JP2011111510A - Runflat tire - Google Patents

Runflat tire Download PDF

Info

Publication number
JP2011111510A
JP2011111510A JP2009268141A JP2009268141A JP2011111510A JP 2011111510 A JP2011111510 A JP 2011111510A JP 2009268141 A JP2009268141 A JP 2009268141A JP 2009268141 A JP2009268141 A JP 2009268141A JP 2011111510 A JP2011111510 A JP 2011111510A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
rubber
run
copolymer
flat tire
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2009268141A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryuji Nakagawa
隆二 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bridgestone Corp
Original Assignee
Bridgestone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bridgestone Corp filed Critical Bridgestone Corp
Priority to JP2009268141A priority Critical patent/JP2011111510A/en
Publication of JP2011111510A publication Critical patent/JP2011111510A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Tires In General (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a runflat tire with excellent runflat durability. <P>SOLUTION: A rubber composition (B) containing a rubber component (A) containing an aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer (A1) is applied to any of rubber members. The aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer (A1) having a cis-1,4 bond content of 80% or more in the conjugated diene compound moiety is obtained by performing addition polymerization of the aromatic vinyl compound and the conjugated diene compound in the presence of a polymerization catalyst composition containing at least one specific metallocene complex, such as a metallocene complex represented by general formula (I), wherein M is lanthanoid, scandium, or yttrium; Cp<SP>R</SP>s are each independently a non-substituted or substituted indenyl; R<SP>a</SP>to R<SP>f</SP>are each independently a 1-3C alkyl group; L is a neutral Lewis base; and w is an integer of 0-3. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体(A1)を含むゴム成分(A)を含むゴム組成物(B)をゴム部材のいずれかに用いたランフラットタイヤに関し、特にサイド部の補強ゴム及び/又はビードフィラーに用いることで、タイヤに優れたランフラット耐久性を付与することが可能なゴム組成物(B)を用いたランフラットタイヤに関するものである。   The present invention relates to a run-flat tire using a rubber composition (B) containing a rubber component (A) containing an aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer (A1) for any rubber member, and more particularly to a side portion. It is related with the run flat tire using the rubber composition (B) which can provide the run flat durability which was excellent in the tire by using for this reinforcing rubber and / or bead filler.

近年、タイヤ内圧が異常低下した場合やパンクした場合であっても、ある程度の距離の走行が可能であるランフラットタイヤへの需要が高まっている。該ランフラットタイヤは、通常の舗装路面を走行するためのサマータイヤ等において既に数多くの開発がなされている。こうしたランフラットタイヤの一つとして、サイドウォール部のカーカス内面側に比較的硬質なゴムからなる断面が三日月状の補強ゴム層を配設し、これにより内圧が異常低下した時やパンクした時に両サイドウォール部を変形しにくくして荷重を支持する、いわゆるサイド補強タイプのランフラットタイヤがある。   In recent years, there is an increasing demand for run-flat tires that can travel a certain distance even when the tire internal pressure drops abnormally or punctures. The run-flat tire has already been developed a lot in summer tires and the like for traveling on a normal paved road surface. As one of such run-flat tires, a reinforcing rubber layer having a crescent cross section made of a relatively hard rubber is disposed on the inner surface of the side wall of the carcass so that when the internal pressure is abnormally lowered or punctured, There is a so-called side reinforcement type run flat tire that supports a load by making the sidewall portion difficult to deform.

しかしながら、従来の合成ゴムを用いたランフラットタイヤにおいては、繰り返し入力に対する耐久性(耐疲労性、耐熱疲労性)が十分では無く、そのランフラット耐久性が必ずしも十分では無いという問題があった。
これに対して、特定の加硫促進剤を使用する(例えば、特許文献1参照)という工夫がなされたが、それでもそのランフラット耐久性が必ずしも十分では無いという問題があった。
However, conventional run-flat tires using synthetic rubber have a problem that durability against repeated input (fatigue resistance, heat fatigue resistance) is not sufficient, and the run-flat durability is not always sufficient.
On the other hand, although the device of using a specific vulcanization accelerator (for example, refer patent document 1) was made | formed, there existed a problem that the run flat durability was not necessarily enough.

一方、ゴム自体の構造制御により物性の改善を図る試みがある。一例として、共役ジエン化合物部分の立体規則性、例えば、シス-1,4構造の含有率を制御するため、配位子と金属原子とからなる金属触媒を用いて、芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体を生成させる手法が知られている(例えば、特許文献2〜特許文献4参照)。しかしながら、該手法により得られる芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体は、芳香族ビニル化合物部分のブロック化や低分子量化等の問題を含むためか、ランフラットタイヤに該芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体を使ってみても、繰り返し入力に対する耐久性(耐疲労性、耐熱疲労性)が十分では無く、そのランフラット耐久性が必ずしも十分では無いという問題があった。   On the other hand, there is an attempt to improve physical properties by controlling the structure of the rubber itself. As an example, in order to control the stereoregularity of the conjugated diene compound part, for example, the content of the cis-1,4 structure, a metal catalyst comprising a ligand and a metal atom is used, and an aromatic vinyl compound-conjugated diene is used. A technique for generating a compound copolymer is known (see, for example, Patent Document 2 to Patent Document 4). However, because the aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer obtained by the method includes problems such as blocking or lowering the molecular weight of the aromatic vinyl compound portion, the aromatic vinyl compound- Even when the conjugated diene compound copolymer is used, there is a problem that durability against repeated input (fatigue resistance, heat fatigue resistance) is not sufficient, and the run-flat durability is not always sufficient.

特開2004−256792号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-256792 特許第3207502号公報Japanese Patent No. 3207502 特開2006−137897号公報JP 2006-137897 A 特許第3738315号公報Japanese Patent No. 3738315

そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題を解決し、ランフラット耐久性に優れたランフラットタイヤを提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a run flat tire that solves the above-described problems of the prior art and has excellent run flat durability.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、特定のメタロセン錯体を含む重合触媒組成物の存在下、芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物を付加重合させることにより、共役ジエン化合物部分のシス-1,4結合量が80%以上の共重合体(A1)が得られ、該共重合体(A1)を含むゴム成分(A)を含むゴム組成物(B)をタイヤに適用することで、同一構造の従来のランフラットタイヤに較べて、補強ゴム層の質量を増加させることなく耐き裂成長性及びランフラット耐久性を大幅に向上させることができること、100%伸張時応力(M100)が上昇しないためタイヤ半径方向の剛性が上昇せずタイヤの内圧充填時の通常走行において乗り心地は変化しないことを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has carried out addition polymerization of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound in the presence of a polymerization catalyst composition containing a specific metallocene complex, thereby producing a conjugated diene compound moiety. A copolymer (A1) having a cis-1,4 bond content of 80% or more is obtained, and a rubber composition (B) containing a rubber component (A) containing the copolymer (A1) is applied to a tire. Thus, compared to a conventional run flat tire having the same structure, the crack growth resistance and run flat durability can be greatly improved without increasing the mass of the reinforcing rubber layer, and the stress at 100% elongation ( Since M100) does not increase, the rigidity in the tire radial direction does not increase, and it has been found that the riding comfort does not change during normal running when the tire is filled with internal pressure, and the present invention has been completed.

即ち、本発明のランフラットタイヤは、下記一般式(I):

Figure 2011111510
(式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ra〜Rfは、それぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0〜3の整数を示す)で表されるメタロセン錯体、及び下記一般式(II):
Figure 2011111510
(式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1〜20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0〜3の整数を示す)で表されるメタロセン錯体、並びに下記一般式(III):
Figure 2011111510
(式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpR’は、無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1〜20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0〜3の整数を示し、[B]は、非配位性アニオンを示す)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体からなる群より選択される少なくとも1種類の錯体を含む重合触媒組成物の存在下、芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物を付加重合して得られた、共役ジエン化合物部分のシス-1,4結合量が80%以上の芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体(A1)を含むゴム成分(A)を含むゴム組成物(B)をゴム部材のいずれかに適用したことを特徴とする。 That is, the run flat tire of the present invention has the following general formula (I):
Figure 2011111510
(In the formula, M represents a lanthanoid element, scandium or yttrium, Cp R independently represents unsubstituted or substituted indenyl, and R a to R f each independently represents an alkyl having 1 to 3 carbon atoms. And L represents a neutral Lewis base, and w represents an integer of 0 to 3), and the following general formula (II):
Figure 2011111510
(In the formula, M represents a lanthanoid element, scandium or yttrium, Cp R each independently represents an unsubstituted or substituted indenyl group, and X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxide group, a thiolate group, an amide group. , A silyl group or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, L represents a neutral Lewis base, w represents an integer of 0 to 3, and the following general formula (III ):
Figure 2011111510
(In the formula, M represents a lanthanoid element, scandium or yttrium, Cp R ′ represents unsubstituted or substituted cyclopentadienyl, indenyl or fluorenyl, and X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxide group or a thiolate group. represents an amide group, a silyl group or a hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 20, L is a neutral Lewis base, w is, an integer of 0 to 3, [B] - is a non-coordinating Obtained by addition polymerization of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound in the presence of a polymerization catalyst composition containing at least one complex selected from the group consisting of a half metallocene cation complex represented by A rubber containing a rubber component (A) containing an aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer (A1) having a cis-1,4 bond amount of 80% or more in the conjugated diene compound portion Narubutsu the (B) characterized by being applied to one of the rubber members.

ここで、メタロセン錯体は、一つ又は二つ以上のシクロペンタジエニル又はその誘導体が中心金属に結合した錯体化合物であり、特に、中心金属に結合したシクロペンタジエニル又はその誘導体が一つであるメタロセン錯体を、ハーフメタロセン錯体と称することがある。   Here, the metallocene complex is a complex compound in which one or more cyclopentadienyl or a derivative thereof is bonded to a central metal, and in particular, one cyclopentadienyl or a derivative thereof bonded to the central metal. A certain metallocene complex may be called a half metallocene complex.

本発明のランフラットタイヤに用いるゴム組成物(B)において、前記共重合体(A1)の前記共役ジエン化合物部分のビニル結合量は10%以下であることが好ましい。   In the rubber composition (B) used for the run-flat tire of the present invention, the vinyl bond content of the conjugated diene compound portion of the copolymer (A1) is preferably 10% or less.

本発明のランフラットタイヤに用いるゴム組成物(B)において、前記共重合体(A1)の芳香族ビニル化合物部分の繰り返し単位のNMR測定でのブロック量が、全芳香族ビニル化合物部分の10%以下であることが好ましい。   In the rubber composition (B) used for the run-flat tire of the present invention, the block amount in the NMR measurement of the repeating unit of the aromatic vinyl compound portion of the copolymer (A1) is 10% of the total aromatic vinyl compound portion. The following is preferable.

本発明のランフラットタイヤに用いるゴム組成物(B)において、前記共重合体(A1)は、DSC測定において、融点(Tm)を有することが好ましい。   In the rubber composition (B) used for the run flat tire of the present invention, the copolymer (A1) preferably has a melting point (Tm) in DSC measurement.

本発明のランフラットタイヤに用いるゴム組成物(B)の他の好適例において、前記共重合体(A1)は、スチレン−ブタジエン共重合体である。   In another preferred embodiment of the rubber composition (B) used in the run flat tire of the present invention, the copolymer (A1) is a styrene-butadiene copolymer.

更に、本発明のランフラットタイヤは、前記ゴム組成物(B)をランフラットタイヤのゴム部材のいずれかに用いることを特徴とし、とりわけサイド部の補強ゴム及び/又はビードフィラーに用いることが好ましい。   Furthermore, the run-flat tire of the present invention is characterized in that the rubber composition (B) is used for any rubber member of the run-flat tire, and is particularly preferably used for a side portion reinforcing rubber and / or bead filler. .

本発明によれば、特定の共重合体(A1)を含むゴム成分(A)を含むゴム組成物(B)を用いることで、ランフラット耐久性に優れたランフラットタイヤを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the run flat tire excellent in run flat durability can be provided by using the rubber composition (B) containing the rubber component (A) containing a specific copolymer (A1). .

本発明のランフラットタイヤの一実施態様の断面を示す模式図である。It is a mimetic diagram showing the section of one embodiment of the run flat tire of the present invention.

以下に、本発明を詳細に説明する。
本発明のランフラットタイヤは、下記一般式(I):

Figure 2011111510
(式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ra〜Rfは、それぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0〜3の整数を示す)で表されるメタロセン錯体、及び下記一般式(II):
Figure 2011111510
(式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1〜20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0〜3の整数を示す)で表されるメタロセン錯体、並びに下記一般式(III):
Figure 2011111510
(式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpR’は、無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1〜20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0〜3の整数を示し、[B]は、非配位性アニオンを示す)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体からなる群より選択される少なくとも1種類の錯体を含む重合触媒組成物の存在下、芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物を付加重合して得られた、共役ジエン化合物部分のシス-1,4結合量が80%以上の芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体(A1)を含むゴム成分(A)を含むゴム組成物(B)をゴム部材のいずれかに適用したことを特徴とする。 The present invention is described in detail below.
The run flat tire of the present invention has the following general formula (I):
Figure 2011111510
(In the formula, M represents a lanthanoid element, scandium or yttrium, Cp R independently represents unsubstituted or substituted indenyl, and R a to R f each independently represents an alkyl having 1 to 3 carbon atoms. And L represents a neutral Lewis base, and w represents an integer of 0 to 3), and the following general formula (II):
Figure 2011111510
(In the formula, M represents a lanthanoid element, scandium or yttrium, Cp R each independently represents an unsubstituted or substituted indenyl group, and X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxide group, a thiolate group, an amide group. , A silyl group or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, L represents a neutral Lewis base, w represents an integer of 0 to 3, and the following general formula (III ):
Figure 2011111510
(In the formula, M represents a lanthanoid element, scandium or yttrium, Cp R ′ represents unsubstituted or substituted cyclopentadienyl, indenyl or fluorenyl, and X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxide group or a thiolate group. represents an amide group, a silyl group or a hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 20, L is a neutral Lewis base, w is, an integer of 0 to 3, [B] - is a non-coordinating Obtained by addition polymerization of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound in the presence of a polymerization catalyst composition containing at least one complex selected from the group consisting of a half metallocene cation complex represented by A rubber containing a rubber component (A) containing an aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer (A1) having a cis-1,4 bond amount of 80% or more in the conjugated diene compound portion Narubutsu the (B) characterized by being applied to one of the rubber members.

[ゴム成分(A)]
上記ゴム成分(A)は、上記共重合体(A1)を含むことを要し、50質量%以上含むことが好ましい。また、上記ゴム成分(A)が、上記共重合体(A1)以外の他のゴム成分(A2)を含む場合、他のゴム成分(A2)としては、例えば、天然ゴム(NR)、ポリイソプレンゴム(IR)、ポリブタジエンゴム(BR)、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム(SBR)、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、クロロプレンゴム(CR)、ブチルゴム(IIR)、スチレン−イソプレンゴム、スチレン−イソプレン−ブタジエンゴム、ブタジエン−イソプレンゴム、シリコーンゴム、フッ素エラストマー、エチレン・アクリルゴム、エチレンプロピレンゴム(EPR)、エチレン・プロピレン・ジエンモノマー(EPDM)ゴム、水素化ニトリルゴムなどが挙げられ、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、天然ゴム、ポリブタジエンゴム及びポリイソプレンゴムが好ましい。なお、これら他のゴム成分(A2)は、単独で用いてもよいし、二種以上をブレンドして用いてもよい。
[Rubber component (A)]
The rubber component (A) needs to contain the copolymer (A1), and preferably contains 50% by mass or more. When the rubber component (A) includes a rubber component (A2) other than the copolymer (A1), examples of the other rubber component (A2) include natural rubber (NR) and polyisoprene. Rubber (IR), polybutadiene rubber (BR), styrene-butadiene copolymer rubber (SBR), acrylonitrile butadiene rubber (NBR), chloroprene rubber (CR), butyl rubber (IIR), styrene-isoprene rubber, styrene-isoprene-butadiene Rubber, butadiene-isoprene rubber, silicone rubber, fluoroelastomer, ethylene / acrylic rubber, ethylene propylene rubber (EPR), ethylene / propylene / diene monomer (EPDM) rubber, hydrogenated nitrile rubber, etc. Combined rubber, natural rubber, polybutadiene rubber and polyisopropylene Ngomu is preferable. In addition, these other rubber components (A2) may be used alone or in a blend of two or more.

[芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体(A1)]
上記共重合体(A1)は、上記一般式(I)及び一般式(II)で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体からなる群より選択される少なくとも1種類の錯体を含む重合触媒組成物の存在下、芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物を付加重合して得られた、共役ジエン化合物部分のシス-1,4結合量が80%以上の芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体である。
[Aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer (A1)]
The copolymer (A1) is selected from the group consisting of the metallocene complexes represented by the general formula (I) and the general formula (II) and the half metallocene cation complex represented by the general formula (III). An aromatic compound having a cis-1,4 bond content of 80% or more in a conjugated diene compound portion obtained by addition polymerization of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound in the presence of a polymerization catalyst composition containing at least one kind of complex. Group vinyl compound-conjugated diene compound copolymer.

上記共重合体(A1)は、共役ジエン化合物部分のシス-1,4結合量が非常に高く、該共重合体(A1)をゴム成分(A)として用いたゴム組成物(B)は、アニオン重合することで得られた従来の芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体を用いたゴム組成物及び従来の芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体とシス-1,4結合量が高い共役ジエン化合物の単独重合体とをブレンドして用いたゴム組成物と比較して、耐き裂成長性及びランフラット耐久性を向上させることができる。この理由は、必ずしも明らかではないが、共役ジエン化合物部分のシス-1,4結合量に由来する結晶性による、ガラス転移点(Tg)の低温化によるヒステリシスロス(tanδ)の低下(低発熱下)に伴うランフラット耐久性向上効果、伸長結晶性の向上による破壊強力の向上に伴う耐き裂成長性及びランフラット耐久性向上効果があるためだと思われる。ここで、
上記共役ジエン化合物部分のシス-1,4結合量は、80%以上であることを要し、90%以上であることが好ましい。該共役ジエン化合物部分のシス-1,4結合量が80%未満では、シス連鎖が不十分のため、融点(Tm)は測定されず、耐き裂成長性、ランフラット耐久性及び耐摩耗性能は低下する。なお、共役ジエン化合物部分のシス-1,4結合量は、1H-NMRスペクトル及び13C-NMRスペクトルの積分比より求めることができ、その具体的な手法は特開2004−27179号公報に開示されている。
The copolymer (A1) has a very high amount of cis-1,4 bonds in the conjugated diene compound portion, and a rubber composition (B) using the copolymer (A1) as a rubber component (A) is: A rubber composition using a conventional aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer obtained by anionic polymerization and a conventional aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer have a cis-1,4 bond amount. The crack growth resistance and run flat durability can be improved as compared with a rubber composition used by blending with a homopolymer of a high conjugated diene compound. The reason for this is not necessarily clear, but the crystallinity derived from the amount of cis-1,4 bonds in the conjugated diene compound part causes a decrease in hysteresis loss (tan δ) due to low glass transition temperature (Tg) (low heat generation) This is thought to be due to the effect of improving the run-flat durability associated with), the crack growth resistance accompanying the improvement of the fracture strength due to the improvement of elongation crystallinity, and the effect of improving the run-flat durability. here,
The amount of cis-1,4 bonds in the conjugated diene compound portion needs to be 80% or more, and preferably 90% or more. When the amount of cis-1,4 bonds in the conjugated diene compound portion is less than 80%, the cis chain is insufficient, so the melting point (Tm) is not measured, and crack growth resistance, run flat durability, and wear resistance performance Will decline. The amount of cis-1,4 bonds in the conjugated diene compound portion can be determined from the integration ratio of 1 H-NMR spectrum and 13 C-NMR spectrum, and the specific method is disclosed in JP-A-2004-27179. It is disclosed.

また、上記共重合体(A1)は、共役ジエン化合物部分のビニル結合量が10%以下であることが好ましく、5%以下であることが更に好ましい。共役ジエン化合物部分のビニル結合量が10%を超えると、シス-1,4結合量が低下し、耐き裂成長性、ランフラット耐久性の向上効果が十分に得られなくなる。なお、共役ジエン化合物部分のビニル結合量は、上述のシス-1,4結合量と同様、1H-NMRスペクトル及び13C-NMRスペクトルの積分比より求めることができる。 In the copolymer (A1), the vinyl bond content of the conjugated diene compound portion is preferably 10% or less, and more preferably 5% or less. When the vinyl bond amount of the conjugated diene compound portion exceeds 10%, the cis-1,4 bond amount is lowered, and the effect of improving crack growth resistance and run flat durability cannot be obtained sufficiently. The vinyl bond amount in the conjugated diene compound portion can be determined from the integral ratio of the 1 H-NMR spectrum and the 13 C-NMR spectrum as in the above-described cis-1,4 bond amount.

また、上記共重合体(A1)は、芳香族ビニル化合物部分の繰り返し単位のNMR測定でのブロック量が、全芳香族ビニル化合物部分の10%以下であることが好ましく、7%以下であることが更に好まく、0%であることが特に好ましい。上記重合触媒組成物を用いて得られる上記共重合体(A1)は、芳香族ビニル化合物がランダムに重合する傾向があり、芳香族ビニル化合物のブロック化を抑制することができる。ここで、ランダムとは、芳香族ビニル化合物部分の繰り返し単位のNMR測定でのブロック量(以下、ブロック芳香族ビニル化合物含有率と称することがある)が、全芳香族ビニル化合物部分の10%以下であることをいい、ブロックとは、芳香族ビニル化合物−芳香族ビニル化合物の結合を有する芳香族ビニル化合物部分を指す。上記ブロック芳香族ビニル化合物含有率が10%を超えると、芳香族ビニル化合物の単独重合体としての挙動が現われ、ガラス転移点(Tg)が上昇し、耐き裂成長性、ランフラット耐久性が低下する場合がある。なお、ブロック芳香族ビニル化合物含有率は、1H-NMRスペクトルの積分比より求めることができる。 In the copolymer (A1), the amount of blocks in the NMR measurement of the repeating unit of the aromatic vinyl compound portion is preferably 10% or less of the total aromatic vinyl compound portion, and preferably 7% or less. Is more preferred, with 0% being particularly preferred. The copolymer (A1) obtained by using the polymerization catalyst composition tends to polymerize the aromatic vinyl compound at random, and can suppress blocking of the aromatic vinyl compound. Here, the term “random” means that the amount of block in the NMR measurement of the repeating unit of the aromatic vinyl compound portion (hereinafter sometimes referred to as “block aromatic vinyl compound content”) is 10% or less of the total aromatic vinyl compound portion. The block refers to an aromatic vinyl compound portion having an aromatic vinyl compound-aromatic vinyl compound bond. When the content of the block aromatic vinyl compound exceeds 10%, the behavior of the aromatic vinyl compound as a homopolymer appears, the glass transition point (Tg) rises, and the crack growth resistance and run flat durability are improved. May decrease. In addition, a block aromatic vinyl compound content rate can be calculated | required from the integral ratio of a < 1 > H-NMR spectrum.

更に、上記共重合体(A1)は、DSC測定(示差走査熱量測定)において、融点(Tm)を示す。ここで、DSC測定における融点(Tm)は、共役ジエン化合物部分の連鎖に由来する静的結晶の融点を指す。   Furthermore, the copolymer (A1) exhibits a melting point (Tm) in DSC measurement (differential scanning calorimetry). Here, the melting point (Tm) in DSC measurement refers to the melting point of a static crystal derived from a chain of conjugated diene compound portions.

上記共重合体(A1)は、後で詳細に説明する重合触媒組成物を用いる以外は特に制限されず、例えば、通常の配位イオン重合触媒を用いる付加重合体の製造方法と同様にして、単量体である芳香族ビニル化合物と共役ジエン化合物との混合物を共重合して得ることができる。なお、重合方法としては、溶液重合法、懸濁重合法、液相塊状重合法、乳化重合法、気相重合法、固相重合法等の任意の方法を用いることができる。また、重合反応に溶媒を用いる場合、用いられる溶媒は重合反応において不活性であればよく、該溶媒の使用量は任意であるが、重合触媒組成物に含まれる錯体の濃度を0.1〜0.0001mol/lとする量であることが好ましい。ここで、芳香族ビニル化合物としては、スチレン、p-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-tert-ブチルスチレン、α-メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ビニルトルエン等が挙げられ、これらの中でも、スチレンが好ましい。一方、共役ジエン化合物としては、1,3-ブタジエン、イソプレン、1,3-ペンタジエン、2,3-ジメチルブタジエン等が挙げられ、これらの中でも、1,3-ブタジエンが好ましい。従って、上記共重合体(A1)としては、スチレン−ブタジエン共重合体が特に好ましい。ここで、ランフラットタイヤには、特に5質量%〜20質量%の芳香族ビニル化合物量が好ましい。芳香族ビニル化合物量が多すぎると発熱性が悪化し、ランフラット耐久性が低下し、一方、芳香族ビニル化合物量が少なすぎると破壊特性が低下して、ランフラット耐久性が低下するためである。   The copolymer (A1) is not particularly limited except that a polymerization catalyst composition described in detail later is used. For example, in the same manner as the production method of an addition polymer using a normal coordination ion polymerization catalyst, It can be obtained by copolymerizing a mixture of a monomeric aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound. As a polymerization method, any method such as a solution polymerization method, a suspension polymerization method, a liquid phase bulk polymerization method, an emulsion polymerization method, a gas phase polymerization method, and a solid phase polymerization method can be used. When a solvent is used for the polymerization reaction, the solvent used may be inactive in the polymerization reaction, and the amount of the solvent used is arbitrary, but the concentration of the complex contained in the polymerization catalyst composition is 0.1 to 0.0001 mol. The amount is preferably / l. Here, examples of the aromatic vinyl compound include styrene, p-methylstyrene, m-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, α-methylstyrene, chloromethylstyrene, vinyltoluene and the like. Among these, styrene Is preferred. On the other hand, examples of the conjugated diene compound include 1,3-butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, 2,3-dimethylbutadiene, and among these, 1,3-butadiene is preferable. Therefore, a styrene-butadiene copolymer is particularly preferable as the copolymer (A1). Here, the run-flat tire preferably has an aromatic vinyl compound amount of 5% by mass to 20% by mass. If the amount of aromatic vinyl compound is too large, the heat build-up will deteriorate and the run-flat durability will decrease.On the other hand, if the amount of aromatic vinyl compound is too small, the fracture characteristics will decrease and the run-flat durability will decrease. is there.

[共重合体(A1)の合成に用いる重合触媒組成物]
上記共重合体(A1)の合成に用いる重合触媒組成物は、上記一般式(I)及び式(II)で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体からなる群より選択される少なくとも一種の錯体を含むことを要し、更に、通常のメタロセン錯体を含む重合触媒組成物に含有される他の成分、例えば助触媒等を含むことが好ましい。
[Polymerization catalyst composition used for synthesis of copolymer (A1)]
The polymerization catalyst composition used for the synthesis of the copolymer (A1) includes a metallocene complex represented by the general formulas (I) and (II) and a half metallocene cation complex represented by the general formula (III). It is necessary to include at least one kind of complex selected from the group consisting of, and it is preferable to further include other components such as a co-catalyst contained in the polymerization catalyst composition including a normal metallocene complex.

上記一般式(I)及び式(II)で表されるメタロセン錯体において、式中のCpRは、無置換インデニル又は置換インデニルである。インデニル環を基本骨格とするCpRは、C97-XX又はC911-XXで示され得る。ここで、Xは0〜7又は0〜11の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基又はメタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1〜20であることが好ましく、1〜10であることが更に好ましく、1〜8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。置換インデニルとして、具体的には、2-フェニルインデニル、2-メチルインデニル等が挙げられる。なお、一般式(I)及び式(II)における二つのCpRは、それぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。 In the metallocene complexes represented by the above general formulas (I) and (II), Cp R in the formula is unsubstituted indenyl or substituted indenyl. Cp R having an indenyl ring as a basic skeleton can be represented by C 9 H 7-X R X or C 9 H 11-X R X. Here, X is an integer of 0-7 or 0-11. In addition, each R is preferably independently a hydrocarbyl group or a metalloid group. The hydrocarbyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and still more preferably 1 to 8 carbon atoms. Specific examples of the hydrocarbyl group include a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, and a benzyl group. On the other hand, examples of metalloid group metalloids include germyl Ge, stannyl Sn, and silyl Si, and the metalloid group preferably has a hydrocarbyl group, and the hydrocarbyl group that the metalloid group has is the same as the above hydrocarbyl group. is there. Specific examples of the metalloid group include a trimethylsilyl group. Specific examples of the substituted indenyl include 2-phenylindenyl, 2-methylindenyl and the like. In addition, two Cp R in the general formula (I) and the formula (II) may be the same or different from each other.

上記一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体において、式中のCpR’は、無置換もしくは置換のシクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルであり、これらの中でも、無置換もしくは置換のインデニルであることが好ましい。シクロペンタジエニル環を基本骨格とするCpR’は、C55-XXで示される。ここで、Xは0〜5の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基;メタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1〜20であることが好ましく、1〜10であることが更に好ましく、1〜8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。シクロペンタジエニル環を基本骨格とするCpR’として、具体的には、以下のものが例示される。

Figure 2011111510
(式中、Rは水素原子、メチル基又はエチル基を示す。) In the half metallocene cation complex represented by the above general formula (III), Cp R ′ in the formula is unsubstituted or substituted cyclopentadienyl, indenyl or fluorenyl, and among these, unsubstituted or substituted indenyl It is preferable that Cp R ′ having a cyclopentadienyl ring as a basic skeleton is represented by C 5 H 5-X R X. Here, X is an integer of 0-5. Moreover, it is preferable that R is respectively independently a hydrocarbyl group; metalloid group. The hydrocarbyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and still more preferably 1 to 8 carbon atoms. Specific examples of the hydrocarbyl group include a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, and a benzyl group. On the other hand, examples of metalloid group metalloids include germyl Ge, stannyl Sn, and silyl Si, and the metalloid group preferably has a hydrocarbyl group, and the hydrocarbyl group that the metalloid group has is the same as the above hydrocarbyl group. is there. Specific examples of the metalloid group include a trimethylsilyl group. Specific examples of Cp R ′ having a cyclopentadienyl ring as a basic skeleton include the following.
Figure 2011111510
(In the formula, R represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group.)

一般式(III)において、上記インデニル環を基本骨格とするCpR’は、一般式(I)のCpRと同様に定義され、好ましい例も同様である。 In the general formula (III), Cp R ′ having the indenyl ring as a basic skeleton is defined in the same manner as Cp R in the general formula (I), and preferred examples thereof are also the same.

一般式(III)において、上記フルオレニル環を基本骨格とするCpR’は、C139-XX又はC1317-XXで示され得る。ここで、Xは0〜9又は0〜17の整数である。また、Rはそれぞれ独立してヒドロカルビル基;メタロイド基であることが好ましい。ヒドロカルビル基の炭素数は1〜20であることが好ましく、1〜10であることが更に好ましく、1〜8であることが一層好ましい。該ヒドロカルビル基として、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基等が好適に挙げられる。一方、メタロイド基のメタロイドの例としては、ゲルミルGe、スタニルSn、シリルSiが挙げられ、また、メタロイド基はヒドロカルビル基を有することが好ましく、メタロイド基が有するヒドロカルビル基は上記のヒドロカルビル基と同様である。該メタロイド基として、具体的には、トリメチルシリル基等が挙げられる。 In the general formula (III), Cp R ′ having the fluorenyl ring as a basic skeleton can be represented by C 13 H 9-X R X or C 13 H 17-X R X. Here, X is an integer of 0-9 or 0-17. Moreover, it is preferable that R is respectively independently a hydrocarbyl group; metalloid group. The hydrocarbyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and still more preferably 1 to 8 carbon atoms. Specific examples of the hydrocarbyl group include a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, and a benzyl group. On the other hand, examples of metalloid group metalloids include germyl Ge, stannyl Sn, and silyl Si, and the metalloid group preferably has a hydrocarbyl group, and the hydrocarbyl group that the metalloid group has is the same as the above hydrocarbyl group. is there. Specific examples of the metalloid group include a trimethylsilyl group.

一般式(I)、式(II)及び式(III)における中心金属Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムである。ランタノイド元素には、原子番号57〜71の15元素が含まれ、これらのいずれでもよい。中心金属Mとしては、サマリウムSm、ネオジムNd、プラセオジムPr、ガドリニウムGd、セリウムCe、ホルミウムHo、スカンジウムSc及びイットリウムYが好適に挙げられる。   The central metal M in the general formula (I), formula (II) and formula (III) is a lanthanoid element, scandium or yttrium. The lanthanoid elements include 15 elements having atomic numbers 57 to 71, and any of these may be used. Preferred examples of the central metal M include samarium Sm, neodymium Nd, praseodymium Pr, gadolinium Gd, cerium Ce, holmium Ho, scandium Sc, and yttrium Y.

一般式(I)で表されるメタロセン錯体は、ビストリアルキルシリルアミド配位子[−N(SiR3)2]を含む。ビストリアルキルシリルアミドに含まれるアルキル基R(一般式(I)におけるRa〜Rf)は、それぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基であり、メチル基であることが好ましい。 The metallocene complex represented by the general formula (I) contains a bistrialkylsilylamide ligand [—N (SiR 3 ) 2 ]. The alkyl groups R (R a to R f in the general formula (I)) contained in the bistrialkylsilylamide are each independently an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and is preferably a methyl group.

一般式(II)で表されるメタロセン錯体は、シリル配位子[−SiX 3]を含む。シリル配位子[−SiX 3]に含まれるXは、下記で説明される一般式(III)のXと同様に定義される基であり、好ましい基も同様である。 The metallocene complex represented by the general formula (II) contains a silyl ligand [—SiX 3 ]. X contained in the silyl ligand [—SiX 3 ] is a group defined in the same manner as X in the general formula (III) described below, and preferred groups are also the same.

一般式(III)において、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基及び炭素数1〜20の炭化水素基からなる群より選択される基である。ここで、上記アルコキシド基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等の脂肪族アルコキシ基;フェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルフェノキシ基、2,6-ジネオペンチルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-ネオペンチルフェノキシ基、2-イソプロピル-6-ネオペンチルフェノキシ基等のアリールオキシド基が挙げられ、これらの中でも、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ基が好ましい。   In the general formula (III), X is a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxide group, a thiolate group, an amide group, a silyl group, and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Here, examples of the alkoxide group include aliphatic alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group and tert-butoxy group; phenoxy group and 2,6-di- -tert-butylphenoxy group, 2,6-diisopropylphenoxy group, 2,6-dineopentylphenoxy group, 2-tert-butyl-6-isopropylphenoxy group, 2-tert-butyl-6-neopentylphenoxy group, Examples include aryloxide groups such as 2-isopropyl-6-neopentylphenoxy group, and among these, 2,6-di-tert-butylphenoxy group is preferable.

一般式(III)において、Xが表すチオラート基としては、チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオプロポキシ基、チオn-ブトキシ基、チオイソブトキシ基、チオsec-ブトキシ基、チオtert-ブトキシ基等の脂肪族チオラート基;チオフェノキシ基、2,6-ジ-tert-ブチルチオフェノキシ基、2,6-ジイソプロピルチオフェノキシ基、2,6-ジネオペンチルチオフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルチオフェノキシ基、2-tert-ブチル-6-チオネオペンチルフェノキシ基、2-イソプロピル-6-チオネオペンチルフェノキシ基、2,4,6-トリイソプロピルチオフェノキシ基等のアリールチオラート基が挙げられ、これらの中でも、2,4,6-トリイソプロピルチオフェノキシ基が好ましい。   In the general formula (III), the thiolate group represented by X includes a thiomethoxy group, a thioethoxy group, a thiopropoxy group, a thio n-butoxy group, a thioisobutoxy group, a thio sec-butoxy group, a thio tert-butoxy group and the like Group thiolate group; thiophenoxy group, 2,6-di-tert-butylthiophenoxy group, 2,6-diisopropylthiophenoxy group, 2,6-dineopentylthiophenoxy group, 2-tert-butyl-6-isopropyl Arylthiolate groups such as thiophenoxy group, 2-tert-butyl-6-thioneopentylphenoxy group, 2-isopropyl-6-thioneopentylphenoxy group, 2,4,6-triisopropylthiophenoxy group, etc. Among these, 2,4,6-triisopropylthiophenoxy group is preferable.

一般式(III)において、Xが表すアミド基としては、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジイソプロピルアミド基等の脂肪族アミド基;フェニルアミド基、2,6-ジ-tert-ブチルフェニルアミド基、2,6-ジイソプロピルフェニルアミド基、2,6-ジネオペンチルフェニルアミド基、2-tert-ブチル-6-イソプロピルフェニルアミド基、2-tert-ブチル-6-ネオペンチルフェニルアミド基、2-イソプロピル-6-ネオペンチルフェニルアミド基、2,4,6-tert-ブチルフェニルアミド基等のアリールアミド基;ビストリメチルシリルアミド基等のビストリアルキルシリルアミド基が挙げられ、これらの中でも、ビストリメチルシリルアミド基が好ましい。   In the general formula (III), the amide group represented by X includes aliphatic amide groups such as dimethylamide group, diethylamide group and diisopropylamide group; phenylamide group, 2,6-di-tert-butylphenylamide group, 2 2,6-diisopropylphenylamide group, 2,6-dineopentylphenylamide group, 2-tert-butyl-6-isopropylphenylamide group, 2-tert-butyl-6-neopentylphenylamide group, 2-isopropyl- Arylamide groups such as 6-neopentylphenylamide group, 2,4,6-tert-butylphenylamide group; and bistrialkylsilylamide groups such as bistrimethylsilylamide group. Among these, bistrimethylsilylamide group is preferable.

一般式(III)において、Xが表すシリル基としては、トリメチルシリル基、トリス(トリメチルシリル)シリル基、ビス(トリメチルシリル)メチルシリル基、トリメチルシリル(ジメチル)シリル基、トリイソプロピルシリル(ビストリメチルシリル)シリル基等が挙げられ、これらの中でも、トリス(トリメチルシリル)シリル基が好ましい。   In the general formula (III), examples of the silyl group represented by X include trimethylsilyl group, tris (trimethylsilyl) silyl group, bis (trimethylsilyl) methylsilyl group, trimethylsilyl (dimethyl) silyl group, triisopropylsilyl (bistrimethylsilyl) silyl group, and the like. Among these, a tris (trimethylsilyl) silyl group is preferable.

一般式(III)において、Xが表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子のいずれでもよいが、塩素原子又は臭素原子が好ましい。また、Xが表す炭素数1〜20の炭化水素基として、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等の直鎖又は分枝鎖の脂肪族炭化水素基;フェニル基、トリル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基;ベンジル基等のアラルキル基等の他;トリメチルシリルメチル基、ビストリメチルシリルメチル基等のケイ素原子を含有する炭化水素基等が挙げられ、これらの中でも、メチル基、エチル基、イソブチル基、トリメチルシリルメチル基等が好ましい。   In the general formula (III), the halogen atom represented by X may be a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, but a chlorine atom or a bromine atom is preferred. Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by X include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert- Linear or branched aliphatic hydrocarbon groups such as butyl group, neopentyl group, hexyl group, octyl group; aromatic hydrocarbon groups such as phenyl group, tolyl group, naphthyl group; aralkyl groups such as benzyl group, etc. Others: Examples include hydrocarbon groups containing silicon atoms such as trimethylsilylmethyl group and bistrimethylsilylmethyl group. Among these, methyl group, ethyl group, isobutyl group, trimethylsilylmethyl group and the like are preferable.

一般式(III)において、Xとしては、ビストリメチルシリルアミド基又は炭素数1〜20の炭化水素基が好ましい。   In the general formula (III), X is preferably a bistrimethylsilylamide group or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.

一般式(III)において、[B]で示される非配位性アニオンとしては、例えば、4価のホウ素アニオンが挙げられる。該4価のホウ素アニオンとして、具体的には、テトラフェニルボレート、テトラキス(モノフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(ジフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(トリフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(テトラフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(テトラフルオロメチルフェニル)ボレート、テトラ(トリル)ボレート、テトラ(キシリル)ボレート、(トリフェニル,ペンタフルオロフェニル)ボレート、[トリス(ペンタフルオロフェニル),フェニル]ボレート、トリデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート等が挙げられ、これらの中でも、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが好ましい。 In the general formula (III), [B] - The non-coordinating anion represented by, for example, a tetravalent boron anion. Specific examples of the tetravalent boron anion include tetraphenylborate, tetrakis (monofluorophenyl) borate, tetrakis (difluorophenyl) borate, tetrakis (trifluorophenyl) borate, tetrakis (tetrafluorophenyl) borate, tetrakis ( Pentafluorophenyl) borate, tetrakis (tetrafluoromethylphenyl) borate, tetra (tolyl) borate, tetra (xylyl) borate, (triphenyl, pentafluorophenyl) borate, [tris (pentafluorophenyl), phenyl] borate, tri Decahydride-7,8-dicarbaoundecaborate is exemplified, and among these, tetrakis (pentafluorophenyl) borate is preferable.

上記一般式(I)及び式(II)で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、更に0〜3個、好ましくは0〜1個の中性ルイス塩基Lを含む。ここで、中性ルイス塩基Lとしては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメチルアニリン、トリメチルホスフィン、塩化リチウム、中性のオレフィン類、中性のジオレフィン類等が挙げられる。ここで、上記錯体が複数の中性ルイス塩基Lを含む場合、中性ルイス塩基Lは、同一であっても異なっていてもよい。   The metallocene complex represented by the above general formulas (I) and (II) and the half metallocene cation complex represented by the above general formula (III) are further 0 to 3, preferably 0 to 1 neutral. Contains Lewis base L. Here, examples of the neutral Lewis base L include tetrahydrofuran, diethyl ether, dimethylaniline, trimethylphosphine, lithium chloride, neutral olefins, neutral diolefins, and the like. Here, when the complex includes a plurality of neutral Lewis bases L, the neutral Lewis bases L may be the same or different.

また、上記一般式(I)及び式(II)で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、単量体として存在していてもよく、二量体又はそれ以上の多量体として存在していてもよい。   Further, the metallocene complex represented by the general formula (I) and the formula (II) and the half metallocene cation complex represented by the general formula (III) may exist as a monomer, It may exist as a body or higher multimer.

上記一般式(I)で表されるメタロセン錯体は、例えば、溶媒中でランタノイドトリスハライド、スカンジウムトリスハライド又はイットリウムトリスハライドを、インデニルの塩(例えばカリウム塩やリチウム塩)及びビス(トリアルキルシリル)アミドの塩(例えばカリウム塩やリチウム塩)と反応させることで得ることができる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間〜数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンを用いればよい。以下に、一般式(I)で表されるメタロセン錯体を得るための反応例を示す。

Figure 2011111510
(式中、X’’はハライドを示す。) The metallocene complex represented by the general formula (I) includes, for example, a lanthanoid trishalide, scandium trishalide, or yttrium trishalide in a solvent, an indenyl salt (for example, potassium salt or lithium salt) and bis (trialkylsilyl). It can be obtained by reacting with an amide salt (for example, potassium salt or lithium salt). In addition, since reaction temperature should just be about room temperature, it can manufacture on mild conditions. The reaction time is arbitrary, but is about several hours to several tens of hours. The reaction solvent is not particularly limited, but is preferably a solvent that dissolves the raw material and the product. For example, toluene may be used. The reaction examples for obtaining the metallocene complex represented by the general formula (I) are shown below.
Figure 2011111510
(In the formula, X represents a halide.)

上記一般式(II)で表されるメタロセン錯体は、例えば、溶媒中でランタノイドトリスハライド、スカンジウムトリスハライド又はイットリウムトリスハライドを、インデニルの塩(例えばカリウム塩やリチウム塩)及びシリルの塩(例えばカリウム塩やリチウム塩)と反応させることで得ることができる。なお、反応温度は室温程度にすればよいので、温和な条件で製造することができる。また、反応時間は任意であるが、数時間〜数十時間程度である。反応溶媒は特に限定されないが、原料及び生成物を溶解する溶媒であることが好ましく、例えばトルエンを用いればよい。以下に、一般式(II)で表されるメタロセン錯体を得るための反応例を示す。

Figure 2011111510
(式中、X’’はハライドを示す。) The metallocene complex represented by the general formula (II) includes, for example, a lanthanoid trishalide, scandium trishalide or yttrium trishalide in a solvent, an indenyl salt (for example, potassium salt or lithium salt) and a silyl salt (for example, potassium). Salt or lithium salt). In addition, since reaction temperature should just be about room temperature, it can manufacture on mild conditions. The reaction time is arbitrary, but is about several hours to several tens of hours. The reaction solvent is not particularly limited, but is preferably a solvent that dissolves the raw material and the product. For example, toluene may be used. The reaction examples for obtaining the metallocene complex represented by the general formula (II) are shown below.
Figure 2011111510
(In the formula, X represents a halide.)

上記一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体は、例えば、次の反応により得ることができる。

Figure 2011111510
The half metallocene cation complex represented by the general formula (III) can be obtained, for example, by the following reaction.
Figure 2011111510

ここで、一般式(VI)で表される化合物において、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpR’は、それぞれ独立して無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1〜20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0〜3の整数を示す。また、一般式[A][B]で表されるイオン性化合物において、[A]は、カチオンを示し、[B]は、非配位性アニオンを示す。 Here, in the compound represented by the general formula (VI), M represents a lanthanoid element, scandium or yttrium, and Cp R ′ independently represents unsubstituted or substituted cyclopentadienyl, indenyl or fluorenyl. , X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxide group, a thiolate group, an amide group, a silyl group, or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, L represents a neutral Lewis base, and w represents 0 to 3 Indicates an integer. In the ionic compound represented by the general formula [A] + [B] , [A] + represents a cation, and [B] represents a non-coordinating anion.

[A]で表されるカチオンとしては、例えば、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アミンカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプタトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオン等が挙げられる。カルボニウムカチオンとしては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ(置換フェニル)カルボニウムカチオン等の三置換カルボニウムカチオン等が挙げられ、トリ(置換フェニル)カルボニルカチオンとして、具体的には、トリ(メチルフェニル)カルボニウムカチオン等が挙げられる。アミンカチオンとしては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン等のトリアルキルアンモニウムカチオン;N,N-ジメチルアニリニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカチオン、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムカチオン等のN,N-ジアルキルアニリニウムカチオン;ジイソプロピルアンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオン等のジアルキルアンモニウムカチオン等が挙げられる。ホスホニウムカチオンとしては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ(メチルフェニル)ホスホニウムカチオン、トリ(ジメチルフェニル)ホスホニウムカチオン等のトリアリールホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらカチオンの中でも、N,N-ジアルキルアニリニウムカチオン又はカルボニウムカチオンが好ましく、N,N-ジアルキルアニリニウムカチオンが特に好ましい。 Examples of the cation represented by [A] + include a carbonium cation, an oxonium cation, an amine cation, a phosphonium cation, a cycloheptatrienyl cation, and a ferrocenium cation having a transition metal. Examples of the carbonium cation include trisubstituted carbonium cations such as triphenylcarbonium cation and tri (substituted phenyl) carbonium cation. Examples of the tri (substituted phenyl) carbonyl cation include tri (methylphenyl). ) Carbonium cation and the like. Examples of amine cations include trialkylammonium cations such as trimethylammonium cation, triethylammonium cation, tripropylammonium cation, and tributylammonium cation; N, N-dimethylanilinium cation, N, N-diethylanilinium cation, N, N- N, N-dialkylanilinium cations such as 2,4,6-pentamethylanilinium cation; dialkylammonium cations such as diisopropylammonium cation and dicyclohexylammonium cation. Examples of the phosphonium cation include triarylphosphonium cations such as triphenylphosphonium cation, tri (methylphenyl) phosphonium cation, and tri (dimethylphenyl) phosphonium cation. Among these cations, N, N-dialkylanilinium cation or carbonium cation is preferable, and N, N-dialkylanilinium cation is particularly preferable.

上記反応に用いる一般式[A][B]で表されるイオン性化合物としては、上記の非配位性アニオン及びカチオンからそれぞれ選択し組み合わせた化合物であって、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等が好ましい。また、一般式[A][B]で表されるイオン性化合物は、メタロセン錯体に対して0.1〜10倍モル加えることが好ましく、約1倍モル加えることが更に好ましい。なお、一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体を重合反応に用いる場合、一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体をそのまま重合反応系中に提供してもよいし、上記反応に用いる一般式(IV)で表される化合物と一般式[A][B]で表されるイオン性化合物を別個に重合反応系中に提供し、反応系中、一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体を形成させてもよい。また、一般式(I)又は式(II)で表されるメタロセン錯体と一般式[A][B]で表されるイオン性化合物とを組み合わせて使用することにより、反応系中、一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体を形成させることもできる。 The ionic compound represented by the general formula [A] + [B] used in the above reaction is a compound selected and combined from the above non-coordinating anions and cations, and is an N, N-dimethylaniline. Nitrotetrakis (pentafluorophenyl) borate, triphenylcarbonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and the like are preferable. In general formula [A] + [B] - ionic compounds represented by is preferably added from 0.1 to 10 mol per mol of the metallocene complex, more preferably it added about 1 molar. When the half metallocene cation complex represented by the general formula (III) is used for the polymerization reaction, the half metallocene cation complex represented by the general formula (III) may be provided as it is in the polymerization reaction system, or The compound represented by the general formula (IV) and the ionic compound represented by the general formula [A] + [B] used for the reaction are separately provided in the polymerization reaction system, and the general formula (III You may form the half metallocene cation complex represented by this. Further, by using a combination of a metallocene complex represented by the general formula (I) or the formula (II) and an ionic compound represented by the general formula [A] + [B] - , A half metallocene cation complex represented by the formula (III) can also be formed.

一般式(I)及び式(II)で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体の構造は、X線構造解析により決定することが好ましい。   The structures of the metallocene complexes represented by the general formulas (I) and (II) and the half metallocene cation complex represented by the above general formula (III) are preferably determined by X-ray structural analysis.

上記重合触媒組成物に用いることができる助触媒は、通常のメタロセン錯体を含む重合触媒組成物の助触媒として用いられる成分から任意に選択され得る。該助触媒としては、例えば、アルミノキサン、有機アルミニウム化合物、上記のイオン性化合物等が好適に挙げられる。これら助触媒は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   The co-catalyst that can be used in the polymerization catalyst composition can be arbitrarily selected from components used as a co-catalyst for a polymerization catalyst composition containing a normal metallocene complex. Suitable examples of the cocatalyst include aluminoxanes, organoaluminum compounds, and the above ionic compounds. These promoters may be used alone or in combination of two or more.

上記アルミノキサンとしては、アルキルアルミノキサンが好ましく、例えば、メチルアルミノキサン(MAO)、修飾メチルアルミノキサン等が挙げられる。また、修飾メチルアルミノキサンとしては、MMAO−3A(東ソーファインケム社製)等が好ましい。なお、上記重合触媒組成物におけるアルミノキサンの含有量は、メタロセン錯体の中心金属Mと、アルミノキサンのアルミニウム元素Alとの元素比率Al/Mが、10〜1000程度、好ましくは100程度となるようにすることが好ましい。   The aluminoxane is preferably an alkylaluminoxane, and examples thereof include methylaluminoxane (MAO) and modified methylaluminoxane. As the modified methylaluminoxane, MMAO-3A (manufactured by Tosoh Finechem Co., Ltd.) and the like are preferable. The content of aluminoxane in the polymerization catalyst composition is such that the element ratio Al / M between the central metal M of the metallocene complex and the aluminum element Al of the aluminoxane is about 10 to 1000, preferably about 100. It is preferable.

一方、上記有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリアルキルアルミニウムが好ましい。また、トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等が挙げられる。なお、上記重合触媒組成物における有機アルミニウム化合物の含有量は、メタロセン錯体に対して1〜50倍モルであることが好ましく、約10倍モルであることが更に好ましい。   On the other hand, examples of the organoaluminum compound include trialkylaluminum, dialkylaluminum chloride, alkylaluminum dichloride, and dialkylaluminum hydride. Among these, trialkylaluminum is preferable. Examples of the trialkylaluminum include triethylaluminum and triisobutylaluminum. In addition, the content of the organoaluminum compound in the polymerization catalyst composition is preferably 1 to 50 times mol, more preferably about 10 times mol for the metallocene complex.

更に、上記重合触媒組成物においては、一般式(I)及び式(II)で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体をそれぞれ、適切な助触媒と組み合わせることで、シス-1,4結合量や得られる共重合体の分子量を増大できる。   Furthermore, in the polymerization catalyst composition, each of the metallocene complex represented by the general formula (I) and the formula (II) and the half metallocene cation complex represented by the general formula (III) is used as an appropriate promoter. By combining them, the amount of cis-1,4 bonds and the molecular weight of the resulting copolymer can be increased.

[共重合体(A1)の製造方法]
上記共重合体(A1)の製造方法は、上記一般式(I)及び一般式(II)で表されるメタロセン錯体、並びに上記一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体からなる群より選択される少なくとも1種類の錯体を含む重合触媒組成物の存在下、芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物を付加重合させる工程を含むことを特徴とする。また、該製造方法は、重合触媒として上述した重合触媒組成物を用いること以外は、従来の配位イオン重合触媒を用いる付加重合反応による付加重合体の製造方法と同様とすることができる。ここで、該製造方法は、例えば、(1)単量体として芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物を含む重合反応系中に、重合触媒組成物の構成成分を別個に提供し、該反応系中において重合触媒組成物としてもよいし、(2)予め調製された重合触媒組成物を重合反応系中に提供してもよい。また、(2)においては、助触媒によって活性化されたメタロセン錯体(活性種)を提供することも含まれる。なお、重合触媒組成物に含まれるメタロセン錯体の使用量は、単量体に対して1/10000〜1/100倍モルの範囲が好ましい。
[Production Method of Copolymer (A1)]
The method for producing the copolymer (A1) includes a metallocene complex represented by the general formula (I) and the general formula (II) and a group consisting of a half metallocene cation complex represented by the general formula (III). It includes a step of addition polymerization of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound in the presence of a polymerization catalyst composition containing at least one selected complex. Moreover, this manufacturing method can be made to be the same as that of the manufacturing method of the addition polymer by the addition polymerization reaction using the conventional coordination ion polymerization catalyst except using the polymerization catalyst composition mentioned above as a polymerization catalyst. Here, the production method includes, for example, (1) separately providing the components of the polymerization catalyst composition in a polymerization reaction system containing an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound as monomers, May be a polymerization catalyst composition, or (2) a previously prepared polymerization catalyst composition may be provided in the polymerization reaction system. Moreover, (2) includes providing a metallocene complex (active species) activated by a cocatalyst. In addition, the usage-amount of the metallocene complex contained in a polymerization catalyst composition has the preferable range of 1 / 10000-1 / 100 times mole with respect to a monomer.

また、上記付加重合反応は、不活性ガス、好ましくは窒素ガスやアルゴンガスの雰囲気下において行われることが好ましい。   The addition polymerization reaction is preferably performed in an atmosphere of an inert gas, preferably nitrogen gas or argon gas.

上記付加重合反応の重合温度は、特に制限されないが、例えば−100℃〜200℃の範囲が好ましく、室温程度とすることもできる。なお、重合温度を上げると、重合反応のシス-1,4選択性が低下することがある。一方、上記付加重合反応の反応時間も特に制限されず、例えば1秒〜10日の範囲が好ましいが、重合される単量体の種類、触媒の種類、重合温度等の条件によって適宜選択することができる。   The polymerization temperature of the addition polymerization reaction is not particularly limited, but is preferably in the range of −100 ° C. to 200 ° C., for example, and can be about room temperature. When the polymerization temperature is raised, the cis-1,4 selectivity of the polymerization reaction may be lowered. On the other hand, the reaction time of the above addition polymerization reaction is not particularly limited, and is preferably in the range of, for example, 1 second to 10 days, but may be appropriately selected depending on conditions such as the type of monomer to be polymerized, the type of catalyst, and the polymerization temperature. Can do.

(共重合体(A1)の平均分子量及び分子量分布)
また、得られる上記共重合体(A1)の数平均分子量(Mn)は、特に限定されず、低分子量化の問題が起きることもない。更に、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比で表される分子量分布(Mw/Mn)は、3以下が好ましく、2以下が更に好ましい。ここで、平均分子量及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレンを標準物質として求めることができる。
(Average molecular weight and molecular weight distribution of copolymer (A1))
Further, the number average molecular weight (Mn) of the obtained copolymer (A1) is not particularly limited, and the problem of lowering the molecular weight does not occur. Furthermore, the molecular weight distribution (Mw / Mn) represented by the ratio of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) is preferably 3 or less, and more preferably 2 or less. Here, the average molecular weight and the molecular weight distribution can be determined using polystyrene as a standard substance by gel permeation chromatography (GPC).

[ゴム組成物(B)]
本発明のランフラットタイヤに用いるゴム組成物(B)には、上記共重合体(A1)を含むゴム成分(A)を含むことを特徴とし、更に充填剤を含有することが好ましい。ここで、充填剤の配合量は、特に限定されるものではないが、上記芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体100質量部に対して10〜200質量部の範囲が好ましい。充填剤の配合量が10質量部未満では、充分なランフラット耐久性が得られない場合があり、200質量部を超えると、加工性が悪化する場合がある。ここで、充填剤としては、カーボンブラック及びシリカが好ましい。なお、カーボンブラックとしては、GPF,FEF,SRF,HAF,ISAF,SAFグレードのものが好ましく、HAF,ISAF,SAFグレードのものが更に好ましい。一方、シリカとしては、湿式シリカ及び乾式シリカ等が好ましく、湿式シリカが更に好ましい。これら補強性の充填剤は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。
[Rubber composition (B)]
The rubber composition (B) used for the run-flat tire of the present invention is characterized by containing the rubber component (A) containing the copolymer (A1), and preferably further contains a filler. Here, the blending amount of the filler is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer. When the blending amount of the filler is less than 10 parts by mass, sufficient run-flat durability may not be obtained, and when it exceeds 200 parts by mass, workability may be deteriorated. Here, as the filler, carbon black and silica are preferable. The carbon black is preferably GPF, FEF, SRF, HAF, ISAF or SAF grade, more preferably HAF, ISAF or SAF grade. On the other hand, as silica, wet silica and dry silica are preferable, and wet silica is more preferable. These reinforcing fillers may be used alone or in a combination of two or more.

上記ゴム組成物(B)には、上記共重合体(A1)、充填剤の他に、ゴム工業界で通常使用される配合剤、例えば、老化防止剤、軟化剤、シランカップリング剤、加硫促進剤、加硫促進助剤、加硫剤等を、本発明の目的を害しない範囲内で適宜選択して配合することができる。これら配合剤としては、市販品を好適に使用することができる。本発明のゴム組成物は、芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体に、必要に応じて適宜選択した各種配合剤を配合して、混練り、熱入れ、押出等することにより製造することができる。   In addition to the copolymer (A1) and filler, the rubber composition (B) includes compounding agents usually used in the rubber industry, such as anti-aging agents, softeners, silane coupling agents, additives. Sulfur accelerators, vulcanization accelerators, vulcanizers, and the like can be appropriately selected and blended within a range that does not impair the object of the present invention. As these compounding agents, commercially available products can be suitably used. The rubber composition of the present invention is produced by blending various compounding agents appropriately selected as necessary with an aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer, kneading, heating, extruding, and the like. Can do.

(ゴム組成物(B)の加硫ゴム物性)
(100%伸張時応力(M100))
本発明に係るゴム組成物(B)は、加硫ゴム物性として、100%伸張時応力(M100)が10MPa以上であることが好ましい。この応力(M100)が10MPa未満では、ランフラット走行時のタイヤの撓みが大きくなり、タイヤのランフラット走行耐久性が低下する。好ましいM100は10.5MPa以上であり、その上限は特に制限はないが、乗り心地性等を考慮すると通常11〜13MPa程度である。
(Physical properties of vulcanized rubber of rubber composition (B))
(100% elongation stress (M100))
The rubber composition (B) according to the present invention preferably has a 100% elongation stress (M100) of 10 MPa or more as a vulcanized rubber property. When the stress (M100) is less than 10 MPa, the tire is greatly bent during the run-flat running, and the run-flat running durability of the tire is lowered. Preferable M100 is 10.5 MPa or more, and the upper limit thereof is not particularly limited, but is usually about 11 to 13 MPa in consideration of riding comfort and the like.

(加硫ゴム組成物の屈曲き裂成長性)
本発明に係るゴム組成物(B)は、加硫ゴム物性として、加硫ゴム組成物の屈曲き裂成長性が(指数)が高いことが好ましい。指数が高いほど屈曲により成長したき裂長さが短いことを意味しており、ランフラット走行時に発生した亀裂の伸長を抑制する効果が大きく、結果としてランフラット耐久性に優れるためである。
(Bend crack growth of vulcanized rubber composition)
The rubber composition (B) according to the present invention preferably has a high (index) flex crack growth property of the vulcanized rubber composition as a vulcanized rubber property. This means that the higher the index, the shorter the crack length grown by bending, and the greater the effect of suppressing the elongation of cracks generated during run-flat travel, resulting in excellent run-flat durability.

[タイヤ]
以下に、図を参照しながら本発明を詳細に説明する。図1は、本発明のランフラットタイヤの一実施態様の断面を示す模式図である。図1に示すタイヤは、左右一対の一対のビードコア1間にわたってトロイド状に連なり、両端部が該ビードコア1をタイヤ内側から外側へ巻き上げられる少なくとも1枚のラジアルカーカスプライからなるカーカス層2と、該カーカス層2のサイド領域のタイヤ軸方向外側に配置されて外側部を形成するサイドゴム層3と、該カーカス層2のクラウン領域のタイヤ径方向外側に配置されて接地部を形成するトレッドゴム層4と、該トレッドゴム層4と該カーカス層2のクラウン領域の間に配置されて補強ベルトを形成するベルト層5と、該カーカス層2のタイヤ内方全面に配置されて気密膜を形成するインナーライナー6と、一方の該ビードコア1から他方の該ビードコア1'へ延びる該カーカス層2本体部分と該ビードコア1に巻き上げられる巻上部分との間に配置されるビードフィラー7と、該カーカス層のサイド領域の該ビードフィラー7側部からショルダー区域10にかけて、該カーカス層2と該インナーライナー6との間に、タイヤ回転軸に沿った断面形状が略三日月形である、少なくとも1枚のサイド部の補強ゴム8を具える。なお、図示例のサイド部の補強ゴム8の形状は、断面三日月状であるが、その断面形状はサイド補強の機能を有するものであれば特に限定されない。
[tire]
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing a cross section of one embodiment of the run-flat tire of the present invention. The tire shown in FIG. 1 is connected in a toroidal shape between a pair of left and right bead cores 1, and a carcass layer 2 composed of at least one radial carcass ply whose both ends are wound up from the tire inner side to the outer side, A side rubber layer 3 disposed on the outer side in the tire axial direction of the side region of the carcass layer 2 to form an outer portion, and a tread rubber layer 4 disposed on the outer side in the tire radial direction of the crown region of the carcass layer 2 to form a ground contact portion. A belt layer 5 disposed between the tread rubber layer 4 and the crown region of the carcass layer 2 to form a reinforcing belt, and an inner layer disposed on the entire inner surface of the carcass layer 2 to form an airtight film. A liner 6 is wound around the bead core 1 and the body portion of the carcass layer 2 extending from the one bead core 1 to the other bead core 1 ′. Between the carcass layer 2 and the inner liner 6 from the bead filler 7 side portion of the side region of the carcass layer to the shoulder region 10. At least one side portion of the reinforcing rubber 8 having a substantially crescent-shaped cross section along the rotation axis is provided. In addition, although the shape of the reinforcing rubber 8 at the side portion in the illustrated example has a crescent-shaped cross section, the cross-sectional shape is not particularly limited as long as it has a side reinforcing function.

本発明のランフラットタイヤは、上記ゴム組成物(B)をゴム部材のいずれか適用したことを特徴とし、補強ゴムに適用することが好ましく、上記ゴム組成物をサイド部の補強ゴム及び/又はビードフィラーに適用することが特に好ましい。これは、これらのゴム部材が、内圧が異常低下した時やパンクした時に両サイドゴム層を変形しにくくして荷重を支持する主要ゴム部材であるためである。   The run flat tire of the present invention is characterized in that any of the rubber members is applied to the rubber composition (B), and is preferably applied to a reinforced rubber. The rubber composition is preferably used as a reinforced rubber and / or a side rubber. It is particularly preferable to apply to bead fillers. This is because these rubber members are main rubber members that support the load by making it difficult to deform both side rubber layers when the internal pressure is abnormally lowered or punctured.

(ランフラットタイヤの作製)
本発明のランフラットタイヤは、上記ゴム組成物(B)をゴム部材のいずれかに適用する以外特に制限は無く、常法に従って製造することができる。例えば、それらは、タイヤのトレッド、サイド、サイド部の補強ゴム、ビードフィラー又は他の種々のゴム部材に適用することができる。好適には、上記ゴム組成物(B)をサイド部の補強ゴム8及び/又はビードフィラー7に用いて通常のランフラットタイヤの製造方法によって製造される。すなわち、上記のように各種薬品を含有させたゴム組成物(B)が未加硫の段階で各部材に加工され、タイヤ成形機上で通常の方法により貼り付け成形され、生タイヤが成形される。この生タイヤを加硫機中で加熱加圧して、タイヤが得られる。また、該タイヤに充填する気体としては、通常の或いは酸素分圧を調整した空気の他、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスを用いることができる。このようにして得られた本発明のランフラットタイヤは、ランフラット耐久性を向上させたものとなる。
(Production of run-flat tires)
The run flat tire of the present invention is not particularly limited except that the rubber composition (B) is applied to any of the rubber members, and can be produced according to a conventional method. For example, they can be applied to tire treads, side and side reinforcement rubbers, bead fillers or other various rubber members. Preferably, the rubber composition (B) is used for the reinforcing rubber 8 and / or the bead filler 7 in the side portion, and the rubber composition (B) is manufactured by an ordinary run flat tire manufacturing method. That is, the rubber composition (B) containing various chemicals as described above is processed into each member at an unvulcanized stage, and is pasted and molded by a normal method on a tire molding machine to form a raw tire. The The green tire is heated and pressed in a vulcanizer to obtain a tire. Moreover, as gas with which this tire is filled, inert gas, such as nitrogen, argon, helium other than normal or the air which adjusted oxygen partial pressure, can be used. The run flat tire of the present invention thus obtained has improved run flat durability.

以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

(ハーフメタロセンカチオン錯体の合成)
まず、実施例1、2において、共通して使用した一般式(III)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体を合成し、その構造を1H-NMR及びX線結晶構造解析により確認した。なお、1H-NMRはTHF-d8を溶媒とし、室温で測定を行った。X線結晶構造解析は、RAXIS CS(リガク)を用いて行った。
窒素雰囲気下、(2-MeC96)2GdN(SiMe3)2(0.150g,0.260mmol)のTHF溶液5mLに、トリエチルアニリニウムテトラキスフェニルボレート(Et3NHB(C66)4)(0.110g,0.260mmol)を添加し室温で12時間攪拌した。その後、THFを減圧留去し、得られた残査をヘキサンで3回洗浄したところ、オイル状化合物を得た。その残査をTHF/ヘキサン混合溶媒で再結晶を行い、白色結晶として[(2-MeC96)GdN(SiMe3)2(THF)3][B(C65)4](150mg,59%)を得た。構造確認はX線結晶解析で行った。
(Synthesis of half metallocene cation complex)
First, in Examples 1 and 2, the half metallocene cation complex represented by the general formula (III) used in common was synthesized, and its structure was confirmed by 1 H-NMR and X-ray crystal structure analysis. 1 H-NMR was measured at room temperature using THF-d8 as a solvent. X-ray crystal structure analysis was performed using RAXIS CS (Rigaku).
Under a nitrogen atmosphere, triethylanilinium tetrakisphenylborate (Et 3 NHB (C 6 H 6 ) 4 ) was added to 5 mL of a solution of (2-MeC 9 H 6 ) 2 GdN (SiMe 3 ) 2 (0.150 g, 0.260 mmol) in THF. (0.110 g, 0.260 mmol) was added and stirred at room temperature for 12 hours. Thereafter, THF was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was washed three times with hexane to obtain an oily compound. The residue was recrystallized with a THF / hexane mixed solvent to produce [(2-MeC 9 H 6 ) GdN (SiMe 3 ) 2 (THF) 3 ] [B (C 6 F 5 ) 4 ] (150 mg as white crystals). 59%). The structure was confirmed by X-ray crystal analysis.

(実施例1に用いる重合体A1−Aの合成)
窒素雰囲気下のグローブボックス中で、十分に乾燥した1L耐圧ガラスボトルに、スチレン104g(1mol)及びトルエン50gを添加し、ボトルを打栓した。その後、グローブボックスからボトルを取り出し、1,3-ブタジエンを54g(1mol)仕込み、モノマー溶液とした。一方、窒素雰囲気下のグローブボックス中で、ガラス製容器に、ビス(2-メチルインデニル)ガドリニウム(トリメチルシリルアミド)[(2-MeC96)2GdN(SiMe3)2]を40μmol、トリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(Ph3CB(C65)4)を40μmol、ジイソブチルアルミニウムハライドを1mmol仕込み、トルエン10mlで溶解させ触媒溶液とした。その後、グローブボックスから触媒溶液を取り出し、モノマー溶液へ添加し、70℃で30分間重合を行った。重合後、2,6-ビス(t-ブチル)-4-メチルフェノール(BHT)の10質量%のメタノール溶液10mlを加えて反応を停止させ、さらに大量のメタノール/塩酸混合溶媒で重合体を分離させ、60℃で真空乾燥した。得られた重合体の収量は47gであった。
(Synthesis of polymer A1-A used in Example 1)
In a glove box under a nitrogen atmosphere, 104 g (1 mol) of styrene and 50 g of toluene were added to a well-dried 1 L pressure-resistant glass bottle, and the bottle was stoppered. Thereafter, the bottle was taken out from the glove box, and 54 g (1 mol) of 1,3-butadiene was charged to obtain a monomer solution. On the other hand, in a glove box under a nitrogen atmosphere, 40 μmol of bis (2-methylindenyl) gadolinium (trimethylsilylamide) [(2-MeC 9 H 6 ) 2 GdN (SiMe 3 ) 2 ] was added to a glass container. 40 μmol of phenylcarbonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate (Ph 3 CB (C 6 F 5 ) 4 ) and 1 mmol of diisobutylaluminum halide were charged and dissolved in 10 ml of toluene to obtain a catalyst solution. Thereafter, the catalyst solution was taken out from the glove box, added to the monomer solution, and polymerized at 70 ° C. for 30 minutes. After the polymerization, the reaction was stopped by adding 10 ml of a 10 mass% methanol solution of 2,6-bis (t-butyl) -4-methylphenol (BHT), and the polymer was separated with a large amount of methanol / hydrochloric acid mixed solvent. And dried in vacuum at 60 ° C. The yield of the obtained polymer was 47 g.

(実施例2に用いる重合体A1−Bの合成)
触媒溶液におけるジイソブチルアルミニウムハライドの使用量を0.8mmolとした以外は、実施例1と同様の方法で重合を行った。得られた重合体の収量は46gであった。
(Synthesis of polymer A1-B used in Example 2)
Polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 except that the amount of diisobutylaluminum halide used in the catalyst solution was 0.8 mmol. The yield of the obtained polymer was 46 g.

(比較例1〜3に用いる重合体C1〜C3)
比較例1〜3には、下記の市販重合体(C1〜C3)を用いた。
*C1 スチレン−ブタジエン共重合体,旭化成ケミカル社製,商品名:タフデン2000.
*C2 スチレン−ブタジエン共重合体,旭化成ケミカル社製,商品名:タフデン1000.
*C3 ポリブタジエン,旭化成ケミカル社製,商品名:NF35.
(Polymers C1 to C3 used in Comparative Examples 1 to 3)
In Comparative Examples 1 to 3, the following commercially available polymers (C1 to C3) were used.
* C1 Styrene-butadiene copolymer, manufactured by Asahi Kasei Chemical Co., Ltd., trade name: Toughden 2000.
* C2 Styrene-butadiene copolymer, manufactured by Asahi Kasei Chemical Co., Ltd., trade name: Toughden 1000.
* C3 Polybutadiene, manufactured by Asahi Kasei Chemical Co., Ltd., trade name: NF35.

(比較例4〜6に用いる重合体C4〜C6)
(重合体C4)
窒素雰囲気下のグローブボックス中で、十分に乾燥した30ml耐圧ガラスボトルに、ジメチルアルミニウム(μ-ジメチル)ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)サマリウム[(Cp*)2Sm(μ-Me)2AlMe2](Cp*:ペンタメチルシクロペンタジエニル配位子)を0.03mmol仕込み、トルエン1mlに溶解した。ついで、トリイソブチルアルミニウム0.09mmol、トリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(Ph3CB(C65)4)0.03mmolを添加してボトルを打栓した。その後、グローブボックスからボトルを取り出し、1,3-ブタジエンを0.49g、スチレンを2.4ml仕込み、50℃で12時間重合を行った。重合後、2,6-ビス(t-ブチル)-4-メチルフェノール(BHT)の10質量%のメタノール溶液10mlを加えて反応を停止し、さらに大量のメタノール/塩酸混合溶媒で重合体C4を分離して60℃で真空乾燥した。得られた重合体C4の収率は20質量%であった。
(Polymers C4 to C6 used in Comparative Examples 4 to 6)
(Polymer C4)
In a glove box under a nitrogen atmosphere, in a well-dried 30 ml pressure-resistant glass bottle, dimethylaluminum (μ-dimethyl) bis (pentamethylcyclopentadienyl) samarium [(Cp * ) 2 Sm (μ-Me) 2 AlMe 2 ] (Cp * : pentamethylcyclopentadienyl ligand) was charged in an amount of 0.03 mmol and dissolved in 1 ml of toluene. Subsequently, 0.09 mmol of triisobutylaluminum and 0.03 mmol of triphenylcarbonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate (Ph 3 CB (C 6 F 5 ) 4 ) were added and the bottle was stoppered. Thereafter, the bottle was taken out from the glove box, charged with 0.49 g of 1,3-butadiene and 2.4 ml of styrene, and polymerized at 50 ° C. for 12 hours. After the polymerization, the reaction was stopped by adding 10 ml of a 10 mass% methanol solution of 2,6-bis (t-butyl) -4-methylphenol (BHT), and the polymer C4 was further mixed with a large amount of methanol / hydrochloric acid mixed solvent. Separate and vacuum dry at 60 ° C. The yield of the obtained polymer C4 was 20% by mass.

(重合体C5)
1,3-ブタジエンを0.65g、スチレンを2.0ml仕込み、50℃で6時間重合を行った以外は、重合体C4と同様の方法で重合体C5を得た。得られた重合体C5の収率は20質量%であった。
(Polymer C5)
A polymer C5 was obtained in the same manner as the polymer C4, except that 0.65 g of 1,3-butadiene and 2.0 ml of styrene were charged and polymerized at 50 ° C. for 6 hours. The yield of the obtained polymer C5 was 20% by mass.

(重合体C6)
撹拌機付き1.5L容量のオートクレーブを窒素置換し、溶剤としてトルエンを300ml、シクロペンタジエニルチタントリクロライド(CpTiCl3)を2.1mmol、メチルアルミノキサン(MAO)を210mmol、クロラニールを2.1mmol(CpTiCl3/クロラニール=1/1(モル比))投入し、1,3-ブタジエン37.5mlとスチレン37.5mlを添加して60℃で30分間重合を行った。重合開始10分後に、重合禁止剤であるp-t-ブチルカテコールを少量溶かしたメタノール溶液を重合溶液に添加し、重合反応を停止させた。この溶液からトルエンを除去することにより、重合体C6を得た。
(Polymer C6)
A 1.5 L autoclave with a stirrer was replaced with nitrogen, 300 ml of toluene as a solvent, 2.1 mmol of cyclopentadienyl titanium trichloride (CpTiCl 3 ), 210 mmol of methylaluminoxane (MAO), 2.1 mmol of chloranil (CpTiCl 3 / Chloranil = 1/1 (molar ratio)) was added, 37.5 ml of 1,3-butadiene and 37.5 ml of styrene were added, and polymerization was carried out at 60 ° C. for 30 minutes. Ten minutes after the start of polymerization, a methanol solution in which a small amount of pt-butylcatechol as a polymerization inhibitor was dissolved was added to the polymerization solution to stop the polymerization reaction. Polymer C6 was obtained by removing toluene from this solution.

上記のようにして製造した実施例1及び2に用いる重合体A1―A及びA1−B、市販品である比較例1〜3に用いる重合体C1〜C3、上記のように従来のメタロセン触媒を用いて製造した比較例4〜6に用いる重合体C4〜C6について、数平均分子量(Mn)、分子量分布(Mw/Mn)、ミクロ構造、結合スチレン量、ブロックスチレン含有率、ガラス転移点(Tg)、融点(Tm)を下記の方法で測定した。結果を表1に示す。   Polymers A1-A and A1-B used in Examples 1 and 2 produced as described above, polymers C1-C3 used in Comparative Examples 1 to 3 which are commercially available products, and conventional metallocene catalysts as described above were used. For the polymers C4 to C6 used in Comparative Examples 4 to 6 produced using the above, number average molecular weight (Mn), molecular weight distribution (Mw / Mn), microstructure, bound styrene content, block styrene content, glass transition point (Tg) ) And melting point (Tm) were measured by the following method. The results are shown in Table 1.

(数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw/Mn))
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー[GPC:東ソー製HLC−8020、カラム:東ソー製GMH−XL(2本直列)、検出器:示差屈折率計(RI)]で単分散ポリスチレンを基準として、各重合体のポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw/Mn)を求めた。
(Number average molecular weight (Mn) and molecular weight distribution (Mw / Mn))
Gel permeation chromatography [GPC: Tosoh HLC-8020, column: Tosoh GMH-XL (two in series), detector: differential refractometer (RI)], based on monodisperse polystyrene, The number average molecular weight (Mn) and molecular weight distribution (Mw / Mn) in terms of polystyrene were determined.

(ミクロ構造及び結合スチレン量)
重合体のミクロ構造を1H-NMRスペクトル及び13C-NMRスペクトルの積分比より求め、重合体の結合スチレン量を1H-NMRスペクトルの積分比より求めた。なお、1H-NMR及び13C-NMRは1,1,2,2-テトラクロロエタンを溶媒とし、120℃で測定を行った。
(Microstructure and bound styrene content)
The microstructure of the polymer was determined from the integration ratio of 1 H-NMR spectrum and 13 C-NMR spectrum, and the amount of bound styrene of the polymer was determined from the integration ratio of 1 H-NMR spectrum. 1 H-NMR and 13 C-NMR were measured at 120 ° C. using 1,1,2,2-tetrachloroethane as a solvent.

(ブロックスチレン含有率)
スチレン部分の繰り返し単位のNMR測定でのブロック量(ブロックスチレン含有率)が全スチレン部分に占める割合を1H-NMRスペクトルの積分比より求めた。
(Block styrene content)
The ratio of the block amount (block styrene content) in the NMR measurement of the repeating unit of the styrene portion to the total styrene portion was determined from the integral ratio of the 1 H-NMR spectrum.

(ガラス転移点(Tg)(℃)及び融点(Tm)(℃))
サンプルを10mg±0.5mg秤量し、アルミニウム製の測定パンに入れ蓋をしたものを、DSC装置(TAインスツルメント社製)にて、室温から50℃まで加温し、10分間安定させた後、-80℃まで冷却し、-80℃で10分間安定させてから、10℃/minの昇温速度で50℃まで昇温しながらガラス転移点(Tg)及び融点(Tm)を測定した。
(Glass transition point (Tg) (° C) and melting point (Tm) (° C))
After weighing 10mg ± 0.5mg of sample, putting it in an aluminum measuring pan and covering it with a DSC device (TA Instruments) from room temperature to 50 ° C and stabilizing for 10 minutes The glass transition point (Tg) and the melting point (Tm) were measured while the temperature was raised to 50 ° C. at a rate of temperature increase of 10 ° C./min.

なお、サンプルの詳細NMRデータから、特にスチレン−スチレン結合が確認されなかった。   From the detailed NMR data of the sample, no styrene-styrene bond was particularly confirmed.

Figure 2011111510
Figure 2011111510

(ゴム組成物(B)の調製、空気入りタイヤの作製)
次に、上記重合体(A1)を含むゴム成分(A)を用いて、表2に示す処方にて配合し、通常の条件で加硫し、ゴム組成物(B)を調製した。該ゴム組成物(B)の加硫ゴム物性(100%伸張時応力(M100)及び耐き裂成長性)を下記の方法により測定して評価した。結果を表2に示す。次に、これらゴム組成物(B)を、
1259135030153_0
に示すサイド部の補強ゴム8及びビードフィラー7に適用し、それぞれタイヤサイズ215/45ZR17の乗用車用ラジアルタイヤを定法に従って製造し、それらのタイヤについてランフラット耐久性を評価した。比較例についても、同様に評価した。それらの結果を第2表に示す。なお、サイド補強層の最大厚みを補強ゴムゲージとして求め、表2に示した。
(Preparation of rubber composition (B), production of pneumatic tire)
Next, using the rubber component (A) containing the polymer (A1), the rubber component (A) was blended according to the formulation shown in Table 2 and vulcanized under normal conditions to prepare a rubber composition (B). The physical properties (100% elongation stress (M100) and crack growth resistance) of the vulcanized rubber of the rubber composition (B) were measured and evaluated by the following methods. The results are shown in Table 2. Next, these rubber compositions (B)
1259135030153_0
The radial tires for passenger cars having tire sizes of 215 / 45ZR17 were manufactured according to the usual methods, and the run-flat durability of these tires was evaluated. Comparative examples were also evaluated in the same manner. The results are shown in Table 2. The maximum thickness of the side reinforcing layer was determined as a reinforcing rubber gauge and is shown in Table 2.

(ゴム組成物の加硫ゴム物性)
(100%伸張時応力(M100)の測定方法)
ゴム組成物(B)を160℃、12分間の条件で加硫処理して得られた厚さ2mmのスラブシートについて、JIS K 6251に基づき、100%伸張時応力を測定した。
(Physical properties of vulcanized rubber of rubber composition)
(Measurement method of stress at 100% elongation (M100))
With respect to a slab sheet having a thickness of 2 mm obtained by vulcanizing the rubber composition (B) at 160 ° C. for 12 minutes, the stress at 100% elongation was measured based on JIS K 6251.

(耐き裂成長性:加硫ゴム組成物の屈曲き裂成長の測定・指数化方法)
JIS K−6260「デマチャ屈曲き裂試験方法 屈曲き裂成長試験」に則って評価した。5000回屈曲後に成長したき裂長さの逆数について、比較例1の値を100(コントロール)として指数化した。指数が高いほど、成長したき裂長さが短く、耐き裂成長性に優れることを示す。
(Crack growth resistance: Measurement and indexing method of flex crack growth of vulcanized rubber composition)
Evaluation was performed in accordance with JIS K-6260 “Demach Bending Crack Test Method Bending Crack Growth Test”. About the reciprocal of the crack length which grew after 5000 bending | flexion, the value of the comparative example 1 was indexed as 100 (control). The higher the index, the shorter the crack length grown, indicating better crack growth resistance.

(ランフラットタイヤの評価)
(ランフラット耐久性)
各供試タイヤ(タイヤサイズ215/45ZR17の乗用車ラジアルタイヤ)を常圧でリム組みし、内圧230kPaを封入してから38℃の室内中に24時間放置後、バルブのコアを抜き、内圧を大気圧として、荷重4.17kN(425kg)、速度89km/h、室内温度38℃の条件でドラム走行テストを行なった。
各供試タイヤの故障発生までの走行距離を測定し、比較例1の走行距離を100として、以下の式により、指数表示した。指数が大きい程、ランフラット耐久性が良好である。
ランフラット耐久性(指数)=(供試タイヤの走行距離/比較例1のタイヤの走行距離)×100
(Evaluation of run-flat tires)
(Run flat durability)
Each test tire (passenger car radial tire of tire size 215 / 45ZR17) is assembled with rims at normal pressure, filled with 230 kPa of internal pressure, left in a room at 38 ° C. for 24 hours, then the valve core is removed to increase the internal pressure. The drum running test was performed under the conditions of a pressure of 4.17 kN (425 kg), a speed of 89 km / h, and an indoor temperature of 38 ° C. as atmospheric pressure.
The travel distance until failure of each test tire was measured, and the travel distance of Comparative Example 1 was taken as 100, and the index was displayed by the following formula. The larger the index, the better the run flat durability.
Run-flat durability (index) = (travel distance of test tire / travel distance of tire of Comparative Example 1) × 100

Figure 2011111510
Figure 2011111510

*1 TSR20
*2 FEF(N550)、旭カーボン社製,旭#60
*3 アロマティックオイル、富士興産社製「アロマックス#3」
*4 N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、大内新興化学工業社製「ノクラック6C」
*5 N,N’−ジシクロヘキシル−2−ベンゾチアジルスルフェンアミド、大内新興化学工業社製「ノクセラーDZ」
*6 テトラキス(2−エチルへキシル)チウラムジスルフィド、大内新興化学工業社製「ノクセラーTOT−N」
* 1 TSR20
* 2 FEF (N550), Asahi Carbon Co., Ltd., Asahi # 60
* 3 Aromatic oil, Fujikosan "Aromax # 3"
* 4 N- (1,3-dimethylbutyl) -N′-phenyl-p-phenylenediamine, “NOCRACK 6C” manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd.
* 5 N, N'-dicyclohexyl-2-benzothiazylsulfenamide, "Noxeller DZ" manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd.
* 6 Tetrakis (2-ethylhexyl) thiuram disulfide, “Noxeller TOT-N” manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd.

上記共重合体(A1)を含むゴム成分(A)を含むゴム組成物(B)を用いたタイヤ(実施例1、2)は、上記共重合体(A1)を従来のシス−1,4結合量が低いSBR又はBR(共重合体C1〜C3)に置き換えたゴム成分からなるゴム組成物を用いたタイヤ(比較例1〜3)との比較から、ランフラット耐久性が大幅に性能向上していること、また、そのゴム組成物(B)の物性として、耐き裂成長性に優れていることが分かる。さらに、そのゴム組成物(B)の物性として、100%伸張時応力(M100)がコントロールタイヤの値(12.9MPa)と比較して同程度の範囲において上昇していない(11.3MPa、11.9MPa)ことから、タイヤ半径方向の剛性が上昇せずタイヤの内圧充填時の通常走行において乗り心地は変化しないことが理解できる。
更に、実施例1、2のタイヤは、上記共重合体(A1)を従来のメタロセン触媒系にて合成した重合体(C4〜C6)に置き換えたゴム成分からなるゴム組成物を用いたタイヤ(比較例4〜6)との比較から、ランフラット耐久性が大幅に性能向上していること、また、そのゴム組成物(B)の物性として、耐き裂成長性に優れていることが分かる。さらに、100%伸張時応力(M100)が10MPa未満である比較例(各々7.2、8.6、6.9MPa)は、ランフラット走行時のタイヤの撓みが大きくなり、タイヤのランフラット走行耐久性が低下しているのに対し、該応力がきちんと10MPaを確保している実施例(11.3MPa、11.9MPa)では、ランフラット走行時のタイヤの剛性保持が可能でタイヤのランフラット耐久性が大幅に向上していることが分かる。
In the tires (Examples 1 and 2) using the rubber composition (B) containing the rubber component (A) containing the copolymer (A1), the copolymer (A1) is converted into the conventional cis-1,4. Compared to tires (Comparative Examples 1 to 3) using rubber compositions composed of rubber components replaced with SBR or BR (copolymers C1 to C3) having a low bonding amount, run-flat durability significantly improves performance. It can be seen that the rubber composition (B) is excellent in crack growth resistance. Further, as the physical properties of the rubber composition (B), the stress at 100% elongation (M100) does not increase in the same range as the value of the control tire (12.9 MPa) (11.3 MPa, 11 .9 MPa), it can be understood that the rigidity in the tire radial direction does not increase and the riding comfort does not change during normal running when the tire is filled with the internal pressure.
Further, the tires of Examples 1 and 2 are tires using a rubber composition comprising a rubber component in which the copolymer (A1) is replaced with a polymer (C4 to C6) synthesized by a conventional metallocene catalyst system ( From comparison with Comparative Examples 4 to 6), it can be seen that the run-flat durability is greatly improved, and the physical properties of the rubber composition (B) are excellent in crack growth resistance. . Furthermore, in the comparative examples (7.2, 8.6, and 6.9 MPa, respectively) in which the stress at 100% elongation (M100) is less than 10 MPa, tire deflection during run-flat running increases, and the tire runs flat. In the examples (11.3 MPa, 11.9 MPa) in which the stress is properly secured while the durability is lowered, the rigidity of the tire during the run-flat running can be maintained and the tire run-flat can be maintained. It can be seen that the durability is greatly improved.

1 ビードコア
2 カーカス層
2a 折り返しカーカスプライ
2b ダウンカーカスプライ
3 サイドゴム層
4 トレッドゴム層
5 ベルト層
6 インナーライナー
7 ビードフィラー
8 サイド部の補強ゴム
10 ショルダー区域
1 Bead core 2 Carcass layer 2a Folded carcass ply
2b Down carcass ply
3 Side rubber layer 4 Tread rubber layer 5 Belt layer 6 Inner liner 7 Bead filler 8 Side reinforcement rubber 10 Shoulder area

Claims (8)

下記一般式(I):
Figure 2011111510
(式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Ra〜Rfは、それぞれ独立して炭素数1〜3のアルキル基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0〜3の整数を示す)で表されるメタロセン錯体、及び下記一般式(II):
Figure 2011111510
(式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1〜20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0〜3の整数を示す)で表されるメタロセン錯体、並びに下記一般式(III):
Figure 2011111510
(式中、Mは、ランタノイド元素、スカンジウム又はイットリウムを示し、CpR’は、無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル又はフルオレニルを示し、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基又は炭素数1〜20の炭化水素基を示し、Lは、中性ルイス塩基を示し、wは、0〜3の整数を示し、[B]は、非配位性アニオンを示す)で表されるハーフメタロセンカチオン錯体からなる群より選択される少なくとも1種類の錯体を含む重合触媒組成物の存在下、芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物を付加重合して得られた、共役ジエン化合物部分のシス-1,4結合量が80%以上の芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体(A1)を含むゴム成分(A)を含むゴム組成物(B)をゴム部材のいずれかに適用したことを特徴とするランフラットタイヤ。
The following general formula (I):
Figure 2011111510
(In the formula, M represents a lanthanoid element, scandium or yttrium, Cp R independently represents unsubstituted or substituted indenyl, and R a to R f each independently represents an alkyl having 1 to 3 carbon atoms. And L represents a neutral Lewis base, and w represents an integer of 0 to 3), and the following general formula (II):
Figure 2011111510
(In the formula, M represents a lanthanoid element, scandium or yttrium, Cp R each independently represents an unsubstituted or substituted indenyl group, and X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxide group, a thiolate group, an amide group. , A silyl group or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, L represents a neutral Lewis base, w represents an integer of 0 to 3, and the following general formula (III ):
Figure 2011111510
(In the formula, M represents a lanthanoid element, scandium or yttrium, Cp R ′ represents unsubstituted or substituted cyclopentadienyl, indenyl or fluorenyl, and X represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxide group or a thiolate group. represents an amide group, a silyl group or a hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 20, L is a neutral Lewis base, w is, an integer of 0 to 3, [B] - is a non-coordinating Obtained by addition polymerization of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound in the presence of a polymerization catalyst composition containing at least one complex selected from the group consisting of a half metallocene cation complex represented by A rubber containing a rubber component (A) containing an aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer (A1) having a cis-1,4 bond amount of 80% or more in the conjugated diene compound portion Run flat tire Narubutsu the (B) characterized by being applied to one of the rubber members.
前記共重合体(A1)は、共役ジエン化合物部分のビニル結合量が10%以下であることを特徴とする請求項1に記載のランフラットタイヤ。   The run-flat tire according to claim 1, wherein the copolymer (A1) has a vinyl bond content of a conjugated diene compound portion of 10% or less. 前記共重合体(A1)は、芳香族ビニル化合物部分の繰り返し単位のNMR測定でのブロック量が、全芳香族ビニル化合物部分の10%以下であることを特徴とする請求項1に記載のランフラットタイヤ。   2. The orchid according to claim 1, wherein the copolymer (A1) has a block amount in the NMR measurement of the repeating unit of the aromatic vinyl compound portion of 10% or less of the total aromatic vinyl compound portion. Flat tire. 前記共重合体(A1)が、DSC測定において、融点(Tm)を有することを特徴とする請求項1に記載のランフラットタイヤ。   The run-flat tire according to claim 1, wherein the copolymer (A1) has a melting point (Tm) in DSC measurement. 前記共重合体(A1)が、スチレン−ブタジエン共重合体であることを特徴とする請求項1に記載のランフラットタイヤ。   The run-flat tire according to claim 1, wherein the copolymer (A1) is a styrene-butadiene copolymer. 前記ランフラットタイヤがサイド部に補強ゴムを具え、該補強ゴムに前記ゴム組成物(B)を適用したことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のランフラットタイヤ。   The run-flat tire according to any one of claims 1 to 5, wherein the run-flat tire includes a reinforcing rubber on a side portion, and the rubber composition (B) is applied to the reinforcing rubber. 前記ランフラットタイヤがビード部、ビードフィラーを具え、該ビードフィラーに前記ゴム組成物(B)を適用したことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のランフラットタイヤ。   The run flat tire according to any one of claims 1 to 5, wherein the run flat tire includes a bead portion and a bead filler, and the rubber composition (B) is applied to the bead filler. 前記ランフラットタイヤがサイド部に補強ゴムを具え、ビード部、ビードフィラーを具え、前記補強ゴム及び前記ビードフィラーに前記ゴム組成物(B)を適用したことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のランフラットタイヤ。   The run-flat tire includes a reinforcing rubber on a side portion, a bead portion and a bead filler, and the rubber composition (B) is applied to the reinforcing rubber and the bead filler. The run flat tire according to any one of the above.
JP2009268141A 2009-11-25 2009-11-25 Runflat tire Withdrawn JP2011111510A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009268141A JP2011111510A (en) 2009-11-25 2009-11-25 Runflat tire

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009268141A JP2011111510A (en) 2009-11-25 2009-11-25 Runflat tire

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011111510A true JP2011111510A (en) 2011-06-09

Family

ID=44234099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009268141A Withdrawn JP2011111510A (en) 2009-11-25 2009-11-25 Runflat tire

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011111510A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013194099A (en) * 2012-03-16 2013-09-30 Bridgestone Corp Polymerization catalyst composition, and method for producing polymer composition
JPWO2016039003A1 (en) * 2014-09-12 2017-06-22 宇部興産株式会社 Rubber composition
WO2017145799A1 (en) * 2016-02-23 2017-08-31 横浜ゴム株式会社 Aromatic vinyl-diene copolymer, method for producing aromatic vinyl-diene copolymer, and rubber composition
JP2017149992A (en) * 2016-02-23 2017-08-31 横浜ゴム株式会社 Aromatic vinyl diene copolymer, and, rubber composition
WO2018155554A1 (en) * 2017-02-22 2018-08-30 横浜ゴム株式会社 Conveyor belt rubber composition, production method of conveyor belt rubber composition, conveyor belt, and belt conveyor
WO2018155549A1 (en) * 2017-02-22 2018-08-30 横浜ゴム株式会社 Conveyor belt rubber composition, production method of conveyor belt rubber composition, conveyor belt, and belt conveyor

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013194099A (en) * 2012-03-16 2013-09-30 Bridgestone Corp Polymerization catalyst composition, and method for producing polymer composition
JPWO2016039003A1 (en) * 2014-09-12 2017-06-22 宇部興産株式会社 Rubber composition
WO2017145799A1 (en) * 2016-02-23 2017-08-31 横浜ゴム株式会社 Aromatic vinyl-diene copolymer, method for producing aromatic vinyl-diene copolymer, and rubber composition
JP2017149992A (en) * 2016-02-23 2017-08-31 横浜ゴム株式会社 Aromatic vinyl diene copolymer, and, rubber composition
JP2017149931A (en) * 2016-02-23 2017-08-31 横浜ゴム株式会社 Aromatic vinyl-diene copolymer, manufacturing method of aromatic vinyl-diene copolymer, and rubber composition
US11008445B2 (en) 2016-02-23 2021-05-18 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Aromatic vinyl-diene copolymer, method for producing aromatic vinyl-diene copolymer, and rubber composition
WO2018155549A1 (en) * 2017-02-22 2018-08-30 横浜ゴム株式会社 Conveyor belt rubber composition, production method of conveyor belt rubber composition, conveyor belt, and belt conveyor
CN110291147A (en) * 2017-02-22 2019-09-27 横滨橡胶株式会社 Rubber composition, the manufacturing method of rubber composition used for conveyer belt, conveyer belt and belt conveyor used for conveyer belt
CN110291148A (en) * 2017-02-22 2019-09-27 横滨橡胶株式会社 Rubber composition, the manufacturing method of rubber composition used for conveyer belt, conveyer belt and belt conveyor used for conveyer belt
JPWO2018155554A1 (en) * 2017-02-22 2019-11-07 横浜ゴム株式会社 Rubber composition for conveyor belt, method for producing rubber composition for conveyor belt, conveyor belt and belt conveyor
JPWO2018155549A1 (en) * 2017-02-22 2019-11-07 横浜ゴム株式会社 Rubber composition for conveyor belt, method for producing rubber composition for conveyor belt, conveyor belt and belt conveyor
WO2018155554A1 (en) * 2017-02-22 2018-08-30 横浜ゴム株式会社 Conveyor belt rubber composition, production method of conveyor belt rubber composition, conveyor belt, and belt conveyor
CN110291147B (en) * 2017-02-22 2021-11-12 横滨橡胶株式会社 Rubber composition for conveyor belt, method for producing rubber composition for conveyor belt, and belt conveyor
CN110291148B (en) * 2017-02-22 2022-06-21 横滨橡胶株式会社 Rubber composition for conveyor belt, method for producing rubber composition for conveyor belt, and belt conveyor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2284206B1 (en) Aromatic vinyl compound-conjugated diene compound copolymer, method for producing the same, rubber composition and tire
JP7302968B2 (en) Multidimensional copolymer, rubber composition, crosslinked rubber composition and rubber product
US9212274B2 (en) Rubber composition, rubber composition for tire side use, crosslinked rubber composition and tire
US8987347B2 (en) Copolymer of conjugated diene compound and non-conjugated olefin, rubber composition, rubber composition for tire tread, crosslinked rubber composition, and tire
JP2008291096A (en) Polybutadiene, and rubber composition and tire using the same
US10087312B2 (en) Rubber composition and tire containing rubber composition
US20140005321A1 (en) Copolymer, rubber composition, rubber composition for tire side use, crosslinked rubber composition and tire
US9499647B2 (en) Polymer, rubber composition containing polymer, crosslinked rubber composition obtained by crosslinking rubber composition, and tire having crosslinked rubber composition
JP2011099026A (en) Rubber composition and tire using the same
JP2011111510A (en) Runflat tire
US9540464B2 (en) Polymer and method for producing same, rubber composition containing polymer, and tire having rubber composition
JP2011148935A (en) Tire
JP5973735B2 (en) Rubber composition for tire and tire comprising the rubber composition for tire
JP2011094031A (en) Rubber composition and tire using the same
JP6690107B2 (en) Rubber composition and tire using the same
JP5856494B2 (en) Pneumatic tire
JP5917813B2 (en) Rubber composition, tire tread rubber composition, crosslinked rubber composition, and tire
JP7398266B2 (en) Rubber composition for run-flat tires, method for producing the same, and run-flat tires
JP5973736B2 (en) Rubber composition for tire, crosslinked rubber composition for tire, and tire
JP2013155361A (en) Rubber composition, and pneumatic tire
JP2012197420A (en) Method for manufacturing rubber composition
JP2012197422A (en) Rubber composition and tire
WO2019163230A1 (en) Rubber composition, tire, conveyor belt, rubber crawler, vibration-damping device, seismic isolator, and hose
JP2013155356A (en) Tire
JP2012197421A (en) Method for manufacturing rubber composition, rubber composition, and tire

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20130205