JP2010066146A - Microarray measuring method - Google Patents

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  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for measuring a microarray substrate with positional variations of a simple substrate of a spot. <P>SOLUTION: The method for measuring a microarray substrate is composed of steps: adding a first substrate chemically reacting with a first reagent previously fixed to a spot to emit light; photographing the light of the spot to create a primary photometry image; creating a primary photometry image with the spot position specified from the primary photometry image; adding a specimen and a second reagent onto the microarray substrate after removing the first substance to bond to and react with each other and then removing the specimen not bonded to an antibody previously fixed to the spot and the second agent; adding a second substrate chemically reacting with the second reagent to emit light; photographing the light of the spot to create a secondary photometry image; and specifying the spot position in the secondary photometry image using the primary photometry analysis image and measuring the amount of luminescence of the spot. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、スポット単位の位置ばらつきがあるマイクロアレイを測定する方法に関する。   The present invention relates to a method for measuring a microarray having spot-based position variations.

マイクロアレイは生体分子の解析に利用されている。その利用は、遺伝子の解析や遺伝子から発現したタンパク質の機能解析など多岐に渡っている。例えば、マイクロアレイを利用した遺伝子解析であれば、個々の細胞、組織あるいは個体での遺伝子の発現の様子を網羅的に解析することが可能である。   Microarrays are used for analysis of biomolecules. Its use is diverse, including gene analysis and functional analysis of proteins expressed from genes. For example, in the case of gene analysis using a microarray, it is possible to comprehensively analyze gene expression in individual cells, tissues or individuals.

マイクロアレイはDNAチップとも呼ばれる。ガラスやシリコン製の1×3インチ大の小基板上に、ナノリットル単位の遺伝子溶液の液滴を高密度に点着させてマイクロメートル単位の微小なスポットを形成することで、ガラスやシリコン製の基板上に遺伝子断片を固定化する方法が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   The microarray is also called a DNA chip. A small spot made of glass or silicon is formed on a small substrate of 1 x 3 inches made of glass or silicon by applying droplets of the gene solution in nanoliter units at a high density to form microscopic spots. A method for immobilizing gene fragments on the substrate is disclosed (for example, see Patent Document 1).

この固定化物を含んだ基板上で、ブロッキング、洗浄、検出反応といった様々な化学反応を行うことで、網羅的な遺伝子解析や発現タンパクの機能解析を行うことが可能となっている。基板上での化学反応は、基板上に反応液を滴下することで行なわれ、検出は、化学反応で発生した発光や化学反応と物理的な力で発生した蛍光をスキャナやCCD(Charge Coupled Devices)カメラで読み取ることで行なわれる。読み取った画像を解析することで目的サンプルの有無や目的サンプル量を発光量から間接的に把握することができる。   By performing various chemical reactions such as blocking, washing, and detection reaction on the substrate containing the immobilized product, it is possible to perform comprehensive gene analysis and functional analysis of the expressed protein. The chemical reaction on the substrate is performed by dropping a reaction solution onto the substrate, and the detection is performed by using a scanner or a CCD (Charge Coupled Devices) to detect the luminescence generated by the chemical reaction or the fluorescence generated by the chemical reaction and physical force. This is done by reading with a camera. By analyzing the read image, the presence or absence of the target sample and the target sample amount can be indirectly grasped from the light emission amount.

CCDカメラやスキャナで読み取った画像を自動解析するには、基板の位置ずれや、スポット位置のずれを補正する技術が要求される。スポットの位置ずれ補正をするために、基準パターン領域として、試料解析時に、必ず発光するスポットと必ず発光しないスポットを設け、その発光パターンによりスポット位置を決め、補正を行なう方法が開示されている(例えば、特許文献2参照)。
特表平10−503841号公報 特開2003−307518号公報
In order to automatically analyze an image read by a CCD camera or a scanner, a technique for correcting the positional deviation of the substrate and the positional deviation of the spot is required. In order to correct the positional deviation of the spot, a method is disclosed in which a spot that always emits light and a spot that does not always emit light are provided as a reference pattern area at the time of sample analysis, the spot position is determined by the light emission pattern, and correction is performed ( For example, see Patent Document 2).
Japanese National Patent Publication No. 10-503841 JP 2003-307518 A

しかしながら、マイクロアレイ基板上にスポットを形成する際に、位置決めの精度が十分でなく、スポット単体の位置ばらつきが発生すると、予め定めたスポットの測定範囲と実際のスポット発光領域との間に位置ズレが生じ、正確な発光量の測定が出来ないという課題を有していた。   However, when the spot is formed on the microarray substrate, the positioning accuracy is not sufficient, and if the position variation of the spot alone occurs, there is a positional deviation between the predetermined spot measurement range and the actual spot emission region. As a result, there has been a problem that accurate measurement of the amount of luminescence cannot be performed.

そこで、本発明は、スポット単体の位置ばらつきによる発光領域の位置ズレが発生しても、正確な発光量の測定を行うことが出来るマイクロアレイ測定方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a microarray measurement method that can accurately measure the amount of light emission even if the light emission region is displaced due to the variation in the position of a single spot.

そしてこの目的を達成するために、本発明のマイクロアレイ測定方法は、マイクロアレイ基板上に設けられた複数のスポットの発光量を測定するマイクロアレイ測定方法において、前記スポットに予め固定された第一の試薬と化学反応して発光する第一の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第一の基質添加ステップと、前記スポットの光を撮影して1次測光画像を生成する1次測光ステップと、前記1次測光画像から前記スポットの位置を特定した1次測光解析画像を生成する第一の画像解析ステップと、前記第一の基質を除去した後、前記マイクロアレイ基板上に検体と第二の試薬を添加し結合反応させ、前記スポットに予め固定された抗体と結合しなかった前記検体と前記第二の試薬を除去する検体添加ステップと、前記第二の試薬と化学反応して発光する第二の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第二の基質添加ステップと、前記スポットの光を撮影して2次測光画像を生成する2次測光ステップと、前記1次測光解析画像を用いて前記2次測光画像内の前記スポットの位置を特定し、前記スポットの発光量を測定する第二の画像解析ステップとで構成される事を特徴としたものである。   In order to achieve this object, the microarray measurement method of the present invention is a microarray measurement method for measuring the amount of light emitted from a plurality of spots provided on a microarray substrate. A first substrate addition step of adding a first substrate that emits light upon chemical reaction onto the microarray substrate; a primary photometry step of photographing a light of the spot to generate a primary photometric image; and the primary A first image analysis step for generating a primary photometric analysis image specifying the position of the spot from the photometric image; and after removing the first substrate, adding a specimen and a second reagent on the microarray substrate A sample addition step for performing a binding reaction and removing the sample and the second reagent that did not bind to the antibody immobilized in advance on the spot; A second substrate addition step of adding a second substrate that emits light upon chemical reaction with a drug onto the microarray substrate; a secondary photometry step of photographing the spot light to generate a secondary photometry image; It is characterized by comprising a second image analysis step for specifying the position of the spot in the secondary photometric image using the primary photometric analysis image and measuring the light emission amount of the spot. .

また本発明のマイクロアレイ測定方法は、マイクロアレイ基板上に設けられた複数のスポットの発光量を測定するマイクロアレイ測定方法において、前記スポットに予め固定された第一の試薬と化学反応する第一の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第一の基質添加ステップと、前記スポットに励起光を照射し、前記スポットからの蛍光を撮影して1次測光画像を生成する1次測光ステップと、前記1次測光画像から前記スポットの位置を特定した1次測光解析画像を生成する第一の画像解析ステップと、前記第一の基質を除去した後、前記マイクロアレイ基板上に検体と第二の試薬を添加し結合反応させ、前記スポットに予め固定された抗体と結合しなかった前記検体と前記第二の試薬を除去する検体添加ステップと、前記第二の試薬と化学反応する第二の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第二の基質添加ステップと、前記スポットに励起光を照射し、前記スポットからの蛍光を撮影して2次測光画像を生成する2次測光ステップと、前記1次測光解析画像を用いて前記2次測光画像内の前記スポットの位置を特定し、前記スポットの発光量を測定する第二の画像解析ステップとで構成される事を特徴としたものである。   The microarray measurement method of the present invention is the microarray measurement method for measuring the amount of light emitted from a plurality of spots provided on a microarray substrate, wherein the first substrate that chemically reacts with the first reagent immobilized in advance on the spots is provided. A first substrate adding step to be added on the microarray substrate; a primary photometric step of irradiating the spot with excitation light and photographing a fluorescence from the spot to generate a primary photometric image; and the primary photometry A first image analysis step for generating a primary photometric analysis image specifying the position of the spot from the image, and after removing the first substrate, adding a specimen and a second reagent on the microarray substrate and binding A sample addition step for reacting and removing the sample that did not bind to the antibody immobilized in advance on the spot and the second reagent; A second substrate addition step of adding a second substrate that chemically reacts with a drug onto the microarray substrate, and irradiating the spot with excitation light and photographing the fluorescence from the spot to generate a secondary photometric image A secondary photometry step, and a second image analysis step of specifying the position of the spot in the secondary photometry image using the primary photometry analysis image and measuring the light emission amount of the spot. It is characterized by.

また本発明のマイクロアレイ測定方法は、マイクロアレイ基板上に設けられた複数のスポットの発光量を測定するマイクロアレイ測定方法において、前記マイクロアレイ基板上に設けられた基板位置決定用マークを透過した光を撮影した画像を用いて前記マイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出する第一の固定誤り検出ステップと、前記スポットに予め固定された第一の試薬と化学反応して発光する第一の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第一の基質添加ステップと、前記スポットの光を撮影して1次測光画像を生成する1次測光ステップと、前記1次測光画像から前記スポットの位置を特定した1次測光解析画像を生成する第一の画像解析ステップと、前記第一の基質を除去した後、前記マイクロアレイ基板上に検体と第二の試薬を添加し結合反応させ、前記スポットに予め固定された抗体と結合しなかった前記検体と前記第二の試薬を除去する検体添加ステップと、前記基板位置決定用マークを透過した光を撮影した画像を用いて前記マイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出する第二の固定誤り検出ステップと、前記第二の試薬と化学反応して発光する第二の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第二の基質添加ステップと、前記スポットの光を撮影して2次測光画像を生成する2次測光ステップと、前記マイクロアレイ基板上に設けられた確認マーク及び前記基板位置決定用マークを用いて前記1次測光解析画像と前記2次測光画像との間で相対的に生じるズレを補正する画像ズレ補正ステップと、前記1次測光解析画像を用いて前記2次測光画像内の前記スポットの位置を特定し、前記スポットの発光量を測定する第二の画像解析ステップとで構成される事を特徴としたものである。   In the microarray measurement method of the present invention, in the microarray measurement method for measuring the light emission amount of a plurality of spots provided on the microarray substrate, the light transmitted through the substrate positioning mark provided on the microarray substrate was photographed. A first fixing error detecting step for detecting a fixing position error of the microarray substrate using an image, and a first substrate that emits light by chemically reacting with a first reagent fixed in advance on the spot on the microarray substrate A first substrate addition step for adding to the light source, a primary photometry step for photographing the light of the spot to generate a primary photometric image, and a primary photometric analysis image for specifying the position of the spot from the primary photometric image A first image analysis step to generate a sample and a second sample on the microarray substrate after removing the first substrate The sample was added and allowed to bind, and the sample that did not bind to the antibody previously immobilized on the spot and the second reagent were removed, and the light transmitted through the substrate positioning mark was photographed. A second fixing error detecting step for detecting a fixing position error of the microarray substrate using an image; and a second substrate that chemically reacts with the second reagent to emit light, and is added to the microarray substrate. Substrate addition step, secondary photometry step of photographing the spot light and generating secondary photometry image, primary photometry using the confirmation mark and the substrate position determination mark provided on the microarray substrate An image misalignment correcting step for correcting a misalignment that occurs relatively between the analysis image and the secondary photometry image, and using the primary photometry analysis image, Serial identifies the position of the spot, in which is characterized in that is constituted by a second image analyzing step of measuring a light emission amount of the spot.

また本発明のマイクロアレイ測定方法は、マイクロアレイ基板上に設けられた複数のスポットの発光量を測定するマイクロアレイ測定方法において、前記マイクロアレイ基板上に設けられた基板位置決定用マークを透過した光を撮影した画像を用いて前記マイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出する第一の固定誤り検出ステップと、前記スポットに予め固定された第一の試薬と化学反応する第一の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第一の基質添加ステップと、前記スポットに励起光を照射し、前記スポットからの蛍光を撮影して1次測光画像を生成する1次測光ステップと、前記1次測光画像から前記スポットの位置を特定した1次測光解析画像を生成する第一の画像解析ステップと、前記第一の基質を除去した後、前記マイクロアレイ基板上に検体と第二の試薬を添加し結合反応させ、前記スポットに予め固定された抗体と結合しなかった前記検体と前記第二の試薬を除去する検体添加ステップと、前記基板位置決定用マークを透過した光を撮影した画像を用いて前記マイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出する第二の固定誤り検出ステップと、前記第二の試薬と化学反応する第二の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第二の基質添加ステップと、前記スポットに励起光を照射し、前記スポットからの蛍光を撮影して2次測光画像を生成する2次測光ステップと、前記マイクロアレイ基板上に設けられた確認マーク及び前記基板位置決定用マークを用いて前記1次測光解析画像と前記2次測光画像との間で相対的に生じるズレを補正する画像ズレ補正ステップと、前記1次測光解析画像を用いて前記2次測光画像内の前記スポットの位置を特定し、前記スポットの発光量を測定する第二の画像解析ステップとで構成される事を特徴としたものである。   In the microarray measurement method of the present invention, in the microarray measurement method for measuring the light emission amount of a plurality of spots provided on the microarray substrate, the light transmitted through the substrate positioning mark provided on the microarray substrate was photographed. A first fixing error detection step for detecting a fixing position error of the microarray substrate using an image, and a first substrate that chemically reacts with a first reagent previously fixed to the spot are added to the microarray substrate. A first substrate adding step, a primary photometric step of irradiating the spot with excitation light, photographing fluorescence from the spot to generate a primary photometric image, and a position of the spot from the primary photometric image. A first image analysis step for generating the identified primary photometric analysis image; and after removing the first substrate, the microphone A sample addition step for adding a specimen and a second reagent on the array substrate to cause a binding reaction, and removing the specimen and the second reagent that did not bind to the antibody immobilized in advance on the spot; and determining the substrate position A second fixing error detecting step for detecting a fixing position error of the microarray substrate using an image obtained by photographing the light transmitted through the mark, and a second substrate chemically reacting with the second reagent on the microarray substrate. Provided on the microarray substrate, a second substrate addition step for adding to the substrate, a secondary photometry step for irradiating the spot with excitation light, photographing fluorescence from the spot to generate a secondary photometry image, and the microarray substrate An image misalignment correction step for correcting a relative misalignment between the primary photometric analysis image and the secondary photometric image using the confirmation mark and the substrate position determination mark. And a second image analysis step of identifying the position of the spot in the secondary photometry image using the primary photometry analysis image and measuring the light emission amount of the spot. It is a thing.

以上のように、本発明のマイクロアレイ測定方法によれば、スポットに予め固定された第一の試薬と化学反応して発光する第一の基質を添加するステップと、前記スポットの光を撮影して1次測光画像を生成するステップと、前記1次測光画像から前記スポットの位置を特定した1次測光解析画像を生成するステップと、前記第一の基質を除去した後、前記マイクロアレイ基板上に検体と第二の試薬を添加し結合反応させ、前記スポットに予め固定された抗体と結合しなかった前記検体と前記第二の試薬を除去するステップと、前記第二の試薬と化学反応して発光する第二の基質を添加するステップと、前記スポットの光を撮影して2次測光画像を生成するステップと、前記1次測光解析画像を用いて前記2次測光画像内の前記スポットの位置を特定し、前記スポットの発光量を測定するステップとを行うことにより、スポット単体の位置ばらつきが発生しても、正確な発光量の測定を行なうことが出来る。   As described above, according to the microarray measurement method of the present invention, the step of adding the first substrate that emits light by chemically reacting with the first reagent immobilized in advance on the spot, and photographing the light of the spot A step of generating a primary photometric image, a step of generating a primary photometric analysis image specifying the position of the spot from the primary photometric image, and after removing the first substrate, a specimen is formed on the microarray substrate And a second reagent are added to cause a binding reaction, and the step of removing the specimen and the second reagent that did not bind to the antibody immobilized on the spot in advance, and a chemical reaction with the second reagent to emit light Adding a second substrate to generate a secondary photometric image by photographing the spot light, and using the primary photometric analysis image, the position of the spot in the secondary photometric image. Was identified by performing the steps of measuring the amount of light emission of the spot, even if the position variation of a single spot is generated, it is possible to perform measurement of accurate emission amount.

以下に、本発明の検出エリアの位置検出方法の実施の形態を図面とともに詳細に説明する。   Embodiments of a detection area position detection method according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

(実施の形態1)
本実施の形態のマイクロアレイ測定方法は、次のような、マイクロアレイ基板上に設けられた複数のスポットにおける、化学反応による発光または蛍光をCCDカメラで撮影し、その発光量から検体の量を測定するものに用いられる。このマイクロアレイ測定方法は、マイクロアレイ基板を固定するステージと、このステージを視野に収めたCCDカメラと、CCDカメラが撮影した画像を処理する信号処理装置とで構成されるマイクロアレイ測定装置において実現される。
(Embodiment 1)
In the microarray measurement method of the present embodiment, light emission or fluorescence due to a chemical reaction at a plurality of spots provided on a microarray substrate is photographed with a CCD camera, and the amount of a specimen is measured from the light emission amount. Used for things. This microarray measurement method is realized in a microarray measurement apparatus that includes a stage for fixing a microarray substrate, a CCD camera with the stage in the field of view, and a signal processing apparatus for processing an image captured by the CCD camera.

マイクロアレイ基板には、複数のスポットが設けられている。マイクロアレイ基板上の全てのスポットには、第一の基質と化学反応して発光する第一の試薬が均等に固定化されている。加えて、各スポットには、検体と、第二の基質と化学反応して発光する第二の試薬とを固定化するための抗体が固定化されている。ここで、これらの抗体は、複数の検体を測定出来るように、スポットごとに異なる抗体を固定化しても良い。測定の目的に応じて、抗体の種類は自由に変更可能である。このマイクロアレイ基板の作成については、後で詳細に説明する。   The microarray substrate is provided with a plurality of spots. The first reagent that chemically reacts with the first substrate and emits light is evenly immobilized on all spots on the microarray substrate. In addition, an antibody for immobilizing the specimen and the second reagent that emits light by chemical reaction with the second substrate is immobilized on each spot. Here, as these antibodies, different antibodies may be immobilized for each spot so that a plurality of specimens can be measured. Depending on the purpose of measurement, the type of antibody can be freely changed. The creation of the microarray substrate will be described in detail later.

ここで、図1を用いて本実施の形態のマイクロアレイ測定方法を説明する。図1は、本実施の形態における、マイクロアレイ測定方法の工程を示すフローチャートである。   Here, the microarray measurement method of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a flowchart showing the steps of the microarray measurement method in the present embodiment.

まず、ステージに固定されたマイクロアレイ基板に第一の基質を添加する、第一の基質添加ステップを行う(S101)。この第一の基質は、溶液であり、マイクロアレイ基板上の全てのスポットに均等に展開されるように添加される。この第一の基質が展開されると、第一の試薬と化学反応を起こし、各スポットで発光が開始される。   First, a first substrate addition step of adding a first substrate to the microarray substrate fixed on the stage is performed (S101). This first substrate is a solution and is added so that it is spread evenly on all spots on the microarray substrate. When this first substrate is developed, a chemical reaction occurs with the first reagent, and light emission is started at each spot.

次に、CCDカメラにてマイクロアレイ基板を撮影する、1次測光ステップを行う(S102)。このCCDカメラは例えばモノクロCCDカメラである。このCCDカメラを所定の時間(例えば1分間)露光し、その間にCCD素子が受けた光量を積分して各画素の輝度値として出力する。この輝度値を多値で表した画像を1次測光画像とする。   Next, a primary photometric step of photographing the microarray substrate with a CCD camera is performed (S102). This CCD camera is, for example, a monochrome CCD camera. The CCD camera is exposed for a predetermined time (for example, 1 minute), and the amount of light received by the CCD element during the exposure is integrated and output as the luminance value of each pixel. An image in which the luminance value is expressed in multiple values is taken as a primary photometric image.

図2(a)が、CCDカメラが出力する1次測光画像である。図2(a)において、201がスポットである。全てのスポットに均等に第一の試薬を固定化しているため、1次測光画像では、各スポットが均等に発光する。各スポットが発光しているため、スポットに相当するところの輝度値は周囲よりも大きくなる。なお、202、203は単体で位置ズレが発生したスポットを示している。   FIG. 2A shows a primary photometric image output from the CCD camera. In FIG. 2A, 201 is a spot. Since the first reagent is fixed uniformly to all spots, each spot emits light uniformly in the primary photometric image. Since each spot emits light, the luminance value corresponding to the spot is larger than the surroundings. Reference numerals 202 and 203 denote spots where positional deviation occurs alone.

次に、この1次測光画像の解析を行い、各スポットの中心座標とスポットの境界を特定する、第一の画像解析ステップを行う(S103)。この結果得られた画像を1次測光解析画像とし、図2(b)に示す。図2(b)において、204が各スポットの中心座標点、205が各スポットの境界(スポットサイズ)を表したものである。   Next, a first image analysis step is performed to analyze the primary photometric image and specify the center coordinates of each spot and the boundary between the spots (S103). The image obtained as a result is a primary photometric analysis image, which is shown in FIG. In FIG. 2B, 204 represents the center coordinate point of each spot, and 205 represents the boundary (spot size) of each spot.

次に、検体添加ステップを行う(S104)。このステップでは、まず、マイクロアレイ基板を洗浄して第一の基質を洗い流す。次に各スポットの抗体と反応する検体、及びこの検体と特異吸着する第二の試薬をマイクロアレイ基板上に過剰に添加し、予め各スポットに固定化しておいた抗体とこの検体中の抗原とを抗原抗体反応させて、特異吸着させる。そして抗原抗体反応が完了した後で、マイクロアレイ基板を洗浄して、抗体と反応しきれずに余った抗原と第二の試薬を除去する。   Next, a sample addition step is performed (S104). In this step, first, the microarray substrate is washed to wash away the first substrate. Next, a sample that reacts with the antibody at each spot and a second reagent that specifically adsorbs to this sample are added excessively on the microarray substrate, and the antibody immobilized on each spot in advance and the antigen in this sample are combined. Antigen-antibody reaction and specific adsorption. After the antigen-antibody reaction is completed, the microarray substrate is washed to remove the remaining antigen and the second reagent that cannot react with the antibody.

この検体添加ステップは、検体中の成分と固定化物を直接若しくは間接的に反応させる工程、標識物との反応工程や洗浄工程であり、2次測光を生じるための準備工程である。これらの工程は、固定化物が何であるか、検出対象物が何であるか、あるいは、どのような反応方式を用いて光放出をさせるか等の条件で異なってくる。例えば、抗体を固定化する場合でも、既に酵素標識された抗体を固定化するのか、未標識の抗体を固定化するのかで、反応工程が異なるし、抗体の標識物も、蛍光標識、酵素標識やビオチン標識等の標識物の違いでも反応工程は異なる。また、測定方法が、サンドイッチ法なのか、競合法なのかというような違いでも処理が異なる。ここでは、抗体を基板に固定化し、サンドイッチアッセイを行う場合の例を示す。ただし、本反応方式に限定されるものではない。   This specimen addition step is a process for reacting a component in the specimen with an immobilized product directly or indirectly, a reaction process with a labeled product, or a washing process, and a preparation process for generating secondary photometry. These steps differ depending on the conditions such as what the immobilized substance is, what the detection target is, and what reaction method is used for light emission. For example, even when an antibody is immobilized, the reaction process differs depending on whether an antibody already labeled with an enzyme is immobilized or an unlabeled antibody is immobilized. The reaction process varies depending on the difference in the label such as biotin or biotin. In addition, processing differs depending on whether the measurement method is a sandwich method or a competitive method. Here, an example in which an antibody is immobilized on a substrate and a sandwich assay is performed is shown. However, it is not limited to this reaction system.

次に、マイクロアレイ基板に第二の基質を添加する、第二の基質添加ステップを行う(S105)。この時、各スポットに特異吸着した抗原量は、検体によって異なるので、各スポットの発光輝度は違ってくる。なお、ここで添加する第二の基質は、第一の試薬とは化学反応を起こさず、第二の試薬とのみ反応して発光するものである。   Next, a second substrate addition step of adding a second substrate to the microarray substrate is performed (S105). At this time, since the amount of antigen specifically adsorbed to each spot differs depending on the specimen, the emission luminance of each spot varies. In addition, the 2nd substrate added here does not raise | generate a chemical reaction with a 1st reagent, but reacts only with a 2nd reagent, and light-emits.

次に、CCDカメラにてマイクロアレイ基板を撮影する、2次測光ステップを行う(S106)。ここでは、1次測光ステップと同様に、所定の時間CCDカメラを露光し、2次測光画像を生成する。この時、各スポットで発光量が異なり、場合によっては、ほとんど光を発しないスポットも存在する。図2(c)に2次測光画像の模式図を示す。   Next, a secondary photometry step of photographing the microarray substrate with a CCD camera is performed (S106). Here, as in the primary photometric step, the CCD camera is exposed for a predetermined time to generate a secondary photometric image. At this time, the amount of light emission is different for each spot, and in some cases, there is a spot that hardly emits light. FIG. 2C shows a schematic diagram of the secondary photometry image.

次に、この2次測光画像の解析を行い、各スポットの発光量を特定する、第二の画像解析ステップを行う(S107)。まず、図2(d)に示すように2次測光画像を、第一の画像解析ステップで得た1次測光解析画像と重ね合わせる。すると、発光量の検出を行うべきスポットの中心座標とスポットの境界が分かる。各スポットにおいて、スポットの境界内の各画素の輝度値を積算して、それを発光量とする。最後に、この発光量を、予め作成しておいた検量線にあてはめ、検体中の成分量を求める。   Next, the secondary photometric image is analyzed, and a second image analysis step for specifying the light emission amount of each spot is performed (S107). First, as shown in FIG. 2D, the secondary photometric image is superimposed on the primary photometric analysis image obtained in the first image analysis step. Then, the center coordinates of the spot where the amount of light emission should be detected and the boundary between the spots are known. In each spot, the luminance values of the respective pixels within the boundary of the spot are integrated to obtain the light emission amount. Finally, this luminescence amount is applied to a calibration curve prepared in advance to determine the component amount in the sample.

なお、第一の基質添加ステップと第二の基質添加ステップにおいて、化学反応により蛍光物質を生成する時には、1次測光ステップと2次測光ステップを実行している間、その蛍光物質を励起するための励起光を外部から照射する。   In the first substrate addition step and the second substrate addition step, when a fluorescent substance is generated by a chemical reaction, the fluorescent substance is excited during the execution of the primary photometry step and the secondary photometry step. The excitation light is irradiated from the outside.

ここで、第一の基質及び第二の基質として利用可能な発光基質を次に示す。ルミノール、イソルミノール、ルシフェリン(ホタルルシフェリン、セレンテラジン、ウミホタルルシフェリン)、ルシゲニン、ロフィン、アクリジニウムエステル、没食子酸、インドール誘導体、Disodium 3−(4−methoxyspiro{1,2−dioxetane−3,2´−(5´−chloro)tricyclo〔3.3.1.13,7〕decan}−4−yl)phenyl phosphate、Disodium 2−chloro−5−(4−methoxyspiro{1,2−dioxetane−3,2´−(5´−chloro)tricyclo〔3.3.1.13,7〕decan}−4−yl)phenyl phosphate、3−(2´−Spiroadamantane)−4−methoxy−4−(3´´−phosphoryloxy)phenyl−1,2−dioxetane(AMPPD)、ルミジェンPPD、Galacton(登録商標)などがある。 Here, luminescent substrates that can be used as the first substrate and the second substrate are shown below. Luminol, isoluminol, luciferin (firefly luciferin, coelenterazine, Cypridina luciferin), lucigenin, lophine, acridinium ester, gallic acid, indole derivatives, Disodium 3- (4-methoxyspiro {1,2-dioxetane-3,2'- (5'-chloro) tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decan} -4-yl) phenyl phosphate, Disodium 2-chloro-5- (4-methoxyspiro {1,2-dioxetane-3,2 '- (5'-chloro) tricyclo [3.3.1.1 3, 7] decan} -4-yl) phenyl phosphate , 3- (2'-Spiroadamantane) -4-metho y-4- (3''-phosphoryloxy) phenyl-1,2-dioxetane (AMPPD), Rumijen PPD, Galacton (registered trademark) and the like.

また、第一の基質及び第二の基質として利用可能な蛍光基質を次に示す。cascade Blue、Alexa−405、Alexa−350、AMCA、Pacific Blue、Marina Blue、Cy2、BODIPY FL、Fluorescein、Alexa−488、Oregon Green−488、Alexa−500、Oregon Green−514、Alexa−430、Alexa−514、Cascade Yellow、Alexa−532、Alexa−555、Cy3、Alexa−546、PE−R、Tetrametylrhodamine、Rhodamine Red、Alexa−568、Texas Red、Alexa−594、Alexa−633、APC、Alexa−647、Cy5、Alexa−660、Cy3.5、Cy5.5、Alexa−680、Alexa−700、Cy7、Alexa−750、SYBR Green I、SYBR Green II、SYBR Gold、EtBr、MDPF、SYPRO Orange、SYPRO Ruby、SYPRO Rose、SYPRO Red、SYPRO Tangerin、Pro−Q Emerald 488、Pro−Q Diamond、Pro−Q Emerald 300、Pro−Q Sapphire 365、Pro−Q Sapphire 488、ELF39、ELF97、DDAO、Amplex Gold、Amplex Red、Tyramine、p−Hydroxyphenyl Propionic acid(HPPA)、4−Metylumbellipheryl−β―D−galactoside、4−Metylumbellipherylphosphate、3−(p−Hydroxyphenyl)propionic acid、Pyrene、BBTP(2´−[2−benzothiazoyl]−6´−hydroxybenzothiazole phosphate)などがある。   In addition, fluorescent substrates that can be used as the first substrate and the second substrate are shown below. cascade Blue, Alexa-405, Alexa-350, AMCA, Pacific Blue, Marina Blue, Cy2, BODIPY FL, Fluorescein, Alexa-488, Oregon Green-488, Alexa-500, Oregon Green-14, Oregon Green-14 514, Cascade Yellow, Alexa-532, Alexa-555, Cy3, Alexa-546, PE-R, Tetramethylrhodamine, Rhodamine Red, Alexa-568, Texas Red, Alexa-594, Alexa-633a, 64C Alexa-660, Cy3.5, Cy5.5, Alexa 680, Alexa-700, Cy7, Alexa-750, SYBR Green I, SYBR Green II, SYBR Gold, EtBr, MDPF, SYPRO Orange, SYPRO Ruby, SYPRO Rose, SYPRO Red, SYPRO Red, SYPRO Red, SYPRO Red, SYPRO Red, SYPRO Red, SYPRO Red, SYPRO Red, SYPRO Red Q Diamond, Pro-Q Emerald 300, Pro-Q Sapphire 365, Pro-Q Sapphire 488, ELF39, ELF97, DDAO, Amplex Gold, Amplex Red, Tyramine, p-HydropropylP) D-galact side, 4-Metylumbellipherylphosphate, 3- (p-Hydroxyphenyl) propionic acid, Pyrene, BBTP (2'- [2-benzothiazoyl] -6'-hydroxybenzothiazole phosphate) and the like.

なお、添加用の基質2種類と固定化用試薬2種類の選択において、添加された第一の基質及び第二の基質は、固定化された2試薬の内、個々の固定化試薬に対してのみ反応し、相互干渉はしないものを選ぶ必要がある。   In addition, in the selection of the two types of substrates for addition and the two types of immobilization reagents, the added first substrate and second substrate are different from each of the immobilized two reagents. It is necessary to choose one that only reacts and does not interfere with each other.

ここで、マイクロアレイ基板上に、抗体を固定化してスポットを形成する手順について説明する。図3は、測定用マイクロアレイ基板の作製工程を示した図である。   Here, a procedure for forming a spot by immobilizing an antibody on a microarray substrate will be described. FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing process of a measurement microarray substrate.

まず、塗布用の基板301を用意する。塗布用の基板301としては、ガラス基板やポリスチレンのようなプラスチック基板が利用可能である。また、基板上のアレイ領域302に、表面化学処理(シラン化、アミノ化、アルデヒド化、チオール化、エポキシ化、活性エステル化)、金被覆、アルミニウム被覆、ニトロセルロース、フッ化ビニリデン、ポリリシンなどカチオン性ポリマー被覆、ポリアクリルアミドゲル、アガロースゲルなどの親水性ポリマー被覆、光反応性、多孔質化といった処理を施して用いても良い。   First, a coating substrate 301 is prepared. As the coating substrate 301, a glass substrate or a plastic substrate such as polystyrene can be used. In addition, a surface chemical treatment (silanization, amination, aldehyde formation, thiolation, epoxidation, active esterification), gold coating, aluminum coating, nitrocellulose, vinylidene fluoride, polylysine, etc. It may be used after being subjected to a treatment such as a hydrophilic polymer coating such as a conductive polymer coating, a polyacrylamide gel or an agarose gel, a photoreactivity, or a porous structure.

次に、発光若しくは蛍光に関与する2試薬を含んだ混合液305を調整する。調整した溶液は、穏やかに均一になるまで攪拌した上で塗布を行なう。1次測光に直接関与する試薬303及び2次測光に直接関与する試薬として利用できるのは、蛍光タンパク(EBFP、ECFP、TagCFP、AmCyan、Midoriishi−Cyan、CFP、TurboGFP、AcGFP、TagGFP、Azami−Green、ZsGreen、EmGFP、EGFP、GFP2、HyPer、TagYFP、EYFP、Venus、YFP、PhiYFP、PhiYFP−m、TurboYFP、ZsYellow、Kusabira−Orange、TurboRFP、DsRed−Express、DsRed2、TagRFP、DsRed−Monomer、AsRed2、TurboFP602、JRed、KillerRed、HcRed、Keima−Red、PS−CFP2、Dendra2、Kaede、Kikume Green−Red、EosFP、PA−GFP、Dronpa−Green、KFPRed(活性化後))、ルシフェラーゼ(非分泌型のものとして、ホタル由来、ウミシイタケ由来、クリックビートル由来、鉄道虫由来、イリオモテボタル由来のもの、分泌型のものとして、コペポーダ由来、ウミホタル由来のもの)、アルカリホスファターゼ(bovine、bovine kidney、bovine liver、calf intestine、escherichia coli、human placenta、porcine intestinal mucosa、porcine kidney、rabbit intestine、shrimp、Antarctic Phosphatase)、ペルオキシダーゼ(horseradish、arthromyces ramosus、glycine max)、グルコースオキシダーゼ(Aspergillus属由来、penicillium属由来)、β―ガラクトシダーゼ(aspergillus oryzae、bovine liver、bovine testes、escherichia coli、kluyveromyces lactis、saccharomyces fragilis)、β―グルクロニダーゼ(bovine liver、escherichia coli、Helix aspersa、Helix pomatia、patella vulgata)、エクオリン、その他の発光や蛍光反応に関与可能なタンパク、蛍光標識したDNAプローブ、発光標識したDNAプローブ、蛍光標識したRNAプローブ、発光標識したRNAプローブが利用できる。2次測光に間接的に関与する試薬としては、抗体、抗原、DNAプローブ、RNAプローブ、タンパク、ペプチド、有機分子、糖鎖、細胞が利用可能である。   Next, a mixed solution 305 containing two reagents involved in light emission or fluorescence is prepared. The prepared solution is stirred and gently applied until uniform. As a reagent 303 directly involved in primary photometry and a reagent directly involved in secondary photometry, fluorescent proteins (EBFP, ECFP, TagCFP, AmCyan, Midoriishi-Cyan, CFP, TurboGFP, AcGFP, TagGFP, Azami-Green) can be used. , ZsGreen, EmGFP, EGFP, GFP2, HyPer, TagYFP, EYFP, Venus, YFP, PhiYFP, PhiYFP-m, TurboYFP, ZsYellow, Kusabila-Orange, TurboRFP, DsR , JRed, KillerRed, HcRed, Keima-Red, PS-C P2, Dendra2, Kaede, Kikume Green-Red, EosFP, PA-GFP, Dronpa-Green, KFPRed (after activation), luciferase (non-secretory type, firefly-derived, Renilla-derived, click beetle-derived, railworm Origin, Iriomote botal, Secretory type, Copepoda, Sea firefly, Alkaline phosphatase (bovine, bovine kidney, bovine live, calf intestine, escherichia coli, human plasticine, tein, pincentain rabbit intestine, shrimp, Atlantic Phosphatase), peroxidase (horseradish, arthromyces ramosus, glycine max), glucose oxidase (Aspergillus genus, Penicillium genus), beta-galactosidase (aspergillus oryzae, bovine liver, bovine testes, escherichia coli, kluyveromyces lactis, saccharomyces fragilis), β -Glucuronidase (bovine liver, escherichia coli, Helix aspersa, Helix pomatia, patella vulgata), aequorin and other luminescence and fluorescence reactions can be involved Protein, fluorescently labeled DNA probes, luminescent labeled DNA probes, fluorescently labeled RNA probes, luminescent labeled RNA probes can be used. As reagents indirectly involved in secondary photometry, antibodies, antigens, DNA probes, RNA probes, proteins, peptides, organic molecules, sugar chains, and cells can be used.

2試薬の内、1試薬は、全てのスポット201の塗布状況を特定するための試薬で、1次測光に直接関与する試薬303である。もう1試薬は、検体量を測定するための試薬で2次測光に直接若しくは間接的に関与する試薬304である。また、1次測光に直接関与する試薬303は、1次測光時にどのスポット201においても、ほぼ同様の輝度を表示させるために、各スポットにおいて同濃度ずつ塗布されるように調整する。   Of the two reagents, one reagent is a reagent 303 for specifying the application state of all the spots 201 and is a reagent 303 that directly participates in primary photometry. The other reagent is a reagent 304 for measuring the amount of the sample, and is a reagent 304 that directly or indirectly participates in secondary photometry. In addition, the reagent 303 that is directly involved in the primary photometry is adjusted so that the same concentration is applied to each spot in order to display almost the same luminance in any spot 201 during the primary photometry.

調整した混合液305は、塗布機を用いて基板上に固定化する。塗布方法としては、様々な方法があるが、例えば、混合液を塗布機のピン306に溶液を付着させ、付着した混合液305を基板表面に押し当てることで混合液305を基板のアレイ領域302へ塗布を行なう。代表的な塗布方法としては、光リソグラフィ、マイクロスタンプ、メカニカルマイクロスポット、マイクロピペッティング、マイクロディスペンシング、ジェットプリント、エレクトロスプレーデポジション、ナノリソグラフィがある。塗布を行なった試薬は、基板のアレイ領域302でマトリクス状に固定化される。固定化されたスポット201は、均一に混合した塗布溶液305を固定化しているために、2試薬が各スポット中で偏りなく均一に固定化されるので、2試薬それぞれが示す各スポットの発光形状は、同様のものとなる。そのため、1次測光画像の各スポットの解析データを基に2次測光画像の検出エリアを規定することができる。   The adjusted mixed liquid 305 is immobilized on the substrate using a coating machine. There are various coating methods. For example, the mixed liquid 305 is applied to the pins 306 of the coating machine, and the mixed liquid 305 is pressed against the substrate surface to apply the mixed liquid 305 to the array region 302 of the substrate. Apply to. Typical coating methods include photolithography, micro stamping, mechanical micro spotting, micro pipetting, micro dispensing, jet printing, electrospray deposition, and nano lithography. The applied reagent is fixed in a matrix in the array region 302 of the substrate. Since the fixed spot 201 fixes the uniformly mixed coating solution 305, the two reagents are fixed uniformly in each spot, so the light emission shape of each spot indicated by each of the two reagents Will be similar. Therefore, the detection area of the secondary photometric image can be defined based on the analysis data of each spot of the primary photometric image.

基板への固定化が完了したら、ブロッキング剤を固定化基板上に添加する。このとき利用可能なブロッキング剤としては、スキムミルク、BSA、フィシュゼラチン、レクチン、血清、カゼイン、合成ポリマー、植物成分由来のブロッキング剤などで、これらを組み合わせて利用したり、界面活性剤を混合して利用したりすることができる。ブロッキングを行なうことで、基板上の固定化領域以外で生じる非特異な反応を抑制することができる。   When the immobilization on the substrate is completed, a blocking agent is added onto the immobilization substrate. Blocking agents that can be used at this time include skim milk, BSA, fish gelatin, lectin, serum, casein, synthetic polymers, blocking agents derived from plant components, etc., which can be used in combination or mixed with a surfactant. Can be used. By performing blocking, it is possible to suppress non-specific reactions that occur outside the immobilization region on the substrate.

ブロッキングが完了したら、基板上のブロッキング剤を排除する。ブロッキング剤を完全に除去するために、洗浄操作を数回繰り返す。   When blocking is complete, the blocking agent on the substrate is eliminated. In order to completely remove the blocking agent, the washing operation is repeated several times.

次に、場合によっては、1次測光に関与するバッファで基板洗浄を1回行なう。この操作を行なうのは、上記洗浄操作と基質を溶解してあるバッファの種類やpHが大きく異なる際に行なう。また、この操作は、バッファ交換と言われる操作で、基質を添加した際に、速やかな光放出反応を行なうことが可能となる。このようにして、マイクロアレイ基板が作製される。   Next, in some cases, the substrate is cleaned once with a buffer involved in primary photometry. This operation is performed when the type and pH of the washing operation and the buffer in which the substrate is dissolved are greatly different. Further, this operation is an operation called buffer exchange, and when a substrate is added, it is possible to perform a quick light emission reaction. In this way, a microarray substrate is produced.

以上のように本実施の形態においては、まず、マイクロアレイ基板上の全てのスポットが発光する化学反応を起こさせて、スポットの位置を解析しておき、その後、実際の測定を行うようにしたので、スポット単位で位置ズレが発生していても、測定すべきスポットの範囲を特定することが出来るため、正確に発光量を測定することが可能となる。   As described above, in this embodiment, first, a chemical reaction in which all the spots on the microarray substrate emit light is caused to analyze the positions of the spots, and then the actual measurement is performed. Even if positional deviation occurs in spot units, the range of the spot to be measured can be specified, so that it is possible to accurately measure the light emission amount.

なお、第一の画像解析ステップの後で、マイクロアレイ基板に対する、抗体の塗布エラーの検出も可能である。図4は、1次測光画像から判別可能な塗布エラーの例を示した図である。   Note that it is also possible to detect an antibody application error on the microarray substrate after the first image analysis step. FIG. 4 is a diagram showing an example of a coating error that can be discriminated from the primary photometric image.

塗布に成功した場合、1次測光の段階で、エリア401内にある全てのスポット201が発光する。図4(a)のように塗布が成功していれば、全スポット201に同濃度の1次測光用の試薬が塗布されていることになるので、どのスポットもほぼ同様の円形で、スポットサイズもほぼ均一なものが得られる。   If the application is successful, all the spots 201 in the area 401 emit light at the primary photometric stage. If the application is successful as shown in FIG. 4 (a), the same concentration of primary photometric reagent is applied to all spots 201. Therefore, each spot has a substantially similar circular shape and a spot size. Can be obtained.

また、図4(b)は、合否の境界にあたるような塗布の図である。ここには、形状が小さいスポット402、位置ズレスポット403、楕円化したスポット404といった塗布時の形状ばらつきを示した。このようなばらつきを、合格とするか不合格とするかは、予め設定したばらつきの範囲内に収まったスポットかどうかで判断を行なう。範囲の設定内容としては、塗布位置、円の形状、輝度値である。これらの解析パラメータの範囲設定の仕方で、塗布の合否判定を行なうことができる。   Further, FIG. 4B is a diagram of application that corresponds to a pass / fail boundary. Here, variation in shape at the time of application such as a spot 402 having a small shape, a misalignment spot 403, and an elliptical spot 404 is shown. Whether such a variation is acceptable or not is determined based on whether or not the spot is within a preset variation range. The setting contents of the range are the application position, the shape of the circle, and the luminance value. Application pass / fail judgment can be made by setting the ranges of these analysis parameters.

図4(c)は、塗布エラーと判断した場合の図である。塗布エラーによるスポット形状としては、形状が小さすぎたスポット406、形状が変形しすぎたスポット408、形状が大きすぎたスポット405、位置がずれすぎたスポット407がある。塗布エラーの輝度値としては、形状変化に伴う輝度値の上昇や低下及びソフト上の検知限界を超えた形状変化による識別不能といった問題が発生する。エラースポットの判断基準としては、例えば、スポットサイズの直径が14〜16画素に収まり、スポット位置の誤差が10%以内に収まっていること、というように設定すれば良い。そして、エラースポットと判定されたスポットと、このエラースポットによる影響で正確な発光量の測定が困難であると判断されるスポットは第二の画像解析ステップにおいて、発光量を測定しないようにする。このようにすれば、マイクロアレイ基板におけるスポットの塗布エラーに起因する測定不良を無くすことが可能となる。   FIG. 4C is a diagram when it is determined that an application error has occurred. Spot shapes due to application errors include a spot 406 whose shape is too small, a spot 408 whose shape is too deformed, a spot 405 whose shape is too large, and a spot 407 whose position is too shifted. As the luminance value of the application error, there arises a problem that the luminance value increases or decreases with the shape change and cannot be identified due to the shape change exceeding the detection limit on the software. The error spot determination criteria may be set such that, for example, the spot size diameter is within 14 to 16 pixels and the spot position error is within 10%. The spot determined to be an error spot and the spot determined to be difficult to measure the exact light emission amount due to the influence of the error spot are not measured in the second image analysis step. In this way, it is possible to eliminate measurement defects due to spot coating errors on the microarray substrate.

(実施の形態2)
本実施の形態においては、マイクロアレイ基板上に、確認マークと基板位置決定用マークとを設け、このマークを用いてマイクロアレイ基板の位置ズレを検出する点が実施の形態1と異なる。
(Embodiment 2)
The present embodiment is different from the first embodiment in that a confirmation mark and a substrate position determination mark are provided on the microarray substrate, and the positional displacement of the microarray substrate is detected using this mark.

まず、図5を用いて、確認マークと基板位置決定用マークについて説明する。図5は、確認マーク501と基板位置決定用マーク502の設置位置を示した図である。   First, the confirmation mark and the substrate position determination mark will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram showing the installation positions of the confirmation mark 501 and the substrate position determination mark 502.

確認マーク501の設置位置は、図5(a)に示したように、アレイ領域302の外周部の頂点位置に設ければ良い。確認マーク501を各頂点箇所に設置することで、設置数を最小に抑えることができる。また、測定画像中に全ての確認マーク501があるようにCCDカメラの視野を調整すれば、1つのスポットも取りこぼし無く、測定出来る。   The installation position of the confirmation mark 501 may be provided at the apex position of the outer peripheral portion of the array region 302 as shown in FIG. By installing the confirmation mark 501 at each apex location, the number of installations can be minimized. Further, if the field of view of the CCD camera is adjusted so that all confirmation marks 501 are present in the measurement image, one spot can be measured without being missed.

また、アレイ領域302が正方形や長方形のように上下を逆にしたり、左右を反転させたりしても対称な場合は、4つの確認マーク501のうちいずれか1つの確認マーク501のそばに、基板位置決定用のマーク502を設ければ、マイクロアレイ基板の固定向きが間違っていることを判別可能となる。   If the array region 302 is symmetric even if it is reversed upside down, such as a square or a rectangle, or reversed right and left, the substrate is placed near any one of the four confirmation marks 501. If the position determination mark 502 is provided, it is possible to determine that the fixing direction of the microarray substrate is wrong.

ここで確認マーク501及び基板位置決定用マーク502は、第一の基質及び第二の基質と反応することが出来ればよく、それぞれ第一の基質と第二の基質と反応する2種類以上の試薬を混合したものであっても良い。   Here, the confirmation mark 501 and the substrate position determination mark 502 need only be able to react with the first substrate and the second substrate, and two or more types of reagents that react with the first substrate and the second substrate, respectively. May be mixed.

また、アレイ領域302の塗布エリアを広くとるためには、図5(b)に示すように、確認マーク501の設置位置をアレイ領域302内側の各頂点位置に設ければ良く、その際の基板位置決定用マーク502の設置位置は、図5(a)と同様に確認マーク501に隣接する位置に設ければ良い。   Further, in order to increase the application area of the array region 302, as shown in FIG. 5B, the installation position of the confirmation mark 501 may be provided at each vertex position inside the array region 302, and the substrate at that time The position determination mark 502 may be installed at a position adjacent to the confirmation mark 501 as in FIG.

次に、図6を用いて本実施の形態のマイクロアレイ測定方法を説明する。図6は、本実施の形態におけるマイクロアレイ測定方法の工程を示すフローチャートである。図6において、実施の形態1で示した図1と異なるところは、1次測光ステップ(S102)と第一の画像解析ステップ(S103)の間に、第一の固定誤り検出ステップ(S201)を設けた点と、2次測光ステップ(S106)と第二の画像解析ステップ(S107)の間に、第二の固定誤り検出ステップ(S202)と画像ズレ補正ステップ(S203)を設けた点である。その他のステップにおいては、実施の形態1と同じであるので、同じ符号を付して説明を省略する。   Next, the microarray measurement method of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a flowchart showing the steps of the microarray measurement method in the present embodiment. 6 differs from FIG. 1 described in the first embodiment in that a first fixed error detection step (S201) is performed between the primary photometry step (S102) and the first image analysis step (S103). The second fixed error detection step (S202) and the image shift correction step (S203) are provided between the provided point and the secondary photometry step (S106) and the second image analysis step (S107). . The other steps are the same as those in the first embodiment, and thus the same reference numerals are given and description thereof is omitted.

まず、第一の固定誤り検出ステップについて説明する。このステップは、マイクロアレイ基板が、上下左右の向きを誤ってステージに固定されているか否かを検出して、向きを誤って固定されていると判定すると、ユーザーにマイクロアレイ基板の固定エラーを通知するものである。   First, the first fixed error detection step will be described. This step detects whether the microarray substrate is fixed to the stage by mistake in the up / down / left / right orientation, and if it is determined that the orientation is wrongly fixed, notifies the user of the microarray substrate fixation error. Is.

例えば、マイクロアレイ基板上の基板位置決定用マーク502が、1次測光画像の左上に存在するように設けられている場合に、1次測光画像内の基板位置決定用マーク502が画像の左上以外の位置に検出された場合には、マイクロアレイ基板が向きを誤って固定されていると判定して、ユーザーに通知する。   For example, when the substrate position determination mark 502 on the microarray substrate is provided so as to exist at the upper left of the primary photometry image, the substrate position determination mark 502 in the primary photometry image is other than the upper left of the image. When the position is detected, it is determined that the microarray substrate is fixed in the wrong direction, and the user is notified.

次に、第二の固定誤り検出ステップについて説明する。このステップは、検体添加ステップ(S104)を、マイクロアレイ基板をステージから取り外して実施した時に必要となる。検体添加ステップを終えて、マイクロアレイ基板を再びステージに固定した際に、固定向きに誤りがあるとユーザーに通知する。具体的方法は第一の固定誤り検出ステップと同じであるので、説明を省略する。   Next, the second fixed error detection step will be described. This step is necessary when the sample addition step (S104) is performed with the microarray substrate removed from the stage. When the sample addition step is completed and the microarray substrate is fixed to the stage again, the user is notified that there is an error in the fixing direction. Since the specific method is the same as the first fixed error detection step, the description thereof is omitted.

次に、画像ズレ補正ステップについて説明する。このステップでは、確認マーク501と基板位置決定用マーク502を用いて、1次測光解析画像と2次測光画像の位置ズレを補正する。位置ズレには、上下左右のズレと、回転ズレが考えられるが、上下左右のズレは、1次測光解析画像と2次測光画像のお互いの確認マーク501の相対位置を検出して、どちらかの画像をずらすように画像補正を行えば解消出来る為、詳細な説明は省略する。ここでは、回転ズレを補正する2つの形態について、以下に説明する。以下の例では、1次測光画像に対して、2次測光画像が相対的に回転している場合を示している。   Next, the image misalignment correction step will be described. In this step, the positional deviation between the primary photometric analysis image and the secondary photometric image is corrected using the confirmation mark 501 and the substrate position determination mark 502. The positional deviation may be vertical, horizontal, or rotational, and the vertical, horizontal, or horizontal deviation is detected by detecting the relative position of the confirmation mark 501 between the primary photometric analysis image and the secondary photometric image. If the image correction is performed so as to shift the image, the detailed description is omitted. Here, two forms for correcting the rotational deviation will be described below. The following example shows a case where the secondary photometric image is relatively rotated with respect to the primary photometric image.

1つ目は、中点座標を利用した補正方法である。図7は、中点座標を用いた2次測光画像の基板位置の補正及び検出エリアの決定方法を示した図である。まず、1次測光解析画像701及び2次測光画像702から確認マーク501の中心座標及び基板位置決定用マーク502の中心座標を算出する。   The first is a correction method using midpoint coordinates. FIG. 7 is a diagram showing a method for correcting the substrate position of the secondary photometric image and determining the detection area using the midpoint coordinates. First, the central coordinates of the confirmation mark 501 and the central coordinates of the substrate position determination mark 502 are calculated from the primary photometric analysis image 701 and the secondary photometric image 702.

次に、基板位置決定用マーク502に最も近い確認マーク501と対角に位置する確認マーク501の中心座標間を直線で結び、直線上の中点座標を算出する。そして、1次測光解析画像中に中点位置703aを記した画像703に対し、2次測光画像中に中点位置704aを記した画像704を移動させ、中点位置を重ね合わせる。   Next, the center coordinates of the confirmation mark 501 closest to the substrate position determination mark 502 and the central coordinates of the confirmation mark 501 positioned diagonally are connected by a straight line, and the midpoint coordinates on the straight line are calculated. Then, the image 704 with the midpoint position 704a in the secondary photometric image is moved relative to the image 703 with the midpoint position 703a in the primary photometric analysis image, and the midpoint positions are superimposed.

次に、1次測光解析画像と2次測光画像の中点位置を合致させた画像705に対し、中点位置を固定し、この点を中心に、1次測光解析画像の確認マーク501の中心座標に対し、2次測光画像の確認マーク501の中心座標が合致するように画像を回転移動させることで2次測光画像を補正した2次測光補正画像706とする。   Next, the midpoint position is fixed with respect to the image 705 in which the midpoint positions of the primary photometric analysis image and the secondary photometric image are matched, and the center of the confirmation mark 501 of the primary photometric analysis image is centered on this point. A secondary photometric correction image 706 is obtained by correcting the secondary photometric image by rotating the image so that the center coordinate of the confirmation mark 501 of the secondary photometric image matches the coordinate.

そして、第二の画像解析ステップにおいて、位置補正を行なった2次測光補正画像と1次測光解析画像の位置データに基づき2次測光補正画像の検出エリアを規定して、検出エリア内のスポットの測定を行う。   In the second image analysis step, the detection area of the secondary photometry correction image is defined based on the position data of the secondary photometry correction image and the primary photometry analysis image that have been subjected to position correction. Measure.

2つ目の補正方法は、原点座標を用いるものである。図8は、原点座標を用いた2次測光画像の基板位置の補正及び検出エリアの決定方法を示した図である。まず、1次測光解析画像801及び2次測光画像802から確認マーク501の中心座標及び基板位置決定用マーク502の中心座標を算出する。次に、基板位置決定用マーク502に最も近い確認マーク501の中心座標を原点座標とする。   The second correction method uses origin coordinates. FIG. 8 is a diagram illustrating a method for correcting the substrate position of the secondary photometric image and determining the detection area using the origin coordinates. First, the center coordinates of the confirmation mark 501 and the center coordinates of the substrate position determination mark 502 are calculated from the primary photometry analysis image 801 and the secondary photometry image 802. Next, the center coordinate of the confirmation mark 501 closest to the substrate position determination mark 502 is set as the origin coordinate.

次に、1次測光解析画像中に原点位置803aを記した画像803に対し、2次測光画像中に原点位置804aを記した画像804を移動させ、原点座標位置を重ね合わせる。そして、1次測光解析画像と2次測光画像の原点位置を合致させた画像805に対し、原点座標位置を固定し、この点を中心に、1次測光解析画像で取得した確認マーク501の中心座標、及び基板位置決定用マーク502の中心座標に対し、2次測光画像で取得した確認マーク501の中心座標、及び基板位置決定用マーク502の中心座標が合致するように画像を回転移動させる。この工程を簡素化するには、原点座標と対角に位置する確認マーク501の中心座標通しが一致するまで画像を回転移動させたのでも良い。1次測光解析画像と2次測光画像が完全に重なり合ったところで、基板の位置補正が完了する。   Next, the image 804 with the origin position 804a in the secondary photometry image is moved to the image 803 with the origin position 803a in the primary photometry analysis image, and the origin coordinate positions are superimposed. Then, the origin coordinate position is fixed with respect to the image 805 in which the origin positions of the primary photometry analysis image and the secondary photometry image are matched, and the center of the confirmation mark 501 acquired from the primary photometry analysis image is centered on this point. The image is rotated so that the center coordinates of the confirmation mark 501 acquired in the secondary photometric image and the center coordinates of the substrate position determination mark 502 coincide with the coordinates and the center coordinates of the substrate position determination mark 502. In order to simplify this process, the image may be rotated and moved until the center coordinate of the confirmation mark 501 located diagonally with the origin coordinate coincides. When the primary photometric analysis image and the secondary photometric image completely overlap, the substrate position correction is completed.

原点位置を基準に基板の位置補正を行なった画像806の位置データと1次測光により得られたスポット201の位置データに基づき2次測光画像の検出エリアを規定する。   The detection area of the secondary photometry image is defined based on the position data of the image 806 obtained by correcting the position of the substrate with respect to the origin position and the position data of the spot 201 obtained by the primary photometry.

この方法により解析を行なえば、中心座標の一つを原点座標として利用するため、中点座標を用いた解析方法と比べて処理数が簡素化できる。   If the analysis is performed by this method, one of the center coordinates is used as the origin coordinate, so that the number of processes can be simplified as compared with the analysis method using the midpoint coordinates.

以上のように本実施の形態においては、マイクロアレイ基板上に設けられたマークを用いてマイクロアレイ基板のステージへの取り付け位置ズレを補正するようにしたので、取り付け位置ズレによる測定不良を防ぐことが可能となる。   As described above, in the present embodiment, since the mounting position shift of the microarray substrate to the stage is corrected using the mark provided on the microarray substrate, it is possible to prevent measurement failure due to the mounting position shift. It becomes.

なお、本実施の形態における確認マークは、1次及び2次測光時に光を発するスポットを利用した場合であるが、この他にもマイクロアレイ基板自体に透過光を設け、その透過領域を確認マークとして利用することも出来る。この透過領域は本実施の形態に示した確認マーク501及び基板位置決定用マーク502と同じ形状で、同じ位置に配置する。   The confirmation mark in the present embodiment is a case where a spot that emits light at the time of primary and secondary photometry is used. In addition to this, transmitted light is provided on the microarray substrate itself, and the transmission region is used as a confirmation mark. It can also be used. This transmissive region has the same shape as the confirmation mark 501 and the substrate position determination mark 502 shown in this embodiment, and is arranged at the same position.

図9は、マイクロアレイ基板に光透過領域を設けた場合のマイクロアレイ測定方法の工程を示すフローチャートである。前述の方法と異なるところは、マイクロアレイ基板にCCDカメラの反対側から光を照射し、そのときの透過光を撮影し、マイクロアレイ基板の固定向き誤りを判定する第一の固定誤り検出ステップ(S301)を、第一の基質添加ステップ(S101)の前に行い、同じく透過光を用いてマイクロアレイ基板の固定向き誤りを判定する第二の固定誤り検出ステップ(S302)を、検体添加ステップ(S104)と第二の基質添加ステップ(S105)の間に行うようにした点である。   FIG. 9 is a flowchart showing the steps of a microarray measurement method when a light transmission region is provided on the microarray substrate. A difference from the above-described method is that a first fixed error detection step of irradiating the microarray substrate with light from the opposite side of the CCD camera, photographing the transmitted light at that time, and determining an error in fixing the microarray substrate (S301) Is performed before the first substrate addition step (S101), and the second fixed error detection step (S302) for determining the microarray substrate fixing direction error using the transmitted light is also referred to as the sample addition step (S104). This is a point that is performed during the second substrate addition step (S105).

これらのステップで行うマイクロアレイ基板の向き誤り判定と、画像ズレ補正ステップ(S303)においては、発光するスポットの代わりに透過領域を用いたこと以外の動作は全く同じであるので、詳細な説明を省略する。   In the microarray substrate orientation error determination performed in these steps and the image misalignment correction step (S303), the operations are the same except that the transmission region is used instead of the light emitting spot, and thus detailed description is omitted. To do.

なお、本実施の形態においては、CCDカメラで撮影した画像を補正して位置ズレによる測定不良を無くすようにしたが、マイクロアレイ基板を固定するステージを微調整してCCDカメラに映るアレイ領域の位置ズレを無くすようにしても良い。   In this embodiment, the image taken by the CCD camera is corrected to eliminate measurement errors due to misalignment, but the position of the array area reflected on the CCD camera by finely adjusting the stage for fixing the microarray substrate You may make it eliminate gap.

1次測光に直接関与する試薬としてHRPを、2次測光に間接的に関与する試薬としてIgEを用いたモデル実験を行った。   A model experiment was conducted using HRP as a reagent directly involved in primary photometry and IgE as a reagent indirectly involved in secondary photometry.

基板には、アレイ領域にニトロセルロース処理が行なわれた基板(GenTel社、PATH Protein Microarray Slide)を用いた。塗布溶液中には、Human IgE抗体(ヤマサ醤油株式会社)とHRP (シグマアルドリッチ社)を添加した。HRPを1次測光用試薬として添加し、IgE抗体を2次測光用試薬として添加した。塗布時には、1スポットあたりのHRP量が10fmolずつ塗布できるように塗布溶液を調整した。撮影エリア取りこぼし防止用の確認マークの試薬組成もスポットの試薬組成と同様のものとした。また、IgE抗体は、各スポットあたり、0.3、0.1、0.03、0.01、0.003、0.001fmolずつ塗布されるようにサンプル調整を行なった。また、コントロールには、IgE抗体とBSAを混合したものを固定化したスポットを用意した。BSAは、IgE抗体の低濃度域での構造安定化剤として添加した。調整した混合溶液は、MicroCaster(Whatman社)を用いて基板表面へ塗布を行なった。塗布サンプルは、濡らした布を敷いたタッパー中で、25℃の下、1晩放置し固定化させた。   As the substrate, a substrate (GenTel, PATH Protein Microarray Slide) whose array region was treated with nitrocellulose was used. In the coating solution, Human IgE antibody (Yamasa Shoyu Co., Ltd.) and HRP (Sigma Aldrich) were added. HRP was added as a primary photometric reagent, and IgE antibody was added as a secondary photometric reagent. At the time of coating, the coating solution was adjusted so that the HRP amount per spot could be coated by 10 fmol. The reagent composition of the confirmation mark for preventing the shooting area from being lost was also the same as the reagent composition of the spot. Samples were prepared so that IgE antibody was applied in an amount of 0.3, 0.1, 0.03, 0.01, 0.003, and 0.001 fmol for each spot. As a control, a spot on which a mixture of IgE antibody and BSA was immobilized was prepared. BSA was added as a structure stabilizer in the low concentration region of IgE antibody. The prepared mixed solution was applied to the substrate surface using MicroCaster (Whatman). The coated sample was left to stand overnight at 25 ° C. in a tapper with a wet cloth.

次に、3%スキムミルクに25mM Tris−HCl、0.45M NaCl、0.1% Tween20を添加したものをブロッキング剤としてニトロセルロース基板101上に添加した。ブロッキング処理は、振とう機で攪拌しながら、30分行なった。ブロッキングを行なうことで、固定化領域以外での吸着を抑制することができる。   Next, a solution obtained by adding 25 mM Tris-HCl, 0.45 M NaCl, and 0.1% Tween 20 to 3% skim milk was added onto the nitrocellulose substrate 101 as a blocking agent. The blocking treatment was performed for 30 minutes while stirring with a shaker. By performing blocking, adsorption outside the immobilization region can be suppressed.

次に、ブロッキング剤を基板上から除去し、洗浄操作を繰り返し3回行なった後、撮影用のステージに基板を固定した。その後、1次測光用の基質であるルミノール溶液(Roche社、BM Chemiluminescence Blotting Substrate)を添加した。ルミノールを添加することで1次発光が発生する。1分間分の発光輝度をCCDカメラで撮影し、1次測光画像とした。   Next, the blocking agent was removed from the substrate, and the washing operation was repeated three times, and then the substrate was fixed to the stage for photographing. Thereafter, a luminol solution (Roche, BM Chemiluminescence Blotting Substrate), which is a substrate for primary photometry, was added. By adding luminol, primary light emission occurs. The emission brightness for one minute was photographed with a CCD camera and used as a primary photometric image.

次に、ルミノール溶液を基板上から除去した後、洗浄操作を3回繰り返し、2次抗体として抗IgE抗体(BECKMAN COULTER社、Cell Lab Mouse Anti−Human IgE)を添加した。添加後、25℃で1時間振とう機で振とうしながら反応させた。2次抗体には、ビオチン化されているものを用いた。   Next, after removing the luminol solution from the substrate, the washing operation was repeated three times, and an anti-IgE antibody (BECKMAN COULTER, Cell Lab Mouse Anti-Human IgE) was added as a secondary antibody. After the addition, the reaction was carried out while shaking on a shaker at 25 ° C. for 1 hour. The secondary antibody used was biotinylated.

次に、洗浄操作を繰り返し3回行なった後、ルシフェラーゼ(キッコーマン社、Intelite AB)を添加した。添加後、25℃で1時間振とう機上で振とうしながら反応させた。ルシフェラーゼは、ストレプトアビジン化されているものを用いた。   Next, the washing operation was repeated three times, and then luciferase (Kikkoman Corporation, Intelligent AB) was added. After the addition, the reaction was carried out while shaking on a shaker at 25 ° C. for 1 hour. The luciferase used was streptavidinated.

次に、未反応物を取り除くために、洗浄操作を繰り返し3回行なった。その後、2次測光用の基質溶液と同じ組成で基質だけ除いた溶液でバッファ交換を1回行なった。   Next, in order to remove unreacted substances, the washing operation was repeated three times. Thereafter, buffer exchange was performed once with a solution having the same composition as that of the substrate solution for secondary photometry, except that only the substrate was removed.

その後、撮影用のステージに基板を固定した後、2次測光用の基質溶液として、ルシフェリン溶液(キッコーマン社、Intelite AB)を添加した。ルシフェリンを添加することで2次発光が発生する。5分間分の発光輝度をCCDカメラで撮影し、2次測光画像とした。   Thereafter, the substrate was fixed on the stage for photographing, and then a luciferin solution (Kikkoman Corp., Intelligent AB) was added as a substrate solution for secondary photometry. Secondary luminescence is generated by adding luciferin. The light emission luminance for 5 minutes was photographed with a CCD camera to obtain a secondary photometric image.

図10は、上述したHRPとIgEを用いたモデル実験の1次測光画像及び2次測光画像である。図10(a)は、HRPとIgEをモデル実験に用いた1次測光画像1001であり、図10(b)は、HRPとIgEをモデル実験に用いた2次測光画像1002である。ここで、サンプル1003の列がIgEを0.3fmol、サンプル1004の列がIgEを0.1fmol、サンプル1005の列がIgEを0.03fmol、サンプル1006の列がIgEを0.01fmol、サンプル1007の列がIgEを0.003fmol、サンプル1008の列がIgEを0.001fmol塗布したものである。   FIG. 10 is a primary photometric image and a secondary photometric image of a model experiment using HRP and IgE described above. FIG. 10A shows a primary photometric image 1001 using HRP and IgE for a model experiment, and FIG. 10B shows a secondary photometric image 1002 using HRP and IgE for a model experiment. Here, the row of sample 1003 is 0.3 fmol of IgE, the row of sample 1004 is 0.1 fmol of IgE, the row of sample 1005 is 0.03 fmol of IgE, the row of sample 1006 is 0.01 fmol of IgE, and the sample 1007 The row is coated with 0.003 fmol of IgE, and the row of sample 1008 is coated with 0.001 fmol of IgE.

まず、1次測光画像1001から、確認マーク1009、基板位置決定用マーク1010及び各スポットの中心座標及びスポットサイズを求めた。次に、基板位置決定用マーク1010の隣に位置する確認マーク1009と対角に位置する確認マーク1011を直線で結び中点座標を求めた。   First, from the primary photometric image 1001, the confirmation mark 1009, the substrate position determination mark 1010, and the center coordinates and spot size of each spot were obtained. Next, a confirmation mark 1009 positioned next to the substrate position determination mark 1010 and a confirmation mark 1011 positioned diagonally are connected by a straight line to obtain a middle point coordinate.

次に、2次測光画像1002の確認マーク1012及び基板位置決定用マーク1013の中心座標を求めた。次に、基板位置決定用マーク1013の隣に位置する確認マーク1012と対角に位置する確認マーク1014を直線で結び中点座標を求めた。その後、2次測光画像1002の中心座標データを1次測光画像1001の中心座標データに合致するところまで移動させた。次に、中点位置を固定し、中点位置を中心に、確認マーク及び基板位置決定用の確認マークの位置が合致するところまで2次測光画像1002を回転移動させた。1001と1002が完全に合致したところで、1次測光画像1001のスポットの解析データを基に2次測光画像1002のスポットの解析位置を決めた。   Next, the center coordinates of the confirmation mark 1012 and the substrate position determination mark 1013 of the secondary photometric image 1002 were obtained. Next, a check mark 1012 positioned next to the substrate position determination mark 1013 and a check mark 1014 positioned diagonally are connected by a straight line to obtain a middle point coordinate. Thereafter, the central coordinate data of the secondary photometric image 1002 was moved to a position that matches the central coordinate data of the primary photometric image 1001. Next, the midpoint position was fixed, and the secondary photometric image 1002 was rotated around the midpoint position until the position of the confirmation mark and the confirmation mark for determining the substrate position coincided. When 1001 and 1002 completely matched, the spot analysis position of the secondary photometry image 1002 was determined based on the spot analysis data of the primary photometry image 1001.

このようにして得られた解析位置から求めた測定結果(以下、本測定法結果と称す。)を、2次測光画像のみを用いて、各スポット位置を目視で特定してその輝度値を求めた結果(以下、手動法結果と称す。)、および、背景技術に記載した技術において、2次測光画像のみを用いて、各スポットが確認マークを基準として定位置にあるとみなして、この定位置の輝度情報を、各スポットの輝度値として求めた結果(以下、従来法結果と称す。)と比較した。   The measurement result obtained from the analysis position thus obtained (hereinafter referred to as the present measurement method result) is obtained by visually identifying each spot position using only the secondary photometric image and determining its luminance value. In this technique (hereinafter referred to as a manual method result) and the technique described in the background art, only the secondary photometric image is used and each spot is regarded as being in a fixed position with reference to the confirmation mark. The luminance information of the position was compared with the result obtained as the luminance value of each spot (hereinafter referred to as the conventional method result).

図11(a)は、上述したHRPとIgEを用いたモデル実験の測定結果を示した図である。この中で、菱形が本測定法結果、四角が手動法結果、三角が従来法結果を示している。横軸は固定化したIgEの濃度、縦軸は各スポットの輝度値を積算した発光量を示している。図11(a)に示したように、本測定法結果は、従来法結果と比べて、手動法結果に近い特性を得ることが出来た。これを回帰法の決定係数Rで比較すると、本測定法結果はR=0.9915、従来法結果はR=0.9784、手動法結果はR=0.9927であった。このことからも、本発明のマイクロアレイ測定方法が従来法に比較して有用なことが分かる。 FIG. 11A is a diagram showing measurement results of a model experiment using HRP and IgE described above. Among these, diamonds indicate the results of this measurement method, squares indicate the results of the manual method, and triangles indicate the results of the conventional method. The horizontal axis represents the concentration of immobilized IgE, and the vertical axis represents the light emission amount obtained by integrating the luminance values of the spots. As shown in FIG. 11 (a), the measurement method result was able to obtain characteristics closer to the manual method result than the conventional method result. When this was compared with the determination coefficient R 2 of the regression method, the result of this measurement method was R 2 = 0.9915, the result of the conventional method was R 2 = 0.9784, and the result of the manual method was R 2 = 0.9927. This also shows that the microarray measurement method of the present invention is more useful than the conventional method.

さらに、図11(b)は、上述したHRPの代わりにALPを用いたモデル実験の測定結果を示した図である。IgE抗体とALPを用いたモデル実験は、上述したものと同じ手順で行い、異なる箇所は、HRPをALPに置き換え、1次測光用の基質反応で用いるルミノールをルミジェンPPD(和光純薬工業株式会社、Lumi−PhosPlus)に置き換えたことである。図11(b)において、横軸と縦軸は図11(a)と同じであり、菱形が本測定法結果、四角が手動法結果を示すものである。この時、回帰法の決定係数Rで確認すると、本測定法結果はR=0.9779、手動法結果はR=0.9688であった。 Further, FIG. 11B is a diagram showing the measurement results of the model experiment using ALP instead of the above-described HRP. The model experiment using IgE antibody and ALP was carried out in the same procedure as described above, except that HRP was replaced with ALP, and luminol used in the substrate reaction for primary photometry was replaced with Lumigen PPD (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). , Lumi-PhosPlus). In FIG. 11B, the horizontal axis and the vertical axis are the same as those in FIG. 11A, and the rhombus indicates the result of this measurement method and the square indicates the result of the manual method. At this time, when confirmed by the determination coefficient R 2 of the regression method, the result of this measurement method was R 2 = 0.9779, and the result of the manual method was R 2 = 0.9688.

このことから、ALPを用いてもHRPと同様の結果が得られることが分かり、HRPとALP以外の酵素であっても、酵素活性を失うことなく基板上に固定化可能な酵素であれば、同様の結果が得られるものと推察される。   From this, it can be seen that even if ALP is used, the same result as HRP can be obtained. Even if an enzyme other than HRP and ALP is used, it can be immobilized on the substrate without losing enzyme activity. It is inferred that similar results can be obtained.

さらに図12は、上述したモデル実験において、BSAを添加したものと、BSAを添加せずHRPのみを添加した場合の測定結果を示すものである。横軸と縦軸は図11(a)と同じであり、菱形がBSAを添加したもの、四角がBSAを添加しなかったものである。ここで、四角の測定結果は、図11(a)に示した本測定法結果と同じである。菱形は、目視でスポット位置を確認した手動法結果である。このとき、菱形の決定係数R=0.9823であったことから、BSAの代わりにHRPを用いた場合においても、良好な結果を示すことが証明された。 Furthermore, FIG. 12 shows the measurement results in the case where BSA was added and only HRP was added without adding BSA in the model experiment described above. The horizontal axis and the vertical axis are the same as those in FIG. 11A. The rhombus is the one to which BSA is added, and the square is the one to which BSA is not added. Here, the square measurement results are the same as the measurement method results shown in FIG. The rhombus is a result of manual method in which the spot position is confirmed visually. At this time, since the determination coefficient R 2 of the rhombus was 0.9823, it was proved that a good result was obtained even when HRP was used instead of BSA.

これにより、従来はIgEの低濃度域では、塗布溶液調整時にサンプルチューブ表面にIgEが吸着されるのを防止するためにBSAが必要であったが、本発明のようにBSAの代わりにHRPを加えることでもIgEの低濃度域での吸着を防止出来ていることが判明した。これはALPなど疎水基を持つアミノ酸が結合した高分子であれば同様の効果が得られると推察される。   Thus, conventionally, in the low concentration region of IgE, BSA was necessary to prevent the adsorption of IgE on the surface of the sample tube when adjusting the coating solution. However, HRP is used instead of BSA as in the present invention. It was also found that the adsorption of IgE in the low concentration range could be prevented by adding. It can be inferred that the same effect can be obtained with a polymer in which amino acids having a hydrophobic group such as ALP are bound.

図13は、上述したモデル実験の画像を示したもので、図13(a)が1次測光画像、図13(b)が2次測光画像である。ここでスポット1301、スポット1302、スポット1303は、縦方向(図面の上下方向)にずれたスポットを表している。これらのスポットの発光量の相対比を示したものが、図14である。   FIGS. 13A and 13B show images of the model experiment described above. FIG. 13A shows a primary photometric image, and FIG. 13B shows a secondary photometric image. Here, a spot 1301, a spot 1302, and a spot 1303 represent spots shifted in the vertical direction (vertical direction in the drawing). FIG. 14 shows the relative ratio of the light emission amounts of these spots.

図14は、手動法結果の発光量を100%の基準として、それに対する本測定法結果の発光量と従来法結果の発光量の比を示している。図14において、横線棒グラフが本測定法結果、斜線棒グラフが従来法結果を示している。図14から、本測定法結果は、ずれたスポットに対して、いずれも手動法結果に対する比が±10%以内の発光量を測定出来ており、ずれたスポットに対して適切な範囲で輝度値を測定していることが分かる。   FIG. 14 shows the ratio of the light emission amount of the result of the present measurement method and the light emission amount of the result of the conventional method with respect to the light emission amount of the manual method result as a reference of 100%. In FIG. 14, the horizontal line bar graph shows the result of this measurement method, and the shaded bar graph shows the result of the conventional method. As shown in FIG. 14, the measurement method results show that the emission amount within ± 10% of the manual method results can be measured with respect to the shifted spot, and the luminance value within an appropriate range with respect to the shifted spot. It can be seen that is measured.

本発明にかかるマイクロアレイの測定方法は、マイクロアレイ基板上でスポット単位で位置ズレが発生しても、スポットの位置を特定して測定を行うことが出来るので、一度に多検体を測定する装置や顕微鏡等における測定方法として有用である。   According to the microarray measurement method of the present invention, even if a positional shift occurs on a microarray substrate in units of spots, the measurement can be performed by specifying the position of the spot. It is useful as a measurement method in the above.

実施の形態1におけるマイクロアレイ測定方法の工程を示すフローチャートFlowchart showing the steps of the microarray measurement method in the first embodiment スポット位置を特定する画像の例を示す図The figure which shows the example of the image which pinpoints a spot position マイクロアレイ基板作成の概要を示す図Diagram showing the outline of microarray substrate creation 塗布エラー判定の例を示す図The figure which shows the example of application error judgment 確認マーク及び基板位置決定マークの配置例を示す図The figure which shows the example of arrangement | positioning of a confirmation mark and a board | substrate position determination mark 実施の形態2におけるマイクロアレイ測定方法の工程を示すフローチャートFlowchart showing steps of the microarray measurement method in the second embodiment 位置ズレを補正する手順を示す図Diagram showing the procedure for correcting misalignment 位置ズレを補正する別形態の手順を示す図The figure which shows the procedure of another form which correct | amends position shift 実施の形態2におけるマイクロアレイ測定方法の別形態の工程を示すフローチャートThe flowchart which shows the process of another form of the microarray measuring method in Embodiment 2. モデル実験で得た1次測光及び2次測光画像を示す図The figure which shows the primary photometry and secondary photometry image obtained by the model experiment モデル実験の測定結果を示す図Diagram showing measurement results of model experiment BSAの有無を比較した測定結果を示す図The figure which shows the measurement result which compares the presence or absence of BSA モデル実験で得た画像を示す図Diagram showing images obtained from model experiments 測定精度の比較を示す図Diagram showing comparison of measurement accuracy

符号の説明Explanation of symbols

S101 第一の基質添加ステップ
S102 1次測光ステップ
S103 第一の画像解析ステップ
S104 検体添加ステップ
S105 第二の基質添加ステップ
S106 2次測光ステップ
S107 第二の画像解析ステップ
S201、S301 第一の固定誤り検出ステップ
S202、S302 第二の固定誤り検出ステップ
S203、S303 画像ズレ補正ステップ
201 スポット
501 確認マーク
502 基板位置決定用マーク
S101 First substrate addition step S102 Primary photometry step S103 First image analysis step S104 Specimen addition step S105 Second substrate addition step S106 Secondary photometry step S107 Second image analysis step S201, S301 First fixed error Detection step S202, S302 Second fixed error detection step S203, S303 Image shift correction step 201 Spot 501 Confirmation mark 502 Substrate position determination mark

Claims (8)

マイクロアレイ基板上に設けられた複数のスポットの発光量を測定するマイクロアレイ測定方法において、
前記スポットに予め固定された第一の試薬と化学反応して発光する第一の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第一の基質添加ステップと、
前記スポットの光を撮影して1次測光画像を生成する1次測光ステップと、
前記1次測光画像から前記スポットの位置を特定した1次測光解析画像を生成する第一の画像解析ステップと、
前記第一の基質を除去した後、前記マイクロアレイ基板上に検体と第二の試薬を添加し結合反応させ、前記スポットに予め固定された抗体と結合しなかった前記検体と前記第二の試薬を除去する検体添加ステップと、
前記第二の試薬と化学反応して発光する第二の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第二の基質添加ステップと、
前記スポットの光を撮影して2次測光画像を生成する2次測光ステップと、
前記1次測光解析画像を用いて前記2次測光画像内の前記スポットの位置を特定し、前記スポットの発光量を測定する第二の画像解析ステップとで構成されるマイクロアレイ測定方法。
In the microarray measurement method for measuring the light emission amount of a plurality of spots provided on the microarray substrate,
A first substrate addition step of adding a first substrate that emits light upon chemical reaction with a first reagent immobilized in advance on the spot onto the microarray substrate;
A primary photometric step of photographing the spot light to generate a primary photometric image;
A first image analysis step of generating a primary photometric analysis image specifying the position of the spot from the primary photometric image;
After removing the first substrate, the specimen and the second reagent are added to the microarray substrate to cause a binding reaction, and the specimen and the second reagent that have not been bound to the antibody immobilized in advance on the spot. A sample addition step to be removed;
A second substrate addition step of adding a second substrate that emits light upon chemical reaction with the second reagent onto the microarray substrate;
A secondary photometry step of photographing the spot light to generate a secondary photometry image;
A microarray measurement method comprising: a second image analysis step of specifying a position of the spot in the secondary photometric image using the primary photometric analysis image and measuring a light emission amount of the spot.
マイクロアレイ基板上に設けられた複数のスポットの発光量を測定するマイクロアレイ測定方法において、
前記スポットに予め固定された第一の試薬と化学反応する第一の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第一の基質添加ステップと、
前記スポットに励起光を照射し、前記スポットからの蛍光を撮影して1次測光画像を生成する1次測光ステップと、
前記1次測光画像から前記スポットの位置を特定した1次測光解析画像を生成する第一の画像解析ステップと、
前記第一の基質を除去した後、前記マイクロアレイ基板上に検体と第二の試薬を添加し結合反応させ、前記スポットに予め固定された抗体と結合しなかった前記検体と前記第二の試薬を除去する検体添加ステップと、
前記第二の試薬と化学反応する第二の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第二の基質添加ステップと、
前記スポットに励起光を照射し、前記スポットからの蛍光を撮影して2次測光画像を生成する2次測光ステップと、
前記1次測光解析画像を用いて前記2次測光画像内の前記スポットの位置を特定し、前記スポットの発光量を測定する第二の画像解析ステップとで構成されるマイクロアレイ測定方法。
In the microarray measurement method for measuring the light emission amount of a plurality of spots provided on the microarray substrate,
A first substrate addition step of adding on the microarray substrate a first substrate that chemically reacts with a first reagent previously immobilized on the spot;
A primary photometric step of irradiating the spot with excitation light and photographing a fluorescence from the spot to generate a primary photometric image;
A first image analysis step of generating a primary photometric analysis image specifying the position of the spot from the primary photometric image;
After removing the first substrate, the specimen and the second reagent are added to the microarray substrate to cause a binding reaction, and the specimen and the second reagent that have not been bound to the antibody immobilized in advance on the spot. A sample addition step to be removed;
Adding a second substrate that chemically reacts with the second reagent onto the microarray substrate;
A secondary photometric step of irradiating the spot with excitation light and photographing the fluorescence from the spot to generate a secondary photometric image;
A microarray measurement method comprising: a second image analysis step of specifying a position of the spot in the secondary photometric image using the primary photometric analysis image and measuring a light emission amount of the spot.
前記マイクロアレイ基板上には、このマイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出するための基板位置決定用マークが配置されており、
前記1次測光ステップと前記第一の画像解析ステップの間に、前記基板位置決定用マークを用いて前記マイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出する第一の固定誤り検出ステップと、
前記2次測光ステップと前記第二の画像解析ステップの間に、前記基板位置決定用マークを用いて前記マイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出する第二の固定誤り検出ステップとを設けた請求項1または2に記載のマイクロアレイ測定方法。
前記
On the microarray substrate, a substrate position determination mark for detecting a fixed position error of the microarray substrate is arranged,
A first fixed error detection step of detecting a fixed position error of the microarray substrate using the substrate position determination mark between the primary photometry step and the first image analysis step;
2. A second fixed error detection step for detecting a fixed position error of the microarray substrate using the substrate position determination mark between the secondary photometry step and the second image analysis step. Or the microarray measuring method of 2.
Said
前記マイクロアレイ基板上には、さらにマイクロアレイ基板の位置ズレを検出するための確認マークが配置されており、
前記第二の固定誤り検出ステップと前記第二の画像解析ステップの間に、前記基板位置決定用マークと前記確認マークを用いて、前記1次測光解析画像と前記2次測光解析画像との間に相対的に生じるズレを補正する画像ズレ補正ステップを設けた請求項3に記載のマイクロアレイ測定方法。
On the microarray substrate, a confirmation mark for detecting a displacement of the microarray substrate is further arranged.
Between the primary photometric analysis image and the secondary photometric analysis image using the substrate position determination mark and the confirmation mark between the second fixed error detection step and the second image analysis step. The microarray measurement method according to claim 3, further comprising an image misalignment correction step for correcting a misalignment that occurs relative to the image.
マイクロアレイ基板上に設けられた複数のスポットの発光量を測定するマイクロアレイ測定方法において、
前記マイクロアレイ基板上に設けられた基板位置決定用マークを透過した光を撮影した画像を用いて前記マイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出する第一の固定誤り検出ステップと、
前記スポットに予め固定された第一の試薬と化学反応して発光する第一の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第一の基質添加ステップと、
前記スポットの光を撮影して1次測光画像を生成する1次測光ステップと、
前記1次測光画像から前記スポットの位置を特定した1次測光解析画像を生成する第一の画像解析ステップと、
前記第一の基質を除去した後、前記マイクロアレイ基板上に検体と第二の試薬を添加し結合反応させ、前記スポットに予め固定された抗体と結合しなかった前記検体と前記第二の試薬を除去する検体添加ステップと、
前記基板位置決定用マークを透過した光を撮影した画像を用いて前記マイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出する第二の固定誤り検出ステップと、
前記第二の試薬と化学反応して発光する第二の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第二の基質添加ステップと、
前記スポットの光を撮影して2次測光画像を生成する2次測光ステップと、
前記マイクロアレイ基板上に設けられた確認マーク及び前記基板位置決定用マークを用いて前記1次測光解析画像と前記2次測光画像との間で相対的に生じるズレを補正する画像ズレ補正ステップと、
前記1次測光解析画像を用いて前記2次測光画像内の前記スポットの位置を特定し、前記スポットの発光量を測定する第二の画像解析ステップとで構成されるマイクロアレイ測定方法。
In the microarray measurement method for measuring the light emission amount of a plurality of spots provided on the microarray substrate,
A first fixed error detection step of detecting a fixed position error of the microarray substrate using an image obtained by photographing light transmitted through a substrate position determination mark provided on the microarray substrate;
A first substrate addition step of adding a first substrate that emits light upon chemical reaction with a first reagent immobilized in advance on the spot onto the microarray substrate;
A primary photometric step of photographing the spot light to generate a primary photometric image;
A first image analysis step of generating a primary photometric analysis image specifying the position of the spot from the primary photometric image;
After removing the first substrate, the specimen and the second reagent are added to the microarray substrate to cause a binding reaction, and the specimen and the second reagent that have not been bound to the antibody immobilized in advance on the spot. A sample addition step to be removed;
A second fixed error detection step of detecting a fixed position error of the microarray substrate using an image obtained by photographing light transmitted through the substrate position determination mark;
A second substrate addition step of adding a second substrate that emits light upon chemical reaction with the second reagent onto the microarray substrate;
A secondary photometry step of photographing the spot light to generate a secondary photometry image;
An image misalignment correcting step of correcting a misalignment that occurs relatively between the primary photometric analysis image and the secondary photometric image using the confirmation mark provided on the microarray substrate and the substrate position determination mark;
A microarray measurement method comprising: a second image analysis step of specifying a position of the spot in the secondary photometric image using the primary photometric analysis image and measuring a light emission amount of the spot.
マイクロアレイ基板上に設けられた複数のスポットの発光量を測定するマイクロアレイ測定方法において、
前記マイクロアレイ基板上に設けられた基板位置決定用マークを透過した光を撮影した画像を用いて前記マイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出する第一の固定誤り検出ステップと、
前記スポットに予め固定された第一の試薬と化学反応する第一の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第一の基質添加ステップと、
前記スポットに励起光を照射し、前記スポットからの蛍光を撮影して1次測光画像を生成する1次測光ステップと、
前記1次測光画像から前記スポットの位置を特定した1次測光解析画像を生成する第一の画像解析ステップと、
前記第一の基質を除去した後、前記マイクロアレイ基板上に検体と第二の試薬を添加し結合反応させ、前記スポットに予め固定された抗体と結合しなかった前記検体と前記第二の試薬を除去する検体添加ステップと、
前記基板位置決定用マークを透過した光を撮影した画像を用いて前記マイクロアレイ基板の固定位置誤りを検出する第二の固定誤り検出ステップと、
前記第二の試薬と化学反応する第二の基質を前記マイクロアレイ基板上に添加する第二の基質添加ステップと、
前記スポットに励起光を照射し、前記スポットからの蛍光を撮影して2次測光画像を生成する2次測光ステップと、
前記マイクロアレイ基板上に設けられた確認マーク及び前記基板位置決定用マークを用いて前記1次測光解析画像と前記2次測光画像との間で相対的に生じるズレを補正する画像ズレ補正ステップと、
前記1次測光解析画像を用いて前記2次測光画像内の前記スポットの位置を特定し、前記スポットの発光量を測定する第二の画像解析ステップとで構成されるマイクロアレイ測定方法。
In the microarray measurement method for measuring the light emission amount of a plurality of spots provided on the microarray substrate,
A first fixed error detection step of detecting a fixed position error of the microarray substrate using an image obtained by photographing light transmitted through a substrate position determination mark provided on the microarray substrate;
A first substrate addition step of adding on the microarray substrate a first substrate that chemically reacts with a first reagent previously immobilized on the spot;
A primary photometric step of irradiating the spot with excitation light and photographing a fluorescence from the spot to generate a primary photometric image;
A first image analysis step of generating a primary photometric analysis image specifying the position of the spot from the primary photometric image;
After removing the first substrate, the specimen and the second reagent are added to the microarray substrate to cause a binding reaction, and the specimen and the second reagent that have not been bound to the antibody immobilized in advance on the spot. A sample addition step to be removed;
A second fixed error detection step of detecting a fixed position error of the microarray substrate using an image obtained by photographing light transmitted through the substrate position determination mark;
Adding a second substrate that chemically reacts with the second reagent onto the microarray substrate;
A secondary photometric step of irradiating the spot with excitation light and photographing the fluorescence from the spot to generate a secondary photometric image;
An image misalignment correcting step of correcting a misalignment that occurs relatively between the primary photometric analysis image and the secondary photometric image using the confirmation mark provided on the microarray substrate and the substrate position determination mark;
A microarray measurement method comprising: a second image analysis step of specifying a position of the spot in the secondary photometric image using the primary photometric analysis image and measuring a light emission amount of the spot.
前記画像ズレ補正ステップは、
対角に位置する前記確認マークの中心座標同士を直線で結び、
前記直線上の中点位置を算出し、
1次測光解析画像内の前記確認マークの中点位置に対して前記2次測光画像内の前記確認マークの中点位置が一致するように前記2次測光画像を移動させ、
前記中点が一致した位置を基準に、
前記1次測光解析画像内の前記確認マークの中心座標に対して前記2次測光画像内の前記確認マークの中心座標が一致するまで前記2次測光画像を回転移動させることでズレを補正する請求項4から6のいずれか一項に記載のマイクロアレイ測定方法。
The image misalignment correcting step includes:
Connect the center coordinates of the confirmation marks located diagonally with a straight line,
Calculate the midpoint position on the straight line,
Moving the secondary photometric image so that the midpoint position of the confirmation mark in the secondary photometric image matches the midpoint position of the confirmation mark in the primary photometric analysis image;
Based on the position where the midpoints match,
The shift is corrected by rotating the secondary photometric image until the central coordinate of the confirmation mark in the secondary photometric image matches the central coordinate of the confirmation mark in the primary photometric analysis image. Item 7. The microarray measurement method according to any one of Items 4 to 6.
前記画像ズレ補正ステップは、
前記基板位置決定用マークに隣接する前記確認マークの中心座標を原点座標とし、
前記1次測光解析画像から得られた原点座標に対し、前記2次測光画像から得られた原点座標が一致するように前記2次測光画像を移動させ、
前記原点座標が一致した位置を基準に、前記1次測光解析画像内の原点座標と対角に位置する前記確認マークの中心座標に対して前記2次測光画像内の原点座標と対角に位置する前記確認マークの中心座標位置が一致するまで前記2次測光画像を回転移動させることでズレを補正する請求項4から6のいずれか一項に記載のマイクロアレイ測定方法。
The image misalignment correcting step includes:
The origin coordinates are the center coordinates of the confirmation mark adjacent to the substrate position determination mark,
Moving the secondary photometric image so that the origin coordinate obtained from the secondary photometric image matches the origin coordinate obtained from the primary photometric analysis image;
Positioned diagonally to the origin coordinate in the secondary photometry image with respect to the center coordinate of the confirmation mark located diagonally to the origin coordinate in the primary photometry analysis image with reference to the position where the origin coordinate coincides The microarray measurement method according to any one of claims 4 to 6, wherein the shift is corrected by rotating the secondary photometric image until the center coordinate position of the confirmation mark to be matched coincides.
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