JP2011040293A - Electron gun, and vacuum treatment device using the electron gun - Google Patents

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貴志 影山
Yasumasa Suzuki
康正 鈴木
Toru Satake
徹 佐竹
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology which improves thermionic emission efficiency from a cathode in a high output electron gun. <P>SOLUTION: The electron gun 10 has a case 11. A cathode member 31, a heating device 32, and an anode electrode 3 are arranged in the case 11. The cathode member 31 has a cathode electrode 1 and a support member 5. A pin 15 is constructed of tungsten, and the cathode electrode 1 is constructed of tantalum. Since the cathode electrode 1 constructed of tantalum can obtain a necessary electron emission amount at a lower temperature than that of the cathode electrode 1 constructed of tungsten. Thus, when vacuum treatment is performed a plurality of times using the electron gun 10, a supporting side contact face does not become higher in temperature by radiation from the cathode electrode 1 or heat conduction from the cathode electrode 1 through the pin 15 than in the conventional case, and the pin 15 is not firmly fixed. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、高出力電子銃において、カソード電極からの熱電子放出効率を上げることを目的としたカソード材質に関するものである。   The present invention relates to a cathode material for the purpose of increasing the efficiency of thermionic emission from a cathode electrode in a high-power electron gun.

電子銃は、フィラメント、カソード電極、アノード電極により形成されている。カソード電極は、ピンを介して保持リングによって保持されている。
電子銃を真空槽内に配置し、カソード電極を加熱すると電子が放出され、カソード電極に電圧を印加するとアノード電極側へ電子が引き出される。
カソード電極から電子をより多く放出させるためには、カソード電極を可能な限り高温に加熱する。従って、カソード電極には、高温に耐えられるタングステンが用いられ、カソード電極を保持するためにピンにはタングステンが用いられ、保持リングには高温に耐えられ比較的安価なモリブデンが用いられている。 The electron gun is formed of a filament, a cathode electrode, and an anode electrode. The cathode electrode is held by a holding ring via a pin.
When the electron gun is placed in a vacuum chamber and the cathode electrode is heated, electrons are emitted, and when a voltage is applied to the cathode electrode, electrons are extracted to the anode electrode side.
In order to release more electrons from the cathode electrode, the cathode electrode is heated as high as possible. Therefore, tungsten that can withstand high temperatures is used for the cathode electrode, tungsten is used for the pins to hold the cathode electrode, and molybdenum that can withstand high temperatures and is relatively inexpensive is used for the holding ring.

モリブデンの融点はタングステンの融点より低く、必要な量の電子を放出させるためにカソード電極は、モリブデンの融点よりは低いがモリブデンの融点に近い温度まで加熱される。加熱されたカソード電極からの熱伝導によってピンが昇温し、ピンと接触する保持部材が、モリブデンの融点より低いがモリブデンの融点近くになり、ピンが固着するという問題点がある。
モリブデンより融点の高いタングステンを保持リングに用いると、ピンは固着しない。しかし、ピンと保持部材はタングステン同士が接触していることになり、タングステン同士の摩擦係数はタングステンとモリブデンとの摩擦係数より大きいので、ピンと接触してる部分が擦れてピンが保持リングから抜けなくなるという不都合が生じる。 The melting point of molybdenum is lower than that of tungsten, and in order to emit a necessary amount of electrons, the cathode electrode is heated to a temperature lower than the melting point of molybdenum but close to the melting point of molybdenum. There is a problem in that the temperature of the pin rises due to heat conduction from the heated cathode electrode, and the holding member in contact with the pin is lower than the melting point of molybdenum but close to the melting point of molybdenum, and the pin is fixed.
When tungsten having a melting point higher than that of molybdenum is used for the retaining ring, the pin does not adhere. However, the pin and the holding member are in contact with tungsten, and the friction coefficient between tungsten is larger than the friction coefficient between tungsten and molybdenum, so that the portion in contact with the pin is rubbed and the pin does not come off from the holding ring. Inconvenience arises.

特開２００５−２６８１７７号公報JP 2005-268177 A

本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、必要な電子放出量を得るための温度にカソード電極が加熱されたときに、カソード電極を保持するピンがピンと接触する保持部材に固着しない電子銃を提供することである。   The present invention was created to solve the above-mentioned disadvantages of the prior art, and its purpose is to provide a pin for holding the cathode electrode when the cathode electrode is heated to a temperature for obtaining a necessary electron emission amount. It is to provide an electron gun that does not adhere to a holding member that contacts a pin.

上記課題を解決するために、本発明は、リング状の保持部材と、電子を放出するカソード電極と、前記カソード電極を加熱する加熱装置と、前記保持部材と前記カソード電極を電気的に接続する三個以上のピンとを有し、前記カソード電極は、前記ピンを介して、前記保持部材に保持される電子銃であって、前記カソード電極は、タンタルで構成された電子銃である。
また、本発明は、前記ピンは、タングステンで構成され、前記保持部材は、モリブデンで構成された電子銃である。
また、本発明は、真空槽と真空ポンプと、上記いずれかの電子銃を有し、前記電子銃は、前記真空槽内部に電子を放出するように構成され、処理対象物の処理を前記真空槽内で行う真空処理装置である。 In order to solve the above problems, the present invention electrically connects a ring-shaped holding member, a cathode electrode that emits electrons, a heating device that heats the cathode electrode, and the holding member and the cathode electrode. The cathode electrode is an electron gun held by the holding member via the pin, and the cathode electrode is an electron gun made of tantalum.
In the present invention, the pin is made of tungsten, and the holding member is an electron gun made of molybdenum.
The present invention also includes a vacuum chamber, a vacuum pump, and any one of the above-described electron guns, wherein the electron gun is configured to emit electrons into the vacuum chamber, and the processing of an object to be processed is performed in the vacuum It is the vacuum processing apparatus performed in a tank.

本発明により、従来よりも電子放出量が多くなるようにカソード電極が加熱されても、その温度は従来のカソード電極の温度より低いので、熱伝導によりピンと接触する部分の保持部材の温度は低く、ピンは固着せず、従来より低い温度でピンと保持部材を使用することができる。   According to the present invention, even if the cathode electrode is heated so that the amount of electron emission is larger than the conventional one, the temperature of the cathode electrode is lower than the temperature of the conventional cathode electrode. The pin does not stick, and the pin and the holding member can be used at a lower temperature than before.

本発明の電子銃を用いた真空処理装置を説明するための図The figure for demonstrating the vacuum processing apparatus using the electron gun of this invention 本発明の電子銃の断面図Sectional view of the electron gun of the present invention （ａ）：カソード電極の平面図（ｂ）：カソード電極のＡ−Ａ’線截断断面図(A): Plan view of cathode electrode (b): A-A 'line cross-sectional view of cathode electrode （ａ）：保持部材の平面図（ｂ）：保持部材の拡大斜視図(A): Plan view of holding member (b): Enlarged perspective view of holding member

図１の符号５０は本発明の電子銃を用いる真空処理装置である。
真空処理装置５０は真空槽２５と電子銃１０を有している。真空槽２５には、真空ポンプ３９が接続され、真空ポンプ３９を動作させると真空槽２５内を真空雰囲気にすることができる。
電子銃１０は、真空槽２５の側面に気密に挿通されている。 Reference numeral 50 in FIG. 1 is a vacuum processing apparatus using the electron gun of the present invention.
The vacuum processing apparatus 50 includes a vacuum chamber 25 and an electron gun 10. A vacuum pump 39 is connected to the vacuum chamber 25, and when the vacuum pump 39 is operated, the inside of the vacuum chamber 25 can be in a vacuum atmosphere.
The electron gun 10 is hermetically inserted through the side surface of the vacuum chamber 25.

真空槽２５の底部には、蒸着材料３５が、るつぼ３６に入れられて配置され、基板３０の表面と蒸着材料３５の表面が向かい合って位置している。真空槽２５とるつぼ３６は接地電位に接続されている。
電子銃１０の銃口は蒸着材料３５に向けられている。
上記電子銃１０を詳述する。図２は、電子銃の断面図である。
電子銃１０は筺体１１を有しており、筺体１１の内部には、カソード部材３１と、発熱装置３２と、アノード電極３が配置されている。 At the bottom of the vacuum chamber 25, the vapor deposition material 35 is placed in a crucible 36, and the surface of the substrate 30 and the surface of the vapor deposition material 35 are located facing each other. The vacuum chamber 25 and the crucible 36 are connected to the ground potential.
The muzzle of the electron gun 10 is directed to the vapor deposition material 35.
The electron gun 10 will be described in detail. FIG. 2 is a sectional view of the electron gun.
The electron gun 10 has a housing 11, and a cathode member 31, a heat generating device 32, and an anode electrode 3 are disposed inside the housing 11.

カソード部材３１は、カソード電極１と、保持部材５とを有している。
カソード電極１は円柱状であり、その外周側面には、三個以上（ここでは４個）の電極側孔６０が形成されている。
保持部材５はリング形状であり、そのリング形状の内周側面にも、電極側孔６０と同数の保持側孔７０が形成されている。 The cathode member 31 includes the cathode electrode 1 and the holding member 5.
The cathode electrode 1 has a cylindrical shape, and three or more (here, four) electrode side holes 60 are formed on the outer peripheral side surface thereof.
The holding member 5 has a ring shape, and the same number of holding side holes 70 as the electrode side holes 60 are formed on the inner peripheral side surface of the ring shape.

カソード電極１の平面図を図３（ａ）に示し、カソード電極１のＡ−Ａ’線截断断面図を図３（ｂ）に示す。
保持部材５の平面図を図４（ａ）に示し、保持部材５の拡大斜視図を図４（ｂ）に示す。
保持部材５の内周は、カソード電極１の外周よりも大きく形成されており、保持部材５とカソード電極１は、同一平面内で、保持部材５の内周よりも内側にカソード電極１を配置できるように構成されている。 A plan view of the cathode electrode 1 is shown in FIG. 3A, and a cross-sectional view taken along line AA ′ of the cathode electrode 1 is shown in FIG.
A plan view of the holding member 5 is shown in FIG. 4A, and an enlarged perspective view of the holding member 5 is shown in FIG.
The inner periphery of the holding member 5 is formed larger than the outer periphery of the cathode electrode 1, and the holding member 5 and the cathode electrode 1 are arranged in the same plane and the cathode electrode 1 is disposed on the inner side of the inner periphery of the holding member 5. It is configured to be able to.

カソード電極１を保持部材５の中央に配置し、位置合わせをすると、電極側孔６０と保持側孔７０は互いに対面する位置にそれぞれ配置することができる。
カソード部材３１は、電極側孔６０の個数、及び、保持側孔７０の個数と同数の直線状のピン１５を有しており、ピン１５の端部の形状・太さは、電極側孔６０や保持側孔７０に嵌り込む大きさになっている。 When the cathode electrode 1 is arranged at the center of the holding member 5 and aligned, the electrode side hole 60 and the holding side hole 70 can be arranged at positions facing each other.
The cathode member 31 has the same number of linear pins 15 as the number of electrode side holes 60 and the number of holding side holes 70, and the shape and thickness of the ends of the pins 15 are determined according to the electrode side holes 60. Or a size that fits into the holding side hole 70.

電極側孔６０と保持側孔７０が互いに対面した状態で、ピン１５の一端が電極側孔６０に嵌り込み、他端が保持側孔７０に嵌り込み、カソード電極１と保持部材５は、ピン１５によって互いに固定されている。
カソード電極１は、タンタルで構成され、ピン１５は、タングステンで構成され、保持部材はモリブデンで構成されている。 With the electrode side hole 60 and the holding side hole 70 facing each other, one end of the pin 15 is fitted into the electrode side hole 60, the other end is fitted into the holding side hole 70, and the cathode electrode 1 and the holding member 5 are 15 are fixed to each other.
The cathode electrode 1 is made of tantalum, the pin 15 is made of tungsten, and the holding member is made of molybdenum.

筺体１１の内部には、フィラメント２が配置されている。そのフィラメント２の側方には複数位置に、不図示の支持部が配置されている。
保持部材５は、支持部上に乗せられ、互いに固定された保持部材５とカソード電極１は、支持部によって筺体１１内で静止されている。この状態では、カソード電極１は、カソード電極１と保持部材５とが、直接接触しないようにピン１５を介して保持部材５に保持されている。
フィラメント２は、カソード電極１と、ピン１５と、保持部材５と非接触にされており、電子加速電源２２が短絡電流を流さないようにしている。 A filament 2 is disposed inside the housing 11. On the side of the filament 2, support portions (not shown) are arranged at a plurality of positions.
The holding member 5 is placed on the support part, and the holding member 5 and the cathode electrode 1 fixed to each other are stationary in the housing 11 by the support part. In this state, the cathode electrode 1 is held by the holding member 5 via the pin 15 so that the cathode electrode 1 and the holding member 5 do not directly contact each other.
The filament 2 is not in contact with the cathode electrode 1, the pin 15, and the holding member 5, so that the electron acceleration power source 22 does not flow a short-circuit current.

カソード電極１が保持部材５に保持された状態では、保持側孔７０の内周面と、ピン１５の一端部の外周面が互いに接触し、電極側孔６０の内周面とピン１５の他端部の外周面とが互いに接触するから、保持側孔７０の内周面を保持側接触面と呼び、電極側孔６０の内周面を電極側接触面と呼ぶと、保持側接触面にはモリブデンが露出され、電極側接触面にはタンタルが露出されている。
従って、ピン１５は一端がモリブデンと接触しており、他端がタンタルに接触してカソード電極１が保持部材５に支持されていることになる。 In a state where the cathode electrode 1 is held by the holding member 5, the inner peripheral surface of the holding side hole 70 and the outer peripheral surface of one end of the pin 15 are in contact with each other. Since the outer peripheral surfaces of the end portions are in contact with each other, the inner peripheral surface of the holding side hole 70 is referred to as a holding side contact surface, and the inner peripheral surface of the electrode side hole 60 is referred to as an electrode side contact surface. Mo is exposed and tantalum is exposed on the electrode side contact surface.
Therefore, one end of the pin 15 is in contact with molybdenum, the other end is in contact with tantalum, and the cathode electrode 1 is supported by the holding member 5.

保持部材５は負電圧電源２０の出力端子に電気的に接続されている。カソード電極１とピン１５と保持部材５は導電性の材質であり、ピン１５の一端と保持側接触面が接触してピン１５と保持部材５が電気的に接続され、ピン１５の他端と電極側接触面が接触し、ピン１５とカソード電極１が電気的に接続されて、負電圧電源２０を起動し出力端子から負電圧を出力すると保持部材５とピン１５とを介してカソード電極１に負電圧が印加されるように構成されている。   The holding member 5 is electrically connected to the output terminal of the negative voltage power supply 20. The cathode electrode 1, the pin 15, and the holding member 5 are conductive materials, and one end of the pin 15 and the holding-side contact surface come into contact with each other so that the pin 15 and the holding member 5 are electrically connected. When the electrode-side contact surface comes into contact, the pin 15 and the cathode electrode 1 are electrically connected, the negative voltage power source 20 is activated and a negative voltage is output from the output terminal, the cathode electrode 1 is connected via the holding member 5 and the pin 15. Is configured to be applied with a negative voltage.

カソード電極１の表面に、窪みから成る凹部１６が形成されている。
カソード電極１の裏面には、その裏面から離間した下方位置にフィラメント２が配置されている。
フィラメント２には、加熱電源２１が接続されている。加熱電源２１は、フィラメント２に電流を流し、フィラメント２を所定の温度に発熱させるように構成されており、フィラメント２は、真空中で通電されると、カソード電極を加熱すると共に、電子を放出する。 On the surface of the cathode electrode 1, a recess 16 made of a depression is formed.
On the back surface of the cathode electrode 1, a filament 2 is disposed at a lower position away from the back surface.
A heating power source 21 is connected to the filament 2. The heating power source 21 is configured to cause a current to flow through the filament 2 and generate heat to a predetermined temperature. When the filament 2 is energized in a vacuum, it heats the cathode electrode and emits electrons. To do.

フィラメント２には、さらに電子加速電源２２が接続されており、電子加速電源２２を動作させると、フィラメント２には、フィラメント２の電圧がカソード電極１の電圧よりも低くなるように、負の電子加速電圧が印加される。ここでは、フィラメント２には、カソード電極１の電圧より最大１．５ｋＶ低くなるように電圧が印加される。   An electron acceleration power source 22 is further connected to the filament 2. When the electron acceleration power source 22 is operated, the filament 2 has negative electrons so that the voltage of the filament 2 is lower than the voltage of the cathode electrode 1. An acceleration voltage is applied. Here, a voltage is applied to the filament 2 so as to be 1.5 kV lower than the voltage of the cathode electrode 1.

その状態でフィラメント２から電子が放出されると、電子はカソード電極１へ向かって加速され、カソード電極１に衝突する。この電子のカソード電極１への衝突と、カソード電極１に流れる電流によってカソード電極１が加熱され、昇温する。   When electrons are emitted from the filament 2 in this state, the electrons are accelerated toward the cathode electrode 1 and collide with the cathode electrode 1. The cathode electrode 1 is heated by the collision of the electrons with the cathode electrode 1 and the current flowing through the cathode electrode 1 to raise the temperature.

カソード電極１の表面には、その表面から離間した上方位置にアノード電極３が配置されている。
アノード電極３は筒状であり、アノード電極３の一方の開口（カソード側開口１８）は、カソード電極１の凹部１６に向けられている。
アノード電極３の他方の開口は、真空槽２５の内部に向けられており、その開口を介して真空槽２５の内部とアノード電極３の内部が接続されている。
アノード電極３は、筺体１１に接続されており、接地電位となっている。 On the surface of the cathode electrode 1, an anode electrode 3 is disposed at an upper position separated from the surface.
The anode electrode 3 has a cylindrical shape, and one opening (cathode side opening 18) of the anode electrode 3 faces the recess 16 of the cathode electrode 1.
The other opening of the anode electrode 3 is directed to the inside of the vacuum chamber 25, and the inside of the vacuum chamber 25 and the inside of the anode electrode 3 are connected via the opening.
The anode electrode 3 is connected to the housing 11 and has a ground potential.

上記電子銃１０を用いた蒸着のプロセスを詳述する。
真空槽２５には、不図示の搬入室と搬出室とが真空バルブを介して接続されている。
真空槽２５と搬入室と搬出室は、真空ポンプにそれぞれ接続されており、真空槽２５内部は真空槽２５に接続された真空ポンプ３９により真空排気され、真空雰囲気に置かれており、真空バルブを開閉し、真空槽２５の真空雰囲気を維持したまま、搬入室を介して基板３０を真空槽２５内に搬入し、基板ホルダ２９に保持させる。 The vapor deposition process using the electron gun 10 will be described in detail.
A carry-in chamber and a carry-out chamber (not shown) are connected to the vacuum chamber 25 via a vacuum valve.
The vacuum chamber 25, the carry-in chamber, and the carry-out chamber are connected to a vacuum pump, and the inside of the vacuum chamber 25 is evacuated by a vacuum pump 39 connected to the vacuum chamber 25, and is placed in a vacuum atmosphere. The substrate 30 is loaded into the vacuum chamber 25 through the loading chamber while the vacuum atmosphere of the vacuum chamber 25 is maintained, and is held by the substrate holder 29.

発熱装置３２を起動してカソード電極１を所定の温度（ここでは２８５０Ｋ程度）まで加熱すると、カソード電極１から電子が放出される。負電圧電源２０を起動し、アノード電極３とカソード電極１のそれぞれに電圧を印加すると、アノード電極３とカソード電極１の電位差（ここでは４０ｋＶ）によって、放出された電子は、アノード電極側へ加速される。   When the heating device 32 is activated to heat the cathode electrode 1 to a predetermined temperature (here, about 2850 K), electrons are emitted from the cathode electrode 1. When the negative voltage power source 20 is activated and a voltage is applied to each of the anode electrode 3 and the cathode electrode 1, the emitted electrons are accelerated toward the anode electrode side by the potential difference (40 kV in this case) between the anode electrode 3 and the cathode electrode 1. Is done.

カソード電極１の上方には、リング状のウェネルト電極４が配置されている。ウェネルト電極４には、負電圧電源２０が接続され、カソード電極１と等電圧が印加されている。
カソード電極１の表面の形状は、円柱状であり、円柱の中央に外周が円形の窪みから成る凹部１６が形成されている。凹部１６の表面は凹レンズ状である。カソード電極１の少なくとも凹部１６にはタンタルが露出している。 A ring-shaped Wehnelt electrode 4 is disposed above the cathode electrode 1. A negative voltage power supply 20 is connected to the Wehnelt electrode 4, and an equal voltage to the cathode electrode 1 is applied.
The shape of the surface of the cathode electrode 1 is a columnar shape, and a recess 16 having a circular outer periphery is formed at the center of the column. The surface of the recess 16 has a concave lens shape. Tantalum is exposed in at least the recess 16 of the cathode electrode 1.

ウェネルト電極４は、電子との反発によりカソード電極１の凹部１６から引き出された電子を収束させている。
凹部１６から引き出された電子は、凹部１６表面の形状により筒状のアノード電極３内部でビーム径を収束させるように構成されており、ウェネルト電極４に狭められた電子は、アノード電極３内で収束した後、アノード電極３内を進行し、アノード電極３の真空槽２５側の開口から真空槽２５内へ放出される。 The Wehnelt electrode 4 converges the electrons extracted from the recess 16 of the cathode electrode 1 by repulsion with the electrons.
The electrons drawn from the recess 16 are configured to converge the beam diameter inside the cylindrical anode electrode 3 depending on the shape of the surface of the recess 16, and the electrons narrowed by the Wehnelt electrode 4 are within the anode electrode 3. After converging, it travels through the anode electrode 3 and is discharged into the vacuum chamber 25 from the opening on the vacuum chamber 25 side of the anode electrode 3.

真空槽２５内へ放出された電子は、蒸着材料３５上に照射され、蒸着材料３５を加熱し蒸発させる。蒸発した蒸着材料３５の蒸気は、基板３０の表面に到達し、基板３０の表面に蒸着材料３５からなる薄膜が形成される。基板３０の表面に所定膜厚の薄膜が形成されたら、負電圧電源２０と加熱電源２１の電源を切り、薄膜が形成された基板３０を真空槽２５から搬出室を介して大気雰囲気中へ取出される。   The electrons emitted into the vacuum chamber 25 are irradiated onto the vapor deposition material 35, and the vapor deposition material 35 is heated and evaporated. The vapor of the evaporated vapor deposition material 35 reaches the surface of the substrate 30, and a thin film made of the vapor deposition material 35 is formed on the surface of the substrate 30. When a thin film having a predetermined thickness is formed on the surface of the substrate 30, the negative voltage power source 20 and the heating power source 21 are turned off, and the substrate 30 on which the thin film is formed is taken out from the vacuum chamber 25 into the atmosphere through the carry-out chamber. Is done.

タンタルは２５００Ｋにおいて仕事関数が４．１２、電子放出密度が、１．９×１０4（Ａ/ｍ2）であり、タングステンは２５００Ｋにおいて仕事関数が４．５４、電子放出密度が、２．６×１０3（Ａ/ｍ2）である。
従来のタングステンで構成されたカソード電極１は、２８５０Ｋ程度まで加熱されると、必要な電子放出量が得られるが、タンタルで構成されたカソード電極１は、２７００Ｋ程度に加熱されると、同じ必要な電子放出量が得られる。 Tantalum has a work function of 4.12 and an electron emission density of 1.9 × 10 4 (A / m 2 ) at 2500 K, and tungsten has a work function of 4.54 and an electron emission density of 2.6 at 2500 K. × 10 3 (A / m 2 ).
The conventional cathode electrode 1 made of tungsten can obtain a necessary amount of electron emission when heated to about 2850K, but the cathode electrode 1 made of tantalum has the same necessity when heated to about 2700K. A large amount of electron emission.

タンタルで構成されたカソード電極１は、従来より低い温度で必要な電子放出量が得られるので、カソード電極１からピン１５を介した熱伝導によってピン１５と接触する保持部材５は従来より昇温せず、ピン１５は固着しない。従って、カソード電極１、ピン１５と保持部材５を従来より長期間使用することができる。   Since the cathode electrode 1 made of tantalum can obtain a necessary amount of electron emission at a lower temperature than in the prior art, the holding member 5 in contact with the pin 15 by heat conduction from the cathode electrode 1 through the pin 15 has a higher temperature than in the prior art. The pin 15 does not stick. Therefore, the cathode electrode 1, the pin 15, and the holding member 5 can be used for a longer period of time than before.

また、電子銃１０を用いて真空処理を複数回行う場合、ピン１５と保持部材５が低い温度なのでピン１５と保持部材５の膨張量が従来より小さくなり、ピン１５と保持部材５が擦れてピン１５が保持部材５から抜けなくなる現象を防ぐことができる。   In addition, when the vacuum treatment is performed a plurality of times using the electron gun 10, since the pin 15 and the holding member 5 are at a low temperature, the amount of expansion of the pin 15 and the holding member 5 becomes smaller than before, and the pin 15 and the holding member 5 are rubbed. It is possible to prevent a phenomenon in which the pin 15 is not removed from the holding member 5.

１……カソード電極
２……フィラメント
３……アノード電極
５……保持部材
１０……電子銃
１５……ピン
２５……真空槽
３１……カソード部材
３２……発熱装置
３５……蒸発材料
３９……真空ポンプ
５０……真空処理装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cathode electrode 2 ... Filament 3 ... Anode electrode 5 ... Holding member 10 ... Electron gun 15 ... Pin 25 ... Vacuum chamber 31 ... Cathode member 32 ... Heating device 35 ... Evaporating material 39 ... ... Vacuum pump 50 ... Vacuum processing equipment

Claims (3)

リング状の保持部材と、電子を放出するカソード電極と、前記カソード電極を加熱する加熱装置と、前記保持部材と前記カソード電極を電気的に接続する三個以上のピンとを有し、前記カソード電極は、前記ピンを介して、前記保持部材に保持される電子銃であって、
前記カソード電極は、タンタルで構成された電子銃。 A ring-shaped holding member; a cathode electrode that emits electrons; a heating device that heats the cathode electrode; and three or more pins that electrically connect the holding member and the cathode electrode. Is an electron gun held by the holding member via the pin,
The cathode electrode is an electron gun made of tantalum. 前記ピンは、タングステンで構成され、前記保持部材は、モリブデンで構成された請求項１記載の電子銃。   The electron gun according to claim 1, wherein the pin is made of tungsten, and the holding member is made of molybdenum. 真空槽と真空ポンプと、請求項１又は請求項２のいずれか１項記載の電子銃を有し、
前記電子銃は、前記真空槽内部に電子を放出するように構成され、
処理対象物の処理を前記真空槽内で行う真空処理装置。 A vacuum chamber, a vacuum pump, and the electron gun according to any one of claims 1 and 2,
The electron gun is configured to emit electrons into the vacuum chamber;
The vacuum processing apparatus which processes a process target object in the said vacuum chamber.
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