JP2010017677A - Manufacturing method of photocatalytic body - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a photocatalytic body, capable of exhibiting a high photocatalytic activity without need for a special apparatus. <P>SOLUTION: The manufacturing method for the photocatalytic body includes the step of burning a mixture of powder of a photocatalytic body precursor compound and organic particles, each of which has a size of 50 to 200 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、高い活性を示す光触媒体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a photocatalyst having high activity.

半導体にバンドギャップ以上のエネルギーをもつ光を照射すると、価電子帯の電子が伝導帯に励起し、価電子帯に正孔、伝導帯に電子が生成する。これらはそれぞれ強い酸化力と還元力を有し、半導体に接触した分子種に酸化還元作用を及ぼす。このような作用を光触媒作用と呼び、この光触媒作用を発揮し得る半導体は光触媒体と呼ばれている。かかる光触媒作用を利用することによって、大気中の有機物などを分解することができる。光触媒体による有機物の分解反応では、価電子帯に生成した正孔が直接有機物を酸化分解するか、正孔が水を酸化し、そこから生成する活性酸素種が有機物を酸化分解すると考えられており、さらに、それ以外にも、伝導帯に生成した電子が酸素を還元し、そこから生成する活性酸素種が有機物を酸化分解することも考えられる。 When a semiconductor is irradiated with light having energy higher than the band gap, electrons in the valence band are excited to the conduction band, and holes are generated in the valence band and electrons are generated in the conduction band. These have strong oxidizing power and reducing power, respectively, and exert a redox action on the molecular species in contact with the semiconductor. Such an action is called a photocatalytic action, and a semiconductor that can exhibit this photocatalytic action is called a photocatalyst. By utilizing such photocatalytic action, organic substances in the atmosphere can be decomposed. In the decomposition reaction of organic substances by photocatalysts, it is thought that holes generated in the valence band directly oxidize and decompose organic substances, or holes oxidize water and active oxygen species generated from them oxidize and decompose organic substances. In addition, it is also conceivable that electrons generated in the conduction band reduce oxygen, and active oxygen species generated therefrom oxidize and decompose organic matter.

かかる光触媒体の製造方法としては、例えばタングステン酸の水溶液を、密閉容器内で250℃〜300℃に加熱する方法が提案されている(非特許文献1参照)。しかし、この方法は、高温で且つ高圧に耐える装置ような特殊な装置が必要である。 As a method for producing such a photocatalyst, for example, a method of heating an aqueous solution of tungstic acid to 250 ° C. to 300 ° C. in a sealed container has been proposed (see Non-Patent Document 1). However, this method requires special equipment such as equipment that can withstand high temperatures and high pressures.

Journal of Materials Chemistry,2001,11,3222-3227.Journal of Materials Chemistry, 2001,11,3222-3227.

そこで、本発明者は、特殊な装置を要することなく、高い光触媒活性を示しうる光触媒体の製造方法を提供するべく鋭意検討した結果、本発明に至った。 Therefore, the present inventors have intensively studied to provide a method for producing a photocatalyst that can exhibit high photocatalytic activity without requiring a special apparatus, and as a result, have reached the present invention.

すなわち、本発明は以下の構成からなる。
(1)光触媒体前駆体化合物の粉末と粒径50nm〜200nmの有機物粒子との混合を焼成することを特徴とする光触媒体の製造方法。
That is, the present invention has the following configuration.
(1) A method for producing a photocatalyst, comprising firing a mixture of a photocatalyst precursor compound powder and organic particles having a particle size of 50 nm to 200 nm.

本発明によれば、高い光触媒活性を示しうる光触媒体を提供することができる。 According to the present invention, a photocatalyst that can exhibit high photocatalytic activity can be provided.

本発明の光触媒体の製造方法に用いられる光触媒体としては、酸化タングステンや酸化チタンがあげられる。光触媒体が酸化タングステンの場合、光触媒体の前駆体化合物としては、メタタングステン酸アンモニウム、パラタングステン酸アンモニウム、タングステン酸(H2WO4)、塩化タングステン、タングステンアルコキシドなどを用いることができる。また、光触媒体が酸化チタンの場合、光触媒体の前駆体化合物としては、三塩化チタン、四塩化チタン、硫酸チタン、オキシ硫酸チタン、オキシ塩化チタン、チタンテトライソポロポキシドなどを用いることができる。可視光線の照射下で高い光触媒活性を示すことから、酸化タングステンを光触媒体として用いることが好ましい。 Examples of the photocatalyst used in the method for producing a photocatalyst of the present invention include tungsten oxide and titanium oxide. When the photocatalyst is tungsten oxide, the precursor compound of the photocatalyst, ammonium metatungstate, ammonium paratungstate, tungstic acid (H 2 WO 4), tungsten chloride, it can be used such as tungsten alkoxides. When the photocatalyst is titanium oxide, titanium trichloride, titanium tetrachloride, titanium sulfate, titanium oxysulfate, titanium oxychloride, titanium tetraisoporopoxide, etc. can be used as the precursor compound of the photocatalyst. . Tungsten oxide is preferably used as the photocatalyst because it exhibits high photocatalytic activity under visible light irradiation.

本発明で得られる光触媒体が酸化タングステンの場合、その一次粒子径は15nm以上、85nm以下である。一次粒子径が15nm未満の場合、酸化タングステンの結晶性が不十分となり、高い光触媒活性が得られない。一方、85nmを超えると、酸化タングステンの表面に吸着する反応基質の量が少なくなり、高い光触媒活性が得られない。尚、一次粒子径は、実施例に記載する通り、BET比表面積より算出することができる。 When the photocatalyst obtained in the present invention is tungsten oxide, the primary particle diameter is 15 nm or more and 85 nm or less. When the primary particle diameter is less than 15 nm, the crystallinity of tungsten oxide becomes insufficient and high photocatalytic activity cannot be obtained. On the other hand, when it exceeds 85 nm, the amount of the reaction substrate adsorbed on the surface of tungsten oxide decreases, and high photocatalytic activity cannot be obtained. The primary particle diameter can be calculated from the BET specific surface area as described in the examples.

また、酸化タングステンの結晶化率は50%である。結晶化率が50%未満の場合、結晶性が不十分な為、高い光触媒活性が得られない。尚、結晶化率は、実施例に記載する通り、酸化タングステンのX線回折測定で得られるパターンにおいて、面指数(002)、(020)、(200)面のピーク強度と、酸化タングステンの標準試料のピーク強度の比を取り、得られる3つのピーク強度比の平均値に100を掛けた値(%)である。 The crystallization rate of tungsten oxide is 50%. When the crystallization rate is less than 50%, high photocatalytic activity cannot be obtained because of insufficient crystallinity. As described in the examples, the crystallization rate is determined by the peak intensity of the plane index (002), (020), (200) plane and the standard of tungsten oxide in the pattern obtained by the X-ray diffraction measurement of tungsten oxide. It is a value (%) obtained by taking the ratio of the peak intensities of the samples and multiplying the average value of the three obtained peak intensity ratios by 100.

本発明の光触媒体の製造方法においては、粒径が50nm〜200nmの有機物粒子を用いる。有機物粒子としては、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリイミド、エポキシ樹脂、胡桃などを用いることができるが、これらの中でもポリメタクリル酸メチルを用いるのが好ましい。 In the method for producing a photocatalyst of the present invention, organic particles having a particle size of 50 nm to 200 nm are used. As the organic particles, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, polyester, polyimide, epoxy resin, walnuts and the like can be used. Among these, polymethyl methacrylate is preferably used.

本発明の製造方法では、光触媒体前駆体化合物粉末を上記有機物粒子とが混合された混合物を焼成する。かかる混合物は、例えば光触媒体前駆体化合物が溶媒に溶解した溶液を有機物粒子と接触させることにより、有機物粒子に光触媒体前駆体化合物を含浸させ、次いで溶媒を留去する方法により得ることができる。粉末状の光触媒体前駆体化合物と有機物粒子とを粉末状態のまま混合してもよい。溶媒中に光触媒体前駆体化合物および有機物粒子を分散させた後、溶媒を留去してもよい。 In the production method of the present invention, a mixture of the photocatalyst precursor compound powder and the organic particles is baked. Such a mixture can be obtained, for example, by bringing a solution in which a photocatalyst precursor compound is dissolved in a solvent into contact with organic particles, impregnating the organic particles with the photocatalyst precursor compound, and then distilling off the solvent. The powdery photocatalyst precursor compound and the organic particles may be mixed in a powder state. After the photocatalyst precursor compound and the organic particles are dispersed in the solvent, the solvent may be distilled off.

有機物粒子は、乾燥したものを用いてもよいし、ある程度水分等で湿らせたコロイド状で用いてもよい。また、焼成する前の混合物は、室温〜200℃の範囲で乾燥させてもよい。 The organic particles may be used in a dried state or in a colloidal form moistened with water to some extent. Moreover, you may dry the mixture before baking in the range of room temperature-200 degreeC.

光触媒前駆体化合物を分散または溶解させる溶媒としては、光触媒体の前駆体化合物を分散または溶解し得、かつ有機物粒子を溶解しないものであれば、特に制限はないが、水やメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコールを用いるのが好ましい。 The solvent for dispersing or dissolving the photocatalyst precursor compound is not particularly limited as long as it can disperse or dissolve the photocatalyst precursor compound and does not dissolve the organic particles, but water, methanol, ethanol, propanol It is preferable to use an alcohol such as

本発明の製造方法では、かかる混合物を焼成する。焼成することにより、有機物粒子が焼失する。通常、気流焼成炉、トンネル炉、回転炉などの焼成装置を用いて行うことができる。焼成温度は、通常350℃以上、好ましくは380℃以上で、かつ通常750℃以下、好ましくは650℃以下の範囲内で適宜設定すればよい。また、焼成時間は、焼成温度や焼成装置の種類等に応じて適宜設定すればよいが、通常、10分以上、好ましくは30分以上であり、かつ、30時間以内、好ましくは10時間以内である。焼成は、有機物粒子が焼失するのに十分な量の酸素を含む雰囲気中で行う。 In the production method of the present invention, such a mixture is baked. By firing, the organic particles are burned away. Usually, it can carry out using baking apparatuses, such as an airflow baking furnace, a tunnel furnace, and a rotary furnace. The firing temperature may be appropriately set within the range of usually 350 ° C. or higher, preferably 380 ° C. or higher, and usually 750 ° C. or lower, preferably 650 ° C. or lower. The firing time may be appropriately set according to the firing temperature, the type of firing apparatus, etc., but is usually 10 minutes or longer, preferably 30 minutes or longer, and within 30 hours, preferably within 10 hours. is there. Firing is performed in an atmosphere containing a sufficient amount of oxygen to burn off organic particles.

本発明の製造方法で得られた光触媒体に粉砕を施してもよい。この粉砕は焼成の前に行ってもよいし、焼成後に行ってもよい。ここで行う粉砕は、水などの液体を加えることなく乾燥状態で粉砕する乾式粉砕であってもよいし、水などの液体を加えて湿潤状態で粉砕する湿式粉砕であってもよい。乾式粉砕により粉砕するには、例えば、転動ミル、振動ボールミル、遊星ミルなどのボールミル、ピンミルなどの高速回転粉砕機、媒体攪拌ミル、ジェットミル等の粉砕装置を用いることができる。湿式粉砕により粉砕するには、例えば上記と同様のボールミル、高速回転粉砕機、媒体攪拌ミル等の粉砕装置を用いることができる。 You may grind | pulverize the photocatalyst body obtained by the manufacturing method of this invention. This pulverization may be performed before firing or after firing. The pulverization performed here may be dry pulverization that pulverizes in a dry state without adding a liquid such as water, or may be wet pulverization that pulverizes in a wet state by adding a liquid such as water. For pulverization by dry pulverization, for example, a ball mill such as a rolling mill, a vibration ball mill, and a planetary mill, a high-speed rotary pulverizer such as a pin mill, a pulverizer such as a medium agitation mill, and a jet mill can be used. For pulverization by wet pulverization, for example, a pulverizer such as a ball mill, a high-speed rotary pulverizer, a medium stirring mill, and the like can be used.

本発明の光触媒体には、金属成分を含有させることもできるが、その場合、金属成分は本発明の光触媒体の製造方法の中のどの段階で添加してもよい。例えば、光触媒体の前駆体化合物に予め所望の金属成分を担持させておいてもよいし、焼成して光触媒体を得た後に、引き続き、所望の金属成分を含む化合物を溶解させた水溶液中に含浸して担持させ、室温〜200℃、好ましくは60〜150℃で乾燥するようにしてもよい。また、金属成分を光触媒体に担持させる際には、必要に応じて、光触媒体と金属成分の前駆体をメタノール等を含む水中に分散し、そこに紫外光や可視光を照射することによって金属成分を担持させることもできる。 The photocatalyst of the present invention may contain a metal component. In this case, the metal component may be added at any stage in the method for producing the photocatalyst of the present invention. For example, the precursor compound of the photocatalyst may be loaded with a desired metal component in advance, or after calcination to obtain a photocatalyst, the solution is subsequently dissolved in an aqueous solution in which the compound containing the desired metal component is dissolved. It may be impregnated and supported and dried at room temperature to 200 ° C, preferably 60 to 150 ° C. When the metal component is supported on the photocatalyst, the photocatalyst and the precursor of the metal component are dispersed in water containing methanol or the like as necessary, and the metal is irradiated with ultraviolet light or visible light. Components can also be supported.

光照射を行うことにより、前駆体を金属成分に変換することができる。光触媒体の光励起可能な波長の光を照射した場合、光励起によって生成した電子によって前駆体が還元され、金属として光触媒体粒子表面に担持される。 By performing light irradiation, the precursor can be converted into a metal component. When the photocatalyst is irradiated with light having a wavelength that can be photoexcited, the precursor is reduced by the electrons generated by photoexcitation and supported on the surface of the photocatalyst particles as a metal.

かかる金属成分としては、例えばCu、Pt、Au、Pd、Ag、Fe、Nb、Ru、Ir、Rh、Coなどの金属、好ましくはCu、Pt、Au、Pdなどが挙げられる。また、これらの金属の酸化物および水酸化物も挙げられる。 Examples of such metal components include metals such as Cu, Pt, Au, Pd, Ag, Fe, Nb, Ru, Ir, Rh, and Co, preferably Cu, Pt, Au, Pd, and the like. Also included are oxides and hydroxides of these metals.

金属成分の前駆体とは、光触媒体の表面で金属に遷移しうる化合物である。かかる前駆体としては、例えば上記金属の硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、有機酸塩、炭酸塩、りん酸塩などが挙げられ、具体的には、例えばCuの前駆体としては、硝酸銅(Cu(NO3)2)、硫酸銅(Cu(SO4)2)、塩化銅(CuCl2、CuCl)、臭化銅(CuBr2,CuBr)、沃化銅(CuI)、沃素酸銅(CuI26)、塩化アンモニウム銅(Cu(NH4)2Cl4)、オキシ塩化銅(Cu2Cl(OH)3)、酢酸銅(CH3COOCu、(CH3COO)2Cu)、蟻酸銅((HCOO)2Cu)、炭酸銅(CuCO3)、蓚酸銅(CuC24)、クエン酸銅(Cu2647)、リン酸銅(CuPO4)などが挙げられる。Ptの前駆体としては、塩化白金(PtCl2、PtCl4)、臭化白金(PtBr2、PtBr4)、沃化白金(PtI2、PtI4)、塩化白金カリウム(K2(PtCl4))、ヘキサクロロ白金酸(H2PtCl6)、亜硫酸白金(H3Pt(SO3)2OH)、酸化白金(PtO2)、塩化テトラアンミン白金(Pt(NH3)4Cl2)、炭酸水素テトラアンミン白金(C21446Pt)、テトラアンミン白金リン酸水素(Pt(NH3)4HPO4)、水酸化テトラアンミン白金(Pt(NH3)4(OH)2)、硝酸テトラアンミン白金(Pt(NO3)2(NH3)4)、テトラアンミン白金テトラクロロ白金((Pt(NH3)4)(PtCl4))なども挙げられる。Auの前駆体としては、塩化金(AuCl)、臭化金(AuBr)、沃化金(AuI)、水酸化金(Au(OH)2)、テトラクロロ金酸(HAuCl4)、テトラクロロ金酸カリウム(KAuCl4)、テトラブロモ金酸カリウム(KAuBr4)、酸化金(Au23)などが挙げられる。また、Pdの前駆体としては、酢酸パラジウム((CH3COO)2Pd)、塩化パラジウム(PdCl2)、臭化パラジウム(PdBr2)、沃化パラジウム(PdI2)、水酸化パラジウム(Pd(OH)2)、硝酸パラジウム(Pd(NO3)2)、酸化パラジウム(PdO)、硫酸パラジウム(PdSO4)、テトラクロロパラジウム酸カリウム(K2(PdCl4))、テトラブロモパラジウム酸カリウム(K2(PdBr4))などがあげられる。 The precursor of the metal component is a compound that can transition to a metal on the surface of the photocatalyst. Examples of the precursor include nitrates, sulfates, halides, organic acid salts, carbonates, and phosphates of the above metals. Specifically, for example, as a precursor of Cu, copper nitrate (Cu (NO 3 ) 2 ), copper sulfate (Cu (SO 4 ) 2 ), copper chloride (CuCl 2 , CuCl), copper bromide (CuBr 2 , CuBr), copper iodide (CuI), copper iodate (CuI 2) O 6 ), ammonium copper chloride (Cu (NH 4 ) 2 Cl 4 ), copper oxychloride (Cu 2 Cl (OH) 3 ), copper acetate (CH 3 COOCu, (CH 3 COO) 2 Cu), copper formate ( (HCOO) 2 Cu), copper carbonate (CuCO 3 ), copper oxalate (CuC 2 O 4 ), copper citrate (Cu 2 C 6 H 4 O 7 ), copper phosphate (CuPO 4 ) and the like. As precursors of Pt, platinum chloride (PtCl 2 , PtCl 4 ), platinum bromide (PtBr 2 , PtBr 4 ), platinum iodide (PtI 2 , PtI 4 ), platinum chloride potassium (K 2 (PtCl 4 )) , Hexachloroplatinic acid (H 2 PtCl 6 ), platinum sulfite (H 3 Pt (SO 3 ) 2 OH), platinum oxide (PtO 2 ), tetraammineplatinum chloride (Pt (NH 3 ) 4 Cl 2 ), tetraammineplatinum bicarbonate (C 2 H 14 N 4 O 6 Pt), tetraammineplatinum hydrogen phosphate (Pt (NH 3 ) 4 HPO 4 ), tetraammineplatinum hydroxide (Pt (NH 3 ) 4 (OH) 2 ), tetraammineplatinum nitrate (Pt (NO 3 ) 2 (NH 3 ) 4 ), tetraammineplatinum tetrachloroplatinum ((Pt (NH 3 ) 4 ) (PtCl 4 )) and the like can also be mentioned. As a precursor of Au, gold chloride (AuCl), gold bromide (AuBr), gold iodide (AuI), gold hydroxide (Au (OH) 2 ), tetrachloroauric acid (HAuCl 4 ), tetrachlorogold Examples thereof include potassium acid (KAuCl 4 ), potassium tetrabromoaurate (KAuBr 4 ), and gold oxide (Au 2 O 3 ). Pd precursors include palladium acetate ((CH 3 COO) 2 Pd), palladium chloride (PdCl 2 ), palladium bromide (PdBr 2 ), palladium iodide (PdI 2 ), palladium hydroxide (Pd ( OH) 2 ), palladium nitrate (Pd (NO 3 ) 2 ), palladium oxide (PdO), palladium sulfate (PdSO 4 ), potassium tetrachloropalladate (K 2 (PdCl 4 )), potassium tetrabromopalladate (K 2 (PdBr 4 )) and the like.

これらの金属成分やその前駆体はそれぞれ単独で、または2種以上を組合せて用いられる。 These metal components and their precursors are used alone or in combination of two or more.

かかる金属成分またはその前駆体を用いる場合、その使用量は、金属原子換算で、光触媒体粒子の合計量100質量部に対して通常0.005質量部〜0.6質量部、好ましくは0.01質量部〜0.4質量部である。使用量が0.005質量部未満では、金属成分の使用による光触媒活性の向上が十分ではなく、0.6質量部を越えると、却って光触媒作用が不十分なものとなり易い。 When using such a metal component or a precursor thereof, the amount used is usually 0.005 to 0.6 parts by mass, preferably 0. 01 parts by mass to 0.4 parts by mass. When the amount used is less than 0.005 parts by mass, the photocatalytic activity is not sufficiently improved by using the metal component, and when it exceeds 0.6 parts by mass, the photocatalytic action tends to be insufficient.

本発明で得られる光触媒体を各種添加剤と混合する場合、光触媒体の吸着性や光触媒活性をさらに向上させうる添加剤を選択するのが好ましい。そのような添加剤としては、例えば、非晶質シリカ、シリカゾル、水ガラス、オルガノポリシロキサンのような珪素化合物、非晶質アルミナ、アルミナゾル、水酸化アルミニウムのようなアルミニウム化合物、ゼオライト、カオリナイトのようなアルミノ珪酸塩、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウムおよび水酸化バリウムのようなアルカリ土類金属(水)酸化物、リン酸カルシウム、モレキュラーシーブ、活性炭、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Tc、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、Bi、La、Ceのような金属元素の水酸化物や、これらの金属元素の酸化物、有機ポリシロキサン化合物の重縮合物、リン酸塩、フッ素系ポリマー、シリコン系ポリマー、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂などが挙げられる。これら添加剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 When the photocatalyst obtained in the present invention is mixed with various additives, it is preferable to select an additive that can further improve the adsorptivity and photocatalytic activity of the photocatalyst. Examples of such additives include amorphous silica, silica sol, water glass, silicon compounds such as organopolysiloxane, amorphous alumina, alumina sol, aluminum compounds such as aluminum hydroxide, zeolite, and kaolinite. Alkaline earth metal (hydroxide) oxides such as aluminosilicate, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide and barium hydroxide, calcium phosphate, molecular sieve , Activated carbon, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Tc, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, Pt, Cu, Ag, Au Zn, Cd, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, Bi, La, C Hydroxides of these metal elements, oxides of these metal elements, polycondensates of organic polysiloxane compounds, phosphates, fluoropolymers, silicone polymers, acrylic resins, polyester resins, melamine resins, urethanes Examples thereof include resins and alkyd resins. These additives may be used alone or in combination of two or more.

光触媒体を分散体として用いる場合には、本発明の製造方法で得られた酸化タングステン光触媒体を水やアルコール等の有機溶媒中に分散させればよい。その際、酸化タングステン光触媒体の分散性を向上させる目的で、必要に応じて分散剤を添加することができる。さらに、塗膜にしたときの基材との密着性を向上させる目的で、必要に応じて公知の無機系バインダーや有機系バインダーを添加することもできる。このような分散体(コーティング液)は、例えば、壁、壁紙、天井、窓ガラス、タイル、自動車内装部材など、可視光線を多く含む蛍光灯、ハロゲンランプ、キセノンランプ、発光ダイオード、太陽光線等を照射可能な場所に塗布される。 When the photocatalyst is used as a dispersion, the tungsten oxide photocatalyst obtained by the production method of the present invention may be dispersed in an organic solvent such as water or alcohol. At that time, a dispersant may be added as necessary for the purpose of improving the dispersibility of the tungsten oxide photocatalyst. Furthermore, a known inorganic binder or organic binder can be added as necessary for the purpose of improving the adhesion to the substrate when it is formed into a coating film. Such dispersions (coating liquids) include, for example, fluorescent lights, halogen lamps, xenon lamps, light emitting diodes, solar rays, and the like that contain a lot of visible light, such as walls, wallpaper, ceilings, window glass, tiles, and automobile interior parts. It is applied where irradiation is possible.

以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、実施例および比較例における各物性の測定およびその光触媒活性の評価については、以下の方法で行った。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.
In addition, about the measurement of each physical property in an Example and a comparative example, and the evaluation of the photocatalytic activity, it performed with the following method.

1.BET比表面積
酸化タングステン粒子のBET比表面積を「NOVA1200e」(ユアサアイオニクス製)で窒素吸着法によって測定した。
1. BET specific surface area The BET specific surface area of the tungsten oxide particles was measured by “NOVA1200e” (manufactured by Yuasa Ionics) by the nitrogen adsorption method.

2.酸化タングステン粒子の一次粒子径の測定
酸化タングステン粒子の一次粒子径はBET比表面積から求めた。粉末のBET比表面積の値をS(m2/g)、粒子の密度をρ(g/cm3)とすると、一次粒子径d(μm)は、d=6/(S×ρ)の式で計算される。但し、一次粒子径dは、粒子が球形であるとした場合の直径である。酸化タングステン粒子(WO3)の密度は7.16g/cm3とした。
2. Measurement of primary particle diameter of tungsten oxide particles The primary particle diameter of tungsten oxide particles was determined from the BET specific surface area. When the value of the BET specific surface area of the powder is S (m 2 / g) and the density of the particles is ρ (g / cm 3 ), the primary particle diameter d (μm) is an equation of d = 6 / (S × ρ). Calculated by However, the primary particle diameter d is a diameter when the particles are spherical. The density of the tungsten oxide particles (WO 3 ) was 7.16 g / cm 3 .

3.ポリメタクリル酸メチルの粒径測定
ポリメタクリル酸メチルの粒径は、「DLS−7000」(大塚電子製)で動的散乱法によって測定した。
3. Particle size measurement of polymethyl methacrylate The particle size of polymethyl methacrylate was measured by “DLS-7000” (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) by a dynamic scattering method.

4.結晶相、酸化タングステンの結晶化率(%):
X線回折装置(商品名「Rigaku RINT ULTIMA」または「Rigaku MiniFlex2」、理学電機製)を用いて測定した。試料のX線回折スペクトルを測定し、スペクトルから結晶相を求めた。またこのスペクトルについて酸化タングステン(WO3)の面指数(002)、(020)、(200)に由来する干渉線のピーク高さIsa、Isb、Iscを求め、これらと、標準試料における同面指数の干渉線のピーク高さ(Ira、Irb、Irc)の比の平均値(((Isa/Ira)+(Isb/Irb)+(Isc/Irc))×100/3)を、酸化タングステンの結晶化率(%)とした。尚、標準試料には、酸化タングステン(高純度化学製)を用い、この酸化タングステン結晶度を100%とした。結晶化度の値が100%を超えた場合は100%とした。
4). Crystal phase, tungsten oxide crystallization rate (%):
Measurement was performed using an X-ray diffractometer (trade name “Rigaku RINT ULTIMA” or “Rigaku MiniFlex2”, manufactured by Rigaku Corporation). The X-ray diffraction spectrum of the sample was measured, and the crystal phase was determined from the spectrum. In addition, for this spectrum, peak heights I sa , I sb , I sc of the interference lines derived from the surface indices (002), (020), (200) of tungsten oxide (WO 3 ) are obtained, and these are obtained in the standard sample. Average value (((I sa / I ra ) + (I sb / I rb ) + (I sc / I rc )) of the ratio of the peak heights (I ra , I rb , I rc ) of the interference line having the same plane index ) × 100/3) was defined as the crystallization rate (%) of tungsten oxide. Note that tungsten oxide (manufactured by High Purity Chemical) was used as a standard sample, and the tungsten oxide crystallinity was set to 100%. When the value of crystallinity exceeded 100%, it was set to 100%.

5.酢酸の分解反応(可視光照射下)
ガラス製容器(容量330mL)の底面に、粒子状の光触媒体50mgを15mm×15mmに広げ、ガラス容器内を合成空気で満たし、更に酢酸を14.7μmol注入した。1時間暗黒下で放置した後可視光照射を行い、光触媒作用によりアセトアルデヒドが分解し、その完全分解生成物である二酸化炭素の濃度をガスクロマトグラフィーで定量した。光源には紫外線カットフィルター(L−42、旭テクノグラス製)を装着したキセノンランプ(300W,Cermax製)を用いた。
5). Decomposition of acetic acid (under visible light irradiation)
On the bottom of a glass container (capacity 330 mL), 50 mg of particulate photocatalyst was spread to 15 mm × 15 mm, the inside of the glass container was filled with synthetic air, and 14.7 μmol of acetic acid was further injected. The sample was allowed to stand for 1 hour in the dark and then irradiated with visible light. Acetaldehyde was decomposed by photocatalysis, and the concentration of carbon dioxide as a complete decomposition product was quantified by gas chromatography. A xenon lamp (300 W, manufactured by Cermax) equipped with an ultraviolet cut filter (L-42, manufactured by Asahi Techno Glass) was used as the light source.

6.平均粒径145nmの球状ポリメタクリル酸メチルの合成
5Lガラス製反応容器に、水250重量部、炭酸ナトリウム1.5重量部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(15wt%) 4.7重量部、ペルオキソ二硫酸ナトリウム0.06重量部を仕込み、窒素雰囲気下、攪拌しながら80℃でメタクリル酸メチル61.5重量部を60分間に渡って連続的に添加し、さらに攪拌しながら同温度で60分間熟成して、重合体ラテックスを得た。この硬質重合体ラテックスに、水12重量部とペルオキソ二硫酸ナトリウム0.06重量部からなる水溶液を添加して攪拌し、その後、メタクリル酸メチル61.5重量部を80℃で60分間にわたって連続的に添加し、引き続き攪拌しながら同温度で60分間熟成して、重合体のラテックスを得た。また、重量法で求めたラテックス中の固形分濃度は31%であった。この重合体ラテックスを、−20℃の冷凍庫で24時間凍結させた後に融解させることで重合体粒子を凝集させた。この凝集スラリーを、遠心分離機を用いて1500rpm(470G)の条件で10分脱水し、得られた重合体のウエットケーキを80℃の真空乾燥機にて24時間乾燥させ、平均粒径145nmの球状ポリメタクリル酸メチルの乾燥粒子を得た。
6). Synthesis of spherical polymethyl methacrylate having an average particle size of 145 nm In a 5 L glass reaction vessel, 250 parts by weight of water, 1.5 parts by weight of sodium carbonate, 4.7 parts by weight of sodium dodecylbenzenesulfonate (15 wt%), peroxodisulfuric acid 0.06 part by weight of sodium was added, and 61.5 parts by weight of methyl methacrylate was continuously added over 60 minutes at 80 ° C. with stirring in a nitrogen atmosphere, and further aged at the same temperature for 60 minutes while stirring. Thus, a polymer latex was obtained. To this hard polymer latex, an aqueous solution consisting of 12 parts by weight of water and 0.06 part by weight of sodium peroxodisulfate was added and stirred, and then 61.5 parts by weight of methyl methacrylate was continuously added at 80 ° C. for 60 minutes. And then aged for 60 minutes at the same temperature with stirring to obtain a polymer latex. Moreover, the solid content concentration in the latex determined by the gravimetric method was 31%. This polymer latex was frozen in a freezer at −20 ° C. for 24 hours and then melted to aggregate the polymer particles. This agglomerated slurry was dehydrated using a centrifuge at 1500 rpm (470 G) for 10 minutes, and the resulting polymer wet cake was dried in a vacuum dryer at 80 ° C. for 24 hours to obtain an average particle size of 145 nm. Dry particles of spherical polymethyl methacrylate were obtained.

7.平均粒径180nmの球状ポリメタクリル酸メチルの合成
ペルオキソ二硫酸カリウム(片山化学製,試薬特級)1.6g と水780mLを容量1Lの四口丸底フラスコに入れ、これに電気攪拌機、アルゴンガス供給ピペット、温度計を取り付け、オイルバス中で350rpmの攪拌速度で撹拌しながら約80℃に加熱し、温度が平衡に達した後、30分間アルゴンガスのバブリングを行った。ここにメタクリル酸メチルモノマー(和光純薬製,試薬特級)20mLを溶解させ、45分間反応させた。反応後、四口フラスコを室温で放冷し、平均粒径180nmの球状ポリメタクリル酸メチルを含むラテックスを得た。
7). Synthesis of spherical polymethyl methacrylate having an average particle size of 180 nm 1.6 g of potassium peroxodisulfate (manufactured by Katayama Chemical Co., Ltd., reagent grade) and 780 mL of water are placed in a 1 L four-necked round bottom flask. A pipette and a thermometer were attached, and the mixture was heated to about 80 ° C. while stirring in an oil bath at a stirring speed of 350 rpm. After the temperature reached equilibrium, bubbling with argon gas was performed for 30 minutes. 20 mL of methyl methacrylate monomer (manufactured by Wako Pure Chemicals, special grade of reagent) was dissolved therein and reacted for 45 minutes. After the reaction, the four-necked flask was allowed to cool at room temperature to obtain a latex containing spherical polymethyl methacrylate having an average particle diameter of 180 nm.

8.平均粒径490nmの球状ポリメタクリル酸メチルの合成
メタクリル酸メチルモノマー(和光純薬製,試薬特級)150mLと水350mLを、容量1Lの四口丸底フラスコに入れ、これに電気攪拌機、アルゴンガス供給ピペット、温度計を取り付け、オイルバス中350rpmの攪拌速度で撹拌しながら約70℃に加熱し、温度が平衡に達した後、30分間アルゴンガスのバブリングを行った。開始剤として、開始剤として、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸塩(和光純薬製,試薬1級)0.38gを溶解させた水3mLを加え、6時間反応させた。反応後、四口フラスコを室温で放冷し、平均粒径490nmの球状ポリメタクリル酸メチルを含むラテックスを得た。
8). Synthesis of spherical polymethyl methacrylate having an average particle size of 490 nm Methyl methacrylate monomer (manufactured by Wako Pure Chemicals, special grade of reagent) 150 mL and water 350 mL are placed in a 1 L four-necked round bottom flask, to which an electric stirrer and argon gas are supplied A pipette and a thermometer were attached, and the mixture was heated to about 70 ° C. while stirring in an oil bath at a stirring speed of 350 rpm. After the temperature reached equilibrium, bubbling with argon gas was performed for 30 minutes. As an initiator, 3 mL of water in which 0.38 g of 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride (manufactured by Wako Pure Chemicals, reagent grade 1) was dissolved was added as an initiator and reacted for 6 hours. It was. After the reaction, the four-necked flask was allowed to cool at room temperature to obtain a latex containing spherical polymethyl methacrylate having an average particle size of 490 nm.

実施例1
粒径145nmの球状のポリメタクリル酸メチル粉末6.0gに、メタタングステン酸アンモニウム(WO3として濃度50重量%の水溶液、日本無機化学工業製)とメタノールの混合溶液(酸化タングステンとして2.5mol/L)12.4mLを加え、3時間含浸した。その後、吸引ろ過により粒子を回収し、室温で一晩乾燥させた。得られた粉末を、空気中で毎分1℃で400℃まで昇温し、その後引き続きこの温度で5時間の焼成を行い、球状のポリメタクリル酸メチルを除去して酸化タングステン粒子を得た。この酸化タングステン粒子のBET比表面積は30m2/gで、ここから一次粒子径は28nmであることがわかった。また酸化タングステン粒子の結晶化率は59%であった。
Example 1
2.5mol a polymethyl methacrylate powder 6.0g of spherical particle size 145 nm, ammonium metatungstate (aqueous solution at a concentration of 50 wt% as WO 3, Nippon Inorganic Color & Chemical Co., Ltd.) as a mixed solution (tungsten oxide of methanol / L) 12.4 mL was added and impregnated for 3 hours. Thereafter, the particles were collected by suction filtration and dried overnight at room temperature. The obtained powder was heated to 400 ° C. at 1 ° C. per minute in the air, and then baked at this temperature for 5 hours to remove spherical polymethyl methacrylate and obtain tungsten oxide particles. The tungsten oxide particles had a BET specific surface area of 30 m 2 / g, from which it was found that the primary particle diameter was 28 nm. The crystallization rate of the tungsten oxide particles was 59%.

得られた酸化タングステン粒子0.5gを水50mLに分散し、そこにPtが酸化タングステン粒子100重量部に対して0.5重量部となるように濃度0.019mol/Lのヘキサクロロ白金酸水溶液(H2PtCl6)を入れて、攪拌しながら可視光線を2時間照射した。光源には紫外線カットフィルター(L−42,旭テクノグラス製)を装着したキセノンランプ(300W,Cermax製)を用いた。その後上の酸化タングステン粒子の分散液にメタノール5mLを加えて、引き続き攪拌しながら上記と同様にして可視光線の照射を2時間行った。その後濾過、水洗浄、120℃で乾燥することにより、粒子状のPt担持酸化タングステン粒子を得た。 0.5 g of the obtained tungsten oxide particles are dispersed in 50 mL of water, and an aqueous hexachloroplatinic acid solution having a concentration of 0.019 mol / L so that Pt is 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the tungsten oxide particles ( H 2 PtCl 6 ) was added and irradiated with visible light for 2 hours while stirring. A xenon lamp (300 W, manufactured by Cermax) equipped with an ultraviolet cut filter (L-42, manufactured by Asahi Techno Glass) was used as the light source. Thereafter, 5 mL of methanol was added to the above dispersion of tungsten oxide particles, and irradiation with visible light was performed for 2 hours in the same manner as described above while stirring. Thereafter, filtration, washing with water, and drying at 120 ° C. yielded particulate Pt-supported tungsten oxide particles.

得られたPt担持酸化タングステン粒子を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は51μmol/hであった。 The resulting Pt-supported tungsten oxide particles were used for the decomposition reaction of acetic acid under visible light irradiation. The production rate of carbon dioxide was 51 μmol / h.

実施例2
焼成を450℃で行った以外は、実施例1と同様の方法で酸化タングステン粒子を得た。この酸化タングステン粒子のBET比表面積は21m2/gで、ここから一次粒子径は40nmであることがわかった。また酸化タングステン粒子の結晶化率は68%であった。その後、この酸化タングステン粒子に実施例1と同様の方法でPtの担持を行い、粒子状のPt担持酸化タングステン粒子を得た。
Example 2
Tungsten oxide particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that firing was performed at 450 ° C. The tungsten oxide particles had a BET specific surface area of 21 m 2 / g, and the primary particle diameter was found to be 40 nm. The crystallization rate of the tungsten oxide particles was 68%. Thereafter, Pt was supported on the tungsten oxide particles in the same manner as in Example 1 to obtain particulate Pt-supported tungsten oxide particles.

得られたPt担持酸化タングステン粒子を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は58μmol/hであった。 The resulting Pt-supported tungsten oxide particles were used for the decomposition reaction of acetic acid under visible light irradiation. The production rate of carbon dioxide was 58 μmol / h.

実施例3
焼成を500℃で行った以外は、実施例1と同様の方法で酸化タングステン粒子を得た。この酸化タングステン粒子のBET比表面積は14m2/gで、ここから一次粒子径は60nmであることがわかった。また酸化タングステン粒子の結晶化率は97%であった。その後、この酸化タングステン粒子に実施例1と同様の方法でPtの担持を行い、粒子状のPt担持酸化タングステン粒子を得た。
Example 3
Tungsten oxide particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that firing was performed at 500 ° C. The tungsten oxide particles had a BET specific surface area of 14 m 2 / g, and the primary particle diameter was found to be 60 nm. The crystallization rate of the tungsten oxide particles was 97%. Thereafter, Pt was supported on the tungsten oxide particles in the same manner as in Example 1 to obtain particulate Pt-supported tungsten oxide particles.

得られたPt担持酸化タングステン粒子を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は39μmol/hであった。 The resulting Pt-supported tungsten oxide particles were used for the decomposition reaction of acetic acid under visible light irradiation. The production rate of carbon dioxide was 39 μmol / h.

実施例4
平均粒子径が180nmの球状のポリメタクリル酸メチルを含むラテックス100mLを、回転数2500rpmで2時間遠心分離で沈降させ、2日間自然乾燥させてコロイド結晶のテンプレートを得た。網ふるいを用いて、425μm〜2mmの粒子に分粒した後、メタタングステン酸アンモニウム(WO3として濃度50重量%の水溶液、日本無機化学工業製)とメタノールの混合溶液(酸化タングステンとして2.5mol/L)7.3mLを加え、3時間含浸した。その後、吸引ろ過により粒子を回収し、室温で一晩乾燥させた。得られた粉末を、空気中で毎分1℃で500℃まで昇温し、その後引き続きこの温度で5時間の焼成を行い、球状のポリメタクリル酸メチルを除去して酸化タングステン粒子を得た。この酸化タングステン粒子のBET比表面積は21m2/gで、ここから一次粒子径は40nmであることがわかった。また酸化タングステン粒子の結晶化率は89%であった。その後、この酸化タングステン粒子に実施例1と同様の方法でPtの担持を行い、粒子状のPt担持酸化タングステン粒子を得た。
Example 4
100 mL of latex containing spherical polymethyl methacrylate having an average particle size of 180 nm was sedimented by centrifugation at 2500 rpm for 2 hours and naturally dried for 2 days to obtain a colloidal crystal template. Using sieve screen, 2.5 mol after sizing the particles of 425Myuemu~2mm, ammonium metatungstate (aqueous solution at a concentration of 50 wt% as WO 3, Nippon Inorganic Color & Chemical Co., Ltd.) as a mixed solution (tungsten oxide of methanol / L) 7.3 mL was added and impregnated for 3 hours. Thereafter, the particles were collected by suction filtration and dried overnight at room temperature. The obtained powder was heated to 500 ° C. at 1 ° C./min in the air, and subsequently fired at this temperature for 5 hours to remove spherical polymethyl methacrylate and obtain tungsten oxide particles. The tungsten oxide particles had a BET specific surface area of 21 m 2 / g, and the primary particle diameter was found to be 40 nm. The crystallization rate of the tungsten oxide particles was 89%. Thereafter, Pt was supported on the tungsten oxide particles in the same manner as in Example 1 to obtain particulate Pt-supported tungsten oxide particles.

得られたPt担持酸化タングステン粒子を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は34μmol/hであった。 The resulting Pt-supported tungsten oxide particles were used for the decomposition reaction of acetic acid under visible light irradiation. The production rate of carbon dioxide was 34 μmol / h.

実施例5
焼成を600℃で行った以外は、実施例1と同様の方法で酸化タングステン粒子を得た。この酸化タングステン粒子のBET比表面積は11m2/gで、ここから一次粒子径は76nmであることがわかった。また酸化タングステン粒子の結晶化率は100%であった。その後、この酸化タングステン粒子に実施例1と同様の方法でPtの担持を行い、粒子状のPt担持酸化タングステン粒子を得た。
Example 5
Tungsten oxide particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that firing was performed at 600 ° C. The tungsten oxide particles had a BET specific surface area of 11 m 2 / g, and the primary particle diameter was found to be 76 nm. The crystallization rate of the tungsten oxide particles was 100%. Thereafter, Pt was supported on the tungsten oxide particles in the same manner as in Example 1 to obtain particulate Pt-supported tungsten oxide particles.

得られたPt担持酸化タングステン粒子を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は43μmol/hであった。 The resulting Pt-supported tungsten oxide particles were used for the decomposition reaction of acetic acid under visible light irradiation. The production rate of carbon dioxide was 43 μmol / h.

比較例1
平均粒子径が490nmの球状のポリメタクリル酸メチルを含むラテックス100mLを、回転数2500rpmで2時間遠心分離で沈降させ、2日間自然乾燥させてコロイド結晶のテンプレートを得た。網ふるいを用いて、2mm〜425μmの粒子に分粒した後、メタタングステン酸アンモニウム(WO3として濃度50重量%の水溶液、日本無機化学工業製)とメタノールの混合溶液(酸化タングステンとして2.5mol/L)7.3mLを加え、3時間含浸した。その後、吸引ろ過により粒子を回収し、室温で一晩乾燥させた。得られた粉末を、空気中で毎分1℃で500℃まで昇温し、その後引き続きこの温度で5時間の焼成を行い、球状のポリメタクリル酸メチルを除去して酸化タングステン粒子を得た。この酸化タングステン粒子のBET比表面積は9.2m2/gで、ここから一次粒子径は91nmであることがわかった。また酸化タングステン粒子の結晶化率は61%であった。その後、この酸化タングステン粒子に実施例1と同様の方法でPtの担持を行い、粒子状のPt担持酸化タングステン粒子を得た。
Comparative Example 1
100 mL of latex containing spherical polymethyl methacrylate having an average particle size of 490 nm was sedimented by centrifugation at 2500 rpm for 2 hours and naturally dried for 2 days to obtain a colloidal crystal template. Using sieve screen, 2.5 mol after sizing the particles of 2Mm~425myuemu, ammonium metatungstate (aqueous solution at a concentration of 50 wt% as WO 3, Nippon Inorganic Color & Chemical Co., Ltd.) as a mixed solution (tungsten oxide of methanol / L) 7.3 mL was added and impregnated for 3 hours. Thereafter, the particles were collected by suction filtration and dried overnight at room temperature. The obtained powder was heated to 500 ° C. at 1 ° C./min in the air, and subsequently fired at this temperature for 5 hours to remove spherical polymethyl methacrylate and obtain tungsten oxide particles. The tungsten oxide particles had a BET specific surface area of 9.2 m 2 / g, and from this, it was found that the primary particle diameter was 91 nm. The crystallization rate of the tungsten oxide particles was 61%. Thereafter, Pt was supported on the tungsten oxide particles in the same manner as in Example 1 to obtain particulate Pt-supported tungsten oxide particles.

得られたPt担持酸化タングステン粒子を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は8.6μmol/hであった。 The resulting Pt-supported tungsten oxide particles were used for the decomposition reaction of acetic acid under visible light irradiation. The production rate of carbon dioxide was 8.6 μmol / h.

比較例2
メタタングステン酸アンモニウム(WO3として濃度50重量%の水溶液、日本無機化学工業製)を90℃で一晩乾燥後、得られた粉末を乳鉢で粉砕し、乾燥粉末を得た。得られた粉末を、空気中で毎分1℃で400℃まで昇温し、その後引き続きこの温度で5時間の焼成を行い、酸化タングステン粒子を得た。この酸化タングステン粒子のBET比表面積は1.4m2/gで、ここから一次粒子径は599nmであることがわかった。また酸化タングステン粒子の結晶化率は27%であった。その後、この酸化タングステン粒子に実施例1と同様の方法でPtの担持を行い、粒子状のPt担持酸化タングステン粒子を得た。
Comparative Example 2
Ammonium metatungstate (aqueous solution at a concentration of 50 wt% as WO 3, Nippon Inorganic Color & Chemical Co., Ltd.) dried overnight at 90 ° C., the resulting powder was ground in a mortar to obtain a dry powder. The obtained powder was heated to 400 ° C. at 1 ° C./min in the air, and then baked at this temperature for 5 hours to obtain tungsten oxide particles. The tungsten oxide particles had a BET specific surface area of 1.4 m 2 / g, and from this, the primary particle diameter was found to be 599 nm. The crystallization rate of the tungsten oxide particles was 27%. Thereafter, Pt was supported on the tungsten oxide particles in the same manner as in Example 1 to obtain particulate Pt-supported tungsten oxide particles.

得られたPt担持酸化タングステン粒子を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は2.8μmol/hであった。 The resulting Pt-supported tungsten oxide particles were used for the decomposition reaction of acetic acid under visible light irradiation. The production rate of carbon dioxide was 2.8 μmol / h.

比較例3
焼成を500℃で行った以外は、比較例2と同様の方法で酸化タングステン粒子を得た。この酸化タングステン粒子のBET比表面積は2.0m2/gで、ここから一次粒子径は419nmであることがわかった。また酸化タングステン粒子の結晶化率は44%であった。その後、この酸化タングステン粒子に実施例1と同様の方法でPtの担持を行い、粒子状のPt担持酸化タングステン粒子を得た。
Comparative Example 3
Tungsten oxide particles were obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that the firing was performed at 500 ° C. The tungsten oxide particles had a BET specific surface area of 2.0 m 2 / g, and the primary particle diameter was found to be 419 nm. The crystallization rate of the tungsten oxide particles was 44%. Thereafter, Pt was supported on the tungsten oxide particles in the same manner as in Example 1 to obtain particulate Pt-supported tungsten oxide particles.

得られたPt担持酸化タングステン粒子を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は3.4μmol/hであった。 The resulting Pt-supported tungsten oxide particles were used for the decomposition reaction of acetic acid under visible light irradiation. The production rate of carbon dioxide was 3.4 μmol / h.

比較例4
焼成を600℃で行った以外は、比較例2と同様の方法で酸化タングステン粒子を得た。この酸化タングステン粒子のBET比表面積は1.7m2/gで、ここから一次粒子径は493nmであることがわかった。また酸化タングステン粒子の結晶化率は46%であった。その後、この酸化タングステン粒子に実施例1と同様の方法でPtの担持を行い、粒子状のPt担持酸化タングステン粒子を得た。
Comparative Example 4
Tungsten oxide particles were obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that the firing was performed at 600 ° C. The tungsten oxide particles had a BET specific surface area of 1.7 m 2 / g, and from this, it was found that the primary particle diameter was 493 nm. The crystallization rate of the tungsten oxide particles was 46%. Thereafter, Pt was supported on the tungsten oxide particles in the same manner as in Example 1 to obtain particulate Pt-supported tungsten oxide particles.

得られたPt担持酸化タングステン粒子を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は4.7μmol/hであった。 The resulting Pt-supported tungsten oxide particles were used for the decomposition reaction of acetic acid under visible light irradiation. The production rate of carbon dioxide was 4.7 μmol / h.

比較例5
焼成を700℃で行った以外は、比較例2と同様の方法で酸化タングステン粒子を得た。この酸化タングステン粒子のBET比表面積は2.3m2/gで、ここから一次粒子径は364nmであることがわかった。また酸化タングステン粒子の結晶化率は44%であった。その後、この酸化タングステン粒子に実施例1と同様の方法でPtの担持を行い、粒子状のPt担持酸化タングステン粒子を得た。
Comparative Example 5
Tungsten oxide particles were obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that the firing was performed at 700 ° C. The tungsten oxide particles had a BET specific surface area of 2.3 m 2 / g, and the primary particle diameter was found to be 364 nm. The crystallization rate of the tungsten oxide particles was 44%. Thereafter, Pt was supported on the tungsten oxide particles in the same manner as in Example 1 to obtain particulate Pt-supported tungsten oxide particles.

得られたPt担持酸化タングステン粒子を用いて、可視光照射下で酢酸の分解反応を行った。二酸化炭素の生成速度は6.8μmol/hであった。 The resulting Pt-supported tungsten oxide particles were used for the decomposition reaction of acetic acid under visible light irradiation. The production rate of carbon dioxide was 6.8 μmol / h.

Claims (1)

光触媒体前駆体化合物の粉末と粒径50nm〜200nmの有機物粒子との混合物を焼成することを特徴とする光触媒体の製造方法。 A method for producing a photocatalyst comprising calcining a mixture of a powder of a photocatalyst precursor compound and organic particles having a particle size of 50 nm to 200 nm.
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