JP2010114026A - El element, and el display device using it - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an EL element capable of realizing high light extraction efficiency by a simple constitution, and an easy manufacturing method. <P>SOLUTION: This is the EL element in which an optical sheet to satisfy the following conditions is installed at an either position on a light-emitting layer 24c side than a face from which light is extracted toward outside of the EL element 21, and on the viewing side than a face of a light emitting side of a light transmissive electrode 25. a. When out of light incident to the optical sheet, parallel transmissivity against light incident from the normal line direction of the sheet face is made To, and the parallel transmissivity against light incident from a direction inclined to the sheet by 45° in a state that both sheet faces are pinched by two sheets of right angle reflecting prism slope is made Tα, a value of Tα/To is 0.6 or less. b. As for the optical sheet, flat particles of which the average aspect ratio is 2 or more are dispersed in a transparent resin, and the average value of the smaller angle made by a long axis direction of the particles and the sheet face direction in two cross-sections perpendicular to the sheet face is within 30°. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学シートが設けられたEL素子及びそれを用いるEL表示装置に関する。   The present invention relates to an EL element provided with an optical sheet and an EL display device using the same.

近年、情報機器の多様化に伴って、消費電力が少なく、容積が小さい面発光素子のニーズが高まり、このような面発光素子の一つとしてエレクトロルミネッセンス素子(本願では、EL素子と略す)が注目されている。そして、このようなEL素子は使用する材料によって無機EL素子と有機EL素子とに大別される。   In recent years, with the diversification of information equipment, the need for a surface light-emitting element with low power consumption and a small volume has increased, and as one of such surface light-emitting elements, an electroluminescence element (hereinafter abbreviated as EL element) is used. Attention has been paid. Such EL elements are roughly classified into inorganic EL elements and organic EL elements depending on the materials used.

ここで、無機EL素子は一般に発光部に高電界を作用させ、電子をこの高電界中で加速して発光中心に衝突させ、これにより発光中心を励起させて発光させるようになっている。一方、有機EL素子は電子注入電極とホール注入電極とからそれぞれ電子とホールとを発光層内で結合させて、有機材料を励起状態にし、この有機材料が励起状態から基底状態に戻るときに発光するようになっており、無機EL素子に比べて、低い電圧で駆動できるという利点がある。面で発光するという利点を活かして、薄型のディスプレイや照明用途としての展開が期待されている。   Here, the inorganic EL element generally applies a high electric field to the light emitting portion, accelerates electrons in the high electric field to collide with the light emission center, thereby exciting the light emission center to emit light. On the other hand, an organic EL element combines an electron and a hole from an electron injection electrode and a hole injection electrode in a light emitting layer to bring the organic material into an excited state, and emits light when the organic material returns from the excited state to the ground state. As compared with the inorganic EL element, there is an advantage that it can be driven at a lower voltage. Taking advantage of the fact that it emits light on its surface, it is expected to be used for thin displays and lighting applications.

しかしながら、EL素子等の面発光素子を発光させた場合、高い屈折率を持つ発光層の内部で発せられた光は様々な方向に進行し、面発光素子の出射面等において全反射して面発光素子の内部に閉じ込められる光も多く存在する。一般に、面発光素子で発せられた光の20%〜30%しか面発光素子の外部に取り出すことができず、十分な明るさを得られないという問題があった。特に有機EL素子の場合、明るさを電流の大きさで補おうとすると素子の寿命が短くなるという問題もある。   However, when a surface light emitting element such as an EL element emits light, the light emitted inside the light emitting layer having a high refractive index travels in various directions and is totally reflected on the light emitting surface of the surface light emitting element. There is also a lot of light confined inside the light emitting element. In general, only 20% to 30% of the light emitted from the surface light emitting device can be taken out of the surface light emitting device, and sufficient brightness cannot be obtained. In particular, in the case of an organic EL element, there is also a problem that the lifetime of the element is shortened if the brightness is compensated by the magnitude of the current.

このような問題に対し、拡散粒子を含有する層をEL素子の光出射面側のいずれかの位置に設ける技術が従来より知られている。しかし単なる拡散層を設けるだけの構成では、十分な光取り出し効果が得られない上に、視認側正面に向かって出射される光に対しても散乱現象を起こすために正面輝度が低下するという問題が生じてしまう。このような課題に対し、EL素子から出射される光のうち、視認側正面に向かって出射される光に対して殆ど散乱を起こすことなく、臨界角以上の角度で進行する光に対して大きな散乱を与え、光取り出し効率を高めるような光学技術の開示がなされている(例えば、特許文献1〜5参照)。   In order to solve such a problem, a technique in which a layer containing diffusing particles is provided at any position on the light emitting surface side of an EL element has been conventionally known. However, with a configuration in which only a diffusing layer is provided, a sufficient light extraction effect cannot be obtained, and the front luminance decreases due to a scattering phenomenon with respect to light emitted toward the front side of the viewing side. Will occur. For such a problem, among the light emitted from the EL element, the light emitted toward the front side of the viewing side hardly scatters and is large for light traveling at an angle greater than the critical angle. Disclosure of optical technology that imparts scattering and enhances light extraction efficiency has been made (see, for example, Patent Documents 1 to 5).

しかしながら、上記特許文献1には、そのような散乱特性を与える構成に関し、樹脂とその中に含まれている散乱体との屈折率の関係への言及はあるものの、複屈折性を有する樹脂あるいは散乱体の材質や、複屈折性散乱体個々の配向を揃える方法など、構成具現化の詳細な記述がなされていない。また、特許文献1では、散乱体形状が異方性を有する例として、細長い散乱体が拡散層の厚み方向に立つ様に配向されている構成を挙げているが、どのように配向させるかの記述がない上に、この構成をそのままEL表示装置に適用すると、画素滲みが大きくなり呆けた画になってしまう。また、特許文献2および3には、臨界角以上の角度で進行する光に対して大きな散乱を与える構成の考え方として、厚み方向に屈折率分布を持つ構造、例えば住友化学製ルミスティのような視界制御特性を持つフィルムを挙げているが、屈折率分布の定義が不明である上に、ルミスティの類の視界制御フィルムは、空気から該フィルムに入射される角度に応じて散乱の大きさが異なるような仕組みであるため、これをEL素子構造に適用しても臨界角以上の光に対して必ずしも有効に機能するとは限らず、むしろ臨界角範囲内の比較的高角入射光に対して大きく散乱し、正面輝度の低下をもたらしてしまう。特許文献4および5でも、臨界角以上の角度で進行する光に対して大きな散乱を与える構成の評価として、特許文献2および3で挙げている視界制御フィルムと同様に、空気から直接フィルムに入射される角度に応じて散乱特性がどう変化するかをみているに過ぎず、光取り出し効率として不十分である。また、特許文献4および5では、具体的構成としてホログラフィック拡散シートを挙げているが、製造方法自体が複雑である上に、これをEL表示装置に適用しようとする場合、各画素ごとにこのような構造を発光素子の上に設けなければならず、非常にコスト高となる。   However, in the above-mentioned Patent Document 1, there is a reference to the relationship between the refractive index of the resin and the scatterer contained in the resin, and the birefringent resin or the like. There is no detailed description of the implementation of the structure, such as the material of the scatterer and the method of aligning the orientation of each birefringent scatterer. In Patent Document 1, as an example in which the shape of the scatterer has anisotropy, a configuration in which the elongated scatterer is oriented so as to stand in the thickness direction of the diffusion layer is described. If there is no description and this configuration is applied to an EL display device as it is, pixel blurring becomes large, resulting in a stunning image. Patent Documents 2 and 3 describe a structure having a refractive index distribution in the thickness direction, for example, a field of view such as Sumitomo Chemical's Lumisty as a concept of a structure that gives large scattering to light traveling at an angle greater than the critical angle. Although a film having control characteristics is mentioned, the definition of the refractive index distribution is unknown, and in addition, the visibility control film of Rumisty's type varies in the magnitude of scattering depending on the angle of incidence on the film from the air Therefore, even if this is applied to an EL device structure, it does not always function effectively for light above the critical angle, but rather scatters significantly for relatively high angle incident light within the critical angle range. As a result, the front luminance is reduced. Also in Patent Documents 4 and 5, as the evaluation of the configuration that gives large scattering to light traveling at an angle greater than the critical angle, in the same way as the visibility control films listed in Patent Documents 2 and 3, the light is directly incident on the film. Only the way the scattering characteristics change according to the angle to be taken is not sufficient as the light extraction efficiency. Further, in Patent Documents 4 and 5, a holographic diffusion sheet is cited as a specific configuration, but the manufacturing method itself is complicated, and when this is applied to an EL display device, this is performed for each pixel. Such a structure must be provided on the light emitting element, which is very expensive.

また、特許文献6および7には、いずれも雲母を二酸化チタンで被覆した粒子を含有する層をEL素子の表面に設けた構成の開示があるが、該粒子の形状的特徴の記述がない上に、10μm以上の粒径の粒子を使用しており、単なる拡散フィルムの光取り出し効果を超える機能は全く認められなかった。更に該構成では、EL表示装置として用いた場合、画像滲みの点で問題となるレベルであった。
特許第4083812号 特許第4104339号 特開2003−208974号公報 特許第3750563号 特開2004−95541号公報 特開平9−245966号公報 特開平11−214158号公報
Patent Documents 6 and 7 both disclose a configuration in which a layer containing particles in which mica is coated with titanium dioxide is provided on the surface of the EL element, but there is no description of the shape characteristics of the particles. In addition, particles having a particle diameter of 10 μm or more were used, and no function exceeding the light extraction effect of a simple diffusion film was observed. Further, in this configuration, when used as an EL display device, the level is a problem in terms of image bleeding.
Patent No. 4083812 Japanese Patent No. 4104339 JP 2003-208974 A Japanese Patent No. 3750563 JP 2004-95541 A JP-A-9-245966 Japanese Patent Laid-Open No. 11-214158

本発明は、単純な構成および容易な製法により高い光取り出し効率を実現できるEL素子を提供することを第1の目的とし、そのEL素子を用いて輝度が高く、画像滲みの少ないEL表示装置を提供することを第2の目的とする。   The first object of the present invention is to provide an EL element capable of realizing high light extraction efficiency with a simple structure and an easy manufacturing method, and an EL display device having high luminance and less image blur using the EL element. The second purpose is to provide it.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.基板上に対向する一対の電極と該電極の間に発光層を備え、前記一対の電極のうち少なくとも一方は光透過性電極であるEL素子において、該EL素子の外界に向けて光が取り出される面より発光層側で、前記光透過性電極の光出射側の面より視認側の、いずれかの位置に下記条件a、bをいずれも満たす光学シートが設けられていることを特徴とするEL素子。   1. A light-emitting layer is provided between a pair of electrodes opposed to each other on the substrate, and at least one of the pair of electrodes is a light-transmitting electrode. Light is extracted toward the outside of the EL element. An EL sheet that is provided with an optical sheet satisfying both of the following conditions a and b at any position on the light emitting layer side of the surface and on the viewing side of the light emitting side surface of the light transmissive electrode. element.

a.該光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線方向から入射する光に対する平行透過率をToとし、該シート両面を2枚の直角反射プリズム斜面で挟んだ状態で、該シートに対し45°傾いた方向から入射する光に対する平行透過率をTαとしたとき、Tα/Toの値は0.6以下である。   a. Of the light incident on the optical sheet, the parallel transmittance with respect to the light incident from the normal direction of the sheet surface is To, and the both surfaces of the sheet are sandwiched between two right-angle reflecting prism inclined surfaces. On the other hand, when the parallel transmittance with respect to light incident from a direction inclined by 45 ° is Tα, the value of Tα / To is 0.6 or less.

b.該光学シートは、透明樹脂中に平均アスペクト比が2以上の扁平粒子が分散されている構成であり、かつ、シート面に垂直な2つの断面における粒子の長軸方向と該シート面方向とのなす小さい方の角度の平均値が30°以内である。   b. The optical sheet has a configuration in which flat particles having an average aspect ratio of 2 or more are dispersed in a transparent resin, and the major axis direction of the particles in two cross sections perpendicular to the sheet surface and the sheet surface direction. The average value of the smaller angles formed is within 30 °.

2.前記光透過性電極の光出射側の面から前記光学シートの視認側表面までの距離が、200μm以下であることを特徴とする前記1に記載のEL素子。   2. 2. The EL element according to 1 above, wherein a distance from a light emitting side surface of the light transmissive electrode to a viewing side surface of the optical sheet is 200 μm or less.

3.前記扁平粒子の平均粒径が10μm未満であり、該扁平粒子の平均アスペクト比が5以上であることを特徴とする前記1または2に記載のEL素子。   3. 3. The EL device according to 1 or 2, wherein the average particle size of the flat particles is less than 10 μm, and the average aspect ratio of the flat particles is 5 or more.

4.前記扁平粒子の平均粒径が5μm以下であり、平均厚みが0.5μm以下であることを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載のEL素子。   4). 4. The EL device according to any one of 1 to 3, wherein the flat particles have an average particle size of 5 μm or less and an average thickness of 0.5 μm or less.

5.前記光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線に対し40°傾斜した方向から入射する光に対する平行透過率をTβとしたとき、Tβ/Toの値が0.65以上であることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載のEL素子。   5. Of the light incident on the optical sheet, the value of Tβ / To is 0.65 or more, where Tβ is the parallel transmittance for light incident from a direction inclined by 40 ° with respect to the normal of the sheet surface. 5. The EL device according to any one of 1 to 4 above, wherein

6.光学シートを構成する前記透明樹脂と前記扁平粒子との平均屈折率差が0.06以上であることを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載のEL素子。   6). 6. The EL element according to any one of 1 to 5, wherein an average refractive index difference between the transparent resin constituting the optical sheet and the flat particles is 0.06 or more.

7.前記1〜6のいずれか1項に記載のEL素子を用いることを特徴とするEL表示装置。   7). 7. An EL display device using the EL element according to any one of 1 to 6 above.

本発明によれば、単純な構成および容易な製法により高い光取り出し効率を実現できるEL素子を提供することができる。更に、そのEL素子を用いて輝度が高く、画像滲みの少ないEL表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an EL element capable of realizing high light extraction efficiency with a simple configuration and an easy manufacturing method. Further, an EL display device with high luminance and less image blur can be provided using the EL element.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明のEL素子は、基板上に対向する一対の電極と該電極の間に発光層を備え、前記一対の電極のうち少なくとも一方は光透過性電極であるEL素子において、該EL素子の外界に向けて光が取り出される面より発光層側で、前記光透過性電極の光出射側の面より視認側の、いずれかの位置に下記条件a、bをいずれも満たす光学シートが設けられていることを特徴とし、かかる構成により、単純な構成および容易な製法でありながら高い光取り出し効率を実現できるEL素子を提供するものである。   An EL element of the present invention includes a pair of electrodes opposed to each other on a substrate and a light emitting layer between the electrodes, and at least one of the pair of electrodes is a light transmissive electrode. An optical sheet satisfying both of the following conditions a and b is provided at any position on the light emitting layer side from the surface from which light is extracted toward the light emitting side of the light transmissive electrode and on the viewing side. With such a configuration, an EL element capable of realizing high light extraction efficiency with a simple configuration and an easy manufacturing method is provided.

a.該光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線方向から入射する光に対する平行透過率をToとし、該シート両面を2枚の直角反射プリズム斜面で挟んだ状態で、該シートに対し45°傾いた方向から入射する光に対する平行透過率をTαとしたとき、Tα/Toの値は0.6以下である。   a. Of the light incident on the optical sheet, the parallel transmittance with respect to the light incident from the normal direction of the sheet surface is To, and the both surfaces of the sheet are sandwiched between two right-angle reflecting prism inclined surfaces. On the other hand, when the parallel transmittance with respect to light incident from a direction inclined by 45 ° is Tα, the value of Tα / To is 0.6 or less.

b.該光学シートは、透明樹脂中に平均アスペクト比が2以上の扁平粒子が分散されている構成であり、かつ、シート面に垂直な2つの断面における粒子の長軸方向と該シート面方向とのなす小さい方の角度の平均値が30°以内である。   b. The optical sheet has a configuration in which flat particles having an average aspect ratio of 2 or more are dispersed in a transparent resin, and the major axis direction of the particles in two cross sections perpendicular to the sheet surface and the sheet surface direction. The average value of the smaller angles formed is within 30 °.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(本発明に係わる光学シートの散乱特性)
本発明の光学シートは、該シート内に入射する光のうち、該シート面の法線方向から入射する光に対する平行透過率をToとし、該シート両面を2枚の直角三角プリズム斜面で挟んだ状態で、該シートに対し45°傾いた方向から入射する光に対する平行透過率をTαとしたとき、Tα/Toの値は0.6以下であることが特徴である。
(Scattering characteristics of optical sheet according to the present invention)
In the optical sheet of the present invention, the parallel transmittance with respect to light incident from the normal direction of the sheet surface out of the light incident on the sheet is To, and both surfaces of the sheet are sandwiched between two right-angled triangular prism inclined surfaces. In this state, the value of Tα / To is 0.6 or less, where Tα is the parallel transmittance with respect to light incident from a direction inclined by 45 ° with respect to the sheet.

ここで本発明に係わる光学シートの平行透過率To、Tαの値は、以下のような手法により測定する値である。即ち、予め有機EL素子より光学シート部を剥離して取り出しておき、これを図1.Aに模式的に表す光学系、例えば日本電色工業社製ヘイズメータNDH2000のような市販のヘイズメータにセットし、該光学シート面の法線方向より光を当て、直進出射されてくる透過光の割合、即ち平行透過率Toを測定する。次に、図1.Bに示すように市販の45°直角反射プリズムを2つ用意し、三角柱の斜面間に該光学機能性層を接着層などを介して気泡が極力混入しないように貼り合わせた後、これを上記光学系にセットして該光学シートの法線から45°傾斜した角度より光を当て、そのときの平行透過率測定値Tαを測定する。本発明に係わる光学シートは、Tα/Toの値が0.6以下であり、好ましくは0.001以上0.5以下であることが光取り出し効果を高める点で好ましい。   Here, the parallel transmittances To and Tα of the optical sheet according to the present invention are values measured by the following method. That is, the optical sheet portion is peeled off from the organic EL element in advance, and this is shown in FIG. Set to an optical system schematically represented in A, for example, a commercially available haze meter such as a haze meter NDH2000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. That is, the parallel transmittance To is measured. Next, FIG. As shown in B, two commercially available 45 ° right-angle reflecting prisms were prepared, and the optical functional layer was bonded between the inclined surfaces of the triangular prism via an adhesive layer so that bubbles would not be mixed as much as possible. Set in the optical system, light is applied from an angle inclined by 45 ° from the normal of the optical sheet, and the parallel transmittance measurement value Tα at that time is measured. In the optical sheet according to the present invention, the value of Tα / To is 0.6 or less, preferably 0.001 or more and 0.5 or less, from the viewpoint of enhancing the light extraction effect.

また、本発明に係わる光学シートは、該光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線に対し40°傾斜した方向から入射する光に対する平行透過率をTβとしたとき、Tβ/Toの値が0.65以上であることが光取り出し効果を高める点で好ましい。Tβの値は、図1Aにおいて、光学シートを入射光に対して40°傾斜した状態で測定したときに得られる平行透過率の値を意味する。Tβ/Toの値は0.65以上0.99以下が好ましく、0.7以上0.99以下がより好ましい。   Further, the optical sheet according to the present invention has Tβ / when the parallel transmittance with respect to light incident from the direction inclined by 40 ° with respect to the normal of the sheet surface is Tβ. The value of To is preferably 0.65 or more from the viewpoint of enhancing the light extraction effect. The value of Tβ means a value of parallel transmittance obtained when the optical sheet is measured in a state inclined by 40 ° with respect to incident light in FIG. 1A. The value of Tβ / To is preferably 0.65 or more and 0.99 or less, and more preferably 0.7 or more and 0.99 or less.

Tα/To及びTβ/Toの値は、光学シートを構成している扁平粒子の厚みや粒径、シート内に含有される全散乱体数の中の扁平粒子数の割合、扁平粒子と透明樹脂との屈折率差、散乱体密度、該光学シートの厚みなどを適宜単独または組み合わせで変化させることにより、容易に制御できる。   The values of Tα / To and Tβ / To are the thickness and particle size of the flat particles constituting the optical sheet, the ratio of the number of flat particles in the total number of scatterers contained in the sheet, flat particles and transparent resin Can be easily controlled by changing the refractive index difference, the scatterer density, the thickness of the optical sheet, etc. alone or in combination as appropriate.

(本発明に係わる光学シートの構成)
本発明に係わる光学シートは、透明樹脂中に扁平粒子が分散されている構成である。該シートに含有される扁平粒子の密度としては、個々の粒子の詳細な形状や、材質で決まってくる屈折率、更には粒子のバインダーとして機能する透明樹脂の屈折率などとの関係により、一概に適正範囲を語ることはできないが、体積比率にして0.03%〜50%の範囲であることが好ましく、0.1%〜30%の範囲であることが更に好ましい。
(Configuration of optical sheet according to the present invention)
The optical sheet according to the present invention has a configuration in which flat particles are dispersed in a transparent resin. The density of the flat particles contained in the sheet is generally determined by the relationship between the detailed shape of each particle, the refractive index determined by the material, and the refractive index of a transparent resin that functions as a binder for the particles. However, the volume ratio is preferably 0.03% to 50%, and more preferably 0.1% to 30%.

該シートの厚みとしては、該シートに含有されている扁平粒子の厚み以上であれば特に制限はないが、概ね0.2μm以上150μm以下であることが好ましく、0.5μm以上80μm以下であることが更に好ましく、1μm以上40μm以下であることが最も好ましい。   The thickness of the sheet is not particularly limited as long as it is equal to or greater than the thickness of the flat particles contained in the sheet, but is preferably approximately 0.2 μm to 150 μm, preferably 0.5 μm to 80 μm. Is more preferable, and most preferably 1 μm or more and 40 μm or less.

(本発明に用いられる扁平粒子)
本発明に用いられる扁平粒子は、粒子の立体形状に直交3次元座標系を当てはめたとき、少なくともいずれか一方向に短い特徴をもつ粒子であり、外見上、円盤を含む楕円盤状のもの、四角状あるいは六角状に代表される多角形平板状のもの、更には棒状のものなど種々の形状のものが用いられる。
(Flat particles used in the present invention)
The flat particles used in the present invention are particles having short characteristics in at least one direction when an orthogonal three-dimensional coordinate system is applied to the three-dimensional shape of the particles, and are apparently elliptical, including a disk, Various shapes such as a polygonal flat plate represented by a square shape or a hexagonal shape, and a rod shape are used.

本発明に係わる光学シートは、透明樹脂中に平均アスペクト比が2以上の扁平粒子が分散されている構成であることが特徴である。本発明においてアスペクト比とは、粒径と厚さの比(アスペクト比=直径/厚さ)をいう。また、本発明でいう粒径とは、扁平粒子の表面を形成する平面あるいは曲面の中で最も広い面積を有する面(以下、主要面と称する)の外接面または内接面に対して垂直にその粒子を投影した場合の面積(投影面積)に等しい円の直径で表される。粒子の厚さとは、主要面に垂直な方向での粒子の厚さのうち最長のものとして定義する。   The optical sheet according to the present invention is characterized in that flat particles having an average aspect ratio of 2 or more are dispersed in a transparent resin. In the present invention, the aspect ratio refers to the ratio of the particle diameter to the thickness (aspect ratio = diameter / thickness). The particle size referred to in the present invention is perpendicular to the circumscribed or inscribed surface of the plane (hereinafter referred to as the main surface) having the largest area among the flat surfaces or curved surfaces forming the surface of the flat particles. It is represented by the diameter of a circle equal to the area (projected area) when the particles are projected. The grain thickness is defined as the longest grain thickness in a direction perpendicular to the major surface.

粒径と厚さは、粒子が固体の場合、以下の方法で求められる。予めEL素子より剥離して取り出した光学シートから、バインダー樹脂を溶解等の方法により除去し、粒子のみを抽出する。これを支持体上に内部標準となる粒径既知のラテックスボールとともに塗布した試料を作成し、ある角度からカーボン蒸着法によりシャドーイングを施した後、通常のレプリカ法によってレプリカ試料を作成する。同試料の電子顕微鏡写真を撮影し、画像処理装置等を用いて個々の粒子の投影面積と厚さを求める。この場合、粒子の投影面積は内部標準の投影面積から、粒子の厚さは内部標準と粒子の影(シャドー)の長さから算出することができる。本発明において、アスペクト比、粒径、粒子厚さの平均値は、上記シャドーイング法を用いて粒子を任意に300個以上測定し、それらの算術平均として求められる値をいう。また、粒子が気体あるいは液体の場合、光学シートを超薄膜切片状に連続的に切り出し、電子顕微鏡像の画像処理により立体化した後、上記粒径と厚みを求めることができる。   The particle size and thickness are determined by the following method when the particles are solid. From the optical sheet previously peeled off from the EL element, the binder resin is removed by a method such as dissolution to extract only the particles. A sample is prepared by coating this on a support together with a latex ball having a known particle size as an internal standard, shadowing is performed by a carbon vapor deposition method from a certain angle, and then a replica sample is prepared by a normal replica method. An electron micrograph of the sample is taken, and the projected area and thickness of each particle are obtained using an image processing apparatus or the like. In this case, the projected area of the particle can be calculated from the projected area of the internal standard, and the thickness of the particle can be calculated from the length of the internal standard and the shadow of the particle. In the present invention, the average values of the aspect ratio, the particle size, and the particle thickness are values obtained by arbitrarily measuring 300 or more particles using the shadowing method and calculating the arithmetic average thereof. Further, when the particles are gas or liquid, the optical sheet is continuously cut out in an ultrathin film shape, and is three-dimensionalized by image processing of an electron microscope image, and then the particle diameter and thickness can be obtained.

本発明において、扁平粒子の平均アスペクト比は2以上であるが、5以上であることが好ましい。また、本発明に用いられる扁平粒子の平均粒径は、10μm未満が好ましく、0.1μm〜8μmが更に好ましく、0.1μm〜5μmが特に好ましい。本発明に用いられる扁平粒子の平均厚みは、2μm以下が好ましく、1μm以下が更に好ましく、0.5μm以下が最も好ましい。   In the present invention, the average aspect ratio of the flat particles is 2 or more, but is preferably 5 or more. The average particle size of the flat particles used in the present invention is preferably less than 10 μm, more preferably 0.1 μm to 8 μm, and particularly preferably 0.1 μm to 5 μm. The average thickness of the flat particles used in the present invention is preferably 2 μm or less, more preferably 1 μm or less, and most preferably 0.5 μm or less.

本発明に用いられる扁平粒子は、無機物質、有機物質、有機/無機複合物のいずれであっても構わないし、その物質の状態が固体に限定されるものではなく、液体でも気体でも構わない。扁平粒子が液体の例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(以下PETと略す)のような熱可塑性樹脂中に、常温で液体の状態を示しかつPETとの相溶性が低いUV吸収化合物などを分散させ、PETとともに溶融押出法にて製膜後、二軸延伸したシートなどが挙げられる。二軸延伸後の各UV吸収化合物からなる分散体は、周囲のPETに追随して面方向に形が伸びるため、扁平状の分散体となる。PETとUV吸収化合物の平均屈折率の差が0.02以上異なるようにUV吸収化合物の種類を選択するとともに延伸倍率を制御することにより、本発明の狙う散乱特性を示す光学シートを得ることができる。また、扁平粒子が気体の例としては、例えば、PET中に、PETと平均屈折率が殆ど差がない無機粒子を添加し、先程と同様、PETとともに溶融押出法にて製膜後、二軸延伸したシートなどが挙げられる。PETを二軸延伸することにより、各無機粒子とPETとの界面を起点とした微細な空隙が形成され扁平粒子状になる。添加する無機粒子は、屈折率が分散媒のPETと近いものを選択しているため、光学的には何ら影響を及ぼさない。無機粒子のサイズや添加濃度、延伸倍率を制御することにより、本発明の狙う散乱特性を示す光学機能性フィルムを得ることができる。   The flat particles used in the present invention may be any of an inorganic substance, an organic substance, and an organic / inorganic composite, and the state of the substance is not limited to a solid, and may be a liquid or a gas. As an example of the flat particles being liquid, for example, in a thermoplastic resin such as polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET), a UV absorbing compound that shows a liquid state at room temperature and has low compatibility with PET is dispersed. Examples thereof include a biaxially stretched sheet after film formation by a melt extrusion method together with PET. Since the dispersion composed of each UV-absorbing compound after biaxial stretching follows the surrounding PET, the shape expands in the plane direction, and thus becomes a flat dispersion. By selecting the type of UV absorbing compound so that the difference in average refractive index between PET and UV absorbing compound is 0.02 or more and controlling the draw ratio, an optical sheet exhibiting the scattering characteristics aimed by the present invention can be obtained. it can. Further, as an example of the flat particles being gas, for example, in PET, inorganic particles having almost no difference in average refractive index from PET are added, and after the film formation by the melt extrusion method together with PET, Examples include a stretched sheet. By biaxially stretching PET, fine voids starting from the interface between each inorganic particle and PET are formed into flat particles. As the inorganic particles to be added, those having a refractive index close to that of PET as a dispersion medium are selected, so that there is no optical effect. By controlling the size, addition concentration, and stretch ratio of the inorganic particles, an optical functional film that exhibits the scattering characteristics targeted by the present invention can be obtained.

次に、本発明に用いられる扁平粒子の具体例を示す。無機系の扁平粒子としては、マスコバイト(白雲母)、フロゴバイト(金雲母)、バイオタイト(黒雲母)、セリサイト(絹雲母)、フッ素金雲母(人造雲母)などの雲母(マイカ)類や、カオリン(クレー)、タルク(滑石)、モンモリロナイトなどの他、薄片状の、酸化アルミニウム・酸化チタン・酸化亜鉛・酸化ケイ素やこれらを複合したもの、平板状の炭酸カルシウムなど、更には、平板状に形状制御された塩化銀、臭化銀、沃化銀、沃臭化銀、臭塩化銀、沃塩化銀、沃臭塩化銀等のハロゲン化銀などが用いられる。   Next, specific examples of the flat particles used in the present invention are shown. Inorganic flat particles include mica such as mascobite, phlogopite, biotite, sericite, and phlogopite (artificial mica). , Kaolin (clay), talc (talc), montmorillonite, etc., flaky aluminum oxide / titanium oxide / zinc oxide / silicon oxide and composites of these, flat calcium carbonate, etc. Silver halides such as silver chloride, silver bromide, silver iodide, silver iodobromide, silver bromochloride, silver iodochloride and silver iodobromochloride whose shape is controlled are used.

雲母類としては、例えば、山口雲母工業所製A−11、A−21、A−41、AB−25S、SYA−21R、SYA−41R、SJ−005、SJ−010、CS−325DC、Y−1800、Y−2300X、Y−2400、Y−3000、SA−310、SA−350、FA−450、NCC−322、NCF−322、TM−10、TM−20などや、コープケミカル社製ミクロマイカMK−100F、S1MK、MK−100、MK−200、MK−300や、同社製ソフシマME−100、同MAE、同MTE、同MEE、同MPEなどが用いられる。   Examples of mica include A-11, A-21, A-41, AB-25S, SYA-21R, SYA-41R, SJ-005, SJ-010, CS-325DC, Y-manufactured by Yamaguchi Mica Industry. 1800, Y-2300X, Y-2400, Y-3000, SA-310, SA-350, FA-450, NCC-322, NCF-322, TM-10, TM-20, etc., Micro Mica manufactured by Coop Chemical MK-100F, S1MK, MK-100, MK-200, MK-300, Sofushima ME-100, MAE, MTE, MEE, and MPE manufactured by the same company are used.

カオリン、タルクなどのスメクタイト類としては、例えば、山口雲母工業所製FK−500S、FK−300S、CT−35などや、コープケミカル社製ルーセンタイトSWN、同SWF、同SAN、同SAN316、同STN、同SEN、同SPNなどが挙げられる。   Examples of smectites such as kaolin and talc include FK-500S, FK-300S, and CT-35 manufactured by Yamaguchi Mica Industry Co., Ltd., Lucentite SWN, SWF, SAN, SAN316, and STN manufactured by Corp Chemical. , SEN, SPN and the like.

薄片状の酸化アルミニウムとしては、例えば、キンセイマテック社製のセラフYFA00610、同02025、同02050、同05025、同05070、同07070、同10030や、朝日化学工業社製ルクセレンFAOなどが挙げられる。   Examples of the flaky aluminum oxide include Seraph YFA00610, 02025, 02050, 05025, 05025, 05070, 07070, and 10030 manufactured by Kinsei Matech, and Luxelen FAO manufactured by Asahi Chemical Industry.

薄片状の酸化チタンとしては、例えば、朝日化学工業社製ルクセレンシルクD、同H、同UV、ルクセレンPC、同ODTなどが挙げられる。   Examples of the flaky titanium oxide include luxelenium silk D, H, UV, luxelenium PC, and ODT manufactured by Asahi Chemical Industry.

薄片状の酸化亜鉛としては、例えば、朝日化学工業社製ルクセレンFZTなどが挙げられる。   Examples of the flaky zinc oxide include Luxelene FZT manufactured by Asahi Chemical Industry.

薄片状の酸化ケイ素としては、例えば、朝日化学工業社製ケミセレンや、日本板硝子社製SGフレーク、TSG9、TSG30、NTS30K3TA、NPT30K3TAなどが挙げられる。   Examples of the flaky silicon oxide include Chemiselen manufactured by Asahi Chemical Industry, SG flake manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd., TSG9, TSG30, NTS30K3TA, NPT30K3TA, and the like.

扁平状の炭酸カルシウムとしては、ニューライム社製の六角板状、円盤状、鱗片状のものなどが用いられる。   As the flat calcium carbonate, those made by New Lime Co., such as hexagonal plates, discs, and scales are used.

有機系の扁平粒子としては、例えば、特開平11−199706号公報に開示されているような製造方法を用いて作られる、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリスルフィド系、ポリオレフィン系、フッ素樹脂系またはポリビニルアルコール系のものなどが用いられる。   Examples of the organic flat particles include polyamide-based, polyester-based, polyether-based, polysulfide-based, polyolefin-based, and fluororesin, which are made by using a manufacturing method disclosed in JP-A-11-199706. Or a polyvinyl alcohol-based one is used.

扁平粒子の特殊形状として、棒状粒子が挙げられる。棒状粒子を用いる場合、その長軸は本発明に係わる光学シートの面方向に配向していることが重要であり、該シート面に垂直な方向から見た場合、個々の棒状粒子は特定の方向を向かず無配向になっていることが好ましい。また、単独に1つの棒状粒子として分散されている場合だけでなく、複数の棒状粒子が凝集して扁平な形状の粒子群を成しているものも好ましく用いられる。具体的には、上記、無機系、有機系、あるいはこれらの複合系いずれの扁平粒子においても、後述の粒子バインダーとして用いる各種樹脂との親和性を高めるため、公知の各種表面改質剤・手法を用いて表面処理することができる。   As a special shape of the flat particles, rod-shaped particles can be mentioned. When using rod-shaped particles, it is important that the major axis is oriented in the plane direction of the optical sheet according to the present invention. When viewed from a direction perpendicular to the sheet surface, each rod-shaped particle has a specific direction. It is preferable that the film is not oriented. Moreover, not only the case where it is dispersed as a single rod-like particle alone, but also those in which a plurality of rod-like particles aggregate to form a flat particle group are preferably used. Specifically, in order to increase the affinity with various resins used as a particle binder described later in any of the above-mentioned flat particles of inorganic, organic, or composite type, various known surface modifiers / methods Can be used for surface treatment.

(本発明に用いられる透明樹脂)
本発明に用いられる透明樹脂は、可視光領域で実質的に透明な材料を用いることが好ましい。具体的には、例えばトリアセチルセルロースやセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートのようなセルロースエステル系樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、シクロオレフィンポリマー、架橋ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂などの非晶性熱可塑性樹脂や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート、芳香族ポリエステル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂などの結晶性熱可塑性樹脂などを用いることができる。更には、上記熱可塑性樹脂の基材あるいはガラス基材上にアクリル系、エポキシ系、ウレタン系などの紫外線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂で構成された樹脂を先述の扁平粒子とともに塗布することも好ましい。
(Transparent resin used in the present invention)
The transparent resin used in the present invention is preferably a material that is substantially transparent in the visible light region. Specifically, for example, cellulose ester resins such as triacetyl cellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, cycloolefin polymer, crosslinked polyethylene resin, polychlorinated resin Amorphous thermoplastic resins such as vinyl resin, polyarylate resin, polyphenylene ether resin, modified polyphenylene ether resin, polyetherimide resin, polysulfone resin, polyether ketone resin, polyethylene terephthalate, polyethylene resin, polypropylene resin, polybutylene terephthalate Crystalline thermoplastic resins such as aromatic polyester resins, polyacetal resins, and polyamide resins can be used. Furthermore, an acrylic, epoxy, urethane, or other ultraviolet curable resin or thermosetting resin may be applied to the thermoplastic resin substrate or glass substrate together with the flat particles described above. preferable.

(透明樹脂と扁平粒子の屈折率の関係)
本発明に用いられる透明樹脂と扁平粒子との屈折率の関係は、平均屈折率として0.02以上1.0以下の差があることが好ましい。ここで、平均屈折率とは、透明樹脂で言えば、本発明の光学シートを形成している樹脂部の面方向2軸の屈折率をNmx、Nmyとし、樹脂部の厚み方向の屈折率をNmzとしたときの下記(1)式で定義されるNmavを意味し、扁平粒子で言えば、主要面に対する接面上の2軸の屈折率をNdx、Ndyとし、粒子の厚み方向の屈折率をNdzとしたときの下記(2)式で定義されるNdavを意味している。
(Relationship between refractive index of transparent resin and flat particles)
The refractive index relationship between the transparent resin and the flat particles used in the present invention preferably has an average refractive index of 0.02 or more and 1.0 or less. Here, with respect to the average refractive index, in terms of transparent resin, the refractive index of the resin part forming the optical sheet of the present invention in the two axial directions is Nmx and Nmy, and the refractive index in the thickness direction of the resin part is This means Nmav defined by the following formula (1) when Nmz, and in the case of flat particles, the biaxial refractive indexes on the tangential surface with respect to the main surface are Ndx and Ndy, and the refractive index in the thickness direction of the particles Ndav defined by the following formula (2) where Ndz is Ndz.

Nmav=(Nmx+Nmy+Nmz)/3 … 式(1)
Ndav=(Ndx+Ndy+Ndz)/3 … 式(2)
Δn=|Nmav−Ndav| … 式(3)
で定義されるΔnは、0.02以上1.0以下であることが好ましく、優れた散乱特性を得る上では、0.04以上0.9以下がより好ましく、0.06以上0.7以下が更に好ましい。Nmx、Nmy、Nmzは、それぞれの差が0.02以下の実質的に光学的等方性を示すものであっても良いし、NmzがNmxやNmyより0.05以上小さいまたは0.05以上大きいものであっても良いが、NmxとNmyの差は、好ましくは0.05以下であり、更に好ましくは0.02以下である。一方、Ndx、Ndy、Ndzは、それぞれの差が0.02以下の実質的に光学的等方性を示すものであっても良いし、NdzがNdxやNdyより0.05以上小さいまたは0.05以上大きいものであっても良いが、NdxとNdyの差は、好ましくは0.05以下であり、更に好ましくは0.02以下である。Nmx,NmyとNdx,Ndyの関係は、式(3)で表されるΔnが0.02以上1.0以下の関係を満たす範囲であれば、特別制約を受けずに好ましく用いられるが、NmxまたはNmyと、NdxまたはNdyとの差は、好ましくは0.03以下である。NmzとNdzとの関係は、0.05以上1.0以下であることが好ましい。
Nmav = (Nmx + Nmy + Nmz) / 3 Formula (1)
Ndav = (Ndx + Ndy + Ndz) / 3 Formula (2)
Δn = | Nmav−Ndav | Equation (3)
Δn defined by is preferably 0.02 or more and 1.0 or less, more preferably 0.04 or more and 0.9 or less, and 0.06 or more and 0.7 or less in order to obtain excellent scattering characteristics. Is more preferable. Nmx, Nmy, and Nmx may be substantially optically isotropic with a difference of 0.02 or less, and Nmx is 0.05 or more smaller than Nmx or Nmy, or 0.05 or more. Although it may be large, the difference between Nmx and Nmy is preferably 0.05 or less, and more preferably 0.02 or less. On the other hand, Ndx, Ndy, and Ndz may be substantially optically isotropic with a difference of 0.02 or less, or Ndz is 0.05 or more smaller than Ndx or Ndy, or 0. The difference between Ndx and Ndy is preferably 0.05 or less, and more preferably 0.02 or less. The relationship between Nmx, Nmy and Ndx, Ndy is preferably used without any special restrictions as long as Δn represented by Equation (3) satisfies the relationship of 0.02 to 1.0. Alternatively, the difference between Nmy and Ndx or Ndy is preferably 0.03 or less. The relationship between Nmz and Ndz is preferably 0.05 or more and 1.0 or less.

本発明に用いる光学シートの透明樹脂と扁平粒子の屈折率は、それらを構成する化合物のバルクの屈折率値を調べたり、市販のものであればメーカーのカタログ値より、概ね見当をつけることができる。また、実際の測定にあたっては、扁平粒子を含まない透明樹脂のシートを予め作製した後、これを例えば株式会社アタゴ製のアッベ屈折率計DR−M2などを用いて測定することができる。また、扁平粒子の屈折率は、ベッケ法を用いて測定することができる。即ち、屈折率の異なるいくつかの浸液を用意し、これに粒子を浸した際のベッケ線の有無を観察することにより、粒子の屈折率を決めることが可能である。   The refractive index of the transparent resin and the flat particles of the optical sheet used in the present invention can be roughly estimated from the manufacturer's catalog value if the bulk refractive index values of the compounds constituting them are examined, or commercially available. it can. In actual measurement, a transparent resin sheet not containing flat particles is prepared in advance, and then measured using, for example, an Abbe refractometer DR-M2 manufactured by Atago Co., Ltd. The refractive index of the flat particles can be measured using the Becke method. That is, it is possible to determine the refractive index of a particle by preparing several immersion liquids having different refractive indexes and observing the presence or absence of a Becke line when the particle is immersed therein.

(扁平粒子の配向性)
本発明に係わる光学シート内における扁平粒子の配向性は、該シートの厚み方向と個々の扁平粒子の扁平方向が概ね平行になっていることが好ましい。換言すれば、該シート面に垂直な縦横2つの断面における粒子の長軸方向が、各断面の面方向に概ね平行であることが好ましい。ここで、シート面に垂直な断面における粒子の長軸方向とは、閉曲線または閉直線で囲まれる粒子断面において、外周の2点間の距離のうち最も長い2点を結んだ方向を意味するものとする。本発明に係わる光学シート内における扁平粒子の配向性は、シート面に垂直な縦横2つの断面における、粒子断面の長軸方向とシート面方向とのなす小さい方の角度の平均が30°以内であることが特徴であり、20°以内であることが好ましい。
(Orientation of flat particles)
The orientation of the flat particles in the optical sheet according to the present invention is preferably such that the thickness direction of the sheet is substantially parallel to the flat direction of the individual flat particles. In other words, it is preferable that the major axis direction of the particles in the two vertical and horizontal cross sections perpendicular to the sheet surface is substantially parallel to the surface direction of each cross section. Here, the major axis direction of the particle in the cross section perpendicular to the sheet surface means the direction connecting the two longest points of the distance between the two points on the outer periphery in the particle cross section surrounded by the closed curve or the closed straight line. And The orientation of the flat particles in the optical sheet according to the present invention is such that the average of the smaller angle between the major axis direction of the particle cross section and the sheet surface direction is within 30 ° in two vertical and horizontal cross sections perpendicular to the sheet surface. It is characteristic that it is within 20 °.

上記好ましい配向性を実現させる方法としては、平均アスペクト比の高い扁平粒子を選択したり、シート形成時に高粘度の扁平粒子含有の溶液を用意し、この溶液をシート状に延ばす際にシートの面方向に強いせん断力が加わるようにしたり、あるいは塗布直後の溶剤を多量に含んでいる状態から乾燥固化するまでの時間を長めにするなど、種々の方法があり、適宜これらの方法を単独あるいは組合せて実現させることができる。逆に言えば、例えば溶剤とUV硬化樹脂と扁平粒子を含んだ塗布液を、ワイヤーバーなどで塗布した後、直ちにUV照射することにより、固化した層内において十分に安定配向していない扁平粒子を含んだシートを作製することが可能である。ワイヤーバー塗布においても、塗布後乾燥してUV照射による固化までの時間を十分にとることにより、良好な配向性を得ることができる。また、スピンコート法は、扁平粒子の好ましい配向を形成しやすく、好ましい。   As a method for realizing the preferred orientation, flat particles having a high average aspect ratio are selected, or a solution containing flat particles having a high viscosity at the time of forming a sheet is prepared. There are various methods such as applying a strong shearing force in the direction, or increasing the time from drying to solidification after containing a large amount of solvent immediately after coating. These methods can be used alone or in combination as appropriate. Can be realized. In other words, for example, flat particles that are not sufficiently stably oriented in the solidified layer by applying a coating solution containing a solvent, a UV curable resin, and flat particles with a wire bar and then immediately irradiating with UV. It is possible to produce a sheet containing Also in wire bar coating, good orientation can be obtained by taking sufficient time from drying after coating to solidification by UV irradiation. Also, the spin coating method is preferable because it can easily form a preferred orientation of flat particles.

(本発明に係わる光学シートの製造方法)
本発明の光学シートの製造方法に特に制約はないが、目安として30μm程度以上の厚みを有するシートを形成する上では、溶液流延法や溶融押出法などで製膜する方法、あるいはその製膜後、適宜延伸して薄膜化する方法などが好ましく用いられる。また、30μm程度未満の厚みを有するシートを形成する場合には、蒸着法、キャスト法、グラビアコート、コンマコート、バーコート、ダイコート、リップコート、ロールコート、フローコート、プリントコート、ディップコート、スピンコート等の塗布法、印刷、インクジェット方式などによる製法が好ましく用いられる。特に扁平粒子の配向性を制御するには上記スピンコート法が好ましい。
(Method for producing optical sheet according to the present invention)
The optical sheet manufacturing method of the present invention is not particularly limited, but as a guide, when forming a sheet having a thickness of about 30 μm or more, a film forming method such as a solution casting method or a melt extrusion method, or a film forming method therefor Thereafter, a method of appropriately stretching and thinning the film is preferably used. When forming a sheet with a thickness of less than about 30 μm, vapor deposition, casting, gravure coating, comma coating, bar coating, die coating, lip coating, roll coating, flow coating, print coating, dip coating, spin A coating method such as a coat, a production method by printing, an ink jet method or the like is preferably used. In particular, the spin coating method is preferred for controlling the orientation of the flat particles.

(本発明に係わる光学シートの配置位置)
本発明に係わる光学シートの配置位置は、EL素子における、外界に向けて光が取り出される面より発光層側で、光透過性電極の光出射面側の面より視認側のいずれかの位置である。ここで、外界に向けて光が取り出される面とは、EL素子の最も視認側に位置する面を指す。EL素子の構成として、発光層からの光が光透過性電極を透過した後、透明基板を通り、視認側に達する構成の場合、該透明基板の光透過性電極がある面とは反対側の面に本発明の光学シートが設けられ、該光学シートの該透明基板とは反対側の面は外界空気層となっている構成は、本発明の範囲外である。即ち、本発明の光学シートは、その両面が一般的に屈折率1よりも大きい部材で挟まれていることが重要である。本発明の光学シートは該光透過性電極の視認側の面と該透明基板の該光透過性電極側の面との間に設けられていても構わない。
(Arrangement position of optical sheet according to the present invention)
The arrangement position of the optical sheet according to the present invention is at any position on the light emitting layer side from the surface from which light is extracted toward the outside in the EL element and on the viewing side from the light emitting surface side of the light transmissive electrode. is there. Here, the surface from which light is extracted toward the outside world refers to a surface that is positioned closest to the viewing side of the EL element. In the configuration of the EL element, after the light from the light emitting layer passes through the light transmissive electrode, passes through the transparent substrate, and reaches the viewing side, the transparent substrate on the side opposite to the surface where the light transmissive electrode is located. The configuration in which the optical sheet of the present invention is provided on the surface and the surface of the optical sheet opposite to the transparent substrate is an external air layer is outside the scope of the present invention. That is, it is important that the optical sheet of the present invention is sandwiched between members whose refractive index is generally greater than 1. The optical sheet of the present invention may be provided between the viewing side surface of the light transmissive electrode and the surface of the transparent substrate on the light transmissive electrode side.

本発明のEL素子を画像表示装置として用いる場合は、画像滲みに対する配慮が必要である。画像滲みを極力抑えるためには、外界に向けて光が取り出される面ではない位置、即ち、視認側最表面ではない位置に光学シートを配置することが好ましく、光透過性電極に比較的近い位置に設けることがより好ましい。この際の光透過性電極の視認側面から本発明の光学シートの視認側面までの距離の目安としては、0.2μm以上200μm以下が好ましく、0.5μm以上100μm以下がより好ましく、1μm以上50μm以下が最も好ましい。   When the EL element of the present invention is used as an image display device, it is necessary to consider image bleeding. In order to suppress image blur as much as possible, it is preferable to place the optical sheet at a position that is not a surface from which light is extracted toward the outside, that is, a position that is not the outermost surface on the viewing side, and a position that is relatively close to the light transmissive electrode. More preferably. In this case, as a standard of the distance from the viewing side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet of the present invention, 0.2 μm or more and 200 μm or less is preferable, 0.5 μm or more and 100 μm or less is more preferable, and 1 μm or more and 50 μm or less. Is most preferred.

《本発明のEL素子の構成》
次に、本発明のEL素子の構成について説明する。本発明の技術は、有機/無機いずれのEL素子であっても適用可能であるが、ここでは、有機EL素子を代表として主に説明する。図2は、本発明のEL素子の一例を模式的に示した断面図である。この図に示すEL素子21は、基板22上に、陽極23、有機層24、および陰極25をこの順に積層した構成になっている。このうち有機層24は、陽極23側から順に、例えば正孔注入層24a、正孔輸送層24b、発光層24c、及び電子輸送層24dを積層した構成となっている。以下においては、このような積層構成のEL素子21が、基板22と反対側から光を取り出す所謂トップエミッション型の素子として構成されていることとし、この場合の各層の詳細を基板22側から順に説明する。
<< Configuration of EL Element of the Present Invention >>
Next, the configuration of the EL element of the present invention will be described. The technique of the present invention can be applied to any organic / inorganic EL element, but here, the organic EL element will be mainly described as a representative. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of the EL element of the present invention. The EL element 21 shown in this figure has a structure in which an anode 23, an organic layer 24, and a cathode 25 are laminated in this order on a substrate 22. Among these, the organic layer 24 has a configuration in which, for example, a hole injection layer 24a, a hole transport layer 24b, a light emitting layer 24c, and an electron transport layer 24d are stacked in this order from the anode 23 side. In the following, it is assumed that the EL element 21 having such a stacked configuration is configured as a so-called top emission type element that extracts light from the side opposite to the substrate 22, and details of each layer in this case are sequentially described from the substrate 22 side. explain.

<基板>
基板22は、その片側の面側にEL素子21が配列形成される支持体であって、公知のものであって良く、例えば、石英、ガラス、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシートなどが用いられるこの中でも石英やガラスが好ましく、樹脂製の場合には、その材質としてポリメチルメタクリレート(PMMA)に代表されるメタクリル樹脂類、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンナフタレート(PBN)などのポリエステル類、もしくはポリカーボネート樹脂などが挙げられるが、透水性や透ガス性を抑える積層構造、表面処理を行うことが必要である。
<Board>
The substrate 22 is a support on which the EL elements 21 are arranged and formed on one surface thereof, and may be a known substrate, such as quartz, glass, metal foil, or a resin film or sheet. Of these, quartz and glass are preferred, and in the case of resin, methacrylic resins represented by polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene Although polyesters, such as a phthalate (PBN), or polycarbonate resin is mentioned, it is necessary to perform the laminated structure and surface treatment which suppress water permeability and gas permeability.

<陽極>
陽極23には、効率良く正孔を注入するために電極材料の真空準位からの仕事関数が大きいもの、例えばアルミニウム(Al)、クロム(Cr)、モリブテン(Mo)、タングステン(W)、銅(Cu)、銀(Ag)、金(Au)の金属及びその合金さらにはこれらの金属や合金の酸化物等、または、酸化スズ(SnO)とアンチモン(Sb)との合金、ITO(インジウムチンオキシド)、InZnO(インジウ亜鉛オキシド)、酸化亜鉛(ZnO)とアルミニウム(Al)との合金、さらにはこれらの金属や合金の酸化物等が、単独または混在させた状態で用いられる。
<Anode>
The anode 23 has a high work function from the vacuum level of the electrode material in order to inject holes efficiently, for example, aluminum (Al), chromium (Cr), molybdenum (Mo), tungsten (W), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au) metals and alloys thereof, oxides of these metals and alloys, alloys of tin oxide (SnO 2 ) and antimony (Sb), ITO (indium) Tin oxide), InZnO (indium zinc oxide), alloys of zinc oxide (ZnO) and aluminum (Al), and oxides of these metals and alloys are used alone or in a mixed state.

また、陽極23は、光反射性に優れた第1層と、この上部に設けられた光透過性を有すると共に仕事関数の大きい第2層との積層構造であっても良い。   Further, the anode 23 may have a laminated structure of a first layer having excellent light reflectivity and a second layer having a light transmittance and a large work function provided on the upper layer.

第1層は、アルミニウムを主成分とする合金からなる。その副成分は、主成分であるアルミニウムよりも相対的に仕事関数が小さい元素を少なくとも一つ含むものでも良い。このような副成分としては、ランタノイド系列元素が好ましい。ランタノイド系列元素の仕事関数は、大きくないが、これらの元素を含むことで陽極の安定性が向上し、かつ陽極のホール注入性も満足する。また副成分として、ランタノイド系列元素の他に、シリコン(Si)、銅(Cu)などの元素を含んでも良い。   The first layer is made of an alloy containing aluminum as a main component. The subcomponent may include at least one element having a work function relatively smaller than that of aluminum as a main component. As such a subcomponent, a lanthanoid series element is preferable. Although the work function of the lanthanoid series elements is not large, the inclusion of these elements improves the stability of the anode and also satisfies the hole injection property of the anode. In addition to lanthanoid series elements, elements such as silicon (Si) and copper (Cu) may be included as subcomponents.

第1層を構成するアルミニウム合金層における副成分の含有量は、例えば、アルミニウムを安定化させるNdやNi、Ti等であれば、合計で約10質量%以下であることが好ましい。これにより、アルミニウム合金層においての反射率を維持しつつ、有機電界発光素子の製造プロセスにおいてアルミニウム合金層を安定的に保ち、さらに加工精度および化学的安定性も得ることができる。また、陽極23の導電性および基板22との密着性も改善することが出来る。   The content of subcomponents in the aluminum alloy layer constituting the first layer is preferably about 10% by mass or less in total if it is Nd, Ni, Ti, or the like that stabilizes aluminum. Thereby, while maintaining the reflectance in the aluminum alloy layer, the aluminum alloy layer can be stably maintained in the manufacturing process of the organic electroluminescent element, and further, processing accuracy and chemical stability can be obtained. In addition, the conductivity of the anode 23 and the adhesion to the substrate 22 can be improved.

また第2層は、アルミニウム合金の酸化物、モリブデンの酸化物、ジルコニウムの酸化物、クロムの酸化物、およびタンタルの酸化物の少なくとも一つからなる層を例示できる。ここで、例えば、第2層が副成分としてランタノイド系元素を含むアルミニウム合金の酸化物層(自然酸化膜を含む)である場合、ランタノイド系元素の酸化物の透過率が高いため、これを含む第2層の透過率が良好となる。このため、第1層の表面において、高反射率を維持することが可能である。さらに、第2層は、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透明導電層であっても良い。これらの導電層は、陽極23の電子注入特性を改善することができる。   Examples of the second layer include a layer made of at least one of an oxide of an aluminum alloy, an oxide of molybdenum, an oxide of zirconium, an oxide of chromium, and an oxide of tantalum. Here, for example, when the second layer is an oxide layer of an aluminum alloy containing a lanthanoid element as a subcomponent (including a natural oxide film), the oxide of the lanthanoid element has a high transmittance, so that this is included. The transmittance of the second layer is improved. For this reason, it is possible to maintain a high reflectance on the surface of the first layer. Further, the second layer may be a transparent conductive layer such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). These conductive layers can improve the electron injection characteristics of the anode 23.

また陽極23は、基板22と接する側に、陽極23と基板22との間の密着性を向上させるための導電層を設けて良い。このような導電層としては、ITOやIZOなどの透明導電層が挙げられる。   The anode 23 may be provided with a conductive layer for improving the adhesion between the anode 23 and the substrate 22 on the side in contact with the substrate 22. Examples of such a conductive layer include transparent conductive layers such as ITO and IZO.

そして、このEL素子21を用いて構成される表示装置の駆動方式がアクティブマトリックス方式である場合には、陽極23は画素毎にパターニングされ、基板22に設けられた駆動用の薄膜トランジスタに接続された状態で設けられている。またこの場合、陽極23の上には、ここでの図示を省略したが絶縁膜が設けられ、この絶縁膜の開口部から各画素の陽極13の表面が露出されるように構成されていることとする。   When the driving method of the display device configured using the EL element 21 is an active matrix method, the anode 23 is patterned for each pixel and connected to a driving thin film transistor provided on the substrate 22. It is provided in the state. In this case, although not shown here, an insulating film is provided on the anode 23, and the surface of the anode 13 of each pixel is exposed from the opening of the insulating film. And

<正孔注入層/正孔輸送層>
正孔注入層24aおよび正孔輸送層24bは、それぞれ発光層24cへの正孔注入効率を高めるためのものである。このような正孔注入層24aもしくは正孔輸送層24bの材料としては、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキザゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマー、オリゴマーあるいはポリマーを用いることができる。
<Hole injection layer / hole transport layer>
The hole injection layer 24a and the hole transport layer 24b are for increasing the efficiency of hole injection into the light emitting layer 24c. Examples of the material for the hole injection layer 24a or the hole transport layer 24b include benzine, styrylamine, triphenylamine, porphyrin, triphenylene, azatriphenylene, tetracyanoquinodimethane, triazole, imidazole, and oxadiazole. , Polyarylalkanes, phenylenediamines, arylamines, oxazoles, anthracenes, fluorenones, hydrazones, stilbenes or their derivatives, or heterocyclic conjugated systems such as polysilane compounds, vinylcarbazole compounds, thiophene compounds or aniline compounds Monomers, oligomers or polymers of can be used.

また、上記正孔注入層24aもしくは正孔輸送層24bのさらに具体的な材料としては、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)、7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(F4−TCNQ)、テトラシアノ4、4、4−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン、N、N、N’、N’−テトラキス(p−トリル)p−フェニレンジアミン、N、N、N’、N’−テトラフェニル−4、4’−ジアミノビフェニル、N−フェニルカルバゾール、4−ジ−p−トリルアミノスチルベン、ポリ(パラフェニレンビニレン)、ポリ(チオフェンビニレン)、ポリ(2、2’−チエニルピロール)等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Further, as specific materials for the hole injection layer 24a or the hole transport layer 24b, α-naphthylphenylphenylenediamine, porphyrin, metal tetraphenylporphyrin, metal naphthalocyanine, hexacyanoazatriphenylene, 7, 7, 8 , 8-tetracyanoquinodimethane (TCNQ), 7,7,8,8-tetracyano-2,3,5,6-tetrafluoroquinodimethane (F4-TCNQ), tetracyano 4,4,4-tris ( 3-methylphenylphenylamino) triphenylamine, N, N, N ′, N′-tetrakis (p-tolyl) p-phenylenediamine, N, N, N ′, N′-tetraphenyl-4,4′- Diaminobiphenyl, N-phenylcarbazole, 4-di-p-tolylaminostilbene, poly (paraphenyle Vinylene), poly (thiophene vinylene), poly (2,2'-thienylpyrrole), and including without being limited thereto.

<発光層>
発光層24cは、陽極23側から注入された正孔と、陰極25側から注入された電子とが再結合して発光光を発生する領域である。このような発光層24cは、炭素及び水素のみから構成される有機材料で形成された有機薄膜であっても良く、正孔輸送性を示す三級アミンを分子構造中に有する材料を用いて構成された層であっても良い。加えて、発光層24cは、ドーパントとして、ベリレン誘導体、クマリン誘導体、ピラン系色素、トリフェニルアミン誘導体等の有機物質を微量含む混合有機薄膜であっても良い。この場合には発光層24cを構成するホスト材料(主材料)と、ドーパントとなる材料との共蒸着によって、発光層24cが形成される。また特に、正孔輸送性を示す三級アミンを分子構造中に有する材料のうち、分子間相互作用が小さく濃度消光しにくい特徴を有するものであれば、高濃度のドーピングが可能になり、最適なドーパントの1つとして機能する。
<Light emitting layer>
The light emitting layer 24c is a region where emitted holes are generated by recombination of holes injected from the anode 23 side and electrons injected from the cathode 25 side. Such a light emitting layer 24c may be an organic thin film formed of an organic material composed only of carbon and hydrogen, and is configured using a material having a tertiary amine having a hole transporting property in a molecular structure. It may be a layer formed. In addition, the light emitting layer 24c may be a mixed organic thin film containing a trace amount of an organic substance such as a berylene derivative, a coumarin derivative, a pyran dye, or a triphenylamine derivative as a dopant. In this case, the light emitting layer 24c is formed by co-evaporation of the host material (main material) constituting the light emitting layer 24c and the material to be the dopant. In particular, a material having a tertiary amine having a hole transporting property in the molecular structure has a characteristic that the intermolecular interaction is small and the concentration quenching is difficult, so that high concentration doping is possible and optimum. Functions as one of the dopants.

以上のような発光層24cを構成する材料は、希望する色に応じて選択することが可能である。例えば、青色系統の発光光を得たい場合には、オキサジアゾール誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体などが用いられる。緑色系統の発光光を得たい場合には、青色系統の発光層にクマリン6などのクマリン誘導体、キナクリドン誘導体などの既知の緑色色素をドーピングした層が用いられる。赤色系統の発光光を得たい場合には、青色系統または緑色系統の発光層にニールレッド、DCM1{4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン}、DCJT{4−(ジシアノメチレン)−2−t−ブチル−6−(ジュロリジルスチリル)−ピラン}などのピラン誘導体,スクアリリウム誘導体,ポルフィリン誘導体,クロリン誘導体,ユーロジリン誘導体などの既知の赤色色素をドーピングした層が用いられる。   The material constituting the light emitting layer 24c as described above can be selected according to a desired color. For example, when it is desired to obtain blue light emission, oxadiazole derivatives, cyclopentadiene derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylarylene derivatives, oligothiophene derivatives, and the like are used. In order to obtain green light emission, a layer obtained by doping a blue light-emitting layer with a known green pigment such as a coumarin derivative such as coumarin 6 or a quinacridone derivative is used. In order to obtain red light emission, neil red, DCM1 {4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6 (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran} is added to the light emission layer of blue or green light. , DCJT {4- (dicyanomethylene) -2-t-butyl-6- (julolidylstyryl) -pyran} and other known red pigments such as pyran derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives, chlorin derivatives, eurodiline derivatives, etc. Doped layers are used.

尚、この発光層24cは、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層を積層させた白色発光層であっても良く、また接続層を介して発光層を複数積層させたタンデム構造であっても良い。さらに、発光層24cは、電子輸送層を兼ねた電子輸送性発光層であることも可能であり、正孔輸送性の発光層であっても良い。   The light emitting layer 24c may be a white light emitting layer in which a red light emitting layer, a green light emitting layer, and a blue light emitting layer are laminated, and has a tandem structure in which a plurality of light emitting layers are laminated through a connection layer. Also good. Furthermore, the light emitting layer 24c may be an electron transporting light emitting layer that also serves as an electron transporting layer, or may be a hole transporting light emitting layer.

<電子輸送層>
電子輸送層24dは、陰極25から注入される電子を発光層24cに輸送するためのものである。電子輸送層24dの材料としては、例えば、キノリン、ペリレン、フェナントロリン、ビススチリル、ピラジン、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、フルオレノン、またはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。具体的には、トリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(略称Alq)、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、アントラセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、1,10−フェナントロリンまたはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。
<Electron transport layer>
The electron transport layer 24d is for transporting electrons injected from the cathode 25 to the light emitting layer 24c. Examples of the material for the electron transport layer 24d include quinoline, perylene, phenanthroline, bisstyryl, pyrazine, triazole, oxazole, oxadiazole, fluorenone, and derivatives or metal complexes thereof. Specifically, tris (8-hydroxyquinoline) aluminum (abbreviated as Alq 3 ), anthracene, naphthalene, phenanthrene, pyrene, anthracene, perylene, butadiene, coumarin, acridine, stilbene, 1,10-phenanthroline, or a derivative or metal thereof A complex.

尚、有機層24は、このような層構造に限定されることはなく、少なくとも発光層24cと、これに接して電子輸送層24dが設けられていれば良く、その他必要に応じた積層構造を選択することができる。   The organic layer 24 is not limited to such a layer structure, and it is sufficient that at least the light emitting layer 24c and the electron transport layer 24d are provided in contact therewith. You can choose.

また、発光層24cは、正孔輸送性の発光層、電子輸送性の発光層、あるいは両電荷輸送性の発光層としてEL素子21に設けられていても良い。さらに、以上の有機層24を構成する各層、例えば正孔注入層24a、正孔輸送層24b、発光層24c、電子輸送層24dは、それぞれが複数層からなる積層構造であっても良い。   In addition, the light emitting layer 24c may be provided in the EL element 21 as a hole transporting light emitting layer, an electron transporting light emitting layer, or a charge transporting light emitting layer. Furthermore, each layer constituting the organic layer 24, for example, the hole injection layer 24a, the hole transport layer 24b, the light emitting layer 24c, and the electron transport layer 24d may have a laminated structure including a plurality of layers.

<陰極>
次に、このような構成の有機層24上に設けられる陰極25は、例えば、有機層24側から順に第1層25a、第2層25bを積層させた2層構造で構成されている。
<Cathode>
Next, the cathode 25 provided on the organic layer 24 having such a configuration has, for example, a two-layer structure in which a first layer 25a and a second layer 25b are stacked in this order from the organic layer 24 side.

第1層25aは、仕事関数が小さく、かつ光透過性の良好な材料を用いて構成される。このような材料としては、例えばリチウム(Li)の酸化物である酸化リチウム(LiO)や、セシウム(Cs)の複合酸化物である炭酸セシウム(CsCO)、さらにはこれらの酸化物及び複合酸化物の混合物を用いることができる。また、第1層25aは、このような材料に限定されることはなく、例えば、カルシウム(Ca)、バリウム(Ba)等のアルカリ土類金属、リチウム、セシウム等のアルカリ金属、さらにはインジウム(In)、マグネシウム(Mg)等の仕事関数の小さい金属、さらにはこれらの金属の酸化物及び複合酸化物、フッ化物等を、単体でまたはこれらの金属および酸化物及び複合酸化物、フッ化の混合物や合金として安定性を高めて使用しても良い。 The first layer 25a is formed using a material having a small work function and good light transmittance. Examples of such materials include lithium oxide (Li 2 O), which is an oxide of lithium (Li), cesium carbonate (Cs 2 CO 3 ), which is a composite oxide of cesium (Cs), and oxidation of these materials. Mixtures of oxides and composite oxides can be used. The first layer 25a is not limited to such a material. For example, alkaline earth metals such as calcium (Ca) and barium (Ba), alkali metals such as lithium and cesium, and indium ( In), magnesium (Mg), and other metals having a low work function, and oxides and composite oxides, fluorides, and the like of these metals alone or these metals, oxides and composite oxides, You may use it, improving stability as a mixture or an alloy.

第2層25bは、例えば、MgAgなどの光透過性を有する層を用いた薄膜により構成されている。この第2層25bは、さらに、アルミキノリン錯体、スチリルアミン誘導体、フタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層であっても良い。この場合には、さらに第3層としてMgAgのような光透過性を有する層を別途有していてもよい。   The second layer 25b is formed of a thin film using a light-transmitting layer such as MgAg. The second layer 25b may be a mixed layer containing an organic light emitting material such as an aluminum quinoline complex, a styrylamine derivative, or a phthalocyanine derivative. In this case, a layer having optical transparency such as MgAg may be additionally provided as the third layer.

以上のような陰極25は、このEL素子21を用いて構成される表示装置の駆動方式がアクティブマトリックス方式である場合、陰極25は、有機層24とここでの図示を省略した上述の絶縁膜とによって、陽極23と絶縁された状態で基板22上にベタ膜状に形成され、各画素の共通電極として用いられる。   When the driving method of the display device using the EL element 21 is the active matrix method, the cathode 25 is composed of the organic layer 24 and the above-described insulating film not shown here. Thus, a solid film is formed on the substrate 22 while being insulated from the anode 23, and is used as a common electrode of each pixel.

尚、陰極25は上記のような積層構造に限定されることはなく、作製されるデバイスの構造に応じて最適な組み合わせ、積層構造を取れば良いことは言うまでもない。例えば、上記実施形態の陰極25の構成は、電極各層の機能分離、すなわち有機層24への電子注入を促進させる無機層(第1層25a)と、電極を司る無機層(第2層25b)とを分離した積層構造である。しかしながら、有機層24への電子注入を促進させる無機層が、電極を司る無機層を兼ねても良く、これらの層を単層構造として構成しても良い。また、この単層構造上にITOなどの透明電極を形成した積層構造としても良い。   Needless to say, the cathode 25 is not limited to the laminated structure as described above, and an optimum combination and laminated structure may be adopted according to the structure of the device to be manufactured. For example, the configuration of the cathode 25 of the above embodiment includes an inorganic layer (first layer 25a) that promotes functional separation of each electrode layer, that is, electron injection into the organic layer 24, and an inorganic layer (second layer 25b) that controls the electrode. Is a laminated structure in which and are separated. However, the inorganic layer that promotes electron injection into the organic layer 24 may also serve as the inorganic layer that controls the electrodes, and these layers may be configured as a single layer structure. Moreover, it is good also as a laminated structure which formed transparent electrodes, such as ITO, on this single layer structure.

そして上記した構成のEL素子21に印加する電流は、通常、直流であるが、パルス電流や交流を用いてもよい。電流値、電圧値は、素子が破壊されない範囲内であれば特に制限はないが、有機電界発光素子の消費電力や寿命を考慮すると、なるべく小さい電気エネルギーで効率良く発光させることが望ましい。   The current applied to the EL element 21 configured as described above is normally a direct current, but a pulse current or an alternating current may be used. The current value and the voltage value are not particularly limited as long as the element is not destroyed. However, considering the power consumption and life of the organic electroluminescent element, it is desirable to emit light efficiently with as little electrical energy as possible.

さらに、ここでの図示は省略したが、このような構成のEL素子21は、大気中の水分や酸素等による有機材料の劣化を防止するため保護層(パッシベーション層)で覆われた状態で用いることが好ましい。保護膜には、窒化珪素(代表的には、Si)、酸化珪素(代表的には、SiO)膜、窒化酸化珪素(SiNxOy:組成比X>Y)膜、酸化窒化珪素(SiOxNy:組成比X>Y)膜、またはDLC(Diamond like Carbon)のような炭素を主成分とする薄膜、CN(Carbon Nanotube)膜等が用いられる。これらの膜は、単層または積層させた構成とすることが好ましい。なかでも、窒化物からなる保護層は膜質が緻密であり、EL素子21に悪影響を及ぼす水分、酸素、その他不純物に対して極めて高いブロッキング効果を有するため好ましく用いられる。 Furthermore, although illustration is omitted here, the EL element 21 having such a configuration is used in a state of being covered with a protective layer (passivation layer) in order to prevent deterioration of the organic material due to moisture, oxygen, etc. in the atmosphere. It is preferable. The protective film includes silicon nitride (typically Si 3 N 4 ), silicon oxide (typically SiO 2 ) film, silicon nitride oxide (SiNxOy: composition ratio X> Y) film, silicon oxynitride ( A SiOxNy: composition ratio X> Y) film, a thin film mainly composed of carbon such as DLC (Diamond like Carbon), a CN (Carbon Nanotube) film, or the like is used. These films are preferably single-layered or laminated. Among these, the protective layer made of nitride is preferably used because it has a dense film quality and has an extremely high blocking effect against moisture, oxygen, and other impurities that adversely affect the EL element 21.

尚、以上の実施形態においては、EL素子が上面発光型である場合を例示して本発明を詳細に説明した。しかしながら、本発明のEL素子は、上面発光型への適用に限定されるものではなく、陽極と陰極との間に少なくとも発光層を有する有機層を挟持してなる構成に広く適用可能である。したがって、基板側から順に、陰極、有機層、陽極を順次積層した構成のものや、基板側に位置する電極(陰極または陽極としての下部電極)を透明材料で構成し、基板と反対側に位置する電極(陰極または陽極としての上部電極)を反射材料で構成することによって、下部電極側からのみ光を取り出すようにした、下面発光型のEL素子にも適用可能である。   In the above embodiment, the present invention has been described in detail by exemplifying a case where the EL element is a top emission type. However, the EL element of the present invention is not limited to application to a top emission type, and can be widely applied to a configuration in which an organic layer having at least a light emitting layer is sandwiched between an anode and a cathode. Therefore, in order from the substrate side, the cathode, the organic layer, and the anode are laminated in sequence, and the electrode located on the substrate side (lower electrode as the cathode or anode) is made of a transparent material and located on the opposite side of the substrate The electrode (upper electrode as a cathode or anode) is made of a reflective material, so that it can be applied to a bottom emission type EL device in which light is extracted only from the lower electrode side.

さらに、本発明のEL素子とは、一対の電極(陽極と陰極)、およびその電極間に有機層が挟持されることによって形成される素子であれば良い。このため、一対の電極および有機層のみで構成されたものに限定されることはなく、本発明の効果を損なわない範囲で他の構成要素(例えば、無機化合物層や無機成分)が共存することを排除するものではない。   Furthermore, the EL element of the present invention may be an element formed by a pair of electrodes (anode and cathode) and an organic layer sandwiched between the electrodes. For this reason, it is not limited to what comprised only a pair of electrode and organic layer, and other components (for example, an inorganic compound layer and an inorganic component) coexist in the range which does not impair the effect of this invention. Is not to be excluded.

一方、高分子有機物から形成された高分子有機層の場合には、発光層24cを中心に、陽極23の方向に正孔輸送層だけ備わりうる。前記正孔輸送層24bは、ポリエチレンジヒドロキシチオフェン(PEDOT)や、ポリアニリン(PANI)などを使用し、インクジェットプリンティング法やスピンコーティング法により陽極23の上部に形成され、前記高分子有機発光層は、ポリフェニルビニレン(PPV)、可溶性PPV、シアノ基付きPPV、ポリフルオレンなどを使用でき、インクジェットプリンティング法や、スピンコーティング法、またはレーザを利用した熱転写法などの一般的な方法でカラーパターンを形成できる。   On the other hand, in the case of a polymer organic layer formed of a polymer organic material, only the hole transport layer can be provided in the direction of the anode 23 around the light emitting layer 24c. The hole transport layer 24b is made of polyethylene dihydroxythiophene (PEDOT), polyaniline (PANI), or the like, and is formed on the anode 23 by an inkjet printing method or a spin coating method. Phenyl vinylene (PPV), soluble PPV, PPV with cyano group, polyfluorene, and the like can be used, and a color pattern can be formed by a general method such as an inkjet printing method, a spin coating method, or a thermal transfer method using a laser.

無機電界発光素子の場合、発光層24cは、ZnS、SrS、CaS、CaCa、SrCa、BaAlのようなアルカリ土類カルシウム硫化物、及びMn、Ce、Tb、Eu、Tm、Er、Pr、Pbなどを含む遷移金属、またはアルカリ稀土類金属のような発光中心原子から形成され、この発光層24cを中心に、陽極23との間及び陰極25との間に絶縁層が形成される。 In the case of an inorganic electroluminescent element, the light emitting layer 24c is composed of an alkaline earth calcium sulfide such as ZnS, SrS, CaS, CaCa 2 S 4 , SrCa 2 S 4 , BaAl 2 S 4 , and Mn, Ce, Tb, Eu. , Transition metal containing Tm, Er, Pr, Pb, or the like, or an emission rare earth metal such as an alkali rare earth metal, and insulating between the anode 23 and the cathode 25 around the emission layer 24c. A layer is formed.

≪表示装置の概略構成≫
図3は実施形態の表示装置10の一例を示す図であり、図3(A)は概略構成図、図3(B)は画素回路の構成図である。ここでは、発光素子として図2で示したEL素子21を用いたアクティブマトリックス方式の表示装置に本発明を適用した実施形態を説明する。
≪Schematic configuration of display device≫
3A and 3B are diagrams illustrating an example of the display device 10 according to the embodiment. FIG. 3A is a schematic configuration diagram, and FIG. 3B is a configuration diagram of a pixel circuit. Here, an embodiment in which the present invention is applied to an active matrix display device using the EL element 21 shown in FIG. 2 as a light emitting element will be described.

図3(A)に示すように、この表示装置10の基板2上には、表示領域2aとその周辺領域2bとが設定されている。表示領域2aは、複数の走査線11と複数の信号線13とが縦横に配線されており、それぞれの交差部に対応して1つの画素aが設けられた画素アレイ部として構成されている。これらの各画素aに、EL素子21が設けられている。また周辺領域2bには、走査線11を走査駆動する走査線駆動回路bと、輝度情報に応じた映像信号(すなわち入力信号)を信号線13に供給する信号線駆動回路cとが配置されている。   As shown in FIG. 3A, a display area 2a and a peripheral area 2b are set on the substrate 2 of the display device 10. The display area 2a is configured as a pixel array section in which a plurality of scanning lines 11 and a plurality of signal lines 13 are wired vertically and horizontally, and one pixel a is provided corresponding to each intersection. Each pixel a is provided with an EL element 21. In the peripheral region 2b, a scanning line driving circuit b that scans and drives the scanning lines 11, and a signal line driving circuit c that supplies a video signal (that is, an input signal) corresponding to luminance information to the signal line 13 are arranged. Yes.

図3(B)に示すように、各画素aに設けられる画素回路は、例えば各EL素子21と、駆動トランジスタTr1、書き込みトランジスタ(サンプリングトランジスタ)Tr2、および保持容量Csで構成されている。そして、走査線駆動回路bによる駆動によって、書き込みトランジスタTr2を介して信号線13から書き込まれた映像信号が保持容量Csに保持され、保持された信号量に応じた電流が駆動トランジスタTr1から各EL素子21に供給され、この電流値に応じた輝度でEL素子21が発光する。   As shown in FIG. 3B, the pixel circuit provided in each pixel a includes, for example, each EL element 21, a drive transistor Tr1, a write transistor (sampling transistor) Tr2, and a storage capacitor Cs. Then, the video signal written from the signal line 13 via the write transistor Tr2 is held in the holding capacitor Cs by driving by the scanning line driving circuit b, and a current corresponding to the held signal amount is sent from the drive transistor Tr1 to each EL. The EL element 21 is supplied to the element 21 and emits light with a luminance corresponding to the current value.

尚、以上のような画素回路の構成は、あくまでも一例であり、必要に応じて画素回路内に容量素子を設けたり、さらに複数のトランジスタを設けて画素回路を構成しても良い。また、周辺領域2bには、画素回路の変更に応じて必要な駆動回路が追加される。   Note that the configuration of the pixel circuit as described above is merely an example, and a capacitor element may be provided in the pixel circuit as necessary, or a plurality of transistors may be provided to configure the pixel circuit. In addition, a necessary drive circuit is added to the peripheral region 2b according to the change of the pixel circuit.

以上説明した表示装置10は、封止された構成のモジュール形状のものをも含む。例えば、画素アレイ部である表示領域2aを囲むようにシーリング部3が設けられ、このシーリング部3を接着剤として、透明なガラス等の対向部(封止基板)に貼り付けられ形成された表示モジュールが該当する。この透明な封止基板には、カラーフィルター、保護膜、遮光膜等が設けられてもよい。尚、表示領域2aが形成された表示モジュールとしての基板21には、外部から表示領域2a(画素アレイ部)への信号等を入出力するためのフレキシブルプリント基板が設けられていても良い。   The display device 10 described above includes a module-shaped one having a sealed configuration. For example, a sealing part 3 is provided so as to surround the display area 2a which is a pixel array part, and the sealing part 3 is used as an adhesive and is attached to an opposing part (sealing substrate) such as transparent glass. Applicable to modules. The transparent sealing substrate may be provided with a color filter, a protective film, a light shielding film, and the like. The substrate 21 as a display module in which the display area 2a is formed may be provided with a flexible printed board for inputting / outputting signals from / to the display area 2a (pixel array unit).

以上説明した実施形態の構成によれば、素子特性の向上が図られたEL素子21を用いたことにより、表示装置10における画質の向上を図ることが可能になる。特に、このEL素子21は、アクティブマトリックス型の表示装置10に有利である上面発光型とした場合であっても、素子特性の向上が図られることから、この有機電界発光素子1を用いてアクティブマトリックス型の表示装置10を構成することにより、画素開口が広い表示装置10においての画質の向上を図ることが可能になる。   According to the configuration of the embodiment described above, it is possible to improve the image quality in the display device 10 by using the EL element 21 with improved element characteristics. In particular, even if the EL element 21 is a top emission type that is advantageous for the active matrix type display device 10, the element characteristics can be improved. By configuring the matrix display device 10, it is possible to improve image quality in the display device 10 having a wide pixel aperture.

<照明装置>
本発明の面発光体を適用した照明装置について説明する。
<Lighting device>
An illumination device to which the surface light emitter of the present invention is applied will be described.

本発明に関わるEL素子は、照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置(ディスプレイ)として使用してもよい。動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス(パッシブマトリクス)方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。   The EL element according to the present invention may be used as a kind of lamp such as an illumination or exposure light source, a projection device that projects an image, or a display device that directly recognizes a still image or a moving image. (Display) may be used. The driving method when used as a display device for moving image reproduction may be either a simple matrix (passive matrix) method or an active matrix method.

本発明に用いられる白色のEL素子においては、必要に応じ製膜時にメタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよい。発光層に用いる発光ドーパントとしては特に制限はなく、例えば、液晶表示素子におけるバックライトであれば、CF(カラーフィルター)特性に対応した波長範囲に適合するように、白金錯体や公知の発光ドーパントの中から任意のものを選択し組み合わせて、白色化すればよい。   In the white EL element used for this invention, you may pattern by a metal mask, the inkjet printing method, etc. at the time of film forming as needed. When patterning, only the electrode may be patterned, the electrode and the light emitting layer may be patterned, or the entire element layer may be patterned. There is no restriction | limiting in particular as a light emission dopant used for a light emitting layer, For example, if it is a backlight in a liquid crystal display element, platinum complex and a well-known light emission dopant will be adapted so that it may correspond to the wavelength range corresponding to CF (color filter) characteristic. Any one of them may be selected and combined for whitening.

このように、本発明に関わる白色のEL素子は、CF(カラーフィルター)と組み合わせて、また、CF(カラーフィルター)パターンに合わせ素子及び駆動トランジスタ回路を配置することで、有機EL素子から取り出される白色光をバックライトとして、青色フィルター、緑色フィルター、赤色フィルターを介して青色光、緑色光、赤色光を得ることで、低駆動電圧で長寿命のフルカラーの有機エレクトロルミネッセンスディスプレイができ、好ましい。   As described above, the white EL element according to the present invention is taken out from the organic EL element by combining the CF (color filter) and arranging the element and the driving transistor circuit in accordance with the CF (color filter) pattern. Using white light as a backlight, blue light, green light, and red light are obtained through a blue filter, a green filter, and a red filter, so that a full-color organic electroluminescence display having a low driving voltage and a long life can be obtained.

<本発明に関わるEL素子を適用した産業分野>
本発明に関わるEL素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。
<Industrial field to which the EL element according to the present invention is applied>
The EL element according to the present invention can be used as a display device, a display, and various light sources.

以上説明した本発明に係る表示装置は、電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。   The display device according to the present invention described above is an electronic device such as a digital camera, a notebook personal computer, a mobile terminal device such as a mobile phone, a video camera, a video signal input to the electronic device, or an electronic device. It is possible to apply to the display apparatus of the electronic device of all fields which display the video signal produced | generated by (1) as an image or an image | video.

また、発光光源としては、例えば、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特にカラーフィルターや光拡散板などと組み合わせた各種表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。   Examples of the light source include home lighting, interior lighting, backlights for watches and liquid crystals, billboard advertisements, traffic lights, light sources for optical storage media, light sources for electrophotographic copying machines, light sources for optical communication processors, light Examples include, but are not limited to, a light source of a sensor. In particular, it can be effectively used as a backlight for various display devices combined with a color filter, a light diffusing plate, or the like, or a light source for illumination.

《トップエミッション型EL表示装置の実施形態》
次に、本発明に好ましく用いられるトップエミッション型EL表示装置の具体的実施形態の一例を述べる。
<< Embodiment of Top Emission Type EL Display Device >>
Next, an example of a specific embodiment of a top emission type EL display device preferably used in the present invention will be described.

図4は、本実施形態のEL表示装置の断面構造を示す模式断面図である。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the EL display device of the present embodiment.

図4においては、RGBの各画素領域のみを示しているが、実際には図3のように複数の画素領域が有機EL装置における実発光領域の全面に形成されているものとする。   In FIG. 4, only the RGB pixel regions are shown, but in actuality, it is assumed that a plurality of pixel regions are formed on the entire surface of the actual light emitting region in the organic EL device as shown in FIG.

本実施形態のEL表示装置201は、カラーフィルター基板207に対してEL素子の白色光を照射させるようになっている。従って、着色層208R,208G,208Bによって、カラー表示を行うようになっている。   The EL display device 201 of this embodiment is configured to irradiate the color filter substrate 207 with white light from the EL element. Therefore, color display is performed by the colored layers 208R, 208G, and 208B.

次に、画素電極223及び陰極250によって挟持される低分子系発光機能層の構成について説明する。   Next, the structure of the low molecular weight light emitting functional layer sandwiched between the pixel electrode 223 and the cathode 250 will be described.

図4に示すように、発光層300は、画素電極223から陰極250に向けて、正孔注入層301、正孔輸送層302、有機発光層303、電子注入層304が順次積層された構成となっている。   As shown in FIG. 4, the light emitting layer 300 has a structure in which a hole injection layer 301, a hole transport layer 302, an organic light emitting layer 303, and an electron injection layer 304 are sequentially stacked from the pixel electrode 223 toward the cathode 250. It has become.

ここで、正孔注入層301は、トリアリールアミン(ATP)を含むものであり、正孔輸送層302は、TPD(トリフェニルジアミン)系からなるものである。   Here, the hole injection layer 301 contains triarylamine (ATP), and the hole transport layer 302 is made of TPD (triphenyldiamine).

また、有機発光層303は、スチリルアミン系発光層(ホスト)とアントラセン系ドーパントとを含んで構成される青色の有機発光層や、スチリルアミン系発光層(ホスト)とルブレン系ドーパントを含んで構成される黄色の有機発光層等を含んで形成されている。   The organic light emitting layer 303 includes a blue organic light emitting layer including a styrylamine light emitting layer (host) and an anthracene dopant, and a styrylamine light emitting layer (host) and a rubrene dopant. And a yellow organic light emitting layer.

また、電子注入層304は、アルミニウムキノリノール(Alq)層である。 The electron injection layer 304 is an aluminum quinolinol (Alq 3 ) layer.

また、陰極250は、MgAg等の合金とITOとが積層されてなるものである。   The cathode 250 is formed by stacking an alloy such as MgAg and ITO.

上記の各有機層301〜304の材料及びLiFは、加熱ボート(るつぼ)を用いた真空蒸着法で順次形成される。また、陰極250の形成については、金属系材料については真空蒸着法を採用し、ITO等の酸化物材料についてはECRスパッタ法やイオンプレーティング法、対向ターゲットスパッタ法等の高密度プラズマ成膜法を採用する。   The material of each of the organic layers 301 to 304 and LiF are sequentially formed by a vacuum evaporation method using a heating boat (crucible). As for the formation of the cathode 250, a vacuum deposition method is used for metal materials, and a high-density plasma film formation method such as an ECR sputtering method, an ion plating method, or an opposed target sputtering method is used for oxide materials such as ITO. Is adopted.

このようなEL表示装置201においては、画素電極223を色毎にパターニングすれば、発光層300及び陰極を形成し分ける必要がなく、高精度が要求されるマスク蒸着を行う必要がない。   In such an EL display device 201, if the pixel electrode 223 is patterned for each color, it is not necessary to separately form the light emitting layer 300 and the cathode, and it is not necessary to perform mask vapor deposition that requires high accuracy.

次に、陰極250の上方に形成される層膜について説明する。   Next, the layer film formed above the cathode 250 will be described.

陰極250の上方には、電極保護層255が形成されている。当該電極保護層255は、ECRスパッタ法やイオンプレーティング法などの高密度プラズマ成膜法によって形成される。材質は透明性や密着性、耐水性を考慮して珪素酸窒化物などの珪素化合物が好ましい。また、形成前には酸素プラズマ処理によって密着性を向上させると電極との密着性が向上し、発光ムラが低減する。硬化前の有機緩衝層の浸透を防ぐことも目的としており、膜厚は100nm以上が好ましい。   An electrode protective layer 255 is formed above the cathode 250. The electrode protective layer 255 is formed by a high-density plasma film forming method such as an ECR sputtering method or an ion plating method. The material is preferably a silicon compound such as silicon oxynitride in consideration of transparency, adhesion and water resistance. Further, if the adhesion is improved by oxygen plasma treatment before the formation, the adhesion with the electrode is improved, and the light emission unevenness is reduced. Another object is to prevent penetration of the organic buffer layer before curing, and the film thickness is preferably 100 nm or more.

また、電極保護層255の上方には、有機緩衝層210が形成されている。当該有機緩衝層210の硬化前の原料主成分としては、減圧真空下で塗布形成するために、流動性に優れかつ溶媒のような揮発成分を持たない有機化合物材料である必要があり、好ましくはエポキシ基を有する分子量3000以下のエポキシモノマー/オリゴマーである(モノマーの定義:分子量1000以下、オリゴマーの定義:分子量1000〜3000)。例えば、ビスフェノールA型エポキシオリゴマーやビスフェノールF型エポキシオリゴマー、フェノールノボラック型エポキシオリゴマー、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキレートなどがあり、これらが単独もしくは複数組み合わされて用いられる。   In addition, an organic buffer layer 210 is formed above the electrode protective layer 255. As a raw material main component before curing of the organic buffer layer 210, it is necessary to be an organic compound material that is excellent in fluidity and does not have a volatile component such as a solvent in order to be applied and formed under reduced pressure, preferably, An epoxy monomer / oligomer having an epoxy group and a molecular weight of 3000 or less (definition of monomer: molecular weight 1000 or less, definition of oligomer: molecular weight 1000 to 3000). For example, bisphenol A type epoxy oligomer, bisphenol F type epoxy oligomer, phenol novolac type epoxy oligomer, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxylate, ε-caprolactone modified 3,4-epoxycyclohexyl Examples thereof include methyl 3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate and the like. These may be used alone or in combination.

また、エポキシモノマー/オリゴマーと反応する硬化剤としては、電気絶縁性に優れかつ強靭で耐熱性に優れる硬化被膜を形成するものが良く、透明性に優れかつ硬化のばらつきの少ない付加重合型がよい。例えば、3−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、メチル−3,6−エンドメチレン−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物などの酸無水物系硬化剤が好ましい。これらの硬化は60〜100℃の範囲の加熱でおこなわれ、その硬化被膜は珪素酸窒化物との密着性に優れるエステル結合を持つ高分子となる。   Further, as the curing agent that reacts with the epoxy monomer / oligomer, those that form a cured film having excellent electrical insulation, toughness, and excellent heat resistance are preferable, and addition polymerization types having excellent transparency and little variation in curing are preferable. . For example, 3-methyl-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, methyl-3,6-endomethylene-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4,5-benzene Acid anhydride curing agents such as tetracarboxylic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are preferred. These curings are performed by heating in the range of 60 to 100 ° C., and the cured film becomes a polymer having an ester bond that is excellent in adhesion to silicon oxynitride.

また、酸無水の開環を促進する硬化促進剤として芳香族アミンやアルコール類、アミノフェノールなどの比較的分子量の高いものを添加することで低温かつ短時間での硬化が可能となる。   Further, by adding a relatively high molecular weight material such as an aromatic amine, alcohol, aminophenol or the like as a curing accelerator for promoting acid anhydride ring-opening, curing at a low temperature and in a short time becomes possible.

これらの原料ごとの粘度は1000〜10000mPa・s(室温)が好ましい。理由は、塗布直後に有機発光層へ浸透してダークスポットと呼ばれる非発光領域を発生させず、かつ膜厚を3〜10μm以下にするためである。この膜厚に抑えることで、カラーフィルター基板207を有機発光層303により近づけることができるため、隣接する着色層に光を漏らさずに、発光領域を広くとることができる。また、これらの原料を配合した緩衝層材料の粘度も、1000mPa・s以上(室温)でなければならない。これらの材料は、60〜100℃の範囲で加熱することで硬化させる。この時点の問題として、加熱直後に反応が開始されるまで一時的に粘度が低下する。この時に、有機緩衝層210を構成する材料が電極保護層255や陰極250を透過してAlqに達することで、ダークスポットを発生する。そこで、ある程度まで硬化が進むまでは低温で放置し、ある程度高粘度化したところで温度を上げて完全硬化させる方がより好ましい。また、カチオン放出タイプの光重合開始剤を添加して加熱をする前に10mW/cm以下の低照度で部分的に硬化して粘度の低下を防いでも良い。しかし、光重合開始剤は着色するものが多いため、ボトムエミッション用途に限られる。 The viscosity of each raw material is preferably 1000 to 10,000 mPa · s (room temperature). The reason is that the organic light-emitting layer penetrates immediately after coating and does not generate a non-light-emitting region called a dark spot, and the film thickness is 3 to 10 μm or less. By suppressing the film thickness to this thickness, the color filter substrate 207 can be brought closer to the organic light emitting layer 303, so that a light emitting region can be widened without leaking light to an adjacent colored layer. Moreover, the viscosity of the buffer layer material containing these raw materials must also be 1000 mPa · s or more (room temperature). These materials are cured by heating in the range of 60 to 100 ° C. As a problem at this point, the viscosity temporarily decreases until the reaction is started immediately after heating. At this time, the material constituting the organic buffer layer 210 passes through the electrode protective layer 255 and the cathode 250 and reaches Alq 3 to generate a dark spot. Therefore, it is more preferable to leave it at a low temperature until the curing proceeds to some extent and raise the temperature to a certain degree when the viscosity is increased to a certain degree to complete the curing. In addition, a cation-releasing type photopolymerization initiator may be added and partially cured at a low illuminance of 10 mW / cm 2 or less before heating to prevent a decrease in viscosity. However, since many photopolymerization initiators are colored, they are limited to bottom emission applications.

また、ダークスポットを発生させないため、緩衝層材料の主成分(例えば70質量%以上)は1000mPa・s以上であることが好ましい。理由として、低粘度成分が多く混入されていると硬化する際の加熱により硬化前に有機発光層に浸透してダークスポットを発生させるためである。   In order not to generate dark spots, the main component (for example, 70% by mass or more) of the buffer layer material is preferably 1000 mPa · s or more. The reason is that if a large amount of low-viscosity components are mixed, the organic light-emitting layer penetrates into the organic light-emitting layer before being cured by heating during curing to generate dark spots.

また、本実施形態においては、陰極250やガスバリア層230との密着性を向上させるシランカップリング剤が有機緩衝層210に含有されている。   In the present embodiment, the organic buffer layer 210 contains a silane coupling agent that improves adhesion to the cathode 250 and the gas barrier layer 230.

特に、低分子系の有機発光層303の場合には、有機緩衝層210の材料中にシランカップリング剤を混合、もしくは、シランカップリング剤による層を追加し、さらに陰極保護層を追加している。更に、シランカップリング剤単独による層は膜強度が脆い問題があるため、有機緩衝層210によって膜強度を補い、陰極保護層255のピンホールへの浸透をシランカップリング剤が防ぐように、有機緩衝層210の材料にシランカップリング剤を混合したほうが好ましい。   In particular, in the case of the low molecular weight organic light emitting layer 303, a silane coupling agent is mixed in the material of the organic buffer layer 210, or a layer made of a silane coupling agent is added, and a cathode protective layer is further added. Yes. Further, since the layer of the silane coupling agent alone has a problem that the film strength is fragile, the organic buffer layer 210 supplements the film strength, and the organic layer is used so that the silane coupling agent prevents penetration of the cathode protective layer 255 into the pinhole. It is preferable to mix a silane coupling agent with the material of the buffer layer 210.

シランカップリング剤は、SiO、SiON、SiNとの共有結合が生じるので、陰極保護層やガスバリア層、ガラス基板などとの密着性が向上する(アルミなどの金属とも反応する。)。シランカップリング剤としてはエポキシシランが好ましい。エポキシシランは、緩衝層原料の硬化剤成分(酸無水物系硬化剤)とも反応するので好ましい。 Since the silane coupling agent is covalently bonded to SiO 2 , SiON, and SiN, the adhesion to the cathode protective layer, the gas barrier layer, the glass substrate, and the like is improved (it also reacts with a metal such as aluminum). Epoxysilane is preferred as the silane coupling agent. Epoxysilane is preferable because it reacts with the curing agent component (acid anhydride curing agent) of the buffer layer raw material.

また、主剤/硬化剤/硬化促進剤の組成は40〜45/40〜45/10〜20であることが好ましい(低分子・高分子発光素子に共通)。このようにすると、未硬化成分が10〜20%(緩衝層原料内の未反応エポキシ基を100%とした場合、硬化後の未反応エポキシ基残留比率:FTIRのエポキシ基吸収ピーク強度差で比較可能)となり、未硬化成分による発光機能層への浸透による劣化を防止できる(20%以下になると完全硬化と呼んでいる)。   The composition of the main agent / curing agent / curing accelerator is preferably 40 to 45/40 to 45/10 to 20 (common to low-molecular / polymer light-emitting devices). In this way, the uncured component is 10 to 20% (when the unreacted epoxy group in the buffer layer raw material is 100%, the unreacted epoxy group residual ratio after curing: comparison with the epoxy group absorption peak intensity difference of FTIR) It is possible to prevent deterioration due to penetration of the uncured component into the light emitting functional layer (when 20% or less, it is called complete curing).

また、硬化剤基(酸無水、アミン)が、材料の組成として残留しており、未硬化比率は10%前後(原料中のジカルボン酸無水物基を100%とした場合、硬化後の未反応酸無水物基残留比率)である。この程度を完成した膜中に残留させると、硬化時の収縮が少なく、応力を緩和する柔軟性を持つため有機EL素子へのダメージを未然に防止することができるため好ましい。   Further, the curing agent group (acid anhydride, amine) remains as the material composition, and the uncured ratio is around 10% (when the dicarboxylic anhydride group in the raw material is 100%, the unreacted after curing) Acid anhydride group residual ratio). It is preferable to leave this degree in the completed film because the shrinkage during curing is small and the stress can be relaxed, so that damage to the organic EL element can be prevented in advance.

特に、粘度の低い原料が低分子発光素子の材料を溶かすため(例えばAlqを溶かす虞がある)、低分子発光素子に対しては高粘度の原料を用いることが好ましい。一方、高分子発光素子の場合はこのようなことがない。各原料の分子量を上げて粘度をあげると改善することができる。低分子発光素子の場合の好ましい粘度(あるいは分子量)の範囲は、3000mPa・sから8000mPa・s(室温時)の範囲であり、スクリーン印刷時の膜厚(5μm前後)と塗布面の平坦性を両立できる。 In particular, since a raw material having a low viscosity dissolves the material of the low molecular light emitting element (for example, there is a possibility of dissolving Alq 3 ), it is preferable to use a high viscosity raw material for the low molecular light emitting element. On the other hand, this is not the case with polymer light emitting devices. It can be improved by increasing the molecular weight of each raw material to increase the viscosity. The range of preferable viscosity (or molecular weight) in the case of a low molecular light emitting device is in the range of 3000 mPa · s to 8000 mPa · s (at room temperature), and the film thickness (around 5 μm) at the time of screen printing and the flatness of the coated surface are Can be compatible.

なお、シランカップリング剤以外にも、イソシアネート化合物などの捕水剤、硬化時の収縮を防ぐ微粒子などの添加剤が有機緩衝層210に混入されていてもよい。   In addition to the silane coupling agent, a water capturing agent such as an isocyanate compound, and additives such as fine particles that prevent shrinkage during curing may be mixed in the organic buffer layer 210.

また、有機緩衝層210の上方には、ガスバリア層230が形成されている。当該ガスバリア層230の形成方法としては、ECRスパッタ法やイオンプレーティング法などの高密度プラズマ成膜法が採用される。材質は透明性やガスバリア性、耐水性を考慮して珪素酸窒化物などの珪素化合物が好ましい。また、形成前には酸素プラズマ処理によって密着性を向上させると信頼性が向上する。膜厚は、200nm以下では有機緩衝層の表面及び側面被覆が不足するため、300nm以上が好ましい。   A gas barrier layer 230 is formed above the organic buffer layer 210. As a method for forming the gas barrier layer 230, a high-density plasma film forming method such as an ECR sputtering method or an ion plating method is employed. The material is preferably a silicon compound such as silicon oxynitride in consideration of transparency, gas barrier properties and water resistance. Further, if the adhesion is improved by oxygen plasma treatment before formation, the reliability is improved. The film thickness is preferably 300 nm or more because the surface and side surface coating of the organic buffer layer is insufficient when the film thickness is 200 nm or less.

以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本発明は以下に限定されるものではない。
実施例1
<EL表示装置101の作製> (比較例)
図4に示すEL表示装置を参考に、前述の《トップエミッション型EL表示装置の実施形態》の項に記載した方法、手順にて作製した。即ち、まず、第1のガラス基板上に、陽極(画素電極)、正孔注入層、正孔輸送層、白色発光層(EL層)、電子注入層、陰極(ITO)の順に積層し、その上に有機緩衝層、ガスバリア層を設けてEL素子を形成する。一方、500μmの厚みを有する第2のガラス基板の片面に、特開2008−41381号公報の実施例1に準じて、ガラス基板上にブラックマトリクス形成後、R,G,B3種のカラーフィルターを100μmピッチで形成し、その上に透明平坦化層を設けた。
Specific examples of the present invention are described below, but the present invention is not limited to the following.
Example 1
<Production of EL Display Device 101> (Comparative Example)
With reference to the EL display device shown in FIG. 4, the device was manufactured by the method and procedure described in the section “Embodiment of Top Emission Type EL Display Device”. That is, first, an anode (pixel electrode), a hole injection layer, a hole transport layer, a white light emitting layer (EL layer), an electron injection layer, and a cathode (ITO) are stacked in this order on the first glass substrate. An EL element is formed by providing an organic buffer layer and a gas barrier layer thereon. On the other hand, on one side of a second glass substrate having a thickness of 500 μm, a black matrix is formed on the glass substrate according to Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-41181, and then R, G, B type three color filters are provided. A 100 μm pitch was formed, and a transparent flattening layer was provided thereon.

カラーフィルター付きの第2のガラス基板のカラーフィルター層側の面、正確には透明平坦化層の表面を、積水化学製透明両面テープ、ダブルタックテープ#5511(5μm)の接着剤を用いてEL素子が形成されている第1の基板のガスバリア層上に貼り付け、図5に示すEL表示装置101を得た。   The surface of the second glass substrate with a color filter on the color filter layer side, more precisely, the surface of the transparent flattening layer is EL using an adhesive of Sekisui Chemical's transparent double-sided tape, double tack tape # 5511 (5 μm). The EL display device 101 shown in FIG. 5 was obtained by pasting on the gas barrier layer of the first substrate on which the element was formed.

<EL表示装置102の作製> (比較例)
次に、EL表示装置101の作製法において、カラーフィルター層上の透明平坦化層の上に、下記針状粒子を含有したC−1液をスピンコートし、磁場を与えてガラス基板の法線方向に針状粒子を配向させ、紫外線照射により硬化させて光学機能性層を設けた以外は、全て同じ方法により、EL表示装置102を作製した。このとき、光学シートの厚みは5μmであり、図1A,Bの装置にて測定した結果を基に求めたTα/Toの値は0.40であった。また、針状粒子の長軸方向の平均配向角は、88°であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、12μmであった。
<Production of EL Display Device 102> (Comparative Example)
Next, in the method for manufacturing the EL display device 101, a C-1 solution containing the following acicular particles is spin-coated on the transparent flattening layer on the color filter layer, and a magnetic field is applied to normal the glass substrate. An EL display device 102 was produced in the same manner except that the needle-like particles were oriented in the direction and cured by ultraviolet irradiation to provide an optical functional layer. At this time, the thickness of the optical sheet was 5 μm, and the value of Tα / To obtained based on the result of measurement with the apparatus of FIGS. 1A and 1B was 0.40. The average orientation angle in the major axis direction of the acicular particles was 88 °. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 12 μm.

(C−1液)
酸化チタンにより被覆した針状酸化鉄粒子(酸化鉄粒子;戸田工業製AR 長軸180nm、短軸20nm、酸化チタン被覆率30%) … 体積比率 5%
UV硬化樹脂(三菱化学製 UV2000) … 体積比率 95%
<EL表示装置103の作製> (比較例)
EL表示装置101の作製法において、カラーフィルター層上の透明平坦化層の上に、下記扁平粒子を含有したC−2液をワイヤーバーで塗布し、直ちに紫外線照射により硬化させて光学シートを設けた以外は、全て同じ方法により、EL表示装置103を作製した。このとき、光学シートの厚みは5μmであり、粒子の長軸方向の平均配向角は45°であり、Tα/Toの値は0.70であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、12μmであった。
(C-1 solution)
Needle-like iron oxide particles coated with titanium oxide (iron oxide particles; AR Toda Kogyo AR major axis 180 nm, minor axis 20 nm, titanium oxide coverage 30%)… volume ratio 5%
UV curable resin (Mitsubishi Chemical UV2000) ... Volume ratio 95%
<Production of EL Display Device 103> (Comparative Example)
In the manufacturing method of the EL display device 101, a C-2 liquid containing the following flat particles is applied with a wire bar on the transparent flattening layer on the color filter layer, and immediately cured by ultraviolet irradiation to provide an optical sheet. The EL display device 103 was manufactured by the same method except for the above. At this time, the thickness of the optical sheet was 5 μm, the average orientation angle in the major axis direction of the particles was 45 °, and the value of Tα / To was 0.70. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 12 μm.

(C−2液)
板状アルミナ(朝日化学工業社製ルクセレンFAO、平均アスペクト比3.5、平均粒径11.0μm) … 体積比率 5%
UV硬化樹脂(三菱化学製 UV2000) … 体積比率 95%
<EL表示装置104の作製> (本発明)
EL表示装置103の作製法において、C−2液をスピンコートし、紫外線照射により硬化させて光学シートを設けた以外は、全て同じ方法により、EL表示装置104を作製した。このとき、光学シートの厚みは5μmであり、スピンコート法で作製した結果、粒子の長軸方向の平均配向角は25°であり、Tα/Toの値は0.60であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、12μmであった。
(C-2 liquid)
Plate-like alumina (Luxelenium FAO manufactured by Asahi Chemical Industry Co., Ltd., average aspect ratio 3.5, average particle size 11.0 μm)… volume ratio 5%
UV curable resin (Mitsubishi Chemical UV2000) ... Volume ratio 95%
<Preparation of EL Display Device 104> (Invention)
The EL display device 104 was manufactured by the same method except that the EL sheet 103 was spin coated with the C-2 liquid and cured by ultraviolet irradiation to provide an optical sheet. At this time, the thickness of the optical sheet was 5 μm, and as a result of producing by the spin coating method, the average orientation angle in the major axis direction of the particles was 25 °, and the value of Tα / To was 0.60. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 12 μm.

<EL表示装置105〜108の作製> (本発明)
EL表示装置104の作製法において、スピンコートで使用する液の中に含まれる扁平粒子を、表1に記載してあるものに変更する以外は、全て同じ方法により、EL表示装置105〜108を作製した。このとき、光学シートの厚みはいずれも5μmであり、粒子の長軸方向の平均配向角およびTα/Toの値は表1に示す通りであった。
<Production of EL Display Devices 105 to 108> (Invention)
In the manufacturing method of the EL display device 104, the EL display devices 105 to 108 are all the same except that the flat particles contained in the liquid used in the spin coating are changed to those described in Table 1. Produced. At this time, the thickness of each optical sheet was 5 μm, and the average orientation angle in the major axis direction of the particles and the value of Tα / To were as shown in Table 1.

ここで用いた合成雲母(MK−300)はコープケミカル社製の商品であり、板状アルミナ(セラフ)はキンセイマテック社製のものである。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、いずれも12μmであった。   The synthetic mica (MK-300) used here is a product manufactured by Corp Chemical Co., and the plate-like alumina (Seraph) is manufactured by Kinsei Matech. Further, the distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 12 μm in all cases.

<EL表示装置109の作製> (比較例)
EL表示装置107の作製法において、光学シートを第2のガラス基板のカラーフィルターが設けられている面とは反対側の面(即ち視認側面)に設ける以外は、全て同じ方法により、EL表示装置109を作製した。このとき、光学シートの厚みは5μmであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびTα/Toの値はEL表示装置107と同じであった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、520μmであった。
<Production of EL Display Device 109> (Comparative Example)
The EL display device 107 is manufactured by the same method except that the optical sheet is provided on the surface of the second glass substrate opposite to the surface on which the color filter is provided (that is, the viewing side surface). 109 was produced. At this time, the thickness of the optical sheet was 5 μm, and the average orientation angle in the major axis direction of the particles and the value of Tα / To were the same as those of the EL display device 107. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 520 μm.

<EL表示装置110の作製> (比較例)
EL表示装置107の作製法において、スピンコートから紫外線照射による硬化までの工程を、6回繰り返して行った以外は、全て同じ方法により、EL表示装置110を作製した。このとき、光学シートの厚みは30μmであり、粒子の長軸方向の平均配向角は18°であり、Tα/Toの値は0.80であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、37μmであった。
<Production of EL Display Device 110> (Comparative Example)
The EL display device 110 was manufactured by the same method except that the steps from spin coating to curing by ultraviolet irradiation were repeated six times in the manufacturing method of the EL display device 107. At this time, the thickness of the optical sheet was 30 μm, the average orientation angle in the major axis direction of the particles was 18 °, and the value of Tα / To was 0.80. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 37 μm.

<EL表示装置111の作製> (本発明)
EL表示装置104の作製法において、C−2液をC−3液に変更してスピンコートし、紫外線照射により硬化させて光学シートを設けた以外は、全て同じ方法により、EL表示装置111を作製した。このとき、光学シートの厚みは5mであり、粒子の長軸方向の平均配向角は20°であり、Tα/Toの値は0.50であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、12μmであった。
<Production of EL Display Device 111> (Invention)
In the manufacturing method of the EL display device 104, the EL display device 111 is formed by the same method except that the C-2 solution is changed to the C-3 solution, spin coated, and cured by ultraviolet irradiation to provide an optical sheet. Produced. At this time, the thickness of the optical sheet was 5 m, the average orientation angle in the major axis direction of the particles was 20 °, and the value of Tα / To was 0.50. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 12 μm.

(C−3液)
平板炭酸カルシウム(ニューライム社製平板アラゴナイト、平均アスペクト比10、平均粒径5.0μm) … 体積比率 5%
UV硬化樹脂(三菱化学製 UV1000)… 層形成後の体積比率 95%
<EL表示装置112の作製> (本発明)
EL表示装置の最表面(第2のガラス基板の視認側面)に市販のハードコートフィルムを有するEL表示装置を下記方法により作製した。
(C-3 solution)
Flat calcium carbonate (new lime flat aragonite, average aspect ratio 10, average particle size 5.0 μm) ... volume ratio 5%
UV curable resin (UV1000 manufactured by Mitsubishi Chemical) ... 95% volume ratio after layer formation
<Preparation of EL Display Device 112> (Invention)
An EL display device having a commercially available hard coat film on the outermost surface (viewing side surface of the second glass substrate) of the EL display device was produced by the following method.

EL表示装置107の作製法において、カラーフィルターが片面に設けられている第2のガラス基板の厚みを190μmとし、該ガラス基板のカラーフィルターが設けられている面とは反対側の面(即ち視認側面)に光学シートを設け、更に厚み100μmのハードコート層付きTACフィルム(日東電工製 AH200(クリアパンサー))をその上に設けた以外は、全て同じ方法により、ハードコートフィルムを最表面に有するEL表示装置112を作製した。 第2のガラス基板/ハードコート層付きTACフィルムの間に光学シートを設ける際には、光学シートの両面に積水化学製透明両面テープ、ダブルタックテープ#5511(5μm)を貼った。このとき、光学シートの厚みは5μmであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびTα/Toの値はEL表示装置107と同じであった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、210μmであった。   In the manufacturing method of the EL display device 107, the thickness of the second glass substrate provided with the color filter on one side is set to 190 μm, and the surface of the glass substrate opposite to the surface provided with the color filter (that is, visible) A side surface) is provided with an optical sheet, and a TAC film with a hard coat layer having a thickness of 100 μm (AH200 (clear panther) manufactured by Nitto Denko) is provided on the surface, and the hard coat film is provided on the outermost surface by the same method. An EL display device 112 was produced. When providing an optical sheet between the second glass substrate / the TAC film with a hard coat layer, Sekisui Chemical's transparent double-sided tape, double tack tape # 5511 (5 μm) was pasted on both sides of the optical sheet. At this time, the thickness of the optical sheet was 5 μm, and the average orientation angle in the major axis direction of the particles and the value of Tα / To were the same as those of the EL display device 107. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 210 μm.

<EL表示装置113の作製> (本発明)
EL表示装置112の作製法において、カラーフィルターが片面に設けられている第2のガラス基板の厚みを170μmとする以外は、全て同じ方法により、EL表示装置113を作製した。このとき、光学シートの厚みは5μmであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびTα/Toの値はEL表示装置107と同じであった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、190μmであった。
<Preparation of EL Display Device 113> (Invention)
In the manufacturing method of the EL display device 112, the EL display device 113 was manufactured by the same method except that the thickness of the second glass substrate provided with the color filter on one side was set to 170 μm. At this time, the thickness of the optical sheet was 5 μm, and the average orientation angle in the major axis direction of the particles and the value of Tα / To were the same as those of the EL display device 107. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 190 μm.

<EL表示装置114の作製> (本発明)
EL表示装置112の作製法において、カラーフィルターが片面に設けられている第2のガラス基板の厚みを80μmとする以外は、全て同じ方法により、EL表示装置114を作製した。このとき、光学シートの厚みは5μmであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびTα/Toの値はEL表示装置107と同じであった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、100μmであった。
<Preparation of EL Display Device 114> (Invention)
In the manufacturing method of the EL display device 112, the EL display device 114 was manufactured by the same method except that the thickness of the second glass substrate provided with the color filter on one side was set to 80 μm. At this time, the thickness of the optical sheet was 5 μm, and the average orientation angle in the major axis direction of the particles and the value of Tα / To were the same as those of the EL display device 107. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 100 μm.

<EL表示装置115の作製> (本発明)
下記ドープ液100質量部を、インラインミキサー(東レ静止型管内混合機 Hi−Mixer、SWJ)で十分に混合し、次いでベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量が110%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体から剥離した。剥離の際に張力をかけて長手方向に延伸倍率が1.1倍となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ両端部を把持し、幅手方向の延伸倍率が1.1倍となるように延伸した。延伸開始時の残留溶媒は30%であった。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持し、幅方向の張力を緩和させた後幅保持を解放し、更に125℃に設定された第3乾燥ゾーンで30分間搬送させて乾燥を行い、その後180℃で長手方向に1.2倍延伸して、膜厚40μmの光学シートS−115を作製した。
<Production of EL Display Device 115> (Invention)
100 parts by mass of the following dope solution was sufficiently mixed with an in-line mixer (Toray static type in-tube mixer Hi-Mixer, SWJ), and then uniformly cast on a stainless steel band support using a belt casting apparatus. On the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount became 110%, and the stainless steel band support was peeled off. Tension is applied at the time of peeling so that the stretching ratio is 1.1 times in the longitudinal direction, then both ends of the web are gripped with a tenter so that the stretching ratio in the width direction is 1.1 times. Stretched. The residual solvent at the start of stretching was 30%. After stretching, hold for several seconds while maintaining its width, release the width holding after relaxing the tension in the width direction, further carry for 30 minutes in the third drying zone set at 125 ° C., and perform drying, Thereafter, the film was stretched 1.2 times in the longitudinal direction at 180 ° C. to prepare an optical sheet S-115 having a film thickness of 40 μm.

〈ドープ組成〉
メチレンクロライド 300質量部
エタノール 40質量部
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート;アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.7、総アシル基置換度2.6) 100質量部
芳香族末端エステル化合物(下記化合物) 5.5質量部
トリメチロールプロパントリス(3,4,5−トリメトキシベンゾエート)
5.5質量部
紫外線吸収剤(チヌビン109、チバ・ジャパン(株)製) 1.2質量部
紫外線吸収剤(チヌビン171、チバ・ジャパン(株)製) 0.8質量部
扁平粒子(キンセイマテック社製セラフ05025)
2質量部
<Dope composition>
Methylene chloride 300 parts by weight Ethanol 40 parts by weight Cellulose ester (cellulose acetate propionate; acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.7, total acyl group substitution degree 2.6) 100 parts by weight aromatic terminal ester Compound (the following compound) 5.5 parts by mass Trimethylolpropane tris (3,4,5-trimethoxybenzoate)
5.5 parts by mass UV absorber (Tinubin 109, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 1.2 parts by mass UV absorber (Tinuvin 171, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 0.8 part by mass Flat particles (Kinsei Matec) Seraph 05025 by the company)
2 parts by mass

Figure 2010114026
Figure 2010114026

EL表示装置101の作製法において、カラーフィルター付きの第2のガラス基板のカラーフィルター層側の面、正確には透明平坦化層の表面に、積水化学製透明両面テープ、ダブルタックテープ#5511(5μm)を介して上記光学シートS−115を貼り付けたものを、第1の基板のガスバリア層上にダブルタックテープ#5511(5μm)を介して貼り付けた以外は全て同じ方法により、EL表示装置115を作製した。この装置での、光学シートの厚みは40μmであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびTα/Toの値は0.5であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、47μmであった。   In the manufacturing method of the EL display device 101, Sekisui Chemical's transparent double-sided tape, double tack tape # 5511 (on the surface of the second glass substrate with a color filter, on the surface of the color filter layer side, more precisely on the surface of the transparent flattening layer) EL display using the same method except that the optical sheet S-115 is bonded to the first substrate gas barrier layer via double tack tape # 5511 (5 μm). Device 115 was fabricated. In this apparatus, the thickness of the optical sheet was 40 μm, the average orientation angle in the major axis direction of the particles, and the value of Tα / To were 0.5. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 47 μm.

<EL表示装置116の作製> (本発明)
(ペレット作製)
セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.23、プロピオニル基置換度1.31、数平均分子量75000) 100質量部
(メタ)アクリル系重合体A 5.5質量部
糖エステル化合物A 5.5質量部
トリメチロールプロパントリス(3,4,5−トリメトキシベンゾエート)
1質量部
IRGANOX−1010(チバ・ジャパン(株)製) 1質量部
SumilizerGP(住友化学社製) 0.5質量部
(メタ)アクリル系重合体A:特開2000−128911号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。すなわち、攪拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び環流冷却管を備えたフラスコにモノマーとしてメチルアクリレートを投入し、窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素ガスで置換したチオグリセロールを攪拌下添加した。
<Production of EL Display Device 116> (Invention)
(Pellet preparation)
Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.23, propionyl group substitution degree 1.31, number average molecular weight 75000) 100 parts by mass (meth) acrylic polymer A 5.5 parts by mass Sugar ester compound A 5.5 Part by weight Trimethylolpropane tris (3,4,5-trimethoxybenzoate)
1 part by mass IRGANOX-1010 (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 1 part by mass Sumilizer GP (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 0.5 part by mass (meth) acrylic polymer A: polymerization described in JP 2000-128911 A Bulk polymerization was performed by the method. That is, methyl acrylate was introduced as a monomer into a flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer, an inlet, and a reflux condenser, and nitrogen gas was introduced and the inside of the flask was replaced with nitrogen gas while stirring. Added.

チオグリセロール添加後、4時間重合を行い、内容物を室温に戻し、それにベンゾキノン5質量%テトラヒドロフラン溶液を20質量部添加し、重合を停止させた。内容物をエバポレーターに移し、80℃で減圧下、テトラヒドロフラン、残存モノマー及び残存チオグリセロールを除去し、分子量1000の(メタ)アクリル系重合体Aを得た。   After the addition of thioglycerol, polymerization was carried out for 4 hours, the contents were returned to room temperature, and 20 parts by mass of a 5% by mass benzoquinone tetrahydrofuran solution was added thereto to stop the polymerization. The contents were transferred to an evaporator, and tetrahydrofuran, residual monomer and residual thioglycerol were removed under reduced pressure at 80 ° C. to obtain a (meth) acrylic polymer A having a molecular weight of 1000.

糖エステル化合物A:下記糖エステル化合物   Sugar ester compound A: The following sugar ester compound

Figure 2010114026
Figure 2010114026

上記材料に、扁平粒子(キンセイマテック社製セラフ05025)2質量部を加え、窒素ガスを封入したV型混合機で30分混合した後、ストランドダイを取り付けた2軸押出し機(PCM30(株)池貝社製)を用いて240℃で溶融させ、長さ4mm、直径3mmの円筒形のペレットを作製した。このとき、せん断速度は、25(mm/s)に設定した。得られたペレットを100℃5時間乾燥させ、含水率100ppmとし、幅300mmのTダイを取り付けた単軸押出し機(GT−50;(株)プラスチック工学研究所社製)に供給して押出し機及びTダイを250℃に設定して製膜を行った。Tダイ表面にはハードクロムメッキを施し面粗度0.1Sの鏡面仕上げを行った。Tダイから出たフィルムは110℃に温度調整したクロムメッキ鏡面の第1冷却ロールに落下させた。   2 parts by weight of flat particles (Seraph 05025 manufactured by Kinsei Matec Co., Ltd.) were added to the above material, mixed for 30 minutes with a V-type mixer containing nitrogen gas, and then a twin-screw extruder (PCM30 Co., Ltd.) attached with a strand die. And a cylindrical pellet having a length of 4 mm and a diameter of 3 mm was produced. At this time, the shear rate was set to 25 (mm / s). The obtained pellets were dried at 100 ° C. for 5 hours to have a water content of 100 ppm and supplied to a single screw extruder (GT-50; manufactured by Plastic Engineering Laboratory Co., Ltd.) equipped with a 300 mm wide T die. And T-die was set to 250 degreeC and it formed into a film. The surface of the T die was subjected to hard chrome plating and finished with a mirror finish with a surface roughness of 0.1S. The film from the T-die was dropped onto a first cooling roll with a chrome-plated mirror surface adjusted to 110 ° C.

第1冷却ロールに密着したフィルムは、第1冷却ロールの円周部分を中心角10°搬送された後、弾性タッチロールで押圧した。このとき、フィルムの幅手250mmの全面に対し、4N/mmの圧力で接触した。押圧されたフィルムは第1冷却ロールの中心角150°の円周部分で接触した後、更に、第2冷却ロール(温度110℃)、第3冷却ロール(温度80℃)の合計3本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化してフィルムとし、剥離ロールによって剥離した。その後、180℃で長手方向に1.2倍延伸して、膜厚40μmの光学シートS−116を作製した。この装置での、光学シートの厚みは40μmであり、粒子の長軸方向の平均配向角、およびTα/Toの値は0.47であった。また、光透過性電極の光出射側の面から光学シートの視認側面までの距離は、47μmであった。   The film in close contact with the first cooling roll was pressed with an elastic touch roll after being transported around the circumference of the first cooling roll by a central angle of 10 °. At this time, it contacted with the pressure of 4 N / mm with respect to the whole width 250mm of a film. After the pressed film is brought into contact with the circumferential portion of the first cooling roll having a central angle of 150 °, a total of three cooling films, ie, a second cooling roll (temperature 110 ° C.) and a third cooling roll (temperature 80 ° C.) are cooled. The film was sequentially circumscribed on the roll, cooled and solidified to form a film, and peeled off by a peeling roll. Thereafter, the optical sheet S-116 having a film thickness of 40 μm was produced by stretching 1.2 times in the longitudinal direction at 180 ° C. In this apparatus, the thickness of the optical sheet was 40 μm, the average orientation angle in the major axis direction of the particles, and the value of Tα / To was 0.47. The distance from the light emitting side surface of the light transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet was 47 μm.

《性能評価》
(正面輝度向上比)
EL表示素子101の正面輝度を1としたときの、EL表示素子102〜113の正面輝度を相対値で示す。測定は分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング製)を用いて、正面からの発光輝度(2°視野角正面輝度)を測定した。
<Performance evaluation>
(Front brightness improvement ratio)
The front luminances of the EL display elements 102 to 113 when the front luminance of the EL display element 101 is 1 are shown as relative values. The measurement was performed using a spectral radiance meter CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Sensing) to measure the light emission luminance from the front (2 ° viewing angle front luminance).

(画像滲み評価)
また、画素滲みは、デジタルカメラの撮像から目視により調べ、下記基準で評価した。
◎:画素滲みが全く認められず、シートが無い場合と同程度であった
○:画素滲みが殆ど認められず、シートが無い場合とほぼ同程度であった
△:画素滲みがわずかに認められ、シートが無い場合より若干劣化した
×:画像滲みが顕著に認められ、シートが無い場合から大幅に劣化した。
(Image bleeding evaluation)
In addition, pixel bleeding was examined visually from the image of the digital camera and evaluated according to the following criteria.
A: No pixel bleeding was observed, which was about the same as when no sheet was present. B: Pixel bleeding was hardly observed, and was almost the same as when there was no sheet. Δ: Pixel bleeding was slightly recognized. X: Slightly deteriorated compared to the case where there was no sheet x: Image blur was remarkably observed, and it was significantly deteriorated from the case where there was no sheet.

(屈折率測定)
光学シートを構成する透明樹脂および扁平粒子の屈折率の測定は、本文記載の方法を用いた。測定波長はいずれも589nmとした。
(Refractive index measurement)
The method described in the text was used to measure the refractive index of the transparent resin and flat particles constituting the optical sheet. The measurement wavelengths were all 589 nm.

Figure 2010114026
Figure 2010114026

表1より、本発明のEL表示装置は、光取り出し効果に優れ、また、画像滲みが生じにくい。また、粒径が10μm未満の粒子や、平均アスペクト比が5以上の粒子を使用した場合や、Tβ/Toの値が0.65以上の場合、更には、粒子と樹脂の平均屈折率差(Δn)が0.06以上の場合、そして光透過性電極の視認側面から光学シートの視認側面までの距離が200μm以下の場合、特に画像滲みを生じさせること無く正面輝度向上の効果が大きいことがわかる。   From Table 1, the EL display device of the present invention is excellent in light extraction effect and hardly causes image bleeding. In addition, when particles having a particle size of less than 10 μm, particles having an average aspect ratio of 5 or more, or when the value of Tβ / To is 0.65 or more, the difference in average refractive index between the particles and the resin ( When [Delta] n) is 0.06 or more, and when the distance from the viewing side surface of the light-transmissive electrode to the viewing side surface of the optical sheet is 200 [mu] m or less, the effect of improving the front brightness is particularly large without causing image blurring. Recognize.

本発明に係わる光学シートの光学特性を評価する際の光学系を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the optical system at the time of evaluating the optical characteristic of the optical sheet concerning this invention. 本発明のEL素子構成の実施形態の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of embodiment of the EL element structure of this invention. 実施形態のEL表示装置の断面構成の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the cross-sectional structure of EL display apparatus of embodiment. 実施形態のEL表示装置の回路構成の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the circuit structure of the EL display apparatus of embodiment. 実施例で作成したEL表示装置の断面構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross-sectional structure of the EL display apparatus produced in the Example.

符号の説明Explanation of symbols

2 基板
2a 表示領域
2b 周辺領域
3 シーリング部
10 表示装置
11 走査線
13 信号線
21 EL素子
22 基板
23 陽極
24 有機層
24a 正孔注入層
24b 正孔輸送層
24c 発光層
24d 電子輸送層
25 陰極
25a 第1層
25b 第2層
201 EL表示装置
207 カラーフィルター基板
208R、208G、208B 着色層
210 有機緩衝層
223 画素電極
230 ガスバリア層
250 陰極
255 電極保護層
300 発光層
301 正孔注入層
302 正孔輸送層
303 有機発光層
304 電子注入層
401 第1のガラス基板
402 陽極
403 EL発光層
404 陰極(ITO)
405 ガスバリア層
406 接着層
407 光学シート
408 透明平坦化層
409 カラーフィルター
410 第2のガラス基板
2 Substrate 2a Display area 2b Peripheral area 3 Sealing section 10 Display device 11 Scan line 13 Signal line 21 EL element 22 Substrate 23 Anode 24 Organic layer 24a Hole injection layer 24b Hole transport layer 24c Light emitting layer 24d Electron transport layer 25 Cathode 25a First layer 25b Second layer 201 EL display device 207 Color filter substrate 208R, 208G, 208B Colored layer 210 Organic buffer layer 223 Pixel electrode 230 Gas barrier layer 250 Cathode 255 Electrode protective layer 300 Light emitting layer 301 Hole injection layer 302 Hole transport Layer 303 Organic light emitting layer 304 Electron injection layer 401 First glass substrate 402 Anode 403 EL light emitting layer 404 Cathode (ITO)
405 Gas barrier layer 406 Adhesive layer 407 Optical sheet 408 Transparent flattened layer 409 Color filter 410 Second glass substrate

Claims (7)

基板上に対向する一対の電極と該電極の間に発光層を備え、前記一対の電極のうち少なくとも一方は光透過性電極であるEL素子において、該EL素子の外界に向けて光が取り出される面より発光層側で、前記光透過性電極の光出射側の面より視認側の、いずれかの位置に下記条件a、bをいずれも満たす光学シートが設けられていることを特徴とするEL素子。
a.該光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線方向から入射する光に対する平行透過率をToとし、該シート両面を2枚の直角反射プリズム斜面で挟んだ状態で、該シートに対し45°傾いた方向から入射する光に対する平行透過率をTαとしたとき、Tα/Toの値は0.6以下である。
b.該光学シートは、透明樹脂中に平均アスペクト比が2以上の扁平粒子が分散されている構成であり、かつ、シート面に垂直な2つの断面における粒子の長軸方向と該シート面方向とのなす小さい方の角度の平均値が30°以内である。
A light-emitting layer is provided between a pair of electrodes opposed to each other on the substrate, and at least one of the pair of electrodes is a light-transmitting electrode. Light is extracted toward the outside of the EL element. An EL sheet that is provided with an optical sheet satisfying both of the following conditions a and b at any position on the light emitting layer side of the surface and on the viewing side of the light emitting side surface of the light transmissive electrode. element.
a. Of the light incident on the optical sheet, the parallel transmittance with respect to the light incident from the normal direction of the sheet surface is To, and the both surfaces of the sheet are sandwiched between two right-angle reflecting prism inclined surfaces. On the other hand, when the parallel transmittance with respect to light incident from a direction inclined by 45 ° is Tα, the value of Tα / To is 0.6 or less.
b. The optical sheet has a configuration in which flat particles having an average aspect ratio of 2 or more are dispersed in a transparent resin, and the major axis direction of the particles in two cross sections perpendicular to the sheet surface and the sheet surface direction. The average value of the smaller angles formed is within 30 °.
前記光透過性電極の光出射側の面から前記光学シートの視認側表面までの距離が、200μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のEL素子。 2. The EL element according to claim 1, wherein a distance from a light emitting side surface of the light transmissive electrode to a viewing side surface of the optical sheet is 200 μm or less. 前記扁平粒子の平均粒径が10μm未満であり、該扁平粒子の平均アスペクト比が5以上であることを特徴とする請求項1または2に記載のEL素子。 3. The EL device according to claim 1, wherein the average particle diameter of the flat particles is less than 10 μm, and the average aspect ratio of the flat particles is 5 or more. 前記扁平粒子の平均粒径が5μm以下であり、平均厚みが0.5μm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のEL素子。 4. The EL device according to claim 1, wherein the flat particles have an average particle size of 5 μm or less and an average thickness of 0.5 μm or less. 前記光学シート内に入射する光のうち、該シート面の法線に対し40°傾斜した方向から入射する光に対する平行透過率をTβとしたとき、Tβ/Toの値が0.65以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のEL素子。 Of the light incident on the optical sheet, the value of Tβ / To is 0.65 or more, where Tβ is the parallel transmittance for light incident from a direction inclined by 40 ° with respect to the normal of the sheet surface. The EL element according to any one of claims 1 to 4, wherein the EL element is characterized in that 光学シートを構成する前記透明樹脂と前記扁平粒子との平均屈折率差が0.06以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のEL素子。 The EL element according to claim 1, wherein an average refractive index difference between the transparent resin and the flat particles constituting the optical sheet is 0.06 or more. 請求項1〜6のいずれか1項に記載のEL素子を用いることを特徴とするEL表示装置。 An EL display device using the EL element according to claim 1.
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