JP2010009656A - Semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、半導体記憶装置に関するものであり、例えば拡張ブロックを備えた半導体記憶装置に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor memory device, for example, a semiconductor memory device including an expansion block.
従来、半導体記憶装置には、通常使用される複数のメモリセルが配列されたセルアレイ(以下、レギュラーブロック)より記憶容量が小さい小規模セルアレイ(以下、拡張ブロック)が設けられている。拡張ブロックは、例えば電源立ち上げ時の初期動作等、所定動作を実行するための情報の記憶に使用される。 2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor memory device is provided with a small-scale cell array (hereinafter referred to as an expansion block) having a smaller storage capacity than a cell array (hereinafter referred to as a regular block) in which a plurality of normally used memory cells are arranged. The extension block is used for storing information for executing a predetermined operation such as an initial operation when the power is turned on.
半導体記憶装置は、通常、複数のバンクを有している。バンクは、記憶装置を構成する最小単位であり、このバンク単位で設置、増設が行われる。記憶装置にアクセスする場合には、バンク単位で同時並行的にアクセスを行うことができる。 A semiconductor memory device usually has a plurality of banks. A bank is the minimum unit that constitutes a storage device, and is installed and added in units of this bank. When accessing the storage device, it is possible to access in parallel in units of banks.
複数のバンクを有する半導体記憶装置において拡張ブロックを配置する際、拡張ブロックを配置したバンクのみ特殊形状になる。このため、バンク内に配置された読み出しデータ線に生じる容量が、拡張ブロックを含むバンクと拡張ブロックを含まないバンクとで異なり、これらバンク間の読み出しデータ線に生じる容量が不均一となって、読み出し時における読み出し電圧のマージンを減少させる原因となっている。また、拡張ブロックを含むバンクのみ特殊形状となるため、拡張ブロックを含むバンクと拡張ブロックを含まないバンクを配置した場合、チップ領域にデッドスペースが発生するという問題がある。 When an expansion block is disposed in a semiconductor memory device having a plurality of banks, only the bank in which the expansion block is disposed has a special shape. For this reason, the capacity generated in the read data line arranged in the bank differs between the bank including the extension block and the bank not including the extension block, and the capacity generated in the read data line between these banks becomes uneven. This is a cause of reducing a read voltage margin at the time of reading. In addition, since only the bank including the extension block has a special shape, when a bank including the extension block and a bank not including the extension block are arranged, there is a problem that a dead space is generated in the chip area.
また、本発明に関する従来技術として、例えば、強誘電体メモリ装置の内部に拡張メモリ領域を備え、従来の制御回路をそのまま利用することができ、特殊な機能のためにのみ別の制御回路を配置することにより、チップのレイアウトの大きさが過度に増加しないようにした装置が提案されている(特許文献1参照)。
本発明は、拡張ブロックを含むバンクのデータ線と拡張ブロックを含まないバンクのデータ線に生じる容量を等価にすることができ、さらにこれらバンクを配置した領域にデッドスペースが発生するのを解消できる半導体記憶装置を提供する。 According to the present invention, it is possible to equalize the capacitance generated in the data line of the bank including the expansion block and the data line of the bank not including the expansion block, and further, it is possible to eliminate the occurrence of dead space in the area where these banks are arranged. A semiconductor memory device is provided.
本発明の一実施態様の半導体記憶装置は、通常使用されるメモリセルが複数配列された第1レギュラーブロックと、前記第1レギュラーブロック内の前記メモリセルが不良のときに、不良のメモリセルと置き換えて使用されるメモリセルが複数配列された第1リダンダンシーブロックと、メモリセルが複数配列され、前記第1レギュラーブロックが持つ記憶容量より小さい記憶容量を持つ拡張ブロックとを含む第1のバンクと、通常使用されるメモリセルが複数配列された第2レギュラーブロックと、前記第2レギュラーブロック内の前記メモリセルが不良のときに、不良のメモリセルと置き換えて使用されるメモリセルが複数配列された第2リダンダンシーブロックとを含む第2のバンクとを具備し、前記第1のバンクが有する前記第1リダンダンシーブロックが持つ記憶容量は、前記第2のバンクが有する第2リダンダンシーブロックが持つ記憶容量より小さいことを特徴とする。 A semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention includes a first regular block in which a plurality of normally used memory cells are arranged, a defective memory cell when the memory cell in the first regular block is defective, A first bank including a first redundancy block in which a plurality of memory cells to be used in replacement are arranged; and an expansion block in which a plurality of memory cells are arranged and has a storage capacity smaller than that of the first regular block; A second regular block in which a plurality of normally used memory cells are arranged, and a plurality of memory cells to be used in place of the defective memory cells when the memory cells in the second regular block are defective. A second bank including a second redundancy block, and the first bank included in the first bank. Storage capacitance of the down Dan Sea block, wherein the smaller than the storage capacity of the second redundancy block has to have second banks.
本発明によれば、拡張ブロックを含むバンクのデータ線と拡張ブロックを含まないバンクのデータ線に生じる容量を等価にすることができ、さらにこれらバンクを配置した領域にデッドスペースが発生するのを解消できる半導体記憶装置を提供することが可能である。 According to the present invention, it is possible to equalize the capacity generated in the data line of the bank including the extension block and the data line of the bank not including the extension block, and further, the dead space is generated in the area where these banks are arranged. It is possible to provide a semiconductor memory device that can be eliminated.
以下、図面を参照してこの発明の実施形態について説明する。説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the description, common parts are denoted by common reference symbols throughout the drawings.
図1は、本発明の実施形態の半導体記憶装置の構成を示すレイアウト図である。図1に示すように、この半導体記憶装置は、複数のバンクを有するバンク群10とセンスアンプ20を含む。バンク群10中のそれぞれのバンクは、同時並列的に書き込み及び読み出しが可能(RWW:Read While Write)な最小単位を構成している。
FIG. 1 is a layout diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the semiconductor memory device includes a
複数のバンク10中の任意の1つのバンク(第1バンク)11は、複数のレギュラーブロック11A、複数のリダンダンシーブロック11B、複数の拡張ブロック11C、ブロックデコーダ11D、及びデコーダ群11Eを有している。レギュラーブロック11Aは、通常使用されるメモリセル(レギュラーメモリセル)が複数配置されたブロックである。
An arbitrary bank (first bank) 11 among the plurality of
リダンダンシーブロック11Bは、レギュラーブロック11A内のメモリセルが不良で使用できないときに、この不良メモリセルに換わって使用されるメモリセル(リダンダンシーメモリセル)が複数配置されたブロックである。不良メモリセルを含むレギュラーブロック11Aは、例えば、同一バンク中のリダンダンシーブロック11Bと置換される。
The
拡張ブロック11Cは、メモリセル(拡張メモリセル)が複数配置され、レギュラーブロック11Aより記憶容量が小さく、速い速度で書き込み/消去が可能なブロックであり、例えば電源立ち上げ時の初期動作等、所定動作に必要な情報などが記憶されるものである。デコーダ群11Eは後で詳述する。
The
第1バンク11では、1つの矩形領域内に、複数のレギュラーブロック11Aが左右に分かれて配置され、これらの間にはデコーダ群11Eが配置されている。この矩形領域の一端には、リダンダンシーブロック11B、拡張ブロック11C、及びデコーダ群11Eが配置されている。さらに、リダンダンシーブロック11B及び拡張ブロック11Cのレギュラーブロック11Aが配置されていない領域側には、ブロックデコーダ11Dが配置されている。
In the
また、複数のバンク中の任意の他の1つのバンク(第2バンク)12は、複数のレギュラーブロック11A、複数のリダンダンシーブロック11B、ブロックデコーダ11D、及びデコーダ群11Eを有している。第2バンク12では、1つの矩形領域内に、複数のレギュラーブロック11Aが左右に分かれて配置され、これらの間にはデコーダ群11Eが配置されている。この矩形領域の一端には、リダンダンシーブロック11B、及びデコーダ群11Eが配置されている。さらに、リダンダンシーブロック11Bのレギュラーブロック11Aが配置されていない領域側には、ブロックデコーダ11Dが配置されている。すなわち、第1バンク11との違いは、第2バンク12では、レギュラーブロック11Aとブロックデコーダ11Dとの間に、リダンダンシーブロック11Bとデコーダ群11Eのみが配置され、拡張ブロック11Cが配置されていないことである。言い換えると、第1バンク11では、第2バンク12における複数のリダンダンシーブロック11Bのうちのいくつかのブロックと置き換えて拡張ブロック11Cが配置されている。
In addition, any other one bank (second bank) 12 in the plurality of banks includes a plurality of
拡張ブロック11Cが配置された第1バンク11を含む最小の矩形領域の面積は、拡張ブロック11Cが配置されていない第2バンク12を含む最小の矩形領域の面積と同じになっている。
The area of the smallest rectangular area including the
図2は、図1に示したレイアウト図中のレギュラーブロック11Aのレイアウト図であり、図1にXで示す部分の拡大図である。図2に示すように、中央部のデコーダ群11Eには、ロウメインデコーダ11E−1が配置され、その両側にはロウサブデコーダ11E−2が配置されている。ロウメインデコーダ11E−1上及びロウサブデコーダ11E−2上にはカラムデコーダ11E−3が配置されている。デコーダ群11Eを挟むように、レギュラーブロック11Aが配置されている。レギュラーブロック11Aには、複数のメモリセルが配列されたセルアレイ11A−1が配置され、セルアレイ11A−1上にはカラムゲート11A−2が配置されている。さらに、セルアレイ11A−1内及びカラムゲート11A−2内には、メモリセルの上層の配線層に形成されたデータ線11A−3が配置されている。
2 is a layout diagram of the
図3は、図1に示したレイアウト図中のリダンダンシーブロック11Bと拡張ブロック11Cのレイアウト図であり、図1にYで示す部分の拡大図である。図3に示すように、中央部のデコーダ群11Eには、ロウメインデコーダ11E−1、ロウサブデコーダ11E−2、及びカラムデコーダ11E−3が配置されている。デコーダ群11Eを挟むように、リダンダンシーブロック11Bと複数の拡張ブロック11Cが配置されている。なお図3には、左側にリダンダンシーブロック11Bが配置され、右側に拡張ブロック11Cが配置された例を示したが、左側には拡張ブロックが配置され、右側にリダンダンシーブロックが配置されていてもよい。
FIG. 3 is a layout diagram of the
リダンダンシーブロック11Bには、複数のリダンダンシーメモリセルが配列されたセルアレイ11B−1が配置され、セルアレイ11B−1上にはカラムゲート11B−2が配置されている。さらに、セルアレイ11B−1内及びカラムゲート11B−2内には、リダンダンシーメモリセルの上層の配線層に形成されたデータ線11B−3が配置されている。拡張ブロック11Cには、複数のメモリセルが配列されたセルアレイ11C−1が複数配置され、これら複数のセルアレイ11C−1にはカラムゲート11C−2がそれぞれ配置されている。拡張ブロック11C内のセルアレイ11C−1及びカラムゲート11C−2が配置されていない領域にはダミーエリア11C−4が形成されている。さらに、セルアレイ11C−1内、カラムゲート11C−2内、及びダミーエリア11C−4内には、メモリセルの上層の配線層に形成されたデータ線11C−3が配置されている。
In the
詳述すると、中央部にはロウメインデコーダ11E−1が配置され、その左側にはロウサブデコーダ11E−2を介してセルアレイ11B−1が配置されている。一方、ロウメインデコーダ11E−1の右側には、ロウサブデコーダ11E−2とカラムデコーダ11E−3を介して複数のセルアレイ11C−1及びこれらセルアレイ11C−1に対応するカラムゲート11C−2が配置されている。前記ロウサブデコーダ11E−2とカラムデコーダ11E−3は、セルアレイ11C−1及びカラムゲート11C−2に対応するように設けられている。さらに、セルアレイ11C−1及びカラムゲート11C−2と他のセルアレイ11C−1及びカラムゲート11C−2との間には、ダミーエリア11C−4が形成されている。ダミーエリア11C−4については後で詳述する。
More specifically, a row
図4及び図5は、図2及び図3に示したレイアウト図中のセルアレイ、カラムゲート、及びデコーダ群の詳細を示す図である。ここでは、レギュラーブロック11A及びデコーダ群11Eの詳細を述べるが、その他のブロック及びデコーダ群の詳細も同様である。
4 and 5 are diagrams showing details of the cell array, column gates, and decoder group in the layout diagrams shown in FIGS. Here, the details of the
図4に示すように、レギュラーブロック11Aを含むセルアレイ11A−1には、メモリセルMCがマトリクス状に配置されている。セルアレイ11A−1の行方向にはメモリセルMCに接続されたワード線WLn,WLn+1,WLn+2,…,WLn+510,WLn+511が配置され、セルアレイ11A−1の列方向にはメモリセルMCに接続されたビット線BL0,BL1,BL2…,BL7が配置されている。ビット線には、カラムゲートC0,C1,C2…,C7がそれぞれ接続されている。カラムゲートのゲートには、論理積否定(NAND)回路CNDと否定(NOT)回路CNTからなるカラムデコーダ11E−3がそれぞれ接続されている。論理積否定回路CNDの第1入力端にはカラムアドレスC<7:0>が入力され、第2入力端にはカラム選択信号CR0が入力されている。
As shown in FIG. 4, in the
次に、デコーダ群11Eの詳細を図5に示す。ロウメインデコーダ11E−1内の論理積否定回路RND0,RND1,…,RND7の第1入力端には、論理積否定回路ND及び否定回路NTを介してブロックアドレスBLKaddが入力されている。論理積否定回路RND0〜RND7の第2,第3,第4入力端には、後述するアドレス固定回路及びアドレス切り替え回路の出力信号であるOUT6,OUT7,OUT8がそれぞれ入力されている。
Next, details of the
さらに、論理積否定回路RND0〜RND7の出力端は、それぞれ否定回路RNT0,RNT1,…,RNT7を介してロウサブデコーダ11E−2内のパストランジスタPT0,PT1,…,PT7にそれぞれ入力されている。そして、ロウメインデコーダ11E−1からの出力信号に応じて、ワード線選択信号BLKFR<7:0>またはBLKFL<7:0>がワード線WLn〜WLn+511にそれぞれ出力される。
Further, the output terminals of the logical product negation circuits RND0 to RND7 are respectively input to the pass transistors PT0, PT1,..., PT7 in the row subdecoder 11E-2 via the negation circuits RNT0, RNT1,. . Then, the word line selection signal BLKFR <7: 0> or BLKFL <7: 0> is output to the word lines WLn to WLn + 511 in accordance with the output signal from the row
次に、拡張ブロック11C内に配置されたダミーエリア11C−4について説明する。先に、リダンダンシーブロック11B内のセルアレイ11B−1の一部分の詳細を述べ、その後、拡張ブロック11C内のダミーエリア11C−4の一部分の詳細を述べる。
Next, the
図6は、図3に示したレイアウト図におけるリダンダンシーブロック11B内のセルアレイ11B−1の一部分Rを拡大した平面図である。行方向には複数のワード線WLが配置され、ワード線WLの上層には層間絶縁膜を介して形成された複数のデータ線DLが列方向に配置されている。
FIG. 6 is an enlarged plan view of a part R of the
図7は、図3に示したレイアウト図における拡張ブロック11C内のダミーエリア11C−4の一部分Dを拡大した平面図である。行方向には、図6に示した複数のワード線WLと同様なダミー配線DMが配置されている。これらダミー配線DMは、基準電圧Vss(例えば、接地電位)に接続されている。ダミー配線DMの上層には層間絶縁膜を介して形成された複数のデータ線DLが列方向に配置されている。
FIG. 7 is an enlarged plan view of a portion D of the
図8は、データ線DLの下にワード線WLが配置されている場合と、データ線DLの下にワード線WLが配置されていない場合の、データ線DLに生じる容量を模式的に示す断面図である。半導体基板30上にはワード線WLが形成され、ワード線WL上には層間絶縁膜31を介してデータ線DLが形成されている。このような構造において、データ線DLとワード線WLとの間に生じる容量をC1とし、ワード線WLが配置されていないときにデータ線DLに生じる容量をC2とする。すると、これら容量C1とC2の間には、C1>C2が成り立つ。
FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing capacitance generated in the data line DL when the word line WL is arranged under the data line DL and when the word line WL is not arranged under the data line DL. FIG. A word line WL is formed on the
例えば、拡張ブロック11C内にダミーエリア11C−4が形成されていない場合、拡張ブロックに配置されたデータ線の容量はC2となる部分が存在する。しかし、リダンダンシーブロック(またはレギュラーブロック)に配置されたデータ線の容量は、ほとんどがC1となる。このため、拡張ブロック内に配置されたデータ線の容量はリダンダンシーブロック内に配置されたデータ線の容量より小さくなり、拡張ブロックのデータ線容量とレギュラーブロック(またはリダンダンシーブロック)のデータ線容量とが不均一となって、読み出し時のマージンが小さくなってしまう。
For example, when the
そこで、前述したダミーエリア11C−4のように、拡張ブロック内のワード線が配置されていない領域にダミー配線を形成することにより、拡張ブロックに配置されたデータ線の容量と、リダンダンシーブロック(またはレギュラーブロック)に配置されたデータの容量とを均一にする。これにより、読み出し時における読み出し電圧のマージンが小さくなるのを防ぐことができる。
Therefore, as in the
以上説明したように本実施形態によれば、バンク内のリダンダンシーブロックに置き換えて拡張ブロックを配置することにより、矩形形状のバンク内からはみ出すように拡張ブロックを配置することなく、矩形形状のバンク内に拡張ブロックを配置することができる。これにより、チップ上に拡張ブロックを含む第1バンクと、拡張ブロックを含まない第2バンクとを配置したとき、チップ領域にデッドスペースが発生するのを無くすことができる。 As described above, according to the present embodiment, the expansion block is arranged in place of the redundancy block in the bank, so that the expansion block is not disposed so as to protrude from the rectangular bank. An expansion block can be arranged in Thereby, when the first bank including the extension block and the second bank not including the extension block are arranged on the chip, it is possible to eliminate the occurrence of dead space in the chip area.
さらに、拡張ブロック内のメモリセルアレイが形成されていない領域にダミーエリアを形成し、これらダミーエリアにリダンダンシーブロック(またはレギュラーブロック)内のワード線と同様なダミー配線を形成している。これにより、拡張ブロック内のデータ線の容量と、リダンダンシーブロック内のデータ線の容量とを均一にする。すなわち、拡張ブロックを含む第1バンクに配置されたデータ線の容量と、拡張ブロックを含まない第2バンクに配置されたデータ線の容量とを均一にする。これにより、読み出し時における読み出し電圧のマージンを向上させることができる。 Further, dummy areas are formed in areas where the memory cell array is not formed in the extension block, and dummy wirings similar to the word lines in the redundancy block (or regular block) are formed in these dummy areas. Thereby, the capacity of the data lines in the expansion block and the capacity of the data lines in the redundancy block are made uniform. That is, the capacity of the data line arranged in the first bank including the extension block and the capacity of the data line arranged in the second bank not including the extension block are made uniform. Thereby, the margin of the read voltage at the time of reading can be improved.
次に、拡張ブロック11Cにアクセスする場合に、ロウメインデコーダの選択に使用されるアドレス固定回路及びアドレス切り替え回路について説明する。拡張ブロックでは小容量のセルアレイが分散して配置されるため、使用しないロウメインデコーダが存在する。バンク内に拡張ブロック11Cを配置するに当たり、メモリセルのサイズやデータを読み出すカラムゲートのブロックサイズの関係で、使用するロウメインデコーダが限られてくる。ロウメインデコーダは共存するリダンダンシーブロック11Bの選択にも使われるため、アドレスを下位から回していくと、拡張ブロック内のメモリセルの選択時に、空白のアドレス空間ができてしまうことになる。
Next, an address fixing circuit and an address switching circuit used for selecting the row main decoder when accessing the
図9(a)及び図9(b)は、第1バンクの拡張ブロック11C内に生じる空白のアドレス空間を示す図である。図9(a)はロウメインデコーダ11E−1をアドレスの下位側から順次選択して左側のセルアレイ11B−1をアクセスする様子を示し、図9(b)は右側の拡張ブロック11C内の空白のアドレス空間に相当するロウメインデコーダ11E−1を飛ばしてセルアレイ11C−1をアクセスする様子を示す。
FIGS. 9A and 9B are diagrams showing a blank address space generated in the
図10は、図9(a)に示したように、ロウメインデコーダ11E−1をアドレスの下位側から順次選択してセルアレイ11B−1をアクセスする場合のアドレスマップを示す図である。図10に示すように、ロウアドレスのうち、RowBで示すOUT(ADD)6,OUT(ADD)7,OUT(ADD)8のアドレスによってロウメインデコーダ0〜7が選択される。
FIG. 10 is a diagram showing an address map when the row
図11は、図9(b)に示したように、空白のアドレス空間に相当するロウメインデコーダ11E−1を飛ばしてセルアレイ11C−1をアクセスする場合のアドレスマップを示す図である。図11に示すように、RowBで示すOUT6,OUT7,OUT8のアドレスによって0番のロウメインデコーダを選択した後、1〜3番のロウメインデコーダをスキップして4番のロウメインデコーダを選択する。すなわち、0番のロウメインデコーダを選択した後、セルアレイ11C−1が接続されていないロウメインデコーダを飛ばして、4番のロウメインデコーダを選択するようにすれば、セルアレイ11C−1が接続されたロウメインデコーダのみを連続して選択することができる。
FIG. 11 is a diagram showing an address map when the
このように空白のアドレス空間に相当するロウメインデコーダを飛ばして、拡張ブロック11C内のセルアレイ11C−1を連続して選択できるようにした回路が、図12、図13、及び図14(a)、図14(b)に示す回路である。なお、拡張ブロックの選択に使用されないロウメインデコーダに対しては、必ずしも後述のアドレス固定回路及びアドレス切り替え回路を設ける必要は無い。この場合、ADD6,ADD7,ADD8により直接ロウメインデコーダを選択する構成としてもよい。
A circuit in which the row main decoder corresponding to the blank address space is skipped and the
図12に示すアドレス回路は複数配置されている。これらアドレス回路の第1入力端にはロウアドレスADD6,ADD7,ADD8がそれぞれ入力され、第2入力端には電源電圧VDDが入力され、アドレスADD6<0>,ADD6<1>、アドレスADD7<0>,ADD7<1>、アドレスADD8<0>,ADD8<1>がそれぞれ出力される。 A plurality of address circuits shown in FIG. 12 are arranged. Row addresses ADD6, ADD7, and ADD8 are input to the first input terminals of these address circuits, respectively, and the power supply voltage VDD is input to the second input terminal, and addresses ADD6 <0>, ADD6 <1>, and address ADD7 <0. >, ADD7 <1>, and addresses ADD8 <0> and ADD8 <1> are output.
図13に示すアドレス固定回路には、アドレス回路から出力されたアドレスADD6<0>,ADD6<1>、またはアドレスADD7<0>,ADD7<1>、及び信号EFAENが入力され、信号OUT6<0>,OUT6<1>、または信号OUT7<0>,OUT7<1>が出力される。 The address fixing circuit shown in FIG. 13 receives the address ADD6 <0>, ADD6 <1>, or the address ADD7 <0>, ADD7 <1>, and the signal EFAEN output from the address circuit, and the signal OUT6 <0. >, OUT6 <1>, or signals OUT7 <0>, OUT7 <1> are output.
図14(a)に示すアドレス切り替え回路には、アドレス回路から出力されたアドレスADD6<0>,ADD8<0>、及び信号EFAENが入力され、信号OUT8<0>が出力される。図14(b)に示すアドレス切り替え回路には、アドレス回路から出力されたアドレスADD6<1>,ADD8<1>、及び信号EFAENが入力され、信号OUT8<1>が出力される。なお、信号EFAENは通常時に“L”となり、アドレスを固定または切り替えるとき、すなわち、拡張ブロックへのアクセスを行う際に“H”となる。 In the address switching circuit shown in FIG. 14A, the addresses ADD6 <0> and ADD8 <0> and the signal EFAEN output from the address circuit are input, and the signal OUT8 <0> is output. In the address switching circuit shown in FIG. 14B, the addresses ADD6 <1> and ADD8 <1> and the signal EFAEN output from the address circuit are input, and the signal OUT8 <1> is output. The signal EFAEN normally becomes “L”, and becomes “H” when the address is fixed or switched, that is, when an extension block is accessed.
図15(a)に、ロウアドレスADD6,ADD7のアドレス回路及びアドレス固定回路における出力を示す。信号EFAENが“L”のときは、ロウアドレスADD6,ADD7の値に応じて信号OUT<0>,OUT<1>が決定される。信号EFAENが“H”のときは、ロウアドレスADD6,ADD7が“L”または“H”のいずれの場合も、信号OUT<0>は“H”に固定され、信号OUT<1>は“L”に固定される。 FIG. 15A shows the outputs of the row address ADD6 and ADD7 in the address circuit and the address fixing circuit. When the signal EFAEN is “L”, the signals OUT <0> and OUT <1> are determined according to the values of the row addresses ADD6 and ADD7. When the signal EFAEN is “H”, the signal OUT <0> is fixed to “H” and the signal OUT <1> is “L” regardless of whether the row address ADD6, ADD7 is “L” or “H”. To be fixed.
図15(b)に、ロウアドレスADD6,ADD8のアドレス回路及びアドレス切り替え回路における出力を示す。ロウアドレスADD6,ADD8が“L”または“H”のとき、図15(b)に示すように処理される。信号EFAENが“H”のときは、ロウアドレスADD6の信号OUT<0>,OUT<1>がロウアドレスADD8の信号に切り替えられる。 FIG. 15B shows the outputs of the address circuit and the address switching circuit of the row addresses ADD6 and ADD8. When the row addresses ADD6 and ADD8 are “L” or “H”, processing is performed as shown in FIG. When the signal EFAEN is “H”, the signals OUT <0> and OUT <1> of the row address ADD6 are switched to the signal of the row address ADD8.
これにより、不要なアドレスを固定し、1〜3番のロウメインデコーダをスキップすることができ、リニアに拡張ブロック内のセルアレイを選択することができる。 As a result, unnecessary addresses can be fixed, the first to third row main decoders can be skipped, and the cell array in the expansion block can be selected linearly.
以上説明したように本実施形態では、特定バンク内に小規模セルアレイ(拡張ブロック)をリダンダンシーブロックと置き換えて配置することにより、デッドスペースの発生を解消し、さらにレギュラーブロックまたはリダンダンシーブロックのデータ線の容量と拡張ブロックのデータ線の容量を等価にすることができる。これにより、読み出し時における読み出し電圧のマージンを大きくすることができる。 As described above, in the present embodiment, by replacing a small cell array (expansion block) with a redundancy block in a specific bank, the occurrence of dead space is eliminated, and the data line of the regular block or redundancy block is further eliminated. The capacity and the capacity of the data line of the extension block can be made equivalent. Thereby, the margin of the read voltage at the time of reading can be increased.
なお、前述した実施形態は唯一の実施形態ではなく、前記構成の変更あるいは各種構成の追加によって、様々な実施形態を形成することが可能である。 The embodiment described above is not the only embodiment, and various embodiments can be formed by changing the configuration or adding various configurations.
10…バンク群、11…第1バンク、11A…レギュラーブロック、11A−1…セルアレイ、11A−2…カラムゲート、11A−3…データ線、11B…リダンダンシーブロック、11B−1…セルアレイ、11B−2…カラムゲート、11C…拡張ブロック、11C−1…セルアレイ、11C−2…カラムゲート、11C−3…データ線、11C−4…ダミーエリア、11D…ブロックデコーダ、11E…デコーダ群、11E−1…ロウメインデコーダ、11E−2…ロウサブデコーダ、11E−3…カラムデコーダ、20…センスアンプ。
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記第1レギュラーブロック内の前記メモリセルが不良のときに、不良のメモリセルと置き換えて使用されるメモリセルが複数配列された第1リダンダンシーブロックと、
メモリセルが複数配列され、前記第1レギュラーブロックが持つ記憶容量より小さい記憶容量を持つ拡張ブロックとを含む第1のバンクと、
通常使用されるメモリセルが複数配列された第2レギュラーブロックと、
前記第2レギュラーブロック内の前記メモリセルが不良のときに、不良のメモリセルと置き換えて使用されるメモリセルが複数配列された第2リダンダンシーブロックとを含む第2のバンクとを具備し、
前記第1のバンクが有する前記第1リダンダンシーブロックが持つ記憶容量は、前記第2のバンクが有する第2リダンダンシーブロックが持つ記憶容量より小さいことを特徴とする半導体記憶装置。 A first regular block in which a plurality of normally used memory cells are arranged;
A first redundancy block in which a plurality of memory cells used in place of a defective memory cell are arranged when the memory cell in the first regular block is defective;
A first bank including a plurality of memory cells and an expansion block having a storage capacity smaller than that of the first regular block;
A second regular block in which a plurality of normally used memory cells are arranged;
A second bank including a second redundancy block in which a plurality of memory cells used in place of the defective memory cells are arranged when the memory cells in the second regular block are defective;
A semiconductor memory device, wherein a storage capacity of the first redundancy block of the first bank is smaller than a storage capacity of a second redundancy block of the second bank.
前記拡張ブロックの選択時にアドレスをスキップさせるアドレス切り替え回路と、
をさらに具備することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体記憶装置。 An address fixing circuit for fixing unnecessary addresses when selecting the extension block;
An address switching circuit for skipping addresses when selecting the extension block;
The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008166052A JP2010009656A (en) | 2008-06-25 | 2008-06-25 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008166052A JP2010009656A (en) | 2008-06-25 | 2008-06-25 | Semiconductor memory device |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2010009656A true JP2010009656A (en) | 2010-01-14 |
Family
ID=41589958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008166052A Withdrawn JP2010009656A (en) | 2008-06-25 | 2008-06-25 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2010009656A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9251918B2 (en) | 2013-09-04 | 2016-02-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
-
2008
- 2008-06-25 JP JP2008166052A patent/JP2010009656A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
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