JP2009301767A - Touch panel, touch panel device and touch panel manufacturing method - Google Patents

Touch panel, touch panel device and touch panel manufacturing method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a touch panel which reduce a rate of occurrence of air bubbles between an overcoat layer and a transparent electroconductive layer, provided on a light-shield layer of the touch panel, and have a structure with excellent transmittance; a touch panel device; and a touch panel manufacturing method. <P>SOLUTION: The touch panel is characterized in that a transparent substrate has its one surface having a light-shield layer with a film thickness of 0.5-1.5 μm, and the one surface is sequentially stacked with an overcoat layer of a film thickness of 2-3 μm and a transparent electroconductive layer of a film thickness of 100-200 Å, wherein the transparent electroconductive layer is made in sputtering process. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、画像の表示及び入力が可能なタッチパネル及びこれを備えた装置、並びに、タッチパネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a touch panel capable of displaying and inputting an image, an apparatus including the touch panel, and a touch panel manufacturing method.

従来のタッチパネル装置として、例えば、特許文献1に開示がされている。
この種のタッチパネル装置は、図1に示されるように、指等により押圧されるカバーガラス1と、静電容量式のセンシングを行うタッチパネルユニット2と、表示を行うためのLCDパネルユニット3とを積層して構成されている。
タッチパネルユニット2は、ガラス等の基板4の両面に、それぞれ位置検出のための直交するようにして透明導電層5,6を備える。また、タッチパネルユニット2の透明導電層6の周縁部には、前記透明導電層5,6により検出されることになる抵抗値の変化を図略の位置検出回路に送出するために、所定の間隔で導電層7が設けられている。
LCDパネルユニット3は、液晶層10とカラーフィルタ層11とから構成されており、液晶層10は、アクティブマトリックス基板9と配向層(図略)との間に液晶を挟持して構成される。また、カラーフィルター層11は、アクティブマトリックス基板9と対向する基板8上に赤緑青黒の色素を構成する樹脂を設けることにより構成される。
しかしながら、上記の構造では、保護版1とタッチパネル4とLCDパネルユニット3の3構造物を重ね合わせる際に、各構造物間には気泡乃至は空気層が形成されてしまう。
一方、近年においてタッチパネル装置を備えた携帯電話やPDA等には高機能化のために多くの回路等を内蔵しているために、使用時に高温化する傾向にある。
この状況下で、前記気泡乃至は空気層は膨張してしまい、タッチパネル装置の表示面に気泡が現れたり、或いは、空気層が各構造物端面で外部からの入射光を反射する反射光を発生させ、液晶表示の見易さを著しく低下させてしまうという問題があった。
これらの反射光対策として、各構造部材と屈折率を調整したゲル状樹脂や両面接着フィルムなどで、空気層を埋める工夫がされてきたが、各種構造物を張り合わせる工程で、張り合わせ不良(異物巻き込み、気泡、位置ズレ)が多く発生し、大きく生産性を阻害やコストアップの原因となっていた。
For example, Patent Document 1 discloses a conventional touch panel device.
As shown in FIG. 1, this type of touch panel device includes a cover glass 1 pressed by a finger or the like, a touch panel unit 2 that performs capacitive sensing, and an LCD panel unit 3 that performs display. It is configured by stacking.
The touch panel unit 2 includes transparent conductive layers 5 and 6 on both surfaces of a substrate 4 such as glass so as to be orthogonal for position detection. Further, a predetermined interval is provided at the peripheral edge of the transparent conductive layer 6 of the touch panel unit 2 in order to send a change in resistance value detected by the transparent conductive layers 5 and 6 to a position detection circuit (not shown). A conductive layer 7 is provided.
The LCD panel unit 3 includes a liquid crystal layer 10 and a color filter layer 11, and the liquid crystal layer 10 is configured by sandwiching liquid crystal between an active matrix substrate 9 and an alignment layer (not shown). The color filter layer 11 is configured by providing a resin constituting red, green, blue, and black pigments on the substrate 8 facing the active matrix substrate 9.
However, in the above structure, when the three structures of the protective plate 1, the touch panel 4, and the LCD panel unit 3 are overlapped, bubbles or air layers are formed between the structures.
On the other hand, in recent years, cellular phones and PDAs equipped with a touch panel device have many circuits and the like for high functionality, and therefore tend to become hot during use.
Under these circumstances, the bubble or air layer expands, and bubbles appear on the display surface of the touch panel device, or the air layer generates reflected light that reflects incident light from the outside at each structure end face. This causes a problem that the visibility of the liquid crystal display is remarkably lowered.
As countermeasures against these reflected lights, there has been devised to fill the air layer with each structural member and a gel-like resin or a double-sided adhesive film with adjusted refractive index. Lots of entrainment, bubbles, and misalignment) occurred, greatly hindering productivity and increasing costs.

特開2008−32756号公報(図9)JP 2008-32756 A (FIG. 9)

そこで、本発明は、タッチパネルの遮光層上に設けられたオーバーコート層と透明導電層との間に気泡の発生率を抑えるとともに、透過率の優れた構造を有するタッチパネル、タッチパネル装置及びタッチパネルの製造方法を提供することを目的とする。   Then, this invention suppresses the bubble generation rate between the overcoat layer provided on the light shielding layer of the touch panel and the transparent conductive layer, and manufactures a touch panel, a touch panel device, and a touch panel having a structure with excellent transmittance. It aims to provide a method.

上記課題を解決するために、本発明者等は鋭意検討の結果、従来タッチパネルを構成していた保護板とタッチパネルの透明基板とを兼用し、且つ、タッチパネルを構成する膜を接着剤等を使用せずに積層すれば気泡の発生を低減することができるという知見に基づき、下記の通り解決手段を見出した。
即ち、本発明のタッチパネルは、請求項1に記載の通り、片面に膜厚0.5μ〜1.5μmの遮光層を備えた透明基板の前記片面に、膜厚2μm〜3μmのオーバーコート層、膜厚100Å〜200Åの透明導電層を順に積層し、前記透明導電層はスパッタリングにより成膜したことを特徴とする。
請求項2に記載の本発明は、請求項1に記載のタッチパネルにおいて、前記透明導電層の上に、膜厚500Å〜1000Åの絶縁層を積層したことを特徴とする。
請求項3に記載の本発明は、請求項2に記載のタッチパネルにおいて、前記オーバーコート層上に、前記透明導電層と隣接して配線用の金属パターン層をスパッタリングにより成膜し、前記金属パターン層の断面における前記オーバーコート層からの立ち上がり角度を60°以下としたことを特徴とする。
請求項4に記載の本発明は、請求項1乃至3の何れかに記載のタッチパネルにおいて、前記遮光層は、印刷又はフォトリソにより形成されたものであることを特徴とする。
請求項5に記載の本発明は、請求項1乃至4の何れかに記載のタッチパネルにおいて、前記オーバーコート層は、スピンコートにより形成されたものであることを特徴とする。
請求項6に記載の本発明は、請求項1乃至5の何れかに記載のタッチパネルにおいて、前記絶縁層は、CVD又はスパッタリングにより形成されたものであることを特徴とする。
請求項7に記載の本発明は、請求項1乃至6の何れかに記載のタッチパネルにおいて、前記遮光層は、前記透明基板の周部において枠状に設けられ、且つ、前記遮光層にも開口部を備えたことを特徴とする。
請求項8に記載のタッチパネル装置は、請求項1乃至7の何れかに記載のタッチパネルの前記透明導電層側にLCDパネルを設けたことを特徴とする。
また、請求項9に記載のタッチパネルの製造方法は、透明基板の片面に、印刷又はフォトリソにより膜厚0.5μ〜1.5μmの遮光層を成膜した後、膜厚2μm〜3μmのオーバーコート層をスピンコートにより成膜し、前記オーバーコート層上にスパッタリングにより膜厚100Å〜200Åの透明導電層を成膜することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied and used a protective plate that has conventionally constituted a touch panel and the transparent substrate of the touch panel, and used an adhesive or the like for the film that constitutes the touch panel. On the basis of the knowledge that the generation of bubbles can be reduced by laminating without the present invention, the following means for solving the problem has been found.
That is, as described in claim 1, the touch panel of the present invention has an overcoat layer having a thickness of 2 μm to 3 μm on the one surface of the transparent substrate having a light shielding layer having a thickness of 0.5 μm to 1.5 μm on one side, A transparent conductive layer having a thickness of 100 to 200 mm is sequentially laminated, and the transparent conductive layer is formed by sputtering.
According to a second aspect of the present invention, in the touch panel according to the first aspect, an insulating layer having a thickness of 500 to 1000 is laminated on the transparent conductive layer.
According to a third aspect of the present invention, in the touch panel according to the second aspect, a metal pattern layer for wiring is formed on the overcoat layer adjacent to the transparent conductive layer by sputtering, and the metal pattern is formed. The rising angle from the overcoat layer in the cross section of the layer is 60 ° or less.
According to a fourth aspect of the present invention, in the touch panel according to any one of the first to third aspects, the light shielding layer is formed by printing or photolithography.
According to a fifth aspect of the present invention, in the touch panel according to the first to fourth aspects, the overcoat layer is formed by spin coating.
According to a sixth aspect of the present invention, in the touch panel according to any one of the first to fifth aspects, the insulating layer is formed by CVD or sputtering.
According to a seventh aspect of the present invention, in the touch panel according to any one of the first to sixth aspects, the light shielding layer is provided in a frame shape at a peripheral portion of the transparent substrate, and is also opened in the light shielding layer. It has the part.
The touch panel device according to an eighth aspect is characterized in that an LCD panel is provided on the transparent conductive layer side of the touch panel according to any one of the first to seventh aspects.
Moreover, the manufacturing method of the touchscreen of Claim 9 is, after forming the light shielding layer with a film thickness of 0.5 μm to 1.5 μm on one side of the transparent substrate by printing or photolithography, the overcoat with a film thickness of 2 μm to 3 μm A layer is formed by spin coating, and a transparent conductive layer having a thickness of 100 to 200 mm is formed on the overcoat layer by sputtering.

本発明によれば、タッチパネルの透明導電層は、透明基板に貼着されることなく、成膜により一体となっているので、透明導電層と透明基板との間に気泡が生じることがなく、携帯電話やPDA等に用いた場合に、機器が高温となっても表示面が気泡により損なわれることがない。また、透明導電層が極めて薄くなるので、光の透過率に優れる。
また、タッチパネルの表示部とタッチパネルの保護板を兼用することができ、別途保護板を設ける必要がないためコストを削減することができる。また、高価なインデックスマッチングフィルムを、タッチパネルの表示部と保護板との間に設ける必要がないので、材料点数やインデックス・マッチングフィルムの貼着工程を削減することができる。
これらの結果として、製品化リードタイムを短縮するとともに、タッチパネル装置の製品のトータル不良率の低減が可能となる。
According to the present invention, since the transparent conductive layer of the touch panel is integrated by film formation without being attached to the transparent substrate, no bubbles are generated between the transparent conductive layer and the transparent substrate, When used in a mobile phone, PDA, or the like, the display surface is not damaged by bubbles even when the temperature of the device becomes high. Moreover, since the transparent conductive layer becomes extremely thin, the light transmittance is excellent.
Moreover, since the display part of a touch panel and the protective plate of a touch panel can be used together and it is not necessary to provide a protective plate separately, cost can be reduced. Moreover, since it is not necessary to provide an expensive index matching film between the display part of a touch panel and a protective plate, the number of materials and the index matching film attaching process can be reduced.
As a result, the product lead time can be shortened and the total defect rate of the touch panel device can be reduced.

次に、本発明の一実施の形態について図面を参照して説明する。
図2に示すものは、静電容量結合方式のタッチパネル装置の組立状態の断面図を示すものである。
図示されるように、同装置は、タッチパネル21とLCDパネルユニット22とを屈折率を調整したゲル状樹脂や両面接着フィルムにより接着することにより構成される。
タッチパネル21は、指等により押圧されることになる透明基板23に、後述するLCDパネルユニット22からの光を、その外縁部において遮光するための遮光層24を下側に設け、更に、その下側に透明のオーバーコート層25、透明導電層26、配線保護用の絶縁層27を順に成膜することにより積層して構成される。
本明細書において、成膜とは、別体として構成されたフィルム等を貼着することにより各層を形成することを除く意味で使用している。
尚、透明導電層26に接続される配線用の金属パターン層28は、FPC配線29を介して外部の位置検出回路と接続され、透明基板23を押圧することにより変化した抵抗値が位置検出回路30により検出されることになる。
上記構成により、静電容量結合方式のセンシングを行うことが可能となる。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 2 shows a sectional view of the assembled state of the capacitively coupled touch panel device.
As shown in the figure, the apparatus is configured by bonding the touch panel 21 and the LCD panel unit 22 with a gel-like resin or a double-sided adhesive film whose refractive index is adjusted.
The touch panel 21 is provided on the transparent substrate 23 to be pressed by a finger or the like on the lower side with a light shielding layer 24 for shielding light from the LCD panel unit 22 to be described later at the outer edge portion. On the side, a transparent overcoat layer 25, a transparent conductive layer 26, and an insulating layer 27 for protecting the wiring are sequentially formed to be laminated.
In this specification, the term “film formation” is used to mean that each layer is formed by sticking a film or the like configured as a separate body.
The wiring metal pattern layer 28 connected to the transparent conductive layer 26 is connected to an external position detection circuit via the FPC wiring 29, and the resistance value changed by pressing the transparent substrate 23 is a position detection circuit. 30 will be detected.
With the above configuration, capacitive coupling sensing can be performed.

LCDパネルユニット22の詳細は、図示しないが、アクティブマトリックス基板と配向層との間に液晶層を挟持するとともに、液晶層の外周部をシール剤により封止して構成される。尚、LCDパネルユニット22の構造については、液晶層を備えるものであれば、本実施の形態の構造に限定するものではなく、LCDパネルユニット22自体がカラーフィルター層を備えているものや、別体のカラーフィルタと接合したもの等としてもよい。   Although details of the LCD panel unit 22 are not shown, the liquid crystal layer is sandwiched between the active matrix substrate and the alignment layer, and the outer periphery of the liquid crystal layer is sealed with a sealant. The structure of the LCD panel unit 22 is not limited to the structure of the present embodiment as long as it has a liquid crystal layer. The LCD panel unit 22 itself has a color filter layer, It may be bonded to a body color filter.

上述したタッチパネル21の構造において、本発明では、透明基板23の片面に、LCDパネルユニットからの光を遮るための遮光層24を設けるようにしている。この遮光層24を設ける位置は、透明基板23上であれば特に制限はなく、通常は、透明基板23の周部に枠状に設けられる。具体的には、例えば、透明基板23の端面から2mm〜10mmの範囲において設けることができる。尚、遮光層24は、必ずしも端面から形成される必要はなく、端面から少し内側から形成されていてもよい。また、遮光層24は枠状に形成されるので中央に大きな開口部を備えているが、更に、遮光層24上において、開口部として、図4に示すように、ロゴや文字等の輪郭を構成する開口部31、携帯電話のカメラ用のレンズのための開口部32やインジケータ照明用の開口部を設けるようにしてもよい。   In the structure of the touch panel 21 described above, in the present invention, a light shielding layer 24 for shielding light from the LCD panel unit is provided on one surface of the transparent substrate 23. The position where the light shielding layer 24 is provided is not particularly limited as long as it is on the transparent substrate 23, and is usually provided in a frame shape around the transparent substrate 23. Specifically, for example, it can be provided within a range of 2 mm to 10 mm from the end surface of the transparent substrate 23. Note that the light shielding layer 24 is not necessarily formed from the end face, and may be formed slightly from the end face. Further, since the light shielding layer 24 is formed in a frame shape, it has a large opening at the center. Further, on the light shielding layer 24, as shown in FIG. You may make it provide the opening part 31 to comprise, the opening part 32 for the lens for cameras of a mobile telephone, and the opening part for indicator illumination.

上記遮光層24の形成方法としては、中央の開口部や開口部31,32となるべき部位をマスクして、酸化クロムとクロムの順で積層した黒色2層のクロム層や、銀色のAlやAl合金或いは金色のTiN等をスパッタリングにより形成するか、従来から行われている印刷により形成することができる。その膜厚については、0.5μm〜1.5μmとする。   As the method for forming the light shielding layer 24, the central opening and the portions to be the openings 31 and 32 are masked, and a black two-layer chromium layer in which chromium oxide and chromium are stacked in order, silver Al or Al alloy or gold-colored TiN or the like can be formed by sputtering, or can be formed by conventional printing. About the film thickness, it shall be 0.5 micrometer-1.5 micrometers.

上記遮光層24の上には、膜厚2μm〜3μmで、例えば、感光性等のアクリル樹脂等の透明な樹脂をスピンコートよりオーバーコート層25として成膜する。そして、その上に、抵抗値を検出するために、図3に示すパターンとなるように、膜厚5nm〜50nmで、亜鉛酸化膜、酸化錫膜、非晶質のITO、非晶質のIZOや多結晶ITOやIn等から構成される透明導電層26をスパッタリングにより成膜する。最後に、SiO等の絶縁材料から構成される配線保護用の絶縁層27を膜厚500Å〜1000ÅでCVDやスパッタリングにより成膜する。
このように、遮光層24を備えた透明基板23上に、オーバーコート層25、透明導電層26を順に成膜により積層することにより、透明導電層26とオーバーコート層との間に気泡を生じさせることがなく、高温下において気泡が膨らみLCDパネルユニット22の表示を見づらくすることを防ぐことができる。
また、本実施の形態のタッチパネル装置は、従来の構造のタッチパネル(透明基板+インデックス・マッチングフィルム(住友スリーエム株式会社製高透明接着剤転写テープ8197)+ITOが形成されたフィルム+PETフィルム+同インデックス・マッチングフィルム+LCDパネルユニットを貼着して積層した構造)と比べて、透過率の低減を約8%程度防ぐことができる。この値は、透明基板の透過率を99%、インデックス・マッチングフィルムの透過率を99.80%、ITOが形成されたフィルムの透過率を91%、PETフィルムの透過率を84%とした場合の値である。
On the light-shielding layer 24, a transparent resin such as a photosensitive acrylic resin is formed as an overcoat layer 25 by spin coating with a film thickness of 2 to 3 μm. Then, in order to detect the resistance value, a zinc oxide film, a tin oxide film, an amorphous ITO, and an amorphous IZO film having a film thickness of 5 nm to 50 nm so as to have a pattern shown in FIG. A transparent conductive layer 26 composed of, for example, polycrystalline ITO or In 2 O 3 is formed by sputtering. Finally, a wiring protection insulating layer 27 made of an insulating material such as SiO 2 is formed by CVD or sputtering with a film thickness of 500 to 1000 mm.
As described above, by laminating the overcoat layer 25 and the transparent conductive layer 26 in this order on the transparent substrate 23 having the light shielding layer 24, bubbles are generated between the transparent conductive layer 26 and the overcoat layer. It is possible to prevent the bubbles from expanding at high temperatures and making it difficult to see the display on the LCD panel unit 22.
In addition, the touch panel device according to the present embodiment includes a touch panel having a conventional structure (transparent substrate + index matching film (highly transparent adhesive transfer tape 8197 manufactured by Sumitomo 3M Limited) + ITO film + PET film + same index / Compared with a structure in which a matching film and an LCD panel unit are attached and laminated), a reduction in transmittance can be prevented by about 8%. This value is when the transmittance of the transparent substrate is 99%, the transmittance of the index matching film is 99.80%, the transmittance of the ITO film is 91%, and the transmittance of the PET film is 84%. Is the value of

また、上記透明導電層26のパターンについては、図3に示されたものに限定するものではなく、従来から静電容量結合方式のタッチパネルにおいて使用されている公知のパターンも使用することができる。また、成膜条件については、上記膜厚を得られるものであれば特に制限するものではない。
また、透明導電層26の表面抵抗としては、特に制限するものではないが、例えば、100〜500Ω程度とすることができる。
Further, the pattern of the transparent conductive layer 26 is not limited to that shown in FIG. 3, and a known pattern conventionally used in a capacitively coupled touch panel can also be used. The film forming conditions are not particularly limited as long as the film thickness can be obtained.
Further, the surface resistance of the transparent conductive layer 26 is not particularly limited, but can be, for example, about 100 to 500Ω.

上述したタッチパネル21を構成する透明基板23として、ガラスやアクリル樹脂等から構成され、例えば、厚さ0.5mm〜0.55mm程度の基板を使用することができるが、低い吸湿性のガラスを選択すれば、高温下においてオーバーコート層25との間に気泡が生じることを抑えることができる。
また、透明導電層26に隣接して配置される配線用の金属パターン層28は、MAM等の合金を、厚さ3000Å程度で、シート抵抗が0.1〜1Ω/□程度の幅10μm〜100μm、長さ1cm〜10cmの導電層を10μm〜100μmの間隔でスパッタリング等により形成することができる。尚、この金属パターン層28の断面のオーバーコート層25からの立ち上がり角部を60°以下とすることが好ましい。金属パターン層28上に成膜される絶縁層27による被覆を確実にすることができるからである。
The transparent substrate 23 constituting the touch panel 21 described above is made of glass, acrylic resin, or the like. For example, a substrate having a thickness of about 0.5 mm to 0.55 mm can be used, but low hygroscopic glass is selected. If it does, it can suppress that a bubble arises between the overcoat layers 25 under high temperature.
Further, the wiring metal pattern layer 28 disposed adjacent to the transparent conductive layer 26 is made of an alloy such as MAM having a thickness of about 3000 mm and a sheet resistance of about 0.1 to 1 Ω / □ and a width of 10 μm to 100 μm. A conductive layer having a length of 1 cm to 10 cm can be formed by sputtering or the like at intervals of 10 μm to 100 μm. In addition, it is preferable that the rising angle part from the overcoat layer 25 of the cross section of this metal pattern layer 28 is 60 degrees or less. This is because the covering with the insulating layer 27 formed on the metal pattern layer 28 can be ensured.

従来技術の説明図Illustration of prior art 本発明の一実施の形態の断面図Sectional drawing of one embodiment of this invention 同実施の形態の透明導電層のパターンの説明図Explanatory drawing of the pattern of the transparent conductive layer of the embodiment 同実施の形態の遮光層に設けた開口部の説明図Explanatory drawing of the opening part provided in the light shielding layer of the same embodiment

符号の説明Explanation of symbols

1 カバーガラス
2 タッチパネルユニット
3 LCDパネルユニット
4 基板
5,6 透明導電層
7 導電層
8 基板
9 アクティブマトリックス基板
10 液晶層
21 タッチパネル
22 LCDパネルユニット
23 透明基板
24 遮光層
25 オーバーコート層
26 透明導電層
27 絶縁層
28 金属パターン層
29 FPC配線
30 位置検出回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cover glass 2 Touch panel unit 3 LCD panel unit 4 Substrate 5,6 Transparent conductive layer 7 Conductive layer 8 Substrate 9 Active matrix substrate 10 Liquid crystal layer 21 Touch panel 22 LCD panel unit 23 Transparent substrate 24 Light shielding layer 25 Overcoat layer 26 Transparent conductive layer 27 Insulating layer 28 Metal pattern layer 29 FPC wiring 30 Position detection circuit

Claims (9)

片面に膜厚0.5μ〜1.5μmの遮光層を備えた透明基板の前記片面に、膜厚2μm〜3μmのオーバーコート層、膜厚100Å〜200Åの透明導電層を順に積層し、前記透明導電層はスパッタリングにより成膜したことを特徴とするタッチパネル。   On the one side of the transparent substrate having a light-shielding layer having a thickness of 0.5 μm to 1.5 μm on one side, an overcoat layer having a thickness of 2 μm to 3 μm and a transparent conductive layer having a thickness of 100 μm to 200 μm are sequentially laminated. A touch panel, wherein the conductive layer is formed by sputtering. 前記透明導電層の上に、膜厚500Å〜1000Åの絶縁層を積層したことを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein an insulating layer having a thickness of 500 mm to 1000 mm is laminated on the transparent conductive layer. 前記オーバーコート層上に、前記透明導電層と隣接して配線用の金属パターン層をスパッタリングにより成膜し、前記金属パターン層の断面における前記オーバーコート層からの立ち上がり角度を60°以下としたことを特徴とする請求項2に記載のタッチパネル。   On the overcoat layer, a metal pattern layer for wiring was formed by sputtering adjacent to the transparent conductive layer, and the rising angle from the overcoat layer in the cross section of the metal pattern layer was 60 ° or less. The touch panel according to claim 2. 前記遮光層は、印刷又はフォトリソにより形成されたものであることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein the light shielding layer is formed by printing or photolithography. 前記オーバーコート層は、スピンコートにより形成されたものであることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein the overcoat layer is formed by spin coating. 前記絶縁層は、CVD又はスパッタリングにより形成されたものであることを特徴とする請求項2乃至5の何れかに記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 2, wherein the insulating layer is formed by CVD or sputtering. 前記遮光層は、前記透明基板の周部において枠状に設けられ、且つ、前記遮光層にも開口部を備えたことを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein the light shielding layer is provided in a frame shape at a peripheral portion of the transparent substrate, and the light shielding layer also includes an opening. 請求項1乃至7の何れかに記載のタッチパネルにおいて、前記透明導電層側にLCDパネルを設けたことを特徴とするタッチパネル装置。   8. The touch panel according to claim 1, wherein an LCD panel is provided on the transparent conductive layer side. 透明基板の片面に、印刷又はフォトリソにより膜厚0.5μ〜1.5μmの遮光層を成膜した後、膜厚2μm〜3μmのオーバーコート層をスピンコートにより成膜し、前記オーバーコート層上にスパッタリングにより膜厚100Å〜200Åの透明導電層を成膜することを特徴とするタッチパネルの製造方法。   A light shielding layer having a film thickness of 0.5 μm to 1.5 μm is formed on one surface of the transparent substrate by printing or photolithography, and then an overcoat layer having a film thickness of 2 μm to 3 μm is formed by spin coating. A method for manufacturing a touch panel, wherein a transparent conductive layer having a thickness of 100 to 200 mm is formed by sputtering.
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