に発光層53をスクリーン印刷により形成する。発光層53は、例えば蛍光体粒子とフッ素系樹脂とにより形成され厚みは約5〜50μmである。発光層53は、蛍光体粒子とセルロース系樹脂により形成してもよい。蛍光体粒子とは、硫化亜鉛、又は硫化亜鉛に他の金属(銅など)をドープしたものを含む。   Next, the light emitting layer 53 is formed on the back side of the transparent electrode layer 51 by screen printing. The light emitting layer 53 is formed of phosphor particles and a fluorine-based resin, for example, and has a thickness of about 5 to 50 μm. The light emitting layer 53 may be formed of phosphor particles and a cellulose resin. The phosphor particles include zinc sulfide or zinc sulfide doped with another metal (such as copper).

次に、発光層53の背面側に誘電体層55をスクリーン印刷により形成する。誘電体層55は、例えばチタン酸バリウム(BaTiO)とフッ素系樹脂とにより形成され厚みは約5〜50μmである。誘電体層55は、チタン酸バリウム(BaTiO)とセルロース系樹脂により形成してもよい。誘電体層55は、高い誘電率を有している。 Next, the dielectric layer 55 is formed on the back side of the light emitting layer 53 by screen printing. The dielectric layer 55 is made of, for example, barium titanate (BaTiO 3 ) and a fluorine-based resin, and has a thickness of about 5 to 50 μm. The dielectric layer 55 may be formed of barium titanate (BaTiO 3 ) and a cellulose resin. The dielectric layer 55 has a high dielectric constant.

次に、誘電体層55の背面側に背面電極層57をスクリーン印刷により形成する。背面電極層57は、例えばカーボンインク(カーボンフィラをバインダに混ぜたもの)により形成され厚みは約5〜50μmである。背面電極層57は、ITO分散インク、カーボン、銀カーボンインク、金インク等により形成してもよい。背面電極層57は、無機EL用の電極として機能する。   Next, the back electrode layer 57 is formed on the back side of the dielectric layer 55 by screen printing. The back electrode layer 57 is formed of, for example, carbon ink (a carbon filler mixed with a binder) and has a thickness of about 5 to 50 μm. The back electrode layer 57 may be formed of ITO dispersed ink, carbon, silver carbon ink, gold ink, or the like. The back electrode layer 57 functions as an electrode for inorganic EL.

次に、背面電極層57の背面側に保護層59をスクリーン印刷により形成する。保護層59は、例えばポリエステル系樹脂製であり厚みは約5〜50μmである。保護層59は、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリ塩化ビニル製であってもよい。   Next, a protective layer 59 is formed on the back side of the back electrode layer 57 by screen printing. The protective layer 59 is made of, for example, a polyester resin and has a thickness of about 5 to 50 μm. The protective layer 59 may be made of a fluorine resin, an acrylic resin, polystyrene, polyurethane, polyimide, or polyvinyl chloride.

以上のように、静電容量型入力装置は、発光手段として機能する絶縁層50〜保護層59を含めて、スクリーン印刷により製造される。このように各層を同一の方法により製造することができるので、製造コストを抑えることができる。   As described above, the capacitive input device is manufactured by screen printing including the insulating layer 50 to the protective layer 59 functioning as a light emitting unit. Thus, since each layer can be manufactured by the same method, manufacturing cost can be held down.

実施例2の静電容量型入力装置について説明する。図8は、実施例2の静電容量型入力装置における指標部3a周辺の拡大図である。図8は、図2と対応している。図8に示すように、実施例2の静電容量型入力装置には導電層5は設けられていない。従って、開口部10a5内の部分にのみユーザの指が触れた場合には、接触位置を検出できないおそれがある。しかしながら、開口部10a5の大きさを小さくすることにより対応可能である。   A capacitance type input device of Example 2 will be described. FIG. 8 is an enlarged view around the indicator portion 3a in the capacitance-type input device according to the second embodiment. FIG. 8 corresponds to FIG. As shown in FIG. 8, the capacitive input device of Example 2 is not provided with the conductive layer 5. Therefore, when the user's finger touches only the portion in the opening 10a5, the contact position may not be detected. However, this can be dealt with by reducing the size of the opening 10a5.

図9A、9Bは、実施例2の静電容量型入力装置の断面図である。図9Aは、図8のC−C断面図、図9Bは、図8のD−D断面図である。図9A、9Bに示すように、装飾層3の背面側には導電層5は形成されていない。このため、実施例2の静電容量型入力装置は、実施例1の静電容量型入力装置よりも薄く、低コストで形成されている。   9A and 9B are cross-sectional views of the capacitive input device according to the second embodiment. 9A is a CC cross-sectional view of FIG. 8, and FIG. 9B is a DD cross-sectional view of FIG. As shown in FIGS. 9A and 9B, the conductive layer 5 is not formed on the back side of the decorative layer 3. For this reason, the capacitive input device of the second embodiment is thinner than the capacitive input device of the first embodiment and is formed at a low cost.

実施例3の静電容量型入力装置について説明する。図10は、実施例3の静電容量型入力装置における指標部3a周辺の拡大図である。図10は、図2と対応している。図10に示すように、導電層5aは、第1電極10aの一部にのみ重なり、導電層5bは、第2電極20bの一部にのみ重なるように形成されている。尚、図10においては、導電層5a、5bをハッチングで示している。導電層5a、5bは分離しており導通していない。導電層5a、5bは、ベース板1の正面側から見て、指標部3a、開口部10a5と重なっている。導電層5a、5bは、それぞれ、開口部10a5の略半分と重なっている。換言すれば、導電層5a、5bは、分岐路部12a、13aとの間と略重なるように形成されている。導電層5a、5bは、光透過性の高い材料により形成されており、例えばPEDOTにより形成されている。   A capacitance type input device of Example 3 will be described. FIG. 10 is an enlarged view around the indicator portion 3a in the capacitance-type input device according to the third embodiment. FIG. 10 corresponds to FIG. As shown in FIG. 10, the conductive layer 5a overlaps only part of the first electrode 10a, and the conductive layer 5b overlaps only part of the second electrode 20b. In FIG. 10, the conductive layers 5a and 5b are hatched. The conductive layers 5a and 5b are separated and are not conductive. The conductive layers 5a and 5b overlap the indicator portion 3a and the opening 10a5 when viewed from the front side of the base plate 1. The conductive layers 5a and 5b overlap with approximately half of the opening 10a5, respectively. In other words, the conductive layers 5a and 5b are formed so as to substantially overlap with the branch path portions 12a and 13a. The conductive layers 5a and 5b are made of a material having high light transmittance, and are made of, for example, PEDOT.

導電層5aは、分岐路部12aの大部分と重なっており、分岐路部13aとは重なっていない。導電層5bは、分岐路部22b2、23b2の大部分と重なっており、分岐路部22b1、23b1とは重なっていない。分岐路部13aは、実施例1、2と異なり、途中で分断した分断部13acが形成されている。導電層5bは、分岐路部12a、13aに囲まれた内側の部分から、分断部13acの間を通過して、分岐路部13aの外側にある分岐路部23b2と重なるように形成されている。   The conductive layer 5a overlaps most of the branch path portion 12a and does not overlap the branch path portion 13a. The conductive layer 5b overlaps most of the branch path portions 22b2 and 23b2, and does not overlap the branch path portions 22b1 and 23b1. Unlike the first and second embodiments, the branch path portion 13a is formed with a divided portion 13ac that is divided in the middle. The conductive layer 5b is formed so as to pass between the dividing portions 13ac from the inner portion surrounded by the branch passage portions 12a and 13a and overlap with the branch passage portion 23b2 outside the branch passage portion 13a. .

図11は、実施例3の静電容量型入力装置の断面図であり、図10のE−E断面図である。導電層5aは分岐路部12aを覆うように形成され、導電層5bは分岐路部23b2を覆うように形成されている。これにより、導電層5aは第1電極10aと導通しており、導電層5bは第2電極20bと導通している。装飾層3の背面側に第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dを形成した後、装飾層3、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dの背面側に、導電層5a、5bをスクリーン印刷により形成する。   FIG. 11 is a cross-sectional view of the capacitive input device according to the third embodiment, and is a cross-sectional view taken along the line E-E in FIG. 10. The conductive layer 5a is formed so as to cover the branch path portion 12a, and the conductive layer 5b is formed so as to cover the branch path portion 23b2. Thereby, the conductive layer 5a is electrically connected to the first electrode 10a, and the conductive layer 5b is electrically connected to the second electrode 20b. After the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d are formed on the back side of the decoration layer 3, the conductive layer 5a is formed on the back side of the decoration layer 3, the first electrodes 10a to 10c and the second electrodes 20a to 20d. 5b is formed by screen printing.

ユーザの指Fが導電層5a、5bとに重なるように触れることにより、指Fと導電層5a、5bとの間に静電容量が生じる。これにより、指Fが開口部10a5の間のみと重なるように触れた場合であっても、接触位置を検出することができる。   By touching the user's finger F so as to overlap the conductive layers 5a and 5b, a capacitance is generated between the finger F and the conductive layers 5a and 5b. Thereby, even if it is a case where it touches so that the finger | toe F may overlap with only between opening part 10a5, a contact position is detectable.

実施例1と異なり、実施例3では、導電層5aと第1電極10aとの間に絶縁層は形成されておらず、導電層5bと第2電極20bとの間にも絶縁層は形成されていない。これにより、実施例3では、実施例1よりも薄型化が達成されている。   Unlike Example 1, in Example 3, an insulating layer is not formed between the conductive layer 5a and the first electrode 10a, and an insulating layer is also formed between the conductive layer 5b and the second electrode 20b. Not. Thereby, in Example 3, thickness reduction is achieved rather than Example 1. FIG.

実施例4の静電容量型入力装置について説明する。図12は、実施例4の静電容量型入力装置の断面図である。図12は、図3Bと対応している。ベース板1の正面側に、装飾層3、絶縁層7、導電層5、絶縁層8、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dが形成され、ベース板1の背面側に透明電極層51、発光層53、誘電体層55、背面電極層57、保護層59が形成されている。即ち、ベース板1の一方側に静電容量検出層が形成され、ベース板1の他方側に発光手段の一例である無機EL層を形成されている。この場合においては、ベース板1の一方側にスクリーン印刷等により静電容量検出層を形成し、その後にベース板1の他方側にスクリーン印刷等により無機EL層を形成してもよいし、先に無機EL層を形成してその後に静電容量検出層を形成してもよい。   A capacitance type input device of Example 4 will be described. FIG. 12 is a cross-sectional view of the capacitive input device according to the fourth embodiment. FIG. 12 corresponds to FIG. 3B. A decorative layer 3, an insulating layer 7, a conductive layer 5, an insulating layer 8, first electrodes 10 a to 10 c and second electrodes 20 a to 20 d are formed on the front side of the base plate 1, and a transparent electrode is formed on the back side of the base plate 1. A layer 51, a light emitting layer 53, a dielectric layer 55, a back electrode layer 57, and a protective layer 59 are formed. That is, a capacitance detection layer is formed on one side of the base plate 1, and an inorganic EL layer that is an example of a light emitting unit is formed on the other side of the base plate 1. In this case, a capacitance detection layer may be formed on one side of the base plate 1 by screen printing or the like, and then an inorganic EL layer may be formed on the other side of the base plate 1 by screen printing or the like. An inorganic EL layer may be formed on the substrate, and then a capacitance detection layer may be formed.

実施例4の静電容量型入力装置では、例えば、1の正面側に第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20d、絶縁層8、導電層5、絶縁層7、装飾層3の順にスクリーン印刷により形成する。その後に、ベース板1の背面側に、透明電極層51、発光層53、誘電体層55、背面電極層57、保護層59の順にスクリーン印刷により形成する。絶縁層8は、例えばポリエステル系樹脂製であり厚みは約5〜50μmである。絶縁層8は、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリ塩化ビニル製であってもよい。   In the capacitive input device of Example 4, for example, the first electrodes 10a to 10c, the second electrodes 20a to 20d, the insulating layer 8, the conductive layer 5, the insulating layer 7, and the decorative layer 3 are arranged in this order on the front side of one. It is formed by screen printing. Thereafter, the transparent electrode layer 51, the light emitting layer 53, the dielectric layer 55, the back electrode layer 57, and the protective layer 59 are sequentially formed on the back side of the base plate 1 by screen printing. The insulating layer 8 is made of, for example, a polyester resin and has a thickness of about 5 to 50 μm. The insulating layer 8 may be made of a fluorine resin, an acrylic resin, polystyrene, polyurethane, polyimide, or polyvinyl chloride.

実施例5の静電容量型入力装置について説明する。図13は、実施例5の静電容量型入力装置の断面図である。図13は、図9Bと対応している。実施例5の静電容量型入力装置は、ベース板1の正面側に、装飾層3、絶縁層8、第1電極10a〜10c、第2電極20a〜20dが形成され、ベース板1の背面側に透明電極層51、発光層53、誘電体層55、背面電極層57、保護層59が形成されている。このように、ベース板1の正面側に静電容量検出層が形成され、ベース板1の他方側に無機EL層が形成されている。   A capacitance-type input device of Example 5 will be described. FIG. 13 is a cross-sectional view of the capacitive input device according to the fifth embodiment. FIG. 13 corresponds to FIG. 9B. In the capacitive input device according to the fifth embodiment, the decoration layer 3, the insulating layer 8, the first electrodes 10 a to 10 c and the second electrodes 20 a to 20 d are formed on the front side of the base plate 1. On the side, a transparent electrode layer 51, a light emitting layer 53, a dielectric layer 55, a back electrode layer 57, and a protective layer 59 are formed. As described above, the capacitance detection layer is formed on the front side of the base plate 1, and the inorganic EL layer is formed on the other side of the base plate 1.

以上本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、変形・変更が可能である。   Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to such specific embodiments, and modifications and changes can be made within the scope of the gist of the present invention described in the claims. Is possible.

静電容量型入力装置は、携帯電話、固定電話、電化製品のリモコン、電卓、キーボードやコントローラなどのコンピュータの入力支援装置、電子辞書やPDAなどの携帯装置、車載機器等の電子機器に採用可能である。   Capacitive input devices can be used in mobile devices such as mobile phones, landlines, remote controls for electronic products, calculators, computer input support devices such as keyboards and controllers, portable devices such as electronic dictionaries and PDAs, and electronic devices such as in-vehicle devices. It is.

発光手段として、発光源(LED等)からの光を静電容量型入力装置の背面側から正面側に案内する導光板や、液晶ディスプレイ等を採用してもよい。   As the light emitting means, a light guide plate that guides light from a light emitting source (LED or the like) from the back side to the front side of the capacitive input device, a liquid crystal display, or the like may be adopted.

1 ベース板
3 装飾層
3a 指標部
5、5a、5b 導電層
7、8、50 絶縁層
10a〜10c 第1電極
10a5、20b5 開口部
11a1、11a2、21b1、21b2 主経路部
12a、13a、22b1、22b2、23b1、23b2 分岐路部
13ac 分断部
20a〜20d 第2電極
30 レジスト
40 接続電極
51 透明電極層
53 発光層
55 誘電体層
57 背面電極層
59 保護層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base board 3 Decoration layer 3a Indicator part 5, 5a, 5b Conductive layer 7, 8, 50 Insulating layer 10a-10c 1st electrode 10a5, 20b5 Opening part 11a1, 11a2, 21b1, 21b2 Main path | route part 12a, 13a, 22b1, 22b2, 23b1, 23b2 Branch path portion 13ac Dividing portion 20a-20d Second electrode 30 Resist 40 Connection electrode 51 Transparent electrode layer 53 Light emitting layer 55 Dielectric layer 57 Back electrode layer 59 Protective layer

Claims (10)

光透過性を有したベース板と、
前記ベース板に対して一方側に形成され、互いに交差する第1及び第2方向にそれぞれ延びた第1及び第2電極と、を備え、
前記第1電極は、開口部を含む、静電容量型入力装置。
A base plate having optical transparency;
First and second electrodes formed on one side with respect to the base plate and extending in first and second directions intersecting each other,
The first electrode is a capacitive input device including an opening.
光透過性を有したベース板と、
前記ベース板に対して一方側に形成され、互いに交差する第1及び第2方向にそれぞれ延びた第1及び第2電極と、
基材部、前記基材部と光透過率が相違し模様が施された指標部、を有した装飾層と、を備え、
前記第1及び第2電極は、前記ベース板の正面から見て前記指標部から退避している、静電容量型入力装置。
A base plate having optical transparency;
First and second electrodes formed on one side with respect to the base plate and extending in first and second directions intersecting each other;
A decorative layer having a base material portion, an indicator portion having a light transmittance and a pattern different from the base material portion,
The capacitance-type input device, wherein the first and second electrodes are retracted from the indicator portion when viewed from the front of the base plate.
前記ベース板の正面から見て前記第1及び第2電極の双方と重なり前記開口部と重なり光透過性を有した導電部を備えた、請求項1の静電容量型入力装置。   The capacitive input device according to claim 1, further comprising: a conductive portion that overlaps with both the first and second electrodes when viewed from the front of the base plate and overlaps with the opening and has light transmittance. 前記ベース板の正面から見て前記第1及び第2電極の双方と重なり前記指標部と重なり光透過性を有した導電部を備えた、請求項2の静電容量型入力装置。   The capacitance-type input device according to claim 2, further comprising a conductive portion that overlaps with both the first and second electrodes when viewed from the front of the base plate and overlaps the indicator portion and has light transmittance. 前記導電部と前記第1及び第2電極との間に形成された絶縁層を備えている、請求項1乃至4の何れかの静電容量型入力装置。   5. The capacitive input device according to claim 1, further comprising an insulating layer formed between the conductive portion and the first and second electrodes. 前記導電部は、前記第1電極とは重なって直接接触しているが前記第2電極とは重なっていない第1導電部、前記第2電極とは重なって直接接触しているが前記第1電極とは重なっておらず前記第1導電部と分離した第2導電部、を含む、1乃至4の何れかの静電容量型入力装置。   The conductive portion overlaps and is in direct contact with the first electrode, but does not overlap with the second electrode. The conductive portion overlaps and is in direct contact with the second electrode. The capacitance-type input device according to any one of 1 to 4, further comprising a second conductive portion that is not overlapped with the electrode and separated from the first conductive portion. 前記第1及び第2電極の背面側から正面側に光を照射する発光手段を備えている、請求項1乃至6の何れかの静電容量型入力装置。   The capacitive input device according to claim 1, further comprising light emitting means for irradiating light from the back side to the front side of the first and second electrodes. 前記発光手段は、前記ベース板に一体に形成されている無機EL素子である事を特徴とする、請求項7の静電容量型入力装置。   8. The capacitive input device according to claim 7, wherein the light emitting means is an inorganic EL element formed integrally with the base plate. 前記指標部に施された模様は、文字、数字、記号、及び図柄のうち少なくとも一つを含む、請求項2の静電容量型入力装置。   The capacitive input device according to claim 2, wherein the pattern provided on the indicator portion includes at least one of letters, numbers, symbols, and designs. 請求項1乃至9の静電容量型入力装置を備えたことを特徴とする電子機器。

An electronic apparatus comprising the capacitive input device according to claim 1.

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