JP2011094080A - Polymerizable compound, photocurable composition, optical element and optical head device - Google Patents

Polymerizable compound, photocurable composition, optical element and optical head device Download PDF

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JP2011094080A JP2009251649A JP2009251649A JP2011094080A JP 2011094080 A JP2011094080 A JP 2011094080A JP 2009251649 A JP2009251649 A JP 2009251649A JP 2009251649 A JP2009251649 A JP 2009251649A JP 2011094080 A JP2011094080 A JP 2011094080A
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裕之 有嶋
Hiroki Hodaka
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymerizable compound capable of satisfying both high refraction index and high light resistance; a photocurable composition including the compound; an optical element, such as a wavelength-selective diffraction element 1A etc., with favorable light resistance to blue laser; and an optical head device using the optical element. <P>SOLUTION: The polymerizable compound is represented by GeA<SP>1</SP>A<SP>2</SP>A<SP>3</SP>A<SP>4</SP>in which germanium and four cyclic groups are directly bonded (wherein each of A<SP>1</SP>, A<SP>2</SP>, A<SP>3</SP>and A<SP>4</SP>is preferably a phenyl group; each of 0 to 3 hydrogen atoms of the phenyl group may be substituted by a polymerizable part represented by CH<SB>2</SB>=CR-COO-Y-; one part or total part of remaining hydrogen atoms of the cyclic groups may be substituted by methyl groups or fluorine atoms; and any one of cyclic groups A<SP>1</SP>, A<SP>2</SP>, A<SP>3</SP>and A<SP>4</SP>may be substituted by the polymerizable part represented by CH<SB>2</SB>=CR-COO-Y-). <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、重合性化合物、光硬化性組成物、光学素子および光ヘッド装置に関する。   The present invention relates to a polymerizable compound, a photocurable composition, an optical element, and an optical head device.

光学用樹脂材料は、光学フィルム、レンズ、光ディスクや光ピックアップ用の光学素子などの用途に広く用いられている。近年、照度の増大や使用波長の短波長化により、耐光性の改善が求められており、耐光性が不十分な場合、透過率の低下や光学歪みの増加が発生し、長期間安定に部品や素子を使用することができないという問題がある。   Optical resin materials are widely used for applications such as optical films, lenses, optical disks, and optical elements for optical pickups. In recent years, improvement in light resistance has been demanded due to increase in illuminance and shortening of the wavelength used, and if light resistance is insufficient, the transmittance and optical distortion will increase, and the parts will be stable for a long time There is a problem that the device cannot be used.

特に、光ディスクの大容量化のため、DVD(Digital Versatile Disc)方式から、より波長の短い青色半導体レーザー(以下、青色LDともいう)を光源に用いるBD(Blu−ray Disc)方式では、波長が405nm前後と紫外域に近いため、光ピックアップ用光学素子には、耐光性に優れる樹脂材料が求められている。特許文献1には、屈折率と波長分散の異なる材料を組み合わせた波長選択性回折素子が提案されているが、青色LD用途に関する樹脂材料は具体的に記載されていない。屈折率や波長分散を制御する上で、芳香族、例えば、フェニル基は有用である。屈折率を高くする場合、フェニル基の数を増やせばよいが、耐光性が悪くなる傾向がある。また、耐光性を優先するとフェニル基の数は少ない方がよく、屈折率は高くできない問題がある。   In particular, in order to increase the capacity of an optical disk, the wavelength is changed from a DVD (Digital Versatile Disc) method to a BD (Blu-ray Disc) method using a blue semiconductor laser having a shorter wavelength (hereinafter also referred to as a blue LD) as a light source. Since it is close to the ultraviolet region at around 405 nm, a resin material having excellent light resistance is required for the optical element for optical pickup. Patent Document 1 proposes a wavelength-selective diffraction element in which materials having different refractive indexes and wavelength dispersion are combined, but does not specifically describe a resin material for blue LD applications. In controlling the refractive index and wavelength dispersion, aromatics such as phenyl groups are useful. When increasing the refractive index, the number of phenyl groups may be increased, but the light resistance tends to deteriorate. In addition, when priority is given to light resistance, it is better that the number of phenyl groups is smaller, and there is a problem that the refractive index cannot be increased.

従来の高屈折率樹脂材料の例としては、フルオレン、テトラフェニルメタン、1,1,2,2−テトラフェニルエタンまたはビフェニルなどの骨格を持つ化合物が挙げられる(特許文献2および3参照。)。これらの化合物の耐光性を向上させるには、分子中の重合基の数を増やしたり、光安定化剤を添加したりすることが考えられる。しかしながら、こうした方法によっても十分な耐光性は得られず、さらなる向上が求められていた。   Examples of conventional high refractive index resin materials include compounds having a skeleton such as fluorene, tetraphenylmethane, 1,1,2,2-tetraphenylethane, or biphenyl (see Patent Documents 2 and 3). In order to improve the light resistance of these compounds, it is conceivable to increase the number of polymerization groups in the molecule or to add a light stabilizer. However, sufficient light resistance cannot be obtained even by such a method, and further improvement has been demanded.

特開2002−318306号公報JP 2002-318306 A 特開2004−315744号公報JP 2004-315744 A 特開2005−298665号公報JP 2005-298665 A

一般に、高屈折率性と高耐光性とは相反する傾向にあり、屈折率の高い化合物では耐光性が悪くなり、耐光性のよい化合物では屈折率が低くなる。したがって、十分に高屈折率性と高耐光性とを両立する化合物は、これまで見出されていなかった。   In general, high refractive index properties and high light resistance tend to conflict with each other. A compound with a high refractive index has poor light resistance, and a compound with good light resistance has a low refractive index. Therefore, a compound that has both sufficiently high refractive index and high light resistance has not been found so far.

本発明は、こうした点に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、高屈折率性と高耐光性とを両立可能な重合性化合物と、これを含む光硬化性組成物とを提供することにある。
また、本発明の別の目的は、その重合性化合物を硬化してなる光学用樹脂材料を用いた光学素子ならびにこれを用いた光ヘッド装置とを提供することにある。
The present invention has been made in view of these points. That is, an object of the present invention is to provide a polymerizable compound capable of achieving both high refractive index and high light resistance, and a photocurable composition containing the polymerizable compound.
Another object of the present invention is to provide an optical element using an optical resin material obtained by curing the polymerizable compound, and an optical head device using the optical element.

本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。   Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

本発明の第1の形態は、ゲルマニウムと4つの基A〜Aが直接または酸素を介して結合した下記式(1)で表されることを特徴とする重合性化合物に関する。

Figure 2011094080
(式(1)において、A、A、AおよびAは、夫々独立して−(O)−Xであり、
4個のmは、夫々独立して0または1を表し、
4個のXは、少なくとも3個のXは夫々独立して、フェニル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルフェニル基およびフェニルシクロヘキシル基のいずれかの環基であり、環基が4個のときにはその環基はA〜Aの水素原子の内、合計して1〜4個が下記式(2)で表される置換基で置換されており、環基が3個のときには、4つ目の基AのXは、メチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基または下記式(2)で表される基のいずれかであり、かつ、その環基はA〜Aの水素原子及びAのXの内、合計して1〜4個が下記式(2)で表される置換基で置換されており、かつ、A〜Aで夫々独立してその環基の残りの水素原子の一部または全部の水素原子がメチル基、メトキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基に置換されていてもよく、4つ目の基AのXが、メチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基の場合には、その水素原子の一部または全部の水素原子がフッ素原子に置換されていてもよく、
Figure 2011094080
式(2)において、Rは、水素原子またはメチル基を表し、
Yは、単結合または炭素数1〜12のアルキレン基を表し、そのアルキレン基の一部または全部の水素原子がフッ素原子またはメチル基に置換されていてもよく、そのアルキレン基の一部の炭素原子が、ケイ素原子またはゲルマニウム原子同士が隣接しない範囲内でケイ素原子またはゲルマニウム原子に置換されていてもよく、そのアルキレン基の隣接する炭素−炭素結合の間または環基と結合する末端に酸素原子を有していてもよい。) A first aspect of the present invention relates to a polymerizable compound characterized by being represented by the following formula (1) in which germanium and four groups A 1 to A 4 are bonded directly or via oxygen.
Figure 2011094080
(In the formula (1), A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are each independently — (O) m —X;
4 m's independently represent 0 or 1,
Four Xs are each independently a cyclic group of any one of a phenyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexylphenyl group, and a phenylcyclohexyl group. When there are four cyclic groups, the cyclic group is A total of 1-4 of the hydrogen atoms of A 1 to A 4 are substituted with a substituent represented by the following formula (2), and when there are three ring groups, the fourth group A X in 4 is any one of a methyl group, an iso-propyl group, a tert-butyl group or a group represented by the following formula (2), and the cyclic group is a hydrogen atom of A 1 to A 3 and A of the 4 X, 1 to 4 pieces in total are substituted with a substituent represented by the following formula (2), and the remaining hydrogen in the ring group each independently with a 1 to a 4 Some or all of the hydrogen atoms are methyl, methoxy, fluorine, trifluoro May be substituted by a methyl group or a trifluoromethoxy group, fourth X groups A 4 is methyl group, iso- propyl group, in the case of tert- butyl group, or part of the hydrogen atoms All hydrogen atoms may be replaced by fluorine atoms,
Figure 2011094080
In the formula (2), R represents a hydrogen atom or a methyl group,
Y represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a part or all of the hydrogen atoms of the alkylene group may be substituted with a fluorine atom or a methyl group. The atom may be substituted with a silicon atom or a germanium atom within a range in which the silicon atom or the germanium atom is not adjacent to each other, and the oxygen atom is located between the adjacent carbon-carbon bonds of the alkylene group or at the terminal bonded to the ring group. You may have. )

本発明の第1の態様において、Xは、置換基を有していてもよいフェニル基であることが好ましい。   In the first aspect of the present invention, X is preferably a phenyl group which may have a substituent.

本発明の第1の態様において、Yは、水素原子の一部または全部の水素原子がフッ素原子に置換されてもよい炭素数が2〜12のアルキレン基または炭素数が2〜12のアルキレンオキシ基であることが好ましい。   In the first embodiment of the present invention, Y is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms or alkyleneoxy having 2 to 12 carbon atoms, wherein some or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. It is preferably a group.

本発明の第1の態様において、上記式(1)で表される化合物における上記式(2)で表される置換基の数の総和が1または2であることが好ましい。   1st aspect of this invention WHEREIN: It is preferable that the sum total of the number of the substituents represented by the said Formula (2) in the compound represented by the said Formula (1) is 1 or 2.

本発明の第1の態様において、A〜Aの全てにおいて、その環基が置換基を有していてもよいフェニル基であり、かつmが0であることが好ましい。 In the first aspect of the present invention, in all of A 1 to A 4 , the cyclic group is preferably a phenyl group which may have a substituent, and m is preferably 0.

本発明の第2の態様は、本発明の第1の態様の重合性化合物を含むことを特徴とする光硬化性組成物に関する。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a photocurable composition comprising the polymerizable compound according to the first aspect of the present invention.

本発明の第3の態様は、本発明の第2の態様の光硬化性組成物を硬化してなる樹脂材料を用いたことを特徴とする光学素子に関する。   A third aspect of the present invention relates to an optical element using a resin material obtained by curing the photocurable composition of the second aspect of the present invention.

本発明の第4の態様は、本発明に第3の態様の光学素子を用いてなることを特徴とする光ヘッド装置に関する。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an optical head device comprising the optical element according to the third aspect of the present invention.

本発明の第1の形態によれば、組成物に含有されて、それを硬化することにより、高屈折率性と耐光性とを兼ね備えた樹脂を提供することの可能な重合性化合物を提供することができる。   According to the first aspect of the present invention, there is provided a polymerizable compound capable of providing a resin having both high refractive index and light resistance by being contained in a composition and curing it. be able to.

本発明の第2の形態によれば、本発明の重合性化合物を用いた光硬化性組成物を作製することができ、この組成物を硬化することにより、高屈折率性と高耐光性とを両立可能な樹脂材料の提供が可能となる。   According to the 2nd form of this invention, the photocurable composition using the polymeric compound of this invention can be produced, and high refractive index property and high light resistance can be obtained by hardening | curing this composition. It is possible to provide a resin material that can satisfy both requirements.

本発明の第3の形態によれば、本発明の光硬化性組成物を硬化してなる樹脂材料を用いた耐光性の良好な光学素子を提供することができる。
本発明の第4の形態によれば、大容量化に適した光ヘッド装置を提供することができる。
According to the 3rd form of this invention, the optical element with favorable light resistance using the resin material formed by hardening | curing the photocurable composition of this invention can be provided.
According to the fourth aspect of the present invention, an optical head device suitable for increasing the capacity can be provided.

本発明の実施形態の波長選択性回折素子の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the wavelength selective diffraction element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の波長選択性回折素子の別の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows another example of the wavelength selective diffraction element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の波長選択性回折素子の他の例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the other example of the wavelength selective diffraction element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の光ヘッド装置の構成図である。It is a block diagram of the optical head apparatus of embodiment of this invention.

本発明者は、鋭意研究した結果、式(1)に示すゲルマニウム誘導体重合性化合物を用いることにより、高屈折率性と高耐光性を兼ね備えた樹脂材料が得られることを見出した。この材料を用いることにより、耐光性の良好な光学素子および大容量化に適した光ヘッド装置を提供することができる。
以下、本発明の実施形態を詳細に説明する。

Figure 2011094080
As a result of intensive studies, the present inventors have found that a resin material having both high refractive index and high light resistance can be obtained by using a germanium derivative polymerizable compound represented by the formula (1). By using this material, it is possible to provide an optical element with good light resistance and an optical head device suitable for increasing the capacity.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
Figure 2011094080

本発明の実施形態の重合性化合物は、式(1)に示すゲルマニウムと4つの基A〜Aが直接または酸素を介して結合した構造を有する重合性の化合物である。 The polymerizable compound of the embodiment of the present invention is a polymerizable compound having a structure in which germanium represented by the formula (1) and four groups A 1 to A 4 are bonded directly or through oxygen.

式(1)において、A、A、AおよびAは、夫々独立して−(O)−Xである。このとき、4個のmは、夫々独立して0または1を表す。 In the formula (1), A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are each independently — (O) m —X. At this time, four m's independently represent 0 or 1.

そして、4個のXは、少なくとも3個のXは夫々独立して、フェニル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルフェニル基およびフェニルシクロヘキシル基のいずれかの環基であり、環基が4個のときにはその環基はA〜Aの水素原子の内、合計して1〜4個が下記式(2)で表される置換基で置換されており、環基が3個のときには、4つ目の基AのXは、メチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基または下記式(2)で表される基のいずれかであり、かつ、その環基はA〜Aの水素原子及びAのXの内、合計して1〜4個が下記式(2)で表される置換基で置換されており、かつ、A〜Aで夫々独立してその環基の残りの水素原子の一部または全部の水素原子がメチル基、メトキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基に置換されていてもよく、4つ目の基AのXが、メチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基の場合には、その水素原子の一部または全部の水素原子がフッ素原子に置換されていてもよい。

Figure 2011094080
The four Xs are each independently a cyclic group of a phenyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexylphenyl group, and a phenylcyclohexyl group, and when there are four cyclic groups, the ring A total of 1 to 4 of the hydrogen atoms of A 1 to A 4 are substituted with a substituent represented by the following formula (2). When the number of ring groups is 3, the fourth group X groups a 4 is methyl, iso- propyl, tert- butyl group or the following formula (2) is any of the groups represented by, and the cyclic group is a hydrogen atom a 1 to a 3 And a total of 1-4 of X in A 4 are substituted with a substituent represented by the following formula (2), and each of A 1 to A 4 independently represents the rest of the cyclic group. Some or all of the hydrogen atoms of are methyl, methoxy, fluorine, Fluoromethyl group or may be substituted by trifluoromethoxy group, X of the fourth group A 4 is methyl group, iso- propyl group, in the case of tert- butyl group, a part of the hydrogen atoms Alternatively, all hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms.
Figure 2011094080

このとき、式(2)において、Rは、水素原子またはメチル基を表す。   At this time, in Formula (2), R represents a hydrogen atom or a methyl group.

そして、Yは、単結合または炭素数1〜12のアルキレン基を表し、そのアルキレン基の一部または全部の水素原子がフッ素原子またはメチル基に置換されていてもよく、そのアルキレン基の一部の炭素原子が、ケイ素原子またはゲルマニウム原子同士が隣接しない範囲内でケイ素原子またはゲルマニウム原子に置換されていてもよく、そのアルキレン基の隣接する炭素−炭素結合の間または環基と結合する末端に酸素原子を有していてもよい。また、式(2)の基が複数ある場合には、上記のRおよびYについては同じであってもよいし、それぞれ上記の範囲の中で異なっていてもよい。   Y represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a part or all of hydrogen atoms of the alkylene group may be substituted with a fluorine atom or a methyl group, and part of the alkylene group Carbon atoms may be substituted with silicon atoms or germanium atoms within a range in which silicon atoms or germanium atoms are not adjacent to each other, and between the adjacent carbon-carbon bonds of the alkylene group or at the terminal bonded to the ring group. It may have an oxygen atom. In addition, when there are a plurality of groups of the formula (2), the above R and Y may be the same or different within the above ranges.

本発明では、A〜Aは、1個〜4個の式(2)の置換基を有する。A〜Aの各々は、0〜3個の式(2)の置換基を有していてもよく、A〜Aの少なくとも1つには、式(2)の置換基を有することになる。架橋密度が高くなると、耐光性が改善される傾向があるが、フェニル基の密度が低下して屈折率が低下するため、本発明では、この式(2)の置換基の数は1個〜4個とされる。特に、1個〜2個とすることが特に好ましい。 In the present invention, A 1 to A 4 have 1 to 4 substituents of the formula (2). Each of A 1 to A 4 may have 0 to 3 substituents of the formula (2), and at least one of A 1 to A 4 has the substituent of the formula (2) It will be. When the crosslinking density is increased, the light resistance tends to be improved. However, since the density of the phenyl group is decreased and the refractive index is decreased, in the present invention, the number of substituents of the formula (2) is 1 to Four. In particular, it is particularly preferably 1 to 2.

本発明の重合性化合物において好ましい形態の1つは、A〜AのXにおける環基が全てフェニル基であることが好ましい。特に、A〜AのXが全て環基であり、その環基がフェニル基である下記式(3)に示す構造であることが好ましい。すなわち、式(1)において、A〜Aは、後に説明するように高屈折率を得やすいことから、フェニル基であることが好ましい。なお、Z〜Zは、式(2)の置換基である。

Figure 2011094080
In one preferred form of the polymerizable compound of the present invention, it is preferable that all of the ring groups in X of A 1 to A 4 are phenyl groups. In particular, it is preferable that X in A 1 to A 4 is a ring group, and the ring group is a phenyl group, and has a structure represented by the following formula (3). That is, in the formula (1), A 1 to A 4 are preferably phenyl groups because a high refractive index can be easily obtained as will be described later. Z 1 to Z 4 are substituents of the formula (2).
Figure 2011094080

また、本発明では、Aが環基でないケースがある。このため、本発明の重合性化合物において好ましい形態の2つ目は、下記式(4)に示す構造の化合物である。すなわち、式(1)において、A〜Aがフェニル基であり、残りの1個のAのXは、メチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基または式(2)で表される置換基のいずれかである。なお、Z〜Zは、式(2)の置換基である。

Figure 2011094080
In the present invention, there is a case where A 4 is not a cyclic group. For this reason, the 2nd preferable form in the polymeric compound of this invention is a compound of the structure shown to following formula (4). That is, in the formula (1), A 1 to A 3 are phenyl groups, and X of the remaining one A 4 is represented by a methyl group, an iso-propyl group, a tert-butyl group or the formula (2). Any one of the substituents. Z 1 to Z 4 are substituents of the formula (2).
Figure 2011094080

式(3)及び式(4)中、Z〜Zと置換した残りのフェニル基中の水素原子は一部または全部の水素原子がメチル基、メトキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基に置換されていてもよい。例えば、紫外波長域での透過率が高くできることから、フッ素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基で置換されていてもよく、融点が低くできることから、メチル基またはメトキシ基で置換されていてもよい。これらは、目的に応じて種々選択し得る。但し、置換によって屈折率が低下するので、高い屈折率を得るには水素原子とすることが好ましい。 In the formula (3) and formula (4), the hydrogen atoms in the remaining phenyl groups substituted with Z 1 to Z 4 are part or all of the hydrogen atoms are methyl groups, methoxy groups, fluorine atoms, trifluoromethyl groups or It may be substituted with a trifluoromethoxy group. For example, since the transmittance in the ultraviolet wavelength region can be increased, it may be substituted with a fluorine atom, a trifluoromethyl group or a trifluoromethoxy group, and since the melting point can be lowered, it is substituted with a methyl group or a methoxy group. Also good. These can be variously selected according to the purpose. However, since the refractive index is lowered by substitution, it is preferable to use a hydrogen atom in order to obtain a high refractive index.

式(2)の置換基は、下記式(5)で表される置換基であることが好ましい。

Figure 2011094080
The substituent of formula (2) is preferably a substituent represented by the following formula (5).
Figure 2011094080

式(5)において、Rは、水素原子またはメチル基を表す。また、Yは、単結合またはC2pで表されるアルキレン基(但し、pは1から12までの整数)、C2qOで表されるアルキレンオキシ基(但し、qは1から12までの整数)、(CHCHO)で表されるエチレンオキシ基を繰り返し単位で含む基(但し、rは1から6までの整数)、(CHCH(CH)O)で表されるプロピレンオキシ基を繰り返し単位で含む基(但し、sは1から4までの整数)を表す。
ここで、これらの基の炭素原子の一部をケイ素原子またはゲルマニウム原子に置換していてもよい。この場合、ケイ素原子またはゲルマニウム原子同士が直接結合していると、不安定になりやすいので、好ましくない。また、高融点を避けるため、ケイ素原子またはゲルマニウム原子に結合する水素原子はメチル基に置換されていることが好ましい。
また、式(2)または式(5)の置換基が、環基に結合する置換基ではなく、Xである場合には、ゲルマニウム原子に結合するAが酸素原子を介して結合することは不安定になりやすいので、mは0であることが好ましい。
In the formula (5), R represents a hydrogen atom or a methyl group. Y 1 represents a single bond or an alkylene group represented by C p H 2p (where p is an integer from 1 to 12), an alkyleneoxy group represented by C q H 2q O (where q is 1) To 12), a group containing an ethyleneoxy group represented by (CH 2 CH 2 O) r as a repeating unit (where r is an integer from 1 to 6), (CH 2 CH (CH 3 ) O ) A group containing a propyleneoxy group represented by s as a repeating unit (wherein s is an integer from 1 to 4).
Here, a part of carbon atoms of these groups may be substituted with silicon atoms or germanium atoms. In this case, it is not preferable that silicon atoms or germanium atoms are directly bonded to each other because they are likely to be unstable. In order to avoid a high melting point, it is preferable that a hydrogen atom bonded to a silicon atom or a germanium atom is substituted with a methyl group.
In addition, when the substituent of formula (2) or formula (5) is not a substituent bonded to a ring group but X, A 4 bonded to a germanium atom is bonded via an oxygen atom. M is preferably 0 because it tends to be unstable.

このとき、屈折率を調整するために、式(2)または式(5)における基中の水素原子の一部または全てをハロゲン原子、フェニル基またはシクロヘキシル基などで置換してもよい。例えば、大きな波長分散を維持しつつ屈折率を下げる場合には水素原子をフッ素原子にすることができる。また、Yがアルキレン基の場合、耐光性をより高くするためにフェニル基と結合する炭素上の水素原子はメチル基に置換されていてもよい。これらのなかでも屈折率が高いこと、耐光性に優れることの両バランスに優れることから水素原子とすることが好ましい。 At this time, in order to adjust the refractive index, part or all of the hydrogen atoms in the group in the formula (2) or the formula (5) may be substituted with a halogen atom, a phenyl group, a cyclohexyl group, or the like. For example, when lowering the refractive index while maintaining large wavelength dispersion, the hydrogen atom can be changed to a fluorine atom. When Y 1 is an alkylene group, the hydrogen atom on the carbon bonded to the phenyl group may be substituted with a methyl group in order to increase the light resistance. Among these, it is preferable to use a hydrogen atom because it has both a high refractive index and an excellent balance of light resistance.

はその分子長が短い場合は、重合性基の転化率が低い場合があることから、単結合以外の上記基が好ましい。また、p、q、r及びsは、大き過ぎると屈折率が小さくなることから、pおよびqは各々1から6、また、rおよびsは各々1から2であることが更に好ましい。 When Y 1 has a short molecular length, the conversion rate of the polymerizable group may be low, and thus the above groups other than a single bond are preferable. Further, if p, q, r, and s are too large, the refractive index becomes small. Therefore, it is more preferable that p and q are each 1 to 6, and r and s are 1 to 2, respectively.

式(3)において、a、b、c、dは、それぞれ独立に0〜3の整数であり、少なくとも1つは1以上であって、同時にゼロとなることはない。架橋密度が高くなると、耐光性が改善される場合がある一方で、Z、Z、Z、Zの数が多過ぎると、フェニル基の密度が低下して屈折率が低下するため、a、b、c、dの総和(a+b+c+d)は4以下であり、1または2であることが特に好ましい。 In the formula (3), a, b, c, and d are each independently an integer of 0 to 3, and at least one is 1 or more and does not simultaneously become zero. When the crosslink density is increased, light resistance may be improved. On the other hand, when the number of Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 is too large, the density of the phenyl group is decreased and the refractive index is decreased. , A, b, c and d (a + b + c + d) is 4 or less, particularly preferably 1 or 2.

式(4)においては、AのXが式(2)または式(5)の置換基の場合には、a、b、cは、それぞれ独立に0〜3の整数であり、a、b、cの総和(a+b+c)は3以下となる。また、AのXが式(2)または式(5)の置換基でない場合には、a、b、cは、それぞれ独立に0〜3の整数であり、少なくとも1つは1以上であって、同時にゼロとなることはない。a、b、cの総和(a+b+c)は3以下となる。いずれの場合も、化合物としての式(2)または式(5)の置換基の数の合計は、1または2であることが特に好ましい。 In Formula (4), when X of A 4 is a substituent of Formula (2) or Formula (5), a, b and c are each independently an integer of 0 to 3; , C is 3 or less (a + b + c). Further, when X of A 4 is not a substituent of formula (2) or formula (5), a, b and c are each independently an integer of 0 to 3, and at least one is 1 or more. At the same time. The sum (a + b + c) of a, b, and c is 3 or less. In any case, the total number of substituents of formula (2) or formula (5) as the compound is particularly preferably 1 or 2.

本実施の形態の重合性化合物は、式(3)で示されるように、4つのフェニル基を有する化合物が好ましいが、そのフェニル基については、高い屈折率を得るために、分極率の大きなフェニル基が特に好ましく用いられる。   The polymerizable compound of the present embodiment is preferably a compound having four phenyl groups, as shown by the formula (3), but the phenyl group has a high polarizability in order to obtain a high refractive index. The group is particularly preferably used.

尚、シクロヘキシルフェニル基およびフェニルシクロヘキシル基もフェニル基が含まれる点では好ましいが、フェニル基の密度が下がり屈折率が低下するため、シクロヘキシル基を有しないフェニル基であることが特に好ましい。さらに、有するフェニル基の数に従い屈折率を高くできること、そして、結合可能な最大数が4つであることから、式(3)に示す化合物は好ましい。   A cyclohexylphenyl group and a phenylcyclohexyl group are also preferable in that a phenyl group is included, but a phenyl group having no cyclohexyl group is particularly preferable because the density of the phenyl group decreases and the refractive index decreases. Furthermore, the compound represented by the formula (3) is preferable because the refractive index can be increased according to the number of phenyl groups and the maximum number of bonds is four.

本発明の実施形態の重合性化合物は、ゲルマニウムにフェニル基が結合した構造を有する。青色LD波長帯において耐光性に優れること、すなわち、フェニル基との結合において、炭素とゲルマニウムを比較すると、耐光性はゲルマニウムの方が優れていることを我々は見出した。このような事実は従来知られていなかった。これより、フェニル基の数を最大4つまで増やし高い屈折率を得る一方で、それらフェニル基に結合する元素としてゲルマニウムを用いることで耐光性に優れる化合物ならびに樹脂材料をえることができる。   The polymerizable compound according to the embodiment of the present invention has a structure in which a phenyl group is bonded to germanium. We have found that light resistance in the blue LD wavelength band is superior, that is, germanium is superior in light resistance in comparison with carbon and germanium in the bond with the phenyl group. Such a fact has not been known so far. From this, while increasing the number of phenyl groups up to four and obtaining a high refractive index, the compound and resin material which are excellent in light resistance can be obtained by using germanium as an element couple | bonded with these phenyl groups.

また、本発明の化合物は式(2)、式(5)において、Rは、水素原子またはメチル基である。したがって、重合性基は、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基となる。(メタ)アクリロイルオキシ基は、光重合反応が可能であり、硬化時間が短くて生産性に優れている。また、既知の安定化剤、例えば、フェノール系酸化防止剤やヒンダードアミン系光安定化剤などを用いた安定化が可能であり、使用可能な安定化剤の制約も少ない。したがって、(メタ)アクリロイルオキシ基を重合性基として用いることにより、安定化剤を利用したさらなる耐光性の向上を図ることができる。尚、重合速度が速いことから、アクリロイルオキシ基を重合性基として用いることが好ましい。すなわち、式(2)、式(5)において、Rは水素原子とすることが好ましい。   In the compounds of the present invention, in the formulas (2) and (5), R is a hydrogen atom or a methyl group. Accordingly, the polymerizable group becomes an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group. The (meth) acryloyloxy group can undergo a photopolymerization reaction, has a short curing time, and is excellent in productivity. In addition, stabilization using known stabilizers such as phenolic antioxidants and hindered amine light stabilizers is possible, and there are few restrictions on usable stabilizers. Therefore, by using a (meth) acryloyloxy group as a polymerizable group, it is possible to further improve light resistance using a stabilizer. In addition, since the polymerization rate is fast, it is preferable to use an acryloyloxy group as a polymerizable group. That is, in Formula (2) and Formula (5), R is preferably a hydrogen atom.

本実施形態の重合性化合物を用いることにより、高屈折率性と高耐光性を兼ね備えた樹脂材料を得ることができる。   By using the polymerizable compound of the present embodiment, a resin material having both high refractive index and high light resistance can be obtained.

さらに本発明においては、本発明の重合性化合物を含む重合性の組成物を提供することが可能である。この組成物に含まれる重合性化合物は、式(1)の化合物が単一であってもよく、複数であってもよい。特に、上述した実施形態の式(3)の化合物は、高屈折率性と高耐光性とを併せ持つ化合物であり、そのような性質が好ましいとして用いられるが、一方、融点の低い化合物として、式(4)の化合物を用いることもできる。尚、本実施形態の重合性の組成物は、式(1)以外の重合性化合物を含んでいてもよい。   Furthermore, in this invention, it is possible to provide the polymeric composition containing the polymeric compound of this invention. The polymerizable compound contained in this composition may be a single compound or a plurality of compounds of the formula (1). In particular, the compound of the formula (3) in the above-described embodiment is a compound having both high refractive index and high light resistance, and such properties are preferably used. On the other hand, as a compound having a low melting point, The compound of (4) can also be used. In addition, the polymerizable composition of this embodiment may contain polymerizable compounds other than the formula (1).

式(1)以外の重合性化合物は、融点、粘度または屈折率などの調整目的に応じて適宜選定すればよく、特に限定されるものではない。組成物中の重合性化合物に含まれる式(1)の化合物の割合は、10mol%以上とすることが好ましい。これにより、屈折率が高く、耐光性にも優れた樹脂が得られる。   The polymerizable compound other than the formula (1) may be appropriately selected depending on the purpose of adjustment such as the melting point, the viscosity, or the refractive index, and is not particularly limited. The proportion of the compound of formula (1) contained in the polymerizable compound in the composition is preferably 10 mol% or more. Thereby, a resin having a high refractive index and excellent light resistance can be obtained.

本実施形態の重合性の組成物は、重合反応に用いる反応開始剤を含んでいてもよい。ここで、重合反応としては、光重合反応や熱重合反応などが挙げられる。そして、周辺部材への熱的影響を考慮しないで済む光重合反応の方が好ましい。光重合反応に用いる光線としては、紫外線または可視光線が挙げられるが、重合速度が速いことから紫外線が好ましい。   The polymerizable composition of this embodiment may contain a reaction initiator used for the polymerization reaction. Here, examples of the polymerization reaction include a photopolymerization reaction and a thermal polymerization reaction. And the photopolymerization reaction which does not consider the thermal influence on a peripheral member is more preferable. Examples of light used for the photopolymerization reaction include ultraviolet light and visible light, and ultraviolet light is preferred because of its high polymerization rate.

光重合開始剤としては、既知の材料を用いることができ、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾイン類、ベンジル類、ミヒラーケトン類、ベンゾインアルキルエーテル類およびベンジルジメチルケタール類から1種または2種以上を適宜選択して使用することができる。光重合開始剤の量は、組成物の総量に対して、0.1質量%〜5質量%とすることが好ましく、0.3質量%〜2質量%とすることが特に好ましい。   As the photopolymerization initiator, known materials can be used. For example, one or more of acetophenones, benzophenones, benzoins, benzyls, Michler ketones, benzoin alkyl ethers, and benzyl dimethyl ketals are used. It can be appropriately selected and used. The amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1% by mass to 5% by mass and particularly preferably 0.3% by mass to 2% by mass with respect to the total amount of the composition.

本実施形態の組成物に添加可能な他の成分としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤および光安定化剤など安定化剤が挙げられる。これらの添加量は、組成物の総量に対して、5質量%以下であることが好ましく、2質量%以下であることが特に好ましい。   Examples of other components that can be added to the composition of the present embodiment include stabilizers such as ultraviolet absorbers, antioxidants, and light stabilizers. These addition amounts are preferably 5% by mass or less, particularly preferably 2% by mass or less, based on the total amount of the composition.

本実施の形態の組成物には、有機溶剤が含まれていても構わないが、希釈を目的とする場合には、有機溶剤でなく低粘性の重合性化合物を用いる方が好ましい。また、取り扱いを容易にするには、熱重合しない範囲で加熱し、粘度を下げて用いるのがよい。   The composition of the present embodiment may contain an organic solvent. However, for the purpose of dilution, it is preferable to use a low-viscosity polymerizable compound instead of the organic solvent. Further, in order to facilitate handling, it is preferable to use within a range in which thermal polymerization does not occur and lower the viscosity.

以上述べたように、本発明の重合性化合物を含む組成物を硬化させることにより、特に光硬化性組成物を光硬化させることにより、高屈折率性と高耐光性を兼ね備えた樹脂材料を得ることができる。   As described above, by curing the composition containing the polymerizable compound of the present invention, particularly by photocuring the photocurable composition, a resin material having both high refractive index and high light resistance is obtained. be able to.

さらに、本発明においては、本発明の重合性化合物を含む重合性の組成物を硬化してなる樹脂材料を用いた光学素子を提供することが可能である。   Furthermore, in this invention, it is possible to provide the optical element using the resin material formed by hardening | curing polymeric composition containing the polymeric compound of this invention.

本発明の重合性化合物を用いて屈折率の高い樹脂を得ることができ、波長589nmの屈折率が、1.55以上必要とされる用途において好ましく用いることができる。従来は、屈折率1.55以上で耐光性に優れる光学樹脂材料はなく、耐光性を優先した場合、屈折率が1.55以上となる光学樹脂材料はなかった。また、本発明の化合物を用いた樹脂材料は屈折率が高い場合、屈折率の波長分散が大きくできることから、そのような用途においても好ましく用いられる。   A resin having a high refractive index can be obtained using the polymerizable compound of the present invention, and can be preferably used in applications where a refractive index of a wavelength of 589 nm is required to be 1.55 or more. Conventionally, there is no optical resin material having a refractive index of 1.55 or more and excellent light resistance, and when priority is given to light resistance, no optical resin material has a refractive index of 1.55 or more. Further, when the refractive index of the resin material using the compound of the present invention is high, the wavelength dispersion of the refractive index can be increased, so that it is also preferably used in such applications.

例えば、特開平11−211905号公報記載の偏光ホログラム素子において、凸状または凹状の形状をした高分子液晶の常光屈折率や異常光屈折率に対し、そのいずれかと屈折率を一致させた光学的等方性媒質が必要であるが、その等方性媒質として本発明による樹脂材料を用いることができる。   For example, in the polarization hologram element described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-2111905, an optical index in which the refractive index is matched with one of the ordinary light refractive index and the extraordinary light refractive index of a polymer liquid crystal having a convex or concave shape. An isotropic medium is required, and the resin material according to the present invention can be used as the isotropic medium.

また、その他の例として、本発明の樹脂材料を用いた波長選択性回折素子について説明する。以下、入射する光の波長をλと波長λ(λ<λ)とする。 As another example, a wavelength selective diffraction element using the resin material of the present invention will be described. Hereinafter, the wavelength of incident light is assumed to be λ 1 and wavelength λ 212 ).

図1は、本発明の実施形態の波長選択性回折素子の第1の態様を示す模式的な横断面図である。そして、図1(a)は、波長λの光が波長選択性回折素子1Aに入射したときの作用を示す模式的な横断面図であり、図1(b)は、波長λの光が波長選択性回折素子1Aに入射したときの作用を示す模式的な横断面図である。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a first aspect of a wavelength selective diffraction element according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A is a schematic cross-sectional view showing an operation when light having a wavelength λ 1 is incident on the wavelength selective diffraction element 1A, and FIG. 1B is a diagram showing light having a wavelength λ 2 . It is a typical cross-sectional view which shows an effect | action when enters into the wavelength selective diffraction element 1A.

図1に示す波長選択性回折素子1Aは、格子の凹凸部である回折格子12A(凹凸部材からなる)を表面に形成している透明基板11Aと、その間に充填される充填部材13Aとを備える回折素子であり、透明基板14Aで充填部材13Aが保護されている(図1(a)では波長λの光が入射する様子を示し、図1(b)では波長λの光が入射する様子を示す)。波長λの光に対しては回折格子12Aと充填部材13Aの屈折率が等しく、波長λの光に対しては回折格子12Aと充填部材13Aの屈折率が異なっている。 A wavelength selective diffraction element 1A shown in FIG. 1 includes a transparent substrate 11A on the surface of which a diffraction grating 12A (consisting of a concavo-convex member), which is a concavo-convex portion of the grating, and a filling member 13A filled therebetween. It is a diffraction element, and the filling member 13A is protected by the transparent substrate 14A (FIG. 1A shows a state in which light having a wavelength λ 1 is incident, and FIG. 1B illustrates a case in which light having a wavelength λ 2 is incident. Show the situation). Wavelength lambda equal refractive index of the diffraction grating 12A filling member 13A with respect to the first light, the refractive index of the diffraction grating 12A and the filler member 13A is different for the wavelength lambda 2 of light.

すなわち、回折格子12A(凹凸部材からなる)と充填部材13Aとの波長λの光に対する屈折率をそれぞれn12A(λ)、n13A(λ)とし、λの光に対する屈折率をそれぞれn12A(λ)、n13A(λ)とし、波長λに対してn12A(λ)=n13A(λ)、波長λに対してn12A(λ)>n13A(λ)>0となるようにする。 That is, the refractive indices of the diffraction grating 12A (consisting of the concavo-convex member) and the filling member 13A with respect to light of wavelength λ 1 are n 12A1 ) and n 13A1 ), respectively, and the refractive index of light with wavelength λ 2 is each n 12A (λ 2), and n 13A (λ 2), n 12A with respect to the wavelength λ 1 (λ 1) = n 13A (λ 1), n 12A with respect to the wavelength λ 2 2)> n 13A2 )> 0.

波長λの光が回折格子12Aを通過するときには、屈折率が等しいため、図1(a)に示すように、回折格子の機能は発生せず直進透過する。一方、波長λの光が透過するときには、屈折率が異なるため回折格子として機能し、図1(b)に示すように、回折格子12Aの高さdと格子形状により回折効率を変化させることができ、また回折格子12Aの格子ピッチを変化させることにより回折角度を変化させることができる。このように波長λの光に対してのみ回折の効果を有する波長選択性回折素子を実現することができる。 When the wavelength lambda 1 of the light passes through the diffraction grating 12A because the same refractive index, as shown in FIG. 1 (a), the function of the diffraction grating is straightly transmitted without generating. On the other hand, when light of wavelength λ 2 is transmitted, it functions as a diffraction grating because the refractive index is different. As shown in FIG. 1B, the diffraction efficiency is changed depending on the height d 1 of the diffraction grating 12A and the grating shape. The diffraction angle can be changed by changing the grating pitch of the diffraction grating 12A. Thus it is possible to realize a wavelength-selective diffraction element which has the effect of only the diffraction with respect to the wavelength lambda 2 of light.

ここで、吸収による透過損失が少ないことから、12Aおよび13Aのいずれの材料も波長λと波長λの範囲で正常分散を示すことが好ましく、n12A(λ)>n12A(λ)、n13A(λ)>n13A(λ)であるとする。すなわち、n12A(λ)=n13A(λ)>n12A(λ)>n13A(λ)の関係となり、13Aは12Aより波長分散が大きく(アッベ数が小さく)なるが、このような材料として本発明の実施形態である樹脂材料は好適に用いられる。 Here, since the transmission loss due to absorption is small, it is preferable that both the materials 12A and 13A exhibit normal dispersion in the wavelength λ 1 and wavelength λ 2 ranges, and n 12A1 )> n 12A2 ), N 13A1 )> n 13A2 ). That is, n 12A1 ) = n 13A1 )> n 12A2 )> n 13A2 ), and 13A has a larger chromatic dispersion (smaller Abbe number) than 12A. The resin material which is embodiment of this invention is used suitably as such a material.

次に、図2に示す波長選択性回折素子1Bについて説明する。図2は、本発明の実施形態の波長選択性回折素子の第2の態様を示す模式的な横断面図である。そして、図2(a)は、波長λの光が波長選択性回折素子1Bに入射したときの作用を示す模式的な横断面図であり、図2(b)は、波長λの光が波長選択性回折素子1Bに入射したときの作用を示す模式的な横断面図である。 Next, the wavelength selective diffraction element 1B shown in FIG. 2 will be described. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a second aspect of the wavelength selective diffraction element according to the embodiment of the present invention. FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing an operation when light having a wavelength λ 1 is incident on the wavelength selective diffraction element 1B, and FIG. 2B is a diagram showing light having a wavelength λ 2 . It is a typical cross-sectional view which shows an effect | action when is incident on the wavelength selective diffraction element 1B.

波長選択性回折素子1Bは、凹凸部材からなる回折格子12Bを表面に形成している透明基板11Bと、その間に充填される充填部材13Bとを備える回折素子である。波長λの光に対しては回折格子12Bと充填部材13Bの屈折率が異なり、波長λの光に対しては回折格子12Bと充填部材13Bの屈折率が等しい。11B、14Bなど11A、14Aとはアルファベットは異なっているが、同じ数字のものは図1と同じ構成要素を示し、透明基板である。 The wavelength-selective diffractive element 1B is a diffractive element including a transparent substrate 11B having a diffraction grating 12B made of a concavo-convex member formed on the surface and a filling member 13B filled therebetween. Different refractive index of the diffraction grating 12B and the filling member 13B with respect to the wavelength lambda 1 of the light, equal to the refractive index of the diffraction grating 12B and the filling member 13B with respect to the wavelength lambda 2 of light. Although 11A and 14A such as 11B and 14B have different alphabets, the same numerals indicate the same components as in FIG. 1 and are transparent substrates.

すなわち、回折格子12Bと充填部材13Bとの波長λの光に対する屈折率をそれぞれn12B(λ)、n13B(λ)とし、波長λの光に対する屈折率をそれぞれn12B(λ)、n13B(λ)とし、波長λに対してn13B(λ)>n12B(λ)>0、また波長λに対してn12B(λ)=n13B(λ)となるようにする。波長λの光に対しては回折の効果を有さず、波長λの光に対して回折の効果を有する。 That is, the refractive indexes of the diffraction grating 12B and the filling member 13B with respect to light of wavelength λ 1 are n 12B1 ) and n 13B1 ), respectively, and the refractive indexes of light with wavelength λ 2 are n 12B 2), and n 13B (λ 2), n 13B (λ 1 with respect to the wavelength λ 1)> n 12B (λ 1)> 0, also n 12B with respect to the wavelength λ 2 (λ 2) = n 13B ( λ 2 ). No effect of diffraction with respect to the wavelength lambda 2 of light, an effect of diffraction with respect to the wavelength lambda 1 of light.

回折格子12Bを波長λの光が通過するときには、波長選択性回折素子1Bは回折格子として機能し(図2(a))、格子ピッチの大きさに応じて特定の角度で回折される。直進光の透過効率と回折光の回折効率は、回折格子12Bの高さdや格子形状を変えることで変化できる。一方、波長λの光が通過するときは回折されることなく直進透過する(図2(b))。すなわち、波長λの光に対してのみ回折の効果を有する波長選択性回折素子を実現することができる。 When light having a wavelength λ 1 passes through the diffraction grating 12B, the wavelength selective diffraction element 1B functions as a diffraction grating (FIG. 2A), and is diffracted at a specific angle according to the size of the grating pitch. The diffraction efficiency of the transmission efficiency and the diffraction light of the rectilinear light can vary by changing the height d 2 and lattice shape of the diffraction grating 12B. Meanwhile, when the light of the wavelength lambda 2 passes is straightly transmitted without being diffracted (Figure 2 (b)). That is, it is possible to realize a wavelength-selective diffraction element which has the effect of only the diffraction with respect to the wavelength lambda 1 of light.

ここで、吸収による透過損失が少ないことから、12Bおよび13Bのいずれの材料も波長λと波長λの範囲で正常分散を示すことが好ましく、n12B(λ)>n12B(λ)、n13B(λ)>n13B(λ)であるとする。すなわち、n12B(λ)>n13B(λ)>n12B(λ)=n13B(λ)の関係となり、12Bは13Bより波長分散が大きく(アッベ数が小さく)なるが、このような材料として本発明の実施形態である樹脂材料は好適に用いられる。 Here, since transmission loss due to absorption is small, it is preferable that both the materials of 12B and 13B exhibit normal dispersion in the wavelength λ 1 and wavelength λ 2 ranges, and n 12B1 )> n 12B2 ), N 13B1 )> n 13B2 ). In other words, n 12B1 )> n 13B1 )> n 12B2 ) = n 13B2 ), and 12B has a larger chromatic dispersion (smaller Abbe number) than 13B. The resin material which is embodiment of this invention is used suitably as such a material.

次に図3に示す波長選択性回折素子1Cについて説明する。図3は、本発明の実施形態である波長選択性回折素子の第3の態様を示す模式的な横断面図である。そして、図3(a)は、波長λの光が波長選択性回折素子1Cに入射したときの作用を示す模式的な横断面図であり、図3(b)は、波長λの光が波長選択性回折素子1Cに入射したときの作用を示す模式的な横断面図である。 Next, the wavelength selective diffraction element 1C shown in FIG. 3 will be described. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a third aspect of the wavelength selective diffraction element according to the embodiment of the present invention. FIG. 3A is a schematic cross-sectional view showing the operation when light having a wavelength λ 1 is incident on the wavelength selective diffraction element 1C, and FIG. 3B is a diagram showing light having a wavelength λ 2 . It is a typical cross-sectional view which shows an effect | action when enters into the wavelength selective diffraction element 1C.

波長選択性回折素子1Cは、上述の波長選択性回折素子1Aと1Bを組み合わせたものである。波長選択性回折素子1Cは、回折格子12Cを表面に形成している透明基板11Cと、回折格子15Cを表面に形成している透明基板16Cとを備え、充填部材13Cと14Cとにより透明基板17Cが挟まれている積層構造を有する。すなわち、図3の透明基板11C、回折格子12C、充填部材13C、透明基板17Cが、図1における透明基板11A、回折格子12A、充填部材13A、透明基板14Aに相当する。また、図3の透明基板16C、回折格子15C、充填部材14C、透明基板17Cが、図2における透明基板11B、回折格子12B、充填部材13B、透明基板14Bに相当する。ここで、波長λの光に対しては回折格子12Cと充填部材13Cの屈折率が等しく、波長λの光に対しては回折格子12Cと充填部材13Cの屈折率が異なる。 The wavelength selective diffraction element 1C is a combination of the above-described wavelength selective diffraction elements 1A and 1B. The wavelength-selective diffractive element 1C includes a transparent substrate 11C having a diffraction grating 12C formed on the surface and a transparent substrate 16C having a diffraction grating 15C formed on the surface, and the transparent substrate 17C is formed by the filling members 13C and 14C. Has a laminated structure in which That is, the transparent substrate 11C, the diffraction grating 12C, the filling member 13C, and the transparent substrate 17C in FIG. 3 correspond to the transparent substrate 11A, the diffraction grating 12A, the filling member 13A, and the transparent substrate 14A in FIG. Further, the transparent substrate 16C, the diffraction grating 15C, the filling member 14C, and the transparent substrate 17C in FIG. 3 correspond to the transparent substrate 11B, the diffraction grating 12B, the filling member 13B, and the transparent substrate 14B in FIG. Here, with respect to the wavelength lambda 1 of the light equal to the refractive index of the diffraction grating 12C and the filling member 13C, the refractive index of the diffraction grating 12C filling member 13C with respect to the wavelength lambda 2 of light is different.

また、波長λの光に対しては回折格子15Cと充填部材14Cの屈折率が異なり、波長λの光に対しては回折格子15Cと充填部材14Cの屈折率が等しい。したがって、図3(a)が示す波長選択性回折素子1Cの上側の部分は図2(a)、下側の部分は図1(a)がそれぞれ示すように、波長λの光は回折格子15Cで回折され、回折格子12Cを透過し、15Cのみが回折格子として作用する。 Also, different refractive index of the diffraction grating 15C and the filling member 14C with respect to the wavelength lambda 1 of the light, equal to the refractive index of the diffraction grating 15C and the filling member 14C with respect to the wavelength lambda 2 of light. Accordingly, as shown in FIG. 2A for the upper portion of the wavelength selective diffraction element 1C shown in FIG. 3A and for the lower portion of FIG. 1A, the light of wavelength λ 1 is a diffraction grating. It is diffracted at 15C, passes through the diffraction grating 12C, and only 15C acts as a diffraction grating.

一方、図3(b)が示す波長選択性回折素子1Cの上側の部分は図2(b)、下側の部分は図1(b)がそれぞれ示すように、波長λの光は回折格子15Cを透過し、回折格子12Cで回折され、12Cのみが回折格子として作用する。したがって、ひとつの複合化された素子で2種の波長に対して、それぞれ独立に回折素子として機能する。 On the other hand, and FIG. 3 (b) the upper portion of the wavelength-selective diffraction element 1C shown is FIG. 2 (b), as shown FIG. 1 the lower part (b), respectively, light of the wavelength lambda 2 is diffracted grating The light passes through 15C and is diffracted by the diffraction grating 12C, and only 12C acts as the diffraction grating. Therefore, each composite element functions as a diffraction element independently for two types of wavelengths.

ここで、波長λおよび波長λがそれぞれBDで使用される405nm波長帯およびDVDで使用される660nm波長帯であるとする。図1において説明した関係にある場合には、405nm波長帯を透過し、660nm波長帯を回折する波長選択性回折素子を作製することができる。さらに、CD(Compact Disk)で使用される785nm波長帯は660nm波長帯と屈折率が近いことから、785nm波長帯においても回折する波長選択性回折素子を作製することができる。 Here, it is assumed that the wavelength λ 1 and the wavelength λ 2 are a 405 nm wavelength band used for BD and a 660 nm wavelength band used for DVD, respectively. In the case of the relationship described in FIG. 1, a wavelength selective diffraction element that transmits the 405 nm wavelength band and diffracts the 660 nm wavelength band can be manufactured. Furthermore, since the 785 nm wavelength band used in CD (Compact Disk) has a refractive index close to that of the 660 nm wavelength band, a wavelength selective diffraction element that diffracts even in the 785 nm wavelength band can be manufactured.

また、図2において説明した関係にある場合には、405nm波長帯を回折し、660nm波長帯を透過する波長選択性回折素子を作製することができる。さらに、785nm波長帯は660nm波長帯と屈折率が近いことから、785nm波長帯においても透過する波長選択性回折素子を作製することができる。   In the case of the relationship described in FIG. 2, a wavelength selective diffraction element that diffracts the 405 nm wavelength band and transmits the 660 nm wavelength band can be manufactured. Further, since the refractive index of the 785 nm wavelength band is close to that of the 660 nm wavelength band, a wavelength selective diffraction element that transmits light even in the 785 nm wavelength band can be manufactured.

以上説明した波長選択性回折素子においては、格子高さd、dまたは格子形状を変化させることで回折効率を変ることができるので、3ビーム発生用素子またはホログラムビームスプリッタとして、好適な効率が得られる格子高さを用いればよい。また、波長選択性回折素子の凹凸部をブレーズド格子形状またはマルチレベル構造の階段状格子形状にすることにより、特定の次数の回折効率を高めて用いてもよい。回折角度についても、所望の回折角度となるような格子ピッチとすればよく、これらは従来の3ビーム発生用素子やホログラムビームスプリッタに用いられている手法をそのまま、波長選択性回折素子に採用できる。 In the wavelength selective diffractive element described above, the diffraction efficiency can be changed by changing the grating height d 1 , d 2 or the grating shape, so that it is suitable as a three-beam generating element or a hologram beam splitter. It is sufficient to use a grid height that provides In addition, the concavo-convex portion of the wavelength selective diffractive element may be used in a blazed grating shape or a stepped grating shape having a multi-level structure to enhance the diffraction efficiency of a specific order. The diffraction angle may also be set to a grating pitch that achieves a desired diffraction angle, and these methods can be used for wavelength selective diffraction elements as they are, as they are for conventional three-beam generating elements and hologram beam splitters. .

また、特開2005−209327号公報記載のような波長選択の偏光ホログラム素子において、凸状または凹状の形状をしたコレステリック高分子液晶の円偏光に対する屈折率波長分散のうち、左右の円偏光のいずれかに対するものと一致させた光学的等方性媒質として、本発明による樹脂材料を用いることができる。   In addition, in the wavelength-selective polarization hologram element as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-209327, any one of the left and right circularly polarized light out of the refractive index wavelength dispersion of the cholesteric polymer liquid crystal having a convex or concave shape with respect to the circularly polarized light The resin material according to the present invention can be used as an optically isotropic medium matched with the above.

さらに、本発明の組成物を重合してなる樹脂材料は、上述の回折素子以外にその他の回折素子、レンズなどの光学素子に用いることができる。本材料はこれら光学素子の作製方法には限定されず、従来知られた方法であってよい。さらに、光学素子同士の積層や、光学部品の固定のための接着剤としても使用できる。   Furthermore, the resin material obtained by polymerizing the composition of the present invention can be used for optical elements such as other diffraction elements and lenses in addition to the above-described diffraction elements. This material is not limited to the manufacturing method of these optical elements, and may be a conventionally known method. Furthermore, it can also be used as an adhesive for laminating optical elements and fixing optical components.

本発明の材料ならびにそれを用いた素子は青色レーザーに対する耐光性が優れていることから、光ピックアップ用途において好ましく用いられ、大容量化に適した光ヘッド装置を作製できる。すなわち、本発明の実施形態である樹脂材料を用いた光学素子は、光記録媒体に情報を記録する、および/または、光記録媒体に記録された情報を再生する光ヘッド装置に適し、特にBD(Blu−ray Disk)やHDDVD(High−Definition Digital Versatile Disk)のような青色レーザを用いた光情報記録再生装置用の光ヘッド装置に好適である。具体的には、光ヘッド装置のレーザ光の光路中に好ましく配置される。また、従来高屈折率樹脂が必要とされたその他用途においても、好適に用いられる。   Since the material of the present invention and an element using the material are excellent in light resistance to a blue laser, it is preferably used in an optical pickup application, and an optical head device suitable for increasing the capacity can be produced. That is, the optical element using the resin material according to the embodiment of the present invention is suitable for an optical head device that records information on an optical recording medium and / or reproduces information recorded on the optical recording medium, and particularly BD. (Blu-ray Disk) and HDDVD (High-Definition Digital Versatile Disk) are suitable for an optical head device for an optical information recording / reproducing apparatus using a blue laser. Specifically, it is preferably arranged in the optical path of the laser beam of the optical head device. In addition, it can be suitably used in other applications that conventionally require a high refractive index resin.

以下に、本発明の実施の形態である光ヘッド装置について説明する。
図4は、本発明の実施形態である光ヘッド装置の構成図である。この図に示すように、光ヘッド装置111は、レーザ光を出射する光源112と、波長選択性回折格子113と、レーザ光を透過するビームスプリッタ114と、レーザ光を平行化するコリメータレンズ115と、光ディスク116の記録層117に集光する対物レンズ118と、光ディスク116からの反射光を検出する光検出器119とを有する。光ヘッド装置111は、BDなどに記録された情報を読み取る際のトラッキング制御において3ビームを用いる。波長選択性回折格子113は、3ビーム発生用回折格子であり、本発明の実施の形態である光学素子(図2の波長選択性回折格子1B)が適用される。
The optical head device according to the embodiment of the present invention will be described below.
FIG. 4 is a configuration diagram of an optical head device according to an embodiment of the present invention. As shown in this figure, the optical head device 111 includes a light source 112 that emits laser light, a wavelength selective diffraction grating 113, a beam splitter 114 that transmits laser light, and a collimator lens 115 that collimates the laser light. And an objective lens 118 that collects light on the recording layer 117 of the optical disc 116 and a photodetector 119 that detects reflected light from the optical disc 116. The optical head device 111 uses three beams in tracking control when reading information recorded on a BD or the like. The wavelength-selective diffraction grating 113 is a three-beam generating diffraction grating, and an optical element (wavelength-selective diffraction grating 1B in FIG. 2) according to an embodiment of the present invention is applied.

尚、図4では、光源112とビームスプリッタ114の間に波長選択性回折格子113が設けられているが、ビームスプリッタ114と対物レンズ118との間に波長選択性回折格子113を設けてもよく、光源112と対物レンズ118の間の光路中に波長選択性回折格子113を設ける構成であればよい。尚、図4のように波長選択性回折格子113を光源112とビームスプリッタ114の間に配置すれば、光ディスクからの反射光が波長選択性回折格子113で回折されないで光検出器119に導かれるため、光の利用効率が高くなり、好ましい。   In FIG. 4, the wavelength selective diffraction grating 113 is provided between the light source 112 and the beam splitter 114. However, the wavelength selective diffraction grating 113 may be provided between the beam splitter 114 and the objective lens 118. Any wavelength-selective diffraction grating 113 may be provided in the optical path between the light source 112 and the objective lens 118. If the wavelength selective diffraction grating 113 is arranged between the light source 112 and the beam splitter 114 as shown in FIG. 4, the reflected light from the optical disk is guided to the photodetector 119 without being diffracted by the wavelength selective diffraction grating 113. Therefore, the light utilization efficiency is increased, which is preferable.

光源112は、例えば半導体レーザダイオードで構成され、光ディスク116の種類に応じた波長のレーザ光を生成して波長選択性回折格子113に出射するようになっている。光源112には、通常の光ヘッド装置に使用される通常のレーザ光源が使用される。具体的には、半導体レーザが好適であるが、他のレーザであってもよい。本発明で得られる樹脂材料は、青色レーザに対する耐光性が良好であるので、青色レーザを光源として使用することにより、光ヘッド装置の大容量化が図れる。   The light source 112 is composed of, for example, a semiconductor laser diode, and generates laser light having a wavelength corresponding to the type of the optical disk 116 and emits it to the wavelength selective diffraction grating 113. As the light source 112, an ordinary laser light source used in an ordinary optical head device is used. Specifically, a semiconductor laser is suitable, but other lasers may be used. Since the resin material obtained in the present invention has good light resistance against a blue laser, the capacity of the optical head device can be increased by using the blue laser as a light source.

本実施の形態では、レーザ光の波長を、例えば、405nm(波長λ)と660nm(波長λ)とする。尚、互いに異なる波長のレーザ光を出射する光源を複数備え、各光源から波長選択性回折格子113にレーザ光が出射される構成としてもよい。 In the present embodiment, the wavelength of the laser light is, for example, 405 nm (wavelength λ 1 ) and 660 nm (wavelength λ 2 ). A plurality of light sources that emit laser beams having different wavelengths may be provided, and laser light may be emitted from each light source to the wavelength selective diffraction grating 113.

波長選択性回折格子113は、波長λのレーザ光を回折せずに透過した光(0次回折光)と、波長λのレーザ光を回折した光(±1次回折光)とを含む3つのビームをビームスプリッタ114に出力する。さらに、波長選択性回折格子113は、波長λのレーザ光を透過してビームスプリッタ114に出力する。 The wavelength-selective diffraction grating 113 includes three beams including light that has been transmitted without diffracting the laser light having the wavelength λ 1 (0th-order diffracted light) and light that has been diffracted from the laser light having the wavelength λ 1 (± first-order diffracted light). The beam is output to the beam splitter 114. Further, the wavelength selective diffraction grating 113 transmits the laser beam having the wavelength λ 2 and outputs it to the beam splitter 114.

ビームスプリッタ114は、透過性の材料、例えば、ガラスまたはプラスチックなどで構成され、光ディスク116からの反射光を反射する反射面を備えている。
コリメータレンズ115も、透過性の材料、例えば、ガラスまたはプラスチックなどで構成され、入射したレーザ光を平行化するようになっている。
The beam splitter 114 is made of a transmissive material, such as glass or plastic, and includes a reflective surface that reflects the reflected light from the optical disk 116.
The collimator lens 115 is also made of a transparent material such as glass or plastic, and collimates the incident laser beam.

対物レンズ118は、所定の開口数NAを有し、コリメータレンズ115からの入射光を光ディスク116の記録層117に集光し、記録層117からの反射光を捕捉するようになっている。   The objective lens 118 has a predetermined numerical aperture NA, and condenses incident light from the collimator lens 115 on the recording layer 117 of the optical disk 116 and captures reflected light from the recording layer 117.

光検出器119は、レンズやフォトダイオードなどを含み、ビームスプリッタ114の反射面によって反射された光ディスク116からの反射光を電気信号に変換する。また、光検出器119は、波長λの3ビームの反射光を受光し、0次回折光により生成された主ビームと、±1次回折光により生成された2つの副ビームとを受光し、2つの副ビーム間の光量差に基づいてトラッキングエラーを検出し、トラッキング制御部(図示せず)に出力する。 The photodetector 119 includes a lens, a photodiode, and the like, and converts the reflected light from the optical disk 116 reflected by the reflecting surface of the beam splitter 114 into an electric signal. The photodetector 119 receives three beams of reflected light having a wavelength λ 1 and receives a main beam generated by the 0th-order diffracted light and two sub beams generated by the ± 1st-order diffracted light. A tracking error is detected based on the light amount difference between the two sub beams and is output to a tracking control unit (not shown).

光ディスク116がBDである場合、光ヘッド装置111は次のように動作する。
まず、光源112から出射された波長λの光は、波長選択性回折格子113によって出射光の一部が回折される。これにより、波長選択性回折格子113からは、0次回折光と±1次回折光を含む光が出射され、ビームスプリッタ114を透過してコリメータレンズ115によって平行光にされる。
When the optical disk 116 is a BD, the optical head device 111 operates as follows.
First, the light of wavelength λ 1 emitted from the light source 112 is partially diffracted by the wavelength selective diffraction grating 113. Thereby, light including 0th order diffracted light and ± 1st order diffracted light is emitted from the wavelength selective diffraction grating 113, passes through the beam splitter 114, and is collimated by the collimator lens 115.

コリメータレンズ115から出射された平行光は、対物レンズ118により、0次回折光と±1次回折光が3ビームとなって光ディスク116の情報記録トラック上に集光される。次に、光ディスク116によって反射された光は、再び対物レンズ118よりコリメータレンズ115を透過しビームスプリッタ114で反射されて、0次回折光により生成された主ビームと、±1次回折光により生成された2つの副ビームとが光検出器119の受光面に集光される。そして、光検出器119によって、2つの副ビーム間の光量差に基づいてトラッキングエラー信号が検出され、トラッキング制御部(図示せず)に出力される。   The parallel light emitted from the collimator lens 115 is condensed on the information recording track of the optical disk 116 by the objective lens 118 into three beams of 0th order diffracted light and ± 1st order diffracted light. Next, the light reflected by the optical disk 116 is transmitted again from the objective lens 118 through the collimator lens 115 and reflected by the beam splitter 114, and is generated by the main beam generated by the 0th order diffracted light and the ± 1st order diffracted light. The two sub beams are condensed on the light receiving surface of the photodetector 119. Then, the photodetector 119 detects a tracking error signal based on the light amount difference between the two sub beams and outputs it to a tracking control unit (not shown).

光ディスク116がDVDである場合には、光ヘッド装置111は次のように動作する。
まず、光源112から出射された波長λの光は、波長選択性回折格子113で回折されることなく透過した後、さらにビームスプリッタ114を透過して、コリメータレンズ115で平行光にされる。その後、この平行光は、対物レンズ118によって光ディスク116の情報記録トラック上に集光される。そして、光ディスク116で反射された光は、再び対物レンズ118とコリメータレンズ115を透過し、ビームスプリッタ114で反射されて光検出器119の受光面に集光される。
When the optical disk 116 is a DVD, the optical head device 111 operates as follows.
First, light having a wavelength λ 2 emitted from the light source 112 passes through the wavelength selective diffraction grating 113 without being diffracted, and further passes through the beam splitter 114 to be collimated by the collimator lens 115. Thereafter, the parallel light is condensed on the information recording track of the optical disk 116 by the objective lens 118. Then, the light reflected by the optical disk 116 passes through the objective lens 118 and the collimator lens 115 again, is reflected by the beam splitter 114, and is collected on the light receiving surface of the photodetector 119.

以上述べたように、本発明の重合性化合物を含む組成物を硬化し、得られる樹脂材料を使用した光学素子を用いることにより、大容量化に適した高信頼の光ヘッド装置を構成することができる。
尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々変形して実施することができる。
As described above, a highly reliable optical head device suitable for increasing the capacity is configured by curing the composition containing the polymerizable compound of the present invention and using an optical element using the resulting resin material. Can do.
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

以下に、本発明の実施例および比較例を述べる。ただし、本発明は以下の実施例に何ら制限されるものではない。   Below, the Example and comparative example of this invention are described. However, the present invention is not limited to the following examples.

<重合性化合物の合成>
実施例1
下記に合成スキームに示す方法に従い、化合物A−1、A−2、A−3およびA−4を経て重合性化合物Aを合成した。

Figure 2011094080
Figure 2011094080
<Synthesis of polymerizable compound>
Example 1
A polymerizable compound A was synthesized through compounds A-1, A-2, A-3 and A-4 according to the method shown in the synthesis scheme below.
Figure 2011094080
Figure 2011094080

上記式において、TBDMSはtert−ブチルジメチルシリル基を示す。
以下、重合性化合物Aにおける上記合成スキームの各反応について詳細に説明する。
In the above formula, TBDMS represents a tert-butyldimethylsilyl group.
Hereinafter, each reaction of the said synthetic scheme in the polymeric compound A is demonstrated in detail.

(a)化合物A−1の合成
200mLのテトラヒドロフラン(以下、THFと記載)に、5.0g(29mmol)の4−ブロモフェノールと、4.8mL(35mmol)のトリエチルアミンとを溶解させて攪拌した後、THF100mLに溶解させた6.5g(43mmol)のtert−ブチルジメチルクロロシラン(以下、TBDMS−Clと記載)を10分間かけてゆっくりと滴下して室温で12時間反応させた。次いで、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、さらに硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させた後、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:9)を用いてカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、無色透明液体の化合物A−1を6.1g得た。収率は72%であった。
(A) Synthesis of Compound A-1 In 200 mL of tetrahydrofuran (hereinafter referred to as THF), 5.0 g (29 mmol) of 4-bromophenol and 4.8 mL (35 mmol) of triethylamine were dissolved and stirred. Then, 6.5 g (43 mmol) of tert-butyldimethylchlorosilane (hereinafter referred to as TBDMS-Cl) dissolved in 100 mL of THF was slowly added dropwise over 10 minutes and reacted at room temperature for 12 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer, and magnesium sulfate was further added and dried sufficiently, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography was performed using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 9) to obtain 6.1 g of a colorless transparent liquid compound A-1. The yield was 72%.

(b)化合物A−2の合成
100mLのTHFに4.6g(16mmol)の化合物A−1を溶解し、窒素雰囲気下−30℃にて攪拌をした。次いで、濃度1.6mol/Lのn−ブチルリチウムヘキサン溶液10mL(16mmol)を5分程度かけてゆっくりと滴下した。−30℃で20分間反応させた後、100mLのTHFに溶解させたトリフェニルクロロゲルマン5g(15mmol)を10分間程度かけてゆっくりと滴下した。その後、−30℃で15分間保持してから、室温で3時間反応させた。次に、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:8)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物A−2を5.1g得た。収率は62%であった。
(B) Synthesis of Compound A-2 4.6 g (16 mmol) of Compound A-1 was dissolved in 100 mL of THF and stirred at −30 ° C. in a nitrogen atmosphere. Next, 10 mL (16 mmol) of an n-butyllithium hexane solution having a concentration of 1.6 mol / L was slowly added dropwise over about 5 minutes. After reacting at −30 ° C. for 20 minutes, 5 g (15 mmol) of triphenylchlorogermane dissolved in 100 mL of THF was slowly added dropwise over about 10 minutes. Then, after hold | maintaining for 15 minutes at -30 degreeC, it was made to react at room temperature for 3 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 8) was performed to obtain 5.1 g of white solid compound A-2. The yield was 62%.

(c)化合物A−3の合成
100mLのTHFに、3.4g(6.6mmol)の化合物A−2と、1.9g(7.2mmol)のテトラブチルアンモニウムフルオリド(以下、TBAFと記載)とを溶解し、室温で3時間攪拌した。その後、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:3)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物A−3を2.1g得た。収率は79%であった。
(C) Synthesis of Compound A-3 In 100 mL of THF, 3.4 g (6.6 mmol) of Compound A-2 and 1.9 g (7.2 mmol) of tetrabutylammonium fluoride (hereinafter referred to as TBAF) Were dissolved and stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 3) was performed to obtain 2.1 g of white solid compound A-3. The yield was 79%.

(d)化合物A−4の合成
100mLのアセトンと100mLのN,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと記載)に、1.3g(5.0mmol)の化合物A−3、炭酸セシウム5.3g(16mmol)、2−ブロモエタノール0.30mL(4.2mmol)、ヨウ化カリウム0.3g(1.2mmol)を加え、50℃で12時間反応させた。次いで、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、さらに硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させた後、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:3)を用いてカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物A−4を1.0g得た。収率は69%であった。
(D) Synthesis of Compound A-4 To 100 mL of acetone and 100 mL of N, N-dimethylformamide (hereinafter referred to as DMF), 1.3 g (5.0 mmol) of Compound A-3, 5.3 g of cesium carbonate ( 16 mmol), 0.30 mL (4.2 mmol) of 2-bromoethanol and 0.3 g (1.2 mmol) of potassium iodide were added and reacted at 50 ° C. for 12 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer, and magnesium sulfate was further added and dried sufficiently, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography was performed using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 3) to obtain 1.0 g of white solid compound A-4. The yield was 69%.

(e)化合物Aの合成
50mLのTHFに、1.0g(2.2mmol)の化合物A−4と、0.38mL(2.7mmol)のトリエチルアミンとを溶解し、窒素雰囲気において水浴下で2分程度かけてゆっくりとアクリル酸クロリド0.20mL(2.5mmol)を滴下した。その後、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:6)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物Aを0.75g得た。収率は67%であった。
(E) Synthesis of Compound A 1.0 g (2.2 mmol) of Compound A-4 and 0.38 mL (2.7 mmol) of triethylamine were dissolved in 50 mL of THF, and the mixture was placed in a nitrogen atmosphere for 2 minutes in a water bath. Slowly, 0.20 mL (2.5 mmol) of acrylic acid chloride was dripped slowly. Thereafter, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 6) was performed to obtain 0.75 g of Compound A as a white solid. The yield was 67%.

重合性化合物Aの1H−NMRスペクトル(溶媒:CDCl、内部標準:テトラメトキシシラン(TMS))のスペクトルデータは、δ(ppm):4.22(2H、t)、4.50(2H、t)、5.84−6.46(3H、m)、6.94−7.53(19H、m)であった。得られた化合物Aの融点は100℃であった。 The spectral data of 1H-NMR spectrum of the polymerizable compound A (solvent: CDCl 3 , internal standard: tetramethoxysilane (TMS)) are δ (ppm): 4.22 (2H, t), 4.50 (2H, t), 5.84-6.46 (3H, m), 6.94-7.53 (19H, m). Compound A thus obtained had a melting point of 100 ° C.

実施例2
下記に示す合成スキームに従い、化合物B−1、B−2、B−3およびB−4を経て化合物Bを合成した。

Figure 2011094080
Figure 2011094080
Example 2
Compound B was synthesized through compounds B-1, B-2, B-3 and B-4 according to the synthesis scheme shown below.
Figure 2011094080
Figure 2011094080

以下、重合性化合物Bにおける上記合成スキームの各反応について詳細に説明する。
(a)化合物B−1の合成
200mLのアセトンと100mLのDMFに、5.0g(29mmol)の3−ブロモフェノール、28g(86mmol)の炭酸セシウム、4.2mL(59mmol)の2−ブロモエタノール、0.3g(1.2mmol)のヨウ化カリウムを加え、50℃で12時間反応させた。次いで、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、さらに硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させた後、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:2)を用いてカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、無色透明液体の化合物B−1を4.8g得た。収率は77%であった。
Hereinafter, each reaction of the said synthetic scheme in the polymeric compound B is demonstrated in detail.
(A) Synthesis of Compound B-1 In 200 mL of acetone and 100 mL of DMF, 5.0 g (29 mmol) of 3-bromophenol, 28 g (86 mmol) of cesium carbonate, 4.2 mL (59 mmol) of 2-bromoethanol, 0.3 g (1.2 mmol) of potassium iodide was added and reacted at 50 ° C. for 12 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer, and magnesium sulfate was further added and dried sufficiently, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography was performed using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 2) to obtain 4.8 g of colorless transparent liquid compound B-1. The yield was 77%.

(b)化合物B−2の合成
200mLのTHFに、4.8g(22mmol)の化合物B−1と、3.3mL(24mmol)のトリエチルアミンとを溶解させて攪拌した後、THF100mLに溶解させた3.7g(25mmol)のtert−ブチルジメチルクロロシランを10分間かけてゆっくりと滴下して室温で12時間反応させた。次いで、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、さらに硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させた後、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:6)を用いてカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、無色透明液体の化合物B−2を4.1g得た。収率は56%であった。
(B) Synthesis of Compound B-2 4.8 g (22 mmol) of Compound B-1 and 3.3 mL (24 mmol) of triethylamine were dissolved in 200 mL of THF and stirred, and then dissolved in 100 mL of THF 3 0.7 g (25 mmol) of tert-butyldimethylchlorosilane was slowly added dropwise over 10 minutes, and the mixture was reacted at room temperature for 12 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer, and magnesium sulfate was further added and dried sufficiently, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography was performed using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 6) to obtain 4.1 g of colorless transparent liquid compound B-2. The yield was 56%.

(c)化合物B−3の合成
100mLのTHFに4.1g(12mmol)の化合物B−2を溶解し、窒素雰囲気下−30℃にて攪拌をした。次いで、濃度1.6mol/Lのn−ブチルリチウムヘキサン溶液7.8mL(12mmol)を3分程度かけてゆっくりと滴下した。−30℃で20分間反応させた後、100mLのTHFに溶解させたトリフェニルクロロゲルマン4.2g(12mmol)を10分間程度かけてゆっくりと滴下した。その後、−30℃で15分間保持してから、室温で3時間反応させた。次に、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:19)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物B−3を4.5g得た。収率は65%であった。
(C) Synthesis of Compound B-3 4.1 g (12 mmol) of Compound B-2 was dissolved in 100 mL of THF and stirred at −30 ° C. in a nitrogen atmosphere. Next, 7.8 mL (12 mmol) of an n-butyllithium hexane solution having a concentration of 1.6 mol / L was slowly added dropwise over about 3 minutes. After reacting at −30 ° C. for 20 minutes, 4.2 g (12 mmol) of triphenylchlorogermane dissolved in 100 mL of THF was slowly added dropwise over about 10 minutes. Then, after hold | maintaining for 15 minutes at -30 degreeC, it was made to react at room temperature for 3 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1:19) was performed to obtain 4.5 g of white solid compound B-3. The yield was 65%.

(d)化合物B−4の合成
100mLのTHFに、4.5g(8.1mmol)の化合物B−3と、2.4g(9.2mmol)のTBAFとを溶解し、室温で3時間攪拌した。その後、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:2)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物B−4を2.3g得た。収率は64%であった。
(D) Synthesis of Compound B-4 In 100 mL of THF, 4.5 g (8.1 mmol) of Compound B-3 and 2.4 g (9.2 mmol) of TBAF were dissolved and stirred at room temperature for 3 hours. . Thereafter, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 2) was performed to obtain 2.3 g of white solid compound B-4. The yield was 64%.

(e)化合物Bの合成
100mLのTHFに、2.3g(5.2mmol)の化合物B−4と、0.80mL(5.7mmol)のトリエチルアミンとを溶解し、窒素雰囲気において水浴下で5分程度かけてゆっくりとアクリル酸クロリド0.46mL(5.6mmol)を滴下した。その後、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:9)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物Bを1.6g得た。収率は62%であった。
(E) Synthesis of Compound B In 100 mL of THF, 2.3 g (5.2 mmol) of Compound B-4 and 0.80 mL (5.7 mmol) of triethylamine were dissolved, and the mixture was placed in a nitrogen atmosphere for 5 minutes in a water bath. Slowly, 0.46 mL (5.6 mmol) of acrylic acid chloride was added dropwise over a certain degree. Thereafter, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 9) was performed to obtain 1.6 g of Compound B as a white solid. The yield was 62%.

化合物Bの1H−NMRスペクトル(溶媒:CDCl、内部標準:TMS)のスペクトルデータは、δ(ppm):4.13(2H、t)、4.46(2H、t)、5.81−6.44(3H、m)、6.95(1H、m)、7.09−7.15(2H、m)、7.30−7.54(16H、m)であった。得られた化合物Bの融点は75℃であった。 The spectral data of the 1H-NMR spectrum (solvent: CDCl 3 , internal standard: TMS) of Compound B are δ (ppm): 4.13 (2H, t), 4.46 (2H, t), 5.81- 6.44 (3H, m), 6.95 (1H, m), 7.09-7.15 (2H, m), 7.30-7.54 (16H, m). Compound B thus obtained had a melting point of 75 ° C.

実施例3
下記に示す合成スキームに従い、化合物C−1、C−2およびC−3を経て化合物Cを合成した。

Figure 2011094080
Figure 2011094080
Example 3
Compound C was synthesized via compounds C-1, C-2 and C-3 according to the synthesis scheme shown below.
Figure 2011094080
Figure 2011094080

以下、重合性化合物Cにおける上記合成スキームの各反応について詳細に説明する。
(a)化合物C−1の合成
200mLのTHFに、5.0g(25mmol)の2−(4−ブロモフェニル)エチルアルコールと、4.1mL(30mmol)のトリエチルアミンとを溶解させて攪拌した後、THF100mLに溶解させた5.6g(37mmol)のtert−ブチルジメチルクロロシランを10分間かけてゆっくりと滴下して室温で12時間反応させた。次いで、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、さらに硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させた後、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:19)を用いてカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、無色透明液体の化合物C−1を6.2g得た。収率は79%であった。
Hereinafter, each reaction of the said synthetic scheme in the polymeric compound C is demonstrated in detail.
(A) Synthesis of Compound C-1 In 200 mL of THF, 5.0 g (25 mmol) of 2- (4-bromophenyl) ethyl alcohol and 4.1 mL (30 mmol) of triethylamine were dissolved and stirred. 5.6 g (37 mmol) of tert-butyldimethylchlorosilane dissolved in 100 mL of THF was slowly added dropwise over 10 minutes and reacted at room temperature for 12 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer, and magnesium sulfate was further added and dried sufficiently, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography was performed using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1:19) to obtain 6.2 g of colorless transparent liquid compound C-1. The yield was 79%.

(b)化合物C−2の合成
100mLのTHFに4.6g(15mmol)の化合物C−1を溶解し、窒素雰囲気下−30℃にて攪拌をした。次いで、濃度1.6mol/Lのn−ブチルリチウムヘキサン溶液9.2mL(15mmol)を5分程度かけてゆっくりと滴下した。−30℃で20分間反応させた後、100mLのTHFに溶解させたトリフェニルクロロゲルマン5.0g(15mmol)を10分間程度かけてゆっくりと滴下した。その後、−30℃で15分間保持してから、室温で3時間反応させた。次に、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:19)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物C−2を6.2g得た。収率は78%であった。
(B) Synthesis of Compound C-2 4.6 g (15 mmol) of Compound C-1 was dissolved in 100 mL of THF and stirred at −30 ° C. in a nitrogen atmosphere. Next, 9.2 mL (15 mmol) of an n-butyllithium hexane solution having a concentration of 1.6 mol / L was slowly added dropwise over about 5 minutes. After reacting at −30 ° C. for 20 minutes, 5.0 g (15 mmol) of triphenylchlorogermane dissolved in 100 mL of THF was slowly added dropwise over about 10 minutes. Then, after hold | maintaining for 15 minutes at -30 degreeC, it was made to react at room temperature for 3 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1:19) was performed to obtain 6.2 g of white solid compound C-2. The yield was 78%.

(c)化合物C−3の合成
100mLのTHFに、6.2g(11mmol)の化合物C−2と、3.6g(14mmol)のTBAFとを溶解し、室温で3時間攪拌した。その後、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:2)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物C−3を3.5g得た。収率は72%であった。
(C) Synthesis of Compound C-3 6.2 g (11 mmol) of Compound C-2 and 3.6 g (14 mmol) of TBAF were dissolved in 100 mL of THF and stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 2) was performed to obtain 3.5 g of white solid compound C-3. The yield was 72%.

(d)化合物Cの合成
100mLのTHFに、3.5g(8.2mmol)の化合物C−3と、1.3mL(9.4mmol)のトリエチルアミンとを溶解し、窒素雰囲気において水浴下で5分程度かけてゆっくりとアクリル酸クロリド0.73mL(9.0mmol)を滴下した。その後、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:6)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物Cを3.0g得た。収率は76%であった。
(D) Synthesis of Compound C In 100 mL of THF, 3.5 g (8.2 mmol) of Compound C-3 and 1.3 mL (9.4 mmol) of triethylamine were dissolved, and the mixture was placed in a nitrogen atmosphere for 5 minutes in a water bath. Slowly, 0.73 mL (9.0 mmol) of acrylic acid chloride was added dropwise over a period of time. Thereafter, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 6) was performed to obtain 3.0 g of white solid compound C. The yield was 76%.

化合物Cの1H−NMRスペクトル(溶媒:CDCl、内部標準:TMS)のスペクトルデータは、δ(ppm):2.99(2H、t)、4.38(2H、t)、5.30−6.41(3H、m)、7.24−7.53(19H、m)であった。得られた化合物Cの融点は123℃であった。 The spectral data of the 1H-NMR spectrum (solvent: CDCl 3 , internal standard: TMS) of Compound C are δ (ppm): 2.99 (2H, t), 4.38 (2H, t), 5.30- 6.41 (3H, m), 7.24-7.53 (19H, m). The melting point of Compound C obtained was 123 ° C.

実施例4
下記に示す合成スキームに従い、化合物D−1、D−2およびD−3を経て化合物Dを合成した。

Figure 2011094080
Figure 2011094080
Example 4
Compound D was synthesized via compounds D-1, D-2 and D-3 according to the synthesis scheme shown below.
Figure 2011094080
Figure 2011094080

以下、重合性化合物Dにおける上記合成スキームの各反応について詳細に説明する。
(a)化合物D−1の合成
200mLのTHFに、12.0g(64.5mmol)の4−ブロモベンジルアルコールと、10.7mL(77.3mmol)のトリエチルアミンとを溶解させて攪拌した後、THF100mLに溶解させた14.6g(96.7mmol)のtert−ブチルジメチルクロロシランを10分間かけてゆっくりと滴下して室温で12時間反応させた。次いで、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、さらに硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させた後、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:19)を用いてカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、無色透明液体の化合物D−1を13.0g得た。収率は67.2%であった。
Hereinafter, each reaction of the said synthetic scheme in the polymeric compound D is demonstrated in detail.
(A) Synthesis of Compound D-1 After dissolving 12.0 g (64.5 mmol) of 4-bromobenzyl alcohol and 10.7 mL (77.3 mmol) of triethylamine in 200 mL of THF, 100 mL of THF was dissolved. 14.6 g (96.7 mmol) of tert-butyldimethylchlorosilane dissolved in was slowly added dropwise over 10 minutes and allowed to react at room temperature for 12 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer, and magnesium sulfate was further added and dried sufficiently, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography was performed using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1:19) to obtain 13.0 g of colorless transparent liquid compound D-1. The yield was 67.2%.

(b)化合物D−2の合成
100mLのTHFに4.4g(15mmol)の化合物D−1を溶解し、窒素雰囲気下−30℃にて攪拌をした。次いで、濃度1.6mol/Lのn−ブチルリチウムヘキサン溶液9.2mL(15mmol)を5分程度かけてゆっくりと滴下した。−30℃で20分間反応させた後、100mLのTHFに溶解させたトリフェニルクロロゲルマン5.0g(15mmol)を10分間程度かけてゆっくりと滴下した。その後、−30℃で15分間保持してから、室温で3時間反応させた。次に、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:19)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物D−2を4.9g得た。収率は64%であった。
(B) Synthesis of Compound D-2 4.4 g (15 mmol) of Compound D-1 was dissolved in 100 mL of THF and stirred at −30 ° C. in a nitrogen atmosphere. Next, 9.2 mL (15 mmol) of an n-butyllithium hexane solution having a concentration of 1.6 mol / L was slowly added dropwise over about 5 minutes. After reacting at −30 ° C. for 20 minutes, 5.0 g (15 mmol) of triphenylchlorogermane dissolved in 100 mL of THF was slowly added dropwise over about 10 minutes. Then, after hold | maintaining for 15 minutes at -30 degreeC, it was made to react at room temperature for 3 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1:19) was performed to obtain 4.9 g of white solid compound D-2. The yield was 64%.

(c)化合物D−3の合成
100mLのTHFに、4.9g(9.3mmol)の化合物D−2と、2.7g(10mmol)のTBAFとを溶解し、室温で3時間攪拌した。その後、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:2)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物D−3を3.0g得た。収率は78%であった。
(C) Synthesis of Compound D-3 4.9 g (9.3 mmol) of Compound D-2 and 2.7 g (10 mmol) of TBAF were dissolved in 100 mL of THF and stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 2) was performed to obtain 3.0 g of white solid compound D-3. The yield was 78%.

(d)化合物Dの合成
100mLのTHFに、3.0g(7.3mmol)の化合物D−3と、1.1mL(8.0mmol)のトリエチルアミンとを溶解し、窒素雰囲気において水浴下で5分程度かけてゆっくりとアクリル酸クロリド0.66mL(8.2mmol)を滴下した。その後、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させてから、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:6)を用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物Dを1.7g得た。収率は50%であった。
(D) Synthesis of Compound D In 100 mL of THF, 3.0 g (7.3 mmol) of Compound D-3 and 1.1 mL (8.0 mmol) of triethylamine were dissolved, and the mixture was placed in a nitrogen atmosphere for 5 minutes in a water bath. Slowly, 0.66 mL (8.2 mmol) of acrylic acid chloride was added dropwise over a certain degree. Thereafter, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer. Magnesium sulfate was added and sufficiently dried, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 6) was performed to obtain 1.7 g of Compound D as a white solid. The yield was 50%.

化合物Dの1H−NMRスペクトル(溶媒:CDCl、内部標準:TMS)のスペクトルデータは、δ(ppm):5.22(2H、s)、5.84−6.48(3H、m)、7.37−7.55(19H、m)であった。得られた化合物Dの融点は124℃であった。 The spectral data of the 1H-NMR spectrum of Compound D (solvent: CDCl 3 , internal standard: TMS) are δ (ppm): 5.22 (2H, s), 5.84-6.48 (3H, m), 7.37-7.55 (19H, m). The melting point of Compound D obtained was 124 ° C.

実施例5
下記に示す合成スキームに従い、化合物E−1およびE−2を経て化合物Eを合成した。

Figure 2011094080
Figure 2011094080
Example 5
Compound E was synthesized via compounds E-1 and E-2 according to the synthesis scheme shown below.
Figure 2011094080
Figure 2011094080

以下、重合性化合物Eにおける上記合成スキームの各反応について詳細に説明する。
(a)化合物E−1の合成
200mLのTHFに、5.0g(15mmol)のトリフェニルクロロゲルマンを溶解させ、窒素雰囲気において氷浴下で15mL(15mmol)の1mol/Lアリルマグネシウムブロミド THF溶液を10分程度かけてゆっくりと滴下し、その後、室温で5時間反応させた。次いで、水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、さらに硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させた後、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:9)を用いてカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、無色透明液体の化合物E−1を2.7g得た。収率は53%であった。
Hereinafter, each reaction of the said synthetic scheme in the polymeric compound E is demonstrated in detail.
(A) Synthesis of Compound E-1 In 200 mL of THF, 5.0 g (15 mmol) of triphenylchlorogermane was dissolved, and 15 mL (15 mmol) of 1 mol / L allylmagnesium bromide THF solution was added under an ice bath in a nitrogen atmosphere. The solution was slowly added dropwise over about 10 minutes, and then reacted at room temperature for 5 hours. Next, water and ethyl acetate were added to extract the organic layer, and magnesium sulfate was further added and dried sufficiently, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography was performed using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 9) to obtain 2.7 g of colorless transparent liquid compound E-1. The yield was 53%.

(b)化合物E−2の合成
20mLのTHFに、8.6mL(7.8mmol)の0.9mol/LボランTHF溶液を加えて、窒素雰囲気において氷浴下で2.7g(7.8mmol)の化合物E−1を10分程度かけてゆっくりと滴下し、その後、室温で3時間反応させた。次いで、水40mLに溶かした水酸化ナトリウム4.0gを水浴下で5分かけてゆっくりと滴下し、さらに、水浴下で30% 過酸化水素水を15mLを10分程度かけてゆっくりと滴下した。水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、さらに硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させた後、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比4:1)を用いてカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物E−2を2.5g得た。収率は88%であった。
(B) Synthesis of Compound E-2 To 20 mL of THF, 8.6 mL (7.8 mmol) of 0.9 mol / L borane THF solution was added, and 2.7 g (7.8 mmol) was added under an ice bath in a nitrogen atmosphere. Compound E-1 was slowly added dropwise over about 10 minutes, and then allowed to react at room temperature for 3 hours. Next, 4.0 g of sodium hydroxide dissolved in 40 mL of water was slowly added dropwise over 5 minutes in a water bath, and 15 mL of 30% hydrogen peroxide was slowly added dropwise over about 10 minutes in the water bath. Water and ethyl acetate were added to extract the organic layer, and magnesium sulfate was further added and dried sufficiently, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography was performed using ethyl acetate and hexane (volume ratio 4: 1) to obtain 2.5 g of white solid compound E-2. The yield was 88%.

(c)化合物Eの合成
100mlのTHFに、1.8g(4.9mmol)の化合物E−2と、トリエチルアミン 0.8mL(5.8mmol)を溶解させ、窒素雰囲気において氷浴下でTHF10mLに溶解させた0.5mL(6.2mmol)のアクリル酸クロリドを10分程度かけてゆっくりと滴下し、その後、室温で3時間反応させた。水と酢酸エチルを加えて有機層を抽出し、さらに硫酸マグネシウムを加えて十分に乾燥させた後、溶媒を留去した。酢酸エチルとヘキサン(体積比1:6)を用いてカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体の化合物Eを1.4g得た。収率は68%であった。
(C) Synthesis of Compound E 1.8 g (4.9 mmol) of Compound E-2 and 0.8 mL (5.8 mmol) of triethylamine were dissolved in 100 ml of THF, and dissolved in 10 mL of THF under an ice bath in a nitrogen atmosphere. 0.5 mL (6.2 mmol) of acrylic acid chloride was slowly added dropwise over about 10 minutes, and then reacted at room temperature for 3 hours. Water and ethyl acetate were added to extract the organic layer, and magnesium sulfate was further added and dried sufficiently, and then the solvent was distilled off. Purification by column chromatography was performed using ethyl acetate and hexane (volume ratio 1: 6) to obtain 1.4 g of Compound E as a white solid. The yield was 68%.

化合物Eの1H−NMRスペクトル(溶媒:CDCl、内部標準:TMS)のスペクトルデータは、δ(ppm):1.51−1.59(2H、t)、1.86−1.93(2H、dd)、4.13−4.16(2H、t)、5.79−6.41(3H、m)、7.27−7.49(15H、m)であった。得られた化合物Dの融点は86℃であった。 The spectral data of the 1H-NMR spectrum (solvent: CDCl 3 , internal standard: TMS) of Compound E are δ (ppm): 1.51-1.59 (2H, t), 1.86-1.93 (2H Dd), 4.13-4.16 (2H, t), 5.79-6.41 (3H, m), 7.27-7.49 (15H, m). The melting point of Compound D obtained was 86 ° C.

<光硬化性組成物の重合と屈折率評価>
実施例6
化合物A100重量部に、光開始剤としてチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の「IC184」(商品名)を0.5重量部加え、加熱しながら均一になるまで攪拌した。そして、光硬化性組成物Aを得た。
<Polymerization of photocurable composition and evaluation of refractive index>
Example 6
0.5 parts by weight of “IC184” (trade name) manufactured by Ciba Specialty Chemicals as a photoinitiator was added to 100 parts by weight of Compound A, and the mixture was stirred while heating until uniform. And the photocurable composition A was obtained.

次に、2枚のガラス板の角4箇所を直径10μmのガラスビーズを混ぜた接着剤で貼り合わせて、10μmのガラス間隔のガラスセルを作製した。このガラスセルの内部に、上記の組成物Aを液体状態で注入した後、ガラス板に対して垂直方向から紫外線を2分間照射し、セルAを得た。用いた高圧水銀灯の照度は、波長365nmで50mW/cmであった。その後、カッターを用いてセルAの2枚のガラス板の一方を剥離させ、片側に硬化樹脂がついた試験片Aを得た。プリズムカプラ(Metricon社製:Model2010)を用い、室温で波長404nm、633nmおよび791nmにおける屈折率を測定したところ、それぞれ、1.669、1.621、1.611であり、高屈折率の樹脂であることが確認できた。 Next, four corners of two glass plates were bonded together with an adhesive mixed with glass beads having a diameter of 10 μm to produce a glass cell having a glass interval of 10 μm. After the composition A was injected into the glass cell in a liquid state, the glass plate was irradiated with ultraviolet rays for 2 minutes from the vertical direction to obtain a cell A. The illuminance of the high-pressure mercury lamp used was 50 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm. Thereafter, one of the two glass plates of the cell A was peeled off using a cutter to obtain a test piece A having a cured resin on one side. Using a prism coupler (manufactured by Metricon: Model 2010), the refractive indices at wavelengths of 404 nm, 633 nm, and 791 nm were measured at room temperature, which were 1.669, 1.621, and 1.611, respectively. It was confirmed that there was.

次に、3つの波長の屈折率をもとにして、コーシーの分散式(n(λ)=A+B/λ+C/λ)のパラメーターA、B、Cを、最小2乗法を用いたフィッティングから求めることによって400nm〜800nmにおける屈折率を導出し、そのフィッティング値をもとに589nmにおける屈折率n、およびアッベ数νを算出したところ、nは1.625、νは26.9であった。 Next, based on the refractive indices of the three wavelengths, fitting parameters A, B, and C of Cauchy's dispersion formula (n (λ) = A + B / λ 2 + C / λ 4 ) using the least square method It derives the refractive index in 400nm~800nm by obtaining from, calculation of the refractive index at 589nm fitting value based on n d, and Abbe number [nu d, n d is 1.625, [nu d 26. It was 9.

実施例7〜10
化合物Aに代えて化合物B、C、D、Eを用いる以外は実施例6と同様にして光硬化性組成物B、C、D、Eを得、それらを用いてセルB、C、D、Eを得た後、セルの片側のガラスを剥離することによって試験片B、C、D、Eを作製した。試験片B、C、D、Eを室温で屈折率を測定し、nおよびνを算出したところ、それぞれ、589nmの屈折率nは1.629、1.630、1.633、1.615、アッベ数νは26.6、26.5、26.0、29.4であり、高屈折率の樹脂であることが確認できた。
Examples 7-10
Photocurable compositions B, C, D and E were obtained in the same manner as in Example 6 except that compounds B, C, D and E were used in place of compound A, and cells B, C, D and After obtaining E, test pieces B, C, D, and E were prepared by peeling the glass on one side of the cell. Specimens B, C, D, and E were measured refractive index at room temperature, was calculated n d and [nu d, respectively, the refractive index n d of 589nm is 1.629,1.630,1.633,1 .615, the Abbe number [nu d is 26.6,26.5,26.0,29.4, it was confirmed that the resin of high refractive index.

<光硬化性組成物の重合と耐光性評価>
実施例11
一方の表面に反射防止膜がコーティングされたガラス板を用い、コーティング面と反対側の面が対向するようにし、接着剤に混ぜるガラスビーズの直径を20μmに変更した以外は、実施例6と同様にして、ガラスセルを作製した。化合物A100重量部に、光開始剤としてチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の「IC184」(商品名)を0.5重量部加え、加熱しながら均一になるまで攪拌し、液状の光硬化性組成物Aを得た。得られた組成物を液体の状態で上記のガラスセルの内部に注入し、ガラス板に対して垂直方向から紫外線を2分間照射して積層体Aを得た。尚、用いた高圧水銀灯の照度は、波長365nmにて50mW/cmであった。
<Polymerization of photocurable composition and evaluation of light resistance>
Example 11
Same as Example 6 except that a glass plate coated with an antireflection film on one surface was used, the surface opposite to the coating surface was opposed, and the diameter of the glass beads mixed with the adhesive was changed to 20 μm. Thus, a glass cell was produced. 0.5 parts by weight of “IC184” (trade name) manufactured by Ciba Specialty Chemicals as a photoinitiator is added to 100 parts by weight of Compound A, and the mixture is stirred until it is uniform while heating to obtain a liquid photocurable composition. A was obtained. The obtained composition was poured into the above glass cell in a liquid state, and a laminate A was obtained by irradiating ultraviolet rays from the direction perpendicular to the glass plate for 2 minutes. The illuminance of the high-pressure mercury lamp used was 50 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm.

上記の積層体Aに、80℃で発振波長406nmの青色LD光を15kJ/mm照射した。照射前後で透過率を測定したところ、透過率変化△TLDは2.0%であった。尚、ここで、△TLD=(照射前の青色LD光透過率)−(照射後の青色LD光透過率)である。 The laminate A was irradiated with blue LD light having an oscillation wavelength of 406 nm at 80 ° C. for 15 kJ / mm 2 . When the transmittance was measured before and after the irradiation, the transmittance change ΔT LD was 2.0%. Here, ΔT LD = (blue LD light transmittance before irradiation) − (blue LD light transmittance after irradiation).

実施例12〜15
化合物Aに代えて化合物BまたはCまたはDまたはEを用いた以外は実施例11と同様にして、積層体B、C、DおよびEを作製した。実施例13と同様にして、積層体B、C、DおよびEの△TLDを測定したところ、積層体Bは2.6%、積層体Cは1%未満、積層体Dは2.6%、積層体Eは1%未満であった。
Examples 12-15
Laminates B, C, D and E were produced in the same manner as in Example 11 except that compound B or C or D or E was used in place of compound A. The ΔT LD of the laminates B, C, D and E was measured in the same manner as in Example 13. As a result, the laminate B was 2.6%, the laminate C was less than 1%, and the laminate D was 2.6. % And Laminate E was less than 1%.

比較例1
化合物Aに代えて下記の化合物Fを用いる以外は実施例6と同様にして、樹脂を作製した。室温で屈折率を測定したところ、589nmにおける屈折率が1.608、アッベ数νが28.2であった。

Figure 2011094080
Comparative Example 1
A resin was prepared in the same manner as in Example 6 except that the following compound F was used in place of the compound A. When the refractive index was measured at room temperature, the refractive index at 589 nm was 1.608, and the Abbe number ν d was 28.2.
Figure 2011094080

化合物Aに代えて化合物Fを用いる以外は実施例6と同様にして、セルFを作製した。次いで、実施例11と同様にして、積層体Fの透過率を測定したところ、△TLDは59%であった。 A cell F was produced in the same manner as in Example 6 except that the compound F was used in place of the compound A. Subsequently, the transmittance of the laminate F was measured in the same manner as in Example 11, and ΔT LD was 59%.

比較例2
化合物Aに代えて下記の化合物Gを用いる以外は実施例6と同様にして、樹脂を作製した。室温で屈折率を測定したところ、589nmにおける屈折率が1.625、アッベ数νが27.2であった。

Figure 2011094080
Comparative Example 2
A resin was prepared in the same manner as in Example 6 except that the following compound G was used instead of the compound A. When the refractive index was measured at room temperature, the refractive index at 589 nm was 1.625, and the Abbe number ν d was 27.2.
Figure 2011094080

化合物Aに代えて化合物Gを用いる以外は実施例6と同様にして、セルGを作製した。次いで、実施例11と同様にして、積層体Gの透過率変化を測定したところ、△TLDは42%であった。 A cell G was produced in the same manner as in Example 6 except that the compound G was used instead of the compound A. Subsequently, when the transmittance | permeability change of the laminated body G was measured like Example 11, (DELTA) TLD was 42%.

表1は、実施例6〜15および比較例1、2の評価結果を比較したものである。実施例1〜5の重合性化合物A、B、C、D、Eを用いて得られた、実施例6〜10の樹脂の屈折率n、アッべ数νおよび対応する上記積層体A〜E(実施例11〜15)の透過率変化△TLDを表1にまとめた。そして、併せて、本発明の比較例である化合物F(比較例1)および化合物G(比較例2)を用いた樹脂について、同様の評価を行い、表1にまとめた。 Table 1 compares the evaluation results of Examples 6 to 15 and Comparative Examples 1 and 2. Refractive index n d , Abbe number ν d of the resins of Examples 6 to 10 obtained using the polymerizable compounds A, B, C, D and E of Examples 1 to 5 and the corresponding laminate A Table 1 summarizes the transmittance change ΔT LD of ˜E (Examples 11 to 15). In addition, the same evaluation was performed on the resins using Compound F (Comparative Example 1) and Compound G (Comparative Example 2), which are comparative examples of the present invention, and are summarized in Table 1.

この表から分かるように、本発明の重合性化合物を用いて得られる樹脂材料は、従来材料と同等以上の高い屈折率を実現しながら、耐光性にも優れていることが分かった。   As can be seen from this table, it was found that the resin material obtained using the polymerizable compound of the present invention is excellent in light resistance while realizing a high refractive index equal to or higher than that of the conventional material.

表1

Figure 2011094080
Table 1
Figure 2011094080

本発明の材料は、屈折率が高く、各種光学用途に使用可能であり、特に、青色光に対して高い耐光性を有するので、強い青色光を用いる光ディスク、光学素子等の高屈折率材料が必要とされる用途に好適に用いることができる。   The material of the present invention has a high refractive index and can be used for various optical applications. In particular, since the material has high light resistance against blue light, high refractive index materials such as optical disks and optical elements using strong blue light can be used. It can be suitably used for required applications.

1A、1B、1C、113 波長選択性回折素子
11A、14A、11B、14B、11C、16C、17C 透明基板
12A、12B、12C,15C 回折格子
13A、13B、13C、14C 充填部材
111 光ヘッド装置
112 光源
114 ビームスプリッタ
115 コリメータレンズ
116 光ディスク
117 記録層
118 対物レンズ
119 光検出器
1A, 1B, 1C, 113 Wavelength selective diffraction element 11A, 14A, 11B, 14B, 11C, 16C, 17C Transparent substrate 12A, 12B, 12C, 15C Diffraction grating 13A, 13B, 13C, 14C Filling member 111 Optical head device 112 Light source 114 Beam splitter 115 Collimator lens 116 Optical disc 117 Recording layer 118 Objective lens 119 Photo detector

Claims (8)

ゲルマニウムと4つの基A〜Aが直接または酸素を介して結合した下記式(1)で表されることを特徴とする重合性化合物。
Figure 2011094080
(式(1)において、A、A、AおよびAは、夫々独立して−(O)−Xであり、
4個のmは、夫々独立して0または1を表し、
4個のXは、少なくとも3個のXは夫々独立して、フェニル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルフェニル基およびフェニルシクロヘキシル基のいずれかの環基であり、環基が4個のときにはその環基はA〜Aの水素原子の内、合計して1〜4個が下記式(2)で表される置換基で置換されており、環基が3個のときには、4つ目の基AのXは、メチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基または下記式(2)で表される基のいずれかであり、かつ、その環基はA〜Aの水素原子及びAのXの内、合計して1〜4個が下記式(2)で表される置換基で置換されており、かつ、A〜Aで夫々独立してその環基の残りの水素原子の一部または全部の水素原子がメチル基、メトキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基に置換されていてもよく、4つ目の基AのXが、メチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基の場合には、その水素原子の一部または全部の水素原子がフッ素原子に置換されていてもよく、
Figure 2011094080
式(2)において、Rは、水素原子またはメチル基を表し、
Yは、単結合または炭素数1〜12のアルキレン基を表し、そのアルキレン基の一部または全部の水素原子がフッ素原子またはメチル基に置換されていてもよく、そのアルキレン基の一部の炭素原子が、ケイ素原子またはゲルマニウム原子同士が隣接しない範囲内でケイ素原子またはゲルマニウム原子に置換されていてもよく、そのアルキレン基の隣接する炭素−炭素結合の間または環基と結合する末端に酸素原子を有していてもよい。)
A polymerizable compound represented by the following formula (1) in which germanium and four groups A 1 to A 4 are bonded directly or through oxygen.
Figure 2011094080
(In the formula (1), A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are each independently — (O) m —X;
4 m's independently represent 0 or 1,
Four Xs are each independently a cyclic group of any one of a phenyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexylphenyl group, and a phenylcyclohexyl group. When there are four cyclic groups, the cyclic group is A total of 1-4 of the hydrogen atoms of A 1 to A 4 are substituted with a substituent represented by the following formula (2), and when there are three ring groups, the fourth group A X in 4 is any one of a methyl group, an iso-propyl group, a tert-butyl group or a group represented by the following formula (2), and the cyclic group is a hydrogen atom of A 1 to A 3 and A of the 4 X, 1 to 4 pieces in total are substituted with a substituent represented by the following formula (2), and the remaining hydrogen in the ring group each independently with a 1 to a 4 Some or all of the hydrogen atoms are methyl, methoxy, fluorine, trifluoro May be substituted by a methyl group or a trifluoromethoxy group, fourth X groups A 4 is methyl group, iso- propyl group, in the case of tert- butyl group, or part of the hydrogen atoms All hydrogen atoms may be replaced by fluorine atoms,
Figure 2011094080
In the formula (2), R represents a hydrogen atom or a methyl group,
Y represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a part or all of the hydrogen atoms of the alkylene group may be substituted with a fluorine atom or a methyl group. The atom may be substituted with a silicon atom or a germanium atom within a range in which the silicon atom or the germanium atom is not adjacent to each other, and the oxygen atom is located between the adjacent carbon-carbon bonds of the alkylene group or at the terminal bonded to the ring group. You may have. )
Xは、置換基を有していてもよいフェニル基であることを特徴とする請求項1に記載の重合性化合物。   The polymerizable compound according to claim 1, wherein X is a phenyl group which may have a substituent. Yは、水素原子の一部または全部の水素原子がフッ素原子に置換されてもよい炭素数が2〜12のアルキレン基または炭素数が2〜12のアルキレンオキシ基であることを特徴とする請求項1または2に記載の重合性化合物。   Y is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms or an alkyleneoxy group having 2 to 12 carbon atoms, wherein some or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. Item 3. The polymerizable compound according to Item 1 or 2. 式(1)で表される化合物における式(2)で表される置換基の数の総和が1または2であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の重合性化合物。   4. The polymerizable compound according to claim 1, wherein the sum of the number of substituents represented by the formula (2) in the compound represented by the formula (1) is 1 or 2. 5. 〜Aの全てにおいて、その環基が置換基を有していてもよいフェニル基であり、かつmが0であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の重合性化合物。 The polymerization according to any one of claims 1 to 4, wherein in all of A 1 to A 4 , the cyclic group is a phenyl group which may have a substituent, and m is 0. Sex compounds. 請求項1〜5のいずれかに記載の重合性化合物を含むことを特徴とする光硬化性組成物。   A photocurable composition comprising the polymerizable compound according to claim 1. 請求項6に記載の光硬化性組成物を硬化してなる樹脂材料を用いたことを特徴とする光学素子。   An optical element using a resin material obtained by curing the photocurable composition according to claim 6. 請求項7に記載の光学素子を用いてなることを特徴とする光ヘッド装置。   An optical head device comprising the optical element according to claim 7.
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