JP2010056135A - Phenolic resin composition for wiring coating, printed circuit board using the same, and method of manufacturing the same - Google Patents

Phenolic resin composition for wiring coating, printed circuit board using the same, and method of manufacturing the same Download PDF

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伸一郎 中島
Yasuyuki Otani
泰之 大谷
Kazuhiko Yamada
一彦 山田
Masaru Onishi
賢 大西
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phenolic resin composition for wiring coating of a printed circuit board, which suppresses cracking and migration of a coating resin layer. <P>SOLUTION: The present invention relates to: the phenolic resin composition for wiring coating of the printed circuit board, comprising a phenolic resin and layered silicate intercalated with at least one organic cation selected from a group of RNH<SB>3</SB><SP>+</SP>(R: alkyl group being ≥15C of a chain), R<SB>2</SB>NH<SB>2</SB><SP>+</SP>(R: hydrocarbon group), R<SB>3</SB>NH<SP>+</SP>(R: hydrocarbon group), NR<SB>4</SB><SP>+</SP>(at least one of four Rs being an alkyl group ≥10C of a chain), ammonium containing 1 to 4 hydrocarbon groups having aromatic hydrocarbon, and ammonium containing 1 to 4 hydrocarbon groups having a heterocycle; and the printed circuit board using the same, and a method of manufacturing the same. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、配線コーティング用フェノール樹脂組成物、これを用いる印刷回路基板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a phenol resin composition for wiring coating, a printed circuit board using the same, and a method for producing the same.

従来、基板上にスクリーン印刷やインクジェット印刷によって形成された金属配線には、そのカバー層として、熱可塑性樹脂および層状ケイ酸塩のような無機化合物を含有する組成物を使用することが提案されている(例えば、特許文献1)。
また、電子部品に無機フィラー(例えば、クレイ等)を含有する外装樹脂を使用することが提案されている(例えば、特許文献2)。
Conventionally, it has been proposed to use a composition containing an inorganic compound such as a thermoplastic resin and a layered silicate as a cover layer for metal wiring formed by screen printing or ink jet printing on a substrate. (For example, Patent Document 1).
In addition, it has been proposed to use an exterior resin containing an inorganic filler (for example, clay) for an electronic component (for example, Patent Document 2).

特開2006−57099号公報JP 2006-57099 A 特開2002−252150号公報JP 2002-252150 A

しかしながら、外装樹脂層が熱可塑性樹脂と層状ケイ酸塩(クレイ)とを含有する組成物を使用して金属配線に塗布する場合、製造時の条件(例えば、混合やフィルム形成の際の加熱、溶媒による溶解、溶媒除去のための加熱、等)によって配向(モルフォロジー)が変化し、一定の配向を有する外装樹脂層を製造することができず、マイグレーションを起こしやすいことを本願発明者らは見出した。
また、熱可塑性樹脂は樹脂の構造等を制御することによって、熱可塑性樹脂の配向をある程度決めることが可能である。このため、熱可塑性樹脂に対しては、クレイ単体またはインターカレートされたクレイ(以下これらを「クレイ等」という。)のいずれをも使用し、熱可塑性樹脂とクレイ等とをブレンドすることができる。
一方、熱硬化性樹脂(熱硬化性モノマー)にクレイ単体またはインターカレートされたクレイを加えた組成物を重合することによって、ポリマーの生成とクレイ等の層はく離とを同時に進行させて外装樹脂層を形成する場合、熱硬化性樹脂によるマトリックスは三次元網目構造を形成するため、熱可塑性樹脂に使用することができるクレイ等を熱硬化性樹脂に単に使用してもマイグレーションを抑制することができないことを本願発明者は見出した。
さらに、熱硬化性樹脂としてのフェノール樹脂100質量部とクレイ単体2質量部とを含有する組成物から得られる外装樹脂層(外装樹脂層は1回のコーティングで作製された。)を有する陽極を作製し、図2に示す装置を用いて、印加電位−1.5V vs.SCEの条件下において、QCMによるマイグレーションを観測したところ、測定開始後わずか160秒で短絡現象が起きることを本願発明者は見出した。
これは、外装樹脂層中に微細なクラックが発生し、マイグレーションを抑制できなかったものと考えられる。
そこで、本発明は、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションを抑制することができる、印刷回路基板の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を提供することを目的とする。
However, when the exterior resin layer is applied to a metal wiring using a composition containing a thermoplastic resin and a layered silicate (clay), conditions at the time of manufacture (for example, heating during mixing and film formation, The inventors of the present application have found that the orientation (morphology) is changed by dissolution with a solvent, heating for solvent removal, etc.), and an exterior resin layer having a certain orientation cannot be produced and migration is likely to occur. It was.
In addition, the orientation of the thermoplastic resin can be determined to some extent by controlling the structure of the thermoplastic resin and the like. For this reason, it is possible to use either a single clay or an intercalated clay (hereinafter referred to as “clay etc.”) and blend the thermoplastic resin with clay etc. for the thermoplastic resin. it can.
On the other hand, by polymerizing a composition in which a clay alone or intercalated clay is added to a thermosetting resin (thermosetting monomer), the formation of the polymer and the delamination of the clay and the like proceed simultaneously, so that the exterior resin When forming a layer, since the matrix made of thermosetting resin forms a three-dimensional network structure, it is possible to suppress migration even if clay or the like that can be used for thermoplastic resin is simply used for thermosetting resin. The inventor has found that this is not possible.
Furthermore, the anode which has the exterior resin layer (the exterior resin layer was produced by one coating) obtained from the composition containing 100 mass parts of phenol resins as a thermosetting resin, and 2 mass parts of clay single-piece | units. Using the apparatus shown in FIG. 2 and applied potential −1.5 V vs. The inventors of the present application have found that short-circuiting occurs in only 160 seconds after the start of measurement when observing migration by QCM under SCE conditions.
This is probably because fine cracks occurred in the exterior resin layer and migration could not be suppressed.
Then, an object of this invention is to provide the phenol resin composition for wiring coatings of a printed circuit board which can suppress generation | occurrence | production of a crack and migration in an exterior resin layer.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、フェノール樹脂と、RNH3 +(R:鎖の炭素原子数が15以上であるアルキル基)、R2NH2 +(R:炭化水素基)、R3NH+(R:炭化水素基)、NR4 +(4つのRのうち少なくとも1つが、鎖の炭素原子数が10以上であるアルキル基)、芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウム、および複素環を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の有機カチオンによってインターカレートされている層状ケイ酸塩とを含有する組成物が、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションを抑制することができる、印刷回路基板の配線コーティング用フェノール樹脂組成物となることを見出した。
また、基板と、前記基板上に設けられた複数の配線と、前記配線の少なくとも間をコーティングする外装樹脂層とを有し、前記外装樹脂層が、上記の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を用いて得られる印刷回路基板は、外装樹脂層におけるクラックを抑制することができることを見出した。
さらに、基板上に複数の配線を印刷する印刷工程と、前記印刷工程後、前記配線の少なくとも間に、上記の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を塗布する塗布工程と、前記塗布工程後に、得られた基板を加熱する加熱工程とを有する製造方法によれば、外装樹脂層における、クラックおよびマイグレーションを抑制することができる印刷回路基板を得ることができることを見出し、本発明を完成させた。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that a phenol resin, RNH 3 + (R: an alkyl group having 15 or more carbon atoms in the chain), R 2 NH 2 + (R: hydrocarbon) Group), R 3 NH + (R: hydrocarbon group), NR 4 + (at least one of the four R is an alkyl group having 10 or more carbon atoms in the chain), a hydrocarbon having an aromatic hydrocarbon A layered silicate intercalated with at least one organic cation selected from the group consisting of ammonium containing 1 to 4 groups and ammonium containing 1 to 4 hydrocarbon groups having a heterocyclic ring It was found that the composition to be used becomes a phenol resin composition for wiring coating of a printed circuit board capable of suppressing the occurrence of cracks and migration in the exterior resin layer.
Further, the wiring board includes a substrate, a plurality of wirings provided on the substrate, and an exterior resin layer that coats at least a space between the wirings, and the exterior resin layer uses the above-described phenol resin composition for wiring coating. The printed circuit board obtained in this way was found to be able to suppress cracks in the exterior resin layer.
Further, a printing process for printing a plurality of wirings on a substrate, a coating process for applying the phenol resin composition for wiring coating, at least between the wirings after the printing process, and after the coating process are obtained. The present invention has been completed by finding that a printed circuit board capable of suppressing cracks and migration in the exterior resin layer can be obtained according to the manufacturing method having a heating step of heating the substrate.

すなわち、本発明は、下記1〜5を提供する。
1. フェノール樹脂と、
RNH3 +(R:鎖の炭素原子数が15以上であるアルキル基)、R2NH2 +(R:炭化水素基)、R3NH+(R:炭化水素基)、NR4 +(4つのRのうち少なくとも1つが、鎖の炭素原子数が10以上であるアルキル基)、芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウム、および複素環を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の有機カチオンによってインターカレートされている層状ケイ酸塩とを含有する、印刷回路基板の配線コーティング用フェノール樹脂組成物。
2. 前記層状ケイ酸塩が、モンモリロナイト、ヘクトライトおよびサポナイトからなる群から選ばれる少なくとも1種である上記1に記載の配線コーティング用フェノール樹脂組成物。
3. 前記層状ケイ酸塩の量が、前記フェノール樹脂100質量部に対して、0.1〜10質量部である上記1または2に記載の配線コーティング用フェノール樹脂組成物。
4. 基板と、前記基板上に設けられた複数の配線と、
前記配線の少なくとも間をコーティングする外装樹脂層とを有し、
前記外装樹脂層が、上記1〜3のいずれかに記載の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を用いて得られる印刷回路基板。
5. 基板上に複数の配線を印刷する印刷工程と、
前記印刷工程後、前記配線の少なくとも間に、上記1〜3のいずれかに記載の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程後に、得られた基板を加熱する加熱工程とを有する印刷回路基板の製造方法。
That is, this invention provides the following 1-5.
1. Phenolic resin,
RNH 3 + (R: alkyl group having carbon atoms is 15 or more chains), R 2 NH 2 + ( R: hydrocarbon group), R 3 NH + (R : hydrocarbon group), NR 4 + (4 At least one of the R is an alkyl group having 10 or more carbon atoms in the chain), an ammonium containing 1 to 4 hydrocarbon groups having an aromatic hydrocarbon, and a hydrocarbon group having a heterocyclic ring 1 to A phenolic resin composition for wiring coating of a printed circuit board, comprising a layered silicate intercalated with at least one organic cation selected from the group consisting of four ammonium.
2. 2. The phenol resin composition for wiring coating according to 1 above, wherein the layered silicate is at least one selected from the group consisting of montmorillonite, hectorite and saponite.
3. 3. The phenol resin composition for wiring coating according to 1 or 2, wherein the amount of the layered silicate is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the phenol resin.
4). A substrate and a plurality of wirings provided on the substrate;
An exterior resin layer that coats at least between the wires;
The printed circuit board by which the said exterior resin layer is obtained using the phenol resin composition for wiring coating in any one of said 1-3.
5). A printing process for printing a plurality of wirings on a substrate;
After the printing step, between at least the wiring, an application step of applying the phenol resin composition for wiring coating according to any one of the above 1-3,
A printed circuit board manufacturing method comprising: a heating step of heating the obtained substrate after the coating step.

本発明の配線コーティング用フェノール樹脂組成物は、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションを抑制することができる。
また、本発明の印刷回路基板は、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションを抑制することができる。
また、本発明の印刷回路基板の製造方法によれば、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションを抑制することができる印刷回路基板を得ることができる。
The phenol resin composition for wiring coating of the present invention can suppress the occurrence of cracks and migration in the exterior resin layer.
Moreover, the printed circuit board of this invention can suppress generation | occurrence | production of a crack and migration in an exterior resin layer.
Moreover, according to the method for manufacturing a printed circuit board of the present invention, it is possible to obtain a printed circuit board capable of suppressing the occurrence of cracks and migration in the exterior resin layer.

本発明について以下詳細に説明する。
まず、本発明の印刷回路基板について以下に説明する。
本発明の印刷回路基板は、基板と、前記基板上に設けられた複数の配線と、
前記配線の少なくとも間をコーティングする外装樹脂層とを有し、
前記外装樹脂層が、本発明の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を用いて得られる基板である。
The present invention will be described in detail below.
First, the printed circuit board of the present invention will be described below.
The printed circuit board of the present invention includes a substrate, a plurality of wirings provided on the substrate,
An exterior resin layer that coats at least between the wires;
The said exterior resin layer is a board | substrate obtained using the phenol resin composition for wiring coatings of this invention.

本発明の印刷回路基板について添付の図面を使用して以下に説明する。なお、本発明は添付の図面に限定されない。
図1は、本発明の印刷回路基板の一例を模式的に表す断面図である。
図1において、本発明の印刷回路基板100は、基板103と、基板103の上の複数の配線105、106と、外装樹脂層107とを有する。
The printed circuit board of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the attached drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the printed circuit board of the present invention.
In FIG. 1, a printed circuit board 100 of the present invention includes a substrate 103, a plurality of wirings 105 and 106 on the substrate 103, and an exterior resin layer 107.

配線105と配線106とは、隣接しており異なる電位を有する。配線は2本以上であればよい。
外装樹脂層は配線の少なくとも間をコーティングする。また、外装樹脂層は配線の表面をコーティングすることができる。図1において、外装樹脂層107は配線105、106の表面全体および間をコーティングしている(図示せず。)。
The wiring 105 and the wiring 106 are adjacent to each other and have different potentials. Two or more wirings may be used.
The exterior resin layer is coated at least between the wirings. The exterior resin layer can coat the surface of the wiring. In FIG. 1, the exterior resin layer 107 coats the entire surfaces of and between the wirings 105 and 106 (not shown).

本発明の印刷回路基板については、その製造方法として、
基板上に複数の配線を印刷する印刷工程と、
前記印刷工程後、前記配線の少なくとも間に、本発明の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程後に、得られた基板を加熱する加熱工程とを有する印刷回路基板の製造方法が好適に挙げられる。
About the printed circuit board of the present invention, as its manufacturing method,
A printing process for printing a plurality of wirings on a substrate;
After the printing step, at least between the wiring, an application step of applying the phenolic resin composition for wiring coating of the present invention,
A method for producing a printed circuit board having a heating step of heating the obtained substrate after the coating step is preferably mentioned.

本発明の印刷回路基板の製造方法について図1を用いて以下に説明する。
まず、印刷工程において、基板103上に複数の配線105、106を印刷する。
本発明の印刷回路基板を製造する際に使用される基板103の材料は特に制限されない。例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂が挙げられる。
A method for manufacturing a printed circuit board according to the present invention will be described below with reference to FIG.
First, in the printing process, a plurality of wirings 105 and 106 are printed on the substrate 103.
The material of the substrate 103 used when manufacturing the printed circuit board of the present invention is not particularly limited. For example, a polyimide resin, a polyamideimide resin, an acrylic resin, a polyether nitrile resin, a polyether sulfone resin, a polyethylene terephthalate resin, a polyethylene naphthalate resin, and a polyvinyl chloride resin can be used.

本発明の印刷回路基板を製造する際に使用される配線105、106の材料は特に制限されない。例えば、銀、銅、錫、ニッケル、ビスマス、亜鉛、金、鉛、インジウムのような金属が挙げられる。金属はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
配線105、106を基板103に印刷する方法は特に制限されない。例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷などが挙げられる。
印刷工程後、複数の配線を有する基板が得られる。
The material of the wirings 105 and 106 used when manufacturing the printed circuit board of the present invention is not particularly limited. Examples include metals such as silver, copper, tin, nickel, bismuth, zinc, gold, lead, and indium. The metals can be used alone or in combination of two or more.
The method for printing the wirings 105 and 106 on the substrate 103 is not particularly limited. For example, screen printing, inkjet printing, etc. are mentioned.
After the printing process, a substrate having a plurality of wirings is obtained.

塗布工程は、印刷工程後、前記配線の少なくとも間に、本発明の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を塗布する工程である。
本発明の印刷回路基板の製造の際に使用される配線コーティング用フェノール樹脂組成物について以下に説明する。
本発明の印刷回路基板の製造の際に使用される配線コーティング用フェノール樹脂組成物は本発明の配線コーティング用フェノール樹脂組成物である。本発明の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を以下「本発明のフェノール樹脂組成物」ということがある。
An application | coating process is a process of apply | coating the phenol resin composition for wiring coatings of this invention at least between the said wiring after a printing process.
The phenol resin composition for wiring coating used in the production of the printed circuit board of the present invention will be described below.
The phenolic resin composition for wiring coating used in the production of the printed circuit board of the present invention is the phenolic resin composition for wiring coating of the present invention. Hereinafter, the phenol resin composition for wiring coating of the present invention may be referred to as “the phenol resin composition of the present invention”.

本発明のフェノール樹脂組成物は、
フェノール樹脂と、
RNH3 +(R:鎖の炭素原子数が15以上であるアルキル基)、R2NH2 +(R:炭化水素基)、R3NH+(R:炭化水素基)、NR4 +(4つのRのうち少なくとも1つが、鎖の炭素原子数が10以上であるアルキル基)、芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウム、および複素環を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の有機カチオンによってインターカレートされている層状ケイ酸塩とを含有する、印刷回路基板の配線コーティング用フェノール樹脂組成物である。
The phenolic resin composition of the present invention is
Phenolic resin,
RNH 3 + (R: alkyl group having carbon atoms is 15 or more chains), R 2 NH 2 + ( R: hydrocarbon group), R 3 NH + (R : hydrocarbon group), NR 4 + (4 At least one of the R is an alkyl group having 10 or more carbon atoms in the chain), an ammonium containing 1 to 4 hydrocarbon groups having an aromatic hydrocarbon, and a hydrocarbon group having a heterocyclic ring 1 to A phenolic resin composition for wiring coating of a printed circuit board, comprising a layered silicate intercalated with at least one organic cation selected from the group consisting of four ammonium.

本発明のフェノール樹脂組成物に使用されるフェノール樹脂は特に制限されない。例えば、従来公知のもの(例えば、アシッド型、ノボラック型など)が挙げられる。   The phenol resin used in the phenol resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing (For example, an acid type, a novolak type, etc.) is mentioned.

層状ケイ酸塩について以下に説明する。
本発明のフェノール樹脂組成物に使用される層状ケイ酸塩は、RNH3 +(R:鎖の炭素原子数が15以上であるアルキル基)、R2NH2 +(R:炭化水素基)、R3NH+(R:炭化水素基)、NR4 +(4つのRのうち少なくとも1つが、鎖の炭素原子数が10以上であるアルキル基)、芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウム、および複素環を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の有機カチオンによってインターカレートされているものである。
本発明のフェノール樹脂組成物に含有される層状ケイ酸塩は、有機カチオンによってインターカレート(層間挿入)されている。
The layered silicate will be described below.
The layered silicate used in the phenolic resin composition of the present invention includes RNH 3 + (R: an alkyl group having 15 or more carbon atoms in the chain), R 2 NH 2 + (R: a hydrocarbon group), R 3 NH + (R: hydrocarbon group), NR 4 + (at least one of the four Rs is an alkyl group having 10 or more carbon atoms in the chain), 1 hydrocarbon group having an aromatic hydrocarbon It is intercalated by at least one organic cation selected from the group consisting of ammonium containing ˜4 and ammonium containing 1-4 hydrocarbon groups having a heterocyclic ring.
The layered silicate contained in the phenol resin composition of the present invention is intercalated (intercalated) with an organic cation.

インターカレートの際に使用される層状ケイ酸塩(以下これを「原料層状ケイ酸塩」という。)は特に制限されない。例えば、モンモリロナイト、ヘクトライト(商品名ラポナイト等)、サポナイト(商品名スメクトン等)、バイデライトのようなスメクタイト;カオリナイト;パイロフィナイト;バーミキュライト;雲母;脆雲母;緑泥石が挙げられる。なかでも、外装樹脂層における、クラックの発生、マイグレーションをより抑制し、水への溶解性に優れるという観点から、モンモリロナイト、ヘクトライト、サポナイトが好ましい。原料層状ケイ酸塩は天然物または合成品のいずれでもよい。   The layered silicate used in the intercalation (hereinafter referred to as “raw material layered silicate”) is not particularly limited. For example, montmorillonite, hectorite (trade name Laponite, etc.), saponite (trade name, smecton, etc.), smectite such as beidellite; kaolinite; pyrophynite; vermiculite; mica; Of these, montmorillonite, hectorite, and saponite are preferable from the viewpoint of further suppressing crack generation and migration in the exterior resin layer and being excellent in solubility in water. The raw material layered silicate may be either a natural product or a synthetic product.

有機カチオンは、RNH3 +(R:鎖の炭素原子数が15以上であるアルキル基)、R2NH2 +(R:炭化水素基)、R3NH+(R:炭化水素基)、NR4 +(4つのRのうち少なくとも1つが、鎖の炭素原子数が10以上であるアルキル基)、芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウム、および複素環を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種である。 Organic cations, RNH 3 + (R: alkyl group having carbon atoms is 15 or more chains), R 2 NH 2 + ( R: hydrocarbon group), R 3 NH + (R : hydrocarbon group), NR 4 + (at least one of four Rs is an alkyl group having 10 or more carbon atoms in the chain), ammonium containing 1 to 4 hydrocarbon groups having an aromatic hydrocarbon, and a hydrocarbon having a heterocyclic ring It is at least one selected from the group consisting of ammonium containing 1 to 4 groups.

RNH3 +において、Rは鎖の炭素原子数が15以上であるアルキル基である。
本発明において、鎖の炭素原子数は、アルキル基の骨格の炭素原子数を意味する。以下同様である。
Rは直鎖状であるか、または分岐している。Rが直鎖状または分岐のいずれの場合もRの鎖(骨格)の炭素原子数は15以上であり、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションをより抑制することができるという観点から、鎖の炭素原子数は15〜20であるのが好ましい。Rが分岐している場合、側鎖としての炭化水素基は特に制限されない。
Rとしては、例えば、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基が挙げられる。なかでも、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションをより抑制することができるという観点から、オクタデシル基が好ましい。
In RNH 3 + , R is an alkyl group having 15 or more carbon atoms in the chain.
In the present invention, the number of carbon atoms in the chain means the number of carbon atoms in the skeleton of the alkyl group. The same applies hereinafter.
R is linear or branched. In the case where R is linear or branched, the number of carbon atoms in the R chain (skeleton) is 15 or more, and from the viewpoint that crack generation and migration in the exterior resin layer can be further suppressed. The number of carbon atoms is preferably 15-20. When R is branched, the hydrocarbon group as the side chain is not particularly limited.
Examples of R include a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group, an octadecyl group, and a nonadecyl group. Especially, an octadecyl group is preferable from a viewpoint that generation | occurrence | production of a crack and a migration in an exterior resin layer can be suppressed more.

2NH2 +において、Rは炭化水素基である。Rは同一でも異なっていてもよい。
炭化水素基は、特に制限されない。例えば、炭素原子数1〜20のアルキル基、芳香族基、これらの組み合わせが挙げられる。
2NH2 +としては、例えば、ジフェニルアンモニウムが挙げられる。
In R 2 NH 2 + , R is a hydrocarbon group. R may be the same or different.
The hydrocarbon group is not particularly limited. For example, a C1-C20 alkyl group, an aromatic group, and these combinations are mentioned.
Examples of R 2 NH 2 + include diphenylammonium.

3NH+において、Rは炭化水素基である。Rは同一でも異なっていてもよい。炭化水素基は上記と同義である。
3NH+としては、例えば、ジメチルベンジルアンモニウムが挙げられる。
In R 3 NH + , R is a hydrocarbon group. R may be the same or different. The hydrocarbon group is as defined above.
Examples of R 3 NH + include dimethylbenzylammonium.

NR4 +において、4つのRのうち少なくとも1つが、鎖の炭素原子数が10以上であるアルキル基である。Rは直鎖状であるか、または分岐している。外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションをより抑制することができるという観点から、鎖の炭素原子数は10〜20であるのが好ましい。Rが分岐している場合、側鎖としての炭化水素基は特に制限されない。
Rとしては、例えば、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、オクタデシル基が挙げられる。なかでも、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションをより抑制することができるという観点から、ドデシル基、オクタデシル基が好ましい。
鎖の炭素原子数が10以上であるアルキル基が1〜3個窒素原子に結合する場合、アンモニウムの窒素原子に結合する残りの炭化水素基は特に制限されない。例えば、メチル基、エチル基、ヘキシル基のような炭素原子数1〜9のアルキル基が挙げられる。
NR4 +としては、例えば、ドデシルトリメチルアンモニウム、ドデシルトリエチルアンモニウム、オクタデシルトリメチルアンモニウムが挙げられる。
In NR 4 + , at least one of the four R's is an alkyl group having 10 or more carbon atoms in the chain. R is linear or branched. From the viewpoint that generation of cracks and migration in the exterior resin layer can be further suppressed, the number of carbon atoms in the chain is preferably 10-20. When R is branched, the hydrocarbon group as the side chain is not particularly limited.
Examples of R include a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a tetradecyl group, and an octadecyl group. Among these, a dodecyl group and an octadecyl group are preferable from the viewpoint that generation of cracks and migration in the exterior resin layer can be further suppressed.
When the alkyl group having 10 or more carbon atoms in the chain is bonded to 1 to 3 nitrogen atoms, the remaining hydrocarbon groups bonded to the ammonium nitrogen atom are not particularly limited. For example, C1-C9 alkyl groups, such as a methyl group, an ethyl group, and a hexyl group, are mentioned.
Examples of NR 4 + include dodecyltrimethylammonium, dodecyltriethylammonium, and octadecyltrimethylammonium.

芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウムにおいて、芳香族炭化水素を有する炭化水素基としては、例えば、芳香族炭化水素基、アラルキル基が挙げられる。具体的には例えば、フェニル基、ナフチル基のような芳香族炭化水素基;ベンジル基、フェネチル基のようなアラルキル基が挙げられる。
アンモニウムが芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1〜3個含む場合、アンモニウムの窒素原子には、水素原子、炭化水素基が結合することができる。アンモニウムの窒素原子に結合することができる炭化水素基は特に制限されない。例えば、メチル基、エチル基、ヘキシル基のような炭素原子数1以上のアルキル基が挙げられる。
芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウムは、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションをより抑制することができるという観点から、芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1個と水素原子3個とを含むアンモニウム、芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1個とアルキル基3個とを含むアンモニウムが好ましい。
芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1個と水素原子3個とを含むアンモニウムとしては、例えば、フェニルアンモニウム、ナフチルアンモニウム、ベンジルアンモニウム、フェネチルアンモニウムが挙げられる。
芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1個とアルキル基3個とを含むアンモニウムとしては、例えば、フェニルトリメチルアンモニウム、ナフチルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、フェネチルトリメチルアンモニウムが挙げられる。
In the ammonium containing 1 to 4 hydrocarbon groups having an aromatic hydrocarbon, examples of the hydrocarbon group having an aromatic hydrocarbon include an aromatic hydrocarbon group and an aralkyl group. Specific examples include aromatic hydrocarbon groups such as phenyl and naphthyl groups; and aralkyl groups such as benzyl and phenethyl groups.
When ammonium contains 1 to 3 hydrocarbon groups having an aromatic hydrocarbon, a hydrogen atom or a hydrocarbon group can be bonded to the nitrogen atom of ammonium. The hydrocarbon group that can be bonded to the nitrogen atom of ammonium is not particularly limited. For example, an alkyl group having 1 or more carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and a hexyl group can be given.
Ammonium containing 1 to 4 hydrocarbon groups having aromatic hydrocarbons is 1 hydrocarbon group having aromatic hydrocarbons from the viewpoint that crack generation and migration in the exterior resin layer can be further suppressed. Preferred are ammonium containing 1 and 3 hydrogen atoms, and ammonium containing 1 hydrocarbon group having an aromatic hydrocarbon and 3 alkyl groups.
Examples of ammonium containing one hydrocarbon group having an aromatic hydrocarbon and three hydrogen atoms include phenylammonium, naphthylammonium, benzylammonium, and phenethylammonium.
Examples of ammonium containing one hydrocarbon group having an aromatic hydrocarbon and three alkyl groups include phenyltrimethylammonium, naphthyltrimethylammonium, benzyltrimethylammonium, and phenethyltrimethylammonium.

複素環を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウムにおいて、複素環は特に制限されない。例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有する、5〜7員環のもの、縮合系のものが挙げられる。複素環はアルキル基を介してアンモニウムの窒素原子に結合することができる。複素環としては、具体的には例えば、ピロール環、フラン環、チオフェン環が挙げられる。
アンモニウムが複素環を有する炭化水素基を1〜3個含む場合、アンモニウムの窒素原子には、水素原子、炭化水素基が結合することができる。アンモニウムの窒素原子に結合することができる炭化水素基は特に制限されない。例えば、メチル基、エチル基のような炭素原子数1以上のアルキル基が挙げられる。
In the ammonium containing 1 to 4 hydrocarbon groups having a heterocyclic ring, the heterocyclic ring is not particularly limited. Examples thereof include a 5- to 7-membered ring having a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, and a condensed system. The heterocycle can be attached to the ammonium nitrogen atom via an alkyl group. Specific examples of the heterocyclic ring include a pyrrole ring, a furan ring, and a thiophene ring.
When ammonium contains 1 to 3 hydrocarbon groups having a heterocyclic ring, a hydrogen atom or a hydrocarbon group can be bonded to the nitrogen atom of ammonium. The hydrocarbon group that can be bonded to the nitrogen atom of ammonium is not particularly limited. For example, an alkyl group having 1 or more carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group can be used.

有機カチオンは、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションをより抑制することができるという観点から、オクタデシルアンモニウム、ベンジルアンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウムが好ましい。   The organic cation is preferably octadecylammonium, benzylammonium, dodecyltrimethylammonium, or benzyltrimethylammonium from the viewpoint that generation of cracks and migration in the exterior resin layer can be further suppressed.

原料層状ケイ酸塩と有機カチオンとの組み合わせは、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションをより抑制することができるという観点から、モンモリロナイト、ヘクトライトおよびサポナイトからなる群から選ばれる少なくとも1種と、オクタデシルアンモニウム、ベンジルアンモニウム、ドデシルトリメチルアンモニウムおよびベンジルトリメチルアンモニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種との組合せが好ましい。
層状ケイ酸塩は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
層状ケイ酸塩はその製造について特に制限されない。例えば、原料層状ケイ酸塩と有機カチオンの塩(例えば、有機カチオンの塩酸塩)とを水溶液中、80℃の加熱条件下において混合することによって製造することができる。
層状ケイ酸塩を製造する際に使用する有機カチオン塩の量は、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションをより抑制することができ、配線および基材(PETなど)に対する密着性に優れるという観点から、原料層状ケイ酸塩100グラムに対して、0.01〜1.00モルであるのが好ましく、0.1〜0.2モルであるのがより好ましい。
The combination of the raw material layered silicate and the organic cation is at least one selected from the group consisting of montmorillonite, hectorite and saponite, from the viewpoint that crack generation and migration in the exterior resin layer can be further suppressed. And a combination with at least one selected from the group consisting of octadecylammonium, benzylammonium, dodecyltrimethylammonium and benzyltrimethylammonium.
The layered silicates can be used alone or in combination of two or more.
The layered silicate is not particularly limited for its production. For example, it can be produced by mixing a raw material layered silicate and an organic cation salt (for example, an organic cation hydrochloride) in an aqueous solution under heating conditions of 80 ° C.
The amount of the organic cation salt used when producing the layered silicate can further suppress the occurrence of cracks and migration in the exterior resin layer, and is excellent in adhesion to wiring and base materials (PET, etc.) From a viewpoint, it is preferable that it is 0.01-1.00 mol with respect to 100 grams of raw material layered silicate, and it is more preferable that it is 0.1-0.2 mol.

層状ケイ酸塩の量は、外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションをより抑制することができるという観点から、フェノール樹脂100質量部に対して、0.1〜10質量部であるのが好ましく、0.1〜2質量部であるのがより好ましい。   The amount of the layered silicate is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the phenol resin from the viewpoint that the occurrence of cracks and migration in the exterior resin layer can be further suppressed. 0.1 to 2 parts by mass is more preferable.

本発明のフェノール樹脂組成物は、本発明の目的、効果を損なわない範囲で、添加剤を含有することができる。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、難燃剤、帯電防止剤、防曇剤、充填剤、軟化剤、可塑剤、着色剤が挙げられる。   The phenol resin composition of this invention can contain an additive in the range which does not impair the objective and effect of this invention. Examples of the additive include an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, a flame retardant, an antistatic agent, an antifogging agent, a filler, a softener, a plasticizer, and a colorant. .

本発明のフェノール樹脂組成物は、その製造について特に制限されない。例えば、フェノール樹脂と層状ケイ酸塩と必要に応じて使用することができる添加剤とを混合することによって得ることができる。   The phenol resin composition of the present invention is not particularly limited for its production. For example, it can be obtained by mixing a phenol resin, a layered silicate, and an additive that can be used as required.

本発明の印刷回路基板の製造方法において、本発明のフェノール樹脂組成物を配線に塗布する方法は特に制限されない。例えば、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、ディッピング法、スピンコート法などが挙げられる。   In the method for producing a printed circuit board of the present invention, the method for applying the phenol resin composition of the present invention to wiring is not particularly limited. For example, a screen printing method, an inkjet printing method, a dipping method, a spin coating method, and the like can be given.

次に、本発明の印刷回路基板の製造方法における塗布工程後、加熱工程において得られた基板を加熱する。
加熱温度は外装樹脂層における、クラックの発生およびマイグレーションをより抑制することができるという観点から、100〜200℃であるのが好ましい。
加熱方法は特に制限されない。例えば、マッフル炉などのオーブンを用いて基板を加熱することができる。
加熱工程において、本発明のフェノール樹脂組成物が硬化し、層状ケイ酸塩が層はく離してフェノール樹脂の三次元マトリックスに分散した外装樹脂層となることができる。
加熱後、冷却させて、本発明の印刷回路基板を得ることができる。
Next, the board | substrate obtained in the heating process is heated after the application | coating process in the manufacturing method of the printed circuit board of this invention.
The heating temperature is preferably 100 to 200 ° C. from the viewpoint that generation of cracks and migration in the exterior resin layer can be further suppressed.
The heating method is not particularly limited. For example, the substrate can be heated using an oven such as a muffle furnace.
In the heating step, the phenol resin composition of the present invention is cured, and the layered silicate can be peeled off to form an exterior resin layer dispersed in a three-dimensional matrix of phenol resin.
After the heating, the printed circuit board of the present invention can be obtained by cooling.

本発明の印刷回路基板は、外装樹脂層を形成する組成物として本発明のフェノール樹脂組成物を使用することによって、高い印加電位[−1.5〜−2.0V vs.SCE(飽和カロメル電極)]をかけても、外装樹脂層におけるクラックが発生しにくく、マイグレーションを抑制することができ、外装樹脂層が絶縁性を有することができる。
また、本発明の印刷回路基板の製造方法は、本発明のフェノール樹脂組成物を使用することによって、加熱や溶媒等によって外装樹脂層中のフェノール樹脂と層状ケイ酸塩との配向が変化することなく、安定な品質(例えば、機械的強度、マイグレーション抑制効果)を有する印刷回路基板を容易に製造することができる。
The printed circuit board of the present invention uses a phenol resin composition of the present invention as a composition for forming an exterior resin layer, whereby a high applied potential [−1.5 to −2.0 V vs. Even when SCE (saturated calomel electrode)] is applied, cracks in the exterior resin layer are unlikely to occur, migration can be suppressed, and the exterior resin layer can have insulating properties.
Moreover, the manufacturing method of the printed circuit board of this invention uses the phenol resin composition of this invention, and the orientation of the phenol resin and layered silicate in an exterior resin layer changes with heating, a solvent, etc. Therefore, a printed circuit board having stable quality (for example, mechanical strength and migration suppressing effect) can be easily manufactured.

以下に、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。
1.陽極
(1)陽極
本発明の実施例において使用された陽極について以下に添付の図面を用いて説明する。
図3は、本発明の実施例において使用された陽極を模式的に示す正面図である。
図3において、陽極300は、PETフィルムの基板303の上に銀の配線305を有する。符号307は外装樹脂層であり、外装樹脂層307は基板303と配線305とを覆っている。
図4は、図3に示す陽極300のA−A断面図である。
図4において、陽極400は、基板403の上に配線405が配置され、外装樹脂層407が配線405をコーティングしている。
外装樹脂層407の厚さL(基板403の表面から外装樹脂層407の表面まで)を、約20μmとした。
(2)陽極の作製
PETフィルムの基板303の上に銀ペーストを用いてスクリーン印刷手法で配線305を印刷し、次いで手刷りスクリーン印刷手法で下記のようにして得た組成物を部分307の銀配線部に1回コートし、150℃で1時間加熱して冷却させて外装樹脂層307を形成し陽極300を作製した。得られた陽極300をポテンショスタットの陽極(対極)として使用した。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.
1. Anode (1) Anode The anode used in the examples of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
FIG. 3 is a front view schematically showing the anode used in the example of the present invention.
In FIG. 3, the anode 300 has silver wiring 305 on a PET film substrate 303. Reference numeral 307 denotes an exterior resin layer, and the exterior resin layer 307 covers the substrate 303 and the wiring 305.
4 is a cross-sectional view of the anode 300 shown in FIG.
In FIG. 4, the anode 400 has a wiring 405 disposed on a substrate 403, and an exterior resin layer 407 coats the wiring 405.
The thickness L of the exterior resin layer 407 (from the surface of the substrate 403 to the surface of the exterior resin layer 407) was about 20 μm.
(2) Fabrication of anode A wiring 305 was printed by a screen printing method using a silver paste on a PET film substrate 303, and then a composition obtained by the following method by a hand-printed screen printing method was used as the silver of the portion 307. The wiring part was coated once, heated at 150 ° C. for 1 hour and cooled to form an exterior resin layer 307, and an anode 300 was produced. The obtained anode 300 was used as the anode (counter electrode) of the potentiostat.

2.評価(有機アンモニウムハイブリッドクレイ含有コーティング樹脂の電気化学的挙動)
・電気化学QCM(Quarts Crystal Microbalance:水晶天秤)を用いて金属の析出を測定するために使用された装置
本発明の実施例において、電気化学QCMを用いて金属の析出を測定するために使用された装置について以下に添付の図面を用いて説明する。
図2は、本発明の実施例において、電気化学QCMを用いて金属の析出を測定するために使用された装置を模式的に示す概略図である。
図2において、装置200は、ポテンショスタット203、QCM205、水槽207を有する。ポテンショスタット203は、対極としての陽極209と、作用電極としてQCMを使用する陰極205と、参照電極211とを有する。陽極209、参照電極211はポテンショスタット203と電気的に接続されている。陰極205は基板213上に金蒸着部215を有し、金蒸着部215においてポテンショスタット203と電気的に接続されている。陰極205はQCMコントローラ217に電気的に接続されている。
陽極209は、外装樹脂層219の面(図示せず。)が金蒸着部215と接触する程度に、矢印221の方向に力が加えられ湾曲している。
水槽207の内部は、支持塩としてTEAClO4(化合物名:過塩素酸テトラエチルアンモニウム)を含有する0.1mMの水溶液223で満たされており、陰極205、陽極209、参照電極211が、水溶液223にひたされている。
ポテンショスタット203の電源からは電流が矢印225の方向に流れ、陰極205には参照電極211に対する電位が常に等電位となるようにポテンショスタット203によって電圧がかけられている。
湾曲している外装樹脂層219にクラック(図示せず。)が生じると、クラックから銀イオンが溶出し、金蒸着部215上で還元されて銀となる(図示せず。)
金蒸着部215上に金属(ここでは銀。図示せず。)が付着すると、その質量に応じて共振周波数偏差が下がる。共振周波数偏差の変動はQCMコントローラ217において検知される。
本発明の実施例において、ポテンショスタット203として電気化学システム:HZ−3000(北斗電工社製)が使用され、陽極209として上記のように作製した陽極が使用され、陰極205として共振周波数6MHzの金蒸着ATカットクリスタルのQCM(北斗電工社製)が使用され、参照電極211としてAg/AgCl線が使用された。
この実験によって、陽極209にもともと(実験前から)クラックがあるかどうかを確認することができる。
・測定
図2に示す装置、図3に示す陽極を用いて、ポテンショスタット203における印加電位:−1.5V vs.SCEとして、周波数偏差/Δfを測定した。結果を図6に示す。図6はQCM測定結果(時間一共振周波数偏差の関係)を示すグラフである。
2. Evaluation (Electrochemical behavior of coating resin containing organic ammonium hybrid clay)
-Apparatus used to measure metal deposition using an electrochemical QCM (Quarts Crystal Microbalance) In an embodiment of the present invention, used to measure metal deposition using an electrochemical QCM. The apparatus will be described below with reference to the accompanying drawings.
FIG. 2 is a schematic diagram schematically showing an apparatus used for measuring metal deposition using electrochemical QCM in an embodiment of the present invention.
In FIG. 2, the apparatus 200 includes a potentiostat 203, a QCM 205, and a water tank 207. The potentiostat 203 includes an anode 209 as a counter electrode, a cathode 205 using QCM as a working electrode, and a reference electrode 211. The anode 209 and the reference electrode 211 are electrically connected to the potentiostat 203. The cathode 205 has a gold vapor deposition portion 215 on the substrate 213, and is electrically connected to the potentiostat 203 in the gold vapor deposition portion 215. The cathode 205 is electrically connected to the QCM controller 217.
The anode 209 is curved by applying a force in the direction of the arrow 221 to such an extent that the surface (not shown) of the exterior resin layer 219 is in contact with the gold vapor deposition portion 215.
The inside of the water tank 207 is filled with a 0.1 mM aqueous solution 223 containing TEACIO 4 (compound name: tetraethylammonium perchlorate) as a supporting salt, and the cathode 205, the anode 209, and the reference electrode 211 are added to the aqueous solution 223. It has been done.
A current flows from the power source of the potentiostat 203 in the direction of the arrow 225, and a voltage is applied to the cathode 205 by the potentiostat 203 so that the potential with respect to the reference electrode 211 is always equal.
When a crack (not shown) is generated in the curved exterior resin layer 219, silver ions are eluted from the crack and reduced on the gold vapor deposition portion 215 to become silver (not shown).
If a metal (here, silver, not shown) adheres on the gold vapor deposition part 215, a resonance frequency deviation will fall according to the mass. The fluctuation of the resonance frequency deviation is detected by the QCM controller 217.
In the embodiment of the present invention, an electrochemical system: HZ-3000 (made by Hokuto Denko) is used as the potentiostat 203, the anode prepared as described above is used as the anode 209, and gold having a resonance frequency of 6 MHz is used as the cathode 205. A vapor-deposited AT cut crystal QCM (manufactured by Hokuto Denko) was used, and an Ag / AgCl wire was used as the reference electrode 211.
By this experiment, it can be confirmed whether or not the anode 209 originally has a crack (before the experiment).
Measurement Using the apparatus shown in FIG. 2 and the anode shown in FIG. 3, the applied potential at the potentiostat 203: −1.5 V vs. Frequency deviation / Δf was measured as SCE. The results are shown in FIG. FIG. 6 is a graph showing a QCM measurement result (time-resonance frequency deviation relationship).

3.有機カチオンの塩の製造
(1)化合物2a
化合物1a(0.1g)を1mol/Lの塩酸水溶液中(10ml)で反応させて化合物2aを製造した。
(2)化合物2b
化合物1b(0.1g)を1mol/Lの塩酸水溶液中(10ml)で反応させて化合物2bを製造した。
(3)化合物2c
化合物1c(0.1g)を1mol/Lの塩酸水溶液中(10ml)で反応させて化合物2cを製造した。
各化合物の構造を図5に示す。
図5は、実施例において使用した有機カチオンの塩の構造(2a〜2e)、および有機カチオンの塩(2a〜2c)の製造を示す化学式である。
3. Preparation of salt of organic cation (1) Compound 2a
Compound 1a (0.1 g) was reacted in a 1 mol / L aqueous hydrochloric acid solution (10 ml) to produce compound 2a.
(2) Compound 2b
Compound 1b (0.1 g) was reacted in a 1 mol / L hydrochloric acid aqueous solution (10 ml) to produce compound 2b.
(3) Compound 2c
Compound 1c (0.1 g) was reacted in a 1 mol / L aqueous hydrochloric acid solution (10 ml) to produce compound 2c.
The structure of each compound is shown in FIG.
FIG. 5 is a chemical formula showing the structures of organic cation salts (2a to 2e) and the production of organic cation salts (2a to 2c) used in Examples.

4.層状ケイ酸塩
(1)層状ケイ酸塩(有機ハイブリッドクレイ)の製造
インターカレート前の層状ケイ酸塩としてヘクトライト(商品名ラポナイト、巴工業(株)社製)を使用した。
有機カチオンの塩として、上記のようにして得た化合物2a、2b、2cと、化合物2d(東京化成工業(株)社製)、化合物2e(東京化成工業(株)社製)を用いた。化合物2d、2eの構造を図5に示す。
ヘクトライト100グラムに対して、化合物2b(オクタデシルアンモニウムクロライド)0.15モルを使用してヘクトライトに有機カチオンをインターカレートさせた。
また、ヘクトライト100グラムに対して、化合物2a:0.15モルを使用してヘクトライトに有機カチオンをインターカレートさせた。化合物2c、化合物2d、化合物2eについても、ヘクトライト100グラムに対して、化合物2c、化合物2d、化合物2eをそれぞれ0.15モル使用してヘクトライトに有機カチオンをインターカレートさせた。
インターカレート方法は、文献記載の方法に従った(Macromolecules1997,30,6334を参照)。
化合物2bを用いて得られた層状ケイ酸塩を層状ケイ酸塩1とする。
化合物2eを用いて得られた層状ケイ酸塩を層状ケイ酸塩2とする。
化合物2dを用いて得られた層状ケイ酸塩を層状ケイ酸塩3とする。
化合物2cを用いて得られた層状ケイ酸塩を層状ケイ酸塩4とする。
化合物2aを用いて得られた層状ケイ酸塩を層状ケイ酸塩5とする。
4). Production of Layered Silicate (1) Layered Silicate (Organic Hybrid Clay) Hectorite (trade name Laponite, manufactured by Sakai Kogyo Co., Ltd.) was used as the layered silicate before intercalation.
As the organic cation salt, compounds 2a, 2b and 2c obtained as described above, compound 2d (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and compound 2e (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were used. The structures of compounds 2d and 2e are shown in FIG.
The organic cation was intercalated in hectorite using 0.15 mol of compound 2b (octadecyl ammonium chloride) per 100 grams of hectorite.
Moreover, 0.15 mol of compound 2a was used for 100 g of hectorite, and an organic cation was intercalated in hectorite. For compound 2c, compound 2d, and compound 2e, 0.15 mol of compound 2c, compound 2d, and compound 2e were used per 100 g of hectorite, and organic cations were intercalated into hectorite.
The intercalation method followed the method described in the literature (see Macromolecules 1997, 30, 6334).
The layered silicate obtained using Compound 2b is referred to as Layered Silicate 1.
The layered silicate obtained using Compound 2e is referred to as Layered Silicate 2.
The layered silicate obtained using Compound 2d is referred to as Layered Silicate 3.
The layered silicate obtained using Compound 2c is referred to as Layered Silicate 4.
The layered silicate obtained using Compound 2a is referred to as Layered Silicate 5.

(2)層状ケイ酸塩の分析
層状ケイ酸塩への各種有機カチオンのインターカレーションの有無を明らかにするため、IR測定を行った。測定は、KBrに有機ハイブリッドクレイを拡散したペレットを作製し、全反射測定法により行った。
ドデシルアンモニウム、オクタデシルアンモニウム、n−ドデシルトリメチルアンモニウムを反応させたヘクトライトにおいては、C-H伸縮振動による吸収スペクトルが3000〜2840cm-1の領域に現れた。このことは、クレイに前述のアンモニウムがインターカレートされていることを示すものである。
しかしながら、ベンジルトリメチルアンモニウム、ベンジルアンモニウムを反応させたサンプルでは、C-H伸縮振動もしくはフェニル環による明瞭な吸収帯が確認できなかった。
IR測定において、インターカレーションの有無を認めることのできなかったベンジルトリメチルアンモニウム、ベンジルアンモニウムについて、そのインターカレーションの有無を明らかにすることを目的として、UV測定を行った。水にクレイ(ヘクトライト)のみを溶解したサンプル、水に塩化ベンジルトリメチルアンモニウムを溶解したサンプル、水にベンジルアミンを溶解したサンプル、水にベンジルトリメチルアンモニウムハイブリッドクレイを溶解したサンプル、水にベンジルアンモニウムハイブリッドクレイを溶解したサンプルのUVスペクトルを測定した。
クレイのみを水に溶解したスペクトルでは、特徴的な吸収帯は現れないが、塩化ベンジルトリメチルアンモニウムを反応させたクレイのスペクトルには、フェニル環に由来する吸収帯(約260nm)が現れた。
したがって、クレイにベンジルトリメチルアンモニウムおよびベンジルアンモニウムがインターカレートされていることを明らかにすることができた。
(2) Analysis of layered silicate In order to clarify the presence or absence of intercalation of various organic cations into the layered silicate, IR measurement was performed. The measurement was performed by preparing a pellet obtained by diffusing organic hybrid clay in KBr and measuring the total reflection.
In hectorite reacted with dodecylammonium, octadecylammonium and n-dodecyltrimethylammonium, an absorption spectrum due to CH stretching vibration appeared in the region of 3000 to 2840 cm −1 . This indicates that the above ammonium is intercalated in the clay.
However, in the sample reacted with benzyltrimethylammonium and benzylammonium, no clear absorption band due to CH stretching vibration or phenyl ring could be confirmed.
In IR measurement, UV measurement was performed for the purpose of clarifying the presence or absence of intercalation of benzyltrimethylammonium and benzylammonium that could not be recognized as intercalation. Sample in which only clay (hectorite) is dissolved in water, sample in which benzyltrimethylammonium chloride is dissolved in water, sample in which benzylamine is dissolved in water, sample in which benzyltrimethylammonium hybrid clay is dissolved in water, benzylammonium hybrid in water The UV spectrum of the sample in which clay was dissolved was measured.
In the spectrum in which only clay is dissolved in water, a characteristic absorption band does not appear, but in the spectrum of the clay reacted with benzyltrimethylammonium chloride, an absorption band (about 260 nm) derived from the phenyl ring appears.
Therefore, it was clarified that benzyltrimethylammonium and benzylammonium were intercalated in the clay.

5.実施例
(1)実施例1
フェノール樹脂(商品名フェノライト5010、大日本インキ化学工業株式会社)100質量部に対して、層状ケイ酸塩1を2質量部加え、混合して組成物を得た。得られた組成物を組成物1とする。
(2)実施例2
層状ケイ酸塩1を層状ケイ酸塩2に代えた他は実施例1と同様にして組成物を得た。得られた組成物を組成物2とする。
(3)実施例3
層状ケイ酸塩1を層状ケイ酸塩3に代えた他は実施例1と同様にして組成物を得た。得られた組成物を組成物3とする。
(4)実施例4
層状ケイ酸塩1を層状ケイ酸塩4に代えた他は実施例1と同様にして組成物を得た。得られた組成物を組成物4とする。
(5)比較例1
層状ケイ酸塩1を層状ケイ酸塩5に代えた他は実施例1と同様にして組成物を得た。得られた組成物を組成物5とする。
(6)比較例2
インターカレートされたヘクトライトの代わりにインターカレートされていないヘクトライトを用いる他は実施例1と同様にして組成物を得た。得られた組成物を組成物6とする。
5). Example (1) Example 1
2 parts by mass of layered silicate 1 was added to 100 parts by mass of phenol resin (trade name Phenolite 5010, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and mixed to obtain a composition. The resulting composition is referred to as Composition 1.
(2) Example 2
A composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the layered silicate 1 was replaced with the layered silicate 2. The resulting composition is designated as Composition 2.
(3) Example 3
A composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the layered silicate 1 was replaced with the layered silicate 3. The resulting composition is designated as Composition 3.
(4) Example 4
A composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the layered silicate 1 was replaced with the layered silicate 4. The resulting composition is designated as Composition 4.
(5) Comparative Example 1
A composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the layered silicate 1 was replaced with the layered silicate 5. The obtained composition is designated as Composition 5.
(6) Comparative Example 2
A composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that non-intercalated hectorite was used instead of intercalated hectorite. The obtained composition is designated as Composition 6.

図6に示す結果から明らかなように、実施例1〜4(有機アンモニウムハイブリッドクレイを含有したフェノール樹脂でコーティングしたサンプル)は、有機カチオンがドデシルアンモニウムである比較例1、インターカレートされていない層状ケイ酸塩を用いる比較例2と比較して、長時間に渡り共振周波数偏差が保持された。このことはクレイに有機物をインターカレートしたことによりフェノール樹脂との相溶性が向上し、フェノール樹脂へのクラック生成が抑制されたためと考えられる。すなわち、ハイブリッド化する有機アンモニウムの分子構造を詳細に検討した結果、炭素鎖の長い有機アンモニウムをインターカレートするとマイグレーションが強く抑制されることが判った(オクタデシルアンモニウム:炭素鎖18とドデシルアンモニウム:炭素鎖12との比較)。このことは、クレイ層間と相互作用することのない疎水部分である炭素鎖が長いほど、フェノール樹脂とのvdw相互作用が強く誘起され相溶性が増したものと考えられる。
一方、炭素鎖部分にフェニル環を持つアミンを用いると、フェノール樹脂の基本骨格であるフェニル環との間に、vdw相互作用よりも強い相互作用であるπ−π相互作用が誘起されるため、炭素鎖が少なくてもフェノール樹脂との相溶性が期待できる。実際に、ベンジルアンモニウムを用いたところ、ドデシルアンモニウムより炭素数が少ないにもかかわらず、長時間に渡り、マイグレーションが抑制されることが判った。
次に、四級アンモニウムについて検討した。四級アンモニウムのカチオン部分の構造は、他のアンモニウムに比較して嵩高い立体構造を有する。そのため、クレイ層間に存在する無機イオンに対するイオン交換後、そのカチオン部分は無機イオンに比べて表層部に存在すると予測される。そのため、疎水部分はクレイから離れた遠位に存在することが推測できる。この推測に基づけば、長鎖四級アンモニウムをハイブリッド化した場合、クレイ周辺の疎水部分とフェノール樹脂は、他の有機ハイブリッドクレイと比較して大きな分子間相互作用が誘起されるはずである。実際に、ベンジルトリメチルアンモニウムやn−ドデシルトリメチルアンモニウムを用いると、予想通りマイグレーションが強く抑制され、とくにn−ドデシルトリメチルアンモニウムが最も良好なマイグレーション抑制能を示した。これらの結果より、有機アンモニウムハイブリッドクレイとフェノール樹脂の相溶性向上に伴うフェノール樹脂の高機能化により、マイグレーション抑制に成功した。
以上、有機残基を修飾したクレイを合成し、それを含有させた樹脂の電気化学的挙動を明らかにした。すなわち、有機ハイブリッドクレイを含有させたフェノール樹脂は、無垢のクレイを含有させた樹脂やクレイの存在しない樹脂に比較して、クラックしにくく、長時間に渡り、マイグレーションを抑制することを見出した。ハイブリッド化する有機アンモニウムの分子構造を詳細に検討した結果、フェノール樹脂でコーティングした銀配線のマイグレーション抑制には長鎖四級アンモニウム(n−ドデシルトリメチルアンモニウムなど)が有効に機能することを見出した。
なお、実施例1〜4におけるマイグレーションによる金属(例えば、銀)の析出状態を観察すると、金属の析出は陽極の曲げとは無関係な位置で起こっていた。
本発明により、銀ペーストのバインダーとして汎用されるフェノール樹脂と無機フィラー(クレイ)との相互作用を明らかにすることで、クラックしにくく、マイグレーション抑制能を有するクレイおよび有機ハイブリッドクレイを含有する外装樹脂を開発することができた。
As is clear from the results shown in FIG. 6, Examples 1 to 4 (samples coated with a phenol resin containing an organic ammonium hybrid clay) are not intercalated in Comparative Example 1 in which the organic cation is dodecyl ammonium. Compared with Comparative Example 2 using the layered silicate, the resonance frequency deviation was maintained for a long time. This is presumably because the compatibility with the phenol resin was improved by intercalating the organic substance into the clay, and crack formation in the phenol resin was suppressed. In other words, as a result of detailed examination of the molecular structure of the organic ammonium to be hybridized, it was found that migration is strongly suppressed when organic ammonium having a long carbon chain is intercalated (octadecyl ammonium: carbon chain 18 and dodecyl ammonium: carbon Comparison with chain 12). This is probably because the longer the carbon chain that is a hydrophobic part that does not interact with the clay layer, the stronger the vdw interaction with the phenol resin is induced and the more the compatibility is increased.
On the other hand, when an amine having a phenyl ring in the carbon chain portion is used, a π-π interaction that is stronger than the vdw interaction is induced between the phenyl ring that is the basic skeleton of the phenol resin, Even if there are few carbon chains, compatibility with a phenol resin can be expected. Actually, when benzylammonium was used, it was found that migration was suppressed over a long period of time despite the fact that the number of carbons was smaller than that of dodecylammonium.
Next, quaternary ammonium was examined. The structure of the cation part of quaternary ammonium has a bulky steric structure compared to other ammonium. Therefore, after ion exchange for inorganic ions existing between clay layers, the cation portion is expected to be present in the surface layer portion compared to inorganic ions. For this reason, it can be inferred that the hydrophobic portion exists at a distance from the clay. Based on this assumption, when long-chain quaternary ammonium is hybridized, the hydrophobic portion around the clay and the phenol resin should induce a large intermolecular interaction compared to other organic hybrid clays. Actually, when benzyltrimethylammonium or n-dodecyltrimethylammonium was used, migration was strongly suppressed as expected, and in particular, n-dodecyltrimethylammonium showed the best migration suppressing ability. From these results, we succeeded in suppressing migration by improving the functionality of the phenolic resin as the compatibility of the organic ammonium hybrid clay and the phenolic resin improved.
As mentioned above, the clay which modified the organic residue was synthesized, and the electrochemical behavior of the resin containing it was clarified. That is, the present inventors have found that a phenol resin containing an organic hybrid clay is less susceptible to cracking and suppresses migration over a long period of time compared to a resin containing solid clay or a resin containing no clay. As a result of detailed examination of the molecular structure of the organic ammonium to be hybridized, it was found that long-chain quaternary ammonium (such as n-dodecyltrimethylammonium) functions effectively in suppressing migration of silver wiring coated with phenol resin.
In addition, when the precipitation state of the metal (for example, silver) by migration in Examples 1 to 4 was observed, the metal precipitation occurred at a position unrelated to the bending of the anode.
According to the present invention, by clarifying the interaction between a phenol resin and an inorganic filler (clay), which are widely used as a binder for silver paste, it is difficult to crack and has an ability to suppress migration and an exterior resin containing an organic hybrid clay Could be developed.

図1は、本発明の印刷回路基板の一例を模式的に表す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the printed circuit board of the present invention. 図2は、本発明の実施例において、電気化学QCMを用いて金属の析出を測定するために使用された装置を模式的に示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram schematically showing an apparatus used for measuring metal deposition using electrochemical QCM in an embodiment of the present invention. 図3は、本発明の実施例において使用された陽極を模式的に示す正面図である。FIG. 3 is a front view schematically showing the anode used in the example of the present invention. 図4は、図3に示す陽極300のA−A断面図である。4 is a cross-sectional view of the anode 300 shown in FIG. 図5は、実施例において使用した有機カチオンの塩の構造(2a〜2e)、および有機カチオンの塩(2a〜2c)の製造を示す化学式である。FIG. 5 is a chemical formula showing the structures of organic cation salts (2a to 2e) and the production of organic cation salts (2a to 2c) used in Examples. 図6は、QCM測定結果(時間一共振周波数偏差の関係)を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing the QCM measurement result (time-resonance frequency deviation relationship).

符号の説明Explanation of symbols

100 本発明の印刷回路基板 103 基板
105、106 配線 107 外装樹脂層
200 装置 203 ポテンショスタット
205 QCM(陰極) 207 水槽
209 陽極
211 参照電極 213 基板
215 金蒸着部 217 QCMコントローラ
219 外装樹脂層 221、225 矢印
223 水溶液
300、400 陽極 303、403 基板
305、405 配線 307、407 外装樹脂層
L 外装樹脂層307の厚さ(基板303の表面から外装樹脂層307の表面まで)
100 Printed Circuit Board of the Present Invention 103 Substrate 105, 106 Wiring 107 Exterior Resin Layer 200 Device 203 Potentiostat 205 QCM (Cathode) 207 Water Tank 209 Anode 211 Reference Electrode 213 Substrate 215 Gold Deposition Unit 217 QCM Controller 219 Exterior Resin Layer 221 225 Arrow 223 Aqueous solution 300, 400 Anode 303, 403 Substrate 305, 405 Wiring 307, 407 Exterior resin layer L Thickness of exterior resin layer 307 (from the surface of substrate 303 to the surface of exterior resin layer 307)

Claims (5)

フェノール樹脂と、
RNH3 +(R:鎖の炭素原子数が15以上であるアルキル基)、R2NH2 +(R:炭化水素基)、R3NH+(R:炭化水素基)、NR4 +(4つのRのうち少なくとも1つが、鎖の炭素原子数が10以上であるアルキル基)、芳香族炭化水素を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウム、および複素環を有する炭化水素基を1〜4個含むアンモニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の有機カチオンによってインターカレートされている層状ケイ酸塩とを含有する、印刷回路基板の配線コーティング用フェノール樹脂組成物。
Phenolic resin,
RNH 3 + (R: alkyl group having 15 or more carbon atoms in the chain), R 2 NH 2 + (R: hydrocarbon group), R 3 NH + (R: hydrocarbon group), NR 4 + (4 At least one of the R is an alkyl group having 10 or more carbon atoms in the chain), an ammonium containing 1 to 4 hydrocarbon groups having an aromatic hydrocarbon, and a hydrocarbon group having a heterocyclic ring 1 to A phenolic resin composition for wiring coating of a printed circuit board, comprising a layered silicate intercalated with at least one organic cation selected from the group consisting of four ammonium.
前記層状ケイ酸塩が、モンモリロナイト、ヘクトライトおよびサポナイトからなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の配線コーティング用フェノール樹脂組成物。   The phenol resin composition for wiring coating according to claim 1, wherein the layered silicate is at least one selected from the group consisting of montmorillonite, hectorite and saponite. 前記層状ケイ酸塩の量が、前記フェノール樹脂100質量部に対して、0.1〜10質量部である請求項1または2に記載の配線コーティング用フェノール樹脂組成物。   The phenol resin composition for wiring coating according to claim 1 or 2, wherein the amount of the layered silicate is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the phenol resin. 基板と、前記基板上に設けられた複数の配線と、前記配線の少なくとも間をコーティングする外装樹脂層とを有し、前記外装樹脂層が、請求項1〜3のいずれかに記載の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を用いて得られる印刷回路基板。   The wiring coating according to claim 1, further comprising: a substrate, a plurality of wirings provided on the substrate, and an exterior resin layer that coats at least a space between the wirings. Printed circuit board obtained by using the phenol resin composition. 基板上に複数の配線を印刷する印刷工程と、
前記印刷工程後、前記配線の少なくとも間に、請求項1〜3のいずれかに記載の配線コーティング用フェノール樹脂組成物を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程後に、得られた基板を加熱する加熱工程とを有する印刷回路基板の製造方法。
A printing process for printing a plurality of wirings on a substrate;
The application | coating process which apply | coats the phenol resin composition for wiring coating in any one of Claims 1-3 between the said wiring after the said printing process,
A printed circuit board manufacturing method comprising: a heating step of heating the obtained substrate after the coating step.
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