JP2010113338A - Method for manufacturing glass substrate for fpd - Google Patents

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榮 西山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for efficiently manufacturing a glass substrate for an FPD, of which the strength is not deteriorated even when the thickness is reduced by resolving shortcomings of a laser cutting method. <P>SOLUTION: Glass substrates divided for respective display cell regions are manufactured by conducting: a preliminary step ST1 of forming a first scribe line 5a to partition the display cell region on a surface of a first glass substrate G1; a scanning step ST3 of scanning a laser beam along the first scribe line 5a; and a cutting step ST4 of cutting a laminate glass substrate by forming a second scribe line 5b on a surface of a second glass substrate G2 corresponding to the first scribe line 5a, in this order, in relation to the laminate glass substrate 1 with a plurality of display cell regions disposed between the first glass substrate G1 and the second glass substrate G2. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、FPD用ガラス基板の製造方法に関し、特に、一対のガラス基板の間に、複数の表示セル領域を設けた貼合せガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an FPD glass substrate, and more particularly to a method for manufacturing a laminated glass substrate in which a plurality of display cell regions are provided between a pair of glass substrates.

フラットパネルディスプレイ(本明細書ではFPDと称す)は、CRTディスプレイのブラウン管のように膨らみを持った表示装置と対比される用語であり、奥行きが少なく省スペースで、且つ、表示パネルに膨らみがない点に大きな特徴があり、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイなどが実用化されている。FPDのうち、特に、液晶ディスプレイは、テレビ受像機だけでなく、携帯電話機やコンピュータ機器などの表示装置としても広く普及している。   A flat panel display (referred to as FPD in this specification) is a term that is contrasted with a display device having a bulge, such as a cathode ray tube of a CRT display, has a small depth, saves space, and has no bulge in the display panel. There is a big feature in the point, and a liquid crystal display, a plasma display, an organic EL display, etc. are put into practical use. Among FPDs, in particular, liquid crystal displays are widely used not only as television receivers but also as display devices for mobile phones and computer equipment.

ところで、液晶ディスプレイの軽量化と薄型化の要請に基づき、最近では、液晶ディスプレイを構成する貼合せガラス基板を極限まで化学研磨する方法が好適に採用されている。具体的には、複数の表示パネル領域を設けた第一と第二のガラス基板を貼合せ、貼り合わせガラス基板の外周を封止した状態で、フッ酸を含んだ水溶液に浸漬させて化学研磨して薄型化している。なお、貼合せガラス基板は、第5世代では、例えば、縦1100mm×横1250mmであり、第6世代では、例えば、1500mm×1850mmである。   By the way, based on the demand for lighter and thinner liquid crystal displays, recently, a method of chemically polishing a laminated glass substrate constituting a liquid crystal display to the limit is suitably employed. Specifically, the first and second glass substrates provided with a plurality of display panel regions are bonded together, and the outer periphery of the bonded glass substrate is sealed and immersed in an aqueous solution containing hydrofluoric acid to perform chemical polishing. And thinned. In the fifth generation, the laminated glass substrate is, for example, 1100 mm long × 1250 mm wide, and in the sixth generation, for example, 1500 mm × 1850 mm.

この化学研磨方法によれば、複数枚の表示パネルをまとめて製造できるだけでなく、機械研磨に比べて処理速度が速いので、生産性に優れるという利点がある。また、上記の化学研磨方法によれば、貼合せガラス基板を限界まで薄型化できるので表示パネルの薄型化と軽量化の更なる要請にも応えることができる。   According to this chemical polishing method, not only can a plurality of display panels be manufactured together, but also the processing speed is higher than that of mechanical polishing, and thus there is an advantage that the productivity is excellent. Moreover, according to said chemical polishing method, since a laminated glass substrate can be thinned to the limit, it can respond to the further request | requirement of thickness reduction and weight reduction of a display panel.

このようにして、限界まで薄型化された貼合せガラス基板は、その後、物理的及び/又は化学的な方法で個々の表示パネル毎に分断される。好適な分断方法としては、ダイヤモンドや超硬合金製のホイールカッタなどを用いて形成したスクライブラインを、ガラス基板の化学研磨に合わせて深さ方向に研磨し、最後に、スクライブラインに沿ってガラス基板を割断する方法が知られている(例えば、特許文献1)。   In this way, the laminated glass substrate thinned to the limit is then divided into individual display panels by physical and / or chemical methods. As a suitable cutting method, a scribe line formed by using a wheel cutter made of diamond or cemented carbide is polished in the depth direction in accordance with the chemical polishing of the glass substrate, and finally, glass along the scribe line. A method of cleaving a substrate is known (for example, Patent Document 1).

この特許文献1に記載の発明によれば、貼合せガラス基板にエッチング液を接触させて、スクライブライン形成時に生じたガラスのクラックを除去しているので、切断分離後の貼合せガラス基板について、十分な強度を発揮させることができる。   According to the invention described in Patent Document 1, the etching liquid is brought into contact with the laminated glass substrate, and the glass cracks generated during the scribe line formation are removed. Sufficient strength can be exhibited.

特開2004−307318号公報JP 2004-307318 A 特開2008−162824号公報JP 2008-162824 A

しかし、貼合せガラス基板を極限的に薄板化するべくエッチング量を増やすと、元々はV字状に形成されていたスクライブラインが、エッチングにより深く化学研磨される過程で、完全に滑面化されてしまい、その後の切断分離が困難になることがあった。なお、研磨量が少なすぎると、スクライブラインの形成時に生じたクラックが残存して、分断後のガラス基板の強度を劣化させてしまう。   However, if the amount of etching is increased in order to make the laminated glass substrate extremely thin, the scribe line originally formed in a V shape is completely smoothed in the process of deep chemical polishing by etching. And subsequent cutting and separation may be difficult. If the polishing amount is too small, cracks generated during the formation of the scribe line remain, and the strength of the divided glass substrate is deteriorated.

ところで、カッタ刃を使用することに代えて、レーザ光を使用する切断分離方法(以下、レーザ分断法という)も知られている(例えば、特許文献2)。   By the way, instead of using a cutter blade, a cutting and separating method using laser light (hereinafter referred to as laser cutting method) is also known (for example, Patent Document 2).

しかし、一般に、レーザ分断法では、レーザ光の走査ラインの開始傷STを物理的に設けておく必要があり、特に、貼合せガラス基板を分断する方法としては作業性に劣っている。すなわち、貼合せガラス基板を分断するには、その表面だけでなく、その裏面にもレーザ光を走査する必要があり、しかも、走査ラインの開始傷を、各々、設ける作業が必要であり煩雑である。図5に関して説明すると、レーザ分断法では、既に形成された切断ラインCLを越えては、別の開始傷が存在しない限り、切断ラインを延長させることができないので、貼合せガラス基板の表裏面に多数の開始傷STを設けた上で(図5(a))、貼合せガラス基板の表裏面にレーザ光を走査させて、短冊状の切断ピースに切断した後(図5(b)(c))、同じ操作を、個々の切断ピースにも繰り返す必要があるという煩雑さがある。   However, in general, in the laser cutting method, it is necessary to physically provide the start scratch ST of the scanning line of the laser beam, and in particular, the method of cutting the bonded glass substrate is inferior in workability. That is, in order to divide the laminated glass substrate, it is necessary to scan the laser beam not only on the front surface but also on the back surface, and moreover, it is necessary and troublesome to provide each start scratch on the scanning line. is there. Referring to FIG. 5, in the laser cutting method, the cutting line cannot be extended beyond the already formed cutting line CL unless there is another starting flaw. After providing a large number of starting scratches ST (FIG. 5A), the front and back surfaces of the laminated glass substrate were scanned with laser light and cut into strip-shaped cut pieces (FIGS. 5B and 5C). )), There is a complication that it is necessary to repeat the same operation for each piece.

また、レーザ分断法では、ガラス基板の板厚の平坦性に対する条件が厳しく、例えば、板厚0.5mm程度のガラス基板について、その位置的なバラツキを20μm未満に抑制する必要がある。しかし、例えば、1m×1m程度の面積を有する貼合せガラス基板を0.5mm以下まで薄型化した場合に、上記の要求に応えるのが非常に困難であり、この要求に応えようとすると加工コストが大幅に増加する。   In the laser cutting method, the conditions for the flatness of the thickness of the glass substrate are strict. For example, the positional variation of a glass substrate having a thickness of about 0.5 mm needs to be suppressed to less than 20 μm. However, for example, when a laminated glass substrate having an area of about 1 m × 1 m is thinned to 0.5 mm or less, it is very difficult to meet the above requirements. Will increase significantly.

更にまた、レーザ分断法では、ガラス基板の切断面に、直角に近い角が生じるので、その後の作業において、このガラス基板の角が、他の部材と接触してクラックを発生させてしまうという問題もある。   Furthermore, in the laser cutting method, an angle close to a right angle is generated on the cut surface of the glass substrate, and in the subsequent work, the corner of the glass substrate comes into contact with other members and causes cracks. There is also.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであって、レーザ分断法の欠点を解消して、薄板化しても強度の劣らないFPD用ガラス基板を効率よく製造できる製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and provides a manufacturing method that can efficiently manufacture a glass substrate for FPD that does not deteriorate in strength even if it is thinned by eliminating the disadvantages of the laser cutting method. For the purpose.

上記の目的を達成するため、請求項1に係るFPD用ガラス基板の製造方法は、第一ガラス基板と第二ガラス基板の間に、複数の表示セル領域を設けた貼合せガラス基板について、前記第一ガラス基板の表面に、前記表示セル領域を区画する第一スクライブラインを形成する予備工程と、前記第一スクライブラインに沿ってレーザ光を走査させる走査工程と、前記第一スクライブラインに対応して、前記第二ガラス基板の表面に、第二スクライブラインを形成して前記貼合せガラス基板を分断する切断工程と、をこの順番で実行して、前記表示セル領域毎に分離されたガラス基板を製造している。   In order to achieve the above object, a method for manufacturing a glass substrate for FPD according to claim 1 is the above-described laminated glass substrate provided with a plurality of display cell regions between a first glass substrate and a second glass substrate. Corresponding to the first scribe line, a preliminary step of forming a first scribe line for partitioning the display cell region on the surface of the first glass substrate, a scanning step of scanning a laser beam along the first scribe line Then, a cutting step of forming a second scribe line on the surface of the second glass substrate to divide the bonded glass substrate is performed in this order, and the glass is separated for each display cell region. Manufactures substrates.

また、請求項2に係るFPD用ガラス基板の製造方法は、第一ガラス基板と第二ガラス基板の間に、複数の表示セル領域を設けた貼合せガラス基板について、前記第一ガラス基板と前記第二ガラス基板の各表面における、前記表示セル領域を区画する対応位置に、第一と第二のスクライブラインを形成する予備工程と、前記第一ガラス基板に形成された第一スクライブラインに沿ってレーザ光を走査させる走査工程と、前記第一と第二のスクライブラインに沿って前記貼合せガラス基板を分断する切断工程と、をこの順番で実行して、前記表示セル領域毎に分離されたガラス基板を製造している。   Moreover, the manufacturing method of the glass substrate for FPD which concerns on Claim 2 is a said 1st glass substrate and the said about the bonding glass substrate which provided the several display cell area | region between the 1st glass substrate and the 2nd glass substrate. A preliminary process for forming first and second scribe lines at corresponding positions that define the display cell region on each surface of the second glass substrate, along the first scribe lines formed on the first glass substrate. A scanning step of scanning the laser beam and a cutting step of dividing the bonded glass substrate along the first and second scribe lines are performed in this order, and are separated for each display cell region. Manufacturing glass substrates.

また、請求項3に係るFPD用ガラス基板の製造方法は、第一ガラス基板と第二ガラス基板の間に、複数の表示セル領域を設けた貼合せガラス基板について、前記第一ガラス基板と前記第二ガラス基板の各表面における、前記表示セル領域を区画する対応位置に、第一と第二のスクライブラインを形成する予備工程と、前記第一ガラス基板に形成された第一スクライブラインに沿ってレーザ光を走査させて、前記第一と第二のスクライブラインに沿って前記貼合せガラス基板を分断する走査工程と、をこの順番で実行して、前記表示セル領域毎に分離されたガラス基板を製造している。   Moreover, the manufacturing method of the glass substrate for FPD which concerns on Claim 3 is the said 1st glass substrate and the said about the bonding glass substrate which provided the several display cell area | region between the 1st glass substrate and the 2nd glass substrate. A preliminary process for forming first and second scribe lines at corresponding positions that define the display cell region on each surface of the second glass substrate, along the first scribe lines formed on the first glass substrate. The glass separated by each display cell region is scanned in this order by scanning the laser beam and dividing the bonded glass substrate along the first and second scribe lines. Manufactures substrates.

上記各発明において、予備工程におけるスクライブラインは、レーザ光を走査して形成しても良いが、好ましくは、カッタ刃を使用して機械的に形成するべきである。カッタ刃を使用する場合には、ガラス基板の板厚の平坦性に対する条件が、レーザ光を使用する場合ほど厳しく要求されない。また、スクライブラインの形成とは別に、レーザ走査の開始傷を設ける余分の作業も不要となる。なお、スクライブラインは好ましくは、直線状に形成されるが、曲線状のスクライングラインが排除されるものではない。また、スクライブラインは、好ましくは、連続ラインであるが、散点状に形成される離散ラインであっても良い。   In each of the above inventions, the scribe line in the preliminary process may be formed by scanning a laser beam, but preferably it should be formed mechanically using a cutter blade. In the case of using a cutter blade, the conditions for the flatness of the thickness of the glass substrate are not strictly required as in the case of using laser light. In addition to the formation of the scribe line, an extra work for providing a laser scanning start flaw is also unnecessary. The scribing line is preferably formed in a straight line, but a curved scribing line is not excluded. Further, the scribe line is preferably a continuous line, but may be a discrete line formed in a dotted shape.

上記の発明では、予備工程において、スクライブラインを縦横に形成することができるので、走査工程において、既に形成された切断ラインを越えて、切断ラインを延長させることができる。なお、予備工程のスクライブラインの形成時に生じたクラックは、その後の走査工程で、ガラス表面が溶融して変質する過程で消失させることができる。   In the above invention, since the scribe line can be formed vertically and horizontally in the preliminary process, the cutting line can be extended beyond the already formed cutting line in the scanning process. In addition, the crack which arose at the time of formation of the scribe line of a preliminary | backup process can be lose | disappeared in the process in which a glass surface melt | dissolves and changes in a subsequent scanning process.

もっとも、好ましくは、予備工程と走査工程の間に研磨工程を設け、スクライブラインに、フッ酸を含有した化学研磨液を接触させるべきである。このような構成を採ると、スクライブラインが、深さ方向と幅方向にエッチングされる過程で、V字状の切込みライン(スクライブライン)が滑面化される結果、切断分離後の各ガラス基板の端面にも、角が生じないので、その後のクラック発生の原因とならない。   However, preferably, a polishing process should be provided between the preliminary process and the scanning process, and a chemical polishing liquid containing hydrofluoric acid should be brought into contact with the scribe line. When such a configuration is adopted, each glass substrate after being cut and separated as a result of the V-shaped cut line (scribe line) being smoothed in the process of etching the scribe line in the depth direction and the width direction. Since no corners are formed on the end face, no subsequent cracks are generated.

ここで、研磨工程では、貼合せガラス基板を化学研磨液に浸漬するのが好ましく、このような構成を採った場合には、スクライブラインをエッチングする過程で、貼合せガラス基板を無理なく薄型化できるので、極限的に薄型化した表示パネルを製造することができる。   Here, in the polishing process, it is preferable to immerse the bonded glass substrate in a chemical polishing liquid. When such a configuration is adopted, the bonded glass substrate can be thinned easily during the process of etching the scribe line. As a result, an extremely thin display panel can be manufactured.

なお、エッチングされたスクライブラインは、その後の走査工程における切断予備線に過ぎないので、エッチング量が増加して、相当レベルまで滑面化された場合でも、特許文献1の製法を採る場合のような分断処理時の弊害は生じない。   Since the etched scribe line is only a preliminary cutting line in the subsequent scanning process, even when the etching amount is increased and the surface is smoothed to a considerable level, the manufacturing method of Patent Document 1 is adopted. There will be no adverse effects at the time of splitting.

請求項1に係る発明では、分断工程において、カッタ刃を使用して機械的にスクライブラインを形成するのが好適である。もっとも、レーザ光の使用が、特に禁止されるものではない。   In the invention which concerns on Claim 1, it is suitable to form a scribe line mechanically using a cutter blade in a parting process. However, the use of laser light is not particularly prohibited.

一方、請求項2に係る発明では、好ましくは、分断工程において、第二スクライブラインに沿ってレーザ光を走査するか、或いは、第二スクライブラインに沿って機械的に加圧する方法が採られる。   On the other hand, the invention according to claim 2 preferably employs a method of scanning the laser beam along the second scribe line or mechanically pressurizing along the second scribe line in the dividing step.

また、前記第一ガラス基板は、フラットパネルディスプレイにおいて使用者に露出せず、前記第二ガラス基板が使用者に露出するのが好ましい。このような構成を採ると、少なくとも、使用者に露出しない第一ガラス基板の外表面側の周縁ラインが滑らかであり、スクライブライン形成時に生じたガラスのクラックが完全に除去されている。そのため、完成したフラットパネルディスプレイの使用時に、使用者に露出する第二ガラス基板G2から第一ガラス基板G1に向けて圧力が加わっても(図1(b)参照)、フラットパネルディスプレイが割れにくい。すなわち、圧力を受けて最も伸びる第一ガラス基板の外表面側の周縁ラインL1が滑らかであるため、ガラスが割れる際の起点が存在せず、優れた破壊耐力を発揮する。   Further, it is preferable that the first glass substrate is not exposed to the user in the flat panel display, and the second glass substrate is exposed to the user. When such a configuration is adopted, at least the peripheral line on the outer surface side of the first glass substrate that is not exposed to the user is smooth, and the cracks of the glass generated when the scribe line is formed are completely removed. Therefore, when using the completed flat panel display, even if pressure is applied from the second glass substrate G2 exposed to the user toward the first glass substrate G1 (see FIG. 1B), the flat panel display is difficult to break. . That is, since the peripheral line L1 on the outer surface side of the first glass substrate that is most elongated under pressure is smooth, there is no starting point when the glass breaks, and excellent fracture resistance is exhibited.

本発明に使用されるガラスは、特に限定されないが、仮に、ソーダ石灰ガラス、ほう珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラ、石英ガラスに分類した場合には、ソーダ石灰ガラスは、FPDの製造時にアルカリ金属の溶出が懸念されること、石英ガラスは、高価であることなどから、ほう珪酸ガラスやアルミノ珪酸ガラスが好適に使用される。   The glass used in the present invention is not particularly limited, but if it is classified into soda-lime glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and quartz glass, soda-lime glass is an elution of alkali metal during the production of FPD. For example, borosilicate glass and aluminosilicate glass are preferably used because quartz glass is expensive.

ここで、ほう珪酸ガラスは、酸化ホウ素を含有するガラスであり、ソーダ石灰ガラスより耐熱性に優れる利点がある。なお、ほう珪酸ガラスは、酸化ホウ素に加えて、酸化バリウムを更に含有するバリウムほう珪酸ガラスを含む概念である。   Here, borosilicate glass is a glass containing boron oxide, and has an advantage of better heat resistance than soda lime glass. Borosilicate glass is a concept that includes barium borosilicate glass that further contains barium oxide in addition to boron oxide.

一方、アルミノ珪酸ガラスは、酸化アルミニウムを18〜28重量%含む珪酸ガラスであり、ほう珪酸ガラスより、耐熱性、熱的安定性、化学的耐久性に優れるので、本発明のガラス基板の材料として更に適している。このアルミノ珪酸ガラスには、酸化ホウ素と酸化アルミニウムとを含有するアルミノほう珪酸ガラスも含まれる。   On the other hand, aluminosilicate glass is a silicate glass containing 18 to 28% by weight of aluminum oxide, and has better heat resistance, thermal stability, and chemical durability than borosilicate glass. More suitable. The aluminosilicate glass also includes an aluminoborosilicate glass containing boron oxide and aluminum oxide.

なお、ガラスをアルカリ成分によって分類した場合には、無アルカリガラスが好適に使用される。ここで、無アルカリガラスとは、アルカリ金属の含有量が1%以下の珪酸ガラスを意味し、ほう珪酸ガラスとアルミノ珪酸ガラスを含む概念である。   In addition, when glass is classified according to alkali components, alkali-free glass is preferably used. Here, the alkali-free glass means a silicate glass having an alkali metal content of 1% or less, and is a concept including borosilicate glass and aluminosilicate glass.

最適なガラスとしては、SiO2が55〜60重量%、Al2O3が16〜18重量%、B2O3が7〜10重量%程度のアルミノ珪酸ガラスが使用される。   As the optimum glass, an aluminosilicate glass having a SiO2 content of 55 to 60% by weight, an Al2O3 content of 16 to 18% by weight, and a B2O3 content of about 7 to 10% by weight is used.

上記した本発明によれば、レーザ分断法の欠点を解消して、薄板化しても強度の劣らないFPD用ガラス基板を効率よく製造することができる。   According to the above-described present invention, it is possible to efficiently manufacture a glass substrate for FPD which eliminates the disadvantages of the laser cutting method and does not have inferior strength even if it is thinned.

第1実施形態の貼合せガラス基板の製造方法を説明する工程フロー図である。It is a process flow figure explaining a manufacturing method of a pasting glass substrate of a 1st embodiment. 図1の各工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating each process of FIG. 第2実施形態の貼合せガラス基板の製造方法を説明する工程フロー図である。It is a process flow figure explaining a manufacturing method of a pasting glass substrate of a 2nd embodiment. 図3の各工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating each process of FIG. 従来技術の問題点を説明する図面である。It is drawing explaining the problem of a prior art.

以下、実施形態に基づき本発明に係るFPD用ガラス基板の製造方法を説明する。図1(a)は、第1実施形態の製造方法を示す工程フロー図である。ここでは、第一ガラス基板G1と第二ガラス基板G2の間に、複数の表示セル領域を設けた貼合せガラス基板を目的厚Tまで化学研磨して薄型化した後、個々の表示パネル用のガラス基板の形状に分断するまでの手順を記載している。   Hereinafter, the manufacturing method of the glass substrate for FPD which concerns on this invention based on embodiment is demonstrated. FIG. 1A is a process flow diagram showing the manufacturing method of the first embodiment. Here, a laminated glass substrate provided with a plurality of display cell regions between the first glass substrate G1 and the second glass substrate G2 is chemically polished to a target thickness T to be thinned, and then used for individual display panels. The procedure until the glass substrate is divided is described.

この製造方法では、FPD完成後は使用者に露出しない第一ガラス基板G1の表面に、切断予備線たるスクライブライン5aを形成する予備工程(ST1)と、板厚T+δの貼合せガラス基板1をエッチング液に浸漬して板厚Tまで薄型化する研磨工程(ST2)と、スクライブライン5aに沿ってレーザ光を走査させてガラス基板を変質させる走査工程(ST3)と、FPD完成後は使用者に露出する第二ガラス基板G1の表面に、切断線たるスクライブライン5bを形成して個々の表示パネル毎に分断する切断工程(ST4)とを有して構成されている。   In this manufacturing method, after the FPD is completed, a preliminary step (ST1) for forming a scribe line 5a serving as a preliminary cutting line on the surface of the first glass substrate G1 that is not exposed to the user, and a laminated glass substrate 1 having a plate thickness T + δ A polishing step (ST2) for thinning to a plate thickness T by immersion in an etching solution, a scanning step (ST3) for changing the glass substrate by scanning a laser beam along the scribe line 5a, and a user after completion of the FPD And a cutting step (ST4) in which a scribe line 5b serving as a cutting line is formed on the surface of the second glass substrate G1 exposed to divide each display panel.

以下、図3(a)〜図3(e)を参照しつつ説明する。図3(a)に示すように、予備工程ST1では、最終の板厚Tよりやや厚いT+δの貼合せガラス基板1について、第一ガラス基板G1の表面に、スクライブライン5aを縦横に形成する。スクライブライン5aは、ダイヤモンドや超硬合金製であって周面が尖突状の円板状ホールカッタ4によって形成される。   Hereinafter, a description will be given with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (e). As shown in FIG. 3A, in the preliminary step ST1, scribe lines 5a are formed vertically and horizontally on the surface of the first glass substrate G1 for the laminated glass substrate 1 having a thickness T + δ slightly thicker than the final plate thickness T. The scribe line 5a is made of a disk-shaped hole cutter 4 made of diamond or cemented carbide and having a pointed peripheral surface.

なお、貼合せガラス基板1の最終の板厚Tが、例えば、0.32mmである場合、初期段階では、1mm程度の板厚の貼合せガラス基板1が、予備工程(ST1)に先行して、例えば、0.38mm程度まで薄型化されている。したがって、このような実施例では、板厚0.38mmの貼合せガラス基板1に、スクライブラインが形成されることになり、その後の研磨工程でのエッチング量が60μm(片面では30μm)ということになる。   When the final thickness T of the laminated glass substrate 1 is, for example, 0.32 mm, the laminated glass substrate 1 having a thickness of about 1 mm precedes the preliminary step (ST1) in the initial stage. For example, the thickness is reduced to about 0.38 mm. Therefore, in such an example, a scribe line is formed on the laminated glass substrate 1 having a plate thickness of 0.38 mm, and the etching amount in the subsequent polishing step is 60 μm (30 μm on one side). Become.

もっとも、本発明では、スクライブライン5aのV字状底面が、その後の研磨工程で丸型化されても、特に問題が生じないので、研磨工程でのエッチング量を、100μm〜200μm程度まで増加させることができる。エッチング量を増加することは、板厚がもっと厚い(例えば0.5mm程度)の段階で、貼合せガラス基板1にスクライブラインを設けることを意味し、板厚が厚い分だけ、貼合せガラス基板1の取扱いが容易となり作業性が向上する。   However, in the present invention, even if the V-shaped bottom surface of the scribe line 5a is rounded in the subsequent polishing step, there is no particular problem, so the etching amount in the polishing step is increased to about 100 μm to 200 μm. be able to. Increasing the etching amount means that a scribe line is provided on the laminated glass substrate 1 at a stage where the plate thickness is thicker (for example, about 0.5 mm). 1 is easy to handle and the workability is improved.

ところで、スクライブラインが形成される第一ガラス基板G1は、FPD完成後は使用者に露出しない。すなわち、第一ガラス基板G1における、第二ガラス基板G2との対向面には、薄膜トランジスタ及び透明電極が形成され、更に配向膜が積層されている。一方、第二ガラス基板G2における、第一ガラス基板G1との対向面には、カラーフィルターがブラックマトリックスに区分けされて形成され、オーバーコート、透明電極及び配向膜が順次積層されている。これらガラス基板G1,G2の貼り合せは、両ガラス基板G1,G2の間に、スペーサ、並びに区画樹脂3および外周樹脂を介在させて行なわれている。   By the way, the 1st glass substrate G1 in which a scribe line is formed is not exposed to a user after FPD completion. That is, a thin film transistor and a transparent electrode are formed on the surface of the first glass substrate G1 facing the second glass substrate G2, and an alignment film is further laminated. On the other hand, on the surface of the second glass substrate G2 facing the first glass substrate G1, a color filter is formed by being divided into a black matrix, and an overcoat, a transparent electrode, and an alignment film are sequentially laminated. The glass substrates G1 and G2 are bonded together with a spacer, a partition resin 3 and an outer peripheral resin interposed between the glass substrates G1 and G2.

表示セル領域は、各々区画樹脂3によって区画されているので、スクライブライン5aは、隣接する区画樹脂3,3のほぼ中央位置に形成される。なお、貼合せガラス基板1の外表面には、本実施形態の切断工程(ST4)の後に偏光板が貼り付けられる。   Since the display cell regions are each partitioned by the partition resin 3, the scribe line 5 a is formed at a substantially central position between the adjacent partition resins 3 and 3. In addition, a polarizing plate is affixed on the outer surface of the laminated glass substrate 1 after the cutting process (ST4) of this embodiment.

スクライブライン5aの形成された貼合せガラス基板は、化学研磨液に浸漬されて、貼合せガラス基板1が薄型化されると共に、スクライブライン5aが滑面化されつつ、深化する(ST2)。化学研磨液は、特に限定されないが、フッ酸10重量%未満のフッ酸を含有する研磨液が好適である。   The bonded glass substrate on which the scribe line 5a is formed is immersed in a chemical polishing solution, the bonded glass substrate 1 is thinned, and the scribe line 5a is smoothened and deepened (ST2). The chemical polishing liquid is not particularly limited, but a polishing liquid containing hydrofluoric acid less than 10% by weight of hydrofluoric acid is suitable.

研磨量も特に限定されないが、スクライブライン5aを有意に残存させるためには、研磨量の上限は、貼合せガラス基板全体で100〜200μm程度となる。なお、板厚方向のエッチング量が多いほど、スクライブライン5aが平坦化される傾向となり、元々、断面略V状に形成されたスクライブラインの最深先端部が丸型化されると共に、基端両側の側面も略円弧状に丸形化した角がとれる。したがって、切断分離後の各ガラス基板の端面が、何かに接触しただけではクラック発生の原因にならない。   The polishing amount is not particularly limited, but the upper limit of the polishing amount is about 100 to 200 μm for the entire laminated glass substrate in order to leave the scribe line 5a significantly. As the etching amount in the plate thickness direction increases, the scribe line 5a tends to be flattened, and the deepest distal end portion of the scribe line originally formed in a substantially V-shaped cross section is rounded, and both sides of the proximal end are formed. The side surface of the can also be rounded into a substantially arc shape. Therefore, the end face of each glass substrate after cutting and separation does not cause cracks only by contacting something.

研磨工程(ST2)が終われば、貼合せガラス基板1を洗浄して乾燥させた後、スクライブライン5aに沿ってレーザ光を走査させて、ガラス表面が変質させる(ST3)。この実施形態では、スクライブラインが縦横に形成されているので、走査開始傷を設けることなくレーザ照射を開始することができる。また、この走査工程では、既に形成された切断ラインを越えて、切断ラインを延長させることができるので、表示セル領域に対応して切断ラインを一気に形成することができる。   When the polishing step (ST2) is completed, the bonded glass substrate 1 is washed and dried, and then the laser beam is scanned along the scribe line 5a to alter the glass surface (ST3). In this embodiment, since the scribe line is formed vertically and horizontally, laser irradiation can be started without providing a scanning start flaw. Further, in this scanning step, the cutting line can be extended beyond the already formed cutting line, so that the cutting line can be formed at a stretch corresponding to the display cell region.

なお、研磨工程における研磨量が少ない場合には、スクライブラインの形成時に生じたクラックが残存している場合もあるが、ガラス表面が溶融して変質する過程で有害なクラックを消失させることができる。一方、研磨工程における研磨量が多い場合には、スクライブラインの最深先端部が丸型化しているが、レーザ走査によるガラス変質には特段の支障が生じない。また、板厚Tに場所的な多少のバラツキがあっても、特に問題が生じない。なお、1m×1m程度の面積を有する貼合せガラス基板であれば、好適には、研磨工程後の板厚のバラツキが40μm未満に管理される。   In addition, when the amount of polishing in the polishing step is small, cracks generated during the formation of the scribe line may remain, but harmful cracks can be eliminated in the process of melting and changing the glass surface. . On the other hand, when the polishing amount in the polishing process is large, the deepest end of the scribe line is rounded, but there is no particular hindrance to glass alteration due to laser scanning. Further, even if there is some variation in the plate thickness T, there is no particular problem. In addition, if it is a laminated glass substrate which has an area of about 1 m × 1 m, the thickness variation after the polishing process is preferably controlled to be less than 40 μm.

第一ガラス基板G1の表面についてのレーザ照射処理が終われば、その貼合せガラス基板1を表裏反転させて、カッタ刃4を用いて、第二ガラス基板G2における、第一ガラス基板G1のスクライブライン5aに対応する位置に、スクライブラインを設けてガラス基板を分断する(ST4)。   If the laser irradiation process about the surface of the 1st glass substrate G1 is completed, the bonding glass substrate 1 will be turned upside down, and the scribe line of the 1st glass substrate G1 in the 2nd glass substrate G2 will be used using the cutter blade 4. A scribe line is provided at a position corresponding to 5a to divide the glass substrate (ST4).

なお、カッタ刃4を押圧することで、薄型化されている貼合せガラス基板1の第二ガラス基板G2は、ほぼ割断される。もっとも、最終的な機械的強度を高めるためには、第二ガラス基板が切断されない程度の浅いスクライブラインを設け、その後、スクライブラインに沿ってレーザ光を照射することでガラス基板を分断しても良い。   In addition, by pressing the cutter blade 4, the second glass substrate G2 of the laminated glass substrate 1 that has been thinned is substantially cleaved. However, in order to increase the final mechanical strength, even if the glass substrate is divided by irradiating a laser beam along the scribe line after providing a shallow scribe line that does not cut the second glass substrate. good.

図3は、第2実施形態の製造方法を示す工程フロー図である。この製造方法では、第一ガラス基板G1と第二ガラス基板G2の表面に、切断予備線たるスクライブライン5a,5bを形成する予備工程(ST11)と、板厚T+δの貼合せガラス基板1をエッチング液に浸漬して板厚Tまで薄型化する研磨工程(ST12)と、第一ガラス基板G1のスクライブライン5aに沿ってレーザ光を走査させてガラス基板を変質させる走査工程(ST13)と、切断線たるスクライブライン5a,5bに沿って個々の表示パネル毎に分断する切断工程(ST4)とを有して構成されている。   FIG. 3 is a process flow diagram showing the manufacturing method of the second embodiment. In this manufacturing method, a preliminary step (ST11) for forming scribe lines 5a and 5b, which are preliminary cutting lines, on the surfaces of the first glass substrate G1 and the second glass substrate G2, and the laminated glass substrate 1 having a thickness T + δ are etched. A polishing step (ST12) in which the glass substrate is thinned by immersion in the liquid, a scanning step (ST13) in which the laser beam is scanned along the scribe line 5a of the first glass substrate G1 to alter the glass substrate, and cutting And a cutting step (ST4) for dividing each display panel along the scribe lines 5a and 5b.

ステップST11〜ST13の各工程の動作内容は、第一実施形態のステップST1〜ST3の動作内容とほぼ同じであるが、切断工程ST14では、第二ガラス基板G2のスクライブライン5bに沿って荷重を加えるか、或いは、スクライブライン5bに沿ってレーザ光を走査して貼合せガラス基板1を分断する。   The operation content of each process of steps ST11 to ST13 is substantially the same as the operation content of steps ST1 to ST3 of the first embodiment. However, in the cutting process ST14, a load is applied along the scribe line 5b of the second glass substrate G2. Alternatively, the laminated glass substrate 1 is cut by scanning the laser beam along the scribe line 5b.

ここで、スクライブライン5bに沿って荷重を加えて、貼合せガラス基板1を分断する手法を採る場合には、スクライブライン5bの必要以上の滑面化を避けるため、研磨工程における研磨量を100μm未満に抑制すべきである。   Here, when a method of dividing the laminated glass substrate 1 by applying a load along the scribe line 5b is taken, the polishing amount in the polishing step is set to 100 μm in order to avoid an unnecessarily smooth surface of the scribe line 5b. Should be suppressed to less than.

一方、スクライブライン5bに沿ってレーザ光を走査して貼合せガラス基板1を分断する手法を採る場合には、上記した研磨量の制限は不要であり、研磨量の上限は、貼合せガラス基板全体で100〜200μm程度となる。   On the other hand, when the method of dividing the laminated glass substrate 1 by scanning the laser beam along the scribe line 5b is adopted, the above-described limitation of the polishing amount is unnecessary, and the upper limit of the polishing amount is the bonded glass substrate. The total is about 100 to 200 μm.

ところで、図3では、走査工程とは別に切断工程を設けているが、レーザ光の照射によって、第一と第二ガラス基板のスクラブライン5a,5bに沿って貼合せガラス基板を一気に分断することもできる。   By the way, in FIG. 3, although the cutting process is provided separately from the scanning process, the laminated glass substrate is divided at a stretch along the scrub lines 5a and 5b of the first and second glass substrates by laser light irradiation. You can also.

以上、3つの実施形態について具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、図1〜図4では、液晶ディスプレイ用の貼合せガラス基板について説明したが、一対のガラス基板が貼り合わされているものであれば、液晶ディスプレイ用の貼合せガラス基板であるか否かが問われるものではない。   Although the three embodiments have been specifically described above, the present invention is not limited to the above embodiments. For example, in FIGS. 1-4, although the laminated glass substrate for liquid crystal displays was demonstrated, if a pair of glass substrates are pasted together, it is a laminated glass substrate for liquid crystal displays. Not a question.

Claims (11)

第一ガラス基板と第二ガラス基板の間に、複数の表示セル領域を設けた貼合せガラス基板について、前記第一ガラス基板の表面に、前記表示セル領域を区画する第一スクライブラインを形成する予備工程と、
前記第一スクライブラインに沿ってレーザ光を走査させる走査工程と、
前記第一スクライブラインに対応して、前記第二ガラス基板の表面に、第二スクライブラインを形成して前記貼合せガラス基板を分断する切断工程と、
をこの順番で実行して、前記表示セル領域毎に分離されたガラス基板を製造するフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
About the bonded glass substrate which provided the some display cell area | region between the 1st glass substrate and the 2nd glass substrate, the 1st scribe line which divides the said display cell area | region is formed in the surface of said 1st glass substrate. A preliminary process;
A scanning step of scanning the laser beam along the first scribe line;
Corresponding to the first scribe line, on the surface of the second glass substrate, forming a second scribe line and cutting the bonded glass substrate,
Are performed in this order, and the manufacturing method of the glass substrate for flat panel displays which manufactures the glass substrate isolate | separated for every said display cell area | region.
第一ガラス基板と第二ガラス基板の間に、複数の表示セル領域を設けた貼合せガラス基板について、前記第一ガラス基板と前記第二ガラス基板の各表面における、前記表示セル領域を区画する対応位置に、第一と第二のスクライブラインを形成する予備工程と、
前記第一ガラス基板に形成された第一スクライブラインに沿ってレーザ光を走査させる走査工程と、
前記第一と第二のスクライブラインに沿って前記貼合せガラス基板を分断する切断工程と、
をこの順番で実行して、前記表示セル領域毎に分離されたガラス基板を製造するフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
About the bonded glass substrate which provided the some display cell area | region between the 1st glass substrate and the 2nd glass substrate, the said display cell area | region in each surface of said 1st glass substrate and said 2nd glass substrate is divided. A preliminary step of forming first and second scribe lines at corresponding positions;
A scanning step of scanning a laser beam along a first scribe line formed on the first glass substrate;
A cutting step of dividing the laminated glass substrate along the first and second scribe lines;
Are performed in this order, and the manufacturing method of the glass substrate for flat panel displays which manufactures the glass substrate isolate | separated for every said display cell area | region.
第一ガラス基板と第二ガラス基板の間に、複数の表示セル領域を設けた貼合せガラス基板について、前記第一ガラス基板と前記第二ガラス基板の各表面における、前記表示セル領域を区画する対応位置に、第一と第二のスクライブラインを形成する予備工程と、
前記第一ガラス基板に形成された第一スクライブラインに沿ってレーザ光を走査させて、前記第一と第二のスクライブラインに沿って前記貼合せガラス基板を分断する走査工程と、
をこの順番で実行して、前記表示セル領域毎に分離されたガラス基板を製造するフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
About the bonded glass substrate which provided the some display cell area | region between the 1st glass substrate and the 2nd glass substrate, the said display cell area | region in each surface of said 1st glass substrate and said 2nd glass substrate is divided. A preliminary step of forming first and second scribe lines at corresponding positions;
A scanning step of scanning a laser beam along a first scribe line formed on the first glass substrate, and dividing the bonded glass substrate along the first and second scribe lines;
Are performed in this order, and the manufacturing method of the glass substrate for flat panel displays which manufactures the glass substrate isolate | separated for every said display cell area | region.
前記予備工程と前記走査工程の間に、前記第一スクライブラインに、フッ酸を含有した化学研磨液を接触させる研磨工程を設けた請求項1〜3の何れかに記載の製造方法。   The manufacturing method in any one of Claims 1-3 which provided the grinding | polishing process which contacts the chemical polishing liquid containing a hydrofluoric acid to a said 1st scribe line between the said preliminary | backup process and the said scanning process. 前記研磨工程では、前記貼合せガラス基板が化学研磨液に浸漬される請求項4に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 4, wherein in the polishing step, the bonded glass substrate is immersed in a chemical polishing liquid. 前記予備工程では、カッタ刃を使用して機械的に前記スクライブラインが形成される請求項1〜5の何れかに記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein in the preliminary step, the scribe line is mechanically formed using a cutter blade. 前記分断工程では、カッタ刃を使用して機械的に前記スクライブラインが形成される請求項1に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein in the dividing step, the scribe line is mechanically formed using a cutter blade. 前記分断工程では、第二スクライブラインに沿って、レーザ光が走査される請求項2に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 2, wherein in the dividing step, laser light is scanned along the second scribe line. 前記分断工程では、第二スクライブラインに沿って、荷重が加えられる請求項2に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 2, wherein a load is applied along the second scribe line in the dividing step. 前記第一ガラス基板は、フラットパネルディスプレイにおいて使用者に露出せず、前記第二ガラス基板が使用者に露出する請求項1〜9の何れかに記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the first glass substrate is not exposed to a user in a flat panel display, and the second glass substrate is exposed to the user. 請求項1〜10の何れかの製造工程を経由するフラットパネルディスプレイの製造方法。   The manufacturing method of the flat panel display which goes through the manufacturing process in any one of Claims 1-10.
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JP2015215598A (en) * 2014-05-09 2015-12-03 群創光電股▲ふん▼有限公司Innolux Corporation Display panel and cutting method thereof
CN105750736A (en) * 2016-04-28 2016-07-13 深圳市大德激光技术有限公司 Laser cutting method for double-layer glass

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