JP2010184288A - Laser processing method - Google Patents

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JP2010184288A JP2009031858A JP2009031858A JP2010184288A JP 2010184288 A JP2010184288 A JP 2010184288A JP 2009031858 A JP2009031858 A JP 2009031858A JP 2009031858 A JP2009031858 A JP 2009031858A JP 2010184288 A JP2010184288 A JP 2010184288A
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Yoshihisa Usami
由久 宇佐美
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a simple and easy laser processing method capable of processing a workpiece with excellent processing accuracy. <P>SOLUTION: A laser processing method includes a step for forming a workpiece containing body to form a workpiece containing body 1 having a plurality of workpieces by fixing the periphery of a plurality of workpieces 11 with a workpiece fixing material 12, and a pattern forming step for forming a pattern on the workpiece by irradiating a laser beam while rotating the workpiece containing body. It is preferable that the workpieces are fixed by filling the workpiece fixing material between the workpieces and a workpiece fixing tool which has a plurality of fitting parts for fitting the workpieces, in the step for forming the workpiece containing body. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、LED素子が形成された基板などの被加工物にレーザ光を照射して、被加工物の加工面にパターンを形成するレーザ加工方法に関する。   The present invention relates to a laser processing method for forming a pattern on a processed surface of a workpiece by irradiating a workpiece such as a substrate on which an LED element is formed with laser light.

これまでに、複数の被加工物を同時に加工できるようにすることで加工効率を向上させることが可能で、ターンテーブルの回転中心を意識することなく高精度な加工が可能なレーザ微細加工装置として、被加工物の位置を規制する装着孔が複数穿設された加工対象物固定治具を使用した装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、この提案では、被加工物の加工面と、加工対象物固定治具の非吸着面との間に段差が生じてしまったり、また、被加工物と、加工対象物固定治具の装着孔との間に隙間が生じてしまったりする。そのため、レーザ加工の際に、フォーカスサーボが外れてしまい、加工できない部分が生じ、被加工物の加工精度が落ちてしまうという問題がある。
Up to now, it is possible to improve the processing efficiency by allowing multiple workpieces to be processed at the same time, and as a laser micromachining device capable of high-precision processing without being aware of the rotation center of the turntable An apparatus using a workpiece fixing jig in which a plurality of mounting holes for regulating the position of a workpiece is provided has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
However, in this proposal, there is a step between the processed surface of the workpiece and the non-adsorption surface of the workpiece fixing jig, or the workpiece and the workpiece fixing jig are mounted. There may be a gap between the holes. For this reason, there is a problem that the focus servo is disengaged during laser processing, a portion that cannot be processed occurs, and the processing accuracy of the workpiece decreases.

また、前記段差や隙間があってもフォーカスサーボが外れず、被加工物の加工精度を維持することが可能なレーザ微細加工装置として、複数のフォーカスサーボ手段と、被加工物と加工対象物固定治具の境界又は境界近傍を検出する境界検出手段と、前記境界検出手段による検出に基づいて、前記フォーカスサーボ手段を切り替えるフォーカスサーボ切替手段とを備える装置が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
しかしながら、この提案では、フォーカスサーボを制御するために、特殊な制御が必要となり、簡便に被加工物を加工することができないという問題がある。
In addition, as a laser micro-machining device that can maintain the machining accuracy of the workpiece without deviating the focus servo even if there is a step or gap, a plurality of focus servo means, and the workpiece and workpiece are fixed There has been proposed an apparatus including boundary detection means for detecting a boundary of a jig or a vicinity of the boundary, and focus servo switching means for switching the focus servo means based on detection by the boundary detection means (for example, Patent Document 2). reference).
However, this proposal has a problem that special control is required to control the focus servo, and the workpiece cannot be easily processed.

したがって、簡便で、かつ、被加工物を優れた加工精度で加工することができるレーザ加工方法の提供が強く求められているのが現状である。   Therefore, at present, there is a strong demand for providing a laser processing method that is simple and can process a workpiece with excellent processing accuracy.

特開2008−93723号公報JP 2008-93723 A 特開2008−200745号公報JP 2008-200755 A

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、簡便で、かつ、被加工物を優れた加工精度で加工することができるレーザ加工方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide a laser processing method that is simple and can process a workpiece with excellent processing accuracy.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 複数の被加工物の周囲を被加工物固定材料で固定し、複数の被加工物を有する被加工物含有体を形成する被加工物含有体形成工程と、
前記被加工物含有体を回転させながら、レーザ光を照射して被加工物上にパターンを形成するパターン形成工程と、
を含むことを特徴とするレーザ加工方法である。
前記<1>に記載のレーザ加工方法では、前記被加工物含有体形成工程において、複数の被加工物を有する被加工物含有体が形成される。前記パターン形成工程において、前記被加工物含有体を回転させながら、レーザ光を照射して被加工物上にパターンが形成される。このとき、前記被加工物は、被加工物含有体として一体化されていて、1つの構造体として認識されるので、被加工物にレーザ光を照射する際にフォーカスサーボが外れるという問題が生じない。
<2> 被加工物含有体形成工程が、被加工物と、被加工物を装着する装着部を複数有する被加工物固定治具との間に被加工物固定材料を充填することにより、被加工物を固定する前記<1>に記載のレーザ加工方法である。
<3> 被加工物と、被加工物固定材料との間が、100μm以下である前記<1>から<2>のいずれかに記載のレーザ加工方法である。
<4> 被加工物固定材料表面(A)と、被加工物表面(B)との段差(A−B)が、4μm以下である前記<1>から<3>のいずれかに記載のレーザ加工方法である。
<5> 被加工物固定材料表面の屈折率が、被加工物表面の屈折率の±50%以内である前記<1>から<4>のいずれかに記載のレーザ加工方法である。
<6> 被加工物固定材料表面の反射率が、被加工物表面の反射率の±50%以内である前記<1>から<5>のいずれかに記載のレーザ加工方法である。
<7> 被加工物固定材料が、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、及びポリエステル樹脂から選択される少なくとも1種である前記<1>から<6>のいずれかに記載のレーザ加工方法である。
<8> 被加工物表面が、ヒートモードの形状変化が可能な層である前記<1>から<7>のいずれかに記載のレーザ加工方法である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> A workpiece-containing body forming step of fixing a periphery of a plurality of workpieces with a workpiece fixing material and forming a workpiece-containing body having a plurality of workpieces;
A pattern forming step of forming a pattern on the workpiece by irradiating a laser beam while rotating the workpiece-containing body,
The laser processing method characterized by including.
In the laser processing method according to <1>, a workpiece-containing body having a plurality of workpieces is formed in the workpiece-containing body forming step. In the pattern forming step, a pattern is formed on the workpiece by irradiating laser light while rotating the workpiece-containing body. At this time, since the workpiece is integrated as a workpiece containing body and is recognized as one structure, there is a problem that the focus servo is lost when the workpiece is irradiated with laser light. Absent.
<2> The workpiece containing body forming step fills a workpiece fixing material between the workpiece and a workpiece fixing jig having a plurality of mounting portions on which the workpiece is mounted. The laser processing method according to <1>, wherein the workpiece is fixed.
<3> The laser processing method according to any one of <1> to <2>, wherein a gap between the workpiece and the workpiece fixing material is 100 μm or less.
<4> The laser according to any one of <1> to <3>, wherein a step (AB) between the workpiece fixing material surface (A) and the workpiece surface (B) is 4 μm or less. It is a processing method.
<5> The laser processing method according to any one of <1> to <4>, wherein a refractive index of the surface of the workpiece fixing material is within ± 50% of a refractive index of the surface of the workpiece.
<6> The laser processing method according to any one of <1> to <5>, wherein the reflectance of the workpiece fixing material surface is within ± 50% of the reflectance of the workpiece surface.
<7> The laser processing according to any one of <1> to <6>, wherein the workpiece fixing material is at least one selected from an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a silicon resin, and a polyester resin. Is the method.
<8> The laser processing method according to any one of <1> to <7>, wherein the workpiece surface is a layer capable of changing a heat mode shape.

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、簡便で、かつ、被加工物を優れた加工精度で加工することができるレーザ加工方法を提供することができる。   According to the present invention, there is provided a laser processing method that can solve the above-described problems and can achieve the above-described object, is simple, and can process a workpiece with excellent processing accuracy. Can do.

図1Aは、被加工物含有体の一例を説明するための図であって、被加工物含有体を上から見た図である。FIG. 1A is a diagram for explaining an example of a workpiece-containing body, and is a view of the workpiece-containing body as viewed from above. 図1Bは、図1Aにおける被加工物含有体のA−A’断面図である。FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of the workpiece-containing body in FIG. 1A. 図2Aは、被加工物含有体の一例を説明するための図であって、被加工物含有体を上から見た図である。FIG. 2A is a view for explaining an example of the workpiece-containing body, and is a view of the workpiece-containing body as viewed from above. 図2Bは、図2Aにおける被加工物含有体のA−A’断面図である。FIG. 2B is an A-A ′ cross-sectional view of the workpiece containing body in FIG. 2A. 図3Aは、被加工物含有体の形成方法の一例を示す図である。FIG. 3A is a diagram illustrating an example of a method for forming a workpiece-containing body. 図3Bは、被加工物含有体の形成方法の一例を示す図である。FIG. 3B is a diagram illustrating an example of a method for forming a workpiece-containing body. 図3Cは、被加工物含有体の形成方法の一例を示す図である。FIG. 3C is a diagram illustrating an example of a method for forming a workpiece-containing body. 図3Dは、被加工物含有体の形成方法の一例を示す図である。FIG. 3D is a diagram illustrating an example of a method for forming a workpiece-containing body. 図3Eは、被加工物含有体の形成方法の一例を示す図である。FIG. 3E is a diagram illustrating an example of a method for forming a workpiece-containing body. 図4Aは、被加工物含有体の形成方法の一例を示す図である。FIG. 4A is a diagram illustrating an example of a method for forming a workpiece-containing body. 図4Bは、被加工物含有体の形成方法の一例を示す図である。FIG. 4B is a diagram illustrating an example of a method for forming a workpiece-containing body. 図5は、被加工物と、被加工物固定材料との間、及び、被加工物固定材料表面と、被加工物表面との段差を説明する図である。FIG. 5 is a diagram for explaining steps between a workpiece and a workpiece fixing material, and steps between the workpiece fixing material surface and the workpiece surface. 図6Aは、凹部の直径とピッチとの関係を説明する図である。FIG. 6A is a diagram illustrating the relationship between the diameter of the recess and the pitch. 図6Bは、レーザ光の発光時間と周期との関係を説明する図である。FIG. 6B is a diagram illustrating the relationship between the laser light emission time and the period.

(レーザ加工方法)
本発明のレーザ加工方法は、被加工物含有体形成工程と、パターン形成工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
(Laser processing method)
The laser processing method of the present invention includes at least a workpiece containing body forming step and a pattern forming step, and further includes other steps as necessary.

<被加工物含有体形成工程>
前記被加工物含有体形成工程は、複数の被加工物の周囲を被加工物固定材料で固定し、複数の被加工物を有する被加工物含有体を形成する工程である。
<Workpiece-containing body forming step>
The workpiece containing body forming step is a step of fixing a periphery of a plurality of workpieces with a workpiece fixing material to form a workpiece containing body having a plurality of workpieces.

−態様−
前記被加工物含有体の態様としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、複数の被加工物、及び被加工物固定材料とからなる態様(以下、「第1の態様」と称することがある。)、複数の被加工物、被加工物固定材料、及び被加工物固定治具とからなる態様(以下、「第2の態様」と称することがある。)などが挙げられる。
図1Aは、前記第1の態様の一例を説明するための図であって、被加工物含有体(図1Aの「1」)を上から見た図である。図1Bは、図1Aにおける被加工物含有体のA−A’断面図である。
図2Aは、前記第2の態様の一例を説明するための図であって、被加工物含有体(図2Aの「2」)を上から見た図である。図2Bは、図2Aにおける被加工物含有体のA−A’断面図である。
図1A〜図2B中、「11」は被加工物を示し、「12」は被加工物固定材料を示し、「13」は被加工物固定治具を示す。
-Aspect-
The aspect of the workpiece-containing body is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the aspect including a plurality of workpieces and a workpiece fixing material (hereinafter referred to as “No. 1) ”, an aspect comprising a plurality of workpieces, a workpiece fixing material, and a workpiece fixing jig (hereinafter, referred to as“ second embodiment ”). ) And the like.
FIG. 1A is a view for explaining an example of the first aspect, and is a view of a workpiece containing body (“1” in FIG. 1A) viewed from above. FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA ′ of the workpiece-containing body in FIG. 1A.
FIG. 2A is a view for explaining an example of the second aspect, and is a view of a workpiece-containing body (“2” in FIG. 2A) viewed from above. 2B is a cross-sectional view taken along line AA ′ of the workpiece-containing body in FIG. 2A.
In FIG. 1A to FIG. 2B, “11” indicates a workpiece, “12” indicates a workpiece fixing material, and “13” indicates a workpiece fixing jig.

−被加工物含有体−
前記被加工物含有体は、複数の被加工物と、被加工物固定材料とを少なくとも有し、更に必要に応じて、被加工物固定治具などのその他の物を有する。
前記被加工物含有体は、表面(後述するパターン形成工程でレーザ光が照射される面)、及び裏面(後述するパターン形成工程でレーザ光が照射される面と反対の面)のいずれもが平らであることが、平行度を保って加工することができる点で好ましい。
前記被加工物含有体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、円形が好ましい。
前記被加工物含有体の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
-Workpiece-containing body-
The workpiece containing body includes at least a plurality of workpieces and a workpiece fixing material, and further includes other workpieces such as a workpiece fixing jig as necessary.
The workpiece-containing body has both a front surface (surface irradiated with a laser beam in a pattern forming step described later) and a back surface (a surface opposite to a surface irradiated with laser light in a pattern forming step described later). A flat surface is preferable in that it can be processed while maintaining parallelism.
There is no restriction | limiting in particular as a shape of the said workpiece containing body, Although it can select suitably according to the objective, Circular is preferable.
There is no restriction | limiting in particular as a magnitude | size of the said workpiece containing body, According to the objective, it can select suitably.

前記被加工物含有体が有する被加工物の枚数の下限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、2枚以上が好ましく、3枚以上がより好ましく、4枚以上が特に好ましい。
前記被加工物含有体が有する被加工物の枚数の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1,000枚以下が好ましく、100枚以下がより好ましく、50枚以下が更に好ましく、20枚以下が特に好ましい。
前記被加工物含有体が有する被加工物の枚数が、2枚未満であると、被加工物の効率的な加工が困難であり、1,000枚を超えると、設置時間がかかりすぎ、結局全体の効率が下がることがある。一方、前記被加工物含有体が含有する被加工物の枚数の上限、及び下限が、前記特に好ましい範囲内であると、加工効率が高まる点で有利である。
There is no restriction | limiting in particular as a minimum of the number of the workpieces which the said workpiece containing body has, Although it can select suitably according to the objective, 2 or more are preferable, 3 or more are more preferable, 4 sheets The above is particularly preferable.
The upper limit of the number of workpieces contained in the workpiece-containing body is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 1,000 or less, more preferably 100 or less, 50 or less is more preferable, and 20 or less is particularly preferable.
When the number of the workpieces included in the workpiece-containing body is less than 2, it is difficult to efficiently process the workpieces. When the number of workpieces exceeds 1,000, it takes too much time for installation. Overall efficiency may be reduced. On the other hand, when the upper limit and the lower limit of the number of workpieces contained in the workpiece-containing body are within the particularly preferable range, it is advantageous in that the processing efficiency is increased.

前記被加工物含有体が有する複数の被加工物の大きさは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。   The sizes of the plurality of workpieces included in the workpiece-containing body may be the same or different.

−−被加工物−−
前記被加工物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、LED素子が形成された基板、LED素子を形成する途中の基板、発振子を形成または形成途中の基板、半導体を形成または形成途中の基板などが挙げられる。
前記基板としては、その材質、形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記材質としては、無機物、有機物などが挙げられ、前記形状としては平板状などが挙げられ、前記構造としては単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては用途等に応じて適宜選択することができる。
前記無機物としては、ガラス、サファイア、シリコン(Si)、石英(SiO)などが挙げられる。
前記樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、低融点フッ素樹脂、ポリメタアクリル酸メチル(PMMA)、トリアセテートセルロース(TAC)、などが挙げられる。
--- Workpiece--
There is no restriction | limiting in particular as said workpiece, According to the objective, it can select suitably, For example, the board | substrate in which the LED element was formed, the board | substrate in the middle of forming an LED element, the oscillator in the middle of formation or formation Examples include a substrate and a substrate on which a semiconductor is formed or being formed.
The substrate is not particularly limited as to the material, shape, structure, size, etc., and can be appropriately selected according to the purpose. Examples of the material include inorganic materials, organic materials, and the like. As the structure, a single layer structure or a laminated structure may be used as the structure, and the size may be appropriately selected according to the use or the like.
Examples of the inorganic material include glass, sapphire, silicon (Si), and quartz (SiO 2 ).
Examples of the resin include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), low-melting fluororesin, polymethyl methacrylate (PMMA), triacetate cellulose (TAC), and the like.

前記基板は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、100μm以上が好ましく、500μm以上がより好ましい。
The substrate may be appropriately synthesized or a commercially available product may be used.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said board | substrate, According to the objective, it can select suitably, 100 micrometers or more are preferable and 500 micrometers or more are more preferable.

前記被加工物が複層構造の一例としては、前記基板の表面にヒートモードの形状変化が可能な層を積層した形態が挙げられる。
前記ヒートモードの形状変化が可能な層は、強い光の照射により光が熱に変換されて、この熱により材料が形状変化して凹部を形成することが可能な層である。
As an example of the multi-layer structure of the workpiece, a form in which a layer capable of changing the shape of the heat mode is laminated on the surface of the substrate can be mentioned.
The layer capable of changing the shape in the heat mode is a layer in which light is converted into heat by irradiation with strong light, and the shape of the material is changed by the heat to form a recess.

前記ヒートモードの形状変化が可能な層としては、例えば、有機層が挙げられる。
前記有機層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シアニン系、フタロシアニン系、キノン系、スクワリリウム系、アズレニウム系、チオール錯塩系、メロシアニン系などを用いることができる。
好適な例としては、例えばメチン色素(シアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素、オキソノール色素、メロシアニン色素など)、大環状色素(フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素など)、アゾ色素(アゾ金属キレート色素を含む)、アリリデン色素、錯体色素、クマリン色素、アゾール誘導体、トリアジン誘導体、1−アミノブタジエン誘導体、桂皮酸誘導体、キノフタロン系色素などが挙げられる。これらの中でも、メチン色素、アゾ色素が特に好ましい。
Examples of the layer capable of changing the shape in the heat mode include an organic layer.
The material for the organic layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include cyanine-based, phthalocyanine-based, quinone-based, squarylium-based, azurenium-based, thiol complex-based, and merocyanine-based materials. be able to.
Suitable examples include methine dyes (cyanine dyes, hemicyanine dyes, styryl dyes, oxonol dyes, merocyanine dyes, etc.), macrocyclic dyes (phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, porphyrin dyes, etc.), azo dyes (azo metal chelate dyes, etc.) ), Arylidene dyes, complex dyes, coumarin dyes, azole derivatives, triazine derivatives, 1-aminobutadiene derivatives, cinnamic acid derivatives, quinophthalone dyes, and the like. Among these, methine dyes and azo dyes are particularly preferable.

なお、有機層は、レーザ光源の波長に応じて適宜色素を選択したり、構造を改変することができる。
例えば、レーザ光源の発振波長が780nm付近であった場合、ペンタメチンシアニン色素、ヘプタメチンオキソノール色素、ペンタメチンオキソノール色素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素などから選択することが有利である。
また、レーザ光源の発振波長が660nm付近であった場合は、トリメチンシアニン色素、ペンタメチンオキソノール色素、アゾ色素、アゾ金属錯体色素、ピロメテン錯体色素などから選択することが有利である。
更に、レーザ光源の発振波長が405nm付近であった場合は、モノメチンシアニン色素、モノメチンオキソノール色素、ゼロメチンメロシアニン色素、フタロシアニン色素、アゾ色素、アゾ金属錯体色素、ポルフィリン色素、アリリデン色素、錯体色素、クマリン色素、アゾール誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、1−アミノブタジエン誘導体、キノフタロン系色素などから選択することが有利である。
In addition, the organic layer can select a pigment | dye suitably according to the wavelength of a laser light source, or can modify | change a structure.
For example, when the oscillation wavelength of the laser light source is around 780 nm, it is advantageous to select from pentamethine cyanine dye, heptamethine oxonol dye, pentamethine oxonol dye, phthalocyanine dye, naphthalocyanine dye, and the like.
When the oscillation wavelength of the laser light source is around 660 nm, it is advantageous to select from trimethine cyanine dye, pentamethine oxonol dye, azo dye, azo metal complex dye, pyromethene complex dye, and the like.
Further, when the oscillation wavelength of the laser light source is around 405 nm, monomethine cyanine dye, monomethine oxonol dye, zero methine merocyanine dye, phthalocyanine dye, azo dye, azo metal complex dye, porphyrin dye, arylidene dye, complex It is advantageous to select from dyes, coumarin dyes, azole derivatives, triazine derivatives, benzotriazole derivatives, 1-aminobutadiene derivatives, quinophthalone dyes, and the like.

以下、レーザ光源の発振波長が405nm付近であった場合に対し、有機層として好ましい化合物の例を挙げる。下記III−1〜III−15で表される化合物は、レーザ光源の発振波長が405nm付近であった場合の化合物である。また、レーザ光源の発振波長が780nm付近であった場合、660nm付近であった場合の好ましい化合物は、特開2008−252056号公報の段落〔0024〕〜〔0028〕に記載されている化合物が挙げられる。なお、本発明は、これらの化合物を用いた場合に限定されるものではない。   In the following, examples of compounds preferable as the organic layer are given in the case where the oscillation wavelength of the laser light source is around 405 nm. The compounds represented by the following III-1 to III-15 are compounds when the oscillation wavelength of the laser light source is around 405 nm. In addition, when the oscillation wavelength of the laser light source is around 780 nm, preferred compounds in the case of around 660 nm include the compounds described in paragraphs [0024] to [0028] of JP-A-2008-252056. It is done. In addition, this invention is not limited to the case where these compounds are used.

<レーザ光源の発振波長が405nm付近であった場合の化合物例>
<Example of compound when the oscillation wavelength of the laser light source is around 405 nm>

<レーザ光源の発振波長が405nm付近であった場合の化合物例>
<Example of compound when the oscillation wavelength of the laser light source is around 405 nm>

<レーザ光源の発振波長が405nm付近であった場合の化合物例>
<Example of compound when the oscillation wavelength of the laser light source is around 405 nm>

また、特開平4−74690号公報、特開平8−127174号公報、同11−53758号公報、同11−334204号公報、同11−334205号公報、同11−334206号公報、同11−334207号公報、特開2000−43423号公報、同2000−108513号公報、及び同2000−158818号公報等に記載されている色素も好適に用いられる。   JP-A-4-74690, JP-A-8-127174, 11-53758, 11-334204, 11-334205, 11-334206, 11-334207 The dyes described in JP-A No. 2000-43423, JP-A No. 2000-108513, JP-A No. 2000-158818, and the like are also preferably used.

このような色素型の有機層は、色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板表面に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成できる。その際、塗布液を塗布する面の温度は、10℃〜40℃の範囲であることが好ましい。下限値が、15℃以上であることがより好ましく、20℃以上であることが更に好ましく、23℃以上であることが特に好ましい。また、上限値としては、35℃以下であることがより好ましく、30℃以下であることが更に好ましく、27℃以下であることが特に好ましい。このように被塗布面温度が上記範囲にあると、塗布ムラや塗布故障の発生を防止し、塗膜の厚さを均一にすることができる。なお、上記の上限値及び下限値は、それぞれが任意で組み合わせることができる。
ここで、有機層は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布工程を複数回行うことによって形成される。
塗布液中の色素の濃度は、有機溶媒に対して0.3質量%以上30質量%以下で溶解することが好ましく、1質量%以上20質量%以下で溶解することがより好ましく、テトラフルオロプロパノールに1質量%以上20質量%以下で溶解することが特に好ましい。
Such a dye-type organic layer is prepared by dissolving the dye in a suitable solvent together with a binder or the like to prepare a coating solution, and then coating the coating solution on the substrate surface to form a coating film. It can be formed by drying. In that case, it is preferable that the temperature of the surface which apply | coats a coating liquid is the range of 10 to 40 degreeC. The lower limit is more preferably 15 ° C. or higher, further preferably 20 ° C. or higher, and particularly preferably 23 ° C. or higher. Moreover, as an upper limit, it is more preferable that it is 35 degrees C or less, It is still more preferable that it is 30 degrees C or less, It is especially preferable that it is 27 degrees C or less. Thus, when the coated surface temperature is within the above range, it is possible to prevent the occurrence of coating unevenness and coating failure and to make the thickness of the coating film uniform. Each of the upper limit value and the lower limit value can be arbitrarily combined.
Here, the organic layer may be a single layer or a multilayer. In the case of a multilayer structure, the organic layer is formed by performing the coating process a plurality of times.
The concentration of the dye in the coating solution is preferably 0.3% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably tetrafluoropropanol. It is particularly preferable to dissolve in 1 mass% or more and 20 mass% or less.

塗布液の溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミド等のアミド;メチルシクロヘキサン等の炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル;エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール;2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;などが挙げられる。これらの中でも、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート、メチルエチルケトン、イソプロパノール、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールが特に好ましい。
前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、或いは2種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、更に、酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
There is no restriction | limiting in particular as a solvent of a coating liquid, According to the objective, it can select suitably, For example, Esters, such as butyl acetate, ethyl lactate, and cellosolve acetate; Ketones, such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone; Dichloromethane, 1 Chlorinated hydrocarbons such as 1,2-dichloroethane and chloroform; Amides such as dimethylformamide; Hydrocarbons such as methylcyclohexane; Ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether and dioxane; Ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol diacetone alcohol Alcohols such as: Fluorine solvents such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol; Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono Glycol ethers such as Chirueteru; and the like. Among these, butyl acetate, ethyl lactate, cellosolve acetate, methyl ethyl ketone, isopropanol, and 2,2,3,3-tetrafluoropropanol are particularly preferable.
The said solvent can be used individually or in combination of 2 or more type in consideration of the solubility of the pigment | dye to be used. In the coating solution, various additives such as an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be added according to the purpose.

前記塗布方法としては、例えばスプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、ドクターブレード法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。なお、生産性に優れ膜厚のコントロールが容易であるという点でスピンコート法を採用するのが好ましい。
有機層は、スピンコート法による形成に有利であるという点から、有機溶媒に対して0.3質量%以上30質量%以下で溶解することが好ましく、1質量%以上20質量%以下で溶解することがより好ましい。
また、色素は、熱分解温度が150℃以上500℃以下であることが好ましく、200℃以上400℃以下であることがより好ましい。
塗布の際、塗布液の温度は、23℃〜50℃であることが好ましく、24℃〜40℃であることがより好ましく、25℃〜30℃であることが更に好ましい。
Examples of the coating method include a spray method, a spin coating method, a dip method, a roll coating method, a blade coating method, a doctor roll method, a doctor blade method, and a screen printing method. In addition, it is preferable to employ the spin coating method in terms of excellent productivity and easy control of the film thickness.
The organic layer is preferably dissolved in an amount of 0.3% by mass or more and 30% by mass or less, and preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, with respect to the organic solvent, because it is advantageous for formation by spin coating. It is more preferable.
Further, the dye preferably has a thermal decomposition temperature of 150 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, and more preferably 200 ° C. or higher and 400 ° C. or lower.
During coating, the temperature of the coating solution is preferably 23 ° C to 50 ° C, more preferably 24 ° C to 40 ° C, and further preferably 25 ° C to 30 ° C.

塗布液が結合剤を含有する場合、結合剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子;を挙げることができる。
前記有機層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して0.01倍量〜50倍量(質量比)が好ましく、0.1倍量〜5倍量(質量比)がより好ましい。
When the coating solution contains a binder, the binder is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, natural organic polymer substances such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin, and rubber; Hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyisobutylene, vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride / polyvinyl acetate copolymer, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, etc. And synthetic organic polymers such as acrylic resins, polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resins, butyral resins, rubber derivatives, and initial condensates of thermosetting resins such as phenol / formaldehyde resins.
When a binder is used in combination as the material for the organic layer, the amount of the binder used is generally preferably 0.01 to 50 times (mass ratio) with respect to the dye, and 0.1 to 5 times. The amount (mass ratio) is more preferable.

また、有機層には、有機層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
前記褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭58−175693号公報、同59−81194号公報、同60−18387号公報、同60−19586号公報、同60−19587号公報、同60−35054号公報、同60−36190号公報、同60−36191号公報、同60−44554号公報、同60−44555号公報、同60−44389号公報、同60−44390号公報、同60−54892号公報、同60−47069号公報、同63−209995号公報、特開平4−25492号公報、特公平1−38680号公報、同6−26028号公報等の各公報、ドイツ特許350399号明細書、日本化学会誌1992年10月号第1141頁等に記載のものを挙げることができる。
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、0.1質量%〜50質量%の範囲が好ましく、0.5質量%〜45質量%の範囲がより好ましく、3質量%〜40質量%の範囲が更に好ましく、5質量%〜25質量%の範囲が特に好ましい。
The organic layer can contain various anti-fading agents in order to improve the light resistance of the organic layer.
As the antifading agent, a singlet oxygen quencher is generally used. As the singlet oxygen quencher, those described in publications such as known patent specifications can be used.
Specific examples thereof include JP-A Nos. 58-175893, 59-81194, 60-18387, 60-19586, 60-19587, and 60-35054. 60-36190, 60-36191, 60-44554, 60-44555, 60-44389, 60-44390, 60-54892, JP-A-60-47069, JP-A-63-209995, JP-A-4-25492, JP-B-1-38680, JP-A-6-26028, etc., German Patent No. 350399, Journal of the Chemical Society of Japan Examples include those described in the October 1992 issue, page 1141 and the like.
The amount of the anti-fading agent such as the singlet oxygen quencher used is preferably in the range of 0.1% by mass to 50% by mass and more preferably in the range of 0.5% by mass to 45% by mass with respect to the amount of the dye. The range of 3% by mass to 40% by mass is more preferable, and the range of 5% by mass to 25% by mass is particularly preferable.

以上、有機層の溶剤塗布法について述べたが、有機層は、蒸着、スパッタリング、CVD等の成膜法によって形成することもできる。   Although the organic layer solvent coating method has been described above, the organic layer can also be formed by a film forming method such as vapor deposition, sputtering, or CVD.

なお、色素は、後述するパターン形成工程に用いるレーザ光の波長において、他の波長よりも光の吸収率が高いものが用いられる。特に、LED素子などの発光素子の発光波長よりも、加工時のレーザ光の波長において光の吸収率が高いことが望ましい。
この色素の吸収ピークの波長は、必ずしも可視光の波長域内であるものに限定されず、紫外域や、赤外域にあるものであっても構わない。
In addition, the pigment | dye has a higher light absorptivity in the wavelength of the laser beam used for the pattern formation process mentioned later than other wavelengths. In particular, it is desirable that the light absorptance is higher at the wavelength of the laser beam during processing than the emission wavelength of the light emitting element such as an LED element.
The wavelength of the absorption peak of the dye is not necessarily limited to that in the visible light wavelength range, and may be in the ultraviolet range or the infrared range.

特に発光素子の発光面を構成する材料の屈折率が高い場合には、凹部を構成する有機層の屈折率が高いことが好ましい。
色素には、吸収波長のピーク波長の長波側に屈折率の高い波長域が存在するが、この波長域と発光素子の発光波長とを合わせることが好ましい。そのためには、色素吸収波長λaが発光素子の中心波長λcより短い(λa<λc)ことが好ましい。λaとλcの差は、10nm以上が好ましく、25nm以上がより好ましく、50nm以上が更に好ましい。λaとλcが近すぎると、色素の吸収波長域が発光素子の中心波長λcにかかり、光が吸収されるからである。また、λaとλcの差の上限は、500nm以下が好ましく、300nm以下がより好ましく、200nm以下が更に好ましい。λaとλcが離れすぎると、発光素子の光にとって屈折率が小さくなってしまうからである。
In particular, when the refractive index of the material constituting the light emitting surface of the light emitting element is high, it is preferable that the organic layer constituting the recess has a high refractive index.
The dye has a wavelength range with a high refractive index on the long wave side of the peak wavelength of the absorption wavelength, and it is preferable to match this wavelength range with the emission wavelength of the light emitting element. For this purpose, the dye absorption wavelength λa is preferably shorter than the center wavelength λc of the light emitting element (λa <λc). The difference between λa and λc is preferably 10 nm or more, more preferably 25 nm or more, and even more preferably 50 nm or more. This is because if λa and λc are too close, the absorption wavelength region of the dye is applied to the center wavelength λc of the light emitting element, and light is absorbed. In addition, the upper limit of the difference between λa and λc is preferably 500 nm or less, more preferably 300 nm or less, and even more preferably 200 nm or less. This is because if λa and λc are too far apart, the refractive index for the light emitted from the light-emitting element becomes small.

レーザで凹部を形成する波長λwは、λa<λwの関係であることが好ましい。このような関係にあれば、色素の光吸収量が適切で記録効率が高まるし、きれいな凹凸形状が形成できる場合がある。また、λw<λcの関係であることが好ましい。λwは、色素が吸収する波長であるべきなので、このλwの波長よりも長波長側に発光素子の中心波長λcがあることで、発光素子の発する光が色素に吸収されず透過率が向上し、結果として発光効率が向上できるからである。
以上のような観点から、λa<λw<λcの関係にあることが最も好ましいといえる。
The wavelength λw for forming the concave portion with the laser is preferably in a relationship of λa <λw. In such a relationship, the light absorption amount of the dye is appropriate, the recording efficiency is increased, and a clean uneven shape may be formed in some cases. Further, it is preferable that λw <λc. Since λw should be the wavelength that the dye absorbs, the light emitted from the light-emitting element is not absorbed by the dye and the transmittance is improved by having the center wavelength λc of the light-emitting element on the longer wavelength side than the wavelength of λw. As a result, the luminous efficiency can be improved.
From the above viewpoint, it can be said that the relationship of λa <λw <λc is most preferable.

なお、凹部を形成するためのレーザ光の波長λwは、大きなレーザパワーが得られる波長であればよく、例えば、有機層に色素を用いる場合は、193nm、210nm、266nm、365nm、405nm、488nm、532nm、633nm、650nm、680nm、780nm、830nmなど、1,000nm以下が好ましい。   Note that the wavelength λw of the laser light for forming the recess may be a wavelength that provides a large laser power. For example, when a dye is used for the organic layer, 193 nm, 210 nm, 266 nm, 365 nm, 405 nm, 488 nm, 1,000 nm or less is preferable, such as 532 nm, 633 nm, 650 nm, 680 nm, 780 nm, and 830 nm.

また、レーザ光の種類としては、ガスレーザ、固体レーザ、半導体レーザなど、どのようなレーザであってもよい。ただし、光学系を簡単にするために、固体レーザや半導体レーザを採用するのが好ましい。レーザ光は、連続光でもパルス光でもよいが、自在に発光間隔が変更可能なレーザ光を採用するのが好ましい。例えば、半導体レーザを採用するのが好ましい。レーザを直接オンオフ変調できない場合は、外部変調素子で変調するのが好ましい。   The laser beam may be any laser such as a gas laser, a solid laser, or a semiconductor laser. However, in order to simplify the optical system, it is preferable to employ a solid laser or a semiconductor laser. The laser light may be continuous light or pulsed light, but it is preferable to employ laser light whose emission interval can be freely changed. For example, it is preferable to employ a semiconductor laser. When the laser cannot be directly on / off modulated, it is preferable to modulate with an external modulation element.

また、レーザパワーは、加工速度を高めるためには高い方が好ましい。ただし、レーザパワーを高めるにつれ、スキャン速度(レーザ光で有機層を走査する速度)を上げなければならない。そのため、レーザパワーの上限値は、スキャン速度の上限値を考慮して、100Wが好ましく、10Wがより好ましく、5Wが更に好ましく、1Wが特に好ましい。また、レーザパワーの下限値は、0.1mWが好ましく、0.5mWがより好ましく、1mWが更に好ましい。   Further, the laser power is preferably higher in order to increase the processing speed. However, as the laser power is increased, the scanning speed (speed at which the organic layer is scanned with laser light) must be increased. Therefore, the upper limit value of the laser power is preferably 100 W in consideration of the upper limit value of the scanning speed, more preferably 10 W, still more preferably 5 W, and particularly preferably 1 W. The lower limit of the laser power is preferably 0.1 mW, more preferably 0.5 mW, and even more preferably 1 mW.

更に、レーザ光は、発信波長幅及びコヒーレンシが優れていて、波長並みのスポットサイズに絞ることができるような光であることが好ましい。また、凹部を適正に形成するための光パルス照射条件は、光ディスクで使われているようなストラテジを採用するのが好ましい。即ち、光ディスクで使われているような、記録速度や照射するレーザ光の波高値、パルス幅などの条件を採用するのが好ましい。   Further, the laser light is preferably light that has excellent transmission wavelength width and coherency, and can be narrowed down to a spot size equivalent to the wavelength. In addition, it is preferable to adopt a strategy such as that used in optical discs as the light pulse irradiation conditions for properly forming the recesses. That is, it is preferable to adopt conditions such as recording speed, the peak value of the irradiated laser beam, and the pulse width as used in an optical disc.

前記有機層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said organic layer, According to the objective, it can select suitably.

なお、凹部が形成される原理は、以下の通りとなっている。
前記有機層に、材料の光吸収がある波長(材料で吸収される波長)のレーザ光を照射すると、有機層によってレーザ光が吸収され、この吸収された光が熱に変換され、光の照射部分の温度が上昇する。これにより、有機層が、軟化、液化、気化、昇華、分解などの化学又は/及び物理変化を起こす。そして、このような変化を起こした材料が移動又は/及び消失することで、凹部が形成される。
The principle of forming the recess is as follows.
When the organic layer is irradiated with laser light having a wavelength at which the material absorbs light (wavelength absorbed by the material), the organic layer absorbs the laser light, and the absorbed light is converted into heat, which is irradiated with light. The temperature of the part rises. As a result, the organic layer undergoes chemical or / and physical changes such as softening, liquefaction, vaporization, sublimation, and decomposition. And the recessed part is formed because the material which caused such a change moves or / and lose | disappears.

なお、凹部の形成方法としては、例えば、ライトワンス光ディスクや追記型光ディスクなどで公知となっているピットの形成方法を適用することができる。具体的には、例えば、ピットサイズによって変化するレーザの反射光の強度を検出し、この反射光の強度が一定となるようにレーザの出力を補正することで、均一なピットを形成するといった、公知のランニングOPC技術(特許第3096239号公報)を適用することができる。   In addition, as a formation method of a recessed part, the formation method of a pit known for a write-once optical disk, a write-once optical disk, etc. can be applied, for example. Specifically, for example, by detecting the intensity of the reflected light of the laser that changes depending on the pit size, and correcting the output of the laser so that the intensity of the reflected light is constant, a uniform pit is formed. A known running OPC technique (Japanese Patent No. 3096239) can be applied.

また、前記したような有機層の気化、昇華又は分解は、その変化の割合が大きく、急峻であることが好ましい。具体的には、色素の気化、昇華又は分解時の示差熱天秤(TG−DTA)による質量減少率は、5%以上であることが好ましく、10%以上がより好ましく、20%以上が更に好ましい。また、色素の気化、昇華又は分解時の示差熱天秤(TG−DTA)による質量減少の傾き(昇温1℃あたりの質量減少率が0.1%/℃以上であることが好ましく、0.2%/℃以上がより好ましく、0.4%/℃以上が更に好ましい。   Further, the vaporization, sublimation or decomposition of the organic layer as described above preferably has a large rate of change and is steep. Specifically, the mass reduction rate by differential thermal balance (TG-DTA) at the time of vaporization, sublimation or decomposition of the dye is preferably 5% or more, more preferably 10% or more, and further preferably 20% or more. . Further, the slope of mass decrease by differential thermal balance (TG-DTA) at the time of vaporization, sublimation or decomposition of the pigment (the mass decrease rate per 1 ° C. temperature rise is preferably 0.1% / ° C. or more, and 2% / ° C or more is more preferable, and 0.4% / ° C or more is more preferable.

また、軟化、液化、気化、昇華、分解などの化学又は/及び物理変化の転移温度は、その上限値が、2,000℃以下であることが好ましく、1,000℃以下であることがより好ましく、500℃以下であることが更に好ましい。前記転移温度が高すぎると、大きなレーザパワーが必要となることがある。また、転移温度の下限値は、50℃以上であることが好ましく、100℃以上であることがより好ましく、150℃以上であることが更に好ましい。前記転移温度が低すぎると、周囲との温度勾配が少ないため、明瞭な穴エッジ形状を形成することができなくなる場合がある。   Further, the transition temperature of chemical or / and physical change such as softening, liquefaction, vaporization, sublimation, and decomposition has an upper limit of preferably 2,000 ° C. or lower, more preferably 1,000 ° C. or lower. Preferably, it is 500 degrees C or less. If the transition temperature is too high, a large laser power may be required. Further, the lower limit of the transition temperature is preferably 50 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and further preferably 150 ° C. or higher. If the transition temperature is too low, the temperature gradient with respect to the surroundings is small, and it may be impossible to form a clear hole edge shape.

−−−屈折率−−−
前記被加工物表面の屈折率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1.3〜2が好ましく、1.4〜1.8がより好ましく、1.45〜1.7が特に好ましい。
前記被加工物表面の屈折率が、1.3未満であると、反射率が低く、自動焦点などの制御が困難になることがあり、2を超えると被加工物周辺との反射率が変わりすぎ、自動焦点などの制御が困難になることがある。一方、前記被加工物固定材料表面の屈折率が前記特に好ましい範囲内であると、自動焦点制御が安定するなどの点で有利である。
ここで、前記屈折率は、エリプソメトリーにより測定することができる。
---- Refractive index ----
There is no restriction | limiting in particular as a refractive index of the said workpiece surface, Although it can select suitably according to the objective, 1.3-2 are preferable, 1.4-1.8 are more preferable, and 1.45. -1.7 is particularly preferred.
When the refractive index of the workpiece surface is less than 1.3, the reflectance is low, and it may be difficult to control autofocusing, etc. When the refractive index exceeds 2, the reflectance with the periphery of the workpiece changes. In other words, it may be difficult to control the autofocus or the like. On the other hand, when the refractive index of the surface of the workpiece fixing material is within the particularly preferable range, it is advantageous in that automatic focus control is stabilized.
Here, the refractive index can be measured by ellipsometry.

−−−反射率−−−
前記被加工物表面の反射率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1%〜90%が好ましく、1%〜60%がより好ましく、5%〜40%が特に好ましい。
前記被加工物表面の反射率が、0.1%未満であると、自動焦点などの制御が困難になることがあり、90%を超えると制御回路への信号強度が過剰となり制御が不安定になることがある。一方、前記被加工物表面の反射率が前記特に好ましい範囲内であると、自動焦点などの制御が安定にかかる点で有利である。
ここで、前記反射率は、分光反射率計により測定することができる。
---- Reflectance ---
There is no restriction | limiting in particular as the reflectance of the said workpiece surface, Although it can select suitably according to the objective, 0.1%-90% are preferable, 1%-60% are more preferable, 5%- 40% is particularly preferred.
If the reflectance of the workpiece surface is less than 0.1%, it may be difficult to control such as autofocus, and if it exceeds 90%, the signal intensity to the control circuit becomes excessive and the control is unstable. May be. On the other hand, when the reflectance of the workpiece surface is within the particularly preferable range, it is advantageous in that control such as autofocus is stably applied.
Here, the reflectance can be measured by a spectral reflectometer.

前記被加工物の最長部分の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1mm〜350mmが好ましく、10mm〜220mmがより好ましく、25mm〜160mmが更に好ましく、50mm〜110mmが特に好ましい。
前記被加工物の最長部分の大きさが、1mm未満であると、自動焦点などの制御が不安定になることがあり、350mmを超えると、被加工物へのレーザスキャンの精度が低下することがある。一方、前記被加工物の最長部分の大きさが前記特に好ましい範囲内であると、自動焦点などの制御が安定になり、レーザスキャンの精度が高められる点で有利である。
The size of the longest part of the workpiece is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 1 mm to 350 mm, more preferably 10 mm to 220 mm, and further preferably 25 mm to 160 mm, 50 mm to 110 mm is particularly preferable.
If the size of the longest part of the workpiece is less than 1 mm, control such as auto-focusing may become unstable, and if it exceeds 350 mm, the accuracy of laser scanning on the workpiece may be reduced. There is. On the other hand, when the size of the longest portion of the workpiece is within the particularly preferable range, it is advantageous in that control such as autofocus becomes stable and the accuracy of laser scanning is improved.

−−被加工物固定材料−−
前記被加工物固定材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、硬化性の樹脂が好ましい。
前記硬化性の樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、空気硬化性樹脂などが挙げられる。また、前記硬化性の樹脂は、キャストであってもよい。
前記硬化性の樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ユリア樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、フッ素樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリフェニレンスルファイド樹脂、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、液晶ポリマー樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリアミドイミド樹脂などが挙げられる。
前記硬化性の樹脂としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、及びポリエステル樹脂から選択される少なくとも1種が特に好ましい。
-Workpiece fixing material-
There is no restriction | limiting in particular as said workpiece fixing material, Although it can select suitably according to the objective, Curable resin is preferable.
There is no restriction | limiting in particular as said curable resin, According to the objective, it can select suitably, For example, a thermosetting resin, a photocurable resin, an air curable resin etc. are mentioned. The curable resin may be cast.
Examples of the curable resin include phenol resin, epoxy resin, melamine resin, urea resin, urea resin, polyester resin, alkyd resin, polyurethane resin, polyimide resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl chloride. Vinylidene resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, fluororesin, ABS resin, AS resin, acrylic resin, polyamide resin, nylon resin, polyacetal resin, polycarbonate resin, polyphenylene ether resin, polybutylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin, cyclic polyolefin Resin, polyphenylene sulfide resin, polytetrafluoroethylene resin, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyarylate resin, liquid crystal polymer resin Polyether ether ketone resin, polyamide-imide resins.
The curable resin is particularly preferably at least one selected from an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a silicon resin, and a polyester resin.

−−−屈折率−−−
前記被加工物固定材料表面の屈折率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1.3〜2が好ましく、1.4〜1.8がより好ましく、1.45〜1.7が特に好ましい。
前記被加工物固定材料表面の屈折率が、1.3未満であると、反射率が低く、自動焦点などの制御が困難になることがあり、2を超えると、前記被加工物表面との反射率が変わりすぎ、自動焦点などの制御が困難になることがある。一方、前記被加工物固定材料表面の屈折率が前記特に好ましい範囲内であると、自動焦点制御が安定するなどの点で有利である。
ここで、前記屈折率は、前記被加工物表面の屈折率の測定方法と同様に測定することができる。
---- Refractive index ----
There is no restriction | limiting in particular as a refractive index of the said workpiece fixing material surface, Although it can select suitably according to the objective, 1.3-2 are preferable, 1.4-1.8 are more preferable, 1 .45 to 1.7 is particularly preferred.
When the refractive index of the surface of the workpiece fixing material is less than 1.3, the reflectance is low, and it may be difficult to control the autofocus or the like. The reflectivity may change too much, making it difficult to control autofocus and the like. On the other hand, when the refractive index of the surface of the workpiece fixing material is within the particularly preferable range, it is advantageous in that automatic focus control is stabilized.
Here, the refractive index can be measured in the same manner as the method for measuring the refractive index of the workpiece surface.

また、前記被加工物固定材料表面の屈折率は、前記被加工物表面の屈折率の±50%以内であることが好ましく、±30%以内であることがより好ましく、±20%以内であることが更に好ましく、±10%以内であることが特に好ましい。
前記被加工物固定材料表面の屈折率が、前記被加工物表面の屈折率の±50%を超えると、両者の反射率が変わりすぎ、自動焦点などの制御が困難になることがある。一方、前記被加工物固定材料表面の屈折率が、前記被加工物表面の屈折率の±10%以内であると、自動焦点制御が安定するなどの点で有利である。
Further, the refractive index of the workpiece fixing material surface is preferably within ± 50% of the refractive index of the workpiece surface, more preferably within ± 30%, and more preferably within ± 20%. More preferably, it is particularly preferably within ± 10%.
When the refractive index of the surface of the workpiece fixing material exceeds ± 50% of the refractive index of the surface of the workpiece, the reflectivity of the both changes too much, and it may be difficult to control autofocus and the like. On the other hand, if the refractive index of the workpiece fixing material surface is within ± 10% of the refractive index of the workpiece surface, it is advantageous in that automatic focus control is stabilized.

−−−反射率−−−
前記被加工物固定材料表面の反射率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1%〜90%が好ましく、1%〜60%がより好ましく、5%〜40%が特に好ましい。
前記被加工物固定材料表面の反射率が、0.1%未満であると、自動焦点などの制御が困難になることがあり、前記被加工物表面の反射率が、90%を超えると、制御回路への信号強度が過剰となり制御が不安定になることがある。一方、前記被加工物固定材料表面の反射率が前記特に好ましい範囲内であると、自動焦点などの制御が安定にかかる点で有利である。
ここで、前記反射率は、前記被加工物表面の屈折率の測定方法と同様に測定することができる。
---- Reflectance ---
There is no restriction | limiting in particular as a reflectance of the said workpiece fixing material surface, Although it can select suitably according to the objective, 0.1%-90% are preferable, 1%-60% are more preferable, 5 % To 40% is particularly preferred.
When the reflectance of the workpiece fixing material surface is less than 0.1%, it may be difficult to control such as autofocus, and when the reflectance of the workpiece surface exceeds 90%, The signal strength to the control circuit may be excessive and the control may become unstable. On the other hand, when the reflectance of the surface of the workpiece fixing material is within the particularly preferable range, it is advantageous in that control such as autofocus is stably applied.
Here, the reflectance can be measured in the same manner as the method for measuring the refractive index of the workpiece surface.

また、前記被加工物固定材料表面の反射率は、前記被加工物表面の反射率の±50%以内であることが好ましく、±30%以内であることがより好ましく、±20%以内であることが更に好ましく、±10%以内であることが特に好ましい。
前記被加工物固定材料表面の反射率が、前記被加工物表面の反射率の±50%を超えると、両者の反射率が変わりすぎ、自動焦点などの制御が困難になることがある。一方、前記被加工物固定材料表面の反射率が、前記被加工物表面の反射率の10%以内であると、自動焦点制御が安定するなどの点で有利である。
The reflectance of the workpiece fixing material surface is preferably within ± 50% of the reflectance of the workpiece surface, more preferably within ± 30%, and more preferably within ± 20%. More preferably, it is particularly preferably within ± 10%.
When the reflectance of the surface of the workpiece fixing material exceeds ± 50% of the reflectance of the surface of the workpiece, the reflectance of both may change too much, and control of autofocus and the like may be difficult. On the other hand, if the reflectance of the workpiece fixing material surface is within 10% of the reflectance of the workpiece surface, it is advantageous in that automatic focus control is stabilized.

−−被加工物固定治具−−
前記被加工物固定治具は、前記被加工物を装着する装着部を複数有する治具である。
前記被加工物固定治具の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、円形状が好ましい。
前記被加工物固定治具の大きさ、材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
-Workpiece fixing jig-
The workpiece fixing jig is a jig having a plurality of mounting portions for mounting the workpiece.
There is no restriction | limiting in particular as a shape of the said workpiece fixing jig, Although it can select suitably according to the objective, A circular shape is preferable.
There is no restriction | limiting in particular as a magnitude | size and material of the said workpiece fixing jig, According to the objective, it can select suitably.

−形成方法−
前記被加工物含有体の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
-Formation method-
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said workpiece containing body, According to the objective, it can select suitably.

前記被加工物含有体が、前記第1の態様(複数の被加工物、及び被加工物固定材料とからなる態様)の場合の被加工物含有体の形成方法の一例を図3A〜図3Eに基づいて説明する。   3A to 3E illustrate an example of a method for forming a workpiece-containing body when the workpiece-containing body is in the first mode (a mode including a plurality of workpieces and a workpiece fixing material). Based on

まず、被加工物含有体作製用基板31上に被加工物11を置き、真空パックにより密着させる(図3B参照)。なお、図3B中、「32」は真空ポンプを示し、「33」は真空パック用器材を示す。
前記被加工物含有体作製用基板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラス基板などが挙げられる。
また、前記被加工物含有体作製用基板は、円形の被加工物含有体を形成することができるように型を有していることが好ましい。前記型を有していると、円形の被加工物含有体を形成することができ、後述するパターン形成工程で回転時のバランスが良くなり、高速回転による高速加工が可能となる点で、有利である。
前記被加工物含有体作製用基板と、前記被加工物とを密着させることで、被加工物表面(後述するパターン形成工程でレーザ光が照射される面)上に被加工物固定材料が入り込むことを防ぐことができる。
また、前記真空パックにより密着させる際には、被加工物と被加工物含有体作製用基板との間にゴミが入らないようにすることが好ましい。前記ゴミが入らないようにする方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、除電ブローなどが挙げられる。
First, the workpiece 11 is placed on the workpiece-containing body manufacturing substrate 31 and is brought into close contact with a vacuum pack (see FIG. 3B). In FIG. 3B, “32” indicates a vacuum pump, and “33” indicates a vacuum pack equipment.
There is no restriction | limiting in particular as said board | substrate for workpiece containing body preparation, According to the objective, it can select suitably, For example, a glass substrate etc. are mentioned.
Moreover, it is preferable that the said workpiece containing body preparation board | substrate has a type | mold so that a circular workpiece containing body can be formed. Having the mold makes it possible to form a circular workpiece-containing body, which is advantageous in that the balance during rotation is improved in the pattern forming process described later, and that high-speed processing by high-speed rotation is possible. It is.
By fixing the workpiece-containing body manufacturing substrate and the workpiece, the workpiece fixing material enters on the workpiece surface (surface irradiated with laser light in a pattern forming process described later). Can be prevented.
Moreover, when making it adhere | attach with the said vacuum pack, it is preferable to prevent dust from entering between a to-be-processed object and the board | substrate for workpiece containing body preparation. There is no restriction | limiting in particular as a method of preventing the said dust from entering, According to the objective, it can select suitably, For example, static elimination blow etc. are mentioned.

その後、被加工物11を密着させた被加工物含有体作製用基板31に被加工物固定材料12を加え(図3C参照)、次いで、被加工物含有体作製用基板34で、被加工物固定材料を加えた被加工物を挟む(図3D参照)。
前記被加工物固定材料は、被加工物を被加工物含有体に密着させた後、速やかに加えることが好ましい。
前記被加工物含有体作製用基板で、被加工物固定材料を加えた被加工物を挟む際の手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレス装置などが挙げられる。
前記被加工物含有体作製用基板で、被加工物固定材料を加えた被加工物を挟む際の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、10kPaなどが挙げられる。
Thereafter, the workpiece fixing material 12 is added to the workpiece-containing body preparation substrate 31 to which the workpiece 11 is adhered (see FIG. 3C), and then the workpiece-containing body preparation substrate 34 is used. The workpiece to which the fixing material is added is sandwiched (see FIG. 3D).
The workpiece fixing material is preferably added immediately after the workpiece is brought into close contact with the workpiece-containing body.
The means for sandwiching the workpiece to which the workpiece fixing material is added in the workpiece-containing body production substrate is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Etc.
There is no particular limitation on the pressure when sandwiching the workpiece to which the workpiece fixing material is added in the workpiece-containing body preparation substrate, and it can be appropriately selected according to the purpose, for example, 10 kPa, etc. Is mentioned.

その後、被加工物含有体作製用基板31、34を取り外し、複数の被加工物、及び被加工物固定材料とからなる被加工物含有体1(図3E参照)を得ることができる。なお、この場合、後述するパターン形成工程において、レーザ光が照射される面は、図3Eの矢印「38」となる。   Thereafter, the workpiece-containing body manufacturing substrates 31 and 34 are removed, and the workpiece-containing body 1 (see FIG. 3E) including a plurality of workpieces and a workpiece fixing material can be obtained. In this case, in the pattern forming process described later, the surface irradiated with the laser light is an arrow “38” in FIG. 3E.

前記被加工物含有体が、前記第2の態様(複数の被加工物、被加工物固定材料、及び被加工物固定治具とからなる態様)の場合の被加工物含有体の形成方法の一例を図4A〜図4Bに基づいて説明する。   The method for forming a workpiece-containing body in the case where the workpiece-containing body is the second mode (a mode comprising a plurality of workpieces, a workpiece fixing material, and a workpiece fixing jig). An example will be described with reference to FIGS. 4A to 4B.

まず、被加工物固定治具13の被加工物を装着する装着部41に、被加工物固定材料12を加える(図4A参照)。その後、被加工物11を装着部に装着する。これにより、被加工物と、被加工物を装着する装着部を複数有する被加工物固定治具との間が被加工物固定材料で充填され、被加工物を固定することができ、複数の被加工物、被加工物固定材料、及び被加工物固定治具とからなる被加工物含有体2(図4B参照)を得ることができる。なお、この場合、後述するパターン形成工程において、レーザ光が照射される面は、図4Bの矢印「48」となる。
なお、前記被加工物固定材料は、被加工物を被加工物固定治具に装着した後に加えてもよい。
前記第2の態様では、前記被加工物を被加工物固定治具から取り外し、新たな被加工物を被加工物固定治具に装着して被加工物含有体を形成してもよい。
First, the workpiece fixing material 12 is added to the mounting portion 41 for mounting the workpiece of the workpiece fixing jig 13 (see FIG. 4A). Thereafter, the workpiece 11 is mounted on the mounting portion. Thereby, the space between the workpiece and the workpiece fixing jig having a plurality of mounting portions for mounting the workpiece can be filled with the workpiece fixing material, and the workpiece can be fixed. A workpiece-containing body 2 (see FIG. 4B) including a workpiece, a workpiece fixing material, and a workpiece fixing jig can be obtained. In this case, in the pattern forming process described later, the surface irradiated with the laser light is an arrow “48” in FIG. 4B.
The workpiece fixing material may be added after the workpiece is mounted on the workpiece fixing jig.
In the second aspect, the workpiece may be removed from the workpiece fixing jig, and a new workpiece may be mounted on the workpiece fixing jig to form the workpiece containing body.

なお、前記被加工物が表面にヒートモードの形状変化が可能な層を有する場合、前記ヒートモードの形状変化が可能な層を形成する時期としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、あらかじめ被加工物の表面にヒートモードの形状変化が可能な層を形成しておいてもよいし、被加工物含有体作製用基板を取り外した後に被加工物の表面にヒートモードの形状変化が可能な層を形成してもよいし、被加工物固定治具に装着した後に被加工物の表面にヒートモードの形状変化が可能な層を形成してもよい。
In addition, when the workpiece has a layer capable of changing the shape of the heat mode on the surface, the timing for forming the layer capable of changing the shape of the heat mode is not particularly limited and is appropriately selected according to the purpose. can do.
For example, a layer capable of changing the shape of the heat mode may be formed on the surface of the workpiece in advance, or the shape of the heat mode may be formed on the surface of the workpiece after removing the workpiece-containing body manufacturing substrate. A layer capable of changing may be formed, or a layer capable of changing the shape of the heat mode may be formed on the surface of the workpiece after being mounted on the workpiece fixing jig.

−−被加工物と、被加工物固定材料との間−−
前記被加工物と、前記被加工物固定材料との間(図5の「G」参照)としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、100μm以下が好ましく、50μm以下好ましく、10μm以下が特に好ましい。
前記被加工物と、前記被加工物固定材料との間が、100μmを超えると、フォーカスサーボが外れることがある。一方、前記被加工物と、前記被加工物固定材料との間が前記特に好ましい範囲内であると、自動焦点などの制御が安定になる点で有利である。
-Between work piece and work piece fixing material-
The space between the workpiece and the workpiece fixing material (see “G” in FIG. 5) is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 100 μm or less, preferably 50 μm. Below, 10 micrometers or less are especially preferable.
If the distance between the workpiece and the workpiece fixing material exceeds 100 μm, the focus servo may be lost. On the other hand, when the distance between the workpiece and the workpiece fixing material is within the particularly preferable range, it is advantageous in that control such as auto-focusing becomes stable.

−−被加工物固定材料表面(A)と、被加工物表面(B)との段差(A−B)−−
前記被加工物固定材料表面(A)と、被加工物表面(B)との段差(A−B)(図5の「D」参照)としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、−4μm〜4μmが好ましく、−2μm〜2μmが好ましく、−1μm〜1μmが特に好ましい。
前記被加工物固定材料表面(A)と、被加工物表面(B)との段差(A−B)が、−4μm未満、又は4μmを超えると、フォーカスサーボが外れることがある。一方、前記被加工物固定材料表面(A)と、被加工物表面(B)との段差(A−B)が前記特に好ましい範囲内であると、自動焦点などの制御が安定になる点で有利である。
なお、前記被加工物表面とは、レーザ光により加工される面(パターン形成面)をいう。また、前記被加工物固定材料表面とは、前記被加工物表面と同じ面をいう。
--Step difference (A-B) between workpiece fixing material surface (A) and workpiece surface (B)-
The step (A-B) (see “D” in FIG. 5) between the workpiece fixing material surface (A) and the workpiece surface (B) is not particularly limited and is appropriately selected according to the purpose. -4 μm to 4 μm is preferable, −2 μm to 2 μm is preferable, and −1 μm to 1 μm is particularly preferable.
When the step (A-B) between the workpiece fixing material surface (A) and the workpiece surface (B) is less than −4 μm or exceeds 4 μm, the focus servo may be lost. On the other hand, if the step (AB) between the workpiece fixing material surface (A) and the workpiece surface (B) is within the particularly preferred range, control such as autofocusing is stable. It is advantageous.
In addition, the said workpiece surface means the surface (pattern formation surface) processed with a laser beam. Further, the surface of the workpiece fixing material refers to the same surface as the surface of the workpiece.

<パターン形成工程>
前記パターン形成工程は、前記被加工物含有体を回転させながら、レーザ光を照射して被加工物上にパターンを形成する工程である。
前記パターン形成工程では、被加工物含有体にレーザ光を照射することにより、被加工物の表面を基準として、該表面に凹部が形成される。
<Pattern formation process>
The pattern forming step is a step of forming a pattern on the workpiece by irradiating a laser beam while rotating the workpiece containing body.
In the pattern forming step, a concave portion is formed on the surface of the workpiece by irradiating the workpiece containing body with a laser beam on the basis of the surface of the workpiece.

前記パターン形成工程を行う手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、従来より周知の光ディスクドライブと同様の構成の装置を用いることができる。
前記光ディスクドライブの構成としては、例えば、特開2003−203348号公報に記載されている構成が挙げられる。
以下、このような光ディスクドライブを用いた前記パターン形成工程の一実施形態を説明する。
The means for performing the pattern forming step is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, an apparatus having a configuration similar to that of a conventionally known optical disc drive can be used.
As a configuration of the optical disc drive, for example, a configuration described in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-203348 can be given.
Hereinafter, an embodiment of the pattern forming process using such an optical disk drive will be described.

光ディスクと同じ形状に形成した前記被加工物含有体をディスクドライブに装填する。そして、前記被加工物表面の材質に応じ、これを変形させるのに適当な出力でレーザ光を被加工物表面に照射する。さらに、この照射パターンが、被加工物表面に形成しようとするパターンに合うように、レーザ光源にパルス信号、又は連続信号を入力すればよい。なお、図6Bに示すように、所定の周期Tで発光されるレーザ光のデューティ比(発光時間τ/周期T)は、実際に形成する凹部15のデューティ比(レーザ光の走査方向における凹部15の長さd/ピッチP;図6A参照)より低くするのが好ましい。ここで、図6Aに円状に示すレーザ光は、発光時間τの間において所定の速度で移動することで、楕円状の凹部15の形成に寄与している。なお、レーザ光のデューティ比としては、例えば、凹部15のピッチPを100としたときの凹部15の長さdが50である場合には、50%よりも低いデューティ比でレーザ光を照射すればよい。なお、この場合、レーザ光のデューティ比の上限値は、50%未満が好ましく、40%未満がより好ましく、35%未満が更に好ましい。また、下限値は、1%以上が好ましく、5%以上がより好ましく、10%以上が更に好ましい。以上のように、デューティ比を設定することで、規定のピッチの凹部15を正確に形成することができる。
また、光ディスクドライブと同様のフォーカシング技術、例えば、非点収差法などを用いることにより、被加工物にうねりや反りがあったとしても、被加工物の表面に容易に集光することが可能である。
また、本発明の被加工物含有体は、被加工物の周囲を被加工物固定材料で固定しているので、被加工物と被加工物の固定材料との間が短く、また、被加工物固定材料表面(A)と、被加工物表面(B)との段差(A−B)短い。そのため、被加工物周囲においても、フォーカスサーボが外れることがなく、被加工物を簡便で、かつ、優れた加工精度で加工することができる。
The workpiece containing body formed in the same shape as the optical disk is loaded into a disk drive. And according to the material of the said workpiece surface, a laser beam is irradiated to the workpiece surface with an output suitable for deforming this. Further, a pulse signal or a continuous signal may be input to the laser light source so that this irradiation pattern matches the pattern to be formed on the surface of the workpiece. As shown in FIG. 6B, the duty ratio (light emission time τ / period T) of the laser light emitted at a predetermined period T is equal to the duty ratio of the actually formed recess 15 (the recess 15 in the scanning direction of the laser light). Length d / pitch P; see FIG. 6A). Here, the laser beam shown in a circle in FIG. 6A contributes to the formation of the elliptical recess 15 by moving at a predetermined speed during the emission time τ. For example, when the length d of the recess 15 is 50 when the pitch P of the recess 15 is set to 100, the laser beam is irradiated at a duty ratio lower than 50%. That's fine. In this case, the upper limit value of the duty ratio of the laser beam is preferably less than 50%, more preferably less than 40%, and still more preferably less than 35%. The lower limit is preferably 1% or more, more preferably 5% or more, and still more preferably 10% or more. As described above, by setting the duty ratio, it is possible to accurately form the recesses 15 having a specified pitch.
In addition, by using the same focusing technology as the optical disk drive, for example, the astigmatism method, even if the workpiece has waviness or warpage, it can be easily focused on the surface of the workpiece. is there.
Moreover, since the workpiece containing body of the present invention fixes the periphery of the workpiece with the workpiece fixing material, the distance between the workpiece and the workpiece fixing material is short, and the workpiece is processed. The level difference (A-B) between the object fixing material surface (A) and the workpiece surface (B) is short. Therefore, the focus servo is not disengaged around the work piece, and the work piece can be machined easily and with excellent machining accuracy.

このようにして、被加工物表面にディスクドライブの光学系でレーザ光を集光して照射する。光記録ディスクに情報を記録する場合と同様に、被加工物含有体を回転させながら、光学系を半径方向に移動させることで、被加工物表面の全体に凹部を形成することができる。   In this way, the laser beam is condensed and irradiated onto the surface of the workpiece by the optical system of the disk drive. As in the case of recording information on the optical recording disk, a concave portion can be formed on the entire surface of the workpiece by moving the optical system in the radial direction while rotating the workpiece-containing body.

凹部15を製造する時の加工条件は以下の通りである。
前記光学系の開口数NAの下限としては、0.4以上が好ましく、0.5以上がより好ましく、0.6以上が更に好ましい。また、開口数NAの上限としては、2以下が好ましく、1以下がより好ましく、0.9以下が更に好ましい。開口数NAが小さすぎると、細かい加工ができず、大きすぎると、記録時の角度に対するマージンが減るからである。
The processing conditions for manufacturing the recess 15 are as follows.
The lower limit of the numerical aperture NA of the optical system is preferably 0.4 or more, more preferably 0.5 or more, and still more preferably 0.6 or more. Further, the upper limit of the numerical aperture NA is preferably 2 or less, more preferably 1 or less, and still more preferably 0.9 or less. This is because if the numerical aperture NA is too small, fine processing cannot be performed, and if it is too large, the margin for the angle during recording decreases.

前記光学系の波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、405±30nm、532±30nm、650±30nm、780±30nmが挙げられる。これらは、大きな出力が得やすい波長だからである。なお、波長は短い程、細かい加工ができるので好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as a wavelength of the said optical system, According to the objective, it can select suitably, For example, 405 +/- 30nm, 532 +/- 30nm, 650 +/- 30nm, 780 +/- 30nm is mentioned. This is because these wavelengths are easy to obtain a large output. A shorter wavelength is preferable because fine processing can be performed.

前記光学系の出力の下限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1mW以上が好ましく、1mW以上がより好ましく、5mW以上が更に好ましく、20mW以上が特に好ましい。前記光学系の出力の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1,000mW以下が好ましく、500mW以下がより好ましく、200mW以下が更に好ましい。前記出力が低すぎると加工に時間が掛かり、高すぎると、光学系を構成する部材の耐久性が低くなるからである。   The lower limit of the output of the optical system is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, but is preferably 0.1 mW or more, more preferably 1 mW or more, further preferably 5 mW or more, and particularly preferably 20 mW or more. preferable. There is no restriction | limiting in particular as an upper limit of the output of the said optical system, Although it can select suitably according to the objective, 1,000 mW or less is preferable, 500 mW or less is more preferable, 200 mW or less is still more preferable. This is because if the output is too low, processing takes time, and if it is too high, the durability of the members constituting the optical system is lowered.

光学系を被加工物表面に対し相対的に移動させる線速の下限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1m/s以上が好ましく、1m/s以上がより好ましく、5m/s以上が更に好ましく、20m/s以上が特に好ましい。前記線速の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、500m/s以下が好ましく、200m/s以下がより好ましく、100m/s以下が更に好ましく、50m/s以下が特に好ましい。前記線速が高すぎると、加工精度を高くするのが困難であり、遅すぎると加工に時間が掛かるし、良好な形状に加工できないからである。   There is no restriction | limiting in particular as a minimum of the linear velocity which moves an optical system relatively with respect to the workpiece surface, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 m / s or more is preferable and 1 m / s is preferable. The above is more preferable, 5 m / s or more is further preferable, and 20 m / s or more is particularly preferable. There is no restriction | limiting in particular as an upper limit of the said linear velocity, Although it can select suitably according to the objective, 500 m / s or less is preferable, 200 m / s or less is more preferable, 100 m / s or less is further more preferable, 50 m / s Particularly preferred is s or less. This is because if the linear velocity is too high, it is difficult to increase the processing accuracy, and if it is too slow, the processing takes time and the processing cannot be performed into a good shape.

前記光学系を含む具体的な光学加工機の一例としては、例えば、パルステック工業株式会社製NE0500を用いることができる。   As an example of a specific optical processing machine including the optical system, NE0500 manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. can be used, for example.

<その他の工程>
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Other processes>
The other steps are not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, and can be appropriately selected depending on the purpose.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
<被加工物含有体形成工程>
被加工物の基板として、厚さ0.5mm、2インチのサファイア基板を2枚を用いた。前記基板上に、下記構造式(1)で表されるオキソノール有機物15mgを、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール1mlに溶解した溶液を、スピンコータを用いて回転数300rpmで塗布し、その後、回転数1,000rpmで乾燥させ、厚さ70nmの有機層を形成し、被加工物を作製した。
Example 1
<Workpiece-containing body forming step>
Two sapphire substrates having a thickness of 0.5 mm and 2 inches were used as substrates of workpieces. A solution obtained by dissolving 15 mg of an oxonol organic compound represented by the following structural formula (1) in 1 ml of 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol was applied onto the substrate at a rotation speed of 300 rpm using a spin coater. Then, it was dried at a rotational speed of 1,000 rpm, an organic layer having a thickness of 70 nm was formed, and a workpiece was produced.

前記被加工物をガラス基板(被加工物含有体作製用基板)に真空パックにて密着させた。前記被加工物と、ガラス基板とは、真空パックから取り外しても密着状態を保っていた。前記ガラス基板に密着した被加工物上に被加工物固定材料としてクリスタルレジン(日新レジン製、エポキシ樹脂)を加え、ガラス基板ではさみ、円盤状にクリスタルレジンを硬化させた。
次いで、前記ガラス基板を外し、被加工物と、クリスタルレジンとからなる円盤状の被加工物含有体(直径約15cm、厚さ約1mm)を得た。
前記被加工物含有体における被加工物と、被加工物固定材料との間を顕微測長機(ニコン社製MM400)により測定したところ、2μmであった。
また、前記被加工物固定材料表面(A)と、被加工物表面(B)との段差(A−B)を顕微測長機(ニコン社製MM400)により測定したところ、0.2μmであった。
また、被加工物表面の屈折率は、1.6であり、被加工物固定材料表面の屈折率は、1.5であった。また、被加工物表面の反射率は、5%であり、被加工物固定材料表面の反射率は、4%であった。
前記屈折率は、エリプソメータ(J.A.Woolam社製VASE)により測定し、前記反射率は、分光反射率計(日立社製U3100)により測定した。
The workpiece was brought into close contact with a glass substrate (substrate for producing a workpiece-containing body) with a vacuum pack. The workpiece and the glass substrate were kept in close contact even after being removed from the vacuum pack. A crystal resin (manufactured by Nissin Resin, epoxy resin) was added as a workpiece fixing material on the workpiece that was in close contact with the glass substrate, and was sandwiched between glass substrates to cure the crystal resin in a disk shape.
Next, the glass substrate was removed to obtain a disk-shaped workpiece containing body (diameter: about 15 cm, thickness: about 1 mm) composed of the workpiece and crystal resin.
The distance between the workpiece in the workpiece-containing body and the workpiece fixing material was measured by a micro length measuring machine (MM400 manufactured by Nikon Corporation), and was 2 μm.
Further, the step (A-B) between the workpiece fixing material surface (A) and the workpiece surface (B) was measured with a micro length measuring instrument (MM400 manufactured by Nikon Corporation), and found to be 0.2 μm. It was.
Moreover, the refractive index of the workpiece surface was 1.6, and the refractive index of the workpiece fixing material surface was 1.5. Moreover, the reflectance of the workpiece surface was 5%, and the reflectance of the workpiece fixing material surface was 4%.
The refractive index was measured with an ellipsometer (VASE manufactured by JA Woollam), and the reflectance was measured with a spectral reflectometer (U3100 manufactured by Hitachi).

<パターン形成工程>
前記被加工物含有体の被加工物表面に、NEO1000(パルステック工業株式会社製)にて、5m/s、15mW、円周方向及び半径方向とも0.3μmピッチで、レーザ照射を行った。
<Pattern formation process>
Laser irradiation was performed on the workpiece surface of the workpiece-containing body with NEO1000 (manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd.) at 5 m / s, 15 mW, a pitch of 0.3 μm in both the circumferential direction and the radial direction.

以上により、深さ50nm、隣接する凹部の中心の最短距離(ピッチ)0.3μmの凹部を被加工物の全表面に形成することができた。   As described above, a recess having a depth of 50 nm and a shortest distance (pitch) of 0.3 μm between the centers of adjacent recesses could be formed on the entire surface of the workpiece.

(実施例2)
<被加工物含有体形成工程>
被加工物の基板は、実施例1と同様のものを用いた。
前記基板表面にオイル(immersion oil typeA、cargille laboratories製)を数滴垂らした。前記基板の上にガラス基板(被加工物含有体作製用基板)を置いて密着させ、基板と、ガラス基板との間の空気を排除した。
前記ガラス基板に密着した基板上に被加工物固定材料としてクリスタルレジン(日新レジン製、エポキシ樹脂)を加え、ガラス基板ではさみ、円盤状にクリスタルレジンを硬化させた。
(Example 2)
<Workpiece-containing body forming step>
The same substrate as that used in Example 1 was used as the workpiece substrate.
A few drops of oil (impression oil type A, manufactured by cargill laboratories) were dropped on the surface of the substrate. A glass substrate (workpiece-containing body preparation substrate) was placed on and adhered to the substrate, and air between the substrate and the glass substrate was excluded.
Crystal resin (manufactured by Nissin Resin, epoxy resin) was added as a workpiece fixing material on the substrate that was in close contact with the glass substrate, and was sandwiched between glass substrates to cure the crystal resin in a disk shape.

前記ガラス基板を外した後、溶剤にてオイルを洗浄した。その後、前記基板表面に、上記構造式(1)で表されるオキソノール有機物15mgを、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール1mlに溶解した溶液を、スピンコータを用いて回転数300rpmで塗布し、その後、回転数1,000rpmで乾燥させ、厚さ70nmの有機層を形成し、被加工物と、クリスタルレジンとからなる円盤状の被加工物含有体(直径約15cm、厚さ約1mm)を得た。
前記被加工物含有体における被加工物と、被加工物固定材料との間を顕微測長機(ニコン社製MM400)により測定したところ、2μmであった。
また、前記被加工物固定材料表面(A)と、被加工物表面(B)との段差(A−B)を顕微測長機(ニコン社製MM400)により測定したところ、0.2μmであった。
また、被加工物表面の屈折率は、1.6であり、被加工物固定材料表面の屈折率は、1.5であった。また、被加工物表面の反射率は、5%であり、被加工物固定材料表面の反射率は、4%であった。
前記屈折率は、エリプソメータ(J.A.Woolam社製VASE)により測定し、前記反射率は、分光反射率計(日立社製U3100)により測定した。
After removing the glass substrate, the oil was washed with a solvent. Thereafter, a solution obtained by dissolving 15 mg of the oxonol organic compound represented by the structural formula (1) in 1 ml of 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol on the surface of the substrate was rotated at 300 rpm using a spin coater. Then, it is dried at a rotational speed of 1,000 rpm to form an organic layer having a thickness of 70 nm, and a disc-shaped workpiece containing body (diameter of about 15 cm, thickness) comprising a workpiece and a crystal resin. About 1 mm).
The distance between the workpiece in the workpiece-containing body and the workpiece fixing material was measured by a micro length measuring machine (MM400 manufactured by Nikon Corporation), and was 2 μm.
Further, the step (A-B) between the workpiece fixing material surface (A) and the workpiece surface (B) was measured with a micro length measuring instrument (MM400 manufactured by Nikon Corporation), and found to be 0.2 μm. It was.
Moreover, the refractive index of the workpiece surface was 1.6, and the refractive index of the workpiece fixing material surface was 1.5. Moreover, the reflectance of the workpiece surface was 5%, and the reflectance of the workpiece fixing material surface was 4%.
The refractive index was measured with an ellipsometer (VASE manufactured by JA Woollam), and the reflectance was measured with a spectral reflectometer (U3100 manufactured by Hitachi).

<パターン形成工程>
パターン形成工程は、実施例1と同様に行った。
<Pattern formation process>
The pattern forming process was performed in the same manner as in Example 1.

以上により、深さ50nm、隣接する凹部の中心の最短距離(ピッチ)0.3μmの凹部を被加工物の全表面に形成することができた。   As described above, a recess having a depth of 50 nm and a shortest distance (pitch) of 0.3 μm between the centers of adjacent recesses could be formed on the entire surface of the workpiece.

(実施例3)
<被加工物含有体形成工程>
被加工物の基板は、実施例1と同様のものを用いた。また、被加工物固定治具として、装着部を2つ有する円盤状の治具を用いた。
前記被加工物固定治具に被加工物固定材料としてクリスタルレジン(日新レジン製、エポキシ樹脂)を加え、次いで、前記基板を装着し、クリスタルレジンを硬化させた。
(Example 3)
<Workpiece-containing body forming step>
The same substrate as that used in Example 1 was used as the workpiece substrate. Further, a disk-shaped jig having two mounting portions was used as the workpiece fixing jig.
Crystal resin (manufactured by Nissin Resin, epoxy resin) was added to the workpiece fixing jig as a workpiece fixing material, and then the substrate was mounted to cure the crystal resin.

その後、前記基板表面に、上記構造式(1)で表されるオキソノール有機物15mgを、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール1mlに溶解した溶液を、スピンコータを用いて回転数300rpmで塗布し、その後、回転数1,000rpmで乾燥させ、厚さ70nmの有機層を形成し、被加工物と、クリスタルレジンと、被加工物固定治具とからなる円盤状の被加工物含有体(直径約15cm、厚さ約1mm)を得た。
前記被加工物含有体における被加工物と、被加工物固定材料との間を顕微測長機(ニコン社製MM400)により測定したところ、2μmであった。
また、前記被加工物固定材料表面(A)と、被加工物表面(B)との段差(A−B)を顕微測長機(ニコン社製MM400)により測定したところ、0.2μmであった。
また、被加工物表面の屈折率は、1.6であり、被加工物固定材料表面の屈折率は、1.5であった。また、被加工物表面の反射率は、5%であり、被加工物固定材料表面の反射率は、4%であった。
前記屈折率は、エリプソメータ(J.A.Woolam社製VASE)により測定し、前記反射率は、分光反射率計(日立社製U3100)により測定した。
Thereafter, a solution obtained by dissolving 15 mg of the oxonol organic compound represented by the structural formula (1) in 1 ml of 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol on the surface of the substrate was rotated at 300 rpm using a spin coater. And then dried at a rotational speed of 1,000 rpm to form an organic layer having a thickness of 70 nm, containing a disk-shaped workpiece comprising a workpiece, a crystal resin, and a workpiece fixing jig A body (diameter about 15 cm, thickness about 1 mm) was obtained.
The distance between the workpiece in the workpiece-containing body and the workpiece fixing material was measured by a micro length measuring machine (MM400 manufactured by Nikon Corporation), and was 2 μm.
Further, the step (A-B) between the workpiece fixing material surface (A) and the workpiece surface (B) was measured with a micro length measuring instrument (MM400 manufactured by Nikon Corporation), and found to be 0.2 μm. It was.
Moreover, the refractive index of the workpiece surface was 1.6, and the refractive index of the workpiece fixing material surface was 1.5. Moreover, the reflectance of the workpiece surface was 5%, and the reflectance of the workpiece fixing material surface was 4%.
The refractive index was measured with an ellipsometer (VASE manufactured by JA Woollam), and the reflectance was measured with a spectral reflectometer (U3100 manufactured by Hitachi).

<パターン形成工程>
パターン形成工程は、実施例1と同様に行った。
<Pattern formation process>
The pattern forming process was performed in the same manner as in Example 1.

以上により、深さ50nm、隣接する凹部の中心の最短距離(ピッチ)0.3μmの凹部を被加工物の全表面に形成することができた。   As described above, a recess having a depth of 50 nm and a shortest distance (pitch) of 0.3 μm between the centers of adjacent recesses could be formed on the entire surface of the workpiece.

(比較例1)
<被加工物含有体形成工程>
前記実施例3において、被加工物固定材料を用いなかった以外は、実施例3と同様にして、比較例1の被加工物含有体を作製した。
前記被加工物含有体における被加工物と、被加工物固定治具との間を顕微測長機(ニコン社製MM400)により測定したところ、100μmであった。
また、前記被加工物固定治具表面(C)と、被加工物表面(B)との段差(C−B)を顕微測長機(ニコン社製MM400)により測定したところ、30μmであった。
また、被加工物表面の屈折率は、1.6であり、被加工物固定治具表面の屈折率は、1.5であった。また、被加工物表面の反射率は、6%であり、被加工物固定治具表面の反射率は、5%であった。
前記屈折率は、エリプソメータ(J.A.Woolam社製VASE)により測定し、前記反射率は、分光反射率計(日立社製U3100)により測定した。
(Comparative Example 1)
<Workpiece-containing body forming step>
A workpiece-containing body of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 3 except that the workpiece fixing material was not used in Example 3.
It was 100 micrometers when it measured between the workpiece in the said workpiece containing body and the workpiece fixing jig with the micro length measuring machine (MM400 by Nikon Corp.).
Further, the step (C-B) between the workpiece fixing jig surface (C) and the workpiece surface (B) was measured by a micro length measuring machine (MM400 manufactured by Nikon Corporation), and was 30 μm. .
Moreover, the refractive index of the workpiece surface was 1.6, and the refractive index of the workpiece fixture jig surface was 1.5. Moreover, the reflectance of the workpiece surface was 6%, and the reflectance of the workpiece fixing jig surface was 5%.
The refractive index was measured with an ellipsometer (VASE manufactured by JA Woollam), and the reflectance was measured with a spectral reflectometer (U3100 manufactured by Hitachi).

<パターン形成工程>
パターン形成工程は、実施例1と同様に行った。
<Pattern formation process>
The pattern forming process was performed in the same manner as in Example 1.

以上により、被加工物の表面の一部に、深さ50nm、隣接する凹部の中心の最短距離(ピッチ)0.3μmの凹部を形成することができた。
しかしながら、被加工物における被加工物固定治具周辺は、フォーカスサーボが外れてしまい、凹部を形成することができなかった。
As described above, a recess having a depth of 50 nm and a shortest distance (pitch) of 0.3 μm between the centers of adjacent recesses could be formed on a part of the surface of the workpiece.
However, the periphery of the work piece fixing jig in the work piece is out of focus servo, and a recess cannot be formed.

以上の結果から、本発明のレーザ加工方法は、簡便で、かつ、被加工物を優れた加工精度で加工することができることが示された。   From the above results, it was shown that the laser processing method of the present invention is simple and can process a workpiece with excellent processing accuracy.

本発明のレーザ加工方法は、簡便で、かつ、被加工物を優れた加工精度で加工することができるので、例えば、LED素子が形成された基板などの被加工物のレーザ加工に利用することができる。   Since the laser processing method of the present invention is simple and can process a workpiece with excellent processing accuracy, for example, it can be used for laser processing of a workpiece such as a substrate on which an LED element is formed. Can do.

1 被加工物含有体
2 被加工物含有体
11 被加工物
12 被加工物固定材料
13 被加工物固定治具
31 被加工物含有体作製用基板
32 真空ポンプ
33 真空パック用器材
34 被加工物含有体作製用基板
38 レーザ光照射面
41 装着部
48 レーザ光照射面
G 被加工物と、被加工物固定材料との間
D 被加工物固定材料表面と、被加工物表面との段差
P ピッチ
d 凹部の長さ
15 凹部
τ 発光時間
T 周期
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Workpiece containing body 2 Workpiece containing body 11 Workpiece 12 Workpiece fixing material 13 Workpiece fixing jig 31 Workpiece containing body preparation substrate 32 Vacuum pump 33 Vacuum pack equipment 34 Workpiece Substrate for containing body 38 Laser light irradiation surface 41 Mounting portion 48 Laser light irradiation surface G Between workpiece and workpiece fixing material D Step difference between workpiece fixing material surface and workpiece surface P Pitch d Concave length 15 Concave τ Light emission time T Period

Claims (8)

複数の被加工物の周囲を被加工物固定材料で固定し、複数の被加工物を有する被加工物含有体を形成する被加工物含有体形成工程と、
前記被加工物含有体を回転させながら、レーザ光を照射して被加工物上にパターンを形成するパターン形成工程と、
を含むことを特徴とするレーザ加工方法。
A workpiece-containing body forming step of fixing a periphery of a plurality of workpieces with a workpiece fixing material and forming a workpiece-containing body having a plurality of workpieces;
A pattern forming step of forming a pattern on the workpiece by irradiating a laser beam while rotating the workpiece-containing body,
A laser processing method comprising:
被加工物含有体形成工程が、被加工物と、被加工物を装着する装着部を複数有する被加工物固定治具との間に被加工物固定材料を充填することにより、被加工物を固定する請求項1に記載のレーザ加工方法。   The workpiece-containing body forming step fills the workpiece with a workpiece fixing material between the workpiece and a workpiece fixing jig having a plurality of mounting portions for mounting the workpiece. The laser processing method according to claim 1 to be fixed. 被加工物と、被加工物固定材料との間が、100μm以下である請求項1から2のいずれかに記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 1, wherein a distance between the workpiece and the workpiece fixing material is 100 μm or less. 被加工物固定材料表面(A)と、被加工物表面(B)との段差(A−B)が、4μm以下である請求項1から3のいずれかに記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to any one of claims 1 to 3, wherein the step (A-B) between the workpiece fixing material surface (A) and the workpiece surface (B) is 4 µm or less. 被加工物固定材料表面の屈折率が、被加工物表面の屈折率の±50%以内である請求項1から4のいずれかに記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 1, wherein a refractive index of the surface of the workpiece fixing material is within ± 50% of a refractive index of the surface of the workpiece. 被加工物固定材料表面の反射率が、被加工物表面の反射率の±50%以内である請求項1から5のいずれかに記載のレーザ加工方法。   6. The laser processing method according to claim 1, wherein the reflectance of the surface of the workpiece fixing material is within ± 50% of the reflectance of the surface of the workpiece. 被加工物固定材料が、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、及びポリエステル樹脂から選択される少なくとも1種である請求項1から6のいずれかに記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 1, wherein the workpiece fixing material is at least one selected from an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a silicone resin, and a polyester resin. 被加工物表面が、ヒートモードの形状変化が可能な層である請求項1から7のいずれかに記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 1, wherein the surface of the workpiece is a layer capable of changing a shape in a heat mode.
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