JP2010084046A - Method of manufacturing polymer and polymer for lithographic printing plate precursor - Google Patents

Method of manufacturing polymer and polymer for lithographic printing plate precursor Download PDF

Info

Publication number
JP2010084046A
JP2010084046A JP2008255807A JP2008255807A JP2010084046A JP 2010084046 A JP2010084046 A JP 2010084046A JP 2008255807 A JP2008255807 A JP 2008255807A JP 2008255807 A JP2008255807 A JP 2008255807A JP 2010084046 A JP2010084046 A JP 2010084046A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
polymer
general formula
alkyl
monomer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008255807A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Asami Izumo
麻美 出雲
Haruyoshi Goto
春良 後藤
Hisashi Iwai
悠 岩井
Tomoya Sasaki
知也 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2008255807A priority Critical patent/JP2010084046A/en
Publication of JP2010084046A publication Critical patent/JP2010084046A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a polymer which has an equal effect as compared to that of a polymer manufactured by using NMP when applied to a lithographic printing plate, and to provide a polymer for a lithographic printing plate. <P>SOLUTION: A solution represented by formula (1), in which a quaternary ammonium salt monomer is dissolved, is added dropwise to a solution represented by formula (2) in which a monomer is dissolved. A solvent dissolving the monomer is preferably a mixed solvent composed of a ketone-based solvent and an alcohol based solvent. (In the formula, R<SP>11</SP>is hydrogen atom or the like; L<SP>1</SP>is a single bond or divalent linking group; R<SP>12</SP>-R<SP>14</SP>are each independently hydrogen atom or the like; X<SP>-</SP>is an ion pair required for neutralizing a charge; R<SP>21</SP>is hydrogen atom or the like; and R<SP>22</SP>is an ester group or the like). <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、ポリマーの製造方法およびその製造方法によって得られた平版印刷版原版用ポリマーに関する。   The present invention relates to a polymer production method and a polymer for a lithographic printing plate precursor obtained by the production method.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部となる画像記録層を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させる方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). In this method, a difference in ink adhesion is caused on the surface of the lithographic printing plate, and after ink is applied only to the image area, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, after exposing the lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the image recording layer to be an image portion is left, and the other unnecessary image recording layer is removed with an alkaline developer or an organic solvent. Plate making is performed by a method of exposing the surface of the hydrophilic support by dissolving and removing to obtain a lithographic printing plate.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な画像記録層を現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を不要化しまたは簡易化することが課題の一つとして挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、上記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   In the conventional plate making process of a lithographic printing plate precursor, after exposure, a step of dissolving and removing unnecessary image recording layers with a developer or the like is necessary, but such additional wet processing is made unnecessary or Simplification is cited as one of the issues. In particular, in recent years, disposal of waste liquids discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and therefore, the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

これに対して、簡易な製版方法の一つとして、平版印刷版原版の画像記録層の除去を通常の印刷工程の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機上で非画像部に対応する画像記録層を除去し平版印刷版を得る、機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
機上現像の具体的方法としては、例えば、湿し水、インキ溶剤または湿し水とインキとの乳化物に溶解しまたは分散することが可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を用いる方法、印刷機のローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法、湿し水、インキ溶剤等の浸透によって画像記録層の凝集力または画像記録層と支持体との接着力を弱めた後、ローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法が挙げられる。
なお、本明細書においては、特別な説明がない限り、「現像処理工程」とは、印刷機以外の装置(通常は自動現像機)を使用し、液体(通常はアルカリ性現像液)を接触させることにより、平版印刷版原版の赤外線レーザー未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる工程を指し、「機上現像」とは、印刷機を用いて、液体(通常は印刷インキおよび/または湿し水)を接触させることにより、平版印刷版原版の赤外線レーザー未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる方法および工程を指す。
On the other hand, as one of simple plate making methods, an image recording layer that can remove the image recording layer of the lithographic printing plate precursor in a normal printing process is used. A method called on-press development has been proposed in which an image recording layer corresponding to a portion is removed to obtain a lithographic printing plate.
As a specific method of on-press development, for example, a method of using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in dampening water, an ink solvent, or an emulsion of dampening water and ink , A method of mechanically removing the image recording layer by contact with rollers or a blanket cylinder of a printing press, cohesion of the image recording layer by penetration of dampening water, ink solvent, etc. There is a method in which after the adhesive force is weakened, the image recording layer is mechanically removed by contact with rollers or a blanket cylinder.
In the present specification, unless otherwise specified, the “development processing step” means using a device other than a printing machine (usually an automatic developing machine) and contacting a liquid (usually an alkaline developer). This refers to the process of removing the infrared laser unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and exposing the surface of the hydrophilic support, and “on-press development” refers to a liquid (usually printing ink and (Or dampening water) to remove the infrared laser unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and expose the surface of the hydrophilic support.

一方、近年、画像情報をコンピュータで電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)技術が注目されてきている。したがって、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。
上述したように、近年、製版作業の簡素化、乾式化および無処理化は、地球環境への配慮とデジタル化への適合化との両面から、従来にも増して、強く望まれるようになってきている。
On the other hand, in recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer have become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization techniques are put into practical use. It is becoming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate (CTP) technology has been attracting attention. Therefore, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.
As described above, in recent years, the simplification, drying, and no processing of plate making operations have become more desirable than ever in terms of consideration for the global environment and adaptation to digitalization. It is coming.

上述の要望に適応した平版印刷版原版として、光および/または熱重合性の画像記録層を有する平版印刷版原版などが用いられる。これらの平版印刷版原版では、酸素遮断性付与、画像記録層での傷の発生防止、高照度レーザー露光時に生じるアブレーション防止等のために、画像記録層の上に保護層(オーバーコート層)が設けられる。保護層素材として、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース系ポリマー(例:カルボキシメチルセルロース)が挙げられる。これらにさらに雲母などの層状化合物を添加することで酸素遮断性が向上し、画像記録層での傷の発生がさらに防止されることが知られている(例えば、特許文献1、2参照)。   As a lithographic printing plate precursor adapted to the above-mentioned demand, a lithographic printing plate precursor having a light and / or heat-polymerizable image recording layer is used. In these lithographic printing plate precursors, a protective layer (overcoat layer) is provided on the image recording layer in order to impart oxygen barrier properties, prevent scratches in the image recording layer, and prevent ablation that occurs during high-illuminance laser exposure. Provided. Examples of the protective layer material include water-soluble acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, and polyacrylic acid, gelatin, gum arabic, and cellulose polymers (eg, carboxymethyl cellulose). It is known that by adding a layered compound such as mica to these, the oxygen barrier property is improved and the occurrence of scratches in the image recording layer is further prevented (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

しかし、保護層に層状化合物を使用する場合は、印刷初期の着肉性、印刷途中の着肉性、現像性、機上現像性等の何れかひとつまたは複数の性能が低下する場合があった。特に保護層として好適に使用されるポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、セルロース系ポリマー等の水溶性ポリマーおよびこれらに雲母などの層状化合物を添加した場合には、良好な酸素遮断性を示すことで重合しやすくなり耐刷性が向上するが、現像性や着肉性が低下することが多く、この改善が重要な技術課題の一つとなっている。
着肉性低下を改善するため、ホスホニウム化合物を画像記録層や保護層に含有させることが提案されている(例えば、特許文献3、4参照)が、耐刷性、機上現像性および着肉性をいずれも優れたレベルにするという点ではまだ不十分である。
However, when a layered compound is used for the protective layer, one or a plurality of performances such as an initial printing property, an in-printing property, a developing property, and an on-press developing property may be deteriorated. . In particular, when water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acid, and cellulose-based polymers that are suitably used as a protective layer and layered compounds such as mica are added thereto, good oxygen barrier properties are exhibited. However, the development property and the inking property are often lowered, and this improvement is one of the important technical problems.
In order to improve the reduction in wearability, it has been proposed to contain a phosphonium compound in an image recording layer or a protective layer (see, for example, Patent Documents 3 and 4). It is still inadequate in terms of bringing the sex to an excellent level.

そこで、本出願人は、層状化合物を含有する保護層を有する機上現像型の平版印刷版原版において、画像記録層または保護層に、アンモニウム構造を有する構造単位を含むポリマーを添加することにより、耐刷性、着肉性および機上現像性のいずれもがさらに優れたものになる知見を見出した。   Therefore, the present applicant, in the on-press development type lithographic printing plate precursor having a protective layer containing a layered compound, by adding a polymer containing a structural unit having an ammonium structure to the image recording layer or the protective layer, The inventor has found that printing durability, inking property, and on-press developability are all further improved.

このような、アンモニウム構造を有する構造単位を含むポリマーを製造するにあたり、N−メチルピロリドン(NMP)を反応溶媒として用いるのが溶解性の点で有利であるが、NMPは価格、安全性などの点で必ずしも充分ではない。また、沸点が高いため、基板へ塗布する形態での用途には不適切な場合がある。   In producing such a polymer containing a structural unit having an ammonium structure, it is advantageous in terms of solubility to use N-methylpyrrolidone (NMP) as a reaction solvent, but NMP is advantageous in terms of price, safety, etc. Not necessarily enough in terms. Moreover, since the boiling point is high, it may be unsuitable for the use in the form which apply | coats to a board | substrate.

例えば、反応溶媒を容易に入手可能で安価なメチルエチルケトン(MEK)のようなケトン系溶媒とアルコール系溶媒との混合溶媒を用いることを検討した。しかしながら、単に、反応溶媒としてNMPをケトン系溶媒とアルコール系溶媒との混合溶媒に変えただけでは、望ましい共重合状態のポリマーが得られず、平版印刷版原版に適用しても、NMPを用いて製造したポリマーと比べて効果が得られないことがあった。   For example, the use of a mixed solvent of a ketone solvent such as methyl ethyl ketone (MEK) and an alcohol solvent, which are readily available as a reaction solvent, was examined. However, simply changing NMP as a reaction solvent to a mixed solvent of a ketone solvent and an alcohol solvent does not yield a desired copolymerized polymer, and even when applied to a lithographic printing plate precursor, NMP is used. In some cases, the effect could not be obtained as compared with the polymer produced.

なお、特許文献5には、アンモニウム構造を有するモノマーと他の共重合可能なモノマーとを重合する際に、反応溶媒として、シクロヘキサノンを使用することが記載されている。しかしながら、この特許文献5に記載の重合方法で得られたポリマーを平版印刷版原版に適用することについては、何も記載されてい。
特開2001−171250号公報 特開2005−119273号公報 特開2006−297907号公報 特開2007−50660号公報 特開2004−198717号公報
Patent Document 5 describes that cyclohexanone is used as a reaction solvent when a monomer having an ammonium structure and another copolymerizable monomer are polymerized. However, nothing is described about applying the polymer obtained by the polymerization method described in Patent Document 5 to a lithographic printing plate precursor.
JP 2001-171250 A JP 2005-119273 A JP 2006-297907 A JP 2007-50660 A JP 2004-198717 A

本発明の目的は、望ましい共重合状態のポリマーが得られ、平版印刷版原版に適用しても、NMPを用いて製造したポリマーと比べて同等な効果を有する、ポリマーの製造方法、及び平版印刷版原版用ポリマーを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a polymer production method and a lithographic printing method in which a polymer in a desired copolymerized state is obtained, and even when applied to a lithographic printing plate precursor, it has the same effect as a polymer produced using NMP. It is to provide a polymer for an original plate.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、重合反応系へのモノマー成分の添加方法を工夫することにより、望ましい共重合状態のポリマーが得られ、平版印刷版原版に適用しても、NMPを用いて製造したポリマーと比べて同等な効果を有するポリマーが得られることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
As a result of intensive investigations to achieve the above object, the present inventors have obtained a desired copolymerized polymer by devising a method for adding a monomer component to a polymerization reaction system, and applied it to a lithographic printing plate precursor. However, it has been found that a polymer having an effect equivalent to that of a polymer produced using NMP can be obtained, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.

(1)下記一般式(1)で表される4級アンモニウム塩モノマーと下記一般式(2)で表されるモノマーとを重合してポリマーを製造する方法であって、下記一般式(2)で表されるモノマーを溶解した溶液に、下記一般式(1)で表される4級アンモニウム塩モノマーを溶解した溶液を滴下し、かつ該滴下速度を1回以上変化させることを特徴とするポリマーの製造方法。 (1) A method for producing a polymer by polymerizing a quaternary ammonium salt monomer represented by the following general formula (1) and a monomer represented by the following general formula (2), wherein the following general formula (2) A polymer in which a solution in which a quaternary ammonium salt monomer represented by the following general formula (1) is dissolved is dropped into a solution in which the monomer represented by formula (1) is dissolved, and the dropping speed is changed at least once. Manufacturing method.

Figure 2010084046
Figure 2010084046

(一般式(1)中、R11は水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。L1は単結合または二価の連結基を表し、R12、R13およびR14は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、またはアルキリデン基を表す。R12、R13およびR14から選ばれる少なくとも二つが互いに結合して環を形成していても良い。X-は電荷を中和するのに必要な対イオンを表す。一般式(2)中、R21は水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。R22はエステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基、またはアリール基を表す。) (In General Formula (1), R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom. L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and R 12 , R 13, and R 14 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or .R 12 representing an alkylidene group, at least two selected from R 13 and R 14 may be bonded to form a ring together, .X - is This represents a counter ion necessary for neutralizing the charge, wherein R 21 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom, and R 22 represents an ester group, an amide group, a cyano group, or a hydroxy group. Or an aryl group.)

(2)前記滴下の速度を変化させる場合に、該速度を低くなるように変化させることを特徴とする前記(1)のポリマーの製造方法。
(3)前記モノマーを溶解する溶媒がケトン系溶媒とアルコール系溶媒との混合溶媒であり、その比率が、ケトン系溶媒:アルコール系溶媒=70:30〜30:70であることを特徴とする前記(1)のポリマーの製造方法。
(4)前記一般式(1)において、L1がフェニレン基、カルボニルオキシ基およびカルボニルイミノ基から選ばれる基を少なくとも有する基であることを特徴とする前記(1)のポリマーの製造方法。
(5)前記一般式(1)において、Xがハロゲン化物イオン、カルボン酸イオン、アルキルスルホン酸イオン、アルキルリン酸イオン、ホスホン酸イオン、アリールスルホン酸イオン、PF およびBF4 -から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする前記(1)のポリマーの製造方法。
(6)前記一般式(2)において、R22がエステル基、アミド基または置換基を有してよいフェニル基であることを特徴とする前記(1)のポリマーの製造方法。
(7)前記一般式(2)において、R22がポリアルキレンオキシ基を含有する基であることを特徴とする前記(1)のポリマーの製造方法。
(2) The method for producing a polymer according to (1), wherein when the dropping speed is changed, the dropping speed is changed.
(3) The solvent for dissolving the monomer is a mixed solvent of a ketone solvent and an alcohol solvent, and the ratio is ketone solvent: alcohol solvent = 70: 30 to 30:70. The manufacturing method of the polymer of said (1).
(4) The method for producing a polymer according to (1), wherein in the general formula (1), L 1 is a group having at least a group selected from a phenylene group, a carbonyloxy group, and a carbonylimino group.
(5) In the general formula (1), X is selected from a halide ion, a carboxylate ion, an alkyl sulfonate ion, an alkyl phosphate ion, a phosphonate ion, an aryl sulfonate ion, PF 6 and BF 4 —. (1) The method for producing a polymer according to (1) above.
(6) The method for producing a polymer according to (1), wherein in the general formula (2), R 22 is an ester group, an amide group or a phenyl group which may have a substituent.
(7) The method for producing a polymer according to (1), wherein in the general formula (2), R 22 is a group containing a polyalkyleneoxy group.

(8)下記一般式(1)で表される4級アンモニウム塩モノマーと下記一般式(2)で表されるモノマーとを重合して製造された平版印刷版原版用ポリマーであって、下記一般式(2)で表されるモノマーを溶解した溶液に、下記一般式(1)で表される4級アンモニウム塩モノマーを溶解した溶液を滴下し、かつ該滴下速度を1回以上変化させたことによって製造されたことを特徴とする平版印刷版原版用ポリマー。 (8) A lithographic printing plate precursor polymer produced by polymerizing a quaternary ammonium salt monomer represented by the following general formula (1) and a monomer represented by the following general formula (2): A solution in which a quaternary ammonium salt monomer represented by the following general formula (1) is dissolved is dropped into a solution in which the monomer represented by the formula (2) is dissolved, and the dropping speed is changed at least once. A polymer for a lithographic printing plate precursor produced by

Figure 2010084046
Figure 2010084046

(一般式(1)中、R11は水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。L1は単結合または二価の連結基を表し、R12、R13およびR14は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、またはアルキリデン基を表す。R12、R13およびR14から選ばれる少なくとも二つが互いに結合して環を形成していても良い。X-は電荷を中和するのに必要な対イオンを表す。一般式(2)中、R21は水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。R22はエステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基、またはアリール基を表す。) (In General Formula (1), R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom. L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and R 12 , R 13, and R 14 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or .R 12 representing an alkylidene group, at least two selected from R 13 and R 14 may be bonded to form a ring together, .X - is This represents a counter ion necessary for neutralizing the charge, wherein R 21 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom, and R 22 represents an ester group, an amide group, a cyano group, or a hydroxy group. Or an aryl group.)

本発明によれば、望ましい共重合状態で、平版印刷版原版に適用しても、NMPを用いて製造したポリマーと比べて同等な効果を有するポリマーが得られた。   According to the present invention, even when applied to a lithographic printing plate precursor in a desirable copolymerization state, a polymer having an effect equivalent to that of a polymer produced using NMP was obtained.

本発明のポリマーの製造方法は、下記一般式(2)で表されるモノマー(以下、単に「共重合モノマー」または「モノマー(2)」とも称する)を溶解した溶液に、下記一般式(1)で表される4級アンモニウム塩モノマー(以下、単に「4級アンモニウム塩含有モノマー」または「モノマー(1)」とも称する)を溶解した溶液を滴下することを特徴とするものである。   The method for producing a polymer of the present invention comprises the following general formula (1) in a solution in which a monomer represented by the following general formula (2) (hereinafter also simply referred to as “copolymerization monomer” or “monomer (2)”) is dissolved. ) Quaternary ammonium salt monomer (hereinafter, also simply referred to as “quaternary ammonium salt-containing monomer” or “monomer (1)”) is added dropwise.

Figure 2010084046
Figure 2010084046

(一般式(1)中、R11は水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。L1は単結合または二価の連結基を表し、R12、R13およびR14は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、またはアルキリデン基を表す。R12、R13およびR14から選ばれる少なくとも二つが互いに結合して環を形成していても良い。X-は電荷を中和するのに必要な対イオンを表す。一般式(2)中、R21は水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。R22はエステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基、またはアリール基を表す。) (In General Formula (1), R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom. L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and R 12 , R 13, and R 14 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or .R 12 representing an alkylidene group, at least two selected from R 13 and R 14 may be bonded to form a ring together, .X - is This represents a counter ion necessary for neutralizing the charge, wherein R 21 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom, and R 22 represents an ester group, an amide group, a cyano group, or a hydroxy group. Or an aryl group.)

上記モノマー(2)及びモノマー(1)をそれぞれ溶解する溶媒としては、特に限定されないが、例えば、ケトン系溶媒とアルコール系溶媒との混合溶媒が好ましい。
ケトン系溶媒とアルコール系溶媒との混合溶媒(以下、単に「溶媒」または「反応溶媒」とも称する)において用いるケトン系溶媒としては、特に限定されないが、メチルエチルケトン(MEK)、ピナコロン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−オクタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルイソブチルケトン、2-プロピルシクロヘキサノン、 2,6-ジメチルー4-ヘプタノン等が挙げられる。
また、アルコール系溶媒としては、特に限定されないが、メトキシプロピレングリコール(MFG)、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−イソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−(2−メトキシエトキシ)エタノール、2−(2−エトキシエトキシ)エタノール、3−ヒドロキシテトラヒドロフラン、2−ヒドロキシエチルアセテート、2−ヒドロキシプロピルアセテート、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルアセテート、2−シクロヘキシロキシエタノール、1−メトキシ−2−メチル−2−プロパノール、1−プロポキシ−2−プロパノール等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as a solvent which melt | dissolves the said monomer (2) and the monomer (1), respectively, For example, the mixed solvent of a ketone solvent and an alcohol solvent is preferable.
A ketone solvent used in a mixed solvent of a ketone solvent and an alcohol solvent (hereinafter also simply referred to as “solvent” or “reaction solvent”) is not particularly limited, but is not limited to methyl ethyl ketone (MEK), pinacolone, 2-pentanone, Examples include 3-pentanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 2-octanone, cyclohexanone, cyclopentanone, methyl isobutyl ketone, 2-propylcyclohexanone, and 2,6-dimethyl-4-heptanone.
The alcohol solvent is not particularly limited, but methoxypropylene glycol (MFG), 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-isopropoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2 -(2-methoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, 3-hydroxytetrahydrofuran, 2-hydroxyethyl acetate, 2-hydroxypropyl acetate, 2- (2-hydroxyethoxy) ethyl acetate, 2-cyclohex Siloxyethanol, 1-methoxy-2-methyl-2-propanol, 1-propoxy-2-propanol and the like can be mentioned.

前記ケトン系溶媒とアルコール系溶媒との混合比率としては、特に限定されないが、好ましくは、ケトン系溶媒:アルコール系溶媒=90:10〜10:90であり、より好ましくは80:20〜20:80であり、さらに好ましくは70:30〜30:70である。   The mixing ratio of the ketone solvent and the alcohol solvent is not particularly limited, but is preferably ketone solvent: alcohol solvent = 90: 10 to 10:90, more preferably 80:20 to 20: 80, more preferably 70:30 to 30:70.

モノマー(2)を溶解した反応溶媒に、モノマー(1)を溶解した反応溶媒を滴下条件としては、特に限定されないが、滴下速度を1回以上変化させることが好ましく、滴下速度を2〜5段階に変化させることがより好ましい。滴下速度を変化させる場合には、前段よりも後段の滴下速度が遅くなるように変化させることが好ましい。   The dropping condition of the reaction solvent in which the monomer (1) is dissolved in the reaction solvent in which the monomer (2) is dissolved is not particularly limited, but it is preferable to change the dropping speed at least once, and the dropping speed is 2 to 5 stages. It is more preferable to change to. When changing the dropping speed, it is preferable to change the dropping speed so that the subsequent dropping speed is slower than the preceding stage.

また、本発明における重合反応において、重合開始剤を用いることが好ましい。重合開始剤としては、重合反応に使用する、モノマー、溶媒、反応スケールによって、種類、添加量、その他の添加条件を、適宜選定し得るものである。
また、重合反応温度としては、特に限定されず、使用するモノマー、重合開始剤、溶媒、反応スケールによって、適宜選定し得るものであるが、通常、60〜80℃の範囲が好ましい。
In the polymerization reaction in the present invention, it is preferable to use a polymerization initiator. As the polymerization initiator, the type, addition amount, and other addition conditions can be appropriately selected depending on the monomer, solvent, and reaction scale used in the polymerization reaction.
The polymerization reaction temperature is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the monomer, polymerization initiator, solvent, and reaction scale to be used, but a range of 60 to 80 ° C. is usually preferable.

次に、本発明のポリマーの製造方法に用いる各モノマーについて詳細に説明する。
〔一般式(1)で表されるモノマー(1)〕
一般式(1)で表されるモノマー(1)において、R11は水素原子または置換基を表す。L1は二価の連結基を表し、R12、R13およびR14は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。X-は電荷を中和するに必要な対イオンを表す。
Next, each monomer used in the method for producing a polymer of the present invention will be described in detail.
[Monomer (1) Represented by General Formula (1)]
In the monomer (1) represented by the general formula (1), R 11 represents a hydrogen atom or a substituent. L 1 represents a divalent linking group, and R 12 , R 13 and R 14 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. X represents a counter ion necessary for neutralizing the electric charge.

11について説明する。一般式(1)中、R11は水素原子または置換基を表す。好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換カルボニル基、置換オキシ基、複素環基またはハロゲン原子を表し、更に好ましくは、水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表し、特に好ましくは水素原子またはアルキル基を表す。 R 11 will be described. In general formula (1), R 11 represents a hydrogen atom or a substituent. Preferably, it represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted carbonyl group, a substituted oxy group, a heterocyclic group or a halogen atom, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom, particularly preferably a hydrogen atom or Represents an alkyl group.

11で表されるアルキル基は、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を好ましい例として挙げることができる。これらの中でも、炭素原子数1から12までの直鎖状のアルキル基、炭素原子数3から12までの分岐状のアルキル基、および炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、および2−ノルボルニル基、などが挙げられる。 Preferred examples of the alkyl group represented by R 11 include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Among these, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms are more preferable. Specific examples thereof include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group. , Eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group , And 2-norbornyl groups.

11で表されるアリール基は、好ましくは炭素原子数が5から20、さらに好ましくは炭素原子数が6〜18、特に好ましくは炭素数6〜12の置換または無置換アリール基を表す。R11で表されるアリール基はさらに置換基を有していてもよい。
好ましい例としては、フェニル基、4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−クロロフェニル基、4−(ジメチルアミノ)基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、ビフェニル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、などが挙げられる。
The aryl group represented by R 11 preferably represents a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 18 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms. The aryl group represented by R 11 may further have a substituent.
Preferred examples include phenyl group, 4-methylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 4-chlorophenyl group, 4- (dimethylamino) group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, biphenyl group, xylyl group, mesityl. Group, cumenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methyl Aminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, cyanopheny Group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group, phosphate Hona preparative phenyl group, and the like.

11で表される複素環基は、3〜8員環であることが好ましく、3〜6員環であることがさらに好ましく、5〜6員環であることが特に好ましい。また、複素環を構成するヘテロ原子の種類としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含むことが好ましい。R11で表される複素環基はさらに置換基を有していてもよい。
好ましい例としては、ピロール環基、フラン環基、チオフェン環基、ベンゾピロール環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、ピラゾール環基、イソキサゾール環基、イソチアゾール環基、インダゾール環基、ベンゾイソキサゾール環基、ベンゾイソチアゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズオキサゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、フタラジン環基、キナゾリン環基、キノキサリン環基、アシリジン環基、フェナントリジン環基、カルバゾール環基、プリン環基、ピラン環基、ピペリジン環基、ピペラジン環基、モルホリン環基、インドール環基、インドリジン環基、クロメン環基、シンノリン環基、アクリジン環基、フェノチアジン環基、テトラゾール環基、トリアジン環基、などが挙げられる。
The heterocyclic group represented by R 11 is preferably a 3- to 8-membered ring, more preferably a 3- to 6-membered ring, and particularly preferably a 5- to 6-membered ring. Moreover, as a kind of hetero atom which comprises a heterocyclic ring, it is preferable that a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom is included. The heterocyclic group represented by R 11 may further have a substituent.
Preferred examples include pyrrole ring group, furan ring group, thiophene ring group, benzopyrrole ring group, benzofuran ring group, benzothiophene ring group, pyrazole ring group, isoxazole ring group, isothiazole ring group, indazole ring group, benzoiso Xazole ring group, benzoisothiazole ring group, imidazole ring group, oxazole ring group, thiazole ring group, benzimidazole ring group, benzoxazole ring group, benzothiazole ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, Pyridazine ring group, pyrimidine ring group, pyrazine ring group, phthalazine ring group, quinazoline ring group, quinoxaline ring group, acylidin ring group, phenanthridine ring group, carbazole ring group, purine ring group, pyran ring group, piperidine ring group, Piperazine ring group, morpholine ring group, indole ring group, indoli Ring group, a chromene ring group, a cinnoline ring group, an acridine ring group, a phenothiazine ring group, a tetrazole ring group, a triazine ring group, and the like.

11で表される置換カルボニル基は、(R15−CO−)で表される基が好ましい。R15は水素原子または置換基を表す。R11の好ましい例としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N'−アリールカルバモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、並びにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、更に好ましい置換カルボニル基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基が挙げられ、特に好ましいものとしては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基並びにアリーロキシカルボニル基が挙げられる。
11の好ましい具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノフェニルエテニルカルボニル基、メトキシカルボニルメトキシカルボニル基、N−メチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。
The substituted carbonyl group represented by R 11 is preferably a group represented by (R 15 —CO—). R 15 represents a hydrogen atom or a substituent. Preferred examples of R 11 include formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N , N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N′-arylcarbamoyl group. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Of these, more preferred substituted carbonyl groups include formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-ary. A rucarbamoyl group is exemplified, and particularly preferred are a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, and an aryloxycarbonyl group.
Preferred examples of R 11 include formyl group, acetyl group, benzoyl group, carboxyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, dimethylaminophenylethenylcarbonyl group, methoxycarbonylmethoxycarbonyl group, N- Examples thereof include a methylcarbamoyl group, an N-phenylcarbamoyl group, an N, N-diethylcarbamoyl group, and a morpholinocarbonyl group.

11で表される置換オキシ基としては、(R16O−)で表される基が好ましい。R16は水素原子または置換基を表す。好ましい置換オキシ基としては、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、並びにアリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基並びに、アリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。R11で表される置換オキシ基がアシルオキシ基を表すときのアシル基の具体例としては、前述のR11が置換カルボニル基を表すときの例を挙げることができる。これらの置換基の中では、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールスルホキシ基がより好ましい。
好ましい置換オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基等が挙げられる。
The substituted oxy group represented by R 11 is preferably a group represented by (R 16 O—). R 16 represents a hydrogen atom or a substituent. Preferred examples of the substituted oxy group include hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N- Examples thereof include a diarylcarbamoyloxy group, an N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, an alkylsulfoxy group, an arylsulfoxy group, a phosphonooxy group, and a phosphonatoxy group. Examples of the alkyl group and aryl group in these include the alkyl groups, substituted alkyl groups, aryl groups, and substituted aryl groups described above. Specific examples of the acyl group when the substituted oxy group represented by R 11 represents an acyloxy group include the examples where R 11 represents a substituted carbonyl group. Among these substituents, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, and an arylsulfoxy group are more preferable.
Specific examples of preferred substituted oxy groups include methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butyloxy, pentyloxy, hexyloxy, dodecyloxy, benzyloxy, allyloxy, phenethyloxy, Carboxyethyloxy group, methoxycarbonylethyloxy group, ethoxycarbonylethyloxy group, methoxyethoxy group, phenoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, morpholinoethoxy group, morpholinopropyloxy group, allyloxyethoxyethoxy group, Phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, mesityloxy group, mesityloxy group, cumenyloxy group, methoxyphenyloxy group, ethoxyphenyloxy group, chlorophenyl Alkoxy group, bromophenyl group, acetyloxy group, benzoyloxy group, naphthyloxy group, a phenylsulfonyloxy group, a phosphonooxy group, phosphonatoxy group, and the like.

11で表されるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であることが好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であることが更に好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であることが特に好ましい。 The halogen atom represented by R 11 is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, more preferably a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom, and a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom. It is particularly preferred that

11で表される基が置換可能な場合は、更に置換基を有していてもよい。置換基の種類としては、置換可能な基であれば任意のものを選択できるが、例えば、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N'−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキルウレイド基、N'−アリールウレイド基、N',N'−ジアリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アリール−N−アリールウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N',N'−ジアリール−N−アリールウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N'−アリール−N−アリールウレイド基、 When the group represented by R 11 can be substituted, it may further have a substituent. Any kind of substituent can be selected as long as it is a substitutable group. For example, an alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom) ), Hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N , N-Diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N- Lillecarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N ′ -Dialkylureido group, N'-arylureido group, N ', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl -N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl -N-alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', '- diaryl -N- arylureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- alkylureido group, N'- alkyl -N'- aryl -N- arylureido group,

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)およびその共役塩基基(スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィイナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、 Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N -Aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N- di arylcarbamoyl group, N- alkyl -N- arylcarbamoyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group (scan Phonato group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinaimoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diaryl Sulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N- Diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group,

ホスホノ基(−PO32)およびその共役塩基基(ホスホナト基と称する。)、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)「alkyl=アルキル基、以下同」、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)「aryl=アリール基、以下同」、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl))およびその共役塩基基(アルキルホスホナト基と称する。)、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))およびその共役塩基基(アリールホスホナト基と称する。)、ホスホノオキシ基(−OPO32)およびその共役塩基基(ホスホナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl))およびその共役塩基基(アルキルホスホナトオキシ基と称する。)、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))およびその共役塩基基(アリールホスホナトオキシ基と称する。)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、複素環基、シリル基、等が挙げられる。
これらの基は、更に組み合わされて複合置換基を形成していてもよい。
A phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (referred to as a phosphonate group), a dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ) “alkyl = alkyl group, hereinafter the same”, a diarylphosphono group ( -PO 3 (aryl) 2 ) “aryl = aryl group, hereinafter the same”, alkylarylphosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkylphosphono group (—PO 3 (alkyl)) and its Conjugated base group (referred to as alkylphosphonate group), monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (referred to as arylphosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2) ) and its conjugated base group (referred to as phosphonatooxy group), dialkylphosphono group (-OPO 3 H (alkyl) 2), diaryl Suhonookishi group (-OPO 3 (aryl) 2) , alkylaryl phosphono group (-OPO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphono group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (Referred to as alkylphosphonatoxy group), monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (referred to as arylphosphonatoxy group), cyano group, nitro group, aryl group Alkenyl group, alkynyl group, heterocyclic group, silyl group, and the like.
These groups may be further combined to form a composite substituent.

11として特に好ましいものは、水素原子、または、メチル基である。 Particularly preferred as R 11 is a hydrogen atom or a methyl group.

12、R13およびR14について説明する。R12、R13およびR14は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、または、アルキリデン基を表し、更に好ましくは、水素原子、アルキル基、を表し、特に好ましくはアルキル基を表す。但し、R12、R13およびR14のうちの一つがアルキリデン基(すなわち、一価の炭化水素基の遊離原子価をもつ炭素原子から更に水素原子を1個除いて誘導される二価の基)を表すとき、Nに置換可能な残りの基は1個となることから、R12、R13およびR14のうちの一つは存在しない。また、R12、R13およびR14は互いに結合して環を形成していてもよい。 R 12 , R 13 and R 14 will be described. R 12 , R 13 and R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group or an alkylidene group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, particularly preferably Represents an alkyl group. Provided that one of R 12 , R 13 and R 14 is an alkylidene group (that is, a divalent group derived by further removing one hydrogen atom from a carbon atom having a free valence of a monovalent hydrocarbon group). ) Represents one remaining group that can be substituted for N, and therefore one of R 12 , R 13, and R 14 does not exist. R 12 , R 13 and R 14 may be bonded to each other to form a ring.

12、R13およびR14がアルキル基を表すとき、好ましい例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、sec−ペンチル基、t−ペンチル基、neo−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、i−ヘキシル基、sec−ヘキシル基、t−ヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロペンチル基、シクロプロピルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロブチルメチル基、直鎖または分岐のヘプチル基、シクロペンチルエチル基、直鎖または分岐のオクチル基、直鎖または分岐のノニル基、直鎖または分岐のデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基などを挙げることができ、更に好ましい例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、sec−ペンチル基、t−ペンチル基、neo−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、i−ヘキシル基、sec−ヘキシル基、t−ヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、直鎖または分岐のヘプチル基、シクロペンチルエチル基、直鎖または分岐のオクチル基、を挙げることができ、特に好ましい例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、sec−ペンチル基、t−ペンチル基、neo−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、i−ヘキシル基、sec−ヘキシル基、t−ヘキシル基、シクロヘキシル基を挙げることができる。 When R 12 , R 13 and R 14 represent an alkyl group, preferred examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, cyclobutyl group, n-pentyl group, i-pentyl group, sec-pentyl group, t-pentyl group, neo-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, i-hexyl group , Sec-hexyl group, t-hexyl group, cyclohexyl group, cyclohexylmethyl group, cyclopentyl group, cyclopropylmethyl group, cyclohexylmethyl group, cyclobutylmethyl group, linear or branched heptyl group, cyclopentylethyl group, linear or Branched octyl group, linear or branched nonyl group, linear or branched decyl group, dodecyl group, tetradecyl group A syl group, a hexadecyl group, an octadecyl group, an icosyl group, and the like can be mentioned. More preferred examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, a cyclopropyl group, an n-butyl group, i -Butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, cyclobutyl group, n-pentyl group, i-pentyl group, sec-pentyl group, t-pentyl group, neo-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, Examples thereof include i-hexyl group, sec-hexyl group, t-hexyl group, cyclohexyl group, cyclohexylmethyl group, linear or branched heptyl group, cyclopentylethyl group, linear or branched octyl group, and particularly preferable. Examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, cyclopropyl group, n-butyl group i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, cyclobutyl group, n-pentyl group, i-pentyl group, sec-pentyl group, t-pentyl group, neo-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group I-hexyl group, sec-hexyl group, t-hexyl group and cyclohexyl group.

12、R13およびR14で表される基は、置換基を有していてもよい。置換基としては置換可能な任意の基を選択することができるが、好ましい例としては、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、メトキシ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、ビニル基、ジメチルアミノ基、アリール基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などを挙げることができ、更に好ましい例としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、メトキシ基、ヒドロキシル基、ビニル基、ジメチルアミノ基、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などを挙げることができ、特に好ましい例としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、メトキシ基、ヒドロキシル基、ビニル基、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などを挙げることができる。これらの基はさらに同様の置換基で置換されていてもよい。
12、R13およびR14で表される基が置換基を有するときの好ましい例としては、ベンジル基、4−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、2−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル基、3−メトキシベンジル基、2−メトキシベンジル基、4−ジメチルアミノベンジル基、3,5−ジメチルベンジル基、3,4,5−トリメチルベンジル基、4−フェニルベンジル基、4−フェノキシベンジル、などを挙げることができる。
更に好ましい例としては、ベンジル基、4−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、2−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル基、3−メトキシベンジル基、2−メトキシベンジル基、4−ジメチルアミノベンジル基、3,5−ジメチルベンジル基、などを挙げることができる。
特に好ましい例としては、ベンジル基、4−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、2−メチルベンジル基、4−メトキシベンジル基、3−メトキシベンジル基、2−メトキシベンジル基、4−ジメチルアミノベンジル基、などを挙げることができる。
The group represented by R 12 , R 13 and R 14 may have a substituent. As the substituent, any substitutable group can be selected. Preferred examples include trifluoromethyl group, fluoro group, chloro group, bromo group, methoxy group, hydroxyl group, nitro group, vinyl group, dimethyl group. An amino group, an aryl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, etc. can be mentioned, and more preferred examples include a fluoro group, a chloro group, a bromo group, a methoxy group, a hydroxyl group, a vinyl group, a dimethylamino group, and a phenyl group. Methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group and the like, and particularly preferred examples include fluoro group, chloro group, bromo group, methoxy group, hydroxyl group, vinyl group, phenyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc. Can be mentioned. These groups may be further substituted with the same substituent.
Preferred examples of the group represented by R 12 , R 13 and R 14 having a substituent include a benzyl group, a 4-methylbenzyl group, a 3-methylbenzyl group, a 2-methylbenzyl group, and 4-methoxybenzyl. Group, 3-methoxybenzyl group, 2-methoxybenzyl group, 4-dimethylaminobenzyl group, 3,5-dimethylbenzyl group, 3,4,5-trimethylbenzyl group, 4-phenylbenzyl group, 4-phenoxybenzyl, And so on.
Further preferred examples include benzyl group, 4-methylbenzyl group, 3-methylbenzyl group, 2-methylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 3-methoxybenzyl group, 2-methoxybenzyl group, 4-dimethylaminobenzyl. Group, 3,5-dimethylbenzyl group, and the like.
Particularly preferred examples include benzyl group, 4-methylbenzyl group, 3-methylbenzyl group, 2-methylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 3-methoxybenzyl group, 2-methoxybenzyl group, 4-dimethylaminobenzyl. Group, and the like.

12、R13およびR14で表される基は、全て同一でも、全て異なっていても、3つのうち二つが同一でもよく、任意の組合せを選択できる。R12、R13およびR14はいずれも好ましくは炭素数1〜20、更に好ましくは炭素数1〜10、特に好ましくは炭素数1〜8のアルキル基であることが好ましい。R12、R13およびR14はすべて同一であっても、異なっていてもよい。 The groups represented by R 12 , R 13 and R 14 may be the same or different, or two of the three may be the same, and any combination can be selected. R 12 , R 13 and R 14 are all preferably alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 8 carbon atoms. R 12 , R 13 and R 14 may all be the same or different.

本発明において、R12、R13およびR14で表される基の好ましい組合せの例としては、(メチル基、メチル基、および、メチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、エチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、プロピル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、イソプロピル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、ブチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、イソブチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、ペンチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、ヘキシル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、ベンジル基の組合せ)(エチル基、エチル基、および、メチル基の組合せ)、(エチル基、エチル基、および、メチル基の組合せ)、(エチル基、エチル基、および、エチル基の組合せ)、(エチル基、エチル基、および、プロピル基の組合せ)、(エチル基、エチル基、および、イソプロピル基の組合せ)、(エチル基、エチル基、および、ブチル基の組合せ)、(エチル基、エチル基、および、イソブチル基の組合せ)、(エチル基、エチル基、および、ペンチル基の組合せ)、(エチル基、エチル基、および、ヘキシル基の組合せ)、(エチル基、エチル基、および、ベンジル基の組合せ)などを挙げることができる。
12、R13およびR14で表される基の更に好ましい組合せの例としては、(メチル基、メチル基、および、メチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、エチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、プロピル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、イソプロピル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、ブチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、イソブチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、ペンチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、ヘキシル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、ベンジル基の組合せ)などを挙げることができる。
12、R13およびR14で表される基の特に好ましい組合せの例としては、(メチル基、メチル基、および、メチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、エチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、プロピル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、イソプロピル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、ブチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、イソブチル基の組合せ)、(メチル基、メチル基、および、ペンチル基の組合せ)などを挙げることができる。
In the present invention, examples of preferable combinations of groups represented by R 12 , R 13 and R 14 include (methyl group, methyl group, and methyl group combination), (methyl group, methyl group, and ethyl group). Group combination), (combination of methyl group, methyl group, and propyl group), (combination of methyl group, methyl group, and isopropyl group), (combination of methyl group, methyl group, and butyl group), (Combination of methyl group, methyl group, and isobutyl group), (combination of methyl group, methyl group, and pentyl group), (combination of methyl group, methyl group, and hexyl group), (methyl group, methyl group) Group and benzyl group) (ethyl group, ethyl group and methyl group combination), (ethyl group, ethyl group and methyl group combination), (ethyl group, ethyl group, And combinations of ethyl groups), (combination of ethyl groups, ethyl groups, and propyl groups), (combination of ethyl groups, ethyl groups, and isopropyl groups), (ethyl groups, ethyl groups, and butyl groups) Combination), (ethyl group, ethyl group, and isobutyl group combination), (ethyl group, ethyl group, and pentyl group combination), (ethyl group, ethyl group, and hexyl group combination), (ethyl A combination of a group, an ethyl group, and a benzyl group).
Examples of further preferred combinations of the groups represented by R 12 , R 13 and R 14 include (a combination of methyl group, methyl group and methyl group), (a combination of methyl group, methyl group and ethyl group) ), (Combination of methyl, methyl and propyl), (combination of methyl, methyl and isopropyl), (combination of methyl, methyl and butyl), (methyl) , Methyl group and isobutyl group), (methyl group, methyl group and pentyl group combination), (methyl group, methyl group and hexyl group combination), (methyl group, methyl group and And a combination of benzyl groups).
Examples of particularly preferred combinations of the groups represented by R 12 , R 13 and R 14 include (combination of methyl group, methyl group and methyl group), (combination of methyl group, methyl group and ethyl group) ), (Combination of methyl, methyl and propyl), (combination of methyl, methyl and isopropyl), (combination of methyl, methyl and butyl), (methyl) , A combination of methyl group and isobutyl group), (a combination of methyl group, methyl group and pentyl group).

12、R13およびR14がアリール基、または複素環基を表すとき、好ましい例としては、それぞれ前述のR11の好ましい例を挙げることができる。 When R 12 , R 13 and R 14 represent an aryl group or a heterocyclic group, preferred examples of R 11 described above can be given as preferred examples.

12、R13およびR14がアルキリデン基(すなわち、一価の炭化水素基の遊離原子価をもつ炭素原子から更に水素原子を1個除いて誘導される二価の基)を表すとき、好ましい例としてはメチレン、エチレン、プロピレン、などを挙げることができる。より好ましくは、Nに置換可能な残りの基と結合して環を形成している例(ピリジニウム、ピラジニウム、チアゾリニウム、イミダゾリウム、オキサゾリニウム、インドリニウム、イソインドリニウム、ベンゾイミダゾリニウムなど)を挙げることができる。 Preferred when R 12 , R 13 and R 14 represent an alkylidene group (that is, a divalent group derived by removing one hydrogen atom from a carbon atom having the free valence of a monovalent hydrocarbon group). Examples include methylene, ethylene, propylene, and the like. More preferably, examples in which a ring is formed by bonding to the remaining group capable of substituting N (pyridinium, pyrazinium, thiazolinium, imidazolium, oxazolinium, indolinium, isoindolinium, benzoimidazolinium, etc.) are given. be able to.

12、R13およびR14が互いに結合して環を形成している例としては、上述のR12、R13およびR14のうちの一つがアルキリデン基であるときに形成される含窒素複素環ならびに、ピロリジニウム、イミダゾリジニウム、ピペリジニウム、ピペラジニウム、モルホリニウム、インドリニウムなどを挙げることができる。 As an example in which R 12 , R 13 and R 14 are bonded to each other to form a ring, the nitrogen-containing complex formed when one of R 12 , R 13 and R 14 described above is an alkylidene group. Examples of the ring include pyrrolidinium, imidazolidinium, piperidinium, piperazinium, morpholinium, and indolinium.

1について説明する。L1は単結合または二価の連結基を表す。
1が二価の連結基である場合、1から60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、および0個から20個までの硫黄原子から構成されるものであることが好ましい。
より具体的には、下記の2価の基、または、これらが適宜組み合わされて構成される基を挙げることができる。
L 1 will be described. L 1 represents a single bond or a divalent linking group.
When L 1 is a divalent linking group, 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms , And 0 to 20 sulfur atoms.
More specifically, the following divalent groups or groups formed by appropriately combining these groups can be exemplified.

Figure 2010084046
Figure 2010084046

1で表される2価の連結基のより好ましい例としては、下記構造式で表される2価の基を挙げることができる。 More preferable examples of the divalent linking group represented by L 1 include divalent groups represented by the following structural formulas.

Figure 2010084046
Figure 2010084046

-について説明する。X-は電荷を中和するに必要な対イオンを表す。
-としては、ハロゲン化物イオン(F-、Cl-、Br-、I-)、炭素数1〜100のカルボン酸イオン、炭素数1〜100のアルキルスルホン酸イオン、炭素数6〜100のアリールスルホン酸イオン、炭素数1〜100のアルキル硫酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、亜硫酸イオン、亜硫酸水素イオン、リン酸イオン、リン酸水素イオン、炭素数1〜100のアルキルリン酸イオン、炭素数6〜100のアリールリン酸イオン、炭素数1〜100のアルキルホスホン酸イオン、炭素数6〜100のアリールホスホン酸イオン、水酸化物イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、PF6 -、BF4 -、B(C654 -、およびこれらの組合せが好ましく、
ハロゲン化物イオン(F-、Cl-、Br-)、炭素数1〜70のカルボン酸イオン、炭素数1〜70のアルキルスルホン酸イオン、炭素数6〜70のアリールスルホン酸イオン、炭素数1〜70のアルキル硫酸イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、炭素数1〜70のアルキルリン酸イオン、炭素数1〜70のアルキルホスホン酸イオン、炭素数6〜70のアリールホスホン酸イオン、PF6 -、BF4 -、およびこれらの組合せが更に好ましく、炭素数1〜50のカルボン酸イオン、炭素数1〜50のアルキルスルホン酸イオン、炭素数6〜50のアリールスルホン酸イオン、炭素数1〜50のアルキル硫酸イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、炭素数1〜50のアルキルリン酸イオン、炭素数1〜50のアルキルホスホン酸イオン、炭素数6〜50のアリールホスホン酸イオン、PF6 -、BF4 -、およびこれらの組合せが特に好ましい。
X - will be described. X represents a counter ion necessary for neutralizing the electric charge.
X includes a halide ion (F , Cl , Br , I ), a carboxylate ion having 1 to 100 carbon atoms, an alkyl sulfonate ion having 1 to 100 carbon atoms, and an aryl having 6 to 100 carbon atoms. Sulfonate ion, C1-C100 alkyl sulfate ion, sulfate ion, hydrogen sulfate ion, sulfite ion, hydrogen sulfite ion, phosphate ion, hydrogen phosphate ion, C1-C100 alkyl phosphate ion, carbon number 6-100 aryl phosphate ions, C1-C100 alkyl phosphonate ions, C 6-100 aryl phosphonate ions, hydroxide ions, carbonate ions, bicarbonate ions, PF 6 , BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , and combinations thereof are preferred,
Halide ion (F , Cl , Br ), C 1 -70 carboxylate ion, C 1 -70 alkyl sulfonate ion, C 6 -70 aryl sulfonate ion, C 1 -C 1 70 alkyl sulfate ions, sulfate ions, phosphate ions, alkyl phosphate ions having 1 to 70 carbon atoms, alkyl phosphonate ions having 1 to 70 carbon atoms, aryl phosphonate ions having 6 to 70 carbon atoms, PF 6 , BF 4 , and a combination thereof are more preferable, a carboxylic acid ion having 1 to 50 carbon atoms, an alkyl sulfonic acid ion having 1 to 50 carbon atoms, an aryl sulfonic acid ion having 6 to 50 carbon atoms, and 1 to 50 carbon atoms. Alkyl sulfate ion, sulfate ion, phosphate ion, alkyl phosphate ion having 1 to 50 carbon atoms, alkyl phosphonate ion having 1 to 50 carbon atoms, carbon number Particularly preferred are 6 to 50 arylphosphonate ions, PF 6 , BF 4 , and combinations thereof.

-がカルボン酸イオン、アルキルスルホン酸イオン、アリールスルホン酸イオン、アルキル硫酸イオン、アルキルリン酸イオン、アルキルホスホン酸イオン、アリールホスホン酸イオン、を表すとき、好ましい例としては、以下のものを挙げることができる。ただし、これらに限定されるものではない。 When X represents a carboxylate ion, an alkyl sulfonate ion, an aryl sulfonate ion, an alkyl sulfate ion, an alkyl phosphate ion, an alkyl phosphonate ion, or an aryl phosphonate ion, preferred examples include the following. be able to. However, it is not limited to these.

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

本発明の製造方法で得られるポリマーが有する、アンモニウム構造を有する繰り返し単位は、下記一般式(6)、(7)または(8)で表される構造を有することが更に好ましい。   The repeating unit having an ammonium structure contained in the polymer obtained by the production method of the present invention more preferably has a structure represented by the following general formula (6), (7) or (8).

Figure 2010084046
Figure 2010084046

一般式(6)、(7)および(8)中、R11、R12、R13、R14ならびにX-は、一般式(1)中のR11、R12、R13、R14ならびにX-と同義である。また、Lは、一般式(1)中のL1と同義である。 Formula (6), (7) and (8) in, R 11, R 12, R 13, R 14 and X - is, R 11 in the general formula (1) in, R 12, R 13, R 14 and X - as synonymous. Further, L is the same meaning as L 1 in the general formula (1).

〔一般式(2)で表されるモノマー(2)〕
一般式(1)で表されるモノマー(1)において、R21は水素原子または置換基を表す。R22は置換基を表す。
21の好ましい例としては、一般式(1)におけるR11の好ましい例を挙げることができる。R22の好ましい例としては、エステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基、またはアリール基が挙げられる。なかでも、エステル基、アミド基、または置換基を有してよいフェニル基が好ましい。
フェニル基の置換基としては、一般式(1)のR12〜R14の置換基として挙げたもの、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アセトキシメチル基などが挙げられる。また、フェニル基の置換基がさらに置換基を有してもよい。
[Monomer (2) Represented by General Formula (2)]
In the monomer (1) represented by the general formula (1), R 21 represents a hydrogen atom or a substituent. R 22 represents a substituent.
Preferred examples of R 21 include the preferred examples of R 11 in general formula (1). Preferable examples of R 22 include an ester group, an amide group, a cyano group, a hydroxy group, or an aryl group. Of these, an ester group, an amide group, or a phenyl group which may have a substituent is preferable.
Examples of the substituent for the phenyl group include those listed as the substituents for R 12 to R 14 in the general formula (1), alkyl groups, aralkyl groups, alkoxy groups, acetoxymethyl groups, and the like. Moreover, the substituent of the phenyl group may further have a substituent.

一般式(2)で表されるモノマー(2)としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、N−置換アクリルアミド類、N−置換メタクリルアミド類、N,N−2置換アクリルアミド類、N,N−2置換メタクリルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などが挙げられる。好ましくは、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、N−置換アクリルアミド類、N−置換メタクリルアミド類、N,N−2置換アクリルアミド類、N,N−2置換メタクリルアミド類、スチレン類、などが挙げられる。   Examples of the monomer (2) represented by the general formula (2) include acrylic acid esters, methacrylic acid esters, acrylamides, methacrylamides, N-substituted acrylamides, N-substituted methacrylamides, N, Examples thereof include N-2 substituted acrylamides, N, N-2 substituted methacrylamides, styrenes, acrylonitriles, methacrylonitriles and the like. Preferably, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, N-substituted acrylamides, N-substituted methacrylamides, N, N-2 substituted acrylamides, N, N-2 substituted methacrylamides And styrenes.

具体的には、例えば、アルキルアクリレート(該アルキル基の炭素原子数は1〜20のものが好ましい)等のアクリル酸エステル類、(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−t−オクチル、クロルエチルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど)、アリールアクリレート(例えば、フェニルアクリレートなど)、アルキルメタクリレート(該アルキル基の炭素原子は1〜20のものが好ましい)等のメタクリル酸エステル類(例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど)、アリールメタクリレート(例えば、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど)、スチレン、アルキルスチレン等のスチレン(例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキシスチレン(例えば、メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲンスチレン(例えば、クロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フルオル−3−トリフルオルメチルスチレンなど)、アクリロニトリル、メタクリロニトリルアクリル酸、カルボン酸を含有するラジカル重合性化合物(アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、p−カルボキシルスチレン、およびこれらの酸基の金属塩、アンモニウム塩化合物等)が挙げられる。   Specifically, for example, acrylic esters such as alkyl acrylate (the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms), (for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, acrylic acid) Butyl, amyl acrylate, ethyl hexyl acrylate, octyl acrylate, tert-octyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate Glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, etc.), aryl acrylate (eg phenyl Methacrylic acid esters (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl) such as alkyl methacrylate (the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms). Methacrylate, benzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate, Furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl meta Relates, etc.), aryl methacrylates (eg, phenyl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, etc.), styrenes such as styrene, alkyl styrene (eg, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl) Styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, etc.), alkoxy styrene (for example, methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene, Dimethoxystyrene), halogen styrene (eg, chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene) , Tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethylstyrene, 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene, etc.) , Acrylonitrile, methacrylonitrile acrylic acid, radically polymerizable compounds containing carboxylic acid (acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, p-carboxylstyrene, and metal salts of these acid groups, ammonium salt compounds, etc.) .

また、一般式(2)には、ポリアルキレンオキシ基を分子内に有していることが好ましい。ポリアルキレンオキシ基の例としては、-O-(CH2CH2-O-)n-R23、-O-(CH(CH3)CH2-O-)n -R23、-O-(CH2CH(CH3)-O-)n -R23、で表される基が例示される。ここで、nは好ましくは1〜10、より好ましくは1〜6、更に好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の数を示す。ここにおいて、nは単一であっても複数の種類の混合物であってもよく、混合物である場合、nは平均値を表す。また、R23は好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜20、更に好ましくは炭素数1〜10、特に好ましくは炭素数1〜10の置換基を表す。
23の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、sec−ペンチル基、t−ペンチル基、neo−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、i−ヘキシル基、sec−ヘキシル基、t−ヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロペンチル基、シクロプロピルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロブチルメチル基、直鎖または分岐のヘプチル基、シクロペンチルエチル基、直鎖または分岐のオクチル基、直鎖または分岐のノニル基、直鎖または分岐のデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基などを挙げることができ、更に好ましい例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、シクロブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、sec−ペンチル基、t−ペンチル基、neo−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、i−ヘキシル基、sec−ヘキシル基、t−ヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、直鎖または分岐のヘプチル基、シクロペンチルエチル基、直鎖または分岐のオクチル基、を挙げることができ、特に好ましい例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、n−ヘキシル基、直鎖または分岐のオクチル基、を挙げることができる。
Moreover, it is preferable that the general formula (2) has a polyalkyleneoxy group in the molecule. Examples of polyalkyleneoxy groups include -O- (CH 2 CH 2 -O-) n -R 23 , -O- (CH (CH 3 ) CH 2 -O-) n -R 23 , -O- ( A group represented by CH 2 CH (CH 3 ) —O—) n —R 23 is exemplified. Here, n is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, still more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 to 2. Here, n may be single or a mixture of a plurality of types, and in the case of a mixture, n represents an average value. R 23 preferably represents a substituent having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms.
Examples of R 23 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, cyclobutyl group, n-pentyl group, i-pentyl group, sec-pentyl group, t-pentyl group, neo-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, i-hexyl group, sec-hexyl group, t-hexyl group, cyclohexyl group Cyclohexylmethyl group, cyclopentyl group, cyclopropylmethyl group, cyclohexylmethyl group, cyclobutylmethyl group, linear or branched heptyl group, cyclopentylethyl group, linear or branched octyl group, linear or branched nonyl group, Linear or branched decyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, icosi And more preferable examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t -Butyl group, cyclobutyl group, n-pentyl group, i-pentyl group, sec-pentyl group, t-pentyl group, neo-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, i-hexyl group, sec-hexyl group, Examples thereof include a t-hexyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexylmethyl group, a linear or branched heptyl group, a cyclopentylethyl group, a linear or branched octyl group, and particularly preferable examples include a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, n-hexyl group, linear or branched Octyl, and the like.

〔その他の共重合モノマー〕
本発明のポリマーの製造方法においては、前記モノマー(1)およびモノマー(2)以外に、平版印刷版原版の画像強度などの諸性能を向上させる目的で、本発明の効果を損なわない限りにおいて、さらに、その他のモノマーを共重合させても良い。共重合させるその他のモノマーとしては、例えば、重合性基を有する共重合モノマーなどが挙げられる。
[Other copolymerization monomers]
In the method for producing a polymer of the present invention, in addition to the monomer (1) and the monomer (2), in order to improve various performances such as image strength of a lithographic printing plate precursor, the effects of the present invention are not impaired. Furthermore, other monomers may be copolymerized. Examples of the other monomer to be copolymerized include a copolymerizable monomer having a polymerizable group.

<重合性基を有する共重合モノマー>
重合性基を有する共重合モノマーとしては、共重合に関与する重合性基の他にエチレン性不飽和基を有するものが挙げられる。
ここでいうエチレン性不飽和基とは、置換または無置換のエチレン基を有する既知の任意の基を表し、好ましい例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、アリル基、ビニル基、アクリロニトリル基、メタクリロニトリル基、マレイン酸構造、マレイミド構造、シンナム酸構造などを挙げることができる。
エチレン性不飽和基とモノマー本体との間は、任意の連結基を介して結合していてもよいが、好ましい例として、一般式(1)のL1で表される連結基を挙げることができる。
<Copolymerized monomer having a polymerizable group>
Examples of the copolymerizable monomer having a polymerizable group include those having an ethylenically unsaturated group in addition to the polymerizable group involved in the copolymerization.
The ethylenically unsaturated group as used herein represents a known arbitrary group having a substituted or unsubstituted ethylene group, and preferred examples include acryloyl group, methacryloyl group, styryl group, allyl group, vinyl group, acrylonitrile group. Methacrylonitrile group, maleic acid structure, maleimide structure, cinnamic acid structure and the like.
The ethylenically unsaturated group and the monomer main body may be bonded via an arbitrary linking group, but a preferable example is a linking group represented by L 1 in the general formula (1). it can.

重合性基を有する共重合モノマーがエチレン性不飽和基を有しているとき、該エチレン性不飽和基は、下記、一般式(3)で表される構造を有することが好ましい。   When the copolymerizable monomer having a polymerizable group has an ethylenically unsaturated group, the ethylenically unsaturated group preferably has a structure represented by the following general formula (3).

Figure 2010084046
Figure 2010084046

一般式(3)中、R31〜R33は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。X1およびY1は、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基を表す。Zは、下記一般式(4)または一般式(5)で表される連結基を表す。一般式(4)中、R41〜R45は、それぞれ独立に、水素原子または1価の置換基を表す。一般式(5)中、R51〜R56は、それぞれ独立に、水素原子または1価の置換基を表す。AおよびBは、それぞれ独立に、水素原子または1価の置換基を表す。ただし、AおよびBの少なくとも一方はヒドロキシル基である。 In General Formula (3), R 31 to R 33 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. X 1 and Y 1 each independently represents a single bond or a divalent linking group. Z represents a linking group represented by the following general formula (4) or general formula (5). In the general formula (4), R 41 to R 45 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. In General Formula (5), R 51 to R 56 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. A and B each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. However, at least one of A and B is a hydroxyl group.

Figure 2010084046
Figure 2010084046

一般式(3)のR31〜R33で表される置換基は、置換可能な基であれば任意のものであってよいが、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、シリル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、スルホ基、置換スルホニル基、スルホナト基、置換スルフィニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基などを好ましい例として挙げることができる。 The substituent represented by R 31 to R 33 in the general formula (3) may be any substituent as long as it is a substitutable group, but is a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom). , Amino group, substituted amino group, substituted carbonyl group, substituted oxy group, mercapto group, substituted thio group, silyl group, nitro group, cyano group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, sulfo group Preferred examples include a substituted sulfonyl group, a sulfonate group, a substituted sulfinyl group, a phosphono group, a substituted phosphono group, a phosphonato group, and a substituted phosphonato group.

31〜R33の更に好ましい例としては、一般式(1)におけるR11の好ましい例を挙げることができる。
31として特に好ましくは水素原子、または、メチル基であり、R32、R33として特に好ましくは水素原子である。
More preferred examples of R 31 to R 33 include preferred examples of R 11 in the general formula (1).
R 31 is particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group, and R 32 and R 33 are particularly preferably a hydrogen atom.

一般式(3)において、X1は、共重合モノマー本体とZで表される基との連結基を表す。X1およびY1の好ましい例としては、一般式(1)におけるL1の好ましい例を挙げることができる。 In the general formula (3), X 1 represents a linking group between the copolymer monomer main body and the group represented by Z. Preferable examples of X 1 and Y 1 include preferred examples of L 1 in the general formula (1).

一般式(4)および一般式(5)のR41〜R45およびR51〜R56の好ましい例としては、一般式(1)におけるR11の好ましい例を挙げることができる。更に好ましくは、水素原子、および、アルキル基であり、特に好ましくは、水素原子、および、炭素原子数6以下のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロヘキシル基など)である。 Preferable examples of R 41 to R 45 and R 51 to R 56 in the general formula (4) and the general formula (5) include preferable examples of R 11 in the general formula (1). More preferably, they are a hydrogen atom and an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom and an alkyl group having 6 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, Isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, cyclohexyl group, etc.).

一般式(5)のAおよびBは、特に好ましくは一方がヒドロキシル基であり、もう一方が水素原子である。   One of A and B in the general formula (5) is particularly preferably a hydroxyl group and the other is a hydrogen atom.

以下に、エチレン性不飽和基を側鎖に有する構造の好ましい例を挙げるが、これらに限定されるものではない。   Although the preferable example of the structure which has an ethylenically unsaturated group in a side chain below is given, it is not limited to these.

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

本発明のポリマーの製造方法において、モノマー(1)とモノマー(2)の重合比率は特に限定されないが、好ましくはモル比で1:99〜99:1、より好ましくは5:95〜95:5、さらに好ましくは、5:95〜80:20、さらにより好ましくは10:90〜50:50、特に好ましくは20:80〜40:60である。これらの範囲で、平版印刷版原版に適用した場合、耐刷性を維持しつつ、着肉性と機上現像性に優れる効果が顕著である。
また、エチレン性不飽和基を側鎖に有する共重合性モノマーの重合比率は、アンモニウム構造を有するモノマー(1)とモノマー(2)との合計に対して、好ましくはモル比で1:99〜50:50、より好ましくは1:99〜30:70、より好ましくは、1:99〜20:80である。これらの範囲で、平版印刷版原版に適用した場合、着肉性と機上現像性に優れる効果が顕著であるとともに、耐刷性を向上することが可能である。
In the method for producing a polymer of the present invention, the polymerization ratio of the monomer (1) and the monomer (2) is not particularly limited, but is preferably 1:99 to 99: 1, more preferably 5:95 to 95: 5 in molar ratio. More preferably, it is 5:95 to 80:20, still more preferably 10:90 to 50:50, and particularly preferably 20:80 to 40:60. Within these ranges, when applied to a lithographic printing plate precursor, the effects of excellent inking properties and on-press developability are remarkable while maintaining printing durability.
The polymerization ratio of the copolymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group in the side chain is preferably 1:99 to a total of the monomer (1) and the monomer (2) having an ammonium structure in a molar ratio. The ratio is 50:50, more preferably 1:99 to 30:70, and more preferably 1:99 to 20:80. Within these ranges, when applied to a lithographic printing plate precursor, the effects of excellent inking properties and on-press developability are remarkable, and printing durability can be improved.

本発明のポリマーの製造方法では、本発明の効果を確保できる範囲内で、更に、他の共重合モノマーを共重合させてもよい。本発明で用いることができる他の共重合モノマーとしては、二元以上の共重合が可能であれば特に限定されないが、クロトン酸、マレイン酸、(無水)マレイン酸、部分エステル化マレイン酸、部分アミド化マレイン酸、ビニル基を有する芳香族炭化水素環類、ビニル基を有するヘテロ芳香族環類(ビニルイミダゾール、ビニルトリアゾール、ビニルカルバゾール類、ビニルピロリドンなど)、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)クロトンニトリル、各種ベンゾイルオキシエチレン類、各種アセトキシエチレン類、ビニルケトン類、ビニルエーテル類などが挙げられる。
共重合するモノマーの種類数は特には限定されないが、0〜12種が好ましく、0〜8種がより好ましく、0〜5種が特に好ましい。
In the method for producing a polymer of the present invention, another copolymerization monomer may be further copolymerized within a range in which the effect of the present invention can be secured. Other copolymerization monomers that can be used in the present invention are not particularly limited as long as two or more copolymerizations are possible, but crotonic acid, maleic acid, (anhydrous) maleic acid, partially esterified maleic acid, partial Amidated maleic acid, aromatic hydrocarbon rings having vinyl groups, heteroaromatic rings having vinyl groups (vinyl imidazole, vinyl triazole, vinyl carbazoles, vinyl pyrrolidone, etc.), (meth) acrylonitrile, (meth) croton Nitriles, various benzoyloxyethylenes, various acetoxyethylenes, vinyl ketones, vinyl ethers and the like can be mentioned.
Although the number of types of monomers to be copolymerized is not particularly limited, 0 to 12 types are preferable, 0 to 8 types are more preferable, and 0 to 5 types are particularly preferable.

本発明の製造方法で得られるポリマーは、下記の測定方法で求められる還元比粘度(単位:CSt/g/ml)の値で、5〜120の範囲のものが好ましく、10〜110の範囲のものががより好ましく、15〜100の範囲のものが特に好ましい。   The polymer obtained by the production method of the present invention has a reduced specific viscosity (unit: CSt / g / ml) determined by the following measurement method, preferably in the range of 5 to 120, and in the range of 10 to 110. More preferably, the thing of the range of 15-100 is especially preferable.

−還元比粘度の測定方法−
30%ポリマー溶液(重合溶剤の30%溶液)3.33g(固形分として1g)を、20mlのメスフラスコに秤量し、N−メチルピロリドンでメスアップする。この溶液をウベローデ還元粘度管(粘度計定数=0.010cSt/s)に入れ、30℃にて流れ落ちる時間を測定し、計算式(「動粘度」=「粘度計定数」×「液体が細管を通る時間(秒)」)を用いて定法により算出した。
-Measurement method of reduced specific viscosity-
A 33% polymer solution (30% solution of a polymerization solvent) (3.33 g, 1 g as a solid content) is weighed into a 20 ml volumetric flask and diluted with N-methylpyrrolidone. This solution is put in an Ubbelohde reduced viscosity tube (viscosity constant = 0.010 cSt / s), and the time to flow down at 30 ° C. is measured. The calculation formula (“kinematic viscosity” = “viscosity constant” × “ Time of passage (second) ") was calculated by a conventional method.

本発明の製造方法で得られるポリマーの2種以上を、平版印刷版原版に含有させてもよい。
本発明の製造方法で得られるポリマー(以下、「本発明の特定ポリマー」とも称する)は、平版印刷版原版の画像記録層および保護層の少なくとも一方に含有される。また、画像記録層および保護層の両方に含有されてもよい。またさらに、画像記録層および/または保護層に加えて下塗り層にも含有されてもよい。
Two or more kinds of polymers obtained by the production method of the present invention may be contained in the lithographic printing plate precursor.
The polymer obtained by the production method of the present invention (hereinafter also referred to as “specific polymer of the present invention”) is contained in at least one of the image recording layer and the protective layer of the lithographic printing plate precursor. Further, it may be contained in both the image recording layer and the protective layer. Furthermore, it may be contained in the undercoat layer in addition to the image recording layer and / or the protective layer.

本発明の特定ポリマーの含有量は、含有する層の全固形分に対して0.0005質量%〜30.0質量%が好ましく、0.001質量%〜20.0質量%がより好ましく、0.002質量%〜15.0質量%が最も好ましい。この範囲で、良好な着肉性が得られる。   The content of the specific polymer of the present invention is preferably 0.0005% by mass to 30.0% by mass, more preferably 0.001% by mass to 20.0% by mass with respect to the total solid content of the layer to be contained. 0.002% by mass to 15.0% by mass is most preferable. Within this range, good inking properties can be obtained.

以下に、本発明の特定ポリマーの具体例を示すが、本発明の特定ポリマーは、下記の例に限定されるわけではなく、印刷版原版作製のための塗布液成分との組合せで、適宜、構造および添加量を変化させて用いることができる。   Specific examples of the specific polymer of the present invention are shown below, but the specific polymer of the present invention is not limited to the following examples, and in combination with a coating liquid component for preparing a printing plate precursor, The structure and the amount added can be changed.

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

本発明の製造方法で得られたポリマーを適用できる平版印刷版原版(以下、単に「本発明の平版印刷版原版」とも称する)としては、特に限定されないが、支持体上に画像記録層および保護層をこの順に有し、層状化合物を保護層に含有するものが好ましく、該ポリマーは、画像記録層および保護層の少なくとも一方に含有される。   The lithographic printing plate precursor to which the polymer obtained by the production method of the present invention can be applied (hereinafter, also simply referred to as “the lithographic printing plate precursor of the present invention”) is not particularly limited, but an image recording layer and a protective layer on a support. Those having layers in this order and containing a layered compound in the protective layer are preferred, and the polymer is contained in at least one of the image recording layer and the protective layer.

〔保護層〕
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層の上に保護層(オーバーコート層)を有する。保護層は酸素遮断によって画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層での傷の発生防止、高照度レーザー露光時のアブレーション防止などの機能も有する。以下、保護層成分等について説明する。
[Protective layer]
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a protective layer (overcoat layer) on the image recording layer. In addition to the function of suppressing the image formation inhibition reaction by blocking oxygen, the protective layer also has functions such as preventing scratches in the image recording layer and preventing ablation during high-illuminance laser exposure. Hereinafter, the protective layer components and the like will be described.

通常、平版印刷版の露光処理は大気中で実施する。露光処理によって生じる画像記録層中での画像形成反応は、大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物によって阻害され得る。保護層は、この酸素、塩基性物質等の低分子化合物が画像記録層へ混入することを防止し、結果として大気中での画像形成阻害反応を抑制する。従って、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性を低くすることであり、さらに、露光に用いられる光の透過性が良好で、画像記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものである。このような特性を有する保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書および特公昭55−49729号公報に記載されている。   Usually, the exposure processing of a lithographic printing plate is carried out in the atmosphere. The image forming reaction in the image recording layer caused by the exposure process can be inhibited by low molecular compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere. The protective layer prevents low molecular compounds such as oxygen and basic substances from entering the image recording layer, and as a result, suppresses image formation inhibition reaction in the air. Therefore, the property desired for the protective layer is to reduce the permeability of low-molecular compounds such as oxygen, and furthermore, the transparency of light used for exposure is good, and the adhesiveness with the image recording layer is excellent. And it can be easily removed in an on-press development process after exposure. The protective layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

本発明の平版印刷版原版の保護層としては、特開2007−50660号公報や特開2008−191468号公報等に記載の公知の技術を適宜適用できる。   As the protective layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, known techniques described in JP2007-50660A, JP2008-191468A, and the like can be appropriately applied.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/m2の範囲であることが好ましく、0.02〜3g/m2の範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/m2の範囲である。 The coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, and most preferably 0. It is in the range of 02 to 1 g / m 2 .

〔画像記録層〕
本発明の画像記録層は、(A)増感色素、(B)重合開始剤、および(C)重合性モノマーを含有することが好ましく、レーザー、特に赤外線レーザーまたは青色レーザーで画像記録が可能であるものが好ましい。
さらに、本発明の画像記録層は、これらの要素の他に、必要に応じて他の成分を含有することができる。
以下、これらの画像記録層構成成分および画像記録層の形成について説明する。
(Image recording layer)
The image recording layer of the present invention preferably contains (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable monomer, and can record an image with a laser, particularly an infrared laser or a blue laser. Some are preferred.
Furthermore, the image recording layer of the present invention can contain other components in addition to these elements as required.
Hereinafter, formation of these image recording layer constituent components and the image recording layer will be described.

<(A)増感色素>
本発明の画像記録層に含有される増感色素としては、300〜1200nmに吸収ピークを有するものが好ましく、360〜850nmに吸収ピークを有するものがさらに好ましい。このような増感色素としては、分光増感色素、光源の光を吸収して重合開始剤と相互作用する以下に示す染料あるいは顔料が挙げられる。
<(A) Sensitizing dye>
As the sensitizing dye contained in the image recording layer of the present invention, those having an absorption peak at 300 to 1200 nm are preferable, and those having an absorption peak at 360 to 850 nm are more preferable. Examples of such sensitizing dyes include spectral sensitizing dyes and the following dyes or pigments that absorb light from a light source and interact with a polymerization initiator.

好ましい分光増感色素または染料としては、多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロラン、ローダミンB、ローズベンガル)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、チアジン類(例えば、チオエン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン)、ポルフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン)、クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル)、金属錯体、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スタアリウム類(例えば、スタアリウム)等が挙げられる。   Preferred spectral sensitizing dyes or dyes include polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrolan, rhodamine B, rose bengal), cyanines (eg, thianes). Carbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg, merocyanine, carbomerocyanine), thiazines (eg, thioene, methylene blue, toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), phthalocyanines ( For example, phthalocyanine, metal phthalocyanine), porphyrins (for example, tetraphenylporphyrin, central metal-substituted porphyrin), chlorophylls (for example, chlorophyll, chlorophyllin, central gold) Substituted chlorophyll), metal complexes, anthraquinones (e.g., anthraquinone), Sutaariumu compound (such as Sutaariumu), and the like.

上記360nm〜450nmの光を吸収する増感色素は、画像記録層全固形分の1.0
〜10.0質量%の範囲で使用されるのが好ましい。より好ましくは1.5〜5.0質量
%の範囲である。
The sensitizing dye that absorbs light of 360 nm to 450 nm is 1.0% of the total solid content of the image recording layer.
It is preferably used in the range of ˜10.0% by mass. More preferably, it is the range of 1.5-5.0 mass%.

<(B)重合開始剤>
本発明に用いられる重合開始剤としては、光、熱あるいはその両方のエネルギーにより
ラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物を示
す。本発明に使用できる重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギー
の小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができ、本発明において
好適に用いられるラジカルを発生する化合物は、熱エネルギーによりラジカルを発生し、
重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。本発明に係
る熱ラジカル発生剤としては、公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有
する化合物などを、適宜、選択して用いることとができる。また、ラジカルを発生する化
合物は、単独または2種以上を併用して用いることができる。
<(B) Polymerization initiator>
The polymerization initiator used in the present invention is a compound that generates radicals by light, heat, or both, and initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. As the polymerization initiator that can be used in the present invention, a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, or the like can be used, and a radical that is suitably used in the present invention is generated. The compound that generates radicals by thermal energy,
The compound which starts and accelerates | stimulates superposition | polymerization of the compound which has a polymerizable unsaturated group. As the thermal radical generator according to the present invention, a known polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, or the like can be appropriately selected and used. Moreover, the compound which generate | occur | produces a radical can be used individually or in combination of 2 or more types.

ラジカルを発生する化合物としては、例えば、有機ハロゲン化物、カルボニル化合物、
有機過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビ
イミダゾール化合物、有機ホウ酸塩化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物
、オニウム塩化合物、が挙げられる。
Examples of the compound that generates radicals include organic halides, carbonyl compounds,
Examples thereof include organic peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic borate compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, and onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc
Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、
特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開昭55−32070号、特開
昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、
特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、
特開昭63−298339号の各公報、M.P.Hutt“Jurnal of Het
erocyclic Chemistry”1(No3),(1970)」等に記載の化
合物が挙げられ、特に好ましいものとして、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化
合物、s−トリアジン化合物が挙げられる。
Specific examples of the organic halide include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc.
Japan "42, 2924 (1969), U.S. Pat. No. 3,905,815,
JP-B-46-4605, JP-A-48-36281, JP-A-55-32070, JP-A-60-239736, JP-A-61-169835, JP-A-61-169837,
JP-A 62-58241, JP-A 62-212401, JP-A 63-70243,
JP-A-63-298339, M.K. P. Hutt “Journal of Het
The compound described in erocyclic Chemistry "1 (No3), (1970)" etc. is mentioned, As an especially preferable thing, the oxazole compound and s-triazine compound which substituted the trihalomethyl group are mentioned.

重合開始剤としては、上記に限定されないが、特に反応性、安定性の面から、トリアジ
ン系開始剤、有機ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ジアゾニウム塩、ヨードニ
ウム塩、スルホニウム塩がより好ましい。また、これらの中でも赤外線吸収剤との組合せ
で焼き出し画像の視認性向上を図る観点からは、オニウム塩であって、対イオンとして無
機アニオン、例えば、PF6 -、BF4 -など、を有するものが好ましい。さらに、発色に優
れていることから、オニウムとしては、ジアリールヨードニウムが好ましい。
The polymerization initiator is not limited to the above, but a triazine-based initiator, an organic halogen compound, an oxime ester compound, a diazonium salt, an iodonium salt, and a sulfonium salt are more preferable from the viewpoints of reactivity and stability. Among these, from the viewpoint of improving the visibility of the printout image in combination with an infrared absorber, it is an onium salt and has an inorganic anion such as PF 6 , BF 4 or the like as a counter ion. Those are preferred. Furthermore, diaryliodonium is preferred as the onium because of its excellent color development.

これらの重合開始剤は、各々画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%
が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の
割合で添加することができる。この範囲で、良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ
難さが得られる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用し
てもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層
を設けそこに添加してもよい。
These polymerization initiators are each 0.1 to 50% by mass with respect to the total solid content constituting the image recording layer.
More preferably, it is 0.5-30 mass%, More preferably, it can add in the ratio of 0.8-20 mass%. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

<(C)重合性モノマー>
本発明に用いることができる重合性モノマーは、付加重合可能なエチレン性不飽和二重
結合を少なくとも一つ有する化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個
、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野に
おいて広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることがで
きる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴ
マー、またはそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー
およびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、
アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物との
エステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また
、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸
エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類
との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好
適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不
飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミ
ン類、チオール類との付加反応物、さらにハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換
基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコ
ール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記
の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き
換えた化合物群を使用することも可能である。
<(C) Polymerizable monomer>
The polymerizable monomer that can be used in the present invention is a compound having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond, and a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. Chosen from. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof,
Amides are mentioned, and preferably, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

これらの重合性モノマーについて、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法
の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次
のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能
以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上の
ものがよく、さらに、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用すること
で、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、画像記録層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との
相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば
、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また
、基板や後述の保護層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり
得る。
重合性モノマーは、画像記録層中の不揮発性成分に対して、好ましくは5〜80質量%
、さらに好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いて
も2種以上併用してもよい。そのほか、重合性モノマーの使用法は、酸素に対する重合阻
害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、
添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方
法も実施しうる。
About these polymerizable monomers, the details of usage, such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
Further, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the image recording layer. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and the protective layer described later.
The polymerizable monomer is preferably 5 to 80% by mass with respect to the nonvolatile component in the image recording layer.
More preferably, it is used in the range of 25 to 75% by mass. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the polymerizable monomer is determined from the viewpoint of the degree of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface adhesiveness, etc.
The addition amount can be arbitrarily selected, and in some cases, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can also be carried out.

<その他の画像記録層成分>
本発明の画像記録層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができ
る。以下、それらについて説明する。
<Other image recording layer components>
The image recording layer of the present invention can further contain various additives as required. These will be described below.

<1>マイクロカプセルおよびミクロゲル
本発明においては、上記の画像記録層構成成分および後述のその他構成成分を画像記録
層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特
開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗
布する分子分散型画像記録層である。他の一つの態様は、例えば、特開2001−277
740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の全てま
たは一部をマイクロカプセルに内包させて画像記録層に含有させるマイクロカプセル型画
像記録層である。さらに、マイクロカプセル型画像記録層において、該構成成分は、マイ
クロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型画像記録層は
、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外
に含有することが好ましい態様である。
さらに他の態様として、画像記録層に架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態
様が挙げられる。該ミクロゲルは、その中および/または表面に該構成成分の一部を含有
することが出来る。特に(C)重合性モノマーをその表面に有することによって反応性ミ
クロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。
より良好な機上現像性を得るためには、画像記録層は、マイクロカプセル型もしくはミ
クロゲル型画像記録層であることが好ましい。
<1> Microcapsule and Microgel In the present invention, several modes can be used as a method for incorporating the above-mentioned image recording layer constituents and other constituents described later into the image recording layer. One is a molecular dispersion type image recording layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in JP-A-2002-287334, for example. Another embodiment is disclosed in, for example, JP-A-2001-277.
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 740 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-277742, it is a microcapsule type image recording layer in which all or part of the constituent components are encapsulated in a microcapsule and contained in the image recording layer. Further, in the microcapsule type image recording layer, the constituent component can be contained outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule-type image recording layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule.
As still another embodiment, an embodiment in which the image recording layer contains crosslinked resin particles, that is, microgel, can be mentioned. The microgel may contain a part of the constituent component in and / or on the surface thereof. In particular, an embodiment in which (C) a polymerizable microgel is formed by having a polymerizable monomer on the surface thereof is particularly preferable from the viewpoint of image forming sensitivity and printing durability.
In order to obtain better on-press developability, the image recording layer is preferably a microcapsule type or microgel type image recording layer.

画像記録層構成成分をマイクロカプセル化、もしくはミクロゲル化する方法としては、
公知の方法が適用できる。
As a method of microencapsulating or microgelling the image recording layer constituents,
Known methods can be applied.

上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい
。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この
範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。
The average particle size of the microcapsules or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

<2>バインダーポリマー
本発明の画像記録層には、画像記録層の膜強度を向上させるため、バインダーポリマー
を用いることができる。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知の
ものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。このようなバインダーポ
リマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポ
リウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリ
スチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴ
ムが挙げられる。
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよ
い。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性
官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により
導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−
ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレン等が挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸また
はメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残
基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙
げることができる。
<2> Binder polymer In the image recording layer of the present invention, a binder polymer can be used in order to improve the film strength of the image recording layer. As the binder polymer that can be used in the present invention, conventionally known binder polymers can be used without limitation, and polymers having film properties are preferred. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.
The binder polymer may have crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-
Examples thereof include butadiene and poly-1,4-isoprene.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2 n CR1
CR2 3 、−(CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 CH2 O)n CH
2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n NH−CO−O−CH2 CR1 =CR2 3 、−
(CH2 n −O−CO−CR1 =CR2 3 および(CH2 CH2 O)2 −X(式中、
1 〜R3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、ア
リール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1 とR2 またはR3 とは互
いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタ
ジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 (特公平7−21633号公報
に記載されている。)、−CH2 CH2 O−CH2 CH=CH2 、−CH2 C(CH3
=CH2 、−CH2 CH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 OCOCH=CH−C6 5
、−CH2 CH2 −NHCOO−CH2 CH=CH2 およびCH2 CH2 O−X(式中、
Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Y
はシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる
Examples of residues having an ethylenically unsaturated bond (R above) include — (CH 2 ) n CR 1
CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH
2 CR 1 = CR 2 R 3 , - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, -
(CH 2) n -O-CO -CR 1 = CR 2 R 3 and (CH 2 CH 2 O) 2 -X ( wherein,
R 1 to R 3 each represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 are bonded to each other to form a ring. May be formed. n represents an integer of 1 to 10. X represents a dicyclopentadienyl residue. ).
Specific examples of the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3 )
= CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5
, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and CH 2 CH 2 O-X (wherein,
X represents a dicyclopentadienyl residue. ).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y
Represents a cyclohexene residue. ), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2 .

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(
重合開始ラジカルまたは重合性モノマーの重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー
間で直接にまたは重合性モノマーの重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架
橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する
炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し
、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。
For example, the binder polymer having a crosslinkable property has a free radical (
A polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of a polymerizable monomer) is added, and addition polymerization is performed directly between polymers or via a polymerization chain of the polymerizable monomer to form a crosslink between polymer molecules and cure. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽
和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0
mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mm
olである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。
The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 per 1 g of the binder polymer.
mmol, more preferably 1.0-7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mm
ol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、5〜90質量%であ
り、5〜80質量%であるのが好ましく、10〜70質量%であるのがより好ましい。こ
の範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、(C)重合性モノマーとバインダーポリマーは、質量比で0.5/1〜4/1とな
る量で用いるのが好ましい。
The content of the binder polymer is 5 to 90% by mass, preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
(C) The polymerizable monomer and the binder polymer are preferably used in an amount of 0.5 / 1 to 4/1 in terms of mass ratio.

<3>界面活性剤
本発明の画像記録層には、機上現像性を促進するため、および塗布面状を向上させるた
め界面活性剤を用いることができる。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオ
ン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられ
る。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<3> Surfactant In the image recording layer of the present invention, a surfactant can be used in order to promote on-press developability and improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステ
ル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、
プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分
エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エス
テル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エ
ステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン
類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリア
ルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピ
レングリコールの共重合体が挙げられる。
The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters,
Propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil , Polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamine, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, polyethylene And a copolymer of glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸
塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンス
ルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリン
ナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸
塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド
硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分
けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホ
ン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。
The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohols Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチ
レンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いること
ができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、ア
ミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric acid esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチ
レン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み
替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。
Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

さらに好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ
素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフ
ルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキ
ルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフル
オロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオ
キサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基およ
び親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオ
リゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パ
ーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。
また、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−16814
4号の各公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。
More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group.
JP-A-62-170950, JP-A-62-226143, and JP-A-60-16814.
The fluorine-type surfactant described in each gazette of No. 4 is also mentioned suitably.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であ
るのが好ましく、0.01〜5質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<4>着色剤
本発明の画像記録層には、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用
することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603
、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエン
ト化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI425
55)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(
CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI
52015)等、および特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げること
ができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等
の顔料も好適に用いることができる。
これらの着色剤を用いると、画像形成後の画像部と非画像部の区別がつきやすくなるの
で、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜
10質量%の割合である。
<4> Colorant In the image recording layer of the present invention, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603
, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (made by Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI425)
55), methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (
CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI
52015) and the like, and dyes described in JP-A-62-293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.
When these colorants are used, it is easy to distinguish between an image area after image formation and a non-image area, so it is preferable to add them. The added amount is 0.01 to about the total solid content of the image recording material.
The ratio is 10% by mass.

<5>焼き出し剤
本発明の画像記録層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色す
る化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン
系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン
系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
<5> Print-out agent To the image-recording layer of the invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added in order to produce a print-out image. As such a compound, for example, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、画像記録層固形分に対して
0.01〜10質量%の割合である。
A suitable addition amount of the dye that changes color by an acid or radical is 0.01 to 10% by mass with respect to the solid content of the image recording layer.

<6>重合禁止剤
本発明の画像記録層には、画像記録層の製造中または保存中において(C)重合性モノ
マーの不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−
ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4
′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4
−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミ
ンアルミニウム塩が好適に挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、画像記録層の全固形分
に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
<6> Polymerization inhibitor A small amount of a thermal polymerization inhibitor is added to the image recording layer of the present invention in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable monomer (C) during the production or storage of the image recording layer. It is preferable to do this.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-
Butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4
'-Thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4
-Methyl-6-t-butylphenol) and N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salts are preferred. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<7>高級脂肪酸誘導体等
本発明の画像記録層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面
に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約
0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
<7> Higher fatty acid derivatives and the like In the image recording layer of the present invention, a higher fatty acid derivative such as behenic acid and behenic acid amide is added to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and a drying process after coating. May be unevenly distributed on the surface of the image recording layer. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<8>可塑剤
本発明の画像記録層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、
ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジ
イソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコー
ルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート
、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等
のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリ
ン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート
、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸
エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセ
チルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ま
しい。
<8> Plasticizer The image recording layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve the on-press developability.
Examples of the plasticizer include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate,
Phthalic acid esters such as dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; dimethyl glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene Glycol esters such as glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate; Aliphatics such as diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioctyl azelate, dibutyl maleate Dibasic acid esters: polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, lauric acid Le can be preferably used.
The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the image recording layer.

<9>無機微粒子
本発明の画像記録層は、硬化皮膜強度向上および機上現像性向上のために、無機微粒子
を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭
酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これ
らは皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5μm〜3μm
であるのがより好ましい。上記範囲であると、画像記録層中に安定に分散して、画像記録
層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成す
ることができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手す
ることができる。
無機微粒子の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、40質量%以下であるのが好
ましく、30質量%以下であるのがより好ましい。
<9> Inorganic fine particles The image recording layer of the present invention may contain inorganic fine particles in order to improve the cured film strength and on-press developability.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. These can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle diameter of 5 nm to 10 μm, preferably 0.5 μm to 3 μm.
It is more preferable that Within the above range, it is possible to form a non-image portion having excellent hydrophilicity, which is stably dispersed in the image recording layer, sufficiently retains the film strength of the image recording layer, and hardly causes stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 40% by mass or less, and more preferably 30% by mass or less, based on the total solid content of the image recording layer.

<10>低分子親水性化合物
本発明の画像記録層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい
。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピ
レングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたは
エステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタ
ノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩
、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類
およびその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類およびその塩、アルキ
ル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有
機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン
酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩等が挙げられる。
<10> Low molecular weight hydrophilic compound The image-recording layer of the invention may contain a hydrophilic low molecular weight compound in order to improve the on-press developability. Examples of hydrophilic low molecular weight compounds include water-soluble organic compounds such as glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, alkylsulfamic acid and the like Organic sulfamic acids and salts thereof, organic sulfuric acids and salts thereof such as alkyl sulfuric acid and alkyl ether sulfuric acid, organic phosphonic acids and salts thereof such as phenylphosphonic acid, Stone acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, organic carboxylic acids and salts thereof such as amino acids and the like.

これら低分子親水性化合物の画像記録層への添加量は、画像記録層全固形分量の0.5
質量%以上20質量%以下であることが好ましい。より好ましくは1質量%以上10質量
%以下であり、さらに好ましくは2質量%以上8質量%以下である。この範囲で良好な機
上現像性と耐刷性が得られる。
これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The amount of these low molecular weight hydrophilic compounds added to the image recording layer is 0.5% of the total solid content of the image recording layer.
It is preferable that it is 20 mass% or less. More preferably, they are 1 mass% or more and 10 mass% or less, More preferably, they are 2 mass% or more and 8 mass% or less. In this range, good on-press developability and printing durability can be obtained.
These compounds may be used alone or in combination of two or more.

<11>感脂化剤
本発明においては、着肉性を向上させるため、本発明の特定ポリマーに加えて、ホスホ
ニウム化合物を併用してもよい。ホスホニウム化合物は無機質層状化合物の表面被覆剤(
感脂化剤)として機能し、無機質層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。好
適なホスホニウム化合物としては、特開2006−297907号公報に記載のホスホニ
ウム化合物、および下記一般式(VII)で表される化合物を挙げることができる。
<11> Grease-sensitizing agent In the present invention, a phosphonium compound may be used in combination with the specific polymer of the present invention in order to improve the inking property. Phosphonium compounds are surface coating agents for inorganic layered compounds (
It functions as a sensitizing agent) and prevents deterioration of the inking property during printing by the inorganic layered compound. Suitable phosphonium compounds include phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and compounds represented by the following general formula (VII).

Figure 2010084046
Figure 2010084046

式(VII)中、Ar1〜Ar6は、各々独立にアリール基または複素環基を表し、Lは2
価の連結基を表し、Xn-はn価のカウンターアニオンを表し、nは1〜3の整数を表し、
mはn x m=2を満たす数を表す。
In formula (VII), Ar 1 to Ar 6 each independently represents an aryl group or a heterocyclic group, and L is 2
Represents a valent linking group, X n− represents an n-valent counter anion, n represents an integer of 1 to 3,
m represents a number satisfying nxm = 2.

ここでアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、フルオ
ロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフ
ェニル基、ジメトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジメチルアミノフェ
ニル基などが好適なものとして挙げられる。複素環基としては、ピリジル基、キノリル基
、ピリミジニル基、チエニル基、フリル基などが挙げられる。Lは炭素数が6〜15の連
結基中であることが好ましく、より好ましくは、炭素数6〜12の連結基である。
Here, as the aryl group, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, dimethoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dimethylaminophenyl A group and the like are preferable. Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, a quinolyl group, a pyrimidinyl group, a thienyl group, and a furyl group. L is preferably a linking group having 6 to 15 carbon atoms, more preferably a linking group having 6 to 12 carbon atoms.

n-の好ましいものとしては、Cl-、Br-、I-などのハロゲンアニオン、スルホン
酸アニオン、カルボン酸アニオン、硫酸エステルアニオン、PF6 -、BF4 -、過塩素酸ア
ニオンなどが挙げられる。なかでも、Cl-、Br-、I-などのハロゲンアニオン、スル
ホン酸アニオン、カルボン酸アニオンが特に好ましい。
Preferable examples of X n− include halogen anions such as Cl , Br and I , sulfonate anions, carboxylate anions, sulfate anions, PF 6 , BF 4 and perchlorate anions. . Of these, halogen anions such as Cl , Br and I , sulfonate anions, and carboxylate anions are particularly preferable.

画像記録層への上記ホスホニウム化合物の添加量は、画像記録層固形分の0.01〜2
0質量%が好ましく、0.05〜10質量%がさらに好ましく、0.1〜5質量%が最も
好ましい。これらの範囲内で印刷途中の良好なインキ着肉性が得られる。
The amount of the phosphonium compound added to the image recording layer is 0.01 to 2% of the solid content of the image recording layer.
0 mass% is preferable, 0.05-10 mass% is further more preferable, and 0.1-5 mass% is the most preferable. Within these ranges, good ink fillability during printing can be obtained.

本感脂化剤は、画像記録層だけではなく保護層に添加することもできる。   The present sensitizer can be added not only to the image recording layer but also to the protective layer.

<12>共増感剤
本発明の画像記録層には、感度を一層向上させる、または酸素による重合阻害を抑制す
る等の作用を有する共増感剤または連鎖移動剤などと呼ばれる公知の化合物を加えてもよ
い。特に高感度であることが要求される360nm〜450nmの波長を有する青色レー
ザー光用の平版印刷版原版の場合には共増感剤を用いることが好ましい。
<12> Co-sensitizer In the image recording layer of the present invention, a known compound called a co-sensitizer or a chain transfer agent having an action such as further improving sensitivity or suppressing polymerization inhibition by oxygen is contained. May be added. In the case of a lithographic printing plate precursor for blue laser light having a wavelength of 360 nm to 450 nm, which is particularly required to have high sensitivity, it is preferable to use a cosensitizer.

この様な化合物の例としては、アミン類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polym
er Society」第10巻3173頁(1972)、特公昭44−20189号、特開昭51
−82102号、特開昭52−134692号、特開昭59−138205号、特開昭6
0−84305号、特開昭62−18537号、特開昭64−33104号、Research D
isclosure 33825号記載の化合物、等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミ
ン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−
メチルチオジメチルアニリン、等が挙げられる。
Examples of such compounds include amines such as “Journal of Polym” by MR Sander et al.
er Society ”10: 3173 (1972), Japanese Examined Patent Publication No. 44-20189, Japanese Patent Laid-Open No. 51
-82102, JP-A-52-134692, JP-A-59-138205, JP-A-6
0-84305, JP-A 62-18537, JP-A 64-33104, Research D
isclosure 33825, and the like. Specifically, triethanolamine, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-formyldimethylaniline, p-
And methylthiodimethylaniline.

連鎖移動剤として作用する別の例としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、G
eHを有する化合物群が挙げられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラ
ジカルを生成するか、または、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成
しうる。
As another example of acting as a chain transfer agent, for example, SH, PH, SiH, G in the molecule
The compound group which has eH is mentioned. These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals.

これらの共増感剤の使用量は画像記録層の全固形分の質量に対し、好ましくは0.01
〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0〜1
0質量%である。
The amount of these co-sensitizers used is preferably 0.01 with respect to the total solid content of the image recording layer.
-20% by mass, more preferably 0.1-15% by mass. More preferably 1.0-1
0% by mass.

<画像記録層の形成>
本発明の画像記録層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し
、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン
、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、
1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トル
エン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、
単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%であ
る。
本発明の画像記録層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散ま
たは溶解した塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能
である。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer of the present invention is applied by preparing a coating solution by dispersing or dissolving each of the necessary components in a solvent. Examples of the solvent used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate,
1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate,
N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea,
Examples thereof include N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyl lactone, toluene, water, and the like, but are not limited thereto. These solvents are
Used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The image recording layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeating a plurality of coatings and dryings.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって
異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像
記録層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布
、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等が挙げられる。
Further, the coating amount (solid content) of the image recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferable. Within this range, good sensitivity and good film properties of the image recording layer can be obtained.
Various methods can be used as the coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状
物であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)
、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸
セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビ
ニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチ
ックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびア
ルミニウム板が挙げられる。なかでも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウ
ム板が好ましい。
[Support]
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene,
Paper, metal plates (eg, aluminum, zinc, copper, etc.)
, Plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.) Alternatively, vapor-deposited paper or plastic film can be used. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミ
ネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マ
ンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金
中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミ
ニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、
わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in the refining technology.
It may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmである
のがより好ましい。
The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm.

[平版印刷方法]
本発明の平版印刷版原版は、露光後、現像処理工程を経ることなく、印刷インキと湿し
水とを供給して機上現像されて、そのまま印刷に供せられるか、現像処理工程で現像され
てから印刷に供せられる。以下、本発明の印刷方法について詳細に説明する。
[Lithographic printing method]
The lithographic printing plate precursor of the present invention is subjected to on-press development by supplying printing ink and fountain solution after exposure and without being subjected to a development processing step. And then used for printing. Hereinafter, the printing method of the present invention will be described in detail.

〔露光〕
本発明において画像様の露光に用いられる光源としては、レーザーが好ましい。本発明
に用いられるレーザーは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を照
射する固体レーザーおよび半導体レーザー、250〜420nmの光を照射する半導体レ
ーザーなどが好適に挙げられる。
赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当た
りの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜
300mJ/cm2であるのが好ましい。250〜420nmの光を照射する半導体レー
ザーにおいては、出力は0.1mW以上であることが好ましい。いずれのレーザーにおい
ても、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
〔exposure〕
In the present invention, a laser is preferable as a light source used for imagewise exposure. Although the laser used for this invention is not specifically limited, The solid laser and semiconductor laser which irradiate infrared rays with a wavelength of 760-1200 nm, the semiconductor laser etc. which irradiate 250-420 nm light etc. are mentioned suitably.
With respect to the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is 10 to 10.
It is preferably 300 mJ / cm 2 . In a semiconductor laser that emits light of 250 to 420 nm, the output is preferably 0.1 mW or more. In any laser, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time.

〔機上現像〕
露光された平版印刷版原版は、印刷機の版胴に装着される。レーザー露光装置付きの印
刷機の場合は、平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着したのち画像様露光される。
[On-machine development]
The exposed lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of a printing machine. In the case of a printing press equipped with a laser exposure device, imagewise exposure is performed after a lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of the printing press.

平版印刷版原版を赤外線レーザー等で画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像
処理工程を経ることなく印刷インキと湿し水とを供給して印刷すると、画像記録層の露光
部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する印刷インキ受容部
を形成する。一方、未露光部においては、供給された湿し水および/または印刷インキに
よって、未硬化の画像記録層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の表面が
露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキは露光領域の
画像記録層に着肉して印刷が開始される。
After the lithographic printing plate precursor is exposed imagewise with an infrared laser or the like, printing is performed by supplying printing ink and fountain solution without going through a development process such as a wet development process, and the like in the exposed part of the image recording layer. The image recording layer cured by exposure forms a printing ink receiving portion having an oleophilic surface. On the other hand, in the unexposed area, the uncured image recording layer is removed by dissolution or dispersion by the supplied dampening water and / or printing ink, and a hydrophilic surface is exposed in that area. As a result, the fountain solution adheres to the exposed hydrophilic surface, and the printing ink is deposited on the image recording layer in the exposed area and printing is started.

ここで、最初に版面に供給されるのは、湿し水でもよく、印刷インキでもよいが、湿し
水が除去された画像記録層の構成成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印
刷インキを供給するのが好ましい。湿し水および印刷インキとしては、通常の平版印刷用
の湿し水と印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数
枚の印刷に用いられる。
Here, dampening water or printing ink may be supplied to the printing plate first, but the dampening water is prevented from being contaminated by the components of the image recording layer from which the dampening water has been removed. It is preferable to supply printing ink. As the fountain solution and printing ink, normal lithographic fountain solution and printing ink are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

なお、本発明の平版印刷版原版が前述のような機上現像可能なものではなく、湿式現像
処理工程等の現像処理工程を要する態様の場合には、前述の露光工程と、印刷工程との間
に、現像処理を行う。
本発明に適用される現像処理は、画像記録層によって決定されるが、本発明の平版印刷
版原版は下記に示す現像処理を施されることが好ましい。
In the case where the lithographic printing plate precursor of the present invention is not capable of on-machine development as described above and requires a development processing step such as a wet development processing step, the exposure step and the printing step described above are performed. In the meantime, development processing is performed.
The development processing applied to the present invention is determined by the image recording layer, but the lithographic printing plate precursor of the present invention is preferably subjected to the development processing shown below.

〔現像処理〕
本発明において好適に用いられる現像液は、pHが2〜10の水溶液である。例えば、
水単独または水を主成分(水を60質量%以上含有)とする水溶液が好ましく、特に、一
般的に公知な湿し水と同様組成の水溶液、界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオ
ン系等)を含有する水溶液や、水溶性高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。特に、
界面活性剤と水溶性高分子化合物の両方を含有する水溶液が好ましい。現像液のpHは、
より好ましくは3〜8、さらに好ましくは4〜6.9の弱酸性である。
[Development processing]
The developer suitably used in the present invention is an aqueous solution having a pH of 2 to 10. For example,
Water alone or an aqueous solution containing water as a main component (containing 60% by mass or more of water) is preferable, and in particular, an aqueous solution having the same composition as a generally known fountain solution, a surfactant (anionic, nonionic, cationic) Etc.) and aqueous solutions containing water-soluble polymer compounds are preferred. In particular,
An aqueous solution containing both a surfactant and a water-soluble polymer compound is preferred. The pH of the developer is
More preferably, the acidity is 3 to 8, more preferably 4 to 6.9.

本発明の平版印刷版原版の支持体、ならびに平版印刷版原版に関するその他の事項については、特開2007−50660号公報や特開2008−191468号公報等に記載の公知の技術を適宜適用できる。   Known techniques described in JP-A-2007-50660, JP-A-2008-191468, and the like can be appropriately applied to the support of the planographic printing plate precursor of the present invention and other matters related to the planographic printing plate precursor.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

〔実施例〕
(中間体モノマー(1)の合成)
〔Example〕
(Synthesis of Intermediate Monomer (1))

Figure 2010084046
Figure 2010084046

メタクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル361.58g(2.3mol)、p−メトキシフェノール 0.1647g、アセトニトリル 1150mlを混合し、室温にて攪拌した。次いで、n-ブチルトシレート(525.11g:2.3mol)を30分かけて滴下した。80℃で8時間攪拌したのち放冷した。反応液をKPF6 846.68gを水12.6Lに溶解した溶液中に滴下し、白色結晶を得た。更に30分攪拌してから濾過し、水5Lでかけ洗いした。さらに、水5L中で洗浄した後に濾過し、得られた結晶を酢酸エチル/ヘキサン=50/50(vol.)3Lで洗浄した後に濾過し、酢酸エチル/ヘキサン=50/50(vol.)1Lでかけ洗い後に乾燥した。室温にて減圧乾燥して、白色粉体の中間体モノマー(1)を561.4g得た。 361.58 g (2.3 mol) of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, 0.1647 g of p-methoxyphenol and 1150 ml of acetonitrile were mixed and stirred at room temperature. Subsequently, n-butyl tosylate (525.11 g: 2.3 mol) was added dropwise over 30 minutes. The mixture was stirred at 80 ° C. for 8 hours and then allowed to cool. The reaction solution was dropped into a solution obtained by dissolving 846.68 g of KPF 6 in 12.6 L of water to obtain white crystals. The mixture was further stirred for 30 minutes, filtered, and washed with 5 L of water. Further, after washing in 5 L of water and filtering, the resulting crystals were washed with 3 L of ethyl acetate / hexane = 50/50 (vol.) And then filtered to obtain 1 L of ethyl acetate / hexane = 50/50 (vol.). And then dried after washing. It dried under reduced pressure at room temperature and obtained 561.4g of intermediate monomers (1) of the white powder.

冷却菅、攪拌羽根(回転数250rpm)を備え付けた500ml容の4つ口フラスコにメチルエチルケトン(MEK):メトキシプロピレングリコール(MFG)=1:1の混合溶液77.43g、ブレンマーPME100(日油(株)製) 45.17gを入れ内温を70℃とした。上記中間体モノマー(1)21.56g、メチルエチルケトン:メトキシプロピレングリコール=1:1の混合溶液51.26gからなるモノマー溶液とV-601F(和光純薬製ラジカル重合開始剤)0.691g、メチルエチルケトン:メトキシプロピレングリコール=1:1の混合溶液17.94gからなるラジカル重合開始剤溶液をそれぞれ調製した。反応容器に、上記モノマー溶液を、1.6ml/分で30分間、0.33ml/分で90分間、0.13ml/分で180分間の順で滴下速度を3段階に変化させて滴下した。また、上記ラジカル重合開始剤溶液を、上記モノマー溶液の滴下の開始から終了まで、0.33ml/分の一定速度で滴下した。モノマー溶液滴下終了後、2時間攪拌を継続した後、上記開始剤溶液を40ml/分の一定速度でV-601F量が1.36gとなるように滴下した。次いで開始剤追添直後に90℃まで昇温し、2時間攪拌を継続した後、放冷してポリマー溶液を得た。還元比粘度=60.6、固形分濃度31.7質量%であった。   In a 500 ml four-necked flask equipped with a cooling bowl and stirring blades (rotation speed 250 rpm), 77.43 g of a mixed solution of methyl ethyl ketone (MEK): methoxypropylene glycol (MFG) = 1: 1, Blemmer PME100 (NOF Co., Ltd.) (Manufactured) 45.17 g was added and the internal temperature was set to 70 ° C. Monomer solution consisting of 51.26 g of the above intermediate monomer (1), methyl ethyl ketone: methoxypropylene glycol = 1: 1 mixed solution 51.26 g and 0.691 g of V-601F (radical polymerization initiator manufactured by Wako Pure Chemical Industries), methyl ethyl ketone: methoxypropylene glycol A radical polymerization initiator solution consisting of 17.94 g of a mixed solution of = 1: 1 was prepared. The monomer solution was added dropwise to the reaction vessel at 1.6 ml / min for 30 minutes, 0.33 ml / min for 90 minutes, and 0.13 ml / min for 180 minutes while changing the dropping speed in three stages. Further, the radical polymerization initiator solution was dropped at a constant rate of 0.33 ml / min from the start to the end of dropping of the monomer solution. After completion of the monomer solution dropping, stirring was continued for 2 hours, and then the initiator solution was added dropwise at a constant rate of 40 ml / min so that the amount of V-601F was 1.36 g. Next, immediately after the addition of the initiator, the temperature was raised to 90 ° C., and stirring was continued for 2 hours, followed by cooling to obtain a polymer solution. The reduced specific viscosity was 60.6 and the solid content concentration was 31.7% by mass.

〔比較例〕
冷却菅、攪拌羽根(回転数250rpm)を備え付けた500ml容の4つ口フラスコにメチルエチルケトン:メトキシプロピレングリコール=1:1の混合溶液150gを入れ内温を70℃とした。上記中間体モノマー(1)42.50g、ブレンマーPME100 89.67g、メチルエチルケトン:メトキシプロピレングリコール=1:1の混合溶液100gからなるモノマー溶液とV-601F 1.36g、メチルエチルケトン:メトキシプロピレングリコール=1:1の混合溶液35gからなるラジカル重合開始剤溶液をそれぞれ調製した。上記モノマー溶液を1.93ml/分の一定速度で2時間かけて滴下した。また、上記ラジカル重合開始剤溶液を、上記モノマー溶液の滴下の開始から終了まで、0.33ml/分の一定速度で滴下した。モノマー溶液滴下終了後、2時間攪拌を継続した後、上記開始剤溶液を40ml/分の一定速度でV-601F量が1.36gとなるように滴下した。次いで開始剤追添直後に90℃まで昇温し、2時間攪拌を継続した後、放冷してポリマー溶液を得た。還元比粘度=58.2、固形分濃度30.4質量%であった。
[Comparative Example]
150 g of a mixed solution of methyl ethyl ketone: methoxypropylene glycol = 1: 1 was placed in a 500 ml four-necked flask equipped with a cooling pad and a stirring blade (rotation speed: 250 rpm), and the internal temperature was set to 70.degree. Monomer solution consisting of 42.50 g of the above intermediate monomer (1), 89.67 g of Bremer PME100, 100 g of methyl ethyl ketone: methoxypropylene glycol = 1: 1, and 1.36 g of V-601F, 1.36 g of methyl ethyl ketone: methoxypropylene glycol = 1: 1 A radical polymerization initiator solution consisting of 35 g of the solution was prepared. The monomer solution was added dropwise at a constant rate of 1.93 ml / min over 2 hours. Further, the radical polymerization initiator solution was dropped at a constant rate of 0.33 ml / min from the start to the end of dropping of the monomer solution. After completion of the monomer solution dropping, stirring was continued for 2 hours, and then the initiator solution was added dropwise at a constant rate of 40 ml / min so that the amount of V-601F was 1.36 g. Next, immediately after the addition of the initiator, the temperature was raised to 90 ° C., and stirring was continued for 2 hours, followed by cooling to obtain a polymer solution. The reduced specific viscosity was 58.2 and the solid content concentration was 30.4% by mass.

〔参考例〕(NMP溶媒での合成)
冷却菅、攪拌羽根(回転数250rpm)を備え付けた500ml容の4つ口フラスコにN-メチルピロリドン(NMP)150gを入れ内温を70℃とした。中間体モノマー(1)42.50g、ブレンマーPME100 89.67g、NMP 100gからなるモノマー溶液とV-601F 1.36g、NMP 35gからなるラジカル重合開始剤溶液をそれぞれ調製した。上記モノマー溶液を0.33ml/分の一定速度で2時間かけて滴下した。また、上記ラジカル重合開始剤溶液を、上記モノマー溶液の滴下の開始から終了まで、1.93ml/分の一定速度で滴下した。モノマー溶液滴下終了後、2時間攪拌を継続した後、上記開始剤溶液を40ml/分の一定速度でV-601F量が1.36gとなるように滴下した。次いで開始剤追添直後に90℃まで昇温し、2時間攪拌を継続した後、放冷してポリマー溶液を得た。還元比粘度=61.8、固形分濃度30.5質量%であった。
[Reference Example] (Synthesis with NMP solvent)
150 g of N-methylpyrrolidone (NMP) was placed in a 500 ml four-necked flask equipped with a cooling pad and a stirring blade (rotation speed: 250 rpm), and the internal temperature was adjusted to 70 ° C. A monomer solution consisting of 42.50 g of the intermediate monomer (1), 89.67 g of Blemmer PME100, and 100 g of NMP and a radical polymerization initiator solution consisting of 1.36 g of V-601F and 35 g of NMP were prepared. The monomer solution was added dropwise at a constant rate of 0.33 ml / min over 2 hours. The radical polymerization initiator solution was added dropwise at a constant rate of 1.93 ml / min from the start to the end of the addition of the monomer solution. After completion of the monomer solution dropping, stirring was continued for 2 hours, and then the initiator solution was added dropwise at a constant rate of 40 ml / min so that the amount of V-601F was 1.36 g. Next, immediately after the addition of the initiator, the temperature was raised to 90 ° C., and stirring was continued for 2 hours, followed by cooling to obtain a polymer solution. The reduced specific viscosity was 61.8, and the solid content concentration was 30.5% by mass.

上記の実施例、比較例、参考例の各製造方法で得られた各ポリマー(特定ポリマー)を用いて平版印刷版原版を作製し、その特性を評価した。   A lithographic printing plate precursor was prepared using each polymer (specific polymer) obtained by each of the production methods of the above Examples, Comparative Examples, and Reference Examples, and its characteristics were evaluated.

〔平版印刷版原版(機上現像型)の作製〕 [Preparation of lithographic printing plate precursor (on-press development type)]

(1)支持体1の作製
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このと
きの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温は
50℃であった。交流電源波形として、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TP
が0.8msec、duty比1:1の台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極
として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密
度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流さ
せた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であ
った。その後、スプレーによる水洗を行った。
(1) Production of support 1 In order to remove the rolling oil on the surface of a 0.3 mm thick aluminum plate (material 1050), degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution. Thereafter, the aluminum surface was grained using three bundle-planted nylon brushes having a bristle diameter of 0.3 mm and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm, and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass aqueous nitric acid solution (containing 0.5% by mass aluminum ions), and the liquid temperature was 50 ° C. Time TP until the current value reaches the peak from zero as the AC power supply waveform
Was subjected to electrochemical surface roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a duty ratio of 1: 1 and a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50
℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と
同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
この板に15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流
密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持
体1を作製した。この支持体1の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定
したところ、0.51μmであった。
さらに、下記下塗り液(1)を塗布し、100℃で3分間乾燥した。乾燥塗布量は6m
g/m2であった。
Next, a 0.5 mass% hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5 mass% aluminum ions), a liquid temperature of 50
An electrolytic surface roughening treatment was performed in the same manner as in nitric acid electrolysis under the conditions of an electrolytic amount of 50 ° C./dm 2 when the aluminum plate was an anode when the aluminum plate was an anode, and then washed with water by spraying. .
This plate was provided with a DC anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte, then washed with water and dried. A support 1 was prepared. The center line average roughness (Ra) of the support 1 was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.
Furthermore, the following undercoat liquid (1) was applied and dried at 100 ° C. for 3 minutes. The dry coating amount is 6m
g / m 2 .

−下塗り液(1)−
・下塗り化合物(1)(Mw:60,000) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
-Undercoat liquid (1)-
・ Undercoat compound (1) (Mw: 60,000) 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g

Figure 2010084046
Figure 2010084046

(2)画像記録層および保護層の形成
上記下塗り層形成済みの支持体上に、下記組成の画像記録層塗布液1をバー塗布した後
、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成し
た。引き続き、下記組成の保護層塗布液1を前記画像記録層上にバー塗布し、120℃、
60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.160g/m2の保護層を形成することで平版
印刷版原版(1)を得た。
なお、画像記録層塗布液1は、下記感光液およびミクロゲル液を塗布直前に混合し、攪
拌することにより得た。
(2) Formation of Image Recording Layer and Protective Layer An image recording layer coating solution 1 having the following composition was bar-coated on the support on which the undercoat layer had been formed, followed by oven drying at 100 ° C. for 60 seconds, and a dry coating amount of 1 An image recording layer of 0.0 g / m 2 was formed. Subsequently, a protective layer coating solution 1 having the following composition was bar coated on the image recording layer,
The lithographic printing plate precursor (1) was obtained by oven drying in 60 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.160 g / m 2 .
The image recording layer coating solution 1 was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution and microgel solution immediately before coating.

−感光液−
バインダーポリマー(1) 0.177g
(B)重合開始剤(下記化合物I−28) 0.142g
(A)赤外線吸収剤(1) 0.0308g
(C)重合性モノマー(アロニックスM−215(東亜合成(株)製)0.319g
表1に記載の特定ポリマー 0.05g
フッ素系界面活性剤(1) 0.004g
イオン系界面活性剤 0.125g
(パイオニンA−24−EA(竹本油脂(株)製、40質量%水溶液)
メチルエチルケトン 2.554g
1−メトキシ−2−プロパノール 7.023g
-Sensitive solution-
Binder polymer (1) 0.177g
(B) Polymerization initiator (the following compound I-28) 0.142 g
(A) Infrared absorber (1) 0.0308 g
(C) Polymerizable monomer (Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)) 0.319 g
0.05g of specific polymers listed in Table 1
Fluorosurfactant (1) 0.004g
Ionic surfactant 0.125g
(Pionine A-24-EA (Takemoto Yushi Co., Ltd., 40% by mass aqueous solution)
Methyl ethyl ketone 2.554g
1-methoxy-2-propanol 7.023 g

−ミクロゲル液−
ミクロゲル分散液(1) 1.800g
水 1.678g
-Microgel solution-
Microgel dispersion (1) 1.800 g
1.678 g of water

なお、前記感光液に使用する特定ポリマーの合成方法、ミクロゲル液に用いるミクロゲ
ル分散液(1)の合成およびその他の化合物の構造を以下に示す。
In addition, the synthesis | combining method of the specific polymer used for the said photosensitive liquid, the synthesis | combination of the microgel dispersion liquid (1) used for a microgel liquid, and the structure of another compound are shown below.

−ミクロゲル分散液(1)の合成−
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武
田ケミカル(株)製、タケネートD−110N、75質量%酢酸エチル溶液)10.0g
、重合性モノマーとしてアロニックスM−215(東亜合成(株)製)6.00g、パイ
オニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.12gを酢酸エチル16.67gに溶解した
。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液37.5gを調製した。油相成分およ
び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。
得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で2時間攪拌し
た。このようにして得られたミクロゲル分散液の固形分濃度を、21質量%になるように
蒸留水を用いて希釈し、ミクロゲル分散液(1)を得た。平均粒径は0.23μmであっ
た。
-Synthesis of microgel dispersion (1)-
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N, 75% by mass ethyl acetate solution) 10.0 g
As a polymerizable monomer, 6.00 g of Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) and 0.12 g of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) were dissolved in 16.67 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 37.5 g of a 4 mass% aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer.
The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 2 hours. The microgel dispersion thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration was 21% by mass to obtain a microgel dispersion (1). The average particle size was 0.23 μm.

Figure 2010084046
Figure 2010084046

Figure 2010084046
Figure 2010084046

−保護層塗布液1−
・下記層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール 0.06g
(PVA105、(株)クラレ製、けん化度98.5モル%、重合度500)
・ポリビニルピロリドン 0.01g
(ポリビニルピロリドンK30、東京化成工業(株)製、Mw=4万)
・ビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体 0.01g
(LUVITEC VA64W、ISP社製、共重合比=6/4)
・ノニオン系界面活性剤 0.013g
(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
・イオン交換水 6.0g
−Protective layer coating solution 1−
-1.5 g of the following layered compound dispersion (1)
・ Polyvinyl alcohol 0.06g
(PVA105, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree 98.5 mol%, polymerization degree 500)
・ Polyvinylpyrrolidone 0.01g
(Polyvinylpyrrolidone K30, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Mw = 40,000)
・ Vinyl pyrrolidone / vinyl acetate copolymer 0.01g
(LUVITEC VA64W, manufactured by ISP, copolymerization ratio = 6/4)
・ Nonionic surfactant 0.013g
(Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
・ Ion-exchanged water 6.0g

−層状化合物分散液(1)の調製−
イオン交換水193.6gに対して、合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル
(株)製)を6.4gの割合で添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱
法)が3μmになるまで分散した。得られた分散無機粒子のアスペクト比は100以上で
あった。
-Preparation of layered compound dispersion (1)-
Synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) is added at a ratio of 6.4 g to 193.6 g of ion-exchanged water, and the average particle diameter (laser scattering method) is 3 μm using a homogenizer. Dispersed. The aspect ratio of the obtained dispersed inorganic particles was 100 or more.

〔平版印刷版原版の評価〕
得られた各平版印刷版原版を水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力11.7W、外面ドラム回転数250rpm、解像度2400dpiの条件で露光した後、下記のように、機上現像性、着肉性および耐刷性を評価した。結果を表1に示す。
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
Each of the obtained lithographic printing plate precursors was exposed with a Trend setter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 11.7 W, an outer drum rotational speed of 250 rpm, and a resolution of 2400 dpi. The upper developability, the wall-thickness and the printing durability were evaluated. The results are shown in Table 1.

(機上現像性の評価)
露光済みの平版印刷版原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR
−Mのシリンダーに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水
/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨イン
キ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時6,
000枚の印刷速度で印刷を行った。この時、画像記録層の未露光部(非画像部)に、イ
ンキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として評価した。
枚数が少ないほど、機上現像性に優れると評価する。
(Evaluation of on-press developability)
Without developing the exposed lithographic printing plate precursor, the Heidelberg printing press SOR
Attached to the cylinder of -M, dampening water (EU-3 (Effect manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink ( After supplying fountain solution and ink using Dainippon Ink & Chemicals, Inc.
Printing was performed at a printing speed of 000 sheets. At this time, the number of print sheets required until the ink was not transferred to the unexposed portion (non-image portion) of the image recording layer was evaluated as on-press developability.
The smaller the number, the better the on-press developability.

(着肉性の評価)
印刷枚数を増やしていくなかで、徐々に画像記録層のインキ受容性が低下するため、印
刷用紙におけるインキ濃度が低下する。インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.
01低下したときの印刷枚数を着肉性として評価した。枚数が多いほど、着肉性に優れる
と評価する。
(Evaluation of inking properties)
As the number of printed sheets is increased, the ink receptivity of the image recording layer gradually decreases, so that the ink density on the printing paper decreases. The ink density (reflection density) is less than that at the start of printing.
The number of printed sheets when 01 decreased was evaluated as the inking property. It is evaluated that the larger the number, the better the inking property.

(耐刷性の評価)
さらに印刷を続け、印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性
が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下する。インキ濃度(反射濃度)が印
刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。枚数が多いほ
ど、耐刷性に優れると評価する。
(Evaluation of printing durability)
When printing is continued and the number of printed sheets is increased, the image recording layer is gradually worn and the ink acceptability is lowered, so that the ink density on the printing paper is lowered. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. The larger the number of sheets, the better the printing durability.

Figure 2010084046
Figure 2010084046

表1から明らかなように、実施例の製造方法で得られたポリマーを用いた平版印刷版原版は、重合溶媒としてNMPを用いた参考例の製造方法で得られたポリマーを用いた平版印刷版原版と同等の特性を有していた。これに対して、比較例の製造方法で得られたポリマーを用いた平版印刷版原版は、実施例・参考例の製造方法で得られた各ポリマーを用いた各平版印刷版原版と比べて、特性が劣るものであった。   As is apparent from Table 1, the lithographic printing plate precursor using the polymer obtained by the production method of the example is a lithographic printing plate using the polymer obtained by the production method of the reference example using NMP as a polymerization solvent. It had the same characteristics as the original. On the other hand, the lithographic printing plate precursor using the polymer obtained by the production method of the comparative example is compared with each lithographic printing plate precursor using the polymer obtained by the production method of Examples and Reference Examples, The characteristics were inferior.

Claims (8)

下記一般式(1)で表される4級アンモニウム塩モノマーと下記一般式(2)で表されるモノマーとを重合してポリマーを製造する方法であって、下記一般式(2)で表されるモノマーを溶解した溶液に、下記一般式(1)で表される4級アンモニウム塩モノマーを溶解した溶液を滴下し、かつ該滴下速度を1回以上変化させることを特徴とするポリマーの製造方法。
Figure 2010084046
(一般式(1)中、R11は水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。L1は単結合または二価の連結基を表し、R12、R13およびR14は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、またはアルキリデン基を表す。R12、R13およびR14から選ばれる少なくとも二つが互いに結合して環を形成していても良い。X-は電荷を中和するのに必要な対イオンを表す。一般式(2)中、R21は水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。R22はエステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基、またはアリール基を表す。)
A method for producing a polymer by polymerizing a quaternary ammonium salt monomer represented by the following general formula (1) and a monomer represented by the following general formula (2), which is represented by the following general formula (2): A method for producing a polymer, wherein a solution in which a quaternary ammonium salt monomer represented by the following general formula (1) is dissolved is dropped into a solution in which the monomer is dissolved, and the dropping speed is changed at least once .
Figure 2010084046
(In General Formula (1), R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom. L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and R 12 , R 13, and R 14 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or .R 12 representing an alkylidene group, at least two selected from R 13 and R 14 may be bonded to form a ring together, .X - is This represents a counter ion necessary for neutralizing the charge, wherein R 21 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom, and R 22 represents an ester group, an amide group, a cyano group, or a hydroxy group. Or an aryl group.)
前記滴下の速度を変化させる場合に、該速度を低くなるように変化させることを特徴とする請求項1に記載のポリマーの製造方法。   The method for producing a polymer according to claim 1, wherein when the dropping speed is changed, the dropping speed is changed. 前記モノマーを溶解する溶媒がケトン系溶媒とアルコール系溶媒との混合溶媒であり、その比率が、ケトン系溶媒:アルコール系溶媒=70:30〜30:70であることを特徴とする請求項1に記載のポリマーの製造方法。   The solvent for dissolving the monomer is a mixed solvent of a ketone solvent and an alcohol solvent, and the ratio thereof is ketone solvent: alcohol solvent = 70: 30 to 30:70. A process for producing the polymer described in 1. 前記一般式(1)において、L1がフェニレン基、カルボニルオキシ基およびカルボニルイミノ基から選ばれる基を少なくとも有する基であることを特徴とする請求項1に記載のポリマーの製造方法。 In the general formula (1), method for producing a polymer according to claim 1 in which L 1, characterized in that at least a group having a group selected from a phenylene group, a carbonyl group and carbonyl imino group. 前記一般式(1)において、Xがハロゲン化物イオン、カルボン酸イオン、アルキルスルホン酸イオン、アルキルリン酸イオン、ホスホン酸イオン、アリールスルホン酸イオン、PF およびBF4 -から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載のポリマーの製造方法。 In the general formula (1), X is at least 1 selected from halide ion, carboxylate ion, alkylsulfonate ion, alkylphosphate ion, phosphonate ion, arylsulfonate ion, PF 6 and BF 4 —. The method for producing a polymer according to claim 1, wherein the polymer is a seed. 前記一般式(2)において、R22がエステル基、アミド基または置換基を有してよいフェニル基であることを特徴とする請求項1に記載のポリマーの製造方法。 In the general formula (2), the method of producing polymer according to claim 1, wherein R 22 is an ester group, an amide group or a phenyl group which may have a substituent. 前記一般式(2)において、R22がポリアルキレンオキシ基を含有する基であることを特徴とする請求項1に記載のポリマーの製造方法。 In the general formula (2), method for producing a polymer according to claim 1, wherein R 22 is a group containing a polyalkylene group. 下記一般式(1)で表される4級アンモニウム塩モノマーと下記一般式(2)で表されるモノマーとを重合して製造された平版印刷版原版用ポリマーであって、下記一般式(2)で表されるモノマーを溶解した溶液に、下記一般式(1)で表される4級アンモニウム塩モノマーを溶解した溶液を滴下し、かつ該滴下速度を1回以上変化させたことによって製造されたことを特徴とする平版印刷版原版用ポリマー。
Figure 2010084046

(一般式(1)中、R11は水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。L1は単結合または二価の連結基を表し、R12、R13およびR14は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基、またはアルキリデン基を表す。R12、R13およびR14から選ばれる少なくとも二つが互いに結合して環を形成していても良い。X-は電荷を中和するのに必要な対イオンを表す。一般式(2)中、R21は水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。R22はエステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基、またはアリール基を表す。)
A lithographic printing plate precursor polymer produced by polymerizing a quaternary ammonium salt monomer represented by the following general formula (1) and a monomer represented by the following general formula (2), the polymer having the following general formula (2 ) Is dissolved in a solution in which the monomer represented by formula (1) is dissolved, and the dropping speed is changed at least once. A polymer for a lithographic printing plate precursor characterized by the above.
Figure 2010084046

(In General Formula (1), R 11 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom. L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and R 12 , R 13, and R 14 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or .R 12 representing an alkylidene group, at least two selected from R 13 and R 14 may be bonded to form a ring together, .X - is This represents a counter ion necessary for neutralizing the charge, wherein R 21 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom, and R 22 represents an ester group, an amide group, a cyano group, or a hydroxy group. Or an aryl group.)
JP2008255807A 2008-09-30 2008-09-30 Method of manufacturing polymer and polymer for lithographic printing plate precursor Pending JP2010084046A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008255807A JP2010084046A (en) 2008-09-30 2008-09-30 Method of manufacturing polymer and polymer for lithographic printing plate precursor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008255807A JP2010084046A (en) 2008-09-30 2008-09-30 Method of manufacturing polymer and polymer for lithographic printing plate precursor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010084046A true JP2010084046A (en) 2010-04-15

Family

ID=42248318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008255807A Pending JP2010084046A (en) 2008-09-30 2008-09-30 Method of manufacturing polymer and polymer for lithographic printing plate precursor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010084046A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5703297B2 (en) Planographic printing plate precursor and laminate
JP6615091B2 (en) Negative type planographic printing plate precursor
US8304170B2 (en) Negative-working imageable element and method of use
CN105372935B (en) can directly be put in printing and exempt from to handle thermosensitive version
WO2012090639A1 (en) Planographic printing plate precursor and planographic printing method
WO2008013766A1 (en) Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
US8329383B2 (en) Negative-working lithographic printing plate precursors
JP2011521298A (en) Method for manufacturing and developing positive-working imageable elements
TWI540124B (en) Gallotannic compounds for lithographic printing plate coating compositions
CN102649343A (en) Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
CN102132217A (en) Processing of positive-working lithographic printing plate precursor
CN102497988A (en) Positive-working radiation-sensitive imageable elements
WO2021241458A1 (en) On-press-development-type lithographic printing plate precursor, lithographic printing plate production method, and lithographic printing method
WO2021241457A1 (en) On-press-development-type lithographic printing plate precursor, lithographic printing plate production method, and lithographic printing method
CN102460308B (en) Preparing lithographc printing plates with enhanced contrast
JP2012529669A (en) Image-forming element for negative working
JP2010234589A (en) Original plate of on-machine development type lithographic printing plate and lithographic printing method
JP4667211B2 (en) Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate material
EP2566900B1 (en) Copolymers for near-infrared radiation-sensitive coating compositions for positive-working thermal lithographic printing plates
JP4685664B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate material
JP2010084046A (en) Method of manufacturing polymer and polymer for lithographic printing plate precursor
JP2011251431A (en) Lithographic printing plate precursor and plate making method of the same
JP5651538B2 (en) Planographic printing plate precursor and plate making method
JP2011213113A (en) Original plate for lithographic printing plate and method for plate making
JP5343667B2 (en) Intermediate layer coating solution for lithographic printing plate precursor, method for producing lithographic printing plate precursor, and lithographic printing plate precursor