JP2011020944A - Method for producing positron-releasing source compound - Google Patents

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Masaaki Matsuo
昌昭 松尾
Takeshi Kitashoji
健 北庄司
Tatsuhiro Kobashi
達弘 小橋
Makoto Takahagi
誠 高萩
Hideo Tsukada
秀夫 塚田
Shingo Nishiyama
新吾 西山
Kenji Hashimoto
謙二 橋本
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Chiba University NUC
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Chiba University NUC
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a high-purity positron-releasing source compound. <P>SOLUTION: The method for producing the positron-releasing source compound (I) [wherein, R<SP>1</SP>is a group containing a positron-releasing element] includes a step for obtaining a trialkyltin compound (III) from a halogen compound (II) [in the formulas, R<SP>2</SP>is a protective group activating an -OCO<SB>2</SB>- group; Hal is halogen; R<SP>3</SP>to R<SP>5</SP>are each independently 1-8C alkyl], and a step for obtaining a nonane carbonate compound (IV) [wherein, R<SP>2</SP>to R<SP>5</SP>represent the same meanings as above] from the trialkyltin compound (III). <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、ポジトロン放出源化合物を製造するための方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a positron emitter compound.

近年、医学の発達に伴い、一般的な疾患の他に認知機能障害が注目を集めている。認知症には、アルツハイマー型老年認知症のように加齢によるもの以外に、家族性アルツハイマー病などがある。また、統合失調症などのように遺伝的要因と後天的要因の両方が認められるものもある。   In recent years, with the development of medicine, cognitive impairment has attracted attention in addition to common diseases. Dementia includes familial Alzheimer's disease in addition to aging as in Alzheimer-type senile dementia. Some have both genetic and acquired factors, such as schizophrenia.

アルツハイマー病は、喫煙者の発症率が少ないというデータがあることから、ニコチンとの関係が指摘されている。特に最近の研究では、脳におけるニコチンアセチルコリンエステラーゼ受容体のサブタイプの一つであるα7が、アルツハイマー病と関係することが明らかにされた。このα7は、記憶障害、統合失調症、多動性障害、パーキンソン病など他の認知機能障害との関係も取りざたされている。   Alzheimer's disease has been pointed out to be related to nicotine because of the low incidence of smokers. In particular, recent studies have revealed that α7, one of the subtypes of nicotine acetylcholinesterase receptor in the brain, is associated with Alzheimer's disease. The relationship between α7 and other cognitive dysfunctions such as memory impairment, schizophrenia, hyperactivity disorder, and Parkinson's disease has been investigated.

よって、α7に対するリガンドが、認知機能障害の治療薬として探索されてきた。例えば特許文献1には、α7のリガンドであって、ニコチン受容体の機能不全に関連する疾患の処置等に有用な化合物が開示されている。   Therefore, a ligand for α7 has been searched as a therapeutic agent for cognitive impairment. For example, Patent Document 1 discloses a compound that is a ligand for α7 and is useful for treatment of diseases related to nicotinic receptor dysfunction.

ところで本発明者らは、α7に結合する化合物をポジトロン放出源とするポジトロン断層撮影法により脳疾患を診断することについて研究を進めていた。ところが、ニコチン受容体には少なくとも12個のサブタイプが存在し、また、α7の選択的リガンドであるとされている化合物であっても他のサブタイプに結合してしまうものが多く、正確な診断が可能なポジトロン放出源化合物を探索することは困難であった。しかし、特許文献2のとおり、特許文献1に記載の化合物がポジトロン断層撮影法のポジトロン放出源として適することを見出した。   By the way, the present inventors have been conducting research on diagnosing brain disease by positron tomography using a compound that binds to α7 as a positron emission source. However, there are at least 12 subtypes in the nicotinic receptor, and many compounds that are considered to be selective ligands of α7 bind to other subtypes, and are accurate. It has been difficult to search for positron emitting source compounds that can be diagnosed. However, as disclosed in Patent Document 2, it has been found that the compound described in Patent Document 1 is suitable as a positron emission source for positron tomography.

特表2002−540208号公報Special table 2002-540208 gazette 特開2007−217370号公報JP 2007-217370 A

上述したとおり、本発明者らは、特許文献1に記載の化合物へポジトロン放出能を有する化合物を合成し、当該化合物を用いたポジトロン断層撮影法を開発している。本発明者らは、臭素置換された上記化合物から、下記スキームにより、ポジトロン放出源化合物を合成していた。   As described above, the present inventors have synthesized a compound having a positron-releasing ability to the compound described in Patent Document 1, and have developed a positron tomography method using the compound. The present inventors have synthesized a positron-emitting source compound from the above bromine-substituted compound according to the following scheme.

[式中、Rはポジトロン放出元素を含む基を示す] [Wherein R represents a group containing a positron emitting element]

また、上記スキームの原料化合物、即ち特許文献1の化合物は、下記スキームにより合成されていた。   Moreover, the raw material compound of the said scheme, ie, the compound of patent document 1, was synthesize | combined by the following scheme.

ところが、上記スキームのとおりポジトロン放出源化合物を合成すると、化学構造の類似性から、トリブチルスズ置換体から未反応のブロモ置換体を完全に分離することは非常に難しい。かかるブロモ置換体は目的化合物であるポジトロン放出源化合物にも混入する。その結果、上記スキームにより合成されたポジトロン放出源化合物を用いてポジトロン断層撮影法を実施すると、ブロモ置換体もα7に結合するため、α7に結合するポジトロン放出源化合物の量が減り、感度が低下するおそれがあった。   However, when a positron emitting source compound is synthesized as in the above scheme, it is very difficult to completely separate the unreacted bromo substituent from the tributyltin substituent due to the similarity in chemical structure. Such a bromo-substituted product is also mixed into the target compound, a positron-emitting compound. As a result, when positron emission tomography is performed using the positron emission source compound synthesized by the above scheme, the bromo-substituted product also binds to α7, so the amount of positron emission source compound that binds to α7 is reduced and sensitivity is lowered. There was a risk.

本発明は上記の様な事情に着目してなされたものであって、その目的は、より高純度のポジトロン放出源化合物を製造できる方法を提供することにある。   The present invention has been made paying attention to the above-described circumstances, and an object of the present invention is to provide a method capable of producing a positron emission source compound with higher purity.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた。その結果、先にポジトロン放出能を有する置換基を導入するためのトリアルキルスズ基を導入しておき、その後に1,4−ジアザビシクロ[3.2.2]ノナンを反応させるようにすれば、目的化合物であるポジトロン放出源化合物とその前駆体化合物との化学構造が大きく異なるため精製が容易となり、より高純度のポジトロン放出源化合物が得られることを見出して、本発明を完成した。   The inventors of the present invention have made extensive studies to solve the above problems. As a result, if a trialkyltin group for introducing a substituent having a positron emission ability is previously introduced and then 1,4-diazabicyclo [3.2.2] nonane is reacted, The present invention was completed by discovering that the chemical structure of the target compound, the positron-emitting source compound, and its precursor compound are greatly different, so that purification becomes easier and a positron-emitting source compound with higher purity can be obtained.

本発明に係るポジトロン放出源化合物の製造方法は、下記一般式(I)で表されるポジトロン放出源化合物を製造するための方法であって、   A method for producing a positron emission source compound according to the present invention is a method for producing a positron emission source compound represented by the following general formula (I):

[式中、R1はポジトロン放出元素を含むC1-6アルキル基またはハロゲン原子を示す]
ハロゲン化合物(II)からトリアルキルスズ化合物(III)を得る工程;
[Wherein R 1 represents a C 1-6 alkyl group containing a positron emitting element or a halogen atom]
Obtaining a trialkyltin compound (III) from the halogen compound (II);

[式中、R2は−OCO2−基を活性化する保護基を示し;Halはハロゲン原子を示し;R3〜R5はそれぞれ独立してC1-8アルキル基を示す]
および、上記トリアルキルスズ化合物(III)からノナンカーボネート化合物(IV)を得る工程;
[Wherein R 2 represents a protecting group for activating the —OCO 2 — group; Hal represents a halogen atom; R 3 to R 5 each independently represents a C 1-8 alkyl group]
And a step of obtaining a nonane carbonate compound (IV) from the trialkyltin compound (III);

[式中、R2〜R5は上記と同義を示す]
を含むことを特徴とする。
[Wherein R 2 to R 5 are as defined above]
It is characterized by including.

本発明において、「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のいずれかをいうが、反応性等の問題から、HalやHal’からはフッ素原子は除くものとする。   In the present invention, the “halogen atom” refers to any of a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, but from the viewpoint of reactivity, the fluorine atom is excluded from Hal and Hal ′.

「C1-6アルキル基」とは、炭素数1〜6の直鎖状または分枝鎖状の飽和炭化水素基をいう。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル等である。また、「C1-8アルキル基」とは、炭素数1〜8の直鎖状または分枝鎖状の飽和炭化水素基をいい、例えば、上記に加えてヘプチルやオクチル等を挙げることができる。 The “C 1-6 alkyl group” refers to a linear or branched saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. For example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, pentyl, hexyl and the like. The “C 1-8 alkyl group” refers to a linear or branched saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include heptyl and octyl in addition to the above. .

本発明方法においては、R2を、ニトロフェノール、N−ヒドロキシスクシンイミドまたはペンタフルオロフェノールのいずれかから水酸基を除いた基とすることが好ましい。これら保護基は、本発明に係る反応において安定であり、また、反応に悪影響を及ぼさない上に、1,4−ジアザビシクロ[3.2.2]ノナンと容易に交換することができる。 In the method of the present invention, R 2 is preferably a group obtained by removing a hydroxyl group from any one of nitrophenol, N-hydroxysuccinimide and pentafluorophenol. These protecting groups are stable in the reaction according to the present invention, do not adversely affect the reaction, and can be easily exchanged with 1,4-diazabicyclo [3.2.2] nonane.

本発明方法においては、R3〜R5をそれぞれブチル基に、また、R1を−11CH3、−76Brまたは−123Iのいずれかとすることが好ましい。 In the process of the present invention, each butyl and R 3 to R 5, also, the R 1 - 11 CH 3, - 76 Br or - 123 is preferably either a I.

本発明方法で製造されたポジトロン放出源化合物は、従来方法によるものよりも不純物が少なく、高純度である。よって、本発明方法で製造されたポジトロン放出源化合物を用いれば、より高感度なポジトロン断層撮影法が可能となる。よって本発明は、正確なポジトロン断層撮影法を可能にするものとして、産業上非常に有用である。   The positron-emitting source compound produced by the method of the present invention has less impurities and higher purity than those obtained by the conventional method. Therefore, by using the positron emission source compound produced by the method of the present invention, a more sensitive positron tomography method becomes possible. Therefore, the present invention is very useful industrially as enabling accurate positron tomography.

上記のとおり、本発明に係るポジトロン放出源化合物の製造方法は、ハロゲン化合物(II)からトリアルキルスズ化合物(III)を得る工程と、トリアルキルスズ化合物(III)からノナンカーボネート化合物(IV)を得る工程を含む。以下、本発明方法を、実施の順番に従って説明する。   As described above, the method for producing a positron emission source compound according to the present invention comprises a step of obtaining a trialkyltin compound (III) from a halogen compound (II), and a nonanecarbonate compound (IV) from a trialkyltin compound (III). A obtaining step. Hereinafter, the method of the present invention will be described in the order of execution.

1.ハロゲン化合物(II)の合成
本発明の原料化合物であるハロゲン化合物(II)は、下記スキームにより容易に合成することができる。
1. Synthesis of Halogen Compound (II) Halogen compound (II), which is a raw material compound of the present invention, can be easily synthesized by the following scheme.

[式中、R2とHalは上記と同義を示し;Hal’はハロゲン原子を示し、Halと同一であっても異なっていてもよい] [Wherein R 2 and Hal are as defined above; Hal ′ represents a halogen atom, which may be the same as or different from Hal]

化合物(V)は、市販のものがあればそれを用いてもよいし、また、市販の化合物から当業者公知の方法により容易に合成することができる。   Compound (V) may be a commercially available compound or can be easily synthesized from a commercially available compound by methods known to those skilled in the art.

2は−OCO2−基の保護基であり、且つ−OCO2−基の活性を高めるものであって、−OCO2−基と1,4−ジアザビシクロ[3.2.2]ノナンとの反応性を高めるものをいう。このような基としては、例えば、ニトロフェノール、N−ヒドロキシスクシンイミドまたはペンタフルオロフェノールのいずれかから水酸基を除いた基を挙げることができる。 R 2 is --OCO 2 - a protecting group of the group, and --OCO 2 - A which enhance the activity of the group, --OCO 2 - group and 1,4-diazabicyclo [3.2.2] and nonane A thing that improves reactivity. Examples of such a group include a group obtained by removing a hydroxyl group from any one of nitrophenol, N-hydroxysuccinimide, and pentafluorophenol.

化合物(VI)は、比較的シンプルな化学構造を有することから、市販のものがあればそれを用いてもよいし、また、市販の化合物から当業者公知の方法により合成して用いてもよい。   Since compound (VI) has a relatively simple chemical structure, it may be used if it is commercially available, or may be synthesized from commercially available compounds by methods known to those skilled in the art. .

上記反応は、一般的に、塩基の存在下、溶媒中で化合物(V)と化合物(VI)を反応させればよい。好適には、化合物(VI)の溶液中、より反応性の高い化合物(V)を添加することが好ましい。   In general, the reaction may be performed by reacting compound (V) and compound (VI) in a solvent in the presence of a base. Preferably, it is preferable to add the more reactive compound (V) in the solution of the compound (VI).

溶媒としては、化合物(V)の分解を抑制するために、無水の有機溶媒を用いることが好ましい。例えば、ジクロロメタンやクロロホルムなどのハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエーテル類;ジメチルホルムアミドやジメチルアセトアミドなどのアミド類;これらの混合溶媒であって、事前に乾燥したものを挙げることができる。   As the solvent, an anhydrous organic solvent is preferably used in order to suppress decomposition of the compound (V). For example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; mixed solvents thereof, which have been dried in advance Can be mentioned.

塩基としては、上記有機溶媒に溶解できるものが好適である。例えば、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンなどの有機塩基を用いることができる。   As the base, those that can be dissolved in the organic solvent are suitable. For example, an organic base such as pyridine, triethylamine, diisopropylethylamine, 4-dimethylaminopyridine, diazabicycloundecene can be used.

反応混合液における化合物(V)および化合物(VI)の濃度は、適宜調整すればよいが、例えば、それぞれ20mg/mL以上、100mg/mL以下程度とすることができる。また、化合物(V)または化合物(VI)の一方が高価であったり、市販品が無く合成する必要があるなどの事情がある場合には、一方の使用量を他方よりも少なくすることもできるが、通常、両者を等モルまたは略等モル用いる。また、塩基の使用量も、化合物(V)および化合物(VI)の等モルまたは略等モルとすればよい。   The concentration of the compound (V) and the compound (VI) in the reaction mixture may be adjusted as appropriate, and can be, for example, about 20 mg / mL or more and 100 mg / mL or less, respectively. In addition, when one of the compound (V) or the compound (VI) is expensive or there is a situation where it is necessary to synthesize without a commercially available product, the amount of one used can be less than the other. However, they are usually used in equimolar or nearly equimolar amounts. The amount of the base used may be equimolar or approximately equimolar with respect to compound (V) and compound (VI).

反応温度は適宜調整すればよいが、化合物(V)の分解を抑制するために、化合物(VI)の滴下時において、−10℃以上、10℃以下程度とすることが好ましい。反応の急激な進行を抑制するために、化合物(VI)の溶液を滴下するのも好適な態様である。化合物(VI)の滴下後は、0℃以上、10℃以下程度で反応をさらに進行せしめればよい。   The reaction temperature may be adjusted as appropriate, but in order to suppress the decomposition of the compound (V), it is preferably about −10 ° C. or more and 10 ° C. or less when the compound (VI) is dropped. In order to suppress the rapid progress of the reaction, it is also a preferable aspect to add a solution of the compound (VI) dropwise. After the addition of compound (VI), the reaction may be further advanced at about 0 ° C. or more and 10 ° C. or less.

反応時間も適宜調整すればよく、具体的には、クロマトグラフィなどで原料化合物の消失が確認されるまでとしたり、或いは予備実験などで決定することもできる。通常、化合物(VI)の添加後、30分間以上、5時間以下程度とすることができる。   The reaction time may be appropriately adjusted. Specifically, the reaction time can be determined until the disappearance of the raw material compound is confirmed by chromatography or the like, or can be determined by a preliminary experiment or the like. Usually, after addition of compound (VI), it can be about 30 minutes or more and about 5 hours or less.

反応終了後においては、通常の後処理を行えばよい。例えば、溶媒などを減圧留去した後、酢酸エチルやクロロホルムなど水と混和しない有機溶媒で希釈してから水や飽和食塩水などで洗浄する。次いで、有機相を無水硫酸ナトリウムや無水硫酸マグネシウムなどで乾燥してから濃縮する。目的化合物は、さらに再結晶などで精製してもよい。   After completion of the reaction, normal post-treatment may be performed. For example, after the solvent is distilled off under reduced pressure, it is diluted with an organic solvent that is not miscible with water, such as ethyl acetate or chloroform, and then washed with water or saturated saline. Next, the organic phase is dried over anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate and then concentrated. The target compound may be further purified by recrystallization or the like.

2.トリアルキルスズ化合物(III)の合成
次に、ハロゲン化合物(II)からトリアルキルスズ化合物(III)を製造する。より具体的には、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)の存在下、溶媒中、ハロゲン化合物(II)にビストリアルキルスズを反応させ、ハロゲン化合物(II)のハロゲン基をトリアルキルスズ基に置換する。
2. Synthesis of Trialkyltin Compound (III) Next, the trialkyltin compound (III) is produced from the halogen compound (II). More specifically, bistrialkyltin is reacted with halogen compound (II) in a solvent in the presence of tetrakistriphenylphosphine palladium (0) to replace the halogen group of halogen compound (II) with a trialkyltin group. .

溶媒としては、例えば、ジクロロメタンやクロロホルムなどのハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエーテル;ジメチルホルムアミドやジメチルアセトアミドなどのアミド類;トルエンなどの芳香族炭化水素;これらの混合溶媒であって、事前に乾燥したものを用いることができる。   Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; aromatic hydrocarbons such as toluene; A mixed solvent which has been dried in advance can be used.

一般的なビストリアルキルスズは市販されているので、ハロゲン化合物(II)に対して過剰量のビストリアルキルスズを用いることが好ましい。通常、ハロゲン化合物に対して、1.5倍モル以上、3倍モル以下程度用いる。また、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)は、ハロゲン化合物(II)に対して0.05倍モル以上、0.2倍モル以下程度と、触媒量で十分である。   Since general bistrialkyltin is commercially available, it is preferable to use an excess amount of bistrialkyltin with respect to the halogen compound (II). Usually, about 1.5 times mol or more and 3 times mol or less are used with respect to a halogen compound. Tetrakistriphenylphosphine palladium (0) is sufficient in a catalytic amount of about 0.05 to 0.2 times mol of the halogen compound (II).

反応混合液におけるハロゲン化合物(II)やビストリアルキルスズの濃度は、適宜調整することができるが、通常、それぞれ1mg/mL以上、20mg/mL以下程度、0.01mL/mL以上、0.1mL/mL以下程度とすることができる。   The concentration of the halogen compound (II) and bistrialkyltin in the reaction mixture can be adjusted as appropriate, but usually 1 mg / mL or more, 20 mg / mL or less, 0.01 mL / mL or more, 0.1 mL / mL, respectively. It can be about mL or less.

反応温度は適宜調整すればよいが、例えば、30℃以上、150℃以下とすることができ、加熱還流してもよい。また、反応時間も適宜決定すればよいが、通常、1時間以上、10時間以下程度とすることができる。   The reaction temperature may be appropriately adjusted. For example, the reaction temperature may be 30 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and may be heated to reflux. In addition, the reaction time may be determined as appropriate, but it can usually be about 1 hour or more and 10 hours or less.

反応終了後においては、通常の後処理を行えばよい。例えば、溶媒などを減圧留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィなどで精製すればよい。   After completion of the reaction, normal post-treatment may be performed. For example, after the solvent and the like are distilled off under reduced pressure, the residue may be purified by silica gel column chromatography or the like.

3.ノナンカーボネート化合物(IV)の合成
次いで、溶媒中、塩基の存在下、トリアルキルスズ化合物(III)と1,4−ジアザビシクロ[3.2.2]ノナンを反応させ、ノナンカーボネート化合物(IV)を製造する。
3. Synthesis of nonane carbonate compound (IV) Next, a trialkyltin compound (III) and 1,4-diazabicyclo [3.2.2] nonane are reacted in a solvent in the presence of a base to give nonane carbonate compound (IV). To manufacture.

溶媒としては、例えば、ジクロロメタンやクロロホルムなどのハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエーテル;ジメチルホルムアミドやジメチルアセトアミドなどのアミド類;これらの混合溶媒であって、事前に乾燥したものを用いることができる。   Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; A dried product can be used.

塩基としては、上記有機溶媒に溶解できるものが好適である。例えば、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンなどの有機塩基を用いることができる。また、反応を促進するために、触媒量のイミダゾールなどを添加してもよい。   As the base, those that can be dissolved in the organic solvent are suitable. For example, an organic base such as pyridine, triethylamine, diisopropylethylamine, 4-dimethylaminopyridine, diazabicycloundecene can be used. In order to accelerate the reaction, a catalytic amount of imidazole or the like may be added.

反応混合液における化合物(III)とノナン化合物の量は、適宜調整すればよい。例えば、両者を等モルまたは略等モル用いてもよいが、場合によっては、一方を他方の1.05倍モル以上、2.0倍モル以下程度用いてもよい。   What is necessary is just to adjust suitably the quantity of compound (III) and nonane compound in a reaction liquid mixture. For example, both may be used in an equimolar or substantially equimolar amount, but in some cases, one may be used in an amount of about 1.05 to 2.0 times the other.

反応混合液における化合物(III)とノナン化合物の濃度は適宜調整すればよいが、比較的高濃度で反応を行うことができる。例えば、化合物(III)の濃度を100mg/mL以上、400mg/mL以下程度、ノナン化合物の濃度を10mg/mL以上、50mg/mL以下程度とすることができる。また、塩基は、化合物(III)やノナン化合物と同モル程度用いればよい。   The concentrations of compound (III) and nonane compound in the reaction mixture may be adjusted as appropriate, but the reaction can be carried out at a relatively high concentration. For example, the concentration of compound (III) can be about 100 mg / mL to about 400 mg / mL and the nonane compound concentration can be about 10 mg / mL to about 50 mg / mL. Further, the base may be used in the same mole as the compound (III) or nonane compound.

反応温度は適宜調整すればよいが、例えば、10℃以上、50℃以下とすることができる。また、反応時間も適宜決定すればよいが、通常、1時間以上、10時間以下程度とすることができる。   The reaction temperature may be adjusted as appropriate, and can be, for example, 10 ° C or higher and 50 ° C or lower. In addition, the reaction time may be determined as appropriate, but it can usually be about 1 hour or more and 10 hours or less.

反応終了後においては、通常の後処理を行えばよい。例えば、溶媒などを減圧留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィなどで精製すればよい。   After completion of the reaction, normal post-treatment may be performed. For example, after the solvent and the like are distilled off under reduced pressure, the residue may be purified by silica gel column chromatography or the like.

反応終了後においては、通常の後処理を行えばよい。例えば、反応混合液を酢酸エチルやクロロホルムなど水と混和しない有機溶媒で希釈し、水や飽和食塩水などで洗浄する。次いで、有機相を無水硫酸ナトリウムや無水硫酸マグネシウムなどで乾燥してから濃縮する。目的化合物は、さらに再結晶などでクロマトグラフィなどにより精製してもよい。なお、目的化合物であるノナンカーボネート化合物(IV)は、原料化合物であるトリアルキルスズ化合物(III)や1,4−ジアザビシクロ[3.2.2]ノナンと構造が異なり、物性も異なることから、これら原料化合物からの分離が容易であり、高純度で得られる。   After completion of the reaction, normal post-treatment may be performed. For example, the reaction mixture is diluted with an organic solvent immiscible with water, such as ethyl acetate or chloroform, and washed with water, saturated saline, or the like. Next, the organic phase is dried over anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate and then concentrated. The target compound may be further purified by chromatography such as recrystallization. In addition, since nonane carbonate compound (IV) which is a target compound is different in structure and physical properties from trialkyltin compound (III) and 1,4-diazabicyclo [3.2.2] nonane which are raw material compounds, Separation from these starting compounds is easy and can be obtained with high purity.

4.ポジトロン放出源化合物(I)の合成
ポジトロン放出源化合物(I)は、上記で得られたノナンカーボネート化合物(IV)のトリアルキルスズ基を、ポジトロン放出能を有する元素を有する基に置換することにより製造することができる。
4). Synthesis of Positron Release Source Compound (I) The positron emission source compound (I) is obtained by substituting the trialkyltin group of the nonane carbonate compound (IV) obtained above with a group having an element having a positron emission ability. Can be manufactured.

ポジトロン放出能を有する元素としては、11C、18F、76Brおよび123Iを例示することができる。よって、ポジトロン放出能を有する元素を含むR1としては、[11C]C1-6アルキル基、および18F、76Brおよび123Iを挙げることができる。 11 C, 18 F, 76 Br and 123 I can be exemplified as an element having a positron emission ability. Accordingly, examples of R 1 containing an element having a positron emission ability include [ 11 C] C 1-6 alkyl group, and 18 F, 76 Br, and 123 I.

1を導入する試薬としては、[11C]C1-6アルキルのハロゲン化物や、18-76Br-123-を用いればよい。 As a reagent for introducing R 1 , a [ 11 C] C 1-6 alkyl halide, 18 F , 76 Br , 123 I may be used.

ポジトロン放出源化合物(I)は、具体的には、特許文献2(特開2007−217370号公報)に記載の方法に準拠して製造することができる。即ち、例えばR111CH3であるポジトロン放出源化合物を製造するには、サイクロトロンにより加速した陽電子をポジトロン放出元素に応じたターゲットに照射して11CO2を得る。この11CO2を、例えばマイクロラボで還元した上でヨウ化水素酸を作用させて11CH3Iとし、ノナンカーボネート化合物(IV)と反応させることによって、ポジトロン放出源化合物を製造できる。 Specifically, the positron emission source compound (I) can be produced according to the method described in Patent Document 2 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-217370). That is, for example, in order to produce a positron emission source compound in which R 1 is 11 CH 3 , 11 CO 2 is obtained by irradiating a target corresponding to a positron emission element with a positron accelerated by a cyclotron. A positron emission source compound can be produced by reducing the 11 CO 2 with, for example, a microlab and then reacting with hydroiodic acid to form 11 CH 3 I to react with the nonane carbonate compound (IV).

本発明方法により得られるノナンカーボネート化合物(IV)は、中間体化合物などの不純物の混入が少なく、純度が高い。結果として、本発明方法により得られるポジトロン放出源化合物の純度も高くなる。従って、本発明方法で製造されたポジトロン放出源化合物を用いてポジトロン断層撮影法を実施すれば、より高感度での測定が可能になる。   The nonane carbonate compound (IV) obtained by the method of the present invention is less contaminated with impurities such as intermediate compounds and has high purity. As a result, the purity of the positron emission source compound obtained by the method of the present invention is also increased. Therefore, if positron emission tomography is performed using the positron emission source compound produced by the method of the present invention, measurement with higher sensitivity becomes possible.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples, but may be appropriately modified within a range that can meet the purpose described above and below. Of course, it is possible to implement them, and they are all included in the technical scope of the present invention.

実施例1−1 4−ブロモフェニル 4−ニトロフェニル カーボネート
無水テトラヒドロフラン(60mL)と無水ジクロロメタン(24mL)からなる混合溶媒へ4−ブロモフェノール(5g,28.9mmol)とピリジン(2.29g,28.9mmol)を加え、溶解させた。当該溶液を冷却した後、クロロギ酸のp−ニトロフェニルエステル(5.83g,28.9mmol)の無水テトラヒドロフラン溶液(24mL)を−2〜3℃で添加した。さらに、当該反応混合液を3℃で1時間攪拌し、反応を促進させた。反応終了後、当該反応混合液を減圧濃縮した。得られた残渣を酢酸エチルで希釈し、水と飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。酢酸エチルを用いて残渣を再結晶し、目的化合物を得た(収量:7.26g,収率:74%)。
1H-NMR(CDCl3)δ8.36-8.30(m,2H),7.59-7.54(m,2H),7.51-7.45(m,2H),7.21-7.15(m,2H)
Example 1-1 4-Bromophenyl 4-nitrophenyl carbonate To a mixed solvent consisting of anhydrous tetrahydrofuran (60 mL) and anhydrous dichloromethane (24 mL), 4-bromophenol (5 g, 28.9 mmol) and pyridine (2.29 g, 28. 9 mmol) was added and dissolved. After cooling the solution, an anhydrous tetrahydrofuran solution (24 mL) of p-nitrophenyl ester of chloroformate (5.83 g, 28.9 mmol) was added at −2 to 3 ° C. Further, the reaction mixture was stirred at 3 ° C. for 1 hour to promote the reaction. After completion of the reaction, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was diluted with ethyl acetate and washed successively with water and saturated brine. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was recrystallized using ethyl acetate to obtain the target compound (yield: 7.26 g, yield: 74%).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 8.36-8.30 (m, 2H), 7.59-7.54 (m, 2H), 7.51-7.45 (m, 2H), 7.21-7.15 (m, 2H)

実施例1−2 4−ニトロフェニル 4−(トリブチルスタンニル)フェニル カーボネート
上記実施例1−1で得られた4−ブロモフェニル 4−ニトロフェニル カーボネート
(1g,2.96mmol)を無水1,4−ジオキサン(100mL)に溶解した。当該溶液に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(381mg,0.33mmol)とビストリブチルスズ(3.28mL,6.51mmol)を加えた。当該反応混合液を4時間加熱還流した。当該反応混合液を室温まで冷却した後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(溶出液:n−ヘプタン/酢酸エチル=90/10)で精製し、粗目的化合物(収量:500mg)を得た。それ以上精製せず、次の工程へ進んだ。
Example 1-2 4-Nitrophenyl 4- (tributylstannyl) phenyl carbonate 4-Bromophenyl 4-nitrophenyl carbonate (1 g, 2.96 mmol) obtained in Example 1-1 was converted to anhydrous 1,4- Dissolved in dioxane (100 mL). Tetrakistriphenylphosphine palladium (0) (381 mg, 0.33 mmol) and bistributyltin (3.28 mL, 6.51 mmol) were added to the solution. The reaction mixture was heated to reflux for 4 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-heptane / ethyl acetate = 90/10) to obtain a crude target compound (yield: 500 mg). Without further purification, proceeded to the next step.

実施例1−3 4−(トリブチルスタンニル)フェニル 1,4−ジアザビシクロ[3.2.2]ノナン−4−カルボキシレート
無水ジクロロメタン(576μL)と無水ジメチルホルムアミド(576μL)からなる混合溶媒に、1,4−ジアザビシクロ[3.2.2]ノナン(38.5g,0.31mmol)と、上記実施例1−2で得た粗4−ニトロフェニル 4−(トリブチルスタンニル)フェニル カーボネート(256mg,0.34mmol相当)を溶解した。当該溶液に、イミダゾール(4.24mg,0.06mmol)とトリエチルアミン(43.5μL,0.31mmol)を室温で加えた。当該反応混合液を室温で4時間攪拌し、反応を促進した。反応終了後、当該反応混合液をクロロホルムで希釈した。得られた希釈液を、1N水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した。次いで、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。NHシリカを用いたカラムクロマトグラフィ(溶出液:n−ヘプタン/酢酸エチル=3/2)で残渣を精製した。さらに、GPCカラム(JAIGEL−1HおよびJAIGEL−2H,それぞれφ20×600mm)を用いたゲル浸透クロマトグラフィ(溶出液:クロロホルム)で精製し、目的化合物を得た(収量:40.1mg,実施例1−2〜実施例1−3を通じての収率:4.9%)。
1H-NMR(CDCl3)δ7.56-7.31(m,2H,aromatic),7.14-6.91(m,2H,aromatic),4.51-4.24(m,1H),3.30-2.90(m,6H),2.24-1.94(m,2H),1.88-0.75(m,27H)
Example 1-3 4- (Tributylstannyl) phenyl 1,4-diazabicyclo [3.2.2] nonane-4-carboxylate To a mixed solvent consisting of anhydrous dichloromethane (576 μL) and anhydrous dimethylformamide (576 μL), 1 , 4-diazabicyclo [3.2.2] nonane (38.5 g, 0.31 mmol) and the crude 4-nitrophenyl 4- (tributylstannyl) phenyl carbonate (256 mg, 0) obtained in Example 1-2 above. .34 mmol) was dissolved. To the solution, imidazole (4.24 mg, 0.06 mmol) and triethylamine (43.5 μL, 0.31 mmol) were added at room temperature. The reaction mixture was stirred at room temperature for 4 hours to promote the reaction. After completion of the reaction, the reaction mixture was diluted with chloroform. The obtained diluted solution was washed successively with 1N aqueous sodium hydroxide solution, water and saturated brine. The organic layer was then dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by column chromatography using NH silica (eluent: n-heptane / ethyl acetate = 3/2). Further, purification by gel permeation chromatography (eluent: chloroform) using GPC columns (JAIGEL-1H and JAIGEL-2H, each φ20 × 600 mm) gave the target compound (yield: 40.1 mg, Example 1- 2—Yield through Example 1-3: 4.9%).
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 7.56-7.31 (m, 2H, aromatic), 7.14-6.91 (m, 2H, aromatic), 4.51-4.24 (m, 1H), 3.30-2.90 (m, 6H), 2.24-1.94 (m, 2H), 1.88-0.75 (m, 27H)

Claims (4)

下記一般式(I)で表されるポジトロン放出源化合物を製造するための方法であって、
[式中、R1はポジトロン放出元素を含むC1-6アルキル基またはハロゲン原子を示す]
ハロゲン化合物(II)からトリアルキルスズ化合物(III)を得る工程;
[式中、R2は−OCO2−基を活性化する保護基を示し;Halはハロゲン原子を示し;R3〜R5はそれぞれ独立してC1-8アルキル基を示す]
および、上記トリアルキルスズ化合物(III)からノナンカーボネート化合物(IV)を得る工程;
[式中、R2〜R5は上記と同義を示す]
を含むことを特徴とする製造方法。
A method for producing a positron emission source compound represented by the following general formula (I):
[Wherein R 1 represents a C 1-6 alkyl group containing a positron emitting element or a halogen atom]
Obtaining a trialkyltin compound (III) from the halogen compound (II);
[Wherein R 2 represents a protecting group for activating the —OCO 2 — group; Hal represents a halogen atom; R 3 to R 5 each independently represents a C 1-8 alkyl group]
And a step of obtaining a nonane carbonate compound (IV) from the trialkyltin compound (III);
[Wherein R 2 to R 5 are as defined above]
The manufacturing method characterized by including.
2が、ニトロフェノール、N−ヒドロキシスクシンイミドまたはペンタフルオロフェノールのいずれかから水酸基を除いた基である請求項1に記載の製造方法。 The production method according to claim 1, wherein R 2 is a group obtained by removing a hydroxyl group from any one of nitrophenol, N-hydroxysuccinimide, and pentafluorophenol. 3〜R5がそれぞれブチル基である請求項1または2に記載の製造方法。 R < 3 > -R < 5 > is a butyl group, respectively, The manufacturing method of Claim 1 or 2. 1が−11CH3、−76Brまたは−123Iのいずれかである請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。 R 1 is - 11 CH 3, - 76 Br or - 123 A process according to claim 1 is any one of I.
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