JP2011138043A - Plastic lens and method of manufacturing the same - Google Patents

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健志 射水
Kazunori Mikami
和則 三上
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the deformation of a substrate caused by heating in a lens manufacturing process after film forming, when a relatively thick film (film of 20 μm or more) is disposed on one side of a lens. <P>SOLUTION: At least photochromic film 2 and a hard coat layer 5 are formed on one surface 1A of the substrate 1 for a plastic lens, and at least a stress reducing layer 3 for reducing the stress generated by thermal deformation in the lens manufacturing process of the photochromic film 2 is formed on the other surface 1B of the substrate 1. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば眼鏡用のプラスチックレンズ、特にフォトクロミック膜等の比較的厚い膜を片面に設けるプラスチックレンズ及びプラスチックレンズの製造方法に関する。   The present invention relates to a plastic lens for eyeglasses, for example, a plastic lens in which a relatively thick film such as a photochromic film is provided on one side, and a method for manufacturing the plastic lens.

近年、有機フォトクロミック染料を応用したプラスチック製フォトクロミックレンズ(調光レンズともいう)が眼鏡用として市販されている。このフォトクロミックレンズは、明るい屋外で発色して高濃度のカラーレンズと同様な防眩効果を有し、室内に移ると高い透過率を回復する機能をもつ。フォトクロミックレンズには、所定の光が入射するとすばやく応答して高濃度で発色し、かつ上記光がない環境下に置かれると速やかに退色することが求められる。   In recent years, plastic photochromic lenses (also referred to as light control lenses) using organic photochromic dyes are commercially available for eyeglasses. This photochromic lens has the same anti-glare effect as a high-density color lens by coloring in a bright outdoors, and has a function of recovering high transmittance when moving indoors. A photochromic lens is required to respond quickly when predetermined light is incident and develop a color at a high density, and to discolor quickly when placed in an environment without the light.

このフォトクロミックレンズとしては、レンズ基板上にフォトクロミック色素が溶け込んでいる素材から成る膜、即ちフォトクロミック膜を設ける構成のレンズが広く用いられている。フォトクロミック膜については、優れた光応答性(反応速度及び発色濃度)、発色時の色調、及び、レンズ基板やハードコート層との密着性に優れたフォトクロミックレンズを得るための材料構成やその製造方法が種々検討されている。   As this photochromic lens, a lens having a structure in which a film made of a material in which a photochromic dye is dissolved on a lens substrate, that is, a photochromic film is provided is widely used. About photochromic film, material structure and method for producing photochromic lens with excellent photoresponsiveness (reaction speed and color density), color tone at the time of color development, and excellent adhesion to lens substrate and hard coat layer Various studies have been made.

例えば、下記特許文献1には、レンズの凸面側にフォトクロミック膜を形成する技術として、紫外線硬化型のフォトクロミック膜を形成する方法が記載されている。特許文献1においては、フォトクロミック膜の最適な膜厚は20μmから50μmと記載されており、またこのように20μm以上程度の厚みを有さないと、発色時の濃度、耐久性などが好適に保たれないと記載されている。
また、下記の特許文献2には、レンズの凸面に30μmの厚みのフォトクロミック膜を形成する技術が開示されている。
For example, Patent Document 1 listed below describes a method of forming an ultraviolet curable photochromic film as a technique for forming a photochromic film on the convex surface side of a lens. In Patent Document 1, the optimum film thickness of the photochromic film is described as 20 μm to 50 μm, and if the thickness is not more than about 20 μm, the density and durability at the time of color development are suitably maintained. It is stated that it does not hit.
Patent Document 2 below discloses a technique for forming a photochromic film having a thickness of 30 μm on the convex surface of a lens.

特開2007−77327号公報JP 2007-77327 A 特開2007−77398号公報JP 2007-77398 A

ところで、フォトクロミック膜は、その材料がアクリル系マトリックスの場合は紫外線硬化処理が施され、またウレタン系マトリックスの場合は熱硬化処理が施されて、膜として完成する。しかし、フォトクロミック膜の耐久性を高めるに、さらにこの上に保護膜やハードコート層が形成されるので、フォトクロミック膜自体の熱硬化処理工程後にも、他の加熱工程が追加されることになる。   By the way, when the material is an acrylic matrix, the photochromic film is subjected to an ultraviolet curing treatment, and when the material is a urethane matrix, a thermosetting treatment is performed to complete the film. However, in order to enhance the durability of the photochromic film, a protective film and a hard coat layer are further formed thereon, so that another heating process is added even after the thermosetting process of the photochromic film itself.

つまり、保護膜やハードコート層を形成する工程でも通常は加熱や紫外線照射等が施され、それに伴いレンズ基板やフォトクロミック膜も加熱されるので、後工程における加熱処理が避けられないこととなる。このため、その熱履歴によりフォトクロミック膜がある程度収縮して変形、基板に働く応力が強くなってしまう場合がある。応力が強くなると、特にレンズの厚みが薄い高屈折率材料基板や、レンズ基板自身に耐衝撃性を有するような比較的剛性の低いレンズの場合、応力による変形が大きくなる恐れがある。また、レンズ外周から中央に向けてレンズの厚みが薄くなるいわゆるマイナスレンズ(凹レンズ)の場合も、変形量が著しくなってしまう恐れがある。   That is, in the process of forming the protective film and the hard coat layer, usually, heating, ultraviolet irradiation, and the like are performed, and the lens substrate and the photochromic film are also heated accordingly, so that heat treatment in the subsequent process is inevitable. For this reason, the photochromic film may be contracted and deformed to some extent by the thermal history, and the stress acting on the substrate may become strong. When the stress becomes strong, especially in the case of a high refractive index material substrate having a thin lens thickness or a lens having a relatively low rigidity such that the lens substrate itself has impact resistance, the deformation due to the stress may increase. Also, in the case of a so-called minus lens (concave lens) in which the lens thickness decreases from the outer periphery of the lens toward the center, the amount of deformation may be significant.

以上の問題に鑑みて、本発明は、レンズの片面にフォトクロミック膜等のように20μm程度以上の比較的厚い膜を設ける場合において、膜形成後のレンズ製造工程における熱履歴によって生じる基板の変形を抑制することを目的とする。   In view of the above problems, in the case where a relatively thick film of about 20 μm or more such as a photochromic film or the like is provided on one side of a lens, the present invention reduces the deformation of the substrate caused by the thermal history in the lens manufacturing process after film formation. The purpose is to suppress.

上記課題を解決するため、本発明によるプラスチックレンズは、プラスチックレンズ用の基板の一方の面に、少なくともフォトクロミック膜と、ハードコート層とが形成され、この基板の他方の面に、フォトクロミック膜形成後のレンズ製造工程におけるフォトクロミック膜の熱変形により生じる基板への応力を緩和する応力緩和層が少なくとも形成されて成る構成とする。   In order to solve the above-described problems, a plastic lens according to the present invention has at least a photochromic film and a hard coat layer formed on one surface of a plastic lens substrate, and the photochromic film is formed on the other surface of the substrate. In this lens manufacturing process, at least a stress relaxation layer is formed to relieve stress on the substrate caused by thermal deformation of the photochromic film.

また、本発明によるプラスチックレンズの製造方法は、プラスチックレンズ用の基板の一方の面に、フォトクロミック膜を形成する工程と、この基板の他方の面に、フォトクロミック膜形成後のレンズ製造工程におけるフォトクロミック膜の熱変形により生じる基板への応力を緩和する応力緩和層を形成する工程と、フォトクロミック膜の上に、他の層を形成するための加熱又は熱の発生を伴う処理工程と、を含む。そして、応力緩和層を形成する工程を、この他の層を形成するための加熱又は熱の発生を伴う処理工程の前に行うことを特徴とする。   The method for producing a plastic lens according to the present invention includes a step of forming a photochromic film on one surface of a plastic lens substrate, and a photochromic film in a lens manufacturing step after the photochromic film is formed on the other surface of the substrate. A step of forming a stress relaxation layer that relieves stress on the substrate caused by thermal deformation of the substrate, and a processing step involving generation of heat or heat to form another layer on the photochromic film. And it is characterized by performing the process of forming a stress relaxation layer before the process process accompanied by the heating or heat generation for forming this other layer.

上述したように、本発明のプラスチックレンズにおいては、プラスチックレンズの片面にフォトクロミック膜を設けると共に、他方の面に応力緩和層を設け、フォトクロミック膜がレンズ製造工程中に熱変形することで生じる基板への応力を、この応力緩和層を設けることで緩和する。このように、フォトクロミック膜形成後の、ハードコート層等の他の材料層の製造工程におけるフォトクロミック膜から基板に作用する応力を緩和することで、基板の変形やフォトクロミック膜自体の熱変形を抑制することができる。このため、ハードコート層や他の材料層の表面に基板の変形によりクラック等が生じることを抑制ないしは回避することも可能となる。   As described above, in the plastic lens of the present invention, a photochromic film is provided on one side of the plastic lens and a stress relaxation layer is provided on the other side, and the substrate is formed by thermal deformation of the photochromic film during the lens manufacturing process. The stress is relaxed by providing this stress relaxation layer. In this way, by relaxing the stress acting on the substrate from the photochromic film in the manufacturing process of other material layers such as a hard coat layer after the photochromic film is formed, the deformation of the substrate and the thermal deformation of the photochromic film itself are suppressed. be able to. For this reason, it becomes possible to suppress or avoid the occurrence of cracks or the like due to the deformation of the substrate on the surface of the hard coat layer or other material layers.

また、本発明のプラスチックレンズの製造方法においては、上述した応力緩和層を形成する工程を、フォトクロミック膜が熱変形を生じるような、他の層を形成するための加熱又は熱の発生を伴う処理工程の前に行うものであり、例えばフォトクロミック膜の上に形成するプライマー層やハードコート層を熱硬化や光硬化により形成する場合、その工程の前に行うものである。この製造方法によれば、応力緩和層を予め形成しておくので、後工程におけるフォトクロミック膜の熱変形、これによる基板やハードコート層等に作用する応力を確実に抑制することが可能である。   Further, in the method for producing a plastic lens of the present invention, the above-described step of forming the stress relaxation layer is performed by heating or heat generation for forming another layer such that the photochromic film causes thermal deformation. For example, when the primer layer or the hard coat layer formed on the photochromic film is formed by heat curing or photocuring, it is performed before the step. According to this manufacturing method, since the stress relaxation layer is formed in advance, it is possible to reliably suppress the thermal deformation of the photochromic film in the subsequent process and the stress acting on the substrate, the hard coat layer, and the like.

また、本発明において、基板の屈折力と、フォトクロミック膜及び応力緩和層を形成した状態での加熱処理後の屈折力との差が、0.025D(ディオプトリー)未満となるようにすることが好ましい。具体的には、フォトクロミック膜及び応力緩和層形成後のレンズ製造工程中の熱履歴を予め設定し、この熱履歴に対して、基板の屈折力が上記の範囲となるように、フォトクロミック膜材料に合わせて応力緩和層の材料や厚さを選定することが好ましい。このように応力緩和層を構成することで、基板の変形量を確実に抑え、基板変形による度数不良の発生を回避することができる。   In the present invention, it is preferable that the difference between the refractive power of the substrate and the refractive power after the heat treatment in a state where the photochromic film and the stress relaxation layer are formed is less than 0.025D (diopter). . Specifically, the thermal history during the lens manufacturing process after forming the photochromic film and the stress relaxation layer is set in advance, and the photochromic film material is set so that the refractive power of the substrate is in the above range with respect to this thermal history. In addition, it is preferable to select the material and thickness of the stress relaxation layer. By configuring the stress relaxation layer in this manner, the amount of deformation of the substrate can be reliably suppressed, and occurrence of power defects due to substrate deformation can be avoided.

また本発明のプラスチックレンズは、応力緩和層の膜厚がフォトクロミック膜の厚さの40%以上120%以下であることが好ましい。応力緩和層の厚みがフォトクロミック膜の厚さ対して上記範囲である場合に、フォトクロミック膜形成後の加熱工程における基板の変形が抑制される。応力緩和層の厚みが上記範囲より薄い場合には、フォトクロミック層による変形効果が少ない。また、応力緩和層の厚みが上記範囲よりも厚い場合には、応力緩和層自身の応力が過多になる場合がある。   In the plastic lens of the present invention, the thickness of the stress relaxation layer is preferably 40% or more and 120% or less of the thickness of the photochromic film. When the thickness of the stress relaxation layer is within the above range with respect to the thickness of the photochromic film, the deformation of the substrate in the heating process after the formation of the photochromic film is suppressed. When the thickness of the stress relaxation layer is thinner than the above range, the deformation effect by the photochromic layer is small. Further, when the thickness of the stress relaxation layer is thicker than the above range, the stress of the stress relaxation layer itself may be excessive.

さらに、フォトクロミック層のポリマー成分と応力緩和層のポリマー成分が同一種であることが好ましい。ここで、同一種とは、ポリマーを構成するモノマー骨格が類似するものであり、モノマーの側鎖やモノマーを構成する元素(具体的には炭素)の個数など、詳細に一致する必要はない。たとえば、フォトクロミック層のポリマー成分が何らかの官能基を修飾したアクリルモノマーを使用している場合、応力緩和層のポリマー成分が修飾官能基を有さないアクリルモノマーからなるアクリル層である場合も、本構成に含まれる。
主体となるポリマー成分を一致させることにより、フォトクロミック層と応力緩和層の熱的作用や膨張等が実質的に等しくなり、フォトクロミックレンズの時間経過による変形が抑制される。
Furthermore, the polymer component of the photochromic layer and the polymer component of the stress relaxation layer are preferably the same type. Here, the same species are those in which the monomer skeleton constituting the polymer is similar, and it is not necessary to match in detail such as the side chain of the monomer and the number of elements (specifically, carbon) constituting the monomer. For example, when the photochromic layer polymer component uses an acrylic monomer modified with some functional group, the stress relaxation layer polymer component is an acrylic layer made of an acrylic monomer having no modified functional group. include.
By matching the main polymer components, the thermal action and expansion of the photochromic layer and the stress relaxation layer are substantially equal, and deformation of the photochromic lens over time is suppressed.

本発明のプラスチックレンズ及びその製造方法によれば、フォトクロミック膜形成後の加熱工程におけるフォトクロミック膜の熱変形を抑制して基板の変形を抑制することができる。   According to the plastic lens and the manufacturing method thereof of the present invention, the deformation of the substrate can be suppressed by suppressing the thermal deformation of the photochromic film in the heating step after the photochromic film is formed.

本発明の実施の形態に係るプラスチックレンズの概略断面構成図である。It is a schematic sectional block diagram of the plastic lens which concerns on embodiment of this invention. 比較例によるプラスチックレンズの加熱工程前後の基板変形量を示す図である。It is a figure which shows the board | substrate deformation amount before and behind the heating process of the plastic lens by a comparative example. 参考例によるプラスチックレンズの加熱工程前後の基板変形量を示す図である。It is a figure which shows the board | substrate deformation amount before and behind the heating process of the plastic lens by a reference example. 本発明の実施の形態に係るプラスチックレンズの製造方法の工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of the manufacturing method of the plastic lens which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施例及び比較例における製造工程ごとの変形量を示す図である。It is a figure which shows the deformation amount for every manufacturing process in the Example and comparative example of this invention. 本発明の実施例及び比較例におけるフォトクロミック膜の厚さに対する変形量を示す図である。It is a figure which shows the deformation amount with respect to the thickness of the photochromic film | membrane in the Example and comparative example of this invention.

以下本発明の実施の形態に係るプラスチックレンズ及びその製造方法について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。なお、下記の各実施の形態においては眼鏡用のフォトクロミックレンズ及びその製造方法に適用した例について説明するが、眼鏡用以外の目的でフォトクロミック機能を付与する各種の光学レンズを製造する際にも適用可能である。説明は以下の順序で行う。   Hereinafter, although the plastic lens which concerns on embodiment of this invention and its manufacturing method are demonstrated, this invention is not limited to the following embodiment. In each of the following embodiments, an example applied to a photochromic lens for eyeglasses and a method for manufacturing the same will be described, but it is also applicable to manufacturing various optical lenses that provide a photochromic function for purposes other than for eyeglasses. Is possible. The description will be made in the following order.

1.プラスチックレンズの実施の形態
(1)レンズ構成
(2)基板
(3)フォトクロミック膜
(4)応力緩和層
(5)ハードコート層
(6)反射防止膜
2.プラスチックレンズの製造方法の実施の形態
3.実施例及び比較例
1. 1. Embodiment of plastic lens (1) Lens configuration (2) Substrate (3) Photochromic film (4) Stress relaxation layer (5) Hard coat layer (6) Antireflection film Embodiment 3 of manufacturing method of plastic lens Examples and Comparative Examples

1.プラスチックレンズの実施の形態
(1)レンズ構成
先ず、本発明の実施の形態に係るプラスチックレンズの構成について説明する。本実施の形態に係るプラスチックレンズは、図1にその概略断面図を示すように、例えば凸面より成る第1の面1Aと凹面より成る第2の面1Bとをそれぞれ表裏の光学面として構成される基板1上に、フォトクロミック膜2等の各層が形成されて構成される。図1に示す例では、第1の面1A上にフォトクロミック膜2が形成され、第2の面1B上に、応力緩和層3が形成される。フォトクロミック膜2及び応力緩和層3と基板1との間には、図示しないが必要に応じて密着性を高める下地層が形成されていてもよい。第1の面1A上のフォトクロミック膜2の上には、密着性を高めるプライマー層4が必要に応じて形成され、その上にハードコート層5と反射防止膜6が形成される。また、応力緩和層3の上にも同様に、必要に応じてプライマー層7が形成され、更にその上にハードコート層8が形成される。なお、図示しないが例えば第1の面1A上の反射防止膜6の上等に、撥水性や防汚性等の他の機能を有する機能層を設けてもよい。
1. Embodiment of Plastic Lens (1) Lens Configuration First, the configuration of a plastic lens according to an embodiment of the present invention will be described. As shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 1, the plastic lens according to the present embodiment is configured by, for example, a first surface 1A made of a convex surface and a second surface 1B made of a concave surface as front and back optical surfaces, respectively. Each layer such as the photochromic film 2 is formed on the substrate 1. In the example shown in FIG. 1, the photochromic film 2 is formed on the first surface 1A, and the stress relaxation layer 3 is formed on the second surface 1B. Between the photochromic film 2 and the stress relieving layer 3 and the substrate 1, although not shown, an underlayer for improving adhesion may be formed as necessary. On the photochromic film 2 on the first surface 1A, a primer layer 4 for improving adhesion is formed as necessary, and a hard coat layer 5 and an antireflection film 6 are formed thereon. Similarly, a primer layer 7 is formed on the stress relaxation layer 3 as necessary, and a hard coat layer 8 is further formed thereon. Although not shown, for example, a functional layer having other functions such as water repellency and antifouling property may be provided on the antireflection film 6 on the first surface 1A.

応力緩和層3は、フォトクロミック膜2の形成後に、この上に各層を形成する際の加熱に際して、基板1の変形をある程度抑える機能を有する材料構成とする。前述したように、フォトクロミック膜2が20μm程度以上と比較的厚い場合、フォトクロミック膜2形成後のハードコート層等の形成工程における熱硬化等の加熱の際に、フォトクロミック膜2内においてもある程度重合が進むなどの理由により、フォトクロミック膜2が収縮する。熱硬化の際の温度上昇は一般的に70℃〜120℃程度であるが、紫外線等の光硬化型樹脂を用いる場合の光照射時にも70℃程度の温度上昇がある。したがって、熱硬化性及び光硬化性材料の層を形成する場合にはともに、フォトクロミック膜2の収縮がある程度生じることとなる。このようにフォトクロミック膜2が収縮した状態でハードコート層5等が硬化すると各層の形状が保持されてしまい、最終的に基板1が変形してしまう。このような変形が生じると、例えば基板1の材料が高屈折率で厚さが比較的薄く、また曲率の小さい(曲率半径の大きい)メニスカスレンズの場合、加熱工程前と比べて曲率がより小さく(曲率半径がより大きく)、フラットに近い形状となってしまう場合があり、逆向きの曲率となってしまうこともある。   The stress relieving layer 3 has a material structure that has a function of suppressing deformation of the substrate 1 to some extent upon heating when forming each layer thereon after the photochromic film 2 is formed. As described above, when the photochromic film 2 is relatively thick, such as about 20 μm or more, the photochromic film 2 is polymerized to some extent in the photochromic film 2 during heating such as thermosetting in the formation process of the hard coat layer after the photochromic film 2 is formed. The photochromic film 2 contracts due to a reason such as advancement. The temperature rise during thermosetting is generally about 70 ° C. to 120 ° C., but there is also a temperature rise of about 70 ° C. during light irradiation when using a photocurable resin such as ultraviolet rays. Therefore, in the case of forming the thermosetting and photocurable material layers, the photochromic film 2 contracts to some extent. When the hard coat layer 5 and the like are cured with the photochromic film 2 contracted in this way, the shape of each layer is maintained, and the substrate 1 is finally deformed. When such deformation occurs, for example, in the case of a meniscus lens having a high refractive index, a relatively thin thickness, and a small curvature (large curvature radius), the curvature of the substrate 1 is smaller than that before the heating step. (The radius of curvature is larger), the shape may be nearly flat, and the curvature may be reversed.

比較例として、このような応力緩和層3を設けない従来構成のフォトクロミックレンズにおいて、加熱工程前後の基板の変形量の一例を測定した結果を図2に示す。この例においては、基板としてポリチオール系の屈折率1.67の材料を用い、片面に凸面の光学面を形成した状態でフォトクロミック膜を形成し、その後他方の面を光学研磨して凹面とし、両面で球面度数−1.25の度数が得られる構成とした。その後、フォトクロミック膜上にハードコート層を形成する工程の前後に基板の各位置における凸面の高さを測定して、基板の変形量として求めたものである。図2において、実線aはハードコート層(HC)形成前、実線bはハードコート層(HC)形成後の基板の形状を示す。図2から明らかなように、ハードコート層形成時の加熱処理によりフォトクロミック膜が収縮し、基板の凸面が凹面状に変形していることがわかる。   As a comparative example, FIG. 2 shows a result of measuring an example of the deformation amount of the substrate before and after the heating process in a photochromic lens having a conventional configuration in which such a stress relaxation layer 3 is not provided. In this example, a polythiol-based material having a refractive index of 1.67 is used as a substrate, a photochromic film is formed with a convex optical surface formed on one surface, and the other surface is optically polished to form a concave surface. Thus, the power of spherical power -1.25 is obtained. Thereafter, the height of the convex surface at each position of the substrate was measured before and after the step of forming the hard coat layer on the photochromic film, and obtained as the amount of deformation of the substrate. In FIG. 2, the solid line a indicates the shape of the substrate before the hard coat layer (HC) is formed, and the solid line b indicates the shape of the substrate after the hard coat layer (HC) is formed. As is clear from FIG. 2, it can be seen that the photochromic film is contracted by the heat treatment during the formation of the hard coat layer, and the convex surface of the substrate is deformed into a concave shape.

一方、参考例として、同じ基板を用いてフォトクロミック膜を省略してハードコート層を形成した場合の基板の変形量を同様に求めた。この結果を図3に示す。図3において実線cはハードコート層形成前、実線dはハードコート層形成後の基板形状を示す。図3から明らかなように、フォトクロミック膜を設けない場合は、ハードコート層形成時の加熱工程によっても基板の変形が殆ど生じないことがわかる。また図3及び図4の結果を比較すると、フォトクロミック膜を設ける場合に、基板材料の屈折率が比較的高く、また球面度数が比較的小さい場合、フォトクロミック膜の変形が顕著となることがわかる。図2に示すように基板が変形して凸面側が凹面状となってしまうと、場合によっては、眼鏡レンズとしてフレームに装着する場合に、レンズの表裏を取り違えるなどの事態も発生し得る。   On the other hand, as a reference example, the deformation amount of the substrate when the hard coat layer was formed by omitting the photochromic film using the same substrate was similarly obtained. The result is shown in FIG. In FIG. 3, the solid line c indicates the substrate shape before the hard coat layer is formed, and the solid line d indicates the substrate shape after the hard coat layer is formed. As can be seen from FIG. 3, when the photochromic film is not provided, the substrate is hardly deformed even by the heating process when forming the hard coat layer. Comparison of the results shown in FIGS. 3 and 4 shows that when the photochromic film is provided, the deformation of the photochromic film becomes significant when the refractive index of the substrate material is relatively high and the spherical power is relatively small. As shown in FIG. 2, when the substrate is deformed and the convex side becomes concave, when the spectacle lens is attached to the frame, a situation may occur in which the front and back of the lens are mistaken.

これに対し、本実施の形態のプラスチックレンズにおいては、上述したように基板1の第2の面1B側に応力緩和層3が設けられる。このためこの応力緩和層3において、ハードコート層5等の形成時における加熱工程時に、フォトクロミック膜2と同程度に収縮することで、フォトクロミック膜2の収縮により基板1にかかる応力を緩和し、確実に基板1の変形を抑制することができる。したがって、度数等の光学特性のばらつき、変動を抑えてプラスチックレンズを製造することが可能となる。また、基板1の変形を抑制することによってフォトクロミック膜2上に形成するハードコート層5等の各層の割れや剥れも抑制し、生産性よくフォトクロミック機能を有するプラスチックレンズを製造することが可能となる。   On the other hand, in the plastic lens of the present embodiment, the stress relaxation layer 3 is provided on the second surface 1B side of the substrate 1 as described above. For this reason, in this stress relaxation layer 3, the stress applied to the substrate 1 due to the shrinkage of the photochromic film 2 is relieved by contracting to the same extent as the photochromic film 2 during the heating step in forming the hard coat layer 5 and the like. In addition, the deformation of the substrate 1 can be suppressed. Accordingly, it is possible to manufacture a plastic lens while suppressing variations and fluctuations in optical characteristics such as power. Further, by suppressing the deformation of the substrate 1, it is possible to suppress the cracking and peeling of each layer such as the hard coat layer 5 formed on the photochromic film 2, and to manufacture a plastic lens having a photochromic function with high productivity. Become.

なお、このような応力緩和層3を設ける場合に、他の層を省略して層数の増加を抑えることも可能である。例えば、応力緩和層3の上のプライマー層7はこの上のハードコート層8との密着性及び耐衝撃性を得るために形成されるが、応力緩和層3として例えばアクリル系樹脂やウレタン系樹脂を用いることで目的とする耐衝撃性が得られ、且つ、応力緩和層3とハードコート層8との密着性が十分得られる場合はこのプライマー層7を省略し、すなわち第2の面1B側のプライマー層7を応力緩和層3で代替することが可能である。   In addition, when providing such a stress relaxation layer 3, it is also possible to omit the other layers and to suppress the increase in the number of layers. For example, the primer layer 7 on the stress relaxation layer 3 is formed in order to obtain adhesion and impact resistance with the hard coat layer 8 on the stress relaxation layer 3. As the stress relaxation layer 3, for example, an acrylic resin or a urethane resin When the desired impact resistance is obtained and sufficient adhesion between the stress relaxation layer 3 and the hard coat layer 8 is obtained, the primer layer 7 is omitted, that is, the second surface 1B side. It is possible to replace the primer layer 7 with the stress relaxation layer 3.

また、応力緩和層3の膜厚はフォトクロミック膜2の膜厚と同程度のオーダーの厚さ、例えば10μm以上程度とすることが好ましい。このように膜厚を比較的厚くする場合は、一般的なアクリル系樹脂やウレタン系樹脂を用いることができると共に、ハードコート層等の材料の選択条件を緩和することができるという利点も有する。これについて説明すると、基板1として例えば屈折率1.65程度以上の比較的高屈折率の材料を用いる場合は、この上に形成するハードコート層5等の屈折率が低いと干渉縞が発生し、外観が悪くなってしまう。この干渉縞の発生を抑えるためには、ハードコート層5等の材料を高屈折率とする必要がある。一方、フォトクロミック膜2を設ける場合は、このフォトクロミック膜2を前述したように20μm程度と可視光の波長と比べて格段に厚く形成するので、このような干渉縞が発生せず、ハードコート層5等の材料を基板1と同程度の高屈折率とする必要はなくなる。しかしながら、例えばディップ法等によってハードコート層5及び8の材料をコーティングする場合は、第2の面1B側にも同じ材料のハードコート層8が形成されるので、第2の面1B側での干渉縞を抑えるために、やはり高屈折率材料を用いる必要がある。   Further, the thickness of the stress relaxation layer 3 is preferably set to a thickness on the same order as the thickness of the photochromic film 2, for example, about 10 μm or more. Thus, when making a film thickness comparatively thick, while being able to use general acrylic resin and urethane type resin, it also has the advantage that the selection conditions of materials, such as a hard-coat layer, can be eased. For example, when a relatively high refractive index material having a refractive index of about 1.65 or more is used as the substrate 1, interference fringes are generated if the hard coat layer 5 or the like formed thereon has a low refractive index. The appearance will be worse. In order to suppress the generation of the interference fringes, the material such as the hard coat layer 5 needs to have a high refractive index. On the other hand, when the photochromic film 2 is provided, the photochromic film 2 is formed to be much thicker than the wavelength of visible light, about 20 μm, as described above. Such a material is not required to have a refractive index as high as that of the substrate 1. However, when the hard coat layers 5 and 8 are coated by the dip method or the like, for example, the hard coat layer 8 of the same material is also formed on the second surface 1B side. In order to suppress interference fringes, it is also necessary to use a high refractive index material.

これに対し、本実施の形態において、応力緩和層3の厚さをフォトクロミック膜2と同程度、または10μm以上程度に厚くする場合は、基板1の屈折率が高い場合でも干渉縞を抑える必要がなくなる。したがって、ハードコート層5及び8をディップ法により形成する場合においても、その材料として比較的低い屈折率の材料も用いることが可能となる。このため、高屈折率を得るためにハードコート層のコーティング液に添加する酸化チタン微粒子等の材料が不要となるなど材料選択の自由度が得られ、コストの低減化を図ることが可能となる。   On the other hand, in this embodiment, when the thickness of the stress relaxation layer 3 is about the same as that of the photochromic film 2 or about 10 μm or more, it is necessary to suppress the interference fringes even when the refractive index of the substrate 1 is high. Disappear. Therefore, even when the hard coat layers 5 and 8 are formed by the dipping method, a material having a relatively low refractive index can be used as the material. This eliminates the need for materials such as titanium oxide fine particles to be added to the coating liquid for the hard coat layer in order to obtain a high refractive index, thereby providing a degree of freedom in material selection and reducing costs. .

次に、このプラスチックレンズ10の各部の材料及び形成方法について説明する。
(2)基板材料
本実施の形態に係るプラスチックレンズに適用可能な基板の材料としては、例えばメチルメタクリレートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ポリウレタンとポリウレアの共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エン−チオール反応を利用したスルフィド樹脂、硫黄を含むビニル重合体等が挙げられる。これら材料に、必要に応じて各種添加剤が含まれていてもよい。その中でも、比較的屈折率が高く、1.65程度以上の屈折率をもつ基板材料は、同じ度数を得るための曲率を小さく、すなわち薄型となるので基板の変形が問題となりやすい。したがって、本発明を適用することが特に好ましい。
Next, the material and forming method of each part of the plastic lens 10 will be described.
(2) Substrate material Examples of the substrate material applicable to the plastic lens according to the present embodiment include a copolymer of methyl methacrylate and one or more other monomers, diethylene glycol bisallyl carbonate, and one or more other monomers. Copolymer, polyurethane / polyurea copolymer, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, unsaturated polyester, polyethylene terephthalate, polyurethane, polythiourethane, sulfide resin utilizing ene-thiol reaction, sulfur-containing vinyl polymer Examples include coalescence. These materials may contain various additives as necessary. Among them, a substrate material having a relatively high refractive index and having a refractive index of about 1.65 or more has a small curvature for obtaining the same power, that is, becomes thin, and thus deformation of the substrate tends to be a problem. Therefore, it is particularly preferable to apply the present invention.

なお、一般的に眼鏡用のプラスチックレンズとしては予め表裏の光学面が完成されてから各種コーティング膜を形成するフィニッシュドレンズや、一方の面、例えば凸面側のみに光学面が形成されており、他方の面、例えば凹面側には受注後に光学面を形成してからコーティングを施すいわゆるセミフィニッシュドレンズがあるが、本発明はいずれにも適用可能である。フィニッシュドレンズ、セミフィニッシュドレンズ共に、後述する製造方法の実施の形態において説明するように、所定の工程順序で応力緩和層を形成することで、基板の変形を抑える効果を得ることができる。なお、光学面の形成方法は機械的加工、成形加工等特に限定されず、いずれの加工法による場合も利用可能である。   In general, as a plastic lens for spectacles, the optical surface is formed only on one surface, for example, the convex surface side, and the finished lens that forms various coating films after the optical surfaces on the front and back sides are completed in advance. There is a so-called semi-finished lens in which the other surface, for example, the concave surface side, is coated after forming an optical surface after receiving an order, but the present invention is applicable to both. In both the finished lens and the semi-finished lens, an effect of suppressing deformation of the substrate can be obtained by forming the stress relaxation layer in a predetermined process sequence, as will be described in the embodiment of the manufacturing method described later. In addition, the formation method of an optical surface is not specifically limited, such as a mechanical process and a shaping | molding process, The case where any processing method is used can be utilized.

(3)フォトクロミック膜
フォトクロミック膜は、フォトクロミック色素を有するコーティング液を基板の一方の面、例えば凸面側に塗布及び硬化することにより成膜される。
コーティング液は、硬化性成分、フォトクロミック色素、重合開始剤、及び、任意に添加される添加剤から構成することができる。コーティング液の調製方法は特に限定されず、また、各成分の添加順序は特に限定されず全ての成分を同時に添加してもよいし、モノマー成分のみを予め混合し、重合させる直前にフォトクロミック色素や他の添加剤を添加・混合してもよい。
(3) Photochromic film The photochromic film is formed by applying and curing a coating liquid having a photochromic dye on one surface, for example, the convex surface side of the substrate.
A coating liquid can be comprised from a sclerosing | hardenable component, a photochromic pigment | dye, a polymerization initiator, and the additive added arbitrarily. The method for preparing the coating liquid is not particularly limited, and the order of addition of the respective components is not particularly limited, and all the components may be added at the same time. Other additives may be added and mixed.

またこのコーティング液は、25℃での粘度が20〜500cpであることが好ましく、50〜300cpであることがより好ましく、60〜200cpであることが特に好ましい。この粘度範囲とすることにより、コーティング液の塗布が容易となり、所望の厚さのフォトクロミック膜を容易に得ることができる。
以下、コーティング液の各成分について詳述する。
The coating liquid preferably has a viscosity at 25 ° C. of 20 to 500 cp, more preferably 50 to 300 cp, and particularly preferably 60 to 200 cp. By setting it as this viscosity range, application | coating of a coating liquid becomes easy and the photochromic film | membrane of desired thickness can be obtained easily.
Hereinafter, each component of the coating liquid will be described in detail.

(3−1)硬化性成分
フォトクロミック膜形成のために使用可能な硬化性成分は、特に限定されず、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、ビニル基、アリール基、スチリル基等のラジカル重合性基を有する公知の光重合性モノマーやオリゴマー、それらのプレポリマーを用いることができる。これらのなかでも、入手のし易さ、硬化性の良さから(メタ)アクリロイル基又は(メタ)アクリロイルオキシ基をラジカル重合性基として有する化合物が好ましい。なお、「(メタ)アクリロイル」とは、アクリロイルとメタクリロイルの両方を示す。
具体的な硬化性成分としては、特開2008−33223号公報、特開2007−77327号公報等に記載されている成分を使用することができる。
(3-1) Curing Component The curable component that can be used for forming the photochromic film is not particularly limited, and includes (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group, vinyl group, aryl group, styryl group, and the like. Known photopolymerizable monomers and oligomers having radically polymerizable groups, and prepolymers thereof can be used. Among these, a compound having a (meth) acryloyl group or a (meth) acryloyloxy group as a radically polymerizable group is preferable because it is easily available and has good curability. Note that “(meth) acryloyl” refers to both acryloyl and methacryloyl.
As specific curable components, components described in JP2008-33223A, JP2007-77327A, and the like can be used.

(3−2)フォトクロミック色素化合物
フォトクロミック色素化合物としては、公知のものを使用することができ、例えば、フルギミド化合物、スピロオキサジン化合物、クロメン化合物等のフォトクロミック色素化合物が挙げられ、本発明においては、これらのフォトクロミック色素化合物を特に制限なく使用することができる。
フルギミド化合物、スピロオキサジン化合物及びクロメン化合物としては、例えば、特開平2−28154号公報、特開昭62−288830号公報、WO94/22850号明細書、WO96/14596号明細書などに記載されている化合物が好適に使用できる。
優れたフォトクロミック性を有する化合物として、例えば、特開2001−114775号公報、特開2001−031670号公報、特開2001−011067号公報、特開2001−011066号公報、特開2000−347346号公報、特開2000−344762号公報、特開2000−344761号公報、特開2000−327676号公報、特開2000−327675号公報、特開2000−256347号公報、特開2000−229976号公報、特開2000−229975号公報、特開2000−229974号公報、特開2000−229973号公報、特開2000−229972号公報、特開2000−219687号公報、特開2000−219686号公報、特開2000−219685号公報、特開平11−322739号公報、特開平11−286484号公報、特開平11−279171号公報、特開平10−298176号公報、特開平09−218301号公報、特開平09−124645号公報、特開平08−295690号公報、特開平08−176139号公報、特開平08−157467号公報等に開示された化合物も好適に使用することができる。
(3-2) Photochromic dye compound As the photochromic dye compound, known ones can be used, and examples thereof include photochromic dye compounds such as a fulgimide compound, a spirooxazine compound, and a chromene compound. The photochromic dye compound can be used without particular limitation.
Examples of the fulgimide compound, spirooxazine compound, and chromene compound are described in, for example, JP-A-2-28154, JP-A-62-2288830, WO94 / 22850, and WO96 / 14596. A compound can be used conveniently.
As compounds having excellent photochromic properties, for example, JP 2001-114775 A, JP 2001-031670 A, JP 2001-011067 A, JP 2001-011066 A, JP 2000-347346 A. JP, 2000-344762, JP 2000-344761, JP 2000-327676, JP 2000-327675, JP 2000-256347, JP 2000-229976, JP 2000-229975, JP 2000-229974, JP 2000-229993, JP 2000-229972, JP 2000-219687, JP 2000-219686, JP 2000 No. 219865, Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 11-322739, 11-286484, 11-279171, 10-298176, 09-218301, 09-124645, 08 The compounds disclosed in JP-A-295690, JP-A No. 08-176139, JP-A No. 08-157467 and the like can also be suitably used.

これらフォトクロミック色素化合物の中でも、クロメン系フォトクロミック色素化合物は、フォトクロミック特性の耐久性が他のフォトクロミック色素化合物に比べ高く、さらにフォトクロミック特性の発色濃度及び退色速度の向上が他のフォトクロミック色素化合物に比べて特に大きいため特に好適に使用することができる。さらに、これらクロメン系フォトクロミック色素化合物中でもその分子量が540以上の化合物は、本発明によるフォトクロミック特性の発色濃度及び退色速度の向上が他のクロメン系フォトクロミック色素化合物に比べて特に大きいため好適に使用することができる。   Among these photochromic dye compounds, the chromene-based photochromic dye compounds have higher photochromic property durability than other photochromic dye compounds, and the improvement in color density and fading speed of the photochromic properties is particularly superior to other photochromic dye compounds. Since it is large, it can be used particularly preferably. Furthermore, among these chromene-based photochromic dye compounds, compounds having a molecular weight of 540 or more are preferably used since the improvement in the color density and the fading speed of the photochromic properties according to the present invention are particularly large compared to other chromene-based photochromic dye compounds. Can do.

(3−3)光重合開始剤
光重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾフェノール、アセトフェノン、4,4'−ジクロロベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−イソプロピルチオオキサントン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォシフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1等が挙げられ、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−イソプロピルチオオキサントン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォシフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイドが好ましい。
これら光重合開始剤は、複数の種類のものを適宜混合して使用することができ、光重合開始剤の硬化性組成物全量に対する配合量としては、ラジカル重合性単量体100重量部に対して、通常0.001〜5重量部であり、0.1〜1重量部であると好ましい。
(3-3) Photopolymerization initiator The photopolymerization initiator is not particularly limited. For example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, benzophenol, acetophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, diethoxyacetophenone, 2 -Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzylmethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2 Isopropylthiooxane, bis (2,6-dimethoxybenzoyl-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4, 6-Trimethylbenzoyldiphenyl-sulfur Sphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 and the like, such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-isopropylthiooxanthone, bis (2,6-dimethoxy) Benzoyl-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl-phosphine oxide are preferred.
These photopolymerization initiators can be used by appropriately mixing a plurality of types, and the blending amount of the photopolymerization initiator with respect to the total amount of the curable composition is based on 100 parts by weight of the radical polymerizable monomer. In general, it is 0.001 to 5 parts by weight, preferably 0.1 to 1 part by weight.

なお、光重合以外の方法で硬化させる場合には、例えば、熱重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシジカーボネート、クミルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル;ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルオキシカーボネート等のパーカーボネート類;2,2'−アゾピスイソプチロニトリル、2,2'−アゾピス(4−ジメチルバレロニトリル)、2,2'−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1'−アゾビス(シクロヘキサン−1−カーボニトリル)等のアゾ化合物等が挙げられる。   In the case of curing by a method other than photopolymerization, for example, as a thermal polymerization initiator, diacyl peroxide such as benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, etc. Peroxyesters such as t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxydicarbonate, cumylperoxyneodecanate, t-butylperoxybenzoate; diisopropylperoxydicarbonate, di-2 -Percarbonates such as ethylhexyl peroxydicarbonate, di-sec-butyloxycarbonate; 2,2'-azopisisoptyronitrile, 2,2'-azopis (4-dimethylvaleronitrile), 2,2'- Azobis (2-methylbutyroni Lil), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) azo compounds such like.

これら熱重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、重合性単量体の種類や組成によって異なるが、通常、全重合性単量体100重量部に対して0.01〜10重量部の範囲で用いるのが好適である。上記熱重合開始剤は単独で用いてもよいし、複数を混合して用いてもよい。   The amount of these thermal polymerization initiators used varies depending on the polymerization conditions, the type of initiator, the type and composition of the polymerizable monomer, but is generally 0.01 to 10 parts per 100 parts by weight of the total polymerizable monomer. It is preferable to use in the range of parts by weight. The above thermal polymerization initiators may be used alone or in combination.

(3−4)添加剤
コーティング液には、フォトクロミック色素の耐久性の向上、発色速度の向上、退色速度の向上や成形性の向上のために、さらに界面活性剤、酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、着色防止剤、帯電防止剤、蛍光染料、染料、顔料、香料、可塑剤等の添加剤を添加してもよい。これら添加剤としては、公知の化合物が何ら制限なく使用される。
(3-4) Additives In order to improve the durability of the photochromic dye, the color development speed, the fading speed and the moldability, the coating liquid further contains a surfactant, an antioxidant, and a radical scavenger. , UV stabilizers, UV absorbers, mold release agents, anti-coloring agents, antistatic agents, fluorescent dyes, dyes, pigments, fragrances, plasticizers, and other additives may be added. As these additives, known compounds are used without any limitation.

また界面活性剤としては、ノニオン系、アニオン系、カチオン系の何れも使用できる。コーティング液への溶解性を考慮するとノニオン系界面活性剤を用いるのが好ましい。   Further, as the surfactant, any of nonionic, anionic and cationic types can be used. In consideration of solubility in the coating liquid, it is preferable to use a nonionic surfactant.

酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤としては、ヒンダードアミン光安定剤、ヒンダードフェノール酸化防止剤、フェノール系ラジカル補足剤、イオウ系酸化防止剤、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物等を好適に使用できる。これら酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤は、2種以上を混合して使用してもよい。さらにこれらの非重合性化合物の使用に当たっては、界面活性剤と酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤を併用して使用してもよい。   Antioxidants, radical scavengers, UV stabilizers, UV absorbers include hindered amine light stabilizers, hindered phenol antioxidants, phenol radical scavengers, sulfur antioxidants, benzotriazole compounds, benzophenone compounds Etc. can be used suitably. These antioxidants, radical scavengers, ultraviolet stabilizers, and ultraviolet absorbers may be used in combination of two or more. Furthermore, when using these non-polymerizable compounds, surfactants and antioxidants, radical scavengers, UV stabilizers, and UV absorbers may be used in combination.

安定剤の中でも、硬化させる際のフォトクロミック色素の劣化防止、または得られたフォトクロミック膜の耐久性向上の観点から好ましい安定剤としては、ヒンダードアミン光安定剤が挙げられる。ヒンダードアミン光安定剤としては、公知の化合物を何ら制限なく用いることができる。   Among the stabilizers, a hindered amine light stabilizer may be mentioned as a preferable stabilizer from the viewpoint of preventing deterioration of the photochromic dye during curing or improving the durability of the obtained photochromic film. As the hindered amine light stabilizer, known compounds can be used without any limitation.

また、コーティング液においては、成膜時の均一性を向上させるために、界面活性剤、レベリング剤等を含有させることが好ましく、特にレベリング性を有するシリコーン系・フッ素系レベリング剤を添加することが好ましい。   The coating liquid preferably contains a surfactant, a leveling agent, etc. in order to improve uniformity during film formation, and in particular, a silicone-based / fluorine-based leveling agent having leveling properties may be added. preferable.

さらに、コーティング液に、密着性を向上させるためにカップリング剤等の密着剤、またはカップリング剤の重合触媒を添加してもよい。   Furthermore, an adhesion agent such as a coupling agent or a polymerization catalyst for the coupling agent may be added to the coating liquid in order to improve adhesion.

(3−5)硬化条件
コーティング液を基板の表面に塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法等が通常行われる方法として適用することができる。組成物の粘性、面精度の面からスピンコート法が好ましい。スピンコート法による場合は特に、膜厚をより精度良く制御できる点や、セミフィニッシュドレンズに適用する場合は基板の片面のみに塗膜されるため他方の面を光学研磨してもコーティング液に無駄が生じないという利点を有する。
(3-5) Curing conditions As a method of applying the coating liquid to the surface of the substrate, for example, a spin coating method, a dip method, a spray method, or the like can be applied as a method that is usually performed. The spin coating method is preferable from the viewpoint of the viscosity and surface accuracy of the composition. Especially when the spin coating method is used, the film thickness can be controlled more accurately. When applied to a semi-finished lens, the coating is applied to only one side of the substrate, so the other side can be optically polished to form a coating solution. This has the advantage that no waste occurs.

また、基板の一方の面にコーティング液を塗布する前に、後述する密着性向上の下地層を形成すると好ましい。また、被塗膜面を酸、アルカリ、オゾン等の酸化還元処理及び各種有機溶媒による化学的処理、プラズマ、紫外線等の物理的処理、各種洗剤を用いる洗剤処理を行うことによって基板1とフォトクロミック膜2用のコーティング液との密着性等を向上させることができる。   Further, it is preferable to form an undercoat layer for improving adhesion described later before applying the coating liquid to one surface of the substrate. Further, the substrate 1 and the photochromic film are formed by subjecting the surface to be coated to oxidation / reduction treatment such as acid, alkali and ozone, chemical treatment using various organic solvents, physical treatment such as plasma and ultraviolet rays, and detergent treatment using various detergents. Adhesiveness with the coating liquid for 2 can be improved.

コーティング液の硬化条件は特に限定されず、用いるラジカル重合性単量体の種類に応じた公知の重合方法を採用することができる。重合開始手段としては、熱、もしくは紫外線、α線、β線、γ線等の照射あるいは両者の併用によって行うことができ、好ましくは紫外線を照射し、硬化させた後、さらに加熱硬化させることが好ましい。
紫外線による硬化に用いる光源としては公知の光源を何ら制限無く用いることができ、具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク、殺菌灯、無電極ランプ等が挙げられる。
また、光照射時間は紫外線重合開始剤の種類、吸収波長、感度、さらには所望のフォトクロミック膜2の膜厚等によって適宜決めることができる。
The curing conditions for the coating liquid are not particularly limited, and a known polymerization method according to the type of radical polymerizable monomer to be used can be employed. The polymerization initiation means can be carried out by heat, irradiation with ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays or the like, or a combination of both. Preferably, ultraviolet rays are irradiated and cured, followed by further heat curing. preferable.
As a light source used for curing by ultraviolet rays, a known light source can be used without any limitation, and specific examples include an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc, a germicidal lamp, an electrodeless lamp and the like. It is done.
The light irradiation time can be appropriately determined depending on the type of ultraviolet polymerization initiator, the absorption wavelength, the sensitivity, the desired film thickness of the photochromic film 2, and the like.

フォトクロミック膜2の膜厚は、発色時の濃度、耐久性及び耐熱性、及び膜の均一性を考慮すると、10μm〜100μmであると好ましく、20μm〜50μmであるとさらに好ましい。特に20μm以上とする場合は、フォトクロミック形成後の加熱工程における基板の変形が顕著となるので、本発明を適用することがより好ましい。   The film thickness of the photochromic film 2 is preferably 10 μm to 100 μm, and more preferably 20 μm to 50 μm in consideration of the density at the time of color development, durability and heat resistance, and film uniformity. In particular, when the thickness is 20 μm or more, it is more preferable to apply the present invention because the deformation of the substrate in the heating step after photochromic formation becomes significant.

(3−6)フォトクロミック膜用下地層
フォトクロミック膜2と基板1の間には、図1においては図示しないが、下地層を設けると好ましい。この下地層は、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、又は、ポリウレタンアクリレート樹脂を使用することができる。下地層の形成方法は特に限定されないが、下地層を形成可能なコーティング液を調製して第1の面1Aに塗布した後に硬化処理を施すことによって得ることができる。塗布方法は特に限定されないが、ディップ法又はスピン法での塗布が好ましい。フォトクロミック膜が一方の面のみに形成されるので、一方の面にのみ成膜可能なスピン法が特に好ましい。
(3-6) Underlayer for Photochromic Film Although not shown in FIG. 1 between the photochromic film 2 and the substrate 1, it is preferable to provide an underlayer. For this underlayer, polyurethane resin, polyester resin, epoxy resin, melamine resin, or polyurethane acrylate resin can be used. Although the formation method of a base layer is not specifically limited, It can obtain by preparing the coating liquid which can form a base layer, apply | coating to 1 A of 1st surfaces, and performing a hardening process. A coating method is not particularly limited, but coating by a dip method or a spin method is preferable. Since the photochromic film is formed only on one surface, a spin method capable of forming a film only on one surface is particularly preferable.

下地層の厚みは、第1の面1Aとフォトクロミック膜2との接合状態を改善できる厚みであればよく、特に限定されない。好ましい膜厚は、1μm〜20μmであり、3μm〜10μmがより好ましい。膜厚が0.5μmよりも薄くなるとフォトクロミック膜2と基板1との密着性を確保しにくい。下地層の厚みが25μmを超えると、フォトクロミック膜2を含めた膜構成が軟質になってしまうので、25μm未満とすることが好ましい。   The thickness of the underlayer is not particularly limited as long as it can improve the bonding state between the first surface 1A and the photochromic film 2. A preferable film thickness is 1 μm to 20 μm, and more preferably 3 μm to 10 μm. When the film thickness is thinner than 0.5 μm, it is difficult to ensure the adhesion between the photochromic film 2 and the substrate 1. When the thickness of the underlayer exceeds 25 μm, the film configuration including the photochromic film 2 becomes soft, so it is preferable that the thickness is less than 25 μm.

(4)応力緩和層
応力緩和層3の材料としては、後の加熱工程において収縮等によって生じる応力がフォトクロミック膜2側から発生する応力をある程度抑制し得るものであれば特に限定されず、その膜厚は、用いる材料によって、基板1の変形を抑える機能が得られる程度に選定することが好ましい。
(4) Stress relaxation layer The material of the stress relaxation layer 3 is not particularly limited as long as the stress generated by the shrinkage or the like in the subsequent heating step can suppress the stress generated from the photochromic film 2 side to some extent. The thickness is preferably selected to such an extent that a function of suppressing deformation of the substrate 1 is obtained depending on the material used.

応力緩和層は、フォトクロミック膜2の応力を相殺または吸収する能力を有する皮膜であれば限定されない。例えば、ヤング率が高く容易に弾性変形をしない材質であれば、フォトクロミック層の応力を吸収することが可能である。また、応力緩和層を形成する材料とフォトクロミック層の応力変化がほぼ等しい場合には、表裏両面で等しい応力が加わるためレンズ基材の変形は抑制される。   The stress relaxation layer is not limited as long as it is a film having the ability to cancel or absorb the stress of the photochromic film 2. For example, a material having a high Young's modulus and not easily elastically deformed can absorb the stress of the photochromic layer. In addition, when the stress change of the material for forming the stress relaxation layer and the photochromic layer are substantially equal, the same stress is applied to both the front and back surfaces, so that deformation of the lens substrate is suppressed.

特に好ましい材料の一例としては、温度変化に対してフォトクロミック膜2の材料と同様の特性、すなわちフォトクロミック膜2のマトリックスであるポリマー成分が同様の性質であるものがあげられる。たとえば、フォトクロミック膜2のマトリックス成分がアクリルである場合には、アクリル系の応力緩和層3を適用し、フォトクロミック膜2のマトリックス成分がポリウレタン系であれば、ポリウレタン系の応力緩和層3を適用すればよい。両者を構成するポリマー成分がほぼ同じであれば、収縮率の変化が等しくなり、種々の状況下(たとえば温度や湿度)における変形が相殺される。   An example of a particularly preferable material is a material having the same characteristics as the material of the photochromic film 2 with respect to temperature change, that is, a polymer component that is a matrix of the photochromic film 2 has the same characteristics. For example, when the matrix component of the photochromic film 2 is acrylic, the acrylic stress relaxation layer 3 is applied. When the matrix component of the photochromic film 2 is polyurethane, the polyurethane stress relaxation layer 3 is applied. That's fine. If the polymer components constituting the two are substantially the same, the change in shrinkage rate becomes equal, and the deformation under various conditions (for example, temperature and humidity) is offset.

また、特に好ましい材料としては、フォトクロミック膜2の材料として用いるコーティング液からフォトクロミック色素を除いた材料が挙げられる。この材料を用いる場合は、厚さをフォトクロミック膜2と同程度の厚さとすることで、フォトクロミック膜2と同程度の応力を生じさせることができるので、応力を適度に緩和するための厚さの範囲を容易に予測でき、基板1の形状変化を効果的に抑制することができる。   Moreover, as a particularly preferable material, a material obtained by removing the photochromic dye from the coating liquid used as the material of the photochromic film 2 can be given. In the case of using this material, by setting the thickness to the same level as that of the photochromic film 2, it is possible to generate the same level of stress as that of the photochromic film 2. The range can be easily predicted, and the shape change of the substrate 1 can be effectively suppressed.

また、応力緩和層3のコーティング液の成膜方法は、フォトクロミック膜2の成膜方法と同様に、基板1の第2の面1Bのみに塗布されるスプレー法又はスピンコート法が好ましく、膜厚を均一に形成するためにはスピンコート法が好ましい。コーティング液の硬化条件もフォトクロミック膜2と同様に特に限定されず、熱、もしくは紫外線、α線、β線、γ線等の照射、或いはその併用が可能であり、その光源も種々の光源を用いることが可能であり、特に限定されない。   Moreover, the film forming method of the coating liquid for the stress relaxation layer 3 is preferably a spray method or a spin coating method applied only to the second surface 1B of the substrate 1, as with the film forming method of the photochromic film 2. In order to form the film uniformly, spin coating is preferred. The curing conditions of the coating liquid are not particularly limited as in the photochromic film 2, and heat, irradiation with ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays, or the like can be used, or a combination thereof can be used. And is not particularly limited.

上述したアクリル系やウレタン系の材料や、またフォトクロミック膜2の材料から色素を除いた材料を用いる場合の応力緩和層3の好ましい厚さとしては、フォトクロミック膜2の膜厚の40%以上とすることが好ましい。一方、応力緩和層3の膜厚をフォトクロミック膜2の膜厚の100%を超えて厚くすると、応力緩和層3による緩和効果がフォトクロミック膜2の応力分を超えてしまい、応力緩和層3に起因する変形が生じる場合も想定される。したがって、応力緩和層3の膜厚の上限としては、フォトクロミック膜2の膜厚の120%以下とすることが好ましい。   A preferable thickness of the stress relaxation layer 3 when using the above-described acrylic or urethane material or a material obtained by removing a pigment from the material of the photochromic film 2 is 40% or more of the film thickness of the photochromic film 2. It is preferable. On the other hand, when the thickness of the stress relaxation layer 3 exceeds 100% of the thickness of the photochromic film 2, the relaxation effect of the stress relaxation layer 3 exceeds the stress component of the photochromic film 2, resulting in the stress relaxation layer 3. It is also assumed that deformation occurs. Therefore, the upper limit of the thickness of the stress relaxation layer 3 is preferably 120% or less of the thickness of the photochromic film 2.

更に、この応力緩和層3と基板1との間には、フォトクロミック膜2と同様に、図1においては図示しないが下地層を設けてもよい。下地層の材料及び膜厚はフォトクロミック膜2に下地層を設ける場合の下地層と同様の材料、すなわちポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタンアクリレート樹脂、又は、これらの樹脂成分のモノマー骨格に各種官能基が修飾されている樹脂等を用い得る。またその膜厚も、応力緩和層3と基板1との接合状態を改善できる厚さであればよく、1μm〜20μm、好ましくは3μm〜10μmとし得る。   Further, an underlying layer (not shown in FIG. 1) may be provided between the stress relaxation layer 3 and the substrate 1, as in the photochromic film 2. The material and film thickness of the underlayer are the same materials as the underlayer when the underlayer is provided on the photochromic film 2, that is, polyurethane resin, polyester resin, epoxy resin, melamine resin, polyurethane acrylate resin, or monomers of these resin components Resins having various functional groups modified on the skeleton can be used. The film thickness may be any thickness that can improve the bonding state between the stress relaxation layer 3 and the substrate 1, and may be 1 μm to 20 μm, preferably 3 μm to 10 μm.

(5)ハードコート層
本実施の形態に係るプラスチックレンズにおいて、フォトクロミック膜2の上面に形成されるハードコート層5の材料としては、特に限定されず、公知の有機ケイ素化合物及び金属酸化物コロイド粒子よりなるコーティング液を使用することができる。コーティング液を塗布した後、硬化処理によってハードコート層5を得ることができる。
有機ケイ素化合物としては、例えば下記一般式(I)で表される有機ケイ素化合物又はその加水分解物が挙げられる。
(5) Hard Coat Layer In the plastic lens according to the present embodiment, the material of the hard coat layer 5 formed on the upper surface of the photochromic film 2 is not particularly limited, and known organosilicon compounds and metal oxide colloidal particles The coating liquid consisting of can be used. After applying the coating liquid, the hard coat layer 5 can be obtained by a curing process.
Examples of the organosilicon compound include an organosilicon compound represented by the following general formula (I) or a hydrolyzate thereof.

(R(RSi(OR4−(a+b)・・・(I)
(式中、Rは、グリシドキシ基、エポキシ基、ビニル基、メタアクリルオキシ基、アクリルオキシ基、メルカプト基、アミノ基、フェニル基等を有する有機基、Rは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアシル基又は炭素数6〜10のアリール基、R9は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜10のアリール基、a及びbはそれぞれ0又は1の整数を示す。)
(R 1 ) a (R 3 ) b Si (OR 2 ) 4- (a + b) (I)
(In the formula, R 1 is an organic group having a glycidoxy group, an epoxy group, a vinyl group, a methacryloxy group, an acryloxy group, a mercapto group, an amino group, a phenyl group, etc., and R 2 is an alkyl having 1 to 4 carbon atoms. group, an acyl group or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms having 1 to 4 carbon atoms, R9 3 is an alkyl group or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms, a and b are each 0 or 1 Indicates an integer.)

の炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、直鎖又は分岐のメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
の炭素数1〜4のアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、オレイル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
の炭素数6〜10のアリール基としては、例えば、フェニル基、キシリル基、トリル基等が挙げられる。
の炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、直鎖又は分岐のメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
の炭素数1〜10のアリール基としては、例えば、フェニル基、キシリル基、トリル基等が挙げられる。
The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms R 2, for example, a linear or branched methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group.
Examples of the acyl group having 1 to 4 carbon atoms R 2, for example, an acetyl group, a propionyl group, oleyl group and benzoyl group.
Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms of R 2 include a phenyl group, a xylyl group, and a tolyl group.
The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms R 3, for example, a linear or branched methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group and the like.
Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms of R 3 include a phenyl group, a xylyl group, and a tolyl group.

金属酸化物コロイド粒子としては、例えば、酸化タングステン(WO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ケイ素(SiO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化チタニウム(TiO)、酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化スズ(SnO)、酸化ベリリウム(BeO)、酸化アンチモン(Sb)等が挙げられ、単独又は2種以上を併用することができる。 Examples of the metal oxide colloidal particles include tungsten oxide (WO 3 ), zinc oxide (ZnO), silicon oxide (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), titanium oxide (TiO 2 ), and zirconium oxide (ZrO). 2 ), tin oxide (SnO 2 ), beryllium oxide (BeO), antimony oxide (Sb 2 O 5 ) and the like, and may be used alone or in combination of two or more.

コーティング液をフォトクロミック膜2上へ塗布する方法としては、例えば、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法等が通常行われる方法として適用されるが、組成物の粘性、面精度の面からディッピング法やスピンコート法が好ましい。特に、フォトクロミック膜2上に硬質膜としてハードコート層5を形成し、その後他の面すなわち第2の面1Bの光学面形成する場合は、片面への塗布が可能なスピンコート法が好ましい。また、硬質膜を形成するよりも前に他の面の光学面形成を行う場合には、両面への塗布が可能なディッピング法を適用することが好ましい。コーティング液をフォトクロミック膜2上へ塗布する前に、酸、アルカリ、各種有機溶媒による化学的処理、プラズマ、紫外線、オゾン等による物理的処理、各種洗剤を用いる洗剤処理を行うことによってフォトクロミック膜2とハードコート層5との密着性等を向上させることができる。   As a method for applying the coating liquid onto the photochromic film 2, for example, a dipping method, a spin coating method, a spray method, etc. are applied as usual methods. A spin coating method is preferred. In particular, when the hard coat layer 5 is formed as a hard film on the photochromic film 2 and then the other surface, that is, the optical surface of the second surface 1B is formed, a spin coat method that can be applied to one surface is preferable. In addition, when the optical surface of the other surface is formed before the hard film is formed, it is preferable to apply a dipping method that can be applied to both surfaces. Before applying the coating liquid onto the photochromic film 2, chemical treatment with acids, alkalis, various organic solvents, physical treatment with plasma, ultraviolet rays, ozone, etc., and detergent treatment with various detergents are performed. Adhesiveness with the hard coat layer 5 can be improved.

なお、フォトクロミック膜2とハードコート層5との間に、耐衝撃性を向上させるプライマー層4を形成しても良い。プライマー層4の材料は特に限定されるものではなく、ハードコートの密着性を損なうことなく耐衝撃性を向上させるものであればよい。   A primer layer 4 that improves impact resistance may be formed between the photochromic film 2 and the hard coat layer 5. The material for the primer layer 4 is not particularly limited as long as it improves the impact resistance without impairing the adhesion of the hard coat.

(6)反射防止膜
本発明においては、ハードコート層5の上に反射防止膜6を形成することも可能である。反射防止膜6の材質及び形成方法は特には限定されず、公知の無機酸化物により成る単層、多層膜を使用することができる。
この無機酸化物としては、例えば、二酸化ケイ素(SiO)、酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化ニオブ(Nb)酸化イットリウム(Y)等が挙げられる。
また、有機ケイ素化合物と無機微粒子によって構成され、無機微粒子の種類により屈折率が調整される単層又は多層の有機反射防止膜も使用することができる。
(6) Antireflection film In the present invention, the antireflection film 6 may be formed on the hard coat layer 5. The material and formation method of the antireflection film 6 are not particularly limited, and a single layer or a multilayer film made of a known inorganic oxide can be used.
Examples of the inorganic oxide include silicon dioxide (SiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), and the like. Can be mentioned.
In addition, a single-layer or multilayer organic antireflection film composed of an organic silicon compound and inorganic fine particles and having a refractive index adjusted according to the type of inorganic fine particles can also be used.

2.プラスチックレンズの製造方法
次に、本発明の実施の形態に係るプラスチックレンズの製造方法について説明する。図4は、本実施の形態に係るプラスチックレンズの製造方法の各工程を示すフローチャートである。この例においては、基板1の面1A及び第2の面1Bを予め例えば凸面、凹面より成る光学面として形成した後、各面或いは両面に各層を形成するいわゆるフィニッシュドレンズを用いてフォトクロミックレンズを製造する場合を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。図4に示すように、本実施の形態に係る製造方法では、先ず前述したように光学面を形成した基板1の第1の面1Aにフォトクロミック膜2を形成する(ステップS1)。その後、第2の面1Bに応力緩和層3を形成する(ステップS2)。なお、上述したように、フォトクロミック膜2や応力緩和層3を形成する前に、下地層を形成する工程を追加してもよい。
2. Next, a method for manufacturing a plastic lens according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a flowchart showing each step of the plastic lens manufacturing method according to the present embodiment. In this example, the surface 1A and the second surface 1B of the substrate 1 are formed in advance as optical surfaces made up of, for example, convex surfaces and concave surfaces, and then a photochromic lens is formed using so-called finished lenses in which layers are formed on each surface or both surfaces. Although the case where it manufactures is shown, this invention is not limited to this. As shown in FIG. 4, in the manufacturing method according to the present embodiment, first, as described above, the photochromic film 2 is formed on the first surface 1A of the substrate 1 on which the optical surface is formed (step S1). Thereafter, the stress relaxation layer 3 is formed on the second surface 1B (step S2). As described above, a step of forming a base layer may be added before forming the photochromic film 2 and the stress relaxation layer 3.

なお、フォトクロミック膜2のコーティング液を形成後に加熱等により硬化し、その後、応力緩和層3のコーティング液を形成して加熱等により硬化して形成するが、この加熱の際に、フォトクロミック膜2の重合がある程度進行して収縮が生じても、応力緩和層3の重合も進むので、基板1の変形を抑えることができる。   In addition, after forming the coating liquid of the photochromic film 2, it hardens | cures by heating etc., Then, the coating liquid of the stress relaxation layer 3 is formed and hardened | cured by heating etc., but in this heating, the photochromic film 2 of Even if the polymerization proceeds to some extent and shrinkage occurs, the polymerization of the stress relaxation layer 3 also proceeds, so that deformation of the substrate 1 can be suppressed.

次に、応力緩和層3を形成した後、フォトクロミック膜2上に設ける他の層、例えばプライマー層4、ハードコート層5、反射防止膜6を形成する(ステップS3)。このときプライマー層4と同時に応力緩和層3上のプライマー層7を、またハードコート層5と同時に応力緩和層3上のハードコート層8を形成してもよい。この場合は、各層のコーティング液をディップ法により両面に塗布した後、同時に熱硬化又は紫外線硬化等によって形成すればよい。いずれの層の加熱工程や光照射工程においても、応力緩和層3を既に形成しているため、加熱や光照射の際の熱の発生によるフォトクロミック膜2の収縮を抑え、基板1の変形を抑制することができる。   Next, after the stress relaxation layer 3 is formed, other layers provided on the photochromic film 2, such as the primer layer 4, the hard coat layer 5, and the antireflection film 6 are formed (step S3). At this time, the primer layer 7 on the stress relaxation layer 3 may be formed simultaneously with the primer layer 4, and the hard coat layer 8 on the stress relaxation layer 3 may be formed simultaneously with the hard coat layer 5. In this case, the coating liquid for each layer may be formed on both sides by the dipping method and then simultaneously formed by thermal curing or ultraviolet curing. Since the stress relaxation layer 3 has already been formed in any layer heating process or light irradiation process, the shrinkage of the photochromic film 2 due to the generation of heat during heating or light irradiation is suppressed, and the deformation of the substrate 1 is suppressed. can do.

以上のステップS1〜S3を経た後、図示しないが必要に応じて例えば撥水性や防汚性等の他の機能を付与する材料層を形成する工程を経て、基板1上の各層の形成工程が終了する。眼鏡用レンズとして製造する場合は、その後例えば眼鏡フレームの枠入れ用等の周縁加工を行い、検査工程を経て本実施の形態に係るプラスチックレンズが完成する。   After passing through the above steps S1 to S3, although not shown in the drawings, a step of forming each layer on the substrate 1 is performed as necessary through a step of forming a material layer that imparts other functions such as water repellency and antifouling properties. finish. In the case of manufacturing as a spectacle lens, the plastic lens according to the present embodiment is completed through an inspection process, for example, by performing peripheral processing such as for spectacle frames.

なお、図4に示す例においてはフィニッシュドレンズに本実施の形態を適用した場合を示すが、セミフィニッシュドレンズに適用する場合は、第1の面1Aのみを加工形成後にフォトクロミック膜2を形成し、その後応力緩和層3を形成する前に、第2の面1Bを光学研磨等によって加工する工程を挿入すればよい。いずれの場合においても、応力緩和層3の形成工程を、フォトクロミック膜2の形成後の、他の加熱(または熱発生)工程の前に行うことで、上述したようにフォトクロミック膜2の熱収縮を抑えて基板1の変形を確実に抑制することができる。   The example shown in FIG. 4 shows the case where the present embodiment is applied to a finished lens. However, when the embodiment is applied to a semi-finished lens, the photochromic film 2 is formed after processing and forming only the first surface 1A. Then, before the stress relaxation layer 3 is formed, a process of processing the second surface 1B by optical polishing or the like may be inserted. In any case, the stress relaxation layer 3 is formed before the other heating (or heat generation) step after the photochromic film 2 is formed, so that the photochromic film 2 is thermally contracted as described above. It is possible to suppress the deformation of the substrate 1 with certainty.

3.実施例及び比較例
次に、本発明のプラスチックレンズの製造方法を適用して製造したフォトクロミックレンズの評価を行った結果を説明する。
(1)実施例及び比較例におけるレンズ構成
この例においては、基板1として屈折率neが1.7のレンズ基板(EYRY、HOYA株式会社製、商品名)と1.74のレンズ基板(EYVIA、HOYA株式会社製、商品名)を用意し、フォトクロミック膜2を形成した後に応力緩和層3を設けた実施例1〜9(EYRY)及び実施例10〜19(EYVIA)と、応力緩和層3を設けずにフォトクロミック膜2を形成した比較例1及び2(EYRY)、比較例3及び4(EYVIA)を用意した。なお、屈折率1.7の基板には球面度数−2.00の光学面を予め形成し、レンズ径は80mmとした。また、屈折率1.74の基板には球面度数−1.25の光学面を予め形成し、レンズ径は75mmとした。フォトクロミック膜2、応力緩和層3の材料及び形成条件、その後の加熱処理条件を以下説明する。
3. Examples and Comparative Examples Next, the results of evaluation of photochromic lenses manufactured by applying the plastic lens manufacturing method of the present invention will be described.
(1) Lens Configuration in Examples and Comparative Examples In this example, a lens substrate having a refractive index ne of 1.7 (EYRY, manufactured by HOYA Corporation, product name) and a lens substrate having a refractive index of 1.74 (EYVIA, Examples 1 to 9 (EYRY) and Examples 10 to 19 (EYVIA) provided with a stress relaxation layer 3 after the photochromic film 2 was formed and the stress relaxation layer 3 were prepared. Comparative Examples 1 and 2 (EYRY) and Comparative Examples 3 and 4 (EYVIA) in which the photochromic film 2 was formed without being provided were prepared. An optical surface having a spherical power of -2.00 was formed in advance on a substrate having a refractive index of 1.7, and the lens diameter was 80 mm. An optical surface with a spherical power of −1.25 was formed in advance on a substrate with a refractive index of 1.74, and the lens diameter was 75 mm. The materials and formation conditions of the photochromic film 2 and the stress relaxation layer 3, and the subsequent heat treatment conditions will be described below.

(i)フォトクロミックコーティング液の調製
プラスチック製容器に、トリメチロールプロパントリメタクリレート20質量部、BPEオリゴマー(2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシポリエトキシフェニル)プロパン)35質量部、EB6A(ポリエステルオリゴマーヘキサアクリレート)10質量部、平均分子量532のポリエチレングリコールジアクリレート10質量部、グリシジルメタクリレート10質量部からなるラジカル重合性単量体100質量部に、フォトクロミック色素3質量部、光安定化剤LS765(ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、メチル(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート)を5質量部、ヒンダードフェノール系酸化防止剤Irganox245(チバスペシャリティケミカルズ製)を5質量部、紫外線重合開始剤としてCGI−184(チバスペシャリティケミカルズ製)0.6質量部を添加して、十分に撹拌混合を行った。
(I) Preparation of photochromic coating solution In a plastic container, 20 parts by mass of trimethylolpropane trimethacrylate, 35 parts by mass of BPE oligomer (2,2-bis (4-methacryloyloxypolyethoxyphenyl) propane), EB6A (polyester oligomer hexa) Acrylate) 10 parts by mass, polyethylene glycol diacrylate having an average molecular weight of 532, 10 parts by mass of radical polymerizable monomer consisting of 10 parts by mass of glycidyl methacrylate, 3 parts by mass of photochromic dye, light stabilizer LS765 (bis ( 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, methyl (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate) 5 parts by mass, hindered phenolic antioxidant Irga Ox245 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5 parts by mass, CGI-184 as a UV polymerization initiator was added (Ciba Specialty Chemicals) 0.6 parts by weight, was thoroughly stirred and mixed.

混合して得られた組成物に、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM503)6重量部を、撹拌しながら滴下した。   6 parts by weight of γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added dropwise with stirring to the composition obtained by mixing.

その後、さらに、アミン触媒を0.1質量部添加混合した後、自転公転方式撹拌脱泡装置((株)シンキー AR−250)にて2分間脱泡することで、フォトクロミック性を有するコーティング液を得た。   Thereafter, 0.1 parts by mass of an amine catalyst is further added and mixed, and then defoamed for 2 minutes with a rotation and revolution type stirring deaerator (Sinky AR-250, Inc.), whereby a coating liquid having photochromic properties is obtained. Obtained.

(ii)下地層の調整
基板1とフォトクロミック膜2との間に形成する下地層として、ポリウレタン骨格にアクリル基を導入したポリウレタン分散液を用意した。
(Ii) Preparation of foundation layer As the foundation layer formed between the substrate 1 and the photochromic film 2, a polyurethane dispersion having an acrylic group introduced into a polyurethane skeleton was prepared.

(iii)応力緩和層コーティング液
応力緩和層3の材料としては、アクリル系樹脂の被膜を形成するコーティング液を使用した。具体的には、プラスチック製容器に、トリメチロールプロパントリメタクリレート20質量部、BPEオリゴマー(2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシポリエトキシフェニル)プロパン)35質量部、EB6A(ポリエステルオリゴマーヘキサアクリレート)10質量部、平均分子量532のポリエチレングリコールジアクリレート10質量部、グリシジルメタクリレート10質量部からなるラジカル重合性単量体100質量部に、紫外線重合開始剤としてCGI−184(チバスペシャリティケミカルズ製)0.6質量部を添加して、十分に撹拌混合を行った。
この混合液に、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM503)6重量部を、撹拌しながら滴下した。
(Iii) Stress Relaxation Layer Coating Liquid As a material for the stress relaxation layer 3, a coating liquid for forming an acrylic resin film was used. Specifically, in a plastic container, 20 parts by mass of trimethylolpropane trimethacrylate, 35 parts by mass of BPE oligomer (2,2-bis (4-methacryloyloxypolyethoxyphenyl) propane), EB6A (polyester oligomer hexaacrylate) 10 100 parts by mass of a radical polymerizable monomer consisting of 10 parts by mass of polyethylene glycol diacrylate having an average molecular weight of 532 and 10 parts by mass of glycidyl methacrylate, and CGI-184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as an ultraviolet polymerization initiator 0.6 Part by mass was added and sufficiently stirred and mixed.
To this mixed solution, 6 parts by weight of γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added dropwise with stirring.

(iv)各層の形成工程
基板1の第1の面1A及び第2の面Bを、イソプロパノールを主材料とする揮発性溶剤により清浄化した後、反射式レンズメータ(FOCOVISION SR-1)を用いて、各面の曲率半径R1及びR2を測定し、各基板1の屈折率1.53とした場合の屈折力と仮定して換算して得た。
(Iv) Formation process of each layer After the 1st surface 1A and 2nd surface B of the board | substrate 1 are cleaned with the volatile solvent which uses isopropanol as a main material, a reflective lens meter (FOCOVISION SR-1) is used. Then, the radii of curvature R1 and R2 of each surface were measured, and converted by assuming the refractive power when the refractive index of each substrate 1 was 1.53.

次に、同様に表面を洗浄した後、UVO(オゾン)処理を1分間行い、更に純水洗浄後、上述の下地層用コーティング液をスピンコート法でコーティングした。その後、70℃90分の加熱により下地層を硬化して形成した。 Next, after cleaning the surface in the same manner, UVO 3 (ozone) treatment was performed for 1 minute. Further, after washing with pure water, the above-described coating solution for the underlayer was coated by a spin coat method. Thereafter, the base layer was cured and formed by heating at 70 ° C. for 90 minutes.

次に、下地層上に前述のフォトクロミック膜2のコーティング液をスピンコート法でコーティングした。その後、熱硬化処理を行って、フォトクロミック膜2を形成した。   Next, the above-mentioned coating solution for the photochromic film 2 was coated on the underlayer by a spin coat method. Then, the thermosetting process was performed and the photochromic film | membrane 2 was formed.

次に、基板1の第2の面1Bを、イソプロパノールを主材料とする揮発性溶剤により清浄化した後、第1の面1A側の下地層と同様の材料、塗布条件及び硬化条件にて下地層を形成した。   Next, after the second surface 1B of the substrate 1 is cleaned with a volatile solvent containing isopropanol as a main material, the second surface 1B is formed under the same material, coating conditions and curing conditions as those for the first layer 1A. A stratum was formed.

更に、上記の応力緩和層3用のコーティング液を第2の面1Bの下地層上に塗布した。このとき、塗布時間は12.5秒一定とし、回転数を500〜900rpmに変化させて塗布を行った。その後、加熱処理を行って応力緩和層3を形成した。   Further, the above-described coating liquid for the stress relaxation layer 3 was applied on the base layer of the second surface 1B. At this time, the coating time was fixed at 12.5 seconds, and coating was performed by changing the rotation speed from 500 to 900 rpm. Thereafter, heat treatment was performed to form the stress relaxation layer 3.

応力緩和層3形成後の加熱工程として、プライマー層4及び7、及びハードコート層5及び8の形成工程に対応する加熱処理を行った。プライマー層4及び7対応として70℃90分の第1加熱処理、ハードコート層5及び8対応として100℃60分の第2加熱処理を行った。   As a heating process after the formation of the stress relaxation layer 3, a heat treatment corresponding to the formation process of the primer layers 4 and 7 and the hard coat layers 5 and 8 was performed. A first heat treatment at 70 ° C. for 90 minutes was performed for the primer layers 4 and 7, and a second heat treatment at 100 ° C. for 60 minutes was performed for the hard coat layers 5 and 8.

(v)結果
これら応力緩和層3を形成した実施例1〜19と、応力緩和層を形成しない比較例1〜4とにおける各基板1の曲率半径を同様に反射式レンズメータにより測定し、基板1の屈折率を1.53と仮定して曲率半径から屈折力を換算し、初期の屈折力に対する差分から屈折力変化量を求めた。また、フォトクロミック膜2及び応力緩和層3の膜厚を下地層との屈折率差から計測する分光干渉膜厚測定法により測定し、フォトクロミック膜2の膜厚に対する応力緩和層3の膜厚の比(%)を計算により求めた。この結果を表1及び表2に示す。表1においては、屈折率1.7の材料より成る基板(EYRY)を用いた実施例1〜9、比較例1及び2の結果を示し、表2においては屈折率1.74の材料より成る(EYVIA)を用いた実施例10〜19、比較例3及び4の結果を示す。なお、応力緩和層3用のコーティング液塗布時の回転数の条件は下記の通りである。
(V) Results The curvature radii of the respective substrates 1 in Examples 1 to 19 in which the stress relaxation layer 3 is formed and Comparative Examples 1 to 4 in which the stress relaxation layer is not formed are similarly measured with a reflective lens meter, and the substrate The refractive power of 1 was assumed to be 1.53, the refractive power was converted from the radius of curvature, and the amount of change in refractive power was determined from the difference from the initial refractive power. Further, the film thickness of the photochromic film 2 and the stress relaxation layer 3 is measured by a spectral interference film thickness measurement method in which the film thickness is measured from the difference in refractive index with the base layer, and the ratio of the film thickness of the stress relaxation layer 3 to the film thickness of the photochromic film 2 is measured. (%) Was calculated. The results are shown in Tables 1 and 2. Table 1 shows the results of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 and 2 using a substrate (EYRY) made of a material having a refractive index of 1.7, and Table 2 made of a material having a refractive index of 1.74. The results of Examples 10 to 19 and Comparative Examples 3 and 4 using (EYVIA) are shown. In addition, the conditions of the rotation speed at the time of application | coating of the coating liquid for the stress relaxation layer 3 are as follows.

回転数500rpm:実施例1,2,10,11
回転数600rpm:実施例3,4,12,13
回転数700rpm:実施例5,6,14,15
回転数800rpm:実施例7,16,17
回転数900rpm:実施例8,9,18,19
Rotational speed 500 rpm: Examples 1, 2, 10, 11
Rotational speed 600 rpm: Examples 3, 4, 12, 13
Number of rotations 700 rpm: Examples 5, 6, 14, 15
Number of rotations 800 rpm: Examples 7, 16, and 17
Rotational speed 900 rpm: Examples 8, 9, 18, 19

Figure 2011138043
Figure 2011138043

Figure 2011138043
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また図5に、基板1上に各層を設ける前、すなわち加熱前の屈折力と、応力緩和層3を形成後、2回の加熱処理後に測定した屈折力を示す。更に、図6においては、応力緩和層3の膜厚に対する屈折力変化量を示す。なお、図6において応力緩和層3の膜厚が0の結果は比較例1〜4を示す。   FIG. 5 shows the refractive power measured before two layers are formed on the substrate 1, that is, the refractive power before heating, and after the heat treatment is performed twice after the stress relaxation layer 3 is formed. Further, FIG. 6 shows the amount of change in refractive power with respect to the thickness of the stress relaxation layer 3. In addition, in FIG. 6, the result whose film thickness of the stress relaxation layer 3 is 0 shows Comparative Examples 1-4.

図5及び図6の結果から、ばらつきはあるものの、応力緩和層3の膜厚が大きいほど、曲率半径の変化に対応する屈折力の変化量は低減される傾向があることがわかる。各例共に、フォトクロミック膜2の厚さを40μm程度としているのに対し、応力緩和層3の膜厚は17.2μmから31.2μmの範囲で屈折力変化量(初期の屈折力との差)を、便宜上基材屈折率を1.53と仮定した場合において0.025D未満に抑える効果が得られている。また、図6の結果から、屈折力変化量は、応力緩和層3の膜厚の増加に対して比例的にではなく、反比例的に低減していることがわかり、このことから、応力緩和層3の膜厚を15μm以上(すなわち、フォトクロミック膜の膜厚に対する応力緩和層の膜厚の割合がおよそ40%以上)とすれば屈折力変化量を0.025D未満に抑えられることがわかる。   From the results of FIGS. 5 and 6, it can be seen that although there is variation, the amount of change in refractive power corresponding to the change in the radius of curvature tends to decrease as the thickness of the stress relaxation layer 3 increases. In each example, the thickness of the photochromic film 2 is about 40 μm, while the thickness of the stress relaxation layer 3 is in the range of 17.2 μm to 31.2 μm (the difference from the initial refractive power). When the base material refractive index is assumed to be 1.53 for the sake of convenience, an effect of suppressing it to less than 0.025D is obtained. Moreover, it can be seen from the results in FIG. 6 that the amount of change in refractive power decreases not in proportion to the increase in film thickness of the stress relaxation layer 3, but in inverse proportion. 3 is 15 μm or more (that is, the ratio of the thickness of the stress relaxation layer to the thickness of the photochromic film is approximately 40% or more), it can be seen that the amount of change in refractive power can be suppressed to less than 0.025D.

なお、上記の実施例においてはフォトクロミック膜2を40μmとしているが、より薄い膜厚、例えば30μmや20μmとする場合は、必ずしも応力緩和層3の膜厚を15μm以上とする必要はなく、フォトクロミック膜2の膜厚のおよそ40%以上の膜厚とすれば、十分に屈折力変化量を低減できることが容易に予測できる。   In the above embodiment, the photochromic film 2 is set to 40 μm. However, if the film thickness is thinner, for example, 30 μm or 20 μm, the thickness of the stress relaxation layer 3 is not necessarily 15 μm or more. If the film thickness is about 40% or more of the film thickness of 2, it can be easily predicted that the amount of change in refractive power can be sufficiently reduced.

1.基板、1A.第1の面、1B.第2の面、2.フォトクロミック膜、3.応力緩和層、4,7.プライマー層、5,8.ハードコート層、6.反射防止層   1. Substrate, 1A. First surface, 1B. Second surface, 2. 2. photochromic film; Stress relaxation layer, 4,7. Primer layer, 5,8. 5. hard coat layer, Antireflection layer

Claims (5)

プラスチックレンズ用の基板の一方の面に、少なくともフォトクロミック膜と、ハードコート層とが形成され、
前記基板の他方の面に、前記フォトクロミック膜を形成した後のレンズ製造工程における前記フォトクロミック膜の熱変形により生じる前記基板への応力を緩和する応力緩和層が少なくとも形成されて成る
プラスチックレンズ。
At least a photochromic film and a hard coat layer are formed on one surface of the plastic lens substrate,
A plastic lens in which a stress relaxation layer for relaxing stress on the substrate caused by thermal deformation of the photochromic film in a lens manufacturing process after forming the photochromic film is formed on the other surface of the substrate.
前記基板の屈折力と、前記フォトクロミック膜及び前記応力緩和層を形成した状態での加熱処理後の屈折力との差が、前記基板の屈折率を1.53と仮定した場合において0.025D(ディオプトリー)未満である請求項1に記載のプラスチックレンズ。   The difference between the refractive power of the substrate and the refractive power after the heat treatment in the state in which the photochromic film and the stress relaxation layer are formed is 0.025D (when the refractive index of the substrate is assumed to be 1.53) The plastic lens according to claim 1, wherein the plastic lens is less than diopter. 前記フォトクロミック膜の厚さに対する前記応力緩和層の厚さが40%以上120%以下である請求項1又は2に記載のプラスチックレンズ。   The plastic lens according to claim 1 or 2, wherein a thickness of the stress relaxation layer with respect to a thickness of the photochromic film is 40% or more and 120% or less. 前記応力緩和層として、フォトクロミック膜を構成するポリマー成分と同種のポリマー成分を用いる請求項1〜3のいずれかに記載のプラスチックレンズ。   The plastic lens according to any one of claims 1 to 3, wherein a polymer component of the same type as the polymer component constituting the photochromic film is used as the stress relaxation layer. プラスチックレンズ用の基板の一方の面に、フォトクロミック膜を形成する工程と、
前記基板の他方の面に、前記フォトクロミック膜を形成した後のレンズ製造工程における前記フォトクロミック膜の熱変形により生じる前記基板への応力を緩和する応力緩和層を形成する工程と、
前記フォトクロミック膜の上に、他の層を形成するための加熱又は熱の発生を伴う処理工程と、を含み、
前記応力緩和層を形成する工程を、前記他の層を形成するための加熱又は熱の発生を伴う処理工程の前に行う
プラスチックレンズの製造方法。
Forming a photochromic film on one surface of the plastic lens substrate;
Forming a stress relaxation layer on the other surface of the substrate to relieve stress on the substrate caused by thermal deformation of the photochromic film in the lens manufacturing process after forming the photochromic film;
A process with heating or heat generation to form another layer on the photochromic film, and
A method for producing a plastic lens, wherein the step of forming the stress relaxation layer is performed before a processing step involving generation of heat or heat for forming the other layer.
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