JP2010085454A - Colored curable composition, color filter and method of producing the same, and pigment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a colored curable composition in a color from magenta to violet useful for a color filter and having excellent color purity, a high absorption coefficient and excellent pattern forming property. <P>SOLUTION: The colored curable composition includes at least one of compounds expressed by general formula (A) or (B) or tautomers thereof. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに色素に関し、特に、液晶表示素子や固体撮像素子に用いられるカラーフィルタを形成するのに好適な色素及び、該色素を含有する着色硬化性組成物、該着色硬化性組成物を用いたカラーフィルタ、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a colored curable composition, a color filter, a method for producing the same, and a dye, and particularly contains a dye suitable for forming a color filter used for a liquid crystal display element or a solid-state imaging element, and the dye. The present invention relates to a colored curable composition, a color filter using the colored curable composition, and a method for producing the same.

液晶表示素子や固体撮像素子等に用いられるカラーフィルタを作製する方法の一つに顔料分散法が用いられている。顔料分散法により顔料を種々の感光性組成物に分散させた着色感放射線性組成物を用いてフォトリソ法によってカラーフィルタを作製する方法がある。この方法は顔料を使用しているために光や熱に対して安定であるとともに、フォトリソ法によってパターニングするため位置精度も充分に確保でき、大画面、高精細カラーディスプレー用カラーフィルタの作製に好適な方法として広く利用されてきた。   A pigment dispersion method is used as one of methods for producing a color filter used for a liquid crystal display device, a solid-state imaging device, or the like. There is a method of producing a color filter by a photolithography method using a colored radiation-sensitive composition in which a pigment is dispersed in various photosensitive compositions by a pigment dispersion method. This method is stable against light and heat due to the use of pigments, and can be secured with sufficient positional accuracy because it is patterned by photolithography, making it suitable for the production of color filters for large screens and high-definition color displays. It has been widely used as a new method.

顔料分散法によりカラーフィルタを作製するには、基板上に感放射線性組成物をスピンコーターやロールコーター等により塗布し、乾燥させて塗布膜を形成し、該塗布膜をパターン露光し現像することによって、着色された画素を得る。この操作を色相分だけ繰り返すことでカラーフィルタを作製することができる。   In order to produce a color filter by the pigment dispersion method, a radiation-sensitive composition is applied on a substrate with a spin coater, a roll coater or the like, dried to form a coating film, and the coating film is subjected to pattern exposure and development. To obtain a colored pixel. By repeating this operation for the hue, a color filter can be produced.

しかしながら、近年、固体撮像素子用のカラーフィルタにおいては、更なる高精細化が望まれており、従来の顔料分散系では、解像度をさらに向上させることは困難であり、顔料の粗大粒子による色ムラが発生する等の問題のために、固体撮像素子のような微細パターンが要求される用途には適さない。   However, in recent years, color filters for solid-state imaging devices have been desired to have higher definition, and it is difficult to further improve resolution with conventional pigment dispersion systems, and color unevenness due to coarse pigment particles is difficult. Because of the problems such as the occurrence of the above, it is not suitable for applications requiring a fine pattern such as a solid-state imaging device.

上記の高解像度を達成するために、従来から着色材として染料を用いることが検討されている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、染料含有の硬化性組成物は、以下に示すような新たな問題点を有している。
(1)染料は、一般に顔料に比べて、耐光性、耐熱性に劣る。
(2)通常の色素は、アルカリ水溶液又は有機溶剤(以下単に溶剤ともいう)への溶解度が低いため、所望のスペクトルを有する液状の硬化性組成物を得るのが困難である。
(3)染料は、硬化性組成物中の他の成分との相互作用を示すことが多く、硬化部、非硬化部の溶解性(現像性)の調節が難しい。
(4)染料のモル吸光係数(ε)が低い場合には多量の染料を添加しなければならず、そのために硬化性組成物中の重合性化合物(モノマー)やバインダー、光重合開始剤等の他の成分を減らさざるを得ず、組成物の硬化性、硬化後の耐熱性、(非)硬化部の現像性等が低下する。
In order to achieve the above high resolution, the use of a dye as a coloring material has been conventionally studied (for example, see Patent Document 1). However, the dye-containing curable composition has the following new problems.
(1) Dyes are generally inferior in light resistance and heat resistance compared to pigments.
(2) Since ordinary dyes have low solubility in an alkaline aqueous solution or an organic solvent (hereinafter also simply referred to as a solvent), it is difficult to obtain a liquid curable composition having a desired spectrum.
(3) The dye often exhibits an interaction with other components in the curable composition, and it is difficult to adjust the solubility (developability) of the cured part and the non-cured part.
(4) When the molar extinction coefficient (ε) of the dye is low, a large amount of dye must be added. For that purpose, the polymerizable compound (monomer), binder, photopolymerization initiator, etc. in the curable composition Other components must be reduced, and the curability of the composition, the heat resistance after curing, the developability of the (non-) cured portion, and the like are reduced.

これらの問題のために、これまで高精細カラーフィルタ用の微細かつ薄膜に構成された着色パターンを形成することは困難であった。また、半導体作製用途などとは異なり、固体撮像素子用のカラーフィルタ作製用途の場合においては、1μm以下の薄膜にすることが要求される。したがって、所望の吸収を得るためには硬化性組成物中に、多量の色素を添加する必要があり、前述の問題を生じる結果となる。   Because of these problems, it has heretofore been difficult to form a fine and thin colored pattern for a high-definition color filter. In addition, unlike a semiconductor manufacturing application or the like, in the case of a color filter manufacturing application for a solid-state imaging device, a thin film of 1 μm or less is required. Therefore, in order to obtain a desired absorption, it is necessary to add a large amount of a dye in the curable composition, resulting in the above-mentioned problems.

また、一般にさまざまな用途で使用されている着色剤には、共通して次のような性質を具備していることが求められる。即ち、色再現性上好ましい吸収特性を有すること、使用される環境条件下における堅牢性、例えば、耐熱性、耐光性、耐湿性等が良好であること、モル吸光係数が大きく薄膜化が可能なこと等が必要とされている。   In addition, colorants generally used for various purposes are required to have the following properties in common. That is, it has favorable absorption characteristics in terms of color reproducibility, fastness under the environmental conditions used, for example, good heat resistance, light resistance, moisture resistance, etc., has a large molar extinction coefficient and can be thinned. That is needed.

例えば、ジピロメテン金属錯体は、モル吸光係数が高く、その色再現性上好ましい吸収特性を有している(特許文献2参照)。   For example, a dipyrromethene metal complex has a high molar extinction coefficient and favorable absorption characteristics in terms of color reproducibility (see Patent Document 2).

一方、特に固体撮像素子のカラーフィルタにおいては、微細なパターン形成性が要求されており、硬化部、非硬化部の溶解性(現像性)の調節が難しい。特に、微細パターンのマスクを通して、露光、次いでアルカリ液による現像を行い、未露光部をアルカリ現像液に溶解して微細パターンを形成させている。着色硬化性組成物のアルカリ現像液に対する溶解性が悪いと、パターン形成性が悪化する(未露光部に着色物が残る)。特に、アルカリ液の濃度依存性の小さい着色硬化性組成物が求められる。   On the other hand, particularly in the color filter of a solid-state imaging device, fine pattern formation is required, and it is difficult to adjust the solubility (developability) of the cured part and the non-cured part. In particular, exposure is performed through a fine pattern mask, followed by development with an alkali solution, and an unexposed portion is dissolved in an alkali developer to form a fine pattern. If the colored curable composition has poor solubility in an alkaline developer, the pattern formability deteriorates (colored matter remains in the unexposed area). In particular, a colored curable composition having a small concentration dependency of the alkaline liquid is required.

特開平6−75375号公報JP-A-6-75375 米国特許出願公開第2008/0076044A1号明細書US Patent Application Publication No. 2008 / 0076044A1

本発明は、青色、緑色、赤色に配置された原色カラーフィルタ用に有用な、色純度に優れ、薄層化が可能な高い吸光係数を有し、且つ、パターン形成性に優れるマゼンタ乃至バイオレット色の着色硬化性組成物を提供することを目的とする。
更に、本発明は、着色硬化性組成物を用いた、色純度に優れ、薄層化が可能であると共に、堅牢性に優れるマゼンタ乃至バイオレット色のカラーフィルタ、及びその製造方法を提供することを目的とする。
更に、本発明は、カラーフィルタ等に有用な着色硬化性組成物に有用な、吸収特性に優れ、モル吸収光係数が高く、且つ、現像性を付与できる色素(ピロメテン金属錯体)を提供することを目的とする。
The present invention is useful for primary color filters arranged in blue, green, and red, has a high light absorption coefficient that is excellent in color purity, can be thinned, and is excellent in pattern formation. An object of the present invention is to provide a colored curable composition.
Furthermore, the present invention provides a magenta to violet color filter that uses a colored curable composition, has excellent color purity, can be thinned, and has excellent fastness, and a method for producing the same. Objective.
Furthermore, the present invention provides a dye (pyromethene metal complex) that is useful for colored curable compositions useful for color filters and the like, has excellent absorption characteristics, has a high molar absorption coefficient, and can impart developability. With the goal.

本発明者らは、各種色素を詳細に検討した結果、特定の置換基を有するジピロメテン金属錯体化合物が、良好な色相と高い吸光係数を有し、堅牢性に優れると共に、有機溶剤に対する溶解性に優れ、且つ、パターン形成性に優れる(アルカリ現像液の濃度依存性が小さい)との知見を得、本発明はかかる知見に基づいて達成されたものである。
前記の課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
As a result of detailed examination of various dyes, the present inventors have found that a dipyrromethene metal complex compound having a specific substituent has a good hue and a high extinction coefficient, is excellent in fastness, and is soluble in organic solvents. The present inventors have obtained knowledge that they are excellent and have excellent pattern formability (low concentration dependency of alkali developer), and the present invention has been achieved based on such knowledge.
Specific means for solving the above-described problems are as follows.

<1> 下記一般式(A)で表される化合物、下記一般式(B)で表される化合物、及びそれらの互変異性体からなる群より選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする着色硬化性組成物。

Figure 2010085454

(式中、R〜Rは各々独立に、水素原子、又は置換基を表し、Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。但し、R〜Rのいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMと結合している。Mは水素原子、又は電荷を中和するために必要な有機塩基又は金属原子を表す。Lは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、及び−N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成が可能な2価の基を表す。Raは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Rb及びRcは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
Maは、錯体を形成可能な金属、又は金属化合物を表す。Xは、Maの電荷を中和する為に必要な基を表し、XはMaに結合可能な基を表す。pは0又は1を表す。一般式(B)において、XとXは、互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成していてもよい。)
<2> 前記一般式(A)が下記一般式(1−A)であり、前記一般式(B)が下記一般式(1−B)であることを特徴とする<1>に記載の着色硬化性組成物。
Figure 2010085454

(式中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、又は置換基を表す。Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。R及びRは、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、又はヘテロ環アミノ基を表す。但し、R〜R、R、及びRのいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合している。Mは水素原子、又は電荷を中和するために必要な有機塩基又は金属原子を表す。Lは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、及び−N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成が可能な2価の基を表す。Raは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Rb及びRcは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
Maは、錯体を形成可能な金属、又は金属化合物を表し、X1は、Maの電荷を中和する為に必要な基を表す。X及びXは、各々独立に、NR(Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表す。RとR又はRとが互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成してもよい。)、酸素原子、又は硫黄原子を表し、Y及びYは各々独立に、NR(Rは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基)、又は酸素原子を表し、RとYは、互いに結合して、5員、6員、又は7員の環を形成していてもよく、RとYとが互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成していてもよい。)
<3> 前記Maが、Fe、Zn、Co、V=O、又はCuであることを特徴とする<1>又は<2>に記載の着色硬化性組成物。
<4> 前記Maが、Znであることを特徴とする<1>〜<3>のいずれかに記載の着色硬化性組成物。
<5> 下記一般式(C)で表される化合物、下記一般式(D)で表される化合物、及びそれらの互変異性体からなる群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする着色硬化性組成物。
Figure 2010085454

(式中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、又は置換基を表す。Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。R10及びR11は、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、又はヘテロ環アミノ基を表す。但し、R〜R、R10、及びR11のいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合している。Mは水素原子、又は電荷を中和するために必要な有機塩基又は金属原子を表す。Lは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、及び−N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成が可能な2価の基を表す。Raは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Rb及びRcは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。X1は、Znの電荷を中和する為に必要な基を表す。)
<6> <1>〜<5>のいずれかに記載の着色硬化性組成物を含むカラーフィルタ。
<7> <1>〜<5>のいずれかに記載の着色硬化性組成物を支持体上に塗布して層を形成する工程と、
前記支持体上に形成した着色硬化性組成物の層に対し、マスクを介して露光した後、現像してパターン像を形成する工程と、
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
<8> 前記一般式(C)で表される化合物、前記一般式(D)で表される化合物、及びそれらの互変異性体からなる群から選択される色素。 <1> It contains at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (A), a compound represented by the following general formula (B), and their tautomers. A colored curable composition.
Figure 2010085454

(In the formula, R 1 to R 6 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, provided that R 1 represents R 1. To R 6 , which is a divalent linking group and bonded to — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M. M is a hydrogen atom or a charge .L represents an organic base or metal atom required to neutralize the represents an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, or an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, -O -, - S -, - SO 2 -, -N (Ra)-, -COO-, -OCO-, -CON (Rb)-, -N (Rb) CO-, -N (Rb) COO-, -OOCN (Rb)-, -N ( Rb) CON (Rc) -, - SO 2 N (Rb) -, and -N (Rb) SO 2 - Represents a divalent group that can be formed by combining with a divalent group selected from the group, wherein Ra represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group; Rb and Rc each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
Ma represents a metal or a metal compound capable of forming a complex. X 1 represents a group necessary for neutralizing the charge of Ma, and X 2 represents a group capable of binding to Ma. p represents 0 or 1; In the general formula (B), X 1 and X 2 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered ring. )
<2> The coloring according to <1>, wherein the general formula (A) is the following general formula (1-A), and the general formula (B) is the following general formula (1-B). Curable composition.
Figure 2010085454

(Wherein R 2 to R 5 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R 8 and R 9 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an anilino group, or a heterocyclic amino group, provided that R 2 to R 5 , A substituent of any one of R 8 and R 9 is a divalent linking group, and — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M is bonded, where M is a hydrogen atom. Or an organic base or a metal atom necessary for neutralizing the charge, L is an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, or an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, -O-, -S-, -SO 2 -, - N (Ra ) -, - C O -, - OCO -, - CON (Rb) -, - N (Rb) CO -, - N (Rb) COO -, - OOCN (Rb) -, - N (Rb) CON (Rc) -, - SO 2 N (Rb) -, and -N (Rb) SO 2 - .Ra representing a divalent combinable formed by a divalent group with group selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group, an aryl Represents a group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group, and Rb and Rc each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
Ma represents a metal or a metal compound capable of forming a complex, and X 1 represents a group necessary for neutralizing the charge of Ma. X 3 and X 4 each independently represent NR (where R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group. R and R 8 or R 9 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered ring), an oxygen atom, or a sulfur atom, and Y 1 and Y 2 are each independently NR (R Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group), or an oxygen atom, and R 8 and Y 1 are bonded to each other to represent 5 A 6-membered, 6-membered or 7-membered ring may be formed, and R 9 and Y 2 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered or 7-membered ring. )
<3> The colored curable composition according to <1> or <2>, wherein Ma is Fe, Zn, Co, V═O, or Cu.
<4> The colored curable composition according to any one of <1> to <3>, wherein Ma is Zn.
<5> It contains at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (C), a compound represented by the following general formula (D), and their tautomers. A colored curable composition.
Figure 2010085454

(In the formula, R 2 to R 5 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R 10 and R 11 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an anilino group, or a heterocyclic amino group, provided that R 2 to R 5 , A substituent of any one of R 10 and R 11 becomes a divalent linking group, and — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M is bonded, where M is a hydrogen atom. Or an organic base or metal atom necessary for neutralizing the charge, L is an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, or an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, -O-, -S-, -SO 2 -, - N (Ra ) , -COO-, -OCO-, -CON (Rb)-, -N (Rb) CO-, -N (Rb) COO-, -OOCN (Rb)-, -N (Rb) CON (Rc)-, A divalent group that can be formed by a combination with a divalent group selected from the group of —SO 2 N (Rb) — and —N (Rb) SO 2 —, wherein Ra represents an alkyl group or an alkenyl group; , An aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group, and Rb and Rc each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. X 1 represents a group necessary for neutralizing the charge of Zn.)
<6> A color filter comprising the colored curable composition according to any one of <1> to <5>.
<7> A step of coating the colored curable composition according to any one of <1> to <5> on a support to form a layer;
A step of forming a pattern image by exposing the layer of the colored curable composition formed on the support through a mask and developing the layer;
A method for producing a color filter, comprising:
<8> A dye selected from the group consisting of the compound represented by the general formula (C), the compound represented by the general formula (D), and tautomers thereof.

本発明によれば、青色、緑色、赤色に配置された原色カラーフィルタ用に有用な、色純度に優れ、薄層化可能な高い吸光係数を有し、堅牢性に優れ、且つ有機溶剤に対する溶解性、及び、アルカリ現像液の濃度依存性が小さく、パターン形成性に優れる特定の置換基を有するジピロメテン金属錯体を含有する着色硬化性組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、色純度に優れ、薄層化が可能な、且つ堅牢性に優れ、且つ高い解像度を有するカラーフィルタ及びその製造方法を提供することができる。
According to the present invention, it is useful for primary color filters arranged in blue, green and red, has excellent color purity, has a high extinction coefficient that can be thinned, has excellent fastness, and is soluble in organic solvents. And a colored curable composition containing a dipyrromethene metal complex having a specific substituent that has a small dependency on the concentration of an alkali developer and excellent pattern formation.
In addition, according to the present invention, it is possible to provide a color filter excellent in color purity, capable of being thinned, excellent in fastness, and having high resolution, and a method for manufacturing the same.

以下に、本発明の着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法について詳述する。   Below, the coloring curable composition of this invention, a color filter, and the manufacturing method of a color filter are explained in full detail.

−着色硬化性組成物−
本発明の着色硬化性組成物は、着色剤として、下記一般式(A)で表される化合物、下記一般式(B)で表される化合物、及びそれらの互変異性体からなる群より選択される少なくとも1種を含有する。感紫外線性の着色硬化性組成物が好ましい。
-Colored curable composition-
The colored curable composition of the present invention is selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (A), a compound represented by the following general formula (B), and a tautomer thereof as a colorant. Containing at least one of the above. UV-sensitive colored curable compositions are preferred.

Figure 2010085454
Figure 2010085454

一般式(A)及び一般式(B)中、R〜Rは各々独立に、水素原子、又は置換基を表し、Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。但し、R〜Rのいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMと結合している。Mは水素原子、又は電荷を中和するために必要な有機塩基又は金属原子を表す。Lは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、及び−N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成が可能な2価の基を表す。Raは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Rb及びRcは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
Maは、錯体を形成可能な金属、又は金属化合物を表す。Xは、Maの電荷を中和する為に必要な基を表し、XはMaに結合可能な基を表す。pは0又は1を表す。一般式(B)において、XとXは、互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成していてもよい。
In General Formula (A) and General Formula (B), R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or hetero. Represents a cyclic group. However, any substituent of R 1 to R 6 is a divalent linking group, and is bonded to — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M. M represents a hydrogen atom or an organic base or metal atom necessary for neutralizing the electric charge. L represents an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, or an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, —O—, —S—, —SO 2 —, —N (Ra) —, —COO—, —OCO—. , -CON (Rb) -, - N (Rb) CO -, - N (Rb) COO -, - OOCN (Rb) -, - N (Rb) CON (Rc) -, - SO 2 N (Rb) - And a divalent group that can be formed by a combination with a divalent group selected from the group of —N (Rb) SO 2 —. Ra represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group, and Rb and Rc each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group. Or a heterocyclic group.
Ma represents a metal or a metal compound capable of forming a complex. X 1 represents a group necessary for neutralizing the charge of Ma, and X 2 represents a group capable of binding to Ma. p represents 0 or 1; In the general formula (B), X 1 and X 2 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered ring.

一般式(A)及び一般式(B)でそれぞれ表される化合物について詳述する。
〜Rの置換基のいずれかが2価の連結基となって、−(L)−SO 又は、−(L)SOMが結合しているが、このR〜Rのいずれか2価の基の説明は、−(L)−SO−、及び−(L)−SOMの代わりに水素原子が置換したもので表している。
The compounds represented by general formula (A) and general formula (B) will be described in detail.
Is either a divalent linking group of the substituents of R 1 ~R 6, - (L ) -SO 3 - or, - (L) is SO 3 M is bonded, the R 1 to R 6 for a description of any divalent group, - (L) -SO 3 - , and - (L) -SO 3 M hydrogen atom instead of being expressed by those substituted.

一般式(A)及び一般式(B)中のR〜Rは各々独立に、水素原子、又は置換基を表し、R〜Rの置換基としては、例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24の、直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、1−ノルボルニル、1−アダマンチル)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜18のアルケニル基で、例えば、ビニル、アリル、3−ブテン−1−イル)、アリール基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環基で、例えば、2−チエニル、4−ピリジル、2−フリル、2−ピリミジニル、1−ピリジル、2−ベンゾチアゾリル、1−イミダゾリル、1−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−1−イル)、シリル基(好ましくは炭素数3〜38、より好ましくは炭素数3〜18のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ヘキシルジメチルシリル)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、1−ブトキシ、2−ブトキシ、イソプロポキシ、t−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、1−ナフトキシ)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環オキシ基で、例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアシルオキシ基で、例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニルオキシ基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基で、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ)、アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数7〜32、より好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ)、カルバモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜48、よりこの好ましくは炭素数1〜24のカルバモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N−ブチルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモイルオキシ、N−エチル−N−フェニルカルバモイルオキシ)、スルファモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のスルファモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジエチルスルファモイルオキシ、N−プロピルスルファモイルオキシ)、 R 1 to R 6 in the general formula (A) and the general formula (B) each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent for R 1 to R 6 include a halogen atom (for example, Fluorine, chlorine, bromine), an alkyl group (preferably a C1-C48, more preferably a C1-C24 linear, branched or cyclic alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl) , Butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, 1-norbornyl, 1-adamantyl), an alkenyl group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, More preferably, it is an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, such as vinyl, allyl, 3-buten-1-yl), an aryl group (preferably Is an aryl group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as phenyl or naphthyl, or a heterocyclic group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a heterocyclic ring having 1 to 18 carbon atoms). Groups such as 2-thienyl, 4-pyridyl, 2-furyl, 2-pyrimidinyl, 1-pyridyl, 2-benzothiazolyl, 1-imidazolyl, 1-pyrazolyl, benzotriazol-1-yl), silyl groups (preferably A silyl group having 3 to 38 carbon atoms, more preferably 3 to 18 carbon atoms, such as trimethylsilyl, triethylsilyl, tributylsilyl, t-butyldimethylsilyl, t-hexyldimethylsilyl), hydroxyl group, cyano group, nitro group An alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, , Methoxy, ethoxy, 1-butoxy, 2-butoxy, isopropoxy, t-butoxy, dodecyloxy, cycloalkyloxy group, for example, cyclopentyloxy, cyclohexyloxy), aryloxy group (preferably having 6 to 48 carbon atoms, More preferably, it is an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, such as phenoxy or 1-naphthoxy, and a heterocyclic oxy group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a heterocyclic oxy group having 1 to 18 carbon atoms). For example, 1-phenyltetrazol-5-oxy, 2-tetrahydropyranyloxy), a silyloxy group (preferably a silyloxy group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, such as trimethylsilyloxy, t -Butyldimethylsilyloxy, diphenylmethylsilyloxy) An acyloxy group (preferably an acyloxy group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, for example, acetoxy, pivaloyloxy, benzoyloxy, dodecanoyloxy), an alkoxycarbonyloxy group (preferably having 2 to 2 carbon atoms). 48, more preferably an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 24 carbon atoms, such as an ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy, cycloalkyloxycarbonyloxy group, such as cyclohexyloxycarbonyloxy), an aryloxycarbonyloxy group (Preferably an aryloxycarbonyloxy group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably 7 to 24 carbon atoms, for example, phenoxycarbonyloxy), a carbamoyloxy group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably Or a carbamoyloxy group having 1 to 24 carbon atoms such as N, N-dimethylcarbamoyloxy, N-butylcarbamoyloxy, N-phenylcarbamoyloxy, N-ethyl-N-phenylcarbamoyloxy), sulfamoyloxy A group (preferably a sulfamoyloxy group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-diethylsulfamoyloxy, N-propylsulfamoyloxy),

アルキルスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数1〜38、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルホニルオキシ基で、例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ)、アリールスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数6〜32、より好ましくは炭素数6〜24のアリールスルホニルオキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ)、アシル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアシル基で、例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜32、より好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、Nーエチル−N−オクチルカルバモイル、N,N−ジブチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−メチルN−フェニルカルバモイル、N,N−ジシクロへキシルカルバモイル)、アミノ基(好ましくは炭素数32以下、より好ましくは炭素数24以下のアミノ基で、例えば、アミノ、メチルアミノ、N,N−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、2−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ)、アニリノ基(好ましくは炭素数6〜32、より好ましくは6〜24のアニリノ基で、例えば、アニリノ、N−メチルアニリノ)、ヘテロ環アミノ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは1〜18のヘテロ環アミノ基で、例えば、4−ピリジルアミノ)、カルボンアミド基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは2〜24のカルボンアミド基で、例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のウレイド基で、例えば、ウレイド、N,N−ジメチルウレイド、N−フェニルウレイド)、イミド基(好ましくは炭素数36以下、より好ましくは炭素数24以下のイミド基で、例えば、N−スクシンイミド、N−フタルイミド)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜32、より好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のスルホンアミド基で、例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド)、スルファモイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のスルファモイルアミノ基で、例えば、N、N−ジプロピルスルファモイルアミノ、N−エチル−N−ドデシルスルファモイルアミノ)、アゾ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ、3−ピラゾリルアゾ)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ)、 An alkylsulfonyloxy group (preferably an alkylsulfonyloxy group having 1 to 38 carbon atoms, more preferably an alkylsulfonyloxy group having 1 to 24 carbon atoms, such as methylsulfonyloxy, hexadecylsulfonyloxy, cyclohexylsulfonyloxy), an arylsulfonyloxy group (preferably Is an arylsulfonyloxy group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as phenylsulfonyloxy), an acyl group (preferably 1 to 48 carbon atoms, more preferably an acyl having 1 to 24 carbon atoms). Groups such as formyl, acetyl, pivaloyl, benzoyl, tetradecanoyl, cyclohexanoyl), alkoxycarbonyl groups (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably having 2 to 24 carbon atoms, Methoxycarbonyl, D Xyloxycarbonyl, octadecyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyloxycarbonyl), aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 32 carbon atoms, more preferably having 7 to 24 carbon atoms) An aryloxycarbonyl group such as phenoxycarbonyl), a carbamoyl group (preferably a carbamoyl group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms such as carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-ethyl -N-octylcarbamoyl, N, N-dibutylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N-methylN-phenylcarbamoyl, N, N-dicyclohexylcarbamoyl), amino group (preferably having 3 carbon atoms) Hereinafter, more preferably an amino group having 24 or less carbon atoms, for example, amino, methylamino, N, N-dibutylamino, tetradecylamino, 2-ethylhexylamino, cyclohexylamino), anilino group (preferably having 6 carbon atoms). -32, more preferably 6-24 anilino groups, for example, anilino, N-methylanilino), heterocyclic amino groups (preferably C1-C32, more preferably 1-18 heterocyclic amino groups, 4-pyridylamino), a carbonamido group (preferably a carbonamido group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, for example, acetamido, benzamido, tetradecanamido, pivaloylamido, cyclohexaneamido), ureido group (preferably Uray having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms Group, for example, ureido, N, N-dimethylureido, N-phenylureido), an imide group (preferably an imide group having 36 or less carbon atoms, more preferably 24 or less carbon atoms, such as N-succinimide, N -Phthalimide), alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino, octadecyloxy Carbonylamino, cyclohexyloxycarbonylamino), aryloxycarbonylamino group (preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably 7 to 24 carbon atoms, such as phenoxycarbonylamino), sulfonamide group Preferably it is a C1-C48, more preferably C1-C24 sulfonamide group, for example, methanesulfonamide, butanesulfonamide, benzenesulfonamide, hexadecanesulfonamide, cyclohexanesulfonamide), sulfamoylamino group (Preferably a sulfamoylamino group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dipropylsulfamoylamino, N-ethyl-N-dodecylsulfamoylamino), An azo group (preferably an azo group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably an azo group having 1 to 24 carbon atoms, for example, phenylazo, 3-pyrazolylazo), an alkylthio group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably a carbon number); 1 to 24 alkylthio groups such as methylthio, ethylthio, octylthio , Cyclohexyl thio),

アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環チオ基で、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ、2−ピリジルチオ、1−フェニルテトラゾリルチオ)、アルキルスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンスルフィニル)、アリールスルフィニル基(好ましくは炭素数6〜32、より好ましくは炭素数6〜24のアリールスルフィニル基で、例えば、フェニルスルフィニル)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、2−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル、1−ナフチルスルホニル)、スルファモイル基(好ましくは炭素数32以下、より好ましくは炭素数24以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル、N,N−ジプロピルスルファモイル、N−エチル−N−ドデシルスルファモイル、N−エチル−N−フェニルスルファモイル、N−シクロヘキシルスルファモイル)、スルホ基、ホスホニル基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル)、ホスフィノイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のホスフィノイルアミノ基で、例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ)を表す。 An arylthio group (preferably an arylthio group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably an arylthio group having 6 to 24 carbon atoms such as phenylthio), a heterocyclic thio group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms). A heterocyclic thio group of, for example, 2-benzothiazolylthio, 2-pyridylthio, 1-phenyltetrazolylthio), an alkylsulfinyl group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably having 1 to 24 carbon atoms) A sulfinyl group such as dodecanesulfinyl), an arylsulfinyl group (preferably an arylsulfinyl group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably an arylsulfinyl group having 6 to 24 carbon atoms such as phenylsulfinyl), an alkylsulfonyl group (preferably having a carbon number) 1 to 48, more preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 24 carbon atoms, For example, methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, butylsulfonyl, isopropylsulfonyl, 2-ethylhexylsulfonyl, hexadecylsulfonyl, octylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl), arylsulfonyl groups (preferably having 6 to 48 carbon atoms, more preferably carbon numbers) An arylsulfonyl group having 6 to 24, for example, phenylsulfonyl, 1-naphthylsulfonyl), a sulfamoyl group (preferably a sulfamoyl group having 32 or less carbon atoms, more preferably 24 or less carbon atoms, such as sulfamoyl, N, N- Dipropylsulfamoyl, N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl, N-ethyl-N-phenylsulfamoyl, N-cyclohexylsulfamoyl), sulfo group, phosphonyl group (preferably A phosphonyl group having 1 to 32 prime atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as phenoxyphosphonyl, octyloxyphosphonyl, phenylphosphonyl), phosphinoylamino group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, and more preferably Is a phosphinoylamino group having 1 to 24 carbon atoms and represents, for example, diethoxyphosphinoylamino, dioctyloxyphosphinoylamino).

一般式(A)及び一般式(B)中のR〜Rの置換基が、更に置換可能な基である場合には、R〜Rの置換基で説明した基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。但し、R〜Rのいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMと結合している。 When the substituents of R 1 to R 6 in the general formula (A) and the general formula (B) are further substitutable groups, they are substituted with the groups described for the substituents of R 1 to R 6. If it is substituted with two or more substituents, these substituents may be the same or different. However, any substituent of R 1 to R 6 is a divalent linking group, and is bonded to — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M.

〜Rの置換基が2価の連結基となる場合には、複数の置換基が互いに連結して新たな2価の連結基を形成してもよく、例えば、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、2価のヘテロ環基、−O−、−S−、−C(=O)O−、−OC(=O)−、−C(=O)−、−OC(=O)N(Rd)−、−C(=O)N(Rd)−、−N(Rd)C(=O)−、−N(Rd)C(=O)O−、−N(Rd)C(=O)N(Re)−、−C(=o)N(Rd)C(=O)−、−SO−、−SO−、−SO−、−SON(Rd)−、−N(Rd)SO−、−C(=O)N(Rd)SO−、−SON(Rd)SO−等の2価の連結基が複数結合して新たな2価の連結基を形成していてもよい。 When the substituents R 1 to R 6 are divalent linking groups, a plurality of substituents may be linked to each other to form a new divalent linking group, such as an alkylene group or an aralkylene group. , Arylene group, divalent heterocyclic group, —O—, —S—, —C (═O) O—, —OC (═O) —, —C (═O) —, —OC (═O) N (Rd)-, -C (= O) N (Rd)-, -N (Rd) C (= O)-, -N (Rd) C (= O) O-, -N (Rd) C ( = O) N (Re) - , - C (= o) N (Rd) C (= O) -, - SO -, - SO 2 -, - SO 3 -, - SO 2 N (Rd) -, - N (Rd) SO 2 —, —C (═O) N (Rd) SO 2 —, —SO 2 N (Rd) SO 2 — and the like are combined to form a new divalent linkage. A group may be formed.

Rd、Reは、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基スルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基等を表し、これらのアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基スルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基は、前記R〜Rの置換基で説明した基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。 Rd and Re represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group sulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, and the like. A group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group sulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, and a sulfamoyl group may be substituted with the groups described above for the substituents of R 1 to R 6 ; When substituted with two or more substituents, these substituents may be the same or different.

一般式(A)及び一般式(B)中のRは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、Rのハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基は、前記R〜Rの置換基で説明した、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、及びヘテロ環基と同義であり、好ましい範囲も同様である。 R 7 in general formula (A) and general formula (B) represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and the halogen atom, alkyl group, aryl group, or heterocyclic ring of R 7 The group is synonymous with the halogen atom, the alkyl group, the aryl group, and the heterocyclic group described for the substituents of R 1 to R 6 , and the preferred range is also the same.

一般式(A)及び一般式(B)中のMは、水素原子、又は電荷を中和するために必要な有機塩基又は金属原子を表し、有機塩基としては、アルキルアミン類、アニリン類、4級アミン類、グアニジン類、ピリジン類、キノリン類等が好ましく、金属としては、アルカリ金属が好ましい。また、アンモニアも好ましい。Mは水素原子が最も好ましい。 M in the general formulas (A) and (B) represents a hydrogen atom or an organic base or metal atom necessary for neutralizing the charge. Examples of the organic base include alkylamines, anilines, 4 Secondary amines, guanidines, pyridines, quinolines and the like are preferable, and the metal is preferably an alkali metal. Ammonia is also preferred. M is most preferably a hydrogen atom.

一般式(A)及び一般式(B)中のLは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、−N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成が可能な2価の基を表す。Raは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Rb及びRcは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。 The L in the general formula (A) or Formula (B), an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, or an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, -O -, - S -, - SO 2 -, - N (Ra)-, -COO-, -OCO-, -CON (Rb)-, -N (Rb) CO-, -N (Rb) COO-, -OOCN (Rb)-, -N (Rb) CON (Rc) -, - SO 2 N (Rb) -, - represents a divalent combination allows formation by a divalent group with a group selected from the group of - N (Rb) SO 2. Ra represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group, and Rb and Rc each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group. Represents a heterocyclic group.

Lのアルキレン基は、好ましくは炭素数1〜18、より好ましくは炭素数1〜12の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキレン基であって、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロへキシレン等が挙げられる。Lのアラルキレン基は、好ましくは炭素数7〜18、より好ましくは炭素数7〜16のアラルキレン基であって、例えば、ベンジレン、フェネチレン等が挙げられる。Lのアリーレン基は、好ましくは炭素数6〜18、より好ましくは6〜12のアリーレン基であって、例えば、o−フェニレン、m−フェニレン、p−フェニレン、1,4−ナフチレン等が挙げられる
Lのアルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基が、更に置換可能であれば、前記R〜Rの置換基で説明した基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
The alkylene group of L is preferably a linear, branched, or cyclic alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylene, ethylene, propylene, butylene, Examples include cyclopropylene, cyclobutylene, and cyclohexylene. The aralkylene group of L is preferably an aralkylene group having 7 to 18 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, and examples thereof include benzylene and phenethylene. The arylene group of L is preferably an arylene group having 6 to 18 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include o-phenylene, m-phenylene, p-phenylene, 1,4-naphthylene and the like. If the alkylene group, aralkylene group, and arylene group of L can be further substituted, they may be substituted with the groups described for the substituents of R 1 to R 6 , and may be substituted with two or more substituents. The substituents may be the same or different.

Lはまた、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、及び−N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成される2価の基を形成していてもよい。但し、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、又は−N(Rb)SO−が、直接に−SO 又は、−SOM基と結合することは無く、−SO 又は−SOMは、アルキレン基、アラルキレン基、又はアリーレン基を介して結合している。 L is also an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, —O—, —S—, —SO 2 —, —N (Ra) —, —COO—, —OCO—, —CON (Rb) —, —N. (Rb) CO -, - N (Rb) COO -, - OOCN (Rb) -, - N (Rb) CON (Rc) -, - SO 2 N (Rb) -, and -N (Rb) SO 2 - A divalent group formed by a combination with a divalent group selected from the group may be formed. However, -O -, - S -, - SO 2 -, - N (Ra) -, - COO -, - OCO -, - CON (Rb) -, - N (Rb) CO -, - N (Rb) COO—, —OOCN (Rb) —, —N (Rb) CON (Rc) —, —SO 2 N (Rb) —, or —N (Rb) SO 2 — directly represents —SO 3 or — The SO 3 M group is not bonded, and —SO 3 or —SO 3 M is bonded via an alkylene group, an aralkylene group, or an arylene group.

Raのアルキル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基は、前記R〜Rの置換基で説明したアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Raのアルキル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基が置換可能な基である場合には、前記R〜Rの置換基で説明した基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は、同一であっても異なっていてもよい。
The alkyl group, alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, acyl group, alkylsulfonyl group, and arylsulfonyl group of Ra are the alkyl group, alkenyl group, and aryl group described above for the substituents of R 1 to R 6. , A heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group, and a preferred range is also the same.
When an alkyl group, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group of Ra is a substitutable group, the above-described substituents for R 1 to R 6 are used. In the case where it is substituted with two or more substituents, these substituents may be the same or different.

Rbのアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基は、前記R〜Rの置換基で説明したアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Rbのアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基置換可能な基である場合には、前記R〜Rの置換基で説明した基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は、同一であっても異なっていてもよい。
The alkyl group, alkenyl group, aryl group, and heterocyclic group of Rb have the same meanings as the alkyl group, alkenyl group, aryl group, and heterocyclic group described for the substituents of R 1 to R 6 , and the preferred ranges are also the same. is there.
When Rb is an alkyl group, alkenyl group, aryl group or heterocyclic group-substitutable group, it may be substituted with the group described for the substituents of R 1 to R 6 and two or more substituents may be substituted. When substituted with a group, the substituents may be the same or different.

一般式(A)及び一般式(B)中のMaは、錯体を形成可能な金属、又は金属化合物を表し、Maの金属及び金属化合物としては、2価の金属原子、2価の金属酸化物、2価の金属水酸化物、又は2価の金属塩化物が含まれる。例えば、Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等の他に、AlCl、InCl、FeCl、TiCl、SnCl、SiCl、GeClなどの金属塩化物、TiO、VO等の金属酸化物、Si(OH)等の金属水酸化物も含まれる。 Ma in the general formula (A) and the general formula (B) represents a metal or a metal compound capable of forming a complex, and the metal and the metal compound of Ma include a divalent metal atom and a divalent metal oxide. A divalent metal hydroxide or a divalent metal chloride is included. For example, Zn, Mg, Si, Sn , Rh, Pt, Pd, Mo, Mn, Pb, Cu, Ni, Co, in addition to Fe, such as, AlCl, InCl, FeCl, TiCl 2, SnCl 2, SiCl 2, GeCl Also included are metal chlorides such as 2 , metal oxides such as TiO and VO, and metal hydroxides such as Si (OH) 2 .

これらの中でも、錯体の安定性、分光特性、耐熱、耐光性、及び製造適性等の観点から、Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO、又はVOが好ましく、Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co、又はVOが更に好ましく、Fe、Zn、Co、又はCuが更に好ましく、Znが最も好ましい。   Among these, Fe, Zn, Mg, Si, Pt, Pd, Mo, Mn, Cu, Ni, Co, TiO, or from the viewpoint of the stability, spectral characteristics, heat resistance, light resistance, and production suitability of the complex VO is preferred, Fe, Zn, Mg, Si, Pt, Pd, Cu, Ni, Co, or VO is more preferred, Fe, Zn, Co, or Cu is more preferred, and Zn is most preferred.

一般式(A)及び一般式(B)中のXは、Maの電荷を中和する為に必要な基を表し、XはMaに結合可能な基を表す。pは0又は1を表す。XとXは、互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成していてもよい。 X 1 in the general formulas (A) and (B) represents a group necessary for neutralizing the electric charge of Ma, and X 2 represents a group capable of binding to Ma. p represents 0 or 1; X 1 and X 2 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered ring.

一般式(B)中のXは、Maの電荷を中和する為に必要な基を表し、例えば、ハロゲン、水酸基、カルボン酸基、燐酸基、スルホン酸基等が挙げられる。 X 1 in the general formula (B) represents a group necessary for neutralizing the charge of Ma, and examples thereof include a halogen, a hydroxyl group, a carboxylic acid group, a phosphoric acid group, and a sulfonic acid group.

一般式(A)及び一般式(B)中のXは、Maに結合可能な基であればいずれであってもよく、水、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール)等、更に「金属キレート」[1]坂口武一・上野景平著(1995年南江堂)、同[2](1996年)、同[3](1997年)等に記載の化合物が挙げられる。 X 2 in general formula (A) and general formula (B) may be any group as long as it is a group capable of binding to Ma, such as water, alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol) and the like. Metal chelates ”[1] Takeichi Sakaguchi and Keihei Ueno (1995 Nanoedo), [2] (1996), [3] (1997), and the like.

一般式(A)及び一般式(B)中のpは0又は1を表す。
一般式(A)及び一般式(B)中のXとXは、互いに結合して、Maと共に5員、6員、又は7員の環を形成してもよい。形成される5員、6員、及び7員の環は、飽和環であっても不飽和環であっても良い。また、5員、6員、及び7員の環は、炭素原子のみで構成されていても良く、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子から選ばれる原子を少なくとも1個有するヘテロ環を形成していてもよい。
P in general formula (A) and general formula (B) represents 0 or 1.
X 1 and X 2 in the general formula (A) and the general formula (B) may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered ring together with Ma. The 5-membered, 6-membered and 7-membered rings formed may be saturated or unsaturated. The 5-membered, 6-membered, and 7-membered rings may be composed of only carbon atoms, and form a heterocycle having at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. May be.

一般式(A)及び一般式(B)でそれぞれ表される化合物、又はそれらの互変異性体は、合成適性、化合物の安定性、堅牢性等の観点から、好ましくは一般式(1−A)及び一般式(1−B)でそれぞれ表される化合物、又はそれらの互変異性体で表されるジピロメテン金属錯体が好ましい。   The compounds represented by the general formula (A) and the general formula (B), or tautomers thereof, are preferably represented by the general formula (1-A) from the viewpoints of synthesis suitability, stability of the compound, fastness and the like. And a dipyrromethene metal complex represented by a compound represented by formula (1-B) or a tautomer thereof.

Figure 2010085454
Figure 2010085454

一般式(1−A)及び(1−B)中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、又は置換基を表す。Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。R及びRは、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、又はヘテロ環アミノ基を表す。但し、R〜R、R、及びRのいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合している。Mは水素原子、又は電荷を中和するために必要な有機塩基又は金属原子を表す。Lは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、及び−N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成が可能な2価の基を表す。Raは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Rb及びRcは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
Maは、錯体を形成可能な金属、又は金属化合物を表し、X1は、Maの電荷を中和する為に必要な基を表す。X及びXは、各々独立に、NR(Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表す。RとR又はRとが互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成してもよい。)、酸素原子、又は硫黄原子を表し、Y及びYは各々独立に、NR(Rは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基)、又は酸素原子を表し、RとYは、互いに結合して、5員、6員、又は7員の環を形成していてもよく、RとYとが互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成していてもよい。
In general formulas (1-A) and (1-B), R 2 to R 5 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R 8 and R 9 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an anilino group, or a heterocyclic amino group. However, any substituent of R 2 to R 5 , R 8 , and R 9 becomes a divalent linking group, and — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M is bonded. is doing. M represents a hydrogen atom or an organic base or metal atom necessary for neutralizing the electric charge. L represents an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, or an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, —O—, —S—, —SO 2 —, —N (Ra) —, —COO—, —OCO—. , -CON (Rb) -, - N (Rb) CO -, - N (Rb) COO -, - OOCN (Rb) -, - N (Rb) CON (Rc) -, - SO 2 N (Rb) - And a divalent group that can be formed by a combination with a divalent group selected from the group of —N (Rb) SO 2 —. Ra represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group, and Rb and Rc each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group. Or a heterocyclic group.
Ma represents a metal or a metal compound capable of forming a complex, and X 1 represents a group necessary for neutralizing the charge of Ma. X 3 and X 4 each independently represent NR (where R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group. R and R 8 or R 9 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered ring), an oxygen atom, or a sulfur atom, and Y 1 and Y 2 are each independently NR (R Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group), or an oxygen atom, and R 8 and Y 1 are bonded to each other to represent 5 A 6-membered, 6-membered or 7-membered ring may be formed, and R 9 and Y 2 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered or 7-membered ring.

次に、一般式(1−A)及び一般式(1−B)について詳述する。
一般式(1−A)及び一般式(1−B)中のR〜R、R、M、L、Ma、Xは、前記一般式(A)及び一般式(B)で説明したそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
Next, general formula (1-A) and general formula (1-B) will be described in detail.
R 2 to R 5 , R 7 , M, L, Ma, and X 1 in the general formula (1-A) and the general formula (1-B) are described in the general formula (A) and the general formula (B). The preferred range is also the same.

一般式(1−A)及び一般式(1−B)中のR及びRが2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMと結合している場合、R、Rの2価の連結基は、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMの代わりに水素原子が置換したもので説明する。 Formula (1-A) and the general formula (1-B) R 8 and R 9 in becomes a divalent linking group, - (L) -SO 3 - , or - (L) -SO 3 M And the divalent linking group of R 8 and R 9 is described by the substitution of a hydrogen atom in place of — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M. .

一般式(1−A)及び一般式(1−B)中のR及びRは、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、又はヘテロ環アミノ基を表す。 R 8 and R 9 in general formula (1-A) and general formula (1-B) are each independently an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an amino group. Represents an anilino group or a heterocyclic amino group.

及びRのアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、及びヘテロ環アミノ基の好ましい範囲は、前記R〜Rの置換基で説明したものと同様である。 The preferred range of the alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, amino group, anilino group, and heterocyclic amino group of R 8 and R 9 is the substitution of R 1 to R 6 . It is the same as that explained in the group.

及びRのアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、及びヘテロ環アミノ基は、更に、前記R〜Rの置換基で説明した基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。 The alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, amino group, anilino group, and heterocyclic amino group of R 8 and R 9 are further substituted with the substituents of R 1 to R 6 . In the case of substitution with two or more substituents, these substituents may be the same or different.

及びRの置換基が2価の連結基となる場合には、複数の置換基が互いに連結して新たな2価の連結基を形成してもよく、例えば、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、2価のヘテロ環基、−O−、−S−、−C(=O)O−、−OC(=O)−、−C(=O)、−OC(=O)N(Rd)−、−C(=O)N(Rd)−、−N(Rd)C(=O)−、−N(Rd)C(=O)O−、−N(Rd)C(=O)N(Re)−、−SO−、−SO−、−SO−、−SON(Rd)−、−N(Rd)SO−、−C(=O)N(Rd)SO−、−SON(Rd)SO−等の2価の連結基が複数結合して新たな2価の連結基を形成していてもよい。 When the substituents of R 8 and R 9 are divalent linking groups, a plurality of substituents may be linked to each other to form a new divalent linking group. For example, an alkylene group or an aralkylene group , Arylene group, divalent heterocyclic group, —O—, —S—, —C (═O) O—, —OC (═O) —, —C (═O), —OC (═O) N (Rd)-, -C (= O) N (Rd)-, -N (Rd) C (= O)-, -N (Rd) C (= O) O-, -N (Rd) C (= O) N (Re) -, - SO -, - SO 2 -, - SO 3 -, - SO 2 N (Rd) -, - N (Rd) SO 2 -, - C (= O) N (Rd) A plurality of divalent linking groups such as SO 2 — and —SO 2 N (Rd) SO 2 — may be bonded to form a new divalent linking group.

Rd及びReは、それぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基スルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基等を表し、これらのアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基スルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基は、前記R〜Rの置換基で説明した基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。 Rd and Re represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group sulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, and the like. A group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group sulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, and a sulfamoyl group may be substituted with the groups described above for the substituents of R 1 to R 6 ; When substituted with two or more substituents, these substituents may be the same or different.

一般式(1−A)及び一般式(1−B)中のX及びXは各々独立に、NR(Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表す。RとR又はRとが互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成してもよい。)、酸素原子、又は硫黄原子を表し、Rのアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基の好ましい範囲は、前記R〜Rの置換基で説明したアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基と同様である。 X 3 and X 4 in general formula (1-A) and general formula (1-B) are each independently NR (where R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, Represents an alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group, and R and R 8 or R 9 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered or 7-membered ring), oxygen atom or sulfur atom; And the preferred range of the alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, acyl group, alkylsulfonyl group, and arylsulfonyl group of R is the alkyl group or alkenyl group described above for the substituents of R 1 to R 6. , Aryl group, heterocyclic group, acyl group, alkylsulfonyl group and arylsulfonyl group.

Rが置換可能な基である場合には、前記R〜Rの置換基で説明した基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。 When R is a substitutable group, it may be substituted with the groups described for the substituents of R 1 to R 6 , and when it is substituted with two or more substituents, The substituents may be the same or different.

及びXは、好ましくは、NR(Rは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基)、酸素原子であり、合成適性、化合物の安定性等の観点から酸素原子が最も好ましい。 X 3 and X 4 are preferably NR (R is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group) or an oxygen atom, and from the viewpoints of suitability for synthesis, stability of the compound, and the like, an oxygen atom Is most preferred.

一般式(1−A)及び一般式(1−B)中のY及びYは各々独立に、NR(Rは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基)、又は酸素原子を表し、NRのRは、前記X及びXのNRのRで説明したのと同義である。 Y 1 and Y 2 in general formula (1-A) and general formula (1-B) are each independently NR (where R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group). , An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group), or an oxygen atom, and R in NR has the same meaning as explained for R in X 3 and X 4 above.

一般式(1−A)及び一般式(1−B)中のRとYは、互いに結合して、5員、6員、又は7員の環を形成していてもよく、RとYとが互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成していてもよい。
Maは、錯体を形成可能な金属、又は金属化合物を表し、X1は、Maの電荷を中和する為に必要な基を表す。
R 8 and Y 1 in General Formula (1-A) and General Formula (1-B) may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered ring, and R 9 And Y 2 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered or 7-membered ring.
Ma represents a metal or a metal compound capable of forming a complex, and X 1 represents a group necessary for neutralizing the charge of Ma.

一般式(1−A)は、合成適性、化合物の安定性、有機溶剤に対する溶解性等の観点から、更に好ましくは下記一般式(C)又は、その互変異性体で表され、一般式(1−B)は、更に好ましくは下記一般式(D)又は、その互変異性体で表される。   The general formula (1-A) is more preferably represented by the following general formula (C) or a tautomer thereof from the viewpoints of suitability for synthesis, stability of the compound, solubility in organic solvents, and the like. 1-B) is more preferably represented by the following general formula (D) or a tautomer thereof.

Figure 2010085454
Figure 2010085454

一般式(C)及び一般式(D)中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、又は置換基を表す。Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。R10及びR11は、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、又はヘテロ環アミノ基を表す。但し、R〜R、R10、及びR11のいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合している。Mは水素原子、又は電荷を中和するために必要な有機塩基又は金属原子を表す。Lは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成が可能な2価の基を表す。Raは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Rb及びRcは、各々独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。X1は、Znの電荷を中和する為に必要な基を表す。 In general formula (C) and general formula (D), R < 2 > -R < 5 > represents a hydrogen atom or a substituent each independently. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R 10 and R 11 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an anilino group, or a heterocyclic amino group. However, any substituent of R 2 to R 5 , R 10 and R 11 becomes a divalent linking group, and — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M is bonded. is doing. M represents a hydrogen atom or an organic base or metal atom necessary for neutralizing the electric charge. L represents an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, or an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, —O—, —S—, —SO 2 —, —N (Ra) —, —COO—, —OCO—. , -CON (Rb) -, - N (Rb) CO -, - N (Rb) COO -, - OOCN (Rb) -, - N (Rb) CON (Rc) -, - SO 2 N (Rb) - , N (Rb) SO 2 — represents a divalent group that can be formed in combination with a divalent group selected from the group of Ra represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group, and Rb and Rc each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. Represents. X 1 represents a group necessary for neutralizing the charge of Zn.

一般式(C)及び一般式(D)中、R〜R、R、M、L、Xは、前記一般式(A)、一般式(B)、一般式(1−A)、及び一般式(1−B)のそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
10、R11は各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、又はヘテロ環アミノ基を表す。但し、R〜R、R10、及びR11のいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合している。
In general formula (C) and general formula (D), R 2 to R 5 , R 7 , M, L, and X 1 are the general formula (A), general formula (B), and general formula (1-A). , And those of general formula (1-B), and the preferred ranges are also the same.
R 10 and R 11 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an anilino group, or a heterocyclic amino group. However, any substituent of R 2 to R 5 , R 10 and R 11 becomes a divalent linking group, and — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M is bonded. is doing.

一般式(C)及び一般式(D)中のR10及びR11が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMと結合している場合、R10及びR11の2価の連結基は、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMの代わりに水素原子が置換したもので説明する。 Formula (C) and R 10 and R 11 in the general formula (D) is a divalent linking group, - (L) -SO 3 - , or - (L) bonded to -SO 3 M The divalent linking group of R 10 and R 11 will be described by the substitution of a hydrogen atom in place of — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M.

一般式(C)及び一般式(D)中のR10及びR11は、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、又はヘテロ環アミノ基を表す。
10及びR11のアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、又はヘテロ環アミノ基は、更に前記R〜Rで説明した置換基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
10及びR11は、合成適性、化合物の安定性の観点から各々独立に、アルキル基、アリール基が好ましい。
R 10 and R 11 in general formula (C) and general formula (D) are each independently an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, amino group, anilino group, Or represents a heterocyclic amino group.
The alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, amino group, anilino group, or heterocyclic amino group of R 10 and R 11 are further substituted as described above for R 1 to R 6. When substituted with two or more substituents, these substituents may be the same or different.
R 10 and R 11 are each independently preferably an alkyl group or an aryl group from the viewpoints of synthesis suitability and stability of the compound.

10及びR11の置換基が2価の連結基となる場合には、複数の置換基が互いに連結して新たな2価の連結基を形成してもよく、例えば、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、2価のヘテロ環基、−O−、−S−、−C(=O)O−、−OC(=O)−、−C(=O)、−OC(=O)N(Rd)−、−C(=O)N(Re)−、−N(Rd)C(=O)−、−N(Rd)C(=O)O−、−N(Rd)C(=O)N(Re)−、−SO−、−SO−、−SO−、−SON(Rd)−、−N(Rd)SO−、−C(=O)N(Rd)SO−、−SON(Rd)SO−等の2価の連結基が複数結合して新たな2価の連結基を形成していてもよい。 When the substituents of R 10 and R 11 are divalent linking groups, a plurality of substituents may be linked to each other to form a new divalent linking group. For example, an alkylene group or an aralkylene group , Arylene group, divalent heterocyclic group, —O—, —S—, —C (═O) O—, —OC (═O) —, —C (═O), —OC (═O) N (Rd)-, -C (= O) N (Re)-, -N (Rd) C (= O)-, -N (Rd) C (= O) O-, -N (Rd) C (= O) N (Re) -, - SO -, - SO 2 -, - SO 3 -, - SO 2 N (Rd) -, - N (Rd) SO 2 -, - C (= O) N (Rd) A plurality of divalent linking groups such as SO 2 — and —SO 2 N (Rd) SO 2 — may be bonded to form a new divalent linking group.

Rd及びReは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基スルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基等を表し、これらのアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基スルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基は、前記R〜Rの置換基で説明した基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。 Rd and Re represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group sulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, etc., and these alkyl groups, aryl groups , A heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group sulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, and a sulfamoyl group may be substituted with the groups described above for the substituents of R 1 to R 6. When it is substituted with more than one substituent, these substituents may be the same or different.

一般式(1−A)、一般式(1−B)、一般式(C)、及び一般式(D)でそれぞれ表される化合物の互変異性体について説明する。
一般式(1−A)、一般式(1−B)、一般式(C)、及び一般式(D)でそれぞれ表される化合物の互変異性体とは、分子内の1個の水素原子が移動することにより形成し得る構造の化合物であればいずれであってもよく、例えば、下記の一般式(a)から一般式(f)の構造等であってもよい。
The tautomers of the compounds represented by general formula (1-A), general formula (1-B), general formula (C), and general formula (D) will be described.
The tautomers of the compounds represented by general formula (1-A), general formula (1-B), general formula (C), and general formula (D) are one hydrogen atom in the molecule. Any compound may be used as long as it has a structure that can be formed by the movement of, for example, a structure of the following general formula (a) to general formula (f).

Figure 2010085454
Figure 2010085454

上記式(a)〜(f)中のXはMaと結合可能な基であり、aは0又は1である。他の各置換基は、一般式(1−A)、一般式(1−B)、一般式(C)、及び一般式(D)のそれらと同義である。 X 5 in the above formulas (a) to (f) is a group capable of binding to Ma, and a is 0 or 1. Each other substituent is synonymous with those of general formula (1-A), general formula (1-B), general formula (C), and general formula (D).

次に、本発明に係る化合物の好ましい範囲について説明する。
好ましくは、一般式(A)は一般式(1−A)で表され、一般式(B)は一般式(1−B)で表され、より好ましくは、それぞれ一般式(C)又は一般式(D)で表される。
Next, the preferable range of the compound according to the present invention will be described.
Preferably, the general formula (A) is represented by the general formula (1-A), the general formula (B) is represented by the general formula (1-B), and more preferably, the general formula (C) or the general formula, respectively. It is represented by (D).

一般式(1−A)、一般式(1−B)、一般式(C)、及び一般式(D)におけるLは、好ましくはアルキレン基である。   L in general formula (1-A), general formula (1-B), general formula (C), and general formula (D) is preferably an alkylene group.

一般式(A)及び一般式(B)中の−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合する位置としては、R又はRが2価の連結基となって結合していることが好ましく、一般式(1−A)及び一般式(1−B)中の−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合する位置としては、R又はRが2価の連結基となって結合していることが好ましく、更に好ましくは、一般式(C)及び一般式(D)中の−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合する位置としては、R10又はR11が2価の連結基となって結合していることが好ましい。 Formula (A) or Formula (B) in the - (L) -SO 3 -, or - (L) as the position -SO 3 M are attached and R 1 or R 6 is a divalent linking group is preferably bonded is, the formula (1-a) and formula (1-B) in the - (L) -SO 3 -, or - (L) as positions -SO 3 M is bonded it is preferred that R 8 or R 9 is bound to a divalent linking group, more preferably the general formula (C) and the general formula (D) in the - (L) -SO 3 -, or - (L) as the position -SO 3 M is bonded, it is preferred that R 10 or R 11 are bonded a divalent linking group.

一般式(A)及び一般式(B)のR〜Rのいずれかの基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMに結合する時の、2価の連結基としては、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、2価のヘテロ環基、又はアルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基と、−O−、−S−、−C(=O)O−、−OC(=O)−、−C(=O)、−OC(=O)N(Rd)−、−C(=O)N(Re)−、−N(Rd)C(=O)−、−N(Rd)C(=O)O−、−N(Rd)C(=O)N(Re)−、−SO−、−SO−、−SON(Rd)−、又は−N(Rd)SO−とで形成される2価の連結基が好ましい。更に好ましくは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基である。 Any group of R 1 to R 6 in the general formula (A) and the general formula (B) is a divalent linking group, and — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M As the divalent linking group when bonded to the alkylene group, an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group, an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, -O-, -S-,- C (= O) O-, -OC (= O)-, -C (= O), -OC (= O) N (Rd)-, -C (= O) N (Re)-, -N ( Rd) C (═O) —, —N (Rd) C (═O) O—, —N (Rd) C (═O) N (Re) —, —SO—, —SO 2 —, —SO 2 N (Rd) -, or -N (Rd) SO 2 - 2 divalent linking group is preferably formed of capital. More preferred are an alkylene group, an aralkylene group and an arylene group.

一般式(1−A)及び一般式(1−B)中のR〜R5、、Rのいずれかの基が2価の連結基となって−(L)−SO 、又は−(L)SOMが結合する時の2価の連結基としては、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、2価のヘテロ環基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、又はアリーレン基と、−O−、−S−、−C(=O)O−、−OC(=O)−、−C(=O)、−OC(=O)N(Rd)−、−C(=O)N(Re)−、−N(Rd)C(=O)−、−N(Rd)C(=O)O−、−N(Rd)C(=O)N(Re)−、−SO−、−SO−、−SON(Rd)−、又は−N(Rd)SO−とで形成される2価の連結基が好ましい。更に好ましくは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基である。 In the general formula (1-A) and the general formula (1-B), any one of R 2 to R 5, R 8 and R 9 becomes a divalent linking group, and — (L) —SO 3 Or a divalent linking group when-(L) SO 3 M is bonded to an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group, an alkylene group, an aralkylene group, or an arylene group , -O-, -S-, -C (= O) O-, -OC (= O)-, -C (= O), -OC (= O) N (Rd)-, -C (= O ) N (Re)-, -N (Rd) C (= O)-, -N (Rd) C (= O) O-, -N (Rd) C (= O) N (Re)-, -SO A divalent linking group formed with —, —SO 2 —, —SO 2 N (Rd) —, or —N (Rd) SO 2 — is preferable. More preferred are an alkylene group, an aralkylene group and an arylene group.

一般式(C)及び一般式(D)中のR〜R、R10、及びR11のいずれかの基が2価の連結基となって−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合する2価の連結基としては、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、2価のヘテロ環基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、又はアリーレン基と、−O−、−S−、−C(=O)O−、−OC(=O)−、−C(=O)、−OC(=O)N(Rd)−、−C(=O)N(Re)−、−N(Rd)C(=O)−、N(Rd)C(=O)O−、−N(Rd)C(=O)N(Re)−、−SO−、−SO−、−SON(Rd)−、又は−N(Rd)SO−とで形成される2価の連結基が好ましい。更に好ましくは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基である。 Formula (C) and the general formula (D) R 2 ~R 5, R 10 in, and any of the groups for R 11 is a divalent linking group - (L) -SO 3 -, or - (L) As the divalent linking group to which —SO 3 M is bonded, an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group, an alkylene group, an aralkylene group, or an arylene group, and —O— , -S-, -C (= O) O-, -OC (= O)-, -C (= O), -OC (= O) N (Rd)-, -C (= O) N (Re ) -, - N (Rd) C (= O) -, N (Rd) C (= O) O -, - N (Rd) C (= O) N (Re) -, - SO -, - SO 2 A divalent linking group formed with —, —SO 2 N (Rd) —, or —N (Rd) SO 2 — is preferable. More preferred are an alkylene group, an aralkylene group and an arylene group.

一般式(A)、一般式(B)、一般式(1−A)、一般式(1−B)、一般式(C)、及び一般式(D)の各々の置換基の好ましい範囲を以下に説明するが、各置換基の好ましい範囲と、前記一般式の好ましい範囲の組み合わせがより上位の方がより好ましい。   The preferred ranges of the substituents of the general formula (A), the general formula (B), the general formula (1-A), the general formula (1-B), the general formula (C), and the general formula (D) are as follows The combination of the preferred range of each substituent and the preferred range of the general formula is more preferably higher.

一般式(A)及び一般式(B)中のR及びRは、好ましくは各々独立に、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、一般式(1−A)及び一般式(1−B)中の−Y−C(=X)−Rで表される基、又は、−Y−C(=X)−Rで表される基、一般式(C)及び一般式(D)中の−NH−C(=O)−R10、又は、−NH−C(=O)−R11で表される基である。
更に好ましくは、R及びRは、一般式(1−A)及び一般式(1−B)中の−Y−C(=X)−Rで表される基、又は、−Y−C(=X)−Rで表される基、一般式(C)及び一般式(D)中の−NH−C(=O)−R10、又は、−NH−C(=O)−R11で表される基である。
最も好ましくは、一般式(C)及び一般式(D)中の−NH−C(=O)−R10、又は、−NH−C(=O)−R11で表される基である。
R 1 and R 6 in general formula (A) and general formula (B) are preferably each independently an alkyl group, aryl group, heterocyclic group, general formula (1-A) and general formula (1-B). ) -Y 1 -C (═X 3 ) —R 8 , or a group represented by —Y 2 —C (═X 4 ) —R 9 , General Formula (C) and General In formula (D), it is a group represented by —NH—C (═O) —R 10 or —NH—C (═O) —R 11 .
More preferably, R 1 and R 6 are groups represented by —Y 1 —C (═X 3 ) —R 8 in the general formula (1-A) and the general formula (1-B), or — A group represented by Y 2 —C (═X 4 ) —R 9 , —NH—C (═O) —R 10 in formula (C) and formula (D), or —NH—C ( = O) -R 11 represents a group.
Most preferred is a group represented by —NH—C (═O) —R 10 or —NH—C (═O) —R 11 in formulas (C) and (D).

一般式(A)、一般式(B)、一般式(1−A)、一般式(1−B)、一般式(C)、及び一般式(D)中の、R、及びRは、好ましくは各々独立に、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、アシル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基であって、より好ましくは、パ−フロロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、アシル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、スルファモイル基であって、更に好ましくは、パーフロロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、アシル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基であって、最も好ましくは、パーフロロアルキル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基である。 Formula (A), Formula (B), formula (1-A), the general formula (1-B), Formula (C), and in the general formula (D), R 2, and R 5 is Preferably, each independently, an alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, acyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, alkyl Sulfonyl group, arylsulfonyl group, heterocyclic sulfonyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, sulfamoyl group, more preferably perfluoroalkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl Group, cyano group, carboxyl group, acyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group, aryl A sulfonyl group, a heterocyclic sulfonyl group, and a sulfamoyl group, more preferably a perfluoroalkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, a carboxyl group, an acyl group, and a carbamoyl group. An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a sulfamoyl group, and most preferably a perfluoroalkyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group.

一般式(A)、一般式(B)、一般式(1−A)、一般式(1−B)、一般式(C)、及び一般式(D)中の、R、及びRは、好ましくは各々独立に、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基であって、より好ましくは、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基であって、最も好ましくは、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。 In general formula (A), general formula (B), general formula (1-A), general formula (1-B), general formula (C), and general formula (D), R 3 and R 4 are Preferably each independently an alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxycarbonyl group, cyano group, carbamoyl group, more preferably an alkyl group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, Most preferably, they are an alkyl group, an aryl group, and a heterocyclic group.

一般式(A)、一般式(B)、一般式(1−A)、一般式(1−B)、一般式(C)、及び一般式(D)中のRは、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基であって、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基であり、更に好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基であって、最も好ましくは、水素原子である。 R 7 in general formula (A), general formula (B), general formula (1-A), general formula (1-B), general formula (C), and general formula (D) is preferably hydrogen. An atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, and a heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, and a heterocyclic group, and still more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group. Most preferably, it is a hydrogen atom.

一般式(B)、一般式(1−B)、及び一般式(D)中の、Mは、好ましくは水素原子、炭素数3〜14のトリアルキルアミン類、炭素数4〜20の4級アンモニウム類、炭素数3〜14のグアニジン類、アルカリ金属類であって、より好ましくは、炭素数3〜9のトリアルキルアミン類、炭素数4〜8の4級アンモニウム塩類、又は、アルカリ金属類であって、更に好ましくはアルカリ金属類である。   In general formula (B), general formula (1-B), and general formula (D), M is preferably a hydrogen atom, a trialkylamine having 3 to 14 carbon atoms, or a quaternary having 4 to 20 carbon atoms. Ammoniums, guanidines having 3 to 14 carbon atoms, and alkali metals, more preferably trialkylamines having 3 to 9 carbon atoms, quaternary ammonium salts having 4 to 8 carbon atoms, or alkali metals Further, alkali metals are more preferable.

一般式(A)及び一般式(B)中のXは、好ましくは、水、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール)等、更に「金属キレート」[1]坂口武一・上野景平著(1995年南江堂)、同[2](1996年)、同[3](1997年)等に記載の化合物であって、更に好ましくは、水又はアルコール類であって、最も好ましくはpが0である。 X 2 in the general formula (A) and the general formula (B) is preferably water, alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol) or the like, and further “metal chelate” [1] Takeichi Sakaguchi / Keihei Ueno (1995 Nanedou), [2] (1996), [3] (1997), etc., more preferably water or alcohols, most preferably p is 0.

一般式(A)、一般式(B)、一般式(1−A)、及び一般式(1−B)中のMaは、好ましくは、Fe、Zn、Co、Cuであって、更に好ましくはZn、Co、Cuであって、最も好ましくはZnである。   Ma in the general formula (A), the general formula (B), the general formula (1-A), and the general formula (1-B) is preferably Fe, Zn, Co, or Cu, and more preferably. Zn, Co, and Cu, and most preferably Zn.

一般式(B)、一般式(1−B)、及び一般式(D)中のXは、好ましくは、ハロゲン原子、カルボン酸基、スルホン酸基、燐酸基であって、より好ましくは、塩素原子、カルボン酸基、スルホン酸基である。 X 1 in the general formula (B), the general formula (1-B), and the general formula (D) is preferably a halogen atom, a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group, and more preferably, A chlorine atom, a carboxylic acid group, and a sulfonic acid group.

一般式(1−A)及び一般式(1−B)中のR及びRは、好ましくは、各々独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基、アニリノ基であって、より好ましくは、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基、アニリノ基であって、更に好ましくは、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基であり、最も好ましくは、アルキル基、アリール基である。 R 8 and R 9 in general formula (1-A) and general formula (1-B) are preferably each independently an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, amino group, anilino A group, more preferably an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an amino group, and an anilino group, still more preferably an alkyl group, an aryl group, and a heterocyclic group, most preferably , An alkyl group and an aryl group.

一般式(1−A)及び一般式(1−B)中のX及びXは、好ましくは、各々独立にNR(Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表す)、硫黄原子、酸素原子であって、より好ましくは、−NH−、硫黄原子、酸素原子であって、最も好ましくは、酸素原子である。 X 3 and X 4 in general formula (1-A) and general formula (1-B) are preferably each independently NR (where R is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, Represents an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group), a sulfur atom, and an oxygen atom, more preferably —NH—, a sulfur atom, and an oxygen atom, and most preferably an oxygen atom.

一般式(1−A)、一般式(1−B)中のY、及びYは、好ましくは各々独立に、NR(Rは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基)であって、より好ましくはNR(Rは水素原子、アルキル基)であって、最も好ましくは−NH−基である。 Y 1 and Y 2 in general formula (1-A) and general formula (1-B) are preferably each independently NR (where R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic ring) Group, acyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group), more preferably NR (R is a hydrogen atom, alkyl group), and most preferably —NH— group.

一般式(C)及び一般式(D)中のR10及びR11は、好ましくは各々独立に、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基であって、より好ましくはアルキル基又はアリール基である。 R 10 and R 11 in general formula (C) and general formula (D) are preferably each independently an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, more preferably an alkyl group or an aryl group. .

次に、一般式(A)、一般式(B)、一般式(1−A)、一般式(1−B)、一般式(C)、及び一般式(D)でそれぞれ表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらによって限定されない。   Next, for the compounds represented by general formula (A), general formula (B), general formula (1-A), general formula (1-B), general formula (C), and general formula (D), respectively. Specific examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.

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前記一般式(A)、一般式(B)、一般式(C)、及び一般式(D)でそれぞれ表される化合物は、米国特許出願公開第2008/0076044A1号明細書に記載の方法で合成することができる。
本発明におけるジピロメテン系金属錯体化合物の合成方法について、上記例示化合物であるA−3の合成を例に、下記反応スキームAを参照して詳述する。
The compounds represented by the general formula (A), the general formula (B), the general formula (C), and the general formula (D) are synthesized by the method described in US Patent Application Publication No. 2008 / 0076044A1. can do.
The method for synthesizing the dipyrromethene-based metal complex compound in the present invention will be described in detail with reference to the following reaction scheme A, taking the synthesis of A-3 as an example compound as an example.

反応スキームA

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Reaction scheme A
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(合成例1)
[例示化合物A−3]の合成
(中間体Bの合成)
特開平10−316654号公報に記載の方法に従って合成した中間体A 17.4 g(0.05モル)にN−メチルピロリドン(NMP) 50mlを添加して、5℃に冷却して撹拌した。この溶液に、2−クロロプロピオニルクロライド 7.62g(0.06モル)を滴下した。滴下終了後、この反応液を水 800mlに撹拌しながら注いで結晶を析出させた。この結晶をろ過して、水洗した。次いで、この結晶をアセトニトリル 250ml中に分散させ、2時間撹拌してからろ過した。これにより、中間体Bを 16.5g(収率:75.2%)得た。
(Synthesis Example 1)
Synthesis of [Exemplary Compound A-3] (Synthesis of Intermediate B)
50 ml of N-methylpyrrolidone (NMP) was added to 17.4 g (0.05 mol) of intermediate A synthesized according to the method described in JP-A-10-316654, and the mixture was cooled to 5 ° C. and stirred. To this solution, 7.62 g (0.06 mol) of 2-chloropropionyl chloride was added dropwise. After completion of the dropwise addition, this reaction solution was poured into 800 ml of water with stirring to precipitate crystals. The crystals were filtered and washed with water. The crystals were then dispersed in 250 ml of acetonitrile, stirred for 2 hours and filtered. As a result, 16.5 g (yield: 75.2%) of intermediate B was obtained.

(中間体Cの合成)
前記の方法で得た中間体B 13.0g(0.03モル)と、3−メルカプトプロパンスルホン酸ナトリウム 8.0g(0.045モル)にNMP 50mlを加えて窒素気流下に撹拌した。この分散液に1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)5.5g(0.036モル)を滴下した。滴下終了後、室温で4時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、この反応液を飽和食塩水 700mlと、酢酸エチル500ml中に撹拌しながら注いだ。食塩水を除去して酢酸エチル溶液を、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下に濃縮し、残留物にアセトニトリル 500mlを添加して結晶を析出させた。この結晶をろ過して乾燥した。これにより、中間体Cを 16.9g(収率:97.1%)得た。
(Synthesis of Intermediate C)
50 ml of NMP was added to 13.0 g (0.03 mol) of the intermediate B obtained by the above method and 8.0 g (0.045 mol) of sodium 3-mercaptopropanesulfonate, followed by stirring under a nitrogen stream. To this dispersion, 5.5 g (0.036 mol) of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) was added dropwise. After completion of the dropwise addition, the reaction was completed by stirring at room temperature for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 700 ml of saturated brine and 500 ml of ethyl acetate with stirring. The brine was removed and the ethyl acetate solution was washed with saturated brine and dried over anhydrous sodium sulfate. Ethyl acetate was concentrated under reduced pressure, and 500 ml of acetonitrile was added to the residue to precipitate crystals. The crystals were filtered and dried. As a result, 16.9 g (yield: 97.1%) of Intermediate C was obtained.

(中間体Dの合成)
特開平10−316654号公報に記載の方法に従って合成した中間体A 34.9g(0.1モル)にNMP 100mlを加えて10℃に冷却して撹拌した。この溶液に ピバロイルクロライド 14.5g(0.12モル)を滴下した。滴下終了後、室温で、2時間撹拌して反応を完結させた。この反応液を水1000ml中に撹拌しながら注いで結晶を析出させた。この結晶をろ過して水洗し乾燥した。この結晶にアセトニトリル500mlを添加して、50℃に加熱して1時間撹拌した。この分散液を室温に冷却してからろ過して乾燥した。これにより、中間体Dを 36.2g(収率:83.7%)得た。
(Synthesis of Intermediate D)
100 ml of NMP was added to 34.9 g (0.1 mol) of Intermediate A synthesized according to the method described in JP-A-10-316654, and the mixture was cooled to 10 ° C. and stirred. To this solution, 14.5 g (0.12 mol) of pivaloyl chloride was added dropwise. After completion of the dropwise addition, the reaction was completed by stirring for 2 hours at room temperature. The reaction solution was poured into 1000 ml of water with stirring to precipitate crystals. The crystals were filtered, washed with water and dried. To this crystal, 500 ml of acetonitrile was added, heated to 50 ° C. and stirred for 1 hour. The dispersion was cooled to room temperature, filtered and dried. As a result, 36.2 g (yield: 83.7%) of Intermediate D was obtained.

(中間体Eの合成)
ジメチルホルムアミド(DMF)100mlを5℃に冷却して撹拌し、オキシ塩化リン19.3gを滴下した。滴下終了後、5℃〜10℃で1時間撹拌した後、前記の方法で得た中間体D 36.2g(0.084モル)をDMF100mlに溶解させた溶液を滴下した。10℃〜15℃で1時間撹拌した後、更にオキシ塩化リン 19.3gを低下した。滴下終了後10℃〜15℃で2時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、この反応液を水 1000ml中に撹拌しながら注いだ。次いで、この水溶液に、水酸化ナトリウム40gを水300mlに溶解させた水溶液をpHが7になるまで滴下した。滴下終了後、室温で2時間撹拌して析出した結晶をろ過し、水洗して乾燥した。中間体Dのジメチルアミノメチレン体を40.0g得た。このジメチルアミノメチレン体 40.0gに酢酸エチル150ml、メタノール30mlと水200mlを添加して室温で撹拌した。この溶液に炭酸カリウム 8・5gを添加して35℃〜40℃に加熱して2時間撹拌した。反応終了後、この反応液に35%塩酸水をpH3〜4になるまで添加した。次いで酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この酢酸エチルを減圧下で濃縮乾固した。残留部にアセトニトリル 100mlを添加して結晶を析出させ、ろ過して乾燥した。中間体Eを 36.6g(収率:95.0%)得た。
(Synthesis of Intermediate E)
100 ml of dimethylformamide (DMF) was cooled to 5 ° C. and stirred, and 19.3 g of phosphorus oxychloride was added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 5 ° C. to 10 ° C. for 1 hour, and then a solution prepared by dissolving 36.2 g (0.084 mol) of the intermediate D obtained by the above method in 100 ml of DMF was added dropwise. After stirring at 10 ° C. to 15 ° C. for 1 hour, 19.3 g of phosphorus oxychloride was further reduced. After completion of the dropwise addition, the reaction was completed by stirring for 2 hours at 10 to 15 ° C. After completion of the reaction, this reaction solution was poured into 1000 ml of water with stirring. Next, an aqueous solution in which 40 g of sodium hydroxide was dissolved in 300 ml of water was added dropwise to this aqueous solution until the pH reached 7. After completion of the dropwise addition, the resulting crystals were stirred for 2 hours at room temperature, filtered, washed with water and dried. 40.0 g of a dimethylaminomethylene derivative of Intermediate D was obtained. To 40.0 g of this dimethylaminomethylene, 150 ml of ethyl acetate, 30 ml of methanol and 200 ml of water were added and stirred at room temperature. To this solution, 8.5 g of potassium carbonate was added and heated to 35 ° C. to 40 ° C. and stirred for 2 hours. After completion of the reaction, 35% aqueous hydrochloric acid was added to the reaction solution until the pH reached 3-4. Next, the ethyl acetate layer was washed with saturated brine and then dried over anhydrous sodium sulfate. The ethyl acetate was concentrated to dryness under reduced pressure. Crystals were precipitated by adding 100 ml of acetonitrile to the residue, filtered and dried. 36.6 g (yield: 95.0%) of Intermediate E was obtained.

(中間体Fの合成)
前記の方法で得た中間体E 4.61g(0.01モル)に無水酢酸 50mlとトリフロロ酢酸 3.5gとを加えて5℃〜10℃に冷却して撹拌した。この溶液に前記の方法で得た中間体E 5.81g(0.01モル)を数回に分けてゆっくりと添加した。添加終了後、室温で2時間撹拌して反応を完結させた。反応終了後、この反応液を、炭酸水素ナトリウム84gを水1000mlに溶解させた水溶液に、ゆっくりと滴下した。析出した結晶をろ過して水洗し乾燥した。この結晶にアセトニトリル 50mlと酢酸エチル 25mlの混合溶媒を加えて室温で分散させて2時間撹拌した。この結晶をろ過して乾燥した。中間体Fを 7.88g(収率:77.0%)得た。
酢酸エチル溶液中のλmaxは507.1nmであり、モル吸光係数(ε)は55600であった。
(Synthesis of Intermediate F)
50 ml of acetic anhydride and 3.5 g of trifluoroacetic acid were added to 4.61 g (0.01 mol) of the intermediate E obtained by the above method, and the mixture was cooled to 5 ° C. to 10 ° C. and stirred. To this solution, 5.81 g (0.01 mol) of Intermediate E obtained by the above method was slowly added in several portions. After completion of the addition, the reaction was completed by stirring at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, this reaction solution was slowly added dropwise to an aqueous solution in which 84 g of sodium bicarbonate was dissolved in 1000 ml of water. The precipitated crystals were filtered, washed with water and dried. A mixed solvent of 50 ml of acetonitrile and 25 ml of ethyl acetate was added to the crystals and dispersed at room temperature, followed by stirring for 2 hours. The crystals were filtered and dried. 7.88 g (yield: 77.0%) of intermediate F was obtained.
Λmax in the ethyl acetate solution was 507.1 nm, and the molar extinction coefficient (ε) was 55600.

(例示化合物A−3の合成)
酢酸亜鉛2水和物 1.18gに2−プロパノール 150mlを加えて室温で撹拌した。この分散液に、前記の方法で得た中間体F 5.0g(0.0049モル)を添加した。添加終了後、室温で3時間撹拌して反応を完結させた。この溶液にアセトニトリル100mlをゆっくりと滴下して4時間撹拌した。この結晶をろ過してアセトニトリルで洗浄し、乾燥した。例示化合物A−3を4.25g(収率:81.6%)得た。
例示化合物A−3の酢酸エチル溶液中のλmaxは535.0nmであり、モル吸光係数(ε)は140800であった。
(Synthesis of Exemplified Compound A-3)
To 1.18 g of zinc acetate dihydrate, 150 ml of 2-propanol was added and stirred at room temperature. To this dispersion, 5.0 g (0.0049 mol) of Intermediate F obtained by the above method was added. After completion of the addition, the reaction was completed by stirring at room temperature for 3 hours. To this solution, 100 ml of acetonitrile was slowly added dropwise and stirred for 4 hours. The crystals were filtered, washed with acetonitrile and dried. 4.25g (yield: 81.6%) of exemplary compound A-3 was obtained.
Λmax of Example Compound A-3 in an ethyl acetate solution was 535.0 nm, and the molar extinction coefficient (ε) was 140800.

前記一般式(A)、一般式(B)、一般式(C)、及び一般式(D)でそれぞれ表される化合物は、米国特許出願公開第2008/0076044A1号明細書に記載の方法で合成することができる。   The compounds represented by the general formula (A), the general formula (B), the general formula (C), and the general formula (D) are synthesized by the method described in US Patent Application Publication No. 2008 / 0076044A1. can do.

本発明における前記一般式(A)及び一般式(B)でそれぞれ表される化合物及びそれらの互変異性体から選択される少なくとも1種の着色硬化性組成物中における含有量は、分子量及びモル吸光係数によって異なるが、着色硬化性組成物の全固形分成分に対して、0.5〜80質量%が好ましく、0.5〜60質量%がより好ましく、0.5〜50質量%が最も好ましい。   In the present invention, the content in the at least one colored curable composition selected from the compounds represented by the general formula (A) and the general formula (B) and the tautomers thereof is the molecular weight and the mole, respectively. Although it varies depending on the extinction coefficient, it is preferably 0.5 to 80% by mass, more preferably 0.5 to 60% by mass, and most preferably 0.5 to 50% by mass with respect to the total solid component of the colored curable composition. preferable.

本発明の着色硬化性組成物、及びカラーフィルタには、前記一般式(A)、一般式(B)、一般式(C)、及び一般式(D)でそれぞれ表される化合物、又はそれらの互変異性体以外にも、フタロシアニン化合物(例えば、米国特許出願公開第2008/0076044A1号明細書に記載のフタロシアニン化合物)、550nm〜650nmに吸収極大を有するトリアリールメタン系の着色剤、例えば、シー・アイ・アシッドブルー7(C.I.Acid Blue7)、シー・アイ・アシッドブルー83(C.I.Acid Blue83)、シー・アイ・アシッドブルー90(C.I.Acid Blue90)、シー・アイ・ソルベント・ブルー38(C.I.Solvent Blue38)、シー・アイ・アシッド・バイオレット17(C.I.Acid Violet17)、シー・アイ・アシッド・バイオレット49(C.I.Acid Violet49)、シー・アイ・アシッド・グリーン3(C.I.Acid Green3)等を用いることが出来る。   The colored curable composition and color filter of the present invention include compounds represented by the general formula (A), the general formula (B), the general formula (C), and the general formula (D), respectively, Besides tautomers, phthalocyanine compounds (for example, phthalocyanine compounds described in US Patent Application Publication No. 2008 / 0076044A1), triarylmethane-based colorants having an absorption maximum at 550 nm to 650 nm, for example, -Eye Acid Blue 7 (C.I. Acid Blue 7), C.I. Acid Blue 83 (C.I. Acid Blue 83), C.I. Acid Blue 90 (C.I. Acid Blue 90), C.I.・ Solvent Blue 38 (CI Solvent Blue 38), C.I. Acid Violet 7 (C.I.Acid Violet17), CI Acid Violet 49 (C.I.Acid Violet49), CI Acid Green 3 (C.I.Acid Green3), etc. can be used.

更に、500nm〜600nmに吸収極大を有するキサンテン系の色素、例えば、シー・アイ・アシッド・レッド289(C.I.Acid.Red 289)等も使用できる。   Furthermore, a xanthene dye having an absorption maximum at 500 nm to 600 nm, such as C.I. Acid Red 289, can be used.

前記フタロシアニン系の着色剤、及びトリアリールメタン系の着色剤の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲で使用でき、本発明の着色硬化性組成物の全固形分に対して、0.5質量%〜50質量%であることが好ましい。   The content of the phthalocyanine-based colorant and the triarylmethane-based colorant can be used as long as the effects of the present invention are not impaired. It is preferable that it is 5 mass%-50 mass%.

また、青色フィルタアレイを作製するためには、本発明における金属錯体と、フタロシアニン系の着色剤の少なくとも一種とを混合して用いることが好ましい。
この時、それぞれの混合比率は、それぞれのモル吸光係数や、求められる分光特性、膜厚等により異なるが、一般的には、含有比で(本発明の金属錯体の総含有量):(フタロシアニン系の着色剤)=10:1〜1:20の範囲で使用できる。好ましくは5:1〜1:10の範囲で用いられる。
In order to produce a blue filter array, it is preferable to use a mixture of the metal complex according to the present invention and at least one phthalocyanine-based colorant.
At this time, each mixing ratio varies depending on each molar extinction coefficient, required spectral characteristics, film thickness, etc., but in general, the content ratio (total content of the metal complex of the present invention): (phthalocyanine) System colorant) = 10: 1 to 1:20. Preferably it is used in the range of 5: 1 to 1:10.

<バインダー>
本発明の着色硬化性組成物は、バインダーの少なくとも一種を含有することが好ましい。前記バインダーとしては、アルカリ可溶性であれば特には限定されないが、耐熱性、現像性、入手性等の観点から選ばれることが好ましい。
アルカリ可溶性のバインダーとしては、線状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶性で弱アルカリ水溶液で現像できるものが好ましい。このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば、特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号等の明細書に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があり、特に、側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体が有用である。
この他に水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等やポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、ポリ(2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート)、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド、ポリビニルアルコール等も有用である。
<Binder>
The colored curable composition of the present invention preferably contains at least one binder. The binder is not particularly limited as long as it is alkali-soluble, but is preferably selected from the viewpoints of heat resistance, developability, availability, and the like.
The alkali-soluble binder is preferably a linear organic high molecular polymer that is soluble in an organic solvent and can be developed with a weak alkaline aqueous solution. Examples of such linear organic high molecular polymers include polymers having a carboxylic acid in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, and JP-B-54-. No. 25957, JP-A-59-53836, JP-A-59-71048, etc., and methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer. There are polymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers and the like, and acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain are particularly useful.
In addition to this, an acid anhydride added to a polymer having a hydroxyl group, a polyhydroxystyrene resin, a polysiloxane resin, poly (2-hydroxyethyl (meth) acrylate), polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, polyvinyl alcohol, etc. Is also useful.

また、親水性基を有するモノマーを共重合してもよく、この例としては、アルコキシアルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、2級及び3級のアルキルアクリルアミド、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、モルホリノ(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルトリアゾール、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、分岐又は直鎖のプロピル(メタ)アクリレート、分岐又は直鎖のブチル(メタ)アクリレート、フェノキシヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   In addition, a monomer having a hydrophilic group may be copolymerized, and examples thereof include alkoxyalkyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, (meth) acrylamide, and N-methylolacrylamide. Secondary and tertiary alkyl acrylamide, dialkylaminoalkyl (meth) acrylate, morpholino (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, vinylimidazole, vinyltriazole, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) Examples include acrylate, branched or linear propyl (meth) acrylate, branched or linear butyl (meth) acrylate, phenoxyhydroxypropyl (meth) acrylate, and the like.

その他親水性基を有するモノマーとしては、テトラヒドロフルフリル基、燐酸部位、燐酸エステル部位、4級アンモニウム塩部位、エチレンオキシ鎖、プロピレンオキシ鎖、スルホン酸及びその塩の部位、モルホリノエチル基等を含んだモノマー等も有用である。   Other monomers having a hydrophilic group include tetrahydrofurfuryl group, phosphoric acid moiety, phosphate ester moiety, quaternary ammonium salt moiety, ethyleneoxy chain, propyleneoxy chain, sulfonic acid and its salt moiety, morpholinoethyl group, etc. Monomers are also useful.

また、架橋効率を向上させるために、重合性基を側鎖に有してもよく、アリル基、(メタ)アクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に含有したポリマー等も有用である。
これらの重合性基を有するポリマーの例としては、KSレジスト−106(大阪有機化学工業(株)製)、サイクロマーPシリーズ(ダイセル化学工業(株)製)等が挙げられる。
又、硬化被膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロルヒドリンとのポリエーテル等も有用である。
In order to improve the crosslinking efficiency, a polymerizable group may be included in the side chain, and a polymer containing an allyl group, a (meth) acryl group, an allyloxyalkyl group or the like in the side chain is also useful.
Examples of the polymer having these polymerizable groups include KS resist-106 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), cyclomer P series (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and the like.
In order to increase the strength of the cured coating, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. are also useful.

前記各種バインダーの中で、バインダーとしては、耐熱性の観点で、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。又、現像性制御の観点では、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。
上記アクリル系樹脂としては、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド等から選ばれるモノマーからなる共重合体、及びKS−レジスト−106(大阪有機化学工業(株)製)、サイクロマーP−シリーズ等が好ましい。
Among the various binders, the binder is preferably a polyhydroxystyrene resin, a polysiloxane resin, an acrylic resin, an acrylamide resin, or an acrylic / acrylamide copolymer resin from the viewpoint of heat resistance. From the viewpoint of control of developability, acrylic resins, acrylamide resins, and acrylic / acrylamide copolymer resins are preferable.
Examples of the acrylic resin include a copolymer composed of monomers selected from benzyl (meth) acrylate, (meth) acryl, hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, and the like, and KS-resist-106 (Osaka Organic Chemical). Kogyo Co., Ltd.), Cyclomer P-series and the like are preferable.

また、本発明に用いるバインダーとしては、アルカリ可溶性フェノール樹脂を用いることができる。該アルカリ可溶性フェノール樹脂は、本発明の感光性着色硬化性組成物をポジ型の組成物とする場合に好適に用いることができる。アルカリ可溶性フェノール樹脂としては、例えば、ノボラック樹脂、又はビニル重合体等が挙げられる。
上記ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下で縮合させて得られるものが挙げられる。上記フェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、キシレノール、フェニルフェノール、カテコール、レゾルシノール、ピロガロール、ナフトール、ビスフェノールA等が挙げられる。
上記アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、又はベンズアルデヒド等が挙げられる。
上記フェノール類及びアルデヒド類は、単独若しくは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Moreover, an alkali-soluble phenol resin can be used as a binder used for this invention. The alkali-soluble phenol resin can be suitably used when the photosensitive colored curable composition of the present invention is used as a positive composition. Examples of the alkali-soluble phenol resin include novolak resins and vinyl polymers.
Examples of the novolak resin include those obtained by condensing phenols and aldehydes in the presence of an acid catalyst. Examples of the phenols include phenol, cresol, ethylphenol, butylphenol, xylenol, phenylphenol, catechol, resorcinol, pyrogallol, naphthol, bisphenol A, and the like.
Examples of the aldehydes include formaldehyde, paraformaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, and benzaldehyde.
The said phenols and aldehydes can be used individually or in combination of 2 or more types.

上記ノボラック樹脂の具体例としては、例えば、メタクレゾール、パラクレゾール又はこれらの混合物とホルマリンとの縮合生成物が挙げられる。   Specific examples of the novolak resin include, for example, a condensation product of metacresol, paracresol or a mixture thereof and formalin.

上記ノボラック樹脂は分別等の手段を用いて分子量分布を調節してもよい。又、ビスフェノールCやビスフェノールA等のフェノール系水酸基を有する低分子量成分を上記ノボラック樹脂に混合してもよい。   The novolak resin may be adjusted in molecular weight distribution by means of fractionation or the like. Moreover, you may mix the low molecular weight component which has phenolic hydroxyl groups, such as bisphenol C and bisphenol A, with the said novolak resin.

上記バインダーは、質量平均分子量(GPC法で測定されたポリスチレン換算値)が1000〜2×10の重合体が好ましく、2000〜1×10の重合体が更に好ましく、5000〜5×10の重合体が特に好ましい。
本発明の着色硬化性組成物中の上記バインダーの使用量は、本発明の着色硬化性組成物の全固形分に対して、10質量%〜90質量%が好ましく、20質量%〜80質量%が更に好ましく、30質量%〜70質量%が特に好ましい。
The binder preferably has a mass average molecular weight (polystyrene equivalent value measured by GPC method) of 1000 to 2 × 10 5 , more preferably 2000 to 1 × 10 5 , and 5000 to 5 × 10 4. The polymer is particularly preferred.
10 mass%-90 mass% are preferable with respect to the total solid of the colored curable composition of this invention, and the usage-amount of the said binder in the colored curable composition of this invention is 20 mass%-80 mass%. Is more preferable, and 30% by mass to 70% by mass is particularly preferable.

<架橋剤>
本発明の着色硬化性組成物は、着色剤として一般式(A)又は一般式(B)で表される化合物及びそれらの互変異性体から選択される少なくとも一種を含有し、従来との比較において、より色純度に優れ、薄層化可能な高い吸光係数を有し、且つ堅牢性に優れるものとすることができるが、これに更に補足的に架橋剤を用いることによって、より高度に硬化させた膜が得られるように構成することも可能である。
<Crosslinking agent>
The colored curable composition of the present invention contains at least one selected from a compound represented by the general formula (A) or the general formula (B) and a tautomer thereof as a colorant, and is compared with the conventional one. In addition, it has a higher extinction coefficient that can be made thinner and has a high extinction coefficient, and can be made to have excellent fastness properties. It is also possible to configure so as to obtain a deposited film.

架橋剤としては、架橋反応によって膜硬化を行なえるものであれば特に限定はなく、例えば、(a)エポキシ樹脂、(b)メチロール基、アルコキシメチル基、およびアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも一つの基で置換されたメラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物、またはウレア化合物、(c)メチロール基、アルコキシメチル基、およびアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも一つの基で置換されたフェノール化合物、ナフトール化合物、またはヒドロキシアントラセン化合物、が挙げられる。中でも特に、多官能エポキシ樹脂が好ましい。   The crosslinking agent is not particularly limited as long as the film can be cured by a crosslinking reaction. For example, at least one selected from (a) an epoxy resin, (b) a methylol group, an alkoxymethyl group, and an acyloxymethyl group. A melamine compound substituted with one group, a guanamine compound, a glycoluril compound, or a urea compound, (c) a phenol compound substituted with at least one group selected from a methylol group, an alkoxymethyl group, and an acyloxymethyl group, naphthol A compound, or a hydroxyanthracene compound. Of these, polyfunctional epoxy resins are particularly preferred.

前記(a)エポキシ樹脂としては、エポキシ基を有し、かつ架橋性を有するものであればいずれでもよく、例えば、ビスフェノールAグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、へキサンジオールジグリシジルエーテル、ジヒドロキシビフェニルジグリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル、N,N−ジグリシジルアニリン等の2価のグリシジル基含有低分子化合物、同様に、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリメチロールフェノールトリグリシジルエーテル、TrisP−PAトリグリシジルエーテル等に代表される3価のグリシジル基含有低分子化合物、同様に、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、テトラメチロールビスフェノールAテトラグリシジルエーテル等に代表される4価のグリシジル基含有低分子化合物、同様に、ジペンタエリスリトールペンタグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサグリシジルエーテル等の多価グリシジル基含有低分子化合物、ポリグリシジル(メタ)アクリレート、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物等に代表されるグリシジル基含有高分子化合物、等が挙げられる。   The (a) epoxy resin may be any epoxy resin as long as it has an epoxy group and crosslinkability. For example, bisphenol A glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, hexanediol Diglycidyl ether, dihydroxybiphenyl diglycidyl ether, diglycidyl phthalate ester, N, N-diglycidyl aniline and other divalent glycidyl group-containing low molecular weight compounds, as well as trimethylolpropane triglycidyl ether, trimethylolphenol triglycidyl Trivalent glycidyl group-containing low molecular weight compounds typified by ether, TrisP-PA triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, tetramethylol bisphenol Tetravalent glycidyl group-containing low molecular weight compounds typified by tetra-A-glycidyl ether, polyvalent glycidyl group-containing low molecular weight compounds such as dipentaerythritol pentaglycidyl ether and dipentaerythritol hexaglycidyl ether, polyglycidyl ( And glycidyl group-containing polymer compounds represented by 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol and the like. .

前記架橋剤(b)に含まれるメチロール基、アルコキシメチル基、又はアシロキシメチル基が置換している数としては、メラミン化合物の場合は2〜6、グリコールウリル化合物、グアナミン化合物、ウレア化合物の場合は2〜4であるが、好ましくはメラミン化合物の場合は5〜6、グリコールウリル化合物、グアナミン化合物、ウレア化合物の場合は3〜4である。   The number of methylol groups, alkoxymethyl groups, or acyloxymethyl groups substituted in the crosslinking agent (b) is 2 to 6 for melamine compounds, glycoluril compounds, guanamine compounds, and urea compounds. Is 2 to 4, preferably 5 to 6 in the case of a melamine compound, and 3 to 4 in the case of a glycoluril compound, a guanamine compound and a urea compound.

以下、前記(b)のメラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物およびウレア化合物を総じて、(b)に係る化合物(メチロール基含有化合物、アルコキシメチル基含有化合物、またはアシロキシメチル基含有化合物)ということがある。   Hereinafter, the melamine compound, guanamine compound, glycoluril compound and urea compound of (b) are collectively referred to as a compound (methylol group-containing compound, alkoxymethyl group-containing compound, or acyloxymethyl group-containing compound) according to (b). There is.

前記(b)に係るメチロール基含有化合物は、(b)に係るアルコキシメチル基含有化合物をアルコール中で塩酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸等の酸触媒存在下、加熱することにより得られる。前記(b)に係るアシロキシメチル基含有化合物は、(b)に係るメチロール基含有化合物を塩基性触媒存在下、アシルクロリドと混合攪拌することにより得られる。   The methylol group-containing compound according to (b) can be obtained by heating the alkoxymethyl group-containing compound according to (b) in an alcohol in the presence of an acid catalyst such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, methanesulfonic acid or the like. The acyloxymethyl group-containing compound according to (b) can be obtained by mixing and stirring the methylol group-containing compound according to (b) with acyl chloride in the presence of a basic catalyst.

以下、前記置換基を有する(b)に係る化合物の具体例を挙げる。
前記メラミン化合物として、例えば、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンのメチロール基の1〜5個がメトキシメチル化した化合物またはその混合物、ヘキサメトキシエチルメラミン、ヘキサアシロキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンのメチロール基の1〜5個がアシロキシメチル化した化合物またはその混合物、などが挙げられる。
Hereinafter, specific examples of the compound according to (b) having the substituent will be given.
Examples of the melamine compound include hexamethylol melamine, hexamethoxymethyl melamine, a compound in which 1 to 5 methylol groups of hexamethylol melamine are methoxymethylated, or a mixture thereof, hexamethoxyethyl melamine, hexaacyloxymethyl melamine, hexamethylol. Examples thereof include compounds in which 1 to 5 methylol groups of melamine are acyloxymethylated, or mixtures thereof.

前記グアナミン化合物として、例えば、テトラメチロールグアナミン、テトラメトキシメチルグアナミン、テトラメチロールグアナミンの1〜3個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物またはその混合物、テトラメトキシエチルグアナミン、テトラアシロキシメチルグアナミン、テトラメチロールグアナミンの1〜3個のメチロール基をアシロキシメチル化した化合物またはその混合物などが挙げられる。   Examples of the guanamine compound include tetramethylol guanamine, tetramethoxymethyl guanamine, a compound obtained by methoxymethylating 1 to 3 methylol groups of tetramethylol guanamine or a mixture thereof, tetramethoxyethyl guanamine, tetraacyloxymethyl guanamine, tetramethylol. Examples thereof include compounds in which 1 to 3 methylol groups of guanamine are acyloxymethylated or a mixture thereof.

前記グリコールウリル化合物としては、例えば、テトラメチロールグリコールウリル、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の1〜3個をメトキシメチル化した化合物またはその混合物、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の1〜3個をアシロキシメチル化した化合物またはその混合物、などが挙げられる。   Examples of the glycoluril compound include tetramethylol glycoluril, tetramethoxymethylglycoluril, a compound obtained by methoxymethylating 1 to 3 methylol groups of tetramethylolglycoluril, or a mixture thereof, or a methylol group of tetramethylolglycoluril. Examples thereof include compounds obtained by acylating 1 to 3 or a mixture thereof.

前記ウレア化合物として、例えば、テトラメチロールウレア、テトラメトキシメチルウレア、テトラメチロールウレアの1〜3個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物またはその混合物、テトラメトキシエチルウレア、などが挙げられる。
(b)に係る化合物は、単独で使用してもよく、組合わせて使用してもよい。
Examples of the urea compound include tetramethylol urea, tetramethoxymethyl urea, a compound obtained by methoxymethylating 1 to 3 methylol groups of tetramethylol urea, a mixture thereof, and tetramethoxyethyl urea.
The compounds according to (b) may be used alone or in combination.

前記架橋剤(c)、即ち、メチロール基、アルコキシメチル基、およびアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも一つの基で置換された、フェノール化合物、ナフトール化合物、またはヒドロキシアントラセン化合物は、前記架橋剤(b)の場合と同様、熱架橋により上塗りフォトレジストとのインターミキシングを抑制すると共に、膜強度を更に高めるものである。
以下、これら化合物を総じて、(c)に係る化合物(メチロール基含有化合物、アルコキシメチル基含有化合物、またはアシロキシメチル基含有化合物)ということがある。
The crosslinking agent (c), that is, a phenol compound, a naphthol compound, or a hydroxyanthracene compound substituted with at least one group selected from a methylol group, an alkoxymethyl group, and an acyloxymethyl group is the crosslinking agent (b). As in the case of), intermixing with the overcoated photoresist is suppressed by thermal crosslinking, and the film strength is further increased.
Hereinafter, these compounds may be collectively referred to as a compound according to (c) (a methylol group-containing compound, an alkoxymethyl group-containing compound, or an acyloxymethyl group-containing compound).

前記架橋剤(c)に含まれるメチロール基、アシロキシメチル基、又はアルコキシメチル基の数としては、一分子当り最低2個必要であり、熱架橋性および保存安定性の観点から、骨格となるフェノール化合物の2位,4位が全て置換されている化合物が好ましい。また、骨格となるナフトール化合物、ヒドロキシアントラセン化合物も、OH基のオルト位、パラ位が全て置換されている化合物が好ましい。骨格となるフェノール化合物の3位または5位は、未置換であっても置換基を有していてもよい。また、骨格となるナフトール化合物においても、OH基のオルト位以外は、未置換であっても置換基を有していてもよい。   The number of methylol groups, acyloxymethyl groups, or alkoxymethyl groups contained in the cross-linking agent (c) is at least 2 per molecule, and it becomes a skeleton from the viewpoint of thermal crosslinkability and storage stability. A compound in which all of the 2-position and 4-position of the phenol compound are substituted is preferred. In addition, the naphthol compound and hydroxyanthracene compound as the skeleton are preferably compounds in which all of the ortho-position and para-position of the OH group are substituted. The 3rd or 5th position of the phenolic compound serving as the skeleton may be unsubstituted or may have a substituent. In addition, the naphthol compound as a skeleton may be unsubstituted or may have a substituent other than the ortho position of the OH group.

前記(c)に係るメチロール基含有化合物は、フェノール性OH基のオルト位またはパラ位(2位または4位)が水素原子である化合物を原料に用い、これを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド等の、塩基性触媒の存在下でホルマリンと反応させることにより得られる。
前記(c)に係るアルコキシメチル基含有化合物は、(c)に係るメチロール基含有化合物をアルコール中で塩酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸等の酸触媒の存在下で加熱することにより得られる。
前記(c)に係るアシロキシメチル基含有化合物は、(c)に係るメチロール基含有化合物を塩基性触媒の存在下アシルクロリドと反応させることにより得られる。
The methylol group-containing compound according to (c) is a compound in which the ortho-position or para-position (2-position or 4-position) of the phenolic OH group is a hydrogen atom, and this is used as sodium hydroxide, potassium hydroxide, It can be obtained by reacting with formalin in the presence of a basic catalyst such as ammonia or tetraalkylammonium hydroxide.
The alkoxymethyl group-containing compound according to (c) can be obtained by heating the methylol group-containing compound according to (c) in an alcohol in the presence of an acid catalyst such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, methanesulfonic acid or the like.
The acyloxymethyl group-containing compound according to (c) can be obtained by reacting the methylol group-containing compound according to (c) with an acyl chloride in the presence of a basic catalyst.

架橋剤(c)における骨格化合物としては、フェノール性OH基のオルト位またはパラ位が未置換の、フェノール化合物、ナフトール化合物、ヒドロキシアントラセン化合物等が挙げられ、例えば、フェノール、クレゾールの各異性体、2,3−キシレノ−ル、2,5−キシレノ−ル、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール、ビスフェノールAなどのビスフェノール類、4,4’−ビスヒドロキシビフェニル、TrisP−PA(本州化学工業(株)製)、ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシアントラセン、等が使用される。   Examples of the skeletal compound in the crosslinking agent (c) include a phenol compound, a naphthol compound, a hydroxyanthracene compound, etc., in which the ortho-position or para-position of the phenolic OH group is unsubstituted. For example, phenol, cresol isomers, 2,3-xylenol, 2,5-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, bisphenols such as bisphenol A, 4,4′-bishydroxybiphenyl, TrisP-PA (Honshu Chemical) Kogyo Co., Ltd.), naphthol, dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxyanthracene, and the like are used.

前記架橋剤(c)の具体例としては、トリメチロールフェノール、トリ(メトキシメチル)フェノール、トリメチロールフェノールの1〜2個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、トリメチロール−3−クレゾール、トリ(メトキシメチル)−3−クレゾール、トリメチロール−3−クレゾールの1〜2個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、2,6−ジメチロール−4−クレゾール等のジメチロールクレゾール、テトラメチロールビスフェノールA、テトラメトキシメチルビスフェノールA、テトラメチロールビスフェノールAの1〜3個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、テトラメチロール−4,4’−ビスヒドロキシビフェニル、テトラメトキシメチル−4,4’−ビスヒドロキシビフェニル、TrisP−PAのヘキサメチロール体、TrisP−PAのヘキサメトキシメチル体、TrisP−PAのヘキサメチロール体の1〜5個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、ビスヒドロキシメチルナフタレンジオール、等が挙げられる。   Specific examples of the crosslinking agent (c) include trimethylolphenol, tri (methoxymethyl) phenol, a compound obtained by methoxymethylating one or two methylol groups of trimethylolphenol, trimethylol-3-cresol, tri ( Methoxymethyl) -3-cresol, a compound obtained by methoxymethylating one or two methylol groups of trimethylol-3-cresol, dimethylolcresol such as 2,6-dimethylol-4-cresol, tetramethylolbisphenol A, tetra Methoxymethyl bisphenol A, a compound obtained by methoxymethylating 1 to 3 methylol groups of tetramethylol bisphenol A, tetramethylol-4,4′-bishydroxybiphenyl, tetramethoxymethyl-4,4′-bishydroxybiphenyl, Tr Hexamethylol of sP-PA, hexamethoxymethyl of Tris P-PA, compounds in which 1 to 5 methylol groups have been methoxymethylated hexamethylol of Tris P-PA, Bis-hydroxymethyl naphthalene diol.

また、ヒドロキシアントラセン化合物として、例えば、1,6−ジヒドロキシメチル−2,7−ジヒドロキシアントラセン等が挙げられる。
また、アシロキシメチル基含有化合物として、例えば、上記メチロール基含有化合物のメチロール基を、一部または全部アシロキシメチル化した化合物等が挙げられる。
Examples of the hydroxyanthracene compound include 1,6-dihydroxymethyl-2,7-dihydroxyanthracene.
Examples of the acyloxymethyl group-containing compound include compounds obtained by partially or fully acyloxymethylating the methylol group of the methylol group-containing compound.

これらの化合物の中で好ましいものとしては、トリメチロールフェノール、ビスヒドロキシメチル−p−クレゾール、テトラメチロールビスフェノールA、TrisP−PA(本州化学工業(株)製)のヘキサメチロール体またはそれらのメチロール基がアルコキシメチル基およびメチロール基とアルコキシメチル基の両方で置換されたフェノール化合物が挙げられる。
これら(c)に係る化合物は、単独で使用してもよく、組合わせて使用してもよい。
Among these compounds, trimethylolphenol, bishydroxymethyl-p-cresol, tetramethylolbisphenol A, trisP-PA (manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.) or a methylol group thereof is preferable. Examples thereof include an alkoxymethyl group and a phenol compound substituted with both a methylol group and an alkoxymethyl group.
These compounds according to (c) may be used alone or in combination.

架橋剤を含有する場合、前記架橋剤(a)〜(c)の着色剤含有硬化性組成物中における含有量は、素材により異なるが、該組成物の全固形分(質量)に対して、1〜70質量%が好ましく、5〜50質量%がより好ましく、7〜30質量%が特に好ましい。該含有量が前記範囲内であると、充分な硬化度と未露光部の溶出性とを保持でき、露光部の硬化度が不足したり、未露光部の溶出性が著しく低下することを防ぐことができる。   When the crosslinking agent is contained, the content of the crosslinking agent (a) to (c) in the colorant-containing curable composition varies depending on the material, but with respect to the total solid content (mass) of the composition, 1-70 mass% is preferable, 5-50 mass% is more preferable, and 7-30 mass% is especially preferable. When the content is within the above range, it is possible to maintain a sufficient degree of cure and elution of the unexposed area, and prevent the degree of cure of the exposed area from being insufficient or significantly reducing the elution of the unexposed area. be able to.

<重合性モノマー>
本発明の着色硬化性組成物は、重合性モノマーの少なくとも一種を含有することによって好適に構成することができる。重合性モノマーは、着色硬化性組成物をネガ型に構成する場合に主として含まれる。
尚、後述のナフトキノンジアジド化合物を含有するポジ型の系に、後述の光重合開始剤と共に含有でき、この場合には形成されるパターンの硬化度をより促進させることができる。以下、重合性モノマーについて説明する。
<Polymerizable monomer>
The colored curable composition of the present invention can be suitably constituted by containing at least one polymerizable monomer. The polymerizable monomer is mainly contained when the colored curable composition is constituted as a negative type.
In addition, it can contain in the positive type | system | group containing the below-mentioned naphthoquinone diazide compound with the below-mentioned photoinitiator, and in this case, the hardening degree of the pattern formed can be promoted more. Hereinafter, the polymerizable monomer will be described.

上記重合性モノマーとしては、常圧下で100℃以上の沸点を有し、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和基を持つ化合物が好ましい。その例としては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートおよびこれらの混合物を挙げることができる。   The polymerizable monomer is preferably a compound having a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure and having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group. Examples include monofunctional acrylates and methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethanetri (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) iso (Meth) acrylate obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to polyfunctional alcohols such as anurate, glycerin and trimethylolethane, JP-B-48-41708, JP-B-50-6034, JP-A-51- Urethane acrylates as described in JP-B-37193, polyester acrylates and epoxy resins described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490 Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates which are reaction products with (meth) acrylic acid, and mixtures thereof.

更に、日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308頁に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものが挙げられる。   Furthermore, the Japan Adhesion Association Vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 are introduced as photocurable monomers and oligomers.

上記重合性モノマーの着色硬化性組成物中における含有量は、該着色硬化性組成物中の固形分に対して0.1質量%〜90質量%が好ましく、1.0質量%〜80質量%がさらに好ましく、2.0質量%〜70質量%が特に好ましい。   The content of the polymerizable monomer in the colored curable composition is preferably 0.1% by mass to 90% by mass, and 1.0% by mass to 80% by mass with respect to the solid content in the colored curable composition. Is more preferable, and 2.0 mass%-70 mass% is especially preferable.

<感放射線性化合物>
本発明の着色硬化性組成物は、感放射線性化合物の少なくとも一種を含有することにより好適に構成することができる。感放射線性化合物は、400nm以下のUV光に対し、ラジカル発生、酸発生、塩基発生などの化学反応を起こし得る化合物であるが、上記のバインダーを架橋、重合、酸性基の分解などの反応により不溶化させたり、塗膜中に共存する重合性モノマーやオリゴマーの重合、架橋剤の架橋などを起こすことで塗膜をアルカリ現像液に対して不溶化させる目的で用いられる。
<Radiation sensitive compounds>
The colored curable composition of this invention can be comprised suitably by containing at least 1 type of a radiation sensitive compound. A radiation-sensitive compound is a compound capable of causing a chemical reaction such as radical generation, acid generation, and base generation for UV light having a wavelength of 400 nm or less. However, the above-described binder is subjected to a reaction such as crosslinking, polymerization, or decomposition of an acidic group. It is used for the purpose of insolubilizing the coating film with an alkali developer by causing polymerization of polymerizable monomers and oligomers coexisting in the coating film, crosslinking of the crosslinking agent, and the like.

着色硬化性組成物が、特に、ネガ型に構成される場合には光重合開始剤を含有するのが好適であり、ポジ型を構成する場合にはナフトキノンジアジド化合物を含有すことが好適である。   In particular, when the colored curable composition is composed of a negative type, it preferably contains a photopolymerization initiator, and when it constitutes a positive type, it preferably contains a naphthoquinonediazide compound. .

(光重合開始剤)
次に、本発明の着色硬化性組成物が、ネガ型の組成物である場合に含まれる光重合開始剤について説明する。
光重合開始剤は前記重合性モノマーを重合させられるものであれば特に限定されないが、特性、開始効率、吸収波長、入手性、コスト等の観点で選ばれることが好ましい。
尚、上記のナフトキノンジアジド化合物を含有するポジ型の系に更に含有してもよく、この場合には形成されるパターン硬化度をより促進させることができる。
上記光重合開始剤としては、ハロメチルオキサジアゾール化合物、ハロメチル−s−トリアジン化合物から選択される少なくとも一つの活性ハロゲン化合物、3−アリール置換クマリン化合物、ロフィン2量体、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物およびその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体およびその塩、オキシム系化合物等が挙げられる。
(Photopolymerization initiator)
Next, the photopolymerization initiator contained when the colored curable composition of the present invention is a negative composition will be described.
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it can polymerize the polymerizable monomer, but is preferably selected from the viewpoints of characteristics, initiation efficiency, absorption wavelength, availability, cost, and the like.
In addition, you may further contain in the positive type | system | group containing said naphthoquinone diazide compound, In this case, the pattern hardening degree formed can be promoted more.
Examples of the photopolymerization initiator include at least one active halogen compound selected from a halomethyloxadiazole compound, a halomethyl-s-triazine compound, a 3-aryl-substituted coumarin compound, a lophine dimer, a benzophenone compound, an acetophenone compound, and Examples thereof include cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, and oxime compounds.

ハロメチルオキサジアゾール等の活性ハロゲン化合物としては、特公昭57−6096号公報に記載の2−ハロメチル−5−ビニル−1,3,4−オキサジアゾール化合物等や、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール等が挙げられる。   Examples of active halogen compounds such as halomethyloxadiazole include 2-halomethyl-5-vinyl-1,3,4-oxadiazole compounds described in JP-B-57-6096, 2-trichloromethyl-5, and the like. -Styryl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-cyanostyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole and the like.

ハロメチル−s−トリアジン系化合物としては、特公昭59−1281号公報に記載のビニル−ハロメチル−s−トリアジン化合物、特開昭53−133428号公報に記載の2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス(ハロメチル)−s−トリアジン化合物および4−(p−アミノフェニル)−2,6−ビス(ハロメチル)−s−トリアジン化合物が挙げられる。   Examples of the halomethyl-s-triazine compound include vinyl-halomethyl-s-triazine compounds described in JP-B-59-1281 and 2- (naphth-1-yl)-described in JP-A-53-133428. Examples include 4,6-bis (halomethyl) -s-triazine compounds and 4- (p-aminophenyl) -2,6-bis (halomethyl) -s-triazine compounds.

その他の例としては、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,6−ビス(トリクロロメチル)−4−(3,4−メチレンジオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,6−ビス(トリクロロメチル)−4−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジエニル)−s−トリアジン、2−トリクロロメチル−4−アミノ−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ブトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔4−(2−メトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔4−(2−ブトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(6−メトキシ−5−メチル−ナフト−2−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(6−メトキシ−ナフト−2−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(5−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(6−エトキシ−ナフト−2−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4,5−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−メチル−p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N,N−ビス(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−メチル−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N,N−ジ(フェニル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−クロロエチルカルボニルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N−(p−メトキシフェニル)カルボニルアミノフェニル〕2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−クロロ−p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−フロロ−p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−ブロモ−p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、   Other examples include 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2,6-bis (trichloromethyl) -4- (3,4-methylenedioxyphenyl)- 1,3,5-triazine, 2,6-bis (trichloromethyl) -4- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1- p-dimethylaminophenyl-1,3-butadienyl) -s-triazine, 2-trichloromethyl-4-amino-6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2- (naphth-1-yl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxy-naphtho-) -Yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-butoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [4 -(2-methoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [4- (2-butoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2- Methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (6-methoxy-5-methyl-naphth-2-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (6- Toxi-naphth-2-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (5-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (6-ethoxy-naphth-2-yl) -4,6-bis (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4,5-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [p-N, N-bis ( Ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-methyl-pN, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-bis (bird Chloromethyl) -s-triazine, 4- [pN, N-bis (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-methyl-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 4- (pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [pN, N-di (phenyl) aminophenyl] -2,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (p-N-chloroethylcarbonylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [p N- (p-methoxyphenyl) carbonylaminophenyl] 2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-bis (Trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-pN, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m -Chloro-pN, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-fluoro-pN, N-bis (ethoxycarbonyl) Methyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-bromo-pN, N-bis (ethoxycarboni) Methyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,

4−〔o−クロロ−p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−フロロ−p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−ブロモ−p−N,N−ビス(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−クロロ−p−N,N−ビス(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−フロロ−p−N,N−ビス(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−クロロ−p−N,N−ビス(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−フロロ−p−N,N−ビス(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−クロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−フロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−クロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−フロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−クロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−フロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−クロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−フロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等が挙げられる。 4- [o-chloro-pN, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-pN, N- Bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-bromo-pN, N-bis (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-bis (Trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-chloro-pN, N-bis (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro -PN, N-bis (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-pN, N-di (chloroethyl) amino Phenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-pN, N-bis (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine, 4- [m-fluoro-pN, N-bis (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo-pN-ethoxycarbonyl) Methylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-chloro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 4- (m-fluoro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-butyl) Mo-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-chloro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-bis (Trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-fluoro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo-p- N-chloroethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-chloro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s -Triazine, 4- (m-fluoro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o -Bromo-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-chloro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-bis ( Trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-fluoro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine and the like.

その他、みどり化学社製TAZシリーズ、TAZ−107、TAZ−110、TAZ−104、TAZ−109、TAZ−140、TAZ−204、TAZ−113、TAZ−123、PANCHIM社製Tシリーズ、T−OMS、T−BMP、T−R、T−B、チバガイギー社製イルガキュアシリーズ、イルガキュア369、イルガキュア784、イルガキュア651、イルガキュア184、イルガキュア500、イルガキュア1000、イルガキュア149、イルガキュア819、イルガキュア261、ダロキュアシリーズ、ダロキュア1173、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)−ベンゾフェノン、2−(O−ベンゾイルオキシム)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオン、1−(O−アセチルオキシム)−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−4−モルホリノブチロフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−(o−クロルフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、ベンゾインイソプロピルエーテル等も有用である。   Others, TAZ series, TAZ-107, TAZ-110, TAZ-104, TAZ-109, TAZ-140, TAZ-204, TAZ-113, TAZ-123, PANCHIM T series, T-OMS , T-BMP, TR, TB, Irgacure series, Irgacure 369, Irgacure 784, Irgacure 651, Irgacure 184, Irgacure 500, Irgacure 1000, Irgacure 149, Irgacure 819, Irgacure 261, Darocur series Darocur 1173, 4,4′-bis (diethylamino) -benzophenone, 2- (O-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- (O-acetyloxime) -1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-4-morpholinobutyrophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl Acetophenone, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4 , 5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- ( 2,4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-methylmercaptophenyl) -4,5-di E imidazoline dimer, benzoin isopropyl ether and the like are also useful.

特に好ましくは、2−(O−ベンゾイルオキシム)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオン、1−(O−アセチルオキシム)−1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタノン等のオキシム−O−アシル系の化合物が挙げられる。   Particularly preferably, 2- (O-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- (O-acetyloxime) -1- [9-ethyl-6- ( And oxime-O-acyl compounds such as 2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone.

本発明の感光性着色硬化性組成物には、前記光重合開始剤以外にも他の公知の光重合開始剤を併用することができる。
具体的には、米国特許第2,367,660号明細書に開示されているビシナールポリケトルアルドニル化合物、米国特許第2,367,661号及び第2,367,670号明細書に開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書に開示されているアシロインエーテル、米国特許第2,722,512号明細書に開示されているα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127号及び第2,951,758号明細書に開示されている多核キノン化合物、米国特許第3,549,367号明細書に開示されているトリアリルイミダゾールダイマー/p−アミノフェニルケトンの組み合わせ、特公昭51−48516号公報に開示されているベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチール−s−トリアジン系化合物等を挙げることができる。
In addition to the photopolymerization initiator, other known photopolymerization initiators can be used in combination with the photosensitive colored curable composition of the present invention.
Specifically, the vicinal polykettle aldonyl compound disclosed in US Pat. No. 2,367,660, disclosed in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670. Substituted α-carbonyl compounds, acyloin ethers disclosed in US Pat. No. 2,448,828, α-hydrocarbons disclosed in US Pat. No. 2,722,512 Aromatic acyloin compounds, polynuclear quinone compounds disclosed in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758, disclosed in US Pat. No. 3,549,367. Triallylimidazole dimer / p-aminophenyl ketone combination, benzothiazole compound disclosed in Japanese Patent Publication No. 51-48516 / Triha And lomethyl-s-triazine compounds.

上記光重合開始剤の着色硬化性組成物中における含有量は、前記重合性モノマー固形分に対して0.01〜50質量%が好ましく、1〜30質量%がより好ましく、1〜20質量%が特に好ましい。該含有量が前記範囲内であると重合が良好に進み、また、良好な膜強度が得られる。   The content of the photopolymerization initiator in the colored curable composition is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 1 to 30% by mass, and 1 to 20% by mass with respect to the polymerizable monomer solid content. Is particularly preferred. When the content is within the above range, the polymerization proceeds well and good film strength can be obtained.

前記光重合開始剤には、増感剤や光安定剤を併用することができる。
その具体例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、9−フルオレノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−9−フルオレノン、9−アントロン、2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル−9−アントロン、9,10−アントラキノン、2−エチル−9,10−アントラキノン、2−t−ブチル−9,10−アントラキノン、2,6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサントン、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、2−エトキシキサントン、チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、アクリドン、10−ブチル−2−クロロアクリドン、ベンジル、ジベンザルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジメチルアミノ)フェニル−p−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾアントロン等や特公昭51−48516号公報記載のベンゾチアゾール系化合物等や、チヌビン1130、同400等が挙げられる。
A sensitizer and a light stabilizer can be used in combination with the photopolymerization initiator.
Specific examples thereof include benzoin, benzoin methyl ether, 9-fluorenone, 2-chloro-9-fluorenone, 2-methyl-9-fluorenone, 9-anthrone, 2-bromo-9-anthrone, and 2-ethyl-9-anthrone. 9,10-anthraquinone, 2-ethyl-9,10-anthraquinone, 2-t-butyl-9,10-anthraquinone, 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone, xanthone, 2-methylxanthone, 2- Methoxyxanthone, 2-ethoxyxanthone, thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, acridone, 10-butyl-2-chloroacridone, benzyl, dibenzalacetone, p- (dimethylamino) phenylstyryl ketone, p- (dimethyl Amino) phenyl-p-methylstyryl ketone Examples include benzophenone, p- (dimethylamino) benzophenone (or Michler's ketone), p- (diethylamino) benzophenone, benzoanthrone, benzothiazole compounds described in JP-B 51-48516, and tinuvin 1130, 400. .

また、以上の他に更に、熱重合防止剤を加えておくことが好ましく、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用である。   In addition to the above, it is preferable to add a thermal polymerization inhibitor, for example, hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4, 4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole and the like are useful.

−ナフトキノンジアジド化合物−
次に、本発明の着色硬化性組成物がポジ型の場合に含まれるナフトキノンジアジド化合物について説明する。
該ナフトキノンジアジド化合物は、少なくとも1つのo−キノンジアジド基を有する化合物であり、例えば、o−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、o−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸アミド、o−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、o−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸アミド等が挙げられる。これらのエステルやアミド化合物は、例えば特開平2−84650号公報、特開平3−49437号公報において一般式(I)で記載されているフェノール化合物等を用いて公知の方法により製造することができる。
-Naphthoquinonediazide compound-
Next, the naphthoquinone diazide compound contained when the colored curable composition of the present invention is positive will be described.
The naphthoquinonediazide compound is a compound having at least one o-quinonediazide group. For example, o-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid ester, o-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid amide, o-naphthoquinonediazide-4- Examples thereof include sulfonic acid esters and o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid amide. These esters and amide compounds can be produced by a known method using, for example, the phenol compound described in the general formula (I) in JP-A-2-84650 and JP-A-3-49437. .

本発明の着色硬化性組成物をポジ型に構成する場合には、上記アルカリ可溶性フェノール樹脂及び上記架橋剤は、通常、有機溶剤中にそれぞれ2〜50質量%程度および2〜30質量%程度の割合で溶解させるのが好ましい。上記ナフトキノンジアジド化合物および上記一般式(A)及び一般式(B)で表される化合物及びそれらの互変異性体から選択される1種以上の化合物(色素)の各含有量は、通常、上記バインダー及び架橋剤を溶解した溶液に対して、各々2質量%〜30質量%および2質量%〜50質量%程度の割合で添加するのが好ましい。   When the colored curable composition of the present invention is constituted as a positive type, the alkali-soluble phenol resin and the crosslinking agent are usually about 2 to 50% by mass and about 2 to 30% by mass, respectively, in the organic solvent. It is preferable to dissolve at a ratio. Each content of the naphthoquinone diazide compound, the compound represented by the general formula (A) and the general formula (B), and one or more compounds (pigments) selected from the tautomers thereof is usually as described above. It is preferable to add at a ratio of about 2% by mass to 30% by mass and 2% by mass to 50% by mass with respect to the solution in which the binder and the crosslinking agent are dissolved.

<溶剤>
本発明の着色硬化性組成物の調製の際には、一般に溶剤を含有することができる。使用される溶剤は、該組成物の各成分の溶解性や感光性着色硬化性組成物の塗布性を満足すれば基本的に特には限定されないが、特にバインダーの溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。
前記溶剤の具体例としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル等の3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル)、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル等の2−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル)、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等;エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等;ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等;芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン等が好ましい。
<Solvent>
In preparing the colored curable composition of the present invention, a solvent can generally be contained. The solvent used is not particularly limited as long as it satisfies the solubility of each component of the composition and the applicability of the photosensitive colored curable composition. Is preferably selected in consideration of
Specific examples of the solvent include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, Methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate, 3-oxypropionic acid 3-oxypropionic acid alkyl esters such as ethyl (for example, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate), methyl 2-oxypropionate, -2-oxypropionic acid alkyl esters such as ethyl oxypropionate and propyl 2-oxypropionate (for example, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, 2-ethoxypropion) Acid methyl, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, 2-ethoxy-2-methyl Ethyl propionate), methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, etc .; ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydro , Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate Propylene glycol propyl ether acetate and the like; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene are preferred.

前記の中でも、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等がより好ましい。   Among the above, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, ethyl carbitol acetate, butyl Carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether acetate and the like are more preferable.

<各種添加物>
本発明の着色硬化性組成物には、必要に応じて各種添加物、例えば充填剤、上記以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することかできる。
<Various additives>
In the colored curable composition of the present invention, various additives as necessary, for example, fillers, polymer compounds other than the above, surfactants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-aggregation agents, etc. Can be blended.

前記各種添加物の具体例としては、ガラス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアクリレート等の結着樹脂以外の高分子化合物;ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤:2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤;およびポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤を挙げることができる。   Specific examples of the various additives include fillers such as glass and alumina; polymer compounds other than binder resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate; nonionic, cationic And anionic surfactants: vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2 -Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ) Ethyltrimetoki Adhesion promoters such as silane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; 2,2-thiobis (4-methyl- 6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butylphenol and other antioxidants: 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenone, etc. And an anti-aggregation agent such as sodium polyacrylate.

また、現像除去をしようとする領域(例えばネガ型の場合は未硬化部)のアルカリ溶解性を促進し、本発明の感光性着色硬化性組成物の現像性の更なる向上を図る場合には、該組成物に有機カルボン酸、好ましくは分子量1000以下の低分子量有機カルボン酸の添加を行うことができる。具体的には、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸;トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸;安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸;フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他のカルボン酸が挙げられる。   In the case of promoting the alkali solubility of the area to be developed and removed (for example, the uncured portion in the case of a negative type) and further improving the developability of the photosensitive colored curable composition of the present invention. An organic carboxylic acid, preferably a low molecular weight organic carboxylic acid having a molecular weight of 1000 or less can be added to the composition. Specifically, aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutar Aliphatic dicarboxylic acids such as acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, citraconic acid; Aliphatic tricarboxylic acids such as carbaryl acid, aconitic acid, and camphoronic acid; aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid, and mesitylene acid; phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, trimesin Aromatic polycarboxylic acids such as acid, merophanic acid, pyromellitic acid; phenylacetic acid, Doroatoropa acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenyl succinic acid, atropic acid, cinnamic acid, methyl cinnamate, benzyl cinnamate, cinnamylidene acetic acid, coumaric acid, other carboxylic acids such as umbellic acid.

本発明の着色硬化性組成物は、液晶表示素子(LCD)や固体撮像素子(例えば、CCD、CMOS等)に用いられるカラーフィルタなどの着色画素形成用として、また、印刷インキ、インクジェットインキ、及び塗料などの作製用途として好適に用いることができる。特に、CCD、及びCMOS等の固体撮像素子用の着色画素形成用として好適に用いることが出来る。
本発明の着色硬化性組成物は、着色パターンが微少サイズで薄膜に形成され、しかも良好な矩形の断面プロファイルが要求される固体撮像素子用のカラーフィルタの形成に特に好適である。
具体的には、カラーフィルタを構成する画素パターンサイズ(基板法線方向からみた画素パターンの辺長)が2μm以下である場合(例えば0.5〜2.0μm)は、着色剤量が増大したり、更には色相が青色系であること等により、線幅感度が悪くなり、DOFマージンが狭くなる結果、パターン形成性が損なわれやすい。これは、特に画素パターンサイズが1.0〜1.7μm(更に1.2〜1.5μm)の場合に顕著になる。また、厚み1μm以下の薄膜である場合、着色剤を除くフォトリソ性に寄与する成分の膜中の量が相対的に減少し、着色剤量の増大で他成分の量は更に減少して、低感度化し、低露光量領域ではパターンが剥離しやすくなる。この場合、ポストベーク等の熱処理を施した際に熱ダレを起こし易い。これらは、特に膜厚が0.005μm〜0.9μm(更に0.1μm〜0.7μm)の場合に顕著である。
一方、本発明の着色硬化性組成物を用いれば、上記のような2μm以下の画素パターンサイズでも、パターン形成に優れ、良好な断面プロファイルを有するカラーフィルタを作製することができる。
The colored curable composition of the present invention is used for forming a colored pixel such as a color filter used in a liquid crystal display element (LCD) or a solid-state imaging element (for example, CCD, CMOS, etc.), printing ink, inkjet ink, and It can be suitably used as a production application for paints and the like. In particular, it can be suitably used for forming colored pixels for solid-state imaging devices such as CCDs and CMOSs.
The colored curable composition of the present invention is particularly suitable for forming a color filter for a solid-state imaging device in which a colored pattern is formed in a thin film with a very small size and a good rectangular cross-sectional profile is required.
Specifically, when the pixel pattern size (side length of the pixel pattern viewed from the substrate normal direction) constituting the color filter is 2 μm or less (for example, 0.5 to 2.0 μm), the amount of colorant increases. In addition, since the hue is blue, the line width sensitivity is deteriorated and the DOF margin is narrowed. As a result, the pattern formability is easily impaired. This is particularly noticeable when the pixel pattern size is 1.0 to 1.7 μm (further 1.2 to 1.5 μm). In addition, in the case of a thin film having a thickness of 1 μm or less, the amount of components that contribute to photolithographic properties excluding the colorant in the film is relatively reduced, and the amount of other components is further reduced by the increase in the amount of colorant. Sensitivity is increased and the pattern is easily peeled off in the low exposure area. In this case, heat sagging is likely to occur when heat treatment such as post-baking is performed. These are particularly remarkable when the film thickness is 0.005 μm to 0.9 μm (further 0.1 μm to 0.7 μm).
On the other hand, when the colored curable composition of the present invention is used, a color filter having a good cross-sectional profile can be produced with excellent pattern formation even with a pixel pattern size of 2 μm or less as described above.

−カラーフィルタ及びその製造方法−
本発明のカラーフィルタについて、その製造方法を通じて詳述する。
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、既述の本発明の着色硬化性組成物が用いられる。本発明のカラーフィルタは、本発明の着色硬化性組成物を支持体上に回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の塗布方法により塗布して感放射線性組成物層を形成し、所定のマスクパターンを介して露光した後、現像液で現像することによって、ネガ型もしくはポジ型の着色されたパターン(レジストパターン)像を形成することができる。
本発明の硬化性組成物に適用し得る露光光源は、400nm以下の波長を有する光源であれば、特に限定されるものではないが、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプ等のランプ光源や、Arイオンレーザ(364nm、351nm、10mW〜1W)、Krイオンレーザ(356nm、351nm、10mW〜1W)、固体レーザとして、Nd:YAG(YVO 4 )とSHG結晶×2回の組み合わせ(355nm、5mW〜1W)、導波型波長変換素子とAlGaAs、導波型波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の組み合わせ(300nm〜350nm、5mW〜100mW)、その他パルスレーザとしてN2レーザ(337nm、パルス0.1〜10mJ)、XeF(351nm、パルス10〜250mJ)などが利用でき、特定の波長のみを使用する場合には光学フィルターを利用することもできる。
さらにはArFエキシマレーザ(波長193nm)、KrFエキシマレーザ(波長248nm)、i線(波長365nm)などの紫外線が利用できる。コストと露光エネルギーの観点で特に好ましい露光光源は、紫外線であり、特にi線が挙げられる。
更に、形成されたパターンは、必要に応じて加熱及び/又は露光により、より硬化させる硬化工程を設けることができる。この際に使用される光もしくは放射線としては、特にi線等の放射線が好ましく用いられる。
-Color filter and manufacturing method thereof-
The color filter of the present invention will be described in detail through its manufacturing method.
In the method for producing a color filter of the present invention, the above-described colored curable composition of the present invention is used. The color filter of the present invention forms a radiation-sensitive composition layer by applying the colored curable composition of the present invention on a support by a coating method such as spin coating, cast coating, roll coating, etc. A negative or positive colored pattern (resist pattern) image can be formed by developing with a developer after exposure through the pattern.
The exposure light source applicable to the curable composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a light source having a wavelength of 400 nm or less. For example, a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high-pressure mercury lamp, Lamp light sources such as high pressure mercury lamps, metal halide lamps, medium pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arcs, fluorescent lamps, Ar ion lasers (364 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), Kr ion lasers (356 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), As a solid-state laser, a combination of Nd: YAG (YVO 4) and SHG crystal × 2 times (355 nm, 5 mW to 1 W), a combination of a waveguide wavelength conversion element and AlGaAs, a combination of a waveguide wavelength conversion element and AlGaInP, and an AlGaAs semiconductor ( 300nm-350nm, 5mW-100mW), As other pulse lasers, N2 laser (337 nm, pulse 0.1 to 10 mJ), XeF (351 nm, pulse 10 to 250 mJ) and the like can be used. When only a specific wavelength is used, an optical filter can also be used.
Furthermore, ultraviolet rays such as ArF excimer laser (wavelength 193 nm), KrF excimer laser (wavelength 248 nm), i-line (wavelength 365 nm) can be used. An exposure light source that is particularly preferable from the viewpoint of cost and exposure energy is ultraviolet light, and in particular, i-line.
Furthermore, the formed pattern can be provided with a curing step for further curing by heating and / or exposure as necessary. As light or radiation used at this time, radiation such as i-line is particularly preferably used.

本発明のカラーフィルタの作製においては、ネガ型の場合には、前記画像形成工程(及び必要に応じて硬化工程)を所望の色数に合わせて繰り返すことにより、ポジ型の場合には前記画像形成工程及びポストベーク工程を所望の色数に合わせて繰り返すことにより、所望数の色相に構成されたカラーフィルタを作製することができる。   In the production of the color filter of the present invention, in the case of the negative type, the image forming step (and the curing step if necessary) is repeated according to the desired number of colors, and in the case of the positive type, the image is obtained. By repeating the forming process and the post-baking process according to the desired number of colors, a color filter configured with a desired number of hues can be manufactured.

上記支持体として、例えば液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、石英ガラスおよびこれらに透明導電膜を付着させたものや、撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等や、相補性金属酸化膜半導体(CMOS)等が挙げられる。これらの支持体は、各画素を隔離するブラックストライプが形成されている場合もある。   As the above support, for example, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass used for liquid crystal display elements and the like, and those obtained by attaching a transparent conductive film thereto, photoelectric conversion element substrates used for imaging elements, etc. A silicon substrate, a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), etc. are mentioned. These supports may be formed with black stripes that separate pixels.

また、これらの支持体上には、必要により上部の層との密着改良、物質の拡散防止あるいは支持体表面の平坦化の為に、下塗り層を設けてもよい。   In addition, an undercoat layer may be provided on these supports, if necessary, in order to improve adhesion to the upper layer, prevent diffusion of substances, or flatten the surface of the support.

本発明のカラーフィルタの製造方法に用いる現像液としては、本発明の着色硬化性組成物の現像除去しようとする領域(ネガ型の場合は未硬化部)を溶解する一方、それ以外の領域(ネガ型の場合は硬化部)を溶解しない組成よりなるものであればいかなるものも用いることができる。具体的には種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を用いることができる。該有機溶剤としては、本発明の組成物を調製する際に使用される前述の溶剤が挙げられる。   As a developer used in the method for producing a color filter of the present invention, a region to be developed and removed of the colored curable composition of the present invention (an uncured portion in the case of a negative type) is dissolved, while other regions ( In the case of the negative type, any material can be used as long as it has a composition that does not dissolve the cured portion). Specifically, a combination of various organic solvents or an alkaline aqueous solution can be used. Examples of the organic solvent include the aforementioned solvents used in preparing the composition of the present invention.

前記アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−〔5.4.0〕−7−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が0.001〜10質量%、好ましくは0.01〜1質量%となるように溶解したアルカリ性水溶液が使用される。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に、現像後、水で洗浄する。   Examples of the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide. , Choline, pyrrole, piperidine, alkaline compounds such as 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, the concentration is 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass. An alkaline aqueous solution so dissolved is used. When a developer composed of such an alkaline aqueous solution is used, it is generally washed with water after development.

本発明のカラーフィルタは、液晶表示素子やCCD等の固体撮像素子に用いることができ、特に100万画素を超えるような高解像度のCCD素子やCMOS素子等に好適である。本発明のカラーフィルタは、例えば、CCDを構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置されるカラーフィルタとして用いることができる。   The color filter of the present invention can be used for a solid-state image pickup device such as a liquid crystal display device or a CCD, and is particularly suitable for a high-resolution CCD device or a CMOS device having more than 1 million pixels. The color filter of the present invention can be used as, for example, a color filter disposed between a light receiving portion of each pixel constituting a CCD and a microlens for condensing light.

以下に、本発明を実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、特に断りの無い限り、「部」及び「%」は質量基準である。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

[実施例1]
1)レジスト溶液の調製
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA) 5.20部
・シクロヘキサノン 52.6部
・バインダー:(メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸/メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル)共重合体(モル比=60:20:20)41%EL溶液
30.5部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 10.2部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール) 0.006部
・フッ素系界面活性剤 0.80部
・光重合開始剤TAZ−107(みどり化学社製) 0.58部
を混合して溶解し、レジスト溶液を調製した。
[Example 1]
1) Preparation of resist solution-Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) 5.20 parts-Cyclohexanone 52.6 parts-Binder: (benzyl methacrylate / methacrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate) copolymer (molar ratio) = 60:20:20) 41% EL solution
30.5 parts ・ Dipentaerythritol hexaacrylate 10.2 parts ・ Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol) 0.006 parts ・ Fluorosurfactant 0.80 parts ・ Photopolymerization initiator TAZ-107 (Midori Chemical Co., Ltd.) 0.58 parts) was mixed and dissolved to prepare a resist solution.

2)下塗り層付ガラス基板の作製
ガラス基板(コーニング1737)を0.5%NaOH水で超音波洗浄した後、水洗、脱水ベーク(200℃/20分)を行った。
ついで、上記1)のレジスト溶液を洗浄したガラス基板上に膜厚2.0μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、220℃で1時間加熱乾燥し、硬化膜(下塗り層)を得た。
2) Production of glass substrate with undercoat layer A glass substrate (Corning 1737) was ultrasonically washed with 0.5% NaOH water, and then washed with water and dehydrated (200 ° C./20 minutes).
Next, the resist solution of 1) above was applied onto a cleaned glass substrate using a spin coater so as to have a film thickness of 2.0 μm, and dried by heating at 220 ° C. for 1 hour to obtain a cured film (undercoat layer). .

3)着色レジスト溶液(着色硬化性組成物[ネガ型])の調製
下記組成の化合物を混合して溶解し、着色硬化性組成物X−1を調製した。
〈着色硬化性脂組成物X−1〉
・乳酸エチル 20部
・メチルイソブチルケトン 60部
・例示化合物(A−1) 4.18部
・KARAYAD DPHA(日本化薬製、重合性化合物) 12.80部
・光重合開始剤(CGI−242(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製))
2.00部
・界面活性剤(大日本インキ株式会社製 F−781) 0.02部
3) Preparation of colored resist solution (colored curable composition [negative type]) A compound having the following composition was mixed and dissolved to prepare a colored curable composition X-1.
<Colored curable fat composition X-1>
・ Ethyl lactate 20 parts ・ Methyl isobutyl ketone 60 parts ・ Exemplary compound (A-1) 4.18 parts ・ KARAYAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., polymerizable compound) 12.80 parts ・ Photopolymerization initiator (CGI-242 ( Ciba Specialty Chemicals)
2.00 parts-Surfactant (F-781 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) 0.02 parts

4)着色レジスト溶液(着色硬化性組成物[ネガ型])の塗布、露光、現像
前記3)で調製した着色硬化性組成物X−1を、前記2)で得られた下塗り層付ガラス基板の下塗り層上に、この塗布膜の乾燥膜厚が1.0μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、光硬化性の塗布膜を形成した。そして、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行い、マゼンタ色乃至バイオレット色の着色フィルタを得た。
4) Coating, exposure, and development of colored resist solution (colored curable composition [negative type]) The glass substrate with an undercoat layer obtained in 2) above for the colored curable composition X-1 prepared in 3) above On the undercoat layer, a spin coater was applied so that the dry film thickness of the coating film was 1.0 μm, thereby forming a photocurable coating film. Then, a heat treatment (pre-baking) was performed for 120 seconds using a 100 ° C. hot plate to obtain a magenta to violet colored filter.

次いで、露光装置を使用して、塗布膜に365nmの波長で線幅2mmのマスクを通して500mJ/cmの露光量で照射した。露光後、60%CD−2000(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)現像液と、60%CD−2000現像液を10倍に水で希釈した6%のCD−2000現像液を使用して、それぞれ25℃、40秒間の条件で現像した。その後、流水で30秒間リンスした後、スプレー乾燥した。
以上のようにして、着色のカラーフィルタに好適なパターンを得た。
Next, using an exposure apparatus, the coating film was irradiated with an exposure dose of 500 mJ / cm 2 through a mask having a wavelength of 365 nm and a line width of 2 mm. After the exposure, a 60% CD-2000 (produced by Fujifilm Electronics Materials) developer and a 6% CD-2000 developer obtained by diluting 60% CD-2000 developer 10 times with water, Development was performed at 25 ° C. for 40 seconds. Then, after rinsing with running water for 30 seconds, spray drying was performed.
As described above, a pattern suitable for a colored color filter was obtained.

5)評価
上記で調製された着色レジスト溶液の保存安定性、及び着色レジスト溶液を用いてガラス基板上に塗布された塗布膜の分光特性を評価した。また、60%CD−2000現像液を用いた時の現像性と、6%に希釈した現像液を用いたときの現像性を評価した。評価結果を表1に示す。
5) Evaluation The storage stability of the colored resist solution prepared above and the spectral characteristics of the coating film coated on the glass substrate using the colored resist solution were evaluated. Further, developability when using a 60% CD-2000 developer and developability when using a developer diluted to 6% were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

−保存安定性−
前記着色レジスト液を室温で一ヶ月保存した後の異物の目視による析出度合いを目視により下記判定基準に従って評価した。
<判定基準>
○:析出は認められなかった。
△:僅かに析出が認められた。
×:析出が認められた。
-Storage stability-
After the colored resist solution was stored at room temperature for one month, the degree of visual precipitation of foreign matters was visually evaluated according to the following criteria.
<Criteria>
○: No precipitation was observed.
Δ: Slight precipitation was observed.
X: Precipitation was recognized.

−透過率評価−
上記により得たカラーフィルタの透過スペクトルを測定し、450nmの透過率を評価した。透過率が大きい方が、青色光の透過量が多く、青色カラーフィルタに使用可能なマゼンタ色素ないしバイオレット色素として優れていることを示す。
<判定基準>
各色素の最大吸収波長での透過率を5%に補正(規格化)したときの450nmの透過率を判定した。
○:450nm透過率≧90%
△:80%≦450nm透過率<90%
×:450nm透過率<80%
-Transmittance evaluation-
The transmission spectrum of the color filter obtained as described above was measured, and the transmittance at 450 nm was evaluated. The larger the transmittance, the greater the amount of blue light transmitted, and the better the magenta or violet dye that can be used for the blue color filter.
<Criteria>
The transmittance at 450 nm when the transmittance at the maximum absorption wavelength of each dye was corrected (normalized) to 5% was determined.
○: 450 nm transmittance ≧ 90%
Δ: 80% ≦ 450 nm transmittance <90%
×: 450 nm transmittance <80%

−現像性の評価−
現像液に60%CD−2000を用いた時の未露光部における550nmの吸光度と、6%に希釈した現像液を用いた時の未露光部における550nmの吸光度を評価した。即ち、現像性が良好な着色硬化性組成物を用いたカラーフィルタにおいては、未露光部には着色物が残らず、アルカリ現像性において優れる結果、550nmの吸光度が低くなることを示す。
<判定基準>
○:550nmの吸光度<0.01
△:0.01≦550nm吸光度<0.1
×:0.1≦550nm吸光度
-Evaluation of developability-
The absorbance at 550 nm in the unexposed area when 60% CD-2000 was used as the developer and the absorbance at 550 nm in the unexposed area when the developer diluted to 6% was used were evaluated. That is, in a color filter using a colored curable composition having good developability, no colored matter remains in the unexposed area, and as a result of excellent alkali developability, the absorbance at 550 nm is low.
<Criteria>
○: Absorbance at 550 nm <0.01
Δ: 0.01 ≦ 550 nm absorbance <0.1
×: 0.1 ≦ 550 nm absorbance

[実施例2〜41]
実施例1の前記3)着色レジスト溶液の調製において、例示化合物A−1を下記表1及び表2の例示化合物に等モル置き換えた以外は、すべて実施例1と同様に行った。結果を表1及び表2に示した。
[Examples 2 to 41]
The same procedure as in Example 1 was conducted except that in the preparation of the 3) colored resist solution of Example 1, Exemplified Compound A-1 was replaced by equimolar amounts with the Exemplified Compounds in Tables 1 and 2 below. The results are shown in Tables 1 and 2.

[比較例1〜4]
実施例1の前記3)着色レジスト溶液の調製において、例示化合物A−1を下記表2に示される化合物に等モル置き換えた以外は、すべて実施例1と同様に行った。結果を表2に示した。
[Comparative Examples 1-4]
In the preparation of the 3) colored resist solution of Example 1, everything was carried out in the same manner as in Example 1 except that equimolar amount of Exemplified Compound A-1 was replaced with the compound shown in Table 2 below. The results are shown in Table 2.

Figure 2010085454
Figure 2010085454

Figure 2010085454
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表1及び表2の結果から、本発明における着色剤を用いた着色硬化性組成物は、レジスト溶液において優れた保存性を有しており、また、その塗布膜は分光特性(色分離)に優れたカラーフィルタに適した膜となった。また、現像液の濃度依存性がなくパターン形成性(現像性)に優れることがわかった。   From the results of Tables 1 and 2, the colored curable composition using the colorant in the present invention has excellent storability in the resist solution, and the coating film has spectral characteristics (color separation). The film was suitable for an excellent color filter. It was also found that there was no dependency on the concentration of the developer and the pattern forming property (developability) was excellent.

[実施例42〜実施例82]
−レジスト液の塗布・露光・現像(画像形成)−
1)下塗り層付シリコンウエハー基板の作製
6inchシリコンウエハーをオーブン中で200℃のもと30分加熱処理した。次いで、このシリコンウエハー上に、実施例1の1)で調整したレジスト液を、乾燥膜厚1.0μmとなるように塗布し、更に220℃のオーブン中で1時間乾燥させて下塗り層を形成し、下塗り層付きシリコンウエハー基板を得た。
[Example 42 to Example 82]
-Application, exposure and development of resist solution (image formation)-
1) Production of silicon wafer substrate with undercoat layer A 6-inch silicon wafer was heat-treated in an oven at 200 ° C. for 30 minutes. Next, on this silicon wafer, the resist solution prepared in 1) of Example 1 was applied to a dry film thickness of 1.0 μm, and further dried in an oven at 220 ° C. for 1 hour to form an undercoat layer. Thus, a silicon wafer substrate with an undercoat layer was obtained.

前記1)で得られた下塗り層付きシリコンウエハー基板の下塗り層上に、前記実施例1〜41で用いた着色硬化性組成物を、各々の塗布膜の乾燥膜厚が0.8μmになるように塗布し、光硬化性の塗布膜を形成した。そして、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を使用して365nmの波長でパターンが1.2μm四方のアイランドパターンマスクを通して100〜2500mJ/cmの範囲で露光量を100mJ/cmずつ変化させて照射した。その後、照射された塗布膜が形成されているシリコンウエハー基板をスピン・シャワー現像機(DW−30型;(株)ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、60%CD−2000(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて23℃で60秒間パドル現像を行ない、シリコンウエハー基板に着色パターンを形成した。 On the undercoat layer of the silicon wafer substrate with the undercoat layer obtained in 1), the colored curable composition used in Examples 1-41 is set so that the dry thickness of each coating film becomes 0.8 μm. To form a photocurable coating film. And it heat-processed for 120 second (prebaking) using the 100 degreeC hotplate. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Co., Ltd.), an exposure dose of 100 mJ / cm in the range of 100 to 2500 mJ / cm 2 through an island pattern mask having a pattern of 1.2 μm square at a wavelength of 365 nm. Irradiation was carried out while changing by 2 cm 2 . Thereafter, the silicon wafer substrate on which the irradiated coating film is formed is placed on a horizontal rotary table of a spin shower developing machine (DW-30 type; manufactured by Chemitronics Co., Ltd.), and 60% CD-2000 ( Using Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd., paddle development was performed at 23 ° C. for 60 seconds to form a colored pattern on the silicon wafer substrate.

−カラーフィルタの形成−
着色パターンが形成されたシリコンウエハー基板を真空チャック方式で前記水平回転テーブルに固定し、回転装置によって該シリコンウエハー基板を回転数50rpmで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥し、カラーフィルタを得た。
-Formation of color filters-
The silicon wafer substrate on which the colored pattern is formed is fixed to the horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and the silicon wafer substrate is rotated at a rotational speed of 50 rpm by a rotating device, and pure water is ejected from above the rotation center from the ejection nozzle. It was supplied as a shower and rinsed, and then spray-dried to obtain a color filter.

形成されたパターン画像は、撮像素子用に好適な、正方形の断面が矩形状の良好なプロファイルを示した。   The formed pattern image showed a favorable profile with a square cross section suitable for an image sensor.

[実施例83]
1)着色硬化性組成物[ポジ型]の調製
・乳酸エチル(EL) 30部
・下記樹脂P−1 3.0部
・下記ナフトキノンジアジド化合物N−1 1.8部
・架橋剤:ヘキサメトキシメチロール化メラミン 0.6部
・光酸発生剤:TAZ−107(みどり化学社製) 1.2部
・フッ素系界面活性剤(F−475、DIC(株)製) 0.0005部
・色素:例示化合物A−3(本発明の化合物) 0.3部
以上を混合し、溶解し着色硬化性組成物[ポジ型]を得た。
[Example 83]
1) Preparation of colored curable composition [positive type] 30 parts of ethyl lactate (EL) 3.0 parts of the following resin P-1 1.8 parts of the following naphthoquinone diazide compound N-1 Crosslinking agent: hexamethoxymethylol 0.6 parts of melamine fluoride, photoacid generator: TAZ-107 (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.) 1.2 parts, fluorosurfactant (F-475, manufactured by DIC Corporation) 0.0005 part, dye: examples Compound A-3 (compound of the present invention) 0.3 part or more was mixed and dissolved to obtain a colored curable composition [positive type].

上記樹脂P−1、及びナフトキノンジアジド化合物(N−1)は、以下のようにして合成した。   The resin P-1 and the naphthoquinone diazide compound (N-1) were synthesized as follows.

2)樹脂P−1の合成
ベンジルメタクリレート70.0g、メタクリル酸13.0g、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル17.0g、及び2−メトキシプロパノール600gを三口フラスコに仕込み、攪拌装置、還流冷却管、及び温度計を取り付け、窒素気流下65℃にて重合開始剤V−65(和光純薬工業製)を触媒量添加して10時間攪拌した。得られた樹脂溶液を20Lのイオン交換水に激しく攪拌しながら滴下し、白色粉体を得た。この白色粉体を40℃で24時間真空乾燥し145gの樹脂P−1を得た。分子量をGPCにて測定したところ、重量平均分子量Mw=28,000 数平均分子量Mn=11,000であった。
2) Synthesis of resin P-1 70.0 g of benzyl methacrylate, 13.0 g of methacrylic acid, 17.0 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, and 600 g of 2-methoxypropanol were charged into a three-necked flask, and a stirrer, a reflux condenser, A thermometer was attached, and a polymerization amount of a polymerization initiator V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added at 65 ° C. under a nitrogen stream, followed by stirring for 10 hours. The obtained resin solution was added dropwise to 20 L of ion exchange water with vigorous stirring to obtain a white powder. This white powder was vacuum-dried at 40 ° C. for 24 hours to obtain 145 g of resin P-1. When the molecular weight was measured by GPC, the weight average molecular weight Mw = 28,000 and the number average molecular weight Mn = 11,000.

3)ナフトキノンジアジド化合物(N−1)の合成
Trisp−PA(本州化学製)42.45g、o−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロリド61.80g、アセトン300mlを三口フラスコに仕込み、室温下トリエチルアミン24.44gを1時間かけて滴下した。滴下終了後、更に2時間攪拌した後、反応液を大量の水に攪拌しながら注いだ。沈殿したナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを吸引ろ過により集め、40℃で24時間真空乾燥し感光性化合物N−1を得た。
3) Synthesis of naphthoquinonediazide compound (N-1) Trispamine PA (Honshu Chemical Co., Ltd.) 42.45 g, o-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride 61.80 g, and acetone 300 ml were charged into a three-necked flask and triethylamine 24.24 at room temperature. 44 g was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred for 2 hours, and then the reaction solution was poured into a large amount of water while stirring. Precipitated naphthoquinonediazide sulfonic acid ester was collected by suction filtration and vacuum dried at 40 ° C. for 24 hours to obtain photosensitive compound N-1.

上記で得られた着色硬化性組成物[ポジ型]を実施例1と同様な方法で評価した結果、保存安定性、及び透過率に優れることが判った。   As a result of evaluating the colored curable composition [positive type] obtained above by the same method as in Example 1, it was found that the colored curable composition [positive type] was excellent in storage stability and transmittance.

Claims (8)

下記一般式(A)で表される化合物、下記一般式(B)で表される化合物、及びそれらの互変異性体からなる群より選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする着色硬化性組成物。
Figure 2010085454

(式中、R〜Rは各々独立に、水素原子、又は置換基を表し、Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。但し、R〜Rのいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMと結合している。Mは水素原子、又は電荷を中和するために必要な有機塩基又は金属原子を表す。Lは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、及び−N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成が可能な2価の基を表す。Raは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Rb及びRcは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
Maは、錯体を形成可能な金属、又は金属化合物を表す。Xは、Maの電荷を中和する為に必要な基を表し、XはMaに結合可能な基を表す。pは0又は1を表す。一般式(B)において、XとXは、互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成していてもよい。)
A coloring comprising at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (A), a compound represented by the following general formula (B), and a tautomer thereof Curable composition.
Figure 2010085454

(In the formula, R 1 to R 6 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, provided that R 1 represents R 1. To R 6 , which is a divalent linking group and bonded to — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M. M is a hydrogen atom or a charge .L represents an organic base or metal atom required to neutralize the represents an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, or an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, -O -, - S -, - SO 2 -, -N (Ra)-, -COO-, -OCO-, -CON (Rb)-, -N (Rb) CO-, -N (Rb) COO-, -OOCN (Rb)-, -N ( Rb) CON (Rc) -, - SO 2 N (Rb) -, and -N (Rb) SO 2 - Represents a divalent group that can be formed by combining with a divalent group selected from the group, wherein Ra represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group; Rb and Rc each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
Ma represents a metal or a metal compound capable of forming a complex. X 1 represents a group necessary for neutralizing the charge of Ma, and X 2 represents a group capable of binding to Ma. p represents 0 or 1; In the general formula (B), X 1 and X 2 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered ring. )
前記一般式(A)が下記一般式(1−A)であり、前記一般式(B)が下記一般式(1−B)であることを特徴とする請求項1に記載の着色硬化性組成物。
Figure 2010085454

(式中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、又は置換基を表す。Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。R及びRは、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、又はヘテロ環アミノ基を表す。但し、R〜R、R、及びRのいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合している。Mは水素原子、又は電荷を中和するために必要な有機塩基又は金属原子を表す。Lは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、及び−N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成が可能な2価の基を表す。Raは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Rb及びRcは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
Maは、錯体を形成可能な金属、又は金属化合物を表し、X1は、Maの電荷を中和する為に必要な基を表す。X及びXは、各々独立に、NR(Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表す。RとR又はRとが互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成してもよい。)、酸素原子、又は硫黄原子を表し、Y及びYは各々独立に、NR(Rは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基)、又は酸素原子を表し、RとYは、互いに結合して、5員、6員、又は7員の環を形成していてもよく、RとYとが互いに結合して5員、6員、又は7員の環を形成していてもよい。)
The colored curable composition according to claim 1, wherein the general formula (A) is the following general formula (1-A), and the general formula (B) is the following general formula (1-B). object.
Figure 2010085454

(Wherein R 2 to R 5 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R 8 and R 9 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an anilino group, or a heterocyclic amino group, provided that R 2 to R 5 , A substituent of any one of R 8 and R 9 is a divalent linking group, and — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M is bonded, where M is a hydrogen atom. Or an organic base or a metal atom necessary for neutralizing the charge, L is an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, or an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, -O-, -S-, -SO 2 -, - N (Ra ) -, - C O -, - OCO -, - CON (Rb) -, - N (Rb) CO -, - N (Rb) COO -, - OOCN (Rb) -, - N (Rb) CON (Rc) -, - SO 2 N (Rb) -, and -N (Rb) SO 2 - .Ra representing a divalent combinable formed by a divalent group with group selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group, an aryl Represents a group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group, and Rb and Rc each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
Ma represents a metal or a metal compound capable of forming a complex, and X 1 represents a group necessary for neutralizing the charge of Ma. X 3 and X 4 each independently represent NR (where R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group. R and R 8 or R 9 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered, or 7-membered ring), an oxygen atom, or a sulfur atom, and Y 1 and Y 2 are each independently NR (R Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group), or an oxygen atom, and R 8 and Y 1 are bonded to each other to represent 5 A 6-membered, 6-membered or 7-membered ring may be formed, and R 9 and Y 2 may be bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered or 7-membered ring. )
前記Maが、Fe、Zn、Co、V=O、又はCuであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の着色硬化性組成物。   The colored curable composition according to claim 1, wherein Ma is Fe, Zn, Co, V═O, or Cu. 前記Maが、Znであることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の着色硬化性組成物。   The colored curable composition according to claim 1, wherein Ma is Zn. 下記一般式(C)で表される化合物、下記一般式(D)で表される化合物、及びそれらの互変異性体からなる群から選択される少なくとも1種を含有することを特徴とする着色硬化性組成物。
Figure 2010085454

(式中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、又は置換基を表す。Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。R10及びR11は、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アニリノ基、又はヘテロ環アミノ基を表す。但し、R〜R、R10、及びR11のいずれかの置換基が2価の連結基となって、−(L)−SO 、又は−(L)−SOMが結合している。Mは水素原子、又は電荷を中和するために必要な有機塩基又は金属原子を表す。Lは、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アラルキレン基、アリーレン基、−O−、−S−、−SO−、−N(Ra)−、−COO−、−OCO−、−CON(Rb)−、−N(Rb)CO−、−N(Rb)COO−、−OOCN(Rb)−、−N(Rb)CON(Rc)−、−SON(Rb)−、及び−N(Rb)SO−の群から選ばれる2価の基との組み合わせにより形成が可能な2価の基を表す。Raは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基を表し、Rb及びRcは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。X1は、Znの電荷を中和する為に必要な基を表す。)
A coloring comprising at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (C), a compound represented by the following general formula (D), and a tautomer thereof Curable composition.
Figure 2010085454

(In the formula, R 2 to R 5 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R 10 and R 11 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an anilino group, or a heterocyclic amino group, provided that R 2 to R 5 , A substituent of any one of R 10 and R 11 becomes a divalent linking group, and — (L) —SO 3 or — (L) —SO 3 M is bonded, where M is a hydrogen atom. Or an organic base or metal atom necessary for neutralizing the charge, L is an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, or an alkylene group, an aralkylene group, an arylene group, -O-, -S-, -SO 2 -, - N (Ra ) , -COO-, -OCO-, -CON (Rb)-, -N (Rb) CO-, -N (Rb) COO-, -OOCN (Rb)-, -N (Rb) CON (Rc)-, A divalent group that can be formed by a combination with a divalent group selected from the group of —SO 2 N (Rb) — and —N (Rb) SO 2 —, wherein Ra represents an alkyl group or an alkenyl group; , An aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group, and Rb and Rc each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. X 1 represents a group necessary for neutralizing the charge of Zn.)
請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の着色硬化性組成物を含むカラーフィルタ。   The color filter containing the colored curable composition as described in any one of Claims 1-5. 請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の着色硬化性組成物を支持体上に塗布して層を形成する工程と、
前記支持体上に形成した着色硬化性組成物の層に対し、マスクを介して露光した後、現像してパターン像を形成する工程と、
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
Applying the colored curable composition according to any one of claims 1 to 5 on a support to form a layer;
A step of forming a pattern image by exposing the layer of the colored curable composition formed on the support through a mask and developing the layer;
A method for producing a color filter, comprising:
前記一般式(C)で表される化合物、前記一般式(D)で表される化合物、及びそれらの互変異性体からなる群から選択される色素。   The pigment | dye selected from the group which consists of the compound represented by the said general formula (C), the compound represented by the said general formula (D), and those tautomers.
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