JP2011046992A - Copper fine particle, and method for producing the same - Google Patents

Copper fine particle, and method for producing the same Download PDF

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Yasuko Terakawa
康子 寺川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a copper fine particle which has excellent oxidation resistance, and in which a copper oxide is not formed on the surface thereof. <P>SOLUTION: The copper fine particle is characterized in that the surface is coated with a coating agent comprising a compound (A) expressed by general formula (1) (wherein, R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are each independently hydrogen or 4-18C hydrocarbon group but R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are not simultaneously hydrogen; R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>are each independently 1-6C alkyl or 2-4C hydroxyalkyl; and X<SP>+</SP>denotes a monovalent cation). <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、銅微粒子及びその製造方法に関するものである。更に詳しくは、微細かつ粒子径が均一で、低温焼成が可能であり、特に電子材料の配線形成や異方性導電接着剤用として有用な銅微粒子に関する。   The present invention relates to copper fine particles and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to copper fine particles that are fine and have a uniform particle diameter and can be fired at a low temperature, and are particularly useful for wiring formation of electronic materials and anisotropic conductive adhesives.

従来、金属微粒子は、電子回路形成用、あるいはセラミックコンデンサーの外部電極用の導電ペースト、プリント配線板と電子部品との接続等に利用されている。導電ペーストに用いる導電フィラーとしては、銅、ニッケル及び銀等が挙げられるが、なかでも銅は安価であるうえに導電率が良く、更に耐マイグレーション性に優れることから、現在では銅が多く使用されている。特に粒子径が100nm以下の金属微粒子は、通常のサブミクロン以上の粒子と異なり焼成温度が極めて低くできるため、低温焼成ペースト等への応用が検討されている。   Conventionally, metal fine particles have been used for the formation of electronic circuits or conductive pastes for external electrodes of ceramic capacitors, the connection between printed wiring boards and electronic components, and the like. Examples of the conductive filler used in the conductive paste include copper, nickel, and silver. Among them, copper is inexpensive, has good conductivity, and is excellent in migration resistance. ing. In particular, metal fine particles having a particle size of 100 nm or less can be made extremely low in firing temperature unlike ordinary submicron or more particles, and therefore, application to low-temperature fired pastes and the like is being studied.

最近では、インクジェットプリンターを用いて金属微粒子を含有するインクにより配線パターンの印刷を行い、焼成して配線を形成する技術が着目され、研究開発が進められている。しかし、銅ペーストは酸化されやすいため、導電率を回復するのに高温での焼結が必要となっているが、半導体に悪影響を及ぼしてしまう。そこで、低温焼結で導電性が確保できるような耐酸化性のよい銅微粒子が必要とされている。   Recently, a technique for printing a wiring pattern using an ink containing an ink jet printer with an ink containing metal fine particles and firing to form a wiring has been attracting attention, and research and development have been promoted. However, since copper paste is easily oxidized, sintering at a high temperature is required to restore the electrical conductivity, but this adversely affects the semiconductor. Accordingly, there is a need for copper fine particles having good oxidation resistance that can ensure conductivity by low-temperature sintering.

銅微粒子を得る方法として、銅の酸化物、水酸化物又は塩を、エチレングリコール、ジエチレングリコール又はトリエチレングリコールの溶液中で、核生成のために貴金属イオンを添加すると共に、分散剤としてポリビニルピロリドンやアミン系有機化合物を添加し、必要に応じてアルカリ性無機化合物を添加して加熱還元し、銅微粒子を得る方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、この方法では、保護層のある銅微粒子を得ることはできるが、酸化防止性が十分ではないという問題がある。   As a method for obtaining copper fine particles, a copper oxide, hydroxide or salt is added in a solution of ethylene glycol, diethylene glycol or triethylene glycol, a noble metal ion is added for nucleation, and polyvinylpyrrolidone or the like is used as a dispersant. A method has been proposed in which an amine-based organic compound is added, an alkaline inorganic compound is added as necessary, and heat reduction is performed to obtain copper fine particles (see, for example, Patent Document 1). However, this method can obtain copper fine particles having a protective layer, but has a problem that the antioxidant property is not sufficient.

特開2005−240088号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-240088

本発明は上記問題に鑑みなされたものであり、本発明の課題は、銅微粒子表面に銅酸化物を生成させない、耐酸化性に優れた銅微粒子を提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said problem, and the subject of this invention is providing the copper fine particle excellent in oxidation resistance which does not produce | generate a copper oxide on the copper fine particle surface.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の化合物で銅微粒子の表面を被覆することにより耐酸化性に優れる銅微粒子が得られることを見出し、本発明に到達した。即ち本発明は、一般式(1)で表される化合物(A)を含有する被覆剤で表面を被覆されてなることを特徴とする銅微粒子並びに水及び/又は有機溶媒中で、前記一般式(1)で表される化合物(A)、又は前記(A)と一般式(5)で表される化合物(B)を含有する被覆剤の存在下に、銅化合物と還元剤とを反応させて金属銅を析出させることを特徴とする銅微粒子の製造法である。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that copper fine particles having excellent oxidation resistance can be obtained by coating the surface of the copper fine particles with a specific compound, and the present invention has been achieved. . That is, the present invention provides a copper fine particle characterized in that the surface is coated with a coating agent containing the compound (A) represented by the general formula (1), and water and / or an organic solvent. A copper compound and a reducing agent are reacted in the presence of the compound (A) represented by (1) or the coating agent containing the compound (B) represented by (A) and the general formula (5). This is a method for producing copper fine particles characterized by depositing metallic copper.

[式中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数4〜18の炭化水素基であって、R1とR2が同時に水素原子となることはなく、R3及びR4はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基、X+は1価のカチオンである。] [Wherein, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms, and R 1 and R 2 are not simultaneously hydrogen atoms, and R 3 and R 4 are Each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, and X + is a monovalent cation. ]

[式中、R8及びR9はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数4〜18の炭化水素基であって、R8とR9が同時に水素原子となることはなく、Y+及びZ+はそれぞれ独立に1価のカチオンである。] [Wherein, R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms, and R 8 and R 9 do not simultaneously become a hydrogen atom, and Y + and Z + are Each is independently a monovalent cation. ]

本発明の銅粒子は、耐酸化性に優れると共に微粒子状であるため、その焼成温度を極めて低くできるという効果を奏する。   Since the copper particles of the present invention are excellent in oxidation resistance and are in the form of fine particles, there is an effect that the firing temperature can be extremely lowered.

本発明の銅微粒子の表面を被覆する一般式(1)で示される化合物におけるR1及びR2は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数4〜18の炭化水素基である。但し、R1とR2が同時に水素原子となることはなく、一方が水素原子で他方は炭素数4〜18の炭化水素基、又は両方が炭素数4〜18の炭化水素基である。
炭素数4〜18の炭化水素基としては炭素数4〜18の脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基が挙げられる。
R 1 and R 2 in the compound represented by the general formula (1) covering the surface of the copper fine particles of the present invention are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms. However, R 1 and R 2 are not simultaneously hydrogen atoms, one is a hydrogen atom and the other is a hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms, or both are hydrocarbon groups having 4 to 18 carbon atoms.
Examples of the hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms include aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups having 4 to 18 carbon atoms.

炭素数4〜18の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状又は分岐状の鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基が挙げられる。   Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms include a linear or branched chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group.

炭素数4〜18の直鎖状炭化水素基としては、直鎖状アルキル基及び直鎖状アルケニル基が挙げられる。直鎖状アルキル基としては、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基及びオクタデシル基等が挙げられる。
直鎖状アルケニル基としては、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基及びオレイル基等が挙げられる。
Examples of the linear hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms include a linear alkyl group and a linear alkenyl group. Examples of the linear alkyl group include a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tetradecyl group, a pentadecyl group, and an octadecyl group.
Examples of the linear alkenyl group include a butenyl group, a hexenyl group, an octenyl group, a nonenyl group, a decenyl group, an undecenyl group, a dodecenyl group, a tridecenyl group, a tetradecenyl group, and an oleyl group.

炭素数4〜18の分岐状炭化水素基としては、分岐状アルキル基及び分岐状アルケニル基が挙げられる。分岐状アルキル基としては、t−ブチル基、2−エチルへキシル基、2,4,6−トリメチルヘプチル基、2,4,6,8−テトラメチルノニル基、2−n−ブチルテトラデシル基及びプロピレンテトラマーの水添化物又はブテントリマーの水添化物から水素原子を除いた残基等が挙げられる。
分岐状アルケニル基としては、t−ブテニル基、2−エチルへキセニル基、2,4,6−トリメチルヘプテニル基、2,4,6,8−テトラメチルノネニル基、2−n−ブチルテトラデセニル基及びプロピレンテトラマー又はブテントリマーから水素原子を除いた残基等が挙げられる。
Examples of the branched hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms include branched alkyl groups and branched alkenyl groups. As the branched alkyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, 2,4,6-trimethylheptyl group, 2,4,6,8-tetramethylnonyl group, 2-n-butyltetradecyl group And a residue obtained by removing a hydrogen atom from a hydrogenated propylene tetramer or a hydrogenated butene trimer.
Examples of branched alkenyl groups include t-butenyl group, 2-ethylhexenyl group, 2,4,6-trimethylheptenyl group, 2,4,6,8-tetramethylnonenyl group, 2-n-butyltetra. Examples thereof include a residue obtained by removing a hydrogen atom from a decenyl group and propylene tetramer or butene trimer.

炭素数4〜18の脂環式炭化水素基としては、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基及びシクロヘプチル基等が挙げられる。  Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms include a cyclohexyl group, a cyclohexenyl group, and a cycloheptyl group.

炭素数4〜18の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、キシリル基、ナフチル基、オクチルフェニル基及びノニルフェニル基等が挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms include phenyl group, xylyl group, naphthyl group, octylphenyl group, and nonylphenyl group.

1及びR2の内、銅表面の耐酸化性及び原料入手のし易さの観点からは、いずれか一方が水素原子で、他方が4〜18の炭化水素基であることが好ましく、該4〜18の炭化水素基の内更に好ましいのは炭素数8〜18の脂肪族炭化水素基、特に好ましいのは炭素数8〜18の直鎖状又は分岐状のアルケニル基である。 Among R 1 and R 2 , from the viewpoint of oxidation resistance on the copper surface and easy availability of raw materials, it is preferable that either one is a hydrogen atom and the other is a hydrocarbon group of 4 to 18, Of the 4 to 18 hydrocarbon groups, an aliphatic hydrocarbon group having 8 to 18 carbon atoms is more preferable, and a linear or branched alkenyl group having 8 to 18 carbon atoms is particularly preferable.

1及びR2の内一方が水素原子の場合、一般式(1)におけるR1及びR2はどちらが炭化水素基でもよく、R1が炭化水素基であるもの単独、R2が炭化水素基であるもの単独、又はこれらが混在したものでもよい。 If one of R 1 and R 2 is a hydrogen atom, R 1 and R 2 in the general formula (1) may be either a hydrocarbon group, those wherein R 1 is a hydrocarbon group alone, R 2 is a hydrocarbon group Or a mixture of these may be used.

一般式(1)におけるR3及びR4はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基である。
炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、直鎖又は分岐のプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられ、炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基としては、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、2−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基及び3−ヒドロキシ−2−メチルプロピル基等が挙げられる。この内、銅表面の耐酸化性に優れるという観点から、好ましいのは炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基であり、特に好ましいのは2−ヒドロキシエチル基である。
R 3 and R 4 in the general formula (1) are each independently an alkyl group or a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a linear or branched propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. As the hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, Examples include 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 4-hydroxybutyl group, 2-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group, and 3-hydroxy-2-methylpropyl group. Among these, from the viewpoint of excellent oxidation resistance on the copper surface, a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms is preferable, and a 2-hydroxyethyl group is particularly preferable.

一般式(1)におけるX+は1価のカチオンであり、プロトン、アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、炭素数1〜12のアミンにプロトンが付加したカチオン及び炭素数4〜12の第4級アンモニウムカチオンが挙げられる。 X + in the general formula (1) is a monovalent cation, a proton, an alkali metal cation, an ammonium cation, a cation obtained by adding a proton to an amine having 1 to 12 carbon atoms, and a quaternary ammonium cation having 4 to 12 carbon atoms. Is mentioned.

アルカリ金属カチオンとしては、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、リチウムイオン及びセシウムカチオン等が挙げられる。   Examples of the alkali metal cation include sodium cation, potassium cation, lithium ion and cesium cation.

炭素数1〜12のアミンにプロトンが付加したカチオンを構成するアミンとしては、モノメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノ−n−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン及びトリ−n−ブチルアミン等の炭素数1〜12のモノ、ジ又はトリアルキルアミン;シクロヘキシルアミン及び1,4−シクロヘキサンジアミン等の炭素数4〜12の脂環式アミン;モルホリン及びピペラジン等の炭素数4〜12の複素環式アミン;並びに、下記一般式(2)で表されるヒドロキシアルキル基含有アミン等が挙げられる。   Examples of the amine constituting the cation in which a proton is added to an amine having 1 to 12 carbon atoms include carbon such as monomethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, mono-n-butylamine, di-n-butylamine and tri-n-butylamine. Mono-, di- or trialkylamines having 1 to 12 carbon atoms; alicyclic amines having 4 to 12 carbon atoms such as cyclohexylamine and 1,4-cyclohexanediamine; heterocyclic amines having 4 to 12 carbon atoms such as morpholine and piperazine And hydroxyalkyl group-containing amines represented by the following general formula (2).

式中、R5は水素原子、炭素数1〜18の1価若しくは2価の炭化水素基又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基、R6は水素原子、炭素数1〜18の1価の炭化水素基又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基、R7は炭素数2〜4のアルキレン基、pはR5が水素原子、炭素数1〜18の1価の炭化水素基又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基の場合は1、R5が炭素数1〜18の2価の炭化水素基の場合は2である。 In the formula, R 5 is a hydrogen atom, a monovalent or divalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms or a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, R 6 is a hydrogen atom, monovalent having 1 to 18 carbon atoms. hydrocarbon group or a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, R 7 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, p is R 5 is a hydrogen atom, the number monovalent hydrocarbon group or a C 1 to 18 carbon atoms 2 1 in the case of a -4 hydroxyalkyl group, and 2 in the case where R 5 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.

5及びR6における炭素数1〜18の1価の炭化水素基としては前記一般式(1)におけるR1の例として挙げた炭素数4〜18の炭化水素基の他に、メチル基、エチル基及びプロピル基が挙げられる。
5における炭素数1〜18の2価の炭化水素基としては前記一般式(1)におけるR3の例として挙げた炭素数2〜4のアルキレン基の他に、メチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、テトラデカメチレン基、ペンタデカメチレン基及びオクタデカメチレン基等の直鎖状アルキレン基;プロペニレン基、ブテニレン基、ヘキセニレン基、オクテニレン基及びオクタデセニレン基等の直鎖状アルケニレン基;2−エチルへキシレン基、2,4,6−トリメチルヘプチレン基及び2,4,6,8−テトラメチルノニレン基等の分岐状アルキレン基;2−メチルプロペニレン基、2,2−ジメチルブテニレン基及び2−メチルオクテニレン基等の分岐状アルケニレン基;1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘプチレン基及び1,4−シクロヘキサンジメチレン基等の2価の脂環式炭化水素基;フェニレン基、キシリレン基及びナフチレン基等の2価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
As the monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms in R 5 and R 6, in addition to the hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms exemplified as R 1 in the general formula (1), a methyl group, An ethyl group and a propyl group are mentioned.
As the divalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms in R 5, in addition to the alkylene group having 2 to 4 carbon atoms exemplified as R 3 in the general formula (1), a methylene group, a pentamethylene group, Linear alkylene groups such as hexamethylene group, octamethylene group, decamethylene group, undecamethylene group, dodecamethylene group, tetradecamethylene group, pentadecamethylene group and octadecamethylene group; propenylene group, butenylene group, hexenylene group , Linear alkenylene groups such as octenylene group and octadecenylene group; branched structures such as 2-ethylhexylene group, 2,4,6-trimethylheptylene group and 2,4,6,8-tetramethylnonylene group Alkylene group; branched alkyl such as 2-methylpropenylene group, 2,2-dimethylbutenylene group and 2-methyloctenylene group Kenylene group; bivalent alicyclic hydrocarbon group such as 1,4-cyclohexylene group, 1,4-cycloheptylene group and 1,4-cyclohexanedimethylene group; divalent groups such as phenylene group, xylylene group and naphthylene group And aromatic hydrocarbon groups.

5の内好ましいのは、耐酸化性の観点等から、水素原子又は炭素数2〜12の1若しくは2価の脂肪族炭化水素基であり、更に好ましいのは水素原子、炭素数3〜12の2価の鎖式炭化水素基及び炭素数5〜8の1価の脂環式炭化水素基、特に好ましいのは水素原子又はシクロヘキシル基である。 R 5 is preferably a hydrogen atom or a monovalent or divalent aliphatic hydrocarbon group having 2 to 12 carbon atoms from the viewpoint of oxidation resistance, and more preferably a hydrogen atom or 3 to 12 carbon atoms. Are a divalent chain hydrocarbon group and a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, particularly preferably a hydrogen atom or a cyclohexyl group.

6における炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基としては、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、2−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基及び3−ヒドロキシ−2−メチルプロピル基等が挙げられる。 Examples of the hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms in R 6 include a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 2-hydroxypropyl group, a 4-hydroxybutyl group, a 2-hydroxybutyl group, and a 3-hydroxybutyl group. And 3-hydroxy-2-methylpropyl group and the like.

6の内好ましいのは、耐酸化性の観点から、水素原子、炭素数2〜12の脂肪族炭化水素基及び炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基であり、更に好ましいのは水素原子、炭素数3〜12の鎖式炭化水素基、炭素数6の脂環式炭化水素基及び炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基であり、特に好ましいのは2−ヒドロキシエチル基である。 R 6 is preferably a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 2 to 12 carbon atoms and a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms from the viewpoint of oxidation resistance, and more preferably a hydrogen atom or carbon atom. A chain hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 6 carbon atoms and a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms are particularly preferable, and a 2-hydroxyethyl group is particularly preferable.

7における炭素数2〜4のアルキレン基としては、前記R3で例示した基と同様の基が挙げられる。 Examples of the alkylene group having 2 to 4 carbon atoms for R 7 include the same groups as those exemplified for R 3 .

7の内、好ましいのは原料入手のし易さの観点から、エチレン基、1,3−プロピレン基及び1,2−プロピレン基であり、更に好ましいのはエチレン基である。 Of R 7 , ethylene, 1,3-propylene and 1,2-propylene are preferred from the viewpoint of easy availability of raw materials, and ethylene is more preferred.

pはR5が水素原子、炭素数1〜18の1価の炭化水素基又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基の場合は1、R5が炭素数1〜18の2価の炭化水素基の場合は2である。 p is 1 when R 5 is a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms or a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, and R 5 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. In the case of 2.

一般式(2)で表されるアミンの具体例としては、モノアルカノールアミン[モノエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン及びモノブタノールアミン等];ジアルカノールアミン[ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン及びN−ヒドロキシエチルイソプロパノールアミン等];トリアルカノールアミン[トリエタノールアミン、N−ヒドロキシエチルジイソプロパノールアミン等];モノアルカノールアルキルアミン[モノエタノールエチルアミン、モノイソプロパノールエチルアミン及びモノエタノールブチルアミン等];モノアルカノールシクロアルキルアミン[モノエタノールシクロヘキシルアミン、モノイソプロパノールシクロヘキシルアミン及びモノn−ブタノールシクロヘキシルアミン等];ジアルカノールシクロアルキルアミン[N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−N−シクロヘキシルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシイソプロピル)−N−シクロヘキシルアミン及びN,N−ビス(2−ヒドロキシイソブチル)−N−シクロヘキシルアミン等];テトラアルカノールアルキレンジアミン[N,N,N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン及びN,N,N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシエチル)−1,6−ヘキサメチレンジアミン等]が挙げられる。   Specific examples of the amine represented by the general formula (2) include monoalkanolamines [monoethanolamine, monoisopropanolamine, monobutanolamine and the like]; dialkanolamines [diethanolamine, diisopropanolamine and N-hydroxyethylisopropanolamine] Etc.]; trialkanolamine [triethanolamine, N-hydroxyethyldiisopropanolamine etc.]; monoalkanol alkylamine [monoethanolethylamine, monoisopropanolethylamine and monoethanolbutylamine etc.]; monoalkanol cycloalkylamine [monoethanolcyclohexylamine] Monoisopropanol cyclohexylamine and mono n-butanol cyclohexylamine, etc.]; dialkanol Chloalkylamines [N, N-bis (2-hydroxyethyl) -N-cyclohexylamine, N, N-bis (2-hydroxyisopropyl) -N-cyclohexylamine and N, N-bis (2-hydroxyisobutyl)- N-cyclohexylamine etc.]; tetraalkanol alkylene diamine [N, N, N ′, N′-tetrakis (2-hydroxyethyl) ethylenediamine and N, N, N ′, N′-tetrakis (2-hydroxyethyl) -1 , 6-hexamethylenediamine, etc.].

+として好ましいのは、水溶性に優れ、臭気が少ないという観点から、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、炭素数1〜12のアミンにプロトンが付加したカチオン及び一般式(2)で表されるアミンにプロトンが付加したカチオンであり、銅表面の耐酸化性の観点から、更に好ましいのは炭素数1〜4のアミンにプロトンが付加したカチオン及び一般式(2)で表されるアミンにプロトンが付加したカチオン、特に好ましいのは一般式(2)で表されるアミンにプロトンが付加したカチオンである。 X + is preferably a sodium cation, a potassium cation, a cation obtained by adding a proton to an amine having 1 to 12 carbon atoms, or an amine represented by the general formula (2) from the viewpoint of excellent water solubility and low odor. From the viewpoint of oxidation resistance of the copper surface, a cation having a proton added thereto is more preferable. A cation having a proton added to an amine having 1 to 4 carbon atoms and a proton added to an amine represented by the general formula (2) are more preferable. Particularly preferred is a cation obtained by adding a proton to an amine represented by the general formula (2).

一般式(1)で表される化合物(A)の具体例としては、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドのナトリウム塩、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドのジエタノールアミン塩、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドのN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−N−シクロヘキシルアミン塩、オクテニルコハク酸ジエタノールアミドのN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−N−シクロヘキシルアミン塩、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドのN,N,N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン塩、ペンタデセニルコハク酸ジエタノールアミドのN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−N−シクロヘキシルアミン塩、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドのN,N,N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシエチル)−1,6−ヘキサメチレンジアミン塩、及びドデセニルコハク酸ジエチルアミドのジエタノールアミン塩等が挙げられる。   Specific examples of the compound (A) represented by the general formula (1) include sodium salt of dodecenyl succinic acid diethanolamide, diethanolamine salt of dodecenyl succinic acid diethanolamide, N, N-bis (2-hydroxyethyl) of dodecenyl succinic acid diethanolamide. ) -N-cyclohexylamine salt, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -N-cyclohexylamine salt of octenyl succinic acid diethanolamide, N, N, N ', N'-tetrakis (2- Hydroxyethyl) ethylenediamine salt, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -N-cyclohexylamine salt of pentadecenyl succinic acid diethanolamide, N, N, N ′, N′-tetrakis of dodecenyl succinic acid diethanolamide ( 2- Dorokishiechiru) -1,6-hexamethylenediamine salt, and diethanolamine salts of dodecenylsuccinic acid diethylamide, and the like.

化合物(A)は、一般式(3)で表される酸無水物に、一般式(4)で表される化合物を反応させる方法等により製造できる。   The compound (A) can be produced by a method of reacting the compound represented by the general formula (4) with the acid anhydride represented by the general formula (3).

式中、R1及びR2は一般式(1)におけるR1及びR2と同じである。 In the formula, R 1 and R 2 are the same as R 1 and R 2 in the general formula (1).

式中、R3及びR4は一般式(1)におけるR3及びR4と同じである。 Wherein, R 3 and R 4 are the same as R 3 and R 4 in the general formula (1).

一般式(3)で表される酸無水物に対する一般式(4)で表される化合物の仕込みモル比は1/1.0〜1/3.0が好ましい。反応は、温度−5〜150℃、圧力0〜0.6MPa、反応時間2〜15時間で行うことが好ましい。反応温度が高いとエステル化合物が副生しやすいため、−5〜80℃で反応することが特に好ましい。   The charging molar ratio of the compound represented by the general formula (4) to the acid anhydride represented by the general formula (3) is preferably 1 / 1.0 to 1 / 3.0. The reaction is preferably performed at a temperature of −5 to 150 ° C., a pressure of 0 to 0.6 MPa, and a reaction time of 2 to 15 hours. When the reaction temperature is high, an ester compound is easily produced as a by-product, and therefore it is particularly preferable to react at −5 to 80 ° C.

本発明における被覆剤は、一般式(1)で表される化合物(A)のみからなっていてもよいが、更に一般式(5)で表される化合物(B)を含有していてもよい。   Although the coating agent in this invention may consist only of the compound (A) represented by General formula (1), it may contain the compound (B) represented by General formula (5) further. .

一般式(5)におけるR8及びR9はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数4〜18の炭化水素基であって、R8とR9が同時に水素原子となることはない。炭素数4〜18の炭化水素基としては、一般式(1)におけるR1及びR2として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
+及びZ+はそれぞれ独立に1価のカチオンであり、一般式(1)におけるX+として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
R 8 and R 9 in the general formula (5) are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms, and R 8 and R 9 do not simultaneously become a hydrogen atom. The hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms, the general formula (1) the same as those exemplified as R 1 and R 2 can be mentioned in, preferable ones are also same.
Y + and Z + are each independently a monovalent cation, and examples thereof include those exemplified as X + in the general formula (1), and preferred ones are also the same.

化合物(B)の具体例としては、ドデセニルコハク酸のモノ又はジナトリウム塩、ドデセニルコハク酸のモノ又はジジエタノールアミン塩、ドデセニルコハク酸のモノ又はジN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−N−シクロヘキシルアミン塩、ドデセニルコハク酸のモノN,N,N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン塩及びドデセニルコハク酸のモノN,N,N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシエチル)−1,6−ヘキサメチレンジアミン等が挙げられる。   Specific examples of the compound (B) include mono- or disodium salt of dodecenyl succinic acid, mono- or didiethanolamine salt of dodecenyl succinic acid, mono- or di-N, N-bis (2-hydroxyethyl) -N-cyclohexylamine of dodecenyl succinic acid Salts, mono-N, N, N ′, N′-tetrakis (2-hydroxyethyl) ethylenediamine salt of dodecenyl succinic acid and mono-N, N, N ′, N′-tetrakis (2-hydroxyethyl) -1, dodecenyl succinic acid, Examples include 6-hexamethylenediamine.

被覆材が、化合物(B)を含有する場合、その含有量は化合物(A)と化合物(B)の合計重量に対して、好ましくは0.1〜40重量%、更に好ましくは0.1〜20重量%である。   When the coating material contains the compound (B), the content is preferably 0.1 to 40% by weight, more preferably 0.1 to 0.1% by weight based on the total weight of the compound (A) and the compound (B). 20% by weight.

化合物(B)は、前記一般式(3)で表される酸無水物を加水分解したジカルボン酸に前記一般式(4)で表される化合物を反応させることにより得ることができる。   The compound (B) can be obtained by reacting the compound represented by the general formula (4) with a dicarboxylic acid obtained by hydrolyzing the acid anhydride represented by the general formula (3).

水及び/又は有機溶媒中で、前記一般式(1)で表される化合物(A)を含有する被覆剤の存在下に、銅化合物と還元剤とを反応させて金属銅微粒子を析出させ、固液分離して水洗後、乾燥することより、化合物(A)を含有する被覆剤で被覆された銅微粒子を得ることができる。
また、被覆剤に更に一般式(5)で表される化合物(B)を含有させることにより、同様にして化合物(A)及び化合物(B)からなる被覆剤で被覆された銅微粒子を得ることができる。
銅微粒子が化合物(A)等で被覆されていることは、銅表面の赤外吸収スペクトルを測定することにより確認できる。
In the presence of a coating agent containing the compound (A) represented by the general formula (1) in water and / or an organic solvent, the copper compound and the reducing agent are reacted to precipitate metal copper fine particles, The copper fine particles coated with the coating agent containing the compound (A) can be obtained by solid-liquid separation, washing with water, and drying.
Moreover, the copper fine particle coat | covered with the coating agent which consists of a compound (A) and a compound (B) similarly by making the coating agent further contain the compound (B) represented by General formula (5). Can do.
Whether the copper fine particles are coated with the compound (A) or the like can be confirmed by measuring the infrared absorption spectrum of the copper surface.

水としては、特に制限はなく、水道水、イオン交換水、超純水及び蒸留水等いずれも使用できる。
有機溶媒としては、炭素数1〜6の1価又は2価のアルコール(メチルアルコール、エチルアルコール、n−又はiso−プロピルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル及びジエチレングリコールモノメチルエーテル等)及び炭素数3〜9のケトン(アセトン及びエチルメチルケトン等)等が挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as water, Tap water, ion-exchange water, ultrapure water, distilled water, etc. can be used.
Examples of the organic solvent include monovalent or divalent alcohols having 1 to 6 carbon atoms (methyl alcohol, ethyl alcohol, n- or iso-propyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol mono Ethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, etc.) and C3-C9 ketones (acetone, ethyl methyl ketone, etc.).

銅化合物としては、例えば、銅の酸化物、塩化物、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩及び酢酸塩等が挙げられる。   Examples of the copper compound include copper oxides, chlorides, sulfates, nitrates, carbonates and acetates.

還元剤としては公知のものを用いることができ、例えば、(1)ヒドラジン又はその水和物、(2)ヒドラジン系化合物(塩酸ヒドラジン及び硫酸ヒドラジン等)、(3)アルデヒド類[(a)脂肪族アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド及びイソブチルアルデヒド等)、(b)芳香族アルデヒド類(ベンズアルデヒド等)及び(c)複素環式アルデヒド類等]、(4)アミン類[(a)1級アミン類(ブチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン及びエチレンジアミン等)、(b)2級アミン類(ジブチルアミン、ジエチルアミン及びジプロピルアミン等)、(c)3級アミン類(トリブチルアミン、トリエチルアミン及びトリプロピルアミン等)等]、(5)アミノアルデヒド類(アミノアセトアルデヒド等)、(6)アルカノールアミン類(エタノールアミン、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミン等)、(7)還元糖(ショ糖、トレパース、マルトース及びラクトース等)、(8)水素化合物(水素化ホウ素ナトリウム等)、(9)低次無機酸素酸(亜硫酸、亜硝酸、次亜硝酸、亜リン酸及び次亜リン酸等)及びその水化物(亜硫酸水素等)又はそれらの塩(ナトリウム等のアルカリ金属塩等)等が挙げられ、これらは単独で用いても2種以上を併用してもよい。   Known reducing agents can be used, such as (1) hydrazine or hydrates thereof, (2) hydrazine compounds (such as hydrazine hydrochloride and hydrazine sulfate), (3) aldehydes [(a) fats Aromatic aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, isobutyraldehyde, etc.), (b) aromatic aldehydes (benzaldehyde, etc.) and (c) heterocyclic aldehydes, etc.], (4) amines [(a ) Primary amines (such as butylamine, ethylamine, propylamine, and ethylenediamine), (b) Secondary amines (such as dibutylamine, diethylamine, and dipropylamine), (c) Tertiary amines (tributylamine, triethylamine, and tributylamine) Propylamine, etc.)], (5) aminoaldehyde (6) Alkanolamines (such as ethanolamine, diethanolamine and triethanolamine), (7) Reducing sugars (such as sucrose, treperth, maltose and lactose), (8) Hydrogen compounds (hydrogenated) (9) Low-order inorganic oxygen acids (sulfurous acid, nitrous acid, hyponitrous acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid, etc.) and their hydrates (bisulfite, etc.) or their salts (such as sodium) Alkali metal salts etc.) and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

水及び/又は有機溶媒中の銅化合物の濃度は、銅化合物が溶解又は分散する範囲であれば特に制約はないが、生産性の観点からは5ミリモル/リットル以上とすることが好ましい。   The concentration of the copper compound in water and / or the organic solvent is not particularly limited as long as the copper compound is dissolved or dispersed, but is preferably 5 mmol / liter or more from the viewpoint of productivity.

被覆剤の使用量は、耐酸化性及びコストの観点から、銅化合物100重量部に対して10〜5000重量部である。   The usage-amount of a coating agent is 10-5000 weight part with respect to 100 weight part of copper compounds from a viewpoint of oxidation resistance and cost.

還元剤の使用量は、還元反応速度、生成する銅粒子の粒子径制御及びコストの観点から、銅化合物100重量部に対して10〜2000重量部好ましくは、20〜1,000重量部である。   The amount of the reducing agent used is from 10 to 2000 parts by weight, preferably from 20 to 1,000 parts by weight, based on 100 parts by weight of the copper compound, from the viewpoint of the reduction reaction rate, the particle diameter control of the produced copper particles and the cost. .

還元反応時の温度は10〜90℃程度に保持することが望ましく、更に好ましくは40〜60℃である。10℃未満では還元反応の進行が遅くなり、90℃を超えると反応が激しくなって二次核が発生しやすくなり、粒子径の制御が困難になる傾向にある。   The temperature during the reduction reaction is desirably maintained at about 10 to 90 ° C, more preferably 40 to 60 ° C. If the temperature is less than 10 ° C, the reduction reaction proceeds slowly. If the temperature exceeds 90 ° C, the reaction becomes intense and secondary nuclei are likely to be generated, and the particle size tends to be difficult to control.

還元反応時の溶液又は分散液のpHは、銅化合物の溶解性又は均一分散性及び還元反応の効率向上の観点から7〜14であることが好ましく、更に好ましくは8〜13、特に好ましくは8〜12である。
pH調整には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化カルシウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物や炭酸塩、アンモニアやアミン類等の塩基性化合物を用いることができる。
The pH of the solution or dispersion during the reduction reaction is preferably 7 to 14, more preferably 8 to 13, particularly preferably 8 from the viewpoint of improving the solubility or uniform dispersibility of the copper compound and the efficiency of the reduction reaction. ~ 12.
For pH adjustment, basic compounds such as hydroxides or carbonates of alkali metals or alkaline earth metals such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and calcium hydroxide, ammonia and amines can be used.

固液分離の方法は、特に限定されず、例えば濾過器や遠心分離機による方法が挙げられる。
乾燥する方法としては、流動層式乾燥機、減圧乾燥機及び循風乾燥機等公知の設備を用いて行うことができる。乾燥温度は、通常30〜200℃、好ましくは50〜100℃、乾燥時間は通常1〜10時間、好ましくは2〜5時間である。
The method of solid-liquid separation is not particularly limited, and examples thereof include a method using a filter or a centrifuge.
As a drying method, it can be performed using a known facility such as a fluidized bed dryer, a vacuum dryer, and a circulating dryer. The drying temperature is usually 30 to 200 ° C., preferably 50 to 100 ° C., and the drying time is usually 1 to 10 hours, preferably 2 to 5 hours.

本発明の銅微粒子の平均粒子径は、使用する用途により好ましい範囲が異なるが、還元剤と被覆剤の濃度や還元反応中の攪拌速度を調整することで1nmから100μmの範囲における所望の平均粒子径に適宜調節することできる。   The preferred range of the average particle size of the copper fine particles of the present invention varies depending on the application to be used, but the desired average particle in the range of 1 nm to 100 μm can be adjusted by adjusting the concentration of the reducing agent and the coating agent and the stirring speed during the reduction reaction. The diameter can be adjusted as appropriate.

以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。以下において部は重量部を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further, this invention is not limited to this. Below, a part represents a weight part.

[実施例1]
塩化銅25.5部をイオン交換水750部中に溶解させ、下記構造式(6)で表される被覆剤15部を加えて攪拌しながら40℃に加熱した。その後、還元剤として5%ヒドラジン水溶液750部及びアンモニア22.5部を加えpHを10にし、60℃まで1時間かけて昇温し、更に60℃で1時間保持しながら還元反応を進行させた。反応液を遠心分離機で固液分離し、回収された固形分を水洗、乾燥して銅微粒子を得た。
[Example 1]
25.5 parts of copper chloride was dissolved in 750 parts of ion-exchanged water, 15 parts of a coating agent represented by the following structural formula (6) was added, and the mixture was heated to 40 ° C. with stirring. Thereafter, 750 parts of a 5% hydrazine aqueous solution and 22.5 parts of ammonia were added as reducing agents, the pH was adjusted to 10, the temperature was raised to 60 ° C. over 1 hour, and the reduction reaction proceeded while maintaining at 60 ° C. for 1 hour. . The reaction solution was subjected to solid-liquid separation with a centrifugal separator, and the collected solid content was washed with water and dried to obtain copper fine particles.

[実施例2]
前記構造式(6)で表される被覆剤を下記構造式(7)で表される被覆剤に代えた以外は、実施例1と同様にして銅微粒子を得た。
[Example 2]
Copper fine particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating agent represented by the structural formula (6) was replaced with the coating agent represented by the following structural formula (7).

[実施例3]
硝酸銅25.5部をイオン交換水750部中に溶解させ、前記構造式(6)で表される被覆剤15部を加えて攪拌しながら40℃に加熱した。その後、還元剤として5%ヒドラジン水溶液750部及びアンモニア22.5部を加えpHを10にし、60℃まで1時間かけて昇温し、更に60℃で1時間保持しながら還元反応を進行させた。反応液を遠心分離機で固液分離し、回収された固形分を水洗、乾燥して銅微粒子を得た。
[Example 3]
25.5 parts of copper nitrate was dissolved in 750 parts of ion-exchanged water, 15 parts of the coating agent represented by the structural formula (6) was added, and the mixture was heated to 40 ° C. with stirring. Thereafter, 750 parts of a 5% hydrazine aqueous solution and 22.5 parts of ammonia were added as reducing agents, the pH was adjusted to 10, the temperature was raised to 60 ° C. over 1 hour, and the reduction reaction proceeded while maintaining at 60 ° C. for 1 hour. . The reaction solution was subjected to solid-liquid separation with a centrifugal separator, and the collected solid content was washed with water and dried to obtain copper fine particles.

[比較例1]
前記構造式(6)で表される被覆剤を重量平均分子量3000のポリビニルピロリドンに代えた以外は、実施例1と同様にして銅微粒子を得た。
[Comparative Example 1]
Copper fine particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating agent represented by the structural formula (6) was replaced with polyvinylpyrrolidone having a weight average molecular weight of 3000.

[比較例2]
前記構造式(6)で表される被覆剤をオレイン酸に代えた以外は、実施例1と同様にして銅微粒子を得た。
[Comparative Example 2]
Copper fine particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating agent represented by the structural formula (6) was replaced with oleic acid.

実施例1〜4、比較例1及び2で得られた銅微粒子の表面の赤外吸収スペクトルを測定し、使用したそれぞれの被覆剤で被覆されていることを確認した。
実施例1〜4、比較例1及び2で得られた銅粒子について平均粒子径及び導電率を以下の試験法により測定した結果を表1に示す。
<平均粒子径の測定方法>
走査型電子顕微鏡[(株)日本電子製「JSM−7000」]を用いて、撮影倍率10万倍で、視野から200個の銅微粒子を無作為に選択して粒子径を測定し、その平均値を平均粒子径とした。
The infrared absorption spectra of the surfaces of the copper fine particles obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were measured, and it was confirmed that they were coated with the respective coating agents used.
Table 1 shows the results of measuring the average particle diameter and conductivity of the copper particles obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 by the following test method.
<Measurement method of average particle diameter>
Using a scanning electron microscope ["JSM-7000" manufactured by JEOL Ltd.], 200 copper fine particles were randomly selected from the field of view at a shooting magnification of 100,000, and the particle diameter was measured. The value was defined as the average particle size.

<導電率の測定方法>
銅微粒子1.33部、ポリフッ化ビニリデン0.12部及びN−メチルピロリドン0.88部を混合し、ガラスの板に乾燥後の膜厚が100μmとなるように塗布し、80℃で30分間減圧乾燥させた。得られた塗膜を空冷した後、塗膜の導電率を、ロレスタ−GP型低抵抗率計(三菱化学社製)を用いて測定した。導電率が大きい程導電性が高いことを表す。
<Measurement method of conductivity>
1.33 parts of copper fine particles, 0.12 part of polyvinylidene fluoride and 0.88 part of N-methylpyrrolidone were mixed and applied to a glass plate so that the film thickness after drying was 100 μm, and then at 80 ° C. for 30 minutes. It was dried under reduced pressure. After the obtained coating film was air-cooled, the conductivity of the coating film was measured using a Loresta-GP type low resistivity meter (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). The larger the conductivity, the higher the conductivity.

本発明の銅微粒子は、微細配線の形成不良を防ぎ、且つ電気的安定性に優れた導体形成が可能とな、電子材料の配線形成や異方性導電接着剤用として有用である。   The copper fine particles of the present invention can prevent formation of fine wiring and can form a conductor excellent in electrical stability, and are useful for forming wiring of electronic materials and anisotropic conductive adhesives.

Claims (7)

一般式(1)で表される化合物(A)を含有する被覆剤で表面を被覆されてなることを特徴とする銅微粒子。
[式中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数4〜18の炭化水素基であって、R1とR2が同時に水素原子となることはなく、R3及びR4はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基、X+は1価のカチオンである。]
A copper fine particle, the surface of which is coated with a coating agent containing the compound (A) represented by the general formula (1).
[Wherein, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms, and R 1 and R 2 are not simultaneously hydrogen atoms, and R 3 and R 4 are Each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, and X + is a monovalent cation. ]
前記一般式(1)におけるR1及びR2の内、いずれか一方が水素原子で、他方が炭素数8〜18のアルケニル基である請求項1記載の銅微粒子。 2. The copper fine particles according to claim 1, wherein one of R 1 and R 2 in the general formula (1) is a hydrogen atom and the other is an alkenyl group having 8 to 18 carbon atoms. 前記一般式(1)におけるR3及びR4が、炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基である請求項1又は2記載の銅微粒子。 The copper fine particles according to claim 1 or 2, wherein R 3 and R 4 in the general formula (1) are a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms. 前記一般式(1)におけるX+が、一般式(2)で表されるアミンにプロトンが付加した1価のカチオンである請求項1〜3のいずれか記載の銅粒子。
[式中、R5は水素原子、炭素数1〜18の1価若しくは2価の炭化水素基又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基、R6は水素原子、炭素数1〜18の1価の炭化水素基又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基、R7は炭素数2〜4のアルキレン基、pはR5が水素原子、炭素数1〜18の1価の炭化水素基又は炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基の場合は1、R5が炭素数1〜18の2価の炭化水素基の場合は2である。]
The copper particles according to claim 1, wherein X + in the general formula (1) is a monovalent cation obtained by adding a proton to the amine represented by the general formula (2).
[Wherein R 5 is a hydrogen atom, a monovalent or divalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms or a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, R 6 is a hydrogen atom, monovalent having 1 to 18 carbon atoms. hydrocarbon group or a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, R 7 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, p is R 5 is a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group or a carbon number of 1 to 18 carbon atoms It is 1 in the case of 2 to 4 hydroxyalkyl groups, and 2 in the case where R 5 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. ]
前記被覆剤が、更に一般式(5)で表される化合物(B)を含有し、前記化合物(A)と前記化合物(B)の合計重量に対する前記化合物(B)の割合が、0.1〜40重量%である請求項1〜4のいずれか記載の銅微粒子。
[式中、R8及びR9はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数4〜18の炭化水素基であって、R8とR9が同時に水素原子となることはなく、Y+及びZ+はそれぞれ独立に1価のカチオンである。]
The coating agent further contains the compound (B) represented by the general formula (5), and the ratio of the compound (B) to the total weight of the compound (A) and the compound (B) is 0.1. The copper fine particle according to any one of claims 1 to 4, which is -40% by weight.
[Wherein, R 8 and R 9 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms, and R 8 and R 9 do not simultaneously become a hydrogen atom, and Y + and Z + are Each is independently a monovalent cation. ]
水及び/又は有機溶媒中で、前記一般式(1)で表される化合物(A)、又は前記(A)と一般式(5)で表される化合物(B)を含有する被覆剤の存在下に、銅化合物と還元剤とを反応させて金属銅を析出させることを特徴とする請求項1〜5の何れか記載の銅微粒子の製造法。   Presence of a coating agent containing the compound (A) represented by the general formula (1) or the compound (B) represented by the (A) and the general formula (5) in water and / or an organic solvent. The method for producing copper fine particles according to any one of claims 1 to 5, wherein metal copper is precipitated by reacting a copper compound with a reducing agent. 還元反応開始時の溶液又は分散液のpHが7〜14である請求項6記載の銅微粒子の製造法。   The method for producing copper fine particles according to claim 6, wherein the pH of the solution or dispersion at the start of the reduction reaction is 7 to 14.
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