JP2010097226A - Liquid crystal display element - Google Patents

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Inventor
Makoto Chisaki
Yoko Fukunaga
Hiroaki Ichikawa
Shintaro Morita
Hidemasa Yamaguchi
誠 地崎
英将 山口
弘明 市川
真太郎 森田
容子 福永
Original Assignee
Sony Corp
ソニー株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To attain a wide visual field angle, without causing reduction in the effective numerical aperture, in a liquid crystal display element of vertical alignment mode.
SOLUTION: In a manufacturing method of the liquid crystal display element, including a driving substrate 2 on which a pixel electrode 1, is formed, a counter substrate 4 which faces the driving substrate 2 and on which a counter electrode 3 is formed and a liquid crystal, interposed between the driving substrate and the counter substrate 4; the pixel electrode 1 is formed in a rectangular shape; an incision 8 is formed to be parallel to the short side of the pixel electrode 1 and protrusions 6 are provided on the counter substrate 4, according to respective rectangular regions of the pixel electrode 1 partitioned by the incision 8 and the sides of the pixel electrode 1.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、実効的開口率を低下させることなく広視野角を達成する垂直配向分割モードの液晶表示素子の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device of a vertical alignment division mode to achieve a wide viewing angle without reducing the effective aperture ratio.

今日、実用化されている液晶表示素子において、汎用的に使用されている液晶表示モードは、TN(Twisted Nematic)モードである。 Today, in the liquid crystal display device has been put to practical use, liquid crystal display mode which is generally used is a TN (Twisted Nematic) mode. しかしながら、TNモードは、視野角が狭く、斜め方向から画面を観察すると階調反転が生じて表示品質が著しく低下する。 However, TN mode, viewing angle is narrow, when observing the screen from the oblique direction gradation inversion occurs in display quality is remarkably lowered. 応答速度も中間調領域で遅く、動画を表示した場合に画像の輪郭が不鮮明になる。 Response speed slow in halftone area, the outline of the image becomes blurred when displaying a moving image. このようなTNモードの問題点は、位相補償を行っても十分に解決することができない。 Problem of the TN mode can not be carried out phase compensation to resolve sufficiently.

そこで、近年、TNモードに代わる、IPS(In-Plane Switching)モード、OCB(Optical Compensated Birefringence)モード、垂直配向分割(Multi Vertical Alignment:MVA)モード等の種々の液晶表示モードが開発されており、なかでも、垂直配向分割モードは、広視野角技術として注目されている。 In recent years, alternative to TN mode, IPS (In-Plane Switching) mode, OCB (Optical Compensated Birefringence) mode, vertical alignment division (Multi Vertical Alignment: MVA) various liquid crystal display modes have been developed, such as mode, in particular, vertical alignment division mode, has been attracting attention as a wide viewing angle technology.

垂直配向分割モードにおいて、液晶の配向分割の方法には、電極スリットを使う方法(非特許文献1)、基板表面に突起を設ける方法(特許文献1)等が提案されている。 In vertical alignment division mode, the method of the liquid crystal alignment division method of using an electrode slit (Non-Patent Document 1), a method of providing a projection on the substrate surface (Patent Document 1) have been proposed. また、垂直配向モードの液晶表示素子の透過率及び階調間の色シフトを改善するために、カイラル剤を添加し、電圧をかけた状態でツイストさせる方法が提案されている(特許文献2、特許文献3、非特許文献2及び非特許文献3等)。 In order to improve the color shift between the transmittance and tone of the liquid crystal display device of a vertical alignment mode, by adding a chiral agent, a method to twist while applying a voltage has been proposed (Patent Document 2, Patent Document 3, non-Patent documents 2 and 3, etc.).

特許第2947350号 Patent No. 2947350 特開平11−352490号公報 JP 11-352490 discloses 特表平10−506479号公報 Kohyo 10-506479 JP

しかしながら、垂直配向分割モードの液晶表示素子においても、なお、視野角を十分に広げることはできず、また、視野角を広げるために透過率が犠牲にされるという問題があった。 However, also in the liquid crystal display device of a vertical alignment division mode, It should be noted that it is not possible to widen the viewing angle enough, also the transmittance in order to widen the viewing angle is a problem that is sacrificed. 特に、配向制御のために基板表面に設ける突起物や電極スリットは、実効的な開口部にならず、透過率を低下させる原因となっていた。 In particular, projections or electrode slits provided on the substrate surface for orientation control is not in the effective aperture, causing to lower the transmittance.

そこで、本発明は、垂直配向分割モードの液晶表示素子において、実効的開口率を低下させることなく、広視野角を実現することを目的とする。 Accordingly, the present invention provides a liquid crystal display device of a vertical alignment division mode, without decreasing the effective aperture ratio and to realize a wide viewing angle.

本発明者らは、垂直配向モードの液晶表示素子において、広視野角を実現するためには、電圧印加時に液晶が或る点を核としてあらゆる方向に配向するように、画素電極に対向する対向基板に、突起物又は配向阻害処理面等からなる配向の核を設けることが有効であること、さらに、この場合の実効的開口率を低下させないためには、対向基板にしめる核の面積(即ち、核として突起物を形成する場合には突起物の底面積、また、核として配向阻害処理面を形成する場合には、その表面積)を1画素に対して特定の割合以下にすることが必要であることを見出した。 Opposing the present invention have found that in the liquid crystal display device of a vertical alignment mode, in order to realize a wide viewing angle, so that the liquid crystal when a voltage is applied to orient a point in all directions as a nucleus, which faces the pixel electrode the substrate, providing the orientation of the nuclei consisting of projections or alignment inhibitory treatment surface or the like is effective, further, in order not to lower the effective aperture ratio in this case is the area of ​​the nucleus occupies the counter substrate (i.e., bottom area of ​​the projections in the case of forming a projection as a nucleus, also in the case of forming the alignment inhibition treatment surface as nuclei, is necessary to below a certain percentage of its surface area) per pixel It was found that there.

このため、画素電極が形成されている駆動基板と、それに対向する対向電極が形成されている対向基板と、駆動基板と対向基板の間に挟まれた液晶を含む垂直配向モードの液晶表示素子であって、画素電極に切れ込みが形成され、切れ込みと前記画素電極の辺により区分された画素電極の各領域に対応して、対向基板に点状の突起が設けられる。 Therefore, the liquid crystal display device of a vertical alignment mode comprising a driving substrate on which the image pixel electrode is formed, it a counter substrate opposing electrode facing is formed, a liquid crystal sandwiched between the driving substrate and the counter substrate a is, cut is formed in the pixel electrode, corresponding to each region of the pixel electrode divided by the edges of the cut and the pixel electrode, the point-like projections are provided on the counter substrate.

即ち 、本発明は、画素電極が形成されている駆動基板と、対向電極が形成されている対向基板とを対向させ、駆動基板と対向基板との間に液晶を挟んで垂直配向モードの液晶表示素子を製造する液晶表示素子の製造方法であって、 画素電極を矩形状とし、画素電極の短辺方向と平行に切れ込みを形成して、切れ込みと画素電極の辺により区分された画素電極の矩形状の各領域に対応して、対向基板に点状の突起を設ける。 That is, the present invention includes a driving substrate on which the pixel electrode is formed, is opposed to a counter substrate opposing electrode is formed, the liquid crystal display of vertical alignment mode across the liquid crystal between the drive substrate and the counter substrate a method of manufacturing a liquid crystal display device for manufacturing a device, the pixel electrode is rectangular and forms a cut parallel to the short side of the pixel electrode, side by segmented pixel electrode of the cut and the picture element electrode corresponding to the rectangular shape of each region, it provided the point-like protrusions on the counter substrate.

本発明によれば、垂直配向分割モードの液晶表示素子において、実効的開口率を低下させることなく、広視野角を実現することができる。 According to the present invention, in the liquid crystal display device of a vertical alignment division mode, without decreasing the effective aperture ratio, it is possible to realize a wide viewing angle.

本発明の一態様の液晶表示素子の平面図(同図a)及び断面図(同図b)である。 Plan view of a liquid crystal display element of one embodiment of the present invention (FIG. A) and a cross-sectional view (FIG. B). 蒲鉾型の突起物の形成方法の説明図である。 It is an explanatory view of a method of forming a semi-cylindrical projections. 蒲鉾型の突起物の形成方法の説明図である。 It is an explanatory view of a method of forming a semi-cylindrical projections. 突起物と、スリット、切り込み又は孔との位置関係を示す平面図である。 And protrusions, is a plan view showing the positional relationship between the slits, cuts or holes. 液晶パネルの断面図である。 It is a cross-sectional view of a liquid crystal panel.

以下、図面を参照しつつ、アクティブマトリクス駆動する液晶表示素子について本発明を詳細に説明するが、本発明は、画素電極がストライプ状のパッシブマトリクス駆動する液晶表示素子にも適用することができる。 Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the present invention will be described for a liquid crystal display element for active matrix driving in detail, the present invention can be applied to a liquid crystal display device having a pixel electrode for a passive matrix drive stripe. また、各図中、同一符号は、同一又は同等の構成要素を表している。 Moreover, in the drawings, the same reference numerals represent the same or equivalent components.

図1は、アクティブマトリクス駆動する本発明の液晶表示素子100の一態様の模式的平面図(同図a)及び断面図(同図b)である。 Figure 1 shows an embodiment of a schematic plan view of a liquid crystal display device 100 of the present invention to an active matrix driving (Fig a) and a cross-sectional view (FIG. B).

この液晶表示素子100は、駆動基板2として、ITOからなる画素電極1が形成されているTFT基板を有している。 The liquid crystal display device 100 includes a driving substrate 2 has a TFT substrate on which the pixel electrode 1 made of ITO are formed. また、ITOからなる対向電極3が形成されている対向基板4と駆動基板2とが対向し、これらの基板2、4、間に液晶5が挟まれている。 Further, a counter substrate 4 counter electrode 3 made of ITO are formed and the driving substrate 2 face each other, the substrates 2 and 4, the liquid crystal 5 is sandwiched between. 画素電極1と対向電極3上には垂直配向膜が塗布されており、液晶5としては、無電界時に駆動基板2あるいは対向基板4に対してほぼ垂直に配向し、電圧を印加することにより斜めに傾き、所定電圧以上を印加することによりほぼ水平に配向するものが使用される。 On the pixel electrode 1 and the counter electrode 3 is a vertical alignment film is applied, the liquid crystal 5, aligned substantially perpendicular to the driving substrate 2 or the opposed substrate 4 when no electric field, diagonal by applying a voltage tilts, those oriented substantially horizontally is used by applying a predetermined voltage or higher. また、駆動基板2と対向基板4の外側にはそれぞれ偏光板が設けられ(図示せず、それらは図1の右肩の矢印に示したように、クロスニコルに配置されている。 Further, each of the outer side of the driving substrate 2 and the counter substrate 4 polarizing plate is provided (not shown, as they are shown in the right shoulder of the arrow in FIG. 1, they are arranged in a cross nicol state.

対向基板4の中心部には、液晶5をあらゆる方向に配向させるための核として、突起物6が形成されている。 In the center of the counter substrate 4, as a core for aligning the liquid crystal 5 in all directions, protrusions 6 are formed. 突起物6の大きさは、開口率の低下を防止するため、突起物6の対向基板4にしめる面積、即ち、突起物6の底面積が1画素の面積の5%以下となるようにする。 The size of the projection 6, in order to prevent a decrease in aperture ratio, the area occupied on the opposite substrate 4 of the projection 6, i.e., the bottom area of ​​the projection 6 is set to be more than 5% of the area of ​​one pixel. 特に、突起物6をプロキシ露光法等を用いて形成する場合には、その底面積を50μm 〜225μm とすることが好ましい。 Particularly, in the case of forming the projections 6 with the proxy exposure method or the like, it is preferable that the bottom area and 50μm 2 ~225μm 2. また、突起物6をステッパー露光法を用いて形成する場合には、底面積を25μm 以下としてもよい。 In the case of forming the projections 6 with the stepper exposure method may bottom area as 25 [mu] m 2 or less.

突起物の高さについては、特に制限はない。 The height of the projections is not particularly limited. 液晶表示素子では、一般に基板間のギャップを保持するため、球状のスペーサーが基板上に散布され、あるいはまた、柱状の樹脂が基板上に形成されるが、突起物6の高さを基板間のギャップと等しくすることにより、突起物6にスペーサーとしての機能を担わせ、スペーサーの散布工程や柱状スペーサーの形成工程を省略することができる。 The liquid crystal display device, generally in order to retain the gap between the substrates, spherical spacers are sprayed on the substrate or, alternatively, although columnar resin is formed on the substrate, the height of the projection 6 between substrates by equalizing the gap causes play a function as a spacer to projection 6, it is possible to omit the step of forming the spraying process and the columnar spacers of the spacer. また、スペーサーの散布密度のばらつきによるギャップ不良も防止することができる。 Further, it is also possible to prevent the gap failure due to variations in the dispersion density of the spacers.

この突起物6は、後述するように、無電界時に液晶5を傾かせ、また電圧印加時には電気力線の歪みにより斜め電界を作り出し、突起物6を中心にして液晶5があらゆる方向に配向するように配向を制御する。 The projections 6, as described below, to tilt the liquid crystal 5 at the time of no electric field, also at the time of voltage application creates an oblique electric field by the distortion of the electric line of force, the liquid crystal 5 around the projection 6 is oriented in any direction to control the orientation so. このため、突起物6の形成材料としては、電圧印加時の配向制御を効果的に行えるように、液晶5よりも低い誘電率のものから形成することが好ましく、誘電率5以下とすることがより好ましい。 Therefore, as the material for forming the projections 6, to allow the alignment control when a voltage is applied effectively, it is preferable to form from those of lower dielectric constant than the liquid crystal 5, be a dielectric constant of 5 or less more preferable. 突起物6の好ましい形成材料の具体例としては、例えば、アクリル系、ノボラック系、ポリスチレン系の感光性樹脂等をあげることができる。 Specific examples of preferred material for forming the projections 6, for example, can be exemplified acrylic, novolac, the photosensitive resin of the polystyrene and the like.

突起物6の形状について、図1の突起物6は頂部が丸みを有する四角錐状であるが、本発明においては、これに限られず、任意の錐体、半球を伏せた形状、柱状等とすることができる。 The shape of the projections 6, but protrusions 6 in FIG. 1 is a quadrangular pyramid shape in which the top portion has a rounded, in the present invention is not limited to this, the shape of an inverted arbitrary cone, a hemisphere, a pillar, etc. can do. 後述するように、突起物6によって斜め電界を形成し、液晶分子を傾かせる点からは、駆動基板2あるいは対向基板4に対して垂直方向に切った断面が三角形又は蒲鉾型となるものが好ましく、断面が三角形のものも蒲鉾型のものも同様の効果をもたらす。 As will be described later, to form an oblique electric field by protrusions 6, from the viewpoint tilting the liquid crystal molecules, preferably those cut cross section is triangular or semi-cylindrical in a direction perpendicular to the driving substrate 2 or a counter substrate 4 cross section results in a similar effect as also of semicylindrical ones triangle. 突起物6の形成の容易性の点からは、蒲鉾型が好ましい。 From the viewpoint of ease of formation of the projections 6, semi-cylindrical is preferred. なお、突起物6をライン状に形成することは、コントラストの低下や透過率の低下が生じるので好ましくない。 Incidentally, by forming the projections 6 in a line shape it is undesirable because lowering the reduction and the transmittance and contrast characteristics.

蒲鉾型の突起物6を形成する方法としては、例えば、ポジ型の感光性樹脂を対向基板4上に塗布し、露光、現像し、パターニングした後、100℃〜200℃の樹脂がすぐには硬化しない温度で保持して予備焼成し、その後本焼成する。 As a method of forming protrusions 6 of semi-cylindrical, for example, a positive photosensitive resin is applied on the counter substrate 4, exposed and developed, after patterning, the 100 ° C. to 200 DEG ° C. of the resin immediately held in cured without temperature prebaked, then main baking. 予備焼成の時間と温度を調整することにより、所望の形状が得られる。 By adjusting the time and temperature of the pre-firing, the desired shape is obtained. あるいは、図2に示したように、パターニング用のマスクとして、ハーフトーン部12を有するマスク11aを使用してパターン6'を形成し(同図a)、その後さらに焼成して蒲鉾型の突起物6を形成するか(同図b)、又は、図3に示したように、パターニング用のマスクとして、細かいスリット部13を有するマスク11bを使用してパターン6''を形成し、その後さらに焼成して蒲鉾型の突起物6を形成する(同図b)。 Alternatively, as shown in FIG. 2, as a mask for patterning, using the mask 11a having a halftone portion 12 forming a pattern 6 '(FIG. A), semi-cylindrical projections and thereafter calcined or to form a 6 (FIG. b), or, as shown in FIG. 3, as a mask for patterning, using a mask 11b is formed a pattern 6 '' with a fine slit portion 13, then further baked forming the projections 6 of the semi-cylindrical in (Fig b). このようなマスク11a、11bを使用することにより、より細かい形状制御をすることが可能となる。 By using such a mask 11a, the 11b, it is possible to make finer shape control.

次に、図1の液晶表示素子100の作用について説明する。 Next, the operation of the liquid crystal display device 100 of FIG. この液晶表示素子100においては、無電界時には液晶5が駆動基板2あるいは対向基板4に対してほぼ垂直に配向しているが、電圧を印加すると、図1(b)に点線で示した等電位線で表されるように、駆動基板2の隣り合う画素電極1間の間隙wが電極スリットとして作用し、横電界が形成される。 Equipotential In this liquid crystal display device 100, the liquid crystal 5 at the time of no electric field is oriented substantially perpendicular to the driving substrate 2 or the opposed substrate 4, when a voltage is applied, indicated by a dotted line in FIG. 1 (b) as represented by lines, the gap w between the pixel electrode 1 adjacent the driving substrate 2 acts as an electrode slit, the transverse electric field is formed. この横電界は突起物6の近傍で斜め電界となる。 The transverse electric field becomes oblique electric field in the vicinity of the projections 6. そのため、液晶分子は、電圧印加時に図1(a)に矢印で示したように、突起物6を核として放射状に倒れ、あらゆる方向に分割して配向する。 Therefore, the liquid crystal molecules, as shown by the arrows in FIGS. 1 (a) when a voltage is applied, falling radially protruding parts 6 as a nucleus, oriented divided into all directions. したがって、この液晶表示素子100によれば視野角特性を広げることが可能となる。 Therefore, it is possible to widen the viewing angle characteristics according to the liquid crystal display device 100.

これに対し、対向基板4に配向の核となる突起物6が設けられていない場合、液晶分子は、電圧の印加により形成される横電界によって倒れようとするが、この場合、配向の中心となる核が形成されていないため、液晶は転傾点とよばれる点を中心として配向することとなる。 In contrast, if the projection 6 to be oriented nuclei counter substrate 4 is not provided, the liquid crystal molecules is likely fall by the lateral electric field formed by applying a voltage, in this case, the center of the orientation to become nuclei are not formed, the liquid crystal becomes orienting around a point called rolling 傾点. しかしながら、転傾点は、基板の凹凸、隣の画素の電位等の条件によって不安定に動くので、十分に配向制御をすることができない。 However, rolling 傾点 the unevenness of the substrate, so move unstable depending on conditions such as the potential of the adjacent pixel, it can not be sufficiently oriented control. このため、このような液晶表示素子は表示品位が低く、観察するとざらつき感がする。 Therefore, such a liquid crystal display device has a low display quality, rough texture observation is.

なお、本発明において、液晶が或る点を核にしてあらゆる方向に配向するとは、必ずしも均等に全方向に分割して配向する意味ではなく、分割方向に偏りがあってもよい。 In the present invention, in the nucleus oriented in any direction is a liquid crystal certain point, not necessarily uniformly oriented by dividing the omnidirectional sense, there may be a bias in the dividing direction. 例えば、図1(a)の液晶表示素子では、0時、3時、6時、9時の4方向に向いている液晶5の比率が多くなるが、配向方向の明確な境界は、核となっている突起物6の近傍にのみ存在し、その周囲では、液晶が連続的に配向している。 For example, in the liquid crystal display device of FIG. 1 (a), 0:00, 3:00, 6:00, becomes much ratio of the liquid crystal 5 which is oriented in the 4 o'clock direction 9, a clear boundary of alignment directions, and nuclear It exists only in the vicinity of going on projections 6, in the periphery thereof, the liquid crystal is continuously aligned. 本発明においては、このような配向状態も、突起物6を核として、液晶5があらゆる状態に配向している状態に含む。 In the present invention, such an orientation state even, the projection 6 as nuclei, including the state of the liquid crystal 5 is oriented in every state.

また、この液晶表示素子100によれば、隣り合う画素電極1の間の間隙wは、電圧を印加した白表示時に光が透過しないが、この部分は、通常データライン、ゲートライン等が配置されており、開口部ではない。 Further, according to the liquid crystal display device 100, the gap w between the pixel electrode 1 adjacent, but light in the white display of applying a voltage not transparent, this part is usually the data lines, gate lines and the like are disposed and which is not at the opening. また、突起物6もその底面積が1画素の面積の5%以下に形成されている。 Further, the bottom area is also protrusion 6 is formed to less than 5% of the area of ​​one pixel. したがって、この液晶表示素子100によれば、開口率のロスがほとんど生じない。 Therefore, according to the liquid crystal display device 100, the loss of aperture ratio hardly occurs.

本発明の液晶表示素子は、図1の態様の他に種々の態様をとることができる。 The liquid crystal display device of the present invention can take various aspects in other embodiments of FIG. 例えば、電圧印加時に液晶をあらゆる方向に配向させるための核として、突起物6に代えて、対向基板4に、配向を乱す配向阻害処理面を形成してもよい。 For example, as a core for aligning the liquid crystal in all directions when a voltage is applied, instead of the projections 6, the counter substrate 4 may be formed alignment inhibition processing surfaces disturbing the alignment. 配向阻害処理面の形成方法としては、例えば、対向基板4の核とする部分にのみ、垂直配向膜を塗布することなく、水平配向膜を塗布するなどの配向膜の塗り分けを行う。 As a method for forming the alignment inhibition treatment surface, for example, carried out in a portion the core of the counter substrate 4 only, without applying a vertical alignment film, a separate application of the alignment layer, such as applying a horizontal alignment film. また、核とする部分の対向基板4にUV光を当ててその部分の配向が乱れるようにしてもよく、偏光をあてて核の周囲と異なる所定の配向方向が得られるようにしてもよい。 Further, it may also be the orientation of the part by applying a UV light to the counter substrate 4 the portion of the core is disturbed, may be devoted to polarization as the surrounding different predetermined orientation direction of the nuclear obtained.

また、核とする部位の下地部分に微細な凹凸を形成してもよい。 It is also possible to form fine irregularities on the base portion of the site in the nucleus. より具体的には、例えば、垂直配向膜の塗布前に光レジスト工程により核とする部分にのみイオンビーム等をあて、表面を荒らすか、あるいは、光レジスト工程を用いて、核とする部分にのみ異なる膜質のITO透明電極を形成する。 More specifically, for example, it addressed only ion beam or the like to a portion at the core by the photoresist process prior to application of the vertical alignment film, or roughening the surface or by using a photoresist process, a portion of the core only an ITO transparent electrode of a different quality.

核として、対向基板4に配向阻害処理面を形成する場合にも、開口率のロスを防止するため、対向基板4にしめる配向阻害処理面の面積を1画素の面積の5%以下とし、好ましくは0.1%〜1%とする。 As nuclei, also in the case of forming the alignment inhibition processing surface on the counter substrate 4, to prevent loss of the aperture ratio, the area of ​​the alignment inhibition processing surface occupied on the counter substrate 4 not more than 5% of the area of ​​one pixel, preferably 0.1% to 1%.

また、通常、カラー液晶表示素子の画素は、RGBの3色に分かれているため、個々のRGBの画素は、正方形ではなく、細長い長方形である場合が多いが、そのような場合に、より対称性のよい視野角を得るため、又は、画素の長辺方向にも十分に配向制御を行うため、液晶の分割配向が上下又は左右対称に近づくように、理想的には円になるように、画素電極1又は対向電極3にスリット、切れ込み又は孔を形成してもよい。 Also, typically, the pixel color liquid crystal display device, since the divided into three colors of RGB, the pixel of each of the RGB is not a square, but is often elongated rectangular, in such a case, more symmetrical to obtain a sexual good viewing angle, or, for performing sufficient alignment control in the long side direction of the pixel, as divided alignment of the liquid crystal approaches the up and down or left-right symmetry, so a circle ideally, the pixel electrode 1 and the opposing electrode 3 slits may be formed notches or holes. 例えば、図4(a)〜(i)に示すように、画素電極1の1画素内に、液晶の分割配向を上下又は左右対称に近づけるスリット7や切れ込み8を形成し、対向電極3に突起物6を形成する。 For example, as shown in FIG. 4 (a) ~ (i), in one pixel of the pixel electrodes 1, the slit 7 and notches 8 made close to vertical or horizontal symmetry dividing the orientation of the liquid crystal is formed, protruding to the counter electrode 3 to form the object 6. また、これらの図において、画素電極1に形成されているスリット7や切れ込み8を、対向電極に設けてもよく、あるいはこれらの図において、突起物6に代えて孔を形成してもよい。 Further, in these figures, the slit 7 and notches 8 formed in the pixel electrode 1 may be provided on the counter electrode, or in the figures, may be formed a hole in place of the projections 6. なお、液晶の配向の核となる部分は、画素電極1に設けることもでき、例えば図4(j)に示すように、画素電極1にスリット7と孔9を形成してもよい。 Incidentally, The core portion of the alignment of the liquid crystal may be provided on the pixel electrode 1, for example, as shown in FIG. 4 (j), it may be a slit 7 and holes 9 in the pixel electrode 1.

スリット7、切れ込み8又は孔9の形成方法としては、例えば、光レジスト工程によりITOをパターニングする。 As a method of forming the slits 7, notches 8 or holes 9, for example, patterning the ITO by photoresist process. 特に、画素電極1にスリット7を入れる場合、画素電極1自身が本来的にITOのパターニングにより形成されるため、プロセスの増加無くスリット7を形成することができる。 In particular, when a slit 7 to the pixel electrode 1, since the pixel electrode 1 itself is formed by patterning the inherently ITO, it is possible to form the increased without slits 7 of the process.

本発明においては、液晶5にカイラル剤を添加することができる。 In the present invention, it is possible to adding a chiral agent to the liquid crystal 5. カイラル剤の添加により電圧印加時の配向を安定化させることができる。 The orientation when a voltage is applied can be stabilized by the addition of the chiral agent.

また、クロスニコルに配置されている偏光板で挟まれている液晶表示素子においては、液晶がツイストしていない場合に、液晶の配向方向と偏光板の吸収軸又は透過軸がなす角度に透過率が大きく依存し、液晶の配向方向が偏光板の吸収軸又は透過軸と一致するとほとんど光は透過せず、黒状態となる。 The liquid crystal in the display device, when the liquid crystal is not twisted, the transmittance to the absorption axis or angle transmission axis forms the alignment direction and the polarization plate of the liquid crystal that is sandwiched between polarizing plates disposed in crossed Nicols is highly dependent, the orientation direction of the liquid crystal coincides with the absorption axis or the transmission axis of the polarizing plate little light transmittance, a black state. このため、図1の液晶表示素子100において、白表示をさせる電圧印加時に水平に傾いた液晶のうち、配向方向が偏光板の吸収軸又は透過軸と一致したものは光を透過せず、それ故透過率が低下する。 Therefore, in the liquid crystal display device 100 of FIG. 1, of the liquid crystal tilted horizontally when a voltage is applied to the white display, which orientation direction coincides with the absorption axis or the transmission axis of the polarizing plate does not transmit light, it late transmittance decreases. このような透過率の低下の問題に対しても、カイラル剤の添加は有効である。 Also to the problem of reduction of such transmission, the addition of the chiral agent is effective. カイラル剤を液晶に添加することにより、液晶自身がツイストするので、クロスニコル下で黒状態となる配向方向はなく、液晶の配向方向と、偏光板の吸収軸又は透過軸との透過率角度依存性を低下させることができる。 By adding a chiral agent to the liquid crystal, the liquid crystal itself is twisted, no orientation direction of the black state in crossed Nicol state, the alignment direction of the liquid crystal, the transmittance angle dependence of the absorption axis or transmission axis of the polarizer it is possible to reduce the resistance. さらに、カイラルピッチを調整し、電圧印加時に液晶がツイスト配向するようにすると、高い透過率を得ることができる。 Further, by adjusting the chiral pitch, the liquid crystal is such that twist orientation when a voltage is applied, it is possible to obtain a high transmittance.

また、液晶をツイスト配向させる場合に、電圧印加時(白表示時)の見かけのツイスト角が約90度のときに透過率が最大になる。 Further, in the case of twisted liquid crystal, the twist angle of the apparent time of voltage application (the white display) transmittance becomes maximum when about 90 degrees. 一方、通常、白表示時の印加電圧は、3.5〜6Vであり、液晶の閾値はおよそ2Vである。 On the other hand, usually, the voltage applied at the time of white display is 3.5~6V, the threshold of the liquid crystal is approximately 2V. これらのことから、透過率を最大にする液晶のカイラルピッチLとセルギャップdとの関係としては、2.5<L/d<5.5とすることが好ましい。 For these reasons, the relationship between the chiral pitch L and the cell gap d of the liquid crystal of the transmittance to the maximum, it is preferable that the 2.5 <L / d <5.5. また、この条件を充足させる場合に、液晶の589nmにおける屈折率異方性Δnとセルギャップdの積Δndは、400nm〜700nmとすることが好ましい。 Further, in the case of satisfying this condition, the product Δnd of the refractive index anisotropy Δn and a cell gap d of the liquid crystal of 589nm is preferably in the 400 nm to 700 nm.

さらに、液晶表示素子の応答速度は、セルギャップdに大きく依存するため、上述の条件においてΔnはできるだけ大きいものが好ましく、より具体的には、良好な動画駆動を達成する点から、液晶の589nmにおける屈折率異方性Δnを0.115以上とすることが好ましい。 Moreover, the response speed of the liquid crystal display device is dependent largely on the cell gap d, is preferable Δn is as large as possible under the condition described above, and more specifically, from the viewpoint of achieving a good video drive, liquid crystal 589nm it is preferable that the 0.115 or higher refractive index anisotropy Δn in.

また、カラー液晶表示素子では、各画素に色分解フィルターが形成されている。 Further, in the color liquid crystal display device, a color separation filter is formed in each pixel. 液晶表示素子の透過率は、見かけの液晶層の屈折率異方性をΔn eff 、セルギャップをd、波長をλとした場合に、Δn eff ×d/λに大きく依存する。 Transmittance of the liquid crystal display device, the refractive index anisotropy of the apparent liquid crystal layer of the [Delta] n eff, the cell gap d, when the wavelength is lambda, greatly depends on Δn eff × d / λ. これは、透過率が光の波長に大きく依存することを意味しており、ある波長に最適のΔn eff ×dを設定すると、他の波長では最適値がずれてしまうため、ディスプレイに色付きが観察される。 This means that the transmittance is largely dependent on the wavelength of light, setting the optimum [Delta] n eff × d in a certain wavelength, since deviate the optimum value for other wavelengths, it is observed colored display It is. この色付きは、特に、斜め方向から観察した場合に生じる。 With this color, especially occurring when observed from an oblique direction. このような透過率のλ依存性は、TNモードでは比較的少ないが、本発明で使用する垂直配向モードでは、電圧印加時に液晶分子の配向方向があらゆる方向に向くために液晶をツイストさせた場合においても複屈折モードが混ざってしまい波長依存性が大きくなる。 λ dependency of the transmittance when relatively small in TN mode, the VA mode for use in the present invention, the alignment direction of liquid crystal molecules when a voltage is applied was twisted liquid crystal to face in any direction wavelength dependency increases get mixed birefringence mode even. このような特性を改善するためには、各画素の色の主波長λにあわせて最適なセルギャップdを設定することが好ましい。 Thus in order to improve the characteristics, it is preferable to set the optimum cell gap d in accordance with the dominant wavelength λ of the color of each pixel.

各画素の色の主波長λにあわせてセルギャップdを異ならせる手法には、種々の方法が提案されているが、カラーフィルタの各色の厚さを変える方法が、工程数の増加もなく好ましい。 The method of varying the cell gap d in accordance with the dominant wavelength λ of the color of each pixel, various methods have been proposed, a method of changing the thickness of each color of the color filter is, preferably no increase in the number of steps .

また、本発明の液晶表示素子は、垂直配向モードであるため、2軸又は1軸性位相差板を用いて補償すると、より広い視野角を得ることが可能となる。 The liquid crystal display device of the present invention are the vertical alignment mode and compensation using a biaxial or uniaxial retardation plate, it is possible to obtain a wider viewing angle. 位相差板としては、位相差板の面内方向の屈折率N 、N 、厚み方向の屈折率N 、厚みd film 、液晶の屈折率異方性Δn、セルギャップd LCの関係が、 As a retardation plate, a refractive index N x in the plane direction of the retardation plate, N y, the refractive index in the thickness direction N z, thickness d film, the liquid crystal refractive index anisotropy [Delta] n, the relationship between the cell gap d LC ,



を満たすものが、実使用上広視野角を得る点から好ましい。 Satisfies the is preferable from the viewpoint of obtaining a practically wide viewing angle.

本発明において、液晶表示素子の駆動方式としては、特に限定されるものではないが、図1に示したようにアクティブマトリックス駆動とすることが好ましい。 In the present invention, the driving mode of the liquid crystal display device, but are not particularly limited, it is preferable that the active matrix drive as shown in FIG. アクティブマトリックス駆動では、隣り合う画素電極1の相互の間隙を、配向制御をするための電極スリットとして積極的に利用することができ、横電界を形成するために駆動基板2に新たに電極スリットを形成することが不要となる。 In an active matrix driving, a mutual clearance of the adjacent pixel electrodes 1, actively can be utilized as an electrode slit for alignment control, a new electrode slit on the driving substrate 2 to form a lateral electric field formation it is not necessary to be. また、必要に応じて画素電極1に電極スリットを形成する場合においても、パッシブマトリックス駆動のようなストライプ電極が形成されている場合よりもスリット形成パターンの自由度が高くなる。 Further, in the case of forming the electrode slit in the pixel electrode 1 as necessary, the degree of freedom of the slit forming pattern than when stripe electrode, such as passive matrix driving is formed it becomes high. さらに、パッシブマトリックス駆動をする場合、対向基板4の対向電極3はストライプパターンに形成されるが、アクティブマトリクス駆動をする場合には、対向基板4の対向電極3は通常パターニングされていないため、所定の配向制御を阻害する斜め電界等が発生することもない。 Furthermore, when a passive matrix drive, because although the counter electrode 3 of the counter substrate 4 are formed in a stripe pattern, in the case of the active matrix drive, the counter electrode 3 of the counter substrate 4 are not normally patterned, predetermined It is not generated, such as oblique electric field to inhibit the orientation control.

液晶表示素子をアクティブマトリックス駆動する素子とする場合に、1画素のピッチは、配向制御力が十分に作用する長さとすることが好ましい。 When an element for active matrix driving liquid crystal display device, the pitch of one pixel, it is preferable that the length of the alignment control force acts sufficiently. この点から、1画素のピッチは70μm以下とすることが好ましい。 From this point, the pitch of one pixel is preferably set to 70μm or less.

図5は、本発明の液晶表示素子を、アクティブマトリックス駆動する液晶パネルとして構成した場合の一例の断面図である。 5, the liquid crystal display device of the present invention, is a cross-sectional view of an example when configured as a liquid crystal panel for active matrix driving. この液晶パネルは、駆動基板としてTFT基板2'を使用し、対向基板としてカラーフィルタ基板4'を使用し、これらの間に液晶5を挟んだ構造を有している。 The liquid crystal panel is 'using a color filter substrate 4 as a counter substrate' TFT substrate 2 as a drive substrate using, has a sandwiched a liquid crystal 5 between them.

カラーフィルタ基板4'は、ガラス基板14上にストライプ状に形成された赤(R)、緑(G)、青(B)のカラーフィルタ15を有し、その上に対向電極3としてITO透明電極を有している。 The color filter substrate 4 ', red was formed in stripes on a glass substrate 14 (R), has a color filter 15, green (G), and blue (B), ITO transparent electrode as the counter electrode 3 thereon have. また、対向電極3の液晶側表面には、TFT基板2'の画素電極1に対応して突起物6が形成されており、その上に垂直配向膜16が形成されている。 Further, the liquid crystal side surface of the counter electrode 3, to correspond to the pixel electrodes 1 of the TFT substrate 2 'has projections 6 are formed, the vertical alignment film 16 is formed thereon.

一方、TFT基板2'は、ガラス基板17上にTFT素子(図示せず)や信号線18などの配線が形成され、その上に平坦化膜19、画素電極1、垂直配向膜16が順次形成された構造を有している。 On the other hand, TFT substrate 2 ', the wiring such as a glass substrate 17 TFT element (not shown) on and signal lines 18 are formed, a planarization film 19 thereon, the pixel electrode 1, a vertical alignment film 16 are sequentially formed and a structure.

また、この液晶パネルの光の入射側(TFT基板2'側)と光の出射側(カラーフィルタ基板4'側)のそれぞれの外側には、位相差板20a、20b、クロスニコルに配置された偏光板21a、21bが設けられている。 Further, each of the outer light incident side of the liquid crystal panel (TFT substrate 2 'side) and the light emitting side (color filter substrate 4' side), the phase difference plate 20a, 20b, arranged in a cross nicol state polarizing plates 21a, 21b is provided.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。 It will be specifically described the present invention based on examples.

実施例1 Example 1
図5の液晶パネルを次ぎのようにして製造した。 It was prepared as follows LCD panel of FIG.

ガラス基板14上に、1.2μm厚の、赤(R)、緑(G)、青(B)のカラーフィルタ15がストライプ状に形成され、その上に100nm厚のITO透明電極が形成されているカラーフィルタ基板4'に、ポジ型感光性樹脂を塗布し、露光、現像することにより、底面が1辺7μmの矩形のパターンを形成し、より好ましい形状とするために、120〜180℃で5分間ベークし、さらに200℃以上で本焼成を行った。 On the glass substrate 14, a 1.2μm thick, red (R), it is formed in the green (G), and blue (B) color filters 15 are stripe-shaped, thereon is formed 100nm thick ITO transparent electrode the color filter substrate 4 'are, the positive photosensitive resin is applied, exposed and developed, in order to bottom to form a rectangular pattern of one side 7 [mu] m, and more preferred shape, at 120 to 180 ° C. baked for 5 minutes and subjected to main calcination at 200 ° C. or higher. これにより、高さ1.5μmの断面蒲鉾型の突起物6を得た。 This gave projections 6 of the cross-section semicylindrical height 1.5 [mu] m. この突起物6の誘電率は3であった。 The dielectric constant of the protrusion 6 was 3. 突起物6の形成面に、ポリイミド系垂直配向膜を印刷し、180℃で1時間焼成した。 The forming surface of the projection 6, to print a polyimide vertical alignment film, and baked 1 hour at 180 ° C.. こうして得られた垂直配向膜16の膜厚は50〜100nmであった。 Thus obtained film thickness of the vertical alignment film 16 was 50 to 100 nm. この垂直配向膜16にはラビング処理を施さなかった。 It was not subjected to rubbing treatment in this vertical alignment film 16.

一方、ガラス基板17上にTFT素子や信号線18等の配線が形成されており、その上に3μm厚の平坦化膜19が形成され、さらに画素電極1として100nm厚のITO電極が形成されているTFT基板2'を用意した。 On the other hand, the wiring such as a TFT element and a signal line 18 on the glass substrate 17 is formed, the flattening film 19 of 3μm thick on are formed, it is formed further 100nm thick ITO electrode as the pixel electrode 1 It was prepared a TFT substrate 2 'you are. この画素電極1の大きさは、横40μm、縦120μmであり、隣り合う画素電極との間隙w1、w2、w3、w4(図1参照)はいずれも7μmとした。 The size of the pixel electrode 1, a horizontal 40 [mu] m, a vertical 120 [mu] m, (see FIG. 1) gap w1 between the adjacent pixel electrodes, w2, w3, w4 none was 7 [mu] m. 画素電極1上にはカラーフィルタ基板4'と同様に垂直配向膜16を形成した。 Like the color filter substrate 4 'on the pixel electrode 1 to form a vertical alignment film 16. 次いで、コモン塗布を行い、アクリル系スペーサ(粒径3.5μm)を散布した。 Next, by common coating was sprayed an acrylic spacer (particle size 3.5 [mu] m).

上述のカラーフィルタ基板4'にシール剤を塗布し、カラーフィルタ基板4'とTFT基板2'を重ね合わせ、13.3Pa(0.1torr)、120℃で2時間ベークし、その後、真空中で液晶5をパネル内に注入した。 'A sealing agent is applied to the color filter substrate 4' color filter substrate 4 above the overlay and the TFT substrate 2 ', 13.3 Pa (0.1 torr), and 2 hours and baked at 120 ° C., then in vacuo and injecting a liquid crystal 5 in the panel. この液晶5としては、Δε=−4、Δn=0.12、カイラルピッチ13μmの材料を使用した。 As the liquid crystal 5, Δε = -4, Δn = 0.12, was used a material chiral pitch 13 .mu.m.

次に、TFT基板2'とカラーフィルタ基板4'の外側に位相差板20a、20b、及びクロスニコルに配置された偏光板21a、21bを順次貼り付けた。 Then, successively pasted 'and the color filter substrate 4' TFT substrate 2 phase difference plate 20a on the outside of, 20b, and the polarizing plate 21a disposed in a cross nicol state, the 21b. この場合、位相差板20a、20bとしては、厚み方向(z軸)にのみ位相差をもつ、(N −N )d=300nm(但し、N :面内方向の屈折率、N :厚み方向の屈折率、d:位相差板の厚み)のものを使用した。 In this case, the phase difference plate 20a, as is 20b, having a phase difference only in the thickness direction (z-axis), (N x -N z) d = 300nm ( where, N x: plane direction of the refractive index, N z : refractive index in the thickness direction, d: was used in thickness) of the retardation plate.

また、偏光板21a、21bとしては、z軸方向に位相差を有し、位相差板20a、20bと同様の効果を有するトリアセテートフィルムを使用した。 The polarizing plate 21a, as is 21b, have a phase difference in the z-axis direction, using a triacetate film having a retardation plate 20a, the same effects as 20b.

こうして得られた液晶パネルを1H反転駆動した。 The liquid crystal panel thus obtained was 1H inversion driving. その結果、全方位において大きなコントラストの低下や、反転のない良好な視野角特性を示した。 As a result, lowering of high contrast in all directions showed good viewing angle characteristics without inversion.

実施例2 Example 2
実施例1において、TFT基板2'側の画素電極1と、カラーフィルタ基板4'側の突起物6の配置とパターンを図4(a)に示すものとし、液晶パネルを作製した。 In Example 1, 'and the pixel electrode 1 side, the color filter substrate 4' TFT substrate 2 the arrangement and pattern of the side of the projections 6 and that shown in FIG. 4 (a), to produce a liquid crystal panel. この場合、カラーフィルタ基板4'側のスリット7の幅L1は7μmとした。 In this case, the width L1 of the color filter substrate 4 'of the side slit 7 was 7 [mu] m.

得られた液晶パネルを実施例1と同様に駆動評価したところ、全方位において大きなコントラストの低下や反転等がない、良好な視野角特性が得られ、さらに、実施例1に比して方位角方向に対称性の高い視野角特性が得られた。 The obtained liquid crystal panel was driven evaluated in the same manner as in Example 1, there is no reduction or reversal or the like of high contrast in all directions, good viewing angle characteristics can be obtained, further, the azimuth angle as compared with Example 1 high viewing angle characteristic symmetrical to the direction was obtained. また、画質は、グレイラスター表示時のざらつき感が実施例1に比して少なかった。 Also, image quality, graininess upon gray raster display was less than in Example 1.

実施例3 Example 3
実施例2において、突起物6を底面が1辺10μmの矩形で高さを4.5μmとし、アクリル系スペーサーを使用せずに液晶パネルを作製した。 In Example 2, the height and 4.5μm protrusions 6 a rectangular bottom surface 1 side 10 [mu] m, to produce a liquid crystal panel without the use of acrylic spacer.

得られた液晶パネルを実施例1と同様に駆動評価したところ、実施例2と同様な視野角特性が得られた。 When the obtained liquid crystal panel was driven evaluated in the same manner as in Example 1, the same viewing angle characteristics as Example 2 were obtained. また、画質は、実施例2に比してざらつき感が少なかった。 Further, the image quality was less graininess than in Example 2.

実施例4 Example 4
実施例1において、TFT基板2'側の画素電極1と、カラーフィルタ基板4'側の突起物6の配置とパターンを図4(c)に示すものとし、液晶パネルを作製した。 In Example 1, 'and the pixel electrode 1 side, the color filter substrate 4' TFT substrate 2 the arrangement and pattern of the side of the projections 6 and that shown in FIG. 4 (c), to produce a liquid crystal panel. この場合、TFT基板2'側のスリット7の幅L1は7μmとした。 In this case, the width L1 of the TFT substrate 2 'of side slits 7 was 7 [mu] m. また突起物6の底面のサイズは、L2=5μm、L3=10μm、L4=5μm、L5=10μmとした。 The size of the bottom surface of the projection 6, L2 = 5μm, L3 = 10μm, L4 = 5μm, and the L5 = 10 [mu] m.

得られた液晶パネルを実施例1と同様に駆動評価したところ、実施例2と同様な視野角特性と画質が得られた。 When the obtained liquid crystal panel was similarly driven evaluated as in Example 1, the same viewing angle characteristics and image quality as in Example 2 were obtained.

実施例5 Example 5
実施例2において、突起物6に代えて、1辺7μmの矩形の孔をITO電極に開け、液晶パネルを作製した。 In Example 2, in place of the projections 6, open rectangular holes of one side 7μm to ITO electrodes, a liquid crystal panel.

得られた液晶パネルを実施例1と同様に駆動評価したところ、実施例2よりは画質が劣っていたが、良好な視野角特性が得られた。 The obtained liquid crystal panel was driven evaluated in the same manner as in Example 1, than Example 2 had inferior image quality, good viewing angle characteristics were obtained.

実施例6 Example 6
実施例2において、カラーフィルタ15の厚みをR=1.0μm、G=1.2μm、B=1.5μmとし、散布するアクリル系スペーサーの粒径を4μmとし、液晶パネルを作製した。 In Example 2, the thickness of the color filter 15 R = 1.0μm, G = 1.2μm, and B = 1.5 [mu] m, the particle size of the acrylic spacers sprayed with 4 [mu] m, to prepare a liquid crystal panel. この場合、各色のカラーフィルタは、各色の膜厚で実施例2と同じ色になるように光学濃度を変えた。 In this case, the color filters are changed optical density to be the same color as in Example 2 with a film thickness of each color.

得られた液晶パネルは、実施例2よりも白表示時に明るく、視野角方向において、色付きが少なかった。 The resulting liquid crystal panel, bright white display than that of Example 2, in the viewing angle direction, coloring was small.

1…画素電極、2…駆動基板、2'…TFT基板、3…対向電極、4…対向基板、4'…カラーフィルタ基板、5…液晶、6…突起物、6'、6''…突起物を形成するためのパターニングした感光性樹脂、7…スリット、8…切れ込み、9…孔、11a、11b…マスク、100…液晶表示素子 1 ... pixel electrode, 2 ... drive substrate, 2 '... TFT substrate, 3 ... counter electrode, 4 ... counter substrate, 4' ... color filter substrate, 5 ... liquid crystal, 6 ... projection, 6 ', 6' '... projection photosensitive resin is patterned to form an object, 7 ... slits, 8 ... slits, 9 ... hole, 11a, 11b ... mask, 100 ... liquid crystal display device

Claims (12)

  1. 画素電極が形成されている駆動基板と、対向電極が形成されている対向基板とを対向させ、前記駆動基板と前記対向基板との間に液晶を挟んで垂直配向モードの液晶表示素子を製造する液晶表示素子の製造方法であって、 A driving substrate on which the pixel electrode is formed, is opposed to a counter substrate opposing electrode is formed, to produce a liquid crystal display device of a vertical alignment mode across the liquid crystal between the opposed substrate and the drive substrate a method of manufacturing a liquid crystal display device,
    前記画素電極を矩形状とし、 The pixel electrode is rectangular,
    前記画素電極の短辺方向と平行に切れ込みを形成し、 Notch is formed in parallel to the short side of the pixel electrode,
    前記切れ込みと前記画素電極の辺により区分された画素電極の矩形状の各領域に対応して、前記対向基板に点状の突起を設け Corresponding to the rectangular shape of each region of the pixel electrode divided by the sides of the slit and the pixel electrode, Ru provided a point-like projections on the opposed substrate
    晶表示素子の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display element.
  2. 前記駆動基板上の、隣接する前記画素電極の間に対応する位置に信号線を形成する請求項記載の液晶表示素子の製造方法。 The driving of the substrate, method of manufacturing the liquid crystal display device of Motomeko 1 wherein that form a signal line to a corresponding position between adjacent said pixel electrode.
  3. 前記対向電極を、前記信号線に対応する位置において連続して形成する請求項記載の液晶表示素子の製造方法。 Wherein the counter electrode, the manufacturing method of the liquid crystal display device to be that請 Motomeko 2 wherein forming continuous at a position corresponding to the signal line.
  4. 前記画素電極を、平坦化膜上に形成する請求項1〜3のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display device according to the pixel electrode, to one of the Motomeko 1-3 you formed on the planarized film.
  5. 前記対向電極に、カラーフィルタを色毎に膜厚を調整して形成する請求項1〜4のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。 Wherein the counter electrode, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to any one of Motomeko 1-4 you formed by adjusting the film thickness of the color filter for each color.
  6. 前記対向基板に感光性樹脂を塗布し、パターニングすることにより、前記突起を形成する請求項1〜5のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。 The counter substrate a photosensitive resin is applied to, by patterning, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to any one of Motomeko 1-5 you form said projection.
  7. 前記突起の底面積を50μm 〜225μm とする請求項1〜6のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display device according to any one of Motomeko 1-6 you the bottom area of the projection and 50μm 2 ~225μm 2.
  8. 前記液晶にカイラル剤を添加する請求項1〜7のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display device according to any one of Motomeko 1-7 you adding a chiral agent to the liquid crystal.
  9. 前記液晶のカイラルピッチLとセルギャップdを、 The chiral pitch L and the cell gap d of the liquid crystal,
    2.5<L/d<5.5 2.5 <L / d <5.5
    とする請求項記載の液晶表示素子の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display device of Motomeko 8 wherein you with.
  10. 前記駆動基板としてTFT基板を使用する請求項1〜9のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display device according to any one of Motomeko 1-9 that uses a TFT substrate as the driving substrate.
  11. 画素ピッチを70μm以下に形成する請求項10記載の液晶表示素子の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display device of Motomeko 10 wherein that form a pixel pitch 70μm or less.
  12. 前記駆動基板又は前記対向基板の外側において、前記駆動基板又は前記対向基板と偏光板との間に、視野角を補償する位相差板を設け、該位相差板の面内方向の屈折率N 、N 、厚み方向の屈折率N 、厚みd film 、液晶の屈折率異方性Δn、セルギャップd LCに、 Outside of the drive substrate or the opposite substrate, between the drive substrate and the opposed substrate and the polarizing plate, a retardation plate to compensate a viewing angle provided, the refractive index in the in-plane direction of the retardation film N x , N y, the refractive index in the thickness direction N z, thickness d film, the refractive index of the liquid crystal anisotropy [Delta] n, the cell gap d LC,

    をみたさせる請求項1〜11のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。 Method of manufacturing a liquid crystal display device according to any one of causes Ru請 Motomeko 1-11 meet the.
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