JP2010198336A - Touch panel and display apparatus including the same - Google Patents

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Hitoshi Miyazawa
仁 宮澤
Yasunobu Tagusa
康伸 田草
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel suppressing reduction in accuracy of position detection by a simple configuration and having high reliability, and to provide a display apparatus including the touch panel. <P>SOLUTION: The touch panel 20 includes: an insulating substrate 10; a touch detection electrode 11 rectangularly provided on the insulating substrate 10; and a linearization pattern 12 provided along each side of the touch detection electrode 11, on the touch detection electrode 11. The pitch of the linearization pattern 12 provided along the long side 11a of the touch detection electrode 11 is set to ≤7.1 mm. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、タッチパネルに関し、特に、静電容量方式のタッチパネル及びそれを備えた表示装置に関する。   The present invention relates to a touch panel, and more particularly, to a capacitive touch panel and a display device including the same.

近年、自動販売機、ATM、携帯ゲーム機、カーナビゲーション等の電子機器においては、画面に触れることにより、電子機器の操作を行う装置であるタッチパネルが設けられている。このタッチパネルは、指やペンなどでタッチ(押圧)することによって、電子機器に対して対話形式で情報を入力する装置である。   In recent years, electronic devices such as vending machines, ATMs, portable game machines, car navigation systems, and the like have been provided with a touch panel that is an apparatus for operating electronic devices by touching a screen. This touch panel is an apparatus that inputs information interactively to an electronic device by touching (pressing) with a finger or a pen.

このタッチパネルは、その動作原理によって、抵抗膜方式、静電容量方式、赤外線方式、超音波方式、及び電磁誘導結合方式等に分類されている。そして、抵抗膜方式、及び静電容量結合方式のタッチパネルは、低コストで表示装置などに搭載可能であるので、近年、よく利用されているが、特に、透過率が高く、耐久性を有する静電容量方式のタッチパネルが注目されている。   This touch panel is classified into a resistance film method, a capacitance method, an infrared method, an ultrasonic method, an electromagnetic inductive coupling method, and the like according to the operation principle. In addition, since a resistive film type and capacitive coupling type touch panel can be mounted on a display device or the like at a low cost, it has been widely used in recent years, but in particular, it has a high transmittance and a durable static. Capacitive touch panels are attracting attention.

この静電容量方式のタッチパネルは、絶縁性基板と、絶縁性基板上に設けられた矩形上のタッチ検出電極と、タッチ検出電極の周縁に沿って枠状に設けられた額縁配線と、各々、額縁配線に接続され、タッチ位置を検出するための位置検出回路に接続するために外部に引き出された複数の引出配線とを備え、例えば、液晶表示パネルのディスプレイ画面の前面に装着して使用される。   This capacitive touch panel includes an insulating substrate, a touch detection electrode on a rectangle provided on the insulating substrate, a frame wiring provided in a frame shape along the periphery of the touch detection electrode, It is connected to the frame wiring and has a plurality of lead wirings that are pulled out to connect to the position detection circuit for detecting the touch position. For example, it is used by being attached to the front of the display screen of the liquid crystal display panel. The

また、上記静電容量結合方式のタッチパネルを備えた液晶表示パネルでは、ディスプレイ画面の前面、すなわち、タッチパネルを構成する基板の表面がタッチされることにより、タッチ検出電極がタッチされた点で人体の静電容量を介して接地されて、額縁配線の4隅と接地点との間の抵抗値に変化が生じ、その抵抗値の変化に基づいて位置検出回路がタッチされた位置を検出するようになっている。   In addition, in the liquid crystal display panel including the capacitive coupling type touch panel, the touch detection electrode is touched by touching the front surface of the display screen, that is, the surface of the substrate constituting the touch panel. The resistance value between the four corners of the frame wiring and the grounding point is changed by being grounded through the electrostatic capacitance, and the position detection circuit detects the touched position based on the change in the resistance value. It has become.

また、大面積単一素子構造を有する表面型の静電容量方式のタッチパネルにおいては、位置検出精度を向上させるために、タッチ検出電極の各辺に沿って所定のリニアライゼイションパターンを形成することにより、タッチ検出電極において平行な電解を形成している。また、このリニアライゼイションパターンは、一般に、銀ペースト等の金属ペーストをスクリーン印刷することにより形成されている(例えば、特許文献1参照)。   In addition, in a surface-type capacitive touch panel having a large-area single element structure, a predetermined linearization pattern is formed along each side of the touch detection electrode in order to improve position detection accuracy. Thus, parallel electrolysis is formed in the touch detection electrode. The linearization pattern is generally formed by screen printing a metal paste such as a silver paste (see, for example, Patent Document 1).

特表2007−524174号公報Special table 2007-524174 gazette

しかし、スクリーン印刷法を使用して、銀ペースト等の金属ペーストによりリニアライゼイションパターンを形成すると、リニアライゼイションパターンの幅や厚みのバラツキが大きくなるため、リニアライゼイションパターンにおいて抵抗値のバラツキが生じることになる。そうすると、タッチパネルにおいて、リニアライゼイションパターンの4隅と接地点との間の抵抗値にバラツキが生じてしまい、検出された位置が、例えば、タッチパネル上の実際にタッチされた位置よりも内側にズレてしまう場合があり、位置検出精度が低下してしまうという問題があった。   However, if the linearization pattern is formed with a metal paste such as silver paste using the screen printing method, the variation in the width and thickness of the linearization pattern increases, and thus there is a variation in resistance value in the linearization pattern. Will occur. Then, in the touch panel, the resistance value between the four corners of the linearization pattern and the ground point varies, and the detected position is shifted inward from the actually touched position on the touch panel, for example. There is a problem that the position detection accuracy is lowered.

また、銀ペースト等の金属ペーストによりリニアライゼイションパターンを形成した場合、使用する銀ペーストの種類によって、位置検出精度が変動してしまい、信頼性が低下するという問題があった。   Further, when the linearization pattern is formed with a metal paste such as silver paste, there is a problem that the position detection accuracy varies depending on the type of silver paste used, and the reliability is lowered.

そこで、本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、簡単な構成で、位置検出精度を低下を抑制することができ、高い信頼性を有するタッチパネル及びそれを備えた表示装置をを提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a touch panel having high reliability and a touch panel that can suppress a decrease in position detection accuracy with a simple configuration. An object of the present invention is to provide a display device including

上記目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、絶縁性基板と、絶縁性基板上に矩形上に設けられたタッチ検出電極と、タッチ検出電極上において、タッチ検出電極の各辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンとを備えた静電容量方式のタッチパネルであって、タッチ検出電極の長辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンのピッチが7.1mm以下であることを特徴とする。   In order to achieve the above object, an invention according to claim 1 is directed to an insulating substrate, a touch detection electrode provided on the insulating substrate in a rectangular shape, and each side of the touch detection electrode on the touch detection electrode. A capacitance type touch panel provided with a linearization pattern provided along the line, and the pitch of the linearization pattern provided along the long side of the touch detection electrode is 7.1 mm or less It is characterized by.

同構成によれば、タッチ検出電極の長辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンのピッチが7.1mm以下であるため、タッチ検出電極とリニアライゼイションパターンとの間の抵抗変動差を緩和することができる。従って、検出位置とタッチパネル上の実際にタッチされた位置とのズレを小さくすることが可能になるため、位置検出精度の低下を効果的に抑制することが可能になる。   According to this configuration, since the pitch of the linearization pattern provided along the long side of the touch detection electrode is 7.1 mm or less, the resistance variation difference between the touch detection electrode and the linearization pattern is reduced. can do. Accordingly, it is possible to reduce the difference between the detection position and the position actually touched on the touch panel, and thus it is possible to effectively suppress a decrease in position detection accuracy.

また、例えば、銀ペースト等の金属ペーストによりリニアライゼイションパターンを形成した場合であっても、銀ペーストの種類に依存することなく、位置検出精度の変動を効果的に抑制することができる。従って、高い信頼性を有するタッチパネルを提供することが可能になる。   In addition, for example, even when the linearization pattern is formed using a metal paste such as silver paste, fluctuations in position detection accuracy can be effectively suppressed without depending on the type of silver paste. Therefore, it is possible to provide a touch panel with high reliability.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のタッチパネルであって、ピッチが、4.9mm以下であることを特徴とする。   A second aspect of the present invention is the touch panel according to the first aspect, wherein the pitch is 4.9 mm or less.

同構成によれば、タッチ検出電極の長辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンのピッチが4.9mm以下であるため、タッチ検出電極とリニアライゼイションパターンとの間の抵抗変動差を一層緩和することができる。
従って、検出位置とタッチパネル上の実際にタッチされた位置とのズレを一層小さくすることが可能になるため、位置検出精度の低下を一層効果的に抑制することが可能になる。
According to this configuration, since the pitch of the linearization pattern provided along the long side of the touch detection electrode is 4.9 mm or less, the resistance variation difference between the touch detection electrode and the linearization pattern is further increased. Can be relaxed.
Accordingly, it is possible to further reduce the deviation between the detection position and the actually touched position on the touch panel, so that it is possible to more effectively suppress a decrease in position detection accuracy.

請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載のタッチパネルであって、リニアライゼイションパターンは、第1セグメントと、第1セグメントに隣接して配列された第2セグメントにより構成され、第1セグメント及び第2セグメントの幅が200μm以上であるとともに、第1セグメントと第2セグメントとの間隔が200μm以上であることを特徴とする。   A third aspect of the present invention is the touch panel according to the first or second aspect, wherein the linearization pattern includes a first segment and a second segment arranged adjacent to the first segment. The width of the first segment and the second segment is 200 μm or more, and the distance between the first segment and the second segment is 200 μm or more.

同構成によれば、リニアライゼイションパターンを構成する第1セグメント及び第2セグメントの幅が200μm以上であるとともに、第1セグメント及び第2セグメントの間隔が200μm以上であるため、タッチ検出電極とリニアライゼイションパターンとの間の抵抗変動差をより一層緩和することができる。従って、検出位置とタッチパネル上の実際にタッチされた位置とのズレをより一層小さくすることが可能になるため、位置検出精度の低下をより一層効果的に抑制することが可能になる。   According to this configuration, the width of the first segment and the second segment constituting the linearization pattern is 200 μm or more, and the interval between the first segment and the second segment is 200 μm or more. It is possible to further alleviate the resistance fluctuation difference with the lysation pattern. Accordingly, it is possible to further reduce the deviation between the detected position and the actually touched position on the touch panel, so that it is possible to more effectively suppress a decrease in position detection accuracy.

請求項4に記載の発明は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のタッチパネルであって、リニアライゼイションパターンが、金属ペーストまたは有機導電膜により形成されていることを特徴とする。   Invention of Claim 4 is a touchscreen of any one of Claims 1-3, Comprising: The linearization pattern is formed with the metal paste or the organic electrically conductive film, It is characterized by the above-mentioned. To do.

同構成によれば、ガラス基板等の高耐熱性の絶縁性基板上に限らず、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の樹脂により形成されたプラスチック基板上に、リニアライゼイションパターンを低温で形成することが可能になる。また、ロールツーロール方式により、長尺基板における巻出し部および巻取り部等が比較的コンパクトにして連続的に大量に生産でき、生産性を向上させることが可能になる。更に、例えば、軽量で立体形状等にも成形可能な樹脂製のカバーや液晶注入後の液晶表示パネルの基板上に、例えば、130°以下の低温で、リニアライゼイションパターンを直接形成することが可能になる。   According to this configuration, the linearization pattern is formed at a low temperature on a plastic substrate formed of a resin such as polyethylene terephthalate resin, polycarbonate resin, and acrylic resin, as well as a high heat resistance insulating substrate such as a glass substrate. It becomes possible to form. Further, the roll-to-roll method makes it possible to produce a large amount continuously by making the unwinding portion and the winding portion of the long substrate relatively compact, thereby improving the productivity. Further, for example, a linearization pattern can be directly formed on a resin cover that can be molded into a lightweight and three-dimensional shape or a liquid crystal display panel substrate after liquid crystal injection at a low temperature of 130 ° or less, for example. It becomes possible.

請求項5に記載の発明は、請求項4に記載のタッチパネルであって、金属ペースト及び有機導電膜が、スクリーン印刷法により形成されていることを特徴とする。   The invention described in claim 5 is the touch panel according to claim 4, wherein the metal paste and the organic conductive film are formed by a screen printing method.

同構成によれば、真空製膜法等の他の製法に比し、リニアライゼイションパターンを容易に形成することが可能になる。   According to this configuration, it is possible to easily form a linearization pattern as compared with other manufacturing methods such as a vacuum film forming method.

請求項6に記載の発明は、請求項4または請求項5に記載のタッチパネルであって、金属ペーストが、銀ペーストであることを特徴とする。   The invention described in claim 6 is the touch panel according to claim 4 or 5, wherein the metal paste is a silver paste.

同構成によれば、銀ペーストは、他の金属ペーストに比し、タッチパネルの電極材料との密着強度が比較的高く、高信頼性であり、また多品種であるため、特性として必要な品種を選びやすく、選定設計が容易となる。   According to this configuration, the silver paste has a relatively high adhesion strength with the electrode material of the touch panel, is highly reliable, and has many varieties compared to other metal pastes. Easy to select and easy to design.

また、本発明の請求項1〜請求項6に記載のタッチパネルは、位置検出精度の低下を効果的に抑制することができるという優れた特性を備えている。従って、請求項7に記載の発明のように、表示パネルと、表示パネル上に設けられた請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のタッチパネルとを備える表示装置に好適に使用される。更に、請求項8に記載の発明のように、請求項7に記載の表示装置であって、表示パネルが、液晶表示パネルである表示装置に好適に使用される。   Moreover, the touch panel of Claims 1-6 of this invention is equipped with the outstanding characteristic that the fall of a position detection precision can be suppressed effectively. Therefore, like the invention of Claim 7, it is suitably used for a display device comprising a display panel and the touch panel according to any one of Claims 1 to 6 provided on the display panel. The Further, as in the invention according to claim 8, the display device according to claim 7 is preferably used for a display device in which the display panel is a liquid crystal display panel.

本発明によれば、静電容量方式のタッチパネルにおいて、検出位置とタッチパネル上の実際にタッチされた位置とのズレを小さくすることができ、位置検出精度の低下を効果的に抑制することが可能になる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, in an electrostatic capacitance type touch panel, the shift | offset | difference of a detection position and the position actually touched on a touch panel can be made small, and the fall of position detection accuracy can be suppressed effectively. become.

本発明の実施形態に係る液晶表示装置を構成するタッチパネルの平面図である。It is a top view of the touch panel which comprises the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す図であり、図1のA−A断面図である。It is a figure which shows schematic structure of the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention, and is AA sectional drawing of FIG. 本発明の実施形態に係るタッチパネルを構成するリニアライゼイションパターンの1辺を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows one side of the linearization pattern which comprises the touchscreen which concerns on embodiment of this invention. 図3の部分拡大図である。FIG. 4 is a partially enlarged view of FIG. 3. 本発明の実施形態に係るタッチパネルを構成するリニアライゼイションパターンの1辺を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows one side of the linearization pattern which comprises the touchscreen which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るタッチパネルを構成するリニアライゼイションパターンの1辺を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows one side of the linearization pattern which comprises the touchscreen which concerns on embodiment of this invention. 図6の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of FIG. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置の変形例の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the modification of the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る液晶表示装置の変形例の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the modification of the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本実施形態においては、表示装置として液晶表示装置を例示する。図1は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置を構成するタッチパネルの平面図であり、図2は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す図であり、図1のA−A断面図である。また、図3は、本発明の実施形態に係るタッチパネルを構成するリニアライゼイションパターンの1辺を示す平面模式図であり、図4は、図3の部分拡大図である。また、図5は、本発明の実施形態に係るタッチパネルを構成するリニアライゼイションパターンの1辺を示す平面模式図である。また、図6は、本発明の実施形態に係るタッチパネルを構成するリニアライゼイションパターンの1辺を示す平面模式図であり、図7は、図6の部分拡大図である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present embodiment, a liquid crystal display device is exemplified as the display device. FIG. 1 is a plan view of a touch panel constituting a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. It is AA sectional drawing. 3 is a schematic plan view showing one side of the linearization pattern constituting the touch panel according to the embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a partially enlarged view of FIG. FIG. 5 is a schematic plan view showing one side of the linearization pattern constituting the touch panel according to the embodiment of the present invention. 6 is a schematic plan view showing one side of the linearization pattern constituting the touch panel according to the embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a partially enlarged view of FIG.

液晶表示装置40aは、図2に示すように、例えば、アクティブマトリクス駆動方式の液晶表示パネル30と、液晶表示パネル30に接着層25aを介して設けられた表面型の静電容量方式のタッチパネル20とを備えている。   As shown in FIG. 2, the liquid crystal display device 40a includes, for example, an active matrix driving type liquid crystal display panel 30 and a surface-type capacitive touch panel 20 provided on the liquid crystal display panel 30 via an adhesive layer 25a. And.

液晶表示パネル30は、図2に示すように、互いに対向するように配置された一対の基板として設けられたアクティブマトリクス基板31及び対向基板32と、アクティブマトリクス基板31及び対向基板32の間に設けられた液晶層(不図示)とを備えている。なお、液晶表示パネル30の上面及び下面には、偏光板(不図示)がそれぞれ貼り付けられている。   As shown in FIG. 2, the liquid crystal display panel 30 is provided between an active matrix substrate 31 and a counter substrate 32 provided as a pair of substrates arranged to face each other, and between the active matrix substrate 31 and the counter substrate 32. Liquid crystal layer (not shown). Note that polarizing plates (not shown) are respectively attached to the upper and lower surfaces of the liquid crystal display panel 30.

アクティブマトリクス基板31は、例えば、ガラス基板上に互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線(不図示)と、各ゲート線を覆うように設けられたゲート絶縁膜(不図示)と、ゲート絶縁膜上に各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース線(不図示)と、各ゲート線及び各ソース線の交差部分毎にそれぞれ設けられた複数のTFT(Thin Film Transistor、不図示)と、各TFT及び各ソース線を覆うように設けられた層間絶縁膜(不図示)と、層間絶縁膜上にマトリクス状に設けられ、各TFTに接続された複数の画素電極(不図示)と、各画素電極を覆うように設けられた配向膜(不図示)とを備えている。ここで、各画素電極は、画像の最小単位である画素を構成していると共に、マトリクス状に配列することにより全体で画像表示を行う表示領域を構成している。   The active matrix substrate 31 includes, for example, a plurality of gate lines (not shown) provided so as to extend in parallel with each other on a glass substrate, a gate insulating film (not shown) provided so as to cover each gate line, A plurality of source lines (not shown) provided on the gate insulating film so as to extend in parallel to each other in a direction orthogonal to the gate lines, and a plurality of source lines provided at each gate line and each intersection of the source lines. TFT (Thin Film Transistor, not shown), an interlayer insulating film (not shown) provided so as to cover each TFT and each source line, and provided in a matrix on the interlayer insulating film and connected to each TFT A plurality of pixel electrodes (not shown) and an alignment film (not shown) provided so as to cover each pixel electrode are provided. Here, each pixel electrode constitutes a pixel which is the minimum unit of an image, and constitutes a display area for displaying an image as a whole by arranging in a matrix.

対向基板32は、例えば、ガラス基板上に枠状に且つその枠内に格子状に設けられたブラックマトリクス(不図示)と、ブラックマトリクスの各格子間にそれぞれ設けられた赤色層、緑色層及び青色層などの着色層(不図示)と、ブラックマトリクス及び各着色層を覆うように設けられた共通電極(不図示)と、共通電極を覆うように設けられた配向膜(不図示)とを備えている。   The counter substrate 32 includes, for example, a black matrix (not shown) provided in a frame shape on the glass substrate and in a lattice shape in the frame, and a red layer, a green layer, and a black layer provided between the lattices of the black matrix, respectively. A colored layer (not shown) such as a blue layer, a common electrode (not shown) provided so as to cover the black matrix and each colored layer, and an alignment film (not shown) provided so as to cover the common electrode I have.

タッチパネル20は、図2に示すように、液晶表示パネル30の前面に備えられている。これにより、タッチパネル20は、液晶表示装置40aの液晶表示パネル30を透視しながら、タッチパネル20の表面を押圧操作することによって、各種の情報を入力することが可能になる。   As shown in FIG. 2, the touch panel 20 is provided on the front surface of the liquid crystal display panel 30. Thereby, the touch panel 20 can input various information by pressing the surface of the touch panel 20 while seeing through the liquid crystal display panel 30 of the liquid crystal display device 40a.

また、タッチパネル20は、図1及び図2に示すように、例えば、ガラス基板等の矩形状の絶縁性基板10と、絶縁性基板10の一方の端縁(図1中の右辺)に沿った領域にACF(Anisotropic Conductive Film、不図示)などを介して固定されたFPC(flexible printed circuit)等のT字状の基板15aとを備えている。   Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the touch panel 20 extends along, for example, a rectangular insulating substrate 10 such as a glass substrate and one edge (the right side in FIG. 1) of the insulating substrate 10. A T-shaped substrate 15a such as an FPC (flexible printed circuit) fixed to the region via an ACF (Anisotropic Conductive Film, not shown) or the like is provided.

また、図1及び図2に示すように、絶縁性基板10の上面には、タッチ検出電極11が矩形状に設けられている。また、タッチ検出電極11上において、タッチ検出電極11の各辺に沿って延びるようにリニアライゼイションパターン12が設けられている。より具体的には、このリニアライゼイションパターン12は、タッチ検出電極11の長辺11aに沿って延設された第1リニアライゼイションパターン12aと、タッチ検出電極11の短辺11bに沿って延設された第2リニアライゼイションパターン12bにより構成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the touch detection electrode 11 is provided in a rectangular shape on the upper surface of the insulating substrate 10. Further, a linearization pattern 12 is provided on the touch detection electrode 11 so as to extend along each side of the touch detection electrode 11. More specifically, the linearization pattern 12 includes a first linearization pattern 12a extending along the long side 11a of the touch detection electrode 11 and a short side 11b of the touch detection electrode 11. The second linearization pattern 12b is provided.

また、リニアライゼイションパターン12は、タッチ検出電極11の周縁に接続され、第1リニアライゼイションパターン12aと第2リニアライゼイションパターン12bとが連結させて枠状に形成されている。このリニアライゼイションパターン12は、タッチ検出電極11において平行な電解を形成するためのものであり、タッチ検出電極11上に分布する電界を均一に且つその線形性をよくするためものである。   The linearization pattern 12 is connected to the periphery of the touch detection electrode 11, and is formed in a frame shape by connecting the first linearization pattern 12a and the second linearization pattern 12b. This linearization pattern 12 is for forming parallel electrolysis in the touch detection electrode 11, and is for uniformizing the electric field distributed on the touch detection electrode 11 and improving the linearity thereof.

また、タッチ検出電極11の各角部(または、リニアライゼイションパターン12の4隅)から引き出され、絶縁性基板10の周縁に沿って該絶縁性基板10の一方の端縁(図1における右辺)に沿った領域にそれぞれ引き出されるように一対の第1引出配線13a、及び一対の第2引出配線13bが設けられている。   Further, one edge of the insulating substrate 10 (the right side in FIG. 1) is drawn from each corner of the touch detection electrode 11 (or the four corners of the linearization pattern 12) and along the periphery of the insulating substrate 10. ) Is provided with a pair of first lead wires 13a and a pair of second lead wires 13b.

絶縁性基板10は、ガラス基板やプラスチック基板等である。ガラス基板としては、例えば、ソーダライムガラス、石英ガラス、アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、板ガラス等が用いられる。また、プラスチック基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等により形成されている。   The insulating substrate 10 is a glass substrate, a plastic substrate, or the like. As the glass substrate, for example, soda lime glass, quartz glass, alkali glass, borosilicate glass, plate glass and the like are used. The plastic substrate is formed of, for example, polyethylene terephthalate resin, polycarbonate resin, acrylic resin, or the like.

タッチ検出電極11は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、有機導電材料などからなる透明導電膜又は有色半透明導電膜などにより形成されている。   The touch detection electrode 11 is formed of, for example, a transparent conductive film or a colored translucent conductive film made of ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), an organic conductive material, or the like.

リニアライゼイションパターン12は、導電性材料により形成されており、当該導電性材料としては、例えば、金属ペーストや有機導電膜を使用することができる。金属ペーストとしては、例えば、銀ペースト、金ペースト、銅ペースト、カーボンペースト等が使用でき、有機導電膜としては、例えば、Starck製のClevios V3、日産化学工業製のHKシリーズ(ポリアニン系分散液タイプ)、あるいはCambrios社が開発中の透明導電膜等が使用できる。なお、これらの材料は、単独で使用しても良く、2種類以上を多層化して使用しても良い。   The linearization pattern 12 is formed of a conductive material, and for example, a metal paste or an organic conductive film can be used as the conductive material. As the metal paste, for example, silver paste, gold paste, copper paste, carbon paste, etc. can be used. As the organic conductive film, for example, Clevios V3 made by Starck, HK series made by Nissan Chemical Industries (polyanine dispersion type) Or a transparent conductive film under development by Cambrios. Note that these materials may be used alone or in combination of two or more.

また、第1引出配線13a及び第2引出配線13bは、例えば、アルミニウム、チタン、銅、モリブデン、タンタルなどの単体若しくはそれらの合金からなる単層若しくは複層の比較的薄膜の金属膜、または、銀、パラジウム、銀−パラジウム、銅などの金属ペーストからなる比較的厚膜の金属膜などにより形成されている。   In addition, the first lead wiring 13a and the second lead wiring 13b are, for example, a single-layer or multi-layer relatively thin metal film made of a simple substance such as aluminum, titanium, copper, molybdenum, tantalum, or an alloy thereof, or A relatively thick metal film made of a metal paste such as silver, palladium, silver-palladium, or copper is used.

また、図3に示すように、第1リニアライゼイションパターン12aは、第1セグメント40と、当該第1セグメント40に隣接して配列された第2セグメント41により構成されている。   As shown in FIG. 3, the first linearization pattern 12 a includes a first segment 40 and a second segment 41 arranged adjacent to the first segment 40.

また、本実施形態においては、位置検出精度の低下を抑制するとの観点から、図4に示すように、第1リニアライゼイションパターン12aのピッチ(即ち、第1リニアライゼイションパターン12aの長さ方向Xにおける、隣接する第1セグメント40と第2セグメント41の距離)Pを7.1mm以下に設定する構成としている。この場合、図3に示すように、第1リニアライゼイションパターン12aにおけるリニア数(即ち、第1セグメント40と第2セグメント41の合計数)は7である。   In the present embodiment, from the viewpoint of suppressing a decrease in position detection accuracy, as shown in FIG. 4, the pitch of the first linearization pattern 12a (that is, the length direction of the first linearization pattern 12a). The distance between the adjacent first segment 40 and the second segment 41 in P) is set to 7.1 mm or less. In this case, as shown in FIG. 3, the linear number (that is, the total number of the first segment 40 and the second segment 41) in the first linearization pattern 12a is seven.

一般に、リニアライゼイションパターン12を形成する銀ペーストは、タッチ検出電極11を形成するITOに比し、抵抗変動が小さいため、銀ペーストとITOとの間の抵抗変動差により、リニアライゼイションパターンにより平行化されて流れている電流の分布におけるバランスが崩れて、位置検出精度が低下してしまう。   In general, the silver paste that forms the linearization pattern 12 has a smaller resistance variation than the ITO that forms the touch detection electrode 11, and therefore, due to the difference in resistance variation between the silver paste and ITO, The balance in the distribution of the current flowing in parallel is lost, and the position detection accuracy is lowered.

一方、本実施形態においては、上述のごとく、第1リニアライゼイションパターン12aのピッチPを7.1mm以下に設定しているため、リニア数が増加し、電流が、銀ペーストとITOの界面を通過する回数が増加しする。その結果、銀ペーストとITOとの間の抵抗変動差が緩和されるため、位置検出精度の低下を効果的に抑制することが可能になる。   On the other hand, in this embodiment, as described above, since the pitch P of the first linearization pattern 12a is set to 7.1 mm or less, the linear number increases and the current flows between the silver paste and the ITO interface. The number of passes increases. As a result, since the resistance fluctuation difference between the silver paste and ITO is relaxed, it is possible to effectively suppress a decrease in position detection accuracy.

なお、位置検出精度の低下を一層抑制するとの観点から、第1リニアライゼイションパターン12aのピッチPを4.9mm以下に設定することが好ましい。この場合、本実施形態においては、図5に示すように、第1リニアライゼイションパターン12aにおけるリニア数は11となる。   Note that, from the viewpoint of further suppressing a decrease in position detection accuracy, it is preferable to set the pitch P of the first linearization pattern 12a to 4.9 mm or less. In this case, in the present embodiment, the linear number in the first linearization pattern 12a is 11 as shown in FIG.

また、第1セグメント40と第2セグメント41の幅Wは、特に限定されないが、位置検出精度の低下をより一層抑制するとの観点から、幅Wは200μm以上とすることが好ましい。   In addition, the width W of the first segment 40 and the second segment 41 is not particularly limited, but the width W is preferably set to 200 μm or more from the viewpoint of further suppressing a decrease in position detection accuracy.

また、同様に、第1セグメント40と第2セグメント41の間隔(即ち、第1リニアライゼイションパターン12aの長さ方向Xに直交する方向Yにおける、隣接する第1セグメント40と第2セグメント41の距離)Sは、特に限定されないが、位置検出精度の低下をより一層抑制するとの観点から、間隔Sは200μm以上とすることが好ましい。   Similarly, the interval between the first segment 40 and the second segment 41 (that is, the adjacent first segment 40 and second segment 41 in the direction Y orthogonal to the length direction X of the first linearization pattern 12a). The distance S is not particularly limited, but the distance S is preferably set to 200 μm or more from the viewpoint of further suppressing a decrease in position detection accuracy.

なお、図3に示すように、第1リニアライゼイションパターン12aの長さ方向Xにおける、第1リニアライゼイションパターン12aの両端部には、タッチ検出電極11内に流れる電流を平行化して検出位置精度を向上させるために電流を分配させるための高抵抗パターン42が形成されている。   In addition, as shown in FIG. 3, the current flowing in the touch detection electrode 11 is made parallel at both ends of the first linearization pattern 12a in the length direction X of the first linearization pattern 12a to detect the detection positions. In order to improve accuracy, a high resistance pattern 42 for distributing current is formed.

また、第1リニアライゼイションパターン12aと同様に、図6に示すように、第2リニアライゼイションパターン12bは、第1セグメント40と、当該第1セグメント40に隣接して配列された第2セグメント41により構成されている。   Similarly to the first linearization pattern 12a, as shown in FIG. 6, the second linearization pattern 12b includes a first segment 40 and a second segment arranged adjacent to the first segment 40. 41.

また、第2リニアライゼイションパターン12bは、現在、明確な設計ルールがないため、第1リニアライゼイション12aと同一のリニア数として設計している。また、第2リニアライゼイションパターン12bのピッチ(即ち、第2リニアライゼイションパターン12bの長さ方向xにおける、隣接する第1セグメント40と第2セグメント41の距離)pは、5.7mmに設定されており、第2リニアライゼイションパターン12bにおけるリニア数は7である。   The second linearization pattern 12b is designed as the same linear number as the first linearization 12a because there is no clear design rule at present. Further, the pitch (that is, the distance between the adjacent first segment 40 and second segment 41 in the length direction x of the second linearization pattern 12b) p of the second linearization pattern 12b is set to 5.7 mm. The number of linear elements in the second linearization pattern 12b is seven.

また、本実施形態においては、第2リニアライゼイションパターン12bにおける第1セグメント40と第2セグメント41の幅wは、100、150、200、及び300mmで検討した結果、200mm以上が検出精度が高く、好ましいと言える。また、第2リニアライゼイションパターン12bにおける第1セグメント40と第2セグメント41の間隔(即ち、第2リニアライゼイションパターン12bの長さ方向xに直交する方向yにおける、隣接する第1セグメント40と第2セグメント41の距離)sについても、150、200、及び300mmで検討した結果、200mm以上が検出精度が高く、好ましいと言える。   In the present embodiment, the width w of the first segment 40 and the second segment 41 in the second linearization pattern 12b is 100, 150, 200, and 300 mm. It can be said that it is preferable. Further, the distance between the first segment 40 and the second segment 41 in the second linearization pattern 12b (that is, the adjacent first segment 40 in the direction y orthogonal to the length direction x of the second linearization pattern 12b). As for the distance (s) of the second segment 41), as a result of studying at 150, 200, and 300 mm, it can be said that 200 mm or more is preferable because of high detection accuracy.

また、第1リニアライゼイションパターン12aと同様に、図6に示すように、第2リニアライゼイションパターン12bの長さ方向xにおける、第2リニアライゼイションパターン12bの両端部には、高抵抗パターン42が形成されている。   Similarly to the first linearization pattern 12a, as shown in FIG. 6, high resistance patterns are formed at both ends of the second linearization pattern 12b in the length direction x of the second linearization pattern 12b. 42 is formed.

第1引出配線13aは、図1に示すように、タッチ検出電極11の左上角部及び右上角部から時計方向回りにそれぞれ引き出されている。   As shown in FIG. 1, the first lead-out wiring 13 a is led out clockwise from the upper left corner and upper right corner of the touch detection electrode 11.

第2引出配線13bは、図1に示すように、タッチ検出電極11の左下角部及び右下角部から反時計方向回りにそれぞれ引き出されている。   As shown in FIG. 1, the second lead-out wiring 13 b is led out counterclockwise from the lower left corner and the lower right corner of the touch detection electrode 11.

第1引出配線13a及び第2引出配線13bの各端部には、図1に示すように、絶縁性基板10の一方の端縁(図1における右辺)に沿って延びるように線状の接続端子Tがそれぞれ設けられている。なお、接続端子Tの間隔は、例えば、数100μm程度である。   As shown in FIG. 1, a linear connection is provided at each end of the first lead-out wiring 13a and the second lead-out wiring 13b so as to extend along one end edge (the right side in FIG. 1) of the insulating substrate 10. Terminals T are provided respectively. The interval between the connection terminals T is, for example, about several hundred μm.

各第1引出配線13a及び各第2引出配線13bにおいて、接続端子Tは、図1に示すように、互いに隣り合うように設けられている。   In each of the first lead wires 13a and each second lead wire 13b, the connection terminals T are provided adjacent to each other as shown in FIG.

各第1引出配線13aの接続端子Tが設けられた領域と、各第2引出配線13bの接続端子Tが設けられた領域との間には、図1に示すように、絶縁性基板10と第2基板15aとを位置合わせするための一対の位置合わせマークMが、絶縁性基板10の一方の端縁(図1における右辺)と垂直な方向に離間するように設けられている。   As shown in FIG. 1, between the region where the connection terminal T of each first lead wire 13a is provided and the region where the connection terminal T of each second lead wire 13b is provided, the insulating substrate 10 and A pair of alignment marks M for aligning with the second substrate 15a is provided so as to be separated in a direction perpendicular to one end edge (the right side in FIG. 1) of the insulating substrate 10.

絶縁性基板10の上面では、タッチ検出電極11、リニアライゼイションパターン12、第1引出配線13a及び第2引出配線13bの接続端子T以外の部分を覆うように、アクリル樹脂などの有機樹脂膜からなる絶縁層が設けられていてもよい。なお、この絶縁層としては、ITOからなる透明導電膜の劣化を抑制するために、カルボン酸を含まない有機樹脂膜が好ましい。   On the upper surface of the insulating substrate 10, an organic resin film such as an acrylic resin is covered so as to cover portions other than the connection terminals T of the touch detection electrode 11, the linearization pattern 12, the first extraction wiring 13 a and the second extraction wiring 13 b. An insulating layer may be provided. In addition, as this insulating layer, in order to suppress deterioration of the transparent conductive film which consists of ITO, the organic resin film which does not contain carboxylic acid is preferable.

基板15aの下面には、図1に示すように、絶縁性基板10上の第1引出配線13a及び第2引出配線13bの各接続端子Tに接続されるように、L字状の外部配線16が4本設けられている。   On the lower surface of the substrate 15a, as shown in FIG. 1, an L-shaped external wiring 16 is connected to each connection terminal T of the first extraction wiring 13a and the second extraction wiring 13b on the insulating substrate 10. Are provided.

外部配線16は、図1に示すように、接続端子Tに重なるように設けられた接続部16aと、接続部16aから屈曲してタッチ検出電極11から離間する方向に延びるように設けられた配線部16bとを備えている。ここで、外部配線16は、FPCの導線層を構成する銅箔などにより形成されている。なお、配線部16bは、接続端子Tのちょうど端に重なる位置で屈曲していても、その位置から数mm程度、外側(端子外)又は内側(端子内)で屈曲していてもよい。   As shown in FIG. 1, the external wiring 16 includes a connection portion 16 a provided so as to overlap the connection terminal T, and a wiring provided so as to bend from the connection portion 16 a and extend in a direction away from the touch detection electrode 11. Part 16b. Here, the external wiring 16 is formed of a copper foil or the like that constitutes the conductive layer of the FPC. The wiring portion 16b may be bent at a position that overlaps the end of the connection terminal T, or may be bent on the outside (outside of the terminal) or the inside (inside of the terminal) by several mm from the position.

基板15aの下面では、各外部配線16の配線部16bを覆うように、有機樹脂膜からなる絶縁層が設けられている。なお、この絶縁層としては、FPCを構成するカバーフィルムなどにより形成されている。   On the lower surface of the substrate 15a, an insulating layer made of an organic resin film is provided so as to cover the wiring portion 16b of each external wiring 16. In addition, as this insulating layer, it is formed with the cover film etc. which comprise FPC.

タッチパネル20では、図1に示すように、リニアライゼイションパターン12の内側に画像表示を行う表示領域D、及びその表示領域Dの周囲にリニアライゼイションパターン12、第1引出配線13a及び第2引出配線13bが配設された額縁領域Fがそれぞれ規定されている。   In the touch panel 20, as shown in FIG. 1, the display area D that displays an image inside the linearization pattern 12, and the linearization pattern 12, the first lead wiring 13 a, and the second lead out around the display area D. A frame region F in which the wiring 13b is disposed is defined.

接着層25aは、例えば、アクリル系の樹脂であり、その屈折率の適正化を図ることにより、各材料間の屈折率の違いにより生じる各材料間界面の反射光を低減させて、表示品位を向上させることができる。   The adhesive layer 25a is, for example, an acrylic resin. By optimizing the refractive index, the reflected light at the interface between the materials caused by the difference in the refractive index between the materials is reduced, and the display quality is improved. Can be improved.

上記構成の液晶表示装置40aは、アクティブマトリクス基板31及び対向基板32の間の液晶層に所定の電圧を印加することにより、液晶表示パネル30を透過する光の透過率を調整して、タッチパネル20を介して画像表示を行う。   The liquid crystal display device 40 a configured as described above adjusts the transmittance of light transmitted through the liquid crystal display panel 30 by applying a predetermined voltage to the liquid crystal layer between the active matrix substrate 31 and the counter substrate 32, and the touch panel 20. The image is displayed via

また、タッチ検出電極11の表面がカバー基板(不図示)や保護膜(不図示)を介してタッチされることにより、タッチ検出電極11がタッチされた位置で人体の静電容量を介して接地されて、リニアライゼイションパターン12の各角部(4隅)とタッチされた位置(接地点)との間の容量(抵抗値)において変化が生じ、リニアライゼイションパターン12の4隅と接地点との間の抵抗値の変化に基づいて各外部配線16に接続されたタッチ位置を検出するための位置検出回路(不図示)内の組み込みIC(integrated circuit)がタッチされた位置をソフト的に計算して検出するように構成されている。   Further, when the surface of the touch detection electrode 11 is touched via a cover substrate (not shown) or a protective film (not shown), the touch detection electrode 11 is grounded via the capacitance of the human body at the position touched. Thus, a change occurs in the capacitance (resistance value) between each corner (four corners) of the linearization pattern 12 and the touched position (grounding point), and the four corners of the linearization pattern 12 and the grounding point are changed. The position where an embedded IC (integrated circuit) in a position detection circuit (not shown) for detecting the touch position connected to each external wiring 16 based on the change in resistance value between It is configured to calculate and detect.

次に、上記構成のタッチパネル20の製造方法について一例を挙げて説明する。   Next, an example is given and demonstrated about the manufacturing method of the touch panel 20 of the said structure.

まず、絶縁性基板10を用意するとともに、当該絶縁性基板10を洗浄する。この洗浄は、例えば、アセトン、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノールなどの有機溶剤を用いて行う。これにより、絶縁性基板10に付着された有機物や粒子状不純物などが除去される。   First, the insulating substrate 10 is prepared and the insulating substrate 10 is cleaned. This cleaning is performed using an organic solvent such as acetone, isopropyl alcohol, methanol, ethanol, or the like. Thereby, organic substances and particulate impurities attached to the insulating substrate 10 are removed.

次いで、絶縁性基板11上に、スパッタリング法により、透明導電膜として、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)膜を成膜した後、フォトリソグラフィによりパターン形成して、タッチ検出電極11を形成する。なお、タッチ検出電極11の厚みが、200Å〜1500Åとなるように形成することが好ましい。これは、タッチ検出電極11の厚みが、200Å未満の場合は、基板面内における膜圧の均一性を保持することが困難になり、1500Åより大きい場合は、タッチ検出電極11の透過率が低下して、表示品位が低下する場合があるからである。   Next, after forming, for example, an ITO (Indium Tin Oxide) film as a transparent conductive film on the insulating substrate 11 by sputtering, a pattern is formed by photolithography to form the touch detection electrode 11. In addition, it is preferable to form the touch detection electrode 11 so that the thickness is 200 to 1500 mm. This is because, when the thickness of the touch detection electrode 11 is less than 200 mm, it is difficult to maintain the uniformity of the film pressure in the substrate surface, and when the thickness is more than 1500 mm, the transmittance of the touch detection electrode 11 decreases. This is because the display quality may deteriorate.

次いで、タッチ検出電極11上、及び絶縁性基板10上に、スクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布して、タッチ検出電極11の各辺に沿って延びるようにリニアライゼイションパターン12を形成するとともに、タッチ検出電極11の各角部(または、リニアライゼイションパターン12の4隅)から引き出され、絶縁性基板10の周縁に沿って該絶縁性基板10の一方の端縁(図1における右辺)に沿った領域にそれぞれ引き出されるように一対の第1引出配線13a、及び一対の第2引出配線13bが形成される。   Next, a silver paste is applied on the touch detection electrode 11 and the insulating substrate 10 by using a screen printing method, and the linearization pattern 12 is formed so as to extend along each side of the touch detection electrode 11. At the same time, it is pulled out from each corner of the touch detection electrode 11 (or the four corners of the linearization pattern 12) and along one edge of the insulating substrate 10 along the periphery of the insulating substrate 10 (the right side in FIG. 1). A pair of first extraction wirings 13a and a pair of second extraction wirings 13b are formed so as to be respectively extracted to the regions along ().

そして、例えば、タッチ検出電極11、リニアライゼイションパターン12、第1引出配線13a、及び第2引出配線13bを覆うように、CVD(Chemical Vapor Deposition)法により、窒化シリコン膜(厚み1500Å程度)を成膜した後、フォトリソグラフィによりパターン形成して、保護層を形成する。   For example, a silicon nitride film (thickness of about 1500 mm) is formed by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method so as to cover the touch detection electrode 11, the linearization pattern 12, the first extraction wiring 13a, and the second extraction wiring 13b. After film formation, a pattern is formed by photolithography to form a protective layer.

以上のようにして、タッチパネル20を製造することができる。   The touch panel 20 can be manufactured as described above.

以上に説明した本実施形態においては、以下の効果を得ることができる。   In the present embodiment described above, the following effects can be obtained.

本実施形態においては、タッチ検出電極11の長辺11aに沿って設けられたリニアライゼイションパターン12(即ち、第1リニアライゼイションパターン12a)のピッチPを7.1mm以下に設定する構成としている。従って、タッチ検出電極11とリニアライゼイションパターン12との間の抵抗変動差が緩和されるため、検出位置とタッチパネル20上の実際にタッチされた位置とのズレを小さくすることが可能になる。その結果、位置検出精度の低下を効果的に抑制することが可能になる。   In the present embodiment, the pitch P of the linearization pattern 12 (that is, the first linearization pattern 12a) provided along the long side 11a of the touch detection electrode 11 is set to 7.1 mm or less. . Therefore, since the resistance fluctuation difference between the touch detection electrode 11 and the linearization pattern 12 is alleviated, it is possible to reduce the deviation between the detection position and the actually touched position on the touch panel 20. As a result, it is possible to effectively suppress a decrease in position detection accuracy.

また、例えば、銀ペースト等の金属ペーストによりリニアライゼイションパターン12を形成した場合であっても、銀ペーストの種類に依存することなく、位置検出精度の変動を効果的に抑制することができるため、高い信頼性を有するタッチパネル20を提供することが可能になる。   Further, for example, even when the linearization pattern 12 is formed with a metal paste such as a silver paste, it is possible to effectively suppress fluctuations in position detection accuracy without depending on the type of the silver paste. It becomes possible to provide the touch panel 20 having high reliability.

特に、上述のピッチPを4.9mm以下に設定することにより、タッチ検出電極11とリニアライゼイションパターン12との間の抵抗変動差が一層緩和されるため、検出位置とタッチパネル上の実際にタッチされた位置とのズレを一層小さくすることが可能になり、結果として、位置検出精度の低下を一層効果的に抑制することが可能になる。   In particular, by setting the above-described pitch P to 4.9 mm or less, the resistance fluctuation difference between the touch detection electrode 11 and the linearization pattern 12 is further alleviated. It is possible to further reduce the deviation from the set position, and as a result, it is possible to more effectively suppress a decrease in position detection accuracy.

また、本実施形態においては、前記リニアライゼイションパターン12を構成する第1セグメント40と第2セグメント41の幅を200μm以上に設定するとともに、第1セグメント40と第2セグメント41との間隔を200μm以上に設定する構成としている。従って、タッチ検出電極11とリニアライゼイションパターン12との間の抵抗変動差がより一層緩和される。その結果、検出位置とタッチパネル20上の実際にタッチされた位置とのズレをより一層小さくすることが可能になるため、位置検出精度の低下をより一層効果的に抑制することが可能になる。   In the present embodiment, the width of the first segment 40 and the second segment 41 constituting the linearization pattern 12 is set to 200 μm or more, and the distance between the first segment 40 and the second segment 41 is set to 200 μm. The configuration is as described above. Therefore, the resistance fluctuation difference between the touch detection electrode 11 and the linearization pattern 12 is further alleviated. As a result, the deviation between the detected position and the actually touched position on the touch panel 20 can be further reduced, so that it is possible to more effectively suppress a decrease in position detection accuracy.

また、本実施形態においては、リニアライゼイションパターン12を金属ペーストまたは有機導電膜により形成する構成としている。従って、高耐熱性の絶縁性基板上に限らず、樹脂により形成されたプラスチック基板上に、リニアライゼイションパターンを低温で形成することが可能になる。また、ロールツーロール方式により、長尺基板における巻出し部および巻取り部等が比較的コンパクトにして連続的に大量に生産でき、生産性を向上させることが可能になる。更に、例えば、軽量で立体形状等にも成形可能な樹脂製のカバーや液晶注入後の液晶表示パネルの基板上に、例えば、130°以下の低温で、リニアライゼイションパターンを直接形成することが可能になる。   In the present embodiment, the linearization pattern 12 is formed of a metal paste or an organic conductive film. Therefore, it is possible to form a linearization pattern at a low temperature on a plastic substrate formed of a resin as well as a high heat resistant insulating substrate. Further, the roll-to-roll method makes it possible to produce a large amount continuously by making the unwinding portion and the winding portion of the long substrate relatively compact, thereby improving the productivity. Further, for example, a linearization pattern can be directly formed on a resin cover that can be molded into a lightweight and three-dimensional shape or a liquid crystal display panel substrate after liquid crystal injection at a low temperature of 130 ° or less, for example. It becomes possible.

また、本実施形態においては、リニアライゼイションパターン12を形成する金属ペースト及び有機導電膜をスクリーン印刷法により形成する構成としている。従って、真空製膜法等の他の製法に比し、リニアライゼイションパターン12を容易に形成することが可能になる。   In the present embodiment, the metal paste and the organic conductive film for forming the linearization pattern 12 are formed by screen printing. Therefore, the linearization pattern 12 can be easily formed as compared with other manufacturing methods such as a vacuum film forming method.

また、本実施形態においては、リニアライゼイションパターン12を形成する金属ペーストとして、銀ペーストを使用する構成としている。銀ペーストは、他の金属ペーストに比し、タッチ検出電極11を形成するITOや有機導電材料等からなる透明導電膜等との接着強度信頼性が比較的安定しており、界面抵抗の変動も比較的小さく、高信頼性を有する。   Moreover, in this embodiment, it is set as the structure which uses a silver paste as a metal paste which forms the linearization pattern 12. FIG. Compared to other metal pastes, the silver paste has a relatively stable adhesive strength reliability with a transparent conductive film made of ITO, an organic conductive material, or the like that forms the touch detection electrode 11, and fluctuations in interface resistance are also caused. It is relatively small and has high reliability.

以下に、本発明を実施例、比較例に基づいて説明する。なお、本発明は、これらの実施例に限定されるものではなく、これらの実施例を本発明の趣旨に基づいて変形、変更することが可能であり、それらを本発明の範囲から除外するものではない。   Below, this invention is demonstrated based on an Example and a comparative example. In addition, this invention is not limited to these Examples, These Examples can be changed and changed based on the meaning of this invention, and they are excluded from the scope of the present invention. is not.

(実施例1)
<タッチパネルの作製>
まず、絶縁性基板として、ガラス基板(長さ:76.5mm、幅:63.5mm、厚み:0.3mm)を用意し、当該ガラス基板上に、ITO(ジオマテック(株)製)を、スパッタリング法により製膜した後、フォトリソグラフィにより矩形状にパターニングすることにより、ガラス基板上にタッチ検出電極を形成した。次いで、銀ペースト(太陽インク(株)製、商品名AF4820)を、スクリーン印刷機により、タッチ検出電極上に所定のパターンで印刷し、次いで、恒温槽を用いて、120℃で60分間加熱して硬化させることにより、第1セグメントと第2セグメントにより構成されるリニアライゼイションパターンを形成した。なお、スクリーン印刷には、SUS300メッシュのスクリーン版を使用した。また、タッチ検出電極の長辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンのピッチを4.9mmで形成した。また、第1セグメント及び第2セグメントの幅を100μmで形成するとともに、第1セグメントと第2セグメントとの間隔を150μmで形成し、リニア数を11とした。
Example 1
<Production of touch panel>
First, as an insulating substrate, a glass substrate (length: 76.5 mm, width: 63.5 mm, thickness: 0.3 mm) is prepared, and ITO (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) is sputtered on the glass substrate. After forming the film by the method, the touch detection electrode was formed on the glass substrate by patterning into a rectangular shape by photolithography. Next, a silver paste (manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd., trade name AF4820) is printed in a predetermined pattern on the touch detection electrode by a screen printer, and then heated at 120 ° C. for 60 minutes using a thermostatic bath. Then, a linearization pattern composed of the first segment and the second segment was formed. For screen printing, a screen plate of SUS300 mesh was used. Moreover, the pitch of the linearization pattern provided along the long side of the touch detection electrode was formed at 4.9 mm. In addition, the width of the first segment and the second segment was formed at 100 μm, the interval between the first segment and the second segment was formed at 150 μm, and the linear number was 11.

<位置検出精度の測定>
まず、タッチ検出電極の表面において、縦方向と横方向において等間隔の5行5列の固定座標を設定した。次いで、ペン形状を有する治具装置で、タッチ検出電極の表面をタッチし、位置検出回路により検出された位置と、実際に治具装置でタッチした位置との距離をズレ量(以下、「初期のズレ量」という。)として算出し、タッチ位置の検出領域(即ち、表示領域)の対角線の長さを基準として、当該対角線の長さに対するズレ量の割合(%)を求めることにより、位置検出精度を測定した。なお、当該ズレ量の割合が20%未満の場合を、位置検出精度が良好なものとした。
<Measurement of position detection accuracy>
First, on the surface of the touch detection electrode, fixed coordinates of 5 rows and 5 columns at equal intervals in the vertical direction and the horizontal direction were set. Next, with a jig device having a pen shape, the surface of the touch detection electrode is touched, and the distance between the position detected by the position detection circuit and the position actually touched by the jig device (hereinafter referred to as “initial”). And calculating the ratio (%) of the amount of deviation with respect to the length of the diagonal line based on the length of the diagonal line of the touch position detection area (that is, the display area). The detection accuracy was measured. In addition, when the ratio of the deviation amount is less than 20%, the position detection accuracy is good.

<耐熱・耐湿評価>
また、耐熱・耐湿試験として、上記のタッチパネルを、温度を65℃、湿度を90%に設定した恒温恒湿槽中に240時間放置した後、タッチパネルを恒温恒湿槽から取り出し、再び、上記と同様にして、位置検出回路により検出された位置と、実際に治具装置でタッチした位置との距離をズレ量(以下、「240時間後のズレ量」という。)として算出し位置検出精度の測定を行った。
<Heat and humidity resistance evaluation>
In addition, as a heat and humidity test, after leaving the touch panel in a constant temperature and humidity chamber set at a temperature of 65 ° C. and a humidity of 90% for 240 hours, the touch panel is taken out of the constant temperature and humidity chamber, and again as described above. Similarly, the distance between the position detected by the position detection circuit and the position actually touched by the jig device is calculated as a displacement amount (hereinafter referred to as “a displacement amount after 240 hours”), and the position detection accuracy is improved. Measurements were made.

また、第1セグメント及び第2セグメントの幅と、第1セグメントと第2セグメントとの間隔を変更(幅が150μmであって間隔が150μmのもの、幅が200μmであって間隔が200μmのもの、及び幅が300μmであって間隔が300μmのものに変更)したリニアライゼイションパターンを形成し、これらについても、同様に位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表1に示す。   In addition, the width of the first segment and the second segment and the interval between the first segment and the second segment are changed (the width is 150 μm and the interval is 150 μm, the width is 200 μm and the interval is 200 μm, In addition, a linearization pattern having a width of 300 μm and an interval of 300 μm was formed, and the position detection accuracy was measured in the same manner, and heat resistance / humidity evaluation was performed. The results are shown in Table 1.

(実施例2)
タッチ検出電極の長辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンのピッチを7.1mmで形成し、リニア数を7としたこと以外は、上述の実施例1と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表2に示す。
(Example 2)
A touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the linearization pattern provided along the long side of the touch detection electrode was formed with a pitch of 7.1 mm and the linear number was set to 7. . Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. The results are shown in Table 2.

(実施例3)
銀ペースト(太陽インク(株)製、商品名AF4820)の代わりに、銀ペースト(太陽インク(株)製、商品名TR63916)を用いたこと以外は、上述の実施例1と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表3に示す。
(Example 3)
A touch panel was obtained in the same manner as in Example 1 except that silver paste (trade name TR63916, manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd.) was used instead of silver paste (trade name AF4820, manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd.). Was made. Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. The results are shown in Table 3.

(実施例4)
銀ペースト(太陽インク(株)製、商品名AF4820)の代わりに、銀ペースト(太陽インク(株)製、商品名TR63916)を用いたこと以外は、上述の実施例2と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表4に示す。
Example 4
A touch panel was obtained in the same manner as in Example 2 except that a silver paste (trade name TR63916, manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd.) was used instead of the silver paste (trade name AF4820, manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd.). Was made. Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. The results are shown in Table 4.

(実施例5)
銀ペースト(太陽インク(株)製、商品名AF4820)の代わりに、銀ペースト(東洋紡(株)製、商品名DW260H)を用いたこと以外は、上述の実施例1と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表5に示す。
(Example 5)
The touch panel was used in the same manner as in Example 1 except that silver paste (manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name DW260H) was used instead of silver paste (manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd., product name AF4820). Produced. Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. The results are shown in Table 5.

(実施例6)
銀ペースト(太陽インク(株)製、商品名AF4820)の代わりに、銀ペースト(東洋紡(株)製、商品名DW260H)を用いたこと以外は、上述の実施例2と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表6に示す。
(Example 6)
The touch panel was used in the same manner as in Example 2 except that silver paste (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name DW260H) was used instead of silver paste (trade name AF4820, manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd.). Produced. Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. The results are shown in Table 6.

(実施例7)
銀ペースト(太陽インク(株)製、商品名AF4820)の代わりに、銀ペースト(藤倉化成(株)製、商品名XA3251)を用いたこと以外は、上述の実施例1と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表7に示す。
(Example 7)
A touch panel is obtained in the same manner as in Example 1 except that a silver paste (trade name XA3251 manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) is used instead of the silver paste (trade name AF4820 manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd.). Was made. Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. The results are shown in Table 7.

(実施例8)
銀ペースト(太陽インク(株)製、商品名AF4820)の代わりに、銀ペースト(藤倉化成(株)製、商品名XA3251)を用いたこと以外は、上述の実施例2と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表8に示す。
(Example 8)
A touch panel is obtained in the same manner as in Example 2 except that a silver paste (trade name XA3251 manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) is used instead of the silver paste (trade name AF4820 manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd.). Was made. Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. Table 8 shows the above results.

(比較例1)
タッチ検出電極の長辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンのピッチを12.8mmで形成し、リニア数を3としたこと以外は、上述の実施例1と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表9に示す。
(Comparative Example 1)
A touch panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the pitch of the linearization pattern provided along the long side of the touch detection electrode was 12.8 mm and the number of linears was 3. . Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. The above results are shown in Table 9.

(比較例2)
タッチ検出電極の長辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンのピッチを12.8mmで形成し、リニア数を3としたこと以外は、上述の実施例3と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表10に示す。
(Comparative Example 2)
A touch panel was produced in the same manner as in Example 3 except that the pitch of the linearization pattern provided along the long side of the touch detection electrode was 12.8 mm and the number of linears was set to 3. . Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. Table 10 shows the above results.

(比較例3)
タッチ検出電極の長辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンのピッチを12.8mmで形成し、リニア数を3としたこと以外は、上述の実施例5と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表11に示す。
(Comparative Example 3)
A touch panel was manufactured in the same manner as in Example 5 except that the pitch of the linearization pattern provided along the long side of the touch detection electrode was 12.8 mm and the linear number was set to 3. . Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. Table 11 shows the above results.

(比較例4)
タッチ検出電極の長辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンのピッチを12.8mmで形成し、リニア数を3としたこと以外は、上述の実施例7と同様にして、タッチパネルを作製した。その後、上述の実施例1と同一条件により、位置検出精度を測定し、耐熱・耐湿評価を行った。以上の結果を表12に示す。
(Comparative Example 4)
A touch panel was manufactured in the same manner as in Example 7 except that the linearization pattern provided along the long side of the touch detection electrode had a pitch of 12.8 mm and the linear number was set to 3. . Thereafter, the position detection accuracy was measured under the same conditions as in Example 1 above, and heat resistance / humidity evaluation was performed. The results are shown in Table 12.

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表1〜8に示すように、実施例1〜8のいずれの場合においても、初期のズレ量及び240時間後のズレ量が20%未満となっており、検出位置とタッチパネル上の実際にタッチされた位置とのズレが小さく、位置検出精度の低下を効果的に抑制することができることが判る。また、銀ペーストの種類に依存することなく、位置検出精度の変動を効果的に抑制することができることが判る。また、特に、第1セグメント及び第2セグメントの幅が200μm以上であるとともに、第1セグメントと第2セグメントとの間隔が200μm以上の場合に、全体的に240時間後のズレ量がより一層小さく、位置検出精度の低下をより一層効果的に抑制することができることが判る。   As shown in Tables 1-8, in any case of Examples 1-8, the initial shift amount and the shift amount after 240 hours are less than 20%, and the detected position and the actual touch on the touch panel are touched. It can be seen that the deviation from the position is small, and the decrease in position detection accuracy can be effectively suppressed. Moreover, it turns out that the fluctuation | variation of a position detection precision can be suppressed effectively, without being dependent on the kind of silver paste. In particular, when the width of the first segment and the second segment is 200 μm or more and the distance between the first segment and the second segment is 200 μm or more, the overall deviation amount after 240 hours is further reduced. It can be seen that a decrease in position detection accuracy can be more effectively suppressed.

一方、表9〜12に示すように、比較例1〜4のいずれの場合においても、初期のズレ量は20%未満となっているものの、240時間後のズレ量が20%以上となっているものが多く見られ、検出位置とタッチパネル上の実際にタッチされた位置とのズレが大きいことが判る。   On the other hand, as shown in Tables 9 to 12, in any case of Comparative Examples 1 to 4, the initial deviation amount is less than 20%, but the deviation amount after 240 hours is 20% or more. It can be seen that there is a large gap between the detected position and the actually touched position on the touch panel.

なお、上記実施形態は以下のように変更しても良い。   In addition, you may change the said embodiment as follows.

上記実施形態においては、表示装置として、TFT型の液晶表示装置を例示したが、本発明は、DUTY型やポリシリコン型などの液晶表示装置、有機EL(electro luminescence)表示装置、プラズマ表示装置、電子ペーパーなどの他の表示装置にも適用することができる。   In the above embodiment, the TFT type liquid crystal display device is exemplified as the display device. However, the present invention is a liquid crystal display device such as a DUTY type or a polysilicon type, an organic EL (electroluminescence) display device, a plasma display device, The present invention can also be applied to other display devices such as electronic paper.

また、本発明は、上述の液晶表示パネル30等の表示パネルと表示パネル上に設けられた上述のタッチパネル20とを有する表示装置を備える電子機器(例えば、テレビ、パソコン、携帯電話、デジタルカメラ、携帯ゲーム機、電子フォトフレーム、PDA(Peraonal Digital Assistant)、電子ブック、タッチスイッチを有する電子レンジや洗濯機)にも適用することができる。このような構成により、位置検出精度の低下を効果的に抑制することができるタッチパネルを備えた電子機器を提供することが可能になる。   The present invention also provides an electronic apparatus (for example, a television, a personal computer, a mobile phone, a digital camera, a display device having a display panel such as the above-described liquid crystal display panel 30 and the above-described touch panel 20 provided on the display panel. The present invention can also be applied to portable game machines, electronic photo frames, PDAs (Peraonal Digital Assistants), electronic books, microwave ovens and washing machines having touch switches. With such a configuration, it is possible to provide an electronic device including a touch panel that can effectively suppress a decrease in position detection accuracy.

また、本発明のタッチパネル20は、上述の液晶表示パネル30等の表示パネルを有さない電子機器にも適用することができる。より具体的には、上述のタッチパネル20を備える電子機器(例えば、各種リモコン、電動歯ブラシ、シェーバ、電子レンジ、洗濯機、掃除機等の家電製品、ゲームコントローラ)にも適用することができる。このような構成により、位置検出精度の低下を効果的に抑制することができるタッチパネルを備えた電子機器を提供することが可能になる。また、樹脂基板上などにも形成でき、また、カバーや表示装置内に組み込むことが可能であるため、電子機器の軽量化及び小型化が可能になる。   The touch panel 20 of the present invention can also be applied to an electronic device that does not have a display panel such as the liquid crystal display panel 30 described above. More specifically, the present invention can also be applied to electronic devices including the above-described touch panel 20 (for example, various remote controls, electric toothbrushes, shavers, microwave ovens, washing machines, household appliances such as vacuum cleaners, and game controllers). With such a configuration, it is possible to provide an electronic device including a touch panel that can effectively suppress a decrease in position detection accuracy. Further, since it can be formed on a resin substrate or the like and can be incorporated in a cover or a display device, the electronic device can be reduced in weight and size.

また、上記の実施形態においては、タッチパネル20の絶縁性基板10側が液晶表示パネル30に貼り付けられていたが、図8に示す液晶表示装置40bのように、接着層25bを介して、タッチパネル20のタッチ検出電極11側を液晶表示パネル30に貼り付け、タッチパネル20の絶縁性基板10を、表示画面(タッチ面)を保護するカバー基板として機能させる構成としても良い。また、図9に示す液晶表示装置40cのように、液晶表示パネル30の対向基板32によりタッチパネル20の絶縁性基板10を構成しても良い。なお、図9に示す液晶表示装置40cは、タッチパネル20に接着剤層25cを介して設けられたカバー基板9と、液晶表示パネル30の上面及び下面にそれぞれ貼り付けられた偏光板33a及び33bを備えている。この様な構成により、液晶表示装置の薄型化を図ることができるとともに、反射光を低減して、表示品位を向上することが可能になる。   In the above embodiment, the insulating substrate 10 side of the touch panel 20 is attached to the liquid crystal display panel 30. However, like the liquid crystal display device 40b shown in FIG. 8, the touch panel 20 is interposed via the adhesive layer 25b. It is good also as a structure which affixes the touch detection electrode 11 side to the liquid crystal display panel 30, and functions the insulating board | substrate 10 of the touch panel 20 as a cover board | substrate which protects a display screen (touch surface). Further, the insulating substrate 10 of the touch panel 20 may be configured by the counter substrate 32 of the liquid crystal display panel 30 as in the liquid crystal display device 40c shown in FIG. 9 includes a cover substrate 9 provided on the touch panel 20 via an adhesive layer 25c, and polarizing plates 33a and 33b attached to the upper and lower surfaces of the liquid crystal display panel 30, respectively. I have. With such a configuration, the liquid crystal display device can be thinned and reflected light can be reduced to improve display quality.

以上説明したように、本発明は、タッチパネルに関し、特に、静電容量方式のタッチパネル及びそれを備えた表示装置に有用である。   As described above, the present invention relates to a touch panel, and is particularly useful for a capacitive touch panel and a display device including the same.

10 絶縁性基板
11 タッチ検出電極
12 リニアライゼイションパターン
12a 第1リニアライゼイションパターン
12b 第2リニアライゼイションパターン
20 タッチパネル
30 液晶表示パネル
31 アクティブマトリクス基板
32 対向基板
40 第1セグメント
40a 液晶表示装置
40b 液晶表示装置
40c 液晶表示装置
41 第2セグメント
P 第1リニアライゼイションパターンのピッチ
S 第1セグメントと第2セグメントとの間隔
W 第1セグメント及び第2セグメントの幅
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Insulating board | substrate 11 Touch detection electrode 12 Linearization pattern 12a 1st linearization pattern 12b 2nd linearization pattern 20 Touch panel 30 Liquid crystal display panel 31 Active matrix substrate 32 Opposite substrate 40 1st segment 40a Liquid crystal display device 40b Liquid crystal Display device 40c Liquid crystal display device 41 Second segment P Pitch of first linearization pattern S Distance between first segment and second segment W Width of first segment and second segment

Claims (8)

絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に矩形上に設けられたタッチ検出電極と、
前記タッチ検出電極上において、該タッチ検出電極の各辺に沿って設けられたリニアライゼイションパターンと
を備えた静電容量方式のタッチパネルであって、
前記タッチ検出電極の長辺に沿って設けられた前記リニアライゼイションパターンのピッチが7.1mm以下であることを特徴とするタッチパネル。
An insulating substrate;
A touch detection electrode provided in a rectangular shape on the insulating substrate;
On the touch detection electrode, a capacitive touch panel provided with a linearization pattern provided along each side of the touch detection electrode,
The touch panel, wherein a pitch of the linearization pattern provided along the long side of the touch detection electrode is 7.1 mm or less.
前記ピッチが4.9mm以下であることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。   The touch panel as set forth in claim 1, wherein the pitch is 4.9 mm or less. 前記リニアライゼイションパターンは、第1セグメントと、該第1セグメントに隣接して配列された第2セグメントにより構成され、
前記第1セグメント及び前記第2セグメントの幅が200μm以上であるとともに、前記第1セグメントと前記第2セグメントとの間隔が200μm以上であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のタッチパネル。
The linearization pattern includes a first segment and a second segment arranged adjacent to the first segment,
3. The width of the first segment and the second segment is 200 μm or more, and an interval between the first segment and the second segment is 200 μm or more. 4. Touch panel.
前記リニアライゼイションパターンが、金属ペーストまたは有機導電膜により形成されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のタッチパネル。   The touch panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the linearization pattern is formed of a metal paste or an organic conductive film. 前記金属ペースト及び前記有機導電膜が、スクリーン印刷法により形成されていることを特徴とする請求項4に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 4, wherein the metal paste and the organic conductive film are formed by a screen printing method. 前記金属ペーストが、銀ペーストであることを特徴とする請求項4または請求項5に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 4 or 5, wherein the metal paste is a silver paste. 表示パネルと、
前記表示パネル上に設けられた請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のタッチパネルと
を備えることを特徴とする表示装置。
A display panel;
A display device comprising: the touch panel according to claim 1 provided on the display panel.
前記表示パネルが、液晶表示パネルであることを特徴とする請求項7に記載の表示装置。   The display device according to claim 7, wherein the display panel is a liquid crystal display panel.
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