JP2010235808A - Method for producing porous film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a porous film having pores each having the size larger than before. <P>SOLUTION: A method for producing the porous film comprises the steps of: arranging a liquid film 31, which is formed from a polymer solution obtained by dissolving a polymer in a solvent, in a chamber 82 of an apparatus 81 for producing the porous film; mixing the humidified air from a humidifier 91 with the solvent gas from a solvent gas generator 93 in a mixer 95 to prepare a gaseous mixture; sending the gaseous mixture into the chamber 82 to form, grow and array waterdrops on the liquid film 31; sending air to the mixer 95 from a third blower 92 without making the air pass through the humidifier 91 and stopping the supply of the solvent gas to the mixer 95 when the waterdrops are arrayed; vaporizing the solvent from the liquid film 31; and vaporizing the waterdrops when the liquid film 31 has no fluidity. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、複数の孔を有する多孔フィルムの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a porous film having a plurality of holes.

光学分野、電子分野、医療分野では、μmスケールの微細な孔が多数形成されて蜂の巣状の構造、すなわちハニカム構造をもつ多孔フィルムが用いられるようになってきている。このような多孔フィルムは、光学分野、電子分野では、集積度の向上や情報量の高密度化、画像情報の高精細化に寄与し、医療分野では、例えば細胞培養の場としての培養基材として用いられる。多孔フィルムの中でもポリマーで構成されたものは、可撓性があり、使用時での形状の自由度が大きいので、用途に関し、より広がりをみせている。   In the optical field, the electronic field, and the medical field, a large number of micron-scale pores are formed, and a porous film having a honeycomb structure, that is, a honeycomb structure, has been used. Such a porous film contributes to improving the degree of integration, increasing the amount of information, and increasing the definition of image information in the optical and electronic fields, and in the medical field, for example, a culture substrate as a place for cell culture. Used as Among the porous films, those made of a polymer are flexible and have a large degree of freedom in shape when in use, so that they have a wider range of applications.

ポリマーからなる多孔フィルムの製造方法としては、例えば、特許文献1のように、ポリマーが溶剤に溶解されたポリマー溶液を流延して液膜にし、この液膜に、雰囲気中の水分を結露させて水滴を形成し、溶剤と水滴とを蒸発させる方法がある。このようないわゆる結露法では、結露によって生じた水滴が液膜に沈みこみ、その水滴が蒸発することにより水滴部分が孔となる。そして、この方法で得られるポリマーフィルムは、孔の大きさが数μmレベルの非常に微細なハニカム構造である。   As a method for producing a porous film made of a polymer, for example, as in Patent Document 1, a polymer solution in which a polymer is dissolved in a solvent is cast into a liquid film, and moisture in the atmosphere is condensed on the liquid film. There is a method of forming water droplets and evaporating the solvent and water droplets. In such a so-called condensation method, water droplets generated by condensation sink into the liquid film, and the water droplets evaporate to form holes. The polymer film obtained by this method has a very fine honeycomb structure with a pore size of a few μm level.

従来は、構造のさらなる微細化を求めて孔をより小さく形成する方向に多孔フィルムの製造方法が提案されてきたが、最近では、孔の最適なサイズが用途毎にあることが見いだされてきており、10μm〜数10μmレベルの孔が複数形成された多孔フィルムが望まれるようになってきている。   Conventionally, a method for producing a porous film has been proposed in the direction of forming pores smaller in order to further refine the structure, but recently, it has been found that there is an optimum size of each hole for each application. Therefore, a porous film in which a plurality of pores having a level of 10 μm to several tens of μm is formed has been desired.

特開2001−157574号公報JP 2001-157574 A

しかしながら、特許文献1を初めとする従来の多孔フィルムの製造方法では、10μm〜数10μmという大きなサイズの複数の孔を形成させることはできない。例えば、大きなサイズの孔になるように液膜を比較的厚く形成して水滴を大きく成長させようとしても、小さいうちに成長が止まってしまう。その結果、図11及び図12のように、得られるフィルム2は、フィルム面2aの法線方向に投影したときの孔3の径D1とフィルム面2aにおける孔3の開口径D2とがいずれも10μmに満たない程度に小さく、また孔の深さも浅く、孔3と孔3との中心間距離DCに対して孔3の径D1及び開口径D2が小さすぎてハニカム構造とはならない。   However, the conventional method for producing a porous film including Patent Document 1 cannot form a plurality of holes having a large size of 10 μm to several tens of μm. For example, even if an attempt is made to grow a water droplet large by forming a liquid film relatively thick so as to form a large-sized hole, the growth stops while it is small. As a result, as shown in FIGS. 11 and 12, the obtained film 2 has both the diameter D1 of the hole 3 when projected in the normal direction of the film surface 2a and the opening diameter D2 of the hole 3 in the film surface 2a. It is small enough to be less than 10 μm and the depth of the hole is shallow, and the diameter D1 and the opening diameter D2 of the hole 3 are too small with respect to the center-to-center distance DC between the hole 3 and the hole 3, so that the honeycomb structure is not formed.

このように水滴の成長が小さいうちに止まるのは、水滴が成長する間に、液膜のなんらかの性状が経時的に変化していくことに起因すると、本発明者らは考えた。そこで、水滴の成長が十分に進むまで、ポリマー溶液中が変化しないように、粘度をより低くしたポリマー溶液で液膜を形成するという方法が考えられる。粘度が低いポリマー溶液は、ポリマー濃度を低くすることでつくることができる。しかし、この方法では、液膜におけるポリマー量が少なすぎて、例えば近隣の水滴同士がつながってしまう等、形成される水滴の大きさがあまりに不揃いになってしまったり、水滴とはいえないような水膜が部分的に形成されたりすることがある。したがって、この液膜から溶剤と水滴とを蒸発させても、複数の孔が均一に形成された多孔フィルムとはならずに、図13のように不均一な凹凸があるフィルム6となってしまう。また、ポリマー濃度が低い液膜ほど蒸発させなければならない溶媒量が多くなってしまうので、環境への負荷も高くなってしまうという問題がある。   The present inventors considered that the reason why the growth of the water droplets stopped while the water droplets were small was due to some property of the liquid film changing with time during the growth of the water droplets. Therefore, a method is conceivable in which a liquid film is formed with a polymer solution having a lower viscosity so that the inside of the polymer solution does not change until the growth of water droplets sufficiently proceeds. A polymer solution having a low viscosity can be prepared by lowering the polymer concentration. However, with this method, the amount of polymer in the liquid film is too small, for example, nearby water droplets are connected to each other, and the size of the formed water droplets is too uneven or not to be a water droplet. A water film may be partially formed. Therefore, even if the solvent and water droplets are evaporated from the liquid film, the film does not become a porous film having a plurality of holes formed uniformly, but becomes a film 6 having uneven unevenness as shown in FIG. . Moreover, since the amount of the solvent that must be evaporated increases as the liquid film has a lower polymer concentration, there is a problem that the load on the environment also increases.

さらに、水滴を大きくする場合ほど、液膜をより厚く形成しなければならない。ところが、液膜が厚いほど、水滴と溶剤とを蒸発させる間に、沈んだ水滴で形成されるはずの孔が形状を保持できずにハニカム構造の多孔フィルムが得られなくなってしまい、この場合にも図13のように不均一な凹凸をもつフィルム6となってしまう。   Furthermore, the larger the water droplet, the thicker the liquid film must be formed. However, the thicker the liquid film, the more the pores that should have been formed by the submerged water droplets cannot be maintained during the evaporation of the water droplets and the solvent, and the porous film having the honeycomb structure cannot be obtained. As shown in FIG. 13, the film 6 has uneven unevenness.

そこで、本発明は、10μm〜数10μmと従来よりも径が大きいにも関わらず、孔のサイズが均一であるハニカム構造の多孔フィルムを提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a porous film having a honeycomb structure in which the pore size is uniform, although the diameter is 10 μm to several tens of μm larger than the conventional one.

本発明は、複数の孔がフィルム面に形成された多孔フィルムの製造方法において、ポリマーが溶剤に溶解した溶液に、雰囲気中の水分を結露させて水滴を形成させる水滴形成工程と、前記水滴が蒸発しないように前記溶液から溶剤を蒸発させる溶剤蒸発工程と、水滴を蒸発させる水滴蒸発工程と、この溶剤蒸発工程前に前記溶剤が溶液から蒸発しないように、水滴形成工程の間に、溶液上に溶剤ガスを供給する溶剤ガス供給工程とを有することを特徴として構成されている。   The present invention provides a method for producing a porous film in which a plurality of pores are formed on a film surface, a water droplet forming step in which water in the atmosphere is condensed in a solution in which a polymer is dissolved in a solvent to form water droplets; and A solvent evaporation step for evaporating the solvent from the solution so as not to evaporate, a water droplet evaporation step for evaporating water droplets, and a water droplet forming step before the solvent evaporation step so that the solvent does not evaporate from the solution. And a solvent gas supply step for supplying the solvent gas to the substrate.

前記溶剤ガス供給工程では、以下の(1)〜(3)のいずれかひとつを実施することが好ましく、水滴形成工程では、加湿空気を溶液上に供給することが好ましい。
(1)溶液をチャンバ内に配して、前記溶剤ガスをチャンバの内部に送り込むことにより、溶液上に溶剤ガスを供給すること。
(2)溶液と溶剤ガスになる液体とをチャンバ内に配して、液体を前記チャンバ内で蒸発させることにより、溶液上に溶剤ガスを供給すること。
(3)溶液をチャンバ内に配して、溶液から蒸発した溶剤を溶剤ガスとして用いること。
In the solvent gas supply step, any one of the following (1) to (3) is preferably performed, and in the water droplet formation step, humidified air is preferably supplied onto the solution.
(1) Distributing the solution into the chamber and feeding the solvent gas into the chamber to supply the solvent gas onto the solution.
(2) Supplying the solvent gas onto the solution by disposing the solution and the liquid to be the solvent gas in the chamber and evaporating the liquid in the chamber.
(3) Disposing the solution in the chamber and using the solvent evaporated from the solution as the solvent gas.

本発明の多孔フィルムの製造方法によると、10μm〜数10μmと従来よりも径が大きいにも関わらず、孔のサイズが均一であるハニカム構造の多孔フィルムが得られる。   According to the method for producing a porous film of the present invention, a porous film having a honeycomb structure with a uniform pore size can be obtained although the diameter is 10 μm to several tens of μm larger than the conventional one.

本発明による多孔フィルムの平面図である。It is a top view of the porous film by this invention. 図1のII−II線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the II-II line of FIG. 多孔フィルムの製造工程の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing process of a porous film. 液膜形成方法の概略図である。It is the schematic of the liquid film formation method. 本発明の第1の実施態様である多孔フィルム製造装置の概略図である。It is the schematic of the porous film manufacturing apparatus which is the 1st embodiment of this invention. 図5のVI−VI線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the VI-VI line of FIG. 第2の実施態様である多孔フィルム製造装置の概略図である。It is the schematic of the porous film manufacturing apparatus which is a 2nd embodiment. 第3の実施態様である多孔フィルム製造装置の概略図である。It is the schematic of the porous film manufacturing apparatus which is a 3rd embodiment. 実施例7で得られた多孔フィルム10の光学顕微鏡写真である。4 is an optical micrograph of the porous film 10 obtained in Example 7. 比較例1で得られた多孔フィルムの光学顕微鏡写真である。2 is an optical micrograph of a porous film obtained in Comparative Example 1. 従来の多孔フィルムの製造方法を用いた場合の多孔フィルムの平面図である。It is a top view of the porous film at the time of using the manufacturing method of the conventional porous film. 図11のXII−XII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XII-XII line | wire of FIG. 従来技術により製造した場合のフィルムの断面図である。It is sectional drawing of the film at the time of manufacturing by a prior art.

図1及び図2に示すように、多孔フィルム10は、一方のフィルム面(以下、第1表面と称する)10aに孔11が複数形成されてある。孔11は、図2のように、他方のフィルム面(以下、第2表面と称する)10bには貫通せずに第1表面10aに窪みとして形成される場合もあるし、多孔フィルム10を厚み方向で突き抜けるように第1表面10aから第2表面10bに貫通して形成される場合もある。   As shown in FIGS. 1 and 2, the porous film 10 has a plurality of holes 11 formed on one film surface (hereinafter referred to as a first surface) 10 a. As shown in FIG. 2, the hole 11 may be formed as a recess in the first surface 10a without penetrating through the other film surface (hereinafter referred to as the second surface) 10b. In some cases, the first surface 10a penetrates the second surface 10b so as to penetrate in the direction.

複数の孔11は、フィルム面に沿って面状に分布するように形成されている。複数の孔11は、多孔フィルム10が蜂の巣状のいわゆるハニカム構造となるように形成されており、図2のように個々に独立していてもよいし、あるいはフィルム面に沿った方向で内部に連通路が形成されるように隣り合う孔11と孔11とが互いに非独立であってもよい。孔径をD1、互いに隣り合う孔11と孔11との中心間距離をDCとすると、D1<DCとなるように多孔フィルム10をつくると孔11が互いに独立した態様となるし、D1≧DCとなるように多孔フィルムをつくると、複数の孔11が非独立になって内部に連通路が形成される。   The plurality of holes 11 are formed so as to be distributed in a planar shape along the film surface. The plurality of holes 11 are formed so that the porous film 10 has a honeycomb-shaped so-called honeycomb structure, and may be individually independent as shown in FIG. 2, or may be provided in the direction along the film surface. The adjacent hole 11 and the hole 11 may be independent from each other so that a communication path is formed. When the hole diameter is D1 and the distance between the centers of the adjacent holes 11 and the holes 11 is DC, when the porous film 10 is formed so that D1 <DC, the holes 11 become independent from each other, and D1 ≧ DC When the porous film is made as described above, the plurality of holes 11 become non-independent and a communication path is formed inside.

孔11は、略一定の形状及びサイズであり、規則的に配列している。なお、この配列の態様と孔11のサイズとによっては、孔11による第1表面10aの個々の開口11aの形状は、図2のように円である場合もあるし、6角形等の多角形である場合もある。   The holes 11 have a substantially constant shape and size, and are regularly arranged. Depending on the arrangement and the size of the holes 11, the shape of each opening 11a of the first surface 10a by the holes 11 may be a circle as shown in FIG. 2, or a polygon such as a hexagon. Can be.

孔径D1は開口11aの径(以下、開口径と称する)D2よりも大きい。孔径D1が1μm以上120μm以下の範囲、開口径D2が1μm以上100μm以下の範囲というように、従来の多孔フィルムと比べて孔径D1及び開口径D2が大きいにも関わらず、D1、D2がそれぞれ一定である。また、厚みTは1μm以上200μm以下の範囲である。   The hole diameter D1 is larger than the diameter of the opening 11a (hereinafter referred to as the opening diameter) D2. D1 and D2 are constant in spite of the large pore diameter D1 and opening diameter D2 compared to the conventional porous film, such as the pore diameter D1 in the range of 1 μm to 120 μm and the opening diameter D2 in the range of 1 μm to 100 μm. It is. The thickness T is in the range of 1 μm to 200 μm.

本発明によると、孔11の容積をV1、孔11の容積V1を含めた多孔フィルム10の体積をV2とするときに、100×V1/V2で求める空隙率(%)が30%以上80%以下の範囲となるように孔11を形成することができる。なお上記の体積V2とはすなわち、多孔フィルム10に孔11が形成されていないと仮定して第1表面10a及び第2表面10bとがともに平坦ないわゆる平膜である場合の体積に等しい。   According to the present invention, when the volume of the hole 11 is V1, and the volume of the porous film 10 including the volume V1 of the hole 11 is V2, the porosity (%) obtained by 100 × V1 / V2 is 30% or more and 80%. The holes 11 can be formed so as to be in the following range. The volume V2 is equal to the volume in the case where both the first surface 10a and the second surface 10b are flat so-called flat films on the assumption that the pores 11 are not formed in the porous film 10.

多孔フィルム10の製造工程について、図3を参照しながら説明する。図3の横軸は時間tを示す。図3に示すように、多孔フィルム10は、ポリマーが溶剤に溶解したポリマー溶液の液面に、雰囲気中の水分を結露させて目的とする大きさの水滴を形成する水滴形成工程21と、形成された水滴ができるだけ蒸発しないように、ポリマー溶液から溶剤を蒸発させる溶剤蒸発工程22と、ポリマー溶液に沈んだ水滴を蒸発させる水滴蒸発工程23と、ポリマー溶液に含まれてある溶剤が蒸発しないようにポリマー溶液の液面上に溶剤ガスを供給する溶剤ガス供給工程24とを実施することにより製造する。   The manufacturing process of the porous film 10 will be described with reference to FIG. The horizontal axis in FIG. 3 indicates time t. As shown in FIG. 3, the porous film 10 is formed with a water droplet forming step 21 in which moisture in the atmosphere is condensed on the liquid surface of the polymer solution in which the polymer is dissolved in a solvent to form water droplets of a desired size. The solvent evaporation step 22 for evaporating the solvent from the polymer solution, the water droplet evaporation step 23 for evaporating the water droplets submerged in the polymer solution, and the solvent contained in the polymer solution do not evaporate so that the generated water droplets are not evaporated as much as possible. And a solvent gas supply step 24 for supplying a solvent gas onto the liquid surface of the polymer solution.

水滴形成工程21は、ポリマー溶液の液面で、雰囲気中の水分を凝縮させて極微小な水滴を発生させる発生工程21aと、発生した水滴を成長させて大きくする成長工程21bと、所望の大きさに成長した複数の水滴がポリマー溶液の液面に規則的に並ぶように配列させる配列工程21cとからなる。図3においては、発生工程21aの開始時(以下、結露開始時と称する)をP1、成長工程21bの開始時(以下、成長開始時と称する)をP2、配列工程21cの開始時(以下、配列開始時と称する)をP3とする。   The water droplet formation step 21 includes a generation step 21a for condensing moisture in the atmosphere on the liquid surface of the polymer solution to generate extremely small water droplets, a growth step 21b for growing the generated water droplets to enlarge them, and a desired size. The arrangement step 21c arranges the plurality of grown water droplets so that they are regularly arranged on the liquid surface of the polymer solution. In FIG. 3, the start time of the generation process 21a (hereinafter referred to as the start of condensation) is P1, the start time of the growth process 21b (hereinafter referred to as the start of growth) is P2, and the start time of the arrangement process 21c (hereinafter referred to as the start of condensation). P3 is referred to as the time when the arrangement starts.

図3では、発生工程21aから成長工程21bに、成長開始時P2で移行するように表すが、両工程の時間的境界は明確ではなく、発生工程21aが終了する前に成長工程21bが始まる場合のように両工程21a,21bが時間的に重なりあう。つまり、極微小な水滴を新たに発生させることと既に生じてある水滴が成長することとが同時に進行する時間がある。また、成長工程21bと配列工程21cとの時間的境界についても同様に、明確ではなく、成長工程21から配列工程21cに移行した後であっても、水滴が成長し続けてよい。   In FIG. 3, the transition from the generation step 21a to the growth step 21b is shown as shifting at the start of growth P2, but the time boundary between the two steps is not clear, and the growth step 21b starts before the generation step 21a ends. Thus, both the steps 21a and 21b overlap in time. That is, there is a time during which the generation of a very small water droplet and the growth of a water droplet that has already occurred proceed simultaneously. Similarly, the temporal boundary between the growth step 21b and the arrangement step 21c is not clear, and water droplets may continue to grow even after the growth step 21 has shifted to the arrangement step 21c.

次に、溶剤蒸発工程22を開始する。溶剤蒸発の開始時P4には、溶剤を蒸発させるためにポリマー溶液の温度を上昇させるので、この温度上昇により水滴形成工程21は終了する。しかし、水滴の成長が止まるまでには、多少なりとも時間を要するので、実際に水滴の成長が止まるタイミングは溶剤蒸発開始時P4以降となる。このように、配列工程21cと溶剤蒸発工程22との境界は明確ではない。この溶剤蒸発工程22では、ポリマー溶液の流動性がなくなる程度にまで溶剤を蒸発させる。ポリマー溶液の流動性がなくなったら、溶剤とともに水滴が蒸発するようにポリマー溶液の温度を上昇させて水滴蒸発工程23を始める。したがって、水滴蒸発開始時P5以降も、溶剤蒸発工程22を継続する。そして、水滴と溶剤とが蒸発すると多孔フィルム10が得られる。   Next, the solvent evaporation step 22 is started. At the start of solvent evaporation P4, the temperature of the polymer solution is raised in order to evaporate the solvent, and thus the water droplet forming step 21 is completed by this temperature rise. However, since it takes some time before the growth of water droplets stops, the timing at which the growth of water droplets actually stops is after P4 at the start of solvent evaporation. Thus, the boundary between the alignment step 21c and the solvent evaporation step 22 is not clear. In this solvent evaporation step 22, the solvent is evaporated to such an extent that the fluidity of the polymer solution is lost. When the fluidity of the polymer solution is lost, the temperature of the polymer solution is raised so that the water droplets evaporate together with the solvent, and the water droplet evaporation step 23 is started. Therefore, the solvent evaporation step 22 is continued after the water droplet evaporation start time P5. And when a water droplet and a solvent evaporate, the porous film 10 will be obtained.

水滴形成工程21の間に実施する溶剤ガス供給工程24でポリマー溶液の液面上に供給する溶剤ガスは、ポリマー溶液に含まれる溶剤と同じ物質である。これを気体として供給することにより、ポリマー溶液からの溶剤の蒸発を抑制する。しかし、これは、溶剤がポリマー溶液から蒸発しないように見える、いわゆる見かけ上の非蒸発であり、ポリマー溶液の液面上に存在する溶剤ガスとポリマー溶液中の溶剤とが平衡関係にあればよい。つまり、このように溶剤ガスの圧力が飽和蒸気圧であるように維持されることが好ましく、飽和蒸気圧が維持されるように液面上の溶剤ガスの濃度を保持する。   The solvent gas supplied onto the liquid surface of the polymer solution in the solvent gas supply step 24 performed during the water droplet forming step 21 is the same substance as the solvent contained in the polymer solution. By supplying this as a gas, evaporation of the solvent from the polymer solution is suppressed. However, this is a so-called apparent non-evaporation in which the solvent does not seem to evaporate from the polymer solution, and the solvent gas existing on the liquid surface of the polymer solution and the solvent in the polymer solution need only be in an equilibrium relationship. . That is, it is preferable to maintain the pressure of the solvent gas at the saturated vapor pressure in this way, and the concentration of the solvent gas on the liquid surface is maintained so that the saturated vapor pressure is maintained.

ただし、液面上に存在する溶剤ガスとポリマー溶液中の溶剤とは厳密な平衡関係ではなくてもよい。例えば、外部から新たな溶剤ガスを液面上の雰囲気に送り込むことができない場合には、外部空間と仕切るチャンバ内にポリマー溶液を収容し、ポリマー溶液からの溶剤の少量の蒸発を許容して、この蒸発により液面上の雰囲気に溶剤ガスを存在させてもよい。溶剤ガスをポリマー溶液自身から雰囲気中に供給することになるので、溶剤の蒸発がある程度まで進むまでは、上記のような平衡関係ではなくても十分な効果が得られる。また、平衡関係を超えて、液面上の溶剤ガスの圧力(以降、溶剤蒸気圧と称する)が飽和蒸気圧よりも大きな圧力となるように、溶剤ガスを供給してもよいが、溶剤蒸気圧が飽和蒸気圧よりも大きすぎると溶剤ガスがポリマー溶液の液面に凝縮してしまうことがあるので、飽和蒸気圧に達する程度が好ましい。   However, the solvent gas existing on the liquid surface and the solvent in the polymer solution may not have a strict equilibrium relationship. For example, when a new solvent gas cannot be sent from the outside to the atmosphere above the liquid level, the polymer solution is accommodated in a chamber that is partitioned from the external space, and a small amount of the solvent is allowed to evaporate from the polymer solution. By this evaporation, a solvent gas may be present in the atmosphere on the liquid surface. Since the solvent gas is supplied from the polymer solution itself into the atmosphere, a sufficient effect can be obtained even if the above-described equilibrium relationship is not required until the evaporation of the solvent proceeds to some extent. In addition, the solvent gas may be supplied so that the pressure of the solvent gas on the liquid surface (hereinafter referred to as the solvent vapor pressure) is larger than the saturated vapor pressure beyond the equilibrium relationship. If the pressure is higher than the saturated vapor pressure, the solvent gas may condense on the liquid surface of the polymer solution. Therefore, it is preferable that the pressure reaches the saturated vapor pressure.

溶剤ガス供給工程24を溶剤蒸発開始時P4まで実施することにより、ポリマー溶液における溶剤含有率が保持されるので、溶剤蒸発開始時P4までポリマー溶液の粘度が上昇することがない。これにより、水滴の成長が止むことなくさらに進みやすくなり、この結果、孔径D1と開口径D2とが従来よりも大きな多孔フィルム10を製造することができる。さらに、水滴の成長が均一にすすむので、形状及び大きさが均一な複数の孔を形成することができる。   By performing the solvent gas supply step 24 until P4 at the start of solvent evaporation, the solvent content in the polymer solution is maintained, so that the viscosity of the polymer solution does not increase until P4 at the start of solvent evaporation. As a result, the growth of water droplets can be further facilitated without stopping, and as a result, the porous film 10 having a larger pore diameter D1 and larger opening diameter D2 than that of the related art can be produced. Furthermore, since the growth of the water droplets proceeds uniformly, a plurality of holes having a uniform shape and size can be formed.

溶剤ガス供給工程24は、溶剤蒸発開始時P4までの水滴形成工程21の間、継続して実施することがもっとも好ましいが、成長工程21aの間だけ実施することにより、従来よりもサイズが大きな孔11をもつ多孔フィルム10を製造することはできる。さらに、配列工程21aで溶剤ガス供給工程24を実施すると、孔の形状がより均一で配列がより規則的な多孔フィルム10を得ることができる。   The solvent gas supply step 24 is most preferably continuously performed during the water droplet formation step 21 up to P4 at the start of solvent evaporation. However, the solvent gas supply step 24 is performed only during the growth step 21a. A porous film 10 having 11 can be produced. Furthermore, when the solvent gas supply step 24 is performed in the arrangement step 21a, the porous film 10 having a more uniform hole shape and a more regular arrangement can be obtained.

多孔フィルム10の製造方法としては、容器に入れたポリマー溶液に対して水滴形成工程21と溶剤蒸発工程22と水滴蒸発工程23と溶剤ガス供給工程24とを実施する方法や、ポリマー溶液を支持体の上に塗布あるいは延展して薄膜状にし、支持体上の液膜に水滴形成工程21と溶剤蒸発工程22と水滴蒸発工程23と溶剤ガス供給工程24とを実施する方法がある。前者の方法では、容器に入れたポリマー溶液の液面に結露させて水滴を発生させる。このように、水滴形成工程21と溶剤蒸発工程22と水滴蒸発工程23と溶剤ガス供給工程24とは、ポリマー溶液の深さや厚みに関わらず実施してよい。   As a method for producing the porous film 10, a method of performing a water droplet forming step 21, a solvent evaporation step 22, a water droplet evaporation step 23, and a solvent gas supply step 24 on a polymer solution put in a container, There is a method in which a water droplet forming step 21, a solvent evaporation step 22, a water droplet evaporation step 23, and a solvent gas supply step 24 are carried out on a liquid film on a support. In the former method, water droplets are generated by condensation on the liquid surface of the polymer solution contained in the container. Thus, the water droplet formation step 21, the solvent evaporation step 22, the water droplet evaporation step 23, and the solvent gas supply step 24 may be performed regardless of the depth and thickness of the polymer solution.

図4に示すように、ポリマー溶液からなる液膜31の形成方法としては、矢線Aで示す一方向に支持体32を移動させ、移動している支持体32に、薄い膜状にポリマー溶液33を流すという流延方法がある。この他の方法としては、ポリマー溶液が比較的低粘度である場合に、静置した支持体上にポリマー溶液を流し、ポリマー溶液自身の濡れ広がりを利用する流延方法や、ポリマー溶液が濡れ広がりにくいほどの高粘度である場合に、支持体上にポリマー溶液を載せて、表面が平滑な平滑部材でそのポリマー溶液を延展させる流延方法等があり、いずれの方法でもよい。なお、この液膜31を形成する間は、支持体32及びポリマー溶液33の周りの雰囲気を、湿度を低く抑えた乾燥雰囲気としておくことが好ましい。   As shown in FIG. 4, as a method for forming a liquid film 31 made of a polymer solution, the support 32 is moved in one direction indicated by an arrow A, and the polymer solution is formed into a thin film on the moving support 32. There is a casting method of flowing 33. As other methods, when the polymer solution has a relatively low viscosity, the polymer solution is allowed to flow on a stationary support and the wetting and spreading of the polymer solution itself is used. When the viscosity is so high as to be difficult, there is a casting method in which a polymer solution is placed on a support and the polymer solution is spread with a smooth member having a smooth surface, and any method may be used. In addition, while forming this liquid film 31, it is preferable to make the atmosphere around the support body 32 and the polymer solution 33 into the dry atmosphere which suppressed humidity low.

液膜31を多孔フィルム10にするための第1実施態様では、図5及び図6に示す多孔フィルム製造装置を用いる。なお、図6では、図5に示す部材のうち一部のみを示す。多孔フィルム製造装置41は、液膜31が一方の面に形成されてある支持体32を収容するチャンバ42と、空気をチャンバ42の内部に送り込む空気供給部43と、溶剤ガスをチャンバ42の内部に送り込む溶剤ガス供給部44とを備える。   In the first embodiment for making the liquid film 31 into the porous film 10, the porous film manufacturing apparatus shown in FIGS. 5 and 6 is used. 6 shows only a part of the members shown in FIG. The porous film manufacturing apparatus 41 includes a chamber 42 that houses a support 32 having a liquid film 31 formed on one surface thereof, an air supply unit 43 that feeds air into the chamber 42, and a solvent gas inside the chamber 42. And a solvent gas supply unit 44 for feeding into the gas tank.

空気供給部43は、空気をチャンバ42に案内するダクト47と、このダクト47に、空気を送り出す第1送風機48と、第1送風機48で送り出す空気の温度と湿度と風量とを制御する第1コントローラ49と、ダクト47を上下方向にシフトするシフト機構50とを有する。   The air supply unit 43 includes a duct 47 that guides air to the chamber 42, a first blower 48 that sends air to the duct 47, and a first temperature that controls the temperature, humidity, and air volume of the air sent by the first blower 48. A controller 49 and a shift mechanism 50 that shifts the duct 47 in the vertical direction are included.

また、溶剤ガス供給部44は、溶剤ガスをチャンバ42に案内するダクト53と、このダクト53に、溶剤ガスを送り出す第2送風機54と、第2送風機54で送り出す空気の温度と湿度と風量とを制御する第2コントローラ55と、ダクト53を上下方向にシフトするシフト機構56とを有する。ダクト53には、液膜31の液面に沿う方向に伸びたスリット53aが複数形成されており、これらのスリット53aから溶剤ガスが流出する。なお、ダクト47にも同様に複数のスリット47aが形成されており、各スリット47aから空気が流出する。   The solvent gas supply unit 44 includes a duct 53 that guides the solvent gas to the chamber 42, a second blower 54 that sends the solvent gas to the duct 53, and the temperature, humidity, and air volume of the air that is sent out by the second blower 54. And a shift mechanism 56 that shifts the duct 53 in the vertical direction. A plurality of slits 53a extending in the direction along the liquid surface of the liquid film 31 are formed in the duct 53, and the solvent gas flows out from these slits 53a. Similarly, a plurality of slits 47a are formed in the duct 47, and air flows out from each slit 47a.

チャンバ42には、さらに、支持体32を下面から温度調整する温度調整部61が備えられており、この温度調整部61は、支持体32と接する上面の昇温と降温とのオン・オフ及びその設定温度を変化させる第3コントローラ62を有する。   The chamber 42 is further provided with a temperature adjusting unit 61 that adjusts the temperature of the support 32 from the lower surface. The temperature adjusting unit 61 is configured to turn on / off temperature rise and temperature lowering of the upper surface in contact with the support 32. A third controller 62 is provided for changing the set temperature.

チャンバの上部には、排気のための排気口42aが形成されており、この排気口24aに設けられてあるバルブ24bによりその開閉と開度とが調整される。   An exhaust port 42a for exhaust is formed in the upper portion of the chamber, and its opening / closing and opening degree are adjusted by a valve 24b provided in the exhaust port 24a.

この多孔フィルム製造装置41を用いて、以下の方法で多孔フィルム10を製造する。まず、ダクト43から加湿された空気を流出して液膜31の上に供給することにより発生工程21aを開始する。このとき、液膜31上の雰囲気の露点が液膜31の液面温度よりも高くなるように、加湿空気の温度を第1コントローラ24により調整すると、水滴がより早く形成され、また発生する水滴の数をより多くすることができる。支持体32を介しての液膜31は、チャンバ42の内部雰囲気よりも、温度応答性がよいので、ダクト43からの空気の湿度を調整することに加えて、温度調整部61により支持体32を介して液膜31の温度を低下させるとよい。   Using this porous film manufacturing apparatus 41, the porous film 10 is manufactured by the following method. First, the generating step 21 a is started by supplying the humidified air from the duct 43 and supplying the air onto the liquid film 31. At this time, when the temperature of the humidified air is adjusted by the first controller 24 so that the dew point of the atmosphere on the liquid film 31 is higher than the liquid surface temperature of the liquid film 31, water droplets are formed earlier and the generated water droplets. Can be more. Since the liquid film 31 through the support 32 has better temperature responsiveness than the internal atmosphere of the chamber 42, in addition to adjusting the humidity of the air from the duct 43, the temperature adjustment unit 61 allows the support 32 to be adjusted. The temperature of the liquid film 31 may be lowered via

発生時における水滴25は極めて小さく、ひとつひとつは肉眼で認めることができないような大きさであり、その大きさは数nm〜数10nm程度である。次に、成長工程21bを実施して、このように極微小な水滴を大きくする。成長工程21bでは、ダクト47からの加湿空気の供給を続ける。   The water droplets 25 at the time of occurrence are extremely small and each one cannot be recognized with the naked eye, and the size is about several nm to several tens of nm. Next, the growth step 21b is performed to enlarge such extremely small water droplets. In the growth step 21b, the supply of humidified air from the duct 47 is continued.

成長工程21bでは、ダクト53から溶剤ガスを流出して液膜31の上に供給することにより溶剤ガス供給工程24を行う。溶剤ガスは、空気と混合された状態でチャンバ42に案内されてもよい。従来の製造方法では、水滴は、成長が抑制され、最終的には成長が止まって大きさが変化しなくなるが、溶剤ガスを供給する本発明によると、液膜31の露出面における粘度が上昇することない。これにより水滴を所望の大きさにまで成長させることができる。これは、液膜31の露出面における粘度の上昇が、溶剤ガスの供給により、抑止されるからである。このように、本発明では、液膜31の特に露出面の粘度上昇を抑えるように溶剤ガスを供給し、これにより水滴を所望の大きさにまで成長させることができる。水滴を大きく成長させることにより、孔径D1と開口径D2とがより大きな多孔フィルム10とすることができる。   In the growth process 21 b, the solvent gas supply process 24 is performed by flowing the solvent gas out of the duct 53 and supplying it onto the liquid film 31. The solvent gas may be guided to the chamber 42 while being mixed with air. In the conventional manufacturing method, the growth of water droplets is suppressed, and eventually the growth stops and the size does not change. However, according to the present invention for supplying the solvent gas, the viscosity on the exposed surface of the liquid film 31 increases. Not to do. Thereby, water droplets can be grown to a desired size. This is because an increase in viscosity on the exposed surface of the liquid film 31 is suppressed by supplying the solvent gas. Thus, in the present invention, the solvent gas is supplied so as to suppress the increase in the viscosity of the exposed surface of the liquid film 31 in particular, so that water droplets can be grown to a desired size. By making water droplets grow larger, the porous film 10 having a larger pore diameter D1 and opening diameter D2 can be obtained.

ダクト47とダクト53とは、チャンバ42の底部中央に配された液膜31の上方で加湿空気と溶剤ガスとが混じり合うように、チャンバ42の互いに対向する内壁面近傍に備えられる。スリット47aとスリット53aとの高さとは、各シフト機構50,56により独立して変えることができる。これにより、加湿空気と溶剤ガスとの各温度条件や風速等を調整せずとも、スリット47aとスリット53aとの上下方向での相対的位置を変えることにより、水滴の成長の速さを変えることができる。水滴の成長の速さを変えることにより、水滴の最終的な大きさを微調整しやすくなり、孔径D1と開口径D2との制御が容易になる。また、スリット47aとスリット53aとを上下方向での相対位置を変えることにより、加湿空気と溶剤ガスとの、液膜31の露出面及びその近傍における混合比を、加湿空気と溶剤ガスとの風量を変えることなく変化させることができる。   The duct 47 and the duct 53 are provided near the inner wall surfaces of the chamber 42 facing each other so that the humidified air and the solvent gas are mixed above the liquid film 31 disposed at the center of the bottom of the chamber 42. The heights of the slit 47a and the slit 53a can be changed independently by the shift mechanisms 50 and 56. Thus, the speed of water droplet growth can be changed by changing the relative positions of the slit 47a and the slit 53a in the vertical direction without adjusting the temperature conditions of the humidified air and the solvent gas, the wind speed, and the like. Can do. By changing the growth speed of the water droplets, the final size of the water droplets can be easily adjusted, and the control of the hole diameter D1 and the opening diameter D2 is facilitated. In addition, by changing the relative positions of the slit 47a and the slit 53a in the vertical direction, the mixing ratio of the humidified air and the solvent gas at the exposed surface of the liquid film 31 and in the vicinity thereof is determined by the air volume of the humidified air and the solvent gas. Can be changed without changing.

次に、配列工程21cを実施する。この配列工程では、水滴が毛細管力によって引き合う。これにより、複数の水滴が、液膜31の液面に、より密に配される。この配列工程21cでは、空気振動を与えることにより、水滴が引き合うことをより促進させることができる。   Next, the arranging step 21c is performed. In this arrangement process, water droplets are attracted by capillary force. Thereby, a plurality of water droplets are more densely arranged on the liquid surface of the liquid film 31. In this arrangement step 21c, it is possible to further promote the attraction of water droplets by applying air vibration.

この配列工程21cの間にもダクト53から溶剤ガスを供給することが好ましい。これにより、水滴の並びが密になっても個々の水滴が変形したり互いに結合したりせずに、均一なサイズを保持した状態で規則的に液面に配されることになる。   It is preferable to supply the solvent gas from the duct 53 also during the arranging step 21c. As a result, even when the water droplets are densely arranged, the individual water droplets are not deformed or combined with each other, and are regularly arranged on the liquid surface while maintaining a uniform size.

以上の溶剤ガス供給工程24では、液膜31の表面温度TSを−5℃以上30℃以下の範囲とし、雰囲気の露点TDを5℃以上30℃以下の範囲とすることが好ましく、さらに液膜の表面温度TSよりも雰囲気の露点TDが高くすることが好ましい。そして、チャンバ42に送る加湿空気の温度TAと溶剤ガスの温度TGは、ともに、5℃以上30℃以下の範囲とすることが好ましく、チャンバ42の雰囲気における溶剤ガスの圧力は0.01MPa以上0.1MPa以下の範囲であることが好ましい。   In the solvent gas supply step 24 described above, the surface temperature TS of the liquid film 31 is preferably in the range of −5 ° C. to 30 ° C., and the dew point TD of the atmosphere is preferably in the range of 5 ° C. to 30 ° C. It is preferable that the dew point TD of the atmosphere is higher than the surface temperature TS. Both the temperature TA of the humidified air sent to the chamber 42 and the temperature TG of the solvent gas are preferably in the range of 5 ° C. to 30 ° C., and the pressure of the solvent gas in the atmosphere of the chamber 42 is 0.01 MPa or more and 0 It is preferably in the range of 1 MPa or less.

水滴が規則的に配列したら、ダクト53からの溶剤ガスの供給を停止し、湿度を水滴形成工程21における空気よりも低くした乾燥空気をダクト47からチャンバ42に案内する。そして、排気口42aを開状態にしてチャンバ42の内部雰囲気の湿度を低下させる。このように、乾燥空気を供給して湿度を低下させることにより液膜31から溶剤を蒸発する。供給する乾燥空気の温度は、水滴の蒸発を抑制するために、できるだけ低く保持することが好ましい。また、第3コントローラ62により液膜31の温度を水滴形成工程21よりも高くするが、その温度は、水滴の蒸発が抑えられる程度に低くする。   When the water droplets are regularly arranged, the supply of the solvent gas from the duct 53 is stopped, and the dry air whose humidity is lower than the air in the water droplet forming step 21 is guided from the duct 47 to the chamber 42. Then, the exhaust port 42a is opened to reduce the humidity of the internal atmosphere of the chamber 42. Thus, the solvent is evaporated from the liquid film 31 by supplying dry air and reducing the humidity. The temperature of the supplied dry air is preferably kept as low as possible in order to suppress evaporation of water droplets. Moreover, although the temperature of the liquid film 31 is made higher than that of the water droplet forming step 21 by the third controller 62, the temperature is made low enough to prevent evaporation of the water droplets.

溶剤の蒸発がすすむにつれて、液膜31を構成するポリマー溶液の粘度が上昇する。そして、液膜31の流動性がなくなったら、水滴を蒸発させ始める。液膜31の流動性がなくなったことは、液膜31を目視で観察して液膜31の表面のくもり度合いが変化しなくなったことをもって確認することができる。   As the solvent evaporates, the viscosity of the polymer solution constituting the liquid film 31 increases. Then, when the fluidity of the liquid film 31 is lost, the water droplets start to evaporate. The disappearance of the fluidity of the liquid film 31 can be confirmed by visually observing the liquid film 31 and confirming that the degree of cloudiness on the surface of the liquid film 31 does not change.

溶剤の他に、水滴を積極的に蒸発させるために、ダクト47からの乾燥空気の温度を溶剤蒸発工程22におけるよりも高くし、さらに、第3コントローラ62により液膜31の温度も溶剤蒸発工程22におけるよりも高くする。なお、この水滴蒸発工程23の間も、溶剤蒸発工程22と同様に、ダクト53からの溶剤供給は停止し、排気口42aからの排気を行う。   In order to positively evaporate water droplets in addition to the solvent, the temperature of the dry air from the duct 47 is set higher than that in the solvent evaporation step 22, and the temperature of the liquid film 31 is also set by the third controller 62 in the solvent evaporation step. Higher than in 22. During the water droplet evaporation process 23, as in the solvent evaporation process 22, the supply of the solvent from the duct 53 is stopped and the exhaust from the exhaust port 42a is performed.

以上のように水滴と溶剤とが蒸発して多孔フィルム10が得られるが、他の方法でも多孔フィルム10を製造することができる。例えば、図7に示すような多孔フィルム製造装置を用いてもよい。第2の実施態様である多孔フィルム製造装置71は、多孔フィルム製造装置41と同様に空気供給部43と温度調整部61とを、チャンバ72に備える。さらにこの多孔フィルム製造装置71は、容器73中の溶剤74を加熱して蒸発させて溶剤ガスにするために、容器73を下方から温度調整する温度調整部76が備えられており、この温度調整部76は、容器73と接する上面における昇温と降温とのオン・オフ及びその設定温度を変化させる第4コントローラ77を有する。   As described above, the water droplets and the solvent are evaporated to obtain the porous film 10, but the porous film 10 can be manufactured by other methods. For example, you may use the porous film manufacturing apparatus as shown in FIG. Similar to the porous film manufacturing apparatus 41, the porous film manufacturing apparatus 71 as the second embodiment includes an air supply unit 43 and a temperature adjustment unit 61 in the chamber 72. Further, the porous film manufacturing apparatus 71 is provided with a temperature adjusting unit 76 for adjusting the temperature of the container 73 from below in order to heat and evaporate the solvent 74 in the container 73 to form a solvent gas. The unit 76 includes a fourth controller 77 that turns on and off the temperature rise and temperature drop on the upper surface in contact with the container 73 and changes the set temperature.

この多孔フィルム製造装置71で多孔フィルムを製造する場合には、溶剤ガスの供給を、溶剤74を加熱して蒸発させることにより行う。この蒸発によりチャンバ72の内部に溶剤ガスが広がり、液膜31上に溶剤ガスが供給される。なお、溶剤74を入れた容器73に代えて、表面積が大きくなるように空隙が多数形成され、この空隙に溶剤を含ませた例えば弾性高分子の発泡体を用いてもよい。   When the porous film is manufactured by the porous film manufacturing apparatus 71, the solvent gas is supplied by heating and evaporating the solvent 74. Due to this evaporation, the solvent gas spreads inside the chamber 72, and the solvent gas is supplied onto the liquid film 31. Instead of the container 73 containing the solvent 74, a large number of voids may be formed so as to increase the surface area, and for example, an elastic polymer foam in which a solvent is contained in the voids may be used.

温度調整部76は温度調整部61を囲むように複数配することが好ましく、これにより液膜31上での溶剤ガスが飽和蒸気圧に達するまでの時間を短くして、水滴の成長速度を速めることができる他、均一なサイズを保持した状態で水滴を規則的に液面に配することができる。   It is preferable that a plurality of the temperature adjusting units 76 are disposed so as to surround the temperature adjusting unit 61, thereby shortening the time until the solvent gas on the liquid film 31 reaches the saturated vapor pressure and increasing the growth rate of the water droplets. In addition, water droplets can be regularly arranged on the liquid surface while maintaining a uniform size.

さらに、このチャンバ72の内部を上部空間と仕切る上板72cには、シフト機構(図示無し)が設けられ、このシフト機構により上板72cを下方にシフトすることにより、溶媒ガスをチャンバ72内により早く充満させることができる。また、この上板72cを液膜31の極近傍にまで近づけるように下方へ変位させることによりチャンバ72の内部容積を小さくすると、溶剤74を入れた容器73をチャンバ72の内部に配することなく、液膜31の中の溶剤の蒸発をある程度許容することにより、液膜31の近傍での溶剤ガス濃度を上昇させ、チャンバ72内部の雰囲気における溶剤ガスの圧力を飽和蒸気圧近くで保持することができるようになる。つまり、この場合には、液膜31からある程度の溶剤が蒸発することを許容し、これにより液膜31上に溶剤ガスを供給する。この溶剤ガスの供給は、液膜31上における溶剤ガスの濃度が、液膜31から溶剤が蒸発しなくなる程度の濃度になるまで実施する。そして、その程度に溶剤ガスの濃度が高まったら、以降液膜31から溶剤が蒸発しないようにその溶剤ガス濃度を保持してある。このように、本発明における溶剤ガスの供給とは、必ずしも外部からの供給に限られず、液膜31自体からの溶剤ガス供給も含まれる。溶剤蒸発工程のときにはこの上板72cを上方にシフトすることにより、溶媒の蒸発をより速くすすめることができる。   Further, a shift mechanism (not shown) is provided in the upper plate 72c that partitions the interior of the chamber 72 from the upper space. By shifting the upper plate 72c downward by this shift mechanism, the solvent gas is allowed to enter the chamber 72. Can be charged quickly. Further, when the internal volume of the chamber 72 is reduced by displacing the upper plate 72c so as to approach the vicinity of the liquid film 31, the container 73 containing the solvent 74 is not disposed inside the chamber 72. By allowing the solvent in the liquid film 31 to evaporate to some extent, the concentration of the solvent gas in the vicinity of the liquid film 31 is increased, and the pressure of the solvent gas in the atmosphere inside the chamber 72 is maintained near the saturated vapor pressure. Will be able to. That is, in this case, a certain amount of solvent is allowed to evaporate from the liquid film 31, and thereby, the solvent gas is supplied onto the liquid film 31. The supply of the solvent gas is performed until the concentration of the solvent gas on the liquid film 31 becomes a concentration at which the solvent does not evaporate from the liquid film 31. When the concentration of the solvent gas increases to that extent, the concentration of the solvent gas is maintained so that the solvent does not evaporate from the liquid film 31 thereafter. Thus, the supply of the solvent gas in the present invention is not necessarily limited to the supply from the outside, and includes the supply of the solvent gas from the liquid film 31 itself. By shifting the upper plate 72c upward during the solvent evaporation process, the solvent can be evaporated more quickly.

第3の実施態様である図8の多孔フィルム製造装置81は、多孔フィルム製造装置24,71と同様に、温度調整部61を、チャンバ82に備え、また、このチャンバ82の上部には、排気口82aが形成されている、この排気口82aに設けられるバルブ82bにより排気口82aの開閉と開度とが調整される。   The porous film manufacturing apparatus 81 of FIG. 8 which is the third embodiment includes a temperature adjusting unit 61 in the chamber 82 as in the case of the porous film manufacturing apparatuses 24 and 71, and an exhaust gas is disposed above the chamber 82. The opening and closing and the opening degree of the exhaust port 82a are adjusted by a valve 82b provided in the exhaust port 82a in which the port 82a is formed.

この多孔フィルム製造装置81は、さらに、溶剤ガスと水蒸気との混合ガスをチャンバに供給する混合ガス供給部83を備える。この混合ガス供給部83は、溶剤ガスと水蒸気との混合ガスをチャンバ82に案内するダクト87と、溶剤ガスと水蒸気との混合ガスをつくってダクト87におくる混合ガス生成ユニット88とを備え、ダクト87には混合ガスを流出するスリット87aが形成される。混合ガス生成ユニット88は、加湿空気を生成するための加湿機91と、この加湿器91に空気を送り出す第3送風機92と、溶剤ガスを生成するための溶剤ガス生成機93と、この溶剤ガス生成機93に空気を送り出す第4送風機94と、加湿機91から案内されてくる加湿空気と溶剤ガス生成機93からの溶剤ガスとを混合して水蒸気と溶剤ガスとの混合ガスをつくる混合機95とを備える。   The porous film manufacturing apparatus 81 further includes a mixed gas supply unit 83 that supplies a mixed gas of solvent gas and water vapor to the chamber. The mixed gas supply unit 83 includes a duct 87 that guides a mixed gas of solvent gas and water vapor to the chamber 82, and a mixed gas generation unit 88 that produces a mixed gas of solvent gas and water vapor and comes to the duct 87. The duct 87 is formed with a slit 87a through which the mixed gas flows out. The mixed gas generation unit 88 includes a humidifier 91 for generating humidified air, a third blower 92 for sending air to the humidifier 91, a solvent gas generator 93 for generating solvent gas, and the solvent gas. A fourth blower 94 for sending air to the generator 93, and a mixer for mixing the humidified air guided from the humidifier 91 and the solvent gas from the solvent gas generator 93 to produce a mixed gas of water vapor and solvent gas 95.

加湿機91は、水96が貯留される水槽97を備え、溶剤ガス生成機93は、溶剤ガスになる液体の溶剤74が貯留される液槽102を備える。また、この混合ガス生成ユニット88は、第3送風機92からの空気を水96の中と混合機95とのいずれか一方に案内する第1の管104と、溶剤74の中に第4送風機94からの空気を導く第2の管106と、溶剤ガス生成機93と混合機95とを接続する第3の管107と、混合機95とダクト87とを接続して混合ガスをダクト87へ案内する第4の管108とを備える。   The humidifier 91 includes a water tank 97 in which water 96 is stored, and the solvent gas generator 93 includes a liquid tank 102 in which a liquid solvent 74 that becomes a solvent gas is stored. The mixed gas generation unit 88 includes a first pipe 104 that guides air from the third blower 92 to either the water 96 or the mixer 95, and a fourth blower 94 in the solvent 74. The second pipe 106 that guides the air from the pipe, the third pipe 107 that connects the solvent gas generator 93 and the mixer 95, and the mixer 95 and the duct 87 are connected to guide the mixed gas to the duct 87. And a fourth tube 108.

第1の管104は、第3送風機92からの空気を水槽97に案内する第1分岐管104aを備え、第1分岐管104aが第1の管104から分岐する分岐位置には第1バルブV1が設けてある。第1分岐管104の下流端は水96の中に配される。第1バルブV1により、混合機95と水槽97とのいずれか一方に空気が送られるよう流路を切り替える。また、第1の管104の第1分岐管104aよりも下流側には、水槽97の水96の液面、すなわち水面よりも上の空間に下流端が配される第2分岐管104bが備えてある。この第2分岐管104bが第1の管104から分岐する分岐位置には第2バルブV2が設けられる。この第2バルブにより、第3送風機92の空気を水槽97に送り込むことなく混合機95へ案内することと、水槽97の上部空間にある加湿空気を混合機95へ案内することとの切り替えを行う。   The first pipe 104 includes a first branch pipe 104a that guides air from the third blower 92 to the water tank 97, and the first valve V1 is provided at a branch position where the first branch pipe 104a branches from the first pipe 104. Is provided. The downstream end of the first branch pipe 104 is disposed in the water 96. The flow path is switched by the first valve V <b> 1 so that air is sent to either the mixer 95 or the water tank 97. Further, on the downstream side of the first branch pipe 104a of the first pipe 104, there is provided a second branch pipe 104b whose downstream end is disposed in the liquid surface of the water 96 in the water tank 97, that is, in a space above the water surface. It is. A second valve V2 is provided at a branch position where the second branch pipe 104b branches from the first pipe 104. By this second valve, switching between guiding the air of the third blower 92 to the mixer 95 without sending it into the water tank 97 and guiding the humid air in the upper space of the water tank 97 to the mixer 95 is performed. .

第3送風機92から混合機95には、乾燥空気と加湿空気とのいずれか一方が選択的に送られる。乾燥空気を混合機95に送る場合には、第1バルブV1及び第2バルブV2により、第3送風機92からの空気を水槽91を介さずに直接混合機95へ案内する。また、加湿空気を混合機95に送る場合には、第1,第2バルブV1,V2により流路を切り替え、第3送風機92からの空気を水96の中におくって、いわゆるバブリングを実施する。このようにして、水蒸気濃度が高められた空気が水面上の空間に溜まり、加湿空気を混合機95へ案内する。なお、水面上の空間における水蒸気の露点は、水96の温度を変化させることにより変えることができる。これにより、混合機95におくる加湿空気中の水蒸気濃度を変化させることができる。以上のようにして、乾燥空気と露点を制御された加湿空気との混合機95への送り込みを所定のタイミングで切り替える。   One of dry air and humidified air is selectively sent from the third blower 92 to the mixer 95. When sending dry air to the mixer 95, the first valve V1 and the second valve V2 guide the air from the third blower 92 directly to the mixer 95 without going through the water tank 91. When the humidified air is sent to the mixer 95, the flow path is switched by the first and second valves V1 and V2, and the air from the third blower 92 is placed in the water 96 to perform so-called bubbling. . In this way, air with an increased water vapor concentration accumulates in the space above the water surface and guides the humidified air to the mixer 95. Note that the dew point of water vapor in the space above the water surface can be changed by changing the temperature of the water 96. Thereby, the water vapor | steam density | concentration in the humidified air which comes to the mixer 95 can be changed. As described above, the feeding of the dry air and the humidified air whose dew point is controlled to the mixer 95 is switched at a predetermined timing.

第2の管106は、上流端が第4送風機94に接続し、下流端が溶剤74の液面よりも低く配される。これにより、第4送風機94からの空気を溶剤74の中におくって、バブリングを実施する。このようにして、溶剤ガスを発生させて空気の中に含ませる。そして溶剤ガスを含む空気は溶剤74の液面上の空間に溜まる。このとき、液面上の空間における溶剤ガスの露点は、溶剤74の温度を変化させることにより変えることができる。これにより、混合機95におくる溶剤ガスの濃度を変化させることができる。   The second pipe 106 has an upstream end connected to the fourth blower 94 and a downstream end arranged lower than the liquid level of the solvent 74. Thereby, the air from the 4th air blower 94 is put in the solvent 74, and bubbling is implemented. In this way, a solvent gas is generated and included in the air. The air containing the solvent gas accumulates in the space above the liquid surface of the solvent 74. At this time, the dew point of the solvent gas in the space above the liquid level can be changed by changing the temperature of the solvent 74. Thereby, the density | concentration of the solvent gas which comes to the mixer 95 can be changed.

第3の管107は、上流端が液槽102における液面上に配され、下流端は混合機95に接続する。これにより、溶剤ガス生成機93の溶剤ガスを含む空気は、混合機95へ案内される。なお、溶剤ガスが空気に含まれた状態で混合機95へ案内される場合もあるし、溶剤74の種類によってはこれが空気の成分を吸収して溶剤ガスだけが混合機95へ案内されたりあるいは溶剤ガスと空気の一部成分との混合物が混合機95へ案内される場合もある。   The third pipe 107 has an upstream end disposed on the liquid surface in the liquid tank 102 and a downstream end connected to the mixer 95. Thereby, the air containing the solvent gas of the solvent gas generator 93 is guided to the mixer 95. The solvent gas may be guided to the mixer 95 in a state of being included in the air, or depending on the type of the solvent 74, this may absorb air components and only the solvent gas may be guided to the mixer 95. In some cases, a mixture of a solvent gas and a partial component of air is guided to the mixer 95.

第3送風機92には、加湿機91または混合機95に送り出す空気の風量を制御する第5コントローラ108を、第4送風機94には、溶剤ガス生成機93に送り出す空気の風量を制御する第6コントローラ110を、それぞれ設けてある。第3送風機92からの空気を水槽97へ案内して加湿空気を混合機95へ送るときには、第5コントローラ108と第6コントローラ110との各風量制御により、混合機95での混合ガスにおける水蒸気と溶剤ガスとの割合を制御することができる。なお、第3送風機92と第4送風機94とのいずれか一方からの送風を実施すると、チャンバ82には、加湿空気または乾燥空気と、溶剤ガスとのいずれか一方のみを送ることができる。   The third blower 92 has a fifth controller 108 that controls the amount of air sent to the humidifier 91 or the mixer 95, and the fourth blower 94 has a sixth controller that controls the amount of air sent to the solvent gas generator 93. Each controller 110 is provided. When the air from the third blower 92 is guided to the water tank 97 and the humidified air is sent to the mixer 95, the water vapor in the mixed gas in the mixer 95 is controlled by the respective air volume controls of the fifth controller 108 and the sixth controller 110. The ratio with the solvent gas can be controlled. Note that when air is blown from one of the third blower 92 and the fourth blower 94, only one of humidified air, dry air, and solvent gas can be sent to the chamber 82.

混合機95の混合ガスにおける水蒸気と溶剤ガスとの割合は、水96と溶剤74との温度を制御することや、混合機95の内部温度を制御することによっても調整することができる。水96の温度や溶剤74の温度を制御することで各槽97,102の空間の露点を制御できるし、また、混合機95の内部温度を制御することにより、溶剤ガスと水蒸気とのいずれか一方を凝縮させることができるからである。   The ratio between the water vapor and the solvent gas in the mixed gas of the mixer 95 can be adjusted by controlling the temperature of the water 96 and the solvent 74 or by controlling the internal temperature of the mixer 95. By controlling the temperature of the water 96 and the temperature of the solvent 74, the dew point of the space of each tank 97, 102 can be controlled, and by controlling the internal temperature of the mixer 95, either the solvent gas or water vapor can be controlled. It is because one side can be condensed.

第4の管108は、上流端が混合機95に接続し、下流端はダクト87に接続する。これにより、混合機95からの混合ガスは、ダクト87のスリット87aからチャンバ82の内部へ出される。このようにして、チャンバ82の雰囲気中には、加湿空気、すなわち水蒸気を含んだ空気と、溶剤ガスとの両方が含まれるようになる。   The fourth pipe 108 has an upstream end connected to the mixer 95 and a downstream end connected to the duct 87. As a result, the mixed gas from the mixer 95 is discharged from the slit 87 a of the duct 87 into the chamber 82. In this manner, the atmosphere of the chamber 82 includes both humidified air, that is, air containing water vapor and solvent gas.

なお、ダクト87は、ダクト47,53と同様に、このダクト87を上下方向にシフトするシフト機構109を有する。   The duct 87 has a shift mechanism 109 that shifts the duct 87 in the vertical direction, like the ducts 47 and 53.

この多孔フィルム製造装置81によると、多孔フィルム製造装置24,71と同じくらい確実に、しかもより簡易に、溶剤ガスと加湿空気とを送ることができるので、簡易かつ効果的に水滴を成長させることができる。   According to this porous film manufacturing apparatus 81, solvent gas and humidified air can be sent as reliably and easily as the porous film manufacturing apparatuses 24 and 71, so that water droplets can be easily and effectively grown. Can do.

水槽97は、水96の温度を調整する第1温度コントローラ(図示無し)と、水面上の上部空間の温度を調整する第2温度コントローラ(図示無し)とを備え、液槽102は、溶剤74の温度を調整する第3温度コントローラ(図示無し)と、液面上の上部空間の温度を調整する第4温度コントローラ(図示無し)とを備える。また、第1の管104と第3の管107にもそれぞれ管内温度を制御する第5,第6温度コントローラ(いずれも図示無し)が設けられ、混合機95にも第7温度コントローラが設けられる。第1,第3温度コントローラにより、水蒸気、溶剤ガスの露点を前述のように制御することができ、第2,第4,第5,第6コントローラにより、水蒸気と溶剤ガスとの温度を調整して混合ガスの温度が調整される。乾燥空気を混合機95におくる場合には、第5コントローラは乾燥空気の温度を制御する。また、第7コントローラにより、混合ガスの温度が調整される他、混合ガスにおける水蒸気と溶剤ガスとの割合も前述の通り変えることができる。   The water tank 97 includes a first temperature controller (not shown) that adjusts the temperature of the water 96 and a second temperature controller (not shown) that adjusts the temperature of the upper space above the water surface. And a fourth temperature controller (not shown) for adjusting the temperature of the upper space above the liquid level. The first pipe 104 and the third pipe 107 are also provided with fifth and sixth temperature controllers (both not shown) for controlling the temperature inside the pipe, respectively, and the mixer 95 is also provided with a seventh temperature controller. . The dew point of water vapor and solvent gas can be controlled as described above by the first and third temperature controllers, and the temperature of water vapor and solvent gas can be adjusted by the second, fourth, fifth and sixth controllers. Thus, the temperature of the mixed gas is adjusted. When the dry air is fed to the mixer 95, the fifth controller controls the temperature of the dry air. In addition to adjusting the temperature of the mixed gas by the seventh controller, the ratio of the water vapor to the solvent gas in the mixed gas can also be changed as described above.

第3の実施形態では、加湿空気を混合機95へ送る場合には、加湿機91と溶剤ガス生成機93とを混合機95にそれぞれ接続するが、これに代えて、加湿機91と溶剤ガス生成機93と直列に配し、溶剤ガス生成機93とチャンバ82に接続してもよい。例えば、加湿機91の下流に溶剤ガス生成機93を配し、この溶剤ガス生成機93を混合機95に接続する。この場合には、第3送風機92からの空気を加湿機91で加湿して、加湿空気をつくり、溶剤ガス生成機93で加湿空気に対して溶剤ガスを加え、混合ガスをつくる。そしてこの混合ガスがチャンバ82に送られる。なお、加湿機91と溶剤ガス混合機93との上下流関係を逆にして、溶剤ガス混合機93を加湿機91の上流に配しても同様の効果を得ることができる。   In the third embodiment, when humidified air is sent to the mixer 95, the humidifier 91 and the solvent gas generator 93 are connected to the mixer 95, respectively. Instead, the humidifier 91 and the solvent gas are connected. It may be arranged in series with the generator 93 and connected to the solvent gas generator 93 and the chamber 82. For example, a solvent gas generator 93 is disposed downstream of the humidifier 91, and the solvent gas generator 93 is connected to the mixer 95. In this case, air from the third blower 92 is humidified by the humidifier 91 to produce humidified air, and a solvent gas is added to the humidified air by the solvent gas generator 93 to produce a mixed gas. The mixed gas is sent to the chamber 82. Note that the same effect can be obtained even when the upstream and downstream relationships between the humidifier 91 and the solvent gas mixer 93 are reversed and the solvent gas mixer 93 is disposed upstream of the humidifier 91.

また、図5及び図7の第1送風機48と第1コントローラ49とを、図8の加湿機91と第3送風機92と第5コントローラ108とに代えてもよい。そして、図5の第2送風機54と第2コントローラ55とを、図8に示す溶剤ガス生成機93と第4送風機94と第6コントローラ110とに代えてもよい。   Moreover, you may replace the 1st air blower 48 and the 1st controller 49 of FIG.5 and FIG.7 with the humidifier 91, the 3rd air blower 92, and the 5th controller 108 of FIG. Then, the second blower 54 and the second controller 55 in FIG. 5 may be replaced with the solvent gas generator 93, the fourth blower 94, and the sixth controller 110 shown in FIG.

[原料]
ポリマーとしては、疎水性のポリマーを用いる。なお、この疎水性ポリマーに両親媒性化合物を加えてもよい。両親媒性化合物は親水性をもつとともに親油性をもち、具体的には、親水基と疎水基をもつ化合物であり、これを用いることにより、ポリマー溶液の液面に水滴をより形成しやすくなる。
[material]
A hydrophobic polymer is used as the polymer. An amphiphilic compound may be added to this hydrophobic polymer. Amphiphilic compounds have hydrophilicity and lipophilicity. Specifically, they are compounds having a hydrophilic group and a hydrophobic group. By using this, water droplets are more easily formed on the liquid surface of the polymer solution. .

そして、両親媒性化合物と併用される場合の疎水性のポリマーは、非水溶性の溶媒つまり疎水性の溶媒に溶解するものが好ましく、例えば、ポリ−ε−カプロラクトン、ポリ−3−ヒドロキシブチレート、アガロース、ポリ−2−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリスルホンなどが好ましい。生分解性を必要とする場合や、あるいは、コストや入手の容易さなどを考慮すると、ポリ−ε−カプロラクトンが特に好ましい。   The hydrophobic polymer used in combination with the amphiphilic compound is preferably one that dissolves in a water-insoluble solvent, that is, a hydrophobic solvent, such as poly-ε-caprolactone, poly-3-hydroxybutyrate. , Agarose, poly-2-hydroxyethyl acrylate, polysulfone and the like are preferable. Poly- [epsilon] -caprolactone is particularly preferable when biodegradability is required, or in consideration of cost and availability.

両親媒性化合物と併用される場合の疎水性ポリマーの他の例としては、ビニル重合ポリマー(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリヘキサフルオロプロペン、ポリビニルエーテル、ポリビニルカルバゾール、ポリ酢酸ビニル、ポリテトラフルオロエチレン等)、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンサクシネート、ポリ乳酸等)、ポリラクトン(例えばポリカプロラクトンなど)、ポリアミド又はポリイミド(例えば、ナイロンやポリアミド酸など)、ポリウレタン、ポリウレア、ポリカーボネート、ポリアロマティックス、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリシロキサン誘導体、などが挙げられる。これらは、溶解性、光学的物性、電気的物性、強度、弾性等の観点から、ホモポリマーであってもよいし、コポリマーやポリマーブレンド、ポリマーアロイとしてもよい。   Other examples of hydrophobic polymers when used in combination with amphiphilic compounds include vinyl polymerized polymers (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyacrylate, polymethacrylate, polyacrylamide, polymethacrylamide, polyvinyl chloride, polychloride). Vinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polyhexafluoropropene, polyvinyl ether, polyvinyl carbazole, polyvinyl acetate, polytetrafluoroethylene, etc.), polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene succinate, polybutylene succinate, poly Lactic acid etc.), polylactone (eg polycaprolactone etc.), polyamide or polyimide (eg nylon or polyamic acid etc.), polyurethane, polyurethane A, polycarbonate, polysulfone, polyether sulfone, polysiloxane derivatives, and the like. These may be homopolymers, copolymers, polymer blends, or polymer alloys from the viewpoints of solubility, optical physical properties, electrical physical properties, strength, elasticity, and the like.

疎水性ポリマーとともに用いられる両親媒性の化合物としては、市販される多くの界面活性剤のようなモノマーの他に、二量体や三量体等のオリゴマー、ポリマーを用いることができる。両親媒性化合物と疎水性のポリマーとをともに用いる場合には、疎水性ポリマーの重量に対する両親媒性化合物の重量の割合を0.1%以上20%以下の範囲にすることが好ましい。   As the amphiphilic compound used together with the hydrophobic polymer, oligomers and polymers such as dimers and trimers can be used in addition to many commercially available monomers such as surfactants. When both an amphiphilic compound and a hydrophobic polymer are used, the ratio of the weight of the amphiphilic compound to the weight of the hydrophobic polymer is preferably in the range of 0.1% to 20%.

ポリマー溶液の溶媒となる溶剤及び供給される溶剤ガスは、疎水性のポリマーを溶解させるものであれば、特に限定されない。例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、シクロヘキサン、酢酸メチルなどが挙げられる。また、ポリマー溶液の溶媒となる溶剤と供給される溶剤ガスとは、互いに異なる化合物であってもよい。さらに、ポリマー溶液の溶媒となる溶剤及び供給される溶剤ガスは、2以上の化合物の混合物であってもよく、互いに異なる組成であってもよい。   The solvent used as the solvent for the polymer solution and the supplied solvent gas are not particularly limited as long as they dissolve the hydrophobic polymer. Examples include chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, cyclohexane, methyl acetate and the like. Further, the solvent serving as the solvent of the polymer solution and the supplied solvent gas may be different compounds. Furthermore, the solvent used as the solvent of the polymer solution and the supplied solvent gas may be a mixture of two or more compounds or may have different compositions.

溶剤として互いに異なる2種以上の化合物を用い、その割合を適宜代えて用いることにより、水滴の成長速度、成長に要する時間等を制御することができる。この場合の溶剤ガスとしては、ポリマー溶液中の溶剤成分のうち、水滴形成工程で最も蒸発しやすいものを用いるとよい。   By using two or more compounds different from each other as the solvent and appropriately changing the ratio, the growth rate of water droplets, the time required for growth, and the like can be controlled. As the solvent gas in this case, among the solvent components in the polymer solution, those that are most easily evaporated in the water droplet forming step may be used.

ポリマー溶液は、有機溶媒100重量部に対し疎水性のポリマーが0.02重量部以上20重量部以下となるようにつくることが好ましい。そして、この重量濃度範囲で、溶液の流れやすさ、すなわち流動性を調整することが好ましい。   The polymer solution is preferably prepared so that the hydrophobic polymer is 0.02 parts by weight or more and 20 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the organic solvent. And it is preferable to adjust the easiness of flow of the solution, that is, the fluidity within this weight concentration range.

ポリマー溶液については、その粘度を高くするほど結露で発生した水滴が移動しにくくなるとともにポリマー溶液自体が流れにくくなり、粘度を低くするほど水滴同士が結合して合体してしまいやすく孔径が不均一になる傾向があるとともに、流延溶液自体の流れやすくなる傾向がある。そこで、この粘度を0.1mPa・s以上50mPa・s以下の範囲とし、この範囲で溶液の流れやすさを調整することが好ましい。ポリマー溶液の流れやすさを調整することにより厚みTの調整と孔径Dの調整と、孔径差の調整とをすることができる。   For polymer solutions, the higher the viscosity, the harder the water droplets generated by condensation and the more difficult the polymer solution itself flows. The lower the viscosity, the water droplets are more likely to bond and coalesce and the pore size is uneven. And the casting solution itself tends to flow. Therefore, it is preferable that the viscosity is in the range of 0.1 mPa · s to 50 mPa · s, and the easiness of flow of the solution is adjusted in this range. By adjusting the ease of flow of the polymer solution, the thickness T, the pore diameter D, and the pore diameter difference can be adjusted.

ポリマー溶液33を以下の配合で調製した。
ポリブタジエン 1重量部
ジクロロメタン 100重量部
ポリエチレングリコオールとポリプロピレングリコオールとのブロックコポリマー
0.1重量部
Polymer solution 33 was prepared with the following formulation.
Polybutadiene 1 part by weight Dichloromethane 100 parts by weight Block copolymer of polyethylene glycol and polypropylene glycol
0.1 parts by weight

支持体32の上に上記のポリマー溶液33を載せたあと、ポリマー溶液33が濡れ広がるまで乾燥雰囲気下で自然放置した。このように形成した液膜31を支持体32に載せた状態で、多孔フィルム製造装置81を用いて水滴形成工程21と溶剤蒸発工程22と水滴蒸発工程23と、溶剤ガス供給工程24とを以下の条件で実施した。   After the polymer solution 33 was placed on the support 32, it was left to stand in a dry atmosphere until the polymer solution 33 spreads out. With the liquid film 31 thus formed placed on the support 32, the water droplet forming step 21, the solvent evaporation step 22, the water droplet evaporation step 23, and the solvent gas supply step 24 are performed using the porous film manufacturing apparatus 81. It carried out on condition of this.

水滴形成工程21の発生工程21aでは、水槽97の水96の温度を25℃、水槽97内部の水面上の空間における露点を20℃とした。これにより、水槽97から出る加湿空気につき温度を25℃、露点を20℃にした。この加湿空気のチャンバ82の内部への供給時間は3分間とした。   In the generation step 21 a of the water droplet formation step 21, the temperature of the water 96 in the water tank 97 was 25 ° C., and the dew point in the space on the water surface inside the water tank 97 was 20 ° C. Thereby, the temperature of the humidified air exiting from the water tank 97 was set to 25 ° C., and the dew point was set to 20 ° C. The supply time of the humidified air into the chamber 82 was 3 minutes.

水滴形成工程21の成長工程21bでは、水96の温度を25℃、水槽97内部の水面上の空間における露点を17℃とした。これにより、水槽97から出る加湿空気につき温度を25℃、露点を17℃にした。この加湿空気のチャンバ82の内部への供給時間は10分間とした。   In the growth step 21 b of the water droplet formation step 21, the temperature of the water 96 was 25 ° C., and the dew point in the space on the water surface inside the water tank 97 was 17 ° C. As a result, the temperature of the humidified air coming out of the water tank 97 was 25 ° C., and the dew point was 17 ° C. The supply time of the humidified air into the chamber 82 was 10 minutes.

水滴形成工程21の配列工程21cでは、水96の温度を25℃、水槽97内部の水面上の空間における露点を15℃とした。これにより、水槽97から出る加湿空気につき温度を25℃、露点を15℃にした。この加湿空気のチャンバ82の内部への供給時間は3分間とした。   In the arranging step 21c of the water droplet forming step 21, the temperature of the water 96 was 25 ° C., and the dew point in the space on the water surface inside the water tank 97 was 15 ° C. As a result, the temperature of the humidified air exiting from the water tank 97 was 25 ° C., and the dew point was 15 ° C. The supply time of the humidified air into the chamber 82 was 3 minutes.

なお、発生工程21a〜配列工程21cの水滴形成工程21では、温度調整部61により、液膜31の液面温度を5℃に保持した。   In addition, in the water droplet formation process 21 of the generation | occurrence | production process 21a-the arrangement | sequence process 21c, the liquid level temperature of the liquid film 31 was hold | maintained at 5 degreeC by the temperature adjustment part 61. FIG.

溶剤蒸発工程22では、水96の温度を25℃、水槽97内部の水面上の空間における露点を15℃とした。これにより、水槽97から出る加湿空気につき温度を25℃、露点を15℃にした。この加湿空気のチャンバ82の内部への供給時間は10分間とし、この間に溶剤の蒸発をすすめた。   In the solvent evaporation step 22, the temperature of the water 96 was 25 ° C., and the dew point in the space above the water surface inside the water tank 97 was 15 ° C. As a result, the temperature of the humidified air exiting from the water tank 97 was 25 ° C., and the dew point was 15 ° C. The supply time of the humidified air to the inside of the chamber 82 was set to 10 minutes, during which time the solvent was evaporated.

水滴蒸発工程23では、水96の温度を25℃、水槽97内部の水面上の空間における露点を15℃とした。これにより、水槽97から出る加湿空気につき温度を25℃、露点を15℃にした。この加湿空気のチャンバ82の内部への供給時間は3分間とし、この間に水滴と残っている溶剤とを蒸発させた。なお、この水滴蒸発工程23では、温度調整部61により、液膜31の液面温度を10℃に保持した。   In the water droplet evaporation step 23, the temperature of the water 96 was 25 ° C., and the dew point in the space above the water surface inside the water tank 97 was 15 ° C. As a result, the temperature of the humidified air exiting from the water tank 97 was 25 ° C., and the dew point was 15 ° C. The supply time of the humidified air to the inside of the chamber 82 was 3 minutes, during which water droplets and the remaining solvent were evaporated. In the water droplet evaporation step 23, the liquid surface temperature of the liquid film 31 was maintained at 10 ° C. by the temperature adjusting unit 61.

溶剤ガス供給工程24を、水滴形成工程21のすべての工程、すなわち発生工程21a〜配列工程21cで実施した。溶剤74はジクロロメタンである。液槽102における溶剤74の温度を15℃とした。液槽102から出る溶剤ガスにつき温度を25℃にした。この加湿空気のチャンバ82の内部への供給時間は3分間とし、この間に水滴と残っている溶剤とを蒸発させた。   The solvent gas supply step 24 was performed in all the steps of the water droplet formation step 21, that is, the generation step 21a to the arrangement step 21c. Solvent 74 is dichloromethane. The temperature of the solvent 74 in the liquid tank 102 was 15 ° C. The temperature of the solvent gas exiting from the liquid tank 102 was 25 ° C. The supply time of the humidified air to the inside of the chamber 82 was 3 minutes, during which water droplets and the remaining solvent were evaporated.

得られた多孔フィルム10について、孔径D1と、孔11の配列を含めた均一性とにつき評価した。均一性については、多孔フィルム10の孔径D1を測定し孔径変動係数Xを算出し、この算出値を以下の基準に対応させて評価した。なお、孔径変動係数Xは、{(孔の径の標準偏差)/(孔の径の平均値)}×100で求める。
◎:孔径変動係数Xが5%以下である場合
○:孔径変動係数Xが5%より大きく10%以下である場合
×:孔径変動係数Xが10%より大きい場合
About the obtained porous film 10, it evaluated about the hole diameter D1 and the uniformity including the arrangement | sequence of the hole 11. FIG. For uniformity, the pore diameter D1 of the porous film 10 was measured to calculate the pore diameter variation coefficient X, and this calculated value was evaluated in accordance with the following criteria. The hole diameter variation coefficient X is determined by {(standard deviation of hole diameter) / (average value of hole diameter)} × 100.
◎: When the pore diameter variation coefficient X is 5% or less ○: When the pore diameter variation coefficient X is greater than 5% and 10% or less ×: When the pore diameter variation coefficient X is greater than 10%

孔径D1と均一性とに基づき、総合評価を以下の基準で実施した。各評価結果については表1に示す。
A:孔径D1が20μm以上であり、均一性が◎
B:孔径D1が10μm以上20μm未満であり、均一性が○
C:孔径D1が10μm以上20μm未満であり、均一性が×
D:孔径D1が10μm未満であり、均一性が×
Based on the hole diameter D1 and uniformity, comprehensive evaluation was performed according to the following criteria. Each evaluation result is shown in Table 1.
A: The hole diameter D1 is 20 μm or more, and the uniformity is ◎
B: The hole diameter D1 is 10 μm or more and less than 20 μm, and the uniformity is good.
C: The hole diameter D1 is 10 μm or more and less than 20 μm, and the uniformity is ×
D: The hole diameter D1 is less than 10 μm, and the uniformity is ×

溶剤ガス供給工程24を、水滴形成工程21のうち発生工程21aと成長工程21bとでのみ実施し、配列工程21cでは実施しなかった。その他の条件は、実施例1と同じである。そして、得られた多孔フィルム10に関して実施例1と同様に評価した。評価結果は表1に示す。   The solvent gas supply step 24 was performed only in the generation step 21a and the growth step 21b in the water droplet formation step 21, and not in the arrangement step 21c. Other conditions are the same as those in the first embodiment. Then, the obtained porous film 10 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

溶剤ガス供給工程24を、水滴形成工程21のうち成長工程21bと配列工程21cとでのみ実施し、発生工程21aでは実施しなかった。その他の条件は、実施例1と同じである。そして、得られた多孔フィルム10に関して実施例1と同様に評価した。評価結果は表1に示す。   The solvent gas supply step 24 was performed only in the growth step 21b and the arrangement step 21c in the water droplet formation step 21, and not in the generation step 21a. Other conditions are the same as those in the first embodiment. Then, the obtained porous film 10 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

溶剤ガス供給工程24を、水滴形成工程21のうち発生工程21aでのみ実施し、成長工程21bと配列工程21cとでは実施しなかった。その他の条件は、実施例1と同じである。そして、得られた多孔フィルム10に関して実施例1と同様に評価した。評価結果は表1に示す。   The solvent gas supply step 24 was performed only in the generation step 21a in the water droplet formation step 21, and was not performed in the growth step 21b and the arrangement step 21c. Other conditions are the same as those in the first embodiment. Then, the obtained porous film 10 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

溶剤ガス供給工程24を、水滴形成工程21のうち成長工程21bでのみ実施し、発生工程21aと配列工程21cとでは実施しなかった。その他の条件は、実施例1と同じである。そして、得られた多孔フィルム10に関して実施例1と同様に評価した。評価結果は表1に示す。   The solvent gas supply step 24 was performed only in the growth step 21b in the water droplet formation step 21, and was not performed in the generation step 21a and the arrangement step 21c. Other conditions are the same as those in the first embodiment. Then, the obtained porous film 10 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

溶剤ガス供給工程24を、水滴形成工程21のうち配列工程21cでのみ実施し、発生工程21aと成長工程21bとでは実施しなかった。その他の条件は、実施例1と同じである。そして、得られた多孔フィルム10に関して実施例1と同様に評価した。評価結果は表1に示す。   The solvent gas supply process 24 was performed only in the arrangement process 21c in the water droplet formation process 21, and was not performed in the generation process 21a and the growth process 21b. Other conditions are the same as those in the first embodiment. Then, the obtained porous film 10 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

溶剤ガス供給工程24を、水滴形成工程21のすべての工程、すなわち発生工程21a〜配列工程21cで実施した。成長工程21bにおける加湿空気のチャンバ82の内部への供給時間を7分とした以外の条件は実施例1と同じである。そして、得られた多孔フィルム10に関して実施例1と同様に評価した。評価結果は表1に示す。   The solvent gas supply step 24 was performed in all the steps of the water droplet formation step 21, that is, the generation step 21a to the arrangement step 21c. The conditions are the same as in Example 1 except that the supply time of the humidified air to the inside of the chamber 82 in the growth step 21b is 7 minutes. Then, the obtained porous film 10 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

[比較例1]
溶剤ガス供給工程24を実施しなかった。その他の条件は、実施例1と同じである。そして、得られた多孔フィルム10に関して実施例1と同様に評価した。評価結果は表1に示す。
[Comparative Example 1]
The solvent gas supply step 24 was not performed. Other conditions are the same as those in the first embodiment. Then, the obtained porous film 10 was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2010235808
Figure 2010235808

実施例1〜3,5〜7で得られた多孔フィルム10は、孔径がいずれも10μm以上と従来の多孔フィルムに比べて大きく、さらに多孔フィルム10としての均一性に優れる。実施例4では均一性が実施例1,3に比べて劣る箇所が若干は認められたものの、孔径が10μ以上の孔11を形成することができた。例えば、図9に示す実施例7の多孔フィルム10は、図10に示す比較例1のフィルムと比べて孔が大きく、フィルムとしての均一性も非常に優れている。このように実施例及び比較例から、本発明によると、10μm〜数10μmの孔径をもつ孔が複数形成されたハニカム構造の多孔フィルムが得られることがわかる。   The porous films 10 obtained in Examples 1 to 3 and 5 to 7 each have a pore diameter of 10 μm or more, which is larger than the conventional porous film, and is excellent in uniformity as the porous film 10. In Example 4, although the portion where the uniformity was inferior to that of Examples 1 and 3 was slightly observed, the hole 11 having a hole diameter of 10 μm or more could be formed. For example, the porous film 10 of Example 7 shown in FIG. 9 has larger pores than the film of Comparative Example 1 shown in FIG. 10, and the uniformity as a film is very excellent. Thus, it can be seen from the examples and comparative examples that according to the present invention, a porous film having a honeycomb structure in which a plurality of holes having a diameter of 10 μm to several tens of μm are formed can be obtained.

10 多孔フィルム
11 孔
31 液膜
33 ポリマー溶液
41,71,81 多孔フィルム製造装置
43 空気供給部
44 溶剤ガス供給部
74 溶剤
76 温度調整部
83 混合ガス供給部
91 加湿機
93 溶剤ガス生成機
95 混合機
D1 孔径
D2 開口径
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Porous film 11 Hole 31 Liquid film 33 Polymer solution 41,71,81 Porous film manufacturing apparatus 43 Air supply part 44 Solvent gas supply part 74 Solvent 76 Temperature adjustment part 83 Mixed gas supply part 91 Humidifier 93 Solvent gas generator 95 Mixing Machine D1 Hole diameter D2 Opening diameter

Claims (5)

複数の孔がフィルム面に形成された多孔フィルムの製造方法において、
ポリマーが溶剤に溶解した溶液に、雰囲気中の水分を結露させて水滴を形成させる水滴形成工程と、
前記水滴が蒸発しないように前記溶液から前記溶剤を蒸発させる溶剤蒸発工程と、
前記水滴を蒸発させる水滴蒸発工程と、
前記溶剤蒸発工程前に前記溶剤が前記溶液から蒸発しないように、前記水滴形成工程の間に、前記溶液上に溶剤ガスを供給する溶剤ガス供給工程とを有することを特徴とする多孔フィルムの製造方法。
In the method for producing a porous film in which a plurality of holes are formed on the film surface,
A water droplet forming step in which water in the atmosphere is condensed in a solution in which the polymer is dissolved in a solvent to form water droplets;
A solvent evaporation step of evaporating the solvent from the solution so that the water droplets do not evaporate;
A water droplet evaporation step for evaporating the water droplets;
And a solvent gas supply step of supplying a solvent gas onto the solution so as not to evaporate the solvent from the solution before the solvent evaporation step. Method.
前記溶剤ガス供給工程では、前記溶液をチャンバ内に配して、前記溶剤ガスを前記チャンバの内部に送り込むことにより、前記溶液上に前記溶剤ガスを供給することを特徴とする請求項1記載の多孔フィルムの製造方法。   2. The solvent gas supply step according to claim 1, wherein the solvent gas is supplied onto the solution by disposing the solution in a chamber and feeding the solvent gas into the chamber. A method for producing a porous film. 前記溶剤ガス供給工程では、前記溶液と前記溶剤ガスになる液体とをチャンバ内に配して、前記液体を前記チャンバ内で蒸発させることにより、前記溶液上に前記溶剤ガスを供給することを特徴とする請求項1記載の多孔フィルムの製造方法。   In the solvent gas supply step, the solvent and the liquid that becomes the solvent gas are arranged in a chamber, and the liquid is evaporated in the chamber, whereby the solvent gas is supplied onto the solution. The method for producing a porous film according to claim 1. 前記溶剤ガス供給工程では、前記溶液をチャンバ内に配して、前記溶液から蒸発した前記溶剤を前記溶剤ガスとして用いることを特徴とする請求項1記載の多孔フィルムの製造方法。   The method for producing a porous film according to claim 1, wherein, in the solvent gas supply step, the solution is placed in a chamber, and the solvent evaporated from the solution is used as the solvent gas. 前記水滴形成工程では、加湿空気を前記溶液上に供給することを特徴とする請求項1ないし4いずれか1項記載の多孔フィルムの製造方法。   The method for producing a porous film according to any one of claims 1 to 4, wherein in the water droplet formation step, humidified air is supplied onto the solution.
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