JP2009301858A - Light-emitting element, display device, and electronic equipment - Google Patents

Light-emitting element, display device, and electronic equipment Download PDF

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英利 山本
Hidekazu Kobayashi
英和 小林
Koji Yasukawa
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting element capable of having excellent luminous efficiency (current efficiency) in a configuration in which light is emitted from a cathode side, and also to provide a display device and electronic equipment capable of displaying a high-quality image over a long period of time. <P>SOLUTION: The light-emitting element 1<SB>R</SB>includes the cathode 12, an anode 3, and a first light-emitting layer 6, a second light-emitting layer 8 and a third light-emitting layer 9 which are provided between the cathode 12 and the anode 3. The cathode 12 has functions which transmit a portion of light from the first light-emitting layer 6, the second light-emitting layer 8 and the third light-emitting layer 9 and reflects the remaining portion thereof. The cathode 12 is equipped with an Ag alloy layer 121 which is configured with a metal material as a main material formed by adding an addition metal having an atomic radius different from that of Ag to Ag. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、発光素子、表示装置および電子機器に関するものである。   The present invention relates to a light emitting element, a display device, and an electronic device.

有機エレクトロルミネッセンス素子(いわゆる有機EL素子)は、陽極と陰極との間に少なくとも1層の発光性有機層(発光層)を介挿した構造を有する発光素子である。このような発光素子では、陰極と陽極との間に電界を印加することにより、発光層に陰極側から電子が注入されるとともに陽極側から正孔が注入され、発光層中で電子と正孔が再結合することにより励起子が生成し、この励起子が基底状態に戻る際に、そのエネルギー分が光として放出される(例えば、特許文献1および非特許文献1参照)。
いわゆるトップエミッション型の発光素子では、一般に、特許文献1に開示されているように、陰極を半透過性を有するものとし、陰極側から光を出射させる。
An organic electroluminescence element (so-called organic EL element) is a light emitting element having a structure in which at least one light emitting organic layer (light emitting layer) is interposed between an anode and a cathode. In such a light emitting device, by applying an electric field between the cathode and the anode, electrons are injected into the light emitting layer from the cathode side and holes are injected from the anode side, and electrons and holes are injected into the light emitting layer. Recombination generates excitons, and when the excitons return to the ground state, the energy is emitted as light (see, for example, Patent Document 1 and Non-Patent Document 1).
In the so-called top emission type light emitting element, as disclosed in Patent Document 1, generally, the cathode has a semi-transmission property, and light is emitted from the cathode side.

特許文献1にかかる発光素子は、MgAg(Mg:Ag=9:1)の薄膜で陰極を構成することにより、陰極を電子注入性および半透過性を有するものとしている。そして、かかる発光素子は、陽極を反射性を有するものとし、発光層で発生した光を陰極と陽極との間で共振させるようになっている。これにより、発光素子から出射する光の輝度(ひいては電流効率)を高めることができる。   In the light emitting device according to Patent Document 1, the cathode is made of a thin film of MgAg (Mg: Ag = 9: 1) so that the cathode has electron injecting property and semi-transmitting property. In such a light emitting element, the anode is reflective, and the light generated in the light emitting layer is resonated between the cathode and the anode. Thereby, the brightness | luminance (and by extension, current efficiency) of the light radiate | emitted from a light emitting element can be improved.

しかしながら、特許文献1にかかる発光素子では、陰極が前述したようなMgAgで構成されているため、発光層で発生した光に対する陰極の反射率は低いものとなってしまう。そのため、発光素子から出射する光の輝度を十分に高めることができなかった。
反射率の高い金属としては、一般にAgが知られているが、Agを用いて半透過性となるような薄膜を形成すると、表面拡散や表面マイグレーションによってAg原子が凝集した核による微細な凹凸を有する薄膜が形成されてしまう。このような薄膜は、プラズモン吸収により、バルクのAgとは異なる光学特性を示し、高い反射率を得ることができないという問題がある。
However, in the light emitting element according to Patent Document 1, since the cathode is made of MgAg as described above, the reflectance of the cathode with respect to the light generated in the light emitting layer is low. Therefore, the luminance of light emitted from the light emitting element cannot be sufficiently increased.
Ag is generally known as a highly reflective metal. However, when a thin film that is semi-transparent is formed using Ag, fine irregularities due to nuclei in which Ag atoms are aggregated by surface diffusion or surface migration are formed. The thin film which has is formed. Such a thin film has a problem that it exhibits optical characteristics different from that of bulk Ag due to plasmon absorption, and a high reflectance cannot be obtained.

特開2003−77681号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-77681 Hitoshi Kuma. et. al,. SID DIGEST, P1504 (2007)Hitoshi Kuma. Et. Al ,. SID DIGEST, P1504 (2007)

本発明の目的は、陰極側から光を出射する構成において、発光効率(電流効率)を優れたものとすることができる発光素子を提供すること、また、高品位な画像を長期にわたり表示することができる表示装置および電子機器を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a light-emitting element that can have excellent light emission efficiency (current efficiency) in a configuration in which light is emitted from the cathode side, and to display a high-quality image over a long period of time. It is an object of the present invention to provide a display device and an electronic device that can perform the above.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の発光素子は、陰極と、
陽極と、
前記陰極と前記陽極との間に設けられた少なくとも1層の発光層とを有し、
前記陰極は、前記発光層からの光の一部を透過し残部を反射する機能を有し、
前記陰極は、Agに、Agとは原子半径の異なる添加金属を添加してなる金属材料を主材料として構成されたAg合金層を備えていることを特徴とする。
これにより、薄膜状のAg合金層(陰極)を形成するに際し、表面拡散や表面マイグレーションによってAg原子が凝集した核による微細な凹凸の発生を防止し、優れた表面性(平坦性)を有する薄膜状のAg合金層を形成することができる。そのため、陰極を半透過性を有するものとしつつ優れた反射性を有するものとすることができる。その結果、発光素子の陰極側から出射する光の輝度を高め、発光素子の電流効率を優れたものとすることができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The light emitting device of the present invention comprises a cathode,
The anode,
Having at least one light emitting layer provided between the cathode and the anode;
The cathode has a function of transmitting a part of the light from the light emitting layer and reflecting the remaining part,
The cathode includes an Ag alloy layer composed mainly of a metal material obtained by adding an additive metal having an atomic radius different from that of Ag to Ag.
Thereby, when forming a thin Ag alloy layer (cathode), a thin film having excellent surface properties (flatness) by preventing generation of fine irregularities due to nuclei in which Ag atoms are aggregated by surface diffusion or surface migration. A shaped Ag alloy layer can be formed. Therefore, it is possible to make the cathode semi-transmissive and have excellent reflectivity. As a result, the luminance of light emitted from the cathode side of the light emitting element can be increased, and the current efficiency of the light emitting element can be improved.

本発明の発光素子では、Agの原子半径と前記添加金属の原子半径との差は、Agの原子半径の10%以上であることが好ましい。
これにより、薄膜状のAg合金層(陰極)を形成するに際し、表面拡散や表面マイグレーションによってAg原子が凝集した核による微細な凹凸の発生をより確実に防止することができる。
In the light emitting device of the present invention, the difference between the atomic radius of Ag and the atomic radius of the additive metal is preferably 10% or more of the atomic radius of Ag.
Thereby, when forming a thin Ag alloy layer (cathode), it is possible to more reliably prevent the occurrence of fine irregularities due to nuclei in which Ag atoms are aggregated by surface diffusion or surface migration.

本発明の発光素子では、前記添加金属は、Mg、Cu、Zn、Al、Ndのうちのいずれか1種、または、これらのうちの2種以上の組み合わせであることが好ましい。
これにより、Ag合金層の反射率を優れたものとしつつ、Ag合金層の電子注入性を優れたものとすることができる。また、このようなAg合金層は各種気相成膜法により容易に形成することができる。
In the light emitting device of the present invention, the additive metal is preferably any one of Mg, Cu, Zn, Al, and Nd, or a combination of two or more thereof.
Thereby, the electron injection property of the Ag alloy layer can be made excellent while the reflectance of the Ag alloy layer is made excellent. Further, such an Ag alloy layer can be easily formed by various vapor deposition methods.

本発明の発光素子では、前記金属材料は、Agの含有量が80〜99.9原子%であり、前記添加金属の含有量が0.1〜20原子%であることが好ましい。
これにより、Ag合金層の反射率を優れたものとすることができる。
本発明の発光素子では、前記陰極は、前記Ag合金層に接合され、前記金属材料よりも仕事関数の小さい材料で構成された注入電極層を備えていることが好ましい。
これにより、陰極の電子注入性を向上させることができる。その結果、発光素子の発光効率を向上させることができる。
In the light emitting device of the present invention, it is preferable that the metal material has an Ag content of 80 to 99.9 atomic% and an additive metal content of 0.1 to 20 atomic%.
Thereby, the reflectance of an Ag alloy layer can be made excellent.
In the light emitting device of the present invention, it is preferable that the cathode includes an injection electrode layer made of a material bonded to the Ag alloy layer and having a work function smaller than that of the metal material.
Thereby, the electron injection property of a cathode can be improved. As a result, the light emission efficiency of the light emitting element can be improved.

本発明の発光素子では、前記注入電極層は、前記Ag合金層に対し前記発光層側に設けられていることが好ましい。
これにより、注入電極層の電子注入性およびAg合金層の反射特性をそれぞれ効果的に発揮させることができる。
本発明の発光素子では、前記注入電極層は、Mg、Al、Ca、Sr、Baのうちの少なくとも1種以上を含む合金を主材料として構成されていることが好ましい。
これにより、注入電極層の電子注入性および安定性(ひいては陰極の電子注入性および安定性)を優れたものとすることができる。
In the light emitting device of the present invention, the injection electrode layer is preferably provided on the light emitting layer side with respect to the Ag alloy layer.
Thereby, the electron injection property of the injection electrode layer and the reflection property of the Ag alloy layer can be effectively exhibited.
In the light emitting device of the present invention, it is preferable that the injection electrode layer is composed mainly of an alloy containing at least one of Mg, Al, Ca, Sr, and Ba.
Thereby, the electron injection property and stability of the injection electrode layer (and hence the electron injection property and stability of the cathode) can be made excellent.

本発明の発光素子では、前記発光層に対して前記陰極と反対側に設けられ、前記発光層からの光を反射する機能を有する反射層を有していることが好ましい。
これにより、発光層からの光および陰極からの反射光を反射層で反射して、発光素子の輝度を高めることができる。
本発明の発光素子では、前記Ag合金層と前記反射層との間で前記発光層からの光を共振させるように構成されていることが好ましい。
これにより、発光素子から出射する光の輝度および色純度を高めることができる。
In the light emitting device of the present invention, it is preferable to have a reflective layer provided on the opposite side of the light emitting layer from the cathode and having a function of reflecting light from the light emitting layer.
Thereby, the light from the light emitting layer and the reflected light from the cathode are reflected by the reflective layer, and the luminance of the light emitting element can be increased.
The light emitting element of the present invention is preferably configured to resonate light from the light emitting layer between the Ag alloy layer and the reflective layer.
Thereby, the brightness | luminance and color purity of the light radiate | emitted from a light emitting element can be improved.

本発明の発光素子では、前記Ag合金層は、真空蒸着法を用いて形成されたものであることが好ましい。
これにより、優れた表面性(平坦性)を有する薄膜状の陰極を比較的簡単に形成することができる。
本発明の発光素子では、前記Ag合金層は、Agと前記添加金属とを共蒸着することにより形成されたものであることが好ましい。
これにより、用いる添加金属の選択の幅を大きなものとしつつ、優れた表面性(平坦性)を有する薄膜状の陰極を比較的簡単に形成することができる。
In the light emitting device of the present invention, the Ag alloy layer is preferably formed using a vacuum deposition method.
As a result, a thin film cathode having excellent surface properties (flatness) can be formed relatively easily.
In the light emitting device of the present invention, the Ag alloy layer is preferably formed by co-evaporation of Ag and the additive metal.
This makes it possible to relatively easily form a thin film cathode having excellent surface properties (flatness) while increasing the range of selection of the additive metal to be used.

本発明の発光素子では、前記発光層からの光に対する前記Ag合金層の反射率は、20〜80%であることが好ましい。
これにより、発光素子から出射する光の輝度(電流効率)を効果的に高めることができる。
本発明の発光素子では、前記Ag合金層の厚さは、1〜50nmであることが好ましい。
これにより、Ag合金層を半透過性(発光層からの光の一部を透過し残部を反射する機能)を有するものとすることができる。
In the light emitting device of the present invention, the reflectance of the Ag alloy layer with respect to light from the light emitting layer is preferably 20 to 80%.
Thereby, the brightness | luminance (current efficiency) of the light radiate | emitted from a light emitting element can be improved effectively.
In the light emitting device of the present invention, the Ag alloy layer preferably has a thickness of 1 to 50 nm.
Thereby, the Ag alloy layer can be made semi-transparent (function of transmitting a part of light from the light emitting layer and reflecting the remaining part).

本発明の発光素子では、前記発光層からの発光を前記陰極側から出射するトップエミッション構造を有することが好ましい。
このようなトップエミッション型の発光素子の陰極は半透過性を有するものである。したがって、このようなトップエミッション型の発光素子に本発明を適用することで、比較的簡単な構成で優れた電流効率を有する発光素子を提供することができる。
The light emitting device of the present invention preferably has a top emission structure for emitting light from the light emitting layer from the cathode side.
The cathode of such a top emission type light emitting element is semi-transmissive. Therefore, by applying the present invention to such a top emission type light emitting element, a light emitting element having a relatively simple configuration and excellent current efficiency can be provided.

本発明の発光素子では、前記少なくとも1層の発光層は、互いに発光スペクトルの異なる複数層の発光層で構成され、当該複数層の発光層全体として白色発光するように構成されていることが好ましい。
これにより、1つの発光素子から様々な色を分離して用いることができる。
本発明の発光素子では、前記少なくとも1層の発光層は、赤色に発光する赤色発光層と、緑色に発光する緑色発光層と、青色に発光する青色発光層とを含んで構成されていることが好ましい。
これにより、比較的簡単かつ確実に、複数の発光層全体で白色発光させることができる。
In the light emitting device of the present invention, it is preferable that the at least one light emitting layer is composed of a plurality of light emitting layers having different emission spectra from each other, and the entire light emitting layer of the plurality of layers is configured to emit white light. .
Accordingly, various colors can be separated from one light emitting element and used.
In the light emitting device of the present invention, the at least one light emitting layer includes a red light emitting layer that emits red light, a green light emitting layer that emits green light, and a blue light emitting layer that emits blue light. Is preferred.
Thereby, it is possible to emit white light over the plurality of light emitting layers relatively easily and reliably.

本発明の表示装置は、本発明の発光素子を備えることを特徴とする。
これにより、高品位な画像を長期にわたり表示することができる表示装置を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の表示装置を備えることを特徴とする。
これにより、高品位な画像を長期にわたり表示することができる電子機器を提供することができる。
The display device of the present invention includes the light emitting element of the present invention.
Thereby, it is possible to provide a display device capable of displaying a high-quality image over a long period of time.
An electronic apparatus according to the present invention includes the display device according to the present invention.
Accordingly, an electronic device that can display a high-quality image over a long period of time can be provided.

以下、本発明の発光装置の製造方法、表示装置および電子機器を添付図面に示す好適な実施形態について説明する。
図1は、本発明の発光素子を備える表示装置の一例(ディスプレイ装置)を示す模式的断面図、図2は、図1に示す発光装置に備えられた発光素子の縦断面を模式的に示す図である。なお、以下では、説明の都合上、図1中および図2中の上側を「上」、下側を「下」として説明を行う。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a light emitting device manufacturing method, a display device, and an electronic apparatus according to the present invention are described below with reference to the accompanying drawings.
1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a display device (display device) including the light-emitting element of the present invention, and FIG. 2 schematically illustrates a vertical cross-section of the light-emitting element included in the light-emitting device illustrated in FIG. FIG. In the following description, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 1 and FIG. 2 will be described as “upper” and the lower side as “lower”.

(表示装置)
図1に示すディスプレイ装置100は、複数の発光素子1、1、1を備える発光装置101と、各発光素子1、1、1に対応して設けられたフィルタ部19、19、19を備えるカラーフィルタ102とを有している。
このようなディスプレイ装置100は、複数の発光素子1、1、1および複数のフィルタ部19、19、19がサブ画素100、100、100に対応して設けられ、トップエミッション構造のディスプレイパネルを構成している。
なお、本実施形態ではディスプレイ装置の駆動方式としてアクティブマトリックス方式を採用した例に説明するが、パッシブマトリックス方式を採用したものであってもよい。
発光装置101は、基板21と、複数の発光素子1、1、1と、複数のスイッチング素子24とを有している。
(Display device)
Display device shown in FIG. 1 100, a plurality of light-emitting elements 1 R, 1 G, and the light emitting device 101 comprising a 1 B, the light-emitting elements 1 R, 1 G, 1 filter unit 19 provided corresponding to the B R , 19 G and 19 B.
In such a display device 100, a plurality of light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B and a plurality of filter units 19 R , 19 G , 19 B are provided corresponding to the sub-pixels 100 R , 100 G , 100 B. It constitutes a display panel with a top emission structure.
In the present embodiment, an example in which an active matrix method is employed as a display device driving method will be described. However, a passive matrix method may be employed.
The light emitting device 101 includes a substrate 21, a plurality of light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B, and a plurality of switching elements 24.

基板21は、複数の発光素子1、1、1および複数のスイッチング素子24を支持するものである。本実施形態の各発光素子1、1、1は、基板21とは反対側から光を取り出す構成(トップエミッション型)である。したがって、基板21には、透明基板および不透明基板のいずれも用いることができる。なお、各発光素子1、1、1が基板21側から光を取り出す構成(ボトムエミッション型)である場合には、基板21は、実質的に透明(無色透明、着色透明または半透明)とされる。 The substrate 21 supports the plurality of light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B and the plurality of switching elements 24. Each light emitting element 1 R , 1 G , 1 B of the present embodiment has a configuration for extracting light from the side opposite to the substrate 21 (top emission type). Accordingly, the substrate 21 can be either a transparent substrate or an opaque substrate. In the case where the light-emitting elements 1 R, 1 G, 1 B is a structure in which light is extracted from the substrate 21 side (bottom emission type), the substrate 21 is substantially transparent (colorless and transparent, colored transparent or semi-transparent ).

基板21の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料や、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the constituent material of the substrate 21 include resin materials such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyethersulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyarylate, quartz glass, and soda glass. Such glass materials can be used, and one or more of these can be used in combination.

不透明基板としては、例えば、アルミナのようなセラミックス材料で構成された基板、ステンレス鋼のような金属基板の表面に酸化膜(絶縁膜)を形成したもの、樹脂材料で構成された基板等が挙げられる。
このような基板21の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜30mm程度であるのが好ましく、0.1〜10mm程度であるのがより好ましい。
このような基板21上には、複数のスイッチング素子24がマトリクス状に配列されている。
Examples of the opaque substrate include a substrate made of a ceramic material such as alumina, an oxide film (insulating film) formed on the surface of a metal substrate such as stainless steel, and a substrate made of a resin material. It is done.
Although the average thickness of such a board | substrate 21 is not specifically limited, It is preferable that it is about 0.1-30 mm, and it is more preferable that it is about 0.1-10 mm.
On such a substrate 21, a plurality of switching elements 24 are arranged in a matrix.

各スイッチング素子24は、各発光素子1、1、1に対応して設けられ、各発光素子1、1、1を駆動するための駆動用トランジスタである。
このような各スイッチング素子24は、シリコンからなる半導体層241と、半導体層241上に形成されたゲート絶縁層242と、ゲート絶縁層242上に形成されたゲート電極243と、ソース電極244と、ドレイン電極245とを有している。
このような複数のスイッチング素子24を覆うように、絶縁材料で構成された平坦化層22が形成されている。
Each switching element 24 is provided corresponding to the respective light emitting elements 1 R, 1 G, 1 B , a driving transistor for driving the light emitting elements 1 R, 1 G, 1 B .
Each switching element 24 includes a semiconductor layer 241 made of silicon, a gate insulating layer 242 formed on the semiconductor layer 241, a gate electrode 243 formed on the gate insulating layer 242, a source electrode 244, And a drain electrode 245.
A planarizing layer 22 made of an insulating material is formed so as to cover the plurality of switching elements 24.

平坦化層22上には、各スイッチング素子24に対応して発光素子1、1、1が設けられている。
発光素子1は、平坦化層22上に、反射膜32、腐食防止膜33、陽極3、積層体(有機EL発光部)15、陰極12、陰極カバー34がこの順に積層されて構成されている。本実施形態では、各発光素子1、1、1の陽極3は、画素電極を構成し、各駆動用トランジスタ24のドレイン電極245に導電部(配線)27により電気的に接続されている。また、各発光素子1、1、1の陰極12は、共通電極とされている。
On the planarization layer 22, light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B are provided corresponding to the switching elements 24.
The light emitting element 1 R is configured by laminating a reflective film 32, a corrosion preventing film 33, an anode 3, a laminate (organic EL light emitting unit) 15, a cathode 12, and a cathode cover 34 in this order on a planarizing layer 22. Yes. In this embodiment, the anode 3 of each light emitting element 1 R , 1 G , 1 B constitutes a pixel electrode, and is electrically connected to the drain electrode 245 of each driving transistor 24 by a conductive portion (wiring) 27. Yes. The cathode 12 of the light-emitting elements 1 R, 1 G, 1 B is a common electrode.

なお、発光素子1、1、1については、後に詳述する。
隣接する発光素子1、1、1同士の間には、隔壁31が設けられている。
このように構成された発光装置101には、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂で構成された樹脂層35を介して、カラーフィルタ102が接合されている。
カラーフィルタ102は、基板20と、複数のフィルタ部19、19、19と、遮光部36とを有している。
The light emitting elements 1 R , 1 G , and 1 B will be described in detail later.
A partition wall 31 is provided between the adjacent light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B.
The color filter 102 is bonded to the light emitting device 101 configured as described above via a resin layer 35 formed of a thermosetting resin such as an epoxy resin.
The color filter 102 includes a substrate 20, a plurality of filter parts 19 R , 19 G , 19 B, and a light shielding part 36.

基板(封止基板)20は、各フィルタ部19、19、19および遮光層36を支持するものである。基板20には、透明基板が用いられる。
このような基板20の構成材料としては、基板20が光透過性を有するものであれば、特に限定されず、前述した基板21の構成材料と同様のものを用いることができる。
フィルタ部19、19、19は、発光素子1、1、1に対応して設けられている。
The substrate (sealing substrate) 20 supports the filter portions 19 R , 19 G , 19 B and the light shielding layer 36. A transparent substrate is used as the substrate 20.
Such a constituent material of the substrate 20 is not particularly limited as long as the substrate 20 is light transmissive, and the same constituent materials as those of the substrate 21 described above can be used.
The filter units 19 R , 19 G , and 19 B are provided corresponding to the light emitting elements 1 R , 1 G , and 1 B.

フィルタ部19は、発光素子1からの光Wを赤色に変換するものである。また、フィルタ部19は、発光素子1からの光Wを緑色に変換するものである。また、フィルタ部19は、発光素子1からの光Wを青色に変換するものである。このようなフィルタ部19、19、19を発光素子1、1、1と組み合わせて用いることで、フルカラー画像を表示することができる。
隣接するフィルタ部19、19、19同士の間には、遮光層36が形成されている。
この遮光層36は、意図しないサブ画素100、100、100が発光するのを防止する機能を有する。
Filter unit 19 R is for converting light W R from the light emitting element 1 R red. The filter unit 19 G is for converting light W G from the light-emitting element 1 G to green. The filter unit 19 B is for converting light W B from the light-emitting element 1 B to blue. By using such filter units 19 R , 19 G , and 19 B in combination with the light emitting elements 1 R , 1 G , and 1 B , a full color image can be displayed.
A light shielding layer 36 is formed between adjacent filter portions 19 R , 19 G , 19 B.
The light shielding layer 36 has a function of preventing unintended subpixels 100 R , 100 G , and 100 B from emitting light.

(発光素子)
ここで、図2に基づき、発光素子1、1、1を詳細に説明する。
図2に示す発光素子(エレクトロルミネッセンス素子)1、1、1は、それぞれ、2つの電極間(陽極3と陰極12との間)に、互いに発光スペクトルの異なるR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の3層の発光層を含む積層体15が介挿されている。この積層体15は、図2に示すように、陽極3側から陰極12側へ、正孔注入層4と正孔輸送層5と第1の発光層(赤色発光層)6と中間層7と第2の発光層(青色発光層)8と第3の発光層(緑色発光層)9と電子輸送層10と電子注入層11とがこの順に積層されている。
(Light emitting element)
Here, based on FIG. 2, the light emitting elements 1 R , 1 G , and 1 B will be described in detail.
The light-emitting elements (electroluminescent elements) 1 R 1, 1 G , and 1 B shown in FIG. 2 are respectively R (red), G having different emission spectra between two electrodes (between the anode 3 and the cathode 12). A laminate 15 including three light emitting layers of (green) and B (blue) is interposed. As shown in FIG. 2, the laminate 15 includes a hole injection layer 4, a hole transport layer 5, a first light emitting layer (red light emitting layer) 6, and an intermediate layer 7 from the anode 3 side to the cathode 12 side. A second light emitting layer (blue light emitting layer) 8, a third light emitting layer (green light emitting layer) 9, an electron transport layer 10, and an electron injection layer 11 are laminated in this order.

言い換えすれば、各発光素子1、1、1は、陽極3と正孔注入層4と正孔輸送層5と第1の発光層6と中間層7と第2の発光層8と第3の発光層9と電子輸送層10と電子注入層11と陰極12とがこの順に積層されてなるものである。
また、本実施形態では、陽極3と平坦化層22との間に、反射膜32および腐食防止膜33が設けられ、また、陰極12の積層体15と反対側には、陰極カバー(封止層)34が設けられている。
In other words, each light emitting element 1 R , 1 G , 1 B includes the anode 3, the hole injection layer 4, the hole transport layer 5, the first light emitting layer 6, the intermediate layer 7, and the second light emitting layer 8. The third light emitting layer 9, the electron transport layer 10, the electron injection layer 11, and the cathode 12 are laminated in this order.
In this embodiment, a reflective film 32 and a corrosion prevention film 33 are provided between the anode 3 and the planarizing layer 22, and a cathode cover (sealing) is provided on the opposite side of the cathode 12 from the laminate 15. Layer) 34 is provided.

このような各発光素子1、1、1にあっては、第1の発光層6、第2の発光層8、および第3の発光層9の各発光層に対し、陰極12側から電子が供給(注入)されるとともに、陽極3側から正孔が供給(注入)される。そして、各発光層では、正孔と電子とが再結合し、この再結合に際して放出されたエネルギーによりエキシトン(励起子)が生成し、エキシトンが基底状態に戻る際にエネルギー(蛍光やりん光)を放出(発光)する。 In each of the light emitting elements 1 R , 1 G , and 1 B , the cathode 12 side with respect to the light emitting layers of the first light emitting layer 6, the second light emitting layer 8, and the third light emitting layer 9. Electrons are supplied (injected) from, and holes are supplied (injected) from the anode 3 side. In each light emitting layer, holes and electrons recombine, and excitons (excitons) are generated by the energy released during the recombination, and energy (fluorescence or phosphorescence) is generated when the excitons return to the ground state. Is emitted (emitted).

このような各発光素子1、1、1では、第1の発光層6、第2の発光層8、および第3の発光層9が互いに発光スペクトルの異なる複数層の発光層で構成され、当該複数層の発光層全体として白色発光するように構成されている。そのため、発光素子1、1、1が互いに同じ構成の発光層を有しながらも、発光素子1、1、1でそれぞれ所望の色を分離して用いることができる。すなわち、1つの発光素子から様々な色を分離して用いることができる。 In each of such light emitting elements 1 R , 1 G , 1 B , the first light emitting layer 6, the second light emitting layer 8, and the third light emitting layer 9 are composed of a plurality of light emitting layers having different emission spectra. In addition, the entire light emitting layer of the plurality of layers is configured to emit white light. Therefore, while the light emitting elements 1 R , 1 G , and 1 B have light emitting layers having the same configuration, desired colors can be separated and used by the light emitting elements 1 R , 1 G , and 1 B , respectively. That is, various colors can be separated from one light emitting element.

特に、R、G、Bを組み合わせて当該複数層の発光層全体で白色発光させるため、比較的簡単かつ確実に、当該複数層の発光層全体で白色発光することができる。
以下、発光素子1を構成する各部を順次説明する。なお、以下では、発光素子1について代表的に説明する。発光素子1、1については、発光素子1と相違する事項を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
In particular, since R, G, and B are combined to emit white light in the entire light emitting layer, white light can be emitted in the entire light emitting layer in a relatively simple and reliable manner.
Hereinafter, it will be described in order components constituting the light-emitting element 1 R. Hereinafter, the light emitting element 1 R will be described as a representative. The light-emitting elements 1 G and 1 B will be described with a focus on matters different from the light-emitting element 1 R, and the description of the same matters will be omitted.

(陽極)
陽極3は、後述する正孔注入層4を介して正孔輸送層5に正孔を注入する電極である。この陽極3の構成材料としては、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料を用いるのが好ましい。
陽極3の構成材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、In、SnO、Sb含有SnO、Al含有ZnO等の酸化物、Au、Pt、Ag、Cuまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、陽極3は、後述する陰極12のAg合金層121と反射膜32との間の距離が発光素子1から出射する光の波長(赤色の波長)に応じたものとなるように厚さが調整されているのが好ましい。
(anode)
The anode 3 is an electrode that injects holes into the hole transport layer 5 through a hole injection layer 4 described later. As a constituent material of the anode 3, it is preferable to use a material having a large work function and excellent conductivity.
Examples of the constituent material of the anode 3 include oxides such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), In 3 O 3 , SnO 2 , Sb-containing SnO 2 , and Al-containing ZnO, Au, Pt, and Ag. Cu, alloys containing these, and the like can be used, and one or more of these can be used in combination.
The anode 3 has a thickness such that a distance between an Ag alloy layer 121 of the cathode 12 described later and the reflection film 32 corresponds to the wavelength of light emitted from the light emitting element 1 R (red wavelength). Is preferably adjusted.

なお、発光素子1の陽極3ついては、Ag合金層121と反射膜32との間の距離が発光素子1から出射する光の波長(緑色の波長)に応じたものとなるように厚さが調整されているのが好ましく、また、発光素子1の陽極3ついては、Ag合金層121と反射膜32との間の距離が発光素子1から出射する光の波長(青色の波長)に応じたものとなるように厚さが調整されているのが好ましい。これにより、発光素子1、1、1の各出射光の所望の色度の輝度を高めることができる。この場合、発光素子1、1、1の陽極3の厚さが出射光の波長に応じて互いに異なるものとなる。
このような陽極3の平均厚さは、特に限定されないが、10〜200nm程度であるのが好ましく、50〜150nm程度であるのがより好ましい。
本実施形態では、陽極3は、光透過性を有する。これにより、各発光層からの光を反射膜32が反射することができる。
Incidentally, the anode 3 For the light emitting element 1 G, the distance is as the so that the thickness becomes that depends on the wavelength of the light emitted from the light emitting element 1 G (green wavelength) between the Ag alloy layer 121 and the reflective film 32 There is preferable to be adjusted, also, the anode 3 for the light emitting element 1 B, the wavelength distance of the light emitted from the light emitting element 1 B between the Ag alloy layer 121 and the reflective film 32 (wavelength of blue) It is preferable that the thickness is adjusted so as to comply. This can increase the brightness of the desired chromaticity of the light emitting element 1 R, 1 G, 1 each emitted light B. In this case, the thicknesses of the anodes 3 of the light emitting elements 1 R , 1 G and 1 B are different from each other according to the wavelength of the emitted light.
The average thickness of the anode 3 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 200 nm, and more preferably about 50 to 150 nm.
In the present embodiment, the anode 3 has optical transparency. Thereby, the reflective film 32 can reflect the light from each light emitting layer.

(正孔注入層)
正孔注入層4は、陽極3からの正孔注入効率を向上させる機能(すなわち正孔注入性)を有するものである。
この正孔注入層4の構成材料(正孔注入材料)としては、正孔注入層4が前述したような正孔注入性を発揮するものであれば、特に限定されないが、例えば、銅フタロシアニンや、下記化1で表わされるN,N’−ビス−(4−ジフェニルアミノ−フェニル)−N,N’−ジフェニル−ビフェニル−4,4’−ジアミン、下記化2で表わされる4,4’,4’’−トリス(N,N−フェニル−3−メチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)、下記化3で表わされるN,N’−ジ(ナフチレン−1−イル)−N,N’−ビジフェニル−ベンジジン(NPD)等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Hole injection layer)
The hole injection layer 4 has a function of improving the hole injection efficiency from the anode 3 (that is, hole injection property).
The constituent material (hole injection material) of the hole injection layer 4 is not particularly limited as long as the hole injection layer 4 exhibits hole injection properties as described above. For example, copper phthalocyanine or N, N′-bis- (4-diphenylamino-phenyl) -N, N′-diphenyl-biphenyl-4,4′-diamine represented by the following chemical formula 1, 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-phenyl-3-methylphenylamino) triphenylamine (m-MTDATA), N, N′-di (naphthylene-1-yl) -N, N represented by the following chemical formula 3 '-Bidiphenyl-benzidine (NPD) and the like can be mentioned, and one or more of these can be used in combination.

Figure 2009301858
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Figure 2009301858
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Figure 2009301858
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このような正孔注入層4の平均厚さは、特に限定されないが、5〜150nm程度であるのが好ましく、10〜100nm程度であるのがより好ましい。
(正孔輸送層)
正孔輸送層5は、陽極3から正孔注入層4を介して注入された正孔を第1の発光層6まで輸送する機能を有するものである。
The average thickness of the hole injection layer 4 is not particularly limited, but is preferably about 5 to 150 nm, and more preferably about 10 to 100 nm.
(Hole transport layer)
The hole transport layer 5 has a function of transporting holes injected from the anode 3 through the hole injection layer 4 to the first light emitting layer 6.

この正孔輸送層5の構成材料には、各種p型の高分子材料や、各種p型の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができ、例えば、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン(NPD)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)等のテトラアリールベンジジン誘導体、テトラアリールジアミノフルオレン化合物またはその誘導体(アミン系化合物)などが挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
このような正孔輸送層5の平均厚さは、特に限定されないが、10〜150nm程度であるのが好ましく、10〜100nm程度であるのがより好ましい。
As the constituent material of the hole transport layer 5, various p-type polymer materials and various p-type low-molecular materials can be used alone or in combination. For example, N, N′-di (1-naphthyl) ) -N, N′-diphenyl-1,1′-diphenyl-4,4′-diamine (NPD), N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1 ′ -A tetraarylbenzidine derivative such as -diphenyl-4,4'-diamine (TPD), a tetraaryldiaminofluorene compound or a derivative thereof (amine-based compound), etc. may be mentioned, and one or more of these may be combined Can be used.
The average thickness of the hole transport layer 5 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 150 nm, and more preferably about 10 to 100 nm.

(第1の発光層)
この第1の発光層6は、第1の色に発光する第1の発光材料と、この第1の発光材料をゲスト材料とする第1のホスト材料とを含んで構成されている。このような第1の発光層6は、例えば、ゲスト材料である第1の発光材料をドーパントとして第1のホスト材料にドープすることにより形成することができる。なお、第1のホスト材料は省略することができる。
第1の発光材料は、赤色に発光する赤色発光材料である。
このような赤色発光材料としては、特に限定されず、各種赤色蛍光材料、赤色燐光材料を1種または2種以上組み合わせて用いることが、赤色蛍光材料を好適に用いることができる。
(First light emitting layer)
The first light-emitting layer 6 includes a first light-emitting material that emits light in a first color and a first host material that uses the first light-emitting material as a guest material. Such a first light-emitting layer 6 can be formed, for example, by doping the first host material as a dopant with the first light-emitting material that is a guest material. Note that the first host material can be omitted.
The first light emitting material is a red light emitting material that emits red light.
Such a red light emitting material is not particularly limited, and a red fluorescent material can be suitably used by using various red fluorescent materials and red phosphorescent materials in combination of one or more kinds.

赤色蛍光材料としては、赤色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、ペリレン誘導体、ユーロピウム錯体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ポルフィリン誘導体、ナイルレッド、2−(1,1−ジメチルエチル)−6−(2−(2,3,6,7−テトラヒドロ−1,1,7,7−テトラメチル−1H,5H−ベンゾ(ij)キノリジン−9−イル)エテニル)−4H−ピラン−4H−イリデン)プロパンジニトリル(DCJTB)、4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)等を挙げられる。   The red fluorescent material is not particularly limited as long as it emits red fluorescence. For example, perylene derivatives, europium complexes, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzothioxanthene derivatives, porphyrin derivatives, Nile red, 2- (1, 1-dimethylethyl) -6- (2- (2,3,6,7-tetrahydro-1,1,7,7-tetramethyl-1H, 5H-benzo (ij) quinolidin-9-yl) ethenyl)- 4H-pyran-4H-ylidene) propanedinitrile (DCJTB), 4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran (DCM) and the like.

赤色燐光材料としては、赤色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられ、これら金属錯体の配位子の内の少なくとも1つがフェニルピリジン骨格、ビピリジル骨格、ポルフィリン骨格等を持つものも挙げられる。より具体的には、トリス(1−フェニルイソキノリン)イリジウム、ビス[2−(2’−ベンゾ[4,5−α]チエニル)ピリジネート−N,C’]イリジウム(アセチルアセトネート)(btp2Ir(acac))、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−12H,23H−ポルフィリン−白金(II)、ビス[2−(2’−ベンゾ[4,5−α]チエニル)ピリジネート−N,C’]イリジウム、ビス(2−フェニルピリジン)イリジウム(アセチルアセトネート)が挙げられる。 The red phosphorescent material is not particularly limited as long as it emits red phosphorescence, and examples thereof include metal complexes such as iridium, ruthenium, platinum, osmium, rhenium, and palladium. Among the ligands of these metal complexes, And those having at least one of phenylpyridine skeleton, bipyridyl skeleton, porphyrin skeleton and the like. More specifically, tris (1-phenylisoquinoline) iridium, bis [2- (2′-benzo [4,5-α] thienyl) pyridinate-N, C 3 ′] iridium (acetylacetonate) (btp2Ir ( acac)), 2,3,7,8,12,13,17,18-octaethyl-12H, 23H-porphyrin-platinum (II), bis [2- (2′-benzo [4,5-α] thienyl ) Pyridinate-N, C 3 '] iridium, bis (2-phenylpyridine) iridium (acetylacetonate).

上述した中でも、赤色発光材料は、ペリレン誘導体を含むことが好ましい。ペリレン誘導体は、特に発光効率の高い発光材料である。また、ペリレン誘導体は、電子を捕獲する機能が特に優れたものである。このため、陰極12側から注入された電子を第1の発光層6で確実に捕獲し、正孔輸送層5に電子が注入されるのを防止することができる。その結果、正孔注入層4や正孔輸送層5の構成材料が電子により還元されて劣化するのを防止することができる。
特に、赤色発光材料に用いるペリレン誘導体としては、例えば下記化4で表わされる化合物等のテトラフェニルジインデノペリレン誘導体を用いるのが好ましい。
Among the above-mentioned, the red light emitting material preferably contains a perylene derivative. A perylene derivative is a light-emitting material with particularly high luminous efficiency. The perylene derivative has a particularly excellent function of capturing electrons. For this reason, the electrons injected from the cathode 12 side can be reliably captured by the first light-emitting layer 6 and can be prevented from being injected into the hole transport layer 5. As a result, it is possible to prevent the constituent materials of the hole injection layer 4 and the hole transport layer 5 from being reduced and deteriorated by electrons.
In particular, as the perylene derivative used for the red light emitting material, for example, a tetraphenyldiindenoperylene derivative such as a compound represented by the following chemical formula 4 is preferably used.

Figure 2009301858
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このような赤色発光材料をゲスト材料とする第1のホスト材料は、正孔と電子とを再結合して励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを赤色発光材料に移動(フェルスター移動またはデクスター移動)させて、赤色発光材料を励起する機能を有する。
このような第1のホスト材料としては、用いる赤色発光材料に対して前述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されないが、赤色発光材料が赤色蛍光材料を含む場合、例えば、ジスチリルアリーレン誘導体、下記化5で表わされる化合物等のテトラセン誘導体(ナフタセン誘導体)、下記化6で表わされる化合物等のアントラセン誘導体、ペリレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアミン誘導体、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq)等のキノリノラト系金属錯体、トリフェニルアミンの4量体等のトリアリールアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、シロール誘導体、ジカルバゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ベンゾピラン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、キノリン誘導体、4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)等が挙げられ、これらのうち1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。
The first host material having such a red light emitting material as a guest material recombines holes and electrons to generate excitons, and transfers the exciton energy to the red light emitting material (Förster transfer). Or a Dexter movement) to excite the red light emitting material.
Such a first host material is not particularly limited as long as it exhibits the above-described function with respect to the red light emitting material to be used. When the red light emitting material includes a red fluorescent material, for example, Styrylarylene derivatives, tetracene derivatives (naphthacene derivatives) such as compounds represented by the following chemical formula 5, anthracene derivatives such as compounds represented by the chemical formula 6 below, perylene derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylamine derivatives, tris (8-quinolinolato) ) Quinolinolato metal complexes such as aluminum complexes (Alq 3 ), triarylamine derivatives such as tetramers of triphenylamine, oxadiazole derivatives, silole derivatives, dicarbazole derivatives, oligothiophene derivatives, benzopyran derivatives, triazole derivatives, Benzoxazole Examples include conductors, benzothiazole derivatives, quinoline derivatives, 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi), and one of these may be used alone or in combination of two or more. You can also.

Figure 2009301858
Figure 2009301858

Figure 2009301858
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中でも、第1の発光材料は、前述したようなテトラセン誘導体またはペリレン誘導体を含むものであるのが好ましい。これにより、第1の発光層6から中間層7を介して第2の発光層8への正孔をより円滑に受け渡すことができる。
また、赤色発光材料が赤色燐光材料を含む場合、第1のホスト材料としては、例えば、3−フェニル−4−(1’−ナフチル)−5−フェニルカルバゾール、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル(CBP)等のカルバゾール誘導体等が挙げられ、これらのうち1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。
Among these, the first light emitting material preferably includes a tetracene derivative or a perylene derivative as described above. Thereby, holes from the first light emitting layer 6 to the second light emitting layer 8 can be transferred more smoothly through the intermediate layer 7.
Further, when the red light emitting material includes a red phosphorescent material, examples of the first host material include 3-phenyl-4- (1′-naphthyl) -5-phenylcarbazole, 4,4′-N, N ′. -Carbazole derivatives, such as dicarbazole biphenyl (CBP), etc. are mentioned, Among these, it can also be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

前述したような赤色発光材料(ゲスト材料)および第1のホスト材料を用いる場合、第1の発光層6中における赤色発光材料の含有量(ドープ量)は、0.1〜10wt%であるのが好ましく、1〜5wt%であるのがより好ましい。赤色発光材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができ、後述する第2の発光層8や第3の発光層9の発光量とのバランスをとりつつ第1の発光層6を発光させることができる。   When the red light emitting material (guest material) and the first host material as described above are used, the content (dope amount) of the red light emitting material in the first light emitting layer 6 is 0.1 to 10 wt%. Is preferable, and it is more preferable that it is 1-5 wt%. By setting the content of the red light emitting material in such a range, the light emission efficiency can be optimized, and the amount of light emitted from the second light emitting layer 8 and the third light emitting layer 9 described later is balanced. In addition, the first light emitting layer 6 can emit light.

また、前述したような赤色の発光材料はバンドギャップが比較的小さいため、発光しやすい。したがって、最も陽極3側に赤色発光層を設けることで、バンドギャップが比較的大きく発光し難い青色発光層や緑色発光層を陰極12側とし、各発光層をバランスよく発光させることができる。
また、第1の発光層6の平均厚さは、特に限定されないが、1〜100nmであるのが好ましく、3〜50nmであるのがより好ましく、5〜30nmであるのがさらに好ましい。
Further, since the red light emitting material as described above has a relatively small band gap, it easily emits light. Therefore, by providing the red light emitting layer closest to the anode 3, the blue light emitting layer and the green light emitting layer, which have a relatively large band gap and are difficult to emit light, can be set to the cathode 12 side, and each light emitting layer can emit light in a balanced manner.
Moreover, the average thickness of the 1st light emitting layer 6 is although it does not specifically limit, It is preferable that it is 1-100 nm, It is more preferable that it is 3-50 nm, It is further more preferable that it is 5-30 nm.

(中間層)
この中間層7は、前述した第1の発光層6と後述する第2の発光層8との層間にこれらに接するように設けられている。そして、中間層7は、第1の発光層6と第2の発光層8との間で励起子のエネルギーが移動するのを阻止する機能を有する。この機能により、第1の発光層6および第2の発光層8をそれぞれ効率よく発光させることができる。
(Middle layer)
The intermediate layer 7 is provided between and in contact with the first light-emitting layer 6 and the second light-emitting layer 8 described later. The intermediate layer 7 has a function of preventing exciton energy from moving between the first light emitting layer 6 and the second light emitting layer 8. With this function, the first light emitting layer 6 and the second light emitting layer 8 can each emit light efficiently.

このような中間層7の構成材料としては、中間層7が前述したような機能を発揮することができるものであれば、特に限定されないが、アミン系材料等を用いることができる。
このような中間層7に用いられるアミン系材料としては、アミン骨格を有し、かつ、中間層7が前述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されず、例えば、前述した正孔輸送材料のうちのアミン骨格を有する材料を用いることができるが、ベンジジン系アミン誘導体を用いるのが好ましい。
The constituent material of the intermediate layer 7 is not particularly limited as long as the intermediate layer 7 can exhibit the functions as described above, and an amine material or the like can be used.
The amine-based material used for the intermediate layer 7 is not particularly limited as long as it has an amine skeleton and the intermediate layer 7 exhibits the function described above. Among the hole transport materials, materials having an amine skeleton can be used, but benzidine-based amine derivatives are preferably used.

特に、ベンジジン系アミン誘導体のなかでも、中間層7に用いられるアミン系材料としては、2つ以上のナフチル基を導入したものが好ましい。このようなベンジジン系アミン誘導体としては、例えば、N,N’−ビス(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル〔1,1’−ビフェニル〕−4,4’−ジアミン(α−NPD)や、N,N,N’,N’−テトラナフチル−ベンジジン(TNB)などが挙げられる。   In particular, among the benzidine-based amine derivatives, the amine-based material used for the intermediate layer 7 is preferably one in which two or more naphthyl groups are introduced. Examples of such benzidine-based amine derivatives include N, N′-bis (1-naphthyl) -N, N′-diphenyl [1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (α-NPD). And N, N, N ′, N′-tetranaphthyl-benzidine (TNB) and the like.

このようなアミン系材料は、一般に、正孔輸送性に優れており、アミン系材料の正孔移動度は、後述するアセン系材料の正孔移動度よりも高い。したがって、第1の発光層6から中間層7を介して第2の発光層8へ正孔を円滑に受け渡すことができる。
このような中間層7中におけるアミン系材料の含有量は、特に限定されないが、10〜90wt%であるのが好ましく、30〜70wt%であるのがより好ましく、40〜60wt%であるのがさらに好ましい。
Such amine-based materials are generally excellent in hole transport properties, and the hole mobility of amine-based materials is higher than the hole mobility of acene-based materials described later. Therefore, holes can be smoothly transferred from the first light emitting layer 6 to the second light emitting layer 8 through the intermediate layer 7.
The content of the amine-based material in the intermediate layer 7 is not particularly limited, but is preferably 10 to 90 wt%, more preferably 30 to 70 wt%, and 40 to 60 wt%. Further preferred.

(第2の発光層)
この第2の発光層8は、第2の色に発光する第2の発光材料と、この第2の発光材料をゲスト材料とする第2のホスト材料とを含んで構成されている。このような第2の発光層8は、前述した第1の発光層6と同様、例えば、ゲスト材料である第2の発光材料をドーパントとして第2のホスト材料にドープすることにより形成することができる。なお、第2のホスト材料は省略することができる。
第2の発光材料は、青色に発光する青色発光材料である。
このような青色発光材料としては、特に限定されず、各種青色蛍光材料、青色燐光材料を1種または2種以上組み合わせて用いることが、青色蛍光材料を好適に用いることができる。
(Second light emitting layer)
The second light-emitting layer 8 includes a second light-emitting material that emits light in the second color and a second host material that uses the second light-emitting material as a guest material. Similar to the first light emitting layer 6 described above, the second light emitting layer 8 can be formed, for example, by doping the second host material as a dopant with the second light emitting material as a guest material. it can. Note that the second host material can be omitted.
The second light emitting material is a blue light emitting material that emits blue light.
Such a blue light-emitting material is not particularly limited, and a blue fluorescent material can be suitably used by using various blue fluorescent materials and blue phosphorescent materials in combination of one or more.

青色蛍光材料としては、青色の蛍光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、下記化7で表わされる化合物等のジスチリルジアミン誘導体、ジスチリル誘導体、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、ペリレンおよびペリレン誘導体、アントラセン誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、テトラフェニルブタジエン、4,4’−ビス(9−エチル−3−カルバゾビニレン)−1,1’−ビフェニル(BCzVBi)、ポリ[(9.9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−コ−(2,5−ジメトキシベンゼン−1,4−ジイル)]、ポリ[(9,9−ジヘキシルオキシフルオレン−2,7−ジイル)−オルト−コ−(2−メトキシ−5−{2−エトキシヘキシルオキシ}フェニレン−1,4−ジイル)]、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−コ−(エチルニルベンゼン)]等が挙げられ、これらのうち1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。   The blue fluorescent material is not particularly limited as long as it emits blue fluorescence. For example, a distyryldiamine derivative, a distyryl derivative, a fluoranthene derivative, a pyrene derivative, a perylene, and a perylene derivative such as a compound represented by the following chemical formula 7 , Anthracene derivative, benzoxazole derivative, benzothiazole derivative, benzimidazole derivative, chrysene derivative, phenanthrene derivative, distyrylbenzene derivative, tetraphenylbutadiene, 4,4′-bis (9-ethyl-3-carbazovinylene) -1,1 '-Biphenyl (BCzVBi), poly [(9.9-dioctylfluorene-2,7-diyl) -co- (2,5-dimethoxybenzene-1,4-diyl)], poly [(9,9-dihexyl) Oxyfluorene-2,7-diyl)- L-co- (2-methoxy-5- {2-ethoxyhexyloxy} phenylene-1,4-diyl)], poly [(9,9-dioctylfluorene-2,7-diyl) -co- (ethylnyl) Benzene)] and the like, and one of these may be used alone or in combination of two or more.

Figure 2009301858
Figure 2009301858

特に、前述したような化7で表わされる化合物のようなジスチリルジアミン誘導体は、正孔を捕獲する機能に優れるものであるため、第2の発光層8がジスチリルジアミン誘導体を含むことにより、第2の発光層8を効率よく発光させることができる。
青色燐光材料としては、青色の燐光を発するものであれば、特に限定されず、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられる。より具体的には、ビス[4,6−ジフルオロフェニルピリジネート−N,C’]−ピコリネート−イリジウム、トリス[2−(2,4−ジフルオロフェニル)ピリジネート−N,C’]イリジウム、ビス[2−(3,5−トリフルオロメチル)ピリジネート−N,C’]−ピコリネート−イリジウム、ビス(4,6−ジフルオロフェニルピリジネート−N,C’)イリジウム(アセチルアセトネート)が挙げられる。
In particular, since the distyryldiamine derivative such as the compound represented by Chemical Formula 7 as described above is excellent in the function of capturing holes, the second light emitting layer 8 contains a distyryldiamine derivative. The second light emitting layer 8 can emit light efficiently.
The blue phosphorescent material is not particularly limited as long as it emits blue phosphorescence, and examples thereof include metal complexes such as iridium, ruthenium, platinum, osmium, rhenium, and palladium. More specifically, bis [4,6-difluorophenyl pyridinium sulfonate -N, C 2 '] - picolinate - iridium, tris [2- (2,4-difluorophenyl) pyridinate -N, C 2'] iridium , bis [2- (3,5-trifluoromethyl) pyridinate -N, C 2 '] - picolinate - iridium, bis (4,6-difluorophenyl pyridinium sulfonate -N, C 2') iridium (acetylacetonate ).

第2のホスト材料としては、前述した第1の発光層6の第1のホスト材料と同様のものを用いることができる。
前述したような青色発光材料(ゲスト材料)および第2のホスト材料を用いる場合、第2の発光層8中における青色発光材料の含有量(ドープ量)は、0.1〜20wt%であるのが好ましく、5〜20wt%であるのがより好ましい。青色発光材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができ、前述した第1の発光層6や後述する第3の発光層9の発光量とのバランスをとりつつ第2の発光層8を発光させることができる。
また、第2の発光層8の平均厚さは、特に限定されないが、1〜100nmであるのが好ましく、5〜60nmであるのがより好ましく、10〜40nmであるのがさらに好ましい。
As the second host material, the same material as the first host material of the first light emitting layer 6 described above can be used.
When the blue light emitting material (guest material) and the second host material as described above are used, the content (dope amount) of the blue light emitting material in the second light emitting layer 8 is 0.1 to 20 wt%. Is preferable, and it is more preferable that it is 5-20 wt%. By setting the content of the blue light emitting material in such a range, the light emission efficiency can be optimized, and the balance with the light emission amount of the first light emitting layer 6 described above and the third light emitting layer 9 described later. The second light emitting layer 8 can emit light while taking
The average thickness of the second light emitting layer 8 is not particularly limited, but is preferably 1 to 100 nm, more preferably 5 to 60 nm, and further preferably 10 to 40 nm.

(第3の発光層)
この第3の発光層9は、第3の色に発光する第3の発光材料と、この第3の発光材料をゲスト材料とする第3のホスト材料とを含んで構成されている。このような第3の発光層9は、前述した第1の発光層6と同様、例えば、ゲスト材料である第3の発光材料をドーパントとして第3のホスト材料にドープすることにより形成することができる。なお、第3のホスト材料は省略することができる。
(Third light emitting layer)
The third light-emitting layer 9 includes a third light-emitting material that emits light in the third color and a third host material that uses the third light-emitting material as a guest material. Similar to the first light emitting layer 6 described above, the third light emitting layer 9 can be formed, for example, by doping a third host material as a dopant with a third light emitting material as a guest material. it can. Note that the third host material can be omitted.

第3の発光材料は、緑色に発光する緑色発光材料である。
このような緑色発光材料としては、特に限定されず、各種緑色蛍光材料、緑色燐光材料を1種または2種以上組み合わせて用いることが、緑色蛍光材料を好適に用いることができる。
緑色蛍光材料としては、緑色の蛍光を発するものであれば特に限定されず、例えば、クマリン誘導体、下記化8で表わされる化合物等のキナクリドン誘導体、9,10−ビス[(9−エチル−3−カルバゾール)−ビニレニル]−アントラセン、ポリ(9,9−ジヘキシル−2,7−ビニレンフルオレニレン)、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−コ−(1,4−ジフェニレン−ビニレン−2−メトキシ−5−{2−エチルヘキシルオキシ}ベンゼン)]、ポリ[(9,9−ジオクチル−2,7−ジビニレンフルオレニレン)−オルト−コ−(2−メトキシ−5−(2−エトキシルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレン)]等が挙げられ、これらのうち1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。
The third light emitting material is a green light emitting material that emits green light.
Such a green light emitting material is not particularly limited, and a green fluorescent material can be suitably used by using various green fluorescent materials and green phosphorescent materials in combination of one or more kinds.
The green fluorescent material is not particularly limited as long as it emits green fluorescence. For example, a coumarin derivative, a quinacridone derivative such as a compound represented by the following chemical formula 8, 9,10-bis [(9-ethyl-3- Carbazole) -vinylenyl] -anthracene, poly (9,9-dihexyl-2,7-vinylenefluorenylene), poly [(9,9-dioctylfluorene-2,7-diyl) -co- (1,4- Diphenylene-vinylene-2-methoxy-5- {2-ethylhexyloxy} benzene)], poly [(9,9-dioctyl-2,7-divinylenefluorenylene) -ortho-co- (2-methoxy-5 -(2-ethoxylhexyloxy) -1,4-phenylene)] and the like, and one of these may be used alone or in combination of two or more. That.

Figure 2009301858
Figure 2009301858

緑色燐光材料としては、緑色の燐光を発するものであれば特に限定されず、例えば、例えば、イリジウム、ルテニウム、白金、オスミウム、レニウム、パラジウム等の金属錯体が挙げられる。中でも、これら金属錯体の配位子の内の少なくとも1つが、フェニルピリジン骨格、ビピリジル骨格、ポルフィリン骨格等を持つものが好ましい。より具体的には、ファク−トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy)3)、ビス(2−フェニルピリジネート−N,C2’)イリジウム(アセチルアセトネート)、ファク−トリス[5−フルオロ−2−(5−トリフルオロメチル−2−ピリジン)フェニル−C,N]イリジウムが挙げられる。   The green phosphorescent material is not particularly limited as long as it emits green phosphorescence, and examples thereof include metal complexes such as iridium, ruthenium, platinum, osmium, rhenium, and palladium. Among these, at least one of the ligands of these metal complexes preferably has a phenylpyridine skeleton, a bipyridyl skeleton, a porphyrin skeleton, or the like. More specifically, fac-tris (2-phenylpyridine) iridium (Ir (ppy) 3), bis (2-phenylpyridinate-N, C2 ′) iridium (acetylacetonate), fac-tris [5 -Fluoro-2- (5-trifluoromethyl-2-pyridine) phenyl-C, N] iridium.

第3のホスト材料としては、前述した第1の発光層6の第1のホスト材料と同様のものを用いることができる。
前述したような緑色発光材料(ゲスト材料)および第3のホスト材料を用いる場合、第3の発光層9中における緑色発光材料の含有量(ドープ量)は、0.1〜20wt%であるのが好ましく、1〜20wt%であるのがより好ましい。緑色発光材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができ、前述した第1の発光層6や第2の発光層8の発光量とのバランスをとりつつ第3の発光層9を発光させることができる。
また、第3の発光層9の平均厚さは、特に限定されないが、1〜100nmであるのが好ましく、5〜60nmであるのがより好ましく、10〜40nmであるのがさらに好ましい。
As the third host material, the same material as the first host material of the first light emitting layer 6 described above can be used.
When the green light emitting material (guest material) and the third host material as described above are used, the content (dope amount) of the green light emitting material in the third light emitting layer 9 is 0.1 to 20 wt%. Is preferable, and it is more preferable that it is 1-20 wt%. By setting the content of the green light emitting material within such a range, it is possible to optimize the light emission efficiency, and to balance the light emission amounts of the first light emitting layer 6 and the second light emitting layer 8 described above. In addition, the third light emitting layer 9 can emit light.
Moreover, the average thickness of the 3rd light emitting layer 9 is although it does not specifically limit, It is preferable that it is 1-100 nm, It is more preferable that it is 5-60 nm, It is further more preferable that it is 10-40 nm.

(電子輸送層)
電子輸送層10は、陰極12から電子注入層11を介して注入された電子を第3の発光層9に輸送する機能を有するものである。
電子輸送層10の構成材料(電子輸送材料)としては、例えば、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq)等の8−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
電子輸送層10の平均厚さは、特に限定されないが、0.5〜100nm程度であるのが好ましく、1〜50nm程度であるのがより好ましい。
なお、電子輸送層10は、省略することができる。
(Electron transport layer)
The electron transport layer 10 has a function of transporting electrons injected from the cathode 12 through the electron injection layer 11 to the third light emitting layer 9.
As a constituent material (electron transport material) of the electron transport layer 10, for example, a quinoline derivative such as an organometallic complex having an 8-quinolinol or its derivative such as tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ) as a ligand. Oxadiazole derivatives, perylene derivatives, pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, quinoxaline derivatives, diphenylquinone derivatives, nitro-substituted fluorene derivatives, and the like, and one or more of these can be used in combination.
Although the average thickness of the electron carrying layer 10 is not specifically limited, It is preferable that it is about 0.5-100 nm, and it is more preferable that it is about 1-50 nm.
The electron transport layer 10 can be omitted.

(電子注入層)
電子注入層11は、陰極12からの電子注入効率を向上させる機能を有するものである。
この電子注入層11の構成材料(電子注入材料)としては、例えば、各種の無機絶縁材料、各種の無機半導体材料が挙げられる。
(Electron injection layer)
The electron injection layer 11 has a function of improving the efficiency of electron injection from the cathode 12.
Examples of the constituent material (electron injection material) of the electron injection layer 11 include various inorganic insulating materials and various inorganic semiconductor materials.

このような無機絶縁材料としては、例えば、アルカリ金属カルコゲナイド(酸化物、硫化物、セレン化物、テルル化物)、アルカリ土類金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物およびアルカリ土類金属のハロゲン化物等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらを主材料として電子注入層を構成することにより、電子注入性をより向上させることができる。特にアルカリ金属化合物(アルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物等)は仕事関数が非常に小さく、これを用いて電子注入層11を構成することにより、発光素子1は、高い輝度が得られるものとなる。 Examples of such inorganic insulating materials include alkali metal chalcogenides (oxides, sulfides, selenides, tellurides), alkaline earth metal chalcogenides, alkali metal halides, and alkaline earth metal halides. Of these, one or two or more of these can be used in combination. By forming the electron injection layer using these as main materials, the electron injection property can be further improved. In particular, an alkali metal compound (alkali metal chalcogenide, alkali metal halide, etc.) has a very small work function, and the light-emitting element 1 R can obtain high luminance by forming the electron injection layer 11 using the work function. It becomes.

アルカリ金属カルコゲナイドとしては、例えば、LiO、LiO、NaS、NaSe、NaO等が挙げられる。
アルカリ土類金属カルコゲナイドとしては、例えば、CaO、BaO、SrO、BeO、BaS、MgO、CaSe等が挙げられる。
アルカリ金属のハロゲン化物としては、例えば、CsF、LiF、NaF、KF、LiCl、KCl、NaCl等が挙げられる。
Examples of the alkali metal chalcogenide include Li 2 O, LiO, Na 2 S, Na 2 Se, and NaO.
Examples of the alkaline earth metal chalcogenide include CaO, BaO, SrO, BeO, BaS, MgO, and CaSe.
Examples of the alkali metal halide include CsF, LiF, NaF, KF, LiCl, KCl, and NaCl.

アルカリ土類金属のハロゲン化物としては、例えば、CaF、BaF、SrF、MgF、BeF等が挙げられる。
また、無機半導体材料としては、例えば、Li、Na、Ba、Ca、Sr、Yb、Al、Ga、In、Cd、Mg、Si、Ta、SbおよびZnのうちの少なくとも1つの元素を含む酸化物、窒化物または酸化窒化物等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
電子注入層11の平均厚さは、特に限定されないが、0.1〜100nm程度であるのが好ましく、0.2〜10nm程度であるのがより好ましく、0.2〜5nm程度であるのがさらに好ましい。
なお、電子注入層11は、省略することができる。
Examples of the alkaline earth metal halide include CaF 2 , BaF 2 , SrF 2 , MgF 2 , and BeF 2 .
In addition, as the inorganic semiconductor material, for example, an oxide including at least one element of Li, Na, Ba, Ca, Sr, Yb, Al, Ga, In, Cd, Mg, Si, Ta, Sb, and Zn , Nitrides, oxynitrides, and the like, and one or more of these can be used in combination.
The average thickness of the electron injection layer 11 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 100 nm, more preferably about 0.2 to 10 nm, and about 0.2 to 5 nm. Further preferred.
The electron injection layer 11 can be omitted.

(陰極)
陰極12は、前述した電子注入層11を介して電子輸送層10に電子を注入する電極である。
また、陰極12は、前述した第1の発光層6、第2の発光層8および第3の発光層9のうちの少なくとも1つの発光層からの光の一部を透過し残部を反射する機能をも有する。これにより、発光素子1が陰極12側から光を出射させることができる。また、陰極12で反射した光を有効利用して発光素子1の発光効率を向上させることができる。
(cathode)
The cathode 12 is an electrode that injects electrons into the electron transport layer 10 via the electron injection layer 11 described above.
The cathode 12 has a function of transmitting a part of light from at least one of the first light-emitting layer 6, the second light-emitting layer 8, and the third light-emitting layer 9 and reflecting the remainder. It also has. Thereby, the light emitting element 1R can emit light from the cathode 12 side. Further, it is possible to improve the luminous efficiency of the light-emitting element 1 R by effectively utilizing the light reflected by the cathode 12.

本実施形態では、陰極12は、Ag合金層121と、注入電極層122とで構成されている。
Ag合金層121は、Agに、Agとは原子半径の異なる添加金属を添加してなる金属材料を主材料として構成されている。
In the present embodiment, the cathode 12 includes an Ag alloy layer 121 and an injection electrode layer 122.
The Ag alloy layer 121 is composed mainly of a metal material obtained by adding an additive metal having an atomic radius different from that of Ag to Ag.

このような金属材料は、薄膜を形成するに際し、添加金属が表面拡散や表面マイグレーションによるAg原子の凝集を防止することができる。そのため、得られる薄膜は、Ag原子が凝集した核による微細な凹凸の発生が防止され、優れた表面性(平坦性)を有する。そのため、このような金属材料を主材料とするAg合金層121は、半透過性を有しつつ優れた反射性を有するものとすることができる。したがって、このようなAg合金層121を備えた陰極12は、半透過性を有しつつ優れた反射性を有するものとすることができる。その結果、発光素子1から出射する光の輝度を高め、発光素子1の電流効率を優れたものとすることができる。 Such a metal material can prevent Ag atoms from aggregating due to surface diffusion and surface migration when the thin film is formed. Therefore, the thin film obtained has excellent surface properties (flatness) by preventing the occurrence of fine irregularities due to nuclei in which Ag atoms are aggregated. Therefore, the Ag alloy layer 121 mainly composed of such a metal material can have excellent reflectivity while having translucency. Therefore, the cathode 12 provided with such an Ag alloy layer 121 can have excellent reflectivity while having translucency. As a result, increase the intensity of the light emitted from the light emitting element 1 R, it is possible to improve the current efficiency of the light emitting element 1 R.

添加金属としては、Agの原子半径(金属結合半径)と異なる原子半径の金属であり、Ag合金を形成しうるものであれば、特に限定されず、各種金属を用いることができるが、Agの原子半径と添加金属の原子半径との差がAgの原子半径の10%以上となる金属を用いるのが好ましい。これにより、薄膜状のAg合金層121(陰極12)を形成するに際し、表面拡散や表面マイグレーションによってAg原子が凝集した核による微細な凹凸の発生をより確実に防止することができる。   The additive metal is not particularly limited as long as it is a metal having an atomic radius different from the atomic radius of Ag (metal bond radius) and can form an Ag alloy, and various metals can be used. It is preferable to use a metal in which the difference between the atomic radius and the atomic radius of the added metal is 10% or more of the atomic radius of Ag. Thereby, when forming the thin Ag alloy layer 121 (cathode 12), it is possible to more surely prevent the occurrence of fine irregularities due to nuclei in which Ag atoms are aggregated by surface diffusion or surface migration.

このような原子半径を有する添加金属の中でも、添加金属としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。具体的には、添加金属は、Mg、Cu、Zn、Al、Ndのうちのいずれか1種、または、これらのうちの2種以上の組み合わせであるのが好ましく、特に、Mg、Cuが好適に用いることができる。
これにより、Ag合金層121の反射率を優れたものとしつつ、Ag合金層121の電子注入性を優れたものとすることができる。また、このようなAg合金層121は各種気相成膜法により容易に形成することができる。
Among the additive metals having such an atomic radius, it is preferable to use a material having a small work function as the additive metal. Specifically, the additive metal is preferably any one of Mg, Cu, Zn, Al, and Nd, or a combination of two or more of these, and Mg and Cu are particularly preferable. Can be used.
Thereby, it is possible to make the electron injection property of the Ag alloy layer 121 excellent while making the reflectance of the Ag alloy layer 121 excellent. Such an Ag alloy layer 121 can be easily formed by various vapor deposition methods.

また、金属材料は、Agの含有量が80〜99.9原子%であり、添加金属の含有量が0.1〜20原子%であるのが好ましく、Agの含有量が90〜99.9原子%であり、添加金属の含有量が0.1〜10原子%であるのがより好ましい。これにより、Ag合金層121の反射率を優れたものとすることができる。これに対し、Agの含有量が前記上限値を超えたり添加金属の含有量が前記下限値未満であったりすると、Ag合金層121の厚さや添加金属の種類等によっては、Ag合金層121に微小な凹凸が生じる場合がある。一方、Agの含有量が前記下限値未満であったり添加金属の含有量が前記上限値を超えたりすると、Ag合金層121の厚さや添加金属の種類等によっては、Ag合金層121の反射率が低下する傾向を示す。   Further, the metal material preferably has an Ag content of 80 to 99.9 atomic%, an additive metal content of 0.1 to 20 atomic%, and an Ag content of 90 to 99.9. It is more preferable that the content of the additive metal is 0.1 to 10 atomic%. Thereby, the reflectance of the Ag alloy layer 121 can be made excellent. On the other hand, if the Ag content exceeds the upper limit value or the additive metal content is less than the lower limit value, depending on the thickness of the Ag alloy layer 121, the type of the additive metal, etc., Minute unevenness may occur. On the other hand, when the Ag content is less than the lower limit or the additive metal content exceeds the upper limit, the reflectivity of the Ag alloy layer 121 depends on the thickness of the Ag alloy layer 121, the type of the added metal, and the like. Shows a tendency to decrease.

また、Ag合金層121は、気相成膜法を用いて形成されたものであるのが好ましい。これにより、優れた表面性(平坦性)を有する薄膜状のAg合金層121(陰極12)を比較的簡単に形成することができる。
特に、Ag合金層121は、Agと添加金属とを共蒸着することにより形成されたものであるのが好ましい。これにより、用いる添加金属の選択の幅を大きなものとしつつ、優れた表面性(平坦性)を有する薄膜状のAg合金層121(陰極12)を比較的簡単に形成することができる。
In addition, the Ag alloy layer 121 is preferably formed using a vapor phase film forming method. Thereby, the thin-film Ag alloy layer 121 (cathode 12) having excellent surface properties (flatness) can be formed relatively easily.
In particular, the Ag alloy layer 121 is preferably formed by co-evaporation of Ag and an additive metal. Thereby, it is possible to relatively easily form the thin-film Ag alloy layer 121 (cathode 12) having excellent surface properties (flatness) while increasing the range of selection of the additive metal to be used.

また、発光層からの光(発光素子1から出射する目的とする波長)に対するAg合金層121の反射率は、20〜80%であるのが好ましく、40〜80であるのがより好ましい。これにより、発光素子1から出射する光の輝度(電流効率)を効果的に高めることができる。
また、Ag合金層121の厚さは、前述したような機能を発揮することができるものであれば特に限定されないが、1〜50nmであるのが好ましく、1〜30nmであるのがより好ましい。これにより、Ag合金層121を半透過性(発光層からの光の一部を透過し残部を反射する機能)を有するものとすることができる。これに対し、かかる厚さが前記下限値未満であると、Ag合金像121の構成材料等によっては、均質なAg合金層121を形成するのが難しくなる。一方、かかる厚さが前記上限値を超えると、Ag合金層121の構成材料等によっては、Ag合金層121を半透過性とするのが困難となる。
The reflectance of the Ag alloy layer 121 for the light from the light-emitting layer (the desired wavelength emitted from the light emitting element 1 R) is preferably from 20 to 80%, and more preferably from 40 to 80. This can increase the brightness of the light emitted from the light emitting element 1 R (current efficiency) effectively.
In addition, the thickness of the Ag alloy layer 121 is not particularly limited as long as it can exhibit the function as described above, but is preferably 1 to 50 nm, and more preferably 1 to 30 nm. Thereby, the Ag alloy layer 121 can be made semi-transmissive (function of transmitting a part of light from the light emitting layer and reflecting the remaining part). On the other hand, when the thickness is less than the lower limit, it is difficult to form a homogeneous Ag alloy layer 121 depending on the constituent material of the Ag alloy image 121 and the like. On the other hand, when the thickness exceeds the upper limit, depending on the constituent material of the Ag alloy layer 121, it is difficult to make the Ag alloy layer 121 semi-permeable.

注入電極層122は、Ag合金層121に接合され、前述したAg合金層121の金属材料よりも仕事関数の小さい材料で構成されている。このような注入電極層122を陰極12が備えていることにより、陰極12の電子注入性を向上させることができる。その結果、発光素子1の発光効率を向上させることができる。
また、注入電極層122は、Ag合金層121に対し発光層側(基板21とは反対側)に設けられている。これにより、注入電極層122が電子注入層11に接触することとなるので、注入電極層122の電子注入性を効果的に発揮させることができる。その結果、注入電極層122の電子注入性およびAg合金層121の反射特性をそれぞれ効果的に発揮させることができる。ここで、注入電極層122は、光透過性を有している。
The injection electrode layer 122 is bonded to the Ag alloy layer 121 and is made of a material having a work function smaller than that of the metal material of the Ag alloy layer 121 described above. By providing the injection electrode layer 122 with the cathode 12, the electron injection property of the cathode 12 can be improved. As a result, the light emission efficiency of the light emitting element 1R can be improved.
Further, the injection electrode layer 122 is provided on the light emitting layer side (the side opposite to the substrate 21) with respect to the Ag alloy layer 121. Thereby, since the injection electrode layer 122 comes into contact with the electron injection layer 11, the electron injection property of the injection electrode layer 122 can be effectively exhibited. As a result, the electron injection property of the injection electrode layer 122 and the reflection property of the Ag alloy layer 121 can be effectively exhibited. Here, the injection electrode layer 122 has optical transparency.

このような注入電極層122の構成材料としては、例えば、Li、Mg、Ca、Sr、La、Ce、Er、Eu、Sc、Y、Yb、Ag、Cu、Al、Cs、Rbまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば、複数層の積層体等)用いることができる。
特に、注入電極層122の構成材料として合金を用いる場合には、Mg、Al、Ca、Sr、Ba等の安定な金属元素を含む合金、具体的には、MgAg、MgAl等の合金を用いるのが好ましい。かかる合金を注入電極層122の構成材料として用いることにより、注入電極層122(ひいては陰極12)の電子注入効率および安定性を優れたものとすることができる。
Examples of the constituent material of the injection electrode layer 122 include Li, Mg, Ca, Sr, La, Ce, Er, Eu, Sc, Y, Yb, Ag, Cu, Al, Cs, Rb, and the like. An alloy etc. are mentioned, It can be used combining 1 type, or 2 or more types of these (for example, a laminated body of a plurality of layers, etc.).
In particular, when an alloy is used as the constituent material of the injection electrode layer 122, an alloy containing a stable metal element such as Mg, Al, Ca, Sr, or Ba, specifically, an alloy such as MgAg or MgAl is used. Is preferred. By using such an alloy as a constituent material of the injection electrode layer 122, the electron injection efficiency and stability of the injection electrode layer 122 (and thus the cathode 12) can be made excellent.

このような注入電極層122の平均厚さは、特に限定されないが、1〜100nm程度であるのが好ましく、1〜50nm程度であるのがより好ましい。
なお、注入電極層122は、Ag合金層121と反射膜32との間の距離Lが発光素子1から出射する光の波長(赤色の波長)に応じたものとなるように厚さが調整されていてもよい。すなわち、発光素子1、1、1の注入電極層122の厚さが出射光の波長に応じて互いに異なるものとなっていてもよい。
また、注入電極層122は、Ag合金層121が十分な電子注入性を有する場合等には、省略することができる。
The average thickness of the injection electrode layer 122 is not particularly limited, but is preferably about 1 to 100 nm, and more preferably about 1 to 50 nm.
The thickness of the injection electrode layer 122 is adjusted so that the distance L between the Ag alloy layer 121 and the reflective film 32 corresponds to the wavelength of light emitted from the light emitting element 1 R (red wavelength). May be. That is, the thicknesses of the injection electrode layers 122 of the light emitting elements 1 R , 1 G , and 1 B may be different from each other according to the wavelength of the emitted light.
The injection electrode layer 122 can be omitted when the Ag alloy layer 121 has a sufficient electron injection property.

(反射膜)
反射膜(反射層)32は、前述した第1の発光層6、第2の発光層8および第3の発光層9に対して陰極12と反対側に設けられている。すなわち、反射膜32と陰極12との間に、第1の発光層6、第2の発光層8および第3の発光層9が設けられている。
このような反射膜32は、第1の発光層6、第2の発光層8および第3の発光層9のうちの少なくとも1つの発光層からの光を反射する機能を有する。これにより、少なくとも1層の発光層からの光および陰極12からの反射光を反射膜32で反射して、発光素子1の輝度を高めることができる。その結果、発光素子1の発光効率を向上させることができる。
(Reflective film)
The reflective film (reflective layer) 32 is provided on the side opposite to the cathode 12 with respect to the first light emitting layer 6, the second light emitting layer 8, and the third light emitting layer 9 described above. That is, the first light emitting layer 6, the second light emitting layer 8, and the third light emitting layer 9 are provided between the reflective film 32 and the cathode 12.
Such a reflective film 32 has a function of reflecting light from at least one of the first light emitting layer 6, the second light emitting layer 8, and the third light emitting layer 9. This allows the reflected light from the optical and the cathode 12 from at least one layer of the light-emitting layer is reflected by the reflecting film 32, increasing the luminance of the light emitting element 1 R. As a result, the light emission efficiency of the light emitting element 1R can be improved.

また、反射膜32は、前述したAg合金層121との間で少なくとも1層の発光層からの光を共振させるように構成されているのが好ましい。これにより、発光素子1から出射される光の強度および色純度を高めることができる。この場合、反射膜32は、陰極12(Ag合金層121)との距離Lを所望値に設定することにより、陰極12との間で光を共振させることができる。より具体的には、輝度を高めたい色度の波長をλとしたとき、反射膜32やAg合金層121での光反射時の位相変化等を考慮しつつ、距離Lをnλ/2程度とする(ここで、nは自然数である)。 The reflective film 32 is preferably configured to resonate light from at least one light emitting layer with the Ag alloy layer 121 described above. This makes it possible to increase the strength and color purity of light emitted from the light-emitting element 1 R. In this case, the reflective film 32 can resonate light with the cathode 12 by setting the distance L to the cathode 12 (Ag alloy layer 121) to a desired value. More specifically, when the wavelength of the chromaticity whose luminance is desired to be increased is λ, the distance L is set to about nλ / 2 while taking into account the phase change at the time of light reflection at the reflective film 32 or the Ag alloy layer 121. (Where n is a natural number).

このような反射膜32の構成材料としては、反射膜32が前述したような機能を発揮することができるものであれば、特に限定されず、Al、Ni、Co、Agまたはこれらを含む合金等を用いることができる。
また、反射膜32は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層してなる誘電体多層膜(光学多層薄膜)で構成することもできる。
The constituent material of the reflective film 32 is not particularly limited as long as the reflective film 32 can exhibit the above-described function, and Al, Ni, Co, Ag, an alloy containing these, or the like Can be used.
The reflective film 32 can also be formed of a dielectric multilayer film (optical multilayer thin film) in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately stacked.

高屈折率層を構成する材料としては、例えば、TiO、Ta、酸化ニオブ、Al、HfO、ZrO、ThOなどが挙げられるが、特に、TiO、Ta、酸化ニオブなどが好適に用いられる。
低屈折率層を構成する材料としては、例えば、MgF、SiOなどが挙げられるが、特に、SiOが好適に用いられる。
The material constituting the high refractive index layer, for example, Ti 2 O, Ta 2 O 5, niobium oxide, Al 2 O 3, HfO 2 , ZrO 2, although ThO 2 and the like, in particular, Ti 2 O, Ta 2 O 5 , niobium oxide and the like are preferably used.
Examples of the material constituting the low refractive index layer include MgF 2 and SiO 2 , and SiO 2 is particularly preferably used.

反射膜32を構成する高屈折率層および低屈折率層の層数、厚さは、必要とする光学特性に応じて設定される。一般に、誘電体多層膜により反射膜を構成する場合、その光学特性を得るために必要な層数は12層以上である。
なお、本実施形態では、発光素子1がトップエミッション型であるため、反射膜32に光透過性は要求されない。
The number and thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the reflection film 32 are set according to the required optical characteristics. In general, when a reflective film is formed of a dielectric multilayer film, the number of layers required to obtain the optical characteristics is 12 or more.
In the present embodiment, since the light-emitting element 1 R is a top emission type, light transmitting the reflective film 32 is not required.

また、反射膜32の厚さは、前述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されないが、10〜1000nm程度であるのが好ましい。
なお、この反射膜32は、省略することができる。この場合、前述した陽極3が反射性を有するように構成することで、反射膜32と同様の効果を発揮させることができる。これにより、発光素子1の層構成を簡単なものとしつつ、発光層からの光および陰極12からの反射光を陽極3で反射して、発光素子1の輝度を高めることができる。
The thickness of the reflective film 32 is not particularly limited as long as it exhibits the function described above, but is preferably about 10 to 1000 nm.
The reflective film 32 can be omitted. In this case, the same effect as that of the reflective film 32 can be exhibited by configuring the above-described anode 3 to have reflectivity. Thus, while also maintaining a simple layer structure of the light-emitting element 1 R, the reflected light from the optical and the cathode 12 from the light-emitting layer is reflected by the anode 3, it is possible to increase the luminance of the light emitting element 1 R.

(腐食防止膜)
腐食防止膜33は、反射膜32の腐食を防止する機能を有するものである。
このような腐食防止膜33の構成材料としては、腐食防止膜33が前述した機能を発揮するとともに前述した反射膜32の機能を阻害しないものであれば、特に限定されず、各種有機材料、各種無機材料を用いることができる。
なお、この腐食防止膜33は、省略してもよい。
(Corrosion prevention film)
The corrosion prevention film 33 has a function of preventing the reflection film 32 from being corroded.
The constituent material of the corrosion prevention film 33 is not particularly limited as long as the corrosion prevention film 33 exhibits the function described above and does not impair the function of the reflection film 32 described above. Inorganic materials can be used.
The corrosion prevention film 33 may be omitted.

(陰極カバー)
陰極カバー34は、陽極3、積層体15、および陰極12を覆うように設けられ、これらを気密的に封止し、酸素や水分を遮断する機能を有する。陰極カバー34を設けることにより、発光素子1の信頼性の向上や、変質・劣化の防止(耐久性向上)等の効果が得られる。
(Cathode cover)
The cathode cover 34 is provided so as to cover the anode 3, the laminate 15, and the cathode 12, and has a function of hermetically sealing them and blocking oxygen and moisture. By providing the cathode cover 34, effects such as improvement of the reliability of the light emitting element 1 R and prevention of deterioration / deterioration (improvement of durability) can be obtained.

陰極カバー34の構成材料としては、例えば、Al、Au、Cr、Nb、Ta、Tiまたはこれらを含む合金、酸化シリコン、各種樹脂材料等を挙げることができる。なお、陰極カバー34の構成材料として導電性を有する材料を用いる場合には、短絡を防止するために、陰極カバー34と陽極3、積層体15、および陰極12との間には、必要に応じて、絶縁膜を設けるのが好ましい。   Examples of the constituent material of the cathode cover 34 include Al, Au, Cr, Nb, Ta, Ti, alloys containing these, silicon oxide, various resin materials, and the like. In addition, when using the material which has electroconductivity as a constituent material of the cathode cover 34, in order to prevent a short circuit, between the cathode cover 34 and the anode 3, the laminated body 15, and the cathode 12 as needed. Thus, an insulating film is preferably provided.

なお、本実施形態では、図1に示す樹脂層35(封止層)およびカラーフィルタ102(封止部材)も、陽極3、積層体15、および陰極12を覆うように設けられ、これらを気密的に封止し、酸素や水分を遮断する機能を有する。
以上説明したように構成された発光素子1によれば、陰極12がAg合金層121を備えているため、薄膜状の陰極12を形成するに際し、表面拡散や表面マイグレーションによってAg原子が凝集した核による微細な凹凸の発生を防止し、優れた表面性(平坦性)を有する薄膜状の陰極12を形成することができる。そのため、陰極12を半透過性を有するものとしつつ優れた反射性を有するものとすることができる。その結果、発光素子1から出射する光の輝度を高め、発光素子の電流効率を優れたものとすることができる。
このような本発明は、トップエミッション型の発光素子1に適用することで、比較的簡単な構成で優れた電流効率を有する発光素子1を提供することができる。
In this embodiment, the resin layer 35 (sealing layer) and the color filter 102 (sealing member) shown in FIG. 1 are also provided so as to cover the anode 3, the laminate 15, and the cathode 12. Sealing, and has a function of blocking oxygen and moisture.
According to the light emitting device 1 R configured as described above, since the cathode 12 includes the Ag alloy layer 121, Ag atoms are aggregated by surface diffusion or surface migration when the thin film cathode 12 is formed. Generation of fine irregularities due to nuclei can be prevented, and a thin film cathode 12 having excellent surface properties (flatness) can be formed. Therefore, the cathode 12 can be made to have excellent reflectivity while having translucency. As a result, increase the intensity of the light emitted from the light emitting element 1 R, it is possible to improve the current efficiency of the light emitting element.
Such invention, by applying the light-emitting element 1 R of the top emission type, it is possible to provide a light-emitting element 1 R with a current efficiency excellent with a relatively simple configuration.

(発光素子の製造方法)
以上のように構成された発光素子1は、例えば、次のようにして製造することができる。
[1] まず、基板21を用意し、この基板21上に反射膜32、腐食防止層22および陽極3をこの順で積層して形成する。
反射膜32、腐食防止層22および陽極3は、それぞれ、例えば、プラズマCVD、熱CVDのような化学蒸着法(CVD)、真空蒸着等の乾式メッキ法、電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、ゾル・ゲル法、MOD法、金属箔の接合等を用いて形成することができる。
(Manufacturing method of light emitting element)
The light emitting element 1 R configured as described above can be manufactured, for example, as follows.
[1] First, the substrate 21 is prepared, and the reflective film 32, the corrosion prevention layer 22, and the anode 3 are laminated on the substrate 21 in this order.
The reflective film 32, the corrosion prevention layer 22 and the anode 3 are respectively formed by, for example, chemical vapor deposition (CVD) such as plasma CVD and thermal CVD, dry plating such as vacuum deposition, wet plating such as electrolytic plating, and thermal spraying. Sol-gel method, MOD method, metal foil bonding, and the like.

[2] 次に、陽極3上に正孔注入層4を形成する。
正孔注入層4は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
また、正孔注入層4は、例えば、正孔注入材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる正孔注入層形成用材料を、陽極3上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
[2] Next, the hole injection layer 4 is formed on the anode 3.
The hole injection layer 4 can be formed by, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition or sputtering, or the like.
In addition, the hole injection layer 4 is dried (desolvent or desolvent) after supplying the hole injection layer forming material obtained by, for example, dissolving the hole injection material in a solvent or dispersing in a dispersion medium onto the anode 3. It can also be formed by using a dispersion medium.

正孔注入層形成用材料の供給方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いることもできる。かかる塗布法を用いることにより、正孔注入層4を比較的容易に形成することができる。
正孔注入層形成用材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、例えば、各種無機溶媒や、各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
As a method for supplying the hole injection layer forming material, for example, various coating methods such as a spin coating method, a roll coating method, and an ink jet printing method can be used. By using such a coating method, the hole injection layer 4 can be formed relatively easily.
Examples of the solvent or dispersion medium used for the preparation of the hole injection layer forming material include various inorganic solvents, various organic solvents, or mixed solvents containing these.

なお、乾燥は、例えば、大気圧または減圧雰囲気中での放置、加熱処理、不活性ガスの吹付け等により行うことができる。
また、本工程に先立って、陽極3の上面には、酸素プラズマ処理を施すようにしてもよい。これにより、陽極3の上面を親液性を付与すること、陽極3の上面に付着する有機物を除去(洗浄)すること、陽極3の上面付近の仕事関数を調整すること等を行うことができる。
ここで、酸素プラズマ処理の条件としては、例えば、プラズマパワー100〜800W程度、酸素ガス流量50〜100mL/min程度、被処理部材(陽極3)の搬送速度0.5〜10mm/sec程度、基板2の温度70〜90℃程度とするのが好ましい。
The drying can be performed, for example, by standing in an atmospheric pressure or a reduced pressure atmosphere, heat treatment, or blowing an inert gas.
Prior to this step, the upper surface of the anode 3 may be subjected to oxygen plasma treatment. Thereby, it is possible to impart lyophilicity to the upper surface of the anode 3, remove (clean) organic substances adhering to the upper surface of the anode 3, adjust the work function near the upper surface of the anode 3, and the like. .
Here, the oxygen plasma treatment conditions include, for example, a plasma power of about 100 to 800 W, an oxygen gas flow rate of about 50 to 100 mL / min, a conveyance speed of the member to be treated (anode 3) of about 0.5 to 10 mm / sec, and a substrate. The temperature of 2 is preferably about 70 to 90 ° C.

[3] 次に、正孔注入層4上に正孔輸送層5を形成する。
正孔輸送層5は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
また、正孔輸送材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる正孔輸送層形成用材料を、正孔注入層4上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
[3] Next, the hole transport layer 5 is formed on the hole injection layer 4.
The hole transport layer 5 can be formed, for example, by a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition or sputtering.
Further, by supplying a hole transport layer forming material obtained by dissolving a hole transport material in a solvent or dispersing in a dispersion medium onto the hole injection layer 4, drying (desolvation or dedispersion medium) is performed. Can also be formed.

[4] 次に、正孔輸送層5上に、第1の発光層6を形成する。
第1の発光層6は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
[5] 次に、第1の発光層6上に、中間層7を形成する。
中間層7は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
[4] Next, the first light emitting layer 6 is formed on the hole transport layer 5.
The first light emitting layer 6 can be formed by, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition, sputtering, or the like.
[5] Next, the intermediate layer 7 is formed on the first light emitting layer 6.
The intermediate layer 7 can be formed by, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition, sputtering, or the like.

[6] 次に、中間層7上に、第2の発光層8を形成する。
第2の発光層8は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
[7] 次に、第2の発光層8上に、第3の発光層9を形成する。
第3の発光層9は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
[6] Next, the second light emitting layer 8 is formed on the intermediate layer 7.
The second light emitting layer 8 can be formed by, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition or sputtering, or the like.
[7] Next, the third light emitting layer 9 is formed on the second light emitting layer 8.
The third light emitting layer 9 can be formed by, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition or sputtering.

[8] 次に、第3の発光層9上に電子輸送層10を形成する。
電子輸送層10は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
また、電子輸送層10は、例えば、電子輸送材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる電子輸送層形成用材料を、第3の発光層9上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
[8] Next, the electron transport layer 10 is formed on the third light emitting layer 9.
The electron transport layer 10 can be formed by a vapor phase process using, for example, a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition, sputtering, or the like.
In addition, the electron transport layer 10 is dried (desolvent or solvent-free) after supplying an electron transport layer forming material obtained by, for example, dissolving an electron transport material in a solvent or dispersing in a dispersion medium onto the third light emitting layer 9. It can also be formed by dedispersing medium).

[9] 次に、電子輸送層10上に、電子注入層11を形成する。
電子注入層11の構成材料として無機材料を用いる場合、電子注入層11は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセス、無機微粒子インクの塗布および焼成等を用いて形成することができる。
[10] 次に、電子注入層11上に、陰極12を形成する。より具体的には、電子注入層11上に、注入電極層122、Ag合金層121をこの順で積層する。
注入電極層122は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、金属箔の接合、金属微粒子インクの塗布および焼成等を用いて形成することができる。
[9] Next, the electron injection layer 11 is formed on the electron transport layer 10.
When an inorganic material is used as the constituent material of the electron injection layer 11, the electron injection layer 11 is formed by, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition or sputtering, or coating and baking of inorganic fine particle ink. Etc. can be used.
[10] Next, the cathode 12 is formed on the electron injection layer 11. More specifically, the injection electrode layer 122 and the Ag alloy layer 121 are laminated on the electron injection layer 11 in this order.
The injection electrode layer 122 can be formed using, for example, a vacuum evaporation method, a sputtering method, bonding of metal foil, application and baking of metal fine particle ink, or the like.

Ag合金層121の形成方法としては、特に限定されないが、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相成膜法(気相プロセス)を好適に用いることができ、特に、真空蒸着法を用いるのが好ましい。
真空蒸着法を用いてAg合金層121を形成するに際しては、Agと添加金属とを共蒸着するのが好ましい。
以上のような工程を経て、発光素子1が得られる。
以上説明したような表示装置100(本発明の表示装置)は、各種の電子機器に組み込むことができる。
A method for forming the Ag alloy layer 121 is not particularly limited, but a vapor deposition method (vapor phase process) using a CVD method, a dry plating method such as vacuum deposition, sputtering, or the like can be suitably used. In particular, it is preferable to use a vacuum evaporation method.
In forming the Ag alloy layer 121 using the vacuum evaporation method, it is preferable to co-evaporate Ag and the additive metal.
Through the steps as described above, the light emitting element 1 R is obtained.
The display device 100 (the display device of the present invention) as described above can be incorporated into various electronic devices.

図3は、本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部を備える表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ1100において、表示ユニット1106が備える表示部が前述のディスプレイ装置100で構成されている。
FIG. 3 is a perspective view showing the configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which the electronic apparatus of the present invention is applied.
In this figure, a personal computer 1100 includes a main body 1104 provided with a keyboard 1102 and a display unit 1106 provided with a display. The display unit 1106 is rotatable with respect to the main body 1104 via a hinge structure. It is supported by.
In the personal computer 1100, the display unit included in the display unit 1106 is configured by the display device 100 described above.

図4は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206とともに、表示部を備えている。
携帯電話機1200において、この表示部が前述のディスプレイ装置100で構成されている。
FIG. 4 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone (including PHS) to which the electronic apparatus of the present invention is applied.
In this figure, a cellular phone 1200 includes a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204 and a mouthpiece 1206, and a display unit.
In the cellular phone 1200, the display unit is configured by the display device 100 described above.

図5は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。
FIG. 5 is a perspective view showing a configuration of a digital still camera to which the electronic apparatus of the present invention is applied. In this figure, connection with an external device is also simply shown.
Here, an ordinary camera sensitizes a silver halide photographic film with a light image of a subject, whereas a digital still camera 1300 photoelectrically converts a light image of a subject with an imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device). An imaging signal (image signal) is generated.

ディジタルスチルカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ディジタルスチルカメラ1300において、この表示部が前述のディスプレイ装置100で構成されている。
A display unit is provided on the back of a case (body) 1302 in the digital still camera 1300, and is configured to display based on an imaging signal from the CCD, and functions as a finder that displays an object as an electronic image.
In the digital still camera 1300, the display unit is configured by the display device 100 described above.

ケースの内部には、回路基板1308が設置されている。この回路基板1308は、撮像信号を格納(記憶)し得るメモリが設置されている。
また、ケース1302の正面側(図示の構成では裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、回路基板1308のメモリに転送・格納される。
A circuit board 1308 is installed inside the case. The circuit board 1308 is provided with a memory that can store (store) an imaging signal.
A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side of the case 1302 (on the back side in the illustrated configuration).
When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory of the circuit board 1308.

また、このディジタルスチルカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニタ1430が、デ−タ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピュータ1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板1308のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ1430や、パーソナルコンピュータ1440に出力される構成になっている。   In the digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on the side surface of the case 1302. As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 and a personal computer 1440 is connected to the input / output terminal 1314 for data communication as necessary. Further, the imaging signal stored in the memory of the circuit board 1308 is output to the television monitor 1430 or the personal computer 1440 by a predetermined operation.

なお、本発明の電子機器は、図3のパーソナルコンピュータ(モバイル型パーソナルコンピュータ)、図4の携帯電話機、図5のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、POS端末、タッチパネルを備えた機器(例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機)、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。   The electronic apparatus of the present invention includes, for example, a television, a video camera, a viewfinder type, in addition to the personal computer (mobile personal computer) in FIG. 3, the mobile phone in FIG. 4, and the digital still camera in FIG. Monitor direct-view video tape recorder, laptop personal computer, car navigation system, pager, electronic notebook (including communication function), electronic dictionary, calculator, electronic game device, word processor, workstation, video phone, security TV Monitors, electronic binoculars, POS terminals, devices equipped with touch panels (for example, cash dispensers and automatic ticket vending machines for financial institutions), medical devices (for example, electronic thermometers, blood pressure monitors, blood glucose meters, electrocardiographs, ultrasound diagnostic devices, internal Endoscope display device), fish finder, various measuring instruments, Vessels such (e.g., gages for vehicles, aircraft, and ships), a flight simulator, various monitors, and a projection display such as a projector.

以上、本発明の発光素子、表示装置および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。
例えば、前述した実施形態では、各発光素子が3層の発光層を有するものについて説明したが、発光層が1層、2層または4層以上であってもよい。また、発光層の発光色としては、前述した実施形態のR、G、Bに限定されない。発光層が2層または4層以上である場合でも、各発光層の発光スペクトルを適宜設定することで、白色発光させることができる。例えば、発光層が2層である場合、青色の発光層と黄色の発光層とを組み合わせることで、白色発光させることができる。
The light emitting element, the display device, and the electronic device of the present invention have been described based on the illustrated embodiments, but the present invention is not limited to these.
For example, in the above-described embodiment, each light emitting element has been described as having three light emitting layers. However, the light emitting layer may be one layer, two layers, or four layers or more. Further, the emission color of the light emitting layer is not limited to R, G, and B in the above-described embodiment. Even when there are two or more light emitting layers, white light can be emitted by appropriately setting the emission spectrum of each light emitting layer. For example, when there are two light emitting layers, white light can be emitted by combining a blue light emitting layer and a yellow light emitting layer.

次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.膜の表面粗さの測定
Agで構成された膜(サンプル1)と、Ag合金で構成された膜(サンプル2〜5)とを真空蒸着法によりガラス基板上に成膜した。ここで、各膜の構成材料として、サンプル1ではAg、サンプル2ではAgMg(Ag:Mg=10:1)、サンプル3ではAgCu(Ag:Cu=10:1)、サンプル4ではAgZn(Ag:Zn=10:1)、サンプル5ではAgNd(Ag:Nd=10:1)を用い、また、各サンプル1〜5の膜厚を10nmとした。
そして、各サンプル1〜5について、AFM(原子間力顕微鏡)を用いて、表面粗さ(自乗平均面粗さ[nm])を測定した。その結果を表1に示す。
Next, specific examples of the present invention will be described.
1. Measurement of surface roughness of film A film composed of Ag (sample 1) and a film composed of Ag alloy (samples 2 to 5) were formed on a glass substrate by vacuum deposition. Here, as a constituent material of each film, Ag in sample 1, AgMg (Ag: Mg = 10: 1) in sample 2, AgCu (Ag: Cu = 10: 1) in sample 3, AgZn (Ag: Zn = 10: 1) and Sample 5 were made of AgNd (Ag: Nd = 10: 1), and the thicknesses of Samples 1 to 5 were 10 nm.
And about each sample 1-5, surface roughness (root mean square surface roughness [nm]) was measured using AFM (atomic force microscope). The results are shown in Table 1.

Figure 2009301858
Figure 2009301858

表1から明らかなように、Ag合金を用いたサンプル2〜5の膜は、いずれも、Agを用いたサンプル1の膜よりも極めて優れた平坦性を有していること(すなわち光の反射性が優れていること)がわかる。特に、AgMgを用いたサンプル2の膜の平坦性が優れていた。   As is clear from Table 1, the films of Samples 2 to 5 using an Ag alloy all have extremely superior flatness than the film of Sample 1 using Ag (that is, reflection of light). It is understood that the property is excellent. In particular, the flatness of the film of Sample 2 using AgMg was excellent.

2.発光素子の製造
(実施例)
<1> まず、平均厚さ0.5mmの透明なガラス基板を用意した。次に、この基板上に、スパッタ法により、Ag反射膜およびITO電極(陽極)をこの順に画素毎に形成した。ここで、R画素用のITO電極の平均厚さを110nmとし、G画素用のITO電極の平均厚さを70nmとし、B画素用のITO電極の平均厚さを30nmとした。また、Ag反射膜の平均厚さを100nmとした。
そして、基板をアセトン、2−プロパノールの順に浸漬し、超音波洗浄した後、酸素プラズマ処理を施した。
2. Production of light-emitting elements (Examples)
<1> First, a transparent glass substrate having an average thickness of 0.5 mm was prepared. Next, an Ag reflective film and an ITO electrode (anode) were formed on the substrate in this order by sputtering. Here, the average thickness of the ITO electrode for the R pixel was 110 nm, the average thickness of the ITO electrode for the G pixel was 70 nm, and the average thickness of the ITO electrode for the B pixel was 30 nm. The average thickness of the Ag reflection film was 100 nm.
And after immersing a board | substrate in order of acetone and 2-propanol and ultrasonically cleaning, the oxygen plasma process was performed.

<2> 次に、ITO電極上に、上記化1で表わされるテトラアミン化合物を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ40nmの正孔注入層を形成した。
<3> 次に、正孔注入層上に、上記化3で表わされるNPDを真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ20nmの正孔輸送層を形成した。
<4> 次に、正孔輸送層上に、赤色発光層の構成材料を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ10nmの赤色発光層(第1の発光層)を形成した。赤色発光層の構成材料としては、赤色発光材料(ゲスト材料)として上記化4で表わされる化合物を用い、ホスト材料として上記化5で表わされる化合物を用いた。また、赤色発光層中の発光材料(ドーパント)の含有量(ドープ濃度)は、1.0wt%とした。
<2> Next, a tetraamine compound represented by Chemical Formula 1 was deposited on the ITO electrode by a vacuum deposition method to form a hole injection layer having an average thickness of 40 nm.
<3> Next, on the hole injection layer, NPD represented by the above chemical formula 3 was vapor-deposited by a vacuum vapor deposition method to form a hole transport layer having an average thickness of 20 nm.
<4> Next, the constituent material of the red light-emitting layer was deposited on the hole transport layer by a vacuum vapor deposition method to form a red light-emitting layer (first light-emitting layer) having an average thickness of 10 nm. As a constituent material of the red light emitting layer, a compound represented by the above chemical formula 4 was used as a red light emitting material (guest material), and a compound represented by the above chemical formula 5 was used as a host material. The content (dope concentration) of the light emitting material (dopant) in the red light emitting layer was 1.0 wt%.

<5> 次に、赤色発光層上に、中間層の構成材料を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ7nmの中間層を形成した。中間層の構成材料としては、アミン系材料として上記化3で表されるNPDを用いた。
<6> 次に、中間層上に、青色発光層の構成材料を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ15nmの青色発光層(第2の発光層)を形成した。青色発光層の構成材料としては、青色発光材料として上記化7で表わされる化合物を用い、ホスト材料として上記化6で表わされる化合物を用いた。また、青色発光層中の青色発光材料(ドーパント)の含有量(ドープ濃度)は、6.0wt%とした。
<5> Next, the constituent material of the intermediate layer was vapor-deposited on the red light emitting layer by a vacuum vapor deposition method to form an intermediate layer having an average thickness of 7 nm. As the constituent material of the intermediate layer, NPD represented by the above chemical formula 3 was used as an amine-based material.
<6> Next, the constituent material of the blue light emitting layer was vapor-deposited on the intermediate layer by a vacuum evaporation method to form a blue light emitting layer (second light emitting layer) having an average thickness of 15 nm. As a constituent material of the blue light emitting layer, a compound represented by the above chemical formula 7 was used as a blue light emitting material, and a compound represented by the above chemical formula 6 was used as a host material. Further, the content (dope concentration) of the blue light emitting material (dopant) in the blue light emitting layer was 6.0 wt%.

<7> 次に、青色発光層上に、緑色発光層の構成材料を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ25nmの緑色発光層(第3の発光層)を形成した。緑色発光層の構成材料としては、緑色発光材料(ゲスト材料)として上記化8で表わされる化合物を用い、ホスト材料として上記化6で表わされる化合物を用いた。また、緑色発光層中の緑色発光材料(ドーパント)の含有量(ドープ濃度)は、1.0wt%とした。   <7> Next, the constituent material of the green light emitting layer was deposited on the blue light emitting layer by a vacuum evaporation method to form a green light emitting layer (third light emitting layer) having an average thickness of 25 nm. As a constituent material of the green light emitting layer, a compound represented by the above chemical formula 8 was used as a green light emitting material (guest material), and a compound represented by the above chemical formula 6 was used as a host material. Further, the content (dope concentration) of the green light emitting material (dopant) in the green light emitting layer was 1.0 wt%.

<8> 次に、緑色発光層上に、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq)を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ10nmの電子輸送層を形成した。
<9> 次に、電子輸送層上に、LiFを真空蒸着法により成膜し、平均厚さ1nmの電子注入層を形成した。
<10> 次に、電子注入層上に、MgAg(Mg:Ag=10:1)を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ5nmの注入電極層を形成した。
<8> Next, on the green light-emitting layer, tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ) was formed by a vacuum deposition method to form an electron transport layer having an average thickness of 10 nm.
<9> Next, on the electron transport layer, LiF was deposited by a vacuum deposition method to form an electron injection layer having an average thickness of 1 nm.
<10> Next, an MgAg (Mg: Ag = 10: 1) film was formed on the electron injection layer by a vacuum evaporation method to form an injection electrode layer having an average thickness of 5 nm.

<11> 次に、注入電極層上に、AgMg(Ag:Mg=10:1)を真空蒸着法(共蒸着法)により成膜し、平均厚さ12nmのAg合金層を形成した。
以上のようにしてR、G、Bの各画素毎の発光素子を基板上に形成した。
(比較例)
Ag合金層を省略するとともに、注入電極層の平均厚さを10nmとした以外は、前述した実施例1と同様にしてR、G、Bの各画素毎の発光素子を製造した。
<11> Next, AgMg (Ag: Mg = 10: 1) was formed on the injection electrode layer by a vacuum evaporation method (co-evaporation method) to form an Ag alloy layer having an average thickness of 12 nm.
As described above, a light emitting element for each of R, G, and B pixels was formed on the substrate.
(Comparative example)
A light emitting element for each of R, G, and B pixels was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the Ag alloy layer was omitted and the average thickness of the injection electrode layer was 10 nm.

3.評価
また、実施例および比較例の各画素の発光素子について、直流電源を用いて各発光素子に10mA/cmの定電流を流し、輝度計を用いて各発光素子の輝度を測定し、その結果から発光効率を求め、その結果を表2に示す。
3. Evaluation Regarding the light-emitting elements of the pixels of the examples and comparative examples, a constant current of 10 mA / cm 2 was passed to each light-emitting element using a DC power source, and the luminance of each light-emitting element was measured using a luminance meter. Luminous efficiency was calculated from the results, and the results are shown in Table 2.

Figure 2009301858
Figure 2009301858

また、実施例および比較例の各画素の発光素子について、直流電源を用いて各発光素子に10mA/cmの定電流を流し、その際の駆動電圧を表2に示す。
表2から明らかなように、実施例の各発光素子は、比較例の各発光素子に比し、輝度が高く、優れた電流効率を有することがわかる。また、実施例の各発光素子は、比較例の各発光素子によりも駆動電圧を低減することができた。
In addition, with respect to the light-emitting elements of the pixels of the examples and comparative examples, a constant current of 10 mA / cm 2 was passed through each light-emitting element using a DC power source, and the driving voltage at that time is shown in Table 2.
As can be seen from Table 2, each light emitting device of the example has higher brightness and superior current efficiency than each light emitting device of the comparative example. In addition, each of the light emitting elements of the example could reduce the driving voltage as compared with each of the light emitting elements of the comparative example.

本発明の発光素子を備える表示装置の一例(ディスプレイ装置)を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example (display apparatus) of a display apparatus provided with the light emitting element of this invention. 図1に示す発光装置に備えられた発光素子の縦断面を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the longitudinal cross-section of the light emitting element with which the light-emitting device shown in FIG. 1 was equipped. 本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which an electronic apparatus of the present invention is applied. 本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile telephone (PHS is also included) to which the electronic device of this invention is applied. 本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the digital still camera to which the electronic device of this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1、1、1、1……発光素子 2……基板 3……陽極 4……正孔注入層 5……正孔輸送層 6……1の発光層(赤色発光層) 7……中間層 8……第2の発光層(青色発光層) 9……第3の発光層(緑色発光層) 10……電子輸送層 11……電子注入層 12……陰極 15……積層体 19、19、19……フィルタ 100……ディスプレイ装置 100、100、100……サブ画素 101……発光装置 102……カラーフィルタ 121……Ag合金層 122……注入電極層 20……基板(封止基板) 21……基板 22……平坦化層 23……保護層 24……駆動用トランジスタ 241……半導体層 242……ゲート絶縁層 243……ゲート電極 244……ソース電極 245……ドレイン電極 25……第1層間絶縁層 26……第2層間絶縁層 27……配線 31……隔壁 32……反射膜 33……腐食防止膜 34……陰極カバー 35……樹脂層 36……遮光部 1100……パーソナルコンピュータ 1102……キーボード 1104……本体部 1106……表示ユニット 1200……携帯電話機 1202……操作ボタン 1204……受話口 1206……送話口 1300……ディジタルスチルカメラ 1302……ケース(ボディー) 1304……受光ユニット 1306……シャッタボタン 1308……回路基板 1312……ビデオ信号出力端子 1314……データ通信用の入出力端子 1430……テレビモニタ 1440……パーソナルコンピュータ W、W、W……光 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1 B , 1 G , 1 R ... Light emitting element 2 ... Substrate 3 ... Anode 4 ... Hole injection layer 5 ... Hole transport layer 6 ... 1 light emitting layer (red light emitting layer) 7 ... ... Intermediate layer 8 …… Second light emitting layer (blue light emitting layer) 9 …… Third light emitting layer (green light emitting layer) 10 …… Electron transport layer 11 …… Electron injection layer 12 …… Cathode 15 …… Laminate 19 B , 19 G , 19 R ...... Filter 100 ...... Display device 100 B , 100 R , 100 G ...... Subpixel 101 ...... Light emitting device 102 ...... Color filter 121 ...... Ag alloy layer 122 ...... Injection electrode layer 20 …… Substrate (sealing substrate) 21 …… Substrate 22 …… Planarization layer 23 …… Protective layer 24 …… Drive transistor 241 …… Semiconductor layer 242 …… Gate insulating layer 243 …… Gate electrode 244 …… Source Electrode 245 ... Drain electrode 25 ... First interlayer insulating layer 26... Second interlayer insulating layer 27... Wiring 31 .. Partition wall 32 .. Reflecting film 33 .. Corrosion-preventing film 34 .. Cathode cover 35 .. Resin layer 36. Personal computer 1102 ... Keyboard 1104 ... Main body 1106 ... Display unit 1200 ... Mobile phone 1202 ... Operation buttons 1204 ... Earpiece 1206 ... Mouthpiece 1300 ... Digital still camera 1302 ... Case (body) 1304 ...... receiving unit 1306 ...... shutter button 1308 ...... circuit board 1312 ...... video signal output terminal 1314 ...... output terminal 1430 ...... television monitor 1440 ...... personal computer W B for data communication, W G, W R ……light

Claims (18)

陰極と、
陽極と、
前記陰極と前記陽極との間に設けられた少なくとも1層の発光層とを有し、
前記陰極は、前記発光層からの光の一部を透過し残部を反射する機能を有し、
前記陰極は、Agに、Agとは原子半径の異なる添加金属を添加してなる金属材料を主材料として構成されたAg合金層を備えていることを特徴とする発光素子。
A cathode,
The anode,
Having at least one light emitting layer provided between the cathode and the anode;
The cathode has a function of transmitting a part of the light from the light emitting layer and reflecting the remaining part,
The light-emitting element, wherein the cathode includes an Ag alloy layer composed mainly of a metal material obtained by adding an additive metal having an atomic radius different from that of Ag to Ag.
Agの原子半径と前記添加金属の原子半径との差は、Agの原子半径の10%以上である請求項1に記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 1, wherein a difference between an atomic radius of Ag and an atomic radius of the additive metal is 10% or more of an atomic radius of Ag. 前記添加金属は、Mg、Cu、Zn、Al、Ndのうちのいずれか1種、または、これらのうちの2種以上の組み合わせである請求項2に記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 2, wherein the additive metal is any one of Mg, Cu, Zn, Al, and Nd, or a combination of two or more thereof. 前記金属材料は、Agの含有量が80〜99.9原子%であり、前記添加金属の含有量が0.1〜20原子%である請求項1ないし3のいずれかに記載の発光素子。   4. The light emitting device according to claim 1, wherein the metal material has an Ag content of 80 to 99.9 atomic% and an additive metal content of 0.1 to 20 atomic%. 前記陰極は、前記Ag合金層に接合され、前記金属材料よりも仕事関数の小さい材料で構成された注入電極層を備えている請求項1ないし4のいずれかに記載の発光素子。   5. The light emitting device according to claim 1, wherein the cathode includes an injection electrode layer that is bonded to the Ag alloy layer and is made of a material having a work function smaller than that of the metal material. 前記注入電極層は、前記Ag合金層に対し前記発光層側に設けられている請求項5に記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 5, wherein the injection electrode layer is provided on the light emitting layer side with respect to the Ag alloy layer. 前記注入電極層は、Mg、Al、Ca、Sr、Baのうちの少なくとも1種以上を含む合金を主材料として構成されている請求項5に記載の発光素子。   The light-emitting element according to claim 5, wherein the injection electrode layer is composed mainly of an alloy containing at least one of Mg, Al, Ca, Sr, and Ba. 前記発光層に対して前記陰極と反対側に設けられ、前記発光層からの光を反射する機能を有する反射層を有している請求項1ないし7のいずれかに記載の発光素子。   The light emitting element according to any one of claims 1 to 7, further comprising a reflective layer provided on a side opposite to the cathode with respect to the light emitting layer and having a function of reflecting light from the light emitting layer. 前記Ag合金層と前記反射層との間で前記発光層からの光を共振させるように構成されている請求項8に記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 8, wherein the light emitting element is configured to resonate light from the light emitting layer between the Ag alloy layer and the reflective layer. 前記Ag合金層は、真空蒸着法を用いて形成されたものである請求項1ないし9のいずれかに記載の発光素子。   The light-emitting element according to claim 1, wherein the Ag alloy layer is formed using a vacuum deposition method. 前記Ag合金層は、Agと前記添加金属とを共蒸着することにより形成されたものである請求項10に記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 10, wherein the Ag alloy layer is formed by co-evaporation of Ag and the additive metal. 前記発光層からの光に対する前記Ag合金層の反射率は、20〜80%である請求項1ないし11のいずれかに記載の発光素子。   The light emitting element according to any one of claims 1 to 11, wherein a reflectance of the Ag alloy layer with respect to light from the light emitting layer is 20 to 80%. 前記Ag合金層の厚さは、1〜50nmである請求項1ないし12のいずれかに記載の発光素子。   The light emitting device according to claim 1, wherein the Ag alloy layer has a thickness of 1 to 50 nm. 前記発光層からの発光を前記陰極側から出射するトップエミッション構造を有する請求項1ないし13のいずれかに記載の発光素子。   The light emitting element according to claim 1, wherein the light emitting element has a top emission structure that emits light emitted from the light emitting layer from the cathode side. 前記少なくとも1層の発光層は、互いに発光スペクトルの異なる複数層の発光層で構成され、当該複数層の発光層全体として白色発光するように構成されている請求項1ないし14のいずれかに記載の発光素子。   The at least one light emitting layer is composed of a plurality of light emitting layers having different emission spectra, and the entire light emitting layer of the plurality of layers is configured to emit white light. Light emitting element. 前記少なくとも1層の発光層は、赤色に発光する赤色発光層と、緑色に発光する緑色発光層と、青色に発光する青色発光層とを含んで構成されている請求項15に記載の発光素子。   The light emitting element according to claim 15, wherein the at least one light emitting layer includes a red light emitting layer that emits red light, a green light emitting layer that emits green light, and a blue light emitting layer that emits blue light. . 請求項1ないし16のいずれかに記載の発光素子を備えることを特徴とする表示装置。   A display device comprising the light-emitting element according to claim 1. 請求項17に記載の表示装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the display device according to claim 17.
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