JP2010269228A

JP2010269228A - Droplet discharge device

Info

Publication number: JP2010269228A
Application number: JP2009121697A
Authority: JP
Inventors: Hirobumi Sakai; 寛文酒井; Toru Shinohara; 亨篠原
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2009-05-20
Filing date: 2009-05-20
Publication date: 2010-12-02

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid droplet discharge device which can discharge a liquid droplet efficiently, even when the area of each pattern film forming region differs. SOLUTION: This liquid droplet discharge device includes a plurality of discharge heads which discharge a liquid droplet toward the pattern film forming regions arranged on a base material. That is, the device has the discharge heads which discharge the liquid droplet correspondingly to each pattern film forming region, and of the pattern film forming regions, the number of the discharge heads arranged correspondingly to broad pattern film forming regions, is larger than the number of the discharge heads arranged correspondingly to pattern film forming regions whose area is narrower than the broad pattern film forming region. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液滴吐出装置に関する。 The present invention relates to a droplet discharge device.

従来、基材にパターン膜を形成する装置として、インクジェット式の液滴吐出装置が知られている。当該液滴吐出装置は、基材に向けて、パターン膜の材料となる機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドを備えている。そして、例えば、有機ＥＬ装置等のように、複数の色要素を有するパターン膜を形成する場合には、各色要素に対応する複数の吐出ヘッドを備えている。 Conventionally, an ink jet type droplet discharge device is known as a device for forming a pattern film on a substrate. The droplet discharge device includes a discharge head that discharges a functional liquid serving as a material for a pattern film as droplets toward a substrate. For example, when forming a pattern film having a plurality of color elements, such as an organic EL device, a plurality of ejection heads corresponding to the respective color elements are provided.

また、上記の有機ＥＬ装置では、色要素毎に劣化速度が異なり、ホワイトバランスが崩れることから、各色要素の発光効率に応じて、発光面積を変え、例えば、発光効率が低くなるにつれて発光面積を順に大きくした構成が知られている。すなわち、色要素毎にパターン膜の形成領域面積の広さが異なる構成を有している。（例えば、特許文献１参照）。 Further, in the above organic EL device, since the deterioration rate is different for each color element and the white balance is lost, the light emission area is changed according to the light emission efficiency of each color element, for example, the light emission area is decreased as the light emission efficiency is lowered. A configuration in which the size is increased in order is known. That is, the area of the pattern film formation region is different for each color element. (For example, refer to Patent Document 1).

特開２００８−３００３６７号公報JP 2008-300377 A

上記液滴吐出装置では、基材と吐出ヘッドとを相対的に移動させ、当該移動過程において吐出ヘッドから基材に向けて機能液を液滴として吐出させ、基材に機能液を塗布させている。ところで、上記の有機ＥＬ装置等のように、パターン膜形成領域の広さが異なる領域毎に液滴を吐出する場合において、狭いパターン膜形成領域に対しては、比較的少量の液滴の吐出によってパターン膜形成領域の全体に渡って塗布することができる。一方、広いパターン膜形成領域に対しては、パターン膜形成領域の全体に渡って機能液を塗布するためには、比較的多量の吐出量が必要となる。そこで、広いパターン膜形成領域に対して、吐出ヘッドから所望の塗布量に到達させるべく、吐出ヘッドの液滴吐出駆動の回数を増加させることになる。そうすると、狭いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドに比べ、広いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドの消耗或いは劣化速度が速まり、狭いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドが使用できたとしても、他方の吐出ヘッドのメンテナンス頻度の増加や吐出ヘッドの交換のため、作業が中断してしまい、サイクルタイムが増加してしまう、という課題があった。 In the droplet discharge device, the base material and the discharge head are relatively moved, and in the movement process, the functional liquid is discharged as droplets from the discharge head toward the base material, and the functional liquid is applied to the base material. Yes. By the way, in the case where droplets are ejected for each region where the width of the pattern film formation region is different as in the above-described organic EL device, a relatively small amount of droplets is ejected to a narrow pattern film formation region. Can be applied over the entire pattern film formation region. On the other hand, for a wide pattern film formation region, a relatively large amount of discharge is required to apply the functional liquid over the entire pattern film formation region. Therefore, the number of times of droplet ejection driving of the ejection head is increased in order to reach a desired coating amount from the ejection head in a wide pattern film formation region. As a result, the discharge head corresponding to the wide pattern film formation region is consumed or deteriorated faster than the discharge head corresponding to the narrow pattern film formation region, and the discharge head corresponding to the narrow pattern film formation region can be used. However, due to an increase in maintenance frequency of the other ejection head and replacement of the ejection head, there is a problem that the operation is interrupted and the cycle time is increased.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。 SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

［適用例１］本適用例にかかる液滴吐出装置は、基材に設けられたパターン膜形成領域に向けて液滴を吐出する吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置であって、前記パターン膜形成領域の広さ毎に対応して前記液滴を吐出する複数の前記吐出ヘッドを有するとともに、前記パターン膜形成領域のうち、広いパターン膜形成領域に対応する前記吐出ヘッドの数を、前記広いパターン膜形成領域よりも領域面積が狭いパターン膜形成領域に対応する前記吐出ヘッドの数よりも多く配置したことを特徴とする。 Application Example 1 A droplet discharge device according to this application example is a droplet discharge device including a discharge head that discharges droplets toward a pattern film forming region provided on a base material. The plurality of ejection heads that eject the droplets corresponding to the width of the formation area, and the number of the ejection heads corresponding to a wide pattern film formation area among the pattern film formation areas More than the number of the ejection heads corresponding to the pattern film formation region having a smaller area than the pattern film formation region is arranged.

この構成によれば、パターン膜形成領域の広狭に応じて吐出ヘッドの数が適宜規定される。すなわち、広いパターン膜形成領域に対しては、狭いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドの数よりも多い数の吐出ヘッドが配置される。従って、広いパターン膜形成領域に対して、吐出ヘッドの数を多くして液滴を吐出することができる。これにより、一の吐出ヘッドにかかる駆動負担が低減され、狭いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドの消耗頻度と、広いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドの消耗頻度が同等になるので、メンテナンス頻度が低減され、サイクルタイムを短縮させることができる。 According to this configuration, the number of ejection heads is appropriately defined according to the width of the pattern film formation region. That is, a larger number of ejection heads than the number of ejection heads corresponding to the narrow pattern film formation region are arranged for a wide pattern film formation region. Accordingly, it is possible to discharge droplets by increasing the number of discharge heads in a wide pattern film formation region. As a result, the driving burden on one ejection head is reduced, and the consumption frequency of the ejection head corresponding to the narrow pattern film formation region is equal to the consumption frequency of the ejection head corresponding to the wide pattern film formation region. The frequency is reduced and the cycle time can be shortened.

［適用例２］上記適用例にかかる液滴吐出装置では、前記基材と前記吐出ヘッドとが相対的に移動する走査方向における前記パターン膜形成領域の配列順に倣って、各前記パターン膜形成領域に対応する複数の前記吐出ヘッドを前記走査方向に配置したことを特徴とする。 Application Example 2 In the liquid droplet ejection apparatus according to the application example, each pattern film formation region follows the arrangement order of the pattern film formation regions in the scanning direction in which the base material and the ejection head relatively move. A plurality of the ejection heads corresponding to the above are arranged in the scanning direction.

この構成によれば、パターン膜形成領域の配列順に応じて、複数の吐出ヘッドが配置される。すなわち、例えば、狭いパターン膜形成領域と広いパターン膜形成領域とが順に配列されている場合に、上記の各パターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドを、各パターン膜形成領域の配置順に倣って配置する。これにより、一回の走査で、効率よく対象のパターン膜形成領域に液滴を吐出することができる。 According to this configuration, the plurality of ejection heads are arranged according to the arrangement order of the pattern film formation regions. That is, for example, when a narrow pattern film formation region and a wide pattern film formation region are sequentially arranged, the ejection heads corresponding to the pattern film formation regions are arranged following the arrangement order of the pattern film formation regions. To do. As a result, it is possible to efficiently eject droplets to the target pattern film formation region in one scan.

［適用例３］上記適用例にかかる液滴吐出装置では、前記基材と前記吐出ヘッドとが相対的に移動する前記走査方向における前記パターン膜形成領域の幅の長さが異なる場合に、幅が長い前記パターン膜形成領域に対応する前記吐出ヘッドの数を、前記幅が長いパターン膜形成領域よりも幅が短い前記パターン膜形成領域に対応する前記吐出ヘッドの数よりも多く配置したことを特徴とする。 Application Example 3 In the liquid droplet ejection apparatus according to the application example described above, when the width of the pattern film formation region in the scanning direction in which the base material and the ejection head move relatively is different, the width The number of the ejection heads corresponding to the long pattern film formation region is larger than the number of the ejection heads corresponding to the pattern film formation region having a shorter width than the long pattern film formation region. Features.

この構成によれば、走査方向におけるパターン膜形成領域の幅の長短に応じて吐出ヘッドの数が適宜規定される。すなわち、幅が長いパターン膜形成領域に対しては、幅が短いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドの数よりも多い数の吐出ヘッドが配置される。従って、幅が長いパターン膜形成領域に対して、吐出ヘッドの数を多くして液滴を吐出することができる。これにより、一の吐出ヘッドにかかる駆動負担が低減され、狭いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドの消耗頻度と、広いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドの消耗頻度が同等になるので、メンテナンス頻度が低減され、サイクルタイムを短縮させることができる。 According to this configuration, the number of ejection heads is appropriately defined according to the width of the pattern film formation region in the scanning direction. In other words, a larger number of ejection heads than the number of ejection heads corresponding to the pattern film formation region with a short width are arranged for the pattern film formation region with a long width. Therefore, it is possible to discharge droplets by increasing the number of discharge heads in the pattern film formation region having a long width. As a result, the driving burden on one ejection head is reduced, and the consumption frequency of the ejection head corresponding to the narrow pattern film formation region is equal to the consumption frequency of the ejection head corresponding to the wide pattern film formation region. The frequency is reduced and the cycle time can be shortened.

［適用例４］上記適用例にかかる液滴吐出装置では、前記幅が長いパターン膜形成領域の幅の長さが、前記幅が短いパターン膜形成領域の幅の長さのｎ倍の場合に、前記幅が長いパターン膜形成領域に対応する前記吐出ヘッドの数を、前記幅が短いパターン膜形成領域に対応する前記吐出ヘッドの数のｎ倍以上に配置したことを特徴とする。 Application Example 4 In the droplet discharge device according to the application example described above, when the width of the long pattern film forming region is n times the width of the short pattern film forming region. The number of the ejection heads corresponding to the long pattern film formation region is arranged to be n times or more the number of the ejection heads corresponding to the short pattern film formation region.

この構成によれば、パターン膜形成領域の幅の長さ比に基づいて吐出ヘッドの数を規定することにより、狭いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドの消耗頻度と、広いパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッドの消耗頻度が同等になるので、メンテナンス頻度が低減され、サイクルタイムを短縮させることができる。 According to this configuration, by defining the number of ejection heads based on the length ratio of the width of the pattern film formation region, the consumption frequency of the ejection head corresponding to the narrow pattern film formation region and the wide pattern film formation region can be reduced. Since the consumption frequency of the corresponding ejection head is equal, the maintenance frequency is reduced and the cycle time can be shortened.

液滴吐出装置の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of a droplet discharge apparatus. 吐出ヘッドの構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of an ejection head. 液滴吐出装置の電気制御ブロック図。The electric control block diagram of a droplet discharge device. パターン膜形成領域の配列を示す平面図。The top view which shows the arrangement | sequence of a pattern film formation area. 吐出ヘッドの配置を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing the arrangement of ejection heads. パターン膜形成領域における液滴の着弾状態を示す模式図。The schematic diagram which shows the landing state of the droplet in a pattern film formation area. 変形例における吐出ヘッドの配列を示す平面図。The top view which shows the arrangement | sequence of the discharge head in a modification. 他の変形例における吐出ヘッドの配列を示す平面図。The top view which shows the arrangement | sequence of the discharge head in another modification.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材ごとに縮小を異ならせて図示している。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. In addition, each member in each drawing is illustrated with a different reduction for each member in order to make the size recognizable on each drawing.

［液滴吐出装置の構成］
（全体構成）
まず、液滴吐出装置の全体構成について説明する。図１は、液滴吐出装置の構成を示す斜視図である。図１に示すように、液滴吐出装置１には、直方体形状に形成される基台２が備えられている。本実施形態では、この基台２の長手方向をＹ方向とし、同Ｙ方向と直交する方向をＸ方向とする。 [Configuration of droplet discharge device]
(overall structure)
First, the overall configuration of the droplet discharge device will be described. FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration of a droplet discharge device. As shown in FIG. 1, the droplet discharge device 1 includes a base 2 formed in a rectangular parallelepiped shape. In the present embodiment, the longitudinal direction of the base 2 is the Y direction, and the direction orthogonal to the Y direction is the X direction.

基台２の上面２ａには、Ｙ方向に延びる一対の案内レール３ａ，３ｂが同Ｙ方向全幅にわたり凸設されている。その基台２の上側には、一対の案内レール３ａ，３ｂに対応する図示しない直動機構を備えた走査手段を構成するテーブル及びワーク移動テーブルとしてのステージ４が取り付けられている。そのステージ４の直動機構は、例えば案内レール３ａ，３ｂに沿ってＹ方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＹ軸モーター（図示しない）に連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号がＹ軸モーターに入力されると、Ｙ軸モーターが正転又は逆転して、ステージ４が同ステップ数に相当する分だけ、Ｙ軸方向に沿って所定の速度で往動又は、復動する（Ｙ方向に走査する）ようになっている。 On the upper surface 2a of the base 2, a pair of guide rails 3a and 3b extending in the Y direction are provided so as to protrude over the entire width in the Y direction. On the upper side of the base 2, a table constituting a scanning means having a linear motion mechanism (not shown) corresponding to the pair of guide rails 3a and 3b and a stage 4 as a work moving table are attached. The linear movement mechanism of the stage 4 is, for example, a screw type linear movement mechanism including a screw shaft (drive shaft) extending in the Y direction along the guide rails 3a and 3b and a ball nut screwed to the screw shaft. The drive shaft is connected to a Y-axis motor (not shown) that receives a predetermined pulse signal and rotates forward and backward in units of steps. When a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the Y-axis motor, the Y-axis motor rotates forward or reversely, and the stage 4 corresponds to the same number of steps along the Y-axis direction. The robot moves forward or backward (scans in the Y direction) at a predetermined speed.

さらに、基台２の上面２ａには、案内レール３ａ，３ｂと平行に主走査位置検出装置５が配置され、ステージ４の位置が計測できるようになっている。 Further, a main scanning position detector 5 is disposed on the upper surface 2a of the base 2 in parallel with the guide rails 3a and 3b so that the position of the stage 4 can be measured.

そのステージ４の上面には、載置面６が形成され、その載置面６には、図示しない吸引式の基材チャック機構が設けられている。そして、載置面６に基材７を載置すると、基材チャック機構によって、その基材７が載置面６の所定位置に位置決め固定されるようになっている。 A placement surface 6 is formed on the upper surface of the stage 4, and a suction-type base material chuck mechanism (not shown) is provided on the placement surface 6. When the base material 7 is placed on the placement surface 6, the base material 7 is positioned and fixed at a predetermined position on the placement surface 6 by the base material chuck mechanism.

基台２のＸ方向両側には、一対の支持台８ａ，８ｂが立設され、その一対の支持台８ａ，８ｂには、Ｘ方向に延びる案内部材９が架設されている。案内部材９は、その長手方向の幅がステージ４のＸ方向よりも長く形成され、その一端が支持台８ａ側に張り出すように配置されている。案内部材９の上側には、吐出する液体を供給可能に収容する収容タンク１０が配設されている。一方、その案内部材９の下側には、Ｘ方向に延びる案内レール１１がＸ方向全幅にわたり凸設されている。 A pair of support bases 8a and 8b are erected on both sides of the base 2 in the X direction, and a guide member 9 extending in the X direction is installed on the pair of support bases 8a and 8b. The guide member 9 is formed such that its longitudinal width is longer than the X direction of the stage 4 and its one end projects toward the support base 8a. On the upper side of the guide member 9, a storage tank 10 for storing the liquid to be discharged is provided. On the other hand, a guide rail 11 extending in the X direction is provided below the guide member 9 so as to protrude over the entire width in the X direction.

案内レール１１に沿って移動可能に配置されるキャリッジ１２は、略直方体形状に形成されている。そのキャリッジ１２の直動機構は、例えば案内レール１１に沿ってＸ方向に延びるネジ軸（駆動軸）と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するＸ軸モーター（図示しない）に連結されている。そして、所定のステップ数に相当する駆動信号をＸ軸モーターに入力すると、Ｘ軸モーターが正転又は逆転して、キャリッジ１２が同ステップ数に相当する分だけＸ方向に沿って往動又は復動する（Ｘ方向に走査する）。案内部材９とキャリッジ１２との間には、副走査位置検出装置１３が配置され、キャリッジ１２の位置が計測できるようになっている。そして、キャリッジ１２の下面（ステージ４側の面）には、複数の吐出ヘッド１４０を備えたヘッドユニット１４が凸設されている。 The carriage 12 arranged so as to be movable along the guide rail 11 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. The linear movement mechanism of the carriage 12 is, for example, a screw type linear movement mechanism including a screw shaft (drive shaft) extending in the X direction along the guide rail 11 and a ball nut screwed to the screw shaft, The drive shaft is connected to an X-axis motor (not shown) that receives a predetermined pulse signal and rotates forward and backward in steps. When a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the X-axis motor, the X-axis motor rotates forward or reverse, and the carriage 12 moves forward or backward along the X direction by the amount corresponding to the same number of steps. Move (scan in X direction). A sub-scanning position detector 13 is arranged between the guide member 9 and the carriage 12 so that the position of the carriage 12 can be measured. A head unit 14 including a plurality of ejection heads 140 is provided on the lower surface of the carriage 12 (the surface on the stage 4 side).

基台２の片側の一方（図中Ｘ方向の逆方向）には、保守用基台１５が配置されている。保守用基台１５の上面１５ａには、Ｙ方向に延びる一対の案内レール１６ａ，１６ｂが同Ｙ方向全幅にわたり凸設されている。その保守用基台１５の上側には、一対の案内レール１６ａ，１６ｂに対応する図示しない直動機構を備えた移動手段を構成する保守ステージ１７が取り付けられている。その保守ステージ１７の直動機構は、例えばステージ４と同様の直動機構であり、Ｙ方向に沿って往動又は、復動するようになっている。 A maintenance base 15 is arranged on one side of the base 2 (opposite to the X direction in the figure). On the upper surface 15a of the maintenance base 15, a pair of guide rails 16a and 16b extending in the Y direction are provided so as to protrude over the entire width in the Y direction. On the upper side of the maintenance base 15, a maintenance stage 17 constituting a moving means provided with a linear motion mechanism (not shown) corresponding to the pair of guide rails 16a and 16b is attached. The linear movement mechanism of the maintenance stage 17 is a linear movement mechanism similar to the stage 4, for example, and moves forward or backward along the Y direction.

保守ステージ１７の上には、フラッシングユニット１８、キャッピングユニット１９、ワイピングユニット２０が、配置してある。フラッシングユニット１８は、吐出ヘッド１４０内の流路を洗浄するとき、吐出ヘッド１４０から吐出する液滴を受ける装置である。吐出ヘッド１４０内に固形物が混入した場合に、固形物を吐出ヘッド１４０から排除するため、吐出ヘッド１４０から液滴を吐出して洗浄する。この液滴を受ける機能をフラッシングユニット１８が行う。 On the maintenance stage 17, a flushing unit 18, a capping unit 19, and a wiping unit 20 are arranged. The flushing unit 18 is a device that receives droplets ejected from the ejection head 140 when the flow path in the ejection head 140 is washed. When solid matter is mixed in the discharge head 140, in order to remove the solid matter from the discharge head 140, droplets are discharged from the discharge head 140 and washed. The flushing unit 18 performs the function of receiving the droplets.

キャッピングユニット１９は、吐出ヘッド１４０に蓋をする装置である。吐出ヘッド１４０から吐出する液滴は、揮発性を有する場合があり、吐出ヘッド１４０に内在する機能液の溶媒がノズルから揮発すると、機能液の粘度が変わり、ノズルが目詰まりすることがある。キャッピングユニット１９は、吐出ヘッド１４０に蓋をすることで、ノズルが目詰まりすることを防止するようになっている。 The capping unit 19 is a device that covers the ejection head 140. The droplets ejected from the ejection head 140 may have volatility, and when the solvent of the functional liquid present in the ejection head 140 volatilizes from the nozzle, the viscosity of the functional liquid may change and the nozzle may be clogged. The capping unit 19 is configured to prevent the nozzles from being clogged by covering the ejection head 140.

ワイピングユニット２０は、吐出ヘッド１４０のノズルが配置されているノズルプレートを拭く装置である。ノズルプレートは、吐出ヘッド１４０において、基材７と対向する側の面に配置されている部材である。ノズルプレートに液滴が付着しているとき、ノズルプレートに付着している液滴と基材７とが接触して、基材７において、予定外の場所に液滴が付着してしまうことがある。ワイピングユニット２０は、ノズルプレートを拭くことにより、基材７において、予定外の場所に液滴が付着してしまうことを防止している。 The wiping unit 20 is a device that wipes the nozzle plate on which the nozzles of the ejection head 140 are arranged. The nozzle plate is a member disposed on the surface of the ejection head 140 that faces the substrate 7. When droplets adhere to the nozzle plate, the droplets adhering to the nozzle plate may come into contact with the substrate 7, and the droplets may adhere to an unplanned location on the substrate 7. is there. The wiping unit 20 prevents droplets from adhering to an unscheduled location on the substrate 7 by wiping the nozzle plate.

保守用基台１５と基台２との間には、重量測定装置２２が配置されている。重量測定装置２２には、電子天秤が２台設置され、各電子天秤には、受け皿が配置されている。液滴が、吐出ヘッド１４０から受け皿に吐出され、電子天秤が液滴の重量を測定するようになっている。受け皿は、スポンジ状の吸収体を備え、吐出される液滴が、跳ねて、受け皿の外に出ないようになっている。電子天秤は、吐出ヘッド１４０が液滴を吐出する前後で、受け皿の重量を測定し、吐出前後の受け皿の重量の差分を測定している。 A weight measuring device 22 is arranged between the maintenance base 15 and the base 2. Two electronic balances are installed in the weight measuring device 22, and a tray is arranged on each electronic balance. The droplets are discharged from the discharge head 140 to the tray, and the electronic balance measures the weight of the droplets. The tray is provided with a sponge-like absorber so that the ejected liquid droplets bounce and do not come out of the tray. The electronic balance measures the weight of the saucer before and after the ejection head 140 ejects droplets, and measures the difference in the weight of the saucer before and after ejection.

キャリッジ１２が、案内レール１１に沿って、Ｘ方向に移動することにより、吐出ヘッド１４０は、ヘッドクリーニング部２１、重量測定装置２２、基材７と対向する場所に移動し、液滴を吐出することができるようになっている。 When the carriage 12 moves along the guide rail 11 in the X direction, the ejection head 140 moves to a position facing the head cleaning unit 21, the weight measuring device 22, and the substrate 7, and ejects droplets. Be able to.

（吐出ヘッドの構成）
図２は、吐出ヘッドの構成を示す断面図である。図２に示すように、吐出ヘッド１４０は、ノズルプレート３０を備え、ノズルプレート３０には、ノズル３１が形成されている。ノズルプレート３０の上側であってノズル３１と相対する位置には、ノズル３１と連通するキャビティ３２が形成されている。そして、吐出ヘッド１４０のキャビティ３２には、収容タンク１０に貯留されている機能液３３が供給される。 (Discharge head configuration)
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the ejection head. As shown in FIG. 2, the ejection head 140 includes a nozzle plate 30, and the nozzle 31 is formed on the nozzle plate 30. A cavity 32 communicating with the nozzle 31 is formed at a position above the nozzle plate 30 and facing the nozzle 31. The functional liquid 33 stored in the storage tank 10 is supplied to the cavity 32 of the ejection head 140.

キャビティ３２の上側には、上下方向（Ｚ方向：縦振動）に振動して、キャビティ３２内の容積を拡大縮小する振動板３４と、上下方向に伸縮して振動板３４を振動させる加圧手段としての圧電素子３５が配設されている。圧電素子３５が上下方向に伸縮して振動板３４を振動し、振動板３４がキャビティ３２内の容積を拡大縮小してキャビティ３２を加圧する。それにより、キャビティ３２内の圧力が変動し、キャビティ３２内に供給された機能液３３は、ノズル３１を通って吐出されるようになっている。 Above the cavity 32, a vibration plate 34 that vibrates in the vertical direction (Z direction: longitudinal vibration) and expands and contracts the volume in the cavity 32, and a pressurizing unit that expands and contracts in the vertical direction to vibrate the vibration plate 34. The piezoelectric element 35 is disposed. The piezoelectric element 35 expands and contracts in the vertical direction to vibrate the diaphragm 34, and the diaphragm 34 pressurizes the cavity 32 by enlarging and reducing the volume in the cavity 32. Thereby, the pressure in the cavity 32 fluctuates, and the functional liquid 33 supplied into the cavity 32 is discharged through the nozzle 31.

そして、吐出ヘッド１４０が圧電素子３５を制御駆動するための駆動信号を受けると、圧電素子３５が伸張して、振動板３４がキャビティ３２内の容積を縮小する。その結果、吐出ヘッド１４０のノズル３１からは、縮小した容積分の機能液３３が液滴３６として吐出される。なお、本実施形態では、加圧手段として、縦振動型の圧電素子３５を用いしたが、特にこれに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子を用いるようにしてもよい。また、圧力発生手段として、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズルから液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなどを使用してもよい。さらには、発熱体を用いてノズル内に泡を発生させ、その泡によって機能液を液滴として吐出させる構成を有する吐出ヘッドであってもよい。 When the ejection head 140 receives a drive signal for controlling and driving the piezoelectric element 35, the piezoelectric element 35 expands and the diaphragm 34 reduces the volume in the cavity 32. As a result, the functional liquid 33 corresponding to the reduced volume is discharged as droplets 36 from the nozzles 31 of the discharge head 140. In the present embodiment, the longitudinal vibration type piezoelectric element 35 is used as the pressurizing means. However, the present invention is not limited to this, and for example, a flexural deformation type in which a lower electrode, a piezoelectric layer, and an upper electrode are laminated. The piezoelectric element may be used. Further, as the pressure generating means, a so-called electrostatic actuator that generates static electricity between the diaphragm and the electrode, deforms the diaphragm by electrostatic force, and discharges a droplet from the nozzle may be used. Furthermore, the discharge head which has the structure which generates a bubble in a nozzle using a heat generating body, and discharges a functional liquid as a droplet with the bubble may be sufficient.

（電気制御の構成）
図３は、液滴吐出装置の電気制御ブロック図である。図３において、液滴吐出装置１はプロセッサーとして各種の演算処理を行うＣＰＵ（演算処理装置）４０と、各種情報を記憶するメモリー４１とを有する。 (Electric control configuration)
FIG. 3 is an electric control block diagram of the droplet discharge device. In FIG. 3, the droplet discharge device 1 includes a CPU (arithmetic processing device) 40 that performs various arithmetic processes as a processor, and a memory 41 that stores various types of information.

主走査駆動装置４２、副走査駆動装置４３、主走査位置検出装置５、副走査位置検出装置１３、吐出ヘッド１４０を駆動するヘッド駆動回路４４は、入出力インターフェース４５およびバス４６を介してＣＰＵ４０に接続されている。さらに、入力装置４７、ディスプレイ４８、図１に示す重量測定装置２２を構成する電子天秤４９、フラッシングユニット１８、キャッピングユニット１９、ワイピングユニット２０も入出力インターフェース４５およびバス４６を介してＣＰＵ４０に接続されている。同じく、ヘッドクリーニング部２１において、１つのユニットを選択するクリーニング選択装置５０も入出力インターフェース４５およびバス４６を介してＣＰＵ４０に接続されている。 The main scanning drive device 42, the sub scanning drive device 43, the main scanning position detection device 5, the sub scanning position detection device 13, and the head drive circuit 44 that drives the ejection head 140 are connected to the CPU 40 via the input / output interface 45 and the bus 46. It is connected. Further, the input device 47, the display 48, the electronic balance 49, the flushing unit 18, the capping unit 19, and the wiping unit 20 constituting the weight measuring device 22 shown in FIG. 1 are also connected to the CPU 40 via the input / output interface 45 and the bus 46. ing. Similarly, in the head cleaning unit 21, a cleaning selection device 50 that selects one unit is also connected to the CPU 40 via the input / output interface 45 and the bus 46.

主走査駆動装置４２は、ステージ４の移動を制御する装置であり、副走査駆動装置４３は、キャリッジ１２の移動を制御する装置である。主走査位置検出装置５が、ステージ４の位置を認識し、主走査駆動装置４２が、ステージ４の移動を制御することにより、ステージ４を所望の位置に移動及び停止することが可能になっている。同じく、副走査位置検出装置１３が、キャリッジ１２の位置を認識し、副走査駆動装置４３が、キャリッジ１２の移動を制御することにより、キャリッジ１２を所望の位置に移動及び停止することが可能になっている。 The main scanning drive device 42 is a device that controls the movement of the stage 4, and the sub-scanning drive device 43 is a device that controls the movement of the carriage 12. The main scanning position detection device 5 recognizes the position of the stage 4 and the main scanning driving device 42 controls the movement of the stage 4 so that the stage 4 can be moved and stopped to a desired position. Yes. Similarly, the sub-scanning position detection device 13 recognizes the position of the carriage 12 and the sub-scanning drive device 43 controls the movement of the carriage 12 so that the carriage 12 can be moved to a desired position and stopped. It has become.

入力装置４７は、液滴を吐出する各種加工条件を入力する装置であり、例えば、基材７に液滴を吐出する座標を図示しない外部装置から受信し、入力する装置である。ディスプレイ４８は、加工条件や、作業状況を表示する装置であり、操作者は、ディスプレイ４８に表示される情報を基に、入力装置４７を用いて操作を行う。 The input device 47 is a device that inputs various processing conditions for ejecting droplets. For example, the input device 47 is a device that receives and inputs coordinates for ejecting droplets onto the substrate 7 from an external device (not shown). The display 48 is a device that displays processing conditions and work conditions, and the operator performs an operation using the input device 47 based on information displayed on the display 48.

電子天秤４９は、吐出ヘッド１４０が吐出する液滴を受ける、受け皿の重量を測定する装置である。液滴が吐出される前後の受け皿の重量を測定して、測定値をＣＰＵ４０に送信する。図１に示す重量測定装置２２は、受け皿と電子天秤４９などから構成される。 The electronic balance 49 is a device that receives the droplets discharged from the discharge head 140 and measures the weight of the tray. The weight of the saucer before and after the droplet is discharged is measured, and the measured value is transmitted to the CPU 40. The weight measuring device 22 shown in FIG. 1 includes a tray and an electronic balance 49.

クリーニング選択装置５０は、ヘッドクリーニング部２１であるフラッシングユニット１８、キャッピングユニット１９、ワイピングユニット２０から１つの装置を選択して、吐出ヘッド１４０と対向する場所に移動する装置である。 The cleaning selection device 50 is a device that selects one device from the flushing unit 18, the capping unit 19, and the wiping unit 20, which are the head cleaning unit 21, and moves to a location facing the ejection head 140.

メモリー４１は、ＲＡＭ、ＲＯＭ等といった半導体メモリーや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、液滴吐出装置１における動作の制御手順が記述されたプログラムソフト５１を記憶する記憶領域や、基材７内における吐出位置の座標データである吐出位置データ５２を記憶するための記憶領域が設定される。さらに、基材７を主走査方向（Ｙ方向）へ移動する主走査移動量と、キャリッジ１２を副走査方向（Ｘ方向）へ移動する副走査移動量とを記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ４０のためのワークエリアやテンポラリーファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。 The memory 41 is a concept including a semiconductor memory such as a RAM and a ROM, and an external storage device such as a hard disk and a CD-ROM. Functionally, a storage area for storing program software 51 in which a procedure for controlling the operation of the droplet discharge apparatus 1 is described, and discharge position data 52 that is coordinate data of the discharge position in the base material 7 are stored. A storage area is set. Further, a storage area for storing the main scanning movement amount for moving the base material 7 in the main scanning direction (Y direction) and the sub scanning movement amount for moving the carriage 12 in the sub scanning direction (X direction); A storage area that functions as a work area, a temporary file, etc., and various other storage areas are set.

ＣＰＵ４０は、メモリー４１内に記憶されたプログラムソフト５１に従って、基材７における表面の所定位置に機能液を液滴吐出するための制御を行うものである。具体的な機能実現部として、電子天秤４９を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算部５３と、吐出ヘッド１４０によって液滴を吐出するための演算を行う吐出演算部５４を有する。 The CPU 40 performs control for discharging the functional liquid to a predetermined position on the surface of the substrate 7 according to the program software 51 stored in the memory 41. As a specific function realization unit, a weight measurement calculation unit 53 that performs calculation for realizing weight measurement using the electronic balance 49 and a discharge calculation unit 54 that performs calculation for discharging droplets by the discharge head 140 are provided. Have.

吐出演算部５４を詳しく分割すれば、吐出ヘッド１４０を液滴吐出のための初期位置へセットするための吐出開始位置演算部５５を有する。さらに、吐出演算部５４は、基材７を主走査方向（Ｙ方向）へ所定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部５６を有する。加えて、吐出演算部５４は、吐出ヘッド１４０を副走査方向（Ｘ方向）へ所定の副走査量で移動させるための制御を演算する副走査制御演算部５７を有する。さらに、吐出演算部５４は吐出ヘッド１４０内の複数あるノズルのうちのいずれを作動させて機能液を吐出するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算部５８等といった各種の機能演算部を有する。 If the discharge calculation unit 54 is divided in detail, it has a discharge start position calculation unit 55 for setting the discharge head 140 to an initial position for droplet discharge. Furthermore, the discharge calculation unit 54 includes a main scanning control calculation unit 56 that calculates control for scanning and moving the base material 7 in the main scanning direction (Y direction) at a predetermined speed. In addition, the discharge calculation unit 54 includes a sub-scanning control calculation unit 57 that calculates control for moving the discharge head 140 in the sub-scanning direction (X direction) by a predetermined sub-scanning amount. Furthermore, the discharge calculation unit 54 performs various function calculation units such as a nozzle discharge control calculation unit 58 that performs calculation for controlling which of the plurality of nozzles in the discharge head 140 is operated to discharge the functional liquid. Have

保守ステージ１７が、案内レール１６ａ，１６ｂに沿って移動することにより、吐出ヘッド１４０と対向する場所に、フラッシングユニット１８、キャッピングユニット１９、ワイピングユニット２０のいずれか一つの装置が配置されるようになっている。フラッシングユニット１８、キャッピングユニット１９、ワイピングユニット２０、によりヘッドクリーニング部２１を構成している。 As the maintenance stage 17 moves along the guide rails 16 a and 16 b, any one of the flushing unit 18, the capping unit 19, and the wiping unit 20 is disposed at a location facing the ejection head 140. It has become. The flushing unit 18, the capping unit 19, and the wiping unit 20 constitute a head cleaning unit 21.

（吐出ヘッドの配置について）
次に、吐出ヘッド１４０の配置について説明する。本実施形態では、基材７に設けられたパターン膜形成領域の広さ毎に応じて、吐出ヘッド１４０の数を規定して配置している。そこで、まず、本実施形態における基材７のパターン膜形成領域等について説明する。図４は、基材７に設けられたパターン膜形成領域の配列を示す平面図である。なお、本実施形態では、有機ＥＬ装置を例に説明する。図４に示すように、基材７は、基板６８に設けられた区画部６９によって区画された第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇを有している。そして、液滴吐出装置１を用いて、第１パターン膜形成領域７０Ｂに対して、青色用の有機化合物を含む機能液を塗布し、第１パターン膜形成領域７０Ｂに第１パターン膜Ｂを形成するようになっている。同様にして、第２パターン膜形成領域７０Ｒに対して、赤色用の有機化合物を含む機能液を塗布し、第２パターン膜形成領域７０Ｒに第２パターン膜Ｒを形成し、第３パターン膜形成領域７０Ｇに対して、緑色用の有機化合物を含む機能液を塗布し、第３パターン膜形成領域７０Ｇに第３パターン膜Ｇを形成するようになっている。 (Disposition of the discharge head)
Next, the arrangement of the ejection head 140 will be described. In the present embodiment, the number of ejection heads 140 is defined and arranged in accordance with the size of the pattern film formation region provided on the substrate 7. Therefore, first, the pattern film formation region of the substrate 7 in the present embodiment will be described. FIG. 4 is a plan view showing the arrangement of the pattern film forming regions provided on the substrate 7. In the present embodiment, an organic EL device will be described as an example. As shown in FIG. 4, the base material 7 has first to third pattern film forming regions 70 B, 70 R, and 70 G that are partitioned by a partitioning portion 69 provided on the substrate 68. Then, using the droplet discharge device 1, a functional liquid containing a blue organic compound is applied to the first pattern film formation region 70B, and the first pattern film B is formed in the first pattern film formation region 70B. It is supposed to be. Similarly, a functional liquid containing an organic compound for red is applied to the second pattern film formation region 70R, the second pattern film R is formed in the second pattern film formation region 70R, and the third pattern film formation is performed. A functional liquid containing a green organic compound is applied to the region 70G, and the third pattern film G is formed in the third pattern film formation region 70G.

図４に示すように、第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇは、基板６８上にマトリックス状に配列されており、各第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇの領域面積の広さが異なっている。本実施形態では、第１パターン膜形成領域７０Ｂの領域面積が最も広く設けられ、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇの領域面積は、第１パターン膜形成領域７０Ｂの領域面積よりも狭く設けられている。なお、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇはほぼ同様の領域面積を有している。このように、パターン膜形成領域の面積を異ならせ、異なる面積を有する第１〜第３パターン膜Ｂ，Ｒ，Ｇを形成することにより、有機ＥＬ装置の長寿命化が図れるとともに、容易にホワイトバランスをとることができる。 As shown in FIG. 4, the first to third pattern film forming regions 70B, 70R, and 70G are arranged in a matrix on the substrate 68, and the first to third pattern film forming regions 70B, 70R, and 70G are arranged. The areas of the areas are different. In this embodiment, the area area of the first pattern film formation area 70B is the largest, and the area areas of the second and third pattern film formation areas 70R and 70G are larger than the area area of the first pattern film formation area 70B. Narrowly provided. The second and third pattern film forming regions 70R and 70G have substantially the same region area. In this way, by changing the area of the pattern film formation region and forming the first to third pattern films B, R, and G having different areas, the lifetime of the organic EL device can be extended and the white color can be easily obtained. Balance can be taken.

ところで、上記のように第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇの面積がそれぞれ異なる基材７に対して、吐出ヘッド１４０から液滴３６を吐出して、各第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇに機能液を塗布する場合において、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇに対しては、領域面積が狭いため少量の液滴３６を吐出することにより第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇの全体に渡って塗布するができるが、第１パターン膜形成領域７０Ｂのように領域面積が広い場合には、比較的多量の液滴３６を要する。このため、第１パターン膜形成領域７０Ｂに対応する吐出ヘッドの駆動頻度が増加し、メンテナンス頻度が増加してしまうおそれがある。 By the way, as described above, the droplets 36 are ejected from the ejection head 140 to the base materials 7 having different areas of the first to third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G, and the first to third pattern films are formed. When the functional liquid is applied to the pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G, since the area of the second and third pattern film formation regions 70R and 70G is small, a small amount of droplets 36 are discharged. The coating can be applied over the entire second and third pattern film formation regions 70R and 70G. However, when the area is large as in the first pattern film formation region 70B, a relatively large amount of droplets 36 are required. . For this reason, the drive frequency of the ejection head corresponding to the first pattern film formation region 70B increases, and the maintenance frequency may increase.

そこで、第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇに対応した吐出ヘッド１４０を以下のように配置する。図５は、各パターン膜形成領域に対応した吐出ヘッドの配置を示す平面図である。なお、図５に示す吐出ヘッド１４０は、液滴吐出装置１の上方から基材７に向けて透視した平面図を示すが、説明を容易にするため、吐出ヘッド１４０のノズル３１を実線で表している。また、同図中の矢印は、基材７と吐出ヘッド１４０との相対的な移動方向（主走査方向：Ｙ方向）を示している。 Therefore, the ejection heads 140 corresponding to the first to third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G are arranged as follows. FIG. 5 is a plan view showing the arrangement of the ejection heads corresponding to each pattern film formation region. In addition, although the discharge head 140 shown in FIG. 5 shows the top view seen through toward the base material 7 from the upper direction of the droplet discharge apparatus 1, the nozzle 31 of the discharge head 140 is represented by the continuous line for easy explanation. ing. Moreover, the arrow in the figure shows the relative moving direction (main scanning direction: Y direction) of the base material 7 and the ejection head 140.

図５に示すように、ヘッドユニット１４は、基材７に設けられた第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇの広さ毎に対応する複数の吐出ヘッド１４０Ｂ，１４０Ｒ，１４０Ｇを備え、さらに、第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇのうち、広いパターン膜形成領域である第１パターン膜形成領域７０Ｂに対応する吐出ヘッド１４０Ｂの数を、第１パターン膜形成領域７０Ｂよりも領域面積が狭いパターン膜形成領域である第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇに対応する吐出ヘッド１４０Ｒ，１４０Ｇの数よりも多く配置している。本実施形態では、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇに対応する吐出ヘッド１４０Ｒ，１４０Ｇは、それぞれ一つずつ配置し、第１パターン膜形成領域７０Ｂに対応する吐出ヘッド１４０Ｂは、二つ配置し、合計して四つの吐出ヘッド１４０を備えている。そして、走査方向（Ｙ方向）における第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇの配列順に倣って、吐出ヘッド１４０Ｂ，１４０Ｒ，１４０Ｇが走査方向に対して順に配置されている。本実施形態では、図５中の左側から右側に向けて、第１パターン膜形成領域７０Ｂ、第２パターン膜形成領域７０Ｒ、第３パターン膜形成領域７０Ｇの順に配置され、当該配置順に倣って、図５中の左側から右側に向けて、吐出ヘッド１４０Ｂ、吐出ヘッド１４０Ｒ、吐出ヘッド１４０Ｇが順に配置されている。このように、第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇの配列順に倣って吐出ヘッド１４０Ｂ，１４０Ｒ，１４０Ｇを配置することにより、効率良く所望のパターン膜形成領域に液滴３６を吐出することができる。 As shown in FIG. 5, the head unit 14 includes a plurality of ejection heads 140 B, 140 R, 140 G corresponding to the widths of the first to third pattern film formation regions 70 B, 70 R, 70 G provided on the substrate 7. And the number of ejection heads 140B corresponding to the first pattern film formation region 70B, which is a wide pattern film formation region among the first to third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G, is defined as the first pattern film formation. The number of ejection heads 140R and 140G corresponding to the second and third pattern film formation regions 70R and 70G, which are pattern film formation regions having a smaller area than the region 70B, is arranged. In this embodiment, the ejection heads 140R and 140G corresponding to the second and third pattern film formation regions 70R and 70G are arranged one by one, and the ejection head 140B corresponding to the first pattern film formation region 70B is two. A total of four ejection heads 140 are provided. The ejection heads 140B, 140R, and 140G are sequentially arranged in the scanning direction following the arrangement order of the first to third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G in the scanning direction (Y direction). In the present embodiment, the first pattern film formation region 70B, the second pattern film formation region 70R, and the third pattern film formation region 70G are arranged in this order from the left side to the right side in FIG. The ejection head 140B, the ejection head 140R, and the ejection head 140G are sequentially arranged from the left side to the right side in FIG. As described above, by disposing the ejection heads 140B, 140R, and 140G in the order of arrangement of the first to third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G, the droplets 36 are efficiently ejected to the desired pattern film formation region. can do.

また、本実施形態では、基材７と吐出ヘッド１４０とが相対的に移動する走査方向（Ｙ方向）における第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇの幅の長さが異なっており、幅が長いパターン膜形成領域である第１パターン膜形成領域７０Ｂに対応する吐出ヘッド１４０Ｂの数を、第１パターン膜形成領域７０Ｂの幅の長さより短いパターン膜形成領域である第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇに対応する吐出ヘッド１４０Ｒ，１４０Ｇの数よりも多く配置している。このように、走査方向において幅の長さが短いパターン膜形成領域対して、他のパターン膜領域に対応する吐出ヘッド１４０の数を多くすることにより、幅の長さが長いパターン膜形成領域に対する液滴３６の吐出機会が増加し、容易に規定の塗布量に到達させることができる。 In the present embodiment, the widths of the first to third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G in the scanning direction (Y direction) in which the base material 7 and the ejection head 140 relatively move are different. The number of ejection heads 140B corresponding to the first pattern film formation region 70B, which is a pattern film formation region having a long width, is set to the second and second pattern film formation regions, which are shorter than the width of the first pattern film formation region 70B. More than the number of ejection heads 140R and 140G corresponding to the third pattern film formation regions 70R and 70G are arranged. In this way, by increasing the number of ejection heads 140 corresponding to other pattern film regions with respect to the pattern film formation region having a short width in the scanning direction, the pattern film formation region having a long width can be obtained. Opportunities for discharging the droplets 36 are increased, and the prescribed application amount can be easily reached.

なお、走査方向に対する第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇの幅に関して、幅が長いパターン膜形成領域である第１パターン膜形成領域７０Ｂの幅の長さが、幅が短いパターン膜形成領域である第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇの幅の長さのおよそｎ倍の場合に、第１パターン膜形成領域７０Ｂに対応する吐出ヘッド１４０Ｂの数を、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇに対応する吐出ヘッド１４０Ｒ，１４０Ｇの数のｎ倍以上に配置してもよい。本実施形態では、走査方向における第１パターン膜形成領域７０Ｂの幅の長さが、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇの幅の長さのおよそ２倍にあたるため、第１パターン膜形成領域７０Ｂに対応する吐出ヘッド１４０Ｂの数を、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇに対応する各吐出ヘッド１４０Ｒ，１４０Ｇの一個に対して２倍の二個を配置している。このように、パターン膜形成領域７０の幅の長さ比に基づいて吐出ヘッド１４０の数を規定することにより、各パターン膜形成領域に対する液滴３６の吐出を良好に行うことができる。 Regarding the widths of the first to third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G in the scanning direction, the width of the first pattern film formation region 70B, which is a pattern film formation region having a large width, is a pattern with a short width. When the width of the second and third pattern film formation regions 70R and 70G, which are film formation regions, is approximately n times the width, the number of ejection heads 140B corresponding to the first pattern film formation region 70B is set to the second and second pattern film formation regions 70B. The number of ejection heads 140R and 140G corresponding to the third pattern film formation regions 70R and 70G may be arranged n times or more. In the present embodiment, since the width of the first pattern film formation region 70B in the scanning direction is approximately twice the width of the second and third pattern film formation regions 70R and 70G, the first pattern film The number of ejection heads 140B corresponding to the formation region 70B is doubled to one of the ejection heads 140R and 140G corresponding to the second and third pattern film formation regions 70R and 70G. In this way, by defining the number of ejection heads 140 based on the length ratio of the widths of the pattern film formation regions 70, the liquid droplets 36 can be favorably ejected to each pattern film formation region.

（液滴吐出方法）
次に、第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇに対する吐出ヘッド１４０Ｂ，１４０Ｒ，１４０Ｇの液滴３６の吐出方法について説明する。図６は、パターン膜形成領域における液滴の着弾状態を示す模式図である。なお、同図において、基材７とヘッドユニット１４（吐出ヘッド１４０）とが一定の速度で相対的に移動（主走査方向：Ｙ方向）し、一回の吐出走査の過程において、各吐出ヘッド１４０Ｂ，１４０Ｒ，１４０Ｇから液滴３６が吐出され、吐出された液滴３６が第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇに着弾した様子を示している。また、説明を容易にするため、各吐出ヘッド１４０Ｂ，１４０Ｒ，１４０Ｇのノズル３１数を６個として表している。また、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇは同等の領域面積を有し、第１パターン膜形成領域７０Ｂは、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇはおよそ２倍の広さの領域を有する。また、本実施形態では、走査方向（Ｙ方向）における、第１パターン膜形成領域７０Ｂの幅の長さが、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇの幅の長さのおよそ２倍の長さを有している。 (Droplet ejection method)
Next, a method for discharging the droplets 36 of the discharge heads 140B, 140R, and 140G to the first to third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G will be described. FIG. 6 is a schematic diagram showing a landing state of a droplet in the pattern film formation region. In the figure, the substrate 7 and the head unit 14 (ejection head 140) move relatively at a constant speed (main scanning direction: Y direction), and each ejection head in the course of one ejection scanning. The droplets 36 are ejected from 140B, 140R, and 140G, and the ejected droplets 36 land on the first to third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G. For ease of explanation, the number of nozzles 31 of each ejection head 140B, 140R, 140G is represented as six. The second and third pattern film forming regions 70R and 70G have the same area, and the first pattern film forming region 70B is approximately twice as wide as the second and third pattern film forming regions 70R and 70G. It has the area. In the present embodiment, the width of the first pattern film formation region 70B in the scanning direction (Y direction) is approximately twice the width of the second and third pattern film formation regions 70R and 70G. Has a length of

まず、第３パターン膜形成領域７０Ｇに対する液滴３６の吐出方法について説明する。第３パターン膜形成領域７０Ｇに対して、吐出ヘッド１４０Ｇから液滴３６Ｇが吐出され、第３パターン膜形成領域７０Ｇに液滴３６Ｇが着弾する。具体的には、主走査駆動装置４２を駆動させ、基材７とヘッドユニット１４とを相対的に移動させる。そして、第３パターン膜形成領域７０Ｇと吐出ヘッド１４０Ｇとが対向した位置において、吐出ヘッド１４０Ｇに駆動信号が送信され、当該駆動信号に基づいて圧電素子３５が駆動し、当該駆動に伴ってノズル３１から液滴３６Ｇが吐出され、第３パターン膜形成領域７０Ｇに液滴３６Ｇ−１が着弾する。さらに続けて、液滴３６Ｇが吐出され、一回の走査において一のノズル３１毎に第３パターン膜形成領域７０Ｇに液滴３６Ｇ−１〜３６Ｇ−４が順に着弾する。従って、第３パターン膜形成領域７０Ｇには、吐出ヘッド１４０Ｇの６個のノズル３１からそれぞれ４滴が吐出されるので、合計して２４滴の液滴３６Ｇが着弾する。 First, a method for discharging the droplets 36 to the third pattern film formation region 70G will be described. The droplets 36G are discharged from the discharge head 140G to the third pattern film formation region 70G, and the droplets 36G land on the third pattern film formation region 70G. Specifically, the main scanning drive device 42 is driven to relatively move the base material 7 and the head unit 14. A drive signal is transmitted to the discharge head 140G at a position where the third pattern film formation region 70G and the discharge head 140G face each other, and the piezoelectric element 35 is driven based on the drive signal. A droplet 36G is ejected from the droplets, and the droplet 36G-1 lands on the third pattern film formation region 70G. Subsequently, the droplet 36G is discharged, and the droplets 36G-1 to 36G-4 land on the third pattern film forming region 70G in order for each nozzle 31 in one scan. Accordingly, four droplets are ejected from the six nozzles 31 of the ejection head 140G to the third pattern film formation region 70G, so that a total of 24 droplets 36G land.

第２パターン膜形成領域７０Ｒについても同様にして、第２パターン膜形成領域７０Ｒと吐出ヘッド１４０Ｒとが対向した位置において、吐出ヘッド１４０Ｒに駆動信号が送信され、当該駆動信号に基づいて圧電素子３５が駆動し、当該駆動に伴ってノズル３１から液滴３６Ｒが吐出され、第２パターン膜形成領域７０Ｒに液滴３６Ｒ−１が着弾する。さらに続けて、液滴３６Ｒが吐出され、一回の走査において一のノズル３１毎に第２パターン膜形成領域７０Ｒに液滴３６Ｒ−１〜３６Ｒ−４が順に着弾する。従って、第２パターン膜形成領域７０Ｒにも合計して、２４滴の液滴３６Ｒが着弾する。 Similarly, in the second pattern film formation region 70R, a drive signal is transmitted to the discharge head 140R at a position where the second pattern film formation region 70R and the discharge head 140R face each other, and the piezoelectric element 35 is based on the drive signal. Is driven, and a droplet 36R is ejected from the nozzle 31 in accordance with the driving, and the droplet 36R-1 lands on the second pattern film forming region 70R. Subsequently, the droplet 36R is ejected, and the droplets 36R-1 to 36R-4 land on the second pattern film formation region 70R in order for each nozzle 31 in one scan. Accordingly, a total of 24 droplets 36R land on the second pattern film formation region 70R.

次に、第１パターン膜形成領域７０Ｂに対する液滴３６の吐出方法について説明する。第１パターン膜形成領域７０Ｂに対して、二つの吐出ヘッド１４０Ｂ−１，１４０Ｂ−２から液滴３６Ｂが吐出され、第１パターン膜形成領域７０Ｂに液滴３６Ｂが着弾する。具体的には、主走査駆動装置４２を駆動させ、基材７とヘッドユニット１４とを相対的に移動させる。そして、まず、第１パターン膜形成領域７０Ｂと吐出ヘッド１４０Ｂ−１とが対向した位置において、吐出ヘッド１４０Ｂ−１に駆動信号が送信され、当該駆動信号に基づいて圧電素子３５が駆動し、当該駆動に伴ってノズル３１から液滴３６Ｂが吐出され、第１パターン膜形成領域７０Ｂに液滴３６Ｂ−１が着弾する。さらに続けて、液滴３６Ｂが吐出され、吐出ヘッド１４０Ｂ−１の一回の走査において第１パターン膜形成領域７０Ｂに液滴３６Ｂ−１〜３６Ｂ−４が順に着弾する。従って、吐出ヘッド１４０Ｂ−１から第１パターン膜形成領域７０Ｂには、合計して、２４滴の液滴３６Ｂが着弾する。 Next, a method for discharging the droplets 36 to the first pattern film formation region 70B will be described. The droplets 36B are ejected from the two ejection heads 140B-1 and 140B-2 to the first pattern film formation region 70B, and the droplets 36B land on the first pattern film formation region 70B. Specifically, the main scanning drive device 42 is driven to relatively move the base material 7 and the head unit 14. First, a drive signal is transmitted to the ejection head 140B-1 at a position where the first pattern film formation region 70B and the ejection head 140B-1 face each other, and the piezoelectric element 35 is driven based on the drive signal, The liquid droplet 36B is ejected from the nozzle 31 with the driving, and the liquid droplet 36B-1 lands on the first pattern film forming region 70B. Subsequently, the droplet 36B is ejected, and the droplets 36B-1 to 36B-4 land on the first pattern film formation region 70B in order in one scan of the ejection head 140B-1. Accordingly, a total of 24 droplets 36B land on the first pattern film formation region 70B from the ejection head 140B-1.

さらに、基材７の走査に伴い、第１パターン膜形成領域７０Ｂと吐出ヘッド１４０Ｂ−２とが対向した位置において、吐出ヘッド１４０Ｂ−２に駆動信号が送信され、当該駆動信号に基づいて圧電素子３５が駆動し、当該駆動に伴ってノズル３１から液滴３６Ｂが吐出され、第１パターン膜形成領域７０Ｂに液滴３６Ｂ−５が着弾する。さらに続けて、液滴３６Ｂが吐出され、吐出ヘッド１４０Ｂ−２の一回の走査において第１パターン膜形成領域７０Ｂに液滴３６Ｂ−５〜３６Ｂ−８が順に着弾する。従って、吐出ヘッド１４０Ｂ−２の第１パターン膜形成領域７０Ｂには、合計して、２４滴の液滴３６Ｂが着弾する。これにより、最終的に、第１パターン膜形成領域７０Ｂには、４８滴の液滴３６Ｂが着弾する。これは、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇのそれぞれの着弾数（２４滴）の２倍の４８滴ではあるが、吐出ヘッド１４０単位で換算した場合には、吐出ヘッド１４０Ｂ−１，１４０Ｂ−２，１４０Ｒ，１４０Ｇのそれぞれの吐出回数は同等となる。 Further, as the substrate 7 is scanned, a driving signal is transmitted to the ejection head 140B-2 at a position where the first pattern film forming region 70B and the ejection head 140B-2 face each other, and a piezoelectric element is generated based on the driving signal. 35 is driven, and the droplet 36B is ejected from the nozzle 31 along with the driving, and the droplet 36B-5 is landed on the first pattern film forming region 70B. Subsequently, the droplet 36B is discharged, and the droplets 36B-5 to 36B-8 land on the first pattern film forming region 70B in order in one scan of the discharge head 140B-2. Accordingly, a total of 24 droplets 36B land on the first pattern film formation region 70B of the ejection head 140B-2. As a result, 48 droplets 36B finally land on the first pattern film formation region 70B. This is 48 drops, which is twice the number of landings (24 drops) in each of the second and third pattern film forming regions 70R and 70G, but when converted in units of the discharge head 140, the discharge head 140B-1 , 140B-2, 140R, and 140G have the same number of discharges.

なお、さらに、パターン膜Ｒ，Ｇ，Ｂの膜厚が必要な場合には、上記の液滴吐出を繰り返し（複数回の走査）行い、第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇに、さらに、液滴３６を吐出してもよい。 Furthermore, when the film thicknesses of the pattern films R, G, and B are necessary, the above-described droplet discharge is repeated (scanning a plurality of times), and the first to third pattern film forming regions 70B, 70R, and 70G are performed. In addition, the droplets 36 may be discharged.

従って、上記の実施形態によれば、以下に示す効果がある。 Therefore, according to the above embodiment, the following effects can be obtained.

第１〜第３パターン膜形成領域７０Ｂ，７０Ｒ，７０Ｇのうち、他の領域に比べて領域の面積が広い第１パターン膜形成領域７０Ｂに対応する吐出ヘッド１４０Ｂの数を、第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇに対応する各吐出ヘッド１４０Ｒ，１４０Ｇの数よりも多く配置した。これにより、広いパターン膜形成領域の第１パターン膜形成領域７０Ｂと、狭いパターン膜形成領域の第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇに対して、吐出ヘッド１４０Ｂ−１，１４０Ｂ−２，１４０Ｒ，１４０Ｇあたりの吐出回数が同等となり、吐出ヘッド１４０の消耗頻度を平均化することができる。 Among the first to third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G, the number of ejection heads 140B corresponding to the first pattern film formation region 70B having a larger area than the other regions is set to the second, third, and third pattern film formation regions 70B, 70R, and 70G. More than the number of ejection heads 140R and 140G corresponding to the pattern film formation regions 70R and 70G are arranged. As a result, the ejection heads 140B-1, 140B-2, 140B-2, 140B-2, 140B-2 are formed for the first pattern film formation region 70B in the wide pattern film formation region and the second and third pattern film formation regions 70R, 70G in the narrow pattern film formation region. The number of discharges per 140R and 140G is equal, and the consumption frequency of the discharge head 140 can be averaged.

なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。 In addition, it is not limited to said embodiment, The following modifications are mentioned.

（変形例１）上記実施形態では、第１パターン膜形成領域７０Ｂに対応する二つの吐出ヘッド１４０Ｂ−１，１４０Ｂ−２を配置したが、これに限定されない。例えば、図７に示すように、一つの吐出ヘッド１４０Ｂ−３を配置してもよい。この場合において、吐出ヘッド１４０Ｂ−３のノズル３１の数を、他の第２，第３パターン膜形成領域７０Ｒ，７０Ｇに対応する吐出ヘッド１４０Ｒ，１４０Ｇのそれぞれのノズル３１の数よりも多く備える。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。 (Modification 1) In the above embodiment, the two ejection heads 140B-1 and 140B-2 corresponding to the first pattern film formation region 70B are arranged, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 7, one ejection head 140B-3 may be arranged. In this case, the number of nozzles 31 of the ejection head 140B-3 is larger than the number of nozzles 31 of the ejection heads 140R and 140G corresponding to the other second and third pattern film formation regions 70R and 70G. Even if it does in this way, the same effect as the above can be acquired.

（変形例２）上記実施形態では、２種類の領域面積の広さを有するそれぞれのパターン膜領域に対応する吐出ヘッド１４０の配置について説明したが、３種類以上の異なる領域面積の広さを有するそれぞれのパターン膜領域に対応して吐出ヘッド１４０を配置してもよい。例えば、図８に示すように、最も領域面積が広い第１パターン膜形成領域７０Ｂと、第１パターン膜形成領域７０Ｂの領域面積のほぼ１／２の広さを有する第２パターン膜形成領域７０Ｒと、第１パターン膜形成領域７０Ｂの領域面積のほぼ１／３の広さを有する第３パターン膜形成領域７０Ｇのそれぞれに対応して吐出ヘッド１４０を配置してもよい。この場合において、第１パターン膜形成領域７０Ｂに対応して三つの吐出ヘッド１４０Ｂ−４を配置し、第２パターン膜形成領域７０Ｒに対応して二つの吐出ヘッド１４０Ｒ−４を配置し、第３パターン膜形成領域７０Ｇに対応して一つの吐出ヘッド１４０Ｇ−４を配置する。このように、パターン膜形成領域が広くなるにつれ、或いは、走査方向におけるパターン膜形成領域の幅の長さが長くなるにつれ、それぞれのパターン膜形成領域に対応する吐出ヘッド１４０の数を多くする。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。 (Modification 2) In the above embodiment, the arrangement of the ejection heads 140 corresponding to the respective pattern film regions having two types of area areas has been described. The ejection head 140 may be arranged corresponding to each pattern film region. For example, as shown in FIG. 8, the first pattern film formation region 70B having the largest region area and the second pattern film formation region 70R having a width approximately half the region area of the first pattern film formation region 70B. In addition, the ejection head 140 may be arranged corresponding to each of the third pattern film formation region 70G having a width of about 1/3 of the area of the first pattern film formation region 70B. In this case, three ejection heads 140B-4 are arranged corresponding to the first pattern film formation region 70B, two ejection heads 140R-4 are arranged corresponding to the second pattern film formation region 70R, and the third One ejection head 140G-4 is arranged corresponding to the pattern film formation region 70G. In this way, as the pattern film formation region becomes wider or as the width of the pattern film formation region in the scanning direction becomes longer, the number of ejection heads 140 corresponding to each pattern film formation region is increased. Even if it does in this way, the same effect as the above can be acquired.

（変形例３）上記実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの３種類のパターン膜の色要素について説明したが、これに限定されない。例えば、１または２種類の色要素を形成する場合に適用してもよい。さらに、４種類以上の色要素を形成する場合に適用してもよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。 (Modification 3) In the above embodiment, the color elements of three types of pattern films of R, G, and B have been described, but the present invention is not limited to this. For example, the present invention may be applied when forming one or two kinds of color elements. Furthermore, the present invention may be applied when four or more types of color elements are formed. Even if it does in this way, the same effect as the above can be acquired.

（変形例４）上記実施形態の液滴吐出装置１では、有機ＥＬ装置を例に説明したが、これに限定されない。例えば、カラーフィルター、プラズマ・ディスプレイ・パネル等に適用してもよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。 (Modification 4) In the droplet discharge device 1 of the above embodiment, the organic EL device has been described as an example. However, the present invention is not limited to this. For example, you may apply to a color filter, a plasma display panel, etc. Even if it does in this way, the same effect as the above can be acquired.

１…液滴吐出装置、７…基材、１２…キャリッジ、１４…ヘッドユニット、３０…ノズルプレート、３１…ノズル、３６，３６Ｂ，３６Ｇ，３６Ｒ…液滴、６８…基板、６９…区画部、７０…パターン膜形成領域、７０Ｂ…第１パターン膜形成領域、７０Ｒ…第２パターン膜形成領域、７０Ｇ…第３パターン膜形成領域、１４０，１４０Ｂ−１，１４０Ｂ−２，１４０Ｂ−３，１４０Ｂ−４，１４０Ｇ，１４０Ｇ−４，１４０Ｒ，１４０Ｒ−４…吐出ヘッド。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Droplet discharge apparatus, 7 ... Base material, 12 ... Carriage, 14 ... Head unit, 30 ... Nozzle plate, 31 ... Nozzle, 36, 36B, 36G, 36R ... Droplet, 68 ... Substrate, 69 ... Partition part, 70 ... Pattern film formation region, 70B ... First pattern film formation region, 70R ... Second pattern film formation region, 70G ... Third pattern film formation region, 140, 140B-1, 140B-2, 140B-3, 140B- 4,140G, 140G-4,140R, 140R-4 ... discharge head.

Claims

A droplet discharge apparatus including a discharge head that discharges droplets toward a pattern film forming region provided on a substrate,
While having a plurality of the ejection heads that eject the droplets corresponding to the width of the pattern film formation region,
Of the pattern film formation regions, the number of the ejection heads corresponding to a wide pattern film formation region is larger than the number of the ejection heads corresponding to a pattern film formation region having a smaller area than the wide pattern film formation region. A droplet discharge device characterized by being arranged.

The droplet discharge device according to claim 1,
A plurality of ejection heads corresponding to each pattern film formation region are arranged in the scanning direction following the order of arrangement of the pattern film formation regions in the scanning direction in which the base material and the ejection head move relatively. A droplet discharge device characterized by the above.

The droplet discharge device according to claim 1 or 2,
When the width of the pattern film formation region in the scanning direction in which the base material and the discharge head move relatively is different, the number of the discharge heads corresponding to the pattern film formation region having a long width is set. A liquid droplet ejection apparatus, wherein the number of ejection heads corresponding to the pattern film formation region with a shorter width than the pattern film formation region with a larger width is arranged.

In the droplet discharge device according to claim 3,
When the width of the long pattern film formation region is n times the width of the short pattern film formation region,
The droplet discharge device, wherein the number of the discharge heads corresponding to the long pattern film formation region is arranged to be n times or more the number of the discharge heads corresponding to the short pattern film formation region .