JP2011081187A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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治 佐藤
Masatoshi Tokita
雅利 戸木田
Junji Watanabe
順次 渡辺
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LG Display Co Ltd
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Tokyo Institute of Technology NUC
LG Display Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device and a method for manufacturing the device, which is excellent in alignment controllability of liquid crystal molecules and can be driven at a low voltage, while preventing various problems caused by a rubbing process. <P>SOLUTION: The liquid crystal display device uses a polymer brush as an alignment layer. The method for manufacturing the liquid crystal display device includes steps of: forming a polymer brush on a substrate; injecting a liquid crystal into a space between substrates where the polymer brush is formed; and aligning the liquid crystal by a non-contact aligning method. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関し、特に、各種機器の表示パネルなどに使用される液晶表示装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a liquid crystal display device used for a display panel of various devices and a manufacturing method thereof.

液晶表示装置は、低駆動電圧、低消費電力及び軽量などの特性を有していることから、時計の表示パネルや、携帯電話、コンピュータ及びテレビのディスプレイなどにおける用途が拡大している。
このような液晶表示装置では、液晶分子を基板面に対して所定の方向に並べる(すなわち、配向させる)ことが一般的に必要とされているが、従来の配向技術としては、基板上にポリイミドなどから成る配向膜を形成した後にラビング処理を施すこと(ラビング法)により液晶分子を配向させる方法が知られている。ラビング処理は、レーヨンや綿などの布を巻いたローラーを、回転数及びローラーと基板との距離を一定に保った状態で回転させ、配向膜の表面を一方向に擦ることにより行われる。
Since the liquid crystal display device has characteristics such as a low driving voltage, low power consumption, and light weight, its use in a display panel for a watch, a mobile phone, a computer, a television display, and the like is expanding.
In such a liquid crystal display device, it is generally necessary to align (that is, align) liquid crystal molecules in a predetermined direction with respect to the substrate surface. As a conventional alignment technique, a polyimide is formed on the substrate. A method is known in which liquid crystal molecules are aligned by performing a rubbing treatment (rubbing method) after forming an alignment film composed of the above. The rubbing treatment is performed by rotating a roller wound with a cloth such as rayon or cotton while keeping the rotation speed and the distance between the roller and the substrate constant, and rubbing the surface of the alignment film in one direction.

しかしながら、ラビング処理による配向技術には、以下に挙げるように様々な問題がある。
(1)ラビング処理は、配向膜に大きなキズを生じさせることがあり、そのキズが液晶表示装置の黒表示時において光漏れの原因となり、液晶表示装置のコントラストを低下させる。
(2)ラビング処理によって、配向膜が剥がれたり、ローラーに巻いた布から毛が脱落したりする結果、液晶表示装置の表示品位や歩留まりが低下する。
(3)基板上に形成したTFT素子などによる段差により、ラビングされない部分が生じ、液晶表示装置の表示品位や歩留まりが低下する。
(4)基板とローラーとの間の摩擦によって生じる静電気により、基板上に形成したTFT素子が破壊し、歩留まりが低下する。
However, the alignment technique by rubbing has various problems as listed below.
(1) The rubbing treatment may cause large scratches on the alignment film, and the scratches cause light leakage at the time of black display of the liquid crystal display device, thereby reducing the contrast of the liquid crystal display device.
(2) As a result of the rubbing treatment, the alignment film is peeled off, or the hair is detached from the cloth wound around the roller. As a result, the display quality and yield of the liquid crystal display device are lowered.
(3) A portion that is not rubbed occurs due to a step due to a TFT element or the like formed on the substrate, and the display quality and yield of the liquid crystal display device are lowered.
(4) The static electricity generated by the friction between the substrate and the roller destroys the TFT element formed on the substrate, and the yield decreases.

(5)液晶セルを形成する際の基板の貼り合わせ位置の微妙なズレにより、上下基板の配向方向がずれてしまい(すなわち、配向軸のずれが生じ)、液晶表示装置のコントラストが低下する。
(6)ラビング処理は、ラビングの定量化が難しく、管理が難しい。
(7)基板サイズが大きくなると、基板やローラーのたわみの影響が大きくなり、均一なラビング処理が困難になると共に、ラビング処理のための装置を大きくする必要があるため、投資コストが増大する。
(5) The alignment direction of the upper and lower substrates is shifted due to a slight shift in the bonding position of the substrates when forming the liquid crystal cell (that is, the alignment axis is shifted), and the contrast of the liquid crystal display device is lowered.
(6) The rubbing process is difficult to quantify rubbing and difficult to manage.
(7) When the substrate size is increased, the influence of the deflection of the substrate and the roller is increased, so that uniform rubbing processing becomes difficult, and it is necessary to enlarge the apparatus for rubbing processing, which increases the investment cost.

そこで、ラビング処理を必要としない(ラビングレス)配向技術として、磁場による配向技術(例えば、特許文献1)、配向膜として液晶性高分子を用いる技術(例えば、特許文献2)、液晶層中にポリマーを含有させて液晶分子の配向を制御する技術(例えば、特許文献3)などが提案されている。   Therefore, as an alignment technique that does not require rubbing treatment (rubbing-less), an alignment technique using a magnetic field (for example, Patent Document 1), a technique using a liquid crystalline polymer as an alignment film (for example, Patent Document 2), A technique for controlling the alignment of liquid crystal molecules by containing a polymer (for example, Patent Document 3) has been proposed.

特開平7−13168号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-13168 特公平7−54381号公報Japanese Patent Publication No. 7-54381 特開2004−286984号公報JP 2004-286984 A

しかしながら、従来のラビングレス配向技術は、依然としてその効果が充分ではないという問題がある。
また、液晶表示装置には、省エネルギーの観点から低電圧駆動(低消費電力化)が要求されるが、低電圧駆動のためには配向膜の厚さを薄くすることが有効である。ところが、配向膜にポリイミド膜を使用する場合においては、ポリイミド膜は多孔質膜であるため、ポリイミド膜の下地から液晶層への不純物の侵入を防ぐ観点から、ポリイミド膜を一般的に100nm程度の厚さにする必要があり、配向膜の厚さを薄くすることができないという問題がある。加えて、ポリイミド膜の厚さを薄くした場合、液晶分子の配向制御能力が低下してしまうという問題もある。
However, the conventional rubbingless alignment technique still has a problem that its effect is not sufficient.
In addition, the liquid crystal display device is required to be driven at a low voltage (reduction in power consumption) from the viewpoint of energy saving, but it is effective to reduce the thickness of the alignment film for driving at a low voltage. However, when a polyimide film is used as the alignment film, the polyimide film is a porous film, so that the polyimide film is generally about 100 nm from the viewpoint of preventing impurities from entering the liquid crystal layer from the base of the polyimide film. There is a problem that the thickness of the alignment film cannot be reduced. In addition, when the thickness of the polyimide film is reduced, there is a problem that the ability to control the alignment of liquid crystal molecules is lowered.

本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、ラビング処理に起因する様々な問題を防止しつつ、液晶分子の配向制御性に優れ、且つ低電圧駆動が可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and is a liquid crystal that has excellent liquid crystal molecule alignment controllability and can be driven at a low voltage while preventing various problems caused by rubbing treatment. It is an object to provide a display device and a manufacturing method thereof.

本発明者等は、上記のような問題を解決すべく鋭意研究した結果、多数のグラフトポリマー鎖が高密度で基板表面に対して垂直方向に伸張した構造を有するポリマーブラシが、液晶分子の配向制御性に優れると共に、不純物の侵入を防止する効果が高いという知見に基づき、このポリマーブラシを配向膜として用いることで、上記のような問題を解決し得ることを見出した。
すなわち、本発明は、ポリマーブラシを配向膜として用いたことを特徴とする液晶表示装置である。
また、本発明は、基板上にポリマーブラシを形成する工程と、前記ポリマーブラシを形成した前記基板間に液晶を注入する工程と、非接触配向法によって前記液晶を配向させる工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
さらに、本発明は、基板上にポリマーブラシを形成する工程と、前記ポリマーブラシをラビング処理する工程と、前記ポリマーブラシを形成した前記基板間に液晶を注入する工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a polymer brush having a structure in which a large number of graft polymer chains extend in a direction perpendicular to the substrate surface has a high density of liquid crystal molecules. Based on the knowledge that the controllability is excellent and the effect of preventing the intrusion of impurities is high, it has been found that the above problems can be solved by using this polymer brush as an alignment film.
That is, the present invention is a liquid crystal display device using a polymer brush as an alignment film.
Further, the present invention includes a step of forming a polymer brush on a substrate, a step of injecting liquid crystal between the substrates on which the polymer brush is formed, and a step of aligning the liquid crystal by a non-contact alignment method. It is a manufacturing method of the liquid crystal display device characterized.
Furthermore, the present invention includes a step of forming a polymer brush on a substrate, a step of rubbing the polymer brush, and a step of injecting liquid crystal between the substrates on which the polymer brush is formed. It is a manufacturing method of a liquid crystal display device.

本発明によれば、ラビング処理に起因する様々な問題を防止しつつ、液晶分子の配向制御性に優れ、且つ低電圧駆動が可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the liquid crystal display device which is excellent in the orientation controllability of a liquid crystal molecule, and can be driven by a low voltage, while preventing the various problems resulting from a rubbing process, and its manufacturing method can be provided.

本発明の液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device of this invention. 本発明の液晶表示装置の製造フロー図である。It is a manufacturing flowchart of the liquid crystal display device of this invention. 実施例1の液晶表示装置の回転角度と透過率との関係を示すグラフである。6 is a graph showing the relationship between the rotation angle and the transmittance of the liquid crystal display device of Example 1. 実施例2の液晶表示装置の回転角度と透過率との関係を示すグラフである。6 is a graph showing the relationship between the rotation angle and the transmittance of the liquid crystal display device of Example 2. 実施例1、2及び比較例1の液晶表示装置のV−T曲線を示すグラフである。6 is a graph showing VT curves of liquid crystal display devices of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1. 実施例1の液晶表示装置における電圧印加後の輝度を示すグラフである。6 is a graph showing luminance after voltage application in the liquid crystal display device of Example 1. 実施例2の液晶表示装置における電圧印加後の輝度を示すグラフである。6 is a graph showing luminance after voltage application in the liquid crystal display device of Example 2.

以下、本発明の液晶表示装置及びその製造方法の好適な実施の形態につき図面を用いて説明する。なお、以下では、横電界方式の液晶表示装置を例に本発明を説明するが、本発明はこれに限定されず、縦電界方式の液晶表示装置にも用いることも可能である。
図1は、本発明の液晶表示装置の断面図である。図1において、液晶表示装置は、アレイ基板1と、アレイ基板1に対向して配置された対向基板2と、アレイ基板1と対向基板2との間に狭持された液晶層3とを有している。そして、アレイ基板1には、電極4、固定化膜5及びポリマーブラシ6が順次形成されている。また、対向基板2には、固定化膜5及びポリマーブラシ6が順次形成されている。
このような構成を有する本発明の液晶表示装置は、ポリマーブラシ6を配向膜として用いている点以外は、原則として公知の液晶表示装置と同じ構成であり、配向膜以外の部分は公知の製造方法に準じて製造することが可能である。
Hereinafter, preferred embodiments of a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the following, the present invention will be described by taking a horizontal electric field type liquid crystal display device as an example. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can also be used for a vertical electric field type liquid crystal display device.
FIG. 1 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of the present invention. In FIG. 1, the liquid crystal display device includes an array substrate 1, a counter substrate 2 disposed so as to face the array substrate 1, and a liquid crystal layer 3 sandwiched between the array substrate 1 and the counter substrate 2. is doing. An electrode 4, an immobilizing film 5 and a polymer brush 6 are sequentially formed on the array substrate 1. In addition, an immobilization film 5 and a polymer brush 6 are sequentially formed on the counter substrate 2.
The liquid crystal display device of the present invention having such a configuration is basically the same as that of a known liquid crystal display device except that the polymer brush 6 is used as an alignment film. It is possible to manufacture according to the method.

一般的に、一端が基板表面に固定されたグラフトポリマー鎖は、グラフト密度が低いと、糸まり状の縮んだ構造をとるが、グラフト密度が高くなると、隣接したグラフトポリマー鎖の相互作用(立体反発)により、基板表面に対して垂直方向に伸張した構造をとる。本明細書において「ポリマーブラシ6」とは、後者の構造、すなわち、多数のグラフトポリマー鎖が高密度で基板表面に対して垂直方向に伸張した構造を有するものを意味する。   In general, a graft polymer chain having one end fixed to the surface of the substrate has a string-like, shrunken structure when the graft density is low. However, when the graft density is high, the interaction between adjacent graft polymer chains (three-dimensional) Due to the repulsion), the structure extends in the direction perpendicular to the substrate surface. In this specification, the “polymer brush 6” means the latter structure, that is, a structure in which a number of graft polymer chains have a high density and extend in a direction perpendicular to the substrate surface.

本明細書において「高密度」とは、隣接するグラフトポリマー鎖間で立体反発が生じる程度に密集したグラフトポリマー鎖の密度を意味し、一般的に0.1本鎖/nm2以上、好ましくは0.1〜1.2本鎖/nm2の密度である。ここで、グラフトポリマー鎖の「密度」とは、単位面積(nm2)あたりの基板表面上に形成されたグラフトポリマー鎖の本数を意味する。 In the present specification, “high density” means the density of graft polymer chains that are so dense that steric repulsion occurs between adjacent graft polymer chains, and is generally 0.1 chain / nm 2 or more, preferably The density is 0.1 to 1.2 strands / nm 2 . Here, the “density” of the graft polymer chain means the number of graft polymer chains formed on the substrate surface per unit area (nm 2 ).

高密度で基板表面上に形成されたポリマーブラシ6は、基板表面上でポリマーブラシ6の層(以下、「ポリマーブラシ層」という)を構成する。このポリマーブラシ層の厚さは、数十nm、具体的には10nm以上100nm未満、好ましくは10nm〜80nmである。かかる厚さであれば、従来のポリイミド配向膜の厚さ(一般的に100nm)よりも薄くなり、液晶表示装置の低電圧駆動が可能になる。また、このポリマーブラシ層にはサイズ排除効果があり、一定の大きさの物質はポリマーブラシ層を通過することはできないため、ポリマーブラシ層の厚さを薄くしたとしても、下地から液晶層3への不純物の侵入を防止することができる。加えて、このポリマーブラシ層は、厚さが比較的薄くても、液晶分子7の配向制御能力が良好である。   The polymer brush 6 formed on the substrate surface at a high density constitutes a layer of the polymer brush 6 (hereinafter referred to as “polymer brush layer”) on the substrate surface. The thickness of this polymer brush layer is several tens of nm, specifically 10 nm or more and less than 100 nm, preferably 10 nm to 80 nm. With such a thickness, the thickness of the conventional polyimide alignment film (generally 100 nm) is reduced, and the liquid crystal display device can be driven at a low voltage. Further, this polymer brush layer has a size exclusion effect, and a substance of a certain size cannot pass through the polymer brush layer. Therefore, even if the thickness of the polymer brush layer is reduced, the polymer brush layer is transferred from the base to the liquid crystal layer 3. Intrusion of impurities can be prevented. In addition, this polymer brush layer has good alignment control ability of the liquid crystal molecules 7 even though the thickness is relatively thin.

ポリマーブラシ6は、液晶分子7の配向安定性を高める観点から、UV硬化性を示すことが好ましい。具体的には、ポリマーブラシ6は、UV硬化が可能な官能基(例えば、(メタ)アクリル基)を有することが好ましい。
また、ポリマーブラシ6は、種々の特性を付与する観点から、共重合体、特にブロック共重合体であることが好ましい。かかる共重合体であれば、単独重合体では得られない種々の効果が期待できる。
さらに、ポリマーブラシ6は、液晶層3との適合性の観点から、液晶性を示すことが好ましい。具体的には、ポリマーブラシ6は、液晶性を示す官能基(例えば、メソゲン基)を有することが好ましい。
The polymer brush 6 preferably exhibits UV curability from the viewpoint of improving the alignment stability of the liquid crystal molecules 7. Specifically, the polymer brush 6 preferably has a functional group capable of UV curing (for example, a (meth) acryl group).
The polymer brush 6 is preferably a copolymer, particularly a block copolymer, from the viewpoint of imparting various properties. With such a copolymer, various effects that cannot be obtained with a homopolymer can be expected.
Further, the polymer brush 6 preferably exhibits liquid crystallinity from the viewpoint of compatibility with the liquid crystal layer 3. Specifically, the polymer brush 6 preferably has a functional group exhibiting liquid crystallinity (for example, a mesogenic group).

ポリマーブラシ6は、ラジカル重合性モノマーをリビングラジカル重合させることにより形成することができる。ここで、「リビングラジカル重合」とは、ラジカル重合反応において、連鎖移動反応及び停止反応が実質的に起こらず、ラジカル重合性モノマーが反応し尽くした後も連鎖成長末端が活性を保持する重合反応をいう。この重合反応では、重合反応終了後でも生成重合体の末端に重合活性を保持しており、ラジカル重合性モノマーを加えると再び重合反応を開始させることができる。また、リビングラジカル重合は、ラジカル重合性モノマーと重合開始剤との濃度比を調節することにより任意の平均分子量をもつ重合体の合成ができ、そして、生成する重合体の分子量分布が極めて狭いなどの特徴がある。   The polymer brush 6 can be formed by living radical polymerization of a radical polymerizable monomer. Here, “living radical polymerization” is a polymerization reaction in which chain transfer reaction and termination reaction do not substantially occur in the radical polymerization reaction, and the chain growth terminal retains activity even after the radical polymerizable monomer is completely reacted. Say. In this polymerization reaction, the polymerization activity is retained at the end of the produced polymer even after the completion of the polymerization reaction, and when the radical polymerizable monomer is added, the polymerization reaction can be started again. Living radical polymerization allows the synthesis of a polymer having an arbitrary average molecular weight by adjusting the concentration ratio between the radical polymerizable monomer and the polymerization initiator, and the molecular weight distribution of the resulting polymer is extremely narrow. There are features.

本発明に用いられるリビングラジカル重合の代表例は、原子移動ラジカル重合(ATRP)である。例えば、重合開始剤の存在下で、ハロゲン化銅/リガンド錯体を用いてラジカル重合性モノマーの原子移動リビングラジカル重合を行う。高分子末端ハロゲンをハロゲン化銅/リガンド錯体が引き抜くことにより可逆的に成長する成長ラジカルにラジカル重合性モノマーが付加して進行し、十分な頻度での可逆的活性化・不活性化により分子量分布が規制される。   A typical example of the living radical polymerization used in the present invention is atom transfer radical polymerization (ATRP). For example, atom transfer living radical polymerization of a radical polymerizable monomer is performed using a copper halide / ligand complex in the presence of a polymerization initiator. A radical polymerizable monomer is added to a growing radical that reversibly grows by pulling out the terminal halogen of the polymer by a copper halide / ligand complex, and the molecular weight distribution is achieved by reversible activation / deactivation with sufficient frequency. Is regulated.

リビングラジカル重合に用いられるラジカル重合性モノマーは、有機ラジカルの存在下でラジカル重合を行い得る不飽和結合を有するものであり、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ノニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、n−オクチルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、メトキシテトラエチレングリコールメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリレートなどのメタクリレート系モノマー;メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ノニルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、n−オクチルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、メトキシテトラエチレングリコールアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、2−(ジメチルアミノ)エチルアクリレート、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミドなどのアクリレート系モノマー;スチレン、スチレン誘導体(o−、m−、p−メトキシスチレン、o−、m−、p−t−ブトキシスチレン、o−、m−、p−クロロメチルスチレンなど)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酢酸ビニルなど)、ビニルケトン類(ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、メチルイソプロペニルケトンなど)、N−ビニル化合物(N−ビニルピロリドン、N−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドールなど)、(メタ)アクリル酸誘導体(アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、アクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、メタクリルアミドなど)、ハロゲン化ビニル類(塩化ビニル、塩化ビニリデン、テトラクロロエチレン、ヘキサクロロプレン、フッ化ビニルなど)などのビニルモノマーが挙げられる。ラジカル重合性モノマーは、単独で使用しても、2種以上併用してもよい。   The radical polymerizable monomer used in the living radical polymerization has an unsaturated bond capable of performing radical polymerization in the presence of an organic radical. For example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, t- Butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, nonyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, lauryl methacrylate, n-octyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, butoxyethyl methacrylate, methoxytetraethylene glycol methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl Methacrylate monomers such as tacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, diethylene glycol methacrylate, polyethylene glycol methacrylate, 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate; methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, n-butyl Acrylate, t-butyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, nonyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, lauryl acrylate, n-octyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, methoxytetraethylene glycol acrylate, 2- Hydroxyethyla Relate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, diethylene glycol acrylate, polyethylene glycol acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl acrylate, N Acrylate monomers such as N, dimethylacrylamide, N-methylolacrylamide and N-methylolmethacrylamide; styrene, styrene derivatives (o-, m-, p-methoxystyrene, o-, m-, pt-butoxystyrene) , O-, m-, p-chloromethylstyrene, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, vinyl acetate, etc.), vinyl ketones (vinyl Til ketone, vinyl hexyl ketone, methyl isopropenyl ketone, etc.), N-vinyl compounds (N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl pyrrole, N-vinyl carbazole, N-vinyl indole, etc.), (meth) acrylic acid derivatives (acrylonitrile, meta And vinyl monomers such as acrylonitrile, acrylamide, isopropylacrylamide, methacrylamide, etc.) and vinyl halides (vinyl chloride, vinylidene chloride, tetrachloroethylene, hexachloroprene, vinyl fluoride, etc.). The radical polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.

重合開始剤としては、特に限定されることはなく、リビングラジカル重合で一般的に公知のものを使用することができる。重合開始剤の例としては、p−クロロメチルスチレン、α−ジクロロキシレン、α,α−ジクロロキシレン、α,α−ジブロモキシレン、ヘキサキス(α−ブロモメチル)ベンゼン、塩化ベンジル、臭化ベンジル、1−ブロモ−1−フェニルエタン、1−クロロ−1−フェニルエタンなどのベンジルハロゲン化物;プロピル−2−ブロモプロピオネート、メチル−2−クロロプロピオネート、エチル−2−クロロプロピオネート、メチル−2−ブロモプロピオネート、エチル−2−ブロモイソブチレート(EBIB)などのα位がハロゲン化されたカルボン酸;p−トルエンスルホニルクロリド(TsCl)などのトシルハロゲン化物;テトラクロロメタン、トリブロモメタン、1−ビニルエチルクロリド、1−ビニルエチルブロミドなどのアルキルハロゲン化物;ジメチルリン酸クロリドなどのリン酸エステルのハロゲン誘導体が挙げられる。   The polymerization initiator is not particularly limited, and those generally known in living radical polymerization can be used. Examples of the polymerization initiator include p-chloromethylstyrene, α-dichloroxylene, α, α-dichloroxylene, α, α-dibromoxylene, hexakis (α-bromomethyl) benzene, benzyl chloride, benzyl bromide, 1- Benzyl halides such as bromo-1-phenylethane, 1-chloro-1-phenylethane; propyl-2-bromopropionate, methyl-2-chloropropionate, ethyl-2-chloropropionate, methyl- Carboxylic acids in which the α-position is halogenated such as 2-bromopropionate and ethyl-2-bromoisobutyrate (EBIB); Tosyl halides such as p-toluenesulfonyl chloride (TsCl); Tetrachloromethane, Tribromo Alkanes such as methane, 1-vinylethyl chloride, 1-vinylethyl bromide Ruharogen products; halogenated derivatives of phosphoric acid esters such as dimethyl phosphoric acid chloride and the like.

ハロゲン化銅/リガンド錯体を与えるハロゲン化銅としては、特に限定されることはなく、リビングラジカル重合で一般的に公知のものを使用することができる。ハロゲン化銅の例としては、CuBr、CuCl、CuIなどが挙げられる。
ハロゲン化銅/リガンド錯体を与えるリガンド化合物としては、特に限定されることはなく、リビングラジカル重合で一般的に公知のものを使用することができる。リガンド化合物の例としては、トリフェニルホスファン、4,4'−ジノニル−2,2'−ジピリジン(dNbipy)、N,N,N',N'N"−ペンタメチルジエチレントリアミン、1,1,4,7,10,10−ヘキサメチルトリエチレンテトラアミンなどが挙げられる。
The copper halide that gives the copper halide / ligand complex is not particularly limited, and those generally known in living radical polymerization can be used. Examples of the copper halide include CuBr, CuCl, and CuI.
The ligand compound that gives the copper halide / ligand complex is not particularly limited, and those generally known in living radical polymerization can be used. Examples of ligand compounds include triphenylphosphane, 4,4′-dinonyl-2,2′-dipyridine (dNbipy), N, N, N ′, N′N ″ -pentamethyldiethylenetriamine, 1,1,4 7,10,10-hexamethyltriethylenetetraamine and the like.

ラジカル重合性モノマー、重合開始剤、ハロゲン化銅、リガンド化合物の量は、使用する原料の種類に応じて適宜調節すればよいが、一般的に、重合開始剤1molに対して、ラジカル重合性モノマーが5〜10,000mol、好ましくは50〜5,000mol、ハロゲン化銅が0.1〜100mol、好ましくは0.5〜100mol、リガンド化合物が0.2〜200mol、好ましくは1.0〜200molである。   The amount of radically polymerizable monomer, polymerization initiator, copper halide, and ligand compound may be adjusted as appropriate according to the type of raw material used. Generally, the amount of radically polymerizable monomer is 1 mol of the polymerization initiator. 5 to 10,000 mol, preferably 50 to 5,000 mol, copper halide 0.1 to 100 mol, preferably 0.5 to 100 mol, ligand compound 0.2 to 200 mol, preferably 1.0 to 200 mol. is there.

なお、リビングラジカル重合は、通常、無溶媒で行うが、リビングラジカル重合で一般的に使用される溶媒を使用してもよい。使用可能な溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラン(THF)、酢酸エチル、トリフルオロメチルベンゼンなどの有機溶媒;水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノールなどの水性溶媒が挙げられる。溶媒の量は、使用する原料の種類に応じて適宜調節すればよいが、一般的にラジカル重合性モノマー1gに対して、溶媒が0.01〜100mL、好ましくは0.05〜10mLである。   In addition, although living radical polymerization is normally performed without a solvent, you may use the solvent generally used by living radical polymerization. Usable solvents include, for example, benzene, toluene, N, N-dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), acetone, chloroform, carbon tetrachloride, tetrahydrofuran (THF), ethyl acetate, trifluoromethylbenzene and the like. And organic solvents such as water, methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 1-methoxy-2-propanol and the like. The amount of the solvent may be appropriately adjusted according to the type of raw material to be used, but generally the solvent is 0.01 to 100 mL, preferably 0.05 to 10 mL with respect to 1 g of the radical polymerizable monomer.

リビングラジカル重合により形成されるポリマーブラシ6の分子量は、反応温度、反応時間や使用する原料の種類や量によって調整可能であるが、一般的に数平均分子量が500〜1,000,000、好ましくは1,000〜500,000のポリマーブラシ6を得ることができる。また、ポリマーブラシ6の分子量分布(Mw/Mn)は、1.05〜1.60の間に制御することができる。
このような特徴を有するポリマーブラシ6は、液晶層3中の液晶分子7をアレイ基板1及び対向基板2に対して平行に配向させることができる。
The molecular weight of the polymer brush 6 formed by living radical polymerization can be adjusted depending on the reaction temperature, reaction time, and the type and amount of the raw material used, but generally the number average molecular weight is 500 to 1,000,000, preferably Can obtain a polymer brush 6 of 1,000 to 500,000. Further, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer brush 6 can be controlled between 1.05 and 1.60.
The polymer brush 6 having such characteristics can align the liquid crystal molecules 7 in the liquid crystal layer 3 in parallel with the array substrate 1 and the counter substrate 2.

ポリマーブラシ6は、必要に応じて、電極4が設けられたアレイ基板1や対向基板2上に固定化膜5を介して形成される。
固定化膜5としては、アレイ基板1、対向基板2、電極4、及びポリマーブラシ6との接着性に優れたものであれば特に限定されることはなく、リビングラジカル重合で一般的に公知のものを使用することができる。固定化膜5の例としては、下記の一般式(1)で表されるアルコキシシラン化合物から形成される膜が挙げられる。
The polymer brush 6 is formed on the array substrate 1 or the counter substrate 2 provided with the electrodes 4 with an immobilization film 5 as necessary.
The immobilization film 5 is not particularly limited as long as it has excellent adhesion to the array substrate 1, the counter substrate 2, the electrode 4, and the polymer brush 6, and is generally known in living radical polymerization. Things can be used. Examples of the immobilizing film 5 include a film formed from an alkoxysilane compound represented by the following general formula (1).

Figure 2011081187
Figure 2011081187

一般式(1)中、R1はそれぞれ独立してC1〜C3のアルキル基、好ましくはメチル基又はエチル基であり;R2はそれぞれ独立してメチル基又はエチル基であり;Xはハロゲン原子、好ましくはBrであり;nは3〜10の整数、より好ましくは4〜8の整数である。   In general formula (1), each R1 is independently a C1-C3 alkyl group, preferably a methyl group or an ethyl group; each R2 is independently a methyl group or an ethyl group; X is a halogen atom, preferably Is Br; n is an integer from 3 to 10, more preferably an integer from 4 to 8.

固定化膜5には、ポリマーブラシ6が共有結合していることが好ましい。固定化膜5とポリマーブラシ6とが結合力の強い共有結合で結ばれていれば、ポリマーブラシ6の剥がれを十分に防止することができ、液晶表示装置の特性が低下する可能性が低くなり、液晶表示装置の信頼性が向上する。   A polymer brush 6 is preferably covalently bonded to the immobilization film 5. If the immobilization film 5 and the polymer brush 6 are connected by a covalent bond having a strong binding force, the polymer brush 6 can be sufficiently prevented from being peeled off, and the possibility that the characteristics of the liquid crystal display device are deteriorated is reduced. The reliability of the liquid crystal display device is improved.

固定化膜5が形成されるアレイ基板1としては、特に限定されることはなく、液晶表示装置で一般的に公知のものを使用することができる。アレイ基板1の例としては、アクティブマトリックスアレイ基板が挙げられる。このアクティブマトリックスアレイ基板は、一般的に、ガラス基板上にゲート配線及びソース配線がマトリックス状に配置されており、その交点部分に、薄層トランジスタ(TFT)などのアクティブ素子が形成され、このアクティブ素子に画素電極が接続されたものである。   The array substrate 1 on which the fixing film 5 is formed is not particularly limited, and a generally known liquid crystal display device can be used. An example of the array substrate 1 is an active matrix array substrate. In this active matrix array substrate, gate wirings and source wirings are generally arranged in a matrix on a glass substrate, and active elements such as thin layer transistors (TFTs) are formed at the intersections. A pixel electrode is connected to the element.

固定化膜5が形成される対向基板2もまた、特に限定されることはなく、液晶表示装置で一般的に公知のものを使用することができる。対向基板2の例としては、カラーフィルタ基板が挙げられる。このカラーフィルタ基板は、一般的に、ガラス基板上に、不要な光の漏れを防止するためにブラックマトリックスを形成した後、R(赤)、G(緑)、B(青)の着色層をパターン形成し、必要に応じて保護膜を形成し、そして画素電極に対向する対向電極を形成したものである。   The counter substrate 2 on which the fixing film 5 is formed is also not particularly limited, and a generally known liquid crystal display device can be used. An example of the counter substrate 2 is a color filter substrate. In general, the color filter substrate is formed by forming a black matrix on a glass substrate to prevent unnecessary light leakage, and then adding R (red), G (green), and B (blue) colored layers. A pattern is formed, a protective film is formed if necessary, and a counter electrode facing the pixel electrode is formed.

固定化膜5が形成される電極4としては、特に限定されることはなく、液晶表示装置に一般的に公知のものを使用することができる。電極4の例としては、ITO(酸化インジウムスズ)からなる櫛歯電極が挙げられる。
液晶層3に用いられる液晶としては、特に限定されることはなく、液晶表示装置で一般的に公知のものを使用することができる。
The electrode 4 on which the fixing film 5 is formed is not particularly limited, and a generally known liquid crystal display device can be used. An example of the electrode 4 is a comb electrode made of ITO (indium tin oxide).
The liquid crystal used for the liquid crystal layer 3 is not particularly limited, and generally known liquid crystal display devices can be used.

次に、本発明の液晶表示装置の製造方法について説明する。図2は、本発明の液晶表示装置の製造フロー図である。なお、以下では、毛細管現象を利用した液晶注入を行う方法を例に本発明を説明するが、本発明はこれに限定されず、液晶滴下注入(ODF)による方法を用いることも可能である。
まず、アレイ基板1上に電極4を形成する。電極4の形成方法としては、特に限定されることはなく、公知の方法に準じて形成することができる。なお、アレイ基板1は、必要に応じて、電極4の形成前に洗浄を行ってもよい。
次に、電極4を形成したアレイ基板1、及び対向基板2上に固定化膜5を形成する。ただし、電極4を形成したアレイ基板1、及び対向基板2とポリマーブラシ6との接着性が良好であれば、固定化膜5を形成する必要はない。固定化膜5の形成方法は、特に限定されることはなく、使用する材料にあわせて適宜設定すればよい。例えば、固定化膜形成用溶液に、電極4が設けられたアレイ基板1及び対向基板2を浸漬させた後、乾燥させることによって固定化膜5を形成することができる。ここで、所定の部分に固定化膜5を形成させるために、固定化膜5を形成させない部分にマスキングを施してもよい。また、対向基板2は、必要に応じて、固定化膜5の形成前に洗浄を行ってもよい。
Next, the manufacturing method of the liquid crystal display device of this invention is demonstrated. FIG. 2 is a manufacturing flow diagram of the liquid crystal display device of the present invention. In the following, the present invention will be described by taking a method of performing liquid crystal injection utilizing the capillary phenomenon as an example, but the present invention is not limited to this, and a method using liquid crystal dropping injection (ODF) can also be used.
First, the electrode 4 is formed on the array substrate 1. The formation method of the electrode 4 is not particularly limited, and can be formed according to a known method. The array substrate 1 may be cleaned before the formation of the electrodes 4 as necessary.
Next, an immobilization film 5 is formed on the array substrate 1 on which the electrodes 4 are formed and the counter substrate 2. However, if the adhesion between the array substrate 1 on which the electrodes 4 are formed and the counter substrate 2 and the polymer brush 6 is good, the immobilization film 5 need not be formed. The method for forming the immobilization film 5 is not particularly limited, and may be appropriately set according to the material to be used. For example, the immobilization film 5 can be formed by immersing the array substrate 1 and the counter substrate 2 provided with the electrodes 4 in the immobilization film forming solution, and then drying. Here, in order to form the immobilization film 5 at a predetermined portion, masking may be performed on a portion where the immobilization film 5 is not formed. Further, the counter substrate 2 may be cleaned before the formation of the immobilization film 5 as necessary.

次に、固定化膜5が形成されたアレイ基板1及び対向基板2上にポリマーブラシ6を形成する。ポリマーブラシ6の形成は、リビングラジカル重合(例えば、ATRP)により行われる。例えば、固定化膜5が形成されたアレイ基板1及び対向基板2を、ラジカル重合性ポリマー、重合開始剤、及びハロゲン化銅/リガンド錯体を含むポリマーブラシ形成用溶液中に浸漬させ、加熱することによってポリマーブラシ6を形成することができる。加熱条件は、特に限定されることはなく、使用する原料などに応じて適宜調節すればよいが、一般的に、加熱温度は60〜150℃、加熱時間は0.5〜10時間である。この時、圧力は、一般的に常圧で行われるが、加圧又は減圧しても構わない。なお、固定化膜5が形成されたアレイ基板1及び対向基板2は、必要に応じて、ポリマーブラシ6の形成前に洗浄を行ってもよい。   Next, a polymer brush 6 is formed on the array substrate 1 and the counter substrate 2 on which the fixing film 5 is formed. The polymer brush 6 is formed by living radical polymerization (for example, ATRP). For example, the array substrate 1 and the counter substrate 2 on which the immobilization film 5 is formed are immersed in a polymer brush forming solution containing a radical polymerizable polymer, a polymerization initiator, and a copper halide / ligand complex, and heated. Thus, the polymer brush 6 can be formed. The heating conditions are not particularly limited, and may be appropriately adjusted according to the raw materials to be used. In general, the heating temperature is 60 to 150 ° C., and the heating time is 0.5 to 10 hours. At this time, the pressure is generally a normal pressure, but may be increased or decreased. Note that the array substrate 1 and the counter substrate 2 on which the immobilization film 5 is formed may be cleaned before the formation of the polymer brush 6 as necessary.

次に、ポリマーブラシ6が形成されたアレイ基板1及び対向基板2を貼り合わせる。例えば、シール剤を塗布し、スペーサーを散布した後、アレイ基板1と対向基板2とを重ねあわせ、シール剤を硬化させることによってアレイ基板1と対向基板2とを貼り合わせることができる。
次に、毛細管現象を利用して液晶をアレイ基板1と対向基板2との間に注入し、注入が終了したら、注入口を閉じて封止する。
Next, the array substrate 1 on which the polymer brush 6 is formed and the counter substrate 2 are bonded together. For example, the array substrate 1 and the counter substrate 2 can be bonded to each other by applying the sealant and spraying the spacers, then overlapping the array substrate 1 and the counter substrate 2 and curing the sealant.
Next, liquid crystal is injected between the array substrate 1 and the counter substrate 2 by utilizing capillary action, and when the injection is completed, the injection port is closed and sealed.

次に、磁場配向法やテンプレート配向法などの非接触配向法によって液晶分子を一軸配向させる。磁場配向法を用いる場合、例えば、ポリマーブラシ6のガラス転移温度Tg以上の温度で加熱しつつ、液晶分子7を配向させたい方向に、永久磁石や超伝導磁石を用いて磁場を印加しながら常温まで除冷する。このような加熱・磁場配向処理を行うことで、非接触の一軸配向が可能となる。加熱条件は、形成したポリマーブラシ6のガラス転移温度に応じて適宜調節すればよく、特に限定されないが、一般的に加熱温度は60〜150℃、加熱時間は10分〜1時間である。同様に、磁場の印加条件も、使用した液晶の種類に応じて適宜調節すればよく、特に限定されないが、一般的に磁束密度が0.5T〜5Tである。また、常温までの降温速度は1℃/分〜20℃/分であることが好ましい。降温速度が1℃/分未満であると、工程時間が長くなり、実用的でない場合がある。一方、降温速度が20℃/分を超えると、液晶分子7の配向制御が十分でない場合がある。   Next, liquid crystal molecules are uniaxially aligned by a non-contact alignment method such as a magnetic field alignment method or a template alignment method. When using the magnetic field alignment method, for example, while heating at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature Tg of the polymer brush 6, while applying a magnetic field using a permanent magnet or a superconducting magnet in the direction in which the liquid crystal molecules 7 are to be aligned, Remove until cool. By performing such heating and magnetic field alignment treatment, non-contact uniaxial alignment becomes possible. The heating conditions may be appropriately adjusted according to the glass transition temperature of the formed polymer brush 6 and are not particularly limited, but the heating temperature is generally 60 to 150 ° C. and the heating time is 10 minutes to 1 hour. Similarly, the application condition of the magnetic field may be appropriately adjusted according to the type of liquid crystal used, and is not particularly limited, but the magnetic flux density is generally 0.5T to 5T. Moreover, it is preferable that the temperature-fall rate to normal temperature is 1 degree-C / min-20 degree-C / min. When the temperature lowering rate is less than 1 ° C./min, the process time becomes long and may not be practical. On the other hand, when the temperature lowering rate exceeds 20 ° C./min, the alignment control of the liquid crystal molecules 7 may not be sufficient.

次に、必要に応じてUV(紫外線)を照射することにより、ポリマーブラシ6の配向性を固定し、液晶分子7の配向安定性を高める。UVの強さは、形成したポリマーブラシ6の種類に応じて適宜調整すればよく、特に限定されないが、一般的に数百〜数万mJである。なお、UV照射は、磁場を印加しない状態で行って良いが、磁場を印加したままの状態で行っても良い。
なお、テンプレート配向法は、本出願人が2009年7月15日に出願した特願2009−166497号に記載されており、参照により本明細書中に援用される。
このようにして製造される本発明の液晶表示装置は、ラビング処理に起因する様々な問題を防止し、液晶分子の配向制御性に優れている。また、磁場による配向を行っているので、磁場の印加条件を調整することで配向制御の定量化が可能となり、管理が容易になる。さらに、液晶を注入した後に配向処理を行っているので、ラビング処理で生じる配向軸のずれ(ラビング方向のずれ、重ねずれ)がなく、液晶表示装置のコントラストを向上させることができる。
Next, by irradiating UV (ultraviolet rays) as necessary, the orientation of the polymer brush 6 is fixed and the orientation stability of the liquid crystal molecules 7 is improved. The intensity of UV may be appropriately adjusted according to the type of polymer brush 6 formed, and is not particularly limited, but is generally several hundred to several tens of thousands mJ. UV irradiation may be performed without applying a magnetic field, but may be performed with a magnetic field applied.
The template orientation method is described in Japanese Patent Application No. 2009-166497 filed on Jul. 15, 2009 by the present applicant, and is incorporated herein by reference.
The liquid crystal display device of the present invention thus manufactured prevents various problems caused by the rubbing treatment and is excellent in alignment controllability of liquid crystal molecules. In addition, since the orientation is performed by the magnetic field, the orientation control can be quantified by adjusting the application condition of the magnetic field, and the management becomes easy. Further, since the alignment process is performed after the liquid crystal is injected, there is no alignment axis shift (rubbing direction shift or overlap shift) caused by the rubbing process, and the contrast of the liquid crystal display device can be improved.

なお、上記では磁場による配向処理を説明したが、ポリマーブラシ6を配向膜として用いた場合には、ラビング処理による配向処理を行うことも可能である。なお、ポリマーブラシ6はラビング処理によって配向させたとしても、ポリイミド膜などの従来の配向膜に比べてキズがつき難いため、ラビング処理に起因する従来の問題を概ね防止することができる。
ラビング処理による配向処理を行う場合、ポリマーブラシ6を形成した後に、ラビング処理し、UV照射によって硬化させればよい。
In the above description, the alignment process using a magnetic field has been described. However, when the polymer brush 6 is used as an alignment film, the alignment process using a rubbing process can be performed. Even if the polymer brush 6 is oriented by rubbing treatment, it is less likely to be scratched than a conventional orientation film such as a polyimide film, so that conventional problems due to the rubbing treatment can be largely prevented.
In the case of performing the alignment treatment by rubbing treatment, after the polymer brush 6 is formed, it may be rubbed and cured by UV irradiation.

以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
実施例1では、ラジカル重合性モノマーとしてスチレンを用いて形成した配向膜を有する液晶表示装置を作製した。
ITOからなる櫛歯電極を形成したガラス基板及び約3μmの高さのフォトスペーサーを形成した対向基板を用意し、ポリマーブラシを形成させる必要がない部分をマスキングした。次に、エタノール38g、アンモニア水(28%)2g、2−ブロモ−2−メチルプロピオニロキシヘキシルトリエトキシシラン(BHE)0.4gを含む固定化膜形成用溶液に、マスキングを施した2つのガラス基板を常温(25℃)で一晩浸漬させた後、乾燥させることによって固定化膜を形成した。次に、固定化膜を形成した2つのガラス基板を洗浄し、乾燥させた後、スチレン(ラジカル重合性モノマー)、エチル−2−ブロモイソブチレート(重合開始剤)、CuBr(ハロゲン化銅)及び4,4'−ジオニル−2,2'−ビピリジン(リガンド化合物)を1900:1:19:38のモル比で含むポリマーブラシ形成用溶液に浸漬させ、110℃で3時間加熱してリビングラジカル重合させることにより、ポリマーブラシ(以下、PSブラシという)を形成した。次に、PSブラシを形成した2つのガラス基板を洗浄し、乾燥させた。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to the following Example.
Example 1
In Example 1, a liquid crystal display device having an alignment film formed using styrene as a radical polymerizable monomer was produced.
A glass substrate on which a comb-like electrode made of ITO was formed and a counter substrate on which a photospacer having a height of about 3 μm was formed were prepared, and a portion where it was not necessary to form a polymer brush was masked. Next, two films subjected to masking were applied to an immobilized film forming solution containing 38 g of ethanol, 2 g of aqueous ammonia (28%), and 0.4 g of 2-bromo-2-methylpropionyloxyhexyltriethoxysilane (BHE). The glass substrate was immersed at room temperature (25 ° C.) overnight and then dried to form an immobilized film. Next, after washing and drying the two glass substrates on which the fixed film was formed, styrene (radical polymerizable monomer), ethyl-2-bromoisobutyrate (polymerization initiator), CuBr (copper halide) And 4,4′-dionyl-2,2′-bipyridine (ligand compound) at a molar ratio of 1900: 1: 19: 38 and immersed in a solution for forming a polymer brush and heated at 110 ° C. for 3 hours to form a living radical By polymerizing, a polymer brush (hereinafter referred to as PS brush) was formed. Next, the two glass substrates on which the PS brushes were formed were washed and dried.

形成されたPSブラシの分子量について、GPC測定装置(日本分光株式会社製)を用いて評価した。標準試料にはポリスチレンを用い、検出器にはUV検出器を用いた。その結果、PSブラシの数平均分子量(Mn)は1.34×105であり、分子量分布(Mw/Mn)は1.51であった。
また、PSブラシの層(PSブラシ層)の厚さについて、X線反射率測定装置(パナリティカル(PANalytical社製X'Pert−Pro−MAD)を用いて評価した。その結果、PSブラシ層の厚さは50.6nmであった。
さらに、PSブラシのグラフト密度について評価した結果、0.23本鎖/nm2であった。
The molecular weight of the formed PS brush was evaluated using a GPC measurement device (manufactured by JASCO Corporation). Polystyrene was used as the standard sample, and a UV detector was used as the detector. As a result, the number average molecular weight (Mn) of the PS brush was 1.34 × 10 5 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.51.
In addition, the thickness of the PS brush layer (PS brush layer) was evaluated using an X-ray reflectivity measuring apparatus (Panalytic (X'Pert-Pro-MAD manufactured by PANalytical)). The thickness was 50.6 nm.
Furthermore, as a result of evaluating the graft density of the PS brush, it was 0.23 strands / nm 2 .

次に、PSブラシが形成されたガラス基板の一方にシール剤を塗布した後、2つのガラス基板を貼り合わせ、窒素雰囲気下、120℃で2時間加熱することによってシール剤を硬化させた。そして、2つのガラス基板の間にP型液晶を毛細管現象により注入し、注入が終了したら注入口を閉じて封止した。次に、所定の方向に1Tの磁場を印加しながら80℃の温度で20分間加熱した後、磁場を印加しつつ常温まで10℃/分の降温速度で除冷することによって液晶表示装置を得た。   Next, after applying the sealing agent to one of the glass substrates on which the PS brush was formed, the two glass substrates were bonded together, and the sealing agent was cured by heating at 120 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere. Then, P-type liquid crystal was injected between the two glass substrates by capillary action, and when the injection was completed, the injection port was closed and sealed. Next, after heating for 20 minutes at a temperature of 80 ° C. while applying a magnetic field of 1T in a predetermined direction, the liquid crystal display device is obtained by cooling to room temperature at a rate of temperature decrease of 10 ° C./min while applying the magnetic field. It was.

(実施例2)
実施例2では、ラジカル重合性モノマーとしてメチルメタクリレートを用いて形成した配向膜を有する液晶表示装置を作製した。
ここで、メチルメタクリレート(ラジカル重合性モノマー)、エチル−2−ブロモイソブチレート(重合開始剤)、CuBr(ハロゲン化銅)及び4,4'−ジオニル−2,2'−ビピリジン(リガンド化合物)を2000:1:20:40のモル比で含むポリマーブラシ形成用溶液に浸漬させ、90℃で1.5時間加熱してリビングラジカル重合させたこと以外は実施例1と同様にしてポリマーブラシ(以下、PMMAブラシという)を形成し、液晶表示装置を得た。
(Example 2)
In Example 2, a liquid crystal display device having an alignment film formed using methyl methacrylate as a radical polymerizable monomer was produced.
Here, methyl methacrylate (radical polymerizable monomer), ethyl-2-bromoisobutyrate (polymerization initiator), CuBr (copper halide) and 4,4'-dionyl-2,2'-bipyridine (ligand compound) In the same manner as in Example 1 except that it was immersed in a solution for forming a polymer brush containing 2000: 1: 20: 40 in a molar ratio and heated at 90 ° C. for 1.5 hours for living radical polymerization. Hereinafter, a liquid crystal display device was obtained.

形成されたPMMAブラシの分子量について、GPC測定装置(日本分光株式会社製)を用いて評価した。標準試料にはポリメチルメタクリレートを用い、検出器にはRI(屈折率)検出器を用いた。その結果、PMMAブラシの数平均分子量(Mn)は1.67×105であり、分子量分布(Mw/Mn)は1.43であった。
また、PMMAブラシの層(PMMAブラシ層)の厚さについて、X線反射率測定装置(パナリティカル(PANalytical社製X'Pert−Pro−MAD)を用いて評価した。その結果、PMMAブラシ層の厚さは50.2nmであった。
さらに、PMMAブラシのグラフト密度について評価した結果、0.21本鎖/nm2であった。
The molecular weight of the formed PMMA brush was evaluated using a GPC measuring apparatus (manufactured by JASCO Corporation). Polymethylmethacrylate was used as the standard sample, and RI (refractive index) detector was used as the detector. As a result, the number average molecular weight (Mn) of the PMMA brush was 1.67 × 10 5 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.43.
In addition, the thickness of the PMMA brush layer (PMMA brush layer) was evaluated using an X-ray reflectivity measuring apparatus (Panalytic (X'Pert-Pro-MAD manufactured by PANalytical)). The thickness was 50.2 nm.
Furthermore, as a result of evaluating the graft density of the PMMA brush, it was 0.21 strand / nm 2 .

(比較例1)
比較例1では、ラビング配向膜を有する従来の液晶表示装置を作製した。
ここで、ITOからなる櫛歯電極を形成したガラス基板及び約3μmの高さのフォトスペーサーを形成した対向基板に、ポリイミド膜を形成した後、ラビング処理を施してラビング配向膜を形成したこと以外は、実施例1と同様にして液晶表示装置を得た。なお、ラビング配向膜の厚さは約100nmであった。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, a conventional liquid crystal display device having a rubbing alignment film was produced.
Here, a polyimide film is formed on the glass substrate on which the comb-teeth electrode made of ITO is formed and the counter substrate on which the photo spacer having a height of about 3 μm is formed, and then a rubbing treatment is performed to form a rubbing alignment film. Obtained a liquid crystal display device in the same manner as in Example 1. The thickness of the rubbing alignment film was about 100 nm.

(配向制御性の評価)
実施例1及び2で得られた液晶表示装置の両側に、偏光板をクロスニコルにして設け、その偏光板の間で液晶表示装置を回転させた場合において、その液晶表示装置の回転角度と透過率との関係を調べた。なお、入射光側偏光板の透過軸が液晶の配向方向(磁場の印加方向)に一致するようにパネルを測定器にセットして測定を開始した。実施例1における液晶表示装置の結果を図3、実施例2における液晶表示装置の結果を図4に示す。
これらの図からわかるように、実施例1及び2の液晶表示装置では、90°ごとに周期的な消光が見られ、液晶がガラス基板に対して水平方向に一軸配向し、その配向状態が良好であることがわかった。
(Evaluation of orientation controllability)
When the polarizing plates are provided in crossed Nicols on both sides of the liquid crystal display devices obtained in Examples 1 and 2, and the liquid crystal display device is rotated between the polarizing plates, the rotation angle and transmittance of the liquid crystal display device I investigated the relationship. The measurement was started by setting the panel on a measuring instrument so that the transmission axis of the incident light side polarizing plate coincided with the alignment direction of the liquid crystal (magnetic field application direction). The result of the liquid crystal display device in Example 1 is shown in FIG. 3, and the result of the liquid crystal display device in Example 2 is shown in FIG.
As can be seen from these figures, in the liquid crystal display devices of Examples 1 and 2, periodic quenching was observed every 90 °, and the liquid crystal was uniaxially aligned in the horizontal direction with respect to the glass substrate, and the alignment state was good. I found out that

(V−T曲線の評価)
実施例1及び2、比較例1で得られた液晶表示装置の両側に、偏光板をクロスニコルにして設け、電圧を変化させて液晶表示装置に印加し、透過率を測定した。なお、入射光側偏光板の透過軸が液晶の配向方向(実施例1及び2では磁場の印加方向、比較例1ではラビング方向)に一致するように配置した。結果を図5に示す。
この図からわかるように、実施例1及び2の液晶表示装置は、比較例1の液晶表示装置に比べて、V−T曲線が低電圧側にシフトしており、駆動電圧を低下させることが可能であることがわかった。
(Evaluation of VT curve)
Polarizers were provided in crossed Nicols on both sides of the liquid crystal display devices obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, applied to the liquid crystal display device while changing the voltage, and the transmittance was measured. In addition, it arrange | positioned so that the transmission axis of the incident light side polarizing plate may correspond to the orientation direction of a liquid crystal (the application direction of a magnetic field in Examples 1 and 2 and the rubbing direction in Comparative Example 1). The results are shown in FIG.
As can be seen from the figure, in the liquid crystal display devices of Examples 1 and 2, the VT curve is shifted to the low voltage side as compared with the liquid crystal display device of Comparative Example 1, and the drive voltage can be lowered. I found it possible.

(アンカリング能力の評価)
実施例1及び2で得られた液晶表示装置の両側に、偏光板をクロスニコルにして設け、最大輝度を示す電圧を15秒間印加した(常温、60Hz交流駆動)。なお、入射光側偏光板の透過軸が液晶の配向方向(磁場の印加方向)に一致するように配置した。ここで、実施例1の液晶表示装置には6.5Vの電圧を印加し、実施例2の液晶表示装置には7.5Vの電圧を印加した。その後、電圧をOFFにし、輝度の測定を5秒間隔で行った。ここで、輝度の測定は、輝度計(株式会社トプコン製BM5)を用いて行った。実施例1における液晶表示装置の結果を図6、実施例2における液晶表示装置の結果を図7に示す。
これらの図からわかるように、実施例1及び2の液晶表示装置は、電圧をOFFにした後すぐに輝度が電圧印加前の輝度に戻り、アンカリング能力が高いことがわかった。
(Evaluation of anchoring ability)
Polarizers were provided in crossed Nicols on both sides of the liquid crystal display devices obtained in Examples 1 and 2, and a voltage showing maximum luminance was applied for 15 seconds (normal temperature, 60 Hz AC drive). In addition, it arrange | positioned so that the transmission axis of the incident light side polarizing plate may correspond with the orientation direction (application direction of a magnetic field) of a liquid crystal. Here, a voltage of 6.5 V was applied to the liquid crystal display device of Example 1, and a voltage of 7.5 V was applied to the liquid crystal display device of Example 2. Thereafter, the voltage was turned off, and the luminance was measured at 5 second intervals. Here, the luminance was measured using a luminance meter (BM5 manufactured by Topcon Corporation). The result of the liquid crystal display device in Example 1 is shown in FIG. 6, and the result of the liquid crystal display device in Example 2 is shown in FIG.
As can be seen from these figures, the liquid crystal display devices of Examples 1 and 2 returned to the luminance before voltage application immediately after the voltage was turned off, and it was found that the anchoring ability was high.

以上の結果からわかるように、本発明によれば、ラビング処理に起因する様々な問題を防止しつつ、液晶分子の配向制御性に優れ、且つ低電圧駆動が可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供することができる。   As can be seen from the above results, according to the present invention, a liquid crystal display device having excellent liquid crystal molecule alignment controllability and capable of being driven at a low voltage while preventing various problems due to rubbing treatment, and a method for manufacturing the same Can be provided.

1 アレイ基板、2 対向基板、3 液晶層、4 電極、5 固定化膜、6 ポリマーブラシ、7 液晶分子。   1 array substrate, 2 counter substrate, 3 liquid crystal layer, 4 electrode, 5 immobilization film, 6 polymer brush, 7 liquid crystal molecule.

Claims (10)

ポリマーブラシを配向膜として用いたことを特徴とする液晶表示装置。   A liquid crystal display device using a polymer brush as an alignment film. 前記ポリマーブラシの下地層として固定化膜が形成されており、前記ポリマーブラシが前記固定化膜と共有結合していることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein an immobilization film is formed as an underlayer of the polymer brush, and the polymer brush is covalently bonded to the immobilization film. 前記ポリマーブラシはUV硬化性であることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the polymer brush is UV curable. 前記ポリマーブラシは共重合体であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the polymer brush is a copolymer. 前記ポリマーブラシはブロック共重合体であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the polymer brush is a block copolymer. 前記ポリマーブラシは液晶性を示すことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the polymer brush exhibits liquid crystallinity. 前記ポリマーブラシのポリマー鎖密度は、0.1本/nm2以上であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a polymer chain density of the polymer brush is 0.1 / nm 2 or more. 基板上にポリマーブラシを形成する工程と、
前記ポリマーブラシを形成した前記基板間に液晶を注入する工程と、
非接触配向法によって前記液晶を配向させる工程と
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Forming a polymer brush on the substrate;
Injecting liquid crystal between the substrates on which the polymer brush is formed;
And a step of aligning the liquid crystal by a non-contact alignment method.
前記非接触配向法が、磁場配向法又はテンプレート配向法であることを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置の製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 8, wherein the non-contact alignment method is a magnetic field alignment method or a template alignment method. 基板上にポリマーブラシを形成する工程と、
前記ポリマーブラシをラビング処理する工程と、
前記ラビング処理したポリマーブラシを有する前記基板間に液晶を注入する工程と
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Forming a polymer brush on the substrate;
Rubbing the polymer brush;
And a step of injecting liquid crystal between the substrates having the polymer brush subjected to the rubbing treatment.
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