JP2011090262A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Mitsunobu Miyamoto
光伸 宮本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflection transmission type liquid crystal display device that obtains sufficient pixel display area in both reflection display mode and transmission display mode. <P>SOLUTION: The liquid crystal display device comprises a liquid crystal panel 40 having a liquid crystal layer 33 between an active matrix substrate 31 with a plurality of pixel areas 10P disposed in matrix and a counter substrate 32, and a back light for irradiating the liquid crystal panel 40 with light for transmission display. The active matrix substrate 31 comprises a reflection electrode layer 34 for reflecting external light for reflection display. The reflection electrode layer 34 is provided with a liquid metal 72 having reflectivity, a liquid metal layer 56 (liquid metal storage space) with the liquid metal 72 stored in a movable state, and a coil 73 (magnetic field generating part) for generating a magnetic field in the liquid metal layer 56. According to the magnetic field generated by the coil 73, the liquid metal 72 is moved to select reflection display mode or transmission display mode. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射表示モードと透過表示モードとの双方によって画像を表示する反射透過型液晶表示装置に関するものである。   The present invention relates to a reflective / transmissive liquid crystal display device that displays an image in both a reflective display mode and a transmissive display mode.

現在、液晶表示装置は、モニター、プロジェクタ、携帯電話、携帯情報端末(PDA)などの電子機器に幅広く利用されている。このような液晶表示装置には、反射型、透過型、反射透過型(半透過型ともいう)の3種類がある。   Currently, liquid crystal display devices are widely used in electronic devices such as monitors, projectors, mobile phones, and personal digital assistants (PDAs). There are three types of such liquid crystal display devices: a reflection type, a transmission type, and a reflection / transmission type (also referred to as a semi-transmission type).

このうち反射透過型の液晶表示装置は、屋内などの比較的暗い照明下では、バックライト光を利用して透過表示を行う一方、屋外などの比較的明るい照明下では、照明光を利用して反射表示を行うものである。これにより、周囲の明るさに拘らず、コントラスト比の高い表示を実現できる。すなわち、反射透過型の液晶表示装置は、屋内外を問わず、あらゆる照明下(光環境下)での表示が可能であるため、携帯電話、PDA、デジタルカメラ等のモバイル機器に多く搭載されてきている。   Of these, the reflection-transmission type liquid crystal display device performs transmissive display using backlight light under relatively dark illumination such as indoors, while using illumination light under relatively bright illumination such as outdoors. Reflective display is performed. Thereby, a display with a high contrast ratio can be realized regardless of the surrounding brightness. In other words, reflection / transmission type liquid crystal display devices can be displayed under any illumination (in an optical environment) regardless of whether they are indoors or outdoors, and thus have been mounted on mobile devices such as mobile phones, PDAs, and digital cameras. ing.

このような反射透過型液晶表示装置では、液晶パネルの1画素内に、反射表示モードに使用される反射領域(反射サブピクセル)と、透過表示モードに使用される透過領域(透過サブピクセル)という2種類の表示領域が形成されている(特許文献1参照)。   In such a reflection-transmission type liquid crystal display device, a reflection area (reflection subpixel) used in the reflection display mode and a transmission area (transmission subpixel) used in the transmission display mode are included in one pixel of the liquid crystal panel. Two types of display areas are formed (see Patent Document 1).

特開2006−139286号公報(2006年6月1日公開)Japanese Patent Laying-Open No. 2006-139286 (released on June 1, 2006) 特開平1−283852号公報(1989年11月15日公開)Japanese Patent Laid-Open No. 1-283852 (published on November 15, 1989)

図12には、従来の反射透過型の液晶表示装置における1画素の構成を示す。図12に示す液晶表示装置100の1画素領域100Pは、隣接する2本のソース配線111,111、および、隣接する2本の補助容量配線113,113で囲まれた領域である。なお、2本の補助容量配線113,113の間には、ゲート配線112が補助容量配線113と平行に延びている。   FIG. 12 shows a configuration of one pixel in a conventional reflection / transmission type liquid crystal display device. One pixel region 100P of the liquid crystal display device 100 shown in FIG. 12 is a region surrounded by two adjacent source lines 111 and 111 and two adjacent auxiliary capacitance lines 113 and 113. A gate line 112 extends in parallel with the auxiliary capacity line 113 between the two auxiliary capacity lines 113 and 113.

また、画素領域100P内には、ゲート配線112から引き出されたゲート電極112a、ソース配線111から引き出されたソース電極111a、および、ドレイン電極113aが設けられており、これらの各電極でTFT121(スイッチング素子)が構成されている。さらに、ドレイン電極113aは、コンタクトホール114を介して画素電極(図示せず)に電気的に接続されている。また、ドレイン電極113aは、ドレイン引き出し配線113cを介して、補助容量配線113と重なるように形成された補助容量電極115と接続されている。ドレイン電極113a、ドレイン引き出し配線113c、および補助容量電極115は、ソース電極111aと同層に形成されている。これにより、補助容量配線113および補助容量電極115間で補助容量が形成される。また、図示はしていないが、画素領域100P内には、反射電極が部分的に形成されている。   In the pixel region 100P, a gate electrode 112a drawn from the gate wiring 112, a source electrode 111a drawn from the source wiring 111, and a drain electrode 113a are provided. Element). Further, the drain electrode 113a is electrically connected to a pixel electrode (not shown) through the contact hole 114. The drain electrode 113a is connected to the auxiliary capacitance electrode 115 formed so as to overlap the auxiliary capacitance wiring 113 through the drain lead-out wiring 113c. The drain electrode 113a, the drain lead-out wiring 113c, and the auxiliary capacitance electrode 115 are formed in the same layer as the source electrode 111a. As a result, an auxiliary capacitance is formed between the auxiliary capacitance wiring 113 and the auxiliary capacitance electrode 115. Although not shown, a reflective electrode is partially formed in the pixel region 100P.

上記のような構成により、従来の反射透過型の液晶表示装置100では、1画素領域100Pは、透過表示モードに使用される透過部と、反射表示モードに使用される反射部という、2つの部分に分割される。このように、従来の反射透過型の液晶表示装置においては、画素領域100P内の開口部の全面積を反射部と透過部とに振り分ける必要が生じ、全画素領域を透過表示あるいは反射表示に使用できる透過型または反射型の液晶表示装置と比較して、各表示モードにおける表示面積が小さくなってしまうという問題があった。   With the above-described configuration, in the conventional reflective / transmissive liquid crystal display device 100, one pixel region 100P has two parts, a transmissive part used in the transmissive display mode and a reflective part used in the reflective display mode. It is divided into. As described above, in the conventional reflection / transmission type liquid crystal display device, it is necessary to allocate the entire area of the opening in the pixel region 100P to the reflection portion and the transmission portion, and the entire pixel region is used for transmission display or reflection display. There is a problem that the display area in each display mode is reduced as compared with a transmissive or reflective liquid crystal display device.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、反射表示および透過表示という両方の表示モードにおいて、十分な画素表示面積が得られる反射透過型の液晶表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a reflection / transmission type liquid crystal display device capable of obtaining a sufficient pixel display area in both display modes of reflection display and transmission display. And

本発明にかかる液晶表示装置は、上記の課題を解決するために、複数の画素領域がマトリクス状に配置されたアクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶層を有する液晶パネルと、透過表示を行うために上記液晶パネルに光を照射するバックライトとを有する液晶表示装置であって、上記アクティブマトリクス基板は、反射表示を行うために外光を反射させる反射電極層を備えており、上記反射電極層には、反射性を有する液体金属と、上記液体金属が移動可能な状態で収容されている液体金属収容空間と、上記液体金属収容空間内に磁界を発生させる磁界発生部とが設けられており、上記磁界発生部が発生させる磁界によって、上記液体金属が移動して上記反射表示と上記透過表示との切り替えが行われることを特徴とする。   In order to solve the above problems, a liquid crystal display device according to the present invention provides a liquid crystal panel having a liquid crystal layer between an active matrix substrate in which a plurality of pixel regions are arranged in a matrix and a counter substrate, and a transmissive display. A liquid crystal display device having a backlight for irradiating the liquid crystal panel with light, wherein the active matrix substrate includes a reflective electrode layer that reflects external light to perform reflective display, and the reflection The electrode layer is provided with a reflective liquid metal, a liquid metal accommodation space in which the liquid metal is accommodated in a movable state, and a magnetic field generation unit that generates a magnetic field in the liquid metal accommodation space. The liquid metal is moved by the magnetic field generated by the magnetic field generation unit, and switching between the reflective display and the transmissive display is performed.

本発明の液晶表示装置は、バックライトおよび反射電極層を備えており、バックライトを光源とした透過表示による画像表示と、外光を光源とした反射表示による画像表示という、両方の表示を行うことのできる反射透過型の液晶表示装置である。そして、本発明の液晶表示装置は、反射性を有する液体金属と、該液体金属が移動可能な状態で収容されている液体金属収容空間と、該液体金属収容空間内に磁界を発生させる磁界発生部とを有する反射電極層を備えている。   The liquid crystal display device of the present invention includes a backlight and a reflective electrode layer, and performs both display of images by transmissive display using the backlight as a light source and image display by reflective display using external light as the light source. This is a reflection / transmission type liquid crystal display device. The liquid crystal display device of the present invention includes a reflective liquid metal, a liquid metal storage space in which the liquid metal is stored in a movable state, and a magnetic field generation that generates a magnetic field in the liquid metal storage space. A reflective electrode layer having a portion.

上記の構成によれば、上記磁界発生部が発生させる磁界によって、液体金属は、液体金属収容空間内の画素領域内(すなわち、開口領域)と画素領域外(すなわち、非開口領域(遮光領域))との間を移動し、反射表示と透過表示との切り替えが行われる。これにより、1画素を反射表示領域と透過表示領域とに分割することなく、全画素領域において、反射表示および透過表示をそれぞれ実現することができる。   According to the above configuration, the liquid metal is generated in the pixel region (that is, the opening region) and outside the pixel region (that is, the non-opening region (light-shielding region) within the liquid metal accommodating space by the magnetic field generated by the magnetic field generation unit. ) To switch between reflective display and transmissive display. Accordingly, it is possible to realize reflective display and transmissive display in all pixel regions without dividing one pixel into a reflective display region and a transmissive display region.

したがって、上記の構成によれば、反射表示モードと透過表示モードとを画素分割することなく、切り替えることができる。したがって、従来の反射透過型の液晶表示装置と比較して、両方の表示モードにおいて表示画素面積を広くすることができる。   Therefore, according to the above configuration, it is possible to switch between the reflective display mode and the transmissive display mode without dividing the pixels. Therefore, the display pixel area can be widened in both display modes as compared with the conventional reflection / transmission type liquid crystal display device.

本発明の液晶表示装置において、上記液体金属は、反磁性体であってもよい。   In the liquid crystal display device of the present invention, the liquid metal may be a diamagnetic material.

上記反磁性体とは、自発磁化を有さず、磁場をかけた場合にのみ、物質が磁場の逆向きに磁化され、磁場とその勾配の積に比例する力が、磁石に反する方向に生ずる磁性体のことである。   The diamagnetic material does not have spontaneous magnetization, and only when a magnetic field is applied, the substance is magnetized in the opposite direction of the magnetic field, and a force proportional to the product of the magnetic field and its gradient is generated in the direction opposite to the magnet. It is a magnetic material.

上記液体金属が反磁性体であるとき、画素領域外である遮光領域に磁界発生部を設けることが好ましい。これにより、磁界発生部が磁界を発生させたときに、エレクトロウエッティング作用により、上記磁界発生部から反発するように液体金属が変形し、画素領域内(開口領域)に液体金属を移動させることができる。これにより、反射表示を実現することができる。   When the liquid metal is a diamagnetic material, it is preferable to provide a magnetic field generator in a light shielding region outside the pixel region. Thereby, when the magnetic field generator generates a magnetic field, the liquid metal is deformed so as to repel the magnetic field generator by the electrowetting action, and the liquid metal is moved into the pixel region (opening region). Can do. Thereby, reflective display can be realized.

本発明の液晶表示装置において、上記液体金属は、水銀であってもよい。   In the liquid crystal display device of the present invention, the liquid metal may be mercury.

上記の構成によれば、移動可能な反射電極を実現することができる。なお、水銀は反磁性体であるため、上記磁界発生部が磁場をかけたときに、発生した磁場とは反対の向きの磁性を帯びる。   According to said structure, the movable reflective electrode is realizable. Since mercury is a diamagnetic material, when the magnetic field generator applies a magnetic field, it is magnetized in a direction opposite to the generated magnetic field.

本発明の液晶表示装置において、上記磁界発生部は、コイル状構造を有していてもよい。   In the liquid crystal display device of the present invention, the magnetic field generation unit may have a coiled structure.

上記の構成によれば、上記コイル状構造に電流を流すことによって、電磁作用によって磁界を発生させることができる。また、流す電流の向きによって、発生させる磁界の向きを変更することもできる。   According to said structure, a magnetic field can be generated by an electromagnetic effect | action by sending an electric current through the said coil-shaped structure. In addition, the direction of the magnetic field to be generated can be changed depending on the direction of the flowing current.

本発明の液晶表示装置において、上記液体金属収容空間の底面には、上記画素領域の中央部を頂点とした勾配を有する隆起部が形成されていてもよい。   In the liquid crystal display device of the present invention, a raised portion having a gradient with the central portion of the pixel region as a vertex may be formed on the bottom surface of the liquid metal accommodating space.

上記の構成によれば、反射表示モードから透過表示モードへ移行させるときの液体金属の移動を、隆起部の物理的な傾斜による自重を利用して行うことができる。そのため、消費電力を低減させることができる。   According to said structure, the movement of a liquid metal when making it transfer to reflective display mode from reflective display mode can be performed using the dead weight by the physical inclination of a protruding part. Therefore, power consumption can be reduced.

本発明の液晶表示装置では、上記反射電極層の上部に、上記画素領域を構成する画素電極、上記液晶層、および、上記対向基板が設けられていてもよい。   In the liquid crystal display device of the present invention, the pixel electrode constituting the pixel region, the liquid crystal layer, and the counter substrate may be provided on the reflective electrode layer.

上記の構成によれば、反射電極層の上部に液晶を駆動するための画素電極などが設けられていることによって、画素電極、液晶層、および対向基板(対向電極)による液晶表示駆動と、反射電極層での反射表示と透過表示との切り替えとを組み合わせた液晶パネルを実現することができる。   According to the above configuration, the pixel electrode for driving the liquid crystal is provided on the reflective electrode layer, so that the liquid crystal display driving by the pixel electrode, the liquid crystal layer, and the counter substrate (counter electrode), and the reflection are performed. A liquid crystal panel that combines reflection display and transmission display on the electrode layer can be realized.

本発明の液晶表示装置において、上記磁界発生部は、1つの上記画素領域ごとに磁界の発生の制御を行うものであってもよい。   In the liquid crystal display device of the present invention, the magnetic field generator may control generation of a magnetic field for each of the pixel regions.

上記の構成によれば、液晶パネルの全表示領域単位ではなく、1画素単位で表示モードの切り替えを行うことができる。これにより、1つの液晶パネル内に、反射表示モードの画素領域と透過表示モードの画素領域とを共存させることができる。   According to the above configuration, the display mode can be switched in units of one pixel, not in the entire display area unit of the liquid crystal panel. As a result, the pixel area in the reflective display mode and the pixel area in the transmissive display mode can coexist in one liquid crystal panel.

本発明にかかる液晶表示装置において、上記反射電極層には、反射性を有する液体金属と、上記液体金属が移動可能な状態で収容されている液体金属収容空間と、上記液体金属収容空間内に磁界を発生させる磁界発生部とが設けられており、上記磁界発生部が発生させる磁界によって、上記液体金属が移動して上記反射表示と上記透過表示との切り替えが行われることを特徴とする。   In the liquid crystal display device according to the present invention, the reflective electrode layer includes a reflective liquid metal, a liquid metal storage space in which the liquid metal is stored in a movable state, and the liquid metal storage space. There is provided a magnetic field generating unit for generating a magnetic field, and the liquid metal moves by the magnetic field generated by the magnetic field generating unit to switch between the reflective display and the transmissive display.

本発明によれば、反射表示および透過表示という両方の表示モードにおいて、十分な画素表示面積が得られる反射透過型の液晶表示装置を実現することができる。   According to the present invention, it is possible to realize a reflection / transmission type liquid crystal display device capable of obtaining a sufficient pixel display area in both display modes of reflection display and transmission display.

図2に示す液晶表示装置に備えられた液晶パネル内の一画素領域の構成を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a configuration of one pixel region in a liquid crystal panel provided in the liquid crystal display device shown in FIG. 2. 本発明の一実施の形態にかかる液晶表示装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the liquid crystal display device concerning one embodiment of this invention. 図1に示す液晶パネルのX−Y部分の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the XY part of the liquid crystal panel shown in FIG. 本実施の形態の液晶パネルに備えられたTFT基板の製造工程を説明するための図である。(a)〜(e)は、各製造工程を工程順に示したものである。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the TFT substrate with which the liquid crystal panel of this Embodiment was equipped. (A)-(e) shows each manufacturing process in process order. 本実施の形態の液晶パネルに備えられたTFT基板の製造工程を説明するための図である。(a)〜(c)は、図4の(e)の後の各製造工程を工程順に示したものである。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the TFT substrate with which the liquid crystal panel of this Embodiment was equipped. (A)-(c) shows each manufacturing process after (e) of FIG. 4 in order of a process. 本実施の形態の液晶パネルに備えられたTFT基板の製造工程を説明するための図である。(a)〜(c)は、図5の(c)の後の各製造工程を工程順に示したものである。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the TFT substrate with which the liquid crystal panel of this Embodiment was equipped. (A)-(c) shows each manufacturing process after (c) of Drawing 5 in order of a process. 本実施の形態の液晶パネル内のTFT基板に含まれるコイルの構造を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the coil contained in the TFT substrate in the liquid crystal panel of this Embodiment. (a)は、本実施の形態におけるコイルの構造を示す斜視図であり、(b)は、図7に示すコイルのC1−D1部分の構成を示す断面図であり、(c)は、図7に示すコイルのC2−D2部分の構成を示す断面図であり、(d)は、図7に示すコイルのC3−D3部分の構成を示す断面図である。(A) is a perspective view which shows the structure of the coil in this Embodiment, (b) is sectional drawing which shows the structure of the C1-D1 part of the coil shown in FIG. 7, (c) is a figure. 8 is a cross-sectional view showing a configuration of a C2-D2 portion of the coil shown in FIG. 7, and FIG. 8D is a cross-sectional view showing a configuration of a C3-D3 portion of the coil shown in FIG. 本実施の形態の液晶パネルの画素領域において、透過表示モードから反射表示モードへの切り替わり動作を説明するための平面図である。FIG. 10 is a plan view for explaining the switching operation from the transmissive display mode to the reflective display mode in the pixel region of the liquid crystal panel of the present embodiment. 本実施の形態の液晶パネルの画素領域において、透過表示モードから反射表示モードへの切り替わり動作を説明するための断面図である。なお、図中(a)は、図9の(a)におけるA1−B1部分の断面構成を示すものであり、図中(b)は、図9の(c)におけるA2−B2部分の断面構成を示すものである。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the switching operation from the transmissive display mode to the reflective display mode in the pixel region of the liquid crystal panel of the present embodiment. In addition, (a) in the drawing shows the sectional configuration of the A1-B1 portion in (a) of FIG. 9, and (b) in the drawing shows the sectional configuration of the A2-B2 portion in (c) of FIG. Is shown. 本発明の原理(電磁作用)を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the principle (electromagnetic action) of this invention. 従来の反射透過型の液晶表示装置における画素構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the pixel structure in the conventional reflective transmissive liquid crystal display device.

以下、本発明の一実施形態について図1〜図11に基づいて説明する。なお、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that the present invention is not limited to this.

また、以下で参照する各図は、説明の便宜上、本発明の実施形態の構成部材のうち、本発明を説明するために必要な主要部材のみを簡略化して示したものである。したがって、本発明にかかる液晶表示装置は、本明細書が参照する各図に示されていない任意の構成部材を備え得る。また、各図中の部材寸法は、実際の構成部材の寸法を及び各部材の寸法比率を忠実に表したものではない。   For convenience of explanation, the drawings referred to below show only the main members necessary for explaining the present invention in a simplified manner among the constituent members of the embodiment of the present invention. Therefore, the liquid crystal display device according to the present invention may include any constituent member that is not shown in the drawings referred to in this specification. Moreover, the member dimension in each figure does not represent the dimension of an actual structural member faithfully and the dimension ratio of each member.

本実施形態では、複数のソース配線と複数のゲート配線とが交差するように配置され、その交差部近傍にマトリクス状に配置された複数の画素部(画素領域)を有するアクティブマトリクス基板を備えた液晶表示装置について説明する。   In the present embodiment, an active matrix substrate having a plurality of pixel portions (pixel regions) arranged in a matrix in the vicinity of the intersection is arranged so that a plurality of source lines and a plurality of gate lines intersect. A liquid crystal display device will be described.

本実施の形態にかかる液晶表示装置は、反射表示モードと透過表示モードとを切り替え可能な構成とした反射透過型の液晶表示装置である。すなわち、本実施の形態の液晶表示装置では、屋内などの比較的に暗い照明下では、バックライト光を利用した透過表示モードにより画像を表示する一方、屋外などの比較的に明るい照明下では、バックライトを消して周囲光を利用した反射表示モードにより画像表示を行う。   The liquid crystal display device according to this embodiment is a reflection / transmission type liquid crystal display device configured to be able to switch between a reflection display mode and a transmission display mode. That is, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, an image is displayed in a transmissive display mode using backlight light under relatively dark illumination such as indoors, while under a relatively bright illumination such as outdoors, The image is displayed in the reflective display mode using the ambient light with the backlight off.

図2には、本実施の形態にかかる液晶表示装置10の概略構成を示す。この図に示すように、液晶表示装置10には、液晶パネル40の裏面側にバックライト50が設けられている。液晶パネル40は、表側偏光板43aと裏側偏光板43bとの間に挟みこまれた構成を有している。ここで、表側とは、液晶パネル40へ外部光が入射する側のことをいい、裏側とは、バックライトが設けられている側のことをいう。   FIG. 2 shows a schematic configuration of the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment. As shown in this figure, the liquid crystal display device 10 is provided with a backlight 50 on the back side of the liquid crystal panel 40. The liquid crystal panel 40 has a configuration sandwiched between a front-side polarizing plate 43a and a back-side polarizing plate 43b. Here, the front side means a side on which external light is incident on the liquid crystal panel 40, and the back side means a side on which a backlight is provided.

さらに、液晶パネル40と表側偏光板43aとの間には、反射表示を実現するための位相差板として表側λ/4板41aが設けられているとともに、液晶パネル40と裏側偏光板43bとの間には、もう一つの位相差板として裏側λ/4板41bが設けられている。   Further, a front side λ / 4 plate 41a is provided as a retardation plate for realizing reflective display between the liquid crystal panel 40 and the front side polarizing plate 43a, and between the liquid crystal panel 40 and the back side polarizing plate 43b. A backside λ / 4 plate 41b is provided as another retardation plate between them.

λ/4板41aおよび41bは、自身を透過する光の偏光状態を変化させるものである。偏光板43aおよび43bは、特定の偏光成分の光だけを透過させるものである。   The λ / 4 plates 41a and 41b change the polarization state of light transmitted through the λ / 4 plates 41a and 41b. The polarizing plates 43a and 43b transmit only light having a specific polarization component.

液晶パネル40は、TFT基板(アクティブマトリクス基板)31、対向基板(カラーフィルタ基板)32、および、これら各基板の間に設けられた液晶層33で構成されている。   The liquid crystal panel 40 includes a TFT substrate (active matrix substrate) 31, a counter substrate (color filter substrate) 32, and a liquid crystal layer 33 provided between these substrates.

本実施の形態の液晶表示装置10は、透過表示モードAと反射表示モードBという2つの表示モードにより画像を表示することができる。   The liquid crystal display device 10 of the present embodiment can display an image in two display modes, a transmissive display mode A and a reflective display mode B.

すなわち、透過表示モードAの場合には、液晶パネル40の裏面側に設けられたバックライト50の照射光により透過表示を行う。なお、裏側λ/4板41bは、この透過表示において表側λ/4板41aによる位相差への影響をキャンセルするため(つまり、変化した偏光状態を元に戻すため)に設けられている。   That is, in the transmissive display mode A, transmissive display is performed by the irradiation light of the backlight 50 provided on the back side of the liquid crystal panel 40. The back side λ / 4 plate 41b is provided in order to cancel the influence of the front side λ / 4 plate 41a on the phase difference in this transmissive display (that is, to restore the changed polarization state).

また、反射表示モードBの場合には、液晶パネル40内に移動可能な状態で配置された反射性を有する液体金属(Hg)を画素領域内に移動させ、この液体金属が反射電極を形成することで、外部光を利用した反射表示を行うことができる。このとき、液晶表示装置10に設けられた表側λ/4板41aにより、正しい白黒表示を行うことができる。   In the case of the reflective display mode B, a reflective liquid metal (Hg) disposed in a movable state in the liquid crystal panel 40 is moved into the pixel region, and this liquid metal forms a reflective electrode. Thus, reflective display using external light can be performed. At this time, correct black and white display can be performed by the front side λ / 4 plate 41 a provided in the liquid crystal display device 10.

具体的には、表側λ/4板41aによって、例えば、液晶パネル40が電圧印加状態にある場合には、表側偏光板43aから入射した外部光は、表側λ/4板41aおよび位相差0の液晶層を往復で追加することによって、偏光状態をλ/2だけ変化させ、表側偏光板43aの透過方位に対して90度ずれた直線偏光となるため、表側偏光板43aを通過できずに黒表示となる。一方、液晶パネル40が電圧無印加状態にある場合には、表側偏光板43aから入射した外部光は、表側λ/4板41aおよび位相差λ/4の液晶層を往復で追加することによって、偏光状態をλ/2だけ変化させ、表側偏光板43aの透過方位と平行な直線偏光となるため、表側偏光板43aを通過して白表示となる。   Specifically, for example, when the liquid crystal panel 40 is in a voltage application state by the front side λ / 4 plate 41a, external light incident from the front side polarizing plate 43a has a phase difference of 0 and the front side λ / 4 plate 41a. By adding the liquid crystal layer in a reciprocating manner, the polarization state is changed by λ / 2 and the linearly polarized light is shifted by 90 degrees with respect to the transmission direction of the front polarizing plate 43a. Display. On the other hand, when the liquid crystal panel 40 is in a state in which no voltage is applied, external light incident from the front-side polarizing plate 43a is added back and forth between the front-side λ / 4 plate 41a and the phase difference λ / 4 liquid crystal layer. Since the polarization state is changed by λ / 2 and the linearly polarized light is parallel to the transmission direction of the front-side polarizing plate 43a, the white color is displayed through the front-side polarizing plate 43a.

続いて、液晶パネル40の具体的な構成について説明する。図1には、液晶パネル40内の1画素領域10Pの構成を模式的に示す。なお、図1に示す画素領域10Pは、透過表示モードの状態を示している。   Next, a specific configuration of the liquid crystal panel 40 will be described. FIG. 1 schematically shows the configuration of one pixel region 10P in the liquid crystal panel 40. Note that the pixel region 10P illustrated in FIG. 1 indicates a state of the transmissive display mode.

図1に示すように、画素領域10Pは、隣接する2本のソース配線11,11、および、隣接する2本の補助容量配線13,13で囲まれた領域である。なお、2本の補助容量配線13,13の間には、ゲート配線12が補助容量配線13と平行に延びている。   As shown in FIG. 1, the pixel region 10 </ b> P is a region surrounded by two adjacent source lines 11 and 11 and two adjacent auxiliary capacitance lines 13 and 13. Note that the gate line 12 extends in parallel with the auxiliary capacity line 13 between the two auxiliary capacity lines 13 and 13.

また、画素領域10P内には、ゲート配線12から引き出されたゲート電極12a、ソース配線11から引き出されたソース電極11a、および、ドレイン電極13aが設けられており、これらの各電極でTFT21(スイッチング素子)が構成されている。さらに、ドレイン電極13aは、コンタクトホール14を介して画素電極16に電気的に接続されている。また、ドレイン電極13aは、ドレイン引き出し配線13cを介して、補助容量配線13と重なるように形成された補助容量電極15と接続されている。ドレイン電極13a、ドレイン引き出し配線13c、および補助容量電極15は、ソース電極111aと同層に形成されている。これにより、補助容量配線13および補助容量電極15間で補助容量が形成される。   Further, in the pixel region 10P, a gate electrode 12a drawn from the gate wiring 12, a source electrode 11a drawn from the source wiring 11, and a drain electrode 13a are provided. Element). Further, the drain electrode 13 a is electrically connected to the pixel electrode 16 through the contact hole 14. The drain electrode 13a is connected to the auxiliary capacitance electrode 15 formed so as to overlap the auxiliary capacitance wiring 13 through the drain lead-out wiring 13c. The drain electrode 13a, the drain lead line 13c, and the auxiliary capacitance electrode 15 are formed in the same layer as the source electrode 111a. As a result, an auxiliary capacitance is formed between the auxiliary capacitance wiring 13 and the auxiliary capacitance electrode 15.

図1に示す画素領域10Pは透過表示モードの状態であるため、画素電極16と重なる領域に反射電極は存在していない。なお、透過表示モードの状態では、反射表示モードのときに反射電極を形成するための液体金属(具体的には、水銀Hg)は、図1に示すように、画素電極16の外周に存在する遮光領域(すなわち、ソース配線11および補助容量配線13と重なる領域)内に収容されている。そこで、この部分をHg収容部17と呼ぶ。   Since the pixel region 10P shown in FIG. 1 is in the transmissive display mode, there is no reflective electrode in the region overlapping the pixel electrode 16. In the transmissive display mode, the liquid metal (specifically, mercury Hg) for forming the reflective electrode in the reflective display mode exists on the outer periphery of the pixel electrode 16 as shown in FIG. It is accommodated in a light shielding region (that is, a region overlapping with the source line 11 and the auxiliary capacitance line 13). Therefore, this portion is referred to as the Hg accommodating portion 17.

図3には、図1の液晶パネル40におけるX−Y部分の断面構成を示す。上記したように、液晶パネル40は、TFT基板31と対向基板32との間に液晶層33が挟まれた構成を有している。   FIG. 3 shows a cross-sectional configuration of the XY portion in the liquid crystal panel 40 of FIG. As described above, the liquid crystal panel 40 has a configuration in which the liquid crystal layer 33 is sandwiched between the TFT substrate 31 and the counter substrate 32.

TFT基板31内には、反射電極層34が設けられている。説明の便宜上、TFT基板31において、上記反射電極層34よりも下側の構造を下部構造とし、上記反射電極層34よりも上側の構造を上部構造とする。まず、上記下部構造および上記上部構造について説明する。   A reflective electrode layer 34 is provided in the TFT substrate 31. For convenience of explanation, in the TFT substrate 31, the structure below the reflective electrode layer 34 is a lower structure, and the structure above the reflective electrode layer 34 is an upper structure. First, the lower structure and the upper structure will be described.

上記下部構造では、ベースコートが施されたガラス基板51上に、半導体層52(ポリシリコン層)が所定形状に形成されており、それを覆うように絶縁層53が形成され、さらに、その上層に補助容量配線13を構成するゲート電極層54が形成されている。ゲート電極層54は、所定形状にパターニングされて、ゲート配線12、補助容量配線13などを構成する。ゲート電極層54のさらに上層には、層間絶縁膜55が設けられている。   In the lower structure, a semiconductor layer 52 (polysilicon layer) is formed in a predetermined shape on a glass substrate 51 to which a base coat has been applied, and an insulating layer 53 is formed so as to cover it, and further on the upper layer. A gate electrode layer 54 constituting the auxiliary capacitance line 13 is formed. The gate electrode layer 54 is patterned into a predetermined shape to form the gate wiring 12, the auxiliary capacitance wiring 13, and the like. An interlayer insulating film 55 is provided further above the gate electrode layer 54.

また、上記上部構造では、反射電極層34の最上層を構成する絶縁膜58上に、ソース電極層(図3では図示せず)が形成されている。ソース電極層は、所定形状にパターニングされ、ソース配線11、補助容量電極15などを構成する。ソース電極層上には、絶縁材料で平坦化膜61が形成されており、その上層にITOなどからなる画素電極16が形成されている。図3では示していないが、画素電極16は、各画素領域に合わせてパターン化されており、各画素電極16は、コンタクトホール14を介して、ソース電極層で形成されたドレイン電極13aと接続されている。画素電極16のさらに上層には、配向膜62が形成されおり、該配向膜62がTFT基板31の最上層になっている。   In the upper structure, a source electrode layer (not shown in FIG. 3) is formed on the insulating film 58 constituting the uppermost layer of the reflective electrode layer 34. The source electrode layer is patterned into a predetermined shape, and constitutes the source wiring 11, the auxiliary capacitance electrode 15, and the like. A planarizing film 61 is formed of an insulating material on the source electrode layer, and a pixel electrode 16 made of ITO or the like is formed thereon. Although not shown in FIG. 3, the pixel electrode 16 is patterned in accordance with each pixel region, and each pixel electrode 16 is connected to the drain electrode 13 a formed of the source electrode layer through the contact hole 14. Has been. An alignment film 62 is formed on the upper layer of the pixel electrode 16, and the alignment film 62 is the uppermost layer of the TFT substrate 31.

なお、図3には示されていないが、ゲート配線12と同層に形成されたゲート電極12a、半導体層52、ソース配線11と同層に形成されたソース電極11aおよびドレイン電極13aが積層されて、TFT21が構成されている。   Although not shown in FIG. 3, a gate electrode 12a formed in the same layer as the gate wiring 12, a semiconductor layer 52, a source electrode 11a and a drain electrode 13a formed in the same layer as the source wiring 11 are stacked. Thus, the TFT 21 is configured.

上記したTFT基板31の下部構造および上部構造は、従来のアクティブマトリクス型の液晶パネルと同様の構成である。これに対して、以下に説明する反射電極層34は、従来の液晶パネルにはない構成である。   The lower structure and upper structure of the TFT substrate 31 described above have the same configuration as that of a conventional active matrix liquid crystal panel. On the other hand, the reflective electrode layer 34 described below has a configuration that is not found in a conventional liquid crystal panel.

図3に示すように、反射電極層34は、液体金属72(具体的には、Hg)が移動可能に収容された液体金属層56(液体金属収容空間)と、その上部に積層された層間保護膜57および絶縁膜58とで構成されている。なお、図3に示す断面は、図1のX−Y部分の断面であり、Hg収容部17を含んでいる。このHg収容部17には、液体金属層56内に磁界を発生させるためのコイル73(磁界発生部)が設けられている。   As shown in FIG. 3, the reflective electrode layer 34 includes a liquid metal layer 56 (liquid metal storage space) in which a liquid metal 72 (specifically, Hg) is movably stored, and an interlayer stacked on the liquid metal layer 56. A protective film 57 and an insulating film 58 are included. Note that the cross section shown in FIG. 3 is a cross section of the XY portion of FIG. 1 and includes the Hg accommodating portion 17. The Hg accommodating portion 17 is provided with a coil 73 (magnetic field generating portion) for generating a magnetic field in the liquid metal layer 56.

なお、コイル73は、Hg収容部17の外周に隙間なく設けられていることが好ましい。これは、コイルとコイルとの間にある程度の幅の隙間が存在すると、各コイル間にコイル内とは逆向きの磁束空間が存在し(図11の(a)参照)、液体金属72を画素領域内に移動させようとする磁力とは反対の磁力が発生するため、液体金属72を画素領域内に確実に移動させることができなくなるおそれがあるからである。   In addition, it is preferable that the coil 73 is provided in the outer periphery of the Hg accommodating part 17 without a gap. This is because if a gap with a certain width exists between the coils, a magnetic flux space opposite to the inside of the coil exists between the coils (see FIG. 11A), and the liquid metal 72 is replaced by a pixel. This is because a magnetic force opposite to the magnetic force to be moved into the region is generated, and there is a possibility that the liquid metal 72 cannot be reliably moved into the pixel region.

また、反射電極層34内の液体金属層56の底面には、画素領域10Pの中心(図1に示す画素中央部C)を頂点として当該頂点からから端部に向かって傾斜する勾配を付けるための隆起部71が形成されている。なお、上記画素中央部Cは、画素領域10Pのほぼ中心に位置していればよく、厳密に画素領域の中心に位置している必要はない。上記の構成を言い換えれば、液体金属層56内に磁界が発生していない状態のときに、液体金属(水銀)が自重によって画素領域10Pの領域外に移動できる程度に、液体金属層56の底面に隆起部71が形成されていればよい。   Further, the bottom surface of the liquid metal layer 56 in the reflective electrode layer 34 is provided with a gradient that inclines from the apex to the end with the center of the pixel region 10P (pixel central portion C shown in FIG. 1) as the apex. The raised portion 71 is formed. Note that the pixel central portion C only needs to be positioned substantially at the center of the pixel region 10P, and does not have to be strictly positioned at the center of the pixel region. In other words, when the magnetic field is not generated in the liquid metal layer 56, the bottom surface of the liquid metal layer 56 is such that the liquid metal (mercury) can move out of the pixel region 10P by its own weight. It suffices if the raised portion 71 is formed.

また、対向基板32は、ガラス基板63上にカラーフィルタ層および対向電極がこの順に積層されており、最上層に配向膜64が形成された構成を有している。対向基板32の構成についても、従来の液晶パネルの構成を適用することができる。   The counter substrate 32 has a configuration in which a color filter layer and a counter electrode are laminated in this order on a glass substrate 63, and an alignment film 64 is formed as the uppermost layer. The configuration of the conventional liquid crystal panel can also be applied to the configuration of the counter substrate 32.

ここで、コイル73(コイル状構造)の具体的な構造について説明する。図7には、コイル73をその上部電極76側から見た場合の平面構成を示す。また、図8の(a)には、コイル73の立体構造を示し、図8の(b)には、図7に示すコイル73のC1−D1部分の断面構成を示し、図8の(c)には、図7に示すコイル73のC2−D2部分の断面構成を示し、図8の(d)には、図7に示すコイル73のC3−D3部分の断面構成を示す。   Here, a specific structure of the coil 73 (coiled structure) will be described. FIG. 7 shows a planar configuration when the coil 73 is viewed from the upper electrode 76 side. 8A shows a three-dimensional structure of the coil 73, FIG. 8B shows a cross-sectional configuration of the C1-D1 portion of the coil 73 shown in FIG. 7, and FIG. ) Shows a cross-sectional configuration of the C2-D2 portion of the coil 73 shown in FIG. 7, and FIG. 8D shows a cross-sectional configuration of the C3-D3 portion of the coil 73 shown in FIG.

図7に示すように、コイル73は、下部電極74と上部電極76とで構成されており、下部電極74は、複数の互いに平行な線状構造で構成されている。また、上部電極76も、複数の互いに平行な線状構造で構成されており、各線状構造の両端部が、下部電極74を構成する互いに隣接する2本の線状構造の一端と、それぞれ重なり合うようにパターン形成されている。そして、図8の(b)および(d)に示すように、各線状構造の端部では、上部電極76が下部電極74にまで延びており、上部電極76と下部電極74とが接続されている。つまり、図8の(a)に示すように、上部電極76と下部電極74との間に存在するコイル層間絶縁膜75内に、部分的に上部電極76’が埋め込まれている。   As shown in FIG. 7, the coil 73 includes a lower electrode 74 and an upper electrode 76, and the lower electrode 74 includes a plurality of parallel linear structures. The upper electrode 76 is also configured by a plurality of parallel linear structures, and both ends of each linear structure overlap one end of two adjacent linear structures constituting the lower electrode 74, respectively. The pattern is formed as follows. 8B and 8D, the upper electrode 76 extends to the lower electrode 74 at the end of each linear structure, and the upper electrode 76 and the lower electrode 74 are connected to each other. Yes. That is, as shown in FIG. 8A, the upper electrode 76 ′ is partially embedded in the coil interlayer insulating film 75 existing between the upper electrode 76 and the lower electrode 74.

このように、コイル73は、下部電極74と上部電極76との組合せによってらせん状のコイル構造を有している。   Thus, the coil 73 has a helical coil structure by a combination of the lower electrode 74 and the upper electrode 76.

なお、本実施の形態において、コイル73に電流を流すことによって、液体金属層56内に磁界を発生させる。そのため、コイル73は、トランジスタ等のスイッチング素子(図示せず)と接続されており、このスイッチング素子を介して電流のオン/オフ制御が行われる。   In the present embodiment, a magnetic field is generated in the liquid metal layer 56 by passing a current through the coil 73. Therefore, the coil 73 is connected to a switching element (not shown) such as a transistor, and current on / off control is performed via the switching element.

また、本実施の形態では、1つの画素領域10Pごとにコイル73およびそれに対して電流のオン/オフ制御を行うスイッチング素子が個別に設けられている。そのため、液晶パネル40の全表示領域単位ではなく、1画素単位で表示モードの切り替えを行うことができる。これにより、1つの液晶パネル40内に、反射表示モードの画素領域10Pと透過表示モードの画素領域10Pとを共存させることができる。但し、本発明はこのような構成に限定されることはなく、表示モードの切り替えを、液晶パネルの表示領域の全体(全ての画素領域)で一括して行うものであってもよい。   Further, in the present embodiment, the coil 73 and the switching element that performs on / off control of the current with respect to the coil 73 are individually provided for each pixel region 10P. Therefore, the display mode can be switched in units of one pixel, not in the entire display area unit of the liquid crystal panel 40. Accordingly, the pixel area 10P in the reflective display mode and the pixel area 10P in the transmissive display mode can coexist in one liquid crystal panel 40. However, the present invention is not limited to such a configuration, and display mode switching may be performed collectively in the entire display area of the liquid crystal panel (all pixel areas).

なお、コイル駆動用スイッチング素子(トランジスタ)は、画素電極駆動用トランジスタと同様な構成を有していればよい。したがって、コイル駆動用スイッチング素子の製造プロセスに特別なものは必要なく、画素電極駆動用トランジスタと同時形成することが可能である。   Note that the coil driving switching element (transistor) may have the same configuration as the pixel electrode driving transistor. Accordingly, no special manufacturing process is required for the coil driving switching element, and the coil driving switching element can be formed simultaneously with the pixel electrode driving transistor.

また、1画素単位で表示モードの切り替えを行う場合、1つの画素領域内に含まれる各コイルは、表示モードの切り替えに応じて全てが同じようにオン/オフ制御されるため、それぞれを個別に駆動させる必要性はない。そのため、1つの画素単位に含まれる全てのコイルをつなぎ合わせても問題はなく、コイル駆動用スイッチング素子は1つの画素領域内に最低1個存在すればよい。   Also, when switching the display mode in units of one pixel, all the coils included in one pixel area are controlled on / off in the same manner according to the switching of the display mode. There is no need to drive. Therefore, there is no problem even if all the coils included in one pixel unit are connected, and it is sufficient that at least one coil driving switching element exists in one pixel region.

また、コイル駆動用スイッチング素子は、画素電極駆動用のトランジスタのように各画素の近傍に配置しても、表示領域外のパネル外周の周辺回路部に配置しても問題なく、配置位置に関する制限はない。   In addition, the coil driving switching element can be disposed in the vicinity of each pixel like a pixel electrode driving transistor, or can be disposed in the peripheral circuit portion on the outer periphery of the panel outside the display area. There is no.

続いて、TFT基板31の製造方法について、図4、図5、および図6を参照しながら説明する。   Next, a method for manufacturing the TFT substrate 31 will be described with reference to FIGS. 4, 5, and 6.

図4の(a)〜(e)、図5の(a)〜(c)、および、図6の(a)〜(c)には、TFT基板31の製造工程を工程順に示す。   4A to 4E, FIG. 5A to FIG. 5C, and FIG. 6A to FIG. 6C, the manufacturing process of the TFT substrate 31 is shown in the order of steps.

まず、図4の(a)に示すように、一般的な薄膜トランジスタの形成工程によって、ガラス基板51上に、ベースコートを施し、半導体層52、絶縁層53、および、ゲート電極層54を形成する。   First, as shown in FIG. 4A, a base coat is applied on a glass substrate 51 to form a semiconductor layer 52, an insulating layer 53, and a gate electrode layer 54 by a general thin film transistor forming process.

次に、図4の(b)に示すように、所定形状にパターニングされたゲート電極層54を覆うように層間絶縁膜55を成膜し、フォトリソグラフィ工程によって、図に示すような勾配をつけたレジストパターン81を形成する。   Next, as shown in FIG. 4B, an interlayer insulating film 55 is formed so as to cover the gate electrode layer 54 patterned in a predetermined shape, and a gradient as shown in the figure is applied by a photolithography process. A resist pattern 81 is formed.

次に、図4の(c)に示すように、層間絶縁膜55をBHF等によってウエットエッチングし、開口領域(画素電極16が形成されている領域)の中心を頂点として、10〜15度の勾配を有する隆起部71を形成する。   Next, as shown in FIG. 4C, the interlayer insulating film 55 is wet-etched with BHF or the like, and the center of the opening region (region where the pixel electrode 16 is formed) is set at 10 to 15 degrees. A raised portion 71 having a gradient is formed.

次に、図4の(d)に示すように、コイル73の材料となる下部電極層74をTiなどの金属材料を用いて、例えば膜厚が100nmになるようにスパッタ法で成膜した後、フォトリソグラフィ工程によって所定形状のレジストパターン82(図7に示すような形状の下部電極74の構造)を形成する。   Next, as shown in FIG. 4D, after the lower electrode layer 74, which is the material of the coil 73, is formed by sputtering using a metal material such as Ti to a thickness of 100 nm, for example. Then, a resist pattern 82 having a predetermined shape (a structure of the lower electrode 74 having a shape as shown in FIG. 7) is formed by a photolithography process.

次に、図4の(e)に示すように、下部電極層74をエッチングした後、レジスト82を除去し、コイル73の下部電極74が形成される。   Next, as shown in FIG. 4E, after the lower electrode layer 74 is etched, the resist 82 is removed, and the lower electrode 74 of the coil 73 is formed.

続いて、下部電極74の上に、コイル層間絶縁膜(例えば、SiO膜)75を厚さ100nmで成膜した後、レジストパターンを形成してパターニングを行う。ここでのパターニングでは、コイル73を構成する下部電極74と上部電極76とを接続するためのホールをコイル層間絶縁膜75内に形成する。 Subsequently, a coil interlayer insulating film (for example, SiO 2 film) 75 is formed with a thickness of 100 nm on the lower electrode 74, and then a resist pattern is formed and patterned. In the patterning here, holes for connecting the lower electrode 74 and the upper electrode 76 constituting the coil 73 are formed in the coil interlayer insulating film 75.

その後、コイル層間絶縁膜75上に、上部電極層76をTiなどの金属材料を用いて、例えば膜厚が100nmになるようにスパッタ法で成膜し、コイル層間絶縁膜75内に形成されたホール内にTiなどの金属材料を埋め込んだ後、フォトリソグラフィ工程によって所定形状のレジストパターン(図7に示すような形状の上部電極76の構造)を形成してパターニングを行う。これにより、図7に示すようなコイル73の構造が完成する。   After that, the upper electrode layer 76 was formed on the coil interlayer insulating film 75 by a sputtering method using a metal material such as Ti so as to have a film thickness of 100 nm, for example, and was formed in the coil interlayer insulating film 75. After embedding a metal material such as Ti in the hole, patterning is performed by forming a resist pattern having a predetermined shape (the structure of the upper electrode 76 having a shape as shown in FIG. 7) by a photolithography process. Thereby, the structure of the coil 73 as shown in FIG. 7 is completed.

次に、図5の(a)に示すように、コイル73の上部電極76が露出するようにレジスト83を塗布する。なお、ここでは上部電極76を覆うように厚くレジスト83を塗布して表面を平坦化させた上で、エッチバックによって上部電極76の表面が露出するようにレジストを後退させてもよい。   Next, as shown in FIG. 5A, a resist 83 is applied so that the upper electrode 76 of the coil 73 is exposed. Here, the resist 83 may be thickly applied so as to cover the upper electrode 76 to flatten the surface, and then the resist may be retracted so that the surface of the upper electrode 76 is exposed by etch back.

次に、レジスト83上に層間保護膜(例えば、SiNx膜)57を厚さ200nmに成膜した後、図5の(b)に示すように、所定形状のレジストパターン84を形成して、レジスト83除去用かつ液体金属(Hg)72注入用のホール57aを形成する。   Next, after forming an interlayer protective film (for example, SiNx film) 57 to a thickness of 200 nm on the resist 83, a resist pattern 84 having a predetermined shape is formed as shown in FIG. A hole 57a for removing 83 and for injecting liquid metal (Hg) 72 is formed.

その後、TFT基板31を剥離液に浸漬させることで、図5の(c)に示すように、層間保護膜57上のレジスト84および中空空間形成用のレジスト83を除去する。   Thereafter, the TFT substrate 31 is immersed in a stripping solution to remove the resist 84 on the interlayer protective film 57 and the resist 83 for forming a hollow space, as shown in FIG.

上記の図5の(a)〜(c)の工程により、液体金属層56内に液体金属(Hg)72を封入する中空空間(液体金属収容空間)が形成される。この中空空間の形成方法については、特許文献2に記載された方法を利用することができる。   By the steps (a) to (c) in FIG. 5 described above, a hollow space (liquid metal accommodating space) in which the liquid metal (Hg) 72 is enclosed in the liquid metal layer 56 is formed. As a method for forming the hollow space, the method described in Patent Document 2 can be used.

続いて、図6の(a)に示すように、TFT基板31を液体金属層に浸漬させ、ホール57aから中空空間に液体金属(Hg)72を圧入する。   Subsequently, as shown in FIG. 6A, the TFT substrate 31 is immersed in the liquid metal layer, and the liquid metal (Hg) 72 is pressed into the hollow space from the hole 57a.

その後、図6の(b)に示すように、ホール57aを塞ぐために、層間保護膜57上に塗布型の絶縁膜(例えば、SiO膜)58を、例えばSpin on Grass法等を用いて厚さ50〜100nmで塗布する。その後、焼成工程を経て、絶縁膜58を形成する。 Thereafter, as shown in FIG. 6B, a coating type insulating film (for example, SiO 2 film) 58 is formed on the interlayer protective film 57 by using a spin on glass method or the like to close the hole 57a. Apply at 50-100 nm. Thereafter, an insulating film 58 is formed through a baking process.

次に、ソース金属層を成膜した後、所定形状にパターニングして、ソース配線11、ドレイン電極13a、補助容量電極15などを形成する。その後、図6の(c)に示すように、平坦化膜61成膜し、平坦化膜61上に画素電極16を所定形状に形成する。なお、図6の(c)では、ソース金属層は図示を省略している。また、図6の(c)では、画素電極16がパターン化されていないが、実際には、所定形状にパターニングされている。   Next, after forming a source metal layer, it is patterned into a predetermined shape to form the source wiring 11, the drain electrode 13a, the auxiliary capacitance electrode 15, and the like. Thereafter, as shown in FIG. 6C, a planarizing film 61 is formed, and the pixel electrode 16 is formed in a predetermined shape on the planarizing film 61. In FIG. 6C, the source metal layer is not shown. In FIG. 6C, the pixel electrode 16 is not patterned, but is actually patterned into a predetermined shape.

最後に、TFT基板31の最上層に配向膜62を形成して、TFT基板31が完成する。そして、このTFT基板31と、対向基板32とを貼り合わせ、その間に液晶を注入することで、図3に示すような液晶パネル40が得られる。   Finally, the alignment film 62 is formed on the uppermost layer of the TFT substrate 31 to complete the TFT substrate 31. Then, the TFT substrate 31 and the counter substrate 32 are bonded together, and liquid crystal is injected therebetween, whereby a liquid crystal panel 40 as shown in FIG. 3 is obtained.

本実施の形態の液晶パネル40は、上記のような構成の反射電極層34を有することで、画素領域10Pにおいて透過表示と反射表示との切り替えを行うことができる。すなわち、液晶パネル40に設けられた反射電極層34内のコイル73に電流を流すことによって磁界を発生させる。そして、ここで生じる磁界に対する磁性作用によって、液体金属(Hg)72を画素領域外(すなわち、遮光領域)から画素領域内(すなわち、開口領域)へ移動させることによって、透過表示から反射表示への切り替えを行うことができる。   The liquid crystal panel 40 according to the present embodiment includes the reflective electrode layer 34 having the above-described configuration, so that switching between transmissive display and reflective display can be performed in the pixel region 10P. That is, a magnetic field is generated by passing a current through the coil 73 in the reflective electrode layer 34 provided in the liquid crystal panel 40. Then, the liquid metal (Hg) 72 is moved from the outside of the pixel area (that is, the light shielding area) to the inside of the pixel area (that is, the opening area) by the magnetic action with respect to the magnetic field generated here. Switching can be done.

ここで、液晶表示装置100における透過表示モードと反射表示モードとの切り替え動作について、図9〜図11を参照しながら説明する。   Here, the switching operation between the transmissive display mode and the reflective display mode in the liquid crystal display device 100 will be described with reference to FIGS.

まず、本発明において、液体金属を移動させる原理について図11を参照しながら説明する。図11の(a)に示すように、コイル200に図中の矢印方向の電流を流すことによって、電磁作用によりコイル200の内側にはコイルの軸に平行な磁界が発生する。   First, the principle of moving the liquid metal in the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 11A, when a current in the direction of the arrow in FIG. 11 is passed through the coil 200, a magnetic field parallel to the axis of the coil is generated inside the coil 200 by electromagnetic action.

図11の(b)は、(a)に示すコイル200の一部を拡大して示すものであり、コイル200に流れる電流の向きと磁界との関係を表したものである。コイル200に、図11の(b)に示すような向きの電流を流すと、右ねじの法則(図11の(c)参照)によりコイル200の各導線の周囲には、図中の矢印で示すような磁界(磁力線)が発生する。そして、この磁界は、コイル200の内部では全て同じ方向(図の例では右から左の方向)を向く。これにより、コイル200は、磁力線の発生する端部がN極となり、磁力線の出る端部がS極となる磁石のような機能を有することとなる。   FIG. 11B shows an enlarged part of the coil 200 shown in FIG. 11A and shows the relationship between the direction of current flowing in the coil 200 and the magnetic field. When a current having a direction as shown in FIG. 11 (b) is passed through the coil 200, an arrow in the drawing indicates that each conductor of the coil 200 is surrounded by a right-hand rule (see FIG. 11 (c)). A magnetic field (line of magnetic force) as shown is generated. This magnetic field is all directed in the same direction inside the coil 200 (from the right to the left in the example in the figure). Thus, the coil 200 has a function like a magnet in which the end portion where the magnetic lines of force are generated is an N pole and the end portion where the magnetic lines of force are output is an S pole.

本発明では、上記のような電磁作用を利用し、コイル73に所定の方向の電流を流し、当該コイル73において磁界を発生させる。そして、液体金属の磁性と発生した磁界との関係によるエレクトロウエッティング作用〔参考文献:特表2007−512121(2007年5月17日公開)、特開2008−197296(2008年8月28日公開)〕によって液体金属(Hg)72を移動させる。   In the present invention, using the electromagnetic action as described above, a current in a predetermined direction is passed through the coil 73 to generate a magnetic field in the coil 73. Electrowetting action based on the relationship between the magnetic properties of the liquid metal and the generated magnetic field [References: JP 2007-512121 (published May 17, 2007), JP 2008-197296 (published August 28, 2008) )] To move the liquid metal (Hg) 72.

本実施の形態では、液体金属72として反磁性体である水銀Hgを使用しているため、磁界の向きに対して反発するように移動する。例えば、図3に示すように、コイル73に所定の向きの電流を流し、矢印Aの向きに磁界を発生させた場合、反磁性体である水銀(Hg)は、磁界とは反対の向きに磁化されるため、反発する力(反磁力)Bが働く。これにより、液体金属(Hg)72は、矢印Cの方向に移動する。   In this embodiment, since mercury Hg which is a diamagnetic material is used as the liquid metal 72, the liquid metal 72 moves so as to repel the direction of the magnetic field. For example, as shown in FIG. 3, when a current in a predetermined direction is passed through the coil 73 and a magnetic field is generated in the direction of arrow A, mercury (Hg), which is a diamagnetic material, is in a direction opposite to the magnetic field. Since it is magnetized, a repulsive force (demagnetizing force) B works. As a result, the liquid metal (Hg) 72 moves in the direction of the arrow C.

図9の(a)〜(c)には、液晶パネル40内の画素領域10Pが透過表示モードから反射表示モードへ切り替わる様子を示す。また、図10の(a)には、図9の(a)に示す透過表示モードのときのA1−B1部分の断面構成を示し、図10の(b)には、図9の(c)に示す反射表示モードのときのA2−B2部分の断面構成を示す。なお、図10の(a)および(b)では、ソース電極層で形成されたソース配線11については、図示を省略している。   9A to 9C show how the pixel region 10P in the liquid crystal panel 40 is switched from the transmissive display mode to the reflective display mode. 10A shows a cross-sectional configuration of the A1-B1 portion in the transmissive display mode shown in FIG. 9A, and FIG. 10B shows the cross-sectional configuration of FIG. A cross-sectional configuration of the A2-B2 portion in the reflective display mode shown in FIG. In FIGS. 10A and 10B, the source wiring 11 formed of the source electrode layer is not shown.

図9の(a)および図10の(a)に示す透過表示モードのときには、反射電極層34内のコイル73には電流が流れておらず、隆起部71の勾配の作用により液体金属72は画素領域10Pの外側のHg収容部17内に収容されている。そのため、画素領域10Pは透過部となり、バックライト50からの光は液晶パネル40から透過され、透過表示が実現される。   In the transmissive display mode shown in FIGS. 9A and 10A, no current flows through the coil 73 in the reflective electrode layer 34, and the liquid metal 72 does not flow due to the gradient of the raised portion 71. It is accommodated in the Hg accommodating part 17 outside the pixel region 10P. Therefore, the pixel region 10P becomes a transmissive portion, and light from the backlight 50 is transmitted from the liquid crystal panel 40, thereby realizing transmissive display.

ここで、コイル73に所定の向きの電流を流し磁界を発生させると、反磁性体である液体金属72は、図9の(b)の矢印で示すように、コイル73から反発するように画素中央部Cに向かって移動する。   Here, when a current in a predetermined direction is passed through the coil 73 to generate a magnetic field, the liquid metal 72 that is a diamagnetic material is repelled from the coil 73 as shown by the arrow in FIG. It moves toward the center part C.

これにより、コイル73に電流が流れている期間中は、反射表示モードとなる。つまり、図9の(c)および図10の(b)に示すように、液体金属72はHg収容部17から画素領域10P内に移動し、液体金属72の反射作用により、画素領域10P内は反射部となる。これにより、外光を光源とする反射表示が実現される。ここで、コイル73の電流を止めると磁界が消えるため、液体金属72は隆起部71の傾斜によって再び画素領域外のHg収容部17へ移動し、画素領域10Pは透過部となる。   Accordingly, the reflective display mode is set during a period in which a current flows through the coil 73. That is, as shown in FIG. 9C and FIG. 10B, the liquid metal 72 moves from the Hg accommodating portion 17 into the pixel region 10P, and the reflection of the liquid metal 72 causes the inside of the pixel region 10P to move. It becomes a reflection part. Thereby, the reflective display which uses external light as a light source is implement | achieved. Here, since the magnetic field disappears when the current of the coil 73 is stopped, the liquid metal 72 is moved again to the Hg accommodating portion 17 outside the pixel region due to the inclination of the raised portion 71, and the pixel region 10P becomes a transmissive portion.

以上のように、本実施の形態の液晶表示装置10は、反射性を有する液体金属(具体的には、Hg)72と、液体金属72が移動可能な状態で収容されている液体金属層56と、液体金属層56内に磁界を発生させるコイル73とを有する反射電極層34を備えているTFT基板31を有している。   As described above, the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment includes the reflective liquid metal (specifically, Hg) 72 and the liquid metal layer 56 in which the liquid metal 72 is accommodated in a movable state. And a TFT substrate 31 having a reflective electrode layer 34 having a coil 73 for generating a magnetic field in the liquid metal layer 56.

この構成によれば、反射電極層34では、コイル73が発生させる磁界によって、液体金属72は、液体金属層56内の画素領域10P内(すなわち、開口領域)と画素領域外(すなわち、遮光領域またはHg収容部17)との間を移動し、反射表示と透過表示との切り替えが行われる。   According to this configuration, in the reflective electrode layer 34, the liquid metal 72 is caused to flow in the pixel area 10 </ b> P (that is, the opening area) and outside the pixel area (that is, the light shielding area) in the liquid metal layer 56 by the magnetic field generated by the coil 73. Or it moves between Hg accommodating parts 17), and switching between reflective display and transmissive display is performed.

具体的には、透過表示モードにおいては、画素領域外のHg収容部17に液体金属72は収容されているため、画素領域10Pにおいては、バックライト50からの光が透過される。そして、各画素電極16と対向基板32側の対向電極との電位差によって液晶層33が駆動され、透過表示が行われる。   Specifically, in the transmissive display mode, since the liquid metal 72 is accommodated in the Hg accommodating portion 17 outside the pixel area, the light from the backlight 50 is transmitted in the pixel area 10P. The liquid crystal layer 33 is driven by the potential difference between each pixel electrode 16 and the counter electrode on the counter substrate 32 side, and transmissive display is performed.

そして、透過表示モードから反射表示モードへ移行する場合には、コイル73に電流を流し、電磁作用によって液体金属72を画素領域10P内へ送り出す。これにより、画素領域10P内には、反射性を有する液体金属72によって画素電極16の下部に反射電極が形成される。そして、この反射電極によって反射される外光が光源となり、各画素領域10P内の反射電極と対向基板32側の対向電極との電位差によって液晶層33が駆動され、反射表示が行われる。   When shifting from the transmissive display mode to the reflective display mode, a current is passed through the coil 73, and the liquid metal 72 is sent into the pixel region 10P by electromagnetic action. As a result, a reflective electrode is formed below the pixel electrode 16 by the reflective liquid metal 72 in the pixel region 10P. The external light reflected by the reflective electrode serves as a light source, and the liquid crystal layer 33 is driven by the potential difference between the reflective electrode in each pixel region 10P and the counter electrode on the counter substrate 32 side, thereby performing a reflective display.

したがって、上記の構成によれば、1画素を反射表示領域と透過表示領域とに分割することなく、反射表示モードと透過表示モードとを切り替えることができる。そのため、従来の反射透過型の液晶表示装置と比較して、両方の表示モードにおいて表示画素面積を広くすることができる。   Therefore, according to the above configuration, the reflective display mode and the transmissive display mode can be switched without dividing one pixel into the reflective display region and the transmissive display region. Therefore, the display pixel area can be increased in both display modes as compared with the conventional reflection / transmission type liquid crystal display device.

本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope shown in the claims. That is, embodiments obtained by combining technical means appropriately modified within the scope of the claims are also included in the technical scope of the present invention.

本発明の液晶表示装置を用いれば、1つの画素領域を分割することなく透過表示モードと反射表示モードとの切り替えを行うことができる。従って、本発明の液晶表示装置は、反射透過型の液晶表示装置に適用できる。なお、本発明は、TNモード、VAモードなどの液晶駆動の種類に関わらず、反射透過型の液晶パネルであれば、特に限定されることなく適用することができる。   By using the liquid crystal display device of the present invention, switching between the transmissive display mode and the reflective display mode can be performed without dividing one pixel region. Therefore, the liquid crystal display device of the present invention can be applied to a reflection / transmission type liquid crystal display device. The present invention can be applied without particular limitation as long as it is a reflection / transmission type liquid crystal panel, regardless of the type of liquid crystal driving such as TN mode and VA mode.

10 液晶表示装置
10P 画素領域
11 ソース配線
11a ソース電極
12 ゲート配線
12a ゲート電極
13 補助容量配線
13a ドレイン電極
13c ドレイン引き出し配線
14 コンタクトホール
15 補助容量電極
16 画素電極
17 Hg収容部
21 TFT(トランジスタ、スイッチング素子)
31 TFT基板(アクティブマトリクス基板)
32 対向基板
33 液晶層
34 反射電極層
40 液晶パネル
50 バックライト
56 液体金属層(液体金属収容空間)
71 隆起部
72 液体金属(Hg)
73 コイル(磁界発生部、コイル状構造)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Liquid crystal display device 10P Pixel area | region 11 Source wiring 11a Source electrode 12 Gate wiring 12a Gate electrode 13 Auxiliary capacity wiring 13a Drain electrode 13c Drain lead-out wiring 14 Contact hole 15 Auxiliary capacity electrode 16 Pixel electrode 17 Hg accommodating part 21 TFT (transistor, switching) element)
31 TFT substrate (active matrix substrate)
32 Counter substrate 33 Liquid crystal layer 34 Reflective electrode layer 40 Liquid crystal panel 50 Backlight 56 Liquid metal layer (liquid metal accommodating space)
71 Raised portion 72 Liquid metal (Hg)
73 Coil (Magnetic field generator, coiled structure)

Claims (7)

複数の画素領域がマトリクス状に配置されたアクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶層を有する液晶パネルと、透過表示を行うために上記液晶パネルに光を照射するバックライトとを有する液晶表示装置であって、
上記アクティブマトリクス基板は、反射表示を行うために外光を反射させる反射電極層を備えており、
上記反射電極層には、
反射性を有する液体金属と、
上記液体金属が移動可能な状態で収容されている液体金属収容空間と、
上記液体金属収容空間内に磁界を発生させる磁界発生部とが設けられており、
上記磁界発生部が発生させる磁界によって、上記液体金属が移動して上記反射表示と上記透過表示との切り替えが行われることを特徴とする液晶表示装置。
A liquid crystal display having a liquid crystal panel having a liquid crystal layer between an active matrix substrate in which a plurality of pixel regions are arranged in a matrix and a counter substrate, and a backlight for irradiating the liquid crystal panel with light for transmissive display A device,
The active matrix substrate includes a reflective electrode layer that reflects external light in order to perform reflective display,
In the reflective electrode layer,
A reflective liquid metal;
A liquid metal storage space in which the liquid metal is stored in a movable state; and
A magnetic field generating section for generating a magnetic field in the liquid metal containing space is provided,
The liquid crystal display device, wherein the liquid metal is moved by the magnetic field generated by the magnetic field generation unit to switch between the reflective display and the transmissive display.
上記液体金属は、反磁性体であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid metal is a diamagnetic material. 上記液体金属は、水銀であることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid metal is mercury. 上記磁界発生部は、コイル状構造を有していることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the magnetic field generator has a coiled structure. 上記液体金属収容空間の底面には、上記画素領域の中央部を頂点とした勾配を有する隆起部が形成されていることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の液晶表示装置。   5. The liquid crystal display according to claim 1, wherein a raised portion having a gradient with a central portion of the pixel region as a vertex is formed on a bottom surface of the liquid metal containing space. apparatus. 上記反射電極層の上部に、上記画素領域を構成する画素電極、上記液晶層、および、上記対向基板が設けられていることを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の液晶表示装置。   6. The liquid crystal according to claim 1, wherein a pixel electrode constituting the pixel region, the liquid crystal layer, and the counter substrate are provided on the reflective electrode layer. Display device. 上記磁界発生部は、1つの上記画素領域ごとに磁界の発生の制御を行うことを特徴とする請求項1から6の何れか1項に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the magnetic field generation unit controls generation of a magnetic field for each of the pixel regions.
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