JP2010105860A - Silicon carbide-based porous body and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicon carbide-based porous body which has high strength, a high heat conductivity and excellent thermal shock resistance although it has high porosity and can be produced by sintering at a relatively low temperature. <P>SOLUTION: The silicon carbide-based porous body contains metal silicide of 1-35 mass% and boron (B) of 0.1-10 mass% expressed in terms of boron oxide (B<SB>2</SB>O<SB>3</SB>), and has porosity of 38-80%. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えばディーゼル排ガス浄化用のフィルター等として好適な炭化珪素質多孔体及びハニカム構造体、並びに炭化珪素質多孔体の製造方法に関する。   The present invention relates to a silicon carbide based porous body and a honeycomb structure suitable as, for example, a filter for purifying diesel exhaust gas, and a method for producing a silicon carbide based porous body.

排ガス用の捕集フィルター、例えば、ディーゼルエンジン等からの排ガスに含まれている粒子状物質(パティキュレート)を捕捉して除去するためのディーゼルパティキュレートフィルター(DPF)として、ハニカム構造体が広く使用されている。   Honeycomb structure is widely used as a collection filter for exhaust gas, for example, diesel particulate filter (DPF) for capturing and removing particulate matter (particulate) contained in exhaust gas from diesel engines, etc. Has been.

このようなハニカム構造体は、例えば、炭化珪素(SiC)等からなる多孔質の隔壁によって区画、形成された流体の流路となる複数のセルが中心軸方向に互いに並行するように配設された構造を有している。また、隣接したセルの端部は、交互に(市松模様状に)目封じされている。すなわち、一のセルは、一方の端部が開口し、他方の端部が目封じされており、これと隣接する他のセルは、一方の端部が目封じされ、他方の端部が開口している。このような構造とすることにより、一方の端部から所定のセル(流入セル)に流入させた排ガスを、多孔質の隔壁を通過させることによって流入セルに隣接したセル(流出セル)を経由して流出させ、隔壁を通過させる際に排ガス中の粒子状物質(パティキュレート)を隔壁に捕捉させることによって、排ガスの浄化をすることができる。   Such a honeycomb structure is disposed so that a plurality of cells that are partitioned and formed by porous partition walls made of, for example, silicon carbide (SiC) are parallel to each other in the central axis direction. Have a structure. Moreover, the edge part of the adjacent cell is plugged alternately (in a checkered pattern). That is, one cell is open at one end and the other end is sealed, and another cell adjacent thereto is sealed at one end and the other end is open. is doing. By adopting such a structure, the exhaust gas flowing into a predetermined cell (inflow cell) from one end is passed through a cell (outflow cell) adjacent to the inflow cell by passing through a porous partition wall. When the particulate matter (particulates) in the exhaust gas is captured by the partition wall when it is allowed to flow out and pass through the partition wall, the exhaust gas can be purified.

炭化珪素を構成材料として用いた構造体についての具体的な関連技術として、所定の比表面積と不純物含有量を有する炭化珪素粉末を出発原料とし、これを所望の形状に成形、乾燥後、1600〜2200℃の温度範囲で焼成して得られるハニカム構造の多孔質炭化珪素質触媒担体が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   As a specific related technique for a structure using silicon carbide as a constituent material, silicon carbide powder having a predetermined specific surface area and impurity content is used as a starting material, which is molded into a desired shape, dried, and 1600 to A honeycomb structure porous silicon carbide catalyst carrier obtained by firing in a temperature range of 2200 ° C. is disclosed (see, for example, Patent Document 1).

特開平6−182228号公報JP-A-6-182228 特公平8−10621号公報Japanese Patent Publication No. 8-10621 特許第3699992号公報Japanese Patent No. 3699992

前述の特許文献1で開示された、炭化珪素粉末自体の再結晶反応による焼結形態(ネッキング)によると、炭化珪素粒子表面から炭化珪素成分が蒸発し、これが粒子間の接触部(ネック部)に凝縮することでネック部が成長して結合状態が形成される。しかしながら、炭化珪素を蒸発させるには、非常に高い焼成温度が必要であるため、これがコスト高を招き、且つ、熱膨張率の高い材料を高温焼成しなければならないために、焼成歩留まりが低下するという問題があった。   According to the sintering form (necking) by recrystallization reaction of silicon carbide powder itself disclosed in Patent Document 1, the silicon carbide component evaporates from the surface of the silicon carbide particles, and this is the contact portion (neck portion) between the particles. As a result of condensation, the neck portion grows and a combined state is formed. However, in order to evaporate silicon carbide, a very high firing temperature is required. This increases the cost, and a material having a high coefficient of thermal expansion must be fired at a high temperature, so that the firing yield is lowered. There was a problem.

一方、その粒界中にニッケルシリサイド合金を含有させてなる多孔質の炭化珪素焼結体によって形成されたセラミック製ヒーターが開示されている(例えば、特許文献2参照)。しかしながら、特許文献2に記載された製造方法によれば、得られる炭化珪素焼結体の気孔率は35%程度である。このため、この炭化珪素焼結体は、より高いガス透過性能が要求されるフィルター用途には不十分であるといえる。また、2000℃前後の高温で焼成する必要があるため、コストや製造歩留まりの面でも問題があった。   On the other hand, a ceramic heater formed by a porous silicon carbide sintered body containing a nickel silicide alloy in the grain boundary is disclosed (for example, see Patent Document 2). However, according to the manufacturing method described in Patent Document 2, the porosity of the obtained silicon carbide sintered body is about 35%. For this reason, it can be said that this silicon carbide sintered body is insufficient for filter applications that require higher gas permeation performance. Moreover, since it is necessary to perform baking at a high temperature of about 2000 ° C., there are problems in terms of cost and manufacturing yield.

また、より高気孔率の構造材料を提供すべく、シリコンと炭素源を含むスラリーを含浸させた樹脂等のスポンジ状多孔質構造体を焼成して得られる、気孔率95〜97%の炭化珪素系の多孔質構造材が開示されている(例えば、特許文献3参照)。しかしながら、特許文献3で開示された多孔質構造材は、高気孔率であるために優れたガス透過性能を示すものであるが、気孔率が高過ぎるために強度が不十分であるといった問題がある。   Further, silicon carbide having a porosity of 95 to 97% obtained by firing a sponge-like porous structure such as a resin impregnated with a slurry containing silicon and a carbon source in order to provide a structural material having a higher porosity. A porous structure material is disclosed (for example, see Patent Document 3). However, the porous structural material disclosed in Patent Document 3 exhibits excellent gas permeation performance because of its high porosity, but there is a problem that the strength is insufficient because the porosity is too high. is there.

また、単純に、シリコンと炭素、あるいはシリコンと炭素と炭化珪素を混ぜ合わせ、アルゴン等の雰囲気にて1450℃程度で反応焼結させることにより得られる炭化珪素質多孔体は、シリコンの存在していた位置に閉気孔が形成されやすく、フィルターとして有用な開気孔は形成されにくいため、フィルター特性(ガス透過性)は低いものであった。   Further, a silicon carbide based porous body obtained by simply mixing silicon and carbon or silicon and carbon and silicon carbide and performing reaction sintering at about 1450 ° C. in an atmosphere of argon or the like does not contain silicon. Therefore, closed pores are easily formed at the positions, and open pores useful as a filter are difficult to be formed. Therefore, the filter characteristics (gas permeability) were low.

本発明は、このような従来技術の有する問題点に鑑みてなされたものであり、その課題とするところは、高気孔率でありながらも高強度であり、熱伝導率が高く耐熱衝撃性に優れ、比較的低温で焼結させることで製造可能な炭化珪素質多孔体及びハニカム構造体、並びに炭化珪素質構造体の簡便な製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and the object is to provide high strength while having high porosity, high thermal conductivity and high thermal shock resistance. An object of the present invention is to provide a silicon carbide porous body and a honeycomb structure that are excellent and can be manufactured by sintering at a relatively low temperature, and a simple method for manufacturing a silicon carbide structure.

本発明者らは上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、所定の割合で金属珪化物とホウ素を含有させることによって、上記課題を達成することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be achieved by containing metal silicide and boron at a predetermined ratio, and the present invention is completed. It came to.

即ち、本発明によれば、以下に示す炭化珪素質多孔体、ハニカム構造体、及び炭化珪素質多孔体の製造方法が提供される。   That is, according to the present invention, the following silicon carbide porous body, honeycomb structure, and method for producing a silicon carbide porous body are provided.

[1]金属珪化物を1〜35質量%、ホウ素(B)を酸化ホウ素(B)換算で0.1〜10質量%それぞれ含有し、気孔率が38〜80%である炭化珪素質多孔体。 [1] Silicon carbide containing 1 to 35% by mass of metal silicide, 0.1 to 10% by mass of boron (B) in terms of boron oxide (B 2 O 3 ), and a porosity of 38 to 80% Porous material.

[2]強度が、10〜50MPaである前記[1]に記載の炭化珪素質多孔体。 [2] The silicon carbide based porous material according to [1], wherein the strength is 10 to 50 MPa.

[3]主成分として含有されている炭化珪素が、全てβ−SiCである前記[1]又は[2]に記載の炭化珪素質多孔体。 [3] The silicon carbide based porous material according to [1] or [2], wherein all silicon carbide contained as a main component is β-SiC.

[4]α−SiCとβ−SiCを含有し、前記α−SiCと前記β−SiCの合計に対する前記β−SiCの含有割合が、5質量%以上100質量%未満である前記[1]又は[2]に記載の炭化珪素質多孔体。 [4] The above [1], which contains α-SiC and β-SiC, and the content ratio of the β-SiC with respect to the total of the α-SiC and the β-SiC is 5% by mass or more and less than 100% by mass The silicon carbide based porous material according to [2].

[5]前記β−SiCの少なくとも一部の形状が、その粒子径が20μm以上の粒子状である前記[3]又は[4]に記載の炭化珪素質多孔体。 [5] The silicon carbide based porous material according to [3] or [4], wherein at least a part of the β-SiC has a particle size of 20 μm or more.

[6]前記金属珪化物が、ニッケルシリサイドである前記[1]〜[5]のいずれかに記載の炭化珪素質多孔体。 [6] The silicon carbide based porous material according to any one of [1] to [5], wherein the metal silicide is nickel silicide.

[7]熱伝導率が、5〜50W/mKである前記[1]〜[6]のいずれかに記載の炭化珪素質多孔体。 [7] The silicon carbide based porous material according to any one of [1] to [6], wherein the thermal conductivity is 5 to 50 W / mK.

[8]前記[1]〜[7]のいずれかに記載の炭化珪素質多孔体からなる、隔壁で区画された複数のセルを有するハニカム形状のハニカム構造体。 [8] A honeycomb-shaped honeycomb structure having a plurality of cells partitioned by partition walls, comprising the silicon carbide based porous material according to any one of [1] to [7].

[9]前記[1]〜[7]のいずれかに記載の炭化珪素質多孔体からなる、隔壁で区画された複数のセルを有するハニカム形状のセグメントを、複数個組み合わせて接合一体化するとともに、所定の前記セルの開口部を前記セグメントの一方の端面で目封止し、残余の前記セルの開口部を前記セグメントの他方の端面で目封止してなるハニカム構造体。 [9] While combining and integrating a plurality of honeycomb-shaped segments having a plurality of cells partitioned by partition walls, which are made of the silicon carbide based porous material according to any one of [1] to [7]. A honeycomb structure obtained by plugging a predetermined opening of the cell with one end face of the segment and plugging the remaining opening of the cell with the other end face of the segment.

[10]ディーゼル排ガス浄化用のフィルターとして用いられる前記[8]又は[9]に記載のハニカム構造体。 [10] The honeycomb structure according to [8] or [9], which is used as a filter for purifying diesel exhaust gas.

[11]金属、珪素、炭素及びホウ素(B)原料を含む原料混合物を所定形状に成形し、脱脂、及び焼成して、金属珪化物を1〜35質量%、ホウ素(B)を酸化ホウ素(B)換算で0.1〜10質量%それぞれ含有し、気孔率が38〜80%である炭化珪素質多孔体を得る炭化珪素質多孔体の製造方法。 [11] A raw material mixture containing metal, silicon, carbon, and boron (B) raw materials is formed into a predetermined shape, degreased, and fired to obtain 1 to 35% by mass of metal silicide and boron (B) to boron oxide ( B 2 O 3), respectively 0.1 to 10% contained in terms of the method for manufacturing the silicon carbide based porous material porosity to obtain a silicon carbide-based porous body is 38 to 80%.

[12]前記原料混合物が、更にα−SiC原料を含む前記[11]に記載の炭化珪素質多孔体の製造方法。 [12] The method for producing a silicon carbide based porous material according to [11], wherein the raw material mixture further includes an α-SiC raw material.

[13]アルゴン(Ar)雰囲気又は真空雰囲気下において、1250〜1800℃で焼成する前記[11]又は[12]に記載の炭化珪素質多孔体の製造方法。 [13] The method for producing a silicon carbide based porous material according to [11] or [12], wherein firing is performed at 1250 to 1800 ° C. in an argon (Ar) atmosphere or a vacuum atmosphere.

[14]前記ホウ素(B)原料が、金属Bである前記[11]〜[13]のいずれかに記載の炭化珪素質多孔体の製造方法。 [14] The method for producing a silicon carbide based porous material according to any one of [11] to [13], wherein the boron (B) raw material is metal B.

[15]前記原料混合物を、隔壁で区画された複数のセルを有するハニカム形状に成形する前記[11]〜[14]のいずれかに記載の炭化珪素質多孔体の製造方法。 [15] The method for producing a silicon carbide based porous material according to any one of [11] to [14], wherein the raw material mixture is formed into a honeycomb shape having a plurality of cells partitioned by partition walls.

本発明の炭化珪素質多孔体は、高気孔率でありながらも高強度であり、熱伝導率が高く耐熱衝撃性に優れ、比較的低温で焼結させることで製造可能であるといった効果を奏するものである。   The silicon carbide based porous material of the present invention has an effect that it has a high strength even though it has a high porosity, a high thermal conductivity, excellent thermal shock resistance, and can be produced by sintering at a relatively low temperature. Is.

本発明のハニカム構造体は、高気孔率でありながらも高強度であり、熱伝導率が高く耐熱衝撃性に優れ、比較的低温で焼結させることで製造可能であるといった効果を奏するものである。このため、本発明のハニカム構造体は、ディーゼル排ガス浄化用のフィルター(DPF)等として好適である。   The honeycomb structure of the present invention has high porosity and high strength, high thermal conductivity, excellent thermal shock resistance, and can be manufactured by sintering at a relatively low temperature. is there. For this reason, the honeycomb structure of the present invention is suitable as a diesel exhaust gas purifying filter (DPF) or the like.

本発明の炭化珪素質多孔体の製造方法によれば、高気孔率でありながらも高強度であり、熱伝導率が高く耐熱衝撃性に優れた炭化珪素質多孔体を、比較的低温で焼結させることで簡便に製造することができる。   According to the method for producing a silicon carbide based porous material of the present invention, a silicon carbide based porous material having high porosity but high strength, high thermal conductivity and excellent thermal shock resistance is sintered at a relatively low temperature. It can manufacture simply by making it tie.

以下、本発明の実施の最良の形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、以下の実施の形態に対し適宜変更、改良等が加えられたものも本発明の範囲に入ることが理解されるべきである。   BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The best mode for carrying out the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following embodiment, and is based on the ordinary knowledge of those skilled in the art without departing from the gist of the present invention. It should be understood that modifications and improvements as appropriate to the following embodiments also fall within the scope of the present invention.

1.炭化珪素質多孔体:
本発明の炭化珪素質多孔体の一実施形態は、金属珪化物を1〜35質量%、ホウ素(B)を酸化ホウ素(B)換算で0.1〜10質量%それぞれ含有し、気孔率が38〜80%のものである。以下、その詳細について説明する。
1. Silicon carbide based porous material:
One embodiment of the silicon carbide based porous material of the present invention contains 1 to 35% by mass of metal silicide and 0.1 to 10% by mass of boron (B) in terms of boron oxide (B 2 O 3 ), The porosity is 38 to 80%. The details will be described below.

(金属珪化物)
金属珪化物(以下、「金属シリサイド」ともいう)とは、金属とシリコン(Si)の反応生成物である。本発明の炭化珪素質多孔体には、この金属シリサイドが所定の割合で含有されているために熱伝導率が高く、優れた耐熱衝撃性を示す。また、後述する製造方法に従って本発明の炭化珪素質多孔体を製造すると、珪素と炭素の反応によって炭化珪素が形成される過程で、金属がその反応に作用し、反応により生成する炭化珪素の粒径や形状等に影響を与えると推測される。このため、連通性の高い気孔構造を有する炭化珪素質多孔体を形成することができるものと考えられる。
(Metal silicide)
Metal silicide (hereinafter also referred to as “metal silicide”) is a reaction product of metal and silicon (Si). The silicon carbide based porous material of the present invention contains this metal silicide in a predetermined ratio, and therefore has high thermal conductivity and excellent thermal shock resistance. In addition, when the silicon carbide based porous body of the present invention is manufactured according to the manufacturing method described later, the silicon acts on the reaction in the process of forming silicon carbide by the reaction of silicon and carbon, and the silicon carbide particles generated by the reaction It is presumed to affect the diameter and shape. For this reason, it is considered that a silicon carbide based porous material having a highly porous structure can be formed.

本発明の炭化珪素質多孔体に含有される金属シリサイドの割合は、炭化珪素質多孔体の全体を100質量%とした場合に、下限は、1質量%以上、好ましくは2質量%以上、更に好ましくは3質量%以上であり、上限は、35質量%以下、好ましくは33質量%以下、更に好ましくは30質量%以下である。金属シリサイドの含有割合が1質量%未満であると、熱伝導率が十分に高くならず、耐熱衝撃性の向上効果が不十分である。また、気孔の連通性が低下する。一方、金属シリサイドの含有割合が30質量%超であると、熱膨張係数が高くなる傾向にあり、耐熱衝撃性が低下する場合がある。   The ratio of the metal silicide contained in the silicon carbide based porous material of the present invention is 1% by weight or more, preferably 2% by weight or more, when the entire silicon carbide based porous material is 100% by weight. Preferably it is 3 mass% or more, and an upper limit is 35 mass% or less, Preferably it is 33 mass% or less, More preferably, it is 30 mass% or less. When the content ratio of the metal silicide is less than 1% by mass, the thermal conductivity is not sufficiently high, and the effect of improving the thermal shock resistance is insufficient. In addition, the pore connectivity is reduced. On the other hand, if the content ratio of the metal silicide is more than 30% by mass, the thermal expansion coefficient tends to be high, and the thermal shock resistance may be lowered.

好適な金属シリサイドの具体的な種類としては、例えば、ニッケルシリサイド、ジルコニウムシリサイド、鉄シリサイド、チタンシリサイド、タングステンシリサイド等を挙げることができる。なかでも、ニッケルシリサイド、及びジルコニウムシリサイドが、熱伝導率をより高くすることが可能となるため、また、連通性の高い気孔構造が得られるために更に好ましく、ニッケルシリサイドが特に好ましい。   Specific examples of suitable metal silicides include nickel silicide, zirconium silicide, iron silicide, titanium silicide, tungsten silicide, and the like. Among these, nickel silicide and zirconium silicide are more preferable because thermal conductivity can be further increased, and a highly porous structure can be obtained, and nickel silicide is particularly preferable.

金属シリサイドは、種々の化学式で表される化合物である。例えば、ニッケルシリサイドについては、NiSi、NiSi、NiSi、NiSi、NiSi等の化学式で表されるものがある。なかでも、耐熱性の観点からはNiSiが好ましい。また、ジルコニウムシリサイドについては、ZrSi、ZrSi、ZrSi、ZrSi、ZrSi、ZrSi、ZrSi、ZrSi等の化学式で表されるものがある。なかでも、耐熱性の観点からはZrSiが好ましい。 Metal silicide is a compound represented by various chemical formulas. For example, some nickel silicides are represented by chemical formulas such as Ni 3 Si, Ni 5 Si 2 , Ni 2 Si, NiSi, and NiSi 2 . Among these, NiSi 2 is preferable from the viewpoint of heat resistance. Zirconium silicide includes those represented by chemical formulas such as Zr 3 Si, Zr 2 Si, Zr 5 Si 3 , Zr 3 Si 2 , Zr 5 Si 4 , Zr 6 Si 5 , ZrSi, and ZrSi 2 . Of these, ZrSi 2 is preferable from the viewpoint of heat resistance.

(ホウ素)
後述する製造方法に従って本発明の炭化珪素質多孔体を製造すると、B(ホウ素)原料として添加されたBは、原料混合物中の珪素(シリコン(Si))と炭素(C)とのSiC化反応やSiCの焼結反応を促進し、これにより生成するSiCの粒成長が促されて太いSiC骨格が形成され、フィルター特性、特に強度と熱伝導率が向上する。具体的には、Bを添加しない場合に比べて、2倍以上の粒成長が見られる。
(Boron)
When the silicon carbide based porous material of the present invention is manufactured according to the manufacturing method described later, B added as a B (boron) raw material is converted into a SiC reaction between silicon (silicon (Si)) and carbon (C) in the raw material mixture. Further, the SiC sintering reaction is promoted, and thereby the grain growth of the generated SiC is promoted to form a thick SiC skeleton, and the filter characteristics, particularly the strength and the thermal conductivity are improved. Specifically, the grain growth is twice or more as compared with the case where B is not added.

本発明の炭化珪素質多孔体に含有されるBの割合は、炭化珪素質多孔体の全体を100質量%とした場合に、B換算で、下限が、0.1質量%以上、好ましくは0.2質量%以上、更に好ましくは0.3質量%以上であり、上限が、10質量%以下、好ましくは9質量%以下、更に好ましくは8質量%以下である。B換算でのBの含有割合が0.1質量%未満であると、前記製造方法におけるB量が十分とは言えず、SiCの粒成長促進効果が不十分である。一方、B換算でのBの含有割合が10質量%超であると、逆に粒成長が抑制されることがある。 The ratio of B contained in the silicon carbide based porous material of the present invention is such that the lower limit is 0.1% by mass or more in terms of B 2 O 3 when the entire silicon carbide based porous material is 100% by mass. Preferably it is 0.2 mass% or more, More preferably, it is 0.3 mass% or more, and an upper limit is 10 mass% or less, Preferably it is 9 mass% or less, More preferably, it is 8 mass% or less. If the B content in terms of B 2 O 3 is less than 0.1% by mass, the amount of B in the production method cannot be said to be sufficient, and the effect of promoting the grain growth of SiC is insufficient. On the other hand, when the content ratio of B in terms of B 2 O 3 is more than 10% by mass, grain growth may be suppressed.

(炭化珪素)
本発明の炭化珪素質多孔体は、炭化珪素をその主成分とするものである。炭化珪素にはα−SiC、β−SiCという多形が存在するが、本発明の炭化珪素質多孔体は、含有される炭化珪素が全てβ−SiCであるか、α−SiCとβ−SiCの両方を含有するものであることが好ましい。α−SiCとβ−SiCの両方を含有するものである場合には、α−SiCとβ−SiCの合計に対する、β−SiCの含有割合は、下限が、好ましくは5質量%以上、更に好ましくは10質量%以上、特に好ましくは15質量%以上であり、上限が、好ましくは100質量%未満、更に好ましくは80質量%以下、特に好ましくは50質量%以下である。β−SiCの含有割合が上記数値範囲内であると、強度を十分なものとすることができる。なお、β−SiCの含有割合が5質量%未満であると、強度が不十分となる傾向にある。
(Silicon carbide)
The silicon carbide based porous material of the present invention has silicon carbide as its main component. Silicon carbide has polymorphs such as α-SiC and β-SiC, but the silicon carbide based porous material of the present invention has all the silicon carbide contained in β-SiC or α-SiC and β-SiC. It is preferable that both are contained. In the case of containing both α-SiC and β-SiC, the lower limit of the content ratio of β-SiC to the total of α-SiC and β-SiC is preferably 5% by mass or more, and more preferably Is 10% by mass or more, particularly preferably 15% by mass or more, and the upper limit is preferably less than 100% by mass, more preferably 80% by mass or less, and particularly preferably 50% by mass or less. When the content ratio of β-SiC is within the above numerical range, the strength can be made sufficient. In addition, it exists in the tendency for intensity | strength to become inadequate that the content rate of (beta) -SiC is less than 5 mass%.

本発明の炭化珪素質多孔体を構成する炭化珪素には、通常、少なくとも一部のβ−SiCは粒子の状態で含まれている。この粒子状のβ−SiCの粒子径(以下、単に「粒径」ともいう)は、20μm以上であることが好ましく、25μm以上であることが更に好ましく、30μm以上であることが特に好ましい。β−SiCの粒径が20μm以上であると、強度を十分なものとすることができる。なお、β−SiCの粒径の上限値については特に限定されないが、実質的な製造可能性等の観点からは100μm以下である。ここで、本明細書にいう「β−SiCの粒子径」とは、炭化珪素質多孔体の任意の断面を電子顕微鏡で観察した場合に、任意の倍率(例えば500倍あるいは1000倍)の任意の視野において最大のβ−SiCの粒径(最大長:粒子画像の輪郭上の2点における最大の長さ)を測定し、これを複数回(例えば20回)繰り返し、各視野での最大のβ−SiC粒径の合計を視野数で割って得られた値をいう。   The silicon carbide constituting the silicon carbide based porous material of the present invention usually contains at least a part of β-SiC in the form of particles. The particle size of the particulate β-SiC (hereinafter also simply referred to as “particle size”) is preferably 20 μm or more, more preferably 25 μm or more, and particularly preferably 30 μm or more. When the particle diameter of β-SiC is 20 μm or more, the strength can be made sufficient. The upper limit of the particle size of β-SiC is not particularly limited, but is 100 μm or less from the viewpoint of substantial manufacturability and the like. Here, the “β-SiC particle size” referred to in the present specification is an arbitrary magnification (for example, 500 times or 1000 times) when an arbitrary cross section of the silicon carbide based porous material is observed with an electron microscope. The maximum β-SiC particle size (maximum length: the maximum length at two points on the contour of the particle image) is measured and repeated this several times (for example, 20 times). The value obtained by dividing the total β-SiC particle size by the number of fields of view.

(気孔率)
後述する製造方法に従って製造される炭化珪素質多孔体は、珪素と炭素の反応によって炭化珪素が形成される過程で、金属がその反応に作用し、反応により生成する炭化珪素の粒径や形状等に影響を与えると推測される。このため、結果として形成される気孔は、開気孔となり易い。また気孔率は調合組成(特に、珪素の割合)に影響を受け易い。本発明の炭化珪素質多孔体の気孔率は広い範囲で制御可能であり、具体的には、下限が、38%以上、好ましくは40%以上、更に好ましくは45%以上であり、上限が、80%以下、好ましくは75%以下、更に好ましくは70%以下である。気孔率が38%未満であるとガス透過係数が小さくなり、ガスを透過させる場合において生ずる圧力損失が大きくなる。一方、気孔率が80%超であると強度が低下する。なお、本明細書にいう「気孔率」とは、アルキメデス法(JIS R 1634準拠)によって測定した値をいう。
(Porosity)
The silicon carbide based porous material manufactured according to the manufacturing method described later is a process in which silicon carbide is formed by the reaction of silicon and carbon, the metal acts on the reaction, and the particle size and shape of silicon carbide produced by the reaction It is speculated that it will affect. For this reason, the resulting pores are likely to be open pores. The porosity is easily affected by the composition of the composition (particularly the proportion of silicon). The porosity of the silicon carbide based porous material of the present invention can be controlled in a wide range. Specifically, the lower limit is 38% or more, preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and the upper limit is 80% or less, preferably 75% or less, more preferably 70% or less. When the porosity is less than 38%, the gas permeation coefficient decreases, and the pressure loss that occurs when the gas permeates increases. On the other hand, if the porosity exceeds 80%, the strength decreases. The “porosity” referred to in this specification refers to a value measured by the Archimedes method (based on JIS R 1634).

(熱伝導率)
本発明の炭化珪素質多孔体は、金属シリサイドが所定の割合で含有されているために熱伝導率が高く、優れた耐熱衝撃性を示すものである。具体的には、本発明の炭化珪素質多孔体の熱伝導率は、下限が、好ましくは5W/mK以上、更に好ましくは7W/mK以上、特に好ましくは10W/mK以上であり、上限が、50W/mK以下であることが好ましい。熱伝導率が5W/mK未満であると、耐熱衝撃性が低下する傾向にある。一方、熱伝導率が50W/mK超であると、特に問題はないが、実質的には製造が困難である。
(Thermal conductivity)
The silicon carbide based porous material of the present invention contains a metal silicide at a predetermined ratio, and therefore has high thermal conductivity and excellent thermal shock resistance. Specifically, the lower limit of the thermal conductivity of the silicon carbide based porous material of the present invention is preferably 5 W / mK or more, more preferably 7 W / mK or more, particularly preferably 10 W / mK or more, and the upper limit is It is preferable that it is 50 W / mK or less. If the thermal conductivity is less than 5 W / mK, the thermal shock resistance tends to decrease. On the other hand, if the thermal conductivity is more than 50 W / mK, there is no particular problem, but it is substantially difficult to manufacture.

(強度)
本発明の炭化珪素質多孔体は、所定の割合で含有されたホウ素により、製造時にSiC粒子の粒成長が促されるため、高気孔率でありながらも優れた強度を示すものである。具体的には、本発明の炭化珪素質多孔体の強度は、下限が、好ましくは10MPa以上、更に好ましくは12MPa以上、特に好ましくは15MPa以上であり、上限が、好ましくは50MPa以下、更に好ましくは45MPa以下、特に好ましくは40MPa以下である。強度が10MPa未満では、DPF等に使用した場合において破損が生じる可能性がある。一方、強度が MPa超であると、特に問題はないが、DPF等のフィルターに必要な気孔率を確保しつつ、そのような強度のものを製造することは、実質的には困難である。なお、本明細書にいう「強度」とは、JIS R 1601に準拠した曲げ強度試験によって測定した値をいう。
(Strength)
Since the silicon carbide based porous material of the present invention promotes the grain growth of SiC particles at the time of production by boron contained at a predetermined ratio, it exhibits excellent strength while having high porosity. Specifically, the lower limit of the strength of the silicon carbide based porous material of the present invention is preferably 10 MPa or more, more preferably 12 MPa or more, particularly preferably 15 MPa or more, and the upper limit is preferably 50 MPa or less, more preferably. 45 MPa or less, particularly preferably 40 MPa or less. If the strength is less than 10 MPa, there is a possibility that breakage occurs when used for DPF or the like. On the other hand, if the strength exceeds MPa, there is no particular problem, but it is practically difficult to produce a product having such strength while ensuring the porosity required for a filter such as DPF. In addition, "strength" as used in this specification means the value measured by the bending strength test based on JISR1601.

2.炭化珪素質多孔体の製造方法:
次に、本発明の炭化珪素質多孔体の製造方法について説明する。本発明の炭化珪素質多孔体の製造方法の一実施形態は、金属、珪素、炭素及びホウ素(B)原料を含む原料混合物を所定形状に成形し、脱脂、及び焼成して、金属珪化物を1〜35質量%、ホウ素(B)を酸化ホウ素(B)換算で0.1〜10質量%それぞれ含有し、気孔率が38〜80%である炭化珪素質多孔体を得るものである。以下、その詳細について説明する。
2. Method for producing silicon carbide based porous material:
Next, the manufacturing method of the silicon carbide based porous material of the present invention will be described. In one embodiment of the method for producing a silicon carbide based porous material of the present invention, a raw material mixture containing metal, silicon, carbon and boron (B) raw materials is formed into a predetermined shape, degreased, and fired to obtain a metal silicide. 1 to 35% by mass, boron (B) is contained in an amount of 0.1 to 10% by mass in terms of boron oxide (B 2 O 3 ), and a silicon carbide based porous material having a porosity of 38 to 80% is obtained. is there. The details will be described below.

(金属)
金属は、珪素(シリコン(Si))と反応して金属シリサイドを生成し得る成分である。また、原料混合物に金属を含有させることによって、珪素と炭素の反応によって炭化珪素が形成される過程で、金属がその反応に作用し、反応により生成する炭化珪素の粒径や形状等に影響を与えると推測される。このため、結果として形成される気孔は開気孔となり易い。また、気孔率は調合組成(特に、珪素の割合)に影響を受ける。このため、本発明の炭化珪素質多孔体の製造方法によれば、広い範囲で気孔率を制御可能である。
(metal)
A metal is a component that can react with silicon (silicon (Si)) to form a metal silicide. In addition, by including a metal in the raw material mixture, in the process of forming silicon carbide by the reaction of silicon and carbon, the metal acts on the reaction and affects the particle size and shape of the silicon carbide produced by the reaction. Presumed to give. For this reason, the resulting pores are likely to be open pores. In addition, the porosity is affected by the preparation composition (particularly the proportion of silicon). For this reason, according to the manufacturing method of the silicon carbide based porous material of the present invention, the porosity can be controlled in a wide range.

金属の種類は、珪素(シリコン(Si))と反応して金属シリサイドを生成し得るものであれば特に限定されない。好適な金属の具体例としては、ニッケル(Ni)、ジルコニウム(Zr)、鉄(Fe)、チタン(Ti)、タングステン(W)等を挙げることができる。なかでも、ニッケル(Ni)、ジルコニウム(Zr)が好ましく、ニッケル(Ni)が更に好ましい。なお、これらの金属は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。また、金属単体以外にも、これらの金属を含む金属化合物を使用することもできる。   The type of metal is not particularly limited as long as it can react with silicon (silicon (Si)) to generate metal silicide. Specific examples of suitable metals include nickel (Ni), zirconium (Zr), iron (Fe), titanium (Ti), tungsten (W) and the like. Of these, nickel (Ni) and zirconium (Zr) are preferable, and nickel (Ni) is more preferable. In addition, these metals can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Moreover, the metal compound containing these metals can also be used besides a metal simple substance.

金属は、通常、粉末状(粒子状)のものを用いる。粉末状の金属(金属粉末)を用いる場合、シリコン(Si)との反応性の観点から、金属粉末の粒径は、下限が、好ましくは1μm以上、更に好ましくは2μm以上であり、上限が、好ましくは100μm以下、更に好ましくは80μm以下である。   As the metal, a powder (particulate) is usually used. When using powdered metal (metal powder), from the viewpoint of reactivity with silicon (Si), the lower limit of the particle size of the metal powder is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more, and the upper limit is Preferably it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 80 micrometers or less.

(珪素)
珪素(シリコン(Si))は、前述の金属と反応して金属シリサイドを生成し得る成分であるとともに、後述の炭素(C)と反応して炭化珪素を生成し得る成分である。シリコン(Si)は、通常、粉末状(粒子状)のものを用いる。粉末状のシリコン(シリコン粉末)を用いる場合、金属との反応性の観点から、シリコン粉末の粒径は、下限が、好ましくは1μm以上、更に好ましくは2μm以上であり、上限が、好ましくは100μm以下、更に好ましくは80μm以下である。
(silicon)
Silicon (silicon (Si)) is a component capable of generating metal silicide by reacting with the above-described metal, and a component capable of generating silicon carbide by reacting with carbon (C) described later. Silicon (Si) is usually used in the form of powder (particulate). When powdered silicon (silicon powder) is used, the lower limit of the particle size of the silicon powder is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more, and the upper limit is preferably 100 μm from the viewpoint of reactivity with metal. Hereinafter, it is more preferably 80 μm or less.

(炭素)
炭素(C)は、前述のシリコン(Si)と反応して炭化珪素を生成し得る成分である。炭素(C)は、通常、粉末状(粒子状)のものを用いる。粉末状の炭素(炭素粉末)を用いる場合、シリコン(Si)との反応性の観点から、炭素粉末の粒径は、下限が、好ましくは5nm以上、更に好ましくは10nm以上であり、上限が、好ましくは50μm以下、更に好ましくは30μm以下である。このような微粒の炭素粉末としては、カーボンブラックが好適に使用できる。また、シリコン(Si)との反応性の観点から黒鉛(グラファイト)のような結晶質ではなく、非晶質の炭素を用いることが好ましい。
(carbon)
Carbon (C) is a component that can react with the aforementioned silicon (Si) to produce silicon carbide. Carbon (C) is usually used in the form of powder (particulate). When using powdered carbon (carbon powder), from the viewpoint of reactivity with silicon (Si), the particle size of the carbon powder has a lower limit of preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, and an upper limit of Preferably it is 50 micrometers or less, More preferably, it is 30 micrometers or less. As such fine carbon powder, carbon black can be suitably used. Further, from the viewpoint of reactivity with silicon (Si), it is preferable to use amorphous carbon rather than crystalline such as graphite.

(ホウ素原料)
ホウ素(B)には、原料混合物中の珪素(シリコン(Si))と炭素(C)とのSiC化反応や焼結反応を促進する作用があり、これによりSiC化反応で生成されるSiCの粒成長が促されて太いSiC骨格が形成され、フィルター特性、特に強度と熱伝導率が向上する。ホウ素(B)原料としては、金属ホウ素の他、炭化ホウ素(BC)や酸化ホウ素(B)等のホウ素化合物も使用することができる。
(Boron raw material)
Boron (B) has the effect of promoting the SiC-forming reaction and sintering reaction between silicon (silicon (Si)) and carbon (C) in the raw material mixture, and thereby the SiC produced by the SiC-forming reaction. Grain growth is promoted to form a thick SiC skeleton, and filter characteristics, particularly strength and thermal conductivity, are improved. As a boron (B) raw material, boron compounds such as boron carbide (B 4 C) and boron oxide (B 2 O 3 ) can be used in addition to metal boron.

(α−SiC原料)
原料混合物には、更にα−SiC原料が含まれることが好ましい。α−SiC原料としては、粒子状のα−SiCを好適に用いることができる。粒子状のα−SiCの平均粒子径は、下限が、好ましくは5μm以上、更に好ましくは10μm以上であり、上限が、好ましくは100μm以下、更に好ましくは80μm以下である。粒子状のα−SiCの平均粒子径が5μm未満であると、熱伝導率等の熱特性が低下する傾向にある。一方、粒子状のα−SiCの平均粒子径が100μm超であると、特に問題はないが、成形し難い場合がある。なお、本明細書にいう「平均粒子径」は、JIS R 1629に準拠したレーザー回折散乱法によって粒度分布測定した値であり、体積基準の平均粒子径である。
(Α-SiC raw material)
The raw material mixture preferably further contains an α-SiC raw material. As the α-SiC raw material, particulate α-SiC can be suitably used. The lower limit of the average particle diameter of the particulate α-SiC is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and the upper limit is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less. When the average particle diameter of the particulate α-SiC is less than 5 μm, thermal characteristics such as thermal conductivity tend to be lowered. On the other hand, when the average particle diameter of the particulate α-SiC is more than 100 μm, there is no particular problem, but it may be difficult to mold. The “average particle size” referred to in the present specification is a value obtained by measuring the particle size distribution by a laser diffraction scattering method in accordance with JIS R 1629, and is a volume-based average particle size.

(原料混合物)
原料混合物に配合する成分としては、上述した金属、珪素、炭素、ホウ素原料及びα−SiC原料以外にも、例えば、有機又は無機バインダー、造孔剤、界面活性剤(或いは分散剤)、及び水等を挙げることができる。有機又は無機バインダーの具体例としては、メチルセルロース、ヒドロキシプロポキシルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。
(Raw material mixture)
In addition to the metal, silicon, carbon, boron raw material, and α-SiC raw material described above, for example, an organic or inorganic binder, a pore-forming agent, a surfactant (or dispersant), and water are included in the raw material mixture. Etc. Specific examples of the organic or inorganic binder include methyl cellulose, hydroxypropoxyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and polyvinyl alcohol.

造孔剤の具体例としては、グラファイト、小麦粉、澱粉、フェノール樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、発泡樹脂(アクリロニトリル系プラスチックバルーン)、吸水性樹脂等を挙げることができる。また、界面活性剤(あるいは分散剤)の具体例としては、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルフォン酸塩、アルキルリン酸塩、ポリカルボン酸塩、脂肪族四級アンモニウム塩、脂肪族アミン塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルコールエーテル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン(又はソルビトール)脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、アルキルベタイン、アミンオキサイド、カチオン性セルロース誘導体、ポリエチレンイミン、ポリカルボン酸塩、ポリアクリル酸塩等を挙げることができる。   Specific examples of the pore-forming agent include graphite, wheat flour, starch, phenol resin, polymethyl methacrylate, polyethylene, polyethylene terephthalate, foamed resin (acrylonitrile plastic balloon), water-absorbing resin, and the like. Specific examples of surfactants (or dispersants) include fatty acid salts, alkyl sulfate esters, polyoxyethylene alkyl ether sulfate esters, alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl sulfosuccinates, alkyls. Diphenyl ether disulfonate, alkyl phosphate, polycarboxylate, aliphatic quaternary ammonium salt, aliphatic amine salt, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alcohol ether, polyoxyethylene glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene Sorbitan (or sorbitol) fatty acid ester, polyethylene glycol fatty acid ester, alkylbetaine, amine oxide, cationic cellulose derivative, polyethyleneimine, polycarboxylic Salts, may be mentioned polyacrylic acid salts.

原料混合物を混合及び混錬して可塑性の坏土とし、この坏土を所定の形状となるように成形して成形体を得る。成形体の形状は特に限定されず、用途に応じた種々の形状とすることができる。但し、ディーゼル排ガス浄化用のフィルター等として用いる場合には、隔壁で区画された複数のセルを有するハニカム形状とすることが好ましい。坏土をこのようなハニカム形状に成形するには、例えば押出成形等の成形方法を採用することが好ましい。   The raw material mixture is mixed and kneaded to form a plastic clay, and this clay is molded into a predetermined shape to obtain a molded body. The shape of the molded body is not particularly limited, and can be various shapes depending on applications. However, when it is used as a diesel exhaust gas purification filter or the like, it is preferably a honeycomb shape having a plurality of cells partitioned by partition walls. In order to form the clay into such a honeycomb shape, it is preferable to employ a forming method such as extrusion.

得られた成形体を、適当な乾燥方法によって乾燥した後、焼成すれば、本発明の実施形態である炭化珪素質多孔体を製造することができる。乾燥方法は特に限定されないが、例えばマイクロ波、熱風等を用いる乾燥方法が好ましい。なお、得られる炭化珪素質多孔体に含まれる炭化珪素には、通常、低温相であるβ−SiCが含有されるため、焼成温度を比較的低くすることができる。具体的には、焼成温度は1250〜1800℃であることが好ましく、1300〜1750℃であることが更に好ましく、1350〜1700℃であることが特に好ましい。焼成温度が1250℃未満であると、焼結が十分に進行しない場合がある。一方、焼成温度が1800℃超であると、特殊な焼成炉が必要となる場合があるとともに、コストや製造歩留まりの面で不利になる傾向にある。焼成は、不活性雰囲気が好ましく、アルゴン(Ar)雰囲気又は真空雰囲気で行うことが更に好ましく、特に真空雰囲気で焼成を行った場合には、骨材であるSiC(α−SiC)と、金属珪化物や反応で生成するSiC(β−SiC)との結合が強固になる。   If the obtained molded body is dried by an appropriate drying method and then baked, a silicon carbide based porous body which is an embodiment of the present invention can be produced. The drying method is not particularly limited, but for example, a drying method using microwaves, hot air or the like is preferable. In addition, since the silicon carbide contained in the obtained silicon carbide based porous body usually contains β-SiC that is a low-temperature phase, the firing temperature can be made relatively low. Specifically, the firing temperature is preferably 1250 to 1800 ° C, more preferably 1300 to 1750 ° C, and particularly preferably 1350 to 1700 ° C. If the firing temperature is less than 1250 ° C., sintering may not proceed sufficiently. On the other hand, if the firing temperature is higher than 1800 ° C., a special firing furnace may be required, and it tends to be disadvantageous in terms of cost and production yield. Firing is preferably performed in an inert atmosphere, more preferably performed in an argon (Ar) atmosphere or a vacuum atmosphere. Particularly when firing is performed in a vacuum atmosphere, the aggregate SiC (α-SiC) and metal silicidation are used. Bonding with SiC (β-SiC) generated by a product or reaction is strengthened.

成形体を乾燥した後、焼成する前に、成形体中の有機物(バインダー、分散剤、造孔剤等)を燃焼させて除去するための、仮焼(脱脂、脱バインダー等ともいう)を適宜行うことができる。一般に、有機バインダーの燃焼温度は100〜300℃程度、造孔剤の燃焼温度200〜800℃程度であるので、仮焼温度は200〜1000℃程度とすればよい。仮焼時間としては特に制限はないが、通常は、1〜10時間程度である。雰囲気は大気雰囲気、窒素雰囲気等適宜選択できる。   After drying the molded body and before firing, appropriately calcination (also referred to as degreasing, debinding, etc.) to burn and remove organic substances (binder, dispersant, pore former, etc.) in the molded body It can be carried out. In general, the combustion temperature of the organic binder is about 100 to 300 ° C., and the combustion temperature of the pore former is about 200 to 800 ° C. Therefore, the calcining temperature may be about 200 to 1000 ° C. Although there is no restriction | limiting in particular as a calcination time, Usually, it is about 1 to 10 hours. The atmosphere can be selected as appropriate, such as an air atmosphere or a nitrogen atmosphere.

3.ハニカム構造体:
次に、本発明のハニカム構造体について説明する。図1は、本発明のハニカム構造体の一実施形態を示す斜視図である。図1に示すように、本実施形態のハニカム構造体11は、多孔質の隔壁16で区画形成された複数のセル15を有するものである。セル15は、気体、液体等の各種流体の流路となる部分である。なお、図1中、符号10はハニカム構造体1の外壁を示す。本実施形態のハニカム構造体11は、前述の炭化珪素質多孔体によって構成されたものである。このため、本実施形態のハニカム構造体11は、高気孔率でありながらも高強度であり、熱伝導率が高く耐熱衝撃性に優れたものである。また、比較的低温で焼結させることで製造可能なものである。
3. Honeycomb structure:
Next, the honeycomb structure of the present invention will be described. FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the honeycomb structure of the present invention. As shown in FIG. 1, the honeycomb structure 11 of the present embodiment has a plurality of cells 15 partitioned by porous partition walls 16. The cell 15 is a portion serving as a flow path for various fluids such as gas and liquid. In FIG. 1, reference numeral 10 indicates an outer wall of the honeycomb structure 1. The honeycomb structure 11 of the present embodiment is constituted by the above-mentioned silicon carbide porous body. For this reason, the honeycomb structure 11 of the present embodiment has high strength while having high porosity, high thermal conductivity, and excellent thermal shock resistance. It can also be manufactured by sintering at a relatively low temperature.

図2は、本発明のハニカム構造体の他の実施形態を示す斜視図である。また、図3は、図2に示すハニカム構造体の要部拡大図である。図2及び図3に示すハニカム構造体1は、ハニカムセグメント2が、接合材組成物で形成された接合材層9によって一体的に接合されたものである。このハニカムセグメント2は、多孔質の隔壁6によって区画形成された複数のセル5が中心軸方向に互いに並行するように配設された構造を有するものであり、それぞれがハニカム構造体1の全体構造の一部を構成するとともに、ハニカム構造体1の中心軸に対して垂直な方向に組み付けられることによって、ハニカム構造体1の全体構造を構成している。   FIG. 2 is a perspective view showing another embodiment of the honeycomb structure of the present invention. FIG. 3 is an enlarged view of a main part of the honeycomb structure shown in FIG. A honeycomb structure 1 shown in FIGS. 2 and 3 is obtained by integrally bonding honeycomb segments 2 with a bonding material layer 9 formed of a bonding material composition. The honeycomb segment 2 has a structure in which a plurality of cells 5 defined by porous partition walls 6 are arranged so as to be parallel to each other in the central axis direction. And the whole structure of the honeycomb structure 1 is configured by being assembled in a direction perpendicular to the central axis of the honeycomb structure 1.

接合材層9によって一体的に接合されたハニカムセグメント2は、接合後、流路(セル5)に直交する断面の全体形状が円形、楕円形、三角形、正方形、その他の所望の形状となるように研削加工され、外周面がコーティング材4によって被覆される。なお、このハニカム構造体1をDPFとして用いる場合には、図4に示すように、ハニカムセグメント2の各セル5を、それぞれ一方の端部において充填材7により交互に目封止する。   The honeycomb segments 2 integrally bonded by the bonding material layer 9 are bonded so that the overall shape of the cross section perpendicular to the flow path (cell 5) is circular, elliptical, triangular, square, or other desired shape. The outer peripheral surface is covered with the coating material 4. When this honeycomb structure 1 is used as a DPF, each cell 5 of the honeycomb segment 2 is alternately plugged with a filler 7 at one end as shown in FIG.

所定のセル5(流入セル)においては、図4及び図5における左端部側が開口している一方、右端部側が充填材7によって目封止されており、これと隣接する他のセル5(流出セル)においては、左端部側が充填材7によって目封止されるが、右端部側が開口している。このような目封止により、図3に示すように、ハニカムセグメント2の端面が市松模様状を呈するようになる。   In the predetermined cell 5 (inflow cell), the left end side in FIG. 4 and FIG. 5 is open, while the right end side is plugged with the filler 7, and another cell 5 (outflow) adjacent to this is filled. In the cell), the left end side is plugged with the filler 7, but the right end side is open. By such plugging, as shown in FIG. 3, the end surface of the honeycomb segment 2 has a checkered pattern.

図5においては、ハニカムセグメント2の左側が排ガスの入口となる場合を示し、排ガスは、目封止されることなく開口しているセル5(流入セル)からハニカムセグメント2内に流入する。セル5(流入セル)に流入した排ガスは、多孔質の隔壁6を通過して他のセル5(流出セル)から流出する。そして、隔壁6を通過する際に排ガス中のスートを含む粒子状物質(パティキュレート)が隔壁6に捕捉される。このようにして、排ガスの浄化を行うことができる。このような捕捉によって、ハニカムセグメント2の内部にはスートを含むパティキュレートが経時的に堆積して圧力損失が大きくなるため、スート等を燃焼させる再生処理が定期的に行われる。なお、図3〜図5には、流路(セル5)に直交する断面の全体形状が正方形のハニカムセグメント2を示すが、三角形、六角形等の形状であってもよい。   FIG. 5 shows a case where the left side of the honeycomb segment 2 serves as an exhaust gas inlet, and the exhaust gas flows into the honeycomb segment 2 from the open cells 5 (inflow cells) without being plugged. The exhaust gas flowing into the cell 5 (inflow cell) passes through the porous partition wall 6 and flows out from the other cell 5 (outflow cell). When passing through the partition walls 6, particulate matter (particulates) containing soot in the exhaust gas is captured by the partition walls 6. In this way, exhaust gas can be purified. Due to such trapping, particulates containing soot accumulate with time in the honeycomb segment 2 and the pressure loss increases, so that regeneration processing for burning soot and the like is periodically performed. 3 to 5 show the honeycomb segment 2 having a square cross section perpendicular to the flow path (cell 5), the shape may be a triangle, a hexagon, or the like.

また、セル5の断面形状も、図4に示すような四角形の他、三角形、六角形、円形、楕円形、その他の形状であってもよい。セル5の断面形状は単一である必要はなく、例えば、八角形と四角形との組み合わせ等も好適な実施態様であり、特に、流入セルを八角形、流出セルを四角形とすることが好ましい。このような組み合わせとすると、流入セルのパティキュレート堆積容量を増加させられる一方、再生時には大量の堆積パティキュレートが燃焼して大量の熱が発生するため、本願発明により得られる、熱伝導率が高く、耐熱衝撃性に優れた炭化珪素質多孔体が一層効果的となるからである。   Further, the cross-sectional shape of the cell 5 may be a triangle, a hexagon, a circle, an ellipse, or other shapes in addition to the square as shown in FIG. The cell 5 need not have a single cross-sectional shape. For example, a combination of an octagon and a quadrangle is a preferred embodiment. In particular, the inflow cell is preferably an octagon and the outflow cell is preferably a quadrangle. With such a combination, while the particulate deposition capacity of the inflow cell can be increased, a large amount of deposited particulates burns during regeneration, and a large amount of heat is generated. Therefore, the thermal conductivity obtained by the present invention is high. This is because a silicon carbide based porous material excellent in thermal shock resistance becomes more effective.

図3に示すように、接合材層9は、ハニカムセグメント2の外周面に接合材組成物が塗布されることで形成される層であり、隣接するハニカムセグメント2どうしを接合するように機能する。なお、接合材組成物としては、本発明の実施形態である炭化珪素質多孔体を製造するために用いる坏土と同様の組成のものを好適に用いることができる。   As shown in FIG. 3, the bonding material layer 9 is a layer formed by applying a bonding material composition to the outer peripheral surface of the honeycomb segment 2 and functions to bond adjacent honeycomb segments 2 together. . In addition, as a joining material composition, the thing of the composition similar to the clay used in order to manufacture the silicon carbide based porous body which is embodiment of this invention can be used suitably.

接合材組成物は、それぞれのハニカムセグメント2の外周面に塗布してもよいが、隣接するハニカムセグメント2の相互間においては、対応する外周面の一方に対してだけ塗布してもよい。このような対応面の片側だけへの塗布は、接合材組成物の使用量を節約できる点で好ましい。接合材組成物を塗布する方向は、ハニカムセグメント外周面内の長手方向、ハニカムセグメント外周面内の長手方向に垂直な方向、ハニカムセグメント外周面に垂直な方向など、特に限定されるものではないが、ハニカムセグメント外周面内の長手方向に向かって塗布するのが好ましい。接合材層9の厚さは、ハニカムセグメント2の相互間の接合力を勘案して決定され、例えば、0.5〜3.0mmの範囲で適宜選択される。   The bonding material composition may be applied to the outer peripheral surface of each honeycomb segment 2, but may be applied to only one of the corresponding outer peripheral surfaces between adjacent honeycomb segments 2. Such application to only one side of the corresponding surface is preferable in that the amount of the bonding material composition used can be saved. The direction in which the bonding material composition is applied is not particularly limited, such as the longitudinal direction in the outer peripheral surface of the honeycomb segment, the direction perpendicular to the longitudinal direction in the outer peripheral surface of the honeycomb segment, and the direction perpendicular to the outer peripheral surface of the honeycomb segment. The coating is preferably performed in the longitudinal direction in the outer peripheral surface of the honeycomb segment. The thickness of the bonding material layer 9 is determined in consideration of the bonding force between the honeycomb segments 2 and is appropriately selected within a range of 0.5 to 3.0 mm, for example.

セル5の目封止に用いる充填材7としては、坏土と同様の材料を用いることができる。充填材7による目封止は、例えば、目封止をしないセル5をマスキングした状態で、ハニカムセグメント2の端面をスラリー状の充填材に浸漬することにより、開口しているセル5に充填することにより行うことができる。充填材7の充填は、ハニカムセグメント2の成形後における焼成前に行っても、焼成後に行ってもよいが、焼成前に行う方が、焼成工程が1回で終了するため好ましい。   As the filler 7 used for plugging the cells 5, the same material as the clay can be used. The plugging with the filler 7 is performed by, for example, filling the open cells 5 by immersing the end faces of the honeycomb segments 2 in a slurry-like filler in a state where the cells 5 that are not plugged are masked. Can be done. Filling of the filler 7 may be performed before or after firing after the formation of the honeycomb segment 2, but is preferably performed before firing because the firing process is completed once.

以上のようなハニカムセグメント2を作製した後、ハニカムセグメント2の外周面にペースト状の接合材組成物を塗布して接合材層9を形成し、所定の立体形状(ハニカム構造体1の全体構造)となるように複数のハニカムセグメント2を組み付け、この組み付けた状態で圧着した後、加熱乾燥する。このようにして、複数のハニカムセグメント2が一体的に接合された接合体が作製される。その後、この接合体を上述の形状に研削加工し、外周面をコーティング材4によって被覆し、加熱乾燥する。このようにして、図1に示すハニカム構造体1が作製される。コーティング材4の材質としては、接合材層9の材質と同様のものを用いることができる。コーティング材4の厚さは、例えば、0.1〜1.5mmの範囲で適宜選択される。   After the honeycomb segment 2 as described above is manufactured, a paste-like bonding material composition is applied to the outer peripheral surface of the honeycomb segment 2 to form a bonding material layer 9, and a predetermined three-dimensional shape (the entire structure of the honeycomb structure 1) is formed. ), A plurality of honeycomb segments 2 are assembled so as to be pressure-bonded in this assembled state, and then dried by heating. In this manner, a joined body in which the plurality of honeycomb segments 2 are integrally joined is manufactured. Thereafter, the joined body is ground into the above-described shape, and the outer peripheral surface is covered with the coating material 4 and heated and dried. In this way, the honeycomb structure 1 shown in FIG. 1 is manufactured. As the material of the coating material 4, the same material as that of the bonding material layer 9 can be used. The thickness of the coating material 4 is appropriately selected within a range of 0.1 to 1.5 mm, for example.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、各種物性値の測定方法、及び諸特性の評価方法を以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. In addition, the measuring method of various physical-property values and the evaluation method of various characteristics are shown below.

[各種原料粉末の平均粒子径]:JIS R 1629に準拠して測定した。   [Average particle diameter of various raw material powders]: Measured according to JIS R 1629.

[β−SiC粒子の粒子径]:立方体形状(5×5×5mm)に切り出した試料を樹脂含浸した後、研磨して形成した研磨面を電子顕微鏡で500倍の倍率で観察して(20視野)、各視野におけるβ−SiC粒子の最大粒子の粒子径(最大粒子径)を測定した。この最大粒子径の合計を視野数(20)で除して得た値を「β−SiC粒子の粒子径」とした。   [Particle diameter of β-SiC particles]: A sample cut into a cubic shape (5 × 5 × 5 mm) was impregnated with a resin, and then the polished surface was polished and observed with an electron microscope at a magnification of 500 times (20 Field of view), and the maximum particle diameter (maximum particle diameter) of β-SiC particles in each field of view was measured. A value obtained by dividing the total of the maximum particle diameters by the number of fields of view (20) was defined as “particle diameter of β-SiC particles”.

[結晶相の同定及び定量]:粉末X線回折によって結晶相の同定及び定量を行った。なお、定量分析は、SiCについては、粉末X線回折を用い、「SiC系セラミックス新材料−最近の展開−」日本学術振興会高温セラミックス材料第124委員会編、内田老鶴圃(2001)p.347−350に記載の定量分析方法に基づいた。NiSiあるいはZrSiについては、粉末X線回折によって金属シリサイド相がNiSiあるいはZrSiであることを確認した上で、化学分析で得たNi含有量あるいはZr含有量から、NiSiあるいはZrSiに換算した値を算出した。 [Identification and quantification of crystal phase]: The crystal phase was identified and quantified by powder X-ray diffraction. Quantitative analysis uses powder X-ray diffraction for SiC, and “New SiC-based ceramic materials—Recent developments”, Japan Society for the Promotion of Science, High Temperature Ceramic Materials 124th Committee, Uchida Otsukaku (2001) p. . It was based on the quantitative analysis method described in 347-350. For NiSi 2 or ZrSi 2 , the metal silicide phase was confirmed to be NiSi 2 or ZrSi 2 by powder X-ray diffraction, and from the Ni content or Zr content obtained by chemical analysis, NiSi 2 or ZrSi 2 The value converted into was calculated.

[気孔率]:5×5×25mm又は0.3×30×30mmの寸法形状に切り出した試料を対象として、アルキメデス法(JIS R 1634準拠)により測定した。   [Porosity]: Measured by Archimedes method (based on JIS R 1634) on a sample cut into a 5 × 5 × 25 mm or 0.3 × 30 × 30 mm size shape.

[強度]:JIS R 1601に準拠して測定した。   [Strength]: Measured according to JIS R 1601.

[熱伝導率]:φ10×2mm又は0.3×10×10mmの寸法形状に切り出した試料を対象として、JIS R 1611に準拠して測定した。   [Thermal conductivity]: Measured according to JIS R 1611 using a sample cut into a size of φ10 × 2 mm or 0.3 × 10 × 10 mm.

(実施例1(バッチNo.1))
ニッケル(Ni)粉末(♯350)1.5質量%、シリコン(Si)粉末(粒径:78μm)72.5質量%、カーボンブラック26.0質量%を含有する混合物の100質量部に対して、1.0質量部のホウ素(B)粉末、1質量部の界面活性剤、9質量部の有機バインダーを加え、更に適量の水を加えて原料混合物を得た。得られた原料混合物を、一軸加圧成形にて25×50×10mmの寸法形状に成形した後、室温及び120℃の温度条件下で乾燥して乾燥成形体を得た。得られた乾燥成形体を、大気雰囲気下、350℃で5時間仮焼し、その後、Ar不活性雰囲気下、1450℃で焼成して板状の炭化珪素質多孔体(実施例1)を得た。表2に示すように、得られた炭化珪素質多孔体に含まれる金属シリサイドの結晶相は化学式「NiSi」で表されるものであり、その含有割合は3質量%であった。また、β−SiCの粒径は10μmであり、α−SiCとβ−SiCの合計を100質量%とした場合におけるβ−SiCの含有割合は100質量%であった。更に、BのB換算での含有割合は1.8質量%であった。更にまた、気孔率は58%、強度は20MPa、熱伝導率は9W/mKであった。
(Example 1 (Batch No. 1))
Based on 100 parts by mass of a mixture containing 1.5% by mass of nickel (Ni) powder (# 350), 72.5% by mass of silicon (Si) powder (particle size: 78 μm), and 26.0% by mass of carbon black 1.0 parts by mass of boron (B) powder, 1 part by mass of a surfactant and 9 parts by mass of an organic binder were added, and an appropriate amount of water was added to obtain a raw material mixture. The obtained raw material mixture was molded into a size of 25 × 50 × 10 mm by uniaxial pressure molding, and then dried under temperature conditions of room temperature and 120 ° C. to obtain a dried molded body. The obtained dried molded body was calcined at 350 ° C. for 5 hours in an air atmosphere, and then fired at 1450 ° C. in an Ar inert atmosphere to obtain a plate-like silicon carbide based porous body (Example 1). It was. As shown in Table 2, the crystal phase of the metal silicide contained in the obtained silicon carbide based porous material was represented by the chemical formula “NiSi 2 ”, and the content ratio was 3 mass%. Moreover, the particle diameter of β-SiC was 10 μm, and the content ratio of β-SiC was 100% by mass when the total of α-SiC and β-SiC was 100% by mass. Furthermore, the content ratio of B in terms of B 2 O 3 was 1.8% by mass. Furthermore, the porosity was 58%, the strength was 20 MPa, and the thermal conductivity was 9 W / mK.

(実施例2〜12、比較例1〜4、6、7(バッチNo.2〜12、20〜23、25、26))
原料混合物の配合をそれぞれ表1に示すバッチNo.2〜12、20〜23、25、26の配合とすること以外は、前述の実施例1の場合と同様にして板状の炭化珪素質多孔体(実施例2〜12、比較例1〜4、6、7)を得た。得られたそれぞれの炭化珪素質多孔体に含まれる金属シリサイドの結晶相の種類とその含有割合、SiCの含有割合、β−SiCの粒径とその含有割合、BのB換算での含有割合を表2に示す。また、得られたそれぞれの炭化珪素質多孔体の気孔率、強度及び熱伝導率を表2に示す。
(Examples 2 to 12, Comparative Examples 1 to 4, 6, and 7 (Batch Nos. 2 to 12, 20 to 23, 25, and 26))
Batch Nos. Shown in Table 1 for the composition of the raw material mixture are shown. Except for blending 2-12, 20-23, 25, 26, a plate-like silicon carbide based porous material (Examples 2-12, Comparative Examples 1-4) in the same manner as in Example 1 above. 6, 7) were obtained. The type and content ratio of the crystalline phase of the metal silicide contained in each of the obtained silicon carbide based porous bodies, the content ratio of SiC, the particle diameter and content ratio of β-SiC, and B in terms of B 2 O 3 Table 2 shows the content ratio. In addition, Table 2 shows the porosity, strength, and thermal conductivity of each obtained silicon carbide based porous material.

(実施例13〜19、比較例8(バッチNo.13〜19、27))
原料混合物の配合をそれぞれ表1に示すバッチNo.13〜19、27の配合とすることと、仮焼した成形体の焼成を真空雰囲気下で行うこと以外は、前述の実施例1の場合と同様にして板状の炭化珪素質多孔体(実施例13〜19、比較例8)を得た。得られたそれぞれの炭化珪素質多孔体に含まれる金属シリサイドの結晶相の種類とその含有割合、SiCの含有割合、β−SiCの粒径とその含有割合、BのB換算での含有割合を表2に示す。また、得られたそれぞれの炭化珪素質多孔体の気孔率、強度及び熱伝導率を表2に示す。
(Examples 13 to 19, Comparative Example 8 (Batch No. 13 to 19, 27))
Batch Nos. Shown in Table 1 for the composition of the raw material mixture are shown. A plate-like silicon carbide porous body (implemented in the same manner as in Example 1 above) except that the blending of 13 to 19 and 27 is performed and the calcined molded body is fired in a vacuum atmosphere. Examples 13 to 19 and Comparative Example 8) were obtained. The type and content ratio of the crystalline phase of the metal silicide contained in each of the obtained silicon carbide based porous bodies, the content ratio of SiC, the particle diameter and content ratio of β-SiC, and B in terms of B 2 O 3 Table 2 shows the content ratio. In addition, Table 2 shows the porosity, strength, and thermal conductivity of each obtained silicon carbide based porous material.

(実施例20〜22、比較例5(バッチNo.2、5、7、24))
原料混合物の配合をそれぞれ表1に示すバッチNo.2、5、7、24の配合とすることと、仮焼した成形体の焼成を1800℃で行うこと以外は、前述の実施例1の場合と同様にして板状の炭化珪素質多孔体(実施例20〜22、比較例5)を得た。得られたそれぞれの炭化珪素質多孔体に含まれる金属シリサイドの結晶相の種類とその含有割合、SiCの含有割合、β−SiCの粒径とその含有割合、BのB換算での含有割合を表2に示す。また、得られたそれぞれの炭化珪素質多孔体の気孔率、強度及び熱伝導率を表2に示す。
(Examples 20 to 22, Comparative Example 5 (Batch No. 2, 5, 7, 24))
Batch Nos. Shown in Table 1 for the composition of the raw material mixture are shown. A plate-like silicon carbide porous body (as in the case of Example 1 described above) except that the composition of 2, 5, 7, 24 and the calcined molded body are fired at 1800 ° C. Examples 20 to 22 and Comparative Example 5) were obtained. The type and content ratio of the crystalline phase of the metal silicide contained in each of the obtained silicon carbide based porous bodies, the content ratio of SiC, the particle diameter and content ratio of β-SiC, and B in terms of B 2 O 3 Table 2 shows the content ratio. In addition, Table 2 shows the porosity, strength, and thermal conductivity of each obtained silicon carbide based porous material.

Figure 2010105860
Figure 2010105860

Figure 2010105860
Figure 2010105860

(実施例23)
表1に示すバッチNo.5の配合の原料混合物を混合・混練し、可塑性の坏土を作製した。作製した坏土を押出成形した後に乾燥して、隔壁の厚さが310μm、セル密度が約46.5セル/cm(300セル/平方インチ)、流路(セル)に直交する断面の形状が、一辺の長さが35mmの正四角形、全長が152mmのハニカム成形体を得た。大気雰囲気下、350℃で5時間仮焼した後、Ar不活性雰囲気下、約1450℃で焼成して、多孔質のハニカム構造体(実施例23)を得た。表3に示すように、得られたハニカム構造体に含まれる金属シリサイドの結晶相は化学式「NiSi」で表されるものであり、その含有割合は24質量%であった。また、β−SiCの粒径は20μmであり、α−SiCとβ−SiCの合計を100質量%とした場合におけるβ−SiCの含有割合は100質量%であった。更に、BのB換算での含有割合は1.7質量%であった。更にまた、気孔率は60%、強度は18MPa、熱伝導率は12W/mKであった。
(Example 23)
Batch No. shown in Table 1 The raw material mixture of 5 was mixed and kneaded to prepare a plastic clay. The produced clay was extruded and dried, and the partition wall thickness was 310 μm, the cell density was about 46.5 cells / cm 2 (300 cells / square inch), and the cross-sectional shape perpendicular to the flow path (cell) However, a honeycomb formed body having a regular square having a side length of 35 mm and a total length of 152 mm was obtained. After calcining at 350 ° C. for 5 hours in an air atmosphere, firing was performed at about 1450 ° C. in an Ar inert atmosphere to obtain a porous honeycomb structure (Example 23). As shown in Table 3, the crystal phase of the metal silicide contained in the obtained honeycomb structure was represented by the chemical formula “NiSi 2 ”, and the content ratio was 24 mass%. Moreover, the particle size of β-SiC was 20 μm, and the content ratio of β-SiC was 100% by mass when the total of α-SiC and β-SiC was 100% by mass. Furthermore, the content ratio of B in terms of B 2 O 3 was 1.7% by mass. Furthermore, the porosity was 60%, the strength was 18 MPa, and the thermal conductivity was 12 W / mK.

(実施例24)
表1に示すバッチNo.5の配合の原料混合物に代えて、バッチNo.13の配合の原料混合物を用いることと、ハニカム成形体の焼成を真空雰囲気下で行うこと以外は、前述の実施例23の場合と同様にして多孔質のハニカム構造体(実施例24)を得た。得られたハニカム構造体に含まれる金属シリサイドの結晶相の種類とその含有割合、SiCの含有割合、β−SiCの粒径とその含有割合、BのB換算での含有割合を表3に示す。また、得られたハニカム構造体の気孔率、強度及び熱伝導率を表3に示す。
(Example 24)
Batch No. shown in Table 1 In place of the raw material mixture of 5 A porous honeycomb structure (Example 24) was obtained in the same manner as in Example 23 described above except that the raw material mixture of 13 was used and the honeycomb formed body was fired in a vacuum atmosphere. It was. The type and content ratio of the crystalline phase of the metal silicide contained in the obtained honeycomb structure, the content ratio of SiC, the particle diameter and content ratio of β-SiC, and the content ratio of B in terms of B 2 O 3 are shown. 3 shows. In addition, Table 3 shows the porosity, strength, and thermal conductivity of the obtained honeycomb structure.

(実施例25)
ハニカム成形体の焼成を1800℃で行うこと以外は、前述の実施例23の場合と同様にして多孔質のハニカム構造体(実施例25)を得た。得られたハニカム構造体に含まれる金属シリサイドの結晶相の種類とその含有割合、SiCの含有割合、β−SiCの粒径とその含有割合、BのB換算での含有割合を表3に示す。また、得られたハニカム構造体の気孔率、強度及び熱伝導率を表3に示す。
(Example 25)
A porous honeycomb structure (Example 25) was obtained in the same manner as in Example 23 except that the honeycomb formed body was fired at 1800 ° C. The type and content ratio of the crystalline phase of the metal silicide contained in the obtained honeycomb structure, the content ratio of SiC, the particle diameter and content ratio of β-SiC, and the content ratio of B in terms of B 2 O 3 are shown. 3 shows. In addition, Table 3 shows the porosity, strength, and thermal conductivity of the obtained honeycomb structure.

Figure 2010105860
Figure 2010105860

(実施例26)
表1に示すバッチNo.5の配合の原料混合物を混合・混練し、可塑性の坏土を作製した。作製した坏土を押出成形した後に乾燥して、隔壁の厚さが310μm、セル密度が約46.5セル/cm(300セル/平方インチ)、流路(セル)に直交する断面の形状が、一辺の長さが35mmの正四角形、全長が152mmのハニカム成形体を得た。得られたハニカム成形体のセルの両端部を、隣接するセルどうしが反対側の端部で封じられるように、前述の坏土と同様の材料で目封止した。乾燥後、大気雰囲気下、350℃で5時間仮焼し、次いでAr不活性雰囲気下、約1450℃で焼成して、多孔質のハニカム構造体(ハニカムセグメント)を得た。得られたハニカムセグメントの外壁面に接合材(セラミックス系セメント)を塗布して厚さ約1mmの接合材層を形成し、形成した接合材層上に別のハニカムセグメントを載置する工程を繰り返し、16個(4×4)のハニカムセグメントからなる積層体を作製した。適宜加圧して全体を接合させた後、140℃、2時間乾燥して接合体を得た。得られた接合体の外周を円筒状に切削加工した後、外周面(切削加工面)にコーティング材(セラミックス系セメント(接合材に準ずる))を塗布し、700℃で2時間乾燥して硬化させ、ハニカム構造体(DPF)(実施例26)を得た。
(Example 26)
Batch No. shown in Table 1 The raw material mixture of 5 was mixed and kneaded to prepare a plastic clay. The produced clay was extruded and dried, and the partition wall thickness was 310 μm, the cell density was about 46.5 cells / cm 2 (300 cells / square inch), and the cross-sectional shape perpendicular to the flow path (cell) However, a honeycomb formed body having a regular square having a side length of 35 mm and a total length of 152 mm was obtained. Both ends of the cells of the obtained honeycomb formed body were plugged with the same material as the above-mentioned clay so that adjacent cells were sealed with the opposite ends. After drying, it was calcined at 350 ° C. for 5 hours in an air atmosphere, and then fired at about 1450 ° C. in an Ar inert atmosphere to obtain a porous honeycomb structure (honeycomb segment). A process of applying a bonding material (ceramic cement) to the outer wall surface of the obtained honeycomb segment to form a bonding material layer having a thickness of about 1 mm and placing another honeycomb segment on the formed bonding material layer is repeated. A laminate composed of 16 (4 × 4) honeycomb segments was produced. After pressurizing appropriately and joining the whole, it dried at 140 degreeC for 2 hours, and obtained the joined body. After the outer periphery of the obtained joined body is cut into a cylindrical shape, a coating material (ceramic cement (according to the joining material)) is applied to the outer peripheral surface (cut surface), and dried at 700 ° C. for 2 hours to be cured. To obtain a honeycomb structure (DPF) (Example 26).

表4に示すように、得られたDPFに含まれる金属シリサイドの結晶相は化学式「NiSi」で表されるものであり、その含有割合は24質量%であった。また、β−SiCの粒径は20μmであり、α−SiCとβ−SiCの合計を100質量%とした場合におけるβ−SiCの含有割合は100質量%であった。更に、BのB換算での含有割合は1.7質量%であった。更にまた、気孔率は60%、強度は18MPa、熱伝導率は12W/mKであった。 As shown in Table 4, the crystal phase of the metal silicide contained in the obtained DPF was represented by the chemical formula “NiSi 2 ”, and the content ratio was 24 mass%. Moreover, the particle size of β-SiC was 20 μm, and the content ratio of β-SiC was 100% by mass when the total of α-SiC and β-SiC was 100% by mass. Furthermore, the content ratio of B in terms of B 2 O 3 was 1.7% by mass. Furthermore, the porosity was 60%, the strength was 18 MPa, and the thermal conductivity was 12 W / mK.

(実施例27)
表1に示すバッチNo.5の配合の原料混合物に代えて、バッチNo.13の配合の原料混合物を用いることと、ハニカム成形体の焼成を真空雰囲気下で行うこと以外は、前述の実施例26の場合と同様にしてDPF(実施例27)を得た。得られたDPFに含まれる金属シリサイドの結晶相の種類とその含有割合、SiCの含有割合、β−SiCの粒径とその含有割合、BのB換算での含有割合を表4に示す。また、得られたDPFの気孔率、強度及び熱伝導率を表4に示す。
(Example 27)
Batch No. shown in Table 1 In place of the raw material mixture of 5 A DPF (Example 27) was obtained in the same manner as in Example 26 described above except that the raw material mixture of 13 was used and the honeycomb formed body was fired in a vacuum atmosphere. Table 4 shows the type and content ratio of the metal silicide crystal phase contained in the obtained DPF, the content ratio of SiC, the particle diameter and content ratio of β-SiC, and the content ratio of B in terms of B 2 O 3. Show. Table 4 shows the porosity, strength, and thermal conductivity of the obtained DPF.

(実施例28)
ハニカム成形体の焼成を1800℃で行うこと以外は、前述の実施例26の場合と同様にしてDPF(実施例28)を得た。得られたDPFに含まれる金属シリサイドの結晶相の種類とその含有割合、SiCの含有割合、β−SiCの粒径とその含有割合、BのB換算での含有割合を表4に示す。また、得られたDPFの気孔率、強度及び熱伝導率を表4に示す。
(Example 28)
A DPF (Example 28) was obtained in the same manner as in Example 26 except that the honeycomb formed body was fired at 1800 ° C. Table 4 shows the type and content ratio of the metal silicide crystal phase contained in the obtained DPF, the content ratio of SiC, the particle diameter and content ratio of β-SiC, and the content ratio of B in terms of B 2 O 3. Show. Table 4 shows the porosity, strength, and thermal conductivity of the obtained DPF.

Figure 2010105860
Figure 2010105860

表2〜4に示す結果から、ニッケル(Ni)等の金属もホウ素(B)を用いずに製造した比較例1や、ホウ素(B)は用いたが、ニッケル(Ni)等の金属は用いずに製造した比較例2の炭化珪素質多孔体は、気孔率が高い反面、強度と熱伝導率が低く、このため、例えばDPFの構成材料に用いた場合には、堆積した煤を燃焼する際に発生する熱応力などにより破損する恐れがある。ニッケル(Ni)を少量添加して製造した比較例3の炭化珪素質多孔体は、気孔率が低い割に熱伝導率が低く、このため、例えばDPFの構成材料に用いた場合には、堆積した煤を燃焼する際に発生する熱応力などにより破損する可能性がある。また、ニッケル(Ni)等の金属は用いたが、ホウ素(B)は用いずに製造した比較例4の炭化珪素質多孔体は、気孔率が高い反面、強度が不十分であり、やはりDPFの構成材料として好適なものとは言えない。ニッケル(Ni)とホウ素(B)を用いたが、ホウ素(B)量が少ない比較例5や、ホウ素(B)量が多い比較例6の炭化珪素質多孔体は、強度が低かったり、熱伝導率が低く、このため、例えばDPFの構成材料に用いた場合には、堆積した煤を燃焼する際に発生する熱応力などにより破損する恐れがある。有機造孔剤を多量に加えて高気孔率を狙った調合組成の比較例7は、気孔率が高くなりすぎて強度不足のため焼成体が得られなかった。ニッケル(Ni)とホウ素(B)を用いたが、α−SiCを多く使用して製造した比較例8の炭化珪素質多孔体は、気孔率が低く、このため、例えばDPFの構成材料に用いた場合には、排ガス透過時の圧力損失が高くなるなどの問題が生じる。一方、ニッケル(Ni)やジルコニア(Zr)等の金属とホウ素(B)を用いて製造した実施例1〜22の炭化珪素質多孔体、実施例23〜25のハニカム構造体、及び実施例26〜28のDPFは、高気孔率で、強度と熱伝導率も高いため、優れたフィルター特性を発揮することが期待できるとともに、堆積した煤を燃焼する際に発生する熱応力の低減を見込むことができる。   From the results shown in Tables 2 to 4, metal such as nickel (Ni) was also used in Comparative Example 1 manufactured without using boron (B) and boron (B), but metal such as nickel (Ni) was used. The silicon carbide based porous material of Comparative Example 2 manufactured without using this material has high porosity but low strength and thermal conductivity. For this reason, for example, when used as a constituent material of DPF, the deposited soot is burned. There is a risk of damage due to thermal stress generated during the process. The silicon carbide based porous material of Comparative Example 3 manufactured by adding a small amount of nickel (Ni) has a low thermal conductivity for a low porosity. Therefore, for example, when it is used as a constituent material of DPF, it is deposited. There is a possibility of damage due to thermal stress generated when burning soot. Moreover, although the metal such as nickel (Ni) was used but the silicon carbide based porous material of Comparative Example 4 manufactured without using boron (B) had high porosity, the strength was insufficient. It cannot be said that it is suitable as a constituent material. Although nickel (Ni) and boron (B) were used, the silicon carbide based porous material of Comparative Example 5 having a small amount of boron (B) and Comparative Example 6 having a large amount of boron (B) has low strength, For example, when used as a constituent material of a DPF, there is a possibility that the deposited soot may be damaged due to thermal stress generated when it is burned. In Comparative Example 7 having a blended composition aiming at high porosity by adding a large amount of organic pore former, the porosity was too high and the fired body could not be obtained due to insufficient strength. Although the silicon carbide based porous material of Comparative Example 8 produced using nickel (Ni) and boron (B) and using a large amount of α-SiC has a low porosity, for example, it is used as a constituent material of DPF. If so, problems such as increased pressure loss during exhaust gas permeation occur. On the other hand, the silicon carbide based porous bodies of Examples 1 to 22, the honeycomb structures of Examples 23 to 25, and Example 26 manufactured using metals such as nickel (Ni) and zirconia (Zr) and boron (B). ~ 28 DPF has high porosity, high strength and high thermal conductivity, so it can be expected to exhibit excellent filter characteristics and expect to reduce thermal stress generated when burning deposited soot Can do.

本発明の炭化珪素質多孔体は、ディーゼル排ガス浄化用フィルター(DPF)をはじめとする各種フィルターを構成する材質として好適である。   The silicon carbide based porous material of the present invention is suitable as a material constituting various filters including a diesel exhaust gas purifying filter (DPF).

本発明のハニカム構造体の一実施形態を示す斜視図である。1 is a perspective view showing an embodiment of a honeycomb structure of the present invention. 本発明のハニカム構造体の他の実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows other embodiment of the honeycomb structure of this invention. 図2に示すハニカム構造体の要部拡大図である。Fig. 3 is an enlarged view of a main part of the honeycomb structure shown in Fig. 2. 図2に示すハニカム構造体を構成するハニカムセグメントの斜視図である。Fig. 3 is a perspective view of a honeycomb segment constituting the honeycomb structure shown in Fig. 2. 図4のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1,11:ハニカム構造体、2:ハニカムセグメント、4:コーティング材、5,15:セル、6,16:隔壁、7:充填材、9:接合材層、10:外壁。 1, 11: honeycomb structure, 2: honeycomb segment, 4: coating material, 5, 15: cell, 6, 16: partition wall, 7: filler, 9: bonding material layer, 10: outer wall.

Claims (15)

金属珪化物を1〜35質量%、ホウ素(B)を酸化ホウ素(B)換算で0.1〜10質量%それぞれ含有し、気孔率が38〜80%である炭化珪素質多孔体。 A silicon carbide based porous material containing 1 to 35% by mass of metal silicide, 0.1 to 10% by mass of boron (B) in terms of boron oxide (B 2 O 3 ), and a porosity of 38 to 80% . 強度が、10〜50MPaである請求項1に記載の炭化珪素質多孔体。   The silicon carbide based porous material according to claim 1, wherein the strength is 10 to 50 MPa. 主成分として含有されている炭化珪素が、全てβ−SiCである請求項1又は2に記載の炭化珪素質多孔体。   The silicon carbide based porous material according to claim 1 or 2, wherein all silicon carbide contained as a main component is β-SiC. α−SiCとβ−SiCを含有し、前記α−SiCと前記β−SiCの合計に対する前記β−SiCの含有割合が、5質量%以上100質量%未満である請求項1又は2に記載の炭化珪素質多孔体。   The content ratio of the β-SiC with respect to the total of the α-SiC and the β-SiC, which includes α-SiC and β-SiC, is 5% by mass or more and less than 100% by mass. Silicon carbide porous body. 前記β−SiCの少なくとも一部の形状が、その粒子径が20μm以上の粒子状である請求項3又は4に記載の炭化珪素質多孔体。   The silicon carbide based porous material according to claim 3 or 4, wherein at least a part of the β-SiC has a particle size of 20 µm or more. 前記金属珪化物が、ニッケルシリサイドである請求項1〜5のいずれか一項に記載の炭化珪素質多孔体。   The silicon carbide based porous material according to any one of claims 1 to 5, wherein the metal silicide is nickel silicide. 熱伝導率が、5〜50W/mKである請求項1〜6のいずれか一項に記載の炭化珪素質多孔体。   The silicon carbide based porous material according to any one of claims 1 to 6, wherein the thermal conductivity is 5 to 50 W / mK. 請求項1〜7のいずれか一項に記載の炭化珪素質多孔体からなる、隔壁で区画された複数のセルを有するハニカム形状のハニカム構造体。   A honeycomb-shaped honeycomb structure comprising a plurality of cells partitioned by partition walls, comprising the silicon carbide based porous material according to any one of claims 1 to 7. 請求項1〜7のいずれか一項に記載の炭化珪素質多孔体からなる、隔壁で区画された複数のセルを有するハニカム形状のセグメントを、複数個組み合わせて接合一体化するとともに、所定の前記セルの開口部を前記セグメントの一方の端面で目封止し、残余の前記セルの開口部を前記セグメントの他方の端面で目封止してなるハニカム構造体。   Combining and combining a plurality of honeycomb-shaped segments comprising a plurality of cells partitioned by partition walls, comprising the silicon carbide based porous material according to any one of claims 1 to 7, and the predetermined A honeycomb structure formed by plugging an opening of a cell with one end face of the segment and plugging a remaining opening of the cell with the other end face of the segment. ディーゼル排ガス浄化用のフィルターとして用いられる請求項8又は9に記載のハニカム構造体。   The honeycomb structure according to claim 8 or 9, which is used as a filter for purifying diesel exhaust gas. 金属、珪素、炭素及びホウ素(B)原料を含む原料混合物を所定形状に成形し、脱脂、及び焼成して、金属珪化物を1〜35質量%、ホウ素(B)を酸化ホウ素(B)換算で0.1〜10質量%それぞれ含有し、気孔率が38〜80%である炭化珪素質多孔体を得る炭化珪素質多孔体の製造方法。 A raw material mixture containing metal, silicon, carbon, and boron (B) raw materials is formed into a predetermined shape, degreased, and fired, so that metal silicide is 1 to 35% by mass, and boron (B) is boron oxide (B 2 O). 3 ) The manufacturing method of the silicon carbide based porous body which obtains the silicon carbide based porous body which contains 0.1-10 mass% in conversion, respectively, and has a porosity of 38-80%. 前記原料混合物が、更にα−SiC原料を含む請求項11に記載の炭化珪素質多孔体の製造方法。   The method for producing a silicon carbide based porous material according to claim 11, wherein the raw material mixture further contains an α-SiC raw material. アルゴン(Ar)雰囲気又は真空雰囲気下において、1250〜1800℃で焼成する請求項11又は12に記載の炭化珪素質多孔体の製造方法。   The method for producing a silicon carbide based porous material according to claim 11 or 12, wherein firing is performed at 1250 to 1800 ° C in an argon (Ar) atmosphere or a vacuum atmosphere. 前記ホウ素(B)原料が、金属Bである請求項11〜13のいずれか一項に記載の炭化珪素質多孔体の製造方法。   The said boron (B) raw material is the metal B, The manufacturing method of the silicon carbide based porous body as described in any one of Claims 11-13. 前記原料混合物を、隔壁で区画された複数のセルを有するハニカム形状に成形する請求項11〜14のいずれか一項に記載の炭化珪素質多孔体の製造方法。   The method for producing a silicon carbide based porous material according to any one of claims 11 to 14, wherein the raw material mixture is formed into a honeycomb shape having a plurality of cells partitioned by partition walls.
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