JP2010126416A - Sintered compact and producing method of the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、焼結体、特に、磁気ヘッドスライダに好適な焼結体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a sintered body, and more particularly to a sintered body suitable for a magnetic head slider and a method for manufacturing the same.
ハードディスク装置(HDD)には、ハードディスクに対して情報の書き込み及び読み出しを行うための磁気ヘッドスライダが搭載されている。磁気ヘッドスライダは、基板に磁気ヘッドが搭載された構成を有するが、この基板は、一般にセラミック焼結体から構成されている。基板用のセラミック焼結体としては、近年では、アルミナと炭化チタンを主成分とする高強度の焼結体、いわゆるアルティック焼結体が広く知られている(例えば、特許文献1参照)。
アルティック焼結体を用いて磁気ヘッドスライダを製造する場合、一般に、アルティック焼結体からなる基板上に磁気ヘッドを含む積層体を積層した後、これを積層方向に平行に切断して磁気ヘッドの露出面を形成し、この露出面を研磨(ラッピング)してエアベアリング面を形成する方法が行われる。従来、この研磨の際には、アルティック焼結体が磁気ヘッドを含む積層体の部分よりも研磨速度が遅いため、研磨によりこれらの部分に段差が生じることが少なくなかった。このような段差は、ハードディスクに対する磁気ヘッドの高さ(フライハイト)の制御を困難とするため、好ましくない。 When manufacturing a magnetic head slider using an AlTiC sintered body, in general, a laminated body including a magnetic head is laminated on a substrate made of an AlTiC sintered body, and then this is cut in parallel with the laminating direction to magnetically. A method of forming an air bearing surface by forming an exposed surface of the head and polishing (lapping) the exposed surface is performed. Conventionally, in this polishing, the AlTiC sintered body has a lower polishing rate than the portion of the laminated body including the magnetic head, so that there are not a few steps in these portions caused by the polishing. Such a step is not preferable because it makes it difficult to control the height (fly height) of the magnetic head relative to the hard disk.
そこで、ラッピング工程において、アルティック焼結体からなる基板と、この基板上に形成した積層体との研磨速度の違いに起因するエアベアリング面の段差を低減し、エアベアリング面を平滑化することが求められている。 Therefore, in the lapping process, the step of the air bearing surface due to the difference in polishing rate between the substrate made of the Altic sintered body and the laminate formed on this substrate is reduced, and the air bearing surface is smoothed. Is required.
また特に、最近では、HDDに対して更なる小型化が急速に進められており、このように小型化されたHDDにおいては、磁気ヘッドのフライハイトが更に小さくされる傾向にあるため、上述したエアベアリング面の更なる平滑化が望まれている。エアベアリング面の平滑化には、上述したような段差を小さくするほかに、エアベアリング面を形成する際の研磨加工によって形成され易い微小なボイドを低減することが考えられる。しかしながら、本発明者らの検討によると、上記のような段差の解消のために高い研磨加工性を得ようとすればするほど、反対にボイドは形成され易くなる傾向にあり、高い研磨加工性とボイドの低減とを両立するのは困難な傾向にあった。 In particular, recently, further miniaturization of HDDs has been rapidly progressing. In such miniaturized HDDs, the fly height of the magnetic head tends to be further reduced, so that the air described above is used. Further smoothing of the bearing surface is desired. In order to smooth the air bearing surface, it is conceivable to reduce minute voids that are easily formed by polishing when forming the air bearing surface, in addition to reducing the level difference as described above. However, according to the study by the present inventors, voids tend to be formed more easily as higher polishing processability is obtained in order to eliminate the above-described step difference. It tends to be difficult to achieve both reduction of voids and voids.
そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、磁気ヘッドスライダの製造における研磨加工において、高い研磨加工性が得られるとともに、加工面のボイドの発生を抑制することも可能な焼結体を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been made in view of such circumstances, and in polishing processing in manufacturing a magnetic head slider, high polishing workability can be obtained and generation of voids on the processing surface can be suppressed. An object of the present invention is to provide a sintered body.
上記目的を達成するため、本発明の焼結体は、Al2O3、TiCO、Al及びTiを含む複合酸化物並びにCの結晶相を少なくとも含むことを特徴とする。 In order to achieve the above object, the sintered body of the present invention is characterized in that it contains at least Al 2 O 3 , TiCO, a composite oxide containing Al and Ti, and a C crystal phase.
このような本発明の焼結体は、まず、Al2O3、TiCO、Al及びTiを含む複合酸化物を含有するのに加えて、焼結体の構造中に炭素の結晶相を含有していることから、いわゆるアルティック焼結体の組成を有するにもかかわらず、研磨速度が高く、研磨加工において、焼結体とそれ以外の部分(磁気ヘッドを含む積層体等)との段差を小さくすることができる。 Such a sintered body of the present invention first contains a composite oxide containing Al 2 O 3 , TiCO, Al and Ti, and further contains a crystalline phase of carbon in the structure of the sintered body. Therefore, in spite of having a composition of a so-called Altic sintered body, the polishing rate is high, and in the polishing process, there is a step between the sintered body and other parts (a laminated body including a magnetic head). Can be small.
ここで、本発明者らの検討によると、炭素を多量に含む焼結体により高い研磨加工性を得ようとすると、この炭素が部分的に凝集することがあり、この凝集した炭素が研磨時に脱落することがボイドの発生原因の1つであることが判明した。これに対し、本発明の焼結体によれば、上記のような4つの結晶相を組み合わせて含むことで、炭素が凝集せずに均一に分散されるようになるほか、極めて高い研磨性も得られるようになる。その結果、凝集した炭素等に起因するボイドの発生も大幅に低減することが可能となる。 Here, according to the study by the present inventors, when high polishing workability is obtained by a sintered body containing a large amount of carbon, this carbon may be partially agglomerated. It was found that dropping off was one of the causes of voids. On the other hand, according to the sintered body of the present invention, the combination of the four crystal phases as described above allows the carbon to be uniformly dispersed without agglomeration, and also has extremely high abrasiveness. It will be obtained. As a result, it is possible to significantly reduce the generation of voids due to aggregated carbon and the like.
したがって、上記本発明の磁気ヘッドスライダ用焼結体は、研磨加工において、焼結体とそれ以外の部分との段差を小さくできるのみならず、ボイドの発生も大幅に低減できるため、加工面を極めて良好に平滑化することができる。その結果、従来よりも小さくされたフライハイトにも十分に対応できる磁気ヘッドスライダを形成することができる。 Therefore, the sintered body for a magnetic head slider of the present invention can not only reduce the level difference between the sintered body and the other parts in the polishing process, but also can greatly reduce the occurrence of voids, so that the processed surface can be reduced. Smoothing can be performed very well. As a result, it is possible to form a magnetic head slider that can sufficiently cope with a fly height that is smaller than the conventional one.
本発明の焼結体において、TiCOの格子定数は、432.2pm以下であると好ましい。このような格子定数を有することで、上述したような炭素の凝集を更に良好に抑制することができ、ボイドの発生を一層効果的に低減することが可能となる。 In the sintered body of the present invention, the lattice constant of TiCO is preferably 432.2 pm or less. By having such a lattice constant, the agglomeration of carbon as described above can be further suppressed and generation of voids can be more effectively reduced.
また、上記本発明の磁気ヘッドスライダ用焼結体において、Cの結晶相はグラファイトであると好ましい。Cがグラファイトの状態で含まれることで、より焼結体の研磨加工性が向上し、高い研磨レートを得るとともに、ボイドの発生を低減するのに有利となる。 In the sintered body for a magnetic head slider of the present invention, the C crystal phase is preferably graphite. The inclusion of C in the form of graphite is advantageous for improving the polishing processability of the sintered body, obtaining a high polishing rate, and reducing the generation of voids.
本発明はまた、上記本発明の焼結体の好適な製造方法を提供する。すなわち、本発明の焼結体の製造方法は、Al2O3、TiC及びTiO2を、100質量部のAl2O3に対して、TiCが37〜74質量部、TiO2が13〜40質量部となるように配合した混合物を、200kg以上500kg以下の圧力条件で、ホットプレス法により焼成することを特徴とする。このような製造方法によれば、上述した構成を有しており、研磨加工性に優れ、しかもボイドの発生が少ない本発明の焼結体を得ることが可能となる。 The present invention also provides a suitable method for producing the sintered body of the present invention. That is, in the method for producing a sintered body of the present invention, Al 2 O 3 , TiC and TiO 2 with respect to 100 parts by mass of Al 2 O 3 are 37 to 74 parts by mass of TiC and 13 to 40 of TiO 2. The mixture blended so as to be part by mass is calcined by a hot press method under a pressure condition of 200 kg or more and 500 kg or less. According to such a manufacturing method, it is possible to obtain the sintered body of the present invention that has the above-described configuration, is excellent in polishing workability, and generates less voids.
本発明によれば、高い研磨加工性が得られるとともに、加工面のボイドの発生を抑制することができる磁気ヘッドスライダ用焼結体及びその製造方法を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide a sintered body for a magnetic head slider and a method for manufacturing the same, which can obtain high polishing workability and can suppress generation of voids on a processed surface.
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[焼結体]
まず、好適な実施形態に係る焼結体について説明する。
[Sintered body]
First, a sintered body according to a preferred embodiment will be described.
本実施形態の焼結体は、Al2O3(アルミナ)の結晶相及びTiCOの結晶相から主として構成され、更にAl及びTiを含む複合酸化物の結晶相、並びに、炭素(C)の結晶相を含み、いわゆるアルティック焼結体に分類されるものである。ここで、焼結体とは、これらの各成分の原料を組み合わせて焼結させることによって得られたものである。 The sintered body of the present embodiment is mainly composed of a crystal phase of Al 2 O 3 (alumina) and a crystal phase of TiCO, and further includes a crystal phase of a composite oxide containing Al and Ti, and a crystal of carbon (C). It includes a phase and is classified as a so-called artic sintered body. Here, the sintered body is obtained by combining and sintering the raw materials of these components.
本実施形態の焼結体は、Al2O3を100質量部としたとき、TiCOを好ましくは20〜150質量部含み、また、炭素を好ましくは0.2〜9質量部含む。炭素の含有割合がこのような範囲内であると、特に優れた研磨加工性が得られる傾向にあるが、少なすぎると研磨加工性が低下し、多すぎるとボイドが発生し易くなるおそれがある。 The sintered body of the present embodiment preferably contains 20 to 150 parts by mass of TiCO and preferably 0.2 to 9 parts by mass of carbon when Al 2 O 3 is 100 parts by mass. If the carbon content is in such a range, particularly excellent polishing processability tends to be obtained, but if it is too small, the polishing processability is lowered, and if it is too much, voids are likely to be generated. .
TiCOの結晶相は、具体的には、TiCxOy(但し、x+y≦1、x>0、y>0である)で表される組成を有しており、一般的な炭化チタン(TiC)においてCの一部がOによって置換されたものである。このTiCOの結晶相は、C又はOが一部欠損して空孔が形成された相であってもよい。 Specifically, the crystal phase of TiCO has a composition represented by TiC x O y (where x + y ≦ 1, x> 0, y> 0), and is a general titanium carbide (TiC ) In which a part of C is replaced by O. The crystal phase of TiCO may be a phase in which C or O is partially lost and vacancies are formed.
焼結体は、具体的には、Al2O3結晶粒、TiCO結晶粒及びこれらの粒界近傍に分散されたAl及びTiを含む複合酸化物及びCの結晶相を含む構成を有していると好ましい。図1は、好適な実施形態の焼結体の断面構成を拡大して示す模式図である。図1に示すように、焼結体2は、主にAl2O3結晶粒110とTiCO結晶粒120とから構成され、これらの結晶粒の間には、Al及びTiを含む複合酸化物やCが分散された粒界130が形成されている。
Specifically, the sintered body has a configuration including Al 2 O 3 crystal grains, TiCO crystal grains, a composite oxide containing Al and Ti dispersed in the vicinity of these grain boundaries, and a crystal phase of C. It is preferable. FIG. 1 is a schematic diagram showing an enlarged cross-sectional configuration of a sintered body according to a preferred embodiment. As shown in FIG. 1, the sintered
ここで、Al2O3結晶粒110の平均径は、例えば、0.05〜0.5μmであり、TiCO結晶粒120の平均径は、例えば、0.05〜0.5μmである。これらの結晶粒の平均径は、例えば、以下のようにして求めることができる。まず、焼結体を破断し、その破断面を鏡面加工し、(焼結温度−100)℃で熱エッチングする。その表面を、走査型電子顕微鏡にて3万倍に拡大して撮影し、この写真に放射状に直線を引く。具体的には、縦9mm×横12mmの矩形状の写真に対して、その中心を通るように、縦、横、及び2本の対角線の直線を引く(直線の合計は51mm)。そして、各直線が結晶粒界を横切る交点を数え、(直線の総延長(mm))/(交点総数×写真倍率)の演算により、Al2O3結晶粒110やTiCO結晶粒120の平均径を求めることができる。
Here, the average diameter of the Al 2 O 3 crystal grains 110 is, for example, 0.05 to 0.5 μm, and the average diameter of the TiCO
本実施形態の焼結体においては、TiCOの格子定数が432.3pm以下であると好ましい。ここで、本明細書におけるTiCOの格子定数とは、例えば、上述したTiCO結晶粒120の部分の格子定数であり、次のようにして測定することができる。すなわち、まず、焼結体を粉砕した測定試料に、標準試料であるSi(例えば、理学角度標準用シリコン粉末:RSRP−43275G)を混合したものを、2θ=15〜90の範囲でX線測定を行う。この測定結果について、測定試料とともに観察される標準試料のSiの回折線から、2θの角度補正を行う。そして、角度補正後、空間群Fm3m(TiC結晶構造)の格子定数を求める。この格子定数の算出は、所定の解析ソフトにより行うことができ、例えば、理学電機製JADEver.5を用いることができる。なお、2θ=76°付近の空間群Fm3mの(2,2,2)面の回折線は、Siの回折線と重なるため、2θの角度補正と格子定数の算出には、それらの回折線は用いない。
In the sintered body of the present embodiment, the lattice constant of TiCO is preferably 432.3 pm or less. Here, the lattice constant of TiCO in this specification is, for example, the lattice constant of the portion of the
焼結体においてTiCOの格子定数が上記の範囲内であると、かかる範囲外とした場合に比べて、焼結体に含まれる炭素が粒界130等において凝集せずに比較的均一に分散した状態となりやすく、これにより焼結体2の研磨加工時に、凝集した炭素に起因するボイドの発生を大幅に低減することができる傾向にある。また、炭素が均一に分散するため、焼結体2の研磨加工性も全体にわたって良好となり、例えば、磁気ヘッドを含む積層体等との間の段差も形成され難くなる傾向にある。TiCOの格子定数が432.3pmを超えると、後述する製造方法において、原料であるTiCからのCの放出量が不十分となり、十分な加工研磨性が得らくなるおそれがある。
When the lattice constant of TiCO is within the above range in the sintered body, the carbon contained in the sintered body is relatively uniformly dispersed without agglomeration at the
粒界130は、上述の如くC並びにAl及びTiを含む複合酸化物を含むが、粒界130中のCは、グラファイトの状態で含まれていると好適である。粒界130のCは、例えば、TEM−EDSマッピングにより確認することができ、この部分が電子線回折によって空間群C6mcからなる場合、グラファイトであることが確認される。
The
さらに、粒界130の幅(すなわち、結晶粒同士の間隔)は、1〜20μmであると好ましく、1〜15nmであるとより好ましい。これにより、特に良好な研磨加工性が得られるようになる。なお、粒界130には、炭素以外に、Al2O3結晶粒110やTiCO結晶粒120に含まれる元素が、これらの結晶粒とは異なる組成や構造で含まれることがある。
Furthermore, the width of the grain boundary 130 (that is, the interval between crystal grains) is preferably 1 to 20 μm, and more preferably 1 to 15 nm. Thereby, particularly good polishing processability can be obtained. In addition to carbon, the
また、本実施形態の焼結体2は、X線回折(XRD)により測定したとき、Al2O3に対するTiCOのピーク面積比であるTiCO/Al2O3の値が、1.3以上2.1未満となるものであると好ましい。具体的には、XRDにより測定した場合のAl2O3の空間群R3−Cの2θ=35°付近にある(104)面と、TiCOの空間群Fm3mの2θ=36°付近にある(111)面のピーク面積比から上記TiCO/Al2O3の値を求めることができる。このような条件を満たすことで、かかる条件を満たさない場合に比べて、炭素がより均一に分散された構成となり、ボイドの発生を一層良好に低減し易くなる傾向にある。
Further, the
なお、本実施形態の焼結体2は、Al2O3、TiCO及び炭素の他、必要に応じて、特性に影響しない程度に他の成分を更に含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、チタニア(TiO2)が挙げられる。TiO2は、例えば、後述すように焼結体の原料として用いることで、炭素を良好に粒界130に分散させることができるものであるが、このTiO2は、焼結後に焼結体2中に残存していてもよい。その場合、TiO2の含有割合は、Al2O3100質量部に対して、1〜8質量部とすることができる。
In addition, the
また、焼結体2は、必ずしもAl2O3結晶粒110、TiCO結晶粒120及び粒界130で明確に組成が異なっている必要はなく、例えば、炭素が各結晶粒中にも含まれるなど、1部の相の成分が他の相に含まれていてもよい。
Further, the
[焼結体の製造方法]
次に、上述した焼結体の製造方法の好適な実施形態について説明する。
[Method for producing sintered body]
Next, a preferred embodiment of the method for manufacturing a sintered body described above will be described.
焼結体の原料粉末として、Al2O3粉末及びTiC粉末を用意する。また、本実施形態では、原料粉末として、TiO2粉末を更に準備する。これにより、後述する焼成の工程において、TiCとTiO2との反応を生じさせて炭素(C)を析出させることができ、焼結体の粒界に炭素を良好に分散することができる。なお、炭素の原料として、炭素の粉末や焼成により炭素を生じる有機物等を用いてもよいが、この場合、焼結体中に炭素の凝集体が発生してボイドの原因となり易い傾向にあることから、本実施形態では、炭素粉末を用いずにTiO2を用いることが好ましい。 Al 2 O 3 powder and TiC powder are prepared as raw material powders for the sintered body. Further, in the present embodiment, as a material powder, further preparing a TiO 2 powder. Thereby, in the firing step described later, a reaction between TiC and TiO 2 can be caused to precipitate carbon (C), and carbon can be well dispersed at the grain boundaries of the sintered body. Carbon materials such as carbon powder and organic substances that generate carbon by firing may be used as the carbon raw material, but in this case, carbon aggregates are likely to be generated in the sintered body, which tends to cause voids. Therefore, in this embodiment, it is preferable to use TiO 2 without using carbon powder.
ここで、Al2O3粉末の平均一次粒子径は800nm以下であると好ましく、5〜800nmであるとより好ましく、100〜600nmであるとさらに好ましい。また、TiC粉末の平均一次粒子径は500nm以下であると好ましく、5〜500nmであるとより好ましく、100〜400nmであるとさらに好ましい。さらに、TiO2粉末の平均一次粒子径は200nm以下であることが好ましい。 Here, the average primary particle diameter of the Al 2 O 3 powder is preferably 800 nm or less, more preferably 5 to 800 nm, and even more preferably 100 to 600 nm. Moreover, the average primary particle diameter of the TiC powder is preferably 500 nm or less, more preferably 5 to 500 nm, and further preferably 100 to 400 nm. Furthermore, the average primary particle diameter of the TiO 2 powder is preferably 200 nm or less.
これらの原料粉末の好適な配合割合は、以下の通りである。すなわち、Al2O3粉末を100質量部とした場合、TiC粉末は37〜74質量部であると好ましい。TiC粉末の配合量が上記範囲であると、焼結体においてAl2O3結晶粒とTiCO結晶粒が好適な割合で形成され、優れた強度や電気的又は熱的特性が得られるほか、TiO2粉末との反応を生じ易くなり、焼結体中に炭素が良好に分散されるようになる。TiCの添加量がこの範囲を逸脱すると、研磨加工性が十分に得られなくなる場合がある。 The suitable blending ratio of these raw material powders is as follows. That is, when the Al 2 O 3 powder is 100 parts by mass, the TiC powder is preferably 37 to 74 parts by mass. When the blending amount of the TiC powder is within the above range, Al 2 O 3 crystal grains and TiCO crystal grains are formed at a suitable ratio in the sintered body, and excellent strength and electrical or thermal characteristics can be obtained. It becomes easy to produce reaction with 2 powder, and carbon comes to be disperse | distributed favorably in a sintered compact. If the amount of TiC added deviates from this range, sufficient polishing processability may not be obtained.
また、TiO2粉末の配合割合は、Al2O3粉末100質量部に対して13〜40質量部であると好ましい。TiO2粉末の配合割合をこのような範囲とすることで、焼結体の粒界に炭素を良好に分散させることができ、また、焼結体中のTiCOの格子定数を上述した好適な値とすることができる。TiO2粉末がこれよりも少なすぎると、焼結体中に炭素が十分に析出せずに、研磨加工性が十分に得られなくなるおそれがある。一方、多すぎると、炭素の凝集が生じてボイドが発生し易くなる場合がある。
The mixing ratio of the TiO 2 powder, if it is 13 to 40 parts by weight with respect to Al 2 O 3
次に、上述の原料粉末を、例えば、エタノール、IPA、95%変性エタノール等の有機溶剤中で混合し、混合粉末を得る。なお、原料粉末と混合させる液体として水を使用すると、水とTiC粉末とが化学反応を起こしてTiC粉末が酸化する場合もあるため、水は使用しないことが望ましい。 Next, the above-mentioned raw material powder is mixed in an organic solvent such as ethanol, IPA, or 95% denatured ethanol to obtain a mixed powder. If water is used as the liquid to be mixed with the raw material powder, water and TiC powder may cause a chemical reaction and the TiC powder may be oxidized. Therefore, it is desirable not to use water.
混合粉末を得るための混合は、ボールミルやアトライターを用いて行うことができる。また、混合時間は、10〜100時間程度とすることが好ましい。なお、ボールミルやアトライターでの混合に用いるメディアとしては、例えば、直径1〜20mm程度のアルミナボール等を使用することができる。 Mixing to obtain the mixed powder can be performed using a ball mill or an attritor. The mixing time is preferably about 10 to 100 hours. In addition, as a medium used for mixing with a ball mill or an attritor, for example, an alumina ball having a diameter of about 1 to 20 mm can be used.
次に、混合粉末をスプレー造粒する。スプレー造粒では、例えば、酸素をほとんど含まない窒素やアルゴン等の不活性ガスからなる温風中で、混合粉末を噴霧乾燥することによって、混合粉末の造粒物を得る。造粒は、造粒物の粒径が50〜200μm程度となるように行うことが好ましい。また、噴霧乾燥のための温風の温度は60〜200℃程度であると好ましい。 Next, the mixed powder is spray granulated. In the spray granulation, for example, the mixed powder is spray-dried in a warm air made of an inert gas such as nitrogen or argon containing almost no oxygen to obtain a granulated product of the mixed powder. The granulation is preferably performed so that the particle size of the granulated product is about 50 to 200 μm. Moreover, it is preferable that the temperature of the warm air for spray drying is about 60-200 degreeC.
それから、必要に応じて上述したような有機溶剤を造粒物に添加して、造粒物の液体含有量を調節し、造粒物中に0.1〜10質量%程度の有機溶剤を含ませる。なお、造粒物の液体含有量を調節する際も、液体として水は使用しないことが望ましい。 Then, if necessary, an organic solvent as described above is added to the granulated product to adjust the liquid content of the granulated product, and about 0.1 to 10% by mass of the organic solvent is contained in the granulated product. Make it. In addition, when adjusting the liquid content of the granulated product, it is desirable not to use water as the liquid.
次に、この造粒物を所定の型内に充填し、例えば冷間プレス法により一次成形を行って、所定形状の成形体を形成する。型としては、好適な焼結体の形状が得られるようなものであれば特に制限されず、例えば、金属製やカーボン製の内径150mm程度の円板形成用型が挙げられる。また、冷間プレスにおいて造粒物に加える単位圧力は、50〜150kgf/cm2(約5〜15MPa)程度とすればよい。 Next, the granulated product is filled into a predetermined mold, and primary molding is performed by, for example, a cold press method to form a molded body having a predetermined shape. The mold is not particularly limited as long as a suitable sintered body shape can be obtained, and examples thereof include a disk-shaped mold having an inner diameter of about 150 mm made of metal or carbon. The unit pressure applied to the granulated product in the cold press may be about 50 to 150 kgf / cm 2 (about 5 to 15 MPa).
その後、このようにして得られた成形体を焼結させることによって、磁気ヘッドスライダ用焼結体を得ることができる。この磁気ヘッドスライダ用材料の形状は、特に限定されないが、例えば、直径6インチ、厚み2.5mm程度の円板状の基板又は矩形状の基板とすると、後述する磁気ヘッドスライダの製造に良好に適用することができる。 Thereafter, a sintered body for a magnetic head slider can be obtained by sintering the molded body thus obtained. The shape of the magnetic head slider material is not particularly limited. For example, if a disk-like substrate or a rectangular substrate having a diameter of 6 inches and a thickness of about 2.5 mm is used, the magnetic head slider is excellent in manufacturing a magnetic head slider described later. Can be applied.
焼結は、原料粉末から上述した焼結体2のような構造を有する焼結体が形成されるように行うが、特に、焼結においては、原料として用いたTiCとTiO2との反応を生じさせることが好ましい。これにより、この反応に由来する炭素が、特に焼結中に形成されるAl2O3結晶粒やTiCO結晶粒の粒界部分に発生するようになる。その結果、炭素の原料として炭素粉末を用いた場合に比べて、炭素が原子に近い状態で分散され、粒界部分で凝集することなく均一に分散されて薄相を形成することができる。
Sintering is performed so that a sintered body having a structure like the above-described
好適な焼結体を得るために、焼結は、ホットプレス法により行う(ホットプレス焼成)ことが好ましい。すなわち、成形体を、対向する一対のパンチにより一軸加圧して圧縮しながら焼成することが好ましい。その場合、成形体に対し、200kg以上500kg以下の圧力を加えながら焼結を行うことが好ましい。ホットプレス法により、得られる焼結体中にTiCOの結晶相が良好に形成される傾向にある。成形体に加える圧力をこのような範囲内とすることよって、成形体の反応性が高まり、焼結性を向上させることができる。そのため、充分な密度を有する磁気ヘッドスライダ用材料を得ることができる。この圧力が200kg未満であると、焼結体中にCの相が形成され難くなり、加工研磨性が不十分となる傾向にある。また、500kgを超える圧力を加えつつ焼結を行うのは、作業上、極めて困難となる傾向にあるため、好ましくない。 In order to obtain a suitable sintered body, the sintering is preferably performed by a hot press method (hot press firing). That is, it is preferable to fire the compact while compressing it by uniaxial pressing with a pair of opposing punches. In that case, it is preferable to perform sintering while applying a pressure of 200 kg or more and 500 kg or less to the compact. The hot-press method tends to favorably form a TiCO crystal phase in the resulting sintered body. By setting the pressure applied to the molded body within such a range, the reactivity of the molded body is increased and the sinterability can be improved. Therefore, a magnetic head slider material having a sufficient density can be obtained. When this pressure is less than 200 kg, a C phase is hardly formed in the sintered body, and the work polishability tends to be insufficient. In addition, it is not preferable to perform sintering while applying a pressure exceeding 500 kg, because it tends to be extremely difficult in terms of work.
焼結の際の温度条件は、1450℃以上1750℃未満とすることが好ましい。焼結温度をこのような範囲とすることで、好適な構造を有する焼結体が得られ易くなる傾向にある。焼結温度が1650℃以上であると、焼結体にC(グラファイト)が存在し難くなり、加工研磨性が不十分となる傾向にある。一方、焼結温度が1450℃未満であると、焼結が不十分となり、内部にボイドを内包し易くなるおそれや、研磨の際に粒脱落を生じるおそれがある。なお、焼結温度は、焼結中に変化させてもよい。また、焼結時間は、1〜3時間程度とすることが好ましい。焼成温度や焼成時間が過度に大きすぎると、焼結体がAl2O3−TiCの2相となってしまい、加工研磨性が一層低下する場合もある。 The temperature condition during the sintering is preferably 1450 ° C. or higher and lower than 1750 ° C. By setting the sintering temperature in such a range, a sintered body having a suitable structure tends to be easily obtained. When the sintering temperature is 1650 ° C. or higher, C (graphite) is unlikely to exist in the sintered body, and the work polishability tends to be insufficient. On the other hand, if the sintering temperature is less than 1450 ° C., the sintering becomes insufficient, and there is a possibility that voids are likely to be included in the interior, and there is a possibility that grain dropout occurs during polishing. The sintering temperature may be changed during sintering. The sintering time is preferably about 1 to 3 hours. If the firing temperature or firing time is excessively large, the sintered body becomes two phases of Al 2 O 3 —TiC, and the work polishability may be further lowered.
さらに、焼結は、例えば、真空中、又は、ArやN2ガス等の不活性ガス雰囲気等の非酸化性雰囲気で行うことが好ましい。非酸化性雰囲気中で焼結させることによって、TiC等の過度な酸化、分解又は揮発を抑制することができ、所望の組成の焼結体が得られ易くなる。 Further, the sintering is preferably performed in a vacuum or in a non-oxidizing atmosphere such as an inert gas atmosphere such as Ar or N 2 gas. By sintering in a non-oxidizing atmosphere, excessive oxidation, decomposition or volatilization of TiC or the like can be suppressed, and a sintered body having a desired composition can be easily obtained.
[磁気ヘッドスライダ]
次に、上述した焼結体を用いた磁気ヘッドスライダについて説明する。図2は、好適な実施形態の磁気ヘッドスライダを示す斜視図である。
[Magnetic head slider]
Next, a magnetic head slider using the above-described sintered body will be described. FIG. 2 is a perspective view showing a magnetic head slider according to a preferred embodiment.
図2に示すように、本実施形態の磁気ヘッドスライダ11は薄膜磁気ヘッド10を備えるものであり、例えば、ハードディスクを備えたハードディスク装置(図示せず)に搭載されるものである。このハードディスク装置は、高速回転するハードディスクの記録面に対し、薄膜磁気ヘッド10によって磁気情報を記録及び再生する。
As shown in FIG. 2, the
本発明の実施形態に係る磁気ヘッドスライダ11は略直方体形状をなしている。図2において、磁気ヘッドスライダ11における手前側の面は、ハードディスクの記録面に対向配置される記録媒体対向面であり、エアベアリング面(ABS:Air Bearing Surface)Sと称される。また、エアベアリング面Sには、トラック幅方向と直交する方向に空気導入溝11aが形成されている。エアベアリング面Sに空気導入溝11aを形成することによって、フライハイト(ハードディスクに対する薄膜磁気ヘッド10の高さ)の制御性を向上させることができる。なお、空気導入溝11aの形成位置及び形状は、図2に示すものに限定されない。
The
ハードディスクが回転する際、この回転に伴う空気流によって磁気ヘッドスライダ11が浮上し、エアベアリング面Sはハードディスクの記録面から離隔する。エアベアリング面Sには、DLC(Diamond Like Carbon)等のコーティングを施してもよい。
When the hard disk rotates, the
この磁気ヘッドスライダ11は、上述した焼結体から作られた基板13と、この基板13上に形成される積層体14とを備えている。この積層体14は薄膜磁気ヘッド10を含む。本実施形態では、基板13は直方体形状を有し、この基板13の側面上に積層体14が形成されている。
The
積層体14の上面14aは、磁気ヘッドスライダ11の端面を形成しており、この積層体14の上面14aには薄膜磁気ヘッド10に接続された記録用パッド18a,18b及び再生用パッド19a,19bが取り付けられている。また、薄膜磁気ヘッド10は、積層体14内に設けられており、その一部がエアベアリング面Sから外部に露出している。なお、図2においては、積層体14内に埋設されている薄膜磁気ヘッド10を、認識しやすさを考慮して実線で示している。
The
このような磁気ヘッドスライダ11は、ジンバル12に搭載され、図示しないサスペンションアームに接続されることによりヘッドジンバルアセンブリを構成する。
Such a
ここで、図3を参照して磁気ヘッドスライダ11の構造を更に詳細に説明する。図3は、磁気ヘッドスライダ11におけるエアベアリング面Sに対して垂直かつトラック幅方向に垂直な方向の概略断面図(図2のII−II概略断面図)である。上述のように、磁気ヘッドスライダ11は、略矩形板状の基板13と、この基板13の側面上に積層された積層体14とを有している。積層体14は、薄膜磁気ヘッド10と、この薄膜磁気ヘッド10を取り囲むコート層50と、を有している。
Here, the structure of the
薄膜磁気ヘッド10は、基板13に近い側から順に、ハードディスクの磁気情報を読取る読取素子としてのGMR(巨大磁気抵抗効果;Giant Magneto Resistive)素子40と、ハードディスクに磁気情報を書込む書込素子としての誘導型の電磁変換素子60と、を有しており、複合型薄膜磁気ヘッドとなっている。
The thin film
電磁変換素子60は、いわゆる面内記録方式を採用したものであり、基板13側から順に下部磁極61及び上部磁極64を備えると共に、さらに薄膜コイル70を備えている。
The
下部磁極61及び上部磁極64のエアベアリング面S側の端部は、エアベアリング面Sに露出しており、下部磁極61及び上部磁極64の各露出部は所定距離離間されていて記録ギャップGを形成している。一方、上部磁極64におけるエアベアリング面Sとは離れた側の端部64Bは下部磁極61に向かって折り曲げられており、その端部64Bは下部磁極61におけるエアベアリング面Sとは離れた側の端部と磁気的に連結している。これにより、上部磁極64と下部磁極61とによってギャップGを挟む磁気回路が形成される。
The end portions of the lower
薄膜コイル70は、上部磁極64の端部64Bを取り囲むように配置されており、電磁誘導により記録ギャップG間に磁界を発生させ、これによりハードディスクの記録面に磁気情報を記録させる。
The
GMR素子40は、図示は省略するが多層構造を有してエアベアリング面Sに露出しており、磁気抵抗効果を利用してハードディスクからの磁界の変化を検出し、磁気情報を読み出す。
Although not shown, the
GMR素子40と電磁変換素子60との間、上部磁極64と下部磁極61との間はそれぞれ絶縁性のコート層50により離間されている。また、薄膜磁気ヘッド10自体もエアベアリング面Sを除いてコート層50に覆われている。コート層50は、主として、アルミナ等の絶縁材料により形成されている。具体的には、通常、スパッタリング等により形成されたアルミナ層が用いられる。このようなアルミナ層は、通常アモルファス構造を有する。
The
なお、薄膜磁気ヘッド10は、上記のような面内記録方式ではなく、垂直記録方式としてもよい。また、GMR素子40の代わりに、異方性磁気抵抗効果を利用するAMR(Anisotropic Magneto Resistive)素子、トンネル接合で生じる磁気抵抗効果を利用するTMR(Tunnel-typeMagneto Resistive)素子等を利用してもよい。
The thin film
さらに、コート層50内には、更に、GMR素子40と電磁変換素子60との間を磁気
的に絶縁する磁性層等を含んでもよい。
Further, the
[磁気ヘッドスライダの製造方法]
次に、以上のような磁気ヘッドスライダ11の製造方法について説明する。
[Method of manufacturing magnetic head slider]
Next, a method for manufacturing the
まず、図4に示すように、上述の焼結体を円板ウェハ状に形成した基板13を用意する。次に、図5(a)に示すように、この基板13上に、薄膜磁気ヘッド10及びコート層50を含む積層体14を周知の手法によって積層して積層構造体100を得る。ここでは、積層体14中に、薄膜磁気ヘッド10が行列状に多数並ぶように積層体14を形成する。
First, as shown in FIG. 4, a
次に、積層構造体100を、所定の形状、大きさに切断する。本実施形態では、例えば、図5(a)中の点線で示したように切断することにより、図5(b)に示すように、複数の薄膜磁気ヘッド10が一列に並び、且つ、これらの薄膜磁気ヘッド10が側面100BSにそれぞれ露出するように配置されたバー100Bを形成する。
Next, the
そして、バー100Bの形成後、このバー100Bの側面100BSを研磨することによりエアベアリング面Sを形成する、いわゆるラッピング工程を行う。この工程では、基板13とその上に積層された積層体14とを、同時にかつ積層方向と交差する方向(図3の矢印Xの方向)に研磨する。
After the formation of the
その後、イオンミリング法等によって、エアベアリング面Sに空気導入溝11a(図示せず)を形成する。そして、バー100Bを、それぞれに薄膜磁気ヘッド10が含まれるように適切な位置で切断加工することによって、薄膜磁気ヘッド10を有する磁気ヘッドスライダ11を複数得ることができる。なお、この切断前又は後には、エアベアリング面にDLC等の層を更に形成してもよい。
Thereafter, an
このような磁気ヘッドスライダ11の製造方法においては、基板13が本発明の焼結体により形成されることから、上述したバー100Bの側面100BSを研磨してエアベアリング面Sを形成する際に、基板13の研磨加工性が高く、基板13と積層体14とをほぼ同等の速度で研磨することができる。そのため、エアベアリング面Sに基板13と積層体14との間で段差が形成されることが少なくなり、平滑な表面を有するエアベアリング面Sを形成することができる。
In such a method of manufacturing the
また、基板13が本発明の焼結体により形成されることから、研磨の際に炭素の凝集体が脱落すること等によるボイドの発生が極めて生じ難くなる。これにより、一層平滑な表面を有するエアベアリング面Sを形成可能である。なお、エアベアリング面Sがボイドを有していると、この部分に不純物が残ってしまう場合もある。この不純物は、場合によっては表面に染み出してエアベアリング面Sを汚染してしまい、薄膜磁気ヘッド10による記録や読み出しに影響することがある。これに対し、本発明によれば、ボイドの形成を大幅に抑制できるため、このような不純物の残存の心配も極めて少なくできる。
In addition, since the
したがって、上述した実施形態の磁気ヘッドスライダ11の製造方法によれば、例えば、小型のHDDに搭載するために、フェムトスライダやそれ以下の大きさのスライダを形成する場合であっても、平滑なエアベアリング面Sを形成することができ、フライハイトの狭小化にも十分対応可能な磁気ヘッドスライダ11を得ることができる。
Therefore, according to the method of manufacturing the
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to these Examples.
[焼結体の製造]
(実施例1〜5、比較例1〜4)
まず、原料粉末として、Al2O3粉末(平均粒径0.5μm)、TiC粉末(平均粒径0.5μm)、及びTiO2粉末(平均粒径0.3μm)をそれぞれ準備した。
[Production of sintered body]
(Examples 1-5, Comparative Examples 1-4)
First, Al 2 O 3 powder (average particle size 0.5 μm), TiC powder (average particle size 0.5 μm), and TiO 2 powder (average particle size 0.3 μm) were prepared as raw material powders.
次に、これらの原料粉末を、下記表1に示す組み合わせ及び配合割合で混合し、これをボールミル中でIPA(イソプロピルアルコール;沸点82.4℃)と共に30分粉砕して混合した後、窒素雰囲気において150℃でスプレー造粒して、造粒物を得た。それから、得られた造粒物を冷間プレス法により一次成形した。冷間プレス法では、造粒物に約5MPa(50kgf/cm2)の圧力を加えた。 Next, these raw material powders were mixed in the combinations and blending ratios shown in Table 1 below, and ground and mixed with IPA (isopropyl alcohol; boiling point 82.4 ° C.) for 30 minutes in a ball mill. Was spray granulated at 150 ° C. to obtain a granulated product. Then, the obtained granulated product was primary molded by a cold press method. In the cold press method, a pressure of about 5 MPa (50 kgf / cm 2 ) was applied to the granulated product.
その後、一次成形された造粒物をホットプレス法によって焼結させて、実施例1〜3及び比較例1〜2の焼結体をそれぞれ得た。このホットプレス法では、焼結雰囲気を真空とし、焼結時間を1時間とした。また、焼結温度、及び、一次成形された造粒物に加えるプレス圧力(kgf/cm2)については、それぞれ表1に示すように変化させた。
[特性評価]
(焼結体の組成の確認)
上記で得られた実施例1〜5及び比較例1〜4の焼結体の組成について、それぞれ、TEM−EDSマッピングにより測定した。当該測定によって確認された結晶相の種類を表2に示す。
(Confirmation of the composition of the sintered body)
The compositions of the sintered bodies of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 obtained above were measured by TEM-EDS mapping, respectively. Table 2 shows the types of crystal phases confirmed by the measurement.
(TiCO格子定数の測定)
上記で得られた実施例1〜5及び比較例1〜2の各焼結体におけるTiCOの格子定数を、上述したように、標準試料であるSiを用いたX線測定を行うことによりそれぞれ算出した。得られた結果を表3に示す。なお、比較例3〜4については、TiCの格子定数を同様に求め、その結果を表3中の同欄に示した。
(Measurement of TiCO lattice constant)
As described above, the lattice constant of TiCO in each of the sintered bodies of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 obtained above was calculated by performing X-ray measurement using Si as a standard sample. did. The obtained results are shown in Table 3. For Comparative Examples 3 to 4, the lattice constant of TiC was similarly determined, and the results are shown in the same column of Table 3.
(TiCO/Al2O3のピーク面積比の測定)
実施例1〜5及び比較例1〜2の各焼結体について、XRDによる測定を行い、Al2O3に対するTiCOのピーク面積比TiCO/Al2O3を算出した。得られた結果を表3に示す。なお、比較例3〜4の焼結体については、TiC/Al2O3を同様に算出し、その結果を表3中の同欄に示した。
(Measurement of peak area ratio of TiCO / Al 2 O 3 )
For each of the sintered bodies of Examples 1-5 and Comparative Examples 1-2, was measured by XRD, it was calculated peak area ratio TiCO / Al 2 O 3 of TiCO for Al 2 O 3. The obtained results are shown in Table 3. Note that the sintered body of Comparative Example 3-4, the TiC / Al 2 O 3 calculated in the same manner, and the results are shown in the column of the table 3.
(研磨加工性及びボイドの評価)
まず、実施例1〜5及び比較例1〜4の各焼結体によるボイドの発生のし易さを評価するために、各焼結体に対し、それぞれ以下に示す方法で加工を施した。すなわち、各焼結体を、20×20×1.8mm程度の切片にそれぞれ切り出した後、0.1μm径のダイアモンド粒子を含むスラリーを用い、片面研磨機によりこの切片を研磨(ラッピング)した。ここで、研磨条件は、スズ皿の回転数37.5回/min、荷重2550g、オスカーモータ回転数55回/min、研磨時間10分とした。この研磨に要した研磨レートを、下記表3中に示した。
(Evaluation of polishing processability and void)
First, in order to evaluate the ease of generation of voids by the sintered bodies of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4, each sintered body was processed by the following method. That is, each sintered body was cut into sections of about 20 × 20 × 1.8 mm, and the sections were polished (lapped) with a single-side polishing machine using slurry containing diamond particles having a diameter of 0.1 μm. Here, the polishing conditions were a tin plate rotation speed of 37.5 times / min, a load of 2550 g, an Oscar motor rotation speed of 55 times / min, and a polishing time of 10 minutes. The polishing rate required for this polishing is shown in Table 3 below.
そして、この加工後の各焼結体における研磨面について、測定すべき表面を洗浄した後、AFMにて20μm×20μmの範囲を測定し、これに基づいてJIS 0601−1976に規定される最大高さ(Rmax)を求めた。得られた結果を表3に示す。このRmaxの値が小さいほど、研磨面が平滑であり、ボイドの発生が少ないことを意味する。表2中、Rmaxが20nmよりも小さかったものをAで、20nm以上であったものをBで示した。
表1に示すように、実施例1〜5の焼結体は、比較例1〜4と比較して、高い研磨レート及び低いRmaxの両方が得られており、高い研磨加工性を有するとともに、研磨加工時のボイドの発生を良好に抑制できることが確認された。 As shown in Table 1, the sintered bodies of Examples 1 to 5 have both a high polishing rate and a low Rmax compared to Comparative Examples 1 to 4, and have high polishing workability. It was confirmed that the generation of voids during the polishing process can be satisfactorily suppressed.
2…焼結体、10…薄膜磁気ヘッド、11…磁気ヘッドスライダ、13…基板、14…積層体、110…Al2O3結晶粒、120…TiC結晶粒、130…粒界。 2 ... sintered body, 10 ... thin film magnetic head, 11 ... slider, 13 ... substrate, 14 ... laminate, 110 ... Al 2 O 3 crystal grains, 120 ... TiC grain, 130 ... grain boundary.
Claims (4)
200 kg or more of a mixture in which Al 2 O 3 , TiC, and TiO 2 are blended so that TiC is 37 to 74 parts by mass and TiO 2 is 13 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of Al 2 O 3 . A method for producing a sintered body, characterized by firing by a hot press method under a pressure condition of 500 kg or less.
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