JP2010199028A - Ion conductive membrane - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、イオン伝導膜に関する。 The present invention relates to an ion conductive membrane.
これまで、プロトン伝導膜などのイオン伝導膜として、高分子材料からなるイオン伝導膜が提案されている（たとえば特許文献１）。高分子からなるイオン伝導膜はネットワーク構造を有するため、壊れにくいという特徴を有する。 Until now, an ion conducting membrane made of a polymer material has been proposed as an ion conducting membrane such as a proton conducting membrane (for example, Patent Document 1). Since the ion conductive membrane made of a polymer has a network structure, it has a feature that it is not easily broken.
しかし、高分子材料からなるイオン伝導膜は構造が複雑であり、その作製には多段階の特殊なプロセスが必要であった。そのため、高分子材料からなるイオン伝導膜は非常に高価であった。また、従来のイオン伝導膜を用いてデバイスを作製する場合には、膜と電極との接触状態のばらつきが大きく、デバイスの信頼性や感度が低いという問題があった。 However, the ion conductive membrane made of a polymer material has a complicated structure, and its production requires a multi-step special process. Therefore, the ion conductive film made of a polymer material is very expensive. Further, when a device is manufactured using a conventional ion conductive film, there is a problem that the variation in contact state between the film and the electrode is large, and the reliability and sensitivity of the device are low.
このような状況において、本発明は、新規なイオン伝導膜を提供することを目的の１つとする。 In such a situation, an object of the present invention is to provide a novel ion conductive membrane.
上記目的を達成するため、本発明のイオン伝導膜は、基板上に形成されたイオン伝導膜であって、前記基板に結合している有機分子の単分子膜からなり、前記有機分子は、酸素原子を介して前記基板と結合しているシリコン原子と、前記シリコン原子に結合している炭化水素鎖とを含む。 In order to achieve the above object, an ion conductive film of the present invention is an ion conductive film formed on a substrate, and is composed of a monomolecular film of organic molecules bonded to the substrate, and the organic molecules include oxygen molecules. It includes silicon atoms bonded to the substrate via atoms and hydrocarbon chains bonded to the silicon atoms.
本発明によれば、作製が容易で安価なイオン伝導膜が得られる。このイオン伝導膜を用いることによって、信頼性および感度が高く安価な電子デバイスを作製することが可能になる。 According to the present invention, an ion conductive membrane that is easy to manufacture and inexpensive can be obtained. By using this ion conductive film, it is possible to manufacture an electronic device with high reliability and sensitivity and low cost.
以下、本発明の実施形態について例を挙げて説明する。なお、本発明は、以下の実施形態および実施例に限定されない。以下の説明では、特定の数値や特定の材料を例示する場合があるが、本発明の効果が得られる限り、他の数値や他の材料を適用してもよい。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with examples. Note that the present invention is not limited to the following embodiments and examples. In the following description, specific numerical values and specific materials may be exemplified, but other numerical values and other materials may be applied as long as the effect of the present invention is obtained.
［イオン伝導膜］
本発明のイオン伝導膜は、基板上に形成されている。そのイオン伝導膜は、基板に結合している有機分子（以下、「有機分子（Ａ）」という場合がある）の単分子膜からなる。有機分子（Ａ）は、酸素原子を介して基板と結合しているシリコン原子と、シリコン原子に結合している炭化水素鎖とを含む。炭化水素鎖の一端にはＳｉ原子が結合している。炭化水素鎖の他端には、官能基ｙが結合していてもよい。
[Ion conductive membrane]
The ion conductive film of the present invention is formed on a substrate. The ion conductive film is composed of a monomolecular film of organic molecules (hereinafter sometimes referred to as “organic molecules (A)”) bonded to the substrate. The organic molecule (A) includes a silicon atom bonded to the substrate through an oxygen atom and a hydrocarbon chain bonded to the silicon atom. Si atoms are bonded to one end of the hydrocarbon chain. A functional group y may be bonded to the other end of the hydrocarbon chain.
有機分子（Ａ）は、有機分子（Ｂ）が、基板と結合することによって生じる分子である。有機分子（Ｂ）は、−Ｓｉ−Ｏ−［基板表面の原子］という結合を生じる原子団Ｓｉ−Ｘと、その原子団に含まれるＳｉに結合している炭化水素鎖Ｒとを含む。有機分子（Ｂ）には、以下の式（１）で表される有機分子が含まれる。
Ｘ3Ｓｉ−Ｒ−Ｙ・・・（１）
［式中、Ｘはアルコキシ基またはハロゲン原子である。Ｒは、炭化水素鎖である。Ｙは、水素原子または官能基ｙである］
The organic molecule (A) is a molecule generated when the organic molecule (B) is bonded to the substrate. The organic molecule (B) includes an atomic group Si-X that generates a bond of -Si-O- [substrate surface atom] and a hydrocarbon chain R that is bonded to Si contained in the atomic group. The organic molecule (B) includes an organic molecule represented by the following formula (1).
X 3 Si—R—Y (1)
[Wherein, X represents an alkoxy group or a halogen atom. R is a hydrocarbon chain. Y is a hydrogen atom or a functional group y]
有機分子（Ｂ）の基Ｘが基板表面の原子と反応（たとえば加水分解縮合）することによって、有機分子（Ｂ）のシリコン原子が、酸素原子を介して基板と結合する。Ｘの例には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのアルコキシ基、および塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子が含まれる。有機分子（Ｂ）の例には、一部のシランカップリング剤が含まれる。 The group X of the organic molecule (B) reacts with an atom on the substrate surface (for example, hydrolytic condensation), whereby the silicon atom of the organic molecule (B) is bonded to the substrate through an oxygen atom. Examples of X include alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group, and halogen atoms such as chlorine, bromine and iodine. Examples of the organic molecule (B) include some silane coupling agents.
炭化水素鎖Ｒの炭素数は、２〜２０（たとえば２〜１０や２〜５）の範囲にあってもよい。炭化水素鎖Ｒは、炭素数が２〜１０（たとえば２〜５）の範囲にあるアルキレン基であってもよい。そのアルキレン基は直鎖であってもよいし、分岐していてもよい。炭化水素鎖Ｒは、芳香族炭化水素基（たとえばフェニレン基）を含んでもよい。 The hydrocarbon chain R may have 2 to 20 carbon atoms (for example, 2 to 10 or 2 to 5). The hydrocarbon chain R may be an alkylene group having 2 to 10 (for example, 2 to 5) carbon atoms. The alkylene group may be linear or branched. The hydrocarbon chain R may include an aromatic hydrocarbon group (for example, a phenylene group).
官能基ｙの例には、アミノ基（−ＮＨ2）、シアノ基（−Ｃ≡Ｎ）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ2）、イソシアノ基（−Ｎ≡Ｃ）、ジチオオキサミド基（−ＮＨ−ＣＳ−ＣＳ−ＮＨ2）、ヒドロキシ基（−ＯＨ）、チオール基（−ＳＨ）、ハロゲン原子（Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）、カルボキシ基（−ＣＯ2Ｈ）、アルデヒド基（−ＣＨＯ）などが含まれる。官能基ｙがアミノ基である場合には、比較的高い導電性が得られる。有機分子（Ａ）の例を、図１（ａ）〜（ｆ）に示す。 Examples of the functional group y include an amino group (—NH 2 ), a cyano group (—C≡N), a vinyl group (—CH═CH 2 ), an isocyano group (—N≡C), a dithiooxamide group (—NH—). CS-CS-NH 2), hydroxy (-OH), an thiol group (-SH), halogen atoms (Cl, Br, I), carboxy (-CO 2 H), and the like aldehyde group (-CHO) It is. When the functional group y is an amino group, relatively high conductivity can be obtained. Examples of the organic molecule (A) are shown in FIGS.
式（１）で表される有機分子が基板と結合すると、以下の式（２）で表される有機分子（Ａ）となる。
（−Ｏ−）3Ｓｉ−Ｒ−Ｙ・・・（２）
When the organic molecule represented by the formula (1) is bonded to the substrate, the organic molecule (A) represented by the following formula (2) is obtained.
(—O—) 3 Si—R—Y (2)
基板のうち、イオン伝導膜が形成される表面部分は、少なくとも絶縁性である。その表面部分には、有機分子（Ａ）と結合する原子または官能基が存在する。換言すれば、基板には、有機分子（Ｂ）と反応して−Ｓｉ−Ｏ−［基板表面の原子］という結合を形成する基板が用いられる。たとえば、水酸基などの官能基を表面に備える基板が好ましく用いられる。これらの官能基は、基板を表面処理することによって導入することも可能である。基板の例には、ガラスエポキシ樹脂基板、ガラス基板、サファイア基板、シリコン基板などの無機酸化物基板が含まれる。 Of the substrate, the surface portion on which the ion conductive film is formed is at least insulative. On the surface portion, there are atoms or functional groups that bind to the organic molecule (A). In other words, a substrate that reacts with the organic molecule (B) to form a bond of —Si—O— [atom on the substrate surface] is used as the substrate. For example, a substrate having a functional group such as a hydroxyl group on the surface is preferably used. These functional groups can also be introduced by surface treatment of the substrate. Examples of the substrate include an inorganic oxide substrate such as a glass epoxy resin substrate, a glass substrate, a sapphire substrate, and a silicon substrate.
［イオン伝導膜の製造方法］
以下に、本発明のイオン伝導膜の製造方法の一例について説明する。なお、上述した事項については、重複する説明を省略する。この製造方法の例は、以下の第１の工程と第２の工程とを含む。
[Method for producing ion conductive membrane]
Below, an example of the manufacturing method of the ion conductive film of this invention is demonstrated. In addition, the overlapping description is abbreviate | omitted about the matter mentioned above. This example of the manufacturing method includes the following first step and second step.
第１の工程では、上記式（１）で表される有機分子（Ｂ）を含む溶液（Ｓ）を調製する。溶液（Ｓ）の溶媒は、有機分子（Ｂ）が溶解する溶媒であればよい。溶媒としては、たとえば、エタノール、メタノール、アセトニトリル、水、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）などが用いられる。有機分子（Ｂ）の濃度に限定はなく、たとえば０．００１ｍｍｏｌ／Ｌ〜１００ｍｏｌ／Ｌの範囲としてもよい。有機分子（Ｂ）の例を、図２（ａ）〜（ｆ）に示す。図２（ａ）〜図２（ｆ）に示す分子を用いることによって、図１（ａ）〜（ｆ）に示す有機分子からなるイオン伝導膜が得られる。 In the first step, a solution (S) containing the organic molecule (B) represented by the above formula (1) is prepared. The solvent of the solution (S) may be any solvent that dissolves the organic molecule (B). As the solvent, for example, ethanol, methanol, acetonitrile, water, chloroform, tetrahydrofuran (THF), dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO) and the like are used. The concentration of the organic molecule (B) is not limited, and may be in the range of 0.001 mmol / L to 100 mol / L, for example. Examples of the organic molecule (B) are shown in FIGS. By using the molecules shown in FIGS. 2 (a) to 2 (f), an ion conductive film made of organic molecules shown in FIGS. 1 (a) to (f) can be obtained.
第２の工程では、第１の工程で調製された溶液（Ｓ）を、基板の表面に接触させる。その結果、有機分子（Ｂ）の基Ｘが基板表面の原子または官能基と反応し、有機分子（Ａ）からなる単分子膜が基板上に形成される。溶液（Ｓ）を基板の表面に接触させる方法に特に限定はない。たとえば、基板を溶液（Ｓ）に浸漬してもよい。また、スピンコート法などによって溶液（Ｓ）を基板の表面に接触させてもよい。第２の工程ののち、必要に応じて基板の表面を乾燥させる。このようにして、本発明のイオン伝導膜が製造される。 In the second step, the solution (S) prepared in the first step is brought into contact with the surface of the substrate. As a result, the group X of the organic molecule (B) reacts with atoms or functional groups on the substrate surface, and a monomolecular film composed of the organic molecule (A) is formed on the substrate. There is no particular limitation on the method of bringing the solution (S) into contact with the surface of the substrate. For example, the substrate may be immersed in the solution (S). Further, the solution (S) may be brought into contact with the surface of the substrate by a spin coating method or the like. After the second step, the surface of the substrate is dried as necessary. In this way, the ion conductive membrane of the present invention is manufactured.
なお、第２の工程ののちに、有機分子（Ａ）に官能基を導入する第３の工程を行うことによって、本発明のイオン伝導膜を形成してもよい。たとえば、基Ｙの一部または全部を他の官能基で置換してもよい。一例では、基Ｙであるアミノ基の水素原子を、以下の式（３）で表されるルベアン酸で置換する。 In addition, you may form the ion conductive film of this invention by performing the 3rd process which introduce | transduces a functional group into an organic molecule (A) after a 2nd process. For example, part or all of the group Y may be substituted with another functional group. In one example, the hydrogen atom of the amino group that is the group Y is substituted with rubeanic acid represented by the following formula (3).
上記第３の工程を行う場合、第１の工程で用いられる有機分子は、有機分子（Ｂ）に限らず他の有機分子であってもよい。すなわち、第３の工程によって得られる最終の有機分子が有機分子（Ａ）となる限り、第１の工程で用いられる有機分子に限定はない。 When performing the third step, the organic molecule used in the first step is not limited to the organic molecule (B) but may be other organic molecules. That is, as long as the final organic molecule obtained in the third step is the organic molecule (A), there is no limitation on the organic molecule used in the first step.
［電子デバイス］
本発明の電子デバイスは、本発明のイオン伝導膜を備える。本発明の電子デバイスの一例は、一対の電極と、その一対の電極間に配置された本発明のイオン伝導膜とを備える。電極は、金属などの導電性物質で形成され、たとえば金で形成されてもよい。本発明の電子デバイスは、電極が形成された基板を用いて上記製造方法を行うことによって形成できる。本発明の電子デバイスは、たとえば湿度センサとして用いることが可能である。
[Electronic device]
The electronic device of the present invention includes the ion conductive film of the present invention. An example of the electronic device of the present invention includes a pair of electrodes and the ion conductive film of the present invention disposed between the pair of electrodes. The electrode is formed of a conductive material such as a metal, and may be formed of, for example, gold. The electronic device of this invention can be formed by performing the said manufacturing method using the board | substrate with which the electrode was formed. The electronic device of the present invention can be used as a humidity sensor, for example.
以下、本発明について実施例によって詳細に説明する。以下の実施例では、図１（ａ）〜図１（ｆ）の有機分子からなるイオン伝導膜を作製した。図１（ｂ）〜図１（ｆ）の有機分子からなるイオン伝導膜は、図２（ｂ）〜図２（ｆ）の有機分子を用いて作製した。また、図１（ａ）の有機分子からなるイオン伝導膜は、図２（ｆ）の有機分子とルベアン酸とを用いて作製した。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. In the following examples, ion conductive films made of organic molecules shown in FIGS. 1A to 1F were produced. The ion conductive films made of the organic molecules shown in FIGS. 1B to 1F were prepared using the organic molecules shown in FIGS. 2B to 2F. Moreover, the ion conductive film which consists of an organic molecule of Fig.1 (a) was produced using the organic molecule and rubeanic acid of FIG.2 (f).
なお、用いた有機分子の基Ｘは、図２（ａ）の分子はメトキシ基（−ＯＣＨ3）、図２（ｂ）の分子はエトキシ基（−ＯＣ2Ｈ5）、図２（ｃ）の分子はエトキシ基（−ＯＣ2Ｈ5）、図２（ｄ）の分子はメトキシ基（−ＯＣＨ3）、図２（ｅ）の分子はエトキシ基（−ＯＣ2Ｈ5）、図２（ｆ）の分子はメトキシ基（−ＯＣＨ3）とした。図２（ｂ）および２（ｄ）の分子はアルドリッチ社（Ａｌｄｒｉｃｈ）から入手し、図２（ｃ）の分子は和光純薬工業株式会社（ＷａＫｏ社）から入手し、図２（ｅ）および２（ｆ）の分子は、東京化成工業株式会社から入手した。ルベアン酸はメルク社（ＭＥＲＣＫ社）から入手した。 In addition, the group X of the organic molecule used is a methoxy group (—OCH 3 ) in the molecule of FIG. 2A, an ethoxy group (—OC 2 H 5 ) in the molecule of FIG. 2B, and FIG. 2 molecule is an ethoxy group (—OC 2 H 5 ), the molecule in FIG. 2D is a methoxy group (—OCH 3 ), the molecule in FIG. 2E is an ethoxy group (—OC 2 H 5 ), and FIG. The molecule of f) was a methoxy group (—OCH 3 ). The molecules of FIGS. 2 (b) and 2 (d) were obtained from Aldrich, and the molecule of FIG. 2 (c) was obtained from Wako Pure Chemical Industries, Ltd. (Wako). The molecule 2 (f) was obtained from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Rubeanic acid was obtained from Merck (MERCK).
［実施例１］
まず、電極間の間隔が１００μｍである一対の櫛形電極を、ガラスエポキシ樹脂基板上に形成した。櫛形電極は、金で形成した。また、図２（ｆ）の有機分子のエタノール溶液（溶液（Ｓ））を調製した。有機分子の濃度は、１０ｍｍｏｌ／Ｌとした。
[Example 1]
First, a pair of comb-shaped electrodes with an interval between electrodes of 100 μm was formed on a glass epoxy resin substrate. The comb electrode was made of gold. Moreover, the ethanol solution (solution (S)) of the organic molecule | numerator of FIG.2 (f) was prepared. The concentration of organic molecules was 10 mmol / L.
次に、上記基板を溶液（Ｓ）に室温で１５分間浸漬した。これによって、基板の表面に、図１（ｆ）の有機分子からなる膜を形成した。次に、基板を、ルベアン酸のエタノール溶液に１５分間浸漬した。これによって、図２（ａ）の有機分子からなる膜を作製した。ルベアン酸の濃度は、１ｍｍｏｌ／Ｌとした。 Next, the substrate was immersed in the solution (S) at room temperature for 15 minutes. As a result, a film made of organic molecules shown in FIG. 1 (f) was formed on the surface of the substrate. Next, the substrate was immersed in an ethanol solution of rubeanic acid for 15 minutes. As a result, a film made of the organic molecules shown in FIG. The concentration of rubeanic acid was 1 mmol / L.
次に、基板を溶液（Ｓ）から取り出し、エタノールで洗浄した。次に、アルゴンガスを吹き付けることによって基板を乾燥させた。このようにして、図１（ａ）に示す有機分子によって構成されたイオン伝導膜を作製した。得られたイオン伝導膜の厚さを測定したところ、１．５ｎｍ程度であった。 Next, the substrate was taken out from the solution (S) and washed with ethanol. Next, the substrate was dried by blowing argon gas. In this way, an ion conductive film composed of the organic molecules shown in FIG. When the thickness of the obtained ion conductive film was measured, it was about 1.5 nm.
次に、２つの櫛形電極を、金ペーストと金線とを用いて交流測定装置に接続した。そして、２つの櫛形電極の間に１００ｍＶの電圧を印加し、１０ｋＨｚ〜１Ｈｚまで周波数を変化させることによって、コールコールプロットを得た。このプロットの半円から、櫛形電極間の抵抗、すなわち、イオン伝導膜の抵抗を求め、さらにイオン伝導膜の伝導度ρ（Ｓｃｍ-1）を算出した。また、伝導度について温度を変えて測定し、伝導度と温度との関係から活性化エネルギーを算出した。 Next, the two comb electrodes were connected to an AC measuring device using a gold paste and a gold wire. A Cole-Cole plot was obtained by applying a voltage of 100 mV between the two comb electrodes and changing the frequency from 10 kHz to 1 Hz. From the semicircle of this plot, the resistance between the comb electrodes, that is, the resistance of the ion conductive film was obtained, and the conductivity ρ (Scm −1 ) of the ion conductive film was calculated. Further, the conductivity was measured by changing the temperature, and the activation energy was calculated from the relationship between the conductivity and the temperature.
得られたコールコールプロットを図３に示す。図３には、イオン伝導膜が形成されていない基板について測定した結果も示す。また、温度Ｔの逆数と伝導度の対数との関係を図４に示す。図４のデータは、２５℃で相対湿度９０％における測定によって得られたデータである。実施例１のイオン伝導膜の、２５℃、９０％ＲＨにおける伝導度は、４．４ｘ１０-6Ｓｃｍ-1であった。また、図４の結果から求めた活性化エネルギーは、０．４５ｅＶであった。 The obtained Cole-Cole plot is shown in FIG. FIG. 3 also shows the measurement results of the substrate on which the ion conductive film is not formed. FIG. 4 shows the relationship between the reciprocal of temperature T and the logarithm of conductivity. The data in FIG. 4 is data obtained by measurement at 25 ° C. and 90% relative humidity. The conductivity of the ion conductive film of Example 1 at 25 ° C. and 90% RH was 4.4 × 10 −6 Scm −1 . Moreover, the activation energy calculated | required from the result of FIG. 4 was 0.45 eV.
［実施例２〜６］
まず、電極間の間隔が１００μｍである一対の櫛形電極を、ガラスエポキシ樹脂基板上に形成した。櫛形電極は、金で形成した。また、図２（ｂ）の有機分子のエタノール溶液（溶液（Ｓ））を調製した。有機分子の濃度は、１０ｍｍｏｌ／Ｌとした。
[Examples 2 to 6]
First, a pair of comb-shaped electrodes with an interval between electrodes of 100 μm was formed on a glass epoxy resin substrate. The comb electrode was made of gold. Moreover, the ethanol solution (solution (S)) of the organic molecule | numerator of FIG.2 (b) was prepared. The concentration of organic molecules was 10 mmol / L.
次に、上記基板を溶液（Ｓ）に室温で１５分間浸漬した。これによって、基板の表面に、図１（ｂ）の有機分子からなる膜を形成した。次に、基板を溶液（Ｓ）から取り出し、エタノールで洗浄した。次に、アルゴンガスを吹き付けることによって基板を乾燥させた。このようにして、図１（ｂ）に示す有機分子によって構成された実施例２のイオン伝導膜を作製した。 Next, the substrate was immersed in the solution (S) at room temperature for 15 minutes. Thus, a film made of organic molecules shown in FIG. 1B was formed on the surface of the substrate. Next, the substrate was taken out from the solution (S) and washed with ethanol. Next, the substrate was dried by blowing argon gas. Thus, the ion conductive film of Example 2 comprised by the organic molecule shown in FIG.1 (b) was produced.
図２（ｂ）の有機分子の代わりに図２（ｃ）〜図２（ｆ）の有機分子を用いることを除き実施例２と同様の条件で、実施例３〜６のイオン伝導膜を作製した。得られたイオン伝導膜について、実施例１と同様の方法で評価を行った。実施例１〜６のイオン伝導膜について、評価結果を表１に示す。 The ion conductive films of Examples 3 to 6 are produced under the same conditions as in Example 2 except that the organic molecules of FIGS. 2 (c) to 2 (f) are used instead of the organic molecules of FIG. 2 (b). did. The obtained ion conductive membrane was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1 for the ion conductive membranes of Examples 1 to 6.
表１に示すように、いずれのイオン伝導膜でも電気伝導が観測された。これらの電気伝導は、相対湿度が低い場合には低下した。このことは、本発明のイオン伝導膜における電気伝導がプロトンの移動による電気伝導であること、すなわち、本発明のイオン伝導膜がプロトン伝導膜であることを示唆している。 As shown in Table 1, electric conduction was observed in any ion conductive film. These electrical conductions decreased when the relative humidity was low. This suggests that the electric conduction in the ion conductive membrane of the present invention is that of proton transfer, that is, the ion conductive membrane of the present invention is a proton conductive membrane.
表１に示すように、官能基ｙがアミノ基である実施例６のイオン伝導膜は、他の膜に比べて伝導度が高かった。官能基ｙを変えることによって、イオン伝導膜の特性を制御することが可能である。 As shown in Table 1, the ion conductive film of Example 6 in which the functional group y is an amino group has higher conductivity than other films. By changing the functional group y, the characteristics of the ion conductive membrane can be controlled.
以上、本発明の実施の形態について例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず本発明の技術的思想に基づき他の実施形態に適用することができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above by way of examples, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be applied to other embodiments based on the technical idea of the present invention.
本発明は、イオン伝導膜およびそれを用いた電子デバイスに利用できる。具体的には、湿度センサ、イオンセンサ、ガスセンサなどのセンサに利用することが可能である。 The present invention can be used for an ion conductive membrane and an electronic device using the same. Specifically, it can be used for sensors such as a humidity sensor, an ion sensor, and a gas sensor.
Claims (3)
前記基板に結合している有機分子の単分子膜からなり、
前記有機分子は、酸素原子を介して前記基板と結合しているシリコン原子と、前記シリコン原子に結合している炭化水素鎖とを含む、イオン伝導膜。 An ion conductive film formed on a substrate,
Consisting of a monolayer of organic molecules bonded to the substrate,
The said organic molecule is an ion conductive film containing the silicon atom couple | bonded with the said board | substrate through the oxygen atom, and the hydrocarbon chain couple | bonded with the said silicon atom.
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