JP2010179286A - Water purifying apparatus and water purifying method - Google Patents

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Tetsunori Sakatani
哲則 坂谷
Kenji Takeda
賢治 武田
Takuma Ikenobo
太久磨 池防
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To compensate the concentration decline of a chemical solution in a chemical tank, and to achieve a favorable water purification. <P>SOLUTION: The water purifying apparatus includes: an underwater pump 2 which supplies raw water; a tank filter 6 which removes impurity contained in the raw water by flowing in the raw water supplied by the underwater pump 2; a chemical solution injection device 5 which has a chemical tank 5a for accommodating a chemical solution and which injects a chemical solution into the tank filter 6 from the chemical tank 5a; a time measuring part 29 which measures an elapsed time from the replenishment of the chemical solution to the chemical tank 5a; and a control part 32 which controls the time measuring part 29 so that it may increase the injection ratio of the chemical solution every time the predetermined time is measured. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、井戸などの水源から取水した原水に含まれる鉄やマンガンなどの不純物を除去して浄化する浄水装置及び浄水方法に関する。   The present invention relates to a water purification device and a water purification method for removing and purifying impurities such as iron and manganese contained in raw water taken from a water source such as a well.

この種の浄水装置は、井戸水に含まれる鉄・マンガンイオンなどを除去するとともに、除菌するためにセラミック製ろ過砂や、その表面に二酸化マンガンをコーティングした除マンガン用ろ過材などを内部に充填したろ過槽を使用して、井戸水を飲用水として利用できるようにしている。   This type of water purifier removes iron, manganese ions, etc. contained in well water, and fills the inside with ceramic filter sand or manganese filter media coated with manganese dioxide to sterilize it. The well water can be used as drinking water using the filtered tank.

また、ろ過槽の1次側には、除菌・酸化剤としての次亜塩素酸ナトリウムを注入する塩素注入装置を設置している。塩素注入装置は、次亜塩素酸ナトリウムを貯留しておく薬液槽と液位計、ろ過流量を検出するための磁石付き回転翼を有する流量比例注入用の流量検出部、ろ過流量に比例した一定量の次亜塩素酸ナトリウムを注入するダイヤフラムポンプ、原水が通過する配管及び薬液注入部などから構成されている(例えば、特許文献1参照。)。   Moreover, the chlorine injection apparatus which inject | pours sodium hypochlorite as disinfection and an oxidizing agent is installed in the primary side of the filtration tank. Chlorine injector has a chemical tank and a liquid level meter for storing sodium hypochlorite, a flow rate detection unit for flow proportional injection having a rotor blade with a magnet for detecting the filtration flow rate, a constant proportional to the filtration flow rate It consists of a diaphragm pump for injecting an amount of sodium hypochlorite, a pipe through which raw water passes, a chemical solution injection section, and the like (for example, see Patent Document 1).

そして、塩素注入装置により注入された次亜塩素酸により、原水に含まれる鉄イオンを酸化して不溶性の水酸化第二鉄にすることにより、ろ過材にて捕捉している。   And the hypochlorous acid inject | poured with the chlorine injection | pouring apparatus oxidizes the iron ion contained in raw | natural water, makes it insoluble ferric hydroxide, and is trapped with the filter medium.

また、原水中のマンガンイオンは、次亜塩素酸によって酸化・析出することはなく、ろ過槽内部のマンガンコーティングろ過材の自触媒作用により接触酸化され、水和二酸化マンガンとしてろ過材に凝着することが知られている。   In addition, manganese ions in the raw water are not oxidized or precipitated by hypochlorous acid, but are contact-oxidized by the autocatalytic action of the manganese-coated filter medium inside the filter tank and adhere to the filter medium as hydrated manganese dioxide. It is known.

ろ過材表面の水和二酸化マンガンは、残留している次亜塩素酸によって常に活性化されており、原水に適正な濃度の次亜塩素酸ナトリウムを注入することが極めて重要である。   Hydrated manganese dioxide on the surface of the filter medium is always activated by the remaining hypochlorous acid, and it is extremely important to inject sodium hypochlorite with an appropriate concentration into the raw water.

ところで、次亜塩素酸ナトリウムは、不安定な気化性液体であり、保存温度(30℃以上では顕著)や、紫外線などにより自己分解し、下記の化学式のように主に酸素ガスを発生して、有効塩素濃度が低下していくことが知られている。2NaClO→2NaCl+O
特開2003−164710号公報
By the way, sodium hypochlorite is an unstable vaporizable liquid, which is self-decomposed by storage temperature (remarkable at 30 ° C or higher) and ultraviolet rays, and mainly generates oxygen gas as shown in the chemical formula below. It is known that the effective chlorine concentration decreases. 2NaClO → 2NaCl + O 2
JP 2003-164710 A

しかしながら、従来においては、上記した塩素注入装置に使用されているダイヤフラムポンプは、小型で装置内に組込みやすく、そのポンプ特性は精密注入に適しているが、あくまでも初期に設定された一定の注入量を維持するものであったため、薬液槽内の次亜塩素酸ナトリウムの濃度低下を補償することができないという不都合があった。   However, in the past, the diaphragm pump used in the chlorine injection device described above is small and easy to incorporate in the device, and its pump characteristics are suitable for precision injection, but it is a constant injection amount set at the beginning. Therefore, there was a disadvantage that it was not possible to compensate for the decrease in the concentration of sodium hypochlorite in the chemical tank.

これらの問題は、原水の鉄・マンガン濃度が高い場合やアンモニアが存在する場合など、薬液槽に貯留する薬液に12%原液を使用したり、注入濃度を高く設定する必要がある場合に顕著であった。   These problems are prominent when 12% undiluted solution is used for the chemical stored in the chemical tank or when the injection concentration needs to be set high, such as when the concentration of iron / manganese in the raw water is high or ammonia is present. there were.

本発明は上記事情に着目してなされたもので、その目的とするところは、薬液槽内の薬液の濃度低下を補償し、良好に浄水できるようにした浄水装置及び浄水方法を提供することにある。   This invention was made paying attention to the said situation, The place made into the objective is to compensate the density | concentration fall of the chemical | medical solution in a chemical | medical solution tank, and to provide the water purifier and the water purifying method which enabled it to purify water well. is there.

上記課題を解決するため、請求項1記載の発明は、原水を供給する原水ポンプと、この原水ポンプによって供給される原水を流入させて前記原水に含まれる不純物を除去するろ過槽と、薬液を収容する薬液槽を有し、この薬液槽から前記ろ過槽内に薬液を注入する薬液注入手段と、前記薬液槽への薬液の補充時からの経過時間を計測する時間計測部と、この時間計測部が一定時間を計測するごとに前記薬液の注入比率を増加するように制御する制御手段とを具備することを特徴とする。   In order to solve the above problems, the invention described in claim 1 is a raw water pump that supplies raw water, a filtration tank that removes impurities contained in the raw water by flowing in the raw water supplied by the raw water pump, and a chemical solution. A chemical solution injecting means for injecting a chemical solution from the chemical solution tank into the filtration tank, a time measuring unit for measuring an elapsed time from the replenishment of the chemical solution to the chemical solution tank, and this time measurement And a control means for controlling to increase the injection ratio of the drug solution every time the unit measures a certain time.

請求項6記載の発明は、原水ポンプによって原水を供給し、前記原水ポンプによって供給される原水をろ過槽内に流入させて前記原水に含まれる不純物を除去し、前記ろ過槽内に薬液注入手段により薬液槽内から薬液を注入し、前記薬液槽への薬液の補充時からの経過時間を計測し、一定時間ごとに前記薬液の注入比率を増加するように制御することを特徴とする。   Invention of Claim 6 supplies raw | natural water with a raw | natural water pump, makes the raw | natural water supplied by the said raw | natural water pump flow in in a filtration tank, the impurity contained in the said raw water is removed, and chemical | medical solution injection | pouring means in the said filtration tank The chemical solution is injected from the inside of the chemical solution tank, the elapsed time from the time of replenishment of the chemical solution to the chemical solution tank is measured, and the injection ratio of the chemical solution is controlled to increase at regular intervals.

本発明によれば、薬液槽内の薬液の濃度低下を補償し、良好に浄水できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the density | concentration fall of the chemical | medical solution in a chemical | medical solution tank is compensated, and it can purify favorably.

以下、本発明の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図1は本発明の第1の実施の形態である浄水装置の通水径路を示す構成図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a configuration diagram showing a water flow path of a water purifier according to a first embodiment of the present invention.

図中1は水源としての井戸で、この井戸1には水中ポンプ2が投入されている。水中ポンプ2の吐出口2aには通水管3を介してろ過槽6が接続されている。通水管3の中途部には逆洗排水弁33、及び次亜塩素酸ナトリウム(以下、薬液という)を注入するための注入口部9が設けられている。   In the figure, 1 is a well as a water source, and a submersible pump 2 is inserted into the well 1. A filtration tank 6 is connected to the discharge port 2 a of the submersible pump 2 through a water pipe 3. In the middle of the water pipe 3, a backwash drain valve 33 and an inlet 9 for injecting sodium hypochlorite (hereinafter referred to as a chemical solution) are provided.

ろ過槽6の内部にはアンスラサイトやろ過砂、表面に二酸化マンガンをコーティングしたセラミック製のろ過砂などのろ過材11が一定の高さの層をなして収容されている。さらに、ろ過槽6内の下部側には、スリット状の孔を有する樹脂製のフィルタ14が設けられている。   A filter medium 11 such as anthracite, filter sand, or ceramic filter sand coated with manganese dioxide on the surface is housed in the filter tank 6 in a layer having a certain height. Furthermore, a resin filter 14 having slit-like holes is provided on the lower side in the filtration tank 6.

また、ろ過槽6の側面部には流出管15を介して受水槽17が接続され、流出管15の中途部には逆洗切替弁22、流量検出部8、及び洗浄水を排出するための洗浄排水弁34が設けられている。   In addition, a water receiving tank 17 is connected to the side surface of the filtration tank 6 through an outflow pipe 15, and a backwash switching valve 22, a flow rate detection section 8, and a washing water are discharged to the middle part of the outflow pipe 15. A cleaning drain valve 34 is provided.

流量検出部8は磁石付き回転翼(図示せず)を備え、この磁石付き回転翼が流出管15内を流通する水量に応じて回転し、その回転に応じて前記磁石の移動で生じるパルスを読み取って流量を検出するようになっている。なお、流量検出部8は、ろ過槽の流入側に設けるものであってもよい。   The flow rate detector 8 includes a rotor blade with a magnet (not shown), and the rotor blade with the magnet rotates according to the amount of water flowing through the outflow pipe 15, and pulses generated by the movement of the magnet according to the rotation. The flow rate is detected by reading. The flow rate detector 8 may be provided on the inflow side of the filtration tank.

また、受水槽17には、給水管を介して給水設備(図示しない)が接続され、給水できるようになっている。さらに、受水槽17は、通水管23、逆洗ポンプ24、電動弁22を介してろ過槽6に接続されている。   Further, a water supply facility (not shown) is connected to the water receiving tank 17 through a water supply pipe so that water can be supplied. Further, the water receiving tank 17 is connected to the filtration tank 6 through a water pipe 23, a backwash pump 24, and a motor operated valve 22.

一方、上記したろ過槽6の近傍には、薬液をろ過槽6に注入するための薬液注入手段としての薬液注入装置5が設けられている。薬液注入装置5は、薬液を収容する薬液槽5aと、この薬液槽5a内の薬液を注入管25、注入口部9を介してろ過槽6の一次側に供給するダイヤフラムポンプ5bを備えている。   On the other hand, in the vicinity of the filtration tank 6 described above, a chemical liquid injection device 5 is provided as a chemical liquid injection means for injecting the chemical liquid into the filtration tank 6. The chemical solution injection device 5 includes a chemical solution tank 5a that stores the chemical solution, and a diaphragm pump 5b that supplies the chemical solution in the chemical solution tank 5a to the primary side of the filtration tank 6 through the injection pipe 25 and the injection port 9. .

また、薬液注入装置5の近傍には外気温度を検出する温度検出部28が設けられている。   Further, a temperature detection unit 28 that detects the outside air temperature is provided in the vicinity of the chemical liquid injector 5.

図2は上記した浄水装置の制御系26を示すブロック図である。   FIG. 2 is a block diagram showing the control system 26 of the above-described water purifier.

上記した流量検出部8、及び温度検出部28は送信回路を介して制御手段としての制御部32に接続されている。   The flow rate detection unit 8 and the temperature detection unit 28 described above are connected to a control unit 32 as control means via a transmission circuit.

また、制御部32には制御回路を介して上記した薬液注入装置5のダイヤフラムポンプ5b、水中ポンプ2、逆洗切替弁22、逆洗ポンプ24、逆洗排水弁33、及び洗浄排水弁34が接続されている。   In addition, the control unit 32 includes a diaphragm pump 5b, a submersible pump 2, a backwash switching valve 22, a backwash pump 24, a backwash drain valve 33, and a wash drain valve 34 through the control circuit. It is connected.

次に、上記した浄水装置の動作について説明する。   Next, operation | movement of an above-described water purifier is demonstrated.

(浄化運転)
浄化運転時には、制御部32により、水中ポンプ2が駆動され、井戸1の原水(井戸水)が汲み上げられる。この原水は通水管3を介してろ過槽6内に送られ、ろ過材11を通過する。これにより原水中に含まれる鉄やマンガンなどの不純成分が捕捉除去され、清澄な浄化水となってろ過槽6の内底部に至る。浄化された浄化水はフィルタ14を通して流出管15内に流出され、この流出管15を介して受水槽17に送られる。受水槽17内に収容された浄化水は給水管を介して給水設備(図示しない)に送られ、各種の用途に使用される。この浄化運転時には、ろ過槽6から流出管15に流出される浄化水の流量が流量検出部8によって検出され、その検出流量値に応じた注入比率で薬液が薬液注入装置5からろ過槽6内に注入される。
(Purification operation)
During the purification operation, the controller 32 drives the submersible pump 2 to pump up the raw water (well water) in the well 1. This raw water is sent into the filtration tank 6 through the water conduit 3 and passes through the filter medium 11. As a result, impure components such as iron and manganese contained in the raw water are captured and removed, and the purified water becomes clear and reaches the inner bottom of the filtration tank 6. The purified water that has been purified flows out into the outflow pipe 15 through the filter 14 and is sent to the water receiving tank 17 through the outflow pipe 15. The purified water accommodated in the water receiving tank 17 is sent to a water supply facility (not shown) through a water supply pipe and used for various purposes. During this purification operation, the flow rate of the purified water flowing out from the filtration tank 6 to the outflow pipe 15 is detected by the flow rate detection unit 8, and the chemical solution is fed from the chemical solution injection device 5 into the filtration tank 6 at an injection ratio corresponding to the detected flow rate value. Injected into.

この浄化運転が継続されると、ろ過材11に鉄やマンガンなどの不純成分が徐々に蓄積され、所定量以上蓄積されると、正常にろ過できなくなるため、浄化運転から逆洗運転に切替えられる。不純成分が所定量以上蓄積されたか否かの判断は、制御部32によって行なわれ、不純成分が所定量以上蓄積された場合には、浄化運転から逆洗運転に切替えられる。   If this purification operation is continued, impure components such as iron and manganese are gradually accumulated in the filter medium 11, and if a predetermined amount or more is accumulated, normal filtration cannot be performed, so the purification operation is switched to the backwash operation. . The control unit 32 determines whether or not the impure component is accumulated in a predetermined amount or more. When the impure component is accumulated in a predetermined amount or more, the purification operation is switched to the backwash operation.

(逆洗運転)
逆洗運転時には、制御手段32により水中ポンプ2の運転が停止され、逆洗切替弁22が切替り逆洗排水弁33が開放されて逆洗ポンプ24が運転される。この逆洗ポンプ24の運転により受水槽17内の浄化済みの清澄水が通水管23を介してろ過槽6に送られる。この清澄水は、フィルタ14を介してろ過槽6の内底部に噴出される。噴出された清澄水は、ろ過材11の下層から上層に向って流通して逆洗排水弁33から排出される。
(Backwash operation)
During the backwash operation, the operation of the submersible pump 2 is stopped by the control means 32, the backwash switching valve 22 is switched, the backwash drain valve 33 is opened, and the backwash pump 24 is operated. By the operation of the backwash pump 24, purified clarified water in the water receiving tank 17 is sent to the filtration tank 6 through the water conduit 23. This clarified water is ejected to the inner bottom portion of the filtration tank 6 through the filter 14. The jetted clear water flows from the lower layer of the filter medium 11 toward the upper layer and is discharged from the backwash drain valve 33.

この逆洗運転時には、清澄水が浄化運転時とは逆にろ過材11の下層から上層に向って逆流するように流通し、その清澄水でろ過材11がすすがれ、不純成分のほとんどが分離除去される。そして清澄水は、不純成分を含むことにより汚水となり、この汚水が逆洗排水弁33から捨て水として外部に排出され、所定の廃棄部に廃棄される。   At the time of this backwashing operation, the clarified water flows so as to flow backward from the lower layer to the upper layer of the filter medium 11 contrary to the case of the purification operation. Removed. The clarified water becomes sewage by containing impure components, and the sewage is discharged to the outside as waste water from the backwash drain valve 33 and discarded to a predetermined disposal unit.

この逆洗運転は、制御手段32による制御により所定時間行なわれて終了するが、この逆洗運転の直後には、ろ過槽6内に汚濁水が残留しているため、洗浄運転に切替えられる。   This backwash operation is completed for a predetermined time under the control of the control means 32, but immediately after this backwash operation, the polluted water remains in the filtration tank 6, so that the operation is switched to the wash operation.

(洗浄運転)
洗浄運転時には、制御手段32により逆洗ポンプ24の運転が停止されて洗浄排水弁34が開放され、水中ポンプ2が運転される。水中ポンプ2の駆動により井戸水が過槽6に送られる。この井戸水は、ろ過材11及びフィルタ14を介してろ過槽6の内底部に流されたのち、流出管15を介して洗浄排水弁34から排出される。
(Washing operation)
During the washing operation, the control means 32 stops the operation of the backwash pump 24, opens the washing drain valve 34, and operates the submersible pump 2. Well water is sent to the excess tank 6 by driving the submersible pump 2. The well water flows through the filter medium 11 and the filter 14 to the inner bottom portion of the filtration tank 6, and then is discharged from the cleaning drain valve 34 through the outflow pipe 15.

ところで、上記した浄水装置の制御系26には、時間計測部29、及び手動設定部30が設けられ、これら時間計測部29、及び手動設定部30は送信回路を介して制御部32に接続されている。   By the way, in the control system 26 of the above-described water purifier, a time measuring unit 29 and a manual setting unit 30 are provided, and the time measuring unit 29 and the manual setting unit 30 are connected to the control unit 32 via a transmission circuit. ing.

時間計測部29は薬液槽5a内への薬液の補充時からの経過時間を計測するもので、手動設定部30は薬液の注入比率を設定するものである。   The time measuring unit 29 measures the elapsed time from the time of replenishing the chemical solution into the chemical solution tank 5a, and the manual setting unit 30 sets the injection ratio of the chemical solution.

制御部32は、時間計測部29が一定時間を計測するごとに薬液の注入比率が増加するようにダイヤフラムポンプ5bの動作を制御するようになっている。   The control unit 32 controls the operation of the diaphragm pump 5b so that the injection ratio of the chemical solution increases every time the time measuring unit 29 measures a certain time.

また、制御部32は、注入比率を増加させるための初期設定時間を設定可能とするとともに(初期設定時間を固定値としてもよい)、その注入比率の初期値を設定する。   The control unit 32 can set an initial setting time for increasing the injection ratio (the initial setting time may be a fixed value), and sets an initial value of the injection ratio.

なお、制御部32は、原水の流量比例制御のために薬液の注入比率を設定する機能を有しており、この設定された注入比率によって増加すべき薬液の注入比率の増加間隔または増加率が異なってくる。   The control unit 32 has a function of setting the injection ratio of the chemical solution for the flow rate proportional control of the raw water, and an increase interval or an increase rate of the injection ratio of the chemical solution to be increased by the set injection ratio is set. Come different.

そこで、制御部32では、薬液の注入比率を増加するために設定した初期設定時間を、手動設定された注入比率で除算して得られる一定時間ごとに薬液の注入比率を増加するように制御するようになっている。   Therefore, the control unit 32 performs control so as to increase the injection ratio of the chemical solution every fixed time obtained by dividing the initial setting time set to increase the injection ratio of the chemical liquid by the injection ratio set manually. It is like that.

上記した浄化運転時には、薬液注入装置5から薬液がろ過槽6内に注入されるが、この薬液の注入比率は、薬液槽5a内への薬液補充時から一定時間ごとに増加されたものであるため、薬液槽5a内の薬液の濃度が時間経過にともなって低下した場合でも、ろ過槽6内の薬液の濃度を適正に維持でき、良好な浄水が可能となる。   During the purification operation described above, a chemical solution is injected into the filtration tank 6 from the chemical solution injection device 5, and the injection ratio of this chemical solution is increased at regular intervals since the chemical solution is replenished into the chemical solution tank 5a. Therefore, even when the concentration of the chemical solution in the chemical solution tank 5a decreases with the passage of time, the concentration of the chemical solution in the filtration tank 6 can be properly maintained, and good water purification becomes possible.

なお、上記した薬液槽5a内の薬液の濃度低下率は、気温≒液温により異なり、周囲温度が30℃以上でその濃度低下が顕著となるため、制御部32により、温度検出部28が検出した検出温度に基づいて一定温度(例えば30℃)以上の時間を積算計測して一定の積算時間ごとに薬液の注入比率を増加するように制御するようにしてもよい。   The concentration reduction rate of the chemical solution in the chemical solution tank 5a described above varies depending on the temperature ≈ the liquid temperature, and the concentration decrease becomes significant when the ambient temperature is 30 ° C. or higher. Therefore, the control unit 32 detects the temperature detection unit 28. Based on the detected temperature, it is also possible to control so as to increase the injection ratio of the chemical solution every predetermined integration time by integrating and measuring the time above a certain temperature (for example, 30 ° C.).

図3は、薬液注入比率を増加させる具体例を示すものである。   FIG. 3 shows a specific example in which the chemical injection ratio is increased.

この図3は、24×100/P時間前に、薬液注入比率Pを1%アップさせる場合を示している。   FIG. 3 shows a case where the chemical solution injection ratio P is increased by 1% 24 hours before 100 × P / P.

例えば、12%薬液の初期注入比率Pを50%に設定した場合には、流量検出部8とダイヤフラムポンプ5bの流量特性によって定まる希釈比率(原水流量に対するダイヤフラムポンプの流入流量)が1/2500と仮定すると、流入比率が100%で、12%×10000×1/2500=48mg/Lとなるため、注入比率が1%アップすると、「48×1/100=0.48mg/L」注入濃度がアップすることになる。   For example, when the initial injection ratio P of 12% chemical solution is set to 50%, the dilution ratio determined by the flow characteristics of the flow rate detector 8 and the diaphragm pump 5b (the inflow flow rate of the diaphragm pump with respect to the raw water flow rate) is 1/2500. Assuming that the inflow ratio is 100%, 12% × 10000 × 1/2500 = 48 mg / L. Therefore, when the injection ratio is increased by 1%, the injection concentration of “48 × 1/100 = 0.48 mg / L” is Will be up.

一方、制御部32により、薬液の注入比率が増加された回数を計測し、計測回数が所定回数以上になった場合には、注入比率の増加(温度補償)を停止するようにしてもよい。さらに、薬液槽5a内の薬液が渇水したことを検出するか、または、手動設定部30で注入比率が設定されるのに基づいて注入比率を元の初期設定値に戻すとともに、積算時間をリセットしてリセット毎に経過時間を再度、積算計測して注入比率の増加可能な上限値を設定するようにしてもよい。これにより、過剰に注入比率を増加させることがなく、次の薬液補充までの期間において、残留塩素濃度を適正に維持することが可能となる。   On the other hand, the controller 32 may measure the number of times that the injection ratio of the chemical solution has been increased, and stop the increase in injection ratio (temperature compensation) when the number of times of measurement reaches a predetermined number or more. Further, it is detected that the chemical solution in the chemical solution tank 5a is drowned, or the injection ratio is reset to the original initial setting value based on the injection ratio set by the manual setting unit 30, and the integration time is reset. Then, the elapsed time may be integrated and measured again every reset, and an upper limit value at which the injection ratio can be increased may be set. As a result, the residual chlorine concentration can be properly maintained during the period until the next chemical solution replenishment without excessively increasing the injection ratio.

図4は本発明の第2の実施の形態である浄水装置を示すものである。   FIG. 4 shows the water purifier which is the 2nd Embodiment of this invention.

なお、上記した第1の実施の形態で説明した部分と同一部分については、同一番号を付してその詳細な説明は省略する。   The same parts as those described in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

井戸1には投入された水中ポンプ2の吐出口2aには通水管103a,103b,103cを介してろ過槽106が接続されている。通水管103aの中途部には原水の流量を検出する流量検出部108、及び薬品注入手段としての薬液注入装置105が設けられている。薬液注入装置105は、薬液を収容する薬液槽105aと、この薬液槽105a内の薬液を通水管103aに注入するダイヤフラムポンプ105bを備えている。また、薬液注入装置5の近傍には外気温度を検出する温度検出部128が設けられている。   A filtration tank 106 is connected to the discharge port 2a of the submersible pump 2 supplied to the well 1 through water pipes 103a, 103b, 103c. A flow rate detection unit 108 that detects the flow rate of raw water and a chemical solution injection device 105 as a chemical injection unit are provided in the middle of the water conduit 103a. The chemical solution injector 105 includes a chemical solution tank 105a that stores the chemical solution, and a diaphragm pump 105b that injects the chemical solution in the chemical solution tank 105a into the water pipe 103a. Further, a temperature detector 128 that detects the outside air temperature is provided in the vicinity of the chemical liquid injector 5.

また、上記した通水管103bと通水管103cとの間には逆洗排水弁133が設けられている。ろ過槽106の側壁には給水管115a,115b,115cが接続され、給水管115cの中途部には、洗浄排水弁134が設けられている。   A backwash drain valve 133 is provided between the water pipe 103b and the water pipe 103c. Water supply pipes 115a, 115b, and 115c are connected to the side wall of the filtration tank 106, and a cleaning drain valve 134 is provided in the middle of the water supply pipe 115c.

ろ過槽106の内部にはアンスラサイトやろ過砂、表面に二酸化マンガンをコーティングしたセラミック製のろ過砂などのろ過材111が一定の高さの層をなして収容されている。さらに、ろ過槽106内の下部側には、スリット状の孔を有する樹脂製のフィルタ114が設けられている。   A filter medium 111 such as anthracite, filter sand, ceramic filter sand coated with manganese dioxide on the surface, and the like is accommodated in the filter tank 106 in a layer of a certain height. Furthermore, a resin filter 114 having slit-like holes is provided on the lower side in the filtration tank 106.

次に、上記した浄水装置の動作について説明する。   Next, operation | movement of an above-described water purifier is demonstrated.

(浄化運転)
浄化運転時には、制御部32により、水中ポンプ2が駆動され、井戸1の原水(井戸水)が汲み上げられる。この原水は通水管103a,103b,103cを介してろ過槽6内に送られ、ろ過材111を通過する。これにより原水中に含まれる鉄やマンガンなどの不純成分が捕捉除去され、清澄な浄化水となってろ過槽106の内底部に至る。浄化された浄化水はフィルタ114を通して流出され、給水管115a,115b,115cを介して給水設備(図示しない)に送られ、各種の用途に使用される。
(Purification operation)
During the purification operation, the controller 32 drives the submersible pump 2 to pump up the raw water (well water) in the well 1. This raw water is sent into the filtration tank 6 through the water pipes 103a, 103b, and 103c, and passes through the filter medium 111. As a result, impure components such as iron and manganese contained in the raw water are captured and removed, and the purified water becomes clear and reaches the inner bottom of the filtration tank 106. The purified water that has been purified flows out through the filter 114, is sent to a water supply facility (not shown) via the water supply pipes 115a, 115b, and 115c, and is used for various applications.

この浄化運転時には、通水管103aを流れる原水の流量が流量検出部108によって検出され、その検出流量値に応じて薬液が薬液注入装置5から通水管103に送られろ過槽6内に注入される。   During this purification operation, the flow rate of the raw water flowing through the water conduit 103a is detected by the flow rate detector 108, and the chemical solution is sent from the chemical solution injector 5 to the water conduit 103 and injected into the filtration tank 6 according to the detected flow rate value. .

この浄化運転が継続されると、ろ過材111に鉄やマンガンなどの不純成分が徐々に蓄積され、所定量以上蓄積されると、正常にろ過できなくなるため、浄化運転から逆洗運転に切替えられる。不純成分が所定量以上蓄積されたか否かの判断は、制御部32によって行なわれ、不純成分が所定量以上蓄積された場合には、浄化運転から逆洗運転に切替えられる。   If this purification operation is continued, impure components such as iron and manganese are gradually accumulated in the filter medium 111, and if a predetermined amount or more is accumulated, normal filtration cannot be performed, so the purification operation is switched to the backwash operation. . The control unit 32 determines whether or not the impure component is accumulated in a predetermined amount or more. When the impure component is accumulated in a predetermined amount or more, the purification operation is switched to the backwash operation.

(逆洗運転)
逆洗運転時には、制御部32により水中ポンプ2が運転され、原水が通水管103a,逆洗切替弁122、給水管115aを介してろ過槽106に送られる。この原水は、フィルタ114を介してろ過槽6の内底部に噴出される。噴出された清澄水は、ろ過材111の下層から上層に向って流通して通水管103c、及び逆洗排水弁133を介して排水される。
(Backwash operation)
During the backwash operation, the submersible pump 2 is operated by the control unit 32, and the raw water is sent to the filtration tank 106 through the water pipe 103a, the backwash switching valve 122, and the water supply pipe 115a. This raw water is jetted to the inner bottom of the filtration tank 6 through the filter 114. The jetted clear water flows from the lower layer of the filter medium 111 toward the upper layer and is drained through the water conduit 103 c and the backwash drain valve 133.

この逆洗運転時には、原水が浄化運転時とは逆にろ過材111の下層から上層に向って逆流するように流通し、その原水でろ過材111がすすがれ、不純成分のほとんどが分離除去される。そして、この不純成分を含んだ原水は逆洗排水弁133から捨て水として外部に排出され、所定の廃棄部に廃棄される。   At the time of this backwash operation, the raw water is circulated so as to flow backward from the lower layer to the upper layer of the filter medium 111, and the filter medium 111 is rinsed with the raw water, and most of the impure components are separated and removed. The Then, the raw water containing the impure component is discharged to the outside as waste water from the backwash drain valve 133 and discarded to a predetermined disposal unit.

この逆洗運転は、所定時間行なわれて終了するが、この逆洗運転の直後には、ろ過槽106内に汚濁水が残留しているため、洗浄運転に切替えられる。   This backwash operation is completed after a predetermined time. However, immediately after the backwash operation, since contaminated water remains in the filter tank 106, the backwash operation is switched to the wash operation.

(洗浄運転)
洗浄運転時には、水中ポンプ2が運転されて井戸水が通水管103a,103b,103cを介してろ過槽6に送られる。この井戸水は、ろ過材111、フィルタ14を介してろ過槽6の内底部に流されたのち、給水管115a、逆洗切替弁122、給水管115b,115cを介して洗浄排水弁134から排出される。
(Washing operation)
During the washing operation, the submersible pump 2 is operated and well water is sent to the filtration tank 6 through the water pipes 103a, 103b, 103c. The well water is flowed to the inner bottom of the filtration tank 6 through the filter medium 111 and the filter 14, and then discharged from the washing drain valve 134 through the water supply pipe 115a, the backwash switching valve 122, and the water supply pipes 115b and 115c. The

この第2の実施の形態では、薬液注入装置105が制御部132を備え、この制御部132が上記した第1の実施の形態における制御部32と同様の制御機能を有している。   In the second embodiment, the chemical liquid injector 105 includes a control unit 132, and the control unit 132 has a control function similar to that of the control unit 32 in the first embodiment described above.

即ち、制御部132は、計測部29が一定時間を計測するごとに薬液の注入比率が増加するようにダイヤフラムポンプ105bの動作を制御するようになっている。   That is, the control unit 132 controls the operation of the diaphragm pump 105b so that the injection ratio of the chemical solution increases every time the measuring unit 29 measures a certain time.

また、制御部132は、温度検出部128が検出した検出温度に基づいて一定温度(例えば30℃)以上の時間を積算計測して一定の積算時間ごとに薬液の注入比率を増加するように制御するようにしてもよい。   Further, the control unit 132 performs control so as to integrate and measure a time equal to or higher than a certain temperature (for example, 30 ° C.) based on the detected temperature detected by the temperature detecting unit 128 and to increase the injection ratio of the chemical solution every certain accumulated time. You may make it do.

さらに、制御部132は、薬液の注入比率が増加された回数を計測し、計測回数が所定回数以上になった場合には、注入比率の増加(温度補償)を停止するようにしてもよい。さらに、薬液槽105a内の薬液が渇水したことを検出するか、または、手動設定部30で注入比率が設定された場合には、注入比率を元の初期設定値に戻すとともに、積算時間をリセットして、リセット毎に経過時間を再度、積算計測して注入比率の増加可能な上限値を設定するようにしてもよい。   Further, the control unit 132 may measure the number of times that the injection ratio of the chemical solution has been increased, and stop the increase in the injection ratio (temperature compensation) when the number of times of measurement becomes a predetermined number or more. Furthermore, when it is detected that the chemical solution in the chemical solution tank 105a has been drowned or when the injection ratio is set by the manual setting unit 30, the injection ratio is returned to the original initial set value and the accumulated time is reset. Then, the elapsed time may be integrated and measured again every reset, and an upper limit value at which the injection ratio can be increased may be set.

この第2の実施の形態によっても、上記した第1の実施の形態と同様な作用効果を奏する。   This second embodiment also provides the same operational effects as the first embodiment described above.

なお、この発明は、上述した実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上述した実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、上述した実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除しても良い。更に、異なる実施の形態に亘る構成要素を適宜組み合わせても良い。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. Various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the above-described embodiments. For example, you may delete some components from all the components shown by embodiment mentioned above. Furthermore, you may combine the component covering different embodiment suitably.

本発明の第1の実施の形態である浄水装置を示す概略的構成図。The schematic block diagram which shows the water purifier which is the 1st Embodiment of this invention. 図1の浄水装置の制御系を示すブロック図。The block diagram which shows the control system of the water purifier of FIG. 薬液の注入比率を一定時間ごとに増加させる具体例を示す図。The figure which shows the specific example which increases the injection ratio of a chemical | medical solution for every fixed time. 本発明の第2の実施の形態である浄水装置を示す概略的構成図。The schematic block diagram which shows the water purifier which is the 2nd Embodiment of this invention.

2…水中ポンプ(原水ポンプ)、5…薬液注入装置(薬液注入手段)、5a…薬液槽、5
b…注入ポンプ(注入ポンプ)、6…ろ過槽、8…流量検出部、28…温度検出部、29
…時間計測部、30…手動設定部、32…制御部(制御手段)。
2 ... Submersible pump (raw water pump), 5 ... Chemical solution injection device (chemical solution injection means), 5a ... Chemical solution tank, 5
b ... infusion pump (infusion pump), 6 ... filtration tank, 8 ... flow rate detector, 28 ... temperature detector, 29
... time measuring part, 30 ... manual setting part, 32 ... control part (control means).

Claims (6)

原水を供給する原水ポンプと、
この原水ポンプによって供給される原水を流入させて前記原水に含まれる不純物を除去するろ過槽と、
薬液を収容する薬液槽を有し、この薬液槽から前記ろ過槽内に薬液を注入する薬液注入手段と、
前記薬液槽への薬液の補充時からの経過時間を計測する時間計測部と、
この時間計測部が一定時間を計測するごとに前記薬液の注入比率を増加するように制御
する制御手段と
を具備することを特徴とする浄水装置。
A raw water pump for supplying raw water;
A filtration tank for removing impurities contained in the raw water by flowing in the raw water supplied by the raw water pump;
A chemical solution injecting means for injecting the chemical solution from the chemical solution tank into the filtration tank,
A time measuring unit for measuring an elapsed time from replenishment of the chemical solution to the chemical solution tank;
A water purifier comprising: a control unit configured to control the time measurement unit to increase the injection ratio of the chemical solution every time a predetermined time is measured.
前記薬液の温度を検出する温度検出部を備え、
前記制御手段は、前記温度検出部によって検出される一定温度以上の時間を積算計測
し、一定の積算時間ごとに前記薬液の注入比率を増加するように制御することを特徴と
する請求項1記載の浄水装置。
A temperature detection unit for detecting the temperature of the chemical solution;
2. The control unit according to claim 1, wherein the control unit performs integrated measurement of time equal to or higher than a predetermined temperature detected by the temperature detection unit, and performs control so as to increase the injection ratio of the chemical solution every fixed integration time. Water purification equipment.
前記薬液の注入比率を設定する手動設定部を備え、
前記制御手段は、前記薬液の注入比率を増加させるための初期設定時間及び初期注入比率を設定し、前記初期設定時間を前記手動設定部で設定された薬液の注入比率で除算して得られる一定時間ごとに前記薬液の注入比率を増加するように制御することを特徴とする請求項1または2記載の浄水装置。
A manual setting unit for setting the injection ratio of the chemical solution;
The control means sets an initial setting time and an initial injection ratio for increasing the injection ratio of the chemical solution, and is obtained by dividing the initial setting time by the injection ratio of the chemical solution set by the manual setting unit. 3. The water purifier according to claim 1, wherein the water purifier is controlled so as to increase the injection ratio of the chemical solution every time.
前記制御手段は、前記薬液の注入比率が増加された回数を計測し、所定回数以上を計数
するのに基づいて前記注入比率の増加を停止するように制御することを特徴とする請求項
1乃至3のいずれか一項に記載の浄水装置。
The control means measures the number of times the injection ratio of the chemical solution has been increased and controls to stop the increase of the injection ratio based on counting a predetermined number of times or more. The water purifier according to any one of 3.
前記制御手段は前記薬液の残量がないことを検出し、または、前記手動設定部で薬液
の注入比率が変更されるのに基づいて増加される薬液の注入比率を元の初期設定値に戻す
とともに、積算時間をリセットすることを特徴とする請求項3または4のいずれか一項に
記載の浄水装置。
The control means detects that there is no remaining amount of the chemical liquid, or returns the chemical liquid injection ratio that is increased based on the change of the chemical liquid injection ratio in the manual setting unit to the original initial setting value. In addition, the integrated time is reset, and the water purifier according to any one of claims 3 and 4.
原水ポンプによって原水を供給し、
前記原水ポンプによって供給される原水をろ過槽内に流入させて前記原水に含まれる不純物を除去し、
前記ろ過槽内に薬液注入手段により薬液槽内から薬液を注入し、
前記薬液槽への薬液の補充時からの経過時間を計測し、一定時間ごとに前記薬液の注入
比率を増加するように制御することを特徴とする浄水方法。
The raw water is supplied by the raw water pump,
Removing the impurities contained in the raw water by flowing the raw water supplied by the raw water pump into the filtration tank;
Injecting the chemical solution from the chemical solution tank by the chemical solution injection means into the filtration tank,
A water purification method characterized by measuring an elapsed time from the time of replenishment of the chemical solution to the chemical solution tank and controlling to increase the injection ratio of the chemical solution at regular time intervals.
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