JP2010199500A - Wiring board and display device - Google Patents

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Yasushi Nakano
泰 中野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board capable of increasing the number of connection terminals without reducing an interval between the connection terminals, and a display device. <P>SOLUTION: The wiring board includes an aperture region formed on a side of a first wiring layer of an insulation layer where a protective layer is opened and the connection terminals with signal lines respectively connected are arranged side by side, and a through hole region formed closer to a tip of a base material than the aperture region where through holes for electrically connecting signal lines on one of surfaces of an insulation film with signal lines on the other surface are formed. A first terminal region where a plurality of first connection terminals are arranged side by side along at least one side of the aperture region and a second terminal region separate from the first connection terminal where a plurality of second connection terminals are arranged side by side are formed in the aperture region. The first and second connection terminals are respectively formed on the side of the first wiring layer side of the insulation layer. In addition, the first connection terminals are electrically connected respectively with the signal lines of the first wiring layer formed on the same layer. The second terminals are electrically connected respectively with the signal lines of the second wiring layer through the through holes formed on the through hole region. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、配線基板及び表示装置に係り、特に表示装置の駆動信号を外部から供給するための配線基板に関するものである。   The present invention relates to a wiring board and a display device, and more particularly to a wiring board for supplying a driving signal for the display device from the outside.

液晶表示装置は、液晶を挟持する一対の樹脂製の透明基板を外囲器とし、液晶の広がり方向に画素が形成されて構成されている。該画素はそれぞれ独立に液晶の分子を駆動させる電界を生じさせるように構成され、該液晶の分子の駆動に対応した光透過率を得るようになっている。   The liquid crystal display device includes a pair of transparent substrates made of resin that sandwich liquid crystal as an envelope, and pixels are formed in the liquid crystal spreading direction. Each of the pixels is configured to generate an electric field for independently driving liquid crystal molecules, and obtains a light transmittance corresponding to the driving of the liquid crystal molecules.

一方の基板(以下、第1基板と記す)には、例えばX方向に延在しY方向に並設された複数のゲート線とY方向に延在しX方向に並設された複数のドレイン線とで囲まれた領域に、少なくとも、ゲート線からの走査信号によってオンされる薄膜トランジスタ(TFT)と、該オンされた薄膜トランジスタを介してドレイン線からの映像信号が供給される画素電極を備えて画素を構成している。これにより、各画素を独立に駆動させる構成としている。また、他方の基板(以下、第2基板と記す)にはブラックマトリクスと各画素に対応したR(赤)、G(緑)、B(青)のカラーフィルタが形成されており、カラーフィルタを透過した透過光量に応じたカラー表示を行う構成となっている。   One substrate (hereinafter referred to as a first substrate) includes, for example, a plurality of gate lines extending in the X direction and juxtaposed in the Y direction, and a plurality of drains extending in the Y direction and juxtaposed in the X direction. The region surrounded by the line includes at least a thin film transistor (TFT) that is turned on by a scanning signal from the gate line and a pixel electrode to which a video signal is supplied from the drain line through the turned on thin film transistor. Constitutes a pixel. Thereby, each pixel is driven independently. The other substrate (hereinafter referred to as the second substrate) is formed with a black matrix and R (red), G (green), and B (blue) color filters corresponding to each pixel. It is configured to perform color display according to the amount of transmitted light.

一方、各ドレイン線に供給される映像信号やゲート線に供給される走査信号は、外部機器から入力される制御信号に基づいて生成されるのが一般的である。このため、ガラス基板を用いた液晶表示装置では、映像信号を生成する映像信号駆動回路(ドレインドライバ)や走査信号駆動回路(ゲートドライバ)は、ACF((anisotropic conductive film;異方導電フィルム)テープを用いて、第1基板上に熱圧着される構成が一般的である。   On the other hand, the video signal supplied to each drain line and the scanning signal supplied to the gate line are generally generated based on a control signal input from an external device. For this reason, in a liquid crystal display device using a glass substrate, a video signal driving circuit (drain driver) or a scanning signal driving circuit (gate driver) that generates a video signal is an ACF ((Anisotropy Conductive Film) tape. In general, the structure is thermocompression-bonded on the first substrate by using the.

これに対して、樹脂製の基板を用いた液晶表示装置では、映像信号駆動回路や走査信号駆動回路を熱圧着で搭載しようとした場合、熱応力により、薄膜トランジスタのゲート絶縁膜等の無機材料で形成される薄膜にクラック等が生じてしまうことが指摘されている。   In contrast, in a liquid crystal display device using a resin substrate, when an image signal driving circuit or a scanning signal driving circuit is to be mounted by thermocompression bonding, an inorganic material such as a gate insulating film of a thin film transistor is used due to thermal stress. It has been pointed out that cracks and the like occur in the formed thin film.

前述する問題を解決する手段として、薄膜トランジスタと共に樹脂製の第1基板上に映像信号駆動回路や走査信号駆動回路を形成することが提案されている。しかしながら、薄膜トランジスタをアモルファスシリコンTFTで形成する場合、薄膜トランジスタに要求される特性から走査信号駆動回路の形成は可能であるが、走査線駆動回路を形成することが出来ないという問題がある。   As means for solving the above-described problems, it has been proposed to form a video signal driving circuit and a scanning signal driving circuit on a resin-made first substrate together with a thin film transistor. However, when the thin film transistor is formed using an amorphous silicon TFT, a scanning signal driving circuit can be formed because of characteristics required for the thin film transistor, but there is a problem that a scanning line driving circuit cannot be formed.

このため、従来の液晶表示では、走査線駆動回路を液晶表示装置に接続されるフレキシブル配線基板上に搭載し、フレキシブル配線基板の信号線を介して各ドレイン線に走査信号を供給するCOF(Chip On Film)技術が用いられている。   For this reason, in a conventional liquid crystal display, a scanning line driving circuit is mounted on a flexible wiring board connected to the liquid crystal display device, and a scanning signal is supplied to each drain line via a signal line of the flexible wiring board. On Film) technology is used.

しかしながら、近年の携帯電話に代表される携帯機器の高精細化の進展により、携帯機器の大きさの制約から液晶表示装置本体の大きさの進展よりも画素数の増加の方が大きく、ドレイン線数も大幅に増加することとなっている。このために液晶表示装置の一辺側から液晶表示に必要な映像信号及び走査線駆動回路の制御信号等を入力するための電極端子数も大幅に増加する一方で、これらの信号を入力する電極端子が形成される領域の増加は小さなものとなっているので、電極端子の配置間隔(ピッチ)が非常に狭いものとなり、電極端子と接続端子との位置合わせが非常に困難であるという問題がある。   However, due to the progress of higher definition of mobile devices represented by mobile phones in recent years, the increase in the number of pixels is larger than the progress of the size of the liquid crystal display device body due to the restrictions on the size of the mobile devices. The number will also increase significantly. For this reason, the number of electrode terminals for inputting video signals necessary for liquid crystal display, control signals for the scanning line driving circuit, etc. from one side of the liquid crystal display device is greatly increased, while electrode terminals for inputting these signals. Since the increase in the area where the electrode is formed is small, there is a problem that the arrangement interval (pitch) of the electrode terminals is very narrow, and the alignment between the electrode terminals and the connection terminals is very difficult. .

この問題を解決する方法として、電極端子の配置間隔を大きくすることが考えられるが、配置間隔を大きくした場合、フレキシブル配線基板の幅が大きくなってしまい、液晶表示装置の一辺側から当該フレキシブル配線基板を接続することが困難になってしまうという問題がある。   As a method for solving this problem, it is conceivable to increase the arrangement interval of the electrode terminals. However, when the arrangement interval is increased, the width of the flexible wiring board becomes large, and the flexible wiring is formed from one side of the liquid crystal display device. There is a problem that it becomes difficult to connect the substrates.

本発明はこれらの問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、接続端子の間隔を小さくすることなく接続端子数を増加させることが可能な配線基板及び表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of these problems, and an object of the present invention is to provide a wiring board and a display device capable of increasing the number of connection terminals without reducing the interval between the connection terminals. It is in.

前記課題を解決すべく、基材上に複数の信号線が並設される配線層と、前記配線層を保護する保護層とを有する配線基板であって、絶縁層を介して形成される第1の配線層と第2の配線層とが形成される配線領域と、前記絶縁層の第1の配線層側に形成され、前記保護層が開口され前記信号線がそれぞれ接続される接続端子が並設される開口領域と、前記開口領域よりも前記基材の先端側領域に形成され、前記絶縁膜の一方の面と他方の面の信号線を電気的に接続する貫通孔が形成される貫通孔領域とを有し、前記開口領域の少なくとも一辺に沿って複数の第1の接続端子が並設される第1端子領域と、前記第1の接続端子から離間した領域であり、複数の第2の接続端子が並設される第2端子領域とが前記開口領域に形成され、前記第1及び第2の接続端子は前記絶縁層の第1の配線層側にそれぞれ形成されると共に、前記第1の接続端子は同層に形成される前記第1の配線層の信号線とそれぞれ電気的に接続され、前記第2の接続端子は前記貫通孔領域に形成される貫通孔を介して前記第2の配線層の信号線とそれぞれ電気的に接続されてなる配線基板である。   In order to solve the above problems, a wiring board having a wiring layer in which a plurality of signal lines are arranged on a base material and a protective layer for protecting the wiring layer, the first wiring board being formed through an insulating layer. A wiring region in which one wiring layer and a second wiring layer are formed, and a connection terminal formed on the first wiring layer side of the insulating layer, the protective layer being opened and the signal lines being connected to each other; An opening region arranged in parallel and a through hole that is formed in the tip side region of the base material relative to the opening region and electrically connects the signal lines on one surface and the other surface of the insulating film are formed. A first terminal region having a through-hole region, a plurality of first connection terminals arranged in parallel along at least one side of the opening region, and a region separated from the first connection terminal, A second terminal region in which second connection terminals are arranged in parallel is formed in the opening region; The second connection terminals are respectively formed on the first wiring layer side of the insulating layer, and the first connection terminals are electrically connected to the signal lines of the first wiring layer formed in the same layer, respectively. The second connection terminal is a wiring board that is electrically connected to the signal line of the second wiring layer through a through hole formed in the through hole region.

また、前記課題を解決すべく、複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線と、複数の薄膜トランジスタを有し、外部から前記ドレイン線又は/及び前記ゲート線に駆動信号を入力する電極端子と、前記電極端子に接続され、制御信号を入力する請求項1乃至7の内のいずれかに記載の配線基板とを備え、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素の領域とする表示装置である。   Further, in order to solve the above-mentioned problem, a plurality of drain lines, a plurality of gate lines intersecting with the drain lines, and a plurality of thin film transistors are provided, and a drive signal is externally supplied to the drain lines and / or the gate lines. And a wiring board according to claim 1 connected to the electrode terminal for inputting a control signal, and surrounded by the drain line and the gate line. This is a display device in which the region is a pixel region.

本発明によれば、接続端子の間隔を小さくすることなく接続端子数を増加させることができる。   According to the present invention, the number of connection terminals can be increased without reducing the interval between the connection terminals.

本発明の実施形態1の液晶表示装置の概略構成を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating schematic structure of the liquid crystal display device of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1の液晶表示装置に接続される配線基板の構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of the wiring board connected to the liquid crystal display device of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1の液晶表示装置に接続される配線基板の構成を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the structure of the wiring board connected to the liquid crystal display device of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1の液晶表示装置に接続される配線基板の構成を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the structure of the wiring board connected to the liquid crystal display device of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態2の液晶表示装置における配線基板の概略構成を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating schematic structure of the wiring board in the liquid crystal display device of Embodiment 2 of this invention.

以下、本発明が適用された実施形態の例について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明は省略する。   Hereinafter, an example of an embodiment to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings. However, in the following description, the same components are denoted by the same reference numerals, and repeated description is omitted.

〈実施形態1〉
〈全体構成〉
図1は本発明の実施形態1の液晶表示装置の概略構成を説明するための平面図である。ただし、図1に示す液晶表示装置は、その液晶表示領域の対角が比較的小型のものを示している。また、実施形態1では液晶表示装置に本願発明を適用した場合について説明するが、これに限定されることはなく、EL表示装置や他の電子機器等であってもよい。
<Embodiment 1>
<overall structure>
FIG. 1 is a plan view for explaining a schematic configuration of a liquid crystal display device according to Embodiment 1 of the present invention. However, the liquid crystal display device shown in FIG. 1 has a relatively small diagonal in the liquid crystal display region. In the first embodiment, a case where the present invention is applied to a liquid crystal display device will be described. However, the present invention is not limited to this, and an EL display device, another electronic device, or the like may be used.

図1に示すように、実施形態1の液晶表示装置は画素電極等が形成される半導体素子側基板(TFT側基板、第1基板)SUB1と、カラーフィルタやブラックマトリクス(遮光膜)が形成され、第1基板SUB1に対向して配置されるカラーフィルタ側基板(CF側基板、第2基板)SUB2と、該第1基板SUB1と第2基板SUB2とで挟持される図示しない液晶とで構成される液晶表示パネルを有し、該液晶表示パネルと光源となる図示しないバックライトユニットとを組み合わせることにより、液晶表示装置ができる。第1基板SUB1と第2基板SUB2との固定(固着)及び2枚の基板SUB1、SUB2で挟持される液晶の封止は、表示領域ARの周辺に形成されるシール材SLで固定され、液晶も封止される構成となっている。なお、以下の説明では、液晶表示パネルの説明においても、液晶表示装置と記す。   As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device of Embodiment 1 includes a semiconductor element side substrate (TFT side substrate, first substrate) SUB1 on which pixel electrodes and the like are formed, and a color filter and a black matrix (light shielding film). And a color filter side substrate (CF side substrate, second substrate) SUB2 disposed opposite to the first substrate SUB1, and a liquid crystal (not shown) sandwiched between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2. A liquid crystal display device can be obtained by combining the liquid crystal display panel and a backlight unit (not shown) serving as a light source. The first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 are fixed (fixed) and the liquid crystal sandwiched between the two substrates SUB1 and SUB2 is fixed by a sealing material SL formed around the display area AR. Is also configured to be sealed. In the following description, the liquid crystal display panel is also referred to as a liquid crystal display device.

第1基板SUB1及び第2基板SUB2としては、周知の透明な樹脂基板を用いている。この樹脂基板で第1基板SUB1及び第2基板SUB2を形成し液晶表示装置を構成する。なお、第1基板SUB1及び第2基板SUB2としては前述の樹脂基板に限定されることはなく、ガラス基板でもよく、さらには石英ガラス等の他の絶縁性基板であってもよい。たとえば、石英ガラスを用いれば、プロセス温度を高くできるため、ゲート絶縁膜を緻密化できるので、後述する薄膜トランジスタTFTの信頼性を向上することができる。ただし、実施形態1の液晶表示装置では、プラスチック(樹脂)基板を用いる構成となっているので、軽量で、耐衝撃性に優れた液晶表示装置を提供できる。   As the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2, a known transparent resin substrate is used. A first substrate SUB1 and a second substrate SUB2 are formed with this resin substrate to constitute a liquid crystal display device. The first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 are not limited to the above-described resin substrates, and may be glass substrates, and may be other insulating substrates such as quartz glass. For example, if quartz glass is used, the process temperature can be increased and the gate insulating film can be densified, so that the reliability of the thin film transistor TFT described later can be improved. However, since the liquid crystal display device of Embodiment 1 is configured to use a plastic (resin) substrate, a liquid crystal display device that is lightweight and excellent in impact resistance can be provided.

また、実施形態1の液晶表示装置では、液晶が封入された領域の内で表示画素(以下、画素と略記する)の形成される領域が表示領域ARであり、該表示領域ARの最も外側を適宜表示領域の最外周と記す。また、液晶が封入されている領域内であっても、画素が形成されておらず表示に係わらない領域は表示領域ARとはならない。   In the liquid crystal display device according to the first embodiment, a region in which display pixels (hereinafter abbreviated as pixels) are formed in a region in which liquid crystal is sealed is a display region AR, and the outermost region of the display region AR is formed. The outermost circumference of the display area is appropriately described. Even in the region where the liquid crystal is sealed, a region where pixels are not formed and which is not involved in display is not the display region AR.

さらには、実施形態1の液晶表示装置では、薄膜トランジスタTFTとしてアモルファスシリコンTFTを用いており、アモルファスシリコンでも形成することが可能な走査信号駆動回路(ゲートドライバ)GDRのみが第1基板SUB1上に形成される構成となっている。一方、アモルファスシリコンで形成することが困難な映像信号駆動回路(ドレインドライバ)DDRは配線基板(フレキシブル配線基板)FPCに搭載される構成となっており、電極端子部CNAに接続されるフレキシブル配線基板FPCを介して入力されるゲートドライバGDRの制御信号と共に、映像信号が入力される構成となっている。なお、フレキシブル配線基板FPC及び電極端子部CNAの構成については、後に詳述する。また、以下の説明においては、ドレインドライバとゲートドライバとを特に区別する必要がない場合には、単に駆動回路(ドライバ)と略記する。   Furthermore, in the liquid crystal display device of the first embodiment, an amorphous silicon TFT is used as the thin film transistor TFT, and only the scanning signal drive circuit (gate driver) GDR that can be formed of amorphous silicon is formed on the first substrate SUB1. It becomes the composition which is done. On the other hand, a video signal drive circuit (drain driver) DDR that is difficult to form with amorphous silicon is mounted on a wiring board (flexible wiring board) FPC, and is a flexible wiring board connected to the electrode terminal portion CNA. A video signal is input together with a control signal for the gate driver GDR input via the FPC. The configurations of the flexible wiring board FPC and the electrode terminal portion CNA will be described in detail later. In the following description, the drain driver and the gate driver are simply abbreviated as a drive circuit (driver) when it is not necessary to distinguish between the drain driver and the gate driver.

図1に示すように実施形態1の液晶表示装置では、第1基板SUB1の液晶側の面であって表示領域AR内には、図中X方向に延在しY方向に並設される走査信号線(ゲート線)GLが形成されている。また、図中Y方向に延在しX方向に並設される映像信号線(ドレイン線)DLが形成されている。   As shown in FIG. 1, in the liquid crystal display device according to the first embodiment, scanning is performed on the liquid crystal side surface of the first substrate SUB1 and in the display area AR, extending in the X direction in FIG. A signal line (gate line) GL is formed. In addition, video signal lines (drain lines) DL extending in the Y direction and juxtaposed in the X direction are formed.

ドレイン線DLとゲート線GLとで囲まれる矩形状の領域は画素が形成される領域を構成し、これにより、各画素は表示領域AR内においてマトリックス状に配置される構成となっている。各画素は、例えば図1中丸印Aの部分において、その拡大図A’に示すように、ゲート線GLからの走査信号によってオンされる薄膜トランジスタTFTと、このオンされた薄膜トランジスタTFTを介してドレイン線DLからの映像信号が供給される画素電極PXと、コモン線CLに接続され映像信号の電位に対して基準となる電位を有する基準信号が供給される共通電極CTとを備えている。画素電極PXと共通電極CTとの間には、第1基板SUB1の面に平行な成分を有する電界が生じ、この電界によって液晶の分子を駆動させるようになっている。このような液晶表示装置は、いわゆる広視野角表示ができるものとして知られ、液晶への電界の印加の特異性から、IPS方式、あるいは横電界方式と称される。   A rectangular region surrounded by the drain line DL and the gate line GL constitutes a region in which pixels are formed, whereby each pixel is arranged in a matrix in the display region AR. Each pixel has a thin film transistor TFT that is turned on by a scanning signal from the gate line GL and a drain line through the turned on thin film transistor TFT, for example, in a portion indicated by a circle A in FIG. The pixel electrode PX to which the video signal from DL is supplied, and the common electrode CT connected to the common line CL and supplied with a reference signal having a reference potential with respect to the potential of the video signal. An electric field having a component parallel to the surface of the first substrate SUB1 is generated between the pixel electrode PX and the common electrode CT, and liquid crystal molecules are driven by this electric field. Such a liquid crystal display device is known to be capable of so-called wide viewing angle display, and is called an IPS system or a lateral electric field system because of the peculiarity of applying an electric field to liquid crystal.

なお、拡大図A’に示す共通電極CTの構成では、画素毎に独立して形成される共通電極CTにコモン線CLを介して基準信号を入力する構成としたが、これに限定されることはなく、例えばX軸方向に隣接配置される画素の共通電極CTが直接に接続されるように当該共通電極CTを形成し、X軸方向の左右(第1基板SUB1の端部)の一端から、又は両側からコモン線CLを介して基準信号を入力する構成でもよい。   In the configuration of the common electrode CT shown in the enlarged view A ′, the reference signal is input to the common electrode CT formed independently for each pixel through the common line CL. However, the configuration is limited to this. For example, the common electrode CT is formed so that the common electrodes CT of the pixels adjacently arranged in the X-axis direction are directly connected, and from the left and right ends (the end portion of the first substrate SUB1) in the X-axis direction. Alternatively, the reference signal may be input from both sides via the common line CL.

また、実施形態1では、各ドレイン線DL及び各ゲート線GLはその端部においてシール材SLを越えてそれぞれ延在され、ゲート線GLはゲートドライバGDRに接続され、ドレイン線DLは電極端子部CNAまで延在される構成となっている。   In the first embodiment, each drain line DL and each gate line GL extend beyond the sealing material SL at their ends, the gate line GL is connected to the gate driver GDR, and the drain line DL is an electrode terminal portion. The configuration extends to the CNA.

〈配線基板の構成〉
図2は本発明の実施形態1の液晶表示装置に接続される配線基板の構成を説明するための図であり、図3及び図4は本発明の実施形態1の液晶表示装置に接続される配線基板の構成を説明するための断面図である。特に、図2は図1に示す配線基板の一部を拡大した図であり、説明を簡単にするために後述する第2の配線層の配線(信号線、信号配線)を省略した図である。また、図3は図2に示すB−B’線における断面図であり、図4は図2に示すC−C’線における断面図である。
<Configuration of wiring board>
FIG. 2 is a diagram for explaining a configuration of a wiring board connected to the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. FIGS. 3 and 4 are connected to the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. It is sectional drawing for demonstrating the structure of a wiring board. In particular, FIG. 2 is an enlarged view of a part of the wiring board shown in FIG. 1, and is a view in which wiring (signal lines and signal wirings) of a second wiring layer, which will be described later, is omitted for simplicity of explanation. . 3 is a cross-sectional view taken along line BB ′ shown in FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line CC ′ shown in FIG.

実施形態1の配線基板FPCは、例えば柔軟性を有する絶縁体(ベースフィルム)であるポリイミド系や液晶ポリマー(LCP)系の樹脂材を基材BFとしており、該基材BFの両面に銅等の導電性の物質で配線を形成し、該配線を基材BFの幅方向に複数本並設した構成となっている。特に、実施形態1の配線基板FPCでは、接続相手である液晶表示パネルの電極端子と接続する側の面には、50μm間隔で第1の配線CO1が並設される構成となっている(以下の説明では、こちら側の配線層を第1の配線層と記す)。また、基材BFを介して第1の配線層と対向する側であり電極端子と接続されない側の面には、200μm間隔で第2の配線CO2が並設される構成となっている。特に、実施形態1の配線基板FPCでは、第2の配線層に並設される各第2の配線CO2は第1の配線層に並設される第1の配線CO1の内のいずれかと、基材BFを介して対向する位置に形成される構成となっている。実施形態1の配線基板FPCでは、第1の配線層に並設される第1の配線CO1に対して、第2の配線層に並設される第2の配線CO2は3本おきに形成される構成となっている。   The wiring board FPC of Embodiment 1 uses, for example, a polyimide-based or liquid crystal polymer (LCP) -based resin material, which is a flexible insulator (base film), as a base material BF, and copper or the like on both surfaces of the base material BF. The wiring is formed of the conductive material, and a plurality of the wirings are arranged in the width direction of the base material BF. In particular, the wiring board FPC according to the first embodiment has a configuration in which the first wiring CO1 is arranged in parallel at intervals of 50 μm on the surface connected to the electrode terminal of the liquid crystal display panel, which is the connection partner (hereinafter referred to as “the wiring substrate FPC”). In this explanation, the wiring layer on this side is referred to as a first wiring layer). In addition, the second wiring CO2 is arranged in parallel at intervals of 200 μm on the surface facing the first wiring layer through the base material BF and not connected to the electrode terminal. In particular, in the wiring board FPC according to the first embodiment, each second wiring CO2 arranged in parallel with the second wiring layer is connected to any one of the first wirings CO1 arranged in parallel with the first wiring layer. It is the structure formed in the position which opposes via the material BF. In the wiring board FPC of the first embodiment, every third wiring CO2 provided in parallel in the second wiring layer is formed with respect to the first wiring CO1 provided in parallel in the first wiring layer. It is the composition which becomes.

また、実施形態1の配線基板では、前述するように第1及び第2の配線CO1、CO2が形成される配線形成領域COA(ただし、本願明細書中においては、ドレインドライバDDRが搭載される領域も配線形成領域に含む)と、接続相手である液晶表示パネルの電極端子とを接続するための端子である接続端子が形成される接続端子領域OPAと、基材BFに貫通孔(孔)TH1が形成され第2の配線CO2と第3の配線CO3とを電気的に接続するための領域である貫通孔領域THAとから構成されている。特に、実施形態1の配線基板FPCでは、当該配線基板FPCの端部側すなわち第1及び第2の配線CO1、CO2の延在方向の端部側に貫通孔領域THAが形成され、該貫通孔領域THAと配線形成領域COAとの間の領域に接続端子領域(開口領域)OPAが形成される構成となっている。このような構成とすることによって、第1の配線層に形成される第1の配線CO1の間隔に影響を与えることなく、貫通孔TH1を介して第2の配線CO2を第1の配線層側に形成される第3の配線CO3にそれぞれ接続する構成としている。   In the wiring board of the first embodiment, as described above, the wiring formation area COA in which the first and second wirings CO1 and CO2 are formed (in the present specification, the area in which the drain driver DDR is mounted). Are also included in the wiring formation region) and a connection terminal region OPA in which a connection terminal as a terminal for connecting the electrode terminal of the liquid crystal display panel as a connection partner is formed, and a through hole (hole) TH1 in the base material BF. And a through hole region THA that is a region for electrically connecting the second wiring CO2 and the third wiring CO3. In particular, in the wiring board FPC according to the first embodiment, the through hole region THA is formed on the end side of the wiring board FPC, that is, on the end side in the extending direction of the first and second wirings CO1 and CO2. A connection terminal region (opening region) OPA is formed in a region between the region THA and the wiring formation region COA. With such a configuration, the second wiring CO2 is connected to the first wiring layer side through the through hole TH1 without affecting the interval between the first wirings CO1 formed in the first wiring layer. Are connected to the third wirings CO3 formed in the above.

また、実施形態1の配線基板FPCでは、図3に示すように、配線形成領域COAにおいては厚さ15μmの基材BFの一方の面(図3中の下面側)に厚さ15μmの第1の配線CO1が形成され、該第1の配線CO1の表面が厚さ8μmの周知のソルダーレジストSR(カバーフィルム等であってもよい)で被われる構成となっている。一方、基材BFの他方の面(図3中の上面側)には厚さ15μmの第2の配線CO2が形成され、該第2の配線CO2の表面には周知の接着剤ADHの層が厚さ18μmで形成され、厚さ12.5μmの周知のカバーフィルムCFが接着されている。   In the wiring board FPC of the first embodiment, as shown in FIG. 3, in the wiring formation region COA, the first surface 15 μm thick on one surface (the lower surface side in FIG. 3) of the substrate BF 15 μm thick. The wiring CO1 is formed, and the surface of the first wiring CO1 is covered with a known solder resist SR (which may be a cover film or the like) having a thickness of 8 μm. On the other hand, a second wiring CO2 having a thickness of 15 μm is formed on the other surface (upper surface side in FIG. 3) of the substrate BF, and a layer of a known adhesive ADH is formed on the surface of the second wiring CO2. A known cover film CF having a thickness of 18 μm and a thickness of 12.5 μm is adhered.

該配線形成領域COAに連続する接続端子領域OPAにおいては、ソルダーレジストSRが除去された構成となっており、配線形成領域COAから延在して形成された第1の配線CO1の露出部分に例えば周知の金メッキを施すことにより、各第1の配線CO1に対応する第1接続端子CN1を形成する構成となっている。また、実施形態1の配線基板FPCでは、貫通孔TH1を介して第2の配線CO2と電気的に接続される第3の配線CO3が接続端子領域OPAに延在し、該接続端子領域OPAに延在し露出する部分に周知の金メッキを施すことにより、各第3の配線CO3(すなわち、第2の配線CO2)に対応する第2接続端子CN2を形成する構成としている。ただし、図2から明らかなように、実施形態1の配線基板FPCにおいては、第1接続端子CN1と第2接続端子CN2とは同一直線上に形成される。従って、第2の配線CO2すなわち第3の配線CO3が形成されない部分では、第1接続端子CN1の延長線上に第2接続端子CN2は形成されない構成となっている。さらには、第1接続端子CN1と第2接続端子CN2とはその延在方向に対しても所定間隔を設けて形成され、図3に示すように、周知の異方性導電膜ACFを介して液晶表示パネル側の電極端子と第1及び第2電極端子CN1、CN2とを電気的に接続した場合であっても、第1接続端子CN1と第2接続端子CN2とが電気的に接続されない(短絡しない)構成としている。   In the connection terminal area OPA continuous to the wiring formation area COA, the solder resist SR is removed, and an exposed portion of the first wiring CO1 formed extending from the wiring formation area COA, for example, By performing well-known gold plating, the first connection terminal CN1 corresponding to each first wiring CO1 is formed. In the wiring board FPC according to the first embodiment, the third wiring CO3 that is electrically connected to the second wiring CO2 through the through hole TH1 extends to the connection terminal area OPA, and is connected to the connection terminal area OPA. The second connection terminal CN2 corresponding to each third wiring CO3 (that is, the second wiring CO2) is formed by performing well-known gold plating on the extended and exposed portion. However, as is apparent from FIG. 2, in the wiring board FPC of the first embodiment, the first connection terminal CN1 and the second connection terminal CN2 are formed on the same straight line. Accordingly, the second connection terminal CN2 is not formed on the extended line of the first connection terminal CN1 in the portion where the second wiring CO2, that is, the third wiring CO3 is not formed. Further, the first connection terminal CN1 and the second connection terminal CN2 are formed at a predetermined interval in the extending direction, and as shown in FIG. 3, through a known anisotropic conductive film ACF. Even when the electrode terminal on the liquid crystal display panel side and the first and second electrode terminals CN1 and CN2 are electrically connected, the first connection terminal CN1 and the second connection terminal CN2 are not electrically connected ( (No short circuit).

貫通孔領域THAにおいては、図2に示すように、基材BFに形成した貫通孔(孔)TH1の内周面に沿って第2の配線CO2と同じ導電材料である銅の薄膜が形成されると共に、該貫通孔TH1の周縁部には直径0.25mmのスルーホールランドTHLが形成され、貫通孔TH1による第2の配線層側と第3の配線層側との接続信頼性を確保している。さらには、貫通孔TH1の中心部分には導電材料が形成されず、導電材料の内周面が開口し貫通する直径0.03mmのスルーホールTH2が形成される構成となっている。   In the through hole area THA, as shown in FIG. 2, a thin film of copper, which is the same conductive material as the second wiring CO2, is formed along the inner peripheral surface of the through hole (hole) TH1 formed in the base material BF. In addition, a through hole land THL having a diameter of 0.25 mm is formed in the peripheral portion of the through hole TH1 to ensure connection reliability between the second wiring layer side and the third wiring layer side by the through hole TH1. ing. Further, the conductive material is not formed in the central portion of the through hole TH1, and a through hole TH2 having a diameter of 0.03 mm is formed through which the inner peripheral surface of the conductive material opens and passes.

このように実施形態1の配線基板FPCでは、スルーホールランドTHLが形成される構成となっているので、該スルーホールランドTHLが貫通孔TH1や配線幅よりも大きな領域を占めてしまうこととなる。このため、実施形態1の配線基板FPCでは、各第2の配線CO2の延在方向にずらした(移動させた)位置にスルーホールランドTHLを含む貫通孔TH1を形成すると共に、該各配線CO1、CO2、CO3の並設方向に貫通孔TH1を含むスルーホールランドTHLをずらした(移動させた)構成とすることにより、各配線CO1、CO2、CO3の並設方向に対するスルーホールランドTHLの配置間隔すなわち第2の配線層の配線間隔を小さくすることが可能な構成としている。   Thus, since the through-hole land THL is formed in the wiring board FPC according to the first embodiment, the through-hole land THL occupies a region larger than the through-hole TH1 and the wiring width. . For this reason, in the wiring board FPC of the first embodiment, the through hole TH1 including the through hole land THL is formed at a position shifted (moved) in the extending direction of each second wiring CO2, and each wiring CO1. By disposing (moving) the through-hole land THL including the through-hole TH1 in the juxtaposed direction of CO2, CO2, and CO3, the arrangement of the through-hole land THL with respect to the juxtaposed direction of the wirings CO1, CO2, and CO3 The interval, that is, the wiring interval of the second wiring layer can be reduced.

さらには、図3から明らかなように、実施形態1の配線基板FPCでは、基材BFの他方の面側(図3中に示す基材BFの上側)に形成され、配線形成領域COAから接続端子領域OPAを超えて貫通孔領域THAに至る各第2の配線CO2は、それぞれ一つの貫通孔TH1のスルーホールランドTHLに接続される構成となっている。また、基材BFの一方の面側(図3中に示す基材BFの下側)においても、図2及び図3に示すように、一つの貫通孔TH1のスルーホールランドTHLは第3の配線CO3の内のいずれか一つに接続され、第2接続端子CN2に接続される構成となっている。   Further, as is clear from FIG. 3, in the wiring board FPC of the first embodiment, the wiring board FPC is formed on the other surface side of the base material BF (upper side of the base material BF shown in FIG. 3) and connected from the wiring formation region COA. Each second wiring CO2 extending from the terminal area OPA to the through hole area THA is connected to the through hole land THL of one through hole TH1. Further, also on one surface side of the base material BF (below the base material BF shown in FIG. 3), as shown in FIGS. 2 and 3, the through-hole land THL of one through-hole TH1 is the third hole TH1. It is connected to any one of the wirings CO3 and connected to the second connection terminal CN2.

一方、接続端子領域OPAにおいて、第1接続端子CN1の延在方向の延長上に第2接続端子CN2が形成されない部分は、図4に示すように、基材BFの一方の面側(図4中に示す基材BFの下側)に第1の配線CO1のみが形成される構成となっている。すなわち、基材BFの他方の面側(図4中に示す基材BFの上側)には、第2の配線CO2は形成されず、接着剤ADHで周知のカバーフィルムCFが接着される構成となっている。   On the other hand, in the connection terminal area OPA, the portion where the second connection terminal CN2 is not formed on the extension in the extending direction of the first connection terminal CN1 is, as shown in FIG. 4, one surface side of the base material BF (FIG. 4). Only the first wiring CO1 is formed on the lower side of the base material BF shown in the figure. That is, the second wiring CO2 is not formed on the other surface side of the base material BF (upper side of the base material BF shown in FIG. 4), and a well-known cover film CF is bonded with the adhesive ADH. It has become.

〈液晶表示パネルの電極端子構造及び配線基板との接続〉
液晶表示パネルの側においては、周知のホトリソグラフィ技術を用いて、表示領域内においては全てのドレイン線DLを同一層に形成する構成としているが、表示領域AR外においてドレイン線DLを二層構造とする構成となっている。例えば、二層構造としたドレイン線DLの内で、配線基板の第1の配線層の配線に接続される第1のドレイン線DL1は従来のドレイン線DLと同じ層に形成し、図3中の第1のドレイン線DL1の上層に形成される層間絶縁膜INの上層に、第2の配線CO2に接続される第2のドレイン線DL2が形成される構成となっている。このような二層構造とすることによって、第1接続端子CN1及び第2接続端子CN2と、第1及び第2ドレイン線DL1、DL2とのそれぞれの接続が、異方性導電膜ACFを用いて容易に行える構成となる。また、第1接続端子CN1のみが形成される部分においても、異方性導電膜ACFを用いた第1接続端子CN1と第1ドレイン線DL1との接続が容易に行える。
<Electrode terminal structure of liquid crystal display panel and connection with wiring board>
On the side of the liquid crystal display panel, all drain lines DL are formed in the same layer in the display area by using a well-known photolithography technique, but the drain lines DL are formed in a two-layer structure outside the display area AR. It becomes the composition which becomes. For example, in the drain line DL having a two-layer structure, the first drain line DL1 connected to the wiring of the first wiring layer of the wiring board is formed in the same layer as the conventional drain line DL, as shown in FIG. The second drain line DL2 connected to the second wiring CO2 is formed in the upper layer of the interlayer insulating film IN formed in the upper layer of the first drain line DL1. With such a two-layer structure, the first connection terminal CN1 and the second connection terminal CN2 are connected to the first and second drain lines DL1 and DL2 using the anisotropic conductive film ACF. It can be easily configured. Further, even in the portion where only the first connection terminal CN1 is formed, the connection between the first connection terminal CN1 and the first drain line DL1 using the anisotropic conductive film ACF can be easily performed.

なお、実施形態1の配線基板FPCは、基材BFの厚さが15μmであり接続端子の厚さが15μm以上と比較的厚く段差が大きい構成となっているので、基材BFの一方の面側に第1及び第2接続端子CN1、CN2を形成する構成としている。しかしながら、実施形態1の液層表示パネルの層間絶縁膜INの厚さは0.4μm、ドレイン線DLに接続される配線DL1、DL2の厚さはそれぞれ0.2μmであり、各薄膜による段差が小さいので、実施形態1の液晶表示パネル側の電極端子部CNAにおいては、図3に示すように第1及び第2ドレイン線DL1、DL2の保護膜PAS及び層間絶縁膜INを除去し、図示しないITO膜による被服等を行う構成としている。   Note that the wiring board FPC according to the first embodiment has a structure in which the thickness of the base material BF is 15 μm and the thickness of the connection terminal is relatively thick, ie, 15 μm or more, so that the level difference is large. The first and second connection terminals CN1 and CN2 are formed on the side. However, the thickness of the interlayer insulating film IN of the liquid crystal display panel of Embodiment 1 is 0.4 μm, and the thicknesses of the wirings DL1 and DL2 connected to the drain line DL are each 0.2 μm. Since it is small, in the electrode terminal portion CNA on the liquid crystal display panel side of Embodiment 1, the protective film PAS and the interlayer insulating film IN of the first and second drain lines DL1 and DL2 are removed as shown in FIG. It is configured to carry out clothing with an ITO film.

このように、実施形態1の液晶表示装置では、絶縁材である基材BFを介して形成される第1の配線CO1と第2の配線CO2とが形成される配線領域を備える配線基板FPCは、基材BFの第1の配線層CO1側にソルダーレジストSRの開口領域が形成される接続端子領域OPAと、この開口領域よりも基材BFの先端側領域に形成され、第2の配線CO2と第3の配線CO3とを接続する貫通孔TH1が形成される貫通孔領域とを有する構成となっている。この開口領域内には、複数の第1の接続端子CN1が並設される第1端子領域(図2中にYで示す)と、複数の第2の接続端子CN2が並設される第2端子領域(図2中にXで示す)とがそれぞれ形成され、第1及び第2の接続端子CN1、CN2は基材BFの第1の配線層CO1側にそれぞれ形成される構成となっている。さらには、第1の接続端子CN1は同層に形成される第1の配線層CO1の配線とそれぞれ電気的に接続され、第2の接続端子CN2は貫通孔TH1及び第3の配線CO3を介して第2の配線層CO2の信号線とそれぞれ電気的に接続される構成となっているので、第1及び第2接続端子CN1、CN2の間隔を小さくすることなく接続端子数を増加させることができる。   As described above, in the liquid crystal display device according to the first embodiment, the wiring substrate FPC including the wiring region in which the first wiring CO1 and the second wiring CO2 formed through the base material BF which is an insulating material is formed. The connection terminal region OPA in which the opening region of the solder resist SR is formed on the first wiring layer CO1 side of the base material BF, and the second wiring CO2 is formed in the tip side region of the base material BF from the opening region. And a third through hole region in which a through hole TH1 for connecting the third wiring CO3 is formed. In this opening region, a first terminal region (indicated by Y in FIG. 2) in which a plurality of first connection terminals CN1 are arranged in parallel and a second terminal in which a plurality of second connection terminals CN2 are arranged in parallel. Terminal regions (indicated by X in FIG. 2) are respectively formed, and the first and second connection terminals CN1 and CN2 are respectively formed on the first wiring layer CO1 side of the base material BF. . Furthermore, the first connection terminal CN1 is electrically connected to the wiring of the first wiring layer CO1 formed in the same layer, and the second connection terminal CN2 is connected via the through hole TH1 and the third wiring CO3. Therefore, the number of connection terminals can be increased without reducing the interval between the first and second connection terminals CN1 and CN2. it can.

その結果、配線基板にドレインドライバDDRを搭載した場合であっても、配線基板FPCの幅を広げることなく容易に液晶表示パネルと配線基板FPCの接続を行うことができるという格別の効果を得ることができる。   As a result, even when the drain driver DDR is mounted on the wiring board, the liquid crystal display panel and the wiring board FPC can be easily connected without increasing the width of the wiring board FPC. Can do.

〈実施形態2〉
図5は本発明の実施形態2の液晶表示装置における配線基板の概略構成を説明するための平面図である。ただし、実施形態2の配線基板は、第2及び第3の配線層CO2、CO3の配線形状、貫通孔TH1の形成位置、及び第2接続端子CN2の数を除く他の構成は実施形態1の配線基板と同様の構成である。従って、以下の説明では、第2及び第3の配線層CO2、CO3の配線形状、貫通孔TH1の形成位置、及び第2接続端子CN2の数についてのみ詳細に説明する。
<Embodiment 2>
FIG. 5 is a plan view for explaining a schematic configuration of a wiring board in the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention. However, the wiring board of the second embodiment is the same as that of the first embodiment except for the wiring shapes of the second and third wiring layers CO2 and CO3, the formation positions of the through holes TH1, and the number of second connection terminals CN2. The configuration is the same as that of the wiring board. Therefore, in the following description, only the wiring shape of the second and third wiring layers CO2 and CO3, the formation position of the through hole TH1, and the number of second connection terminals CN2 will be described in detail.

図5から明らかなように、実施形態2の配線基板FPCでは、外周の大きさ(直径)0.25μmのスルーホールランドTHLが第1及び第2の配線層に形成される各配線の延在方向には実質的な間隔が0(ゼロ)となるように、基材BFの幅方向にホールランドTHL(貫通孔TH1)が形成される構成となっている。さらには、実施形態1の配線基板では、第1及び第2の配線層に形成される各配線の延在方向に2列のスルーホールランドTHL(貫通孔TH1)を形成する構成としたが、実施形態2の配線基板FPCにおいては3列で形成すると共に、第2接続端子CN2と各スルーホールランドTHLとを接続する第3の配線層の各配線がスルーホールランドTHLを迂回する形状としている。このような構成とすることによって、配線基板FPCの幅方向に対するスルーホールランドTHLすなわち貫通孔TH1の形成数(第2の配線CO2及び第2接続端子CN2の数)を増加させると共に、配線方向への貫通孔領域THAの突出量を抑える構成としている。その結果、実施形態2では、第1の配線層の配線CO1間隔及び第1接続端子CN1を50μmで形成した場合であっても、該第1の接続端子CN1の2本おきの間隔150μmで第2接続端子CN2が形成可能となる。   As is apparent from FIG. 5, in the wiring board FPC of the second embodiment, the through-hole land THL having an outer periphery size (diameter) of 0.25 μm is extended in each wiring formed in the first and second wiring layers. The hole land THL (through hole TH1) is formed in the width direction of the base material BF so that the substantial interval in the direction becomes 0 (zero). Furthermore, in the wiring board of the first embodiment, two rows of through-hole lands THL (through holes TH1) are formed in the extending direction of each wiring formed in the first and second wiring layers. In the wiring board FPC of the second embodiment, the wiring board FPC is formed in three rows, and each wiring of the third wiring layer that connects the second connection terminal CN2 and each through-hole land THL bypasses the through-hole land THL. . With this configuration, the number of through-hole lands THL, that is, the number of through-holes TH1 formed in the width direction of the wiring board FPC (the number of second wirings CO2 and second connection terminals CN2) is increased, and the wiring direction is increased. The amount of protrusion of the through hole area THA is suppressed. As a result, in the second embodiment, even when the wiring CO1 interval and the first connection terminal CN1 of the first wiring layer are formed at 50 μm, the second connection between the first connection terminals CN1 is every 150 μm. The two connection terminals CN2 can be formed.

前述する構成とした場合、図5中のL1で示す450μmの範囲すなわち図5中の右上から左下に向かって整列配置される3個のスルーホールランドTHLを1組とした場合における領域には、第1接続端子CN1が9個と第2接続端子CN2が3個との合計で12個の接続端子を形成することが可能となる。この場合、従来の構成ではY列側の第1接続端子CN1のみとなるので、実施形態2の配線基板FPCでは当該配線基板の幅を変化させることなく、且つ第1接続端子CN1の端子ピッチを50μmとしたままで、接続端子数すなわち配線数(接続端子数)を4/3倍に増加させることが可能となる。   In the case of the above-described configuration, the region in the range of 450 μm indicated by L1 in FIG. 5, that is, the three through-hole lands THL aligned from the upper right to the lower left in FIG. It is possible to form 12 connection terminals in total, including nine first connection terminals CN1 and three second connection terminals CN2. In this case, since only the first connection terminal CN1 on the Y column side is provided in the conventional configuration, the wiring board FPC according to the second embodiment does not change the width of the wiring board and the terminal pitch of the first connection terminals CN1 is changed. It is possible to increase the number of connection terminals, that is, the number of wirings (number of connection terminals) to 4/3 times while maintaining 50 μm.

実施形態2の配線基板FPCの場合、接続端子領域OPAとスルーホールランドTHLとの間隔を0.1mm以上、基材BFすなわち当該配線基板FPCの先端からスルーホールランドTHLとの間隔を0.2mm以上とした場合であっても、貫通孔領域THAの配線CO1、CO2方向の長さを0.1+0.25×3+0.2=1.05mmで形成することが可能となる。一方、実施形態2の配線基板FPCでは、第1接続端子CN1の長さを0.8mm、第2接続端子の長さを0.5mm、第1接続端子CN1と第2接続端子CN2との延在方向の間隔を0.2mmとしているので、接続端子領域OPAと貫通孔領域THAとの合計長は2.55mmとなり、小型の液晶表示装置にも適用可能である。   In the case of the wiring board FPC of the second embodiment, the distance between the connection terminal area OPA and the through hole land THL is 0.1 mm or more, and the distance between the base BF, that is, the front end of the wiring board FPC and the through hole land THL is 0.2 mm. Even in the case described above, the length of the through hole area THA in the direction of the wirings CO1 and CO2 can be formed with 0.1 + 0.25 × 3 + 0.2 = 1.05 mm. On the other hand, in the wiring board FPC of the second embodiment, the length of the first connection terminal CN1 is 0.8 mm, the length of the second connection terminal is 0.5 mm, and the extension of the first connection terminal CN1 and the second connection terminal CN2 is. Since the distance in the current direction is 0.2 mm, the total length of the connection terminal area OPA and the through-hole area THA is 2.55 mm, which is applicable to a small liquid crystal display device.

特に、携帯電話等に用いられる小型の液晶表示装置では、表示装置の短辺に電極端子を形成することが一般的となるので、高精細な小型液晶表示装置に本願発明を適用することは特に有効である。   In particular, in a small liquid crystal display device used for a mobile phone or the like, it is common to form an electrode terminal on the short side of the display device. Therefore, the present invention is particularly applied to a high-definition small liquid crystal display device. It is valid.

以上、本発明者によってなされた発明を、前記発明の実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記発明の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment of the invention, but the invention is not limited to the embodiment of the invention and does not depart from the gist thereof.

AR・・・表示領域、SUB1・・・第1基板、SUB2・・・第2基板
DL・・・ドレイン線、GL・・・ゲート線、CL・・・コモン線
DT・・・ドレイン電極、TFT・・・薄膜トランジスタ、PX・・・画素電極
CT・・・共通電極、SL・・・シール材、CNA・・・電極端子部
DDR・・・ドレインドライバ、GDR・・・ドレインドライバ
FPC・・・配線基板、THA・・・貫通孔領域、OPA・・・接続端子領域
COA・・・配線領域、CO1〜3・・・第1〜第3の配線層(配線)
CN1・・・第1接続端子、CN2・・・第2接続端子、TH1・・・貫通孔
TH2・・・スルーホール、THL・・・スルーホールランド
CF・・・カバーフィルム、ADH・・・接着剤、BF・・・基材
SR・・・ソルダーレジスト、ACF・・・異方性導電膜、PAS・・・保護膜
IN・・・層間絶縁膜、DL1、DL2・・・信号線
AR ... display area, SUB1 ... first substrate, SUB2 ... second substrate DL ... drain line, GL ... gate line, CL ... common line DT ... drain electrode, TFT ... Thin film transistor, PX ... Pixel electrode CT ... Common electrode, SL ... Seal material, CNA ... Electrode terminal DDR ... Drain driver, GDR ... Drain driver FPC ... Wiring Substrate, THA ... through-hole region, OPA ... connection terminal region COA ... wiring region, CO1-3 ... first to third wiring layers (wiring)
CN1 ... first connection terminal, CN2 ... second connection terminal, TH1 ... through hole TH2 ... through hole, THL ... through hole land CF ... cover film, ADH ... adhesion Agent, BF ... Substrate SR ... Solder resist, ACF ... Anisotropic conductive film, PAS ... Protective film IN ... Interlayer insulating film, DL1, DL2 ... Signal line

Claims (9)

基材上に複数の信号線が並設される配線層と、前記配線層を保護する保護層とを有する配線基板であって、
絶縁層を介して形成される第1の配線層と第2の配線層とが形成される配線領域と、
前記絶縁層の第1の配線層側に形成され、前記保護層が開口され前記信号線がそれぞれ接続される接続端子が並設される開口領域と、
前記開口領域よりも前記基材の先端側領域に形成され、前記絶縁膜の一方の面と他方の面の信号線を電気的に接続する貫通孔が形成される貫通孔領域とを有し、
前記開口領域の少なくとも一辺に沿って複数の第1の接続端子が並設される第1端子領域と、前記第1の接続端子から離間した領域であり、複数の第2の接続端子が並設される第2端子領域とが前記開口領域に形成され、
前記第1及び第2の接続端子は前記絶縁層の第1の配線層側にそれぞれ形成されると共に、
前記第1の接続端子は、同層に形成される前記第1の配線層の信号線とそれぞれ電気的に接続され、
前記第2の接続端子は、前記貫通孔領域に形成される貫通孔を介して前記第2の配線層の信号線とそれぞれ電気的に接続されてなる
ことを特徴とする配線基板。
A wiring board having a wiring layer in which a plurality of signal lines are arranged in parallel on a substrate, and a protective layer for protecting the wiring layer,
A wiring region in which a first wiring layer and a second wiring layer formed through an insulating layer are formed;
An opening region formed on the first wiring layer side of the insulating layer, in which the protective layer is opened and connection terminals to which the signal lines are respectively connected are arranged;
A through-hole region that is formed in the tip side region of the base material relative to the opening region, and in which a through-hole that electrically connects a signal line on one surface of the insulating film and the other surface is formed;
A first terminal region in which a plurality of first connection terminals are arranged in parallel along at least one side of the opening region; and a region separated from the first connection terminal, wherein the plurality of second connection terminals are arranged in parallel. A second terminal region to be formed in the opening region,
The first and second connection terminals are respectively formed on the first wiring layer side of the insulating layer,
The first connection terminal is electrically connected to a signal line of the first wiring layer formed in the same layer,
The wiring board, wherein the second connection terminal is electrically connected to a signal line of the second wiring layer via a through hole formed in the through hole region.
請求項1に記載の配線基板において、
前記第1の配線層の信号線数は前記第2の配線層の信号線数よりも多いことを特徴とする配線基板。
The wiring board according to claim 1,
The number of signal lines in the first wiring layer is greater than the number of signal lines in the second wiring layer.
請求項1又は2に記載の配線基板において、
前記基材は柔軟性を備える樹脂材料からなることを特徴とする配線基板。
In the wiring board according to claim 1 or 2,
The substrate is made of a resin material having flexibility.
請求項1乃至3の内のいずれかに記載の配線基板において、
前記貫通孔毎に形成される導体と、
前記絶縁層に対して第2の配線層側において、前記配線領域から前記開口領域を超えて前記貫通孔領域にまで伸延され前記貫通孔に至る第2の配線層と、
前記絶縁層に対して第1の配線層側に形成され、前記貫通孔から前記第2の接続端子に至る複数の信号線が並設される第3の配線層とを有し、
前記第2の配線層の信号線と前記第2の接続端子との電気的接続がなされることを特徴とする配線基板。
The wiring board according to any one of claims 1 to 3,
A conductor formed for each through hole;
On the second wiring layer side with respect to the insulating layer, a second wiring layer extending from the wiring region beyond the opening region to the through hole region and reaching the through hole;
A third wiring layer which is formed on the first wiring layer side with respect to the insulating layer and in which a plurality of signal lines extending from the through hole to the second connection terminal are arranged in parallel;
A wiring board, wherein the signal line of the second wiring layer and the second connection terminal are electrically connected.
請求項1乃至4の内のいずれかに記載の配線基板において、
前記第1の接続端子は前記開口領域の一辺に沿って並設され、前記第2の接続端子は前記第1の接続端子が並設される一辺と対向する辺に沿って並設されることを特徴とするフレキシブル配線基板。
The wiring board according to any one of claims 1 to 4,
The first connection terminals are juxtaposed along one side of the opening region, and the second connection terminals are juxtaposed along a side opposite to one side where the first connection terminals are juxtaposed. A flexible wiring board characterized by
請求項5に記載の配線基板において、
前記第1の接続端子の延在方向の延長位置に前記第2の接続端子が形成され、前記第2の接続端子の並設ピッチが前記第1の接続端子の並設ピッチの整数倍であることを特徴とする配線基板。
The wiring board according to claim 5,
The second connection terminal is formed at an extended position in the extending direction of the first connection terminal, and the parallel pitch of the second connection terminals is an integral multiple of the parallel pitch of the first connection terminals. A wiring board characterized by that.
請求項1乃至6の内のいずれかに記載の配線基板において、
前記基材を絶縁材料で形成し、該基材を介して前記第1及び第2の配線層が対向する位置に形成されることを特徴とする配線基板。
The wiring board according to any one of claims 1 to 6,
A wiring board, wherein the base material is formed of an insulating material, and the first and second wiring layers are opposed to each other through the base material.
複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線と、複数の薄膜トランジスタを有し、外部から前記ドレイン線又は/及び前記ゲート線に駆動信号を入力する電極端子と、
前記電極端子に接続され、制御信号を入力する請求項1乃至7の内のいずれかに記載の配線基板と、
を備え、
前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素の領域とする表示装置。
A plurality of drain lines, a plurality of gate lines intersecting with the drain lines, a plurality of thin film transistors, and electrode terminals for inputting drive signals to the drain lines or / and the gate lines from the outside,
The wiring board according to any one of claims 1 to 7, which is connected to the electrode terminal and inputs a control signal;
With
A display device in which a region surrounded by the drain line and the gate line is a pixel region.
請求項8に記載の表示装置において、
前記電極端子は、前記第1の接続端子に接続される第1の電極端子と、該第1の電極端子と絶縁膜を介して対向配置され、前記第2の接続端子に接続される第2の電極端子とを有することを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 8, wherein
The electrode terminal is disposed opposite to the first electrode terminal connected to the first connection terminal, the first electrode terminal via an insulating film, and connected to the second connection terminal. And an electrode terminal.
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