JP2010120283A - Microlens mold manufacturing method, and microlens mold original plate - Google Patents

Microlens mold manufacturing method, and microlens mold original plate Download PDF

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JP2010120283A JP2008296492A JP2008296492A JP2010120283A JP 2010120283 A JP2010120283 A JP 2010120283A JP 2008296492 A JP2008296492 A JP 2008296492A JP 2008296492 A JP2008296492 A JP 2008296492A JP 2010120283 A JP2010120283 A JP 2010120283A
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Yoshiyuki Negishi
佳之 根岸
Manabu Suzuki
学 鈴木
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Toppan Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microlens mold manufacturing method capable of forming properly curved face structure of a microlens. <P>SOLUTION: A resin is coated onto a substrate with an irregular pattern, and a metal layer is laminated in a side coated with the resin by electroforming, in this microlens mold manufacturing method. The resin is not film-formed flatly, when the resin is film-formed onto the substrate with the irregular pattern, to be film-formed into a mountainous wave form on the irregular pattern. The curved face structure is formed thereby corresponding to the irregular pattern. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、マイクロレンズモールドの製造方法およびマイクロレンズモールド原版に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a microlens mold and a microlens mold master.

近年、光学素子として、マイクロレンズ、マイクロレンズアレイが広範な用途に用いられている。
例えば、画像表示装置用部材(液晶、投影など)、撮像素子、液晶プロジェクターやコンパクトディスク等の光ピックアップの集光手段、などの用途が挙げられる。
In recent years, microlenses and microlens arrays have been used for a wide range of applications as optical elements.
For example, there are applications such as a member for an image display device (liquid crystal, projection, etc.), an image sensor, a condensing means of an optical pickup such as a liquid crystal projector or a compact disk.

このような、マイクロレンズを作成するための方法として、所望するマイクロレンズの形状を成したマイクロレンズモールドを作成し、該マイクロレンズモールドを用いて転写加工成形を行うことによりマイクロレンズを製造することが知られている。   As a method for creating such a microlens, a microlens mold having a desired microlens shape is prepared, and a microlens is manufactured by performing transfer processing molding using the microlens mold. It has been known.

例えば、切削加工を用いて、マイクロレンズモールドを製造する方法が提案されている(特許文献1参照)。
特開2002−205310号公報
For example, a method of manufacturing a microlens mold using cutting has been proposed (see Patent Document 1).
JP 2002-205310 A

しかしながら、研削加工によりマイクロレンズモールドを製造する場合、製造されたマイクロレンズモールドには機械加工後の加工痕が残存する。
このため、残存した加工痕が光学性能および形状転写性に影響を及ぼし、好ましくない。
However, when a microlens mold is manufactured by grinding, machining traces after machining remain in the manufactured microlens mold.
For this reason, the remaining processing marks affect the optical performance and shape transferability, which is not preferable.

そこで、本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、マイクロレンズの曲面構造を好適に形成することの出来るマイクロレンズモールド製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a microlens mold manufacturing method capable of suitably forming a curved surface structure of a microlens.

請求項1に記載の本発明は、基板に凹凸パターンを形成する工程と、前記基板の前記凹凸パターンが形成された側に樹脂を塗膜する工程と、前記基板の前記樹脂が塗膜された側に金属層を積層する工程と、前記基板と前記金属層とを剥離する工程と、を備えたことを特徴とするマイクロレンズモールド製造方法である。   The present invention according to claim 1 includes a step of forming a concavo-convex pattern on a substrate, a step of coating a resin on the side of the substrate on which the concavo-convex pattern is formed, and the resin of the substrate being coated. A microlens mold manufacturing method comprising: a step of laminating a metal layer on a side; and a step of peeling the substrate and the metal layer.

請求項2に記載の本発明は、請求項1に記載のマイクロレンズモールド製造方法であって、更に、凹凸パターンが形成された基板から樹脂を剥離する工程と、再度、前記基板の前記凹凸パターンが形成された側に樹脂を塗膜する工程と、再度、前記樹脂側に電鋳により金属層を積層する工程と、再度、前記金属層と前記基板とを剥離する工程と、を備えたことを特徴とするマイクロレンズモールド製造方法である。   The present invention described in claim 2 is the microlens mold manufacturing method according to claim 1, further comprising a step of peeling the resin from the substrate on which the concave / convex pattern is formed, and again the concave / convex pattern on the substrate. A step of coating a resin on the side where the metal layer is formed, a step of laminating a metal layer on the resin side again by electroforming, and a step of peeling the metal layer and the substrate again. A microlens mold manufacturing method characterized by the above.

請求項3に記載の本発明は、請求項1または2のいずれかに記載のマイクロレンズモールド製造方法であって、金属層と基板とを剥離する工程にあたり、基板上の樹脂を流動化させることを特徴とするマイクロレンズモールド製造方法である。   The present invention according to claim 3 is the microlens mold manufacturing method according to claim 1 or 2, wherein the resin on the substrate is fluidized in the step of peeling the metal layer and the substrate. A microlens mold manufacturing method characterized by the above.

請求項4に記載の本発明は、請求項1から3のいずれかに記載のマイクロレンズモールド製造方法であって、凹凸パターンの凸部の上面図形は四角形であり、前記凸部は正方格子配列で配列されていることを特徴とするマイクロレンズモールド製造方法である。   A fourth aspect of the present invention is the microlens mold manufacturing method according to any one of the first to third aspects, wherein an upper surface figure of a convex portion of the concavo-convex pattern is a quadrangle, and the convex portion is a square lattice arrangement. A method for producing a microlens mold, wherein

請求項5に記載の本発明は、請求項1から3のいずれかに記載のマイクロレンズモールド製造方法であって、凹凸パターンの凸部の上面図形は六角形であり、前記凸部はハニカム配列で配列されていることを特徴とするマイクロレンズモールド製造方法である。   The present invention according to claim 5 is the microlens mold manufacturing method according to any one of claims 1 to 3, wherein the top surface of the convex portion of the concave-convex pattern is a hexagon, and the convex portion is arranged in a honeycomb arrangement. A method for producing a microlens mold, wherein

請求項6に記載の本発明は、凹凸パターンが形成された基板と、前記基板の凹凸パターン形成側に積層された樹脂と、を備え前記樹脂は、樹脂表面がマイクロレンズの曲面構造を成していることを特徴とするマイクロレンズモールド原版である。   The present invention according to claim 6 includes a substrate on which a concavo-convex pattern is formed and a resin laminated on the concavo-convex pattern forming side of the substrate, and the resin surface has a curved structure of a microlens. It is the microlens mold original plate characterized by the above-mentioned.

本発明のマイクロレンズモールド製造方法は、凹凸パターンが形成された基板に樹脂を塗膜し、樹脂が塗膜された側に金属層を積層する。凹凸パターンを有する基板上に樹脂を成膜すると、樹脂は平坦に成膜されず、凸パターン上に山なりに成膜される。このため、凹凸パターンに応じた曲面構造を形成することが出来る。また、このとき形成される曲面構造は、凹凸パターンと樹脂の表面張力により定まるものであるため、曲面上に加工痕などは存在しない。   In the microlens mold manufacturing method of the present invention, a resin is coated on a substrate on which a concavo-convex pattern is formed, and a metal layer is laminated on the side coated with the resin. When a resin is formed on a substrate having a concavo-convex pattern, the resin is not formed flat, but is formed in a mountain pattern on the convex pattern. For this reason, the curved surface structure according to the uneven | corrugated pattern can be formed. Further, since the curved surface structure formed at this time is determined by the concavo-convex pattern and the surface tension of the resin, there is no processing mark or the like on the curved surface.

以下、本発明のマイクロレンズモールド製造方法について、具体的に説明を行う。   Hereinafter, the microlens mold manufacturing method of the present invention will be specifically described.

<基板に凹凸パターンを形成する工程>
まず、基板に凹凸パターンを形成する。
<Process for forming concave / convex pattern on substrate>
First, an uneven pattern is formed on the substrate.

基板は、凹凸パターンの形成に用いる微細加工技術に適した物理的特性/機械的特性を備えていれば良く、特に、限定されるものではない。
例えば、(1)石英、ガラス、などSiOを含む基板、(2)サファイア基板、(3)シリコン基板、(4)負膨張性マンガン窒化物を含む基板、(5)シリコンカーバイト基板、(6)グラッシーカーボン基板、(7)ニッケル、タンタル、クロムなど金属基板、などを用いても良い。また、複数の材料が積層された積層基板であってもよい。
The substrate is not particularly limited as long as it has physical properties / mechanical properties suitable for the microfabrication technique used for forming the uneven pattern.
For example, (1) a substrate containing SiO 2 such as quartz, glass, (2) a sapphire substrate, (3) a silicon substrate, (4) a substrate containing negatively expandable manganese nitride, (5) a silicon carbide substrate, ( 6) A glassy carbon substrate, (7) a metal substrate such as nickel, tantalum, or chromium may be used. Further, it may be a laminated substrate in which a plurality of materials are laminated.

凹凸パターンは、段差を備えたパターンであればよく、仕様に応じて適宜設計してよい。
また、凹凸パターンの上面図形は、仕様に応じて適宜設計してよい。例えば、円形状、多角形状、任意の数の頂点を持ち前記頂点を連続する直線または曲線で結んだ星型の形状、などであってもよい。
The concavo-convex pattern may be a pattern having a step, and may be appropriately designed according to specifications.
Moreover, you may design the upper surface figure of an uneven | corrugated pattern suitably according to a specification. For example, it may be a circular shape, a polygonal shape, or a star shape having an arbitrary number of vertices and connecting the vertices with continuous straight lines or curves.

また、凹凸パターンはアレイ状のパターンを備えていることが好ましい。アレイ状のパターンを備えることにより、マイクロレンズアレイを好適に製造できるマイクロレンズモールドを形成することが出来る。
なお、アレイ状とは、各単位レンズパターン同士が規則的に並んでいる状態を示すものであり、例えば、碁盤目状(正方格子配列)、蜂の巣状(ハニカム配列)などのパターンを含むものとする。
Moreover, it is preferable that the concavo-convex pattern has an array pattern. By providing an array-like pattern, a microlens mold capable of suitably producing a microlens array can be formed.
The array shape indicates a state in which the unit lens patterns are regularly arranged, and includes, for example, patterns such as a grid pattern (square lattice arrangement) and a honeycomb pattern (honeycomb arrangement).

凹凸パターンの凸部の上面図形が四角形の場合、前記凸部は正方格子配列で配列されていることが好ましい。このとき、四角形のパターンを平面充填することが出来、好適にマイクロレンズアレイ用のマイクロレンズモールドを製造することが出来る。   When the upper surface figure of the convex part of the concavo-convex pattern is a quadrangle, the convex part is preferably arranged in a square lattice arrangement. At this time, a square pattern can be filled in a plane, and a microlens mold for a microlens array can be suitably manufactured.

凹凸パターンの凸部の上面図形が六角形の場合、前記凸部はハニカム配列で配列されていることが好ましい。このとき、六角形のパターンを平面充填することが出来、好適にマイクロレンズアレイ用のマイクロレンズモールドを製造することが出来る。   When the upper surface figure of the convex part of the concavo-convex pattern is hexagonal, the convex part is preferably arranged in a honeycomb arrangement. At this time, a hexagonal pattern can be planarly filled, and a microlens mold for a microlens array can be suitably manufactured.

凹凸パターンの形成方法は、所望するパターン寸法幅およびパターン形状を形成することの出来る微細加工技術を用いれば良い。例えば、微細加工技術として、リソグラフィ方法、エッチング方法、微細機械加工法(レーザ加工、マシニング加工など)などを用いても良い。   As a method for forming the concavo-convex pattern, a fine processing technique capable of forming a desired pattern dimension width and pattern shape may be used. For example, as a fine processing technique, a lithography method, an etching method, a fine machining method (laser processing, machining processing, or the like) may be used.

<樹脂を塗膜する工程>
次に、凹凸パターンが形成された側から、基板に樹脂を塗膜する。
凹凸パターンを有する基板上に樹脂を塗膜すると、樹脂は平坦に塗膜されず、凹凸パターンの段差に応じて凸パターン上に山なりに塗膜される。このため、自己整合的に凹凸パターンに応じた曲面構造を形成することが出来る。また、このとき形成される曲面構造は、凹凸パターンと樹脂の表面張力により定まるものであるため、曲面上に加工痕などは存在しない。
<Step of coating resin>
Next, a resin is coated on the substrate from the side where the uneven pattern is formed.
When the resin is coated on the substrate having the concavo-convex pattern, the resin is not coated flat, and is coated in a mountain pattern on the convex pattern according to the level difference of the concavo-convex pattern. For this reason, it is possible to form a curved surface structure corresponding to the uneven pattern in a self-aligning manner. Further, since the curved surface structure formed at this time is determined by the concavo-convex pattern and the surface tension of the resin, there is no processing mark or the like on the curved surface.

樹脂は、(1)流動性を備え、(2)外部条件(熱、圧力、光などの条件)により硬化する材料であれば良い。
例えば、上記樹脂として、熱により硬軟変化する熱可塑性樹脂、熱により硬化する熱硬化性樹脂、露光光により硬化する光感光性樹脂を用いても良い。
例えば、具体的には、ノボラック樹脂、ポリスチレン樹脂、PMMA樹脂などを用いても良い。
The resin may be any material that has (1) fluidity and (2) cures under external conditions (conditions such as heat, pressure, and light).
For example, as the resin, a thermoplastic resin that changes hardness by heat, a thermosetting resin that cures by heat, or a photosensitive resin that cures by exposure light may be used.
For example, specifically, a novolac resin, a polystyrene resin, a PMMA resin, or the like may be used.

また、樹脂の塗膜方法としては、材料に応じて、適宜公知の薄膜形成技術を用いれば良い。例えば、ダイコート法、スピンコート法、スプレイコート法、スリットコート法、ディップコート法などを用いても良い。   In addition, as a resin coating method, a known thin film forming technique may be appropriately used depending on the material. For example, a die coating method, a spin coating method, a spray coating method, a slit coating method, a dip coating method, or the like may be used.

樹脂の膜厚については、所望する曲面構造に応じて、用いる樹脂の粘度および組成などの物理的特性と勘案し、適宜決定して良い。また、所望する曲面構造に適した樹脂の厚みの算定を、計算機を用いたシミュレーション(モンテカルロ法など)により、行っても良い。   The film thickness of the resin may be determined as appropriate in consideration of physical properties such as the viscosity and composition of the resin used, depending on the desired curved surface structure. In addition, the resin thickness suitable for the desired curved surface structure may be calculated by simulation using a computer (Monte Carlo method or the like).

<電鋳により金属層を積層する工程>
次に、塗膜した樹脂上に電鋳により、金属層を積層する。
<Process of laminating metal layers by electroforming>
Next, a metal layer is laminated on the coated resin by electroforming.

電鋳は適宜公知の方法により行って良い。例えば、具体的には、Niを用いた電鋳を行っても良い。
また、電鋳を行うに際して、曲面構造が形成された樹脂表面上にシード層を形成してもよい。シード層としては、金属薄膜を用いても良い。
Electroforming may be performed by a known method as appropriate. For example, specifically, electroforming using Ni may be performed.
Further, when performing electroforming, a seed layer may be formed on the resin surface on which the curved surface structure is formed. A metal thin film may be used as the seed layer.

<金属層と前記基板とを剥離する工程>
次に、基板と金属層とを剥離し、金属層よりなるマイクロレンズモールドを得る。
剥離方法は、特に限定されるものではなく、ウェットエッチングにより原版側を溶解する方法、物理的に力を加え剥離する方法、などを用いて良い。
<Step of peeling the metal layer and the substrate>
Next, the substrate and the metal layer are peeled off to obtain a microlens mold made of the metal layer.
The peeling method is not particularly limited, and a method of dissolving the original plate side by wet etching, a method of peeling by applying physical force, or the like may be used.

また、本発明のマイクロレンズモールド製造方法は、金属層と基板とを剥離する工程にあたり、基板上の樹脂を流動化させることが好ましい。これにより、金属層と樹脂との間における密着性が低下し、金属層と基板とを好適に剥離することが出来、剥離に際して、基板および金属層が欠損することを抑制することが出来る。特に、金属層を電鋳にて積層した場合、樹脂と金属層とは形状に沿って密着するため、転写された形状を維持したままの剥離が困難であり、樹脂を流動化させる効果は多大である。
流動化させる方法は、用いた樹脂に応じて適宜行って良い。例えば、(1)ウェットエッチングにより樹脂のみを選択的に溶解する、(2)熱可塑性樹脂を用いた場合加熱する、などの方法を用いて良い。
In the microlens mold manufacturing method of the present invention, it is preferable to fluidize the resin on the substrate in the step of peeling the metal layer and the substrate. Thereby, the adhesiveness between a metal layer and resin falls, a metal layer and a board | substrate can be peeled suitably and it can suppress that a board | substrate and a metal layer lose | deviate at the time of peeling. In particular, when a metal layer is laminated by electroforming, the resin and the metal layer are in close contact with each other along the shape, so that peeling while maintaining the transferred shape is difficult, and the effect of fluidizing the resin is great. It is.
The fluidizing method may be appropriately performed according to the resin used. For example, a method of (1) selectively dissolving only the resin by wet etching, or (2) heating when a thermoplastic resin is used may be used.

また、本発明のマイクロレンズモールド製造方法は、更に、凹凸パターンが形成された基板から樹脂を剥離する工程と、再度、前記基板の前記凹凸パターンが形成された側に樹脂を塗膜する工程と、再度、前記樹脂側に電鋳により金属層を積層する工程と、再度、前記金属層と前記基板とを剥離する工程と、を備えることが好ましい。再度、凹凸パターンが形成された基板に樹脂を塗布することにより、曲面構造を何度でも再生することが出来るため、一つの凹凸パターンが形成された基板から何度でも金属層からなるマイクロレンズモールドを得ることが出来る。これにより、マイクロレンズモールドを精度良く、複数個製造することが出来る。   The microlens mold manufacturing method of the present invention further includes a step of peeling the resin from the substrate on which the concavo-convex pattern is formed, and a step of coating the resin on the side on which the concavo-convex pattern is formed again. It is preferable that the method further includes a step of laminating a metal layer on the resin side by electroforming and a step of peeling the metal layer and the substrate again. The curved surface structure can be reproduced any number of times by applying resin to the substrate on which the concavo-convex pattern is formed again. Therefore, the microlens mold consisting of the metal layer from the substrate on which the single concavo-convex pattern is formed. Can be obtained. Thereby, a plurality of microlens molds can be manufactured with high accuracy.

<実施例1>
以下、本発明のマイクロレンズモールド製造方法の実施の一例として、図1を用いながら具体的に説明を行う。
<Example 1>
Hereinafter, as an example of the method for manufacturing a microlens mold of the present invention, a specific description will be given with reference to FIG.

まず、基板2にレジスト1を20μm厚でコートした(図1(a))。
このとき、レジスト1として、g線用ポジ型レジスト(商品名:PMER LA900/東京応化工業社製)を用いた。
また、基板2として、6インチ石英基板を用いた。
First, resist 1 was coated on substrate 2 to a thickness of 20 μm (FIG. 1A).
At this time, a positive resist for g-line (trade name: PMER LA900 / manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was used as the resist 1.
A 6-inch quartz substrate was used as the substrate 2.

次に、レーザー描画機にて20μm角のドットパターンを露光し、アルカリ現像液(テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、3.0wt%)によりレジストパターン3を形成した。
このとき、露光条件は、露光量を2200mJ/cm、現像時間を600秒とした。
Next, a 20 μm square dot pattern was exposed with a laser drawing machine, and a resist pattern 3 was formed with an alkali developer (tetramethylammonium hydroxide, 3.0 wt%).
At this time, the exposure conditions were an exposure amount of 2200 mJ / cm 2 and a development time of 600 seconds.

次に、形成したレジストパターン3をマスクとしてエッチングガス4を用いて基板2のエッチングを行った(図1(b))。
このとき、エッチングとして、ICPドライエッチング装置によるドライエッチングを用いた。
また、基板2である石英基板のエッチング条件は、CF流量20sccm、O流量10sccm、Ar流量50sccm、圧力10mTorr、ICPパワー300W、RIEパワー500Wとし、であり、基板表面から深さ20μmまでエッチングを行った。
Next, the substrate 2 was etched using an etching gas 4 using the formed resist pattern 3 as a mask (FIG. 1B).
At this time, dry etching using an ICP dry etching apparatus was used as etching.
Etching conditions of the quartz substrate as the substrate 2 are CF 4 flow rate 20 sccm, O 2 flow rate 10 sccm, Ar flow rate 50 sccm, pressure 10 mTorr, ICP power 300 W, RIE power 500 W, and etching from the substrate surface to a depth of 20 μm. Went.

次に、Oプラズマアッシングにより残存したレジスト1を剥離洗浄し、凹凸パターンを有する基板5を得た(図1(c))。
このとき、Oプラズマアッシングの条件は、O流量500sccm、圧力30Pa、RFパワー1000W、であった。
Next, the resist 1 remaining by O 2 plasma ashing was peeled and washed to obtain a substrate 5 having an uneven pattern (FIG. 1C).
At this time, the O 2 plasma ashing conditions were an O 2 flow rate of 500 sccm, a pressure of 30 Pa, and an RF power of 1000 W.

次に、凹凸パターンを有する基板5に、粘度100cpの樹脂6を、回転数2000rpmにてスピンコートし、加熱し、樹脂6を乾燥および固定化した(図1(d))。
このとき、樹脂6は、は基板表面に均一な膜厚で塗布されるのではなく、凹凸パターンの段差に応じて曲面構造を自己整合的に形成した。また、樹脂6として、ノボラック樹脂を用いた。
Next, a resin 6 having a viscosity of 100 cp was spin-coated on the substrate 5 having a concavo-convex pattern at a rotation speed of 2000 rpm, and heated to dry and fix the resin 6 (FIG. 1D).
At this time, the resin 6 was not applied with a uniform film thickness on the substrate surface, but formed a curved surface structure in a self-aligned manner according to the steps of the concavo-convex pattern. As the resin 6, a novolac resin was used.

次に、塗膜された樹脂6側の表面を過マンガン酸カリウムで処理し、Pd−Sn触媒溶液を用いてNiの電気鋳造を行い、金属層7を形成した(図1(e))。   Next, the surface of the coated resin 6 side was treated with potassium permanganate, and Ni was electrocast using a Pd—Sn catalyst solution to form a metal layer 7 (FIG. 1 (e)).

次に、金属層7を凹凸パターンを有する基板5から剥離し、マイクロレンズモールド8を得た(図1(f))。
このとき、剥離に際して、NMP(N−メチル−2−ピロリドン(N−methylpyrrolidone))を用いて樹脂6を溶解した。
Next, the metal layer 7 was peeled from the substrate 5 having the concavo-convex pattern to obtain a microlens mold 8 (FIG. 1 (f)).
At this time, the resin 6 was dissolved using NMP (N-methyl-2-pyrrolidone) at the time of peeling.

以上より、マイクロレンズモールド8を製造することが出来た。   From the above, the microlens mold 8 was able to be manufactured.

<実施例2>
実施例1にて、マイクロレンズモールド8を製造した後、凹凸パターンを有する基板5を洗浄し、再度、樹脂の塗膜、電鋳および金属層の剥離を行った。
このとき、凹凸パターンを有する基板5の洗浄には、過酸化水素水と硫酸の混合液を用いた。
また、樹脂の塗膜、電鋳および金属層の剥離は、実施例1と同様の条件で行った。
<Example 2>
In Example 1, after manufacturing the microlens mold 8, the substrate 5 having the concavo-convex pattern was washed, and the resin coating, electroforming, and peeling of the metal layer were performed again.
At this time, a mixed solution of hydrogen peroxide and sulfuric acid was used for cleaning the substrate 5 having the uneven pattern.
The resin coating, electroforming, and metal layer peeling were performed under the same conditions as in Example 1.

以上より、実施例1と同形状のパターンを備えたマイクロレンズモールドを製造することが出来た。   As mentioned above, the microlens mold provided with the pattern of the same shape as Example 1 was able to be manufactured.

本発明のマイクロレンズモールド製造方法は、マイクロレンズモールドの製造のみならず、微細な曲面構造パターンを形成することが求められる広範な分野に利用することが期待される。
例えば、半導体デバイス、光学素子、配線回路、データストレージメディア(ハードディスク、光学メディアなど)、医療用部材(分析検査用チップ、マイクロニードルなど)、バイオデバイス(バイオセンサ、細胞培養基板など)、精密検査機器用部材(検査プローブ、試料保持部材など)、ディスプレイパネル、パネル部材、エネルギーデバイス(太陽電池、燃料電池など)、マイクロ流路、マイクロリアクタ、MEMSデバイス、インプリントモールド、フォトマスクなどの用途が挙げられる。
The method for producing a microlens mold of the present invention is expected to be used not only for producing a microlens mold but also for a wide range of fields in which it is required to form a fine curved surface structure pattern.
For example, semiconductor devices, optical elements, wiring circuits, data storage media (hard disks, optical media, etc.), medical materials (analysis test chips, microneedles, etc.), bio devices (biosensors, cell culture substrates, etc.), precision testing Applications such as equipment members (inspection probes, sample holding members, etc.), display panels, panel members, energy devices (solar cells, fuel cells, etc.), microchannels, microreactors, MEMS devices, imprint molds, photomasks, etc. It is done.

本発明のマイクロレンズモールド製造方法の実施の一例を示す断面工程図である。It is sectional process drawing which shows an example of implementation of the microlens mold manufacturing method of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1……レジスト
2……基板
3……レジストパターン
4……エッチングガス
5……凹凸パターンを有する基板
6……樹脂
7……金属層
8……マイクロレンズモールド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Resist 2 ... Board | substrate 3 ... Resist pattern 4 ... Etching gas 5 ... Substrate with uneven pattern 6 ... Resin 7 ... Metal layer 8 ... Micro lens mold

Claims (6)

基板に凹凸パターンを形成する工程と、
前記基板の前記凹凸パターンが形成された側に樹脂を塗膜する工程と、
前記基板の前記樹脂が塗膜された側に金属層を積層する工程と、
前記基板と前記金属層とを剥離する工程と、
を備えたことを特徴とするマイクロレンズモールド製造方法。
Forming an uneven pattern on the substrate;
Coating the resin on the side of the substrate on which the concave / convex pattern is formed;
Laminating a metal layer on the side of the substrate coated with the resin;
Peeling the substrate and the metal layer;
A method of manufacturing a microlens mold, comprising:
請求項1に記載のマイクロレンズモールド製造方法であって、
更に、
凹凸パターンが形成された基板から樹脂を剥離する工程と、
再度、前記基板の前記凹凸パターンが形成された側に樹脂を塗膜する工程と、
再度、前記樹脂側に電鋳により金属層を積層する工程と、
再度、前記金属層と前記基板とを剥離する工程と、
を備えたことを特徴とするマイクロレンズモールド製造方法。
The microlens mold manufacturing method according to claim 1,
Furthermore,
Removing the resin from the substrate on which the concavo-convex pattern is formed;
Again, coating the resin on the side of the substrate on which the concave / convex pattern is formed,
Again, a step of laminating a metal layer by electroforming on the resin side,
Again, the step of peeling the metal layer and the substrate,
A method of manufacturing a microlens mold, comprising:
請求項1または2のいずれかに記載のマイクロレンズモールド製造方法であって、
金属層と基板とを剥離する工程にあたり、基板上の樹脂を流動化させること
を特徴とするマイクロレンズモールド製造方法。
A microlens mold manufacturing method according to claim 1 or 2,
A method for producing a microlens mold, wherein the resin on the substrate is fluidized in the step of peeling the metal layer and the substrate.
請求項1から3のいずれかに記載のマイクロレンズモールド製造方法であって、
凹凸パターンの凸部の上面図形は四角形であり、
前記凸部は正方格子配列で配列されていること
を特徴とするマイクロレンズモールド製造方法。
A microlens mold manufacturing method according to any one of claims 1 to 3,
The top surface figure of the convex part of the concavo-convex pattern is a rectangle,
The method for producing a microlens mold, wherein the convex portions are arranged in a square lattice arrangement.
請求項1から3のいずれかに記載のマイクロレンズモールド製造方法であって、
凹凸パターンの凸部の上面図形は六角形であり、
前記凸部はハニカム配列で配列されていること
を特徴とするマイクロレンズモールド製造方法。
A microlens mold manufacturing method according to any one of claims 1 to 3,
The top surface figure of the convex part of the concavo-convex pattern is a hexagon,
The method for producing a microlens mold, wherein the convex portions are arranged in a honeycomb arrangement.
凹凸パターンが形成された基板と、
前記基板の前記凹凸パターン形成側に積層された樹脂と、を備え
前記樹脂は、樹脂表面がマイクロレンズの曲面構造を成していること
を特徴とするマイクロレンズモールド原版。
A substrate on which a concavo-convex pattern is formed;
And a resin laminated on the concave / convex pattern forming side of the substrate, wherein the resin has a curved surface structure of a microlens.
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