JP2010102260A - Optical film for plasma tube array display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プラズマチューブアレイ（ＰＴＡ）表示装置用の光学フィルムに関する。さらに詳細には、複数のＰＴＡ表示装置を組み合わせてマルチ画面を構成する場合において、隣接するＰＴＡ表示装置の隙間が狭くでき、表示画面の繋ぎ目が隠れてシームレス性を有する、マルチ画面を構成するのに適したＰＴＡ表示装置用の光学フィルムを提供することに関する。 The present invention relates to an optical film for a plasma tube array (PTA) display device. More specifically, when a multi-screen is configured by combining a plurality of PTA display devices, a gap between adjacent PTA display devices can be narrowed, and a seam between display screens is hidden to form a multi-screen. It is related with providing the optical film for PTA display apparatuses suitable for this.
なお、ＰＴＡは、放電ガスが密封された微細な発光管を多数並べた発光管アレイの外部から放電圧を印加して、発光管の内面に塗布された蛍光体層から発光させることを特徴とするプラズマ放電に基づいた表示装置である。 The PTA is characterized in that a discharge voltage is applied from the outside of the arc tube array in which a large number of fine arc tubes sealed with discharge gas are arranged to emit light from the phosphor layer applied to the inner surface of the arc tube. The display device is based on plasma discharge.
近年、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＰＴＡ、液晶パネル、有機ＥＬパネルなどの各種ディスプレイにおいては、ディスプレイ前面から発生する電磁波が人体に悪影響を与えたり、周囲の電子機器を誤動作させることが問題とされるようになり、ディスプレイの画像の鮮明さと共に、ディスプレイが周囲へ与える影響への対策が益々重要視されつつある。 In recent years, in various displays such as a plasma display panel (PDP), a PTA, a liquid crystal panel, and an organic EL panel, electromagnetic waves generated from the front surface of the display have a bad influence on the human body or malfunction of surrounding electronic devices. As the image of the display becomes clearer, countermeasures against the influence of the display on the surroundings are becoming increasingly important.
特に、薄型ディスプレイとして注目されているＰＤＰにおいては、電磁波のシールドフィルム以外に、近赤外線の波長領域を使用している各種のリモコンスイッチの誤作動を防ぐための近赤外線吸収フィルム、その近赤外線吸収フィルムに使用されている近赤外線吸収剤の経時劣化を防ぐための紫外線吸収フィルム、さらには可視光領域の色調調整のためのネオン光カットフィルム、光学フィルターの表面に外光が映り込むのを防ぐための反射防止フィルム等が、必要とされる機能に応じて組み合わせて構成されている（例えば、特許文献１）。
In particular, in a PDP attracting attention as a thin display, in addition to an electromagnetic shielding film, a near infrared absorbing film for preventing malfunction of various remote control switches using a near infrared wavelength region, and its near infrared absorption UV absorbing film for preventing deterioration of near-infrared absorber used for film over time, neon light cut film for adjusting color tone in visible light region, and preventing external light from being reflected on the surface of optical filter For example,
ＰＤＰにおける電磁波シールド材の取り付け方法としては、一般的には、光学フィルムの中に電磁波シールド材が組み込まれた積層フィルムを、ＰＤＰ前面パネルに直接に貼り合わせる、いわゆる直貼り方式（例えば、特許文献１を参照）、あるいはＰＤＰ前面パネルから一定の空気層を隔てて配置された前面板に、光学フィルムの中に電磁波シールド材が組み込まれた積層フィルムを貼り合わせる、前面板方式（例えば、特許文献２を参照）の２方式が用いられている。 As a method for attaching an electromagnetic wave shielding material in a PDP, generally, a so-called direct attachment method in which a laminated film in which an electromagnetic wave shielding material is incorporated in an optical film is directly attached to a PDP front panel (for example, patent document) 1), or a front plate method in which a laminated film in which an electromagnetic wave shielding material is incorporated is bonded to a front plate arranged with a certain air layer separated from a PDP front panel (for example, patent document) 2) is used.
また、複数の表示画面を組み合わせることにより、超大型の薄型ディスプレイを製造することが可能な新規なディスプレイとして注目されているＰＴＡにおいては、電磁波の放射を抑制するために電磁波遮蔽体を設けることが開示されている（特許文献３を参照）。 Moreover, in PTA attracting attention as a new display capable of producing an ultra-large thin display by combining a plurality of display screens, an electromagnetic wave shielding body may be provided to suppress the emission of electromagnetic waves. It is disclosed (see Patent Document 3).
一方、ＰＤＰ等の薄型ディスプレイが広範囲に普及しつつある現在では、画面サイズの大型化が進展しており、例えば、ＰＤＰの代表的な画面サイズである４２インチ、５０インチ、６０インチ、６５インチよりも大画面である、８０インチ、１００インチ、１５０インチも製造販売される状況になっている。
従来から、個々のディスプレイの大画面化に並行して、限られた画面サイズのディスプレイを用いて迫力のある大画面とするため、複数のディスプレイを組み合わせてマルチ画面を構成することが行なわれている。
ＰＤＰなどの各種のディスプレイからなるマルチ画面に関して、複数のディスプレイを組み合わせてマルチ画面を構成する場合における種々の工夫が開示されている（特許文献４〜６）。
Conventionally, in order to make a powerful large screen using a display with a limited screen size in parallel with an increase in the size of each display, a multi-screen is configured by combining multiple displays. Yes.
With regard to a multi-screen composed of various displays such as a PDP, various devices have been disclosed in the case where a multi-screen is configured by combining a plurality of displays (
特許文献４には、ＰＤＰの表示用電極と接続される外部接続端子を表示面の背面に引き出し、非表示部の面積を減らしてマルチ画面を構成するのに適したディスプレイが開示されている。従来、ＰＤＰの表示面の周囲に、同一平面上に外部接続端子を配置しているため、この端子に接続する配線が障害となりマルチ画面を構成する場合には非表示部の面積が大きくなり、見にくい画面になっていたとしている。
しかし、ＰＤＰには、前記のように直張り方式または前面板方式の内、いずれかの方法により電磁波シールド材を取り付けることが不可欠であるが、特許文献４にはマルチ画面を構成する場合に必要な電磁波シールド材の配置方法が記載されていない。非表示部の面積を減らしたマルチ画面を実現するのに必要となる具体的な詳細が示されていないという問題があった。
However, it is indispensable to attach an electromagnetic wave shielding material to the PDP by any one of the direct tension method or the front plate method as described above, but in
特許文献５には、複数のＰＤＰなどのディスプレイを組み合わせて大画面の表示装置を構成するため、平面型表示装置の電極配置構造を、特許文献４と同様に、表示面の背面に引き出した構成が開示されている。また、特許文献５には、電磁波シールド材の配置方法が記載されていない。非表示部の面積を減らしたマルチ画面の詳細が具体的に示されていないという問題があった。
In
特許文献６には、複数のディスプレイパネルを組み合わせてマルチ画面を構成する場合に、隣接する一対のパネルのうち、少なくともいずれか一方に厚さ方向に埋め込まれるように形成される段差部を設けて、２つパネルの重ね代としたことで見かけ上、非表示部を縮小させることが開示されている。しかし、特許文献６には、電磁波シールド材の配置方法が記載されていない。非表示部の面積を減らしたマルチ画面の詳細が具体的に示されていないという問題があった。
In
従来から、ＰＤＰの電磁波シールド材としては、優れた電磁波遮蔽性能が求められていることから、導電性の金属を用いた金属メッシュパターンが用いられている。
しかし、ＰＤＰにおいては、ブラックストライプの遮光パターンと、電磁波シールド材とは、異なる位置に配置されていて、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材の金属メッシュパターンの両方を一緒に形成して複合パターンとすることは、従来技術には開示されていない。
また、上記のとおり、ＰＤＰの複数のディスプレイを組み合わせてマルチ画面を構成する場合における種々の工夫が開示されている特許文献４〜６には、電磁波シールド材の取扱いについての記載は全く成されておらず、マルチ画面の構成において電磁波シールド材の配設方法が示されていない。
Conventionally, as an electromagnetic shielding material for a PDP, a metal mesh pattern using a conductive metal has been used because excellent electromagnetic shielding performance is required.
However, in the PDP, the black stripe light shielding pattern and the electromagnetic shielding material are arranged at different positions, and both the black stripe shielding pattern and the metal mesh pattern of the electromagnetic shielding material are formed together to form a composite pattern. This is not disclosed in the prior art.
In addition, as described above,
ところで、ＰＴＡに関する電磁波シールド材に関して、特許文献３には、表示電極が設けられている基材の反対側面に、表示電極と重なる位置となるように同一のピッチで配置された、表示電極と同一形状を有する電磁波遮蔽用電極を配設することが開示されている。しかし、特許文献３においては、ＰＴＡにおいてブラックストライプに関する記載が無く、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド材のメッシュパターンの両方を一緒に形成して複合パターンとすることは、全く開示されていない。また、ＰＴＡに関しても、マルチ画面の構成における電磁波シールド材の配設方法は示されていない。
By the way, regarding the electromagnetic wave shielding material related to PTA,
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、ＰＴＡに用いられる電磁波シールド材を工夫することにより、複数のＰＴＡ表示装置を組み合わせてマルチ画面を構成する場合において、隣接するＰＴＡ表示装置の隙間が狭くでき、表示画面の繋ぎ目が隠れて目立たない（シームレス性を有する）、マルチ画面を構成するのに適したＰＴＡ表示装置用の光学フィルムを提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and in the case where a multi-screen is configured by combining a plurality of PTA display devices by devising an electromagnetic shielding material used for PTA, It is an object of the present invention to provide an optical film for a PTA display device suitable for constructing a multi-screen, in which the gap can be narrowed and the joints of the display screen are hidden and inconspicuous (has seamlessness).
前記課題を解決するため、本発明は、放電ガスが密封された微細な発光管を多数並べた発光管アレイを備えるプラズマチューブアレイ表示装置に用いる光学フィルムであって、透明基材の一方の面に、ブラックストライプの遮光パターンと電磁波シールド機能を有するメッシュパターンとが、同一面の上で交差してなる複合パターンとして導電性薄膜で形成されるとともに、前記遮光パターン及びメッシュパターンの周囲には接地用の電極枠が配設され、前記遮光パターン及びメッシュパターンが前記発光管アレイの観察者側に配設されたときに、前記電極枠が前記発光管アレイ側に折り込まれて曲折部が形成可能であることを特徴とする光学フィルムを提供する。
また、前記遮光パターン及びメッシュパターンは、導電性薄膜で形成された細線パターン、又は導電性薄膜で形成されたパターンの上にメッキ層が積層されたメッキ積層パターンのいずれかであることが好ましい。
また、前記遮光パターン及びメッシュパターンの表面が黒化処理されてなることが好ましい。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an optical film for use in a plasma tube array display device having an arc tube array in which a large number of fine arc tubes sealed with a discharge gas are arranged, on one side of a transparent substrate In addition, a black stripe shading pattern and a mesh pattern having an electromagnetic wave shielding function are formed of a conductive thin film as a composite pattern intersecting on the same surface, and grounding around the shading pattern and the mesh pattern. When the light shielding pattern and the mesh pattern are disposed on the observer side of the arc tube array, the electrode frame can be folded to the arc tube array side to form a bent portion. An optical film is provided.
The light-shielding pattern and the mesh pattern are preferably either a fine line pattern formed of a conductive thin film or a plating stacked pattern in which a plating layer is stacked on a pattern formed of a conductive thin film.
Moreover, it is preferable that the surfaces of the light shielding pattern and the mesh pattern are blackened.
また、本発明は、放電ガスが密封された微細な発光管を多数並べた発光管アレイを備えるプラズマチューブアレイ表示装置に用いる光学フィルムであって、透明基材の一方の面に、電磁波シールド機能を有するメッシュパターンが導電性薄膜で形成されるとともに、前記メッシュパターンの周囲には接地用の電極枠が配設され、前記メッシュパターンが前記発光管アレイの観察者側に配設されたときに、前記電極枠が前記発光管アレイ側に折り込まれて曲折部が形成可能であることを特徴とする光学フィルムを提供する。
前記光学フィルムは、前記透明基材の他方の面にブラックストライプの遮光パターンを有することが好ましい。
また、前記メッシュパターンは、導電性薄膜で形成された細線パターン、又は導電性薄膜で形成されたパターンの上にメッキ層が積層されたメッキ積層パターンのいずれかであることが好ましい。
また、前記メッシュパターンの表面が黒化処理されてなることが好ましい。
The present invention also relates to an optical film used in a plasma tube array display device having an arc tube array in which a large number of fine arc tubes sealed with a discharge gas are arranged, and has an electromagnetic wave shielding function on one surface of a transparent substrate. When the mesh pattern is formed of a conductive thin film, a grounding electrode frame is disposed around the mesh pattern, and the mesh pattern is disposed on the observer side of the arc tube array An optical film is provided in which the electrode frame is folded to the arc tube array side to form a bent portion.
The optical film preferably has a black stripe shading pattern on the other surface of the transparent substrate.
The mesh pattern is preferably either a fine line pattern formed of a conductive thin film, or a plating layered pattern in which a plating layer is stacked on a pattern formed of a conductive thin film.
The surface of the mesh pattern is preferably blackened.
また、前記遮光パターン及びメッシュパターンの導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかであることが好ましい。 The conductive thin film having the light shielding pattern and the mesh pattern is a conductive film containing at least one selected from a metal thin film composed of a developed silver layer, a metal particle, a carbon nanoparticle, or a carbon fiber formed by a photographic process. Shielding mask of conductive thin film formed by printing conductive paste, conductive thin film formed by printing paste containing electroless plating catalyst, photoresist pattern or pattern printed with solvent-soluble printing material Used as a conductive thin film formed by a peeling (lift-off) method after removing a shielding mask after performing sputtering or vacuum deposition of metal or metal oxide, and forming by sputtering or vacuum deposition of metal or metal oxide A conductive thin film formed by etching the thin film using a photolithographic method. It is preferably either a conductive thin film formed by etching the source method.
また、前記遮光パターン及びメッシュパターンの上には粘着剤層が積層され、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層などの群の中から選択された１つ以上の光学機能層が積層されてなることが好ましい。 Further, an adhesive layer is laminated on the light shielding pattern and the mesh pattern, such as a near infrared absorbing layer, an ultraviolet absorbing layer, a neon light absorbing layer, an antireflection layer, a hard coat layer, an antifouling layer, an antistatic layer, etc. It is preferable that one or more optical functional layers selected from the group are laminated.
本発明の光学フィルムを用いれば、電磁波シールド機能を有するメッシュパターンの周囲に設けられた接地用の電極枠が、略直角に内側に折り込まれて曲折部が形成されていることから、隣接した表示画面の曲折部どうしが接触するようにしてマルチ画面を構成することができる。
このため、隣接するＰＴＡ表示装置の隙間が狭くでき、表示画面の繋ぎ目が隠れて目立たない（シームレス性を有する）、マルチ画面を構成するのに適したＰＴＡ表示装置を提供することができる。
また、本発明の光学フィルムを用いれば、接地用の電極枠がＰＴＡ表示装置の裏面に引き出されているので、配線の端末処理が容易となる。
By using the optical film of the present invention, the grounding electrode frame provided around the mesh pattern having the electromagnetic wave shielding function is folded inward at a substantially right angle to form a bent portion. A multi-screen can be configured such that the bent portions of the screen are in contact with each other.
Therefore, it is possible to provide a PTA display device suitable for configuring a multi-screen, in which the gap between adjacent PTA display devices can be narrowed, and the joints of the display screens are hidden and inconspicuous (has seamlessness).
In addition, when the optical film of the present invention is used, since the grounding electrode frame is drawn out to the back surface of the PTA display device, the terminal processing of the wiring becomes easy.
以下、最良の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
図１は、本発明のＰＴＡ表示装置用の光学フィルムの第１の実施形態を示す部分斜視図である。図２は、本発明の光学フィルムが使用されて組み合わされたＰＴＡ表示装置のマルチ画面８を示す平面図である。図３は、図２に示すＰＴＡ表示装置のマルチ画面８に、図１に示すＰＴＡ表示装置用の光学フィルム５０が用いられたときのＡ部の部分拡大図である。図４は、図３におけるＢ−Ｂ矢視断面図である。図５は、図３におけるＣ−Ｃ矢視断面図である。図６は、図５におけるＤ部の部分拡大図を示し、図６（ａ）は、遮光パターン及びメッシュパターンが導電性薄膜で形成されたパターンである例を示す断面図、図６（ｂ）は、遮光パターン及びメッシュパターンが導電性薄膜の上にメッキ層が積層されたメッキ積層パターンである例を示す断面図である。
The present invention will be described below with reference to the drawings based on the best mode.
FIG. 1 is a partial perspective view showing a first embodiment of an optical film for a PTA display device of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing a multi-screen 8 of a PTA display device combined with the optical film of the present invention. 3 is a partially enlarged view of part A when the
図７は、本発明のＰＴＡ表示装置用の光学フィルムの第２の実施形態を示す部分斜視図である。図８は、図２に示すＰＴＡ表示装置のマルチ画面８に、図７に示すＰＴＡ表示装置用の光学フィルム６０が用いられたときのＡ部の部分拡大図である。図９は、図８におけるＥ−Ｅ矢視断面図である。図１０は、図８におけるＦ−Ｆ矢視断面図である。図１１は、図１０におけるＧ部の部分拡大図を示し、図１１（ａ）は、メッシュパターンが導電性薄膜で形成されたパターンである例を示す断面図、図１１（ｂ）は、メッシュパターンが導電性薄膜の上にメッキ層が積層されたメッキ積層パターンである例を示す断面図である。
FIG. 7 is a partial perspective view showing a second embodiment of the optical film for the PTA display device of the present invention. FIG. 8 is a partial enlarged view of part A when the
図１２（ａ）および（ｂ）は、ＰＴＡ表示装置のマルチ画面に長尺の機能性フィルムを貼り合わせる一例を示す概略図である。図１３（ａ）および（ｂ）は、枚葉の機能性フィルムを貼り合わせたＰＴＡ表示装置を組み合わせたマルチ画面の一例を示す概略図である。図１４は、機能性フィルムを貼り合わせたＰＴＡ用前面板の例を示す断面図である。図１５（ａ）は、遮光パターン及びメッシュパターンが同一面の上で交差した複合パターンを形成してなる光学フィルムの一例を示す断面図である。図１５（ｂ）は、遮光パターン及びメッシュパターンを反対の面に形成してなる光学フィルムの一例を示す断面図である。 FIGS. 12A and 12B are schematic views illustrating an example in which a long functional film is bonded to a multi-screen of a PTA display device. FIGS. 13A and 13B are schematic views showing an example of a multi-screen combined with a PTA display device on which a sheet of functional film is bonded. FIG. 14 is a cross-sectional view showing an example of a PTA front plate to which a functional film is bonded. FIG. 15A is a cross-sectional view showing an example of an optical film formed with a composite pattern in which a light shielding pattern and a mesh pattern intersect on the same surface. FIG. 15B is a cross-sectional view showing an example of an optical film in which a light shielding pattern and a mesh pattern are formed on opposite surfaces.
図１に示す本発明のＰＴＡ表示装置用の光学フィルム５０は、図６に示した透明基材１の一方の面に、導電性薄膜からなる、ブラックストライプの遮光パターン５（または７）と電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２（または４）とが形成されているディスプレイ用光学フィルム１０において、遮光パターン５（または７）およびメッシュパターン２（または４）の周囲には接地用の電極枠１９が配設され、遮光パターン５（または７）及びメッシュパターン２（または４）が発光管アレイの観察者側に配設されたときに、電極枠１９が発光管アレイ側に折り込まれて曲折部が形成可能とされたものである。
なお、ディスプレイ用光学フィルム１０は、図５に示すように、透明基材１１の片面に、走査電極１３と維持電極１４の２種類の電極を１対とした表示電極１５が一定間隔で配置された表示電極フィルム１７と、粘着剤層１６を介して貼り合わされて、ＰＴＡ表示装置用の光学フィルム５０と表示電極フィルム１７とを備える積層フィルム９を構成している。
An
As shown in FIG. 5, the display
図１に示すように、遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン４（または２）とは、同一面の上で交差してなる複合パターンとして、導電性薄膜からなるパターン、または導電性薄膜の上にメッキ層が積層されたメッキ積層パターンで形成されている。遮光パターン７（または５）およびメッシュパターン４（または２）の周囲には接地用の電極枠１９が配設されている。
この複合パターンの形状を決定するに当たっては、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）は、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）の直線に対して、一定のバイアス角度を持たせて配設することにより、モアレの発生を最小限に抑えるようにしている。
As shown in FIG. 1, the light shielding pattern 7 (or 5) and the fine wire mesh pattern 4 (or 2) having an electromagnetic wave shielding function are patterns formed of a conductive thin film as a composite pattern intersecting on the same surface. Or a plating laminate pattern in which a plating layer is laminated on a conductive thin film. A
In determining the shape of the composite pattern, the mesh pattern 4 (or 2) having the electromagnetic wave shielding function is arranged with a certain bias angle with respect to the straight line of the black stripe light shielding pattern 7 (or 5). By doing so, the generation of moire is minimized.
また、接地用の電極枠１９は、図１に示すように、微細な発光管を多数並べた発光管アレイ側に折り込まれて曲折部が形成されている。
図１〜図３では、接地用の電極枠１９が、発光管アレイ側に折り込まれて形成された曲折部の一部分のみが示されている。実際の本発明に係わる光学フィルム５０が使用されたＰＴＡ表示装置においては、光学フィルム５０の接地用の電極枠１９が、ＰＴＡ表示装置の縦横４方向の全側面に対して、それぞれ発光管アレイ側に折り込まれて曲折部が形成されている。従って、複数の本発明に係わる光学フィルムを使用したＰＴＡ表示装置を組み合わせてマルチ画面を構成したとき、それぞれのＰＴＡ表示装置用の光学フィルムに形成されている前記電極枠の曲折部が、隣接のＰＴＡ表示装置用の光学フィルムの電極枠の曲折部と密着される。
Further, as shown in FIG. 1, the
1 to 3 show only a part of a bent portion formed by folding the
本発明のＰＴＡ表示装置用の光学フィルム５０を複数組み合わせて、図２に示すようなＰＴＡ表示装置のマルチ画面構成の大画面とすることができる。
本発明のＰＴＡ表示装置用の光学フィルムを用いれば、図１及び図４に示すように、遮光パターン５（または７）と電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２（または４）とが形成されているディスプレイ用光学フィルム１０の周囲に形成された電極枠１９が、発光管アレイ側に略直角に折り込まれているので、隣接するＰＴＡ表示装置の隙間が狭くできる。このため、表示画面の繋ぎ目が隠れて目立たない（シームレス性を有する）ＰＴＡ表示装置のマルチ画面とすることができる。
A plurality of
When the optical film for a PTA display device of the present invention is used, as shown in FIGS. 1 and 4, a light shielding pattern 5 (or 7) and a fine line mesh pattern 2 (or 4) having an electromagnetic wave shielding function are formed. Since the
図７に示す本発明のＰＴＡ表示装置用の光学フィルム６０は、図１１に示した透明基材１の一方の面に、導電性薄膜からなる、電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２（または４）が形成されているディスプレイ用光学フィルム２８において、細線メッシュパターン２（または４）の周囲には接地用の電極枠１９が配設され、細線メッシュパターン２（または４）が発光管アレイの観察者側に配設されたときに、電極枠１９が発光管アレイ側に折り込まれて曲折部が形成可能とされたものである。
なお、ディスプレイ用光学フィルム２８は、図１０に示すように、透明基材１１の片面に、走査電極１３と維持電極１４の２種類の電極を１対とした表示電極１５が一定間隔で配置された表示電極フィルム１７と、粘着剤層１６を介して貼り合わされて、ＰＴＡ表示装置用の光学フィルム６０と表示電極フィルム１７とを備える積層フィルム２９を構成している。
図７に示すように、電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン４（または２）の周囲には接地用の電極枠１９が配設されている。接地用の電極枠１９は、図７に示すように、微細な発光管を多数並べた発光管アレイ側に折り込まれて曲折部が形成されている。
An
In the display
As shown in FIG. 7, an
図７〜図９では、接地用の電極枠１９が、発光管アレイ側に折り込まれて形成された曲折部の一部分のみが示されている。実際の本発明に係わる光学フィルム６０が使用されたＰＴＡ表示装置においては、光学フィルム６０の接地用の電極枠１９が、ＰＴＡ表示装置の縦横４方向の全側面に対して、それぞれ発光管アレイ側に折り込まれて曲折部が形成されている。従って、複数の本発明に係わるＰＴＡ表示装置を組み合わせてマルチ画面を構成したとき、それぞれのＰＴＡ表示装置用の光学フィルムに形成されている前記電極枠の曲折部が、隣接のＰＴＡ表示装置用の光学フィルムの電極枠の曲折部と密着される。
7 to 9, only a part of the bent portion formed by folding the
本発明のＰＴＡ表示装置用の光学フィルム６０を複数組み合わせて、図２に示すようなＰＴＡ表示装置のマルチ画面構成の大画面とすることができる。
本発明によれば、図７及び図９に示すように、電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２（または４）が形成されているディスプレイ用光学フィルム２８の電極枠１９が、発光管アレイ側に略直角に折り込まれているので、隣接するＰＴＡ表示装置の隙間が狭くできる。このため、表示画面の繋ぎ目が隠れて目立たない（シームレス性を有する）ＰＴＡ表示装置のマルチ画面とすることができる。
A plurality of
According to the present invention, as shown in FIGS. 7 and 9, the
ディスプレイ用光学フィルムに形成されている遮光パターン及びメッシュパターンの導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかであることが好ましい。 The light-shielding pattern and mesh pattern conductive thin film formed on the optical film for display is selected from a metal thin film, a metal particle, a carbon nanoparticle, or a carbon fiber made of a developed silver layer produced by a photographic process. Conductive thin film formed by printing conductive paste containing more than seeds, conductive thin film formed by printing paste containing electroless plating catalyst, pattern printed with photoresist pattern or solvent-soluble printing material Sputtering of a conductive thin film, metal or metal oxide formed by a peeling (lift-off) method, which is performed by removing a shielding mask after performing sputtering or vacuum deposition of metal or metal oxide using any of the above as a shielding mask Alternatively, a thin film formed by vacuum deposition is etched by photolithography to form it. Is preferably either a conductive thin film formed is etched by the conductive thin film, photolithography and metal foil.
また、前記遮光パターン及びメッシュパターンの上には粘着剤層が積層され、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層などの群の中から選択された１つ以上の光学機能層が積層されてなることが好ましい。 Further, an adhesive layer is laminated on the light shielding pattern and the mesh pattern, such as a near infrared absorbing layer, an ultraviolet absorbing layer, a neon light absorbing layer, an antireflection layer, a hard coat layer, an antifouling layer, an antistatic layer, etc. It is preferable that one or more optical functional layers selected from the group are laminated.
また、ブラックストライプの遮光パターン、及びメッシュパターンの表面が黒化処理されていることが、観察者から視て反射光を減少させることができるので好ましい。ブラックストライプの遮光パターン、及びメッシュパターンの表面が黒化処理されていない場合は、金属メッキ層の金属光沢により輝いて見え、ディスプレイの表示画像が白っぽくなるという不具合が生じる。 Further, it is preferable that the black stripe light-shielding pattern and the surface of the mesh pattern are blackened because reflected light can be reduced as viewed from the observer. When the black stripe light-shielding pattern and the surface of the mesh pattern are not blackened, the metal plating layer appears to shine brightly and the display image on the display becomes whitish.
本発明では、メッシュパターン４（または２）の線幅を１０〜６０μｍとし、ピッチ間隔を２５０〜５００μｍとすることにより、全光線透過率を５０〜７０％程度に確保することが可能となる。また、本発明では、全光線透過率を高めるため、表示電極１５（走査電極１３および維持電極１４）をメッシュパターンとするのが好ましい。
In the present invention, by setting the line width of the mesh pattern 4 (or 2) to 10 to 60 μm and the pitch interval to 250 to 500 μm, the total light transmittance can be secured to about 50 to 70%. In the present invention, the display electrode 15 (scanning
（透明基材）
本発明に使用される透明基材１，１１，２１は、可視領域で透明性を有し、一般に全光線透過率が９０％以上のものが好ましい。中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性に優れることから透明基材１として好ましい。透明基材１，１１，２１に使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等からなる厚さ５０〜３００μｍの単層フィルム又は前記樹脂からなる複数層の複合フィルムが挙げられる。
(Transparent substrate)
The
（粘着剤層）
本発明のＰＴＡ表示装置のディスプレイ用光学フィルムに使用される粘着剤層、例えば、図５、図１０、図１４で示す粘着剤層１６，２４を構成する粘着剤としては、可視領域で透明であれば（すなわち、十分な透過率を有すれば）特に限定されず、硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。透明性の観点からは、アクリル系樹脂が好適に用いられる。
(Adhesive layer)
The pressure-sensitive adhesive layer used in the display optical film of the PTA display device of the present invention, for example, the pressure-sensitive adhesive layers 16 and 24 shown in FIGS. 5, 10, and 14, is transparent in the visible region. If it exists (that is, it has sufficient transmittance | permeability), it will not specifically limit, A curable resin may be sufficient and a thermoplastic resin may be sufficient. From the viewpoint of transparency, an acrylic resin is preferably used.
図５の遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）とが同一面の上で交差して形成した複合パターンの上、または図１０の電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）の上には、熱硬化性樹脂又はエネルギー線硬化性樹脂を塗布し、硬化させて、接着性樹脂層（粘着剤層）を形成して平滑な表面にしてもよい（図示は省略）。このときに使用できる接着性樹脂（粘着剤層）としては、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、可視光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などを挙げることができる。 5 on the composite pattern formed by intersecting the light shielding pattern 7 (or 5) of FIG. 5 and the mesh pattern 4 (or 2) having the electromagnetic wave shielding function on the same surface, or the mesh having the electromagnetic wave shielding function of FIG. On the pattern 4 (or 2), a thermosetting resin or an energy ray curable resin may be applied and cured to form an adhesive resin layer (pressure-sensitive adhesive layer) to obtain a smooth surface ( (The illustration is omitted). Examples of the adhesive resin (pressure-sensitive adhesive layer) that can be used at this time include a thermosetting resin, an ultraviolet (UV) curable resin, a visible light curable resin, and an electron beam curable resin.
投入するエネルギーにより硬化する透明樹脂であれば特に限定されるものではない。投入するエネルギーとしては、加熱や、エネルギー線（紫外線、電子線、場合により可視光線など）が挙げられる。
なおエネルギー線硬化樹脂の場合は、エネルギー線照射後に必要に応じて加熱処理を行うことにより、硬化の完全化を図ることもでき、その逆に加熱処理を行ってからエネルギー線照射を行なっても構わず、二種以上のエネルギー線照射を組み合わせても構わない。
The transparent resin is not particularly limited as long as it is cured by the input energy. Examples of the energy to be input include heating and energy rays (ultraviolet rays, electron beams, and in some cases, visible rays).
In the case of energy ray curable resin, it is possible to complete the curing by performing a heat treatment as necessary after the energy ray irradiation, and conversely, even if the energy ray irradiation is performed after the heat treatment is performed. Of course, two or more types of energy beam irradiation may be combined.
熱硬化性樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂およびそれらの変性樹脂を挙げることができる。
エネルギー線硬化粘着性樹脂に用いる樹脂化合物としては、アルキルアクリレートやアルキルメタクリレート、などの単官能の（メタ）アクリレート成分；多価アルコールのジ、トリまたはポリ（メタ）アクリレートやヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートなどの多官能の（メタ）アクリレート成分；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマール酸、グリシジル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミドなどの官能基含有モノマー成分；酢酸ビニル、スチレン、アクリルウレタン系オリゴマーなどが挙げられる。
Examples of the thermosetting resin include polyester resins, acrylic resins, epoxy resins, phenol resins, and modified resins thereof.
Resin compounds used for energy ray curable adhesive resins include monofunctional (meth) acrylate components such as alkyl acrylates and alkyl methacrylates; di-, tri- or poly (meth) acrylates of polyhydric alcohols and hydroxyalkyl (meth) acrylates Polyfunctional (meth) acrylate components such as; acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, itaconic anhydride, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, glycidyl (meth) acrylate, N-methylolacrylamide, etc. Group-containing monomer component; vinyl acetate, styrene, acrylic urethane oligomer and the like.
本発明に適用できる遮光パターン及びメッシュパターンの作製方法は特に限定されないが、導電性薄膜の上にメッキ層を積層したメッキ積層パターンにより作製する方法が好適である。
図６は、本発明に使用される遮光パターンとメッシュパターンからなる複合パターンが形成されたディスプレイ用光学フィルムの部分断面図である。
また、図１１は、本発明に使用されるメッシュパターンが形成されたディスプレイ用光学フィルムの部分断面図である。
A method for producing a light shielding pattern and a mesh pattern applicable to the present invention is not particularly limited, but a method for producing a light-shielding pattern and a mesh pattern obtained by laminating a plating layer on a conductive thin film is preferable.
FIG. 6 is a partial sectional view of an optical film for display on which a composite pattern composed of a light shielding pattern and a mesh pattern used in the present invention is formed.
FIG. 11 is a partial cross-sectional view of an optical film for display on which a mesh pattern used in the present invention is formed.
図６（ａ）において、透明基材１の片面に、導電性薄膜からなる遮光パターン５及び細線メッシュパターン２が形成されている。また、図１１（ａ）において、透明基材１の片面に、導電性薄膜からなる細線メッシュパターン２が形成されている。
ここで、導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、のいずれかであることが好ましい。
In FIG. 6A, a
Here, the conductive thin film is obtained by printing a conductive paste containing at least one selected from a metal thin film composed of a developed silver layer generated by a photographic manufacturing method, metal particles, carbon nanoparticles, or carbon fibers. Metal or metal using either a conductive thin film formed, a conductive thin film formed by printing a paste containing an electroless plating catalyst, a photoresist pattern or a pattern printed with a solvent-soluble printing material as a shielding mask Photolithographic method of conductive thin film formed by peeling (lift-off) method, thin film formed by sputtering or vacuum deposition of metal or metal oxide, which is performed after oxide sputtering or vacuum deposition and after removing shielding mask Conductive thin films and metal foils formed by etching using a photolithographic method. It is preferred sex film is either.
図６（ｂ）において、導電性薄膜からなる遮光パターン５及び細線メッシュパターン２の上にメッキ層６，３が積層されてメッキ積層パターンからなる遮光パターン７及び金属メッシュパターン４が形成される。また、図１１（ｂ）において、導電性薄膜からなる細線メッシュパターン２の上にメッキ層３が積層されてメッキ積層パターンからなる金属メッシュパターン４が形成される。
電磁波シールド機能を有する細線メッシュパターン２、及び金属メッシュパターン４において、メッシュパターンの線幅は、いずれも１０〜６０μｍが好ましく、さらには１５〜４０μｍであることがより好ましい。線幅を１０μｍ未満の微細線にすると、導電性薄膜の細線パターンを導電性のペーストを用いて印刷して形成するためのスクリーン印刷の原版や、金属薄膜層の細線パターンを写真製法で形成するための露光マスクの製造コストが著しく上昇するので好ましくない。逆に線幅を太くして６０μｍを超えると、導電性は高くなるが透視性は低下するので好ましくない。
6B, plating
In the fine
また、細線メッシュパターン２及び金属メッシュパターン４の厚みは、所望とする特性により任意に変えることができるが、好ましくは０．０５〜１５μｍの範囲であり、より好ましくは０．０５〜１０μｍの範囲である。細線メッシュパターン２及び金属メッシュパターン４の膜厚が薄いと電磁波遮蔽性能が低くなり過ぎてしまう。又、細線メッシュパターン２及び金属メッシュパターン４の膜厚が厚いとコスト高の要因となってしまう。
図６（ａ）及び図６（ｂ）において、遮光パターン７（または５）の線幅は、いずれも１００〜１０００μｍが好ましく、さらには３００〜１０００μｍであることがより好ましい。線幅を１００μｍ未満の微細線にすると遮蔽効果が少なく、逆に線幅を太くして１０００μｍを超えると、遮蔽効果は高くなるが透視性は低下するので好ましくない。
Further, the thickness of the fine
6 (a) and 6 (b), the line width of the light-shielding pattern 7 (or 5) is preferably 100 to 1000 μm, and more preferably 300 to 1000 μm. If the line width is a fine line of less than 100 μm, the shielding effect is small, and conversely, if the line width is increased to exceed 1000 μm, the shielding effect is increased, but the transparency is deteriorated.
本発明では、導電性薄膜は、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、のいずれかを用いることができる。
以下にそれぞれの方法による導電性薄膜による遮光パターン及び細線メッシュパターンの作製方法と、併せて金属メッキ層について順に説明する。
In the present invention, the conductive thin film is obtained by printing a conductive paste containing at least one selected from a metal thin film composed of a developed silver layer produced by a photographic manufacturing method, metal particles, carbon nanoparticles, or carbon fibers. A conductive thin film formed by printing, a conductive thin film formed by printing a paste containing an electroless plating catalyst, a photoresist pattern, or a pattern printed with a solvent-soluble printing material as a shielding mask. A conductive thin film formed by a peeling (lift-off) method, which is performed after sputtering or vacuum deposition of metal oxide and removing a shielding mask, or a thin film formed by sputtering or vacuum deposition of metal or metal oxide is subjected to photolithography. Etching a conductive thin film or metal foil formed by etching using a photolithography method. Conductive thin film, can be used either.
Hereinafter, a method for producing a light-shielding pattern and a fine line mesh pattern using a conductive thin film according to each method, and a metal plating layer will be described in order.
（印刷による導電性薄膜の生成）
本発明に用いる導電性ペーストは、導電性薄膜からなる遮光パターン及び細線メッシュパターンとなるものであるから、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを用いることができる。
通常は金属粉末をバインダーとなる樹脂成分に混ぜ込んだ導電性ペーストが用いられる。前記の金属粉末としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム等の金属粉が用いられるが、導電性、価格の点から銅または銀の微粉末を用いるのが好ましい。
印刷したメッシュパターンに含まれる金属粉末に起因する金属光沢を消して外光の反射を抑え、視認性を高めるために、導電性ペーストの中にカーボンブラックなどの黒色顔料を混ぜ込むのが好ましい。黒色顔料は、導電性ペーストの中に０．１〜１０重量％で含有させるのが好ましい。
印刷する細線メッシュパターンの線幅は１０〜６０μｍ程度であることから、導電性ペーストに用いる金属粉末は、特別な超微粒子である必要性はなく、金属粉末の粒子径は０．１〜２μｍであればよい。
(Generation of conductive thin film by printing)
Since the conductive paste used in the present invention is a light shielding pattern and a fine line mesh pattern made of a conductive thin film, the conductive paste contains one or more selected from metal particles, carbon nanoparticles, or carbon fibers. A paste can be used.
Usually, a conductive paste in which metal powder is mixed with a resin component serving as a binder is used. As said metal powder, metal powders, such as copper, silver, nickel, aluminum, are used, However, It is preferable to use the fine powder of copper or silver from the point of electroconductivity and a price.
In order to eliminate the metallic luster caused by the metal powder contained in the printed mesh pattern, suppress reflection of external light, and improve visibility, it is preferable to mix a black pigment such as carbon black into the conductive paste. The black pigment is preferably contained at 0.1 to 10% by weight in the conductive paste.
Since the line width of the fine line mesh pattern to be printed is about 10 to 60 μm, the metal powder used for the conductive paste does not have to be special ultra fine particles, and the particle diameter of the metal powder is 0.1 to 2 μm. I just need it.
導電性ペーストに用いられる樹脂成分としては、好ましくは、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、熱可塑性樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂などの熱可塑性樹脂が用いられる。また、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリイミド樹脂、（メタ）アクリル樹脂などの熱硬化型であってもよい。
導電性ペーストは、これらの樹脂成分に金属粉末、及び黒色顔料を混ぜ込んだ後にアルコールやエーテルなどの有機溶剤を加えて粘度調整を行なう。
図６の透明基材１の片面に、導電性ペーストを用いて遮光パターン５及び細線メッシュパターン２からなる複合パターンを同時に印刷し、溶剤を乾燥除去して、細線からなる複合パターンを硬化させる。あるいは、図１１の透明基材１の片面に、導電性ペーストを用いて細線メッシュパターン２を印刷し、溶剤を乾燥除去して、細線メッシュパターン２を硬化させる。
導電性ペーストを塗布して細線パターンを形成する方法は特に制限されないが、スクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット方式などの方法で印刷するのが好ましい。
As the resin component used for the conductive paste, a thermoplastic resin such as a polyester resin, a (meth) acrylic resin, a thermoplastic resin, a polystyrene resin, or a polyamide resin is preferably used. Moreover, thermosetting types, such as an epoxy resin, an amino resin, a polyimide resin, (meth) acrylic resin, may be sufficient.
In the conductive paste, the metal powder and the black pigment are mixed into these resin components, and then the viscosity is adjusted by adding an organic solvent such as alcohol or ether.
A composite pattern composed of the
A method for forming a fine line pattern by applying a conductive paste is not particularly limited, but printing by a method such as screen printing, gravure printing, or an ink jet method is preferable.
（写真製法による現像銀層からの金属薄膜層の生成）
現像銀層を生成するための写真製法に基づく露光現像法には、（ａ）露光マスクに覆われていなくて露光された部分に現像銀が発現する、即ち、露光マスクと反対の形に現像銀が表れるいわゆるネガ型の露光現像方法と、（ｂ）露光マスクに覆われて露光されなかった部分には現像銀が発現する、即ち、露光マスクと同じ形に現像銀が表れるいわゆるポジ型の露光現像方法の２通りがある。
すなわち、露光現像法には、特開２００４−２２１５６４号公報に記載された方法であって、支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成し、さらに前記金属銀部を物理現像及び／又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成する方法と、ＷＯ２００４／００７８１０に記載された方法（ここでは、ＤＴＲ−メッキ法と称する）とがある。
本発明には、上記の２つの写真製法である（ａ）ネガ型の露光・現像方法と、（ｂ）ポジ型の露光・現像方法のいずれでも適用できる。
(Generation of metal thin film layer from developed silver layer by photographic method)
In the exposure development method based on the photographic method for forming a developed silver layer, (a) developed silver appears in an exposed portion that is not covered with an exposure mask, that is, developed in a shape opposite to the exposure mask. A so-called negative exposure and development method in which silver appears; and (b) a so-called positive type in which developed silver appears in a portion that is covered with an exposure mask and is not exposed, that is, developed silver appears in the same shape as the exposure mask. There are two exposure development methods.
That is, the exposure development method is a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-221564, in which a silver salt-containing layer containing a silver salt provided on a support is exposed and developed to form a metal. Forming a silver part and a light-transmitting part, and further forming a conductive metal part having conductive metal particles supported on the metal silver part by physical development and / or plating treatment of the metal silver part; and , WO 2004/007810 (herein referred to as DTR-plating method).
In the present invention, any of the above-described two photographic production methods (a) negative exposure / development method and (b) positive exposure / development method can be applied.
（写真製法）
以下、重複した説明を避けるため、ポジ型の露光・現像方法（ＤＴＲ法）による現像銀メッシュパターンの作製方法について説明する。ＤＴＲ法の場合、透明基材表面には、予め物理現像核層が設けられていることが好ましい。物理現像核としては、重金属あるいはその硫化物からなる微粒子（粒子サイズは１〜数十ｎｍ程度）が用いられる。例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられる。これらの物理現像核の微粒子層は、真空蒸着法、カソードスパッタリング法、コーティング法等によって透明基材上に設けることができる。生産効率の面からコーティング法が好ましく用いられる。物理現像核層における物理現像核の含有量は、固形分で１平方メートル当たり０．１〜１０ｍｇ程度が適当である。
(Photo production method)
Hereinafter, in order to avoid redundant description, a method for producing a developed silver mesh pattern by a positive exposure / development method (DTR method) will be described. In the case of the DTR method, it is preferable that a physical development nucleus layer is provided in advance on the transparent substrate surface. As the physical development nuclei, fine particles (having a particle size of about 1 to several tens of nm) made of heavy metals or sulfides thereof are used. Examples thereof include colloids such as gold and silver, metal sulfides obtained by mixing water-soluble salts such as palladium and zinc and sulfides, and the like. The fine particle layer of these physical development nuclei can be provided on the transparent substrate by a vacuum deposition method, a cathode sputtering method, a coating method or the like. From the viewpoint of production efficiency, a coating method is preferably used. The content of physical development nuclei in the physical development nuclei layer is suitably about 0.1 to 10 mg per square meter in solid content.
図６及び図１１の透明基材１には、塩化ビニリデンやポリウレタン等のポリマーラテックス層の接着層を設けることができ、また接着層と物理現像核層との間にはゼラチン等の親水性バインダーからなる中間層を設けることもできる。
物理現像核層は、親水性バインダーを含有するのが好ましい。親水性バインダー量は物理現像核に対して１０〜３００質量％程度が好ましい。親水性バインダーとしては、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース、アルブミン、カゼイン、アルギン酸ナトリウム、各種デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとビニルイミダゾールの共重合体等を用いることができる。物理現像核層には親水性バインダーの架橋剤を含有することもできる。
6 and 11 can be provided with an adhesive layer of a polymer latex layer such as vinylidene chloride or polyurethane, and a hydrophilic binder such as gelatin between the adhesive layer and the physical development nucleus layer. An intermediate layer can also be provided.
The physical development nucleus layer preferably contains a hydrophilic binder. The amount of the hydrophilic binder is preferably about 10 to 300% by mass with respect to the physical development nucleus. As the hydrophilic binder, gelatin, gum arabic, cellulose, albumin, casein, sodium alginate, various starches, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, a copolymer of acrylamide and vinyl imidazole, and the like can be used. The physical development nucleus layer may also contain a hydrophilic binder crosslinking agent.
物理現像核層や前記中間層等の塗布には、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティングなどの塗布方式で塗布することができる。本発明において物理現像核層は、上記したコーティング法によって、通常連続した均一な層として設けることが好ましい。
物理現像核層に金属銀を析出させるためのハロゲン化銀の供給は、基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順に一体的に設ける方法、あるいは別の紙やプラスチック樹脂フィルム等の基材上に設けられたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する方法がある。コスト及び生産効率の面からは前者の物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を一体的に設けるのが好ましい。
The physical development nucleus layer and the intermediate layer can be applied by an application method such as dip coating, slide coating, curtain coating, bar coating, air knife coating, roll coating, gravure coating, spray coating, and the like. In the present invention, the physical development nucleus layer is preferably provided as a continuous and uniform layer by the above-described coating method.
The supply of silver halide for precipitating metallic silver on the physical development nucleus layer is performed by a method in which the physical development nucleus layer and the silver halide emulsion layer are integrally provided in this order on the substrate, or another paper or plastic resin film. There is a method of supplying a soluble silver complex salt from a silver halide emulsion layer provided on a substrate such as the above. From the viewpoint of cost and production efficiency, the former physical development nucleus layer and the silver halide emulsion layer are preferably provided integrally.
前記ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀写真感光材料の一般的なハロゲン化銀乳剤の製造方法に従って製造することができる。ハロゲン化銀乳剤は、通常、硝酸銀水溶液、塩化ナトリウムや臭化ナトリウムのハロゲン水溶液をゼラチンの存在下で混合熟成することによって作られる。
前記ハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀組成は、塩化銀を８０モル％以上含有するのが好ましく、特に９０モル％以上が塩化銀であることが好ましい。塩化銀含有率を高くすることによって形成された物理現像銀の導電性が向上する。
前記ハロゲン化銀乳剤層は、各種の光源に対して感光性を有している。本発明において物理現像銀により現像銀からなる複合パターンまたはメッシュパターンを形成する場合、ハロゲン化銀乳剤層の露光方法として、当該複合パターンまたはメッシュパターンの透過原稿とハロゲン化銀乳剤層を密着して露光する方法、あるいは各種レーザー光を用いて走査露光する方法等がある。前者の密着露光は、ハロゲン化銀の感光性は比較的低くても可能であるが、レーザー光を用いた走査露光の場合は比較的高い感光性が要求される。従って、後者の露光方法を用いる場合は、ハロゲン化銀の感光性を高めるために、ハロゲン化銀は化学増感あるいは増感色素による分光増感を施してもよい。
The silver halide emulsion can be produced according to a general method for producing a silver halide emulsion of a silver halide photographic light-sensitive material. The silver halide emulsion is usually prepared by mixing and ripening an aqueous silver nitrate solution, an aqueous halogen solution of sodium chloride or sodium bromide in the presence of gelatin.
The silver halide composition of the silver halide emulsion layer preferably contains 80 mol% or more of silver chloride, and more preferably 90 mol% or more is silver chloride. The conductivity of the physically developed silver formed by increasing the silver chloride content is improved.
The silver halide emulsion layer is sensitive to various light sources. In the present invention, when a composite pattern or mesh pattern composed of developed silver is formed by physically developed silver, as a method for exposing the silver halide emulsion layer, a transparent original of the composite pattern or mesh pattern and the silver halide emulsion layer are closely adhered. There are an exposure method and a scanning exposure method using various laser beams. The former contact exposure is possible even if the silver halide has relatively low photosensitivity, but in the case of scanning exposure using laser light, relatively high photosensitivity is required. Therefore, when the latter exposure method is used, the silver halide may be subjected to chemical sensitization or spectral sensitization with a sensitizing dye in order to increase the sensitivity of the silver halide.
化学増感としては、金化合物や銀化合物を用いた金属増感、硫黄化合物を用いた硫黄増感、あるいはこれらの併用が挙げられる。好ましくは、金化合物と硫黄化合物を併用した金−硫黄増感である。上記したレーザー光で露光する方法においては、４５０ｎｍ以下の発振波長の持つレーザー光、例えば４００〜４３０ｎｍに発振波長を有する青色半導体レーザー（バイオレットレーザーダイオードともいう）を用いることによって、明室下（明るいイエロー蛍光灯下）でも取り扱いが可能となる。
物理現像核層が設けられる基材上の任意の位置、たとえば接着層、中間層、物理現像核層あるいはハロゲン化銀乳剤層、保護層、または支持体を挟んで設けられる裏塗り層にハレーションないしイラジエーション防止用の染料もしくは顔料を含有させてもよい。
物理現像核層の上に直接にあるいは中間層を介してハロゲン化銀乳剤層が塗設された感光材料を用いて現像銀を生成する場合は、複合パターンまたはメッシュパターンの透過原稿と上記感光材料を密着して露光、あるいは、複合パターンまたはメッシュパターンのデジタル画像を各種レーザー光の出力機で上記感光材料に走査露光した後、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で処理することにより銀錯塩拡散転写現像（ＤＴＲ現像）が起こり、未露光部のハロゲン化銀が溶解されて銀錯塩となり、物理現像核上で還元されて金属銀が析出して現像銀からなる複合パターンまたはメッシュパターンの物理現像銀薄膜を得ることができる。露光された部分はハロゲン化銀乳剤層中で化学現像されて黒化銀となる。現像後、ハロゲン化銀乳剤層及び中間層、あるいは必要に応じて設けられた保護層は水洗除去されて、現像銀からなる複合パターンまたはメッシュパターンの物理現像銀薄膜が表面に露出する。
Chemical sensitization includes metal sensitization using a gold compound or silver compound, sulfur sensitization using a sulfur compound, or a combination thereof. Gold-sulfur sensitization using a gold compound and a sulfur compound in combination is preferable. In the above-described method of exposing with laser light, a laser beam having an oscillation wavelength of 450 nm or less, for example, a blue semiconductor laser (also referred to as a violet laser diode) having an oscillation wavelength of 400 to 430 nm is used. It can be handled even under a yellow fluorescent lamp.
Any position on the substrate on which the physical development nucleus layer is provided, for example, an adhesive layer, an intermediate layer, a physical development nucleus layer or a silver halide emulsion layer, a protective layer, or a backing layer provided with a support interposed therebetween. A dye or pigment for preventing irradiation may be contained.
When developing silver is produced using a photosensitive material in which a silver halide emulsion layer is coated directly on the physical development nucleus layer or via an intermediate layer, a composite pattern or mesh pattern transmission original and the above photosensitive material After exposing the photosensitive material to the above photosensitive material with a laser beam output machine, it is processed in an alkaline solution in the presence of a soluble silver complexing agent and a reducing agent. As a result, silver complex diffusion transfer development (DTR development) occurs, the silver halide in the unexposed area is dissolved to form a silver complex salt, which is reduced on the physical development nuclei to deposit metal silver to form a composite pattern consisting of developed silver Alternatively, a physically developed silver thin film having a mesh pattern can be obtained. The exposed portion is chemically developed in the silver halide emulsion layer to become blackened silver. After development, the silver halide emulsion layer and the intermediate layer, or a protective layer provided as necessary, are washed away with water, and a physically developed silver thin film having a composite pattern or mesh pattern made of developed silver is exposed on the surface.
ＤＴＲ現像後、物理現像核層の上に設けられたハロゲン化銀乳剤層等の除去方法は、水洗除去あるいは剥離紙等に転写剥離する方法がある。水洗除去は、スクラビングローラ等を用いて温水シャワーを噴射しながら除去する方法や温水をノズル等でジェット噴射しながら水の勢いで除去する方法がある。
一方、物理現像核層が塗布された基材とは別の基材上に設けたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する場合、前述と同様にハロゲン化銀乳剤層に露光を与えた後、物理現像核層が塗布された基材と、ハロゲン化銀乳剤層が塗布された別の感光材料とを、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で重ね合わせて密着し、アルカリ液中から取り出した後、数十秒〜数分間経過した後に、両者を剥がすことによって、物理現像核上に析出した現像銀からなる、複合パターンまたはメッシュパターンの物理現像銀薄膜が得られる。
After DTR development, the silver halide emulsion layer or the like provided on the physical development nucleus layer may be removed by washing with water or transferring and peeling to a release paper or the like. There are two methods for removing the water washing: a method of removing hot water using a scrubbing roller or the like while jetting it with a nozzle or the like, and a method of removing hot water by jetting with a nozzle or the like.
On the other hand, when supplying a soluble silver complex salt from a silver halide emulsion layer provided on a substrate different from the substrate on which the physical development nucleus layer was coated, the silver halide emulsion layer was exposed in the same manner as described above. After that, the substrate coated with the physical development nucleus layer and another photosensitive material coated with the silver halide emulsion layer are superposed and adhered in an alkaline solution in the presence of a soluble silver complex salt forming agent and a reducing agent. Then, after taking out from the alkali solution, after several tens of seconds to several minutes, a physical development silver thin film having a composite pattern or a mesh pattern composed of developed silver deposited on the physical development nucleus is obtained by peeling both of them. It is done.
次に、銀錯塩拡散転写現像のために必要な可溶性銀錯塩形成剤、還元剤、及びアルカリ液について説明する。可溶性銀錯塩形成剤は、ハロゲン化銀を溶解し可溶性の銀錯塩を形成させる化合物であり、還元剤はこの可溶性銀錯塩を還元して物理現像核上に金属銀を析出させるための化合物であり、これらの作用はアルカリ液中で行われる。
本発明に用いられる可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、アルカノールアミン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、Ｔ．Ｈ．ジェームス編のザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス４版の４７４〜４７５項（１９７７年）に記載されている化合物等が挙げられる。
前記還元剤としては、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。例えば、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン等の３−ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等が挙げられる。
Next, a soluble silver complex salt forming agent, a reducing agent, and an alkali solution necessary for silver complex diffusion transfer development will be described. The soluble silver complex salt forming agent is a compound that dissolves silver halide to form a soluble silver complex salt, and the reducing agent is a compound that reduces this soluble silver complex salt to precipitate metallic silver on physical development nuclei. These actions are performed in an alkaline solution.
Examples of the soluble silver complex forming agent used in the present invention include sodium thiosulfate, thiosulfate such as ammonium thiosulfate, thiocyanate such as sodium thiocyanate and ammonium thiocyanate, alkanolamine, sodium sulfite, and potassium bisulfite. Sulfites such as T. H. Examples include the compounds described in 474-475 (1977) of James The Theory of the Photographic Process 4th edition.
As the reducing agent, a developing agent known in the field of photographic development can be used. For example, hydroquinone, catechol, pyrogallol, methylhydroquinone, polyhydroxybenzenes such as chlorohydroquinone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl- Examples include 3-pyrazolidones such as 4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, paramethylaminophenol, paraaminophenol, parahydroxyphenylglycine, paraphenylenediamine, and the like.
上記した可溶性銀錯塩形成剤及び還元剤は、物理現像核層と一緒に基材に塗布してもよいし、ハロゲン化銀乳剤層中に添加してもよいし、またはアルカリ液中に含有させてもよく、更に複数の位置に含有してもよいが、少なくともアルカリ液中に含有させるのが好ましい。
アルカリ液中への可溶性銀錯塩形成剤の含有量は、現像液１リットル当たり、０．１〜５モルの範囲で用いるのが適当であり、還元剤は現像液１リットル当たり０．０５〜１モルの範囲で用いるのが適当である。
アルカリ液のｐＨは１０以上が好ましく、更に１１〜１４の範囲が好ましい。銀錯塩拡散転写現像を行うためのアルカリ液の適用は、浸漬方式であっても塗布方式であってもよい。浸漬方式は、例えば、タンクに大量に貯流されたアルカリ液中に、物理現像核層及びハロゲン化銀乳剤層が設けられた基材を浸漬しながら搬送するものであり、塗布方式は、例えばハロゲン化銀乳剤層上にアルカリ液を１平方メートル当たり４０〜１２０ｍｌ程度塗布するものである。
The above-described soluble silver complex salt forming agent and reducing agent may be applied to the substrate together with the physical development nucleus layer, added to the silver halide emulsion layer, or contained in an alkaline solution. Further, it may be contained in a plurality of positions, but it is preferably contained in at least the alkaline liquid.
The content of the soluble silver complex salt forming agent in the alkaline solution is suitably used in the range of 0.1 to 5 mol per liter of the developer, and the reducing agent is 0.05 to 1 per liter of the developer. It is suitable to use in the molar range.
The pH of the alkaline solution is preferably 10 or more, and more preferably in the range of 11-14. Application of the alkaline solution for silver complex diffusion transfer development may be an immersion method or a coating method. The immersion method is, for example, a method in which a substrate provided with a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer is transported while being immersed in an alkaline liquid stored in a large amount in a tank. About 40 to 120 ml of alkali solution per square meter is applied on the silver halide emulsion layer.
透視性（目視されないこと）を確保するため、金属薄膜からなる細線メッシュパターン２を構成する。金属薄膜からなる細線メッシュパターン２の上にメッキ３を積層した金属メッシュパターン４の線幅は、１０〜６０μｍが好ましく、さらには１５〜４０μｍであることがより好ましい。金属メッシュパターンのメッキ積層パターンの厚みは、所望とする特性により任意に変えることができるが、好ましくは０．０５〜１５μｍの範囲であり、より好ましくは０．０５〜１０μｍの範囲である。
前述したように、本発明の金属メッシュパターンの線幅を細くして１０μｍ未満にすると、透視性（目視されないこと）は上がるが導電性（及び遮蔽する波長の電磁波の遮蔽性）は低下し、逆に線幅を大きくして６０μｍを超えると、透視性は低下するが導電性は高くなる。また、線幅を１０μｍ未満の微細線にすると、金属層の細線パターンを写真製法で形成するための露光マスクの製造コストが著しく上昇するので好ましくない。
In order to ensure transparency (not visually observed), a fine
As described above, when the line width of the metal mesh pattern of the present invention is reduced to less than 10 μm, the transparency (not visible) increases, but the conductivity (and the shielding property of electromagnetic waves having a wavelength to be shielded) decreases. Conversely, when the line width is increased to exceed 60 μm, the transparency is lowered but the conductivity is increased. In addition, if the line width is a fine line of less than 10 μm, the manufacturing cost of an exposure mask for forming a fine line pattern of a metal layer by a photographic method is remarkably increased, which is not preferable.
本発明に係る透明基材上に形成された任意の細線パターンの物理現像による現像銀層は、膜厚みが極めて薄いが導電性が高いので、細線化することが可能であり電磁波シールド材の透視性を高くすることができる。
また、この物理現像による現像銀層自身は、現像処理後に得られた現像銀層を形成する金属銀粒子が極めて小さく、かつ、現像銀層中に存在する親水性バインダー量が極めて少ないことにより、現像銀層を形成する金属銀粒子が最密充填状態に近い状態で現像銀層が形成されて通電性を有しているため、銅やニッケルなどの金属による鍍金（メッキ）を施すことが可能であり、必要に応じて、現像銀層の上に金属メッキ層を積層することができる。
The developed silver layer formed by physical development of an arbitrary fine line pattern formed on the transparent substrate according to the present invention has a very thin film thickness but is highly conductive, so it can be thinned and can be seen through the electromagnetic shielding material. Sexuality can be increased.
In addition, the developed silver layer itself by this physical development, the metal silver particles forming the developed silver layer obtained after the development process is very small, and the amount of the hydrophilic binder present in the developed silver layer is extremely small, Since the developed silver layer is formed in the state where the developed silver layer is close to the close-packed state and has electric conductivity, it can be plated with a metal such as copper or nickel. If necessary, a metal plating layer can be laminated on the developed silver layer.
（露光装置）
上記のハロゲン化銀乳剤層を露光する露光装置としては、枚葉式の露光マスク（フォトマスク）を用いる枚葉処理方式の露光装置と、連続したパターンが形成できる連続露光装置とがある。枚葉処理方式の露光装置は、所定のマスクパターンが形成された枚葉式の露光マスク（フォトマスク）を用いて、基材を間欠送りで露光装置に送り、装置内を真空排気して露光マスクと基材とを密着させて隙間を無くしてから、例えば紫外線で露光する。枚葉処理方式の露光装置では、真空排気、露光、大気開放を間欠的に行うので、連続的な生産ができず、処理速度は遅くなる。
これに対して、基材を連続的に露光できる連続露光装置を用いると、枚葉処理方式の露光装置に比較して処理速度が速く、連続的な生産が可能になるという長所がある。
連続露光装置の一例としては、写真製法における露光に用いられる光を透過する材質からなる円筒ドラムと、円筒ドラムの外周壁に設けられたメッシュパターンが形成された露光マスクフィルムと、円筒ドラムの内部に配設された露光用光源とを備え、円筒ドラムの内側の光源から出射した光によって円筒ドラムに巻き付けられた基材を露光する装置である。
(Exposure equipment)
As the exposure apparatus for exposing the silver halide emulsion layer, there are a single wafer processing type exposure apparatus using a single wafer type exposure mask (photomask) and a continuous exposure apparatus capable of forming a continuous pattern. A single wafer processing type exposure apparatus uses a single wafer type exposure mask (photomask) on which a predetermined mask pattern is formed, feeds the substrate to the exposure apparatus intermittently, and evacuates the inside of the apparatus for exposure. After the mask and the substrate are brought into close contact with each other and no gap is formed, exposure is performed with, for example, ultraviolet rays. In a single wafer processing type exposure apparatus, since vacuum evacuation, exposure, and release to the atmosphere are intermittently performed, continuous production cannot be performed, and the processing speed becomes slow.
On the other hand, when a continuous exposure apparatus capable of continuously exposing the substrate is used, there is an advantage that the processing speed is higher than that of the single wafer processing type exposure apparatus and continuous production is possible.
As an example of the continuous exposure apparatus, a cylindrical drum made of a material that transmits light used for exposure in a photographic method, an exposure mask film formed with a mesh pattern provided on the outer peripheral wall of the cylindrical drum, and the inside of the cylindrical drum And an exposure light source disposed on the surface of the cylindrical drum, and exposes a substrate wound around the cylindrical drum with light emitted from a light source inside the cylindrical drum.
（蒸着による導電性薄膜の生成）
本発明で使用される金属または金属酸化物の蒸着層からなる導電性薄膜の複合パターンまたはメッシュパターンは、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜のいずれかを用いることができる。
その中でも、簡便さの点から剥離（リフトオフ）法を用いて形成されるのが好ましい。剥離（リフトオフ）法では、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して、複合パターンまたはメッシュパターンの導電性薄膜が形成される。
(Generation of conductive thin film by vapor deposition)
The composite pattern or mesh pattern of the conductive thin film comprising the metal or metal oxide vapor-deposited layer used in the present invention uses either a photoresist pattern or a pattern printed with a solvent-soluble printing material as a shielding mask. Conductive thin film formed by peeling (lift-off) method, which is performed by removing a shielding mask after performing sputtering or vacuum deposition of metal or metal oxide, or thin film formed by sputtering or vacuum deposition of metal or metal oxide Any of the conductive thin films formed by etching with a photolithography method can be used.
Among these, it is preferable to use a peeling (lift-off) method from the viewpoint of simplicity. In the peeling (lift-off) method, either a photoresist pattern or a pattern printed with a solvent-soluble printing material is used as a shielding mask, vacuum deposition is performed, the shielding mask is then removed, and the composite pattern or mesh pattern is conductive. A conductive thin film is formed.
フォトレジストパターンを遮蔽マスクとして用いて行なう、剥離（リフトオフ）法による細線メッシュパターンの形成方法は、次による。
まず、基材上にレジストを塗布した後、熱処理（プリベーク）を行い、レジストから溶媒を除去する。次に、フォトマスクを用いてレジストに所望のパターンを露光した後、レジストパターンを現像して遮蔽マスクとなるレジストパターンを形成する。次に、基材とレジストパターンからなる遮蔽マスクの上に、全面に渡って蒸着膜を形成した後、レジスト剥離剤を用いて遮蔽マスクとその上に乗っている蒸着膜とを同時に除去し、基材の上に残された蒸着膜からなる、複合パターンまたはメッシュパターンの導電性薄膜を得る。
A method for forming a fine line mesh pattern by a peeling (lift-off) method performed using a photoresist pattern as a shielding mask is as follows.
First, after applying a resist on a substrate, heat treatment (pre-baking) is performed to remove the solvent from the resist. Next, after exposing a desired pattern to the resist using a photomask, the resist pattern is developed to form a resist pattern to be a shielding mask. Next, on the shielding mask composed of the base material and the resist pattern, after forming the vapor deposition film over the entire surface, using the resist remover, the shielding mask and the vapor deposition film on the mask are simultaneously removed, A conductive thin film having a composite pattern or a mesh pattern made of a deposited film left on the substrate is obtained.
溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて行なう、剥離（リフトオフ）法による細線メッシュパターンの形成方法は、次による。
まず、基材上に溶剤溶解性の樹脂を主成分とする印刷材料で遮蔽マスクとなる部分を印刷する。次に、基材の上と印刷材料からなる遮蔽マスクの上に、全面に渡って蒸着膜を形成した後、溶剤を用いて遮蔽マスクとその上に乗っている蒸着膜とを同時に除去して、基材の上に残された蒸着膜からなる、複合パターンまたはメッシュパターンの導電性薄膜を得る。
A method for forming a fine line mesh pattern by a peeling (lift-off) method performed using a pattern printed with a solvent-soluble printing material as a shielding mask is as follows.
First, the part which becomes a shielding mask is printed on the base material with the printing material which has solvent-soluble resin as a main component. Next, after forming a vapor deposition film over the entire surface on the base material and the shielding mask made of the printing material, the shielding mask and the vapor deposition film on it are removed simultaneously using a solvent. Then, a conductive thin film having a composite pattern or a mesh pattern made of a deposited film left on the substrate is obtained.
（金属メッキ層）
複合パターンまたはメッシュパターンの導電性薄膜の上に金属メッキ層を積層するときに用いるメッキ法は、遮光パターン及び電磁波シールド用の細線メッシュパターンが組み合わされて形成された複合パターンのように、連続のパターンが２次元的に配設された場合では、無電解メッキ法、電解メッキ法あるいは両者を組み合わせたメッキ法のいずれでも可能である。
本発明において、金属メッキ法は公知の方法で行うことができるが、例えば無電解メッキ法は、銅、ニッケル、銀、金、スズ、はんだ、あるいは銅／ニッケルの多層あるいは複合系などの従来公知の方法を使用でき、これらについては、「無電解めっき 基礎と応用；日刊工業新聞社、１９９４年５月３０日初版」等の文献を参照することができる。
(Metal plating layer)
The plating method used when laminating a metal plating layer on a conductive thin film of a composite pattern or mesh pattern is a continuous pattern like a composite pattern formed by combining a light shielding pattern and a fine wire mesh pattern for electromagnetic shielding. In the case where the patterns are two-dimensionally arranged, any of electroless plating, electrolytic plating, or a combination of both is possible.
In the present invention, the metal plating method can be performed by a known method. For example, the electroless plating method is conventionally known, such as copper, nickel, silver, gold, tin, solder, or a multilayer or composite system of copper / nickel. These methods can be used, and for these, reference can be made to documents such as “Basics and Applications of Electroless Plating; Nikkan Kogyo Shimbun, May 30, 1994, First Edition”.
メッキが容易で、かつメッキ層の導電性が優れ、さらに厚膜にメッキでき、低コストであるなどの理由により、メッキに用いる金属としては、銅（Ｃｕ）および／またはニッケル（Ｎｉ）が好ましい。金属メッキ層は、メッキを複数回行うことにより、同種の金属または異種の金属を複数層積層することも好ましい。例えば、現像銀層の上に第１のメッキ層、さらにその上に第２のメッキ層を積層する場合に、一方のメッキ層が無電解ニッケルメッキ層であり、他方のメッキ層が無電解銅メッキ層である組み合わせが好ましい。
メッキに使用するメッキ槽の型式は、竪型、横型のいずれであっても構わないが、所定のメッキ滞留時間を確保できるように長さを決定する。
Copper (Cu) and / or nickel (Ni) is preferable as the metal used for plating because it is easy to plate and the plating layer has excellent conductivity, can be plated into a thick film, and is low in cost. . The metal plating layer is preferably formed by laminating a plurality of layers of the same kind of metal or different kinds of metals by performing plating a plurality of times. For example, when a first plating layer is laminated on a developed silver layer and a second plating layer is further laminated thereon, one plating layer is an electroless nickel plating layer, and the other plating layer is an electroless copper. A combination that is a plating layer is preferred.
The type of plating tank used for plating may be either a vertical type or a horizontal type, but the length is determined so as to ensure a predetermined plating residence time.
（金属箔のエッチングによる金属メッシュパターン）
本発明に使用されるディスプレイ用光学フィルムには、前述のとおり、導電性薄膜からなる遮光パターンと細線メッシュパターンが組み合わされた複合パターン、その導電性薄膜の上にメッキ層を積層した複合パターン、導電性薄膜からなるメッシュパターン、またはその導電性薄膜の上にメッキ層を積層したメッシュパターンが用いられるが、図６及び図１１の透明基材１に金属箔を接着剤により貼り合せた後、公知技術であるフォトリソ法によりエッチングして形成した、遮光パターンと金属メッシュパターンとが複合したパターンを使用することもできる。導電性の金属箔であれば、材質は特に制限されなくて、銅、アルミ、錫などの箔を使用することができる。その中でも、価格が安価であり、エッチング処理の腐食速度が速い点から、銅箔が好適に使用される。
(Metal mesh pattern by etching metal foil)
As described above, the optical film for display used in the present invention is a composite pattern in which a light shielding pattern made of a conductive thin film and a fine line mesh pattern are combined, a composite pattern in which a plating layer is laminated on the conductive thin film, A mesh pattern composed of a conductive thin film or a mesh pattern in which a plating layer is laminated on the conductive thin film is used. After bonding a metal foil to the
銅箔は、電解銅箔または圧延銅箔のいずれも用いることができる。本発明に使用できる、一般的な銅箔の厚みは６〜１５μｍ程度である。厚みが６μｍよりも薄い銅箔は、特殊な製品であって高価であることから、安価なディスプレイ用光学フィルムの部材には、採用することが困難である。また、厚みが１５μｍを超える場合は、エッチングの処理費用および廃液の処理費用が嵩むことから好ましくない。
銅箔がエッチングされた箇所に露出される透明基材１の表面は、銅箔の表面が有する凸凹が接着剤層に転写されていて、接着剤層の凸凹表面が露出するため透過光が散乱されることから光線透過率が低下してしまう問題を有する。この問題を解決するには、メッシュパターンの凸凹面を、透明な樹脂や粘着剤で埋め、加圧しながら高温に保持して行なう透明化処理を施す必要がある。
また、銅箔を用いた場合は、金属素材の光沢色である茶色を目立たなくするために、表面を黒化処理するのが好ましい。
As the copper foil, either an electrolytic copper foil or a rolled copper foil can be used. The thickness of a general copper foil that can be used in the present invention is about 6 to 15 μm. A copper foil having a thickness of less than 6 μm is a special product and is expensive, so it is difficult to adopt it as a member for an inexpensive optical film for display. On the other hand, when the thickness exceeds 15 μm, it is not preferable because the etching processing cost and the waste liquid processing cost increase.
The surface of the
When copper foil is used, it is preferable to blacken the surface in order to make the brown color of the metallic material inconspicuous.
（黒化処理）
前記金属メッキ層の表面に黒化処理を施すことにより、反射率を低下させるための黒化層を形成してもよい。黒化層は、光を反射しにくい暗色の層であればよく、真黒だけでなく、例えば黒っぽい茶色や黒っぽい緑色等でもよい。黒化層の形成により、金属細線が一層目立ちにくくなり、本発明のディスプレイ用光学フィルムを有する前面板を前面パネルに貼り付けて用いる場合にディスプレイの画面が見やすくなるため、好ましい。
黒化層は、黒色インクの塗布によるインキ処理、ルテニウムやニッケル、スズなどの表面が黒色を呈する金属のメッキによる黒化メッキ処理、金属細線の化成処理（酸化処理等）などにより形成することができる。このうち化成処理では、金属層の表面に金属酸化物の薄膜が形成されることにより、黒色を呈するようになる。
(Blackening treatment)
You may form the blackening layer for reducing a reflectance by performing the blackening process on the surface of the said metal plating layer. The blackening layer may be a dark layer that hardly reflects light, and may be not only black but also, for example, blackish brown or blackish green. The formation of the blackening layer is preferable because the fine metal wires are less noticeable and the front screen having the optical film for display of the present invention is attached to the front panel for easy viewing.
The blackening layer may be formed by an ink treatment by applying black ink, a blackening plating treatment by plating a metal such as ruthenium, nickel, or tin that has a black surface, or a chemical conversion treatment (oxidation treatment, etc.) of a fine metal wire. it can. Among these, in the chemical conversion treatment, a thin film of metal oxide is formed on the surface of the metal layer, and thus black color is exhibited.
上記の説明は、本発明に適用できる遮光パターン及び電磁波シールド機能を有するメッシュパターンの作製方法として、導電性薄膜からなる遮光パターン及び細線メッシュパターンの上にメッキ層を積層したメッキ積層パターンとして作製する方法を示した。
また、導電性薄膜の作製方法として、写真製法により生成された現像銀層からなる金属薄膜、金属粒子、カーボンナノ粒子もしくはカーボンファイバーの中から選択された１種以上を含有する導電性ペーストを印刷して形成した導電性薄膜、無電解メッキ触媒を含有するペーストを印刷して形成した導電性薄膜、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンのいずれかを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう、剥離（リフトオフ）法により形成した導電性薄膜、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、金属箔をフォトリソ法によりエッチングして形成した導電性薄膜、などによる作製方法を示した。
In the above description, as a method for producing a light shielding pattern and a mesh pattern having an electromagnetic wave shielding function applicable to the present invention, it is produced as a plating laminated pattern in which a plating layer is laminated on a light shielding pattern made of a conductive thin film and a fine wire mesh pattern. The method was shown.
In addition, as a method for producing a conductive thin film, a conductive paste containing at least one selected from a metal thin film composed of a developed silver layer, a metal particle, a carbon nanoparticle, or a carbon fiber formed by a photographic method is printed. Metal using either a conductive thin film formed by printing, a conductive thin film formed by printing a paste containing an electroless plating catalyst, a pattern printed with a photoresist pattern or a solvent-soluble printing material as a shielding mask Alternatively, a conductive thin film formed by a peeling (lift-off) method performed by removing a shielding mask after performing sputtering or vacuum deposition of metal oxide, or a thin film formed by sputtering or vacuum deposition of metal or metal oxide. Conductive thin film and metal foil formed by etching by photolithography method are etched by photolithography method. The formed electroconductive thin film showed a manufacturing method due.
（ディスプレイ用光学フィルター）
図６及び図１１に示した、本発明のディスプレイ用光学フィルム１０，２８に、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層することにより、ディスプレイに使用される光学フィルターを作製することができる。
ディスプレイに使用される光学フィルターは、ディスプレイの画面サイズに裁断された各種の機能性フィルムを、枚葉で貼り合せて行なう方法と、ロール体で用意された長尺の各種の機能性フィルムをロールｔｏロールで連続して貼り合せて行ない、光学フィルターの作製されたロール状の長尺フィルムとし、ディスプレイの画面サイズに応じて裁断する方法のいずれを用いても作製することができる。
(Optical filter for display)
6 and 11, the near-infrared absorbing layer, ultraviolet absorbing layer, neon light absorbing layer, antireflection layer, hard coat layer, antifouling layer, antistatic layer are added to the display
The optical filter used for the display is a method of laminating various functional films cut to the screen size of the display with a single sheet, and rolls various functional films prepared in rolls. It can be produced by any of the methods of performing continuous lamination with to rolls to form a roll-like long film with an optical filter and cutting according to the screen size of the display.
しかし、一般的に行なわれている工業的な生産方法としては、生産性を高めて製造コストを下げるために、ロールｔｏロールで連続して貼り合せる生産方法が採用される。
本発明に使用される、長尺のディスプレイ用光学フィルムと、各種の機能性フィルムを積層して長尺の光学フィルターを作製する方法は、次のように行なわれる。
まず、剥離処理された表面が平滑な長尺の剥離フィルムの片面に、光学機能層として近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層などの機能層から必要とされる機能層を選択して積層した後、ロール状に巻いて光学積層フィルムのロール体を作製する。
次に、作製したロール体から巻き戻して供給される長尺のディスプレイ用光学フィルムと、ロール体から巻き戻して供給される長尺の光学積層フィルムとを、粘着剤層を介して貼り合せて長尺の積層フィルムからなる光学フィルターが作製される。
However, as an industrial production method that is generally performed, a production method in which bonding is continuously performed in a roll-to-roll manner is employed in order to increase productivity and reduce manufacturing costs.
A method for producing a long optical filter by laminating a long display optical film and various functional films used in the present invention is performed as follows.
First, on one side of a long release film with a smooth surface, the near-infrared absorbing layer, ultraviolet absorbing layer, neon light absorbing layer, antireflection layer, hard coat layer, antifouling layer, electrification as an optical functional layer A functional layer required from functional layers such as a prevention layer is selected and laminated, and then rolled into a roll to produce a roll of an optical laminated film.
Next, the long optical film for display that is rewound and supplied from the produced roll body and the long optical laminated film that is rewound and supplied from the roll body are bonded together via an adhesive layer. An optical filter made of a long laminated film is produced.
ここで、長尺の光学積層フィルムの横幅寸法は、貼り合せるディスプレイ用光学フィルムの横幅寸法と同じである必要はなく、少なくとも光学フィルムに配設されているディスプレイ画面に応じた電極枠を完全に覆うことができるような横幅寸法を有していれば良い。なお、光学フィルム光学積層フィルムとの貼り合せに際しては、基材に粘着剤をコートしながら貼り合せることが可能であるが、事前に光学フィルム、又は光学積層フィルムのどちらかの基材に粘着剤層を積層し剥離フィルムで保護して置くのが好ましい。 Here, the width dimension of the long optical laminated film does not have to be the same as the width dimension of the display optical film to be bonded, and at least the electrode frame corresponding to the display screen disposed on the optical film is completely formed. What is necessary is just to have the width dimension which can be covered. In addition, it is possible to bond the optical film with the optical laminated film while coating the base material with an adhesive. However, the optical film or the optical laminated film is previously coated with the adhesive. The layers are preferably laminated and protected with a release film.
（近赤外線吸収層）
本発明では、必要に応じて、ロール体から巻き戻して供給される長尺の少なくとも近赤外線吸収層を有する光学機能性フィルムを用いることができる。
近赤外線吸収層は、近赤外線吸収剤層を含む両面粘着フィルムであることが好ましい。この場合には、当該両面粘着フィルムを構成する粘着剤層のうち光学機能性フィルムの外面に露出されるほうの粘着剤層を、光学フィルム１０，２８と光学機能性フィルムとを貼り合せる粘着剤層として利用することができる。
この近赤外線吸収層用の両面粘着フィルムを構成する両面の透明樹脂からなる剥離フィルム（セパレーター）を剥がして、例えば、ロール体から巻き戻して供給される、紫外線吸収剤が混入された長尺の透明基材や透明樹脂層と貼り合せる際、両面粘着フィルムのセパレーターは、片側のみ剥がしてあればよく、反対面のセパレーターは両面粘着フィルムと合わせたままで良い。
(Near-infrared absorbing layer)
In the present invention, if necessary, an optical functional film having a long at least near-infrared absorbing layer fed back from a roll body and supplied can be used.
The near infrared absorbing layer is preferably a double-sided pressure-sensitive adhesive film including a near infrared absorbing layer. In this case, among the pressure-sensitive adhesive layers constituting the double-sided pressure-sensitive adhesive film, the pressure-sensitive adhesive layer that is exposed on the outer surface of the optical functional film is bonded to the
Remove the release film (separator) made of transparent resin on both sides that constitutes the double-sided adhesive film for the near infrared absorbing layer, and for example, a long film mixed with an ultraviolet absorbent that is supplied by rewinding from a roll body. When pasting together with a transparent base material or a transparent resin layer, the separator of a double-sided adhesive film should just peel off only one side, and the separator on the opposite side may be united with a double-sided adhesive film.
近赤外線吸収用層の両面粘着フィルムは、近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層の両面に、粘着剤層と透明樹脂からなる剥離フィルムとを順に積層してなることが好ましい。
また、前記近赤外線吸収色素は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの吸収波長帯において、それぞれ異なる波長帯域に吸収能の極大値を有する長波長用の吸収色素と短波長用の吸収色素との２種類からなることが好ましい。
The double-sided pressure-sensitive adhesive film of the near-infrared absorbing layer is preferably formed by sequentially laminating a pressure-sensitive adhesive layer and a release film made of a transparent resin on both sides of the transparent resin layer in which the near-infrared absorbing pigment is dispersed.
Further, the near-infrared absorbing dye is composed of two types of long-wavelength absorbing dye and short-wavelength absorbing dye having absorption maximum values in different wavelength bands in the absorption wavelength band of 850 nm to 1100 nm. Is preferred.
前記長波長用の近赤外線吸収色素がジインモニウム塩系化合物の中から選択された１種であり、かつ、前記短波長用の近赤外線吸収色素がフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物の中から選択された１種または２種類以上の色素であることが好ましい。 The long-wavelength near-infrared absorbing dye is one selected from diimonium salt compounds, and the short-wavelength near-infrared absorbing dye is a phthalocyanine compound, a cyanine compound, or a thiol nickel complex compound. It is preferable that it is 1 type, or 2 or more types of pigment | dyes selected from these.
（近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層）
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層の機能としては、波長領域８５０〜１１００ｎｍの近赤外線透過率を１５％以下、好ましくは１０％以下に低下させるものであることが望ましい。
近赤外線吸収色素の具体例としては、インモニウム塩系化合物、ジインモニウム塩系化合物、アミニウム塩系化合物、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、トリアリールメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、カーボンブラック、酸化アンチモン、酸化インジウムをドープした酸化錫、周期表の４族、５族または６族に属する金属の酸化物若しくは炭化物若しくはホウ化物等が挙げられる。
(Transparent resin layer in which near-infrared absorbing pigment is dispersed)
As a function of the transparent resin layer in which the near-infrared absorbing pigment is dispersed, it is desirable to reduce the near-infrared transmittance in the wavelength region of 850 to 1100 nm to 15% or less, preferably 10% or less.
Specific examples of near-infrared absorbing dyes include immonium salt compounds, diimmonium salt compounds, aminium salt compounds, nitroso compounds and their metal complexes, cyanine compounds, squarylium compounds, thiol nickel complex compounds, aminothiol nickel compounds Complex salt compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, triarylmethane compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, amino compounds, carbon black, antimony oxide, tin oxide doped with indium oxide,
近赤外線吸収色素は、８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの吸収波長帯において、それぞれ異なる波長帯域に吸収能を有する長波長用の近赤外線吸収色素と短波長用の近赤外線吸収色素との２種類以上の色素からなることが好ましい。
前記長波長用の近赤外線吸収色素がジインモニウム塩系化合物の中から選択された１種であり、かつ、前記短波長用の近赤外線吸収色素がフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物の中から選択された１種または２種類以上の色素であることが好ましい。
The near-infrared absorbing dye is composed of two or more kinds of dyes, a long-wavelength near-infrared absorbing dye and a short-wavelength near-infrared absorbing dye, each having absorption ability in different wavelength bands in the absorption wavelength band of 850 nm to 1100 nm. It is preferable.
The near-infrared absorbing dye for long wavelengths is one selected from diimmonium salt compounds, and the near-infrared absorbing dye for short wavelengths is phthalocyanine compounds, cyanine compounds, thiol nickel complex compounds It is preferable that it is 1 type, or 2 or more types of pigment | dyes selected from these.
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層は、透明樹脂からなるバインダーに近赤外線吸収色素を分散して形成することができる。
上記バインダー樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は８０〜１６０℃であることが好ましい。これにより、バインダー樹脂自体の耐候性が向上することになり、近赤外線吸収性塗膜の近赤外線吸収性能が持続すると共に、近赤外線吸収性塗膜自体の耐候性や物性がより向上することとなる。好ましくは、−５０〜１３０℃であり、より好ましくは、２０〜１１０℃であり、更に好ましくは、４０〜１００℃である。
The transparent resin layer in which the near infrared absorbing dye is dispersed can be formed by dispersing the near infrared absorbing dye in a binder made of a transparent resin.
The glass transition temperature (Tg) of the binder resin is preferably 80 to 160 ° C. As a result, the weather resistance of the binder resin itself is improved, the near infrared absorbing performance of the near infrared absorbing coating film is maintained, and the weather resistance and physical properties of the near infrared absorbing coating film itself are further improved. Become. Preferably, it is -50-130 degreeC, More preferably, it is 20-110 degreeC, More preferably, it is 40-100 degreeC.
上記バインダー樹脂の種類としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、アルキド系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂や、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂等が挙げられ、熱可塑性樹脂でもよく、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等の硬化性樹脂でもよい。また、エチレン−プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム等の合成ゴム又は天然ゴム等の有機系バインダー樹脂；シリカゾル、アルカリ珪酸塩、シリコンアルコキシドやそれらの（加水分解）縮合物、リン酸塩等の無機系結着剤等の従来公知のバインダー樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 Examples of the binder resin include (meth) acrylic resin, (meth) acrylic urethane resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, melamine resin, urethane resin, styrene resin, and alkyd resin. Modification of resins, phenolic resins, epoxy resins, polyester resins, (meth) acrylic silicone resins, alkylpolysiloxane resins, silicone resins, silicone alkyd resins, silicone urethane resins, silicone polyester resins, silicone acrylic resins, etc. Examples include fluororesins such as silicone resins, polyvinylidene fluoride, and fluoroolefin vinyl ether polymers. Thermoplastic resins may be used, and thermosetting resins, moisture curable resins, UV curable resins, electron beam curable resins, etc. Resin may be usedAlso, organic binder resins such as synthetic rubber such as ethylene-propylene copolymer rubber, polybutadiene rubber, styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber or natural rubber; silica sol, alkali silicate, silicon alkoxide and their (hydrolysis) Conventionally known binder resins such as inorganic binders such as condensates and phosphates may be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
これらの中でも、比較的低温で乾燥して近赤外線吸収性塗膜を形成することができる点で、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアルキド樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテルポリマー等のフッ素系樹脂であることが好ましい。なお、アクリル系樹脂とメタクリル系樹脂をアクリル系樹脂ともいう。 Among these, (meth) acrylic resins, (meth) acrylic urethane resins, (meth) acrylic silicone resins, polyesters can be dried at a relatively low temperature to form a near-infrared absorbing coating film. It is preferably a fluorine-based resin such as a modified resin such as a vinyl resin, a silicone resin, a silicone alkyd resin, a silicone urethane resin, a silicone polyester resin, or a silicone acrylic resin, a polyvinylidene fluoride, or a fluoroolefin vinyl ether polymer. Note that acrylic resins and methacrylic resins are also referred to as acrylic resins.
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層を形成する際に、上述した以外の配合物として、例えば、溶剤や添加剤等を１種又は２種以上含んでいてもよい。このような溶剤としては、特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルホルムアミド等の１種又は２種以上の有機溶剤が挙げられる。 When forming the transparent resin layer in which the near-infrared absorbing pigment is dispersed, as a compound other than those described above, for example, one or more solvents, additives, and the like may be included. Such a solvent is not particularly limited, and examples thereof include aromatic solvents such as toluene and xylene; alcohol solvents such as isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, propylene glycol methyl ether, and dipropylene glycol methyl ether; butyl acetate. Ester solvents such as ethyl acetate and cellosolve acetate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; one or more organic solvents such as dimethylformamide.
また、添加剤としては、フィルムやコーティング膜等を形成する樹脂組成物に一般に使用される従来公知の添加剤等を用いることができ、例えば、レベリング剤；コロイド状シリカ、アルミナゾル等の無機微粒子、消泡剤、タレ性防止剤、シランカップリング剤、粘性改質剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、可塑剤、潤滑剤、防錆剤、有機及び無機系紫外線吸収剤、無機系熱線吸収剤、有機・無機防炎剤、静電防止剤等が挙げられる。 In addition, as the additive, a conventionally known additive generally used in a resin composition for forming a film, a coating film, or the like can be used. For example, a leveling agent; inorganic fine particles such as colloidal silica and alumina sol; Antifoaming agent, anti-sagging agent, silane coupling agent, viscosity modifier, metal deactivator, peroxide decomposer, plasticizer, lubricant, rust preventive agent, organic and inorganic UV absorber, inorganic System heat ray absorbent, organic / inorganic flameproofing agent, antistatic agent and the like.
色素の耐久性を向上するためにクエンチャーや酸化防止剤を配合することもできる。
このようなクエンチャーとしては、金属錯体系の材料が挙げられ、例えば、みどり化学社製の商品名「ＭＩＲ１０１」、住友精化社製の商品名「ＥＳＴ５」等が挙げられる。
酸化防止剤の代表的なものとしては、ヒンダードアミン系化合物、ヒンダードフェノール系化合物、ホスファイト系化合物等があり、これらを１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
In order to improve the durability of the dye, a quencher or an antioxidant can be added.
Examples of such quenchers include metal complex materials, such as “MIR101” manufactured by Midori Chemical Co., “EST5” manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd., and the like.
Representative antioxidants include hindered amine compounds, hindered phenol compounds, phosphite compounds, and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.
近赤外線吸収色素が分散された透明樹脂層を塗布する方法としては、例えば、浸漬、吹き付け、刷毛塗り、カーテンフローコート、グラビアコート、ロールコート、スピンコート、ブレードコート、バーコート、リバースコート、ダイコート、スプレーコート、静電塗装等の方法が挙げられる。これらの場合には、近赤外線吸収性樹脂組成物に上述した有機溶剤を適宜混合させて塗布することができる。
上記近赤外線吸収剤層の厚さとしては、使用用途等により適宜設定すればよく特に限定されるものではない。例えば、乾燥時の厚さを１〜５０μｍ、好ましくは、１〜２０μｍである。
Examples of the method for applying the transparent resin layer in which the near infrared absorbing dye is dispersed include immersion, spraying, brush coating, curtain flow coating, gravure coating, roll coating, spin coating, blade coating, bar coating, reverse coating, and die coating. , Spray coating, electrostatic coating and the like. In these cases, the organic solvent described above can be appropriately mixed and applied to the near-infrared absorbing resin composition.
The thickness of the near infrared absorber layer is not particularly limited as long as it is appropriately set depending on the intended use. For example, the thickness upon drying is 1 to 50 μm, preferably 1 to 20 μm.
（紫外線吸収層）
紫外線吸収層は、外部光による近赤外線吸収層の劣化を防ぐため、近赤外線吸収層よりも視覚側に設けられる。紫外線吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。
紫外線吸収層を形成する方法としては、透明基材や透明樹脂層、粘着剤層の中に紫外線吸収剤を混入させる方法、紫外線吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。
(UV absorbing layer)
The ultraviolet absorbing layer is provided closer to the visual side than the near infrared absorbing layer in order to prevent the near infrared absorbing layer from being deteriorated by external light. If necessary, one or more ultraviolet absorbing layers can be provided at an appropriate position of the optical filter.
As a method for forming the ultraviolet absorbing layer, a method of mixing an ultraviolet absorber in a transparent substrate, a transparent resin layer, or an adhesive layer, a coating solution containing the ultraviolet absorber is directly or otherwise applied to the transparent substrate. The method of apply | coating through the layer of this is mentioned.
紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤のいずれも使用可能であるが、５０％透過率での波長が３５０〜４２０ｎｍのものが好ましく、より好ましくは３６０ｎｍ〜４００ｎｍである。５０％透過率での波長が３５０ｎｍより低波長の紫外線吸収剤は、紫外線遮断能が弱く、同波長が４２０ｎｍより高波長の紫外線吸収剤は着色が強くなり、好ましくない。 As the ultraviolet absorber, both an organic ultraviolet absorber and an inorganic ultraviolet absorber can be used, but those having a wavelength at 50% transmittance of 350 to 420 nm are preferable, and 360 nm to 400 nm are more preferable. . An ultraviolet absorber having a wavelength of 50% transmittance and a wavelength lower than 350 nm is not preferable because the ultraviolet blocking ability is weak, and an ultraviolet absorber having a wavelength higher than 420 nm is strongly colored.
有機系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、フェニルサリチレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンゾエート等のヒドロキシベンゾエート系化合物等が挙げられる。無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。 Examples of organic ultraviolet absorbers include 2- (2′-hydroxy-5′-t-butylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole. Benzotriazole compounds such as 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, benzophenone compounds such as 2-hydroxy-4-n-octyloxybenzophenone, phenyl salicylate, 4-t-butylphenyl salicylate, 2, Hydroxybenzoate systems such as 5-t-butyl-4-hydroxybenzoic acid n-hexadecyl ester, 2,4-di-t-butylphenyl-3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzoate Compounds and the like. Examples of inorganic ultraviolet absorbers include titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, iron oxide, and barium sulfate. These ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more.
（ネオン光吸収層）
ネオン光吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。ネオン光吸収層は、ディスプレイの発光するネオン光（吸収波長５８０〜６２０ｎｍ）を、ネオン光吸収剤を用いて除去することにより画像の赤色をより鮮明にするためのものである。ネオン光吸収層を形成する方法としては、透明基材や透明樹脂層、粘着剤層の中にネオン光吸収剤を混入させる方法、ネオン光吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。前記ネオン光吸収剤としては、例えば、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系等の色素のうち、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する適当な色素が挙げられる。これらのネオン光吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
(Neon light absorption layer)
One or more neon light absorbing layers can be provided at an appropriate position of the optical filter as required. The neon light absorbing layer is for making the red color of an image clearer by removing neon light (absorption wavelength: 580 to 620 nm) emitted from the display using a neon light absorber. As a method for forming a neon light absorbing layer, a neon light absorbing agent is mixed in a transparent base material, a transparent resin layer, or an adhesive layer, and a coating liquid containing a neon light absorbing agent is applied on the transparent base material. The method of apply | coating directly or through another layer is mentioned. Examples of the neon light absorber include suitable dyes having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 580 to 620 nm among dyes such as cyanine, squarylium, azomethine, xanthene, oxonol, and azo. It is done. These neon light absorbers can be used alone or in combination of two or more.
（機能性層）
ディスプレイ用光学フィルターとして必要とされる機能性層としては、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層などが挙げられるが、求められる機能水準に応じて複数の機能性層を積層することが一般に行なわれる。
(Functional layer)
Functional layers required as optical filters for displays include antireflection layers, hard coat layers, antifouling layers, antistatic layers, etc., but multiple functional layers are laminated depending on the required functional level. It is generally done.
（反射防止層）
ここで、反射防止層は、光学フィルターの外側からの可視光線の反射を防ぐためのものであって、単層の場合は、透明基材に比べて屈折率の低い物質、例えば、ポリシロキサン構造を有するフッ素含有有機化合物、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２等の薄膜を形成する。
反射防止層の膜厚は、光学的膜厚ｄ（ｎｍ）を、ｄ＝λ／４（但し、λは設計波長で５００〜５８０ｎｍ）と設定して単層の反射防止層を形成する。
また多層からなる場合は、透明基材に比べて高屈折率の物質、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、ＩＴＯなどの薄膜と、透明基材に比べて低屈折率の物質、例えば酸化ケイ素の薄膜を交互に積層する。
このような金属酸化物薄膜の形成方法は特に限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、湿式塗布法などの公知の方法を用いて行なうことができる。
(Antireflection layer)
Here, the antireflection layer is for preventing reflection of visible light from the outside of the optical filter, and in the case of a single layer, a substance having a lower refractive index than a transparent substrate, for example, a polysiloxane structure A thin film made of fluorine-containing organic compound, MgF 2 , SiO 2 or the like is formed.
The film thickness of the antireflection layer is such that the optical film thickness d (nm) is set to d = λ / 4 (where λ is a design wavelength of 500 to 580 nm) to form a single antireflection layer.
In the case of multi-layers, a material having a higher refractive index than that of a transparent substrate, for example, a thin film such as titanium oxide, zirconium oxide, or ITO, and a material having a lower refractive index than that of a transparent substrate, such as a thin film of silicon oxide. Are stacked alternately.
The formation method of such a metal oxide thin film is not specifically limited, It can carry out using well-known methods, such as sputtering method, a vacuum evaporation method, and a wet coating method.
（ハードコート層）
透明基材フィルムに直接又は他の層を介して、公知の方法にてハードコート層用の樹脂組成物を塗布して形成することにより耐磨耗性、耐擦傷性を付与することができる。
ハードコート層は、ハードコート剤を必要に応じて溶剤に溶解した液を、基材に塗布、乾燥、硬化させることにより形成することができる。
ハードコート剤としては、特に制限されることなく、熱硬化型ハードコート剤、紫外線硬化型ハードコート剤などの公知の各種ハードコート剤を用いることができる。
熱硬化型ハードコート剤としては、例えば、シリコーン樹脂系、アクリル樹脂系、メラミン樹脂系等ハードコート剤を用いることができる。シリコーン樹脂系ハードコート剤は従来のアクリル樹脂系ハードコート剤と比べ硬度、耐候性、耐擦傷性の点で優れている。
(Hard coat layer)
Abrasion resistance and scratch resistance can be imparted by applying the resin composition for the hard coat layer directly or through another layer to the transparent base film by a known method.
The hard coat layer can be formed by applying, drying, and curing a liquid obtained by dissolving a hard coat agent in a solvent as necessary.
The hard coat agent is not particularly limited, and various known hard coat agents such as a thermosetting hard coat agent and an ultraviolet curable hard coat agent can be used.
As the thermosetting hard coat agent, for example, a silicone resin-based, acrylic resin-based, melamine resin-based hard coat agent, or the like can be used. Silicone resin hard coating agents are superior in hardness, weather resistance, and scratch resistance compared to conventional acrylic resin hard coating agents.
また、紫外線硬化型ハードコート剤としては、不飽和ポリエステル樹脂系、アクリル樹脂系等のラジカル重合性ハードコート剤、エポキシ樹脂系、ビニルエーテル樹脂系等のカチオン重合性ハードコート剤等のハードコート剤を用いることができる。
紫外線硬化型ハードコート剤の場合には、紫外線照射を行い硬化させる。紫外線照射は、キセノンランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等のランプを用いることができる。
In addition, as ultraviolet curable hard coating agents, hard coating agents such as radically polymerizable hard coating agents such as unsaturated polyester resins and acrylic resins, and cationic polymerizable hard coating agents such as epoxy resins and vinyl ether resins are used. Can be used.
In the case of an ultraviolet curable hard coat agent, it is cured by irradiation with ultraviolet rays. For ultraviolet irradiation, a lamp such as a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, or a tungsten lamp can be used.
ハードコート層には、さらに必要に応じて、酸化防止剤、帯電防止剤、難燃剤等の各種の添加剤を含ませてもよい。各種添加剤は、ハードコート剤中に添加して塗布することができる。
ハードコート層の膜厚みは０．０５〜５μｍ、好ましくは、０．５〜３μｍ程度の膜厚とすることにより、反射防止フィルムに耐磨耗性、耐擦傷性を付与することができる。
The hard coat layer may further contain various additives such as an antioxidant, an antistatic agent and a flame retardant as required. Various additives can be added and applied to the hard coat agent.
By setting the thickness of the hard coat layer to 0.05 to 5 μm, preferably about 0.5 to 3 μm, the antireflection film can be provided with wear resistance and scratch resistance.
（防汚層）
反射防止層の上に最外層として防汚層をコートする場合は、反射防止層の表面にフッ素系、シリコーン系の防汚コート剤を塗布した後、余分な塗布液を拭き取ることで防汚層を形成させることができる。
防汚層は、反射防止層を保護し、かつ、防汚性能を高めるものである。
防汚コート剤としては、フッ素系樹脂あるいはシリコーン系樹脂を用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層をＳｉＯ２により形成した場合には、フルオロアルキルシランなどのフルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
防汚層は、防汚コート剤を溶剤によって希釈したものを、スクリーン印刷、マイクログラビアコーター等によって塗工することに形成することができる。
(Anti-fouling layer)
When coating an antifouling layer on the antireflection layer as the outermost layer, after applying a fluorine or silicone antifouling coating agent to the surface of the antireflection layer, the antifouling layer can be wiped off. Can be formed.
The antifouling layer protects the antireflection layer and enhances the antifouling performance.
As the antifouling coating agent, a fluorine resin or a silicone resin can be used. For example, in the case where the low refractive index layer of the antireflection layer was formed by SiO 2, the fluorosilicate water-repellent paints such as fluoroalkyl silane is preferably used.
The antifouling layer can be formed by applying an antifouling coating agent diluted with a solvent by screen printing, a micro gravure coater or the like.
また、防汚層の厚さは反射防止層の機能を阻害しないように設定しなければならず、好ましくは１〜３０ｎｍ、更に好ましくは５〜１５ｎｍであることが好ましい。
また、ハードコート層に防汚機能を持たせる方法としては、ハードコート層中のハードコート剤、例えば、紫外線硬化型のアクリル樹脂系ハードコート剤にフッ素系の紫外線硬化型防汚添加剤を少量添加することにより、表面機能材料としてフッ素系化合物の特長である撥水・撥油性に加え、優れた防汚性（指紋付着防止）をハードコート層の表面へ付与することができる。
Further, the thickness of the antifouling layer must be set so as not to hinder the function of the antireflection layer, and is preferably 1 to 30 nm, more preferably 5 to 15 nm.
Further, as a method for imparting an antifouling function to the hard coat layer, a small amount of a hard coating agent in the hard coat layer, for example, a fluorine-based ultraviolet curing antifouling additive in an ultraviolet curing acrylic resin hard coating agent. By adding, in addition to the water repellency and oil repellency characteristic of the fluorine-based compound as the surface functional material, an excellent antifouling property (prevention of fingerprint adhesion) can be imparted to the surface of the hard coat layer.
（帯電防止層）
本発明においては、機能性層の表面または内部に帯電防止層を形成することが好ましい。これにより、光学フィルターの表面に静電気の作用で塵・埃が付着するのを防止することができる。
機能性層の表面に塵・埃が付着するのを完全に防止するためには、表面抵抗率を１×１０10（Ω／□）以下、更に好ましくは１×１０8（Ω／□）以下にする必要がある。
(Antistatic layer)
In the present invention, an antistatic layer is preferably formed on the surface or inside of the functional layer. As a result, it is possible to prevent dust from adhering to the surface of the optical filter due to the action of static electricity.
In order to completely prevent dust from adhering to the surface of the functional layer, the surface resistivity is 1 × 10 10 (Ω / □) or less, more preferably 1 × 10 8 (Ω / □) or less. It is necessary to.
一般的には、機能性層の最外層である反射防止層に、帯電防止剤を含有させて帯電防止層を兼ねさせることができる。また、ハードコート層の上に帯電防止剤を塗布して帯電防止層を形成することができる。あるいは、ハードコート層に帯電防止剤を含有させて帯電防止機能を付与して帯電防止層を兼ねさせてもよい。 In general, the antireflection layer, which is the outermost layer of the functional layer, can contain an antistatic agent so as to serve as the antistatic layer. Moreover, an antistatic agent can be apply | coated on a hard-coat layer and an antistatic layer can be formed. Alternatively, an antistatic agent may be added to the hard coat layer to provide an antistatic function and also serve as an antistatic layer.
帯電防止剤としては、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの金属酸化物微粒子、導電性ポリマーの微粒子、界面活性剤などが挙げられる。
界面活性剤としてはアニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が例示される。
これらの界面活性剤を含む液を樹脂フィルムの上に直接塗布する方法等によって帯電防止層の薄膜を形成することができる。
この帯電防止層は、前記の導電性の金属酸化物微粒子を含有したハードコート層の上に形成することもできる。
帯電防止剤の塗工方法としては、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ダイコーター、ディップコーター、スクリーン印刷などの公知の方法を適宜選定して用いることができる。
Examples of the antistatic agent include fine metal oxide particles such as aluminum oxide, silicon dioxide, titanium dioxide, and zirconium oxide, fine particles of a conductive polymer, and a surfactant.
Examples of the surfactant include an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, and an amphoteric surfactant.
A thin film of an antistatic layer can be formed by a method of directly applying a liquid containing these surfactants onto a resin film.
This antistatic layer can also be formed on the hard coat layer containing the conductive metal oxide fine particles.
As a method for applying the antistatic agent, a known method such as a gravure coater, a micro gravure coater, a die coater, a dip coater, or screen printing can be appropriately selected and used.
図６及び図１１に示した本発明に使用されるディスプレイ用光学フィルム１０，２８を、図５または図１０に示すように、透明基材１１の片面に走査電極１３と維持電極１４からなる表示電極１５が形成された表示電極フィルム１７に貼り合せるときは、透明基材１に設けた粘着剤層及び剥離フィルム（図示を省略）の剥離フィルムを剥がして露出した粘着剤層を表示電極１５が形成された表示電極フィルム１７に向け、押圧することで、容易に貼り合せることができる。
また、図６及び図１１に示した本発明に使用されるディスプレイ用光学フィルム１０，２８には、必要に応じて、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、帯電防止層のうち、１つ以上の機能層を積層される。例えば、図１４に示すように透明基材２１と反射防止層２２からなるＡＲフィルム２３を粘着剤層２４で貼り合せた光学フィルター２６が使用される。
As shown in FIG. 5 or FIG. 10, the display
In addition, the display
機能性フィルムは、図１２に示すように、複数のＰＴＡ表示装置５１を組み合わせたマルチ画面の表示装置５３の全面に長尺の機能性フィルム５２を貼り合わせることもできる。また、図１３に示すように、それぞれのＰＴＡ表示装置５１に枚葉の機能性フィルム５４を貼り合わせてなる機能性フィルム付きのＰＴＡ表示装置５５を複数組み合わせてマルチ画面の表示装置５６を構成することもできる。
As shown in FIG. 12, the functional film can be obtained by laminating a long
上述のディスプレイ用光学フィルム１０は、図１５（ａ）に示すように、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）と電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）とが透明基材１の同一面の上で交差してなる複合パターンを形成したものである。本発明では、別の態様例として、ブラックストライプの遮光パターン７（または５）は、図１５（ｂ）に示すように、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）の反対側の面に形成することもできる。この場合の遮光パターンは、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４とは別に形成されるので、導電性薄膜に限られず、絶縁性薄膜でもよい。
As shown in FIG. 15A, the
（ＰＴＡ表示装置の基本構成）
本実施の形態例のＰＴＡ表示装置の基本構成は、従来のＰＴＡと同様に、赤色ガス放電管１７ａ，緑色ガス放電管１７ｂ，青色ガス放電管１７ｃの３本を基本単位とし、これらの発光管１７ａ，１７ｂ，１７ｃを、その軸方向と直交する方向に、規則的に多数アレイ配置した発光管アレイを備える。そして、発光管アレイの観察者側には表示電極１５が配置され、背面側にはアドレス電極１８が配置される。
(Basic configuration of PTA display device)
As in the conventional PTA, the basic configuration of the PTA display device according to the present embodiment is a red
ガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃを構成する管状体は、細長い透明絶縁性の管状体、例えば内径が０．８ｍｍの円筒状で、肉厚が０．１ｍｍの光透過性のガラス管が用いられる。このガラス管の内面には、放電が生じるのに必要な電圧（放電電圧）を下げるための二次電子放出膜と、放電により発生した紫外光を可視光に変換させるための蛍光体層が形成されている。また、ガス放電管の内部には、Ｘｅ−Ｎｅ、Ｘｅ−Ｈｅ等の放電ガスが封入されている。蛍光体層は、赤色ガス放電管１７ａには赤色の可視光を放出する蛍光体が、緑色ガス放電管１７ｂには緑色の可視光を放出する蛍光体が、青色ガス放電管１７ｃには青色の可視光を放出する蛍光体が、用いられる。
As the tubular bodies constituting the
表示電極１５は、ガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃの管軸方向に略直交する方向に、所定ピッチで設けられている。一方、背面基材１２には、アドレス電極１８がガス放電管１７ａ，１７ｂ，１７ｃごとに設けられている。
アドレス電極１８は、光透過性を必要としないので、その形状に制約はなく、例えばライン状パターンの金属膜で形成されている。
背面基材１２は、ＰＴＡ表示装置を発光管１７ａ，１７ｂ，１７ｃの軸方向と直交する方向に曲げられるようにするため、樹脂シートや樹脂フィルム等、可撓性を有する基材が好ましい。
The
Since the
The
このようなＰＴＡ表示装置においては、走査電極１３とアドレス電極１８との間に電圧を印加して、表示書き込みのためのアドレス放電（対向放電）を選択的に発生させ、その放電セル対応のガラス内壁に壁電荷を生じさる。引き続いて、走査電極１３と維持電極１４との間に電圧を印加して、前記アドレス放電によって壁電荷が生じたセルに表示維持のための表示放電（面放電）を発生させる。この放電によって放電ガス中のＸｅと衝突して紫外光が放出される。紫外光は蛍光体層にて可視光に変換され、赤、緑、青色の可視光が外部へ放出される。
In such a PTA display device, a voltage is applied between the scanning
本発明によれば、複数のＰＴＡ表示装置を組み合わせて、マルチ画面構成の大画面を実現するためのＰＴＡ表示装置用の光学フィルムを提供できる。特に、隣接するＰＴＡ表示装置の隙間が狭くでき、表示画面の繋ぎ目が隠れて目立たない（シームレス性を有する）ＰＴＡ表示装置用の光学フィルムを提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical film for PTA display devices for implement | achieving the large screen of a multi-screen structure can be provided by combining several PTA display devices. In particular, it is possible to provide an optical film for a PTA display device in which the gap between adjacent PTA display devices can be narrowed and the joints of the display screens are hidden and inconspicuous (having seamlessness).
１，１１，２１…透明基材、２…導電性薄膜の細線メッシュパターン、３…金属メッキ層、４…金属メッシュパターン、５…導電性薄膜の遮光パターン、６…金属メッキ層、７…メッキ積層の遮光パターン、８…ＰＴＡ表示装置のマルチ画面、９，２９…積層フィルム、１０，２８…ディスプレイ用光学フィルム、１２…基材、１３…走査電極、１４…維持電極、１５…表示電極、１６，２４…粘着剤層、１７…表示電極フィルム、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ…発光管（ガス放電管）、１８…アドレス電極、１９…電極枠、２２…反射防止層、２３…ＡＲフィルム、２６…光学フィルター、５０，６０…本発明によるＰＴＡ表示装置用の光学フィルム、５１…ＰＴＡ表示装置、５２…長尺の機能性フィルム、５３，５６…マルチ画面の表示装置、５４…枚葉の機能性フィルム、５５…機能性フィルム付きのＰＴＡ表示装置、７０…マルチ画面のフレーム。
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