JP2011110820A - Method for producing laminate - Google Patents

Method for producing laminate Download PDF

Info

Publication number
JP2011110820A
JP2011110820A JP2009269650A JP2009269650A JP2011110820A JP 2011110820 A JP2011110820 A JP 2011110820A JP 2009269650 A JP2009269650 A JP 2009269650A JP 2009269650 A JP2009269650 A JP 2009269650A JP 2011110820 A JP2011110820 A JP 2011110820A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
curable resin
pressure
substrate
precursor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009269650A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5407809B2 (en
Inventor
Hiroshige Ito
広茂 伊藤
Satoshi Niiyama
聡 新山
Yusuke Echigo
裕介 越後
Yu Nojiri
裕 野尻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2009269650A priority Critical patent/JP5407809B2/en
Publication of JP2011110820A publication Critical patent/JP2011110820A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5407809B2 publication Critical patent/JP5407809B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a laminate by curing a curable resin composition held and sealed between a pair of basal plates, where, at releasing reduced-pressure atmosphere, the diameter of voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space can be made smaller, and thereby the time required until the voids remaining in the curable resin composition layer disappear can be shortened. <P>SOLUTION: In the method, formation of a laminate precursor of the curable resin composition held between a pair of basal plates is conducted in a reduced-pressure atmosphere satisfying conditions that the atmospheric pressure P is 0.1-1,000 Pa and the pressure gradient ΔP/ΔT (Pa/sec) under the atmospheric pressure is -1 (Pa/sec)≤ΔP/ΔT≤0 (Pa/sec); and the amount ΔP (Pa) of pressure variation, from the formation of the laminate precursor until immediately before when the laminate precursor is put in a second pressure atmosphere higher in atmospheric pressure than that of the reduced-pressure atmosphere, is held at: -1 (Pa)≤ΔP≤2 (Pa). Further, the laminate precursor is pressurized when it is put in the second pressure atmosphere. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、一対の基板と、該一対の基板間に存在する硬化性樹脂組成物の硬化物の層とを有する積層体の製造方法に関する。
本発明の方法で製造される積層体は、合わせガラス、画像表示装置の前面パネル板、より具体的には、液晶表示装置(LCD)、有機ELや無機ELといったEL(エレクトロルミネッセンス)表示装置、プラズマ表示装置、電子インク型画像表示装置といったフラットパネルディスプレイ(FPD)の前面パネル板、薄層太陽電池デバイス、タッチパネルの保護板等の用途に好適である。
The present invention relates to a method for producing a laminate having a pair of substrates and a cured product layer of a curable resin composition existing between the pair of substrates.
The laminate produced by the method of the present invention includes laminated glass, a front panel plate of an image display device, more specifically, a liquid crystal display device (LCD), an EL (electroluminescence) display device such as an organic EL or an inorganic EL, It is suitable for uses such as a front panel plate of a flat panel display (FPD) such as a plasma display device and an electronic ink type image display device, a thin-layer solar cell device, a protective plate for a touch panel, and the like.

一対のガラス基板を接着層を介して一体化した合わせガラスは、破損したガラス破片がフィルムに付着して飛散しないことから自動車の風防ガラスとして使用され、また、貫通し難く強度に優れることから建物の窓ガラス(安全ガラス、防犯ガラス)として使用されている(特許文献1,2参照)。
また、液晶パネルの破損防止および光反射の防止の観点から、透明な保護板と偏光板との間に透明な中間膜を封入した前面パネルを該液晶パネルの前面に設けた液晶表示装置が知られている(特許文献3参照)。
また、受光面となる透明な表面材と裏面材との間に樹脂等の封止材にて封止された太陽電池デバイスを有する太陽電池モジュールが知られている(特許文献4参照)。
このように、一対の基板と、該一対の基板間に存在する硬化性樹脂組成物の硬化物の層とを有する積層体には、様々な技術分野で需要が存在する。
Laminated glass with a pair of glass substrates integrated through an adhesive layer is used as a windshield for automobiles because broken glass fragments adhere to the film and do not scatter, and it is difficult to penetrate and has excellent strength. It is used as a window glass (safety glass, security glass) (see Patent Documents 1 and 2).
From the viewpoint of preventing damage to the liquid crystal panel and preventing light reflection, a liquid crystal display device in which a front panel in which a transparent intermediate film is sealed between a transparent protective plate and a polarizing plate is provided on the front surface of the liquid crystal panel is known. (See Patent Document 3).
Further, a solar cell module having a solar cell device sealed with a sealing material such as a resin between a transparent front surface material and a back surface material serving as a light receiving surface is known (see Patent Document 4).
Thus, there is a demand in various technical fields for a laminate having a pair of substrates and a cured product layer of a curable resin composition existing between the pair of substrates.

このような積層体の製造方法は多数提案されているが、特許文献1,2に記載されている方法が、使用する基板の種類が限定されず、基板間に挟持されて、中間層をなす硬化性樹脂組成物の種類の自由度が大きく、中間層を形成するための資源を有効に利用でき、生産性に優れ、環境負荷が小さいという点から優れている。
この方法では、一方の基板上の周辺部に硬化性樹脂組成物を封じ込めるためのシール部を形成した後、基板上のシール部で囲まれた領域に硬化性樹脂組成物を供給する。次に、減圧雰囲気下にて一方の基板上に供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせることにより、一対の基板間に硬化性樹脂組成物を挟持して密封することによって積層前駆体を得る(以下、本明細書において、減圧雰囲気下にて一方の基板上に供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせる手順のことを「減圧積層」と言う場合がある)。
次いで、得られた積層前駆体を前述した減圧雰囲気よりも高い圧力雰囲気下(例えば、大気圧下)に置く(以下、本明細書において、この手順のことを「減圧雰囲気の解除」と言う場合がある)。減圧雰囲気の解除による雰囲気圧力の上昇によって、一対の透明基板同士が密着する方向に押圧されると同時に、一対の基板とシール部とで密封された、積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留する空隙の体積がその雰囲気の差圧に応じて縮減することによって、該密封空間を硬化性樹脂組成物が流動していき、該密封空間全体が硬化性樹脂組成物によって均一に充填され、該密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙が消滅することによって、該密封空間内に空隙のない硬化性樹脂組成物層が形成される。この後、硬化性樹脂組成物を硬化させることにより積層体を得る。
Many methods for producing such a laminate have been proposed, but the methods described in Patent Documents 1 and 2 are not limited to the type of substrate used, and are sandwiched between the substrates to form an intermediate layer. The degree of freedom of the type of the curable resin composition is large, resources for forming the intermediate layer can be effectively used, the productivity is excellent, and the environmental load is small.
In this method, a seal portion for containing the curable resin composition is formed in the peripheral portion on one substrate, and then the curable resin composition is supplied to a region surrounded by the seal portion on the substrate. Next, the curable resin composition is sandwiched between the pair of substrates by sealing the other substrate on the curable resin composition supplied on one substrate in a reduced pressure atmosphere, and sealed. (Hereinafter, in this specification, the procedure of superimposing the other substrate on the curable resin composition supplied on one substrate in a reduced pressure atmosphere is referred to as “reduced pressure lamination”. May say).
Next, the obtained laminated precursor is put under a pressure atmosphere (for example, under atmospheric pressure) higher than the above-described reduced pressure atmosphere (hereinafter, in this specification, this procedure is referred to as “releasing the reduced pressure atmosphere”) Is). The curable resin in the sealed space of the laminated precursor, which is pressed in the direction in which the pair of transparent substrates are brought into close contact with each other by the increase in the atmospheric pressure due to the release of the reduced-pressure atmosphere, and is sealed with the pair of substrates and the seal portion. The volume of voids remaining in the composition layer is reduced according to the pressure difference of the atmosphere, whereby the curable resin composition flows through the sealed space, and the entire sealed space is formed by the curable resin composition. The voids that are uniformly filled and remain in the curable resin composition layer in the sealed space disappear, thereby forming a curable resin composition layer having no voids in the sealed space. Then, a laminated body is obtained by hardening a curable resin composition.

国際公開WO2008/081838号公報International Publication WO2008 / 081838 国際公開WO2009/016943号公報International Publication WO2009 / 016943 特開2009−205065号公報JP 2009-205065 A 特開平11−87743号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-87743

上述したように、特許文献1,2に記載の積層体の製造方法は、減圧積層によって積層前駆体を得た後、減圧雰囲気を解除することによって、一対の基板とシール部とで密封された、積層前駆体の密封空間内に空隙のない硬化性樹脂組成物層を形成するものであるが、減圧雰囲気を解除した後、密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙が消滅するまでに要する時間は、該空隙の大きさによって異なり、硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙が大きいほど、該空隙が消滅するまでに要する時間が長くなる。
ここで、使用する硬化性樹脂組成物の粘度が高い場合(例えば、硬化性樹脂組成物の粘度が0.2Pa・s以上の場合)や、密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さが大きい場合(例えば、硬化性樹脂組成物層の厚さが30μm以上の場合)は、密封空間内の大きな空隙が残留しやすく、該空隙が消滅するまで長時間を要する傾向があるので、減圧雰囲気を解除した時点で密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙ができるだけ小さくなっていることが望ましい。
As described above, in the method for manufacturing a laminate described in Patent Documents 1 and 2, after obtaining a laminate precursor by reduced pressure lamination, the reduced pressure atmosphere is released, and the laminate is sealed with a pair of substrates and a seal portion. The curable resin composition layer without voids is formed in the sealed space of the laminated precursor, but the voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space after releasing the reduced-pressure atmosphere The time required for disappearance varies depending on the size of the void. The larger the void remaining in the curable resin composition layer, the longer the time required for the void to disappear.
Here, when the viscosity of the curable resin composition to be used is high (for example, when the viscosity of the curable resin composition is 0.2 Pa · s or more), or the thickness of the curable resin composition layer in the sealed space. Is large (for example, when the thickness of the curable resin composition layer is 30 μm or more), a large gap tends to remain in the sealed space, and it tends to take a long time until the gap disappears. It is desirable that voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space be as small as possible when the atmosphere is released.

具体的には、使用する硬化性樹脂組成物の粘度が高い場合(例えば、硬化性樹脂組成物の粘度が0.2Pa・s以上の場合)や、密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さが大きい場合(例えば、硬化性樹脂組成物層の厚さが30μm以上の場合)は、減圧雰囲気を解除した時点で密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙の径が0.5mm未満であれば、該硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙が消滅するまでに要する時間がほぼ10分以内となるので好ましい。   Specifically, when the viscosity of the curable resin composition to be used is high (for example, when the viscosity of the curable resin composition is 0.2 Pa · s or more), or the curable resin composition layer in the sealed space. When the thickness is large (for example, when the thickness of the curable resin composition layer is 30 μm or more), the voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space when the reduced-pressure atmosphere is released. If the diameter is less than 0.5 mm, the time required until the voids remaining in the curable resin composition layer disappear is preferably within about 10 minutes.

本発明は、上記した従来技術の問題点を解決するため、減圧雰囲気を解除した時点で密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙の径を小さくすることができ、それにより、該硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙が消滅するまでに要する時間を短縮することができる新規の方法を提供することを目的とする。   In order to solve the above-described problems of the prior art, the present invention can reduce the diameter of the voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space when the decompressed atmosphere is released. Thus, an object of the present invention is to provide a novel method capable of shortening the time required until voids remaining in the curable resin composition layer disappear.

上記の目的を達成するため、本発明は、2枚の基板を準備し、一方の基板上の周辺部に硬化性樹脂組成物を封じ込めるためのシール部を形成し、基板上の前記シール部で囲まれた領域に硬化性樹脂組成物を供給し、減圧雰囲気下にて前記供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせて一対の基板間に硬化性樹脂組成物を挟持して密封して積層前駆体を得た後、該積層前駆体を前記減圧雰囲気よりも雰囲気圧力が50kPa以上高い第2の圧力雰囲気下に置き、該第2の圧力雰囲気下にて硬化性樹脂組成物を硬化させる積層体の製造方法であって、
前記供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせる手順を、雰囲気圧力Pが0.1〜1000Paであって、かつ、該雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT(Pa/sec))が、−1(Pa/sec)≦ΔP/ΔT≦0(Pa/sec)を満たす減圧雰囲気で実施すること、
前記供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせる手順を実施してから前記積層前駆体を第2の圧力雰囲気下に置く直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP(Pa))を、−1(Pa)≦ΔP≦2(Pa)に保持すること、および、
前記一対の基板間の距離を小さくなる方向に前記積層前駆体を加圧した状態で、前記該積層前駆体を第2の圧力雰囲気下に置くことを特徴とする積層体の製造方法を提供する。
In order to achieve the above object, the present invention prepares two substrates, forms a seal part for enclosing the curable resin composition in the peripheral part on one substrate, A curable resin composition is supplied to the enclosed region, and the other substrate is overlaid on the supplied curable resin composition in a reduced-pressure atmosphere, and the curable resin composition is sandwiched between a pair of substrates. After sealing to obtain a laminated precursor, the laminated precursor is placed in a second pressure atmosphere whose atmospheric pressure is 50 kPa or more higher than the reduced pressure atmosphere, and a curable resin is obtained in the second pressure atmosphere. A method for producing a laminate for curing a composition,
The procedure for superimposing the other substrate on the supplied curable resin composition is that the atmospheric pressure P is 0.1 to 1000 Pa and the pressure gradient of the atmospheric pressure (ΔP / ΔT (Pa / sec )) Is performed in a reduced pressure atmosphere that satisfies −1 (Pa / sec) ≦ ΔP / ΔT ≦ 0 (Pa / sec),
A pressure change amount (ΔP (Pa) of the atmospheric pressure from when the procedure of superimposing the other substrate on the supplied curable resin composition is performed until immediately before the lamination precursor is placed in the second pressure atmosphere. )) At −1 (Pa) ≦ ΔP ≦ 2 (Pa), and
Provided is a method for manufacturing a laminate, wherein the laminate precursor is placed in a second pressure atmosphere in a state where the laminate precursor is pressurized in a direction in which the distance between the pair of substrates is reduced. .

本発明の積層体の製造方法において、前記硬化性樹脂組成物の粘度が0.2〜50Pa・sであることが好ましい。   In the manufacturing method of the laminated body of this invention, it is preferable that the viscosity of the said curable resin composition is 0.2-50 Pa.s.

本発明の積層体の製造方法において、前記一対の基板と前記シール部とで密封された、前記積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さが30〜3000μmであることが好ましい。   In the method for producing a laminate of the present invention, the thickness of the curable resin composition layer in the sealed space of the laminate precursor, which is sealed by the pair of substrates and the seal portion, is 30 to 3000 μm. preferable.

本発明の積層体の製造方法において、前記硬化性樹脂組成物の粘度が1〜14Pa・sであって、前記一対の基板と前記シール部とで密封された、前記積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さが100〜2000μmである場合、前記積層前駆体を第2の圧力雰囲気下に置く際、30〜37g/cm2の加圧力で前記積層前駆体を加圧することが好ましい。 In the method for producing a laminate according to the present invention, the viscosity of the curable resin composition is 1 to 14 Pa · s, and the sealed precursor space is sealed with the pair of substrates and the seal portion. When the thickness of the curable resin composition layer is 100 to 2000 μm, when the layered precursor is placed in a second pressure atmosphere, the layered precursor is pressurized at a pressure of 30 to 37 g / cm 2. It is preferable.

本発明の積層体の製造方法において、前記供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせる手順を実施してから前記積層前駆体を第2の圧力雰囲気下に置くまでの時間T(sec)をT≦5secとすることが好ましい。   In the method for producing a laminate of the present invention, a time from when the procedure for superimposing the other substrate on the supplied curable resin composition is performed until the laminate precursor is placed in a second pressure atmosphere. It is preferable that T (sec) is T ≦ 5 sec.

前記硬化性樹脂組成物が前記減圧雰囲気の雰囲気圧力よりも高い蒸気圧を有する成分を含有する場合に、本発明の積層体の製造方法を適用することが好ましい。   When the curable resin composition contains a component having a vapor pressure higher than the atmospheric pressure of the reduced-pressure atmosphere, it is preferable to apply the laminate manufacturing method of the present invention.

本発明の積層体の製造方法において、前記シール部が、粘度が200〜3000Pa・sの第2の硬化性樹脂組成物を用いて形成されることが好ましい。   In the manufacturing method of the laminated body of this invention, it is preferable that the said seal part is formed using the 2nd curable resin composition whose viscosity is 200-3000 Pa * s.

本発明の積層体の製造方法において、すくなくとも一つが透明基板であることが好ましい。   In the manufacturing method of the laminated body of this invention, it is preferable that at least one is a transparent substrate.

本発明の積層体の製造方法では、減圧雰囲気を解除した時点で積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙の径を小さくすることができ、それにより、該硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙が消滅するまでに要する時間を短縮することができる。具体的には、使用する硬化性樹脂組成物の粘度が高い場合(例えば、硬化性樹脂組成物の粘度が0.2Pa・s以上の場合)や、密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さが大きい場合(例えば、硬化性樹脂組成物層の厚さが30μm以上の場合)に、減圧雰囲気を解除した時点で密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙の径を0.5mm未満とすることができ、それにより、該硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙が消滅するまでに要する時間をほぼ10分以内とすることができる。   In the method for producing a laminate of the present invention, the diameter of the voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space of the laminate precursor at the time when the reduced pressure atmosphere is released can be reduced, thereby The time required until the voids remaining in the curable resin composition layer disappear can be shortened. Specifically, when the viscosity of the curable resin composition to be used is high (for example, when the viscosity of the curable resin composition is 0.2 Pa · s or more), or the curable resin composition layer in the sealed space. When the thickness is large (for example, when the thickness of the curable resin composition layer is 30 μm or more), the voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space when the reduced-pressure atmosphere is released The diameter can be less than 0.5 mm, whereby the time required until the voids remaining in the curable resin composition layer disappear can be made within about 10 minutes.

図1は、基板の平面図であり、基板上の周辺部にシール部が形成されている状態を示している。FIG. 1 is a plan view of a substrate, showing a state where a seal portion is formed in the peripheral portion on the substrate.

以下、図面を参照して本発明の積層体の製造方法について説明する。   Hereafter, the manufacturing method of the laminated body of this invention is demonstrated with reference to drawings.

本発明の積層体の製造方法では、一対の基板のうち、一方の基板上の周辺部に硬化性樹脂組成物を封じ込めるためのシール部を形成する。図1は、基板の平面図であり、基板10上の周辺部にシール部20が形成されている状態を示している。   In the manufacturing method of the laminated body of this invention, the seal | sticker part for enclosing a curable resin composition is formed in the peripheral part on one board | substrate among a pair of board | substrates. FIG. 1 is a plan view of the substrate, and shows a state in which a seal portion 20 is formed in the peripheral portion on the substrate 10.

[基板]
本発明による積層体の製造方法では、後述するように、硬化性樹脂組成物として、光硬化性樹脂組成物を使用することが好ましいことから、一対の基板のうち、少なくとも1つが透明基板であることが好ましい。この場合、一対の基板のうち、一方のみが透明基板で他方が不透明な基板であってもよく、両方の基板が透明基板であってもよい。ここで、一方が透明基板で他方が不透明な基板とする場合、透明基板の周辺部にシール部を形成してもよく、不透明な基板の周辺部にシール部を形成してもよい。
なお、透明基板は、透明、すなわち、光透過性を有する基板である限り特に限定されない。透明基板の具体例としては、ガラス基板および透明樹脂基板が例示される。これらの中でも、ガラス基板が、透明性、耐光性、低複屈折性、高い平面精度、耐表面傷付性、高い機械的強度を有する点から好ましい。
ガラス基板の材料としては、ソーダライムガラスの他、より鉄分が低く青みの小さい高透過ガラス(白板)、ホウケイ酸ガラス等が挙げられる。
透明樹脂基板の材料としては、透明性の高い樹脂材料(ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等)が挙げられる。
[substrate]
In the manufacturing method of the laminated body by this invention, since it is preferable to use a photocurable resin composition as a curable resin composition so that it may mention later, at least 1 is a transparent substrate among a pair of board | substrates. It is preferable. In this case, only one of the pair of substrates may be a transparent substrate and the other may be an opaque substrate, or both substrates may be transparent substrates. Here, when one is a transparent substrate and the other is an opaque substrate, a seal portion may be formed around the transparent substrate, or a seal portion may be formed around the opaque substrate.
The transparent substrate is not particularly limited as long as it is transparent, that is, a substrate having optical transparency. Specific examples of the transparent substrate include a glass substrate and a transparent resin substrate. Among these, a glass substrate is preferable because it has transparency, light resistance, low birefringence, high plane accuracy, surface scratch resistance, and high mechanical strength.
Examples of the material for the glass substrate include soda lime glass, highly transmissive glass (white plate) having lower iron content and less bluishness, and borosilicate glass.
Examples of the material for the transparent resin substrate include highly transparent resin materials (such as polycarbonate and polymethyl methacrylate).

また、透明基板は、少なくとも光透過性を有している限り、光を散乱させたり、屈折させたりする目的で基板表面に微細な凹凸加工が施されているものや、基板表面に遮光印刷が施されているものであってもよい。
また、透明基板が複数枚張り合わせてあるものや、光学フィルムなどが貼合されている透明基板を一体の透明基板として用いることもできる。
また、透明基板を構成要素の一部として含む構造体も透明基板として用いることができる。このような透明基板を構成要素の一部として含む構造体の具体例としては、液晶表示装置(LCD)、有機ELや無機ELといったEL(エレクトロルミネッセンス)表示装置、プラズマ表示装置、電子インク型画像表示装置といったフラットパネルディスプレイ(FPD)、薄層太陽電池デバイス、タッチパネル等が挙げられる。
In addition, as long as the transparent substrate has at least light transmittance, the substrate surface is subjected to fine uneven processing for the purpose of scattering or refracting light, or light shielding printing is performed on the substrate surface. It may be given.
A transparent substrate on which a plurality of transparent substrates are bonded, or a transparent substrate on which an optical film or the like is bonded can also be used as an integrated transparent substrate.
A structure including a transparent substrate as a part of the constituent elements can also be used as the transparent substrate. Specific examples of the structure including such a transparent substrate as a component include a liquid crystal display (LCD), an EL (electroluminescence) display device such as an organic EL or an inorganic EL, a plasma display device, and an electronic ink type image. Examples include a flat panel display (FPD) such as a display device, a thin-layer solar cell device, and a touch panel.

一対の基板のうち、一方を不透明な基板とする場合、不透明な基板の具体例としては、ステンレス等の金属材料製の基板、セラミックス材料製の基板、可視光を吸収する充填剤を基板中に分散することによって遮光された樹脂基板等が例示される。   When one of the pair of substrates is an opaque substrate, specific examples of the opaque substrate include a substrate made of a metal material such as stainless steel, a substrate made of a ceramic material, and a filler that absorbs visible light in the substrate. Examples thereof include a resin substrate that is shielded from light by being dispersed.

なお、一対の基板の両方を透明基板とする場合、一対の透明基板は、同一の材料で形成されていてもよいし、異なる材料で形成されていてもよい。すなわち、一対の透明基板の両方がガラス基板または透明樹脂基板であってもよく、一対の透明基板のうち、一方がガラス基板で他方が透明樹脂基板であってもよい。   When both the pair of substrates are transparent substrates, the pair of transparent substrates may be formed of the same material or different materials. That is, both of the pair of transparent substrates may be a glass substrate or a transparent resin substrate, and one of the pair of transparent substrates may be a glass substrate and the other may be a transparent resin substrate.

基板の厚さは、特に限定されないが、透明基板の場合、機械的強度、透明性の点から、ガラス基板の場合は通常1〜6mmであり、透明樹脂基板の場合は通常0.1〜3mmである。
一方、不透明な基板の場合、機械的強度、薄型軽量化の点から通常0.8〜4mmである。
なお、一対の基板の厚さは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
The thickness of the substrate is not particularly limited, but in the case of a transparent substrate, from the viewpoint of mechanical strength and transparency, it is usually 1 to 6 mm in the case of a glass substrate, and usually 0.1 to 3 mm in the case of a transparent resin substrate. It is.
On the other hand, in the case of an opaque board | substrate, it is 0.8-4 mm normally from the point of mechanical strength and a thin weight reduction.
Note that the thickness of the pair of substrates may be the same or different.

基板の表面、より具体的には、周辺部にシール部を形成する側の表面は、該シール部との界面接着力を向上させるために表面処理が施されていてもよい。ここで、表面処理は基板の周縁部のみに施してもよく、基板の表面全体に施してもよい。
表面処理の方法としては、基板の表面をシランカップリング剤で処理する方法等が挙げられる。
The surface of the substrate, more specifically, the surface on the side where the seal portion is formed in the peripheral portion may be subjected to surface treatment in order to improve the interfacial adhesive force with the seal portion. Here, the surface treatment may be performed only on the peripheral portion of the substrate, or may be performed on the entire surface of the substrate.
Examples of the surface treatment method include a method of treating the surface of the substrate with a silane coupling agent.

[シール部]
シール部は、該シール部に囲まれた領域に供給され、その後、減圧雰囲気下にて一対の基板間に挟持され密封される硬化性樹脂組成物を封じ込める目的で設けられることから、本発明の積層体の製造過程において該シール部で囲まれた領域に供給された硬化性樹脂組成物が漏れ出さない程度以上の界面接着力を有し、かつ、本発明の積層体の製造過程において形状を維持できる程度の固さを有することが求められる。
このような要求を満足するシール部は、表面に接着剤または粘着剤を有するシール部材を一方の基板の周辺部に設けることで形成することができる。
このようなシール部材の具体例としては、下記のものが挙げられる。
・あらかじめ表面に粘着剤層または接着剤層が設けられたテープ状または棒状の長尺体(両面接着テープ等)。
・一方の基板の表面の周縁部に接着剤層または粘着剤層を形成し、これに長尺体を貼着したもの。
・硬化性樹脂組成物を用いて一方の基板の表面の周縁部にダム状のシール前駆体を印刷やディスペンス等で形成し、硬化性樹脂組成物を硬化させた後、該表面に接着剤層または粘着剤層を形成したもの。
[Seal part]
The seal portion is provided for the purpose of containing the curable resin composition that is supplied to the region surrounded by the seal portion and then sandwiched and sealed between the pair of substrates under a reduced pressure atmosphere. In the production process of the laminate, the curable resin composition supplied to the region surrounded by the seal portion has an interface adhesive force that does not leak out and has a shape in the production process of the laminate of the present invention. It must be hard enough to maintain.
A seal portion satisfying such a requirement can be formed by providing a seal member having an adhesive or pressure-sensitive adhesive on the surface on the periphery of one substrate.
Specific examples of such a seal member include the following.
-A tape-like or rod-like long body (double-sided adhesive tape, etc.) with a pressure-sensitive adhesive layer or adhesive layer provided on the surface in advance.
-An adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer is formed on the peripheral edge of the surface of one of the substrates, and a long body is pasted thereon.
-A dam-like seal precursor is formed by printing or dispensing on the peripheral edge of the surface of one substrate using the curable resin composition, and after the curable resin composition is cured, an adhesive layer is formed on the surface. Or what formed the adhesive layer.

また、上記の要求を満足するシール部は、第2の硬化性樹脂組成物として、高粘度の硬化性樹脂組成物を一方の基板の周辺部に所定の厚さになるように、ディスペンサやダイコータを用いて塗布することによっても形成することができる。
ここで、第2の硬化性樹脂組成物は、後述する手順において、一対の基板間に挟持され、密封された硬化性樹脂組成物を硬化させる際に同時に硬化させてもよく、密封された硬化性樹脂組成物を硬化させる前に硬化させてもよい。
第2の硬化性樹脂組成物は、粘度が200〜3000Pa・sであることが、シール部に囲まれた領域に硬化性樹脂組成物を供給した際に該硬化性樹脂組成物を封じ込める強度を持つこと、減圧積層および減圧雰囲気の解除を実施した際に、一対の基板とシール部とで密封された、積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さにあわせて該シール部が変形することができること、および、減圧積層および減圧雰囲気の解除を実施した際にシール部が大気圧に耐える強度を持つことから好ましく、500〜2000Pa・sであることがより好ましい。
ここで、一対の基板同士の間隔を保持するために、所定の粒子径のスペーサ粒子を第2の硬化性樹脂組成物に配合してもよい。
なお、第2の硬化性樹脂組成物としては、後述する光硬化性樹脂組成物であって、上記の粘度を満たすものを用いることが好ましい。
In addition, the seal portion that satisfies the above-described requirements is a dispenser or die coater so that a high-viscosity curable resin composition as the second curable resin composition has a predetermined thickness on the periphery of one substrate. It can also form by apply | coating using.
Here, the second curable resin composition may be cured at the same time as the cured curable resin composition sandwiched between the pair of substrates and cured in the procedure to be described later. The resin composition may be cured before curing.
The second curable resin composition has a viscosity of 200 to 3000 Pa · s, and has a strength to contain the curable resin composition when the curable resin composition is supplied to a region surrounded by the seal portion. And when the release of the reduced pressure lamination and the reduced pressure atmosphere is performed, the seal is matched with the thickness of the curable resin composition layer in the sealed space of the laminated precursor sealed with the pair of substrates and the seal portion. It is preferable that the portion can be deformed, and that the seal portion has strength to withstand atmospheric pressure when the reduced pressure lamination and release of the reduced pressure atmosphere are performed, and more preferably 500 to 2000 Pa · s.
Here, in order to maintain the distance between the pair of substrates, spacer particles having a predetermined particle diameter may be blended in the second curable resin composition.
In addition, as a 2nd curable resin composition, it is a photocurable resin composition mentioned later, Comprising: It is preferable to use what satisfy | fills said viscosity.

シール部は、該シール部で囲まれた領域に供給された硬化性樹脂組成物が漏れ出さないようにするため、該シール部で囲まれた領域に供給された硬化性樹脂組成物がなす層(以下、本明細書において、単に「硬化性樹脂組成物層」と言う場合もある。)の所定厚さよりも若干厚く形成することが好ましい。例えば、硬化性樹脂組成物層の所定厚さの1.1倍以上2倍以下であることが好ましい。
また、シール部の幅は、硬化性樹脂組成物層の厚さによっても異なるが、0.5〜5mmが好ましい。
The seal portion is a layer formed by the curable resin composition supplied to the region surrounded by the seal portion so that the curable resin composition supplied to the region surrounded by the seal portion does not leak out. (Hereinafter, in this specification, it may be simply referred to as a “curable resin composition layer”). For example, the thickness is preferably 1.1 to 2 times the predetermined thickness of the curable resin composition layer.
Moreover, although the width | variety of a seal part changes also with the thickness of a curable resin composition layer, 0.5-5 mm is preferable.

次に、基板上のシール部で囲まれた領域に硬化性樹脂組成物を供給する。
硬化性樹脂組成物の供給量は、後述する手順で一対の基板間に硬化性樹脂組成物を挟持し密封した際に、一対の基板とシール部とで密封された、積層前駆体の密封空間が硬化性樹脂組成物によって充填されるだけの量にあらかじめ設定する。この際、硬化性樹脂組成物の硬化収縮による体積減少をあらかじめ考慮して、硬化性樹脂組成物の供給量を定めることができる。
本発明の積層体の製造方法では、減圧積層後の積層前駆体において、一対の基板とシール部とで密封された、積層前駆体の密封空間内に存在する硬化性樹脂組成物層の厚さが30〜3000μmであることが好ましい。その理由は、硬化性樹脂組成物層は、一対の基板間の接着剤としての機能だけでなく、該層に機械的強度を持たせる機能を付与するために厚みが必要である一方、一般的には開口部材や表示部材に代表されるように薄型軽量化が要求されることから無用に厚くすることは好ましくないからである。
後述する手順で一対の基板間に硬化性樹脂組成物を挟持し密封した際に、一対の基板とシール部とで密封された、積層前駆体の密封空間内に存在する硬化性樹脂組成物層の厚さは、100〜2000μmであることがより好ましく、100〜1600μmであることがさらに好ましく、100〜800μmであることがさらに好ましい。
Next, the curable resin composition is supplied to a region surrounded by the seal portion on the substrate.
The supply amount of the curable resin composition is such that when the curable resin composition is sandwiched between a pair of substrates and sealed in a procedure described later, the laminated precursor is sealed with the pair of substrates and the sealing portion. Is set in advance to an amount sufficient to be filled with the curable resin composition. At this time, the supply amount of the curable resin composition can be determined in consideration of the volume reduction due to the curing shrinkage of the curable resin composition.
In the method for producing a laminate of the present invention, the thickness of the curable resin composition layer present in the sealed space of the laminate precursor, which is sealed by the pair of substrates and the seal portion, in the laminate precursor after decompression lamination. Is preferably 30 to 3000 μm. The reason is that the curable resin composition layer requires not only a function as an adhesive between a pair of substrates, but also a thickness for imparting a function of imparting mechanical strength to the layer. This is because it is not preferable to unnecessarily increase the thickness because a thin and light weight is required as represented by an opening member and a display member.
When the curable resin composition is sandwiched and sealed between a pair of substrates in the procedure described below, the curable resin composition layer that is sealed by the pair of substrates and the seal portion and exists in the sealed space of the laminated precursor The thickness of is more preferably 100 to 2000 μm, further preferably 100 to 1600 μm, and further preferably 100 to 800 μm.

硬化性樹脂組成物の供給方法としては、上記の手順でシール部が形成された基板を平置きにし、ディスペンサ等の供給手段によって、点状に分散滴下する方法や、線状に塗布する方法が挙げられる。   As a method for supplying the curable resin composition, there are a method in which the substrate on which the seal portion is formed in the above-described procedure is placed flat, and a method in which the substrate is dispersed and dropped by a supply means such as a dispenser or a method in which the substrate is applied linearly. Can be mentioned.

本発明の製造方法においては、予め形成した積層体の間隙に硬化性樹脂を注入する従来の方法(例えば、特開昭57−165411号公報、特開2001−339088号公報に記載の方法)に比べ、比較的高粘度の硬化性樹脂組成物を用いることができる。これにより、硬化性樹脂組成物を硬化させる際の硬化収縮の低減および硬化後の樹脂層の機械的強度の向上を図ることができる。
使用する硬化性樹脂組成物の粘度が0.2〜50Pa・sであることが、工業的に大量の硬化性樹脂組成物を製造、移送、塗布する工程で扱いやすいことから好ましい。
なお、ここで言う硬化性樹脂組成物の粘度とは、本発明の積層体の製造方法の実施時の温度領域における粘度であり、特に、シール部で囲まれた領域に硬化性樹脂組成物を供給した後、後述する手順にしたがって減圧積層を実施するまでの温度領域における粘度である。たとえば、これらの手順を常温で実施する場合、常温における硬化性樹脂組成物の粘度である。したがって、これらの手順を実施する際の温度によって異なるが、いずれの場合であっても、5〜80℃の温度範囲内である。この点については、上述したシール部の形成に用いる第2の硬化性樹脂組成物の粘度も同様である。
使用する硬化性樹脂組成物の粘度は、1〜20Pa・sであることがより好ましく、1〜14Pa・sであることがさらに好ましい。
In the production method of the present invention, a conventional method (for example, a method described in JP-A-57-165411, JP-A-2001-339088) in which a curable resin is injected into a gap between previously formed laminates. In comparison, a curable resin composition having a relatively high viscosity can be used. Thereby, reduction of curing shrinkage when curing the curable resin composition and improvement of the mechanical strength of the cured resin layer can be achieved.
It is preferable that the viscosity of the curable resin composition to be used is 0.2 to 50 Pa · s because it is easy to handle industrially in a process of producing, transferring and applying a large amount of the curable resin composition.
The viscosity of the curable resin composition referred to here is the viscosity in the temperature range when the laminate production method of the present invention is carried out, and in particular, the curable resin composition is applied to the region surrounded by the seal portion. This is the viscosity in the temperature range after the supply until the reduced pressure lamination is carried out according to the procedure described later. For example, when these procedures are performed at room temperature, it is the viscosity of the curable resin composition at room temperature. Therefore, although it changes with the temperature at the time of implementing these procedures, in any case, it exists in the temperature range of 5-80 degreeC. About this point, the viscosity of the 2nd curable resin composition used for formation of the sealing part mentioned above is also the same.
The viscosity of the curable resin composition to be used is more preferably 1 to 20 Pa · s, and further preferably 1 to 14 Pa · s.

上記の粘度を満たす硬化性樹脂組成物としては、以下に述べるような高分子量の硬化性化合物(オリゴマー等)を含む硬化性樹脂組成物を用いることができる。
高分子量の硬化性化合物は、硬化性樹脂組成物中の化学結合の数を少なくできることから、硬化性樹脂組成物を硬化させる際の硬化収縮が小さくなり、また、硬化後の樹脂層の機械的強度が向上する。一方で、高分子量の硬化性化合物の多くは、粘性が高い。そのため、硬化後の樹脂層の機械的強度を確保しつつ空隙の残存を抑制する点からは、高分子量の硬化性化合物に、より分子量の小さい硬化性モノマーを溶解させて粘度を調整することが好ましい。ただし、分子量の小さい硬化性モノマーを用いることによって、硬化性樹脂組成物の粘度は下がるが、硬化性樹脂組成物を硬化させる際の硬化収縮が大きく、また、機械的強度が低下しやすい。
As the curable resin composition satisfying the above viscosity, a curable resin composition containing a high molecular weight curable compound (oligomer or the like) as described below can be used.
Since the high molecular weight curable compound can reduce the number of chemical bonds in the curable resin composition, the curing shrinkage when curing the curable resin composition is reduced, and the mechanical properties of the resin layer after curing are reduced. Strength is improved. On the other hand, many high molecular weight curable compounds are highly viscous. Therefore, from the point of suppressing the remaining voids while ensuring the mechanical strength of the resin layer after curing, it is possible to adjust the viscosity by dissolving a curable monomer having a lower molecular weight in a high molecular weight curable compound. preferable. However, by using a curable monomer having a small molecular weight, the viscosity of the curable resin composition is lowered, but the curing shrinkage when the curable resin composition is cured is large, and the mechanical strength tends to decrease.

使用する硬化性樹脂組成物は光硬化性樹脂組成物が好ましい。光硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物に比べ、少ない熱エネルギーにより短時間で硬化する。よって、本発明において光硬化性樹脂組成物を用いることによって、積層体を製造する際の環境負荷が小さくなる。また、光硬化性樹脂組成物を数分ないし数10分程度で実質的に硬化できることから積層体の生産効率が高い。   The curable resin composition to be used is preferably a photocurable resin composition. The photocurable resin composition is cured in a short time with less heat energy than the thermosetting resin composition. Therefore, the environmental load at the time of manufacturing a laminated body becomes small by using a photocurable resin composition in this invention. Moreover, since the photocurable resin composition can be substantially cured in several minutes to several tens of minutes, the production efficiency of the laminate is high.

光硬化性樹脂組成物とは、光の作用により硬化して樹脂層を形成する材料である。光硬化性樹脂組成物としては、たとえば、下記のものが挙げられ、硬化後の樹脂層の硬度が高くなり過ぎない範囲で用いることができる。
・付加重合性の不飽和基を有する化合物と光重合開始剤とを含む組成物。
・1〜6個の不飽和基を有するポリエン化合物(トリアリルイソシアヌレート等)と、1〜6個のチオール基を有するポリチオール化合物(トリエチレングリコールジメルカプタン)とを、不飽和基とチオール基のモル数がおおむね等しくなる割合で含み、かつ光重合開始剤を含む組成物。
・エポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物と光カチオン発生剤とを含む組成物。
A photocurable resin composition is a material that is cured by the action of light to form a resin layer. As a photocurable resin composition, the following are mentioned, for example, It can use in the range which the hardness of the resin layer after hardening does not become high too much.
A composition comprising a compound having an addition polymerizable unsaturated group and a photopolymerization initiator.
A polyene compound having 1 to 6 unsaturated groups (triallyl isocyanurate, etc.) and a polythiol compound having 1 to 6 thiol groups (triethylene glycol dimercaptan) A composition containing a photopolymerization initiator, which is contained in a proportion in which the number of moles is substantially equal.
A composition comprising an epoxy compound having two or more epoxy groups and a photocation generator.

光硬化性樹脂組成物としては、硬化速度が速く、硬化後の樹脂層の透明性が高い点から、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基から選ばれる基(以下、(メタ)アクリロイルオキシ基と記す。)を有する化合物の少なくとも1種と、光重合開始剤とを含むものがより好ましい。   The photocurable resin composition is described as a group selected from an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group (hereinafter referred to as a (meth) acryloyloxy group) from the viewpoint that the curing rate is high and the transparency of the cured resin layer is high. It is more preferable to contain at least one compound having a photopolymerization initiator) and a photopolymerization initiator.

(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物(以下、(メタ)アクリレート系化合物とも記す。)としては、1分子あたり(メタ)アクリロイルオキシ基を1〜6個有する化合物が好ましく、硬化後の樹脂層が硬くなり過ぎない点から、1分子あたり(メタ)アクリロイルオキシ基を1〜3個有する化合物が特に好ましい。
(メタ)アクリレート系化合物としては、硬化後の樹脂層の耐光性の点からは、芳香環をできるだけ含まない脂肪族または脂環式の化合物が好ましい。
また、(メタ)アクリレート系化合物としては、基板との界面接着力の向上の点からは、水酸基を有する化合物がより好ましい。水酸基を有する(メタ)アクリレート系化合物の含有量は、全(メタ)アクリレート系化合物のうち、25質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましい。一方、水酸基を有する化合物は、硬化後の樹脂層の弾性率が高くなりやすく、特に水酸基を有する(メタ)アクリレートを用いる場合には、積層体の用途によっては、硬化後の樹脂層が硬くなり過ぎるおそれがある。例えば、フラットパネルディスプレイ(FPD)の前面パネル板に使用する場合は、硬化後の樹脂層が低弾性率であることが好ましいため、水酸基を有する(メタ)アクリレートの含有量は40質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましい。
また、ガラス基板とポリカーボネートなどの樹脂基板との積層のように異種材料製の基板同士の積層においては、異なる表面エネルギーの基板表面において、樹脂層がいずれの基板に対しても好適に密着力を発現できるように低弾性率の粘着様態を示す樹脂層を用いることができる。
一方、薄いガラス基板と厚いガラス基板を積層する場合に、高弾性率で、かつ0.1mm以下の薄い樹脂層を設けることで積層体の機械的強度を高めることもでき、その場合には、水酸基を有する(メタ)アクリレートの含有量を60質量%以上とすることもできる。
As the compound having a (meth) acryloyloxy group (hereinafter also referred to as a (meth) acrylate compound), a compound having 1 to 6 (meth) acryloyloxy groups per molecule is preferable, and the cured resin layer is A compound having 1 to 3 (meth) acryloyloxy groups per molecule is particularly preferable because it is not too hard.
As the (meth) acrylate-based compound, an aliphatic or alicyclic compound that contains as few aromatic rings as possible is preferable from the viewpoint of light resistance of the cured resin layer.
Moreover, as a (meth) acrylate type compound, the compound which has a hydroxyl group is more preferable from the point of the improvement of the interface adhesive force with a board | substrate. The content of the (meth) acrylate compound having a hydroxyl group is preferably 25% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, of all (meth) acrylate compounds. On the other hand, the compound having a hydroxyl group tends to have a high modulus of elasticity of the resin layer after curing. Particularly when (meth) acrylate having a hydroxyl group is used, the resin layer after curing becomes hard depending on the use of the laminate. There is a risk of passing. For example, when used for a front panel plate of a flat panel display (FPD), since the cured resin layer preferably has a low elastic modulus, the content of (meth) acrylate having a hydroxyl group is 40% by mass or less. Preferably, 30 mass% or less is more preferable.
In addition, in the lamination of substrates made of different materials, such as lamination of a glass substrate and a resin substrate such as polycarbonate, the resin layer has a good adhesion to any substrate on the substrate surface with different surface energy. A resin layer exhibiting a low-elastic modulus adhesive state can be used so that it can be expressed.
On the other hand, when laminating a thin glass substrate and a thick glass substrate, it is possible to increase the mechanical strength of the laminate by providing a thin resin layer having a high elastic modulus and 0.1 mm or less. The content of the (meth) acrylate having a hydroxyl group can be 60% by mass or more.

(メタ)アクリレート系化合物は、比較的低分子の化合物(以下、アクリレート系モノマーと記す。)であってもよく、繰り返し単位を有する比較的高分子量の化合物(以下、(メタ)アクリレート系オリゴマーと記す)であってもよい。
(メタ)アクリレート系化合物としては、(メタ)アクリレート系モノマーの1種以上からなるもの、(メタ)アクリレート系オリゴマーの1種以上からなるもの、(メタ)アクリレート系モノマーの1種以上と(メタ)アクリレート系オリゴマーの1種以上とからなるものが挙げられ、アクリレート系オリゴマーの1種以上からなるもの、またはアクリレート系オリゴマーの1種以上と(メタ)アクリレート系モノマーの1種以上とからなるものが好ましい。基板との密着性を高める目的では、アクリロイルオキシ基とメタクロイルオキシ基の一方または両方からなる硬化性官能基を1分子あたり平均1.8〜4個有するウレタン系オリゴマーと、水酸基の数が1個または2個である炭素数3〜8のヒドロキシアルキル基を有するヒドロキシアルキルメタクリレートを含有する硬化性樹脂組成物が特に好ましい。
The (meth) acrylate compound may be a relatively low molecular compound (hereinafter referred to as an acrylate monomer), and a relatively high molecular weight compound having a repeating unit (hereinafter referred to as a (meth) acrylate oligomer). May be).
Examples of the (meth) acrylate compound include one or more (meth) acrylate monomers, one or more (meth) acrylate oligomers, one or more (meth) acrylate monomers (meth) ) One or more acrylate oligomers are mentioned, and one or more acrylate oligomers, or one or more acrylate oligomers and one or more (meth) acrylate monomers Is preferred. For the purpose of enhancing the adhesion to the substrate, a urethane oligomer having an average of 1.8 to 4 curable functional groups each consisting of one or both of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group, and the number of hydroxyl groups is 1. A curable resin composition containing one or two hydroxyalkyl methacrylates having a hydroxyalkyl group having 3 to 8 carbon atoms is particularly preferable.

また、積層体の用途が、フラットパネルディスプレイ(FPD)の前面パネル板の場合、硬化過程の樹脂の収縮などがフラットパネルディスプレイ(FPD)の表示性能に悪影響を及ぼさないように、硬化後の樹脂層がより低弾性率であることが好ましい。このため、(メタ)アクリロイルオキシ基からなる硬化性官能基を1分子あたり平均1.8〜4個有するオリゴマーと、水酸基の数が1個または2個である炭素数3〜8のヒドロキシアルキル基を有するヒドロキシアルキルメタクリレートと、水酸基を有さない(メタ)アクリレート系モノマーの1種以上を含有する硬化性樹脂組成物が好ましい。更には、水酸基を有さない(メタ)アクリレート系モノマーの総含有量が上記水酸基を有する(メタ)アクリレート系モノマーの含有量より質量比で大きいことがより好ましい。また、水酸基を有さない(メタ)アクリレート系モノマーの代わりに水酸基が1個である炭素数12〜22のヒドロキシアルキル基を有するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート水酸基を用いることもできる。   In addition, when the laminate is used for a front panel plate of a flat panel display (FPD), the cured resin is used so that shrinkage of the resin during the curing process does not adversely affect the display performance of the flat panel display (FPD). It is preferred that the layer has a lower modulus. Therefore, an oligomer having an average of 1.8 to 4 curable functional groups consisting of (meth) acryloyloxy groups, and a hydroxyalkyl group having 3 to 8 carbon atoms having 1 or 2 hydroxyl groups. A curable resin composition containing a hydroxyalkyl methacrylate having at least one of a (meth) acrylate monomer having no hydroxyl group is preferred. Furthermore, it is more preferable that the total content of the (meth) acrylate monomer having no hydroxyl group is larger in mass ratio than the content of the (meth) acrylate monomer having a hydroxyl group. Moreover, the hydroxyalkyl (meth) acrylate hydroxyl group which has a C12-C22 hydroxyalkyl group with one hydroxyl group can be used instead of the (meth) acrylate monomer which does not have a hydroxyl group.

(メタ)アクリレート系モノマーとしては、光硬化性樹脂組成物が減圧装置内での減圧雰囲気下に置かれることを考慮すると、減圧雰囲気下での揮発を充分抑制できる程度に低い蒸気圧を有する化合物、具体的には、後述する手順にしたがって減圧積層を実施する際の減圧雰囲気の雰囲気圧力よりも低い蒸気圧を有する化合物が好ましい。硬化性樹脂組成物が、水酸基を有さない(メタ)アクリレート系モノマーを含有する場合、炭素数が8〜22のアルキル(メタ)アクリレート、比較的低分子量のポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールなどのポリエーテルジオールのモノ(メタ)アクリレートやジ(メタ)アクリレートなどを用いることができ、炭素数が8〜22のアルキルメタクリレートが好ましい。   As the (meth) acrylate monomer, a compound having a vapor pressure that is low enough to sufficiently suppress volatilization in a reduced pressure atmosphere, considering that the photocurable resin composition is placed in a reduced pressure atmosphere in a reduced pressure apparatus. Specifically, a compound having a vapor pressure lower than the atmospheric pressure of the reduced-pressure atmosphere when the reduced-pressure lamination is performed according to the procedure described later is preferable. When the curable resin composition contains a (meth) acrylate monomer having no hydroxyl group, an alkyl (meth) acrylate having 8 to 22 carbon atoms, a polyether such as polyethylene glycol or polypropylene glycol having a relatively low molecular weight Diol mono (meth) acrylate or di (meth) acrylate can be used, and alkyl methacrylate having 8 to 22 carbon atoms is preferable.

(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、繰り返し単位を2個以上有する鎖(ポリウレタン鎖、ポリエステル鎖、ポリエーテル鎖、ポリカーボネート鎖等)と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する分子構造の(メタ)アクリレート系オリゴマーが好ましい。
該(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、たとえば、ウレタンアクリレートオリゴマーと呼ばれる、ウレタン結合(通常さらにポリエステル鎖やポリエーテル鎖を含む。)と2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する(メタ)アクリレート系オリゴマーが挙げられる。ウレタンアクリレートは、ウレタン鎖の分子設計により硬化後の樹脂層の機械的性能や基板との密着性などを幅広く調整できるためより好ましい。
The (meth) acrylate oligomer is a (meth) acrylate polymer having a molecular structure having a chain (polyurethane chain, polyester chain, polyether chain, polycarbonate chain, etc.) having two or more repeating units and a (meth) acryloyloxy group. Oligomers are preferred.
Examples of the (meth) acrylate oligomer include a urethane bond (usually further including a polyester chain and a polyether chain) called a urethane acrylate oligomer and two or more (meth) acryloyloxy groups (meth). Examples include acrylate oligomers. Urethane acrylate is more preferable because the mechanical design of the cured resin layer and the adhesion to the substrate can be widely adjusted by the molecular design of the urethane chain.

(メタ)アクリレート系オリゴマーの数平均分子量は、1000〜100000が好ましく、10000〜70000がより好ましい。数平均分子量が1000より小さいと硬化後の樹脂層の架橋密度が高くなり樹脂層の柔軟性が損なわれるおそれがある。また数平均分子量が100000より大きいと未硬化の硬化性樹脂組成物の粘度が大きくなりすぎるおそれがある。(メタ)アクリレート系オリゴマーの粘度が高すぎる場合、(メタ)アクリレート系モノマーと併用して、硬化性樹脂組成物全体としての粘度を低下させることが好ましい。
一方、シール部の形成に使用する第2の硬化性樹脂組成物として使用する場合、粘度を上述した200〜3000Pa・sの範囲に調整しやすいことから、硬化性基を有し、かつ数平均分子量が30000〜100000である硬化性オリゴマーの1種以上と、硬化性基を有し、かつ(メタ)アクリレート系モノマーの1種以上とを含み、モノマーの割合が、オリゴマーとモノマーとの合計(100質量%)のうち、15〜50質量%であるものが好ましい。
(メタ)アクリレート系オリゴマーは、硬化において反応性を高めることができるアクリレート系オリゴマーがより好ましい。
The number average molecular weight of the (meth) acrylate oligomer is preferably from 1,000 to 100,000, more preferably from 10,000 to 70,000. If the number average molecular weight is less than 1000, the crosslink density of the cured resin layer becomes high, and the flexibility of the resin layer may be impaired. If the number average molecular weight is greater than 100,000, the viscosity of the uncured curable resin composition may be too high. When the viscosity of the (meth) acrylate oligomer is too high, it is preferable to reduce the viscosity of the curable resin composition as a whole in combination with the (meth) acrylate monomer.
On the other hand, when used as the second curable resin composition used for forming the seal portion, it has a curable group and has a number average because the viscosity is easily adjusted to the above-described range of 200 to 3000 Pa · s. One or more types of curable oligomers having a molecular weight of 30,000 to 100,000, and one or more types of (meth) acrylate monomers having a curable group, and the proportion of monomers is the sum of oligomers and monomers ( 100 mass%) is preferably 15 to 50 mass%.
The (meth) acrylate oligomer is more preferably an acrylate oligomer that can increase the reactivity in curing.

光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ケタール系、ベンゾインまたはベンゾインエーテル系、フォスフィンオキサイド系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、キノン系等の光重合開始剤が挙げられ、アセトフェノン系またはフォスフィンオキサイド系の光重合開始剤が好ましい。短波長の可視光による硬化を行う場合は、光重合開始剤の吸収波長域からフォスフィンオキサイド系の光重合開始剤がより好ましい。吸収波長域の異なる2種以上の光重合開始剤を併用することでより硬化時間を速めたり、シール部の形成に使用する第2の硬化性樹脂組成物においては表面硬化性を高めることができより好ましい。
光カチオン発生剤としては、オニウム塩系の化合物等が挙げられる。
Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone series, ketal series, benzoin or benzoin ether series, phosphine oxide series, benzophenone series, thioxanthone series, quinone series, and the like. Photoinitiators are preferred. When curing with visible light having a short wavelength, a phosphine oxide photopolymerization initiator is more preferable from the absorption wavelength region of the photopolymerization initiator. By using two or more kinds of photopolymerization initiators having different absorption wavelength ranges, the curing time can be further accelerated, or the surface curability can be enhanced in the second curable resin composition used for forming the seal portion. More preferred.
Examples of the photo cation generator include onium salt compounds.

硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、重合禁止剤、光硬化促進剤、連鎖移動剤、光安定剤(紫外線吸収剤、ラジカル捕獲剤等)、酸化防止剤、難燃化剤、接着性向上剤(シランカップリング剤等)、顔料、染料等の各種添加剤を含んでいてもよく、重合禁止剤、光安定剤を含むことが好ましい。特に、重合禁止剤を重合開始剤より少ない量含むことによって、硬化性樹脂組成物の安定性を改善でき、硬化後の樹脂層の分子量を調整することもできる。
ただし、積層体の用途によっては、硬化後の樹脂層における光線の透過を妨げるおそれのある添加剤を含むことが好ましくない。一例を挙げると、積層体の用途が、フラットパネルディスプレイ(FPD)の前面パネル板や、薄層太陽電池デバイスの場合、前者については表示画像を形成するフラットパネルディスプレイ(FPD)からの出射光や反射光、後者については太陽光が硬化後の樹脂層を透過するため、それらの光線の透過を妨げるおそれのある添加剤を含むことが好ましくない。たとえば、紫外線吸収剤は、樹脂層を透過する太陽光の紫外線成分を吸収して薄層太陽電池デバイスに入射する光の量を低下させたり、フラットパネルディスプレイ(FPD)の表示画像の色調に悪影響を与えるおそれがある。しかし一方で、太陽光が透過する樹脂層には、耐光性、特に紫外線等の短波長の光に対する耐久性が要求される。よって、紫外線吸収剤等を含ませる場合は、その吸収特性、配合量等を適宜調整することが好ましい。
また、基板との密着性を高めたり、硬化後の樹脂層の弾性率を調整するためには、連鎖移動剤を含むことが好ましく、分子内にチオール基を有する連鎖移動剤が特に好ましい。
The curable resin composition may contain a polymerization inhibitor, a photocuring accelerator, a chain transfer agent, a light stabilizer (such as an ultraviolet absorber or a radical scavenger), an antioxidant, a flame retardant, and an adhesive as necessary. Various additives such as an improver (such as a silane coupling agent), a pigment, and a dye may be included, and a polymerization inhibitor and a light stabilizer are preferably included. In particular, by including a polymerization inhibitor in a smaller amount than the polymerization initiator, the stability of the curable resin composition can be improved, and the molecular weight of the cured resin layer can also be adjusted.
However, depending on the use of the laminate, it is not preferable to include an additive that may hinder the transmission of light in the cured resin layer. For example, when the use of the laminate is a front panel plate of a flat panel display (FPD) or a thin-layer solar cell device, the former is the light emitted from the flat panel display (FPD) that forms a display image. About reflected light and the latter, since sunlight permeate | transmits the resin layer after hardening, it is not preferable to contain the additive which may prevent transmission of those light rays. For example, the ultraviolet absorber absorbs the ultraviolet component of sunlight transmitted through the resin layer to reduce the amount of light incident on the thin-layer solar cell device, or adversely affects the color tone of the display image of the flat panel display (FPD). There is a risk of giving. However, on the other hand, the resin layer through which sunlight passes is required to have light resistance, particularly durability against light having a short wavelength such as ultraviolet rays. Therefore, when an ultraviolet absorber or the like is included, it is preferable to appropriately adjust the absorption characteristics, blending amount, and the like.
Moreover, in order to improve adhesiveness with a board | substrate or to adjust the elasticity modulus of the resin layer after hardening, it is preferable to contain a chain transfer agent, and the chain transfer agent which has a thiol group in a molecule | numerator is especially preferable.

重合禁止剤としては、ハイドロキノン系(2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン等)、カテコール系(p−t−ブチルカテコール等)、アンスラキノン系、フェノチアジン系、ヒドロキシトルエン系等の重合禁止剤が挙げられる。
光安定剤としては、紫外線吸収剤(ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチレート系等)、ラジカル捕獲剤(ヒンダードアミン系)等が挙げられる。
酸化防止剤としては、リン系、イオウ系の化合物が挙げられる。
光重合開始剤および各種添加剤としては、硬化性樹脂組成物が減圧雰囲気下に置かれることから、減圧雰囲気下での揮発を充分抑制できる程度に低い蒸気圧を有する、比較的分子量が大きい化合物や(メタ)アクリル酸のような水酸基などの極性部位を有するC4以上の化合物など、具体的には、後述する手順にしたがって減圧積層を実施する際の減圧雰囲気の雰囲気圧力よりも充分に低い蒸気圧を有する、比較的分子量が大きい化合物や(メタ)アクリル酸のような水酸基などの極性部位を有するC4以上の化合物などが好ましい。
Examples of the polymerization inhibitor include polymerization inhibitors such as hydroquinone (2,5-di-t-butylhydroquinone, etc.), catechol (pt-butylcatechol, etc.), anthraquinone, phenothiazine, hydroxytoluene and the like. Can be mentioned.
Examples of the light stabilizer include ultraviolet absorbers (benzotriazole series, benzophenone series, salicylate series, etc.), radical scavengers (hindered amine series), and the like.
Examples of the antioxidant include phosphorus-based and sulfur-based compounds.
As the photopolymerization initiator and various additives, since the curable resin composition is placed in a reduced-pressure atmosphere, the compound has a relatively large molecular weight and has a vapor pressure low enough to sufficiently suppress volatilization in the reduced-pressure atmosphere. C4 or more compounds having polar sites such as hydroxyl groups such as (meth) acrylic acid and the like, specifically, vapor sufficiently lower than the atmospheric pressure of the reduced pressure atmosphere when the reduced pressure lamination is performed according to the procedure described later A compound having a pressure and a relatively large molecular weight, a compound having a polar site such as a hydroxyl group such as (meth) acrylic acid, and the like are preferable.

上述したように、硬化性樹脂組成物に含有される成分としては、減圧雰囲気下での揮発を抑制するために、減圧積層を実施する際の減圧雰囲気の雰囲気圧力よりも低い蒸気圧を有する材料が選択される。しかしながら、製造される硬化性樹脂組成物には、減圧雰囲気下で揮発するおそれのある成分、具体的には、減圧積層を実施する際の減圧雰囲気の雰囲気圧力よりも高い蒸気圧を有する成分(以下、本明細書において、「揮発成分」という。)が不可避不純物として含まれることがある。このような不可避不純物として含まれる揮発成分は、使用する硬化性樹脂組成物に含まれる成分の種類、特に、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物の種類によっても異なるが、硬化性樹脂組成物が(メタ)アクリレート系化合物を含有する場合、その原料化合物である(メタ)アクリル酸や、ジアクリル酸無水物、エチレングリコールやブタンジオールなどの比較的分子量の小さい水酸基含有化合物などが例示される。また、硬化性樹脂組成物がウレタンアクリレートオリゴマーを含有する場合、その原料化合物の一例である2−ヒドロキシエチルアクリレートなどが例示される。更に、上記原料化合物に含まれることがある重合禁止剤や酸化防止剤などの各種添加物もその分子量が小さい場合に揮発成分となるおそれがある。
また、減圧積層を実施するまでの手順において、大気中の水分が硬化性樹脂組成物に含まれることがある。このような大気中の水分が硬化性樹脂組成物に含まれたものも不可避不純物として含まれる揮発成分の一例である。
不可避不純物として含まれる揮発成分の含有量は、0.01〜1wt%と微量であるが、減圧雰囲気下での揮発成分の揮発が、減圧雰囲気を解除した時点で積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙の径に影響を及ぼすことを本願発明者らは見出している。
As described above, the component contained in the curable resin composition is a material having a vapor pressure lower than the atmospheric pressure of the reduced-pressure atmosphere when performing reduced-pressure lamination in order to suppress volatilization in the reduced-pressure atmosphere. Is selected. However, the curable resin composition to be produced has a component that may volatilize in a reduced-pressure atmosphere, specifically, a component having a vapor pressure higher than the atmospheric pressure of the reduced-pressure atmosphere when performing reduced-pressure lamination ( Hereinafter, in this specification, “volatile components” may be included as inevitable impurities. Volatile components contained as such inevitable impurities vary depending on the type of components contained in the curable resin composition to be used, in particular, the type of curable compound contained in the curable resin composition. When the product contains a (meth) acrylate compound, examples thereof include (meth) acrylic acid which is a raw material compound, diacrylic anhydride, a hydroxyl group-containing compound having a relatively low molecular weight such as ethylene glycol and butanediol. . Moreover, when curable resin composition contains a urethane acrylate oligomer, 2-hydroxyethyl acrylate etc. which are examples of the raw material compound are illustrated. Further, various additives such as a polymerization inhibitor and an antioxidant that may be contained in the raw material compound may become a volatile component when the molecular weight is small.
Moreover, in the procedure until it carries out pressure reduction lamination | stacking, the water | moisture content in air | atmosphere may be contained in curable resin composition. What contained such moisture in the atmosphere in the curable resin composition is also an example of a volatile component contained as an inevitable impurity.
Although the content of volatile components contained as inevitable impurities is as small as 0.01 to 1 wt%, the volatilization of the volatile components under a reduced pressure atmosphere is within the sealed space of the laminated precursor when the reduced pressure atmosphere is released. The inventors of the present application have found that it affects the diameter of the voids remaining in the curable resin composition layer.

次に、減圧積層を実施する。すなわち、減圧雰囲気下において、上記の手順でシール部で囲まれた領域に供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせる。これを達成するためには、一方の基板の表面のうち、上記の手順で硬化性樹脂組成物が供給された側の表面が他方の基板の側に向いた状態で、一対の基板と他方の基板とを重ね合わせればよい。重ね合わせにより、一対の基板間に硬化性樹脂組成物が挟持されて密封された、より具体的には、一方の基板の表面、他方の基板の下面、およびシール部で囲まれた空間内に硬化性樹脂組成物が密封された積層体前駆体が得られる。
重ね合わせの際、他方の基板の自重、移動支持機構からの押圧等によって、硬化性樹脂組成物が押し広げられ、上述した空間内に硬化性樹脂組成物が充満する。
Next, decompression lamination is performed. That is, in a reduced-pressure atmosphere, the other substrate is overlaid on the curable resin composition supplied to the region surrounded by the seal portion by the above procedure. In order to achieve this, among the surfaces of one of the substrates, the surface on the side to which the curable resin composition is supplied in the above procedure is directed to the other substrate, and the pair of substrates and the other substrate What is necessary is just to overlap | superpose a board | substrate. By overlapping, the curable resin composition is sandwiched and sealed between a pair of substrates, more specifically, in the space surrounded by the surface of one substrate, the lower surface of the other substrate, and the seal portion. A laminate precursor in which the curable resin composition is sealed is obtained.
At the time of superposition, the curable resin composition is spread by the weight of the other substrate, the pressure from the moving support mechanism, and the like, and the curable resin composition is filled in the above-described space.

本発明の積層体の製造方法では、減圧積層を実施する際の減圧雰囲気の雰囲気圧力(P)を0.1〜1000Paとする。雰囲気圧力が1000Paよりも高いと、減圧雰囲気の解除によって雰囲気圧力が上昇した際に、積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙の縮減率が低下し、空隙消滅までに要する時間が長時間化するという問題がある。一方、雰囲気圧力(P)が0.1Paよりも低いと、硬化性樹脂組成物に含まれる各成分(硬化性化合物、光重合開始剤、重合禁止剤、光安定剤等)に悪影響を与えるおそれがある。たとえば、上述した各成分が気化するおそれがあり、また、減圧雰囲気を提供するために時間がかかることがある。なお、雰囲気圧力(P)を1000Pa以下とする必要があることから、減圧積層を実施する減圧雰囲気において、硬化性樹脂組成物中に不可避不純物として含まれる減圧雰囲気下での揮発成分が揮発することを防ぐことはできない。
減圧雰囲気の雰囲気圧力(P)は、1〜100Paがより好ましい。3〜30Paがさらに好ましい。
In the manufacturing method of the laminated body of this invention, the atmospheric pressure (P) of the reduced pressure atmosphere at the time of implementing a reduced pressure lamination shall be 0.1-1000 Pa. When the atmospheric pressure is higher than 1000 Pa, when the atmospheric pressure increases due to the release of the reduced pressure atmosphere, the reduction rate of the voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space of the lamination precursor decreases, There is a problem that it takes a long time to eliminate the voids. On the other hand, if the atmospheric pressure (P) is lower than 0.1 Pa, there is a risk of adversely affecting each component (curable compound, photopolymerization initiator, polymerization inhibitor, light stabilizer, etc.) contained in the curable resin composition. There is. For example, each component described above may be vaporized, and it may take time to provide a reduced pressure atmosphere. In addition, since it is necessary to make atmospheric pressure (P) 1000 Pa or less, the volatile component in the reduced pressure atmosphere contained as an inevitable impurity in the curable resin composition volatilizes in the reduced pressure atmosphere in which the reduced pressure lamination is performed. Cannot be prevented.
The atmospheric pressure (P) of the reduced pressure atmosphere is more preferably 1 to 100 Pa. 3-30 Pa is more preferable.

さらに、減圧積層を実施する際、減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT(Pa/sec))が、下記式を満たす必要がある。
−1(Pa/sec)≦ΔP/ΔT≦0(Pa/sec)
ここで言う圧力勾配(ΔP/ΔT)とは、減圧積層を実施する時点(すなわち、重ね合わせを実施する時点)の雰囲気圧力と、その直前の雰囲気圧力と、の間の圧力勾配を指す。例えば、減圧積層を実施する時点で減圧雰囲気の雰囲気圧力が平衡に達している場合、圧力勾配(ΔP/ΔT)=0(Pa/sec)である。減圧積層を実施する時点の雰囲気圧力がその直前の雰囲気圧力よりも低くなっている場合、圧力勾配(ΔP/ΔT)<0(Pa/sec)であり、減圧積層を実施する時点の雰囲気圧力がその直前の雰囲気圧力よりも高くなっている場合、圧力勾配(ΔP/ΔT)>0(Pa/sec)である。
圧力勾配(ΔP/ΔT)が上記式を満たす条件で減圧積層を実施した場合、減圧雰囲気下で硬化性樹脂組成物から揮発した揮発成分は雰囲気中に拡散されて除去されることとなり、減圧積層により積層前駆体を形成した際に、形成された積層前駆体の密封空間内に取り込まれる揮発成分が減少する。この結果、該揮発成分が密封空間内に取り込まれることによって、該密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に大きな空隙が形成されることが防止される。
Furthermore, when carrying out the decompression lamination, the pressure gradient (ΔP / ΔT (Pa / sec)) of the atmospheric pressure of the decompression atmosphere needs to satisfy the following formula.
−1 (Pa / sec) ≦ ΔP / ΔT ≦ 0 (Pa / sec)
The pressure gradient (ΔP / ΔT) mentioned here refers to a pressure gradient between the atmospheric pressure at the time when the decompression stacking is performed (that is, the time when the superposition is performed) and the atmospheric pressure just before that. For example, when the atmospheric pressure of the reduced-pressure atmosphere has reached equilibrium at the time of carrying out the reduced-pressure lamination, the pressure gradient (ΔP / ΔT) = 0 (Pa / sec). When the atmospheric pressure at the time of carrying out the decompression lamination is lower than the atmospheric pressure immediately before, the pressure gradient (ΔP / ΔT) <0 (Pa / sec), and the atmospheric pressure at the time of carrying out the decompression lamination is When it is higher than the atmospheric pressure immediately before, the pressure gradient (ΔP / ΔT)> 0 (Pa / sec).
When the pressure reduction (ΔP / ΔT) satisfies the above formula, the reduced pressure lamination is performed by diffusing the volatile components volatilized from the curable resin composition in the reduced pressure atmosphere and removing them. When the layered precursor is formed by the above, the volatile components taken into the sealed space of the formed layered precursor are reduced. As a result, the volatile component is taken into the sealed space, thereby preventing a large gap from being formed in the curable resin composition layer in the sealed space.

圧力勾配(ΔP/ΔT)>0(Pa/sec)の場合、すなわち、減圧積層を実施する時点の雰囲気圧力がその直前の雰囲気圧力よりも高くなっている場合、硬化性樹脂組成物から揮発した揮発成分が、減圧雰囲気中に拡散されて除去されることなく硬化性樹脂組成物の付近に存在し、減圧積層により積層前駆体を形成した際に、形成された積層前駆体の密封空間内に該揮発成分が取り込まれる。この結果、該密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に大きな空隙が形成される。   When the pressure gradient (ΔP / ΔT)> 0 (Pa / sec), that is, when the atmospheric pressure at the time of carrying out the decompression lamination is higher than the atmospheric pressure immediately before, the curable resin composition volatilized. Volatile components are present in the vicinity of the curable resin composition without being diffused and removed in a reduced-pressure atmosphere, and when the lamination precursor is formed by reduced-pressure lamination, in the sealed space of the formed lamination precursor The volatile component is taken up. As a result, large voids are formed in the curable resin composition layer in the sealed space.

圧力勾配(ΔP/ΔT)<−1(Pa/sec)の場合、硬化性樹脂組成物からの揮発成分の揮発が活発になるので、減圧積層により積層前駆体を形成した際に、形成された積層前駆体の密封空間内に取り込まれる揮発成分は、圧力勾配のマイナス方向の絶対値の大きさに応じて増大することとなり、より多くの揮発成分が該密封空間内に取り込まれる。この結果、該密封空間内の硬化性樹脂組成物中に大きな空隙が形成される。   When the pressure gradient (ΔP / ΔT) <− 1 (Pa / sec), volatilization of the volatile component from the curable resin composition becomes active, so that it was formed when the lamination precursor was formed by reduced pressure lamination. The volatile component taken into the sealed space of the lamination precursor increases in accordance with the magnitude of the absolute value of the negative direction of the pressure gradient, and more volatile components are taken into the sealed space. As a result, large voids are formed in the curable resin composition in the sealed space.

減圧積層を実施する際、減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT)が、下記式を満たすことが好ましい。
−0.5(Pa/sec)≦ΔP/ΔT≦0(Pa/sec)
When carrying out the decompression lamination, it is preferable that the pressure gradient (ΔP / ΔT) of the atmosphere pressure of the decompression atmosphere satisfies the following formula.
−0.5 (Pa / sec) ≦ ΔP / ΔT ≦ 0 (Pa / sec)

本発明の積層体の製造方法において、減圧積層は以下の手順で実施することができる。以下、本明細書において、一対の基板のうち、表面上にシール部および硬化性樹脂組成物の層を形成した側の基板を一方の基板と言い、表面上にこれらを形成しなかった側の基板を他方の基板と言う。   In the method for producing a laminate of the present invention, the reduced pressure lamination can be performed by the following procedure. Hereinafter, in this specification, of the pair of substrates, the substrate on the side where the seal portion and the layer of the curable resin composition are formed on the surface is referred to as one substrate, and the side on which the surface is not formed on the surface. The substrate is referred to as the other substrate.

一方の基板を減圧装置に入れ、減圧装置内の固定支持盤の上に硬化性樹脂組成物の面が上になるように、該基板を平置きする。
減圧装置内の上部には、上下方向に移動可能な移動支持機構が設けられ、移動支持機構に他方の基板が取り付けられる。ここで、他方の基板の表面に薄膜系太陽電池デバイスが形成されている場合、薄膜系太陽電池デバイスが形成された側の表面を下に向ける。また、積層体の用途がフラットパネルディスプレイ(FPD)の場合、画像を表示する側の表面を下に向ける。また、他方の基板の表面に反射防止層が設けられている場合、反射防止層が形成されていない側の表面を下に向ける。
他方の基板は、一方の基板の上方かつ硬化性樹脂組成物と接しない位置に置く。すなわち、一方の基板の上の硬化性樹脂組成物と他方の基板とを接触させることなく対向させる。
One substrate is put in a decompression device, and the substrate is placed flat on a fixed support plate in the decompression device so that the surface of the curable resin composition is on the top.
A movement support mechanism that can move in the vertical direction is provided in the upper part of the decompression device, and the other substrate is attached to the movement support mechanism. Here, when the thin film solar cell device is formed on the surface of the other substrate, the surface on the side where the thin film solar cell device is formed is turned downward. Moreover, when the use of the laminate is a flat panel display (FPD), the surface on the image display side is directed downward. When the antireflection layer is provided on the surface of the other substrate, the surface on the side where the antireflection layer is not formed is directed downward.
The other substrate is placed above one substrate and in a position not in contact with the curable resin composition. That is, the curable resin composition on one substrate and the other substrate are opposed to each other without being brought into contact with each other.

なお、上下方向に移動可能な移動支持機構を減圧装置内の下部に設け、移動支持機構の上に一方の基板を置いてもよい。この場合、他方の基板は、減圧装置内の上部に設けられた固定支持盤に取り付けて、一方の基板と他方の基板とを対向させる。
また、一方の基板および他方の基板の両方を、減圧装置内の上下に設けた移動支持機構で支持してもよい。
A movable support mechanism that can move in the vertical direction may be provided in the lower part of the decompression device, and one substrate may be placed on the movable support mechanism. In this case, the other substrate is attached to a fixed support plate provided at the upper part in the decompression device, and the one substrate and the other substrate are opposed to each other.
Moreover, you may support both one board | substrate and the other board | substrate with the movement support mechanism provided in the upper and lower sides in the decompression device.

一方の基板および他方の基板を所定の位置に配置した後、減圧装置の内部を減圧して、上記した所定の減圧雰囲気とする。可能であれば、減圧操作中または所定の減圧雰囲気とした後に、減圧装置内で一方の基板および他方の基板を所定の位置に位置させてもよい。
その後、減圧装置の内部を上記した所定の減圧雰囲気に保持した状態で移動支持機構で支持された他方の基板を下方に移動し、一方の基板の上の硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせる。
After arranging one substrate and the other substrate at a predetermined position, the inside of the decompression device is decompressed to obtain the above-described predetermined decompressed atmosphere. If possible, one substrate and the other substrate may be positioned in a predetermined position in the decompression apparatus during the decompression operation or after a predetermined decompression atmosphere.
Thereafter, the other substrate supported by the moving support mechanism is moved downward in a state where the inside of the decompression device is maintained in the above-described predetermined decompression atmosphere, and the other substrate is placed on the curable resin composition on one substrate. Superimpose the substrates.

次いで、減圧雰囲気の解除を実施する。すなわち、減圧積層によって得られた積層体前駆体を、減圧積層を実施した減圧雰囲気よりも雰囲気圧力が高い第2の圧力雰囲気下(例えば、大気圧下)に置く。
減圧雰囲気の解除による雰囲気圧力の上昇によって、一対の基板同士が密着する方向に押圧されると同時に、一対の基板とシール部で密封された、積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙の体積がその雰囲気の差圧に応じて縮減することによって、該密封空間全体が硬化性樹脂組成物によって均一に充填されることとなる。
ここで、上記の効果を発揮するためには、第2の圧力雰囲気は、減圧積層実施時の減圧雰囲気よりも雰囲気圧力が50kPa以上高いことが求められ、通常は、減圧雰囲気よりも雰囲気圧力が80k〜120kPa高い。第2の圧力雰囲気は、大気圧雰囲気であってもよく、それよりも雰囲気圧力が高くてもよい。硬化性樹脂組成物の硬化等の操作を、特別な設備を要することなく行うことができる点から、大気圧雰囲気が最も好ましい。
Next, the decompressed atmosphere is released. That is, the laminate precursor obtained by the reduced pressure lamination is placed in a second pressure atmosphere (for example, under atmospheric pressure) having an atmospheric pressure higher than that of the reduced pressure atmosphere in which the reduced pressure lamination is performed.
The curable resin composition in the sealed space of the laminated precursor, which is pressed in the direction in which the pair of substrates are brought into close contact with each other by the increase in the atmospheric pressure due to the release of the reduced-pressure atmosphere, and is sealed with the pair of substrates and the seal portion. When the volume of the voids remaining in the layer is reduced according to the pressure difference of the atmosphere, the entire sealed space is uniformly filled with the curable resin composition.
Here, in order to exert the above effect, the second pressure atmosphere is required to have an atmospheric pressure of 50 kPa or more higher than the reduced pressure atmosphere at the time of performing the reduced pressure lamination, and usually the atmospheric pressure is higher than the reduced pressure atmosphere. 80k-120kPa high. The second pressure atmosphere may be an atmospheric pressure atmosphere or an atmospheric pressure higher than that. An atmospheric pressure atmosphere is most preferable because operations such as curing of the curable resin composition can be performed without requiring special equipment.

本発明の積層体の製造方法では、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施する直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP(Pa))を、−1(Pa)≦ΔP≦2(Pa)に保持する。ここで、ΔP<0(Pa)の場合、減圧積層を実施してから減圧雰囲気の解除を実施する直前までの間に雰囲気圧力が低下する。一方、ΔP>0(Pa)の場合、減圧積層を実施してから減圧雰囲気の解除を実施する直前までの間に雰囲気圧力が上昇する。
雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP)が上記の範囲を満たしていれば、積層前駆体の密封空間内に存在する硬化性樹脂組成物からの揮発成分の揮発が抑制される。これにより、該密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に大きな空隙が形成されることが防止される。
In the method for manufacturing a laminate according to the present invention, the pressure change amount (ΔP (Pa)) of the atmospheric pressure from when the reduced pressure lamination is performed to immediately before the release of the reduced pressure atmosphere is set to −1 (Pa) ≦ ΔP ≦. 2 (Pa). Here, in the case of ΔP <0 (Pa), the atmospheric pressure is reduced immediately after the decompression lamination is performed and immediately before the decompression atmosphere is released. On the other hand, in the case of ΔP> 0 (Pa), the atmospheric pressure increases immediately after the decompression lamination is performed and immediately before the decompression atmosphere is released.
If the pressure change amount (ΔP) of the atmospheric pressure satisfies the above range, volatilization of volatile components from the curable resin composition existing in the sealed space of the lamination precursor is suppressed. Thereby, it is prevented that a big space | gap is formed in the curable resin composition layer in this sealed space.

圧力変化量(ΔP)が−1Paよりも小さい場合、積層前駆体の密封空間内に存在する硬化性樹脂組成物からの揮発成分の揮発が活発になるので、これにより、該密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に大きな空隙が形成される。   When the pressure change amount (ΔP) is smaller than −1 Pa, volatilization of the volatile component from the curable resin composition existing in the sealed space of the lamination precursor becomes active, whereby the curing in the sealed space is achieved. Large voids are formed in the conductive resin composition layer.

圧力変化量(ΔP)が2Paよりも大きい場合、減圧雰囲気の解除を実施する前の積層前駆体において、密封空間内の硬化性樹脂組成物層に存在する空隙中に揮発成分がより多く含まれることとなる。これにより、減圧雰囲気の解除を実施してから、空隙消滅までに要する時間が長時間化するという問題がある。   When the pressure change amount (ΔP) is larger than 2 Pa, more volatile components are contained in the voids existing in the curable resin composition layer in the sealed space in the laminated precursor before the release of the reduced-pressure atmosphere. It will be. As a result, there is a problem that it takes a long time for the void to disappear after the decompression atmosphere is released.

また、本発明の積層体の製造方法では、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施するまでの時間T(sec)をT≦5secとすることが好ましい。すなわち、減圧積層を実施してから5秒以内に減圧雰囲気の解除を実施することが好ましい。
減圧積層を実施してから減圧雰囲気の解除を実施するまでの時間Tが5秒よりも長い場合、積層前駆体の密封空間内に存在する硬化性樹脂組成物からの揮発成分の揮発により、該密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に大きな空隙が形成されるおそれがある。
これに対し、減圧積層を実施してから5秒以内に減圧雰囲気の解除を実施した場合、積層前駆体の密封空間内に存在する硬化性樹脂組成物からの揮発成分の揮発が少ないため、該密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に大きな空隙が形成されるおそれが低くなる。
Moreover, in the manufacturing method of the laminated body of this invention, it is preferable that time T (sec) after implementing a pressure-reduced lamination | stacking until it cancels | releases a pressure-reduced atmosphere shall be T <= 5sec. That is, it is preferable to release the reduced-pressure atmosphere within 5 seconds after the reduced-pressure lamination is performed.
When the time T from the execution of the reduced pressure lamination to the release of the reduced pressure atmosphere is longer than 5 seconds, the volatilization of the volatile component from the curable resin composition present in the sealed space of the lamination precursor causes the There exists a possibility that a big space | gap may be formed in the curable resin composition layer in sealed space.
On the other hand, when the reduced pressure atmosphere is released within 5 seconds after the reduced pressure lamination is performed, the volatilization of the volatile component from the curable resin composition existing in the sealed space of the lamination precursor is small, The possibility that large voids are formed in the curable resin composition layer in the sealed space is reduced.

本発明の積層体の製造方法では、減圧積層により得られた積層前駆体を加圧した状態、より具体的には、積層前駆体を構成する一対の基板間の距離を小さくなる方向に該積層前駆体を加圧した状態で減圧雰囲気の解除を実施する。
積層前駆体の加圧によって、該積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層が加圧されるため、該硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙に硬化性樹脂組成物からの揮発成分が入りこむことが抑制される。この結果、減圧雰囲気の解除を実施した時点で硬化性樹脂組成物層中に残留する空隙がより小さくなる。
なお、上記の効果を発揮するためには、減圧積層の実施後、減圧雰囲気の解除を実施するまでの間、積層前駆体を加圧し続けることが好ましい。
In the method for producing a laminate of the present invention, the laminate precursor obtained by decompression lamination is pressurized, more specifically, the laminate is reduced in the direction in which the distance between a pair of substrates constituting the laminate precursor is reduced. Release the reduced-pressure atmosphere in a state where the precursor is pressurized.
Since the curable resin composition layer in the sealed space of the lamination precursor is pressurized by pressurization of the lamination precursor, the curable resin composition is formed in the voids remaining in the curable resin composition layer. Intrusion of volatile components from the As a result, the void remaining in the curable resin composition layer becomes smaller when the reduced pressure atmosphere is released.
In order to exert the above-described effect, it is preferable to continue to pressurize the lamination precursor until the decompression atmosphere is released after the decompression lamination.

積層前駆体を加圧する手段は特に限定されないが、例えば、上述した移動支持機構からの押圧によって、積層前駆体を加圧することができる。   The means for pressurizing the lamination precursor is not particularly limited. For example, the lamination precursor can be pressurized by pressing from the moving support mechanism described above.

上述した効果を得るために必要となる加圧力は、使用する硬化性樹脂組成物の粘度や積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さによっても異なるが、使用する硬化性樹脂組成物の粘度が1〜14Pa・sであって、密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さが100〜2000μmである場合、積層前駆体を30〜37g/cm2の加圧力で加圧することが好ましい。
加圧力が30g/cm2よりも小さいと、シール部が基板表面と十分に密着せず、減圧雰囲気の解除を実施した際にシール部から密封空間内に外気が入りこむことによって、該密封空間内の硬化性樹脂組成物層に大きな空隙が形成される場合がある。
また、密着できたとしても密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙に、硬化性樹脂組成物からの揮発成分が入りこむことを抑制する効果が低く、減圧雰囲気の解除を実施した時点で硬化性樹脂組成物層中に残留する空隙が十分小さくならないおそれがある。
一方、加圧力が37g/cm2よりも大きいと、硬化性樹脂組成物への加圧が過剰となり、硬化性樹脂組成物がシール部よりも外側にはみ出すおそれがある。硬化性樹脂組成物がシール部よりも外側にはみ出した場合、密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に大きな空隙が生じるおそれがある。また、硬化性樹脂組成物がシール部よりも外側にはみ出すことによって、製造される積層体の意匠性が損なわれるおそれがある。
The applied pressure necessary to obtain the above-mentioned effect varies depending on the viscosity of the curable resin composition to be used and the thickness of the curable resin composition layer in the sealed space of the laminated precursor, but the curable property to be used is When the viscosity of the resin composition is 1 to 14 Pa · s and the thickness of the curable resin composition layer in the sealed space is 100 to 2000 μm, the lamination precursor is applied at a pressure of 30 to 37 g / cm 2. It is preferable to apply pressure.
When the applied pressure is less than 30 g / cm 2 , the seal part does not sufficiently adhere to the substrate surface, and when the reduced pressure atmosphere is released, the outside air enters the sealed space from the seal part. Large voids may be formed in the curable resin composition layer.
Moreover, even if it can adhere, the effect of suppressing the entry of volatile components from the curable resin composition into the voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space is low, and the release of the reduced pressure atmosphere is eliminated. When implemented, the voids remaining in the curable resin composition layer may not be sufficiently small.
On the other hand, when the applied pressure is larger than 37 g / cm 2 , the pressure applied to the curable resin composition becomes excessive, and the curable resin composition may protrude outside the seal portion. When the curable resin composition protrudes outside the seal portion, there is a possibility that a large gap is generated in the curable resin composition layer in the sealed space. Moreover, there exists a possibility that the designability of the laminated body manufactured may be impaired when a curable resin composition protrudes outside a seal | sticker part.

減圧雰囲気を解除した後の積層前駆体を第2の圧力雰囲気下に保持する時間は特に限定されない。積層前駆体を減圧装置から取り出して硬化装置に移動し、硬化を開始するまでのプロセスを大気圧雰囲気下で行う場合には、そのプロセスに要する時間が第2の圧力雰囲気下に保持する時間となる。よって、大気圧雰囲気下に置いた時点ですでに密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に空隙が存在しない場合、またはそのプロセスの間に硬化性樹脂組成物層中の空隙が消失した場合は、直ちに硬化性樹脂組成物を硬化させることができる。空隙が消失するまでに時間を要する場合は、空隙が消失するまで積層前駆体を第2の圧力雰囲気下で保持する。
本発明の積層体の製造方法によれば、減圧雰囲気を解除した時点で密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙の径を小さくすることができ、それにより、該硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙が消滅するまでに要する時間を短縮することができる。具体的には、使用する硬化性樹脂組成物の粘度が高い場合(例えば、硬化性樹脂組成物の粘度が0.2Pa・s以上の場合)や、密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さが大きい場合(例えば、硬化性樹脂組成物層の厚さが30μm以上の場合)に、減圧雰囲気を解除した時点で密封空間内の硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙の径を0.5mm未満とすることができ、それにより、該硬化性樹脂組成物層中に残留している空隙が消滅するまでに要する時間をほぼ10分以内とすることができる。
There is no particular limitation on the time for holding the laminated precursor in the second pressure atmosphere after releasing the reduced-pressure atmosphere. When the lamination precursor is taken out from the decompression device, moved to the curing device, and the process from the start of curing is performed in an atmospheric pressure atmosphere, the time required for the process is maintained in the second pressure atmosphere. Become. Therefore, when there is no void in the curable resin composition layer in the sealed space already when placed in an atmospheric pressure atmosphere, or when the void in the curable resin composition layer disappears during the process Can immediately cure the curable resin composition. In the case where it takes time for the voids to disappear, the lamination precursor is held in the second pressure atmosphere until the voids disappear.
According to the method for producing a laminate of the present invention, the diameter of voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space at the time when the reduced-pressure atmosphere is released can be reduced. The time required for the voids remaining in the functional resin composition layer to disappear can be shortened. Specifically, when the viscosity of the curable resin composition to be used is high (for example, when the viscosity of the curable resin composition is 0.2 Pa · s or more), or the curable resin composition layer in the sealed space. When the thickness is large (for example, when the thickness of the curable resin composition layer is 30 μm or more), the voids remaining in the curable resin composition layer in the sealed space when the reduced-pressure atmosphere is released The diameter can be less than 0.5 mm, whereby the time required until the voids remaining in the curable resin composition layer disappear can be made within about 10 minutes.

次いで、密封空間内の硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、一対の基板と、該一対の基板間に存在する硬化性樹脂組成物の硬化物の層とを有する積層体が製造される。
硬化性樹脂組成物を硬化させる手段は、熱硬化性樹脂組成物の種類に応じて熱硬化または光硬化のいずれかを用いる。但し、上述したように、使用する硬化性樹脂組成物は光硬化性樹脂組成物が好ましい。
光硬化性樹脂組成物の場合、たとえば、光源(紫外線ランプ、高圧水銀灯等)から紫外線または短波長の可視光を照射して、密封空間内の硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、一対の基板と、該一対の基板間に存在する硬化性樹脂組成物の硬化物の層とを有する積層体が製造される。
Next, by curing the curable resin composition in the sealed space, a laminate having a pair of substrates and a cured product layer of the curable resin composition existing between the pair of substrates is manufactured.
As a means for curing the curable resin composition, either thermosetting or photocuring is used depending on the type of the thermosetting resin composition. However, as described above, the curable resin composition used is preferably a photocurable resin composition.
In the case of the photocurable resin composition, for example, by irradiating ultraviolet light or short wavelength visible light from a light source (ultraviolet lamp, high pressure mercury lamp, etc.) to cure the curable resin composition in the sealed space, A laminate having a substrate and a layer of a cured product of the curable resin composition existing between the pair of substrates is manufactured.

光は、一対の基板のうち、透明基板の側から照射する。両方が透明基板の場合、両側から照射してもよい。
製造される積層体がフラットパネルディスプレイ(FPD)の場合、該フラットパネルディスプレイが透過型の表示デバイスを用いている場合、該デバイスを動作させることで光透過性を得ることはできるが、動作させない状態では光透過性を有さないものが多いため、保護板となる透明基板から硬化性樹脂組成物を硬化させる光を照射する。一方、該フラットパネルディスプレイが非動作時に透明状態を呈する透過−散乱型の表示デバイスを用いている場合は、表示デバイス側からの光を利用することもできる。
Light is emitted from the transparent substrate side of the pair of substrates. When both are transparent substrates, irradiation may be performed from both sides.
When the laminate to be manufactured is a flat panel display (FPD), when the flat panel display uses a transmissive display device, light transmission can be obtained by operating the device, but it is not operated. Since there are many things which do not have a light transmittance in a state, the light which hardens a curable resin composition is irradiated from the transparent substrate used as a protective plate. On the other hand, when a transmission-scattering display device that exhibits a transparent state when the flat panel display is not in operation is used, light from the display device side can also be used.

光としては、紫外線または450nm以下の可視光が好ましい。特に、透明基板上に反射防止層が設けられ、反射防止層または反射防止層の形成に用いた樹脂フィルムが紫外線を透過しない場合には、可視光による硬化が必要となる。   The light is preferably ultraviolet light or visible light of 450 nm or less. In particular, when an antireflection layer is provided on a transparent substrate and the resin film used for forming the antireflection layer or the antireflection layer does not transmit ultraviolet rays, curing with visible light is required.

本発明の製造方法により得られる積層体は、薄層太陽電池デバイスや画像表示装置などに好適に用いられる。薄層太陽電池デバイスの具体例としては、薄膜シリコン太陽電池デバイス、カルコパイライト系やCdTe系等の化合物半導体太陽電池デバイスなどが挙げられる。一方、画像表示装置の具体例としては、液晶表示装置(LCD)、有機ELや無機ELといったEL(エレクトロルミネッセンス)表示装置、プラズマ表示装置、電子インク型画像表示装置といったフラットパネルディスプレイ(FPD)が挙げられる。
薄層太陽電池デバイスの場合、積層体を構成する一対の基板のうち、一方の基板にのみ薄層太陽電池デバイスを形成してもよく、両方の基板に薄層太陽電池デバイスを形成してもよい。
The laminate obtained by the production method of the present invention is suitably used for thin-layer solar cell devices, image display devices, and the like. Specific examples of the thin layer solar cell device include a thin film silicon solar cell device, a compound semiconductor solar cell device such as a chalcopyrite system and a CdTe system. On the other hand, specific examples of the image display device include a liquid crystal display device (LCD), a flat panel display (FPD) such as an EL (electroluminescence) display device such as an organic EL or an inorganic EL, a plasma display device, and an electronic ink image display device. Can be mentioned.
In the case of a thin-layer solar cell device, the thin-layer solar cell device may be formed only on one of the pair of substrates constituting the laminate, or the thin-layer solar cell device may be formed on both substrates. Good.

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明する。但し、本発明はこれに限定されるものではない。なお、例1,5,6が実施例であり、その他の例は比較例である。   Hereinafter, based on an Example, this invention is demonstrated more concretely. However, the present invention is not limited to this. Examples 1, 5 and 6 are examples, and other examples are comparative examples.

(例1)
(シール部形成用光硬化性樹脂組成物)
分子末端をエチレンオキシドで変性した2官能のポリプロピレングリコール(水酸基価より算出した数平均分子量:4000)と、ヘキサメチレンジイソシアネートとを、6対7となるモル比で混合し、ついでイソボルニルアクリレート(大阪有機化学工業社製、IBXA)で希釈した後、錫化合物の触媒存在下で反応させて得られたプレポリマーに、2−ヒドロキシエチルアクリレートをほぼ1対2となるモル比で加えて反応させることによって、30質量%のイソボルニルアクリレートで希釈されたウレタンアクリレートオリゴマー(以下、UC−1と記す。)溶液を得た。UC−1の硬化性基数は2であり、数平均分子量は約55000であった。UC−1溶液の60℃における粘度は約580Pa・sであった。
UC−1溶液の90質量部および2−ヒドロキシブチルメタクリレート(共栄社化学社製、ライトエステル HOB)の10質量部を均一に混合して混合物を得た。該混合物の100質量部、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、IRGACURE 184)の1質量部、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、IRGACURE 819)の0.1質量部、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン(重合禁止剤)の0.04質量部、および紫外線吸収剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、TINUVIN 109)の0.3質量部を均一に混合し、シール部形成用光硬化性樹脂組成物Xを得た。
シール部形成用光硬化性樹脂組成物Xを容器に入れたまま開放状態で減圧装置内に設置して、減圧装置内を約20Paに減圧して10分保持することで脱泡処理を行った。シール部形成用光硬化性樹脂組成物Xの25℃における粘度を測定したところ、約1400Pa・sであった。
長さ610mm、幅610mm、厚み2mmのソーダライムガラス製の基板(以下、基板Aと呼ぶ。)の外周部から5mm内側の位置に沿って、上記のシール部形成用光硬化性樹脂組成物Xを塗布して、厚さ1mmのシール部を形成した。
(Example 1)
(Photo-curable resin composition for forming a seal part)
Bifunctional polypropylene glycol having a molecular end modified with ethylene oxide (number average molecular weight calculated from hydroxyl value: 4000) and hexamethylene diisocyanate were mixed in a molar ratio of 6 to 7, and then isobornyl acrylate (Osaka) After diluting with IBXA) manufactured by Organic Chemical Industry Co., Ltd., 2-hydroxyethyl acrylate is added to the prepolymer obtained by the reaction in the presence of a tin compound catalyst at a molar ratio of about 1: 2, and reacted. Thus, a urethane acrylate oligomer (hereinafter referred to as UC-1) solution diluted with 30% by mass of isobornyl acrylate was obtained. The number of curable groups of UC-1 was 2, and the number average molecular weight was about 55000. The viscosity of the UC-1 solution at 60 ° C. was about 580 Pa · s.
90 parts by mass of the UC-1 solution and 10 parts by mass of 2-hydroxybutyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., light ester HOB) were uniformly mixed to obtain a mixture. 100 parts by mass of the mixture, 1 part by mass of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (photopolymerization initiator, Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE 184), bis (2,4,6-trimethylbenzoyl)- 0.1 parts by mass of phenylphosphine oxide (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE 819), 0.04 parts by mass of 2,5-di-t-butylhydroquinone (polymerization inhibitor), And 0.3 part by mass of an ultraviolet absorber (TINUVIN 109, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were uniformly mixed to obtain a photocurable resin composition X for forming a seal part.
The defoaming treatment was carried out by placing the photocurable resin composition X for forming a seal part in a decompression device in an open state while being placed in a container, and reducing the pressure in the decompression device to about 20 Pa and holding it for 10 minutes. . It was about 1400 Pa.s when the viscosity at 25 degrees C of the photocurable resin composition X for sealing part formation was measured.
The above-mentioned photocurable resin composition X for forming a seal portion along a position 5 mm inside from the outer periphery of a soda-lime glass substrate (hereinafter referred to as substrate A) having a length of 610 mm, a width of 610 mm, and a thickness of 2 mm. Was applied to form a seal portion having a thickness of 1 mm.

(樹脂層形成用光硬化性樹脂組成物)
分子末端をエチレンオキシドで変性した2官能のポリプロピレングリコール(水酸基価より算出した数平均分子量:4000)と、イソホロンジイソシアネートとを、3対4となるモル比で混合し、錫化合物の触媒存在下で反応させて得られたプレポリマーに、2−ヒドロキシエチルアクリレートをほぼ1対2となるモル比で加えて反応させることによって、ウレタンアクリレートオリゴマー(以下、UA−2と記す。)を得た。UA−2の硬化性基数は2であり、数平均分子量は約20000であり、25℃における粘度は230Pa・sであった。
(Photocurable resin composition for resin layer formation)
A bifunctional polypropylene glycol whose molecular end is modified with ethylene oxide (number average molecular weight calculated from hydroxyl value: 4000) and isophorone diisocyanate are mixed in a molar ratio of 3 to 4, and reacted in the presence of a tin compound catalyst. A urethane acrylate oligomer (hereinafter referred to as UA-2) was obtained by adding 2-hydroxyethyl acrylate in a molar ratio of about 1: 2 to the prepolymer obtained by the reaction. The number of curable groups of UA-2 was 2, the number average molecular weight was about 20,000, and the viscosity at 25 ° C. was 230 Pa · s.

UA−2の50質量部、2−ヒドロキシブチルメタクリレート(共栄社化学社製、ライトエステル HOB)の50質量部を均一に混合し、該混合物の100質量部に、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、IRGACURE 819)の0.2質量部、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン(重合禁止剤)の0.04質量部、紫外線吸収剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、TINUVIN 109)の0.3質量部を均一に溶解させて、樹脂層形成用光硬化性樹脂組成物Yを得た。
上記の樹脂層形成用光硬化性樹脂組成物Yを容器に入れたまま開放状態で減圧装置内に設置して、減圧装置内を約20Paに減圧して10分保持することで脱泡処理を行った。樹脂層形成用光硬化性樹脂組成物Yの25℃における粘度を測定したところ、3.5Pa・sであった。
50 parts by mass of UA-2 and 50 parts by mass of 2-hydroxybutyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., light ester HOB) were uniformly mixed, and bis (2,4,6-trimethyl) was added to 100 parts by mass of the mixture. 0.2 part by mass of benzoyl) -phenylphosphine oxide (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE 819), 0.04 of 2,5-di-t-butylhydroquinone (polymerization inhibitor) A photocurable resin composition Y for forming a resin layer was obtained by uniformly dissolving 0.3 parts by mass of a mass part and UV absorber (TINUVIN 109, manufactured by Ciba Specialty Chemicals).
The above-mentioned photocurable resin composition Y for resin layer formation is placed in a decompression device in an open state while being put in a container, and the defoaming treatment is performed by reducing the pressure in the decompression device to about 20 Pa and holding for 10 minutes. went. It was 3.5 Pa.s when the viscosity at 25 degrees C of the photocurable resin composition Y for resin layer formation was measured.

次に、ディスペンサを用いて、シール部で囲まれた領域に上記の樹脂層形成用光硬化性樹脂組成物Yを以下の条件で分散滴下した。
分散滴下の条件
滴下のピッチ:15mm
硬化性樹脂組成物の層の厚さ:0.8mm(滴下量:0.18cc/点)
滴下ヘッド:8×8=64点の多点ノズル(分岐ノズル)を2台並列させたものを使用
滴下時間:滴下タクト3.3sec×15点=49.5sec
Next, using the dispenser, the above-described photocurable resin composition Y for resin layer formation was dispersed and dropped into the region surrounded by the seal portion under the following conditions.
Conditions for dispersion dripping Dropping pitch: 15 mm
Thickness of layer of curable resin composition: 0.8 mm (drop amount: 0.18 cc / point)
Dropping head: 8 × 8 = 64 multi-point nozzles (branch nozzles) arranged in parallel are used Dropping time: Drop tact 3.3 sec × 15 points = 49.5 sec

硬化性樹脂組成物の分散滴下後の基板Aを減圧装置の真空チャンバ内の昇降装置の下側の下定盤の上面に載置した。基板Aで用いたものと同形状かつ同厚のソーダライムガラス板(基板Bと呼ぶ)を昇降装置の上側の上定盤の下面に静電吸着した。
次いで、真空チャンバを密封状態とした後、真空バルブを開放してチャンバ内が8Paとなるまで排気した。この後、真空チャンバ内の昇降装置にて上下の定盤を接近させ、基板Aと基板Bとを減圧積層させて、積層前駆体Cを形成した。この時点で積層前駆体Cは、基板間の距離を小さくする方向に、30g/cm2の加圧力で加圧されている。その後、積層前駆体Cを上記の加圧力で加圧した状態のままで、真空バルブを閉止した後、減圧雰囲気を解除して、真空チャンバ内を大気圧に戻した。なお、真空バルブ開放後の経過時間は以下の通り。
減圧積層:119.5sec
真空バルブの閉止:120sec
減圧雰囲気の解除:120.1sec
なお、減圧積層時の減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT)、および、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施する直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP)は以下の通りであった。
ΔP/ΔT:−0.02Pa/sec
ΔP:0.3Pa
The substrate A after the dispersion and dropping of the curable resin composition was placed on the upper surface of the lower surface plate on the lower side of the lifting device in the vacuum chamber of the decompression device. A soda lime glass plate (called a substrate B) having the same shape and thickness as that used for the substrate A was electrostatically adsorbed to the lower surface of the upper surface plate on the upper side of the lifting device.
Next, after the vacuum chamber was sealed, the vacuum valve was opened and the chamber was evacuated to 8 Pa. Thereafter, the upper and lower surface plates were brought close to each other by an elevating device in the vacuum chamber, and the substrate A and the substrate B were laminated under reduced pressure to form a lamination precursor C. At this point, the laminated precursor C is pressurized with a pressing force of 30 g / cm 2 in a direction to reduce the distance between the substrates. Thereafter, the laminated precursor C was kept pressurized with the above-mentioned applied pressure, the vacuum valve was closed, the decompressed atmosphere was released, and the inside of the vacuum chamber was returned to atmospheric pressure. The elapsed time after opening the vacuum valve is as follows.
Reduced pressure stacking: 119.5 sec
Vacuum valve closing: 120 sec
Release of reduced pressure atmosphere: 120.1 sec
Note that the pressure gradient (ΔP / ΔT) of the atmospheric pressure of the reduced pressure atmosphere during the reduced pressure lamination and the pressure change amount (ΔP) of the atmospheric pressure from when the reduced pressure lamination is performed until immediately before the release of the reduced pressure atmosphere is performed. It was as follows.
ΔP / ΔT: -0.02 Pa / sec
ΔP: 0.3 Pa

次に、真空雰囲気の解除後直ちに、積層前駆体Cの面方向から均一に高圧水銀ランプから紫外線を照射して、硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、合わせガラス状の積層体(積層体Dと呼ぶ)を得た。
得られた積層体Dについて、硬化後の樹脂層を基板Bの側から観察して、樹脂層中の空隙の個数、および、空隙の径、より具体的には、基板B表面への投影形状における円相当径Dpore(以下、本明細書において、「空隙の円相当径Dpore」)を測定した。測定によって得られた空隙の個数と、空隙の円相当径Dporeの平均値(平均空隙径)を下記表に示した。
なお、下記表中の評価における数値は基板全体の空隙の状態を目視で観察した評価結果であり、空隙消滅までの時間が、1は1日以上放置しても空隙が消滅しないと判断したもの、5は10分以内に空隙が消えると判断したことを示す。他の数値はそれぞれ以下を示している。
2:空隙が消滅するまでの時間が60分より長く、1日程度放置すればその間に空隙が消滅すると判断したもの。
3:空隙が消滅するまでの時間が30分より長く、60分以内と判断したもの。
4:空隙が消失するまでの時間が10分より長く、30分以内と判断したもの。
Next, immediately after releasing the vacuum atmosphere, the laminated curable resin composition is cured by irradiating ultraviolet rays from the high-pressure mercury lamp uniformly from the surface direction of the lamination precursor C to cure the laminated glass-like laminate (laminate). Called D).
For the obtained laminate D, the cured resin layer is observed from the substrate B side, and the number of voids in the resin layer and the diameter of the voids, more specifically, the projected shape on the surface of the substrate B The equivalent circle diameter D pore (hereinafter, “void equivalent circle diameter D pore ” in the present specification) was measured. The number of voids obtained by measurement and the average value (average void diameter) of the equivalent circle diameter D pore of the voids are shown in the following table.
The numerical values in the evaluation in the following table are the results of visual observation of the state of the voids of the entire substrate, and the time until void disappearance is determined to be that the void does not disappear even if left for 1 day or longer. 5 indicates that it was determined that the void disappeared within 10 minutes. The other numbers indicate the following:
2: The time until the void disappears is longer than 60 minutes, and it is determined that the void disappears in the meantime if left for about one day.
3: The time until the void disappears is longer than 30 minutes and is determined to be within 60 minutes.
4: The time until the void disappears is longer than 10 minutes and is determined to be within 30 minutes.

(例2)
真空バルブ開放後の経過時間が以下となるように減圧積層、真空バルブの閉止、減圧雰囲気の解除を実施したこと、減圧積層時のチャンバ内の圧力が7Paであったこと、および、積層前駆体Cを加圧しない状態で減圧雰囲気の解除を実施したことを除いて例1と同様の手順を実施した。
減圧積層:89.5sec
真空バルブの閉止:120sec
減圧雰囲気の解除:125sec
なお、減圧積層時の減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT)、および、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施する直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP)は以下の通りであった。
ΔP/ΔT:−0.02Pa/sec
ΔP:−1.8Pa
(Example 2)
Reduced pressure stacking, vacuum valve closing, release of the reduced pressure atmosphere were performed so that the elapsed time after opening the vacuum valve was as follows, the pressure in the chamber during the reduced pressure stacking was 7 Pa, and the stacking precursor The same procedure as in Example 1 was performed except that the reduced-pressure atmosphere was released in a state where C was not pressurized.
Reduced pressure lamination: 89.5 sec
Vacuum valve closing: 120 sec
Release of decompression atmosphere: 125 sec
Note that the pressure gradient (ΔP / ΔT) of the atmospheric pressure of the reduced pressure atmosphere during the reduced pressure lamination and the pressure change amount (ΔP) of the atmospheric pressure from when the reduced pressure lamination is performed until immediately before the release of the reduced pressure atmosphere is performed. It was as follows.
ΔP / ΔT: -0.02 Pa / sec
ΔP: −1.8 Pa

(例3)
真空バルブ開放後の経過時間が以下となるように減圧積層、真空バルブの閉止、減圧雰囲気の解除を実施したこと、および、積層前駆体Cを加圧しない状態で減圧雰囲気の解除を実施したことを除いて例1と同様の手順を実施した。
減圧積層:89.5sec
真空バルブの閉止:90sec
減圧雰囲気の解除:95sec
なお、減圧積層時の減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT)、および、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施する直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP)は以下の通りであった。
ΔP/ΔT:−0.02Pa/sec
ΔP:0.8Pa
(Example 3)
Reduced pressure stacking, vacuum valve closing, and release of the reduced pressure atmosphere were performed so that the elapsed time after the vacuum valve was opened was reduced, and that the reduced pressure atmosphere was released without pressurizing the layered precursor C. The same procedure as in Example 1 was performed except for.
Reduced pressure lamination: 89.5 sec
Vacuum valve closing: 90 sec
Release of decompression atmosphere: 95 sec
Note that the pressure gradient (ΔP / ΔT) of the atmospheric pressure of the reduced pressure atmosphere during the reduced pressure lamination and the pressure change amount (ΔP) of the atmospheric pressure from when the reduced pressure lamination is performed until immediately before the release of the reduced pressure atmosphere is performed. It was as follows.
ΔP / ΔT: -0.02 Pa / sec
ΔP: 0.8 Pa

(例4)
真空バルブ開放後の経過時間が以下となるように減圧積層、真空バルブの閉止、減圧雰囲気の解除を実施したこと、および、積層前駆体Cを加圧しない状態で減圧雰囲気の解除を実施したことを除いて例1と同様の手順を実施した。
減圧積層:119.5sec
真空バルブの閉止:120sec
減圧雰囲気の解除:125sec
なお、減圧積層時の減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT)、および、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施する直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP)は以下の通りであった。
ΔP/ΔT:−0.02Pa/sec
ΔP:0.8Pa
(Example 4)
Reduced pressure stacking, vacuum valve closing, and release of the reduced pressure atmosphere were performed so that the elapsed time after the vacuum valve was opened was reduced, and that the reduced pressure atmosphere was released without pressurizing the layered precursor C. The same procedure as in Example 1 was performed except for.
Reduced pressure stacking: 119.5 sec
Vacuum valve closing: 120 sec
Release of decompression atmosphere: 125 sec
Note that the pressure gradient (ΔP / ΔT) of the atmospheric pressure of the reduced pressure atmosphere during the reduced pressure lamination and the pressure change amount (ΔP) of the atmospheric pressure from when the reduced pressure lamination is performed until immediately before the release of the reduced pressure atmosphere is performed. It was as follows.
ΔP / ΔT: -0.02 Pa / sec
ΔP: 0.8 Pa

(例5)
真空バルブ開放後の経過時間が以下となるように減圧積層、真空バルブの閉止、減圧雰囲気の解除を実施したことを除いて例1と同様の手順を実施した。
減圧積層:119.5sec
真空バルブの閉止:120sec
減圧雰囲気の解除:125sec
なお、減圧積層時の減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT)、および、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施する直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP)は以下の通りであった。
ΔP/ΔT:−0.02Pa/sec
ΔP:0.8Pa
(Example 5)
The same procedure as in Example 1 was performed, except that the reduced pressure lamination, the closing of the vacuum valve, and the release of the reduced pressure atmosphere were performed so that the elapsed time after opening the vacuum valve was as follows.
Reduced pressure stacking: 119.5 sec
Vacuum valve closing: 120 sec
Release of decompression atmosphere: 125 sec
Note that the pressure gradient (ΔP / ΔT) of the atmospheric pressure of the reduced pressure atmosphere during the reduced pressure lamination and the pressure change amount (ΔP) of the atmospheric pressure from when the reduced pressure lamination is performed until immediately before the release of the reduced pressure atmosphere is performed. It was as follows.
ΔP / ΔT: -0.02 Pa / sec
ΔP: 0.8 Pa

(例6)
真空バルブ開放後の経過時間が以下となるように減圧積層、真空バルブの閉止、減圧雰囲気の解除を実施したこと、および、積層前駆体Cの加圧力を37g/cm2としたことを除いて例1と同様の手順を実施した。
減圧積層:119.5sec
真空バルブの閉止:120sec
減圧雰囲気の解除:125sec
なお、減圧積層時の減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT)、および、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施する直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP)は以下の通りであった。
ΔP/ΔT:−0.02Pa/sec
ΔP:1.2Pa
(Example 6)
Except that the reduced pressure lamination, the vacuum valve closed, the release of the reduced pressure atmosphere were performed so that the elapsed time after opening the vacuum valve would be the following, and the pressure applied to the lamination precursor C was 37 g / cm 2. The same procedure as in Example 1 was performed.
Reduced pressure stacking: 119.5 sec
Vacuum valve closing: 120 sec
Release of decompression atmosphere: 125 sec
Note that the pressure gradient (ΔP / ΔT) of the atmospheric pressure of the reduced pressure atmosphere during the reduced pressure lamination and the pressure change amount (ΔP) of the atmospheric pressure from when the reduced pressure lamination is performed until immediately before the release of the reduced pressure atmosphere is performed. It was as follows.
ΔP / ΔT: -0.02 Pa / sec
ΔP: 1.2 Pa

(例7)
真空バルブ開放後の経過時間が以下となるように減圧積層、真空バルブの閉止、減圧雰囲気の解除を実施したこと、減圧積層時のチャンバ内の圧力が9Paであったこと、および、積層前駆体Cを加圧しない状態で減圧雰囲気の解除を実施したことを除いて例1と同様の手順を実施した。
減圧積層:122.5sec
真空バルブの閉止:120sec
減圧雰囲気の解除:128sec
なお、減圧積層時の減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT)、および、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施する直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP)は以下の通りであった。
ΔP/ΔT:0.2Pa/sec
ΔP:2.4Pa
(Example 7)
Reduced pressure stacking, vacuum valve closing, release of the reduced pressure atmosphere were performed so that the elapsed time after opening the vacuum valve was as follows, the pressure in the chamber during the reduced pressure stacking was 9 Pa, and the stacking precursor The same procedure as in Example 1 was performed except that the reduced-pressure atmosphere was released in a state where C was not pressurized.
Reduced pressure lamination: 122.5 sec
Vacuum valve closing: 120 sec
Release of decompression atmosphere: 128 sec
Note that the pressure gradient (ΔP / ΔT) of the atmospheric pressure of the reduced pressure atmosphere during the reduced pressure lamination and the pressure change amount (ΔP) of the atmospheric pressure from when the reduced pressure lamination is performed until immediately before the release of the reduced pressure atmosphere is performed. It was as follows.
ΔP / ΔT: 0.2 Pa / sec
ΔP: 2.4 Pa

(例8)
真空バルブ開放後の経過時間が以下となるように減圧積層、真空バルブの閉止、減圧雰囲気の解除を実施したこと、および、減圧積層時のチャンバ内の圧力が9Paであったことを除いて例1と同様の手順を実施した。
減圧積層:122.5sec
真空バルブの閉止:120sec
減圧雰囲気の解除:128sec
なお、減圧積層時の減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT)、および、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施する直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP)は以下の通りであった。
ΔP/ΔT:0.2Pa/sec
ΔP:2.4Pa
(Example 8)
An example except that the reduced pressure stacking, closing of the vacuum valve, release of the reduced pressure atmosphere were performed so that the elapsed time after opening the vacuum valve would be below, and the pressure in the chamber at the time of the reduced pressure stacking was 9 Pa. The same procedure as 1 was performed.
Reduced pressure lamination: 122.5 sec
Vacuum valve closing: 120 sec
Release of decompression atmosphere: 128 sec
Note that the pressure gradient (ΔP / ΔT) of the atmospheric pressure of the reduced pressure atmosphere during the reduced pressure lamination and the pressure change amount (ΔP) of the atmospheric pressure from when the reduced pressure lamination is performed until immediately before the release of the reduced pressure atmosphere is performed. It was as follows.
ΔP / ΔT: 0.2 Pa / sec
ΔP: 2.4 Pa

(例9)
真空バルブ開放後の経過時間が以下となるように減圧積層、真空バルブの閉止、減圧雰囲気の解除を実施したこと、減圧積層時のチャンバ内の圧力が10Paであったこと、および、積層前駆体Cを加圧しない状態で減圧雰囲気の解除を実施したことを除いて例1と同様の手順を実施した。
減圧積層:124.5sec
真空バルブの閉止:120sec
減圧雰囲気の解除:130sec
なお、減圧積層時の減圧雰囲気の雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT)、および、減圧積層を実施してから、減圧雰囲気の解除を実施する直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP)は以下の通りであった。
ΔP/ΔT:0.2Pa/sec
ΔP:3.2Pa
(Example 9)
Reduced pressure stacking, vacuum valve closing, release of the reduced pressure atmosphere were performed so that the elapsed time after opening the vacuum valve was as follows, the pressure in the chamber at the time of reduced pressure stacking was 10 Pa, and the stacking precursor The same procedure as in Example 1 was performed except that the reduced-pressure atmosphere was released in a state where C was not pressurized.
Reduced pressure lamination: 124.5 sec
Vacuum valve closing: 120 sec
Release of decompression atmosphere: 130 sec
Note that the pressure gradient (ΔP / ΔT) of the atmospheric pressure of the reduced pressure atmosphere during the reduced pressure lamination and the pressure change amount (ΔP) of the atmospheric pressure from when the reduced pressure lamination is performed until immediately before the release of the reduced pressure atmosphere is performed. It was as follows.
ΔP / ΔT: 0.2 Pa / sec
ΔP: 3.2 Pa

Figure 2011110820
Figure 2011110820

10:基板
20:シール部
10: Substrate 20: Seal part

Claims (8)

2枚の基板を準備し、一方の基板上の周辺部に硬化性樹脂組成物を封じ込めるためのシール部を形成し、基板上の前記シール部で囲まれた領域に硬化性樹脂組成物を供給し、減圧雰囲気下にて前記供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせて一対の基板間に硬化性樹脂組成物を挟持して密封して積層前駆体を得た後、該積層前駆体を前記減圧雰囲気よりも雰囲気圧力が50kPa以上高い第2の圧力雰囲気下に置き、該第2の圧力雰囲気下にて硬化性樹脂組成物を硬化させる積層体の製造方法であって、
前記供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせる手順を、雰囲気圧力Pが0.1〜1000Paであって、かつ、該雰囲気圧力の圧力勾配(ΔP/ΔT(Pa/sec))が、−1(Pa/sec)≦ΔP/ΔT≦0(Pa/sec)を満たす減圧雰囲気で実施すること、
前記供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせる手順を実施してから前記積層前駆体を第2の圧力雰囲気下に置く直前までの雰囲気圧力の圧力変化量(ΔP(Pa))を、−1(Pa)≦ΔP≦2(Pa)に保持すること、および、
前記一対の基板間の距離を小さくなる方向に前記積層前駆体を加圧した状態で、前記該積層前駆体を第2の圧力雰囲気下に置くことを特徴とする積層体の製造方法。
Prepare two substrates, form a seal part to contain the curable resin composition on the peripheral part on one substrate, and supply the curable resin composition to the area surrounded by the seal part on the substrate And then stacking the other substrate on the supplied curable resin composition in a reduced pressure atmosphere, sandwiching the curable resin composition between the pair of substrates, and sealing to obtain a laminated precursor The laminate precursor is placed in a second pressure atmosphere having an atmospheric pressure of 50 kPa or more higher than the reduced pressure atmosphere, and the curable resin composition is cured in the second pressure atmosphere. And
The procedure for superimposing the other substrate on the supplied curable resin composition is that the atmospheric pressure P is 0.1 to 1000 Pa and the pressure gradient of the atmospheric pressure (ΔP / ΔT (Pa / sec )) Is performed in a reduced pressure atmosphere that satisfies −1 (Pa / sec) ≦ ΔP / ΔT ≦ 0 (Pa / sec),
A pressure change amount (ΔP (Pa) of the atmospheric pressure from when the procedure of superimposing the other substrate on the supplied curable resin composition is performed until immediately before the lamination precursor is placed in the second pressure atmosphere. )) At −1 (Pa) ≦ ΔP ≦ 2 (Pa), and
A method for producing a laminate, comprising placing the laminate precursor in a second pressure atmosphere in a state in which the laminate precursor is pressurized in a direction that reduces the distance between the pair of substrates.
前記硬化性樹脂組成物の粘度が0.2〜50Pa・sである請求項1に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 1, wherein the curable resin composition has a viscosity of 0.2 to 50 Pa · s. 前記一対の基板と前記シール部とで密封された、前記積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さが30〜3000μmである請求項1または2に記載の積層体の製造方法。   The laminated body production according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the curable resin composition layer in the sealed space of the lamination precursor, which is sealed by the pair of substrates and the seal portion, is 30 to 3000 µm. Method. 前記硬化性樹脂組成物の粘度が1〜14Pa・sであって、前記一対の基板と前記シール部とで密封された、前記積層前駆体の密封空間内の硬化性樹脂組成物層の厚さが100〜2000μmである場合、前記積層前駆体を第2の圧力雰囲気下に置く際、30〜37g/cm2の加圧力で前記積層前駆体を加圧する、請求項1〜3のいずれかに記載の積層体の製造方法。 The viscosity of the curable resin composition is 1 to 14 Pa · s, and the thickness of the curable resin composition layer in the sealed space of the laminated precursor sealed with the pair of substrates and the seal portion. 4 is a pressure of 30 to 37 g / cm 2 when the layered precursor is placed in a second pressure atmosphere when the layered precursor is 100 to 2000 μm. The manufacturing method of the laminated body of description. 前記供給された硬化性樹脂組成物の上に他方の基板を重ね合わせる手順を実施してから前記積層前駆体を第2の圧力雰囲気下に置くまでの時間T(sec)をT≦5secとする、請求項1〜4のいずれかに記載の積層体の製造方法。   A time T (sec) from when the procedure for superimposing the other substrate on the supplied curable resin composition is performed until the laminated precursor is placed in the second pressure atmosphere is T ≦ 5 sec. The manufacturing method of the laminated body in any one of Claims 1-4. 前記硬化性樹脂組成物が、前記減圧雰囲気の雰囲気圧力よりも高い蒸気圧を有する成分を含有する、請求項1〜5のいずれかに記載の積層体の製造方法。   The manufacturing method of the laminated body in any one of Claims 1-5 in which the said curable resin composition contains the component which has a vapor pressure higher than the atmospheric pressure of the said pressure reduction atmosphere. 前記シール部が、粘度が200〜3000Pa・sの第2の硬化性樹脂組成物を用いて形成される請求項1〜6のいずれかに記載の積層体の製造方法。   The manufacturing method of the laminated body in any one of Claims 1-6 in which the said seal part is formed using the 2nd curable resin composition whose viscosity is 200-3000 Pa.s. 前記2枚の基板のうち、すくなくとも一つが透明基板である請求項1〜7のいずれかに記載の積層体の製造方法。   The method for manufacturing a laminate according to any one of claims 1 to 7, wherein at least one of the two substrates is a transparent substrate.
JP2009269650A 2009-11-27 2009-11-27 Manufacturing method of laminate Expired - Fee Related JP5407809B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009269650A JP5407809B2 (en) 2009-11-27 2009-11-27 Manufacturing method of laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009269650A JP5407809B2 (en) 2009-11-27 2009-11-27 Manufacturing method of laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011110820A true JP2011110820A (en) 2011-06-09
JP5407809B2 JP5407809B2 (en) 2014-02-05

Family

ID=44233525

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009269650A Expired - Fee Related JP5407809B2 (en) 2009-11-27 2009-11-27 Manufacturing method of laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5407809B2 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62244628A (en) * 1986-04-17 1987-10-26 電気化学工業株式会社 Method of laminating glass
WO2008081838A1 (en) * 2006-12-28 2008-07-10 Asahi Glass Company, Limited Transparent laminate and process for producing the same
JP2009073970A (en) * 2007-09-21 2009-04-09 Asahi Glass Co Ltd Curable resin composition, transparent layered body using the same, and method for manufacturing the layered body

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62244628A (en) * 1986-04-17 1987-10-26 電気化学工業株式会社 Method of laminating glass
WO2008081838A1 (en) * 2006-12-28 2008-07-10 Asahi Glass Company, Limited Transparent laminate and process for producing the same
JP2009073970A (en) * 2007-09-21 2009-04-09 Asahi Glass Co Ltd Curable resin composition, transparent layered body using the same, and method for manufacturing the layered body

Also Published As

Publication number Publication date
JP5407809B2 (en) 2014-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5757288B2 (en) Transparent surface material with adhesive layer, display device and manufacturing method thereof
JP5811143B2 (en) Display device
JP5757291B2 (en) Method for producing transparent face material with adhesive layer
JP5617850B2 (en) Manufacturing method of display device
WO2011052747A1 (en) Curable resin composition for sealing portion formation, laminate, and production method therefor
WO2014061478A1 (en) Adhesive layer-equipped transparent surface material and display device
WO2013024725A1 (en) Method for manufacturing layered body
WO2014054592A1 (en) Transparent surface material equipped with adhesive layer, manufacturing method therefor, and display device
WO2014104231A1 (en) Transparent face plate with adhesive layer, laminate, display device, and production methods thereof
WO2015159957A1 (en) Transparent sheet material with pressure-sensitive adhesive layer, display device, production processes therefor, and pressure-sensitive adhesive sheet
JP5742840B2 (en) Manufacturing method of laminate
WO2011065336A1 (en) Method for producing laminate body
JP5445589B2 (en) Manufacturing method of laminate
WO2011102314A1 (en) Method for manufacturing liquid crystal display device
JP5407809B2 (en) Manufacturing method of laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120802

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130419

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130423

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130614

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131008

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131021

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees