JP2010147179A - Organic electroluminescent element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent element exhibiting less change in hue in response to a change in a voltage applied to an electrode, and having high durability and excellent luminous performance. <P>SOLUTION: The organic electroluminescent element includes: an anode; a cathode; a multilayer luminous part arranged between the anode and the cathode and including a plurality of stacked luminous layers, each of which emits light with a peak wavelength different from one another and which are arranged such that a luminous layer emitting light with a longer peak wavelength is positioned closer to the anode; a support substrate on which a laminate including the anode, the cathode and the multilayer luminous part are mounted; a sealing substrate facing the support substrate and sandwiching the laminate; and a heat dissipation layer arranged on at least one principal surface of the support substrate or at least one principal surface of the sealing substrate, and having a thermal emissivity of 0.70 or more. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子という場合がある)面状光源、照明装置、および表示装置に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence element (hereinafter sometimes referred to as an organic EL element) planar light source, an illumination device, and a display device.

有機EL素子は、主たる構成として、陽極、陰極、およびこれら一対の電極に挟まれた発光部を備える。発光部は有機化合物で形成されており、電極間に電圧を印加することによって発光部が発光する。例えば、複数の種類の色素を分散させた白色発光層のみからなる発光部を備え、白色光を発光する有機EL素子が開示されている(例えば特許文献1参照)。   The organic EL element mainly includes an anode, a cathode, and a light emitting unit sandwiched between the pair of electrodes. The light emitting portion is formed of an organic compound, and the light emitting portion emits light when a voltage is applied between the electrodes. For example, an organic EL element that includes a light-emitting portion that includes only a white light-emitting layer in which a plurality of types of pigments are dispersed and emits white light is disclosed (for example, see Patent Document 1).

電力が供給されて有機EL素子が発光する際には、供給される電力の一部がジュール熱などにより熱エネルギーに変換され、有機EL素子が発熱する。有機EL素子は、駆動時の温度が高くなるほど素子の寿命が短くなる傾向があり、駆動時の高温化は、輝度などの発光特性の低下や、有機EL素子自体の劣化を引き起こす要因の1つと考えられている。有機EL素子を備える装置として実用化が望まれている照明装置などは、特に、有機EL素子を高輝度で駆動させる必要があるために、発熱量が多くなるので、装置に生じた熱をいかにして装置外に放出するかという点が重要な課題となっている。そのため、有機EL素子に生じた熱を素子外に放熱する方策が種々検討されている。放熱性を改善する手法として、一部の部材に熱伝導性の高い材料を採用することが提案されている(例えば、特許文献2など)。また有機EL素子の内部構造中の一部に放熱膜を設けることが提案されている(例えば、特許文献3など)。   When electric power is supplied and the organic EL element emits light, part of the supplied electric power is converted into thermal energy by Joule heat or the like, and the organic EL element generates heat. The organic EL element tends to have a shorter lifetime as the temperature during driving increases, and the high temperature during driving is one of the factors that cause deterioration in light emission characteristics such as luminance and deterioration of the organic EL element itself. It is considered. Lighting devices that are expected to be put into practical use as devices equipped with organic EL elements, in particular, need to drive the organic EL elements with high brightness, and therefore generate a large amount of heat. Thus, it is an important issue to determine whether or not to discharge outside the apparatus. For this reason, various measures for dissipating heat generated in the organic EL element to the outside of the element have been studied. As a technique for improving heat dissipation, it has been proposed to employ a material having high thermal conductivity for some members (for example, Patent Document 2). In addition, it has been proposed to provide a heat dissipation film in a part of the internal structure of the organic EL element (for example, Patent Document 3).

特開平07−220871号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-220871 特開2004−186045号公報JP 2004-186045 A 特開2006−244847号公報JP 2006-244847 A

有機EL素子においては、さらに発光性能を向上させることが要求されている。従来の技術の有機EL素子では、印加する電圧の変化に対する色味の変化が大きいという指摘がある。例えば有機EL素子を照明装置に用いた場合には、明るさに応じて照明の色味が変化し、また例えば有機EL素子を液晶表示装置のバックライトに用いた場合には、表現される画像情報の色味が輝度に応じて変化するために、表示品質が悪くなるという問題が生じる。このため印加する電圧の変化に対する色味の変化の少ない有機EL素子が求められている。このような色味の変化が大きくなるという問題に加えて、発光効率を高めるための改善は、常に有機EL素子の開発に求められている。さらに、有機EL素子に対しては、長時間、高輝度での使用にも耐える耐久性向上の要望も強い。耐久性向上を実現するための一つの手段として、有機EL素子が発する熱を装置外に効率よく放出することが求められる。   In the organic EL element, it is required to further improve the light emission performance. It has been pointed out that the organic EL element of the prior art has a large change in color with respect to a change in applied voltage. For example, when an organic EL element is used in an illumination device, the color of illumination changes according to the brightness. For example, when an organic EL element is used in a backlight of a liquid crystal display device, an image that is expressed Since the color of information changes according to luminance, there arises a problem that display quality is deteriorated. For this reason, there is a demand for an organic EL element that has little change in color with respect to a change in applied voltage. In addition to such a problem that the color change becomes large, improvement for increasing the light emission efficiency is always required for the development of organic EL elements. Furthermore, there is a strong demand for improving the durability of the organic EL element that can withstand use at high brightness for a long time. As one means for improving durability, it is required to efficiently release the heat generated by the organic EL element to the outside of the apparatus.

本発明は、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化の少なく、かつ耐久性の高い、発光性能の優れた有機EL素子を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide an organic EL element that has little change in color with respect to a change in voltage applied to an electrode, high durability, and excellent light emitting performance.

本発明は、上記課題を解決するために、下記構成を有する有機EL素子およびこれを実装する装置を提供する。
〔1〕陽極と、
陰極と、
前記陽極および陰極の間において、発光する光のピーク波長のより長い発光層ほど前記陽極により近い位置に配置されている複数の発光層が積層されて成る複層発光部と、
前記陽極、前記陰極および前記複層発光部を含む積層体が搭載される支持基板と、
該支持基板と対向して配置され、前記支持基板とともに前記積層体を挟む封止基板と、
前記支持基板の少なくとも一方の主面、または、前記封止基板の少なくとも一方の主面に配置され、かつ熱放射率が0.70以上である放熱層と、
を備える有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔2〕前記複層発光部が、赤色の光を発する発光層と、緑色の光を発する発光層と、青色の光を発する発光層との3層からなる、上記〔1〕記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔3〕発光層が、発光性高分子有機化合物を含む層である、上記〔1〕または〔2〕記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔4〕陽極と陰極との間に印加する電圧を変化させたときの、外に取出される光の色度座標における座標値xと、座標値yとの変化の幅が、それぞれ0.05以下である、上記〔1〕から〔3〕のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔5〕前記放熱層の熱放射率が0.85以上である、上記〔1〕から〔4〕のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔6〕前記放熱層の熱伝導率が1W/mK以上である、上記〔1〕から〔5〕のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔7〕前記放熱層の熱伝導率が200W/mK以上である、上記〔1〕から〔6〕のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔8〕前記放熱層が、黒色系材料を含む、上記〔1〕から〔7〕のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔9〕前記放熱層が、高熱伝導性層と黒色系材料層とを含む積層構造を有する、上記〔8〕に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔10〕前記高熱伝導性層が、アルミニウム、銅、銀、セラミックス材料、およびこれらから選ばれる2種以上の合金からなる群より選ばれる無機材料、または高熱伝導性の樹脂で形成されてなる、上記〔9〕に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔11〕前記支持基板がガラス基板であり、当該ガラス基板の少なくとも一方の主面に、前記放熱層が設けられる、上記〔1〕から〔10〕のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔12〕前記ガラス基板の前記積層体が搭載される主面とは反対側の主面に、前記放熱層が設けられる、上記〔11〕に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔13〕前記ガラス基板の両主面に、前記放熱層が設けられる、上記〔13〕に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔14〕前記ガラス基板の前記積層体が搭載される主面とは反対側の主面に前記放熱層が設けられ、かつ、前記ガラス基板の前記積層体側の主面に高熱伝導性層が設けられる、上記〔11〕に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔15〕前記封止基板がガラス基板であり、当該ガラス基板の少なくとも一方の主面に、前記放熱層が設けられる、上記〔1〕から〔14〕のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
〔16〕上記〔1〕から〔15〕のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える面状光源。
〔17〕上記〔1〕から〔15〕のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える照明装置。
〔18〕上記〔1〕から〔15〕のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える表示装置。
In order to solve the above problems, the present invention provides an organic EL element having the following configuration and an apparatus for mounting the organic EL element.
[1] an anode,
A cathode,
Between the anode and the cathode, a multi-layer light emitting part formed by laminating a plurality of light emitting layers disposed closer to the anode as the light emitting layer having a longer peak wavelength of emitted light;
A support substrate on which a laminate including the anode, the cathode, and the multilayer light emitting unit is mounted;
A sealing substrate disposed opposite to the support substrate and sandwiching the laminate together with the support substrate;
A heat dissipating layer disposed on at least one main surface of the support substrate or at least one main surface of the sealing substrate and having a thermal emissivity of 0.70 or more;
An organic electroluminescence device comprising:
[2] The organic electroluminescence device according to [1], wherein the multi-layer light emitting section includes three layers of a light emitting layer that emits red light, a light emitting layer that emits green light, and a light emitting layer that emits blue light. Luminescence element.
[3] The organic electroluminescence device according to [1] or [2], wherein the light emitting layer is a layer containing a light emitting polymer organic compound.
[4] When the voltage applied between the anode and the cathode is changed, the width of the change between the coordinate value x and the coordinate value y in the chromaticity coordinates of the light extracted outside is 0.05 respectively. The organic electroluminescence device according to any one of [1] to [3], which is the following.
[5] The organic electroluminescent element according to any one of [1] to [4], wherein the heat emissivity of the heat dissipation layer is 0.85 or more.
[6] The organic electroluminescent element according to any one of [1] to [5], wherein the heat dissipation layer has a thermal conductivity of 1 W / mK or more.
[7] The organic electroluminescent element according to any one of [1] to [6], wherein the heat dissipation layer has a thermal conductivity of 200 W / mK or more.
[8] The organic electroluminescent element according to any one of [1] to [7], wherein the heat dissipation layer includes a black material.
[9] The organic electroluminescent element according to the above [8], wherein the heat dissipation layer has a laminated structure including a high thermal conductivity layer and a black material layer.
[10] The high thermal conductivity layer is formed of aluminum, copper, silver, a ceramic material, and an inorganic material selected from the group consisting of two or more alloys selected from these, or a high thermal conductivity resin. The organic electroluminescent element according to [9] above.
[11] The organic electroluminescence element according to any one of [1] to [10], wherein the support substrate is a glass substrate, and the heat dissipation layer is provided on at least one main surface of the glass substrate. .
[12] The organic electroluminescence element according to [11], wherein the heat dissipation layer is provided on a main surface of the glass substrate opposite to a main surface on which the stacked body is mounted.
[13] The organic electroluminescence element according to [13], wherein the heat dissipation layer is provided on both main surfaces of the glass substrate.
[14] The heat dissipation layer is provided on the main surface of the glass substrate opposite to the main surface on which the laminate is mounted, and the high thermal conductivity layer is provided on the main surface of the glass substrate on the laminate side. The organic electroluminescence device according to [11] above.
[15] The organic electroluminescence according to any one of [1] to [14], wherein the sealing substrate is a glass substrate, and the heat dissipation layer is provided on at least one main surface of the glass substrate. element.
[16] A planar light source comprising the organic electroluminescence device according to any one of [1] to [15].
[17] An illumination device comprising the organic electroluminescence element according to any one of [1] to [15].
[18] A display device comprising the organic electroluminescence element according to any one of [1] to [15].

本発明によれば、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化の少なく、かつ、放熱性に優れ、耐久性の高い、有機EL素子およびこれを実装した装置が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the organic EL element which has little change of color with respect to the change of the voltage applied to an electrode, is excellent in heat dissipation, and is durable, and an apparatus which mounted this are provided.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお理解の容易のため、図面における各部材の縮尺は実際のものとは異なる場合がある。また本発明は以下の記述によって限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。有機EL装置においては電極のリード線等の部材も存在するが、本発明の説明にあっては、これらの部材は直接的に要しないため記載を省略している。層構造等の説明の便宜上、下記に示す例においては基板を下に配置した図と共に説明がなされるが、本発明の有機EL素子およびこれを搭載した有機EL装置は、必ずしもこの配置で製造または使用等がなされるわけではない。なお以下の説明において基板の厚み方向の一方を上または上方といい、厚み方向の他方を下または下方という場合がある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. For ease of understanding, the scale of each member in the drawing may be different from the actual one. The present invention is not limited to the following description, and can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. In the organic EL device, there are members such as electrode lead wires. However, in the explanation of the present invention, these members are omitted because they are not required directly. For convenience of explanation of the layer structure and the like, in the example shown below, the explanation will be made with the figure in which the substrate is arranged below. However, the organic EL element of the present invention and the organic EL device equipped with the element are not necessarily manufactured or manufactured in this arrangement. It is not used. In the following description, one of the substrate in the thickness direction may be referred to as “up” or “up”, and the other in the thickness direction may be referred to as “down” or “down”.

1.本発明の有機EL素子
本発明の有機EL素子は、陽極と、陰極と、複層発光部と、支持基板と、封止基板と、放熱層とを備える。複層発光部は、陽極および陰極の間に配置され、互いに異なるピーク波長の光を発光する複数の発光層が積層されて成り、各発光層は、ピーク波長のより長い発光層ほど前陽極により近い位置に配置されている。また支持基板には、陽極、陰極および複層発光部を含む積層体(以下、「陽極、陰極および複層発光部を含む積層体」を単に「発光機能部」という場合がある)が搭載されている。封止基板は、支持基板と対向して配置され、前記支持基板とともに前記発光機能部を挟んでいる。放熱層は、支持基板の少なくとも一方の主面、または、前記封止基板の少なくとも一方の主面に設けられており、放熱層の熱放射率は0.70以上である。
1. Organic EL Device of the Present Invention The organic EL device of the present invention includes an anode, a cathode, a multilayer light emitting unit, a support substrate, a sealing substrate, and a heat dissipation layer. The multi-layer light emitting part is disposed between the anode and the cathode, and is formed by laminating a plurality of light emitting layers that emit light having different peak wavelengths, and each light emitting layer has a longer peak wavelength by the front anode. It is arranged at a close position. In addition, a laminated body including an anode, a cathode, and a multilayer light emitting part (hereinafter, “a laminated body including an anode, a cathode, and a multilayer light emitting part” may be simply referred to as “light emitting function part”) is mounted on the support substrate. ing. The sealing substrate is disposed to face the support substrate, and sandwiches the light emitting function part together with the support substrate. The heat dissipation layer is provided on at least one main surface of the support substrate or at least one main surface of the sealing substrate, and the heat emissivity of the heat dissipation layer is 0.70 or more.

本発明の有機EL素子は、複数の発光層を含む複層発光部を有し、ピーク波長のより長い発光層ほど陽極により近い位置に配置されているため、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化が少なく、また発光効率の高い有機EL素子を実現することができる。さらに、0.70以上の熱放射率を備える放熱層が、設けられているため、放熱性に優れており、耐久性が向上する。これにより素子の長寿命化を実現することが可能である。そのため、本発明の有機EL素子は、電気的特性および耐久性という点において発光性能に優れており、照明装置、面状光源および表示装置のバックライトなどに好適に用いることができる。   The organic EL device of the present invention has a multi-layer light emitting portion including a plurality of light emitting layers, and the light emitting layer having a longer peak wavelength is disposed closer to the anode, so that the voltage applied to the electrode can be changed. Thus, an organic EL element with little color change and high luminous efficiency can be realized. Furthermore, since the heat dissipation layer having a thermal emissivity of 0.70 or more is provided, the heat dissipation is excellent and the durability is improved. Thereby, it is possible to extend the life of the element. Therefore, the organic EL element of the present invention is excellent in light emission performance in terms of electrical characteristics and durability, and can be suitably used for lighting devices, planar light sources, display device backlights, and the like.

<有機EL素子の第1の実施形態>
図1を参照しつつ、有機EL素子の第1の実施形態およびその変形例について説明する。図1は、有機EL素子の第1の実施形態を示す断面図である。
<First Embodiment of Organic EL Element>
A first embodiment of an organic EL element and its modification will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of an organic EL element.

<1.基板>
有機EL素子1を構成する基板として、支持基板10と封止基板30がある。支持基板10は、その一方の主面に、発光機能部20が搭載されている。封止基板30は支持基板10上の発光機能部20を覆い、素子を封止する。図1に示すように、封止基板30と支持基板10とは接着部40によって張り合わされている。
<1. Substrate>
As a substrate constituting the organic EL element 1, there are a support substrate 10 and a sealing substrate 30. The support substrate 10 has the light emitting function unit 20 mounted on one main surface thereof. The sealing substrate 30 covers the light emitting functional unit 20 on the support substrate 10 and seals the element. As shown in FIG. 1, the sealing substrate 30 and the support substrate 10 are bonded together by an adhesive portion 40.

支持基板10は、発光機能部20を搭載できる領域を有する平面状の基板である。本明細書では、平板状または薄膜状(フィルム状)の基板が有する2つの主たる平面をそれぞれ主面という。支持基板10は、リジッド基板でも、フレキシブル基板でもよい。支持基板10を構成する材料としては、発光機能部20を形成する際に変性し難いものが好ましく、例えば、ガラス、プラスチック、高分子フィルム、シリコン板、金属板、これらを積層したものなどが挙げられる。さらに、プラスチック、高分子フィルムなどに低透水化処理を施したものを用いてもよい。また、支持基板10は市販のものが使用可能であり、あるいは、公知の方法によって製造することもできる。   The support substrate 10 is a planar substrate having a region where the light emitting function unit 20 can be mounted. In the present specification, two main planes of a flat plate or thin film (film) substrate are referred to as main surfaces. The support substrate 10 may be a rigid substrate or a flexible substrate. The material constituting the support substrate 10 is preferably a material that is not easily denatured when the light emitting function part 20 is formed. Examples thereof include glass, plastic, polymer film, silicon plate, metal plate, and a laminate of these. It is done. Further, a plastic, a polymer film or the like that has been subjected to a low water permeability treatment may be used. Moreover, the support substrate 10 can use a commercially available thing, or can also manufacture it by a well-known method.

封止基板30の形状は、支持基板10と貼り合わせて、発光機能部20を封止できるものであればよく、図1に示すように平板状であってもよいし、発光機能部20を収容するザグリが表面部に形成された板状の基板を用いてもよい(不図示)。図1に示す例では、封止基板30と発光機能部20との間は空隙となっているが、この空隙に樹脂などの充填材を設けてもよい。封止基板30は、リジッド基板でも、フレキシブル基板でもよい。封止基板30は、発光機能部を保護する役割を担う。上記支持基板10について例示した例と同様のものを採用してよい。   The shape of the sealing substrate 30 is not particularly limited as long as it can be bonded to the support substrate 10 to seal the light emitting function unit 20, and may be flat as shown in FIG. You may use the plate-shaped board | substrate with which the counterbore to accommodate was formed in the surface part (not shown). In the example shown in FIG. 1, a gap is formed between the sealing substrate 30 and the light emitting function unit 20. However, a filler such as a resin may be provided in the gap. The sealing substrate 30 may be a rigid substrate or a flexible substrate. The sealing substrate 30 plays a role of protecting the light emitting function unit. The same thing as the example illustrated about the said support substrate 10 may be employ | adopted.

基板を構成する材料となり得るものとしては、上記のような材料が挙げられるが、取り扱いの容易さなどの観点からはガラスが好適である。その反面、ガラスは熱放射性が低い材料である。以下に詳説するとおり、本発明は放熱性に優れた構成を採用しており、ガラスなどの熱放射性が低い材料を基板に用いた場合に放熱性が低下するという課題を克服することができる。   Examples of materials that can constitute the substrate include the materials described above, and glass is preferable from the viewpoint of ease of handling. On the other hand, glass is a material with low thermal radiation. As described in detail below, the present invention adopts a configuration excellent in heat dissipation, and can overcome the problem that heat dissipation decreases when a material having low heat radiation such as glass is used for the substrate.

<1.2.発光機能部>
発光機能部20は、陽極21、陰極22およびこれらの間に位置する複層発光部23を備える。発光機能部20には、さらに任意の層を付加して設けてもよい。
<1.2. Light emitting function>
The light emitting function unit 20 includes an anode 21, a cathode 22, and a multilayer light emitting unit 23 positioned therebetween. An arbitrary layer may be further added to the light emitting function unit 20.

<A>複層発光部
複層発光部23は、複数の発光層を含み、好ましくは3層以上の発光層を含む。図1に示す本実施形態では、赤色を発光する発光層(以下、赤色発光層という場合がある)23aと、緑色を発光する発光層(以下、緑色発光層という場合がある)23bと、青色を発光する発光層(以下、青色発光層という場合がある)23cとがこの順で積層されて構成されている。赤色発光層23aは、複層発光部23を構成する3つの発光層23a、23b、23cの中で、発光する光のピーク波長が最も長いため、3つの発光層23a、23b、23cの中で最も陽極21寄りに配置されている。緑色発光層23bは、3つの発光層23a、23b、23cの中で、発光する光のピーク波長が2番目に長いため、3つの発光層23a、23b、23cの中央に配置されている。青色発光層23cは、3つの発光層23a、23b、23cの中で、発光する光のピーク波長が最も短いため、3つの発光層23a、23b、23cの中で最も陰極22寄りに配置されている。なお複層発光部23は、複数の発光層のみから構成されていることが好ましいが、発光層と発光層との間に発光層とは異なる所定の層を備えていてもよい。
<A> Multi-layer Light Emitting Unit The multi-layer light-emitting unit 23 includes a plurality of light-emitting layers, and preferably includes three or more light-emitting layers. In the present embodiment shown in FIG. 1, a red light emitting layer (hereinafter sometimes referred to as a red light emitting layer) 23a, a green light emitting layer (hereinafter sometimes referred to as a green light emitting layer) 23b, and a blue color And a light emitting layer (hereinafter sometimes referred to as a blue light emitting layer) 23c are stacked in this order. Since the red light emitting layer 23a has the longest peak wavelength of the emitted light among the three light emitting layers 23a, 23b, and 23c constituting the multilayer light emitting unit 23, the red light emitting layer 23a is among the three light emitting layers 23a, 23b, and 23c. It is arranged closest to the anode 21. The green light emitting layer 23b is disposed at the center of the three light emitting layers 23a, 23b, and 23c because the peak wavelength of the emitted light is the second longest among the three light emitting layers 23a, 23b, and 23c. The blue light emitting layer 23c has the shortest peak wavelength of emitted light among the three light emitting layers 23a, 23b, and 23c, and therefore is disposed closest to the cathode 22 among the three light emitting layers 23a, 23b, and 23c. Yes. The multilayer light emitting unit 23 is preferably composed of only a plurality of light emitting layers, but a predetermined layer different from the light emitting layer may be provided between the light emitting layer and the light emitting layer.

本明細書において、発光層の発光するピーク波長とは、発光する光を波長領域で見たときに、最も強い光強度となる波長のこという。   In this specification, the peak wavelength emitted from the light emitting layer refers to a wavelength that provides the strongest light intensity when the emitted light is viewed in the wavelength region.

赤色発光層23aとしては、発光する光のピーク波長が、例えば580nm〜660nm、好ましくは600〜640nmのものを用い得る。また緑色発光層23bとしては、発光する光のピーク波長が、例えば500nm〜560nmのもの、好ましくは520nm〜540nmのものが用い得る。また、青色発光層23cとしては、発光する光のピーク波長が、例えば400nm〜500nm、好ましくは420nm〜480nmのものを用い得る。このようなピーク波長で発光する3つの発光層23a、23b、23cからそれぞれ発光される光を重ね合わせると、白色光となるので、複層発光部23が赤色発光層23a、緑色発光層23b、および青色発光層23cで構成されている第1の実施形態の有機EL素子1は、白色光を発する。   As the red light emitting layer 23a, one having a peak wavelength of emitted light of, for example, 580 nm to 660 nm, preferably 600 to 640 nm can be used. Moreover, as the green light emitting layer 23b, the peak wavelength of the emitted light may be, for example, 500 nm to 560 nm, and preferably 520 nm to 540 nm. Moreover, as the blue light emitting layer 23c, the thing whose peak wavelength of the light to light-emit is 400 nm-500 nm, for example, Preferably 420 nm-480 nm can be used. When the light emitted from each of the three light emitting layers 23a, 23b, and 23c that emit light at such a peak wavelength is superimposed, white light is generated. Therefore, the multi-layer light emitting unit 23 has a red light emitting layer 23a, a green light emitting layer 23b, The organic EL element 1 according to the first embodiment configured by the blue light emitting layer 23c emits white light.

各発光層23a、23b、23cは、主成分として、蛍光及び/又はりん光を発光する有機化合物(以下、発光性有機化合物という場合がある)で構成される。発光性有機化合物は、低分子系と高分子系に分けられるところ、好ましくは、発光性高分子有機化合物を採用し得る。また発光層には発光性有機化合物の他に、金属錯体系の発光材料など無機系の材料を添加してもよい。なお本明細書において高分子とはポリスチレン換算の数平均分子量が103以上の化合物である。本発明に関し高分子の数平均分子量に上限を規定する特段の理由はないが、通常、高分子の数平均分子量の上限は、ポリスチレン換算の数分子量は108以下である。またドーパントなどの任意成分を含むように発光層を構成してもよい。例えばドーパントは、発光効率の向上や発光波長を変化させるなどの目的で付加される。各発光層23a、23b、23cを主に構成する発光材料としては、例えば以下に示すものが挙げられる。 Each of the light emitting layers 23a, 23b, and 23c is composed of an organic compound that emits fluorescence and / or phosphorescence as a main component (hereinafter sometimes referred to as a light emitting organic compound). The light-emitting organic compound can be classified into a low molecular weight type and a high molecular weight type, and a light-emitting high molecular weight organic compound can be preferably used. In addition to the light emitting organic compound, an inorganic material such as a metal complex light emitting material may be added to the light emitting layer. In the present specification, the polymer is a compound having a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 10 3 or more. Although there is no particular reason for specifying an upper limit for the number average molecular weight of the polymer in the present invention, the upper limit of the number average molecular weight of the polymer is usually 10 8 or less in terms of polystyrene. Moreover, you may comprise a light emitting layer so that arbitrary components, such as a dopant, may be included. For example, the dopant is added for the purpose of improving the light emission efficiency or changing the light emission wavelength. Examples of the light emitting material mainly constituting each of the light emitting layers 23a, 23b, and 23c include those shown below.

色素系の発光材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびピラゾリンダイマーなどを高分子化したものを挙げることができる。   Examples of dye-based light-emitting materials include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivative compounds, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, pyrrole derivatives, thiophenes. Examples of the polymer include ring compounds, pyridine ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, oxadiazole dimers, quinacridone derivatives, coumarin derivatives, and pyrazoline dimers.

金属錯体系の発光材料としては、Tb、Eu、Dyなどの希土類金属や、Al、Zn、BeおよびIrを中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを配位子に有する金属錯体を高分子化したものを挙げることができ、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体などを高分子化したものを挙げることができる。   Metal complex light emitting materials include rare earth metals such as Tb, Eu, and Dy, Al, Zn, Be, and Ir as central metals, oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structures, etc. Can be mentioned, for example, iridium complexes, metal complexes having light emission from a triplet excited state such as platinum complexes, aluminum quinolinol complexes, benzoquinolinol beryllium complexes, Benzoxazolyl zinc complex, benzothiazole zinc complex, azomethyl zinc complex, porphyrin zinc complex, europium complex and the like can be listed as polymers.

高分子系の発光材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、およびポリビニルカルバゾール誘導体などを挙げることができる。   Examples of the polymer light-emitting material include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyfluorene derivatives, and polyvinylcarbazole derivatives.

赤色発光層23aを構成する発光材料としては、前述の発光材料のうち、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることが出来る。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。   Examples of the light emitting material constituting the red light emitting layer 23a include coumarin derivatives, thiophene ring compounds, and polymers thereof, polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyfluorene derivatives, etc. among the above-described light emitting materials. . Among these, polymer materials such as polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, and polyfluorene derivatives are preferable.

緑色発光層23bを構成する発光材料としては、前述の発光材料のうち、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、チオフェン環化合物およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。   Examples of the light emitting material constituting the green light emitting layer 23b include quinacridone derivatives, coumarin derivatives, thiophene ring compounds and polymers thereof, polyparaphenylene vinylene derivatives, polyfluorene derivatives, and the like among the above light emitting materials. Of these, polymer materials such as polyparaphenylene vinylene derivatives and polyfluorene derivatives are preferred.

青色発光層23cを構成する材料としては、前述の発光材料のうち、ジスチリルアリーレン誘導体、及び/又はオキサジアゾール誘導体の重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。   Examples of the material constituting the blue light emitting layer 23c include distyrylarylene derivatives and / or polymers of oxadiazole derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, polyfluorene derivatives, etc. Can do. Of these, polymer materials such as polyvinyl carbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, and polyfluorene derivatives are preferred.

各発光層を構成する発光材料としては、前述の発光材料の他に、例えば発光効率の向上や発光波長を変化させるなどの目的でドーパント材料をさらに含んでいてもよい。このようなドーパント材料としては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。   As the light emitting material constituting each light emitting layer, in addition to the above light emitting material, for example, a dopant material may be further included for the purpose of improving the light emission efficiency or changing the light emission wavelength. Examples of such dopant materials include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazolone derivatives, decacyclene, phenoxazone, and the like.

複層発光部23を構成する各発光層23a、23b、23cは、陽極21寄りに配置される発光層ほど、その層厚が薄い方が好ましい。具体的には、赤色発光層23aの層厚よりも緑色発光層23bの層厚が厚く、緑色発光層23bの層厚よりも青色発光層23cの層厚が厚い方が好ましい。さらに具体的には、赤色発光層23aの層厚は、5nm〜20nmが好ましく、さらに好ましくは10nm〜15nmである。緑色発光層23bの層厚は、10nm〜30nmが好ましく、さらに好ましくは15nm〜25nmである。青色発光層23cの層厚は、40nm〜70nmが好ましく、さらに好ましくは50nm〜65nmである。このように各発光層23a、23b、23cの層厚を設定することによって、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化がより少なく、かつ高効率で発光する有機EL素子1を実現することができる。   Each of the light emitting layers 23 a, 23 b, and 23 c constituting the multilayer light emitting unit 23 is preferably thinner as the light emitting layer disposed closer to the anode 21. Specifically, the green light emitting layer 23b is preferably thicker than the red light emitting layer 23a, and the blue light emitting layer 23c is thicker than the green light emitting layer 23b. More specifically, the layer thickness of the red light emitting layer 23a is preferably 5 nm to 20 nm, and more preferably 10 nm to 15 nm. The layer thickness of the green light emitting layer 23b is preferably 10 nm to 30 nm, more preferably 15 nm to 25 nm. The layer thickness of the blue light emitting layer 23c is preferably 40 nm to 70 nm, and more preferably 50 nm to 65 nm. By setting the layer thickness of each of the light emitting layers 23a, 23b, and 23c as described above, the organic EL element 1 that emits light with high efficiency and less change in color with respect to the change in voltage applied to the electrodes. Can be realized.

また複層発光部23を構成する各発光層23a、23b、23cは、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、陽極21側に配置されるので、各発光層23a、23b、23cの層厚を設定することによって、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化の少なく、かつ発光効率の高い有機EL素子1を実現することができる。なお発光層を構成する化合物の最高占有分子軌道(Highest Occupied Molecular Orbital:略称HOMO)および最低非占有分子軌道(Lowest Unoccupied Molecular Orbital:略称LUMO)は、発光する光のピーク波長が長い化合物ほど低い傾向にある。本実施形態では、各発光層23a、23b、23cは、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど陽極21側寄りに配置されるので、結果としてHOMOおよびLUMOが低い化合物で構成される発光層ほど、陽極21側寄りに配置されることになる。このように陽極21側から陰極22に向けて、HOMOおよびLUMOが順次高くなるように各発光層23a、23b、23cが配置されるので、陽極21側および陰極22からそれぞれ注入される正孔および電子を効率的に輸送することができ、これにより電極に印加する電圧の変化に対して色味の変化が少なく、発光効率の高い有機EL素子を実現することができるものと推測される。   In addition, the light emitting layers 23a, 23b, and 23c constituting the multilayer light emitting unit 23 are disposed on the anode 21 side as the light emitting layer having a longer peak wavelength of the emitted light. Therefore, the layers of the light emitting layers 23a, 23b, and 23c are arranged. By setting the thickness, it is possible to realize the organic EL element 1 with little change in color and high luminous efficiency with respect to a change in voltage applied to the electrode. In addition, the highest occupied molecular orbital (abbreviated as HOMO) and the lowest unoccupied molecular orbital (abbreviated as LUMO) of a compound constituting the light emitting layer tend to be lower as the peak wavelength of the emitted light is longer. It is in. In the present embodiment, each light emitting layer 23a, 23b, 23c is arranged closer to the anode 21 side as the light emitting layer having a longer peak wavelength of emitted light. As a result, the light emitting layer composed of a compound having low HOMO and LUMO. As a result, it is arranged closer to the anode 21 side. As described above, the light emitting layers 23a, 23b, and 23c are arranged so that the HOMO and the LUMO sequentially increase from the anode 21 side toward the cathode 22, so that the holes injected from the anode 21 side and the cathode 22 respectively It can be presumed that electrons can be efficiently transported, whereby an organic EL element having a high luminous efficiency can be realized with little change in color with respect to a change in voltage applied to the electrode.

以上のように、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、陽極21寄りに配置する構成の有機EL素子1では、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化の少なく、かつ高効率で発光する有機EL素子を実現することができ、陽極21と陰極22との間に印加する電圧を変化させたときの、外に取出される光の色度座標における座標値xと、座標値yとの変化の幅が、それぞれ0.05以下に抑えることができる。ここで印加する電圧を変化させるときの印加電圧の範囲は、通常、輝度が100cd/m2〜10000cd/m2となる範囲であり、少なくとも4000cd/m2〜6000cd/m2となる範囲である。また外に取出される光は、各発光層23a、23b、23cからの光が重ね合わされた光のことである。なお、本明細書において、色度座標の規定は国際照明委員会(CIE)の定めるCIE1931に従う。 As described above, in the organic EL element 1 having a configuration in which the light emitting layer having the longer peak wavelength of the emitted light is disposed closer to the anode 21, the change in the color is less with respect to the change in the voltage applied to the electrode, and An organic EL element that emits light with high efficiency can be realized, and when a voltage applied between the anode 21 and the cathode 22 is changed, a coordinate value x in a chromaticity coordinate of light extracted outside; The range of change from the coordinate value y can be suppressed to 0.05 or less. Range of applied voltage when changing the voltage to be applied here is usually in the range where the luminance is 100cd / m 2 ~10000cd / m 2 , is a range of at least 4000cd / m 2 ~6000cd / m 2 . Further, the light extracted outside is light obtained by superimposing the light from the light emitting layers 23a, 23b, and 23c. In this specification, the chromaticity coordinates are defined in accordance with CIE1931 defined by the International Commission on Illumination (CIE).

本実施の形態における複層発光部23は、3つの発光層23a、23b、23cが積層されて構成され、全体として白色を発光する。しかし、本実施形態の変形例としては、各発光層23a、23b、23cの発光する波長とは異なる波長の光を発する発光層をそれぞれ設けて、例えば白色とは異なる波長の光を発する複層発光部を構成してもよい。さらに、他の変形例としては、複層発光部23を、4層以上の発光層で構成してもよい。すなわち、各発光層の発光する光の色は、それぞれの有機EL素子から取出される光の色に応じて、適宜選択し得る。また、有機EL素子から取出される光の色が、白色であっても、白とは異なる色であっても、或いは、発光層の層数が3層であっても、4層以上であったとしても、各発光層を、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、陽極21寄りに配置することによって、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化の少なく、かつ高効率で発光する有機EL素子を実現することができる。   The multilayer light emitting unit 23 in the present embodiment is configured by stacking three light emitting layers 23a, 23b, and 23c, and emits white light as a whole. However, as a modification of the present embodiment, a light emitting layer that emits light having a wavelength different from the wavelength emitted by each of the light emitting layers 23a, 23b, and 23c is provided, for example, a multilayer that emits light having a wavelength different from white. You may comprise a light emission part. Furthermore, as another modification, the multilayer light emitting unit 23 may be configured by four or more light emitting layers. That is, the color of light emitted from each light emitting layer can be appropriately selected according to the color of light extracted from each organic EL element. In addition, the color of light extracted from the organic EL element is white, a color different from white, or the number of light emitting layers is three, or four or more. Even if each light emitting layer is arranged closer to the anode 21 as the light emitting layer having a longer peak wavelength of the emitted light, the color change with respect to the change in the voltage applied to the electrode is small and high. An organic EL element that emits light efficiently can be realized.

<B>陽極
本実施形態では、陽極21が支持基板10の上に設けられている。陽極21は、電気抵抗の低いものが好適に用いられる。陽極21および陰極22のうちの少なくともいずれか一方は、光透過性を有する。例えば、ボトムエミッション型の有機EL素子とする場合には、陽極21は光透過性を有し、可視光領域の光の透過率が高いものが好適に用いられる。陽極21の材料としては、導電性を有する金属酸化物膜、半透明の金属薄膜等を用い得る。より具体的には、陽極21の材料として、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(Indium Tin Oxide:略称ITO)およびインジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:略称IZO)などの金属酸化物や、金、白金、銀、銅などの導電性を有する金属が挙げられる。これらの中でも、陽極21としては、ITO、IZO、および酸化スズなどを好適に用い得る。なお、トップエミッション型の有機EL素子の場合には、陽極21は、複層発光部5からの光を陰極22側に反射する材料によって形成される形態も好適に採用し得る。トップエミッション型の場合、例えば光を反射する程度の膜厚の金属薄膜を、陽極21として設けてもよい。
<B> Anode In this embodiment, the anode 21 is provided on the support substrate 10. As the anode 21, one having a low electric resistance is preferably used. At least one of the anode 21 and the cathode 22 has light transmittance. For example, when a bottom emission type organic EL element is used, an anode 21 having light transmittance and a high light transmittance in the visible light region is preferably used. As a material of the anode 21, a conductive metal oxide film, a translucent metal thin film, or the like can be used. More specifically, examples of the material of the anode 21 include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium tin oxide (abbreviated as ITO), and indium zinc oxide (abbreviated as IZO). Examples thereof include metal oxides and conductive metals such as gold, platinum, silver, and copper. Among these, as the anode 21, ITO, IZO, tin oxide, or the like can be suitably used. In the case of a top emission type organic EL element, a mode in which the anode 21 is formed of a material that reflects light from the multilayer light emitting unit 5 to the cathode 22 side can be suitably employed. In the case of the top emission type, for example, a metal thin film having a thickness that reflects light may be provided as the anode 21.

陽極21の膜厚は、光の透過性と電気伝導度とを考慮して、適宜選択することができるが、例えば5nm〜10μmであり、好ましくは10nm〜1μmであり、さらに好ましくは20nm〜500nmである。   The film thickness of the anode 21 can be appropriately selected in consideration of light transmittance and electrical conductivity, and is, for example, 5 nm to 10 μm, preferably 10 nm to 1 μm, and more preferably 20 nm to 500 nm. It is.

<C>陰極
本実施形態では、陰極22は、複層発光部23の上に積層されて設けられている。陰極22の材料としては、仕事関数が小さく、発光層への電子注入が容易な材料が好ましく、また電気伝導度の高い材料が好ましい。また陽極21側から光を取出す場合には、複層発光部20からの光を陽極21側に反射するために、陰極22の材料としては可視光反射率の高いものが好ましい。
<C> Cathode In this embodiment, the cathode 22 is provided by being stacked on the multilayer light emitting unit 23. The material of the cathode 22 is preferably a material having a small work function and easy electron injection into the light emitting layer, and a material having high electrical conductivity. Further, when light is extracted from the anode 21 side, the material of the cathode 22 is preferably a material having a high visible light reflectance in order to reflect the light from the multilayer light emitting unit 20 to the anode 21 side.

陰極22の材料としては、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属および第周期表第13族金属などの金属を用いることができる。より具体的には、陰極22の材料として、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属;これらの金属のうち2つ以上の合金;これらの金属のうち1つ以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫から選ばれる1つ以上との合金;またはグラファイト若しくはグラファイト層間化合物;などの材料が挙げられる。合金の例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金などを挙げることができる。また、陰極22として透明導電性電極を採用し得る。透明導電性の電極としては、例えば、導電性金属酸化物や導電性有機物などを用い得る。具体的には、導電性金属酸化物として、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、およびそれらの複合体であるインジウムスズ酸化物(ITO)やインジウム亜鉛酸化物(IZO);導電性有機物として、例えば、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機化合物を用いてもよい。なお、陰極を2層以上の積層構造としてもよい。   As a material of the cathode 22, for example, a metal such as an alkali metal, an alkaline earth metal, a transition metal, and a Group 13 metal of the periodic table can be used. More specifically, as the material of the cathode 22, for example, lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, scandium, vanadium, zinc, yttrium, indium, cerium, samarium, Metals such as europium, terbium, ytterbium; alloys of two or more of these metals; from one or more of these metals and gold, silver, platinum, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, tin Materials such as alloys with one or more selected; or graphite or graphite intercalation compounds. Examples of alloys include magnesium-silver alloys, magnesium-indium alloys, magnesium-aluminum alloys, indium-silver alloys, lithium-aluminum alloys, lithium-magnesium alloys, lithium-indium alloys, calcium-aluminum alloys, and the like. it can. A transparent conductive electrode can be adopted as the cathode 22. As the transparent conductive electrode, for example, a conductive metal oxide or a conductive organic material can be used. Specifically, as a conductive metal oxide, for example, indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) which are composites thereof; For example, organic compounds such as polyaniline or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof may be used. Note that the cathode may have a laminated structure of two or more layers.

陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができるが、例えば10nmから10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。   The thickness of the cathode can be appropriately selected in consideration of electric conductivity and durability, but is, for example, 10 nm to 10 μm, preferably 20 nm to 1 μm, and more preferably 50 nm to 500 nm.

<D>任意の構成層
図1に示す有機EL素子1では、陽極21と陰極22との間に複層発光部23が設けられた形態を示している。しかし陽極21と陰極22との間に設けられる層の構成としては図1に示す層構成に限られるわけではない。陽極21および陰極22の間には必須の構成として複層発光部23が設けられればよく、さらに他の任意の構成層を1または2以上設けてもよい。発光機能部20に設けられ得る任意の構成層としては、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、正孔ブロック層、電子注入層、電子輸送層、電子ブロック層などが挙げられる。
<D> Arbitrary Constituent Layer The organic EL element 1 shown in FIG. 1 shows a form in which a multilayer light emitting section 23 is provided between an anode 21 and a cathode 22. However, the configuration of the layer provided between the anode 21 and the cathode 22 is not limited to the layer configuration shown in FIG. It is only necessary to provide the multilayer light emitting portion 23 between the anode 21 and the cathode 22 as an essential configuration, and one or more other optional layers may be provided. Examples of the optional constituent layer that can be provided in the light emitting function unit 20 include a hole injection layer, a hole transport layer, a hole block layer, an electron injection layer, an electron transport layer, and an electron block layer.

陽極21と複層発光部23との間に設け得る層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層等が挙げられる。陽極21と複層発光部23との間に、正孔注入層と正孔輸送層との両方が設けられる場合、陽極21に近い側に位置する層を正孔注入層といい、複層発光部に近い側に位置する層を正孔輸送層という。   Examples of the layer that can be provided between the anode 21 and the multilayer light emitting unit 23 include a hole injection layer, a hole transport layer, and an electron block layer. When both the hole injection layer and the hole transport layer are provided between the anode 21 and the multilayer light emitting part 23, the layer located on the side close to the anode 21 is called the hole injection layer, and the multilayer light emission. The layer located on the side close to the part is referred to as a hole transport layer.

陰極22と複層発光部23との間に設け得る層としては、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層などを挙げることができる。陰極22と複層発光部23との間に、電子注入層と電子輸送層との両方の層が設けられる場合、陰極22に近い側に位置する層を電子注入層といい、複層発光部23に近い側に位置する層を電子輸送層という。   Examples of the layer that can be provided between the cathode 22 and the multilayer light emitting unit 23 include an electron injection layer, an electron transport layer, and a hole blocking layer. When both the electron injection layer and the electron transport layer are provided between the cathode 22 and the multilayer light emitting unit 23, the layer located on the side close to the cathode 22 is referred to as an electron injection layer. A layer located on the side close to 23 is referred to as an electron transport layer.

なお電子注入層および正孔注入層を総称して電荷注入層ということがある。電子輸送層および正孔輸送層を総称して電荷輸送層ということがある。また正孔ブロック層および電子ブロック層を総称して、電荷ブロック層という場合がある。   The electron injection layer and the hole injection layer may be collectively referred to as a charge injection layer. The electron transport layer and the hole transport layer may be collectively referred to as a charge transport layer. The hole blocking layer and the electron blocking layer may be collectively referred to as a charge blocking layer.

以下、任意の構成層(不図示)について詳述する。
<D1>正孔注入層
正孔注入層は、陽極からの正孔注入効率を改善する機能を有する層である。正孔注入層は、陽極からの正孔注入効率を改善する機能を有する層である。正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。
Hereinafter, arbitrary constituent layers (not shown) will be described in detail.
<D1> Hole Injection Layer The hole injection layer is a layer having a function of improving hole injection efficiency from the anode. The hole injection layer is a layer having a function of improving hole injection efficiency from the anode. As the hole injection material constituting the hole injection layer, phenylamine, starburst amine, phthalocyanine, vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, aluminum oxide, etc., amorphous carbon, polyaniline, polythiophene derivatives And so on.

正孔注入層の層厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択され、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、厚すぎると、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、正孔注入層の膜厚としては、例えば1nm〜1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。   As the layer thickness of the hole injection layer, the optimum value varies depending on the material to be used, the driving voltage and the luminous efficiency are selected to be appropriate values, and at least a thickness that does not cause pinholes is required. If it is too high, the drive voltage of the element becomes high, which is not preferable. Accordingly, the thickness of the hole injection layer is, for example, 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 200 nm.

<D2>正孔輸送層
正孔輸送層は、陽極または正孔注入層、若しくは陽極により近い正孔輸送層からの正孔注入を改善する機能を有する層である。
正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体などを挙げることができる。
<D2> Hole transport layer The hole transport layer is a layer having a function of improving hole injection from the anode, the hole injection layer, or the hole transport layer closer to the anode.
As the hole transport material constituting the hole transport layer, polyvinylcarbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine in a side chain or a main chain, a pyrazoline derivative, an arylamine derivative, a stilbene derivative, Triphenyldiamine derivative, polyaniline or derivative thereof, polythiophene or derivative thereof, polyarylamine or derivative thereof, polypyrrole or derivative thereof, poly (p-phenylene vinylene) or derivative thereof, or poly (2,5-thienylene vinylene) or Examples thereof include derivatives thereof.

これらの正孔輸送材料の中で、正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体等の高分子の正孔輸送材料が好ましく、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体などがさらに好ましい。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。   Among these hole transport materials, as the hole transport material, polyvinyl carbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine compound group in a side chain or a main chain, polyaniline or a derivative thereof, Polymeric hole transport materials such as polythiophene or derivatives thereof, polyarylamine or derivatives thereof, poly (p-phenylene vinylene) or derivatives thereof, or poly (2,5-thienylene vinylene) or derivatives thereof are preferable, and polyvinyl More preferred are carbazole or derivatives thereof, polysilane or derivatives thereof, polysiloxane derivatives having an aromatic amine in the side chain or main chain, and the like. In the case of a low-molecular hole transport material, it is preferably used by being dispersed in a polymer binder.

正孔輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択され、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、厚すぎると、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、正孔輸送層の膜厚としては、例えば1nm〜1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。   The film thickness of the hole transport layer differs depending on the material used, and is selected so that the drive voltage and the light emission efficiency are appropriate, and at least a thickness that does not cause pin holes is required. If it is too high, the drive voltage of the element becomes high, which is not preferable. Therefore, the thickness of the hole transport layer is, for example, 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 200 nm.

<D3>電子ブロック層
電子ブロック層は、電子の輸送を堰き止める機能を有する層である。正孔注入層または正孔輸送層が、電子ブロック層を兼ねることがある。電子ブロック層としては、例えば、上記正孔注入層または正孔輸送層の材料として例示した各種材料を用い得る。
<D3> Electron Block Layer The electron block layer is a layer having a function of blocking electron transport. The hole injection layer or the hole transport layer may also serve as the electron block layer. As an electron block layer, the various materials illustrated as a material of the said positive hole injection layer or a positive hole transport layer can be used, for example.

<D4>電子注入層
電子注入層は、陰極からの電子注入効率を改善する機能を有する層である。電子輸送層は、陰極、または電子注入層、若しくは陰極により近い電子輸送層からの電子注入を改善する機能を有する層である。正孔ブロック層は、正孔の輸送を堰き止める機能を有する層である。なお、電子注入層または電子輸送層が、正孔ブロック層を兼ねる場合がある。
<D4> Electron Injection Layer The electron injection layer is a layer having a function of improving the efficiency of electron injection from the cathode. The electron transport layer is a layer having a function of improving electron injection from the cathode, the electron injection layer, or the electron transport layer closer to the cathode. The hole blocking layer is a layer having a function of blocking hole transport. In some cases, the electron injection layer or the electron transport layer also serves as a hole blocking layer.

電子注入層を構成する電子注入材料としては、複層発光部の種類などの条件に応じて適宜選択し得る。電子注入層を構成する材料としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、または前記金属を1種類以上含む合金、または前記金属の酸化物、ハロゲン化物および炭酸化物、または前記物質の混合物などを挙げることができる。アルカリ金属またはその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウム等を挙げることができる。また、アルカリ土類金属またはその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウム等を挙げることができる。   The electron injecting material constituting the electron injecting layer can be appropriately selected according to conditions such as the type of the multilayer light emitting part. Examples of the material constituting the electron injection layer include alkali metals, alkaline earth metals, alloys containing one or more of the above metals, oxides of the metals, halides and carbonates, and mixtures of the above substances. Can be mentioned. Alkali metals or their oxides, halides and carbonates include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, lithium oxide, lithium fluoride, sodium oxide, sodium fluoride, potassium oxide, potassium fluoride, rubidium oxide, fluorine. Examples thereof include rubidium chloride, cesium oxide, cesium fluoride, and lithium carbonate. Examples of alkaline earth metals or oxides, halides and carbonates thereof include magnesium, calcium, barium, strontium, magnesium oxide, magnesium fluoride, calcium oxide, calcium fluoride, barium oxide, barium fluoride, Examples thereof include strontium oxide, strontium fluoride, and magnesium carbonate.

電子注入層は、2層以上を積層した積層体であってもよい。積層体の具体例としては、LiF/Caなどを挙げることができる。 電子注入層の膜厚としては、1nm〜1μm程度が好ましい。   The electron injection layer may be a laminate in which two or more layers are laminated. Specific examples of the laminated body include LiF / Ca. The thickness of the electron injection layer is preferably about 1 nm to 1 μm.

<D5>電子輸送層
電子輸送層を構成する電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等を挙げることができる。
<D5> Electron transport layer As an electron transport material constituting the electron transport layer, oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane or derivatives thereof, benzoquinone or derivatives thereof, naphthoquinone or derivatives thereof, anthraquinones or derivatives thereof, tetracyanoanthraquino Dimethane or derivatives thereof, fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene or derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or derivatives thereof, polyfluorene or derivatives thereof, etc. be able to.

これらのうち、電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、又は8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体が好ましく、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス(8−キノリノール)アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。   Among these, as an electron transport material, an oxadiazole derivative, benzoquinone or a derivative thereof, anthraquinone or a derivative thereof, a metal complex of 8-hydroxyquinoline or a derivative thereof, a polyquinoline or a derivative thereof, a polyquinoxaline or a derivative thereof, a polyfluorene Or a derivative thereof is preferable, and 2- (4-biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, benzoquinone, anthraquinone, tris (8-quinolinol) aluminum, and polyquinoline are further included. preferable.

電子輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択し得る。厚みの下限としては、少なくともピンホールが発生しないような厚さが好ましい。また、厚みの上限としては、素子の駆動電圧が高くなすぎないような上限が好ましい。材料にもよるが、電子輸送層の膜厚としては、例えば1nm〜1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。   The film thickness of the electron transport layer varies depending on the material used, and can be selected so that the drive voltage and the light emission efficiency are appropriate. The lower limit of the thickness is preferably at least a thickness that does not cause pinholes. Further, the upper limit of the thickness is preferably an upper limit such that the driving voltage of the element is not too high. Although it depends on the material, the thickness of the electron transport layer is, for example, 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 200 nm.

<E>発光機能部の層構成の組合せ
上記のように発光機能部はその実施形態として様々な層構成を採用し得る。発光機能部のとり得る層構成の具体的な例を以下に示す。
(a)陽極/複層発光部/陰極
(b)陽極/正孔注入層/複層発光部/陰極
(c)陽極/複層発光部/電子注入層/陰極
(d)陽極/正孔注入層/複層発光部/電子注入層/陰極
(e)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/複層発光部/陰極
(f)陽極/複層発光部/電子輸送層/電子注入層/陰極
(g)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/複層発光部/電子注入層/陰極
(h)陽極/正孔注入層/複層発光部/電子輸送層/電子注入層/陰極
(i)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/複層発光部/電子輸送層/電荷注入層/陰極
(ここで、記号「/」は、この記号「/」を挟む2つの層が隣接して積層されることを示す。以下同じ。)
<E> Combination of Layer Configurations of Light-Emitting Function Units As described above, the light-emitting function unit may employ various layer configurations as its embodiment. Specific examples of the layer structure that can be taken by the light emitting function unit are shown below.
(A) Anode / multilayer light emitting part / cathode (b) anode / hole injection layer / multilayer light emission part / cathode (c) anode / multilayer light emission part / electron injection layer / cathode (d) anode / hole injection Layer / multilayer light emitting part / electron injection layer / cathode (e) anode / hole injection layer / hole transport layer / multilayer light emission part / cathode (f) anode / multilayer light emission part / electron transport layer / electron injection layer / Cathode (g) anode / hole injection layer / hole transport layer / multilayer light emitting part / electron injection layer / cathode (h) anode / hole injection layer / multilayer light emitting part / electron transport layer / electron injection layer / Cathode (i) Anode / hole injection layer / hole transport layer / multi-layer light emitting part / electron transport layer / charge injection layer / cathode (where the symbol “/” indicates two layers sandwiching the symbol “/”) Are adjacent to each other, and so on.

図1などに示す実施形態では、1組の複層発光部23を設けている。しかし、その変形例として、2組以上の複層発光部を重ねて設ける形態も採用し得る。ここで上記(a)〜(i)の層構成のうちのいずれか1つにおいて、陽極と陰極とに挟持された部分の積層体を「繰り返し単位A」とすると、例えば2組の複層発光部23を備える有機EL素子の層構成として下記j)に示す層構成なども採用し得る。
(j)陽極/(繰り返し単位A)/電荷発生層/(繰り返し単位A)/陰極
In the embodiment shown in FIG. 1 and the like, a set of multilayer light emitting units 23 is provided. However, as a modification thereof, a mode in which two or more sets of multi-layer light emitting portions are provided in an overlapping manner can be adopted. Here, in any one of the layer configurations of (a) to (i) above, if the laminated body sandwiched between the anode and the cathode is a “repeating unit A”, for example, two sets of multilayer light emission As a layer configuration of the organic EL element including the portion 23, a layer configuration shown in the following j) may be employed.
(J) Anode / (repeat unit A) / charge generation layer / (repeat unit A) / cathode

また3組以上の複層発光部を有する有機EL素子としては、「(繰り返し単位A)/電荷注入層」を「繰り返し単位B」とすると、例えば下記(k)の層構成などを挙げることができる。
(k)陽極/(繰り返し単位B)/(繰り返し単位A)/陰極
Further, as an organic EL device having three or more sets of multi-layer light emitting portions, when “(repeating unit A) / charge injection layer” is “repeating unit B”, for example, the layer configuration of (k) below may be mentioned. it can.
(K) Anode / (Repeating unit B) n / (Repeating unit A) / Cathode

なお記号「n」は、2以上の整数を表し、(繰り返し単位B)は、繰り返し単位Bがn段積層された積層体を表す。
上記層構成j)およびk)において、陽極、電極、陰極、発光層以外の各層は必要に応じて省いてもよい。
The symbol “n” represents an integer of 2 or more, and (repeating unit B) n represents a laminated body in which n repeating units B are laminated.
In the layer configurations j) and k), each layer other than the anode, electrode, cathode, and light emitting layer may be omitted as necessary.

電荷発生層とは電界を印加することにより、正孔と電子を発生する層である。電荷発生層としては、例えば酸化バナジウム、インジウムスズ酸化物(Indium Tin Oxide:略称ITO)、酸化モリブデンなどから成る薄膜を挙げることができる。   The charge generation layer is a layer that generates holes and electrons by applying an electric field. Examples of the charge generation layer include a thin film made of vanadium oxide, indium tin oxide (abbreviated as ITO), molybdenum oxide, or the like.

さらに、他の任意の構成層として、例えば、電極との密着性向上や、電極からの電荷注入の改善のために、電極に隣接して膜厚が2nm以下の絶縁層などを設けてもよい。さらに、他の任意の構成層として、界面の密着性向上や混合の防止等のために、隣接する前記各層の界面に薄いバッファー層を挿入してもよい。   Furthermore, as another arbitrary constituent layer, for example, an insulating layer having a thickness of 2 nm or less may be provided adjacent to the electrode in order to improve adhesion with the electrode or improve charge injection from the electrode. . Further, as another optional constituent layer, a thin buffer layer may be inserted at the interface between the adjacent layers in order to improve the adhesion of the interface or prevent mixing.

図1などに示す実施形態では、支持基板10上に陽極21を設ける形態を示している。これらの場合、上記a)からi)の各形態では、左側(陽極21側)に示された層から順に支持基板上に配置されることになる。他方、本発明の有機EL素子としては、支持基板上に陰極を配置する形態も採用し得る。この場合、上記a)からi)の各形態では、右側(陰極側)に示された層から順に支持基板上に配置されることになる。   In the embodiment shown in FIG. 1 and the like, an embodiment in which the anode 21 is provided on the support substrate 10 is shown. In these cases, in each of the above forms a) to i), the layers are arranged on the support substrate in order from the layer shown on the left side (the anode 21 side). On the other hand, as the organic EL element of the present invention, a form in which a cathode is disposed on a support substrate can be employed. In this case, in each of the above forms a) to i), the layers are arranged on the support substrate in order from the layer shown on the right side (cathode side).

<1.4.放熱層>
放熱層60は、高い熱放射性を発揮する層であり、熱放射率が0.70以上である。本明細書において、熱放射とは、物体から熱エネルギーが電磁波として放出される現象、あるいはその電磁波のことをいう(岩波理化学辞典、岩波書店、1998年、第5版)。放熱層60の熱放射率は、0.70以上であり、好ましくは0.85以上である。熱を逃がすという観点から、熱放射率の上限は特に規定するに及ばない。熱放射率とは、ある温度の物質の表面から放射されるエネルギー量と、前記ある温度と同温度の黒体(放射で与えられたエネルギーを100%吸収する仮想物質)から放射されるエネルギー量の比率のことをいう。熱放射率は、フーリエ変換赤外線分光法(FT−IR)に従って測定することができる。熱放射性の高い材料としては、黒色系材料が挙げられ、黒色塗料の顔料成分などを好適に用い得る。例えば、カーボン材料とプラスチック材料との混合材料(カーボンプラスチック)、所定の金属元素などをドーピングしたTiO、チタニアと所定の金属微粒子とが分散したコロイド、Feなどが例示される。
<1.4. Heat dissipation layer>
The heat dissipation layer 60 is a layer that exhibits high thermal radiation and has a thermal emissivity of 0.70 or more. In this specification, thermal radiation refers to a phenomenon in which thermal energy is released from an object as an electromagnetic wave, or the electromagnetic wave (Iwanami Physical and Chemical Dictionary, Iwanami Shoten, 1998, 5th edition). The heat emissivity of the heat dissipation layer 60 is 0.70 or more, preferably 0.85 or more. From the viewpoint of releasing heat, the upper limit of the thermal emissivity is not particularly specified. Thermal emissivity is the amount of energy emitted from the surface of a material at a certain temperature and the amount of energy emitted from a black body (a virtual material that absorbs 100% of the energy given by radiation) at the same temperature as the certain temperature. It means the ratio. Thermal emissivity can be measured according to Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR). Examples of the material having high thermal radiation include black materials, and a pigment component of black paint can be suitably used. Examples thereof include a mixed material of carbon material and plastic material (carbon plastic), TiO 2 doped with a predetermined metal element, colloid in which titania and predetermined metal fine particles are dispersed, Fe 3 O 4 and the like.

放熱層60は、熱放射性が高い材料であるのみならず、熱伝導性も高い材料で形成されることが好ましい。本明細書において、熱伝導とは、物質の移動や放射によるエネルギー輸送なしに熱が物体の高温部から低温部に移る現象をいう(岩波理化学辞典、岩波書店、1998年、第5版)。放熱層60は、高い熱放射性を発揮するとともに、高い熱伝導性を発揮するものが好ましく、熱伝導率が、1W/mK以上のものが好ましく、より好ましくは10W/mK以上のものであり、さらに好ましくは200W/mKのものである。熱を逃がすという観点から、熱伝導率の上限は特に規定するに及ばない。熱伝導率は、物体内部の等温面の単位面積を通って単位時間に垂直に流れる熱量と、この方向における温度勾配との比のことをいう(岩波理化学事典、同上)。熱伝導率は、例えば、ASTM D5470(American Society For Testing and D5470)の方法により測定することができる。熱伝導性の高い材料としては、例えば、アルミニウム、銅、銀、セラミックス材料、およびこれらから選ばれる2種以上の合金からなる群より選ばれる無機材料、または高熱伝導性の樹脂などが挙げられる。高熱伝導性の樹脂としては、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂などが挙げられる。   The heat dissipation layer 60 is preferably formed of a material having not only a high heat radiation property but also a high heat conductivity. In this specification, heat conduction refers to a phenomenon in which heat is transferred from a high-temperature part to a low-temperature part of an object without energy transfer due to movement of material or radiation (Iwanami Physical and Chemical Dictionary, Iwanami Shoten, 1998, 5th edition). The heat dissipation layer 60 exhibits high thermal radiation and preferably exhibits high thermal conductivity. The thermal conductivity is preferably 1 W / mK or more, more preferably 10 W / mK or more. More preferably, it is 200 W / mK. From the viewpoint of releasing heat, the upper limit of the thermal conductivity is not particularly specified. Thermal conductivity refers to the ratio of the amount of heat that flows perpendicularly to a unit time through a unit area of an isothermal surface inside an object and the temperature gradient in this direction (Iwanami Encyclopedia, ibid.). The thermal conductivity can be measured by, for example, the method of ASTM D5470 (American Society For Testing and D5470). Examples of the material having high thermal conductivity include aluminum, copper, silver, a ceramic material, and an inorganic material selected from the group consisting of two or more kinds of alloys selected from these, or a highly thermal conductive resin. Examples of the highly heat conductive resin include an epoxy resin, a melamine resin, and an acrylic resin.

放熱層60は、単層で形成されてもよいし、2つ以上の複数の層を有する積層構造を有していてもよい。単層の場合としては、例えば樹脂材料中に高熱伝導性の微粒子を分散させると共に、黒色系の顔料を混合し、この樹脂材料を基板に塗布して形成された層などの形態が挙げられる。また複数の層を含む放熱層60としては、高熱伝導性層と、高熱放射性を示す黒色系材料層とを含む積層体の形態が挙げられる。複数の層を含む放熱層は、黒色系材料層などの高熱放射性を示す高熱放射性層および高熱伝導性層がそれぞれ複数層積層されて構成されていてもよい。   The heat dissipation layer 60 may be formed as a single layer or may have a laminated structure including two or more layers. Examples of a single layer include a layer formed by dispersing high thermal conductivity fine particles in a resin material, mixing a black pigment, and applying the resin material to a substrate. In addition, examples of the heat dissipation layer 60 including a plurality of layers include a laminated body including a high thermal conductivity layer and a black material layer exhibiting high thermal radiation. The heat dissipation layer including a plurality of layers may be configured by laminating a plurality of high thermal radiation layers and high thermal conductivity layers that exhibit high thermal radiation, such as a black material layer.

<1.5.トップエミッション型およびボトムエミッション型>
有機EL素子は、発光層からの光を放出するために、通常、複層発光部のいずれか一方側の層を全て光が透過可能なものとする。具体的には例えば、支持基板/陽極/正孔注入層/正孔輸送層/複層発光部/電子輸送層/電子注入層/陰極/封止基板という構成を有する有機EL素子の場合、支持基板、陽極、正孔注入層および正孔輸送層の全てを光が透過可能なものとし、所謂ボトムエミッション型の素子とし得る。あるいは、電子輸送層、電子注入層、陰極および封止部材の全てを光が透過可能なものとし、所謂トップエミッション型の素子とすることもできる。
<1.5. Top emission type and bottom emission type>
In order to emit light from the light emitting layer, the organic EL element normally allows light to pass through all the layers on either side of the multilayer light emitting section. Specifically, for example, in the case of an organic EL device having a configuration of support substrate / anode / hole injection layer / hole transport layer / multilayer light emitting part / electron transport layer / electron injection layer / cathode / sealing substrate, All of the substrate, the anode, the hole injection layer, and the hole transport layer can transmit light, and can be a so-called bottom emission type element. Alternatively, all of the electron transport layer, the electron injection layer, the cathode, and the sealing member can transmit light and can be a so-called top emission type element.

また、支持基板/陰極/電子注入層/電子輸送層/複層発光部/正孔輸送層/正孔注入層/陽極/封止基板という構成を有する有機EL素子の場合、陰極、電子注入層および電子輸送層の全てを光が透過可能なものとし、所謂ボトムエミッション型の素子とするか、または正孔輸送層、正孔注入層、陽極および封止部材の全てを光が透過可能なものとし、所謂トップエミッション型の素子とすることができる。ここで光が透過可能なものとしては、発光層から光を放出する層までの可視光透過率が30%以上のものが好ましい。紫外領域または赤外領域の発光が求められる素子の場合は、当該領域において30%以上の透過率を有するものが好ましい。   Further, in the case of an organic EL device having a configuration of support substrate / cathode / electron injection layer / electron transport layer / multilayer light emitting part / hole transport layer / hole injection layer / anode / sealing substrate, cathode, electron injection layer In addition, all of the electron transport layer can transmit light, so-called bottom emission type elements, or all of the hole transport layer, hole injection layer, anode, and sealing member can transmit light. Thus, a so-called top emission type element can be obtained. Here, it is preferable that the light can be transmitted from the light emitting layer to the light emitting layer having a visible light transmittance of 30% or more. In the case of an element that requires light emission in the ultraviolet region or infrared region, an element having a transmittance of 30% or more in the region is preferable.

本発明においては、放熱層が設けられる。放熱層を不透光性の材料で形成する場合には、放熱層を設けた側とは反対側の基板側から採光することになる。   In the present invention, a heat dissipation layer is provided. When the heat dissipation layer is formed of a light-impermeable material, the light is taken from the side of the substrate opposite to the side where the heat dissipation layer is provided.

<有機EL素子の第2の実施形態>
本発明の第2の実施形態について図2を参照しつつ説明する。図2に、第2の実施形態の有機EL素子2の断面図を示す。図2中、第1の実施形態と同様である部材については図1と同じ符号を付し、以下、第1の実施形態と異なる点を主として説明する。
<Second Embodiment of Organic EL Element>
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 2, sectional drawing of the organic EL element 2 of 2nd Embodiment is shown. In FIG. 2, members that are the same as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 1, and differences from the first embodiment will be mainly described below.

図2に示すように、放熱層61は、封止基板30に設けてもよい。図2に示す有機EL素子2では、封止基板31の発光機能部20側の主面とは反対側の主面に放射性層61が設けられている。封止基板31にはガラス基板または可塑性を有するシートが用いられており、封止基板31と支持基板10とは融着されている。   As shown in FIG. 2, the heat dissipation layer 61 may be provided on the sealing substrate 30. In the organic EL element 2 shown in FIG. 2, the radioactive layer 61 is provided on the main surface of the sealing substrate 31 opposite to the main surface on the light emitting function unit 20 side. A glass substrate or a plastic sheet is used for the sealing substrate 31, and the sealing substrate 31 and the support substrate 10 are fused.

<有機EL素子の第3の実施形態>
本発明の第3の実施形態およびその変形例について図3−1から図3−5を参照しつつ説明する。図3−1に第3の実施形態の有機EL素子3A(以下、「第3の実施形態の素子」という場合がある)の断面図を示す。図3−1中、第1の実施形態と同様である部材については図1と同じ符号を付し、以下、第1の実施形態と異なる点を主として説明する。
<Third Embodiment of Organic EL Element>
A third embodiment of the present invention and its modification will be described with reference to FIGS. 3-1 to 3-5. FIG. 3A is a cross-sectional view of the organic EL element 3A of the third embodiment (hereinafter may be referred to as “element of the third embodiment”). In FIG. 3A, members that are the same as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 1, and differences from the first embodiment will be mainly described below.

有機EL素子3Aは、封止基板側から採光するトップエミッション型の素子である。有機EL素子3Aでは、支持基板10の発光機能部20側の主面とは反対側の主面に放熱層63が設けられている。放熱層63は、2つの層で構成されている。一方の層は、黒色系材料層63aであり、他方の層は高熱伝導性層としてのアルミニウム層63bでありる。放熱層63は、アルミニウム層63bが支持基板10に接して設けられている。発光層の発熱により支持基板10には熱が伝わる。支持基板10としてガラス基板のような熱伝導性の低い材料が用いられている場合は特に、熱が支持基板10に停滞してしまいやすい。しかし、有機EL素子3Aにおいては、高熱伝導性を有するアルミニウム層63bが支持基板10に接触して設けられていることにより、支持基板10およびアルミニウム層63bでの熱の拡散を促し、また熱を支持基板10の外部へと逃がすことを助ける。さらに、アルミニウム層63bには、黒色塗料を塗布して形成された黒色系材料層63aが設けられており、黒色系材料層63aに伝達された熱の外界への放射が促進される。   The organic EL element 3A is a top emission type element that takes light from the sealing substrate side. In the organic EL element 3A, a heat radiation layer 63 is provided on the main surface of the support substrate 10 opposite to the main surface on the light emitting function unit 20 side. The heat radiation layer 63 is composed of two layers. One layer is a black material layer 63a, and the other layer is an aluminum layer 63b as a high thermal conductivity layer. In the heat dissipation layer 63, the aluminum layer 63 b is provided in contact with the support substrate 10. Heat is transmitted to the support substrate 10 by the heat generation of the light emitting layer. In particular, when a material having low thermal conductivity such as a glass substrate is used as the support substrate 10, the heat tends to stagnate in the support substrate 10. However, in the organic EL element 3A, since the aluminum layer 63b having high thermal conductivity is provided in contact with the support substrate 10, the diffusion of heat in the support substrate 10 and the aluminum layer 63b is promoted and the heat is increased. It helps to escape to the outside of the support substrate 10. Further, the aluminum layer 63b is provided with a black material layer 63a formed by applying a black paint, and radiation of heat transferred to the black material layer 63a to the outside is promoted.

図3−2に、第3の実施形態の素子の一変形例である有機EL素子3Bを示す。有機EL素子3Aでは支持基板10の一方の主面にのみ放熱層63が設けられていたが、有機EL素子3Bにおいては、支持基板10の両方の主面に放熱層63が設けられている。このように支持基板10の両面に放熱層63を設けることにより発光機能部20を熱源とする熱を、支持基板10全体へとより円滑に伝達させることができ、熱分散性をより向上させ得る。図3−2に示す例では、支持基板10と放熱層63は、発光機能部20から外側に向かって順に(図面上、発光機能部20から下方に向かって順に)次の順序で構成される。
(I)アルミニウム層63b/黒色系材料層63a/支持基板10/黒色系材料層63a/アルミニウム層63b
FIG. 3-2 shows an organic EL element 3B which is a modification of the element of the third embodiment. In the organic EL element 3A, the heat dissipation layer 63 is provided only on one main surface of the support substrate 10. However, in the organic EL element 3B, the heat dissipation layer 63 is provided on both main surfaces of the support substrate 10. Thus, by providing the heat dissipation layer 63 on both surfaces of the support substrate 10, heat generated by the light emitting function unit 20 as a heat source can be more smoothly transferred to the entire support substrate 10, and heat dispersibility can be further improved. . In the example illustrated in FIG. 3B, the support substrate 10 and the heat dissipation layer 63 are configured in the following order in order from the light emitting function unit 20 toward the outside (in the drawing, in order from the light emitting function unit 20 downward). .
(I) Aluminum layer 63b / black material layer 63a / support substrate 10 / black material layer 63a / aluminum layer 63b

黒色系材料層63aとアルミニウム層63bの位置は、電極形成等の設計上の都合などにより変更し得る。例えば、図3−3に示す変形例のように、支持基板10と放熱層(黒色系材料層63aおよびアルミニウム層63b)は、発光機能部20(不図示)から順に次の順序で構成してもよい。なお、以下、図3−3から図3−5において発光機能部20等の上部構成は図3−2と同様なので省略している。
(II)黒色系材料層63a/アルミニウム層63b/支持基板10/アルミニウム層63b/黒色系材料層63a
The positions of the black material layer 63a and the aluminum layer 63b can be changed depending on the design convenience such as electrode formation. For example, as in the modification shown in FIG. 3C, the support substrate 10 and the heat dissipation layer (black material layer 63a and aluminum layer 63b) are configured in the following order from the light emitting function unit 20 (not shown). Also good. In the following, in FIG. 3C to FIG. 3E, the upper configuration of the light emitting function unit 20 and the like is the same as that in FIG.
(II) Black material layer 63a / aluminum layer 63b / support substrate 10 / aluminum layer 63b / black material layer 63a

さらに、下記(III)、(IV)および(V)の順に積層してもよい(不図示)。
(III)黒色系材料層63a/アルミニウム層63b/支持基板10/黒色系材料層63a/アルミニウム層63b
(IV)アルミニウム層63b/黒色系材料層63a/支持基板10/アルミニウム層63b/黒色系材料層63a
(V)アルミニウム層63b/黒色系材料層63a/支持基板10/黒色系材料層63a/アルミニウム層63b/黒色系材料層63a
放熱性の観点からは、(V)に示す順序に積層することが好ましい。
Furthermore, you may laminate | stack in order of following (III), (IV), and (V) (not shown).
(III) Black material layer 63a / aluminum layer 63b / support substrate 10 / black material layer 63a / aluminum layer 63b
(IV) Aluminum layer 63b / black material layer 63a / support substrate 10 / aluminum layer 63b / black material layer 63a
(V) Aluminum layer 63b / black material layer 63a / support substrate 10 / black material layer 63a / aluminum layer 63b / black material layer 63a
From the viewpoint of heat dissipation, it is preferable to laminate in the order shown in (V).

図3−4に、第3の実施形態の素子のさらに他の変形例を示す。有機EL素子3Bでは、黒色系材料層63aおよびアルミニウム層63bの2層を含む放熱層63が設けられたが、図3−4に示す変形例では、アルミニウム層63bの両面に黒色系材料層63aが設けられている。このように、黒色系材料層63aを両面に設ける形態は、より放熱性を高め得るという点において、好ましい一形態である。   FIG. 3-4 shows still another modification of the element of the third embodiment. In the organic EL element 3B, the heat dissipation layer 63 including two layers of the black material layer 63a and the aluminum layer 63b is provided. However, in the modification shown in FIG. 3-4, the black material layer 63a is formed on both surfaces of the aluminum layer 63b. Is provided. Thus, the form which provides the black-type material layer 63a on both surfaces is a preferable form in the point that heat dissipation can be improved more.

図3−5に、第3の実施形態の素子のさらに別の変形例を示す。図3−5に示す変形例では、支持基板10の発光機能部側の主面(図3−5では、支持基板10の上面)には、アルミニウム層63bのみが設けれている。発光機能部を設ける側には、黒色系材料層を設けたくない場合などに採用し得る。   FIG. 3-5 shows still another modified example of the element of the third embodiment. In the modification shown in FIG. 3-5, only the aluminum layer 63b is provided on the main surface of the support substrate 10 on the light emitting function unit side (the upper surface of the support substrate 10 in FIG. 3-5). It can be employed when a black material layer is not desired to be provided on the side where the light emitting function part is provided.

図3−6に、第3の実施形態の素子のさらに別の変形例を示す。図3−6に示す変形例では、支持基板10の発光機能部側の主面(図3−6では、支持基板10の上面)に、黒色系材料層63aとアルミニウム層63bが設けられている。   FIG. 3-6 shows still another modification of the element of the third embodiment. In the modification shown in FIG. 3-6, a black material layer 63a and an aluminum layer 63b are provided on the main surface of the support substrate 10 on the light emitting function unit side (the upper surface of the support substrate 10 in FIG. 3-6). .

<第4の実施形態>
本発明の第4の実施形態について図4を参照しつつ説明する。図4に、第4の実施形態の有機EL素子4Aの断面図を示す。図4中、第3の実施形態と同様である部材については図1と同じ符号を付し、以下、第1の実施形態と異なる点を主として説明する。
<Fourth Embodiment>
A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 shows a cross-sectional view of the organic EL element 4A of the fourth embodiment. In FIG. 4, members that are the same as those in the third embodiment are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 1, and differences from the first embodiment will be mainly described below.

有機EL素子4Aは、支持基板10側から採光するボトムエミッションタイプの素子である。そのため有機EL素子4Aでは、放熱層63は、支持基板10には設けられず、封止基板30の上面に設けられている。このように、放熱層63は封止基板に設けることもできる。また図4に示す例の変形例として、封止基板30に放熱層63を設ける場合、発光機能部20と封止基板30との間に熱伝導性の高い樹脂を充填し、発光機能部20から封止基板30までの熱伝導性をさらに向上させてもよい。   The organic EL element 4A is a bottom emission type element that collects light from the support substrate 10 side. Therefore, in the organic EL element 4 </ b> A, the heat dissipation layer 63 is not provided on the support substrate 10 but is provided on the upper surface of the sealing substrate 30. Thus, the heat dissipation layer 63 can also be provided on the sealing substrate. As a modification of the example shown in FIG. 4, when the heat dissipation layer 63 is provided on the sealing substrate 30, a resin having high thermal conductivity is filled between the light emitting function unit 20 and the sealing substrate 30, and the light emitting function unit 20 is provided. The thermal conductivity from the sealing substrate 30 to the sealing substrate 30 may be further improved.

2.本発明の有機EL素子の製造方法
本発明は、上記本発明の有機EL素子を製造するために好適な方法を提供する。なお、上記本発明の有機EL素子が以下に示す製造方法に限定されるものではない。
2. The manufacturing method of the organic EL element of this invention This invention provides the suitable method in order to manufacture the organic EL element of the said invention. The organic EL device of the present invention is not limited to the manufacturing method shown below.

本発明の有機EL素子は、素子を構成する各構成部材を、支持基板上に順次積層することにより作製することができる。層の形成方法は、層の材料、下地となる層の性質などに応じて適宜選択可能であり、有機材料や無機材料で薄膜を形成する様々な成膜方法を利用して作製することができる。   The organic EL device of the present invention can be produced by sequentially laminating each constituent member constituting the device on a support substrate. The method for forming the layer can be appropriately selected depending on the material of the layer, the properties of the underlying layer, and the like, and can be manufactured using various film forming methods for forming a thin film using an organic material or an inorganic material. .

<A>複層発光部の形成方法
本発明の有機EL素子は、複数の発光層を含む複層発光部を有し、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、より陽極に近い位置に配置される。
<A> Formation method of multilayer light emitting part The organic EL device of the present invention has a multilayer light emitting part including a plurality of light emitting layers, and the light emitting layer having a longer peak wavelength of emitted light is closer to the anode. Be placed.

複層発光部を構成する各発光層は、例えば、前述の発光層を構成する材料を溶媒に溶解した塗布液を塗布する塗布法によって成膜することができる。溶媒としては、発光層を構成する材料を溶解するものであればよく、例えば、水、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒を挙げることができる。   Each light-emitting layer constituting the multilayer light-emitting portion can be formed by, for example, a coating method in which a coating solution in which the material constituting the light-emitting layer is dissolved in a solvent is applied. Any solvent may be used as long as it dissolves the material constituting the light-emitting layer. For example, water, chlorine-based solvents such as chloroform, methylene chloride, and dichloroethane, ether-based solvents such as tetrahydrofuran, and aromatic carbonization such as toluene and xylene. Examples thereof include hydrogen solvents, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and ethyl cellosolve acetate.

発光層を成膜する塗布法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、およびインクジェットプリント法などを挙げることができる。これらの塗布法のうちの1つを用いて、陽極21が形成された支持基板10上に前述した塗布液を塗布することによって、各発光層を形成することができる。   Examples of coating methods for forming a light emitting layer include spin coating, casting, micro gravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, spray coating, and screen printing. Method, flexographic printing method, offset printing method, and inkjet printing method. Each of the light emitting layers can be formed by applying the above-described coating liquid onto the support substrate 10 on which the anode 21 is formed using one of these coating methods.

複層発光部を形成する工程に関する好ましい一実施形態として、次のような製造方法が挙げられる。
複数の発光層を含む複層発光部を含む有機EL素子の製造方法であって、当該複層の複層発光部を形成する工程において、
第1の発光層を形成する材料を含む第1の塗布液を被塗布層上に塗布することにより第1の塗布膜を形成する第1の塗布工程と、
第1の塗布膜を硬化させて前記被塗布層上に第1の発光層を形成する第1の硬化工程とを含み、
第1の硬化工程において、第1の発光層に続いて形成される第2の発光層を形成する材料を含む第2の塗布液に対して第1の発光層を不溶化するように第1の塗布膜を硬化させる、
有機EL素子の製造方法。
As a preferred embodiment relating to the step of forming the multilayer light emitting part, the following production method may be mentioned.
In the method of manufacturing an organic EL element including a multilayer light emitting portion including a plurality of light emitting layers, and forming the multilayer light emitting portion of the multilayer,
A first coating step of forming a first coating film by coating a first coating liquid containing a material for forming the first light emitting layer on the coating layer;
A first curing step of curing the first coating film to form a first light emitting layer on the coated layer,
In the first curing step, the first light emitting layer is insolubilized with respect to the second coating liquid containing a material for forming the second light emitting layer formed subsequent to the first light emitting layer. Curing the coating film,
Manufacturing method of organic EL element.

発光層を形成する際、第1の発光層上に積層される第2の発光層を形成する際に使用される塗布液に対して、先に形成された第1の発光層が不溶性を備えるようにすることが好ましい。例えば、高分子化合物を主成分とする発光層を形成する場合には、その溶媒に対し、耐性を有するように不溶化させることが好適である。   When forming the light emitting layer, the first light emitting layer previously formed has insolubility with respect to the coating solution used when forming the second light emitting layer laminated on the first light emitting layer. It is preferable to do so. For example, in the case of forming a light emitting layer containing a polymer compound as a main component, it is preferable to insolubilize the solvent so as to have resistance.

具体的には各発光層を主に構成する材料と架橋剤とを含む塗布液を用いて、塗布法により塗布膜を形成した後に、発光層を主に構成する材料を架橋剤により架橋することにより発光層を不溶化することができる。架橋剤による架橋は、光または熱などの所定のエネルギーを加えることにより行うことができる。発光層を主に構成する材料とは、発光層において質量濃度の最も高い材料であり、発光層を構成する材料のうちで、蛍光、及び/又は燐光を発光する材料(以下、発光材料という場合がある)に相当する。なお発光層を主に構成する材料として、エネルギーを加えることにより架橋する基(以下、架橋基という場合がある)を分子内に有する材料を用いてもよい。この場合、塗布法を用いて発光層を形成する際に用いられる塗布液に、前述のような架橋剤を加える必要はない。   Specifically, after forming a coating film by a coating method using a coating solution containing a material mainly constituting each light emitting layer and a crosslinking agent, the material mainly constituting the light emitting layer is crosslinked with a crosslinking agent. Thus, the light emitting layer can be insolubilized. Crosslinking with a crosslinking agent can be performed by applying predetermined energy such as light or heat. The material mainly constituting the light emitting layer is a material having the highest mass concentration in the light emitting layer, and among the materials constituting the light emitting layer, a material that emits fluorescence and / or phosphorescence (hereinafter referred to as a light emitting material). Is equivalent). In addition, as a material mainly constituting the light emitting layer, a material having in its molecule a group that crosslinks when energy is applied (hereinafter sometimes referred to as a crosslinkable group) may be used. In this case, it is not necessary to add a crosslinking agent as described above to the coating solution used when forming the light emitting layer using the coating method.

架橋基としては、ビニル基などを挙げることができる。具体的には、発光層を主に構成する材料として、ベンゾシクロブタン(BCB)から少なくとも1つの水素原子を除いた残基を主鎖及び/又は側鎖に含む高分子化合物を用いたものを挙げることができる。   Examples of the crosslinking group include a vinyl group. Specifically, as a material mainly constituting the light-emitting layer, a material using a polymer compound containing a residue obtained by removing at least one hydrogen atom from benzocyclobutane (BCB) in the main chain and / or side chain is exemplified. be able to.

また、発光層を主に構成する材料の他に、塗布液に加える架橋剤としては、ビニル基、アセチル基、ブテニル基、アクリル基、アクリルアミド基、メタクリル基、メタクリルアミド基、ビニルエーテル基、ビニルアミノ基、シラノール基、シクロプロピル基、シクロブチル基、エポキシ基、オキセタン基、ジケテン基、エピスルフィド基、ラクトン基、及びラクタム基からなる群から選ばれる重合可能な置換基を有する化合物を挙げることができる。架橋剤としては、例えば多官能アクリレートが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)およびトリスペンタエリスリトールオクタアクリレート(TPEA)などがさらに好ましい。   In addition to the material mainly constituting the light emitting layer, the crosslinking agent added to the coating solution includes vinyl group, acetyl group, butenyl group, acrylic group, acrylamide group, methacryl group, methacrylamide group, vinyl ether group, vinylamino group. And a compound having a polymerizable substituent selected from the group consisting of a group, a silanol group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, an epoxy group, an oxetane group, a diketene group, an episulfide group, a lactone group, and a lactam group. As the crosslinking agent, for example, a polyfunctional acrylate is preferable, and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), trispentaerythritol octaacrylate (TPEA), and the like are more preferable.

図1に示す有機EL素子1のように陽極21上に赤色発光層23a、緑色発光層23b、青色発光層23cを順次積層させる形態について説明する。まず、赤色発光層23aを成膜する。具体的には前述した赤色発光層23aを構成する材料を溶解した塗布液を、前述した塗布法によって陽極21の表面上に塗布する。次に、塗布した膜を加熱または光照射することによって、架橋した赤色発光層23aを得る。このように架橋した赤色発光層23aは、緑色発光層23bを形成するために塗布液を塗布したとしても溶出しない。   A mode in which a red light emitting layer 23a, a green light emitting layer 23b, and a blue light emitting layer 23c are sequentially stacked on the anode 21 as in the organic EL element 1 shown in FIG. 1 will be described. First, the red light emitting layer 23a is formed. Specifically, a coating solution in which the material constituting the red light emitting layer 23a is dissolved is applied on the surface of the anode 21 by the above-described coating method. Next, the coated red light emitting layer 23a is obtained by heating or irradiating the applied film with light. The red light emitting layer 23a thus cross-linked does not elute even when a coating liquid is applied to form the green light emitting layer 23b.

次に、緑色発光層23bを成膜する。具体的には前述した緑色発光層23bを構成する材料を溶解した塗布液を、前述した塗布法によって赤色発光層23aの表面上に塗布する。次に、塗布した膜を加熱または光照射することによって、架橋した緑色発光層23bを得る。このように架橋した緑色発光層23bは、青色発光層23cを形成するために塗布液を塗布したとしても溶出しない。   Next, the green light emitting layer 23b is formed. Specifically, a coating solution in which the material constituting the green light emitting layer 23b is dissolved is applied on the surface of the red light emitting layer 23a by the above-described coating method. Next, the coated green light emitting layer 23b is obtained by heating or irradiating the applied film with light. The cross-linked green light emitting layer 23b does not elute even when a coating solution is applied to form the blue light emitting layer 23c.

次に、青色発光層23cを成膜する。具体的には前述した青色発光層23cを構成する材料を溶解した塗布液を、前述した塗布法によって緑色発光層23bの表面上に塗布して、乾燥させることによって青色発光層23cを得る。   Next, a blue light emitting layer 23c is formed. Specifically, the blue light-emitting layer 23c is obtained by applying a coating solution in which the material constituting the blue light-emitting layer 23c is dissolved onto the surface of the green light-emitting layer 23b by the above-described application method and drying.

このように、塗布液が塗布される発光層を塗布液に対して予め不溶化させることによって、発光層の表面に塗布液を塗布したときに、発光層が溶解してしまうことを防ぐことができる。これによって、各発光層の膜厚の制御が容易になり、意図した膜厚の発光層を容易に形成することができる。   Thus, by making the luminescent layer to which the coating solution is applied insoluble in the coating solution in advance, it is possible to prevent the luminescent layer from being dissolved when the coating solution is applied to the surface of the luminescent layer. . Thereby, control of the film thickness of each light emitting layer becomes easy, and the light emitting layer of the intended film thickness can be formed easily.

複層発光部23は、発光する光の波長の長い発光層ほど陽極21寄りに配置されるように積層する。但し、積層順が限定されるわけではなく、例えば、陽極21を下地層として、発光する光の波長のより長い発光層から順次積層してもよいし、陰極22寄りの層を下地層として、発光する光の波長の短い発光層から順に積層してもよい。
また、図1に示す実施形態のように、陽極21を複層発光部23よりも支持基板10寄りに設け、陰極22を複層発光部23に対して支持基板10とは反対側に設けてもよし、その変形例としては、陽極21と陰極22の配置をこの逆としてもよい。
The multilayer light emitting unit 23 is laminated so that a light emitting layer having a longer wavelength of emitted light is arranged closer to the anode 21. However, the stacking order is not limited. For example, the anode 21 may be used as a base layer, and a light emitting layer having a longer wavelength of emitted light may be sequentially stacked, or a layer closer to the cathode 22 may be used as a base layer. You may laminate | stack in order from the light emitting layer with the short wavelength of the light to light-emit.
Further, as in the embodiment shown in FIG. 1, the anode 21 is provided closer to the support substrate 10 than the multilayer light emitting unit 23, and the cathode 22 is provided on the opposite side of the support substrate 10 with respect to the multilayer light emitting unit 23. As a modification, the arrangement of the anode 21 and the cathode 22 may be reversed.

<B>陽極の形成方法
陽極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等を挙げることができる。また、陽極として、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。
<B> Method for Forming Anode Examples of a method for producing the anode include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plating method, and the like. Further, as the anode, an organic transparent conductive film such as polyaniline or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof may be used.

<C>陰極の形成方法
陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法、および金属薄膜を圧着するラミネート法等が用いられる。
<C> Method for Forming Cathode As a method for producing the cathode, a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, a laser ablation method, a laminating method for pressing a metal thin film, and the like are used.

<D>任意の構成層の形成方法
前述の通り発光機能部20は電荷注入層、電荷輸送層などの任意の構成層をさらに設け得る。これらの層は、材料の種類などに応じて、その材料を用いた様々な薄膜形成法により設けることができる。以下にこれらの層の形成方法を示す。
<D> Method for Forming Arbitrary Constituent Layer As described above, the light emitting functional unit 20 can further include arbitrary constituent layers such as a charge injection layer and a charge transport layer. These layers can be provided by various thin film forming methods using the material depending on the type of the material. The formation method of these layers is shown below.

正孔注入層の成膜方法としては、例えば、前述の正孔注入材料を溶媒に溶解した塗布液を塗布する塗布法によって成膜することができる。溶媒としては、正孔注入材料を溶解するものであればよく、例えば、水、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒を挙げることができる。   As a method for forming the hole injection layer, for example, the film can be formed by a coating method in which a coating solution in which the above-described hole injection material is dissolved in a solvent is applied. Any solvent may be used as long as it dissolves the hole injecting material. For example, water, chloroform, methylene chloride, dichloroethane and other chlorine solvents, tetrahydrofuran and other ether solvents, toluene, xylene and other aromatic hydrocarbon systems. Examples include solvents, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl cellosolve acetate.

正孔注入層を成膜する塗布法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、およびインクジェットプリント法などを挙げることができる。   As a coating method for forming a hole injection layer, a spin coating method, a casting method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, a spray coating method, Examples thereof include a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, and an ink jet printing method.

正孔輸送層の成膜の方法としては、低分子の正孔輸送材料では、高分子バインダーとの混合溶液からの成膜による方法を挙げることができ、高分子の正孔輸送材料では、溶液からの成膜による方法を挙げることができる。   As a method for forming a hole transport layer, in the case of a low molecular hole transport material, a method of forming a film from a mixed solution with a polymer binder can be mentioned. The method by the film-forming from can be mentioned.

溶液からの成膜に用いる溶媒としては、正孔輸送材料を溶解させるものであればよく、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒を挙げることができる。溶液からの成膜方法としては、正孔注入層を成膜する方法として挙げた方法と同様の塗布法を挙げることができる。   As a solvent used for film formation from a solution, any solvent capable of dissolving a hole transport material may be used. Chlorine solvents such as chloroform, methylene chloride and dichloroethane, ether solvents such as tetrahydrofuran, aromatics such as toluene and xylene. Examples thereof include hydrocarbon solvents, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl cellosolve acetate. As a film forming method from a solution, the same coating method as the method mentioned as the method of forming a hole injection layer can be mentioned.

混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収が弱いものが好適に用いられる。該高分子バインダーとしては、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサンなどを挙げることができる。   As the polymer binder to be mixed, those not extremely disturbing charge transport are preferable, and those having low absorption of visible light are suitably used. Examples of the polymer binder include polycarbonate, polyacrylate, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, and polysiloxane.

電子注入層の成膜方法としては、蒸着法、スパッタリング法、印刷法等が挙げられる。   Examples of the method for forming the electron injection layer include vapor deposition, sputtering, and printing.

電子輸送層の成膜法としては、低分子の電子輸送材料では、粉末からの真空蒸着法、若しくは溶液または溶融状態からの成膜による方法を挙げることができ、高分子の電子輸送材料では、溶液または溶融状態からの成膜による方法を挙げることができる。溶液または溶融状態からの成膜では、高分子バインダーをさらに併用してもよい。溶液から電子輸送層を成膜する方法としては、前述の溶液から正孔輸送層を成膜する方法と同様の成膜法を挙げることができる。   As a film formation method of the electron transport layer, in the case of a low molecular electron transport material, a vacuum deposition method from a powder, or a method by film formation from a solution or a molten state can be exemplified, and in a polymer electron transport material, Examples thereof include a method by film formation from a solution or a molten state. In film formation from a solution or a molten state, a polymer binder may be further used in combination. Examples of the method for forming an electron transport layer from a solution include the same film formation method as the method for forming a hole transport layer from a solution described above.

<E>放熱層の形成方法
放熱層は、前述の通り様々な形態を採用し得る。単層の放熱層を作製する場合、例えば、樹脂材料中に黒色系の顔料など熱放射を促進する材料を混合し、この樹脂材料を基板に塗布して層を形成するなどの方法を採用し得る。また、単層で高熱伝導性を有する放熱層とする場合には、例えば、樹脂材料中に高熱伝導性の微粒子を分散させると共に、黒色系の顔料を混合し、この樹脂材料を基板に塗布して層を形成するなどの方法を採用し得る。
<E> Method of forming heat dissipation layer The heat dissipation layer can adopt various forms as described above. When producing a single heat dissipation layer, for example, a method of mixing a resin material that promotes thermal radiation, such as a black pigment, and applying this resin material to a substrate to form a layer is adopted. obtain. When a heat dissipation layer having a single layer and high thermal conductivity is used, for example, high thermal conductivity fine particles are dispersed in the resin material, a black pigment is mixed, and the resin material is applied to the substrate. For example, a method of forming a layer may be employed.

複数の層を含む放熱層としては、高熱伝導性層と、高熱放射性を示す黒色系材料層とを含む積層体の形態が挙げられる。このような積層体としては、例えば、高熱伝導性層と黒色系材料層とを含む積層体が挙げられる。高熱伝導性層と黒色系材料層とを含む積層体は、例えば、高熱伝導性を示す材料から成る高熱伝導性シート(高熱伝導層)の一面または両面に、黒色系の顔料を含む塗料を塗布することにより作製することができる。このような複合シートは、予め作製し、これを支持基板に貼り合わせてもよし、または支持基板上で各層を順次形成してもよい。複数の層を含む放熱層60は、黒色系材料層などの高熱放射性を示す高熱放射性層および高熱伝導性層がそれぞれ複数層積層されて構成されていてもよい。   Examples of the heat dissipation layer including a plurality of layers include a laminated body including a high thermal conductivity layer and a black material layer exhibiting high thermal radiation. As such a laminated body, the laminated body containing a highly heat conductive layer and a black material layer is mentioned, for example. For a laminate including a high thermal conductivity layer and a black material layer, for example, a paint containing a black pigment is applied to one or both sides of a high thermal conductivity sheet (high thermal conductivity layer) made of a material exhibiting high thermal conductivity. It can produce by doing. Such a composite sheet may be prepared in advance and bonded to a support substrate, or each layer may be formed on the support substrate in sequence. The heat dissipation layer 60 including a plurality of layers may be configured by laminating a plurality of high thermal radiation layers and high thermal conductivity layers that exhibit high thermal radiation, such as a black material layer.

より具体的には、例えば、黒色塗料をアルミニウムシートの一方の主面に塗布して、黒色系材料層が形成されたシートを作製し、これを支持基板に接着剤(不図示)など用いて接着する形態が挙げられる。また、他の形態としては、支持基板に予めアルミニウムを蒸着しておき、形成されたアルミニウム層の表面に黒色塗料を塗布して黒色系材料層を形成する形態が挙げられる。   More specifically, for example, a black paint is applied to one main surface of an aluminum sheet to produce a sheet on which a black material layer is formed, and this is applied to a support substrate using an adhesive (not shown) or the like. The form which adheres is mentioned. Further, as another form, there is a form in which aluminum is vapor-deposited on a support substrate in advance and a black paint layer is applied to the surface of the formed aluminum layer to form a black material layer.

シート状の放熱層は、接着剤を介在させて基板に貼り付けてもよい。該接着剤としては、アクリル系接着剤やエポキシ系接着剤などの熱伝導性の高いものが好適に用いられる。また、ガラス基板の場合、ガラスとの接着性にも優れる点で、アクリル系接着剤が好適に用い得る。   The sheet-like heat radiation layer may be attached to the substrate with an adhesive interposed. As the adhesive, an adhesive having high thermal conductivity such as an acrylic adhesive or an epoxy adhesive is preferably used. Moreover, in the case of a glass substrate, an acrylic adhesive can be suitably used in terms of excellent adhesion to glass.

また、可塑性または可堯性を有するシート状のフィルムを支持基板または封止基板となるガラス基板に融着させてもよい。   Further, a sheet-like film having plasticity or flexibility may be fused to a glass substrate serving as a supporting substrate or a sealing substrate.

3.本発明の有機EL素子を搭載した装置
上記本発明の有機EL素子は、面状光源、照明装置、および表示装置などに用いられる。有機EL素子1を備える表示装置としては、セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置、および液晶表示装置などを挙げることができる。ドットマトリックス表示装置において有機EL素子は、画素またはバックライトとして用いられ、液晶表示装置において、有機EL素子は、バックライトとして用いられる。
3. Apparatus equipped with the organic EL element of the present invention The organic EL element of the present invention is used in a planar light source, a lighting device, a display device and the like. Examples of the display device including the organic EL element 1 include a segment display device, a dot matrix display device, and a liquid crystal display device. In the dot matrix display device, the organic EL element is used as a pixel or a backlight, and in the liquid crystal display device, the organic EL element is used as a backlight.

本発明の有機EL素子は、陽極と陰極との間に印加する電圧を変化させたときの、取出される光の色度座標における座標値xと、座標値yとの変化の幅が、それぞれ0.05以下とすることが可能であり、色味の変化が少なく、上述のような面状光源、照明装置、および表示装置に好適に用いられる。特に、照明装置としては、陽極と陰極との間に印加する電圧を変化させることによって明るさを調整したときに、色味が変化しないものが好ましく、照明装置からの光の色度座標における座標値xと、座標値yとの変化の幅が、それぞれ0.05以下のものが好ましいため、本発明の有機EL素子が照明装置用の素子として好適に用いられる。   In the organic EL device of the present invention, when the voltage applied between the anode and the cathode is changed, the width of change between the coordinate value x and the coordinate value y in the chromaticity coordinate of the extracted light is respectively It can be made 0.05 or less, has little change in color, and is suitably used for the above-described planar light source, lighting device, and display device. In particular, as the lighting device, it is preferable that the color does not change when the brightness is adjusted by changing the voltage applied between the anode and the cathode, and the coordinates in the chromaticity coordinates of the light from the lighting device are preferable. Since the change width between the value x and the coordinate value y is preferably 0.05 or less, the organic EL element of the present invention is suitably used as an element for a lighting device.

また、同様に、ドットマトリックス表示装置および液晶表示装置のバックライトとしては、明るさを調整したときに、色味が変化しないものが好ましく、バックライトからの光の色度座標における座標値xと、座標値yとの変化の幅が、それぞれ0.05以下のものが好ましいので、本発明の有機EL素子はバックライト用にも好適に用いられる。またカラーフィルターと組合わせることにより、本発明の有機EL素子は表示装置の画素としても好適に用いられる。   Similarly, the backlight of the dot matrix display device and the liquid crystal display device is preferably one that does not change color when the brightness is adjusted, and the coordinate value x in the chromaticity coordinates of the light from the backlight is Since the change width with respect to the coordinate value y is preferably 0.05 or less, the organic EL element of the present invention is also suitably used for a backlight. Further, by combining with a color filter, the organic EL element of the present invention can be suitably used as a pixel of a display device.

以下、検証実験および実施例を示しつつ、本発明についてより詳細に説明するが、本発明は下記実施例等に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail while showing verification experiments and examples, but the present invention is not limited to the following examples.

<作製例1>複層発光部を有する有機EL素子の作製
以下のようにして有機EL素子を作製した。支持基板としては、ガラス基板を用い、このガラス基板上にスパッタリング法によって成膜され、所定の形状にパターニングされたITO膜を陽極として用いた。陽極としては、厚みが150nmのものを用いた。陽極21が形成された支持基板を、アルカリ洗剤および超純水で洗浄し、乾燥させた後に、UV−O3装置(テクノビジョン株式会社製、商品名「モデル312 UV−O3クリーニングシステム」)を用いてUV−O3処理を行った。
<Production Example 1> Production of an organic EL device having a multilayer light emitting part An organic EL device was produced as follows. As the support substrate, a glass substrate was used, and an ITO film formed on the glass substrate by a sputtering method and patterned into a predetermined shape was used as an anode. An anode having a thickness of 150 nm was used. The support substrate on which the anode 21 is formed is washed with an alkaline detergent and ultrapure water, dried, and then UV-O 3 apparatus (trade name “Model 312 UV-O 3 cleaning system” manufactured by Technovision Co., Ltd.) Was subjected to UV-O 3 treatment.

次に、ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(HC スタルクヴィテック社製、商品名「BaytronP TP AI4083」)の懸濁液を、孔径が0.2μmのメンブランフィルターで濾過した。濾過して得られた液体を、スピンコートすることによって、陽極上に薄膜を形成した。次に、ホットプレート上において200℃で10分間加熱する処理を行い、膜厚が70nmの正孔注入層を得た。   Next, a suspension of poly (3,4) ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (trade name “BaytronP TP AI4083” manufactured by HC Starck Vitec Co., Ltd.) was filtered through a membrane filter having a pore size of 0.2 μm. . A thin film was formed on the anode by spin coating the liquid obtained by filtration. Next, the hot plate was heated at 200 ° C. for 10 minutes to obtain a hole injection layer having a thickness of 70 nm.

次に、赤色発光層を正孔注入層上に積層した。まず、溶媒としてキシレンを用い、赤色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、商品名「PR158」)を用い、架橋剤として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製、商品名「KAYARAD DPHA」)を用いて塗布液を調合した。発光材料と架橋剤との重量比を4:1とし、発光材料と架橋剤とを合わせた材料の塗布液における割合を1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、正孔注入層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において200℃で20分間加熱して、膜厚が10nmの赤色発光層を得た。このような加熱処理を行うことによって、薄膜を乾燥させて溶媒を除去するとともに、架橋剤を作用させて、次に塗布される塗布液に対して赤色発光層を不溶化した。   Next, a red light emitting layer was laminated on the hole injection layer. First, xylene is used as a solvent, a light emitting material (manufactured by Summation, trade name “PR158”) is used as a material mainly constituting a red light emitting layer, and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku, A coating solution was prepared using a trade name “KAYARAD DPHA”). The weight ratio of the light emitting material to the cross-linking agent was 4: 1, and the ratio of the combined material of the light emitting material and the cross-linking agent in the coating solution was 1.0% by mass. The coating solution thus obtained was spin-coated to form a thin film on the hole injection layer. Next, it heated at 200 degreeC for 20 minute (s) in nitrogen atmosphere, and obtained the red light emitting layer with a film thickness of 10 nm. By performing such a heat treatment, the thin film was dried to remove the solvent, and the crosslinking agent was allowed to act to insolubilize the red light emitting layer in the coating solution to be applied next.

次に緑色発光層を赤色発光層上に積層した。まず、溶媒としてキシレンを用い、緑色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、製品名「Green1300」)を用い、架橋剤として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製、商品名「KAYARAD DPHA」)を用いて塗布液を調合した。発光材料と架橋剤との重量比を、4:1とし、発光材料と架橋剤とを合わせた材料の塗布液における割合を1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、赤色発光層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において200℃で20分間加熱して、膜厚が15nmの緑色発光層を得た。このような加熱処理を行うことによって、薄膜を乾燥させて溶媒を除去するとともに、架橋剤を作用させて、次に塗布される塗布液に対して緑色発光層を不溶化した。   Next, the green light emitting layer was laminated | stacked on the red light emitting layer. First, xylene is used as a solvent, a light emitting material (manufactured by Summation, product name “Green 1300”) is used as a material mainly constituting the green light emitting layer, and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku, A coating solution was prepared using a trade name “KAYARAD DPHA”). The weight ratio of the light emitting material to the cross-linking agent was 4: 1, and the ratio of the combined material of the light emitting material and the cross-linking agent in the coating solution was 1.0% by mass. A thin film was formed on the red light emitting layer by spin coating the coating solution thus obtained. Next, it heated at 200 degreeC for 20 minute (s) in nitrogen atmosphere, and obtained the green light emitting layer with a film thickness of 15 nm. By performing such a heat treatment, the thin film was dried to remove the solvent, and a cross-linking agent was allowed to act to insolubilize the green light emitting layer in the coating solution to be applied next.

次に青色発光層を緑色発光層上に積層した。まず、溶媒としてキシレンを用い、青色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、商品名「BP361」)を用いて塗布液を調合した。塗布液における青色発光材料の割合を、1.5質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、緑色発光層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において130℃で20分間加熱して、膜厚が55nmの青色発光層を得た。なお、各発光層の厚み方向に垂直な平面で切った断面の形状は、2mm×2mmの正方形とした。   Next, a blue light emitting layer was laminated on the green light emitting layer. First, xylene was used as a solvent, and a coating solution was prepared using a light emitting material (manufactured by Summation Co., Ltd., trade name “BP361”) as a material mainly constituting the blue light emitting layer. The ratio of the blue light emitting material in the coating solution was 1.5% by mass. The coating solution thus obtained was spin-coated to form a thin film on the green light emitting layer. Next, it heated at 130 degreeC for 20 minute (s) in nitrogen atmosphere, and obtained the blue light emitting layer with a film thickness of 55 nm. In addition, the shape of the cross section cut by the plane perpendicular to the thickness direction of each light emitting layer was a square of 2 mm × 2 mm.

次に、青色発光層を成膜した基板を、真空蒸着気に導入して、バリウムを青色発光層上に蒸着して、膜厚が約5nmのバリウムからなる薄膜を形成し、さらにバリウムからなる薄膜上にアルミニウムを蒸着して、膜厚が約80nmのアルミニウムからなる薄膜を形成し、バリウムからなる薄膜と、アルミニウムからなる薄膜との積層体によって構成される陰極を形成した。なお、真空度が5×10-5Pa以下に達してから、バリウムおよびアルミニウムの蒸着を開始した。 Next, the substrate on which the blue light emitting layer is formed is introduced into a vacuum deposition gas, and barium is vapor-deposited on the blue light emitting layer to form a thin film made of barium having a thickness of about 5 nm, and further made of barium. Aluminum was vapor-deposited on the thin film to form a thin film made of aluminum having a thickness of about 80 nm, and a cathode composed of a laminate of a thin film made of barium and a thin film made of aluminum was formed. Note that deposition of barium and aluminum was started after the degree of vacuum reached 5 × 10 −5 Pa or less.

<比較例1>有機EL素子の作製
比較例1として、白色の波長領域で発光する一層の発光層(以下、白色発光層という場合がある)のみから成る発光部を備える有機EL素子を作製した。白色発光層以外の製造工程は、実施例の有機EL素子の製造工程と同じなので、重複する説明を省略して、白色発光層の製造工程についてのみ説明する。
<Comparative Example 1> Production of Organic EL Element As Comparative Example 1, an organic EL element having a light emitting portion composed of only a single light emitting layer (hereinafter sometimes referred to as a white light emitting layer) emitting light in a white wavelength region was produced. . Since the manufacturing process other than the white light emitting layer is the same as the manufacturing process of the organic EL element of the embodiment, the redundant description is omitted and only the manufacturing process of the white light emitting layer will be described.

まず、溶媒としてキシレンを用い、白色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、商品名「WP1330」)を用いて塗布液を調合した。塗布液における発光材料の割合は、1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、正孔注入層が形成された基板上にスピンコートすることによって、正孔注入層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において130℃で20分間加熱して、膜厚が80nmの白色発光層を得た。   First, xylene was used as a solvent, and a coating solution was prepared using a light emitting material (trade name “WP1330”, manufactured by Summation Co., Ltd.) as a material mainly constituting the white light emitting layer. The ratio of the luminescent material in the coating solution was 1.0% by mass. The thin film was formed on the positive hole injection layer by spin-coating the coating liquid obtained in this way on the board | substrate with which the positive hole injection layer was formed. Next, it heated at 130 degreeC for 20 minute (s) in nitrogen atmosphere, and obtained the white light emitting layer with a film thickness of 80 nm.

<比較例2>有機EL素子の作製
比較例2として、赤色発光層、緑色発光層、および青色発光層の3層の積層順のみが、実施例の有機EL素子とは異なる有機EL素子を作製した。陽極に最も近い層に、青色発光層を配置し、真中の層に、緑色発光層を配置し、陰極に最も近い層に赤色発光層を配置した。赤色発光層、緑色発光層、および青色発光層以外の製造工程は、実施例の有機EL素子の製造工程と同じなので、赤色発光層、緑色発光層、および青色発光層の製造工程についてのみ説明する。
Comparative Example 2 Production of Organic EL Element As Comparative Example 2, an organic EL element different from the organic EL element of the example only in the stacking order of the three layers of the red light emitting layer, the green light emitting layer, and the blue light emitting layer was produced. did. A blue light emitting layer was disposed in the layer closest to the anode, a green light emitting layer was disposed in the middle layer, and a red light emitting layer was disposed in the layer closest to the cathode. Since the manufacturing steps other than the red light emitting layer, the green light emitting layer, and the blue light emitting layer are the same as the manufacturing steps of the organic EL element of the example, only the manufacturing steps of the red light emitting layer, the green light emitting layer, and the blue light emitting layer will be described. .

まず青色発光層を正孔注入層上に積層した。塗布液の溶媒としてキシレンを用い、青色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、商品名「BP361」)を用い、架橋剤として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製、商品名「KAYARAD DPHA」)を用いて塗布液を調合した。発光材料と架橋剤との重量比を、4:1とし、発光材料と架橋剤とを合わせた材料の塗布液における割合を1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、正孔注入層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において130℃で20分間加熱して、膜厚が55nmの青色発光層を得た。このような加熱処理を行うことによって、薄膜を乾燥させて溶媒を除去するとともに、架橋剤を作用させて、次に塗布される塗布液に対して青色発光層を不溶化した。   First, a blue light emitting layer was laminated on the hole injection layer. Xylene is used as a solvent for the coating solution, a light emitting material (trade name “BP361” manufactured by Summation Co., Ltd.) is used as a material mainly constituting the blue light emitting layer, and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is used as a crosslinking agent , Trade name “KAYARAD DPHA”). The weight ratio of the light emitting material to the cross-linking agent was 4: 1, and the ratio of the combined material of the light emitting material and the cross-linking agent in the coating solution was 1.0% by mass. The coating solution thus obtained was spin-coated to form a thin film on the hole injection layer. Next, it heated at 130 degreeC for 20 minute (s) in nitrogen atmosphere, and obtained the blue light emitting layer with a film thickness of 55 nm. By performing such heat treatment, the thin film was dried to remove the solvent, and the cross-linking agent was allowed to act to insolubilize the blue light emitting layer in the coating solution to be applied next.

次に緑色発光層を青色発光層に積層した。まず、溶媒としてキシレンを用い、緑色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、製品名「Green1300」)を用い、架橋剤として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製、商品名「KAYARAD DPHA」)を用いて塗布液を調合した。発光材料と架橋剤との重量比を、4:1とし、発光材料と架橋剤とを合わせた材料の塗布液における割合を1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、青色発光層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において200℃で20分間加熱して、膜厚が15nmの緑色発光層を得た。このような加熱処理を行うことによって、薄膜を乾燥させて溶媒を除去するとともに、架橋剤を作用させて、次に塗布される塗布液に対して緑色発光層を不溶化した。   Next, the green light emitting layer was laminated on the blue light emitting layer. First, xylene is used as a solvent, a light emitting material (manufactured by Summation, product name “Green 1300”) is used as a material mainly constituting the green light emitting layer, and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku, A coating solution was prepared using a trade name “KAYARAD DPHA”). The weight ratio of the light emitting material to the cross-linking agent was 4: 1, and the ratio of the combined material of the light emitting material and the cross-linking agent in the coating solution was 1.0% by mass. A thin film was formed on the blue light emitting layer by spin coating the coating solution thus obtained. Next, it heated at 200 degreeC for 20 minute (s) in nitrogen atmosphere, and obtained the green light emitting layer with a film thickness of 15 nm. By performing such a heat treatment, the thin film was dried to remove the solvent, and a cross-linking agent was allowed to act to insolubilize the green light emitting layer in the coating solution to be applied next.

次に赤色発光層を緑色発光層上に積層した。まず、溶媒としてキシレンを用い、赤色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、商品名「PR158」)を用いて塗布液を調合した。塗布液における発光材料の割合を1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、緑色発光層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において200℃で20分間加熱して、膜厚が10nmの赤色発光層を得た。   Next, the red light emitting layer was laminated on the green light emitting layer. First, xylene was used as a solvent, and a coating solution was prepared using a light emitting material (trade name “PR158”, manufactured by Summation Co., Ltd.) as a material mainly constituting the red light emitting layer. The ratio of the luminescent material in the coating solution was 1.0% by mass. The coating solution thus obtained was spin-coated to form a thin film on the green light emitting layer. Next, it heated at 200 degreeC for 20 minute (s) in nitrogen atmosphere, and obtained the red light emitting layer with a film thickness of 10 nm.

作製例1、比較例1、比較例2の各有機EL素子にそれぞれ電圧を印加して、輝度および色度を測定した。測定では、印加する電圧を段階的に変化させ、印加する電圧毎に輝度および色度を測定した。測定結果を表1に示す。   A voltage was applied to each organic EL element of Production Example 1, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 to measure luminance and chromaticity. In the measurement, the applied voltage was changed stepwise, and the luminance and chromaticity were measured for each applied voltage. The measurement results are shown in Table 1.

Figure 2010147179
Figure 2010147179

印加する電圧を変えて輝度を100cd/m2〜10000cd/m2まで変化させたときの、実施例、比較例1、比較例2の各有機EL素子のCIE色度座標における座標値x,yのそれぞれの変化幅を表2に示す。 When changing the luminance to 100cd / m 2 ~10000cd / m 2 by changing the voltage to be applied, Examples, Comparative Example 1, the coordinate value x in the CIE chromaticity coordinates of the organic EL device of Comparative Example 2, y Table 2 shows the respective change widths.

Figure 2010147179
Figure 2010147179

表1および表2に示すように、実施例1の有機EL素子は、印加する電圧を変えて輝度を100cd/m2〜10000cd/m2まで変化させたときの、取出される光の色度座標における座標値xと、座標値yとの変化の幅が、それぞれ0.016以下であった。 As shown in Table 1 and Table 2, the organic EL device of Example 1, when the brightness by changing the voltage to be applied was changed from 100cd / m 2 ~10000cd / m 2 , the light extracted chromaticity The width of change between the coordinate value x and the coordinate value y in the coordinates was 0.016 or less, respectively.

表1に示すように、実施例1の有機EL素子は、3層の発光層を設けることによって、1層の発光層のみからなる比較例1の有機EL素子よりも電流効率の最大値が向上した。
また、実施例1の有機EL素子は、3層の発光層を所定の配置にすることによって、比較例2の有機EL素子よりも電流効率の最大値が向上した。
As shown in Table 1, the organic EL element of Example 1 has a maximum current efficiency improved by providing three light emitting layers as compared with the organic EL element of Comparative Example 1 composed of only one light emitting layer. did.
Moreover, the organic EL element of Example 1 improved the maximum value of current efficiency as compared with the organic EL element of Comparative Example 2 by arranging the three light emitting layers in a predetermined arrangement.

また、表2に示すように、実施例1の有機EL素子は、3層の発光層を設けることによって、1層の発光層のみからなる比較例1の有機EL素子よりも、電圧の変化に対する色味の変化が少なかった。また、実施例1の有機EL素子は、3層の発光層を所定の配置にすることによって、比較例2の有機EL素子よりも、電圧の変化に対する色味の変化が少なかった。   Moreover, as shown in Table 2, the organic EL device of Example 1 is more resistant to changes in voltage than the organic EL device of Comparative Example 1 having only one light emitting layer by providing three light emitting layers. There was little change in color. Moreover, the organic EL element of Example 1 had less change in color with respect to voltage change than the organic EL element of Comparative Example 2 by arranging the three light emitting layers in a predetermined arrangement.

<放熱性、熱伝導性に関する検証実験等>
検証実験は、図5に示すような試験装置を用いて行った。本発明は、有機EL素子の発光機能部部分の構造には実質的に依存しないと考えられるため、熱源として自作のポイントヒーターを用い、ガラス、熱放射率の高い素材が被覆されたアルミニウムシートなどを用いて評価をおこなった。図5に示すように試験台80の上にはホットプレート81が設けられ、その中央部には、円柱形状の熱伝導部83が設けれられている。熱伝導部83は真鍮製であり、また、熱伝導部83の側面には断熱シート82が巻かれている。熱伝導部83の上端部には試験基板保持ガラス12が設けられている。そして、試験基板保持ガラス12上に、被試験体となる試験基板15が載置される。試験基板15上面部は、その上方からから温度センサー84によって温度が測定される。当該試験基板15の上面部から放射熱を測定する。
<Verification experiments on heat dissipation and thermal conductivity>
The verification experiment was performed using a test apparatus as shown in FIG. Since the present invention is considered to be substantially independent of the structure of the light emitting function part of the organic EL element, a self-made point heater is used as a heat source, glass, an aluminum sheet coated with a material having a high thermal emissivity, and the like Evaluation was performed using. As shown in FIG. 5, a hot plate 81 is provided on the test stand 80, and a columnar heat conduction portion 83 is provided at the center thereof. The heat conducting portion 83 is made of brass, and a heat insulating sheet 82 is wound around the side surface of the heat conducting portion 83. A test substrate holding glass 12 is provided on the upper end portion of the heat conducting portion 83. Then, a test substrate 15 to be tested is placed on the test substrate holding glass 12. The temperature of the upper surface portion of the test substrate 15 is measured by the temperature sensor 84 from above. Radiant heat is measured from the upper surface of the test substrate 15.

図6に、試験基板保持ガラス12上に載置された試験基板15の平面図を示す。試験基板15上に示すA〜Kの符号は、温度センサー84による上方からの測定位置を示す。また、中央部の破線は、試験基板保持ガラス12の下にある熱伝導部83の上端面の位置を示す。このように中央部に熱源を設け、試験基板15の一方の角部から中央部さらに対角にある他方の角部まで複数の位置を測定することにより、試験基板15の熱拡散性を測定することができる。   FIG. 6 shows a plan view of the test substrate 15 placed on the test substrate holding glass 12. Reference signs A to K shown on the test substrate 15 indicate measurement positions from above by the temperature sensor 84. Moreover, the broken line in the center indicates the position of the upper end surface of the heat conducting portion 83 below the test substrate holding glass 12. In this way, a heat source is provided at the center, and the thermal diffusivity of the test substrate 15 is measured by measuring a plurality of positions from one corner of the test substrate 15 to the center and the other corner on the opposite side. be able to.

各試験基板の評価は次の要領にて行った。まず、放熱効果については、最大温度(試験基板の中心部)の低下レベルを指標とした。具体的には、比較試験例1(ガラス基板のみ)における試験基板の最大温度(中心部の温度)を最大温度の最高値とし、この最高値を他の試験基板の中心部の最大温度から引いた差として求めた。最大温度が低く、最大温度の差がマイナス側に大きくなるほど熱放射性が優れることを示す。また、均熱性(熱分散性)については、各試験基板内での測定位置ごとの温度により示される温度分布を指標とした。試験基板内での温度分布に偏りが少ないほど、均熱化に優れることを示す。   Each test substrate was evaluated as follows. First, for the heat dissipation effect, the decrease level of the maximum temperature (the central part of the test substrate) was used as an index. Specifically, the maximum temperature of the test substrate (temperature at the center) in Comparative Test Example 1 (glass substrate only) is set as the maximum value of the maximum temperature, and this maximum value is subtracted from the maximum temperature at the center of other test substrates. It was calculated as a difference. The lower the maximum temperature and the greater the difference between the maximum temperatures, the better the thermal radiation. In addition, for the soaking property (heat dispersibility), the temperature distribution indicated by the temperature at each measurement position in each test substrate was used as an index. The smaller the temperature distribution in the test substrate, the better the temperature uniformity.

<実施試験例1>
実施試験例1として、図7−1に示す試験基板を用いた。実施試験例1の試験基板として、ガラス基板11(厚さ0.7mm)に、熱放射率が高い黒色塗装を施した高熱伝導性アルミニウムシートとガラス基板に接着させるための接着材からなるシート(神戸製鋼社製、商品名:コーべホーネツ・アルミ(KS750)、熱伝導率230W/mK、熱放射率0.86)を設けた基板を作製した。したがって、実施試験例1の試験基板は、試験基板保持ガラス12から順に、ガラス基板11/アルミニウム層63b/黒色系材料層63aが順次積層された積層体として構成されている。
<Execution test example 1>
As Test Example 1, the test substrate shown in FIG. As a test substrate of Example 1, a sheet made of a glass substrate 11 (thickness 0.7 mm) made of a highly thermally conductive aluminum sheet coated with black with high thermal emissivity and an adhesive for bonding the glass substrate ( A substrate provided with Kobe Steel, trade name: Kobebenets Aluminum (KS750), thermal conductivity 230 W / mK, thermal emissivity 0.86) was produced. Therefore, the test substrate of Example 1 is configured as a laminate in which the glass substrate 11 / aluminum layer 63b / black material layer 63a are sequentially laminated in order from the test substrate holding glass 12.

ホットプレートの設定温度は、比較試験例1の試験ガラス基板が90℃になる温度を基準とし、その温度になるように設定して試験基板を加熱した。測定点の温度の揺らぎが±0.2℃の範囲に収まる状態で温度が安定したと判断し、図6に示すA〜Kの位置について温度センサー84を用いて温度を測定した。   The set temperature of the hot plate was set so as to be the temperature at which the test glass substrate of Comparative Test Example 1 was 90 ° C., and the test substrate was heated. It was judged that the temperature was stable in a state where the fluctuation of the temperature at the measurement point was within a range of ± 0.2 ° C., and the temperature was measured using the temperature sensor 84 at positions A to K shown in FIG.

<実施試験例2>
試験基板として図7−2に示すものを用いた点以外は、上記実施試験例1と同様にして、試験基板の熱放射性および均熱性について試験をした。実施試験例2の試験基板は、図7−2に示すように、ガラス基板の両面に高熱伝導性および高熱放射性を有する層が貼付されている。すなわち、実施試験例3の試験基板は、試験基板保持ガラス12側から順に、黒色系材料層63a/アルミニウム層63b/ガラス基板11/アルミニウム層63b/黒色系材料層63aが順次積層された積層体として構成されている。
<Execution test example 2>
Except that the test substrate shown in FIG. 7-2 was used, the test substrate was tested for thermal radiation and thermal uniformity in the same manner as in Test Example 1 described above. As shown in FIG. 7-2, the test substrate of Example 2 has a layer having high thermal conductivity and high thermal radiation on both surfaces of the glass substrate. That is, the test substrate of Example 3 is a laminate in which the black material layer 63a / aluminum layer 63b / glass substrate 11 / aluminum layer 63b / black material layer 63a are sequentially laminated from the test substrate holding glass 12 side. It is configured as.

<実施試験例3>
試験基板として図7−3に示すものを用いた点以外は、上記実施試験例1と同様にして、試験基板の熱放射性および均熱性について試験をした。実施試験例3の試験基板は、図7−3に示すように、ガラス基板の外面側(発光機能部が形成される側とは反対側)表面に高熱伝導性および高熱放射性を有する層が貼付され、他方、内面側表面にはアルミニウムシートのみ貼付されている。したがって、実施試験例3の試験基板は、試験基板保持ガラス12側から順に、アルミニウム層63b/ガラス基板11/アルミニウム層63b/黒色系材料層63aが順次積層された積層体で構成されている。
<Execution test example 3>
Except that the test substrate shown in FIG. 7-3 was used, the test substrate was tested for thermal radiation and thermal uniformity in the same manner as in Test Example 1. As shown in FIG. 7-3, the test substrate of Test Example 3 is provided with a layer having high thermal conductivity and high thermal radiation on the surface of the glass substrate (on the side opposite to the side where the light emitting function part is formed). On the other hand, only the aluminum sheet is stuck on the inner surface. Therefore, the test substrate of Example 3 is composed of a laminate in which the aluminum layer 63b / glass substrate 11 / aluminum layer 63b / black material layer 63a are sequentially laminated from the test substrate holding glass 12 side.

<比較試験例1>
試験基板として図7−4に示すものを用いた点以外は、上記実施試験例1と同様にして、試験基板の熱放射性および均熱性について試験をした。比較試験例3の試験基板としては、図7−4に示すようにガラス基板11単体が用いられた。
<Comparative Test Example 1>
Except that the test substrate shown in FIG. 7-4 was used, the test substrate was tested for thermal radiation and thermal uniformity in the same manner as in Test Example 1. As a test substrate of Comparative Test Example 3, a single glass substrate 11 was used as shown in FIG.

<比較試験例2>
試験基板として、図7−5に示すものを用いた点以外は、上記実施試験例1と同様にして、試験基板の熱放射性および均熱性について試験をした。比較試験例2の試験基板は、図7−5に示すように、ガラス基板11の発光機能部が形成される側の表面にアルミニウムシートのみ貼付されている。したがって、比較試験例2における試験基板15は、試験基板保持ガラス12から順に、アルミニウム層63b/ガラス基板11が順次積層された積層体で構成されている。
<Comparative Test Example 2>
Except that the test substrate shown in FIG. 7-5 was used, the test substrate was tested for thermal radiation and thermal uniformity in the same manner as in Test Example 1 described above. In the test substrate of Comparative Test Example 2, as shown in FIG. 7-5, only the aluminum sheet is attached to the surface of the glass substrate 11 on the side where the light emitting function portion is formed. Therefore, the test substrate 15 in the comparative test example 2 is configured by a laminated body in which the aluminum layer 63b / the glass substrate 11 are sequentially laminated in order from the test substrate holding glass 12.

<評価>
以上の実施試験例1から3、並びに比較試験例1および2についての上記検証試験結果を図8および表3に示す。
<Evaluation>
FIG. 8 and Table 3 show the verification test results for the above-described Example Tests 1 to 3 and Comparative Test Examples 1 and 2.

Figure 2010147179
Figure 2010147179

表3は最大温度および最大・最小温度差の一覧を示す。最大温度は、各試験基板について最も高い温度を示した値であり、各試験基板の中央部の温度を示す。また括弧内の数値は、各試験基板における最高温度から比較試験例1の最大温度(すなわち、90.0℃)を差し引いた値である。また、最大−最小温度の数値は、同一試験基板内での最大値および最小値の差であり、均熱性(熱分散性)の指標である。   Table 3 shows a list of maximum temperatures and maximum / minimum temperature differences. The maximum temperature is a value indicating the highest temperature for each test substrate, and indicates the temperature at the center of each test substrate. The numerical value in parentheses is a value obtained by subtracting the maximum temperature of Comparative Test Example 1 (ie, 90.0 ° C.) from the maximum temperature of each test substrate. Moreover, the numerical value of the maximum-minimum temperature is a difference between the maximum value and the minimum value in the same test substrate, and is an index of heat uniformity (heat dispersibility).

表3に示されるとおり、実施試験例1〜3のいずれも、比較試験例1および2よりも最大温度が低く、最大温度を示す中央部において熱をより多く逃がしていることが明らかになった。また、比較試験例1および2の方が最大−最小温度差の値が大きく、同一基板内での温度差が大きいことが明らかになった。   As shown in Table 3, it was revealed that all of the test examples 1 to 3 had a lower maximum temperature than the comparative test examples 1 and 2 and released more heat at the central portion showing the maximum temperature. . Further, it was found that Comparative Test Examples 1 and 2 have a larger maximum-minimum temperature difference value, and the temperature difference in the same substrate is larger.

図8に示されるように、比較例1および2においては、試験基板周辺部の測定位置A〜CおよびI〜Kが約40〜55℃程度であるのに対し、基板中央部の測定位置D〜Hにおいては、約80〜90℃程度と顕著な温度差が認められた。このように比較試験例1および2に供された試験基板は、均熱性(熱分散性)が低いことが明らかとなった。   As shown in FIG. 8, in Comparative Examples 1 and 2, the measurement positions A to C and I to K at the periphery of the test substrate are about 40 to 55 ° C., whereas the measurement position D at the center of the substrate is shown. In ˜H, a remarkable temperature difference of about 80 to 90 ° C. was observed. As described above, it was revealed that the test substrates used in Comparative Test Examples 1 and 2 have low heat uniformity (heat dispersibility).

これに対し、実施試験例1〜3については、測定位置A〜K間における温度分布が、およそ70〜80℃程度の間でなだらかに分布していることが明らかとなった。すなわち、実施試験例1〜3に供された試験基板は、均熱性(熱分散性)が高いことが明らかとなった。   On the other hand, regarding the test examples 1 to 3, it became clear that the temperature distribution between the measurement positions A to K was gently distributed between about 70 to 80 ° C. That is, it was revealed that the test substrates provided for the test examples 1 to 3 have high heat uniformity (heat dispersibility).

<作製例2>ボトムエミッション型有機EL素子の作製
以下の方法で、ボトムエミッション型有機EL素子を作製した。まず、30x40mmサイズの有機EL素子用のITO透明導電膜パターンおよびCrパターンが複数個形成された200x200mmガラス基板を作製した。ITO透明導電膜はスパッタ法で膜厚約150nm成膜し、Crはスパッタ法で200nmをパターニングした。
<Production Example 2> Production of bottom emission type organic EL device A bottom emission type organic EL device was produced by the following method. First, a 200 × 200 mm glass substrate on which a plurality of ITO transparent conductive film patterns and Cr patterns for organic EL elements of 30 × 40 mm size were formed was produced. The ITO transparent conductive film was formed to a film thickness of about 150 nm by sputtering, and Cr was patterned to 200 nm by sputtering.

次に、ITOおよびCrパターン付きガラス基板に、ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(HCスタルク社製、Bytron P TP AI 4083)の懸濁液を用いて、スピンコート法により成膜し、オーブン上で200℃、20分間の乾燥をして60nmの厚さの正孔注入層を形成した。その後で、有機EL素子周囲の不要部分の正孔注入層を水で浸したワイパーで拭き取り除去した。   Next, by using a suspension of poly (3,4) ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (by HC Starck, Bytron P TP AI 4083) on a glass substrate with ITO and Cr pattern, a spin coating method is used. The film was formed and dried in an oven at 200 ° C. for 20 minutes to form a hole injection layer having a thickness of 60 nm. Thereafter, unnecessary hole injection layers around the organic EL element were wiped off with a wiper soaked in water.

次に、シクロヘキサノンとキシレンを1:1に混合した溶媒を用いて高分子有機発光材料(ルメーションGP1300、サメイション社製)の1.5重量%の溶液を作製し、この溶液を用いてスピンコート法により、正孔注入層を形成した基板上に塗布し発光層を形成した。その後で素子周辺部の不要部分の発光層を有機溶剤で拭き取った後、真空乾燥(圧力1×10-4Pa以下、温度約170℃、15分加熱)を行った。 Next, using a solvent in which cyclohexanone and xylene are mixed in a 1: 1 ratio, a 1.5% by weight solution of a polymer organic light emitting material (Lumation GP1300, manufactured by Summation) is prepared, and spin coating is performed using this solution. By coating on the substrate on which the hole injection layer was formed, a light emitting layer was formed. Thereafter, an unnecessary portion of the light emitting layer in the periphery of the device was wiped off with an organic solvent, followed by vacuum drying (pressure 1 × 10 −4 Pa or less, temperature about 170 ° C., heating for 15 minutes).

その後、蒸着チャンバーに基板を移し、陰極マスクとアライメントしたあとで陰極を蒸着する。陰極は、抵抗加熱法にてBa金属を加熱し蒸着速度約2Å/sec、膜厚50Åにて蒸着、電子ビーム蒸着法を用いてAlを蒸着速度約10Å/sec、膜厚1000Åにて蒸着した。陰極形成後、蒸着室から大気には曝露せず、不活性雰囲気下のグローブボックスに移す。   Thereafter, the substrate is transferred to a deposition chamber, and after alignment with the cathode mask, the cathode is deposited. For the cathode, Ba metal was heated by a resistance heating method and deposited at a deposition rate of about 2 mm / sec and a film thickness of 50 mm, and Al was deposited at an evaporation rate of about 10 mm / sec and a film thickness of 1000 mm using an electron beam deposition method. . After forming the cathode, it is not exposed to the atmosphere from the vapor deposition chamber, but is transferred to a glove box under an inert atmosphere.

ついで、黒色塗装が施された高熱伝導性材料からなる材料を貼り付けたガラス封止基板(厚さ0.7mm)を準備した。黒色塗装が施された高熱伝導性材料には、熱放射率が高い黒色塗装を施した高熱伝導性アルミニウムシートとガラス基板に接着させるための接着材からなるシート(神戸製鋼社製、商品名:コーベホーネツ・アルミ(KS750)、熱伝導率230W/mK、熱放射率:0.86)を用いた。黒色塗装が施された高熱伝導性材料のガラス封止基板への接着は、熱硬化性樹脂(Robnor resins社製、商品名:PX681C/NC)を使用し、接着エリアは周辺部とした。全面塗布後、ガラス封止基板を不活性雰囲気下のグローブボックスに入れて、陰極形成された基板と位置合せをしたあとで貼り合せ、さらに真空に保った後で大気圧に戻し、加熱により素子基板と封止基板を固定し高分子有機EL素子を作製した。なお用いた熱硬化性樹脂の硬化前の粘度は50mPa・sであった。   Next, a glass-sealed substrate (thickness 0.7 mm) on which a material made of a high thermal conductivity material to which black coating was applied was prepared. The high thermal conductivity material with black coating is made of a high thermal conductivity aluminum sheet with high thermal emissivity and a sheet made of an adhesive for bonding to a glass substrate (trade name: manufactured by Kobe Steel) Kobebenets aluminum (KS750), thermal conductivity 230 W / mK, thermal emissivity: 0.86) was used. Adhesion of the high thermal conductivity material coated with black to the glass sealing substrate was performed using a thermosetting resin (Robner Resins, trade name: PX681C / NC), and the adhesion area was a peripheral part. After coating the entire surface, place the glass-sealed substrate in a glove box under an inert atmosphere, align it with the substrate on which the cathode is formed, bond it, hold it in a vacuum, return it to atmospheric pressure, and heat the element The substrate and the sealing substrate were fixed to produce a polymer organic EL device. The used thermosetting resin had a viscosity before curing of 50 mPa · s.

<作製例3>ボトムエミッション型有機EL素子の作製
作製例3では、上記作製例2における素子基板と封止基板の材料組み合わせが反対である。すなわち、支持基板に黒色塗装が施された高熱伝導性材料からなる材料を貼り付けた基板を用い、封止基板にはガラス基板を用い、全面封止を行なっている。これにより封止基板側から光を取り出すいわゆるトップエミッション型の素子において、実施例1と同様に表面温度分布が均一な素子を作製することができる。
<Production Example 3> Production of Bottom Emission Type Organic EL Element In Production Example 3, the material combination of the element substrate and the sealing substrate in Production Example 2 is opposite. That is, the whole substrate is sealed by using a substrate on which a material made of a high thermal conductivity material coated with black paint is attached to a support substrate, and using a glass substrate as a sealing substrate. Thus, in a so-called top emission type element that extracts light from the sealing substrate side, an element having a uniform surface temperature distribution can be manufactured as in the first embodiment.

本発明の第1の実施形態の有機EL素子の断面図である。It is sectional drawing of the organic EL element of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態の有機EL素子の断面図である。It is sectional drawing of the organic EL element of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態の一変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one modification of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態の一変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one modification of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態の一変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one modification of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態の一変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one modification of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態の一変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one modification of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 4th Embodiment of this invention. 検証実験装置の側面を示す図である。It is a figure which shows the side surface of a verification experiment apparatus. 検証実験装置上に載置される試験基板および測定位置を示す平面図である。It is a top view which shows the test board | substrate mounted on a verification experiment apparatus, and a measurement position. 実施試験例1に供された試験基板の断面図を示す図である。It is a figure which shows sectional drawing of the test board | substrate provided to the implementation test example 1. FIG. 実施試験例2に供された試験基板の断面図を示す図である。It is a figure which shows sectional drawing of the test board | substrate provided to the implementation test example 2. FIG. 実施試験例3に供された試験基板の断面図を示す図である。It is a figure which shows sectional drawing of the test board | substrate provided to the implementation test example 3. FIG. 比較試験例1に供された試験基板の断面図を示す図である。It is a figure which shows sectional drawing of the test board | substrate provided to the comparative test example 1. FIG. 比較試験例2に供された試験基板の断面図を示す図である。It is a figure which shows sectional drawing of the test board | substrate provided to the comparative test example 2. FIG. 検証試験結果を示す図である。It is a figure which shows a verification test result.

符号の説明Explanation of symbols

1、2、3A、3B、4A 有機EL素子
10 支持基板
11 ガラス基板
12 試験基板保持ガラス
15 試験基板
20 発光機能部
21 陽極
22 陰極
23 複層発光部
23a 赤色発光層
23b 緑色発光層
23c 青色発光層
30、31 封止基板
40 接着部
60、61 放熱層
63 高熱伝導性を備える2層構造放熱層
63a 黒色系材料層
63b アルミニウム層
64 3層で構成される、高熱伝導性を備える3層構造放熱層
80 試験台
81 ホットプレート
82 断熱シート
83 熱伝導部(熱源、真鍮)
84 温度センサー
A〜K(図6において) 測定位置
1, 2, 3A, 3B, 4A Organic EL element 10 Support substrate 11 Glass substrate 12 Test substrate holding glass 15 Test substrate 20 Light emitting function portion 21 Anode 22 Cathode 23 Multi-layer light emitting portion 23a Red light emitting layer 23b Green light emitting layer 23c Blue light emitting Layers 30, 31 Sealing substrate 40 Adhesion 60, 61 Heat dissipation layer 63 Two-layer structure heat dissipation layer 63 having high thermal conductivity 63a Black material layer 63b Aluminum layer 64 Three-layer structure having high thermal conductivity composed of three layers Heat radiation layer 80 Test stand 81 Hot plate 82 Heat insulation sheet 83 Heat conduction part (heat source, brass)
84 Temperature sensor AK (in Fig. 6) Measurement position

Claims (18)

陽極と、
陰極と、
前記陽極および陰極の間において、発光する光のピーク波長のより長い発光層ほど前記陽極により近い位置に配置されている複数の発光層が積層されて成る複層発光部と、
前記陽極、前記陰極および前記複層発光部を含む積層体が搭載される支持基板と、
該支持基板と対向して配置され、前記支持基板とともに前記積層体を挟む封止基板と、
前記支持基板の少なくとも一方の主面、または、前記封止基板の少なくとも一方の主面に配置され、かつ熱放射率が0.70以上である放熱層と、
を備える有機エレクトロルミネッセンス素子。
The anode,
A cathode,
Between the anode and the cathode, a multi-layer light emitting part formed by laminating a plurality of light emitting layers disposed closer to the anode as the light emitting layer having a longer peak wavelength of emitted light;
A support substrate on which a laminate including the anode, the cathode, and the multilayer light emitting unit is mounted;
A sealing substrate disposed opposite to the support substrate and sandwiching the laminate together with the support substrate;
A heat dissipating layer disposed on at least one main surface of the support substrate or at least one main surface of the sealing substrate and having a thermal emissivity of 0.70 or more;
An organic electroluminescence device comprising:
前記複層発光部が、赤色の光を発する発光層と、緑色の光を発する発光層と、青色の光を発する発光層との3層からなる、請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the multilayer light-emitting portion includes three layers of a light-emitting layer that emits red light, a light-emitting layer that emits green light, and a light-emitting layer that emits blue light. 発光層が、発光性高分子有機化合物を含む層である、請求項1または2記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element of Claim 1 or 2 whose light emitting layer is a layer containing a luminescent high molecular organic compound. 陽極と陰極との間に印加する電圧を変化させたときの、外に取出される光の色度座標における座標値xと、座標値yとの変化の幅が、それぞれ0.05以下である、請求項1から3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   When the voltage applied between the anode and the cathode is changed, the width of change between the coordinate value x and the coordinate value y in the chromaticity coordinates of the light extracted outside is 0.05 or less, respectively. The organic electroluminescent element according to any one of claims 1 to 3. 前記放熱層の熱放射率が0.85以上である、請求項1から4のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element according to any one of claims 1 to 4, wherein the heat emissivity of the heat dissipation layer is 0.85 or more. 前記放熱層の熱伝導率が1W/mK以上である、請求項1から5のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the heat dissipation layer has a thermal conductivity of 1 W / mK or more. 前記放熱層の熱伝導率が200W/mK以上である、請求項1から6のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the heat dissipation layer has a thermal conductivity of 200 W / mK or more. 前記放熱層が、黒色系材料を含む、請求項1から7のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element according to claim 1, wherein the heat dissipation layer includes a black material. 前記放熱層が、高熱伝導性層と黒色系材料層とを含む積層構造を有する、請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescence element according to claim 8, wherein the heat dissipation layer has a laminated structure including a high thermal conductivity layer and a black material layer. 前記高熱伝導性層が、アルミニウム、銅、銀、セラミックス材料、およびこれらから選ばれる2種以上の合金からなる群より選ばれる無機材料、または高熱伝導性の樹脂で形成されてなる、請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The high thermal conductivity layer is formed of an inorganic material selected from the group consisting of aluminum, copper, silver, a ceramic material, and two or more alloys selected from these, or a high thermal conductivity resin. The organic electroluminescent element of description. 前記支持基板がガラス基板であり、当該ガラス基板の少なくとも一方の主面に、前記放熱層が設けられる、請求項1から10のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescence element according to any one of claims 1 to 10, wherein the support substrate is a glass substrate, and the heat dissipation layer is provided on at least one main surface of the glass substrate. 前記ガラス基板の前記積層体が搭載される主面とは反対側の主面に、前記放熱層が設けられる、請求項11に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element according to claim 11, wherein the heat dissipation layer is provided on a main surface opposite to a main surface on which the laminate of the glass substrate is mounted. 前記ガラス基板の両主面に、前記放熱層が設けられる、請求項13に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element according to claim 13, wherein the heat dissipation layer is provided on both main surfaces of the glass substrate. 前記ガラス基板の前記積層体が搭載される主面とは反対側の主面に前記放熱層が設けられ、かつ、前記ガラス基板の前記積層体側の主面に高熱伝導性層が設けられる、請求項11に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The heat dissipation layer is provided on a main surface opposite to the main surface on which the laminate of the glass substrate is mounted, and a high thermal conductivity layer is provided on the main surface of the glass substrate on the laminate. Item 12. The organic electroluminescence device according to Item 11. 前記封止基板がガラス基板であり、当該ガラス基板の少なくとも一方の主面に、前記放熱層が設けられる、請求項1から14のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescent element according to any one of claims 1 to 14, wherein the sealing substrate is a glass substrate, and the heat dissipation layer is provided on at least one main surface of the glass substrate. 請求項1から15のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える面状光源。   A planar light source comprising the organic electroluminescence element according to any one of claims 1 to 15. 請求項1から15のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える照明装置。   An illuminating device provided with the organic electroluminescent element as described in any one of Claims 1-15. 請求項1から15のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える表示装置。   A display apparatus provided with the organic electroluminescent element as described in any one of Claims 1-15.
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