JP2009300182A - Calibrating device - Google Patents

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JP2009300182A
JP2009300182A JP2008153325A JP2008153325A JP2009300182A JP 2009300182 A JP2009300182 A JP 2009300182A JP 2008153325 A JP2008153325 A JP 2008153325A JP 2008153325 A JP2008153325 A JP 2008153325A JP 2009300182 A JP2009300182 A JP 2009300182A
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Yukinobu Anezaki
幸信 姉崎
Kenji Kanehara
賢治 金原
Hideaki Nagatomo
秀昭 長友
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Soken Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a calibrating device capable of precisely calibrating an optical measuring device for measuring a particle size distribution. <P>SOLUTION: The calibrating device is equipped with a plurality of transparent base materials each of which has an antireflection film provided to at least one of both surfaces, standard particles having a refractive index different from that of the transparent base materials and transmittance almost coinciding with that of a measuring target and fixed to at least one of both surfaces of each of the transparent base materials and the spacers alternately stacked to the transparent base materials and almost vertically holding both surfaces of each of the transparent base materials with respect to an optical axis. In the stacked transparent base materials, the distance between both end parts on an incident side and an emitting side is allowed to almost coincide with the light path length of the measuring target and one surfaces having the standard particles fixed thereto of the transparent base materials and the cross section of the measuring target corresponding to the same position are allowed to almost coincide with each other in particle size distribution, number per a unit area and average particle interval. Further, in the stacking direction, the distance between the surfaces, to which the adjacent standard particles are respectively fixed, of the transparent base materials almost coincides with the average particle interval at the position corresponding to the measuring target. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を校正するための校正装置に関するものである。   The present invention relates to a calibration apparatus for calibrating an optical measurement apparatus that measures a particle size distribution of a measurement object that is three-dimensionally arranged.

従来、燃料微粒子や粉体、液体中の気泡などの粒子の集合体である被測定体の粒度分布を測定する装置として、影写真・散乱光撮影などの画像計測、レーザ回折・散乱法を用いた光学測定装置が知られている。そして、例えば特許文献1や非特許文献1,2には、上記光学測定装置において、2値化レベルなどの校正に適用される校正装置(校正サンプル)が示されている。   Conventionally, image measurement such as shadow photography and scattered light photography, and laser diffraction and scattering methods have been used as devices for measuring the particle size distribution of measured objects, which are aggregates of particles such as fuel particles, powder, and bubbles in liquids. An optical measuring device is known. For example, Patent Document 1 and Non-Patent Documents 1 and 2 show a calibration device (calibration sample) that is applied to calibration such as a binarization level in the optical measurement device.

特許文献1に示される校正装置は、ガラス基板(透明基材)の一面上に標準サンプル(標準粒子)を配置し、その後、溶融したガラスを流し込むことにより、標準サンプルがガラスに埋設されたものとなっている。   The calibration apparatus disclosed in Patent Document 1 is a standard sample embedded in glass by placing a standard sample (standard particles) on one surface of a glass substrate (transparent substrate) and then pouring molten glass. It has become.

また、非特許文献1に示される校正装置は、ガラス基板(透明基材)上に、クロム薄膜からなる不透明な円盤(標準粒子)を重ならないように敷き詰めたものとなっている。   Moreover, the calibration apparatus shown by the nonpatent literature 1 is laid down so that the opaque disk (standard particle) which consists of a chromium thin film may not overlap on a glass substrate (transparent base material).

また、非特許文献2に示される校正装置は、所定の粒子径分布を有する球形の検定用粒子(標準粒子)を、液中で攪拌などによって分散させたものとなっている。
特開2001−165846号公報 山川、他4名、「パルスレーザーホログラフィー法による噴霧粒径の三次元計測システムの開発」、微粒化シンポジウム、1999、第23巻、第8号、p.19−26 森、「レーザ回折・散乱法粒子径分布測定装置による検定用粒子のラウンドロビン試験結果」、粉体と工業、2006、第38巻、第6号、p.35−41
The calibration device shown in Non-Patent Document 2 is a device in which spherical test particles (standard particles) having a predetermined particle size distribution are dispersed in a liquid by stirring or the like.
JP 2001-165846 A Yamakawa et al., 4 others, “Development of three-dimensional measurement system of spray particle size by pulsed laser holography method”, Symposium on Atomization, 1999, Vol. 23, No. 8, p.19-26 Mori, “Round Robin Test Results of Test Particles Using a Laser Diffraction / Scattering Particle Size Distribution Measuring Device”, Powder and Industry, 2006, Vol. 38, No. 6, p. 35-41

ところで、このような校正装置では、標準粒子の分散状態を被測定体に近い状態とするほど、校正の精度を高めることができる。   By the way, in such a calibration apparatus, the accuracy of calibration can be increased as the dispersion state of the standard particles is made closer to the measurement object.

しかしながら、特許文献1及び非特許文献1に示される校正装置は、透明基材上に標準粒子が配置された所謂2次元構造となっており、測定光の光軸方向において、粒子により何度も測定光が散乱される多重散乱の影響が考慮されていない。したがって、これら校正装置を、燃料微粒子や粉体、液体中の気泡などの粒子が3次元的に配置されてなる被測定体(3次元配置された被測定体)の粒度分布を測定する光学測定装置の校正に適用したとしても、精度よく校正することができない。   However, the calibration apparatus shown in Patent Document 1 and Non-Patent Document 1 has a so-called two-dimensional structure in which standard particles are arranged on a transparent base material, and many times due to particles in the optical axis direction of measurement light. The influence of multiple scattering in which the measurement light is scattered is not considered. Therefore, these calibration devices use optical measurement to measure the particle size distribution of an object to be measured (three-dimensionally arranged object to be measured) in which particles such as fuel fine particles, powder, and bubbles in a liquid are three-dimensionally arranged. Even if it is applied to the calibration of the device, it cannot be calibrated with high accuracy.

また、特許文献1に示される校正装置の場合、溶融したガラスを流し込むので、ガラス基板上に配置された標準サンプルに位置ズレが生じ、基板上における標準サンプルの配置が偏る(例えば所定の平均粒子間隔を確保することができない)。したがって、2次元的に見ても、粒子の分散状態を被測定体と近い所定状態とすることが困難である。   Further, in the case of the calibration apparatus shown in Patent Document 1, since molten glass is poured, the standard sample placed on the glass substrate is misaligned, and the standard sample placement on the substrate is biased (for example, predetermined average particles). Can't ensure spacing). Therefore, even when viewed two-dimensionally, it is difficult to set the dispersed state of the particles to a predetermined state close to the measured object.

さらには、非特許文献2に示される校正装置の場合、液中において標準粒子の位置が経時的に(時々刻々と)変化するため、測定点(カメラ撮影による画像計測の場合は焦点位置)での標準粒子の分散状態が、被測定体に近い状態となっているか否かが不明確である。特に、測定光の光軸方向において、異なる位置(断面)での分散状態が互いに異なる場合には、精度よく校正することができない。   Furthermore, in the case of the calibration apparatus shown in Non-Patent Document 2, the position of the standard particles in the liquid changes with time (from moment to moment), so at the measurement point (focus position in the case of image measurement by camera photography). It is unclear whether the dispersion state of the standard particles is close to that of the object to be measured. In particular, when the dispersion states at different positions (cross sections) are different from each other in the optical axis direction of the measurement light, calibration cannot be performed with high accuracy.

本発明は上記問題点に鑑み、3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を、精度よく校正することのできる校正装置を提供することを目的とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a calibration apparatus that can accurately calibrate an optical measurement apparatus that measures the particle size distribution of a three-dimensionally arranged measurement object.

上記目的を達成する為に、請求項1に記載の発明は、3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を校正するための校正装置であって、光学測定装置の測定光に対して透明で、測定光が透過される両表面の少なくとも一方に反射防止膜が設けられた複数の透明基材と、透明基材とは異なる屈折率及び被測定体と略一致する透過率を有しており、各透明基材の両表面の少なくとも一方に対し、直接若しくは反射防止膜を介して固定された標準粒子と、透明基材と交互に測定光の光軸方向に積層され、測定光が透過される各透明基材の表面を互いに略平行に保つ(換言すれば、測定光が透過される各透明基材の両表面を光軸に対して略垂直に保つスペーサと、を備えている。そして、スペーサを介して積層された複数の透明基材において、測定光の入射側端部と出射側端部との間の距離が、被測定体における測定光の光路長と略一致され、透明基材の同一表面に固定された標準粒子の、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、被測定体の同一位置に対応する断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致され、積層方向において、互いに隣接する標準粒子がそれぞれ固定された透明基材の表面間の距離が、被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致するように、反射防止膜を含む透明基材の厚さとスペーサの厚さがそれぞれ設定されていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the invention described in claim 1 is a calibration device for calibrating an optical measurement device for measuring the particle size distribution of a three-dimensionally arranged object to be measured, the measurement of the optical measurement device. A transparent substrate that is transparent to light and has an antireflection film provided on at least one of both surfaces through which the measurement light is transmitted, and a transmission that substantially matches the refractive index and the object to be measured different from the transparent substrate. The standard particles fixed directly or via an antireflection film and the transparent base material are alternately laminated in the optical axis direction of the measurement light on at least one of both surfaces of each transparent base material. The surfaces of the transparent substrates through which the measurement light is transmitted are kept substantially parallel to each other (in other words, both the surfaces of the transparent substrates through which the measurement light is transmitted are substantially perpendicular to the optical axis; And a plurality of transparent substrates laminated via spacers In this case, the distance between the incident side end portion and the emission side end portion of the measurement light is substantially the same as the optical path length of the measurement light in the measured object, and the standard particles fixed on the same surface of the transparent substrate are The particle size distribution, the number per unit area, and the average particle interval are substantially the same as the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle interval in the cross section corresponding to the same position of the object to be measured. In the transparent substrate including the antireflection film, the distance between the surfaces of the transparent substrate to which the standard particles adjacent to each other are fixed substantially coincides with the average particle spacing at the corresponding position in the measured object. The thickness and the thickness of the spacer are respectively set.

本発明では、透明基材の表面に標準粒子が固定され、標準粒子を有する透明基材が測定光の光軸に沿って多層に積層されて校正装置が構成されており、その積層方向において、透明基材の入射側端部と出射側端部との間の距離が、被測定体における測定光の光路長と略一致されている。   In the present invention, the standard particles are fixed on the surface of the transparent substrate, the transparent substrate having the standard particles is laminated in multiple layers along the optical axis of the measurement light, and the calibration device is configured. The distance between the incident side end portion and the emission side end portion of the transparent base material is substantially coincident with the optical path length of the measurement light in the measured object.

また、透明基材の表面に固定された標準粒子は、同一表面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、測定光の入射部位からの距離が互いに略等しい位置関係にある被測定体の断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致されている。すなわち、透明基材の積層方向(測定光の光軸方向)において、いずれの透明基材の表面に固定された標準粒子も、光学的な位置が略等しい関係にある被測定体の断面での(カメラ撮影の場合、被測定体における焦点位置が等しい位置での)粒子の分散状態とほぼ等しくなっている。なお、標準粒子が固定された各層の透明基材としては、光学的な位置が略等しい関係にある被測定体の断面での粒子の分散状態のデータ(粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔)を元に、既知の径の標準粒子を、エアブラシなどによる噴霧や公知の乾式分散ユニットを用いて透明基材の表面上に配置しつつ固定し、その後、顕微鏡などで光学的に計測することで、被測定体の対応する断面と分散状態の略一致が確認されたものを用いている。   In addition, the standard particles fixed on the surface of the transparent substrate have the same particle size distribution, the number per unit area, and the average particle interval on the same surface, and the positional relationship in which the distance from the measurement light incident site is substantially equal to each other. Are substantially the same as the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle spacing in the cross section of the object to be measured. That is, in the lamination direction of the transparent base material (the optical axis direction of the measurement light), the standard particles fixed on the surface of any transparent base material are cross-sections of the measured objects whose optical positions are substantially equal. It is almost equal to the particle dispersion state (in the case of camera photography, at the same focal position on the object to be measured). In addition, as the transparent base material of each layer to which the standard particles are fixed, the data of the dispersion state of the particles in the cross section of the measurement object having substantially the same optical position (particle size distribution, number per unit area, Based on the average particle spacing), standard particles with a known diameter are fixed while being placed on the surface of the transparent substrate by spraying with an airbrush or a known dry dispersion unit, and then optically observed with a microscope or the like. As a result of the measurement, a cross-section corresponding to the object to be measured and a substantially coincident dispersion state are used.

また、積層方向において、互いに隣接する標準粒子がそれぞれ固定された透明基材の表面間の距離が、被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致するように、反射防止膜を含む透明基材の厚さとスペーサの厚さがそれぞれ設定されている。すなわち、標準粒子は、積層方向においても光学的な位置が略等しい関係にある被測定体の部位での平均粒子間隔と略一致されている。   In addition, in the stacking direction, an antireflection film is included so that the distance between the surfaces of the transparent base material to which the standard particles adjacent to each other are fixed substantially coincides with the average particle spacing at the corresponding position in the measurement object. The thickness of the transparent substrate and the thickness of the spacer are set. That is, the standard particles are substantially coincident with the average particle spacing at the site of the measurement object having a substantially equal optical position in the stacking direction.

このように本発明では、粒子が3次元配置された被測定体における粒子の分散状態により近い状態で、標準粒子が3次元配置されている。したがって、上記した校正装置を用いれば、被測定体での多重散乱を再現することができ、これにより、3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を、精度よく校正することができる。   As described above, in the present invention, the standard particles are three-dimensionally arranged in a state closer to the dispersed state of the particles in the measurement object in which the particles are three-dimensionally arranged. Therefore, if the above-described calibration apparatus is used, multiple scattering at the object to be measured can be reproduced, thereby accurately calibrating the optical measuring apparatus that measures the particle size distribution of the object to be measured arranged three-dimensionally. be able to.

また、本発明では、透明基材における両表面の少なくとも一方に反射防止膜(所謂ARコート)を設けており、これにより、反射防止膜が設けられた透明基材表面での反射が抑制される。したがって、透明基材を多層に積層した構成でありながら、透過光量を確保することができる。好ましくは、透明基材の両表面に反射防止膜が設けられた構成とすると良い。なお、反射防止膜を設けることで、繰り返し反射によるゴーストやフレアを抑制(像のコントラストの低下を抑制)し、校正の精度をより高めることもできる。   Further, in the present invention, an antireflection film (so-called AR coating) is provided on at least one of both surfaces of the transparent base material, thereby suppressing reflection on the surface of the transparent base material provided with the antireflection film. . Therefore, the amount of transmitted light can be secured while the transparent substrate is laminated in multiple layers. Preferably, it is good to set it as the structure by which the antireflection film was provided in both surfaces of the transparent base material. In addition, by providing an antireflection film, it is possible to suppress ghosts and flares due to repeated reflections (suppress the decrease in image contrast), and to further improve calibration accuracy.

請求項1に記載の発明においては、請求項2に記載のように、標準粒子が樹脂からなり、その表面の溶着により透明基材に対して固定された構成としても良い。このように樹脂製の標準粒子を用いると、標準粒子の表面のみが溶融(軟化)するように加熱することで、別途接着剤等を必要とせずに、粒子形状を確保しつつ標準粒子を透明基材に対して固定(溶着)させることができるので光学的に好ましい。   In the first aspect of the present invention, as described in the second aspect, the standard particles may be made of resin and fixed to the transparent substrate by welding of the surface thereof. In this way, when using resin standard particles, heating is performed so that only the surface of the standard particles melts (softens), so that the standard particles are transparent while ensuring the particle shape without the need for a separate adhesive or the like. Since it can be fixed (welded) to the substrate, it is optically preferable.

請求項1又は請求項2に記載の発明においては、請求項3に記載のように、標準粒子が各透明基材の両表面に対してそれぞれ固定され、反射防止膜を含む透明基材の厚さとスペーサの厚さが、被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致された構成とすると良い。   In the invention according to claim 1 or 2, as described in claim 3, the thickness of the transparent substrate including the standard particles fixed to both surfaces of each transparent substrate and including an antireflection film. It is preferable that the thickness of the spacer and the spacer be substantially the same as the average particle spacing at the corresponding position in the measurement object.

これによれば、透明基材の両表面に標準粒子が固定されているので、平均粒子間隔が同じであれば、一方の表面のみに標準粒子が固定される構造に比べて、透明基材やスペーサの厚さを厚くすることができる。特に透明基材は、その厚さが薄くなるほど機械的加工の特性により平面度が低下するため、像に歪が生じやすくなるが、上記によれば、このような歪を生じにくくすることができる。   According to this, since the standard particles are fixed on both surfaces of the transparent base material, if the average particle interval is the same, the transparent base material and the transparent base material are compared with the structure in which the standard particles are fixed only on one surface. The thickness of the spacer can be increased. In particular, as the thickness of the transparent base material decreases, the flatness decreases due to the characteristics of mechanical processing. Therefore, distortion is likely to occur in the image, but according to the above, it is difficult to generate such distortion. .

次に、請求項4に記載の発明は、3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を校正するための校正装置であって、光学測定装置の測定光に対して透明で、屈折率n1を有する平板状の複数の透明基材と、屈折率n1とは異なる屈折率n2と、被測定体と略一致する透過率とを有し、測定光が透過される各透明基材の両表面の少なくとも一方に対して固定された標準粒子と、透明基材と交互に測定光の光軸方向に積層され、測定光が透過される各透明基材の表面を互いに略平行に保つ(換言すれば、測定光が透過される各透明基材の両表面を光軸に対して略垂直に保つスペーサと、スペーサを介して隣接する透明基材の相対する表面間の領域に充填され、測定光に対して透明で、屈折率n1と略一致する屈折率n3を有する充填材と、を備えている。そして、スペーサを介して積層された複数の透明基材において、測定光の入射側端部と出射側端部との間の距離が、被測定体における測定光の光路長と略一致され、透明基材の同一表面に固定された標準粒子の、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、被測定体の同一位置に対応する断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致され、積層方向において、互いに隣接する標準粒子がそれぞれ固定された透明基材の表面間の距離が、被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致するように、透明基材の厚さとスペーサの厚さがそれぞれ設定されていることを特徴とする。   Next, the invention described in claim 4 is a calibration device for calibrating an optical measurement device for measuring the particle size distribution of a three-dimensionally arranged object to be measured, which is transparent to the measurement light of the optical measurement device. Each transparent substrate having a plurality of plate-like transparent base materials having a refractive index n1, a refractive index n2 different from the refractive index n1, and a transmittance substantially coincident with the measured object is transmitted. Standard particles fixed to at least one of both surfaces of the base material and transparent base material are alternately laminated in the optical axis direction of the measurement light, and the surfaces of the transparent base materials through which the measurement light is transmitted are substantially parallel to each other. (In other words, in the region between the spacers that keep both surfaces of each transparent substrate through which the measurement light is transmitted substantially perpendicular to the optical axis and the opposite surfaces of the adjacent transparent substrates through the spacers) Filled, transparent to the measuring light, and having a refractive index n3 that approximately matches the refractive index n1 In the plurality of transparent substrates stacked via the spacers, the distance between the measurement light incident side end and the output side end is the measurement light in the object to be measured. The particle diameter distribution, the number per unit area, and the average particle spacing of the standard particles that are substantially the same as the optical path length and fixed on the same surface of the transparent substrate are cross sections corresponding to the same position of the object to be measured. The distance between the surfaces of the transparent base material, which is substantially the same as the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle spacing and in which the standard particles adjacent to each other are fixed in the stacking direction, corresponds to the object to be measured. The thickness of the transparent substrate and the thickness of the spacer are respectively set so as to substantially coincide with the average particle spacing at the position.

このように本発明でも、請求項1に記載の発明と同様に、3次元配置された被測定体における粒子の分散状態により近い状態で、標準粒子が3次元配置されている。したがって、上記した校正装置を用いれば、被測定体での多重散乱を再現することができ、これにより、3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を、精度よく校正することができる。   Thus, also in the present invention, the standard particles are three-dimensionally arranged in a state closer to the dispersed state of the particles in the three-dimensionally arranged measurement object, as in the first aspect of the invention. Therefore, if the above-described calibration apparatus is used, multiple scattering at the object to be measured can be reproduced, thereby accurately calibrating the optical measuring apparatus that measures the particle size distribution of the object to be measured arranged three-dimensionally. be able to.

また、本発明では、透明基材の屈折率n1と充填材の屈折率n3が略一致され、これにより、屈折率分布の殆どない一様な透明部材内に、標準粒子が3次元配置された構成となっている。したがって、校正装置が、空気中に噴射された燃料微粒子や液中の気泡など、媒体(雰囲気)中の被測定体の状態により近い状態となっており、これにより、校正の精度をより高めることができる。また、透明基材の表面のうち、隣接する透明基材と相対する表面での反射が殆ど生じないので、これにより透過光量を確保することができる。さらには、繰り返し反射による像のコントラストの低下を抑制し、校正の精度をより高めることもできる。   Further, in the present invention, the refractive index n1 of the transparent base material and the refractive index n3 of the filler are substantially matched, whereby the standard particles are three-dimensionally arranged in a uniform transparent member having almost no refractive index distribution. It has a configuration. Therefore, the calibration device is in a state closer to the state of the measured object in the medium (atmosphere), such as fuel fine particles injected into the air or bubbles in the liquid, thereby further improving the accuracy of calibration. Can do. Further, since the reflection on the surface of the transparent base material facing the adjacent transparent base material hardly occurs, the amount of transmitted light can be ensured. Further, it is possible to suppress a decrease in the contrast of the image due to repeated reflection, and to further improve the accuracy of calibration.

また、透明基材の表面に反射防止膜を設けることで反射を抑制する場合、反射防止膜も透明基材の平面度の影響を受けるため、透明基材の厚さを薄くするほど、像に歪が生じやすくなる。これに対し、本発明では、隣接する透明基材の相対する表面間に充填材を充填するので、このような歪を低減することができる。   In addition, when suppressing reflection by providing an antireflection film on the surface of the transparent substrate, the antireflection film is also affected by the flatness of the transparent substrate. Distortion tends to occur. On the other hand, in this invention, since a filler is filled between the opposing surfaces of adjacent transparent base materials, such distortion can be reduced.

次に、請求項5に記載の発明は、3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を校正するための校正装置であって、光学測定装置の測定光に対して透明で、屈折率n1を有する平板状の複数の透明基材と、屈折率n1よりも大きい屈折率n2と、前記被測定体と略一致する透過率とを有し、測定光が透過される各透明基材の両表面の少なくとも一方に対して固定された標準粒子と、透明基材と交互に測定光の光軸方向に積層され、測定光が透過される各透明基材の表面を互いに略平行に保つ(換言すれば、測定光が透過される各透明基材の両表面を光軸に対して略垂直に保つスペーサと、スペーサを介して互いに隣接する透明基材の相対する表面間の領域に充填され、光学測定装置の測定光に対して透明で、屈折率n1よりも小さく屈折率1よりも大きい屈折率n3を有する充填材と、を備えている。そして、スペーサを介して積層された複数の透明部材において、測定光の入射側端部と出射側端部との間の距離が、被測定体における測定光の光路長と略一致され、透明基材の同一表面に固定された標準粒子の、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、被測定体の同一位置に対応する断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致され、積層方向において、互いに隣接する標準粒子がそれぞれ固定された透明基材の表面間の距離が、被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致するように、透明基材の厚さと前記スペーサの厚さがそれぞれ設定されていることを特徴とする。   Next, the invention according to claim 5 is a calibration device for calibrating an optical measurement device for measuring the particle size distribution of a three-dimensionally arranged object to be measured, which is transparent to the measurement light of the optical measurement device. Each having a plurality of plate-like transparent base materials having a refractive index n1, a refractive index n2 larger than the refractive index n1, and a transmittance substantially coincident with the measured object, and through which measurement light is transmitted. The standard particles fixed to at least one of both surfaces of the transparent base material and the transparent base material are alternately laminated in the optical axis direction of the measurement light, and the surfaces of the transparent base materials through which the measurement light is transmitted are substantially the same. Keep in parallel (in other words, between the spacer that keeps both surfaces of each transparent substrate through which the measurement light is transmitted substantially perpendicular to the optical axis, and the opposite surfaces of the transparent substrate adjacent to each other through the spacer. The area is filled, transparent to the measuring light of the optical measuring device, and from the refractive index n1 And a filler having a refractive index n3 that is smaller than a refractive index of 1. In a plurality of transparent members stacked via a spacer, the measurement light incident side end and the output side end The distance between the reference particles is substantially the same as the optical path length of the measurement light in the object to be measured, and the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle interval of the standard particles fixed on the same surface of the transparent substrate are as follows. The surface of the transparent base material in which the standard particles adjacent to each other are fixed substantially in the laminating direction, with the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle spacing in the cross section corresponding to the same position of the measurement object The thickness of the transparent substrate and the thickness of the spacer are respectively set so that the distance between them substantially coincides with the average particle spacing at corresponding positions in the object to be measured.

このように本発明でも、請求項1に記載の発明と同様に、3次元配置された被測定体における粒子の分散状態により近い状態で、標準粒子が3次元配置されている。したがって、上記した校正装置を用いれば、被測定体での多重散乱を再現することができ、これにより、3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を、精度よく校正することができる。   Thus, also in the present invention, the standard particles are three-dimensionally arranged in a state closer to the dispersed state of the particles in the three-dimensionally arranged measurement object, as in the first aspect of the invention. Therefore, if the above-described calibration apparatus is used, multiple scattering at the object to be measured can be reproduced, thereby accurately calibrating the optical measuring apparatus that measures the particle size distribution of the object to be measured arranged three-dimensionally. be able to.

また、本発明では、標準粒子の屈折率n2のほうが、透明基材の屈折率n1よりも大きく、例えば空気中に噴射された燃料微粒子を影写真撮影した場合のように、粒子が影として写る被測定体用の校正装置となっている。そして、このような校正装置において、隣接する透明基材の相対する表面間の領域に、測定光に対して透明で、屈折率n1よりも小さく屈折率1よりも大きい屈折率n3を有する充填材が充填されている。したがって、透明基材の表面に空気(屈折率1)が隣接する構成よりも、隣接する2つの媒質の屈折率の差が小さいので、透明基材の表面における反射を低減し、透明基材を多層に積層した構成でありながら、透過光量を確保することができる。また、繰り返し反射による像のコントラストの低下を抑制し、校正の精度をより高めることもできる。さらには、屈折率n3が屈折率n1よりも小さいので、屈折率n1と屈折率n2とが近い値であっても、像のコントラストの低下を抑制することができる。   Further, in the present invention, the refractive index n2 of the standard particles is larger than the refractive index n1 of the transparent base material, and the particles appear as shadows, for example, when a photograph of fuel fine particles injected into the air is taken. It is a calibration device for the measured object. In such a calibration apparatus, a filler having a refractive index n3 that is transparent to the measurement light and is smaller than the refractive index n1 and larger than the refractive index 1 in a region between the opposing surfaces of adjacent transparent substrates. Is filled. Therefore, since the difference in refractive index between two adjacent media is smaller than the configuration in which air (refractive index 1) is adjacent to the surface of the transparent substrate, reflection on the surface of the transparent substrate is reduced, and the transparent substrate The amount of transmitted light can be ensured while the configuration is laminated in multiple layers. In addition, it is possible to suppress the deterioration of the contrast of the image due to repetitive reflection and to further improve the calibration accuracy. Furthermore, since the refractive index n3 is smaller than the refractive index n1, even when the refractive index n1 and the refractive index n2 are close to each other, it is possible to suppress a decrease in image contrast.

また、透明基材の表面に反射防止膜を設ける場合、反射防止膜が透明基材の平面度の影響を受けるため、透明基材の厚さを薄くするほど、像に歪が生じやすくなる。これに対し、本発明では、隣接する透明基材の相対する表面間に充填材を充填するので、このような歪を低減することができる。   In addition, when an antireflection film is provided on the surface of the transparent substrate, the antireflection film is affected by the flatness of the transparent substrate, so that the thinner the transparent substrate, the more likely the image is distorted. On the other hand, in this invention, since a filler is filled between the opposing surfaces of adjacent transparent base materials, such distortion can be reduced.

次に、請求項6に記載の発明は、3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を校正するための校正装置であって、光学測定装置の測定光に対して透明で、屈折率n1を有する平板状の複数の透明基材と、屈折率n1よりも小さい屈折率n2と、被測定体と略一致する透過率とを有し、測定光が透過される各透明基材の両表面の少なくとも一方に対して固定された標準粒子と、透明基材と交互に測定光の光軸方向に積層され、測定光が透過される各透明基材の表面を互いに略平行に保つ(換言すれば、測定光が透過される各透明基材の両表面を光軸に対して略垂直に保つスペーサと、スペーサを介して隣接する透明基材の相対する表面間の領域に充填され、光学測定装置の測定光に対して透明で、屈折率n1よりも大きく、屈折率n1との差が屈折率n1と屈折率1との差よりも小さい屈折率n3を有する充填材と、を備えている。そして、スペーサを介して積層された複数の透明部材において、測定光の入射側端部と出射側端部との間の距離が、被測定体における測定光の光路長と略一致され、透明基材の同一表面に固定された標準粒子の、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、被測定体の同一位置に対応する断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致され、積層方向において、互いに隣接する標準粒子がそれぞれ固定された透明基材の表面間の距離が、被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致するように、透明基材の厚さとスペーサの厚さがそれぞれ設定されていることを特徴とする。   Next, the invention described in claim 6 is a calibration device for calibrating an optical measurement device for measuring the particle size distribution of a three-dimensionally arranged object to be measured, which is transparent to the measurement light of the optical measurement device. Each of the transparent substrates having a plurality of flat transparent substrates having a refractive index n1, a refractive index n2 smaller than the refractive index n1, and a transmittance substantially equal to the measurement object are transmitted. Standard particles fixed to at least one of both surfaces of the base material and transparent base material are alternately laminated in the optical axis direction of the measurement light, and the surfaces of the transparent base materials through which the measurement light is transmitted are substantially parallel to each other. (In other words, in the region between the spacers that keep both surfaces of each transparent substrate through which the measurement light is transmitted substantially perpendicular to the optical axis and the opposite surfaces of the adjacent transparent substrates through the spacers) Filled, transparent to the measurement light of the optical measuring device, greater than the refractive index n1, A filler having a refractive index n3 whose difference from the refractive index n1 is smaller than the difference between the refractive index n1 and the refractive index 1. In a plurality of transparent members stacked via spacers, measurement is performed. The distance between the light incident side end and the light exit end is substantially the same as the optical path length of the measurement light in the measured object, and the particle size distribution of the standard particles fixed on the same surface of the transparent substrate, The number per unit area and the average particle spacing are substantially the same as the particle size distribution, the number per unit area and the average particle spacing in the cross section corresponding to the same position of the object to be measured, and adjacent to each other in the stacking direction. The thickness of the transparent substrate and the thickness of the spacer are set so that the distance between the surfaces of the transparent substrate to which the standard particles to be fixed are substantially the same as the average particle spacing at the corresponding position on the measured object It is characterized by being.

このように本発明でも、請求項1に記載の発明と同様に、3次元配置された被測定体における粒子の分散状態により近い状態で、標準粒子が3次元配置されている。したがって、上記した校正装置を用いれば、被測定体での多重散乱を再現することができ、これにより、3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を、精度よく校正することができる。   Thus, also in the present invention, the standard particles are three-dimensionally arranged in a state closer to the dispersed state of the particles in the three-dimensionally arranged measurement object, as in the first aspect of the invention. Therefore, if the above-described calibration apparatus is used, multiple scattering at the object to be measured can be reproduced, thereby accurately calibrating the optical measuring apparatus that measures the particle size distribution of the object to be measured arranged three-dimensionally. be able to.

また、本発明では、標準粒子の屈折率n2のほうが、透明基材の屈折率n1よりも小さく、例えば液中の気泡などを影写真撮影した場合のように、粒子が明るく写る被測定体用の校正装置となっている。そして、このような校正装置において、隣接する透明基材の相対する表面間の領域に、測定光に対して透明で、屈折率n1よりも大きく、屈折率n1との差が屈折率n1と屈折率1との差よりも小さい屈折率n3を有する充填材が充填されている。したがって、透明基材の表面に空気(屈折率1)が隣接する構成よりも、隣接する2つの媒質の屈折率の差が小さいので、透明基材の表面における反射を低減し、透明基材を多層に積層した構成でありながら、透過光量を確保することができる。また、繰り返し反射による像のコントラストの低下を抑制し、校正の精度をより高めることもできる。さらには、屈折率n3が屈折率n1よりも大きいので、屈折率n1と屈折率n2とが近い値であっても、像のコントラストの低下を抑制することができる。   In the present invention, the refractive index n2 of the standard particles is smaller than the refractive index n1 of the transparent substrate. For example, for a measured object in which the particles appear bright as in the case of taking a shadow photograph of bubbles in the liquid. It is a calibration device. In such a calibration apparatus, the region between the adjacent surfaces of the adjacent transparent base materials is transparent to the measurement light, is larger than the refractive index n1, and the difference from the refractive index n1 is refracted from the refractive index n1. A filler having a refractive index n3 smaller than the difference from the rate 1 is filled. Therefore, since the difference in refractive index between two adjacent media is smaller than the configuration in which air (refractive index 1) is adjacent to the surface of the transparent substrate, reflection on the surface of the transparent substrate is reduced, and the transparent substrate The amount of transmitted light can be ensured while the configuration is laminated in multiple layers. In addition, it is possible to suppress the deterioration of the contrast of the image due to repetitive reflection and to further improve the calibration accuracy. Further, since the refractive index n3 is larger than the refractive index n1, even if the refractive index n1 and the refractive index n2 are close to each other, it is possible to suppress a decrease in contrast of the image.

また、透明基材の表面に反射防止膜を設ける場合、反射防止膜が透明基材の平面度の影響を受けるため、透明基材の厚さを薄くするほど、像に歪が生じやすくなる。これに対し、本発明では、隣接する透明基材の相対する表面間に充填材を充填するので、このような歪を低減することができる。   In addition, when an antireflection film is provided on the surface of the transparent substrate, the antireflection film is affected by the flatness of the transparent substrate, so that the thinner the transparent substrate, the more likely the image is distorted. On the other hand, in this invention, since a filler is filled between the opposing surfaces of adjacent transparent base materials, such distortion can be reduced.

請求項4〜6いずれかに記載の発明においては、例えば請求項7に記載のように、標準粒子が樹脂からなり、その表面の溶着により透明基材に対して固定された構成としても良い。本発明の作用効果は、請求項2に記載の発明の作用効果と同じであるので、その記載を省略する。   In the invention according to any one of claims 4 to 6, for example, as described in claim 7, the standard particles may be made of resin and fixed to the transparent base material by welding of the surface thereof. Since the effect of this invention is the same as the effect of the invention of Claim 2, the description is abbreviate | omitted.

また、請求項4〜6いずれかに記載の発明においては、例えば請求項8に記載のように、屈折率n1と略一致する屈折率n4を有し、透明基材の両表面の少なくとも一方に設けられた紫外線硬化樹脂からなる接着層をさらに備え、標準粒子が各透明基材における接着層に接着固定された構成としても良い。   Further, in the invention according to any one of claims 4 to 6, for example, as described in claim 8, it has a refractive index n4 that substantially matches the refractive index n1, and is provided on at least one of both surfaces of the transparent substrate. It is good also as a structure further equipped with the adhesive layer which consists of provided ultraviolet curing resin, and the standard particle was adhere | attached and fixed to the adhesive layer in each transparent base material.

これによれば、接着層の屈折率が透明基材と略一致されているので、接着層によって標準粒子を透明基材に固定する構成でありながら、接着層での光学的なロスを低減することができる。特に請求項4に記載の構成においては、透明基材、接着層、充填材の屈折率が略一致され、これにより、屈折率分布の殆どない一様な透明部材内に、標準粒子が3次元配置された構成となる。   According to this, since the refractive index of the adhesive layer is substantially the same as that of the transparent substrate, the optical loss in the adhesive layer is reduced while the standard particles are fixed to the transparent substrate by the adhesive layer. be able to. Particularly, in the configuration according to claim 4, the refractive indexes of the transparent base material, the adhesive layer, and the filler are substantially matched, so that the standard particles are three-dimensionally within a uniform transparent member having almost no refractive index distribution. It becomes an arrangement.

また、請求項4〜8いずれかに記載の発明においては、請求項9に記載のように、標準粒子が各透明基材の両表面に対してそれぞれ固定され、透明基材の厚さとスペーサの厚さが、被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致された構成としても良い。本発明の作用効果は、請求項3に記載の発明の作用効果と同じであるので、その記載を省略する。   Further, in the invention according to any one of claims 4 to 8, as described in claim 9, the standard particles are respectively fixed to both surfaces of each transparent substrate, and the thickness of the transparent substrate and the spacer The thickness may be substantially the same as the average particle spacing at the corresponding position in the object to be measured. Since the effect of this invention is the same as the effect of the invention of Claim 3, the description is abbreviate | omitted.

なお、請求項1〜9いずれかに記載の発明では、請求項10に記載のように、複数の透明基材が、スペーサを介して互いに積層された状態で、積層方向における両端側から保持部材によって挟持され、一体化された構成を採用すると良い。これによれば、保持部材による挟持により、複数の透明基材が一体化されているので、一部の透明基材の差し替えなどを容易に行うことができる。   In the invention according to any one of claims 1 to 9, as described in claim 10, the plurality of transparent base materials are stacked on each other via the spacers, and the holding member from both ends in the stacking direction. It is good to adopt a configuration that is sandwiched by and integrated. According to this, since the plurality of transparent base materials are integrated by sandwiching by the holding member, it is possible to easily replace some of the transparent base materials.

以下、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
(第1実施形態)
図1は、被測定体の光学測定装置による粒度分布測定の概略構成を示す図である。図2は、第1実施形態に係る校正装置の概略構成を示す断面図である。図3は、図2に示すIII−III線に沿う断面図である。図4は、図2に示す校正装置のうち、主たる特徴部分である積層ユニットの概略構成を示す断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of particle size distribution measurement by an optical measurement device for a measurement object. FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of the calibration apparatus according to the first embodiment. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III shown in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a laminated unit which is a main characteristic portion of the calibration apparatus shown in FIG.

本実施形態に示す校正装置は、燃料微粒子や粉体、液体中の気泡などの粒子が3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する影写真・散乱光撮影などの画像計測、レーザ回折・散乱法を用いた光学測定装置の校正に適用することができる。影写真による画像計測に適用した一例として、本実施形態に示す校正装置は、図1に示すように、インジェクター101から噴射された燃料微粒子100a(以下、単に粒子100aと示す)の集合体である被測定体100としての噴霧の所定位置に、図示しない光源から所定の測定光102(以下、単に測定光と示す)を照射し、測定光102が照射された被測定体100の所定エリア(撮像エリア)を測定光102と同軸上に設置したCCDカメラなどの撮像装置103にて撮像して、得られた画像データに基づき粒度分布を算出する光学測定装置を校正するための装置となっている。なお、図1に示すように、被測定体100における測定光102の照射部位の長さ(光路長)は長さLとなっている。すなわち、被測定体100における幅Lの部分に、測定光102が照射されるようになっている。   The calibration apparatus shown in the present embodiment is an image measurement such as shadow photography / scattered light photography for measuring the particle size distribution of a measurement object in which particles such as fuel fine particles, powder, and bubbles in a liquid are three-dimensionally arranged, and laser diffraction. -It can be applied to the calibration of optical measuring devices using the scattering method. As an example applied to image measurement by shadow photography, the calibration apparatus shown in the present embodiment is an aggregate of fuel fine particles 100a (hereinafter simply referred to as particles 100a) injected from an injector 101, as shown in FIG. A predetermined measurement light 102 (hereinafter simply referred to as measurement light) is irradiated from a light source (not shown) to a predetermined position of the spray as the measurement object 100, and a predetermined area (imaging image) of the measurement object 102 irradiated with the measurement light 102. This is a device for calibrating an optical measuring device that calculates a particle size distribution based on image data obtained by imaging an area) with an imaging device 103 such as a CCD camera installed coaxially with the measuring light 102. . As shown in FIG. 1, the length (optical path length) of the irradiated portion of the measurement light 102 in the measurement object 100 is the length L. That is, the measurement light 102 is irradiated to the portion of the width L of the measured object 100.

図2に示すように、校正装置10は、主たる特徴部分である積層ユニット20、積層ユニット20における測定光の入射側端部と出射側端部を保護する保護部材30、積層ユニット20及び保護部材30を積層状態で保持するホルダ40を有している。   As shown in FIG. 2, the calibration device 10 includes a laminated unit 20 that is a main characteristic part, a protective member 30 that protects an incident side end and an outgoing side end of measurement light in the laminated unit 20, the laminated unit 20, and the protective member. It has a holder 40 for holding 30 in a laminated state.

積層ユニット20は、校正装置10のうち、光学測定装置を校正すべく被測定体を模した部分である。具体的には、図4に示すように、要部として、複数枚の透明基材21、透明基材21の表面21aに設けられた反射防止膜22、透明基材21に固定された標準粒子23、標準粒子23の固定された透明基材21と交互に積層されるスペーサ24を有している。   The laminated unit 20 is a part of the calibration apparatus 10 that simulates a measurement object in order to calibrate the optical measurement apparatus. Specifically, as shown in FIG. 4, as main parts, a plurality of transparent base materials 21, an antireflection film 22 provided on the surface 21 a of the transparent base material 21, and standard particles fixed to the transparent base material 21. 23, spacers 24 are alternately stacked on the transparent base material 21 on which the standard particles 23 are fixed.

透明基材21は、測定光102に対して透明であり、測定光102が透過される表面21a上に標準粒子23を支持する平板状の部材である。そして、標準粒子23が固定された複数枚の透明基材21が、スペーサ24を介して測定光102の光軸方向に積層されている。本実施形態においては、透明基材21が、標準粒子23を構成する材料よりも融点温度が高く、屈折率の小さい材料(例えば屈折率1.524のクラウンガラス)を用いて形成されている。また、透明基材21の枚数は、スペーサ24の枚数とともに、光路長の長さLと平均粒子間隔により決定されている。   The transparent substrate 21 is a flat member that is transparent to the measurement light 102 and supports the standard particles 23 on the surface 21a through which the measurement light 102 is transmitted. A plurality of transparent base materials 21 to which the standard particles 23 are fixed are stacked in the optical axis direction of the measurement light 102 via the spacers 24. In the present embodiment, the transparent substrate 21 is formed using a material having a melting point temperature higher than that of the material constituting the standard particles 23 and a low refractive index (for example, crown glass having a refractive index of 1.524). Further, the number of the transparent base materials 21 is determined by the length L of the optical path length and the average particle interval together with the number of the spacers 24.

反射防止膜22は、各透明基材21において、測定光102の透過面である入射側の表面21aと出射側の表面21aの少なくとも一方に設けられ、表面21aでの測定光の反射を相殺的干渉によって低減する単層又は多層の薄膜(所謂ARコート)である。本実施形態では、図4に示すように、各透明基材21において、入射側の表面21a全面と出射側の表面21a全面の両方に、反射防止膜22が設けられている。   The antireflection film 22 is provided on at least one of the incident-side surface 21a and the emission-side surface 21a, which is a transmission surface of the measurement light 102, in each transparent substrate 21, and cancels the reflection of the measurement light on the surface 21a. It is a single-layer or multilayer thin film (so-called AR coat) that is reduced by interference. In the present embodiment, as shown in FIG. 4, in each transparent base material 21, an antireflection film 22 is provided on both the entire surface 21a on the incident side and the entire surface 21a on the emission side.

そして、反射防止膜22を含む透明基材21が複数枚積層されてなる積層ユニット20において、その積層方向(測定光102の光軸方向)における外面間(反射防止膜22を含む)の距離(測定光102の入射側端部20aと出射側端部20bとの間の距離)が、被測定体100における測定光102の光路長と長さLで略一致されている。また、積層方向において、両表面21aに設けられた反射防止膜22を含む各透明基材21の厚さが、被測定体100における対応する位置での平均粒子間隔と略一致する厚さとなっている。なお、対応する位置とは、測定光102の入射側端部(又は出射側端部)を基準とした位置である。すなわち、被測定体100において、測定光102の入射側端部からの距離がX付近での平均粒子間隔が100μm程度とすると、積層ユニット20において、入射側端部20aからの距離がX付近での透明基材21の厚さ(反射防止膜22を含む)も、100μm程度となっている。   In the laminated unit 20 in which a plurality of transparent base materials 21 including the antireflection film 22 are laminated, the distance between the outer surfaces (including the antireflection film 22) in the stacking direction (the optical axis direction of the measurement light 102) ( The distance between the incident-side end 20a and the emission-side end 20b of the measuring light 102 is substantially the same as the length L of the optical path length of the measuring light 102 in the measured object 100. Further, in the stacking direction, the thickness of each transparent base material 21 including the antireflection film 22 provided on both surfaces 21a is substantially the same as the average particle spacing at corresponding positions in the measured object 100. Yes. The corresponding position is a position based on the incident side end (or the emission side end) of the measurement light 102. That is, in the measured object 100, when the average particle spacing in the vicinity of X is about 100 μm from the incident side end of the measurement light 102, the distance from the incident side end 20 a is about X in the laminated unit 20. The thickness of the transparent substrate 21 (including the antireflection film 22) is about 100 μm.

標準粒子23は、透明基材21とは異なる屈折率及び被測定体100(粒子100a)と略一致する透過率を有する球状や楕円(球)状などの既知の径のサンプル粒子(ビーズ)であり、各透明基材21の両表面21aの少なくとも一方に対し、直接若しくは反射防止膜22を介して固定されている。この標準粒子23が、被測定体100の粒子100aに相当する部分であり、透明基材21の同一表面21aに固定された標準粒子23は、その粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、被測定体100における対応する位置の断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致されている。すなわち、積層された複数の透明基材21のうち、標準粒子23が固定された表面21aのいずれにおいても、その粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、被測定体100の撮像エリアにおける光学的な位置が略等しい関係(焦点位置が等しい関係にある)にある断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致されている。したがって、被測定体100での粒子100aの分散状態によっては、積層方向において、測定光102の入射側端部からの距離によらず粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が一定の場合もあるし、入射側端部からの距離によって粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が異なる場合もある。   The standard particles 23 are sample particles (beads) having a known diameter such as a sphere or an ellipse (sphere) having a refractive index different from that of the transparent substrate 21 and a transmittance substantially matching the measured object 100 (particle 100a). Yes, it is fixed to at least one of the both surfaces 21 a of each transparent substrate 21 directly or via an antireflection film 22. The standard particles 23 are portions corresponding to the particles 100a of the measurement object 100. The standard particles 23 fixed on the same surface 21a of the transparent substrate 21 have a particle size distribution, a number per unit area, and an average. The particle interval is substantially the same as the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle interval in the cross section at the corresponding position in the measurement object 100. That is, in any of the surfaces 21a on which the standard particles 23 are fixed among the plurality of laminated transparent base materials 21, the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle spacing are the same as those of the measurement target 100. It is substantially the same as the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle spacing in a cross section in which the optical positions in the imaging area are substantially equal (the focal positions are equal). Therefore, depending on the dispersion state of the particles 100a in the measurement object 100, the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle interval are constant in the stacking direction regardless of the distance from the incident side end of the measurement light 102. In some cases, the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle spacing may differ depending on the distance from the incident side end.

本実施形態では、標準粒子23が、被測定体100における対応する位置の断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数と略一致するように、径が既知の球状のサンプル粒子を複数種類混合して構成されている。また、標準粒子23として、透明基材21よりも融点が低く、屈折率の大きい樹脂製の材料(例えば屈折率が1.59の架橋ポリスチレン)からなる標準粒子を採用している。そして、透明基材21の表面21aにおける測定光102が照射される撮像エリア(中央部)に樹脂製の標準粒子23が配置され、標準粒子23の表面のみが溶融されて反射防止膜22に溶着されている。すなわち、標準粒子23は、反射防止膜22を介して透明基材21に固定されている。   In the present embodiment, a plurality of types of spherical sample particles with known diameters are used so that the standard particles 23 substantially coincide with the particle size distribution and the number per unit area in the cross section at the corresponding position in the measurement object 100. It is composed of a mixture. Further, as the standard particles 23, standard particles made of a resin material having a lower melting point than that of the transparent substrate 21 and a large refractive index (for example, crosslinked polystyrene having a refractive index of 1.59) are employed. Then, resin standard particles 23 are arranged in the imaging area (center portion) irradiated with the measurement light 102 on the surface 21 a of the transparent base material 21, and only the surface of the standard particles 23 is melted and welded to the antireflection film 22. Has been. That is, the standard particles 23 are fixed to the transparent substrate 21 via the antireflection film 22.

スペーサ24は、透明基材21と交互に測定光102の光軸方向に積層され、測定光102が透過される各等名基材21の両表面21aが測定光102の光軸に対して略垂直となるように、各透明基材21の表面21aを互いに略平行に保ち、且つ、隣接する透明基材21間を所定距離に保つべく、所定の厚さを有する平板状の部材である。このスペーサ24は、透明基材21の表面21aにおいて、測定光102が照射される撮像エリア(中央部)を取り囲む周辺部上に配置されている。本実施形態では、図3に示すように、各スペーサ24が撮像エリアを取り囲む環状とされ、積層方向において、各スペーサ24の厚さが、透明基材10の厚さ同様、被測定体100における対応する位置での平均粒子間隔と略一致する厚さとなっている。   The spacers 24 are alternately laminated with the transparent base material 21 in the optical axis direction of the measurement light 102, and both surfaces 21 a of the respective equivalent base materials 21 through which the measurement light 102 is transmitted are approximately the optical axis of the measurement light 102. It is a flat member having a predetermined thickness so as to keep the surfaces 21a of the respective transparent base materials 21 substantially parallel to each other and to maintain a predetermined distance between the adjacent transparent base materials 21 so as to be vertical. The spacer 24 is disposed on the peripheral portion surrounding the imaging area (center portion) irradiated with the measurement light 102 on the surface 21 a of the transparent base material 21. In the present embodiment, as shown in FIG. 3, each spacer 24 has an annular shape surrounding the imaging area, and in the stacking direction, the thickness of each spacer 24 is the same as the thickness of the transparent substrate 10 in the measured object 100. The thickness is approximately the same as the average particle spacing at the corresponding position.

このように構成される積層ユニット20では、スペーサ24を介して互いに隣接する透明基材21の、相対する表面21a間(反射防止膜22間)の領域に、空気25が充填されている。これにより、積層ユニット20は、透明基材21(屈折率1.524)及び空気(屈折率1)の中、すなわち、屈折率の小さい媒体中に、それよりも屈折率の大きい標準粒子23(屈折率1.59)が3次元的に配置されたもの(標準粒子23が影として写る構成)となっている。そして、これにより、空気(屈折率1)中に燃料微粒子100a(屈折率1.3876のn−ヘプタン)が3次元配置された被測定体100(粒子100aが影として写る構成)を模した構成となっている。   In the laminated unit 20 configured as described above, air 25 is filled in the region between the opposing surfaces 21 a (between the antireflection films 22) of the transparent base materials 21 adjacent to each other via the spacer 24. As a result, the laminated unit 20 has the standard particles 23 (refractive index larger than that in the transparent substrate 21 (refractive index 1.524) and air (refractive index 1), that is, in a medium having a small refractive index. Refractive index 1.59) is arranged three-dimensionally (configuration in which standard particles 23 appear as shadows). And thereby, the structure which imitated the to-be-measured object 100 (structure which the particle | grains 100a appear as a shadow) by which the fuel microparticles | fine-particles 100a (n-heptane of refractive index 1.3876) are arrange | positioned three-dimensionally in air (refractive index 1). It has become.

保護部材30は、測定光102に対して透明であり、積層ユニット20における測定光の入射側端部20a及び出射側端部20b上にそれぞれ積層されて、入射側端部20a及び出射側端部20b(積層方向において最外面となる表面21a)を保護する平板状の部材である。本実施形態では、透明基材21と同じ材料からなるガラス製の保護部材30が、スペーサ24を介して、積層ユニット20における測定光の入射側端部20a及び出射側端部20b上に積層されている。また、保護部材30の両表面(透過面)にも、反射防止膜22と同様の反射防止膜31が設けられている。   The protection member 30 is transparent to the measurement light 102 and is laminated on the incident side end 20a and the emission side end 20b of the measurement light in the laminated unit 20, respectively, and is incident side end 20a and emission side end. It is a flat plate-like member that protects 20b (surface 21a that is the outermost surface in the stacking direction). In the present embodiment, a glass protective member 30 made of the same material as the transparent substrate 21 is laminated on the incident side end 20a and the emission side end 20b of the measurement light in the laminated unit 20 via the spacer 24. ing. Further, an antireflection film 31 similar to the antireflection film 22 is provided on both surfaces (transmission surfaces) of the protective member 30.

ホルダ40は、反射防止膜22を介して表面21aに標準粒子23の固定された透明基材21を、スペーサ24と交互に複数枚積層した状態で狭持し、一体化された積層ユニット20として保持するものであり、特許請求の範囲に記載の保持部材に相当する。本実施形態では、積層ユニット20とともに保護部材30も挟持して、これらを一体的に保持するようにホルダ40が構成されている。   The holder 40 holds the transparent base material 21 having the standard particles 23 fixed on the surface 21a through the antireflection film 22 in a state where a plurality of the alternating base materials are alternately laminated with the spacers 24, and as an integrated laminated unit 20 The holding member corresponds to the holding member described in the claims. In the present embodiment, the holder 40 is configured so as to hold the protective member 30 together with the laminated unit 20 and hold them together.

具体的には、ホルダ40が、積層ユニット20の外周を取り囲む筒状の外周部41と、この外周部41と螺子締結などにより一体化された状態で、積層された積層ユニット20及び保護部材30を、積層方向の両端側から挟持する環状の入射側挟持部42及び出射側挟持部43と、を有している。筒状の外周部41は、その内周面が積層ユニット20の外周形状と略一致しており、その大きさが積層ユニット20の外周とほぼ同じか若干大きめ(図2に示す例では若干大きめ)となっている。また、環状の入射側挟持部42は、対応する保護部材30の端面及び入射側表面における周辺部に接しており、環状の出射側挟持部43は、対応する保護部材30の外周面及び出射側表面における周辺部に接している。そして、入射側挟持部42の内周面がホルダ40における入射側開口壁部44となり、出射側挟持部43の内周面がホルダ40における出射側開口壁部45となっている。すなわち、入射側開口壁部44によって囲まれた開口部を通じて測定光102が積層ユニット20に照射され、その透過光が、出射側開口壁部45によって囲まれた開口部を通じて外部に放射されるようになっている。   Specifically, the laminated unit 20 and the protection member 30 that are laminated in a state in which the holder 40 is integrated with a cylindrical outer peripheral part 41 that surrounds the outer periphery of the laminated unit 20 and the outer peripheral part 41 by screw fastening or the like. Is provided with an annular incident side clamping part 42 and an emission side clamping part 43 that are clamped from both ends in the stacking direction. The cylindrical outer peripheral portion 41 has an inner peripheral surface substantially coincident with the outer peripheral shape of the laminated unit 20, and the size thereof is substantially the same as or slightly larger than the outer periphery of the laminated unit 20 (in the example shown in FIG. 2, it is slightly larger). ). In addition, the annular incident side clamping portion 42 is in contact with the end face of the corresponding protection member 30 and the peripheral portion of the incident side surface, and the annular emission side clamping portion 43 is the outer peripheral surface and the emission side of the corresponding protection member 30. It touches the periphery on the surface. The inner peripheral surface of the incident-side sandwiching portion 42 is an incident-side opening wall portion 44 in the holder 40, and the inner peripheral surface of the emitting-side sandwiching portion 43 is an exit-side opening wall portion 45 in the holder 40. That is, the measurement light 102 is irradiated to the laminated unit 20 through the opening surrounded by the incident-side opening wall 44, and the transmitted light is radiated to the outside through the opening surrounded by the emission-side opening wall 45. It has become.

次に、校正装置10の製造方法について説明する。先ず、図1に示したように、光学測定装置により、幅Lの部分での被測定体100の粒度分布測定を実施する。このとき、積層方向(測定光102の光軸方向)において、撮像装置103の焦点位置を変えながら複数点で撮像することにより、焦点の合った粒子100aから、入射側端部からの距離(焦点位置)ごとの粒子100aの分散状態(粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔)の2次元データをそれぞれ取得する。また、入射側端部からの距離に応じた積層方向における平均粒子間隔のデータを取得する。   Next, a method for manufacturing the calibration device 10 will be described. First, as shown in FIG. 1, the particle size distribution measurement of the measurement object 100 at the width L portion is performed by the optical measurement device. At this time, in the stacking direction (the optical axis direction of the measurement light 102), by imaging at a plurality of points while changing the focal position of the imaging device 103, the distance (focal point) from the focused particle 100a to the end on the incident side. Two-dimensional data of the dispersion state (particle size distribution, number per unit area, and average particle interval) of the particles 100a for each position) is acquired. Moreover, the data of the average particle | grain space | interval in the lamination direction according to the distance from an incident side edge part are acquired.

そして、得られた分散状態の2次元データをもとに、標準粒子23として採用する、球状や楕円(球)状などのサンプル粒子(ビーズ)の径(1種類又は複数種類の混合)や個数(混合比率)を決定する。また、積層方向において、異なる表面21aに固定された隣接する標準粒子23の平均粒子間隔が、被測定体100における対応する位置で得られた積層方向における平均粒子間隔のデータと略一致するように、入射側端部からの距離に応じて反射防止膜22を含む透明基材21の厚さ及びスペーサ24の厚さを決定する。   Then, based on the obtained two-dimensional data of the dispersion state, the diameter (a mixture of one kind or plural kinds) and the number of sample particles (beads) such as a sphere and an ellipse (sphere) adopted as the standard particle 23 (Mixing ratio) is determined. Further, in the stacking direction, the average particle spacing of the adjacent standard particles 23 fixed to the different surfaces 21a is substantially matched with the data of the average particle spacing in the stacking direction obtained at the corresponding position in the measurement object 100. The thickness of the transparent substrate 21 including the antireflection film 22 and the thickness of the spacer 24 are determined according to the distance from the incident side end.

次に、エアブラシなどによる噴霧や、公知の乾式分散ユニット(具体的には、MALVERN社製の乾式分散ユニット)を用い、透明基材21の表面21aの撮像エリアにおいて所定の分散状態(単位面積当たりの個数及び粒子間距離)となるように、標準粒子23を、反射防止膜22の設けられた透明基材21の表面21a上に配置する。例えばエアブラシの場合、吹き付け圧力に応じて、単位面積当たりの個数や平均粒子間距離を変化させることができる。   Next, spraying with an air brush or the like, or using a known dry dispersion unit (specifically, a dry dispersion unit manufactured by MALVERN), a predetermined dispersion state (per unit area) in the imaging area of the surface 21a of the transparent substrate 21 is used. The standard particles 23 are arranged on the surface 21a of the transparent substrate 21 provided with the antireflection film 22 so that the number of the particles and the distance between the particles can be reduced. For example, in the case of an airbrush, the number per unit area and the average interparticle distance can be changed according to the spraying pressure.

また、本実施形態では、標準粒子23を透明基材21の表面21a(反射防止膜22)上に配置する際に、標準粒子23の表面のみが溶融(軟化)する程度まで加熱しながら標準粒子23を透明基材21上に配置する。したがって、標準粒子23が、透明基材21(反射防止膜22)上に配置されつつ溶着固定される。   In the present embodiment, when the standard particles 23 are arranged on the surface 21a (antireflection film 22) of the transparent substrate 21, the standard particles 23 are heated while being heated to such an extent that only the surface of the standard particles 23 is melted (softened). 23 is disposed on the transparent substrate 21. Therefore, the standard particles 23 are welded and fixed while being arranged on the transparent substrate 21 (antireflection film 22).

標準粒子23の固定後、標準粒子23の固定された各透明基材21を顕微鏡などで光学的に計測し、固定された表面21aにおける標準粒子23の分散状態(粒度分布、単位面積当たりの個数、平均粒子間隔)が、被測定体100の対応する断面での粒子100aの分散状態と略一致しているか否かを判別する。そして、分散状態が略一致するものを選択して、積層ユニット20を構成する所定位置の透明基材21とする。   After fixing the standard particles 23, each transparent substrate 21 on which the standard particles 23 are fixed is optically measured with a microscope or the like, and the dispersion state (particle size distribution, number per unit area) of the standard particles 23 on the fixed surface 21a. , Average particle spacing) is determined whether or not the dispersion state of the particles 100a in the corresponding cross section of the measurement object 100 substantially matches. And the thing in which a dispersion state substantially corresponds is selected, and it is set as the transparent base material 21 of the predetermined position which comprises the lamination | stacking unit 20. FIG.

そして、選択された各透明基材21を、スペーサ24と交互に積層して積層ユニット20とするとともに、積層ユニット20における測定光102の入射側端部20a及び出射側端部20b上に、スペーサ24を介して保護部材30を積層する。そして、これら積層状態をホルダ40にて保持する。以上により、標準粒子23が固定された透明基材21を複数枚積層してなる校正装置10が形成される。   Then, the selected transparent base materials 21 are alternately laminated with the spacers 24 to form the laminated unit 20, and the spacers are placed on the incident side end 20 a and the emission side end 20 b of the measurement light 102 in the laminated unit 20. The protective member 30 is laminated via the 24. These stacked states are held by the holder 40. As described above, the calibration device 10 is formed by laminating a plurality of transparent base materials 21 on which the standard particles 23 are fixed.

次に、このような校正装置10による光学測定装置の校正方法について説明する。図5は、校正方法を説明するための模式図である。なお、図5においては、便宜上、校正装置のうちの積層ユニットのみを図示している。   Next, a method for calibrating the optical measuring apparatus using the calibration apparatus 10 will be described. FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the calibration method. In FIG. 5, for convenience, only the stacked unit of the calibration apparatus is illustrated.

光学測定装置の光源から測定光102を校正装置10に照射した状態で、積層ユニット20における光照射側から例えばn番目の透明基材21に撮像装置103の焦点を合わせて画像を撮影する。撮影された画像には、焦点の合った標準粒子23と、焦点外のぼけた標準粒子23が撮影される。焦点の合った標準粒子23は、積層前に予め顕微鏡などで計測したn番目の透明基材21に固定された標準粒子23であるので、積層前にn番目の透明基材21を撮影した画像における標準粒子23と、積層後に撮影した画像内における焦点の合った標準粒子23とで、位置と粒子径が同じくなるように、例えば2値化レベルを校正する。このようにして、光学測定装置を校正することができる。なお、上記例では、透明基材21を焦点位置としたが、透明基材21における両表面21aの一方を焦点位置としても良い。   In a state where the calibration device 10 is irradiated with the measurement light 102 from the light source of the optical measurement device, an image is taken by focusing the imaging device 103 on, for example, the nth transparent substrate 21 from the light irradiation side in the stacked unit 20. In the photographed image, the focused standard particle 23 and the out-of-focus blurred standard particle 23 are photographed. Since the focused standard particle 23 is the standard particle 23 fixed to the nth transparent substrate 21 measured in advance with a microscope or the like before lamination, an image obtained by photographing the nth transparent substrate 21 before lamination. For example, the binarization level is calibrated so that the positions and particle diameters of the standard particles 23 in FIG. In this way, the optical measuring device can be calibrated. In the above example, the transparent substrate 21 is the focal position, but one of the two surfaces 21a of the transparent substrate 21 may be the focal position.

次に、上記構成の校正装置10の効果について説明する。上記したように、本実施形態では、透明基材21の各表面21aに固定された標準粒子23の分散状態が、被測定体100における対応する位置の断面での、粒子100aの分散状態と略一致されている。そして、表面21aに標準粒子23が固定された透明基材21を、測定光102の光軸に沿って多層に積層することで、校正装置10(積層ユニット20)が構成されている。したがって、積層方向において、校正装置10を構成する複数枚の透明基材21の表面21aのいずれを撮像装置103の焦点位置としても、焦点位置とされた透明基材21の表面21aにおける標準粒子23の分散状態は、被測定体100における対応する位置の断面での、粒子100aの分散状態と略一致することとなる。   Next, the effect of the calibration apparatus 10 having the above configuration will be described. As described above, in this embodiment, the dispersion state of the standard particles 23 fixed to each surface 21a of the transparent substrate 21 is substantially the same as the dispersion state of the particles 100a in the cross section at the corresponding position in the measurement object 100. Have been matched. And the calibration apparatus 10 (lamination | stacking unit 20) is comprised by laminating | stacking the transparent base material 21 with which the standard particle 23 was fixed to the surface 21a in a multilayer along the optical axis of the measurement light 102. FIG. Therefore, in the stacking direction, the standard particles 23 on the surface 21a of the transparent substrate 21 that is the focal position, regardless of which surface 21a of the plurality of transparent substrates 21 constituting the calibration device 10 is the focal position of the imaging device 103. This dispersion state substantially coincides with the dispersion state of the particles 100a in the cross section of the corresponding position in the measurement object 100.

また、積層方向において、積層ユニット20の入射側端部20aと出射側端部20bとの間の距離が、被測定体100における測定光102の光路長と長さLで略一致されている。そして、各透明基材21の両表面21aに標準粒子23が固定されており、積層方向において、反射防止膜22を含む透明基材21の厚さとスペーサ24の厚さが、被測定体100の対応する位置での平均粒子間隔と略一致されている。   Further, in the stacking direction, the distance between the incident-side end 20a and the exit-side end 20b of the stacked unit 20 is substantially the same as the length L of the optical path length of the measuring light 102 in the measured object 100. The standard particles 23 are fixed to both surfaces 21 a of each transparent base material 21, and the thickness of the transparent base material 21 including the antireflection film 22 and the thickness of the spacer 24 in the stacking direction are the same as the measured object 100. It is substantially the same as the average particle interval at the corresponding position.

このように本実施形態においては、被測定体100における粒子100aの分散状態(3次元の分散状態)により近い状態で、標準粒子23が3次元配置されている。したがって、上記した校正装置10を用いれば、被測定体100での多重散乱を再現することができ、これにより、3次元配置された被測定体100の粒度分布を測定する光学測定装置を、精度よく校正することができる。   As described above, in this embodiment, the standard particles 23 are three-dimensionally arranged in a state closer to the dispersion state (three-dimensional dispersion state) of the particles 100a in the measurement object 100. Therefore, if the above-described calibration device 10 is used, the multiple scattering at the measurement object 100 can be reproduced, and thus the optical measurement device that measures the particle size distribution of the measurement object 100 arranged three-dimensionally can be obtained with high accuracy. Can be calibrated well.

また、本実施形態では、透明基材21の両表面21aに反射防止膜22が設けられている。したがって、透明基材21を多層に積層した構成でありながら、表面21aでの反射が抑制され、透過光量を確保することができる。なお、この反射防止膜22により、繰り返し反射によるゴーストやフレアを抑制(像のコントラストの低下を抑制)し、校正の精度をより高めることもできる。   In the present embodiment, the antireflection film 22 is provided on both surfaces 21 a of the transparent substrate 21. Therefore, although it is the structure which laminated | stacked the transparent base material 21 in the multilayer, reflection on the surface 21a is suppressed and the transmitted light amount can be ensured. The antireflection film 22 can suppress ghosts and flares due to repetitive reflection (suppress reduction in image contrast), and can further improve the accuracy of calibration.

また、本実施形態では、標準粒子23が樹脂からなり、その表面の溶着により透明基材21に対して固定されている。このように、融点温度が透明基材21よりも低い樹脂製の標準粒子23を採用すると、別途接着剤等を必要とせずに、粒子形状を確保しつつ標準粒子23を透明基材に対して固定(溶着)させることができるので光学的に好ましい。   Moreover, in this embodiment, the standard particle 23 consists of resin, and is being fixed with respect to the transparent base material 21 by the welding of the surface. Thus, when resin standard particles 23 having a melting point temperature lower than that of the transparent base material 21 are employed, the standard particles 23 are secured to the transparent base material while ensuring the particle shape without requiring an adhesive or the like separately. Since it can be fixed (welded), it is optically preferable.

また、本実施形態では、標準粒子23が各透明基材21の両表面21aに対してそれぞれ固定され、反射防止膜22を含む透明基材21の厚さとスペーサ24の厚さが、被測定体100における対応する位置での平均粒子間隔と略一致されている。このように、透明基材21の両表面21aに標準粒子23が固定された構造とすると、平均粒子間隔が同じであれば、一方の表面21aのみに標準粒子23が固定される構造に比べて、透明基材21やスペーサ24の厚さを厚くすることができる。特に透明基材21は、その厚さが薄くなるほど機械的加工の特性(研磨の特性)により平面度が低下する(周辺部よりも中央部が落ち込んだ形状となる)ため、像に歪が生じやすくなるが、上記によれば、このような歪を生じにくくすることができる。   In the present embodiment, the standard particles 23 are fixed to both surfaces 21a of each transparent substrate 21, and the thickness of the transparent substrate 21 including the antireflection film 22 and the thickness of the spacer 24 are determined by the measured object. The average particle spacing at the corresponding position in 100 is approximately the same. Thus, when it is set as the structure where the standard particle 23 was fixed to both the surfaces 21a of the transparent base material 21, if the average particle | grain space | interval is the same, compared with the structure where the standard particle 23 is fixed only to one surface 21a. The thickness of the transparent base material 21 and the spacer 24 can be increased. In particular, as the thickness of the transparent base material 21 decreases, the flatness decreases due to the mechanical processing characteristics (polishing characteristics) (the central portion is depressed more than the peripheral portion), and thus the image is distorted. Although it becomes easy, according to the above, such distortion can be made difficult to occur.

また、本実施形態では、複数の透明基材21が、スペーサ24を介して互いに積層された状態で、積層方向における両端20a,20b側からホルダ40(挟持部42,43)によって挟持され、これにより複数枚の透明基材21が一体化されて積層ユニット20となっている。したがって、複数枚の透明基材21のうち、一部のみの差し替えなどを容易に行うことができる。   Further, in the present embodiment, a plurality of transparent base materials 21 are sandwiched by the holders 40 (the sandwiching portions 42 and 43) from both ends 20a and 20b in the stacking direction in a state of being stacked on each other via the spacer 24. Thus, a plurality of transparent base materials 21 are integrated to form a laminated unit 20. Therefore, it is possible to easily replace only a part of the plurality of transparent base materials 21.

(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態を、図6〜図8に基づいて説明する。図6は、第2実施形態に係る校正装置のうち、主たる特徴部分である積層ユニットの概略構成を示す断面図である。
(Second Embodiment)
Next, 2nd Embodiment of this invention is described based on FIGS. FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a stacked unit that is a main characteristic portion of the calibration apparatus according to the second embodiment.

第2実施形態に係る校正装置は、第1実施形態によるものと共通するところが多いので、以下、共通部分については詳しい説明は省略し、異なる部分を重点的に説明する。なお、第1実施形態に示した要素と同一の要素には、同一の符号を付与するものとする。   Since the calibration apparatus according to the second embodiment is often in common with that according to the first embodiment, the detailed description of the common parts will be omitted below, and the different parts will be described mainly. In addition, the same code | symbol shall be provided to the element same as the element shown in 1st Embodiment.

第1実施形態においては、透明基材21の表面21aに反射防止膜22を設けることで、表面21aにおける測定光102の反射を抑制し、多層構造でありながら透過光量を確保する例を示した。これに対し、本実施形態においては、図6に示すように、スペーサ24を介して互いに隣接する透明基材21の相対する表面21aの間に領域に、測定光102に対して透明な充填材26が充填され、この充填材26により、表面21aでの反射が低減される点を特徴とする。   In the first embodiment, an example in which the reflection light 22 on the surface 21a is prevented from being reflected by providing the antireflection film 22 on the surface 21a of the transparent base material 21 and the transmitted light amount is secured while having a multilayer structure is shown. . On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 6, a filler that is transparent to the measurement light 102 in the region between the opposing surfaces 21 a of the transparent base materials 21 that are adjacent to each other via the spacer 24. 26, and this filler 26 is characterized in that the reflection on the surface 21a is reduced.

なお、図6に示す例においては、透明基材21の表面21aの反射防止膜22が設けられておらず、樹脂製の標準粒子23が、その表面の溶融により透明基材21に直接固定されている。また、透明基材21の厚さが、被測定体100における対応する位置での平均粒子間隔と略一致されている。そして、それ以外の構成は、第1実施形態と同じとなっている。   In the example shown in FIG. 6, the antireflection film 22 on the surface 21 a of the transparent base material 21 is not provided, and the resin standard particles 23 are directly fixed to the transparent base material 21 by melting of the surface. ing. In addition, the thickness of the transparent substrate 21 is substantially matched with the average particle spacing at the corresponding position in the measurement object 100. Other configurations are the same as those in the first embodiment.

本実施形態においても、第1実施形態同様、透明基材21の構成材料として、屈折率1.524のクラウンガラスを採用し、標準粒子23の構成材料として、屈折率1.59の架橋ポリスチレンを採用している。そして、充填材26の構成材料として、測定光102に対して透明で、透明基材21の屈折率よりも小さく、空気の屈折率1よりも大きい屈折率を有するイオン交換水(屈折率1.33)を採用している。   Also in the present embodiment, similarly to the first embodiment, a crown glass having a refractive index of 1.524 is adopted as a constituent material of the transparent substrate 21, and a crosslinked polystyrene having a refractive index of 1.59 is used as a constituent material of the standard particles 23. Adopted. As a constituent material of the filler 26, ion-exchanged water (refractive index 1. 33) is adopted.

このように本実施形態でも、第1実施形態に示した校正装置10(積層ユニット20)と同様に、3次元配置された被測定体100における粒子100aの分散状態により近い状態で、標準粒子23が3次元配置されている。したがって、本実施形態に係る校正装置10を用いれば、被測定体100での多重散乱を再現することができ、これにより、3次元配置された被測定体100の粒度分布を測定する光学測定装置を、精度よく校正することができる。   As described above, also in this embodiment, the standard particles 23 are in a state closer to the dispersed state of the particles 100a in the three-dimensionally arranged measurement object 100, similarly to the calibration device 10 (laminated unit 20) shown in the first embodiment. Are arranged three-dimensionally. Therefore, if the calibration apparatus 10 according to the present embodiment is used, the multiple scattering in the measurement object 100 can be reproduced, and thereby the optical measurement apparatus that measures the particle size distribution of the measurement object 100 arranged three-dimensionally. Can be calibrated with high accuracy.

また、本実施形態では、標準粒子23の屈折率のほうが、透明基材21の屈折率及び充填材26の屈折率よりも大きくなっている。すなわち、屈折率の小さい媒体中に、それよりも屈折率の大きい標準粒子23(屈折率1.59)が3次元的に配置されたものとなっている。そして、これにより、空気(屈折率1)中に燃料微粒子100a(屈折率1.3876のn−ヘプタン)が3次元配置された被測定体100を模した構成となっている。そして、このような校正装置10において、隣接する透明基材21の相対する表面21a間の領域に、測定光102に対して透明で、透明基材よりも屈折率が小さく空気よりも屈折率の大きい充填材26が充填されている。したがって、透明基材21の表面21aに空気(屈折率1)が隣接する構成よりも、隣接する2つの媒質の屈折率の差が小さいので、透明基材21の表面21aにおける反射を低減し、透明基材21を多層に積層した構成でありながら、透過光量を確保することができる。また、繰り返し反射による像のコントラストの低下を抑制し、校正の精度をより高めることもできる。   In this embodiment, the refractive index of the standard particles 23 is larger than the refractive index of the transparent substrate 21 and the refractive index of the filler 26. That is, standard particles 23 (refractive index 1.59) having a higher refractive index are three-dimensionally arranged in a medium having a lower refractive index. As a result, the measurement object 100 in which fuel fine particles 100a (n-heptane with a refractive index of 1.3886) are three-dimensionally arranged in air (refractive index 1) is obtained. And in such a calibration apparatus 10, it is transparent with respect to the measurement light 102 in the area | region between the surface 21a which the adjacent transparent base material 21 opposes, a refractive index is smaller than a transparent base material, and refractive index is more than air. A large filler 26 is filled. Therefore, since the difference in refractive index between two adjacent media is smaller than the configuration in which air (refractive index 1) is adjacent to the surface 21a of the transparent base material 21, the reflection on the surface 21a of the transparent base material 21 is reduced. The amount of transmitted light can be secured while the transparent substrate 21 is laminated in multiple layers. In addition, it is possible to suppress the deterioration of the contrast of the image due to repetitive reflection and to further improve the calibration accuracy.

また、第1実施形態に示したように、透明基材21の表面21aに反射防止膜22を設ける場合、一般的に蒸着法などによる反射防止膜22を設けるため、反射防止膜22も透明基材21の平面度の影響を受けることとなり、透明基材21の厚さを薄くするほど、像に歪が生じやすくなる。これに対し、本実施形態では、隣接する透明基材21の相対する表面21a間に充填材26を隙間なく充填するので、このような歪を低減することができる。   In addition, as shown in the first embodiment, when the antireflection film 22 is provided on the surface 21a of the transparent substrate 21, the antireflection film 22 is generally provided by a vapor deposition method. It will be influenced by the flatness of the material 21, and as the thickness of the transparent substrate 21 is reduced, the image is more likely to be distorted. On the other hand, in this embodiment, since the filler 26 is filled between the opposing surfaces 21a of the adjacent transparent base materials 21 without a gap, such distortion can be reduced.

なお、隣接する透明基材21の相対する表面21a間に充填材26を隙間なく充填する方法としては特に限定されるものではない。その一例として、本実施形態では、図7及び図8に示すように、スペーサ24が略C字状とされ、ホルダ40を構成する外周部41に、スペーサ24におけるC字状端部間の開口部を介して、隣接する透明基材21の相対する表面21a間の領域と連通する空気抜き孔41aが設けられている。そして、空気抜き孔41aが止め栓46にて閉塞される前の状態で、空気抜き孔41aを上にして充填材26内に校正装置10が浸漬され、空気が抜けた状態で、空気抜き孔41aに止め栓46をすることで、校正装置10が形成されるようになっている。なお、図7に示す符号47は、シール用のガスケットである。また、積層ユニット20における端部と保護部材30との間にも充填材26が充填されており、保護部材30における積層ユニット20と相対する面の裏面のみに反射防止膜31が設けられている。図7は、校正装置の概略構成を示す断面図である。図8は、図7に示すVIII−VIII線に沿う断面図である。   In addition, it is not specifically limited as a method of filling the filler 26 between the opposing surfaces 21a of the adjacent transparent base materials 21 without a gap. As an example, in this embodiment, as shown in FIGS. 7 and 8, the spacer 24 is substantially C-shaped, and an opening between the C-shaped end portions of the spacer 24 is formed in the outer peripheral portion 41 constituting the holder 40. An air vent hole 41a communicating with the region between the opposing surfaces 21a of the adjacent transparent base materials 21 is provided through the portion. Then, the calibration device 10 is immersed in the filler 26 with the air vent hole 41a facing up before the air vent hole 41a is blocked by the stopper plug 46, and the air vent hole 41a is stopped in the air vent hole 41a. The calibration device 10 is formed by plugging the stopper 46. In addition, the code | symbol 47 shown in FIG. 7 is a gasket for sealing. Further, the filler 26 is also filled between the end portion of the laminated unit 20 and the protective member 30, and the antireflection film 31 is provided only on the back surface of the protective member 30 facing the laminated unit 20. . FIG. 7 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the calibration apparatus. 8 is a cross-sectional view taken along line VIII-VIII shown in FIG.

なお、充填材26の屈折率を透明基材21の屈折率と略一致させると、透明基材21の表面21aでの反射を殆どなくすことができる。しかしながら、本実施形態に示すように、標準粒子23の屈折率(1.59)が透明基材21の屈折率(1.524)よりも大きいものの、両者が近い値の場合には、充填材26として、透明基材21とほぼ同じ屈折率の所謂インデックスマッチングオイル(例えば屈折率1.52のシリコンオイル)を採用すると、標準粒子23と充填材26との屈折率の差が小さくなる。すなわち、充填材26を透過した測定光102が標準粒子23によって屈折する角度が小さくなる。したがって、透明基材21の枚数が多いほど、図9(a)に示すように、画像上での標準粒子23のコントラストが、図9(c)に示す被測定体100の画像(粒子100aのコントラスト)と比べて低下してしまう。この場合、被測定体100の粒度分布を測定する際とは異なる2値化レベルで精度を検証しなければならないため、校正装置10としては好ましくない。これに対し、本実施形態では、上記したように、充填材26の構成材料として、測定光102に対して透明で、透明基材21の屈折率よりも小さく、空気の屈折率1よりも大きい屈折率を有する材料を採用している。したがって、透明基材21と標準粒子23の屈折率が近い値であっても、図9(b)に示すように標準粒子23のコントラストの低下を抑制して、図9(c)に示す被測定体100の画像(粒子100aのコントラスト)と同程度とすることができる。図9は、光学測定装置により撮影された画像を模式的に示した図であり、(a)は充填材の屈折率を透明基材と略一致させた場合の画像、(b)は充填材の屈折率を透明基材よりも小さく1よりも大きくした場合の画像、(c)は参考例としての被測定体の画像を示している。   Note that when the refractive index of the filler 26 is substantially matched with the refractive index of the transparent base material 21, reflection on the surface 21a of the transparent base material 21 can be almost eliminated. However, as shown in the present embodiment, when the refractive index (1.59) of the standard particles 23 is larger than the refractive index (1.524) of the transparent substrate 21, but both are close to each other, the filler When a so-called index matching oil (for example, silicon oil having a refractive index of 1.52) having substantially the same refractive index as that of the transparent base material 21 is used as 26, the difference in refractive index between the standard particles 23 and the filler 26 is reduced. That is, the angle at which the measurement light 102 transmitted through the filler 26 is refracted by the standard particles 23 becomes small. Therefore, as the number of transparent substrates 21 increases, as shown in FIG. 9A, the contrast of the standard particles 23 on the image becomes the image of the measured object 100 shown in FIG. Compared to (contrast). In this case, since the accuracy must be verified at a binarization level different from that when measuring the particle size distribution of the measurement object 100, the calibration device 10 is not preferable. On the other hand, in the present embodiment, as described above, the constituent material of the filler 26 is transparent to the measurement light 102, is smaller than the refractive index of the transparent substrate 21, and is larger than the refractive index 1 of air. A material having a refractive index is employed. Therefore, even if the refractive indexes of the transparent base material 21 and the standard particles 23 are close to each other, the decrease in contrast of the standard particles 23 is suppressed as shown in FIG. It can be set to the same level as the image of the measurement object 100 (contrast of the particles 100a). FIG. 9 is a diagram schematically showing an image taken by an optical measuring device, where (a) is an image when the refractive index of the filler is substantially matched with the transparent substrate, and (b) is a filler. (C) shows an image of the object to be measured as a reference example.

なお、本実施形態においては、粒子100aの屈折率がその周囲の媒体の屈折率よりも大きい被測定体100を模した校正装置10の例を示した。しかしながら、標準粒子23の屈折率のほうが、透明基材21の屈折率及び充填材26の屈折率よりも小さい、すなわち粒子100aの屈折率がその周囲の媒体の屈折率よりも小さい被測定体100(例えば液中における気泡などの粒子が明るく写る被測定体)を模した校正装置10にも適用することができる。なお、充填材26としては、屈折率が透明基材21よりも大きく、透明基材21との屈折率の差が透明基材21と空気の屈折率の差よりも小さい屈折率を有する材料を採用することができる。これによれば、透明基材21の表面21aに空気(屈折率1)が隣接する構成よりも、隣接する2つの媒質の屈折率の差が小さいので、透明基材21の表面21aにおける反射を低減し、透明基材21を多層に積層した構成でありながら、透過光量を確保することができる。また、繰り返し反射による像のコントラストの低下を抑制し、校正の精度をより高めることもできる。さらには、充填材26に屈折率が透明基材21よりも大きいので、透明基材21と標準粒子23の屈折率が近い値であっても、像のコントラストの低下を抑制することができる。   In the present embodiment, an example of the calibration apparatus 10 simulating the measurement target 100 in which the refractive index of the particle 100a is larger than the refractive index of the surrounding medium is shown. However, the refractive index of the standard particle 23 is smaller than the refractive index of the transparent substrate 21 and the refractive index of the filler 26, that is, the measured object 100 in which the refractive index of the particle 100a is smaller than the refractive index of the surrounding medium. The present invention can also be applied to the calibration device 10 that simulates (for example, a measured object in which particles such as bubbles in the liquid appear bright). The filler 26 is made of a material having a refractive index larger than that of the transparent base material 21 and having a refractive index smaller than that of the transparent base material 21 and air. Can be adopted. According to this, since the difference in refractive index between two adjacent media is smaller than the configuration in which air (refractive index 1) is adjacent to the surface 21a of the transparent base material 21, reflection on the surface 21a of the transparent base material 21 is prevented. The amount of transmitted light can be secured while the transparent base material 21 is laminated in multiple layers. In addition, it is possible to suppress the deterioration of the contrast of the image due to repetitive reflection and to further improve the calibration accuracy. Furthermore, since the refractive index of the filler 26 is larger than that of the transparent base material 21, even if the refractive index of the transparent base material 21 and the standard particles 23 are close to each other, it is possible to suppress a decrease in image contrast.

(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態を、図10に基づいて説明する。図10は、第3実施形態に係る校正装置のうち、主たる特徴部分である積層ユニットの概略構成を示す断面図である。なお、図10においては、積層ユニットとともに積層される保護部材も併せて図示している。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a stacked unit which is a main characteristic portion of the calibration apparatus according to the third embodiment. In addition, in FIG. 10, the protection member laminated | stacked with the lamination | stacking unit is also shown in figure.

第3実施形態に係る校正装置は、上記した各実施形態によるものと共通するところが多いので、以下、共通部分については詳しい説明は省略し、異なる部分を重点的に説明する。なお、各実施形態に示した要素と同一の要素には、同一の符号を付与するものとする。   Since the calibration apparatus according to the third embodiment is in common with those according to the above-described embodiments, detailed description of the common parts will be omitted below, and different parts will be described mainly. In addition, the same code | symbol shall be provided to the element same as the element shown to each embodiment.

第2実施形態においては、標準粒子23の屈折率(1.59)が透明基材21の屈折率(1.524)よりも大きいものの、両者の値が近く、透明基材21とは異なる屈折率を有する充填材26が、スペーサ24を介して隣接する透明基材21の相対する表面21a間の領域に充填されている例を示した。これに対し、本実施形態では、図10に示すように、標準粒子23の屈折率が透明基材21の屈折率とは異なり、スペーサ24を介して隣接する透明基材21の相対する表面21a間の領域に充填された充填材27の屈折率が、透明基材21の屈折率と略一致されている点を特徴とする。   In the second embodiment, although the refractive index (1.59) of the standard particles 23 is larger than the refractive index (1.524) of the transparent base material 21, both values are close to each other and are different from the transparent base material 21. The example in which the filler 26 having a ratio is filled in the region between the opposing surfaces 21 a of the adjacent transparent base materials 21 via the spacers 24 is shown. On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG. 10, the refractive index of the standard particles 23 is different from the refractive index of the transparent base material 21, and the opposite surface 21 a of the adjacent transparent base material 21 through the spacer 24. It is characterized in that the refractive index of the filler 27 filled in the region between them is substantially the same as the refractive index of the transparent substrate 21.

本実施形態では、第1実施形態同様、空気(屈折率1)中に燃料微粒子100a(屈折率1.3876のn−ヘプタン)が3次元配置された被測定体100(粒子100aが影として写る構成)を模した構成となっている。具体的には、透明基材21の構成材料として石英(屈折率1.46)、標準粒子23の構成材料としてユニチカ製のチタンバリウム系ガラス(屈折率1.93)、充填材27の構成材料としてモリテック製の屈折率適合液(屈折率1.46)を採用している。また、ガラス製の標準粒子23を石英からなる透明基材21の表面21aに固定するために、透明基材21の両表面21aにNTTAT製の紫外線硬化性樹脂からなる接着層28(屈折率1.46)を設けている。そして、透明基材21の表面21aに設けられた接着層28上に、標準粒子23を配置した状態で、紫外線を照射することにより、標準粒子23の固定された透明基材21を得るようにしている。なお、接着層28を含む透明基材21の厚さが、被測定体100における対応する位置での平均粒子間隔と略一致されている。それ以外の積層ユニット20の構成は、第1実施形態と同じとなっている。また、積層ユニット20における端部と保護部材30との間にも充填材27が充填されており、保護部材30における積層ユニット20と相対する面の裏面のみに反射防止膜31が設けられている。   In the present embodiment, as in the first embodiment, the measurement object 100 (particle 100a is shown as a shadow) in which fuel fine particles 100a (n-heptane with a refractive index of 1.3876) are three-dimensionally arranged in air (refractive index 1). The configuration is similar to that of the configuration. Specifically, quartz (refractive index: 1.46) is used as a constituent material of the transparent base material 21, titanium barium-based glass (refractive index: 1.93) manufactured by Unitika is used as a constituent material of the standard particles 23, and constituent materials of the filler 27. A refractive index matching liquid (refractive index: 1.46) manufactured by Moritec is used. Further, in order to fix the standard particles 23 made of glass to the surface 21a of the transparent base material 21 made of quartz, an adhesive layer 28 (refractive index 1) made of an ultraviolet curable resin made of NTTAT is formed on both surfaces 21a of the transparent base material 21. .46). Then, by irradiating with ultraviolet rays in a state where the standard particles 23 are arranged on the adhesive layer 28 provided on the surface 21a of the transparent substrate 21, the transparent substrate 21 to which the standard particles 23 are fixed is obtained. ing. Note that the thickness of the transparent substrate 21 including the adhesive layer 28 is substantially matched with the average particle spacing at corresponding positions in the measurement object 100. The structure of the other lamination | stacking unit 20 is the same as 1st Embodiment. Further, a filler 27 is also filled between the end portion of the laminated unit 20 and the protective member 30, and the antireflection film 31 is provided only on the back surface of the protective member 30 facing the laminated unit 20. .

このように本実施形態でも、第1実施形態に示した校正装置10(積層ユニット20)と同様に、3次元配置された被測定体100における粒子100aの分散状態により近い状態で、標準粒子23が3次元配置されている。したがって、本実施形態に係る校正装置10を用いれば、被測定体100での多重散乱を再現することができ、これにより、3次元配置された被測定体100の粒度分布を測定する光学測定装置を、精度よく校正することができる。   As described above, also in this embodiment, the standard particles 23 are in a state closer to the dispersed state of the particles 100a in the three-dimensionally arranged measurement object 100, similarly to the calibration device 10 (laminated unit 20) shown in the first embodiment. Are arranged three-dimensionally. Therefore, if the calibration apparatus 10 according to the present embodiment is used, the multiple scattering in the measurement object 100 can be reproduced, and thereby the optical measurement apparatus that measures the particle size distribution of the measurement object 100 arranged three-dimensionally. Can be calibrated with high accuracy.

また、本実施形態では、透明基材21の屈折率、充填材27の屈折率、接着層28の屈折率が略一致され、これにより、屈折率分布の殆どない一様な媒体(透明部材)内に、標準粒子23が3次元配置された構成となっている。したがって、校正装置10が、空気中に噴射された燃料微粒子など、粒子100aが影として写る被測定体100の状態により近い状態となっており、これにより、校正の精度をより高めることができる。また、本実施形態では、透明基材21の表面21aでの反射が殆ど生じないので、これにより透過光量を確保することができる。さらには、繰り返し反射による像のコントラストの低下を抑制し、校正の精度をより高めることもできる。   In the present embodiment, the refractive index of the transparent base material 21, the refractive index of the filler 27, and the refractive index of the adhesive layer 28 are substantially the same, whereby a uniform medium (transparent member) having almost no refractive index distribution. Inside, the standard particles 23 are three-dimensionally arranged. Therefore, the calibration apparatus 10 is in a state closer to the state of the measured object 100 in which the particles 100a appear as shadows, such as fuel fine particles injected into the air, and thereby the calibration accuracy can be further improved. Moreover, in this embodiment, since the reflection by the surface 21a of the transparent base material 21 hardly arises, this can ensure the amount of transmitted light. Further, it is possible to suppress a decrease in the contrast of the image due to repeated reflection, and to further improve the accuracy of calibration.

特に本実施形態では、透明基材21、充填材27、及び接着層28として、屈折率が1.46の材料がそれぞれ採用され、標準粒子23として屈折率1.93のガラスが採用されている。これにより、屈折率分布の殆どない一様な媒体(屈折率1.46)内に、標準粒子23(屈折率1.93)が3次元配置された構成となっている。ここで、媒体に対する標準粒子23の屈折率の比は1.322であり、媒体である空気に対する燃料微粒子100a(n−ヘプタン)の屈折率の比1.3876とほぼ同じ値となっている。したがって、本実施形態に示した校正装置10は、特に燃料微粒子100aの集合体である被測定体100の粒度分布を測定する光学測定装置の校正に好適である。   In particular, in the present embodiment, materials having a refractive index of 1.46 are employed as the transparent base material 21, the filler 27, and the adhesive layer 28, respectively, and glass having a refractive index of 1.93 is employed as the standard particles 23. . Thus, the standard particles 23 (refractive index 1.93) are three-dimensionally arranged in a uniform medium (refractive index 1.46) having almost no refractive index distribution. Here, the ratio of the refractive index of the standard particle 23 to the medium is 1.322, which is substantially the same value as the ratio of the refractive index of the fuel fine particles 100a (n-heptane) to the medium air, which is 1.3876. Therefore, the calibration apparatus 10 shown in the present embodiment is particularly suitable for calibrating an optical measurement apparatus that measures the particle size distribution of the measurement target 100 that is an aggregate of the fuel fine particles 100a.

また、本実施形態においても、隣接する透明基材21の相対する表面21a間に充填材27を隙間なく充填することで、透明基材21における反射を低減するようにしている。したがって、第2実施形態同様、透明基材21の平面度に起因する像の歪を低減することができる。   Also in the present embodiment, the reflection on the transparent base material 21 is reduced by filling the filler 27 between the opposing surfaces 21a of the adjacent transparent base materials 21 without any gaps. Accordingly, as in the second embodiment, image distortion due to the flatness of the transparent substrate 21 can be reduced.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態になんら制限されることなく、本発明の主旨(表面21aに標準粒子23が固定された透明基材21を複数枚積層してなる校正装置10)を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。   As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, this invention is not restrict | limited at all to the embodiment mentioned above, the main point of this invention (The transparent base material 21 by which the standard particle 23 was fixed to the surface 21a is made several sheets. Various modifications can be made without departing from the laminated calibration apparatus 10).

第1実施形態においては、反射防止膜22が透明基材21の両表面21aに設けられ、両表面21aの反射防止膜22上に、樹脂製の標準粒子23が溶着によって固定される例を示した。しかしながら、透明基材21の一方の表面21aのみに反射防止膜22が設けられた構成としても良い。また、標準粒子23が透明基材21の表面21a(反射防止膜22が設けられた表面21aの裏面)に直接固定された構成としても良い。なお、標準粒子23が透明基材21の表面21aに直接固定される場合には、透明基材21の構成材料として樹脂を、標準粒子23の構成材料として透明基材21よりも融点の高い材料(例えばガラス)を採用し、加熱により透明基材21の表面(表面21aを含む)を溶融させて標準粒子23が固定された構成としても良い。   In 1st Embodiment, the antireflection film 22 is provided in both the surfaces 21a of the transparent base material 21, and the resin-made standard particle 23 is fixed on the antireflection film 22 of both surfaces 21a by welding. It was. However, a configuration in which the antireflection film 22 is provided only on one surface 21a of the transparent substrate 21 may be employed. Further, the standard particles 23 may be directly fixed to the surface 21a of the transparent substrate 21 (the back surface of the surface 21a provided with the antireflection film 22). When the standard particles 23 are directly fixed to the surface 21 a of the transparent base material 21, a resin is used as a constituent material of the transparent base material 21, and a material having a melting point higher than that of the transparent base material 21 as a constituent material of the standard particles 23. It is good also as a structure which employ | adopted (for example, glass), fuse | melted the surface (including the surface 21a) of the transparent base material 21 by heating, and the standard particle 23 was fixed.

第1実施形態においては、標準粒子23の屈折率が透明基材21の屈折率よりも大きい例を示した。しかしながら、粒子100aの屈折率が粒子100aの周囲の媒体の屈折率よりも小さい被測定体100を模した校正装置10とする場合には、標準粒子23として、透明基材21よりも屈折率の小さい材料を採用すればよい。   In the first embodiment, an example in which the refractive index of the standard particles 23 is larger than the refractive index of the transparent substrate 21 has been shown. However, in the case of the calibration apparatus 10 simulating the object to be measured 100 in which the refractive index of the particle 100a is smaller than the refractive index of the medium around the particle 100a, the standard particle 23 has a refractive index higher than that of the transparent substrate 21. Small materials can be used.

第2実施形態においては、透明基材21の表面21aに、樹脂製の標準粒子23が溶着によって直接固定される例を示した。しかしながら、透明基材21の表面21aへの標準粒子23の固定構造は、上記例に限定されるものではない。例えば、上記したように、透明基材21の構成材料として樹脂を、標準粒子23の構成材料として透明基材21よりも融点の高い材料(例えばガラス)を採用し、加熱により透明基材21の表面(表面21aを含む)を溶融させて標準粒子23が固定された構成としても良い。また、屈折率が透明基材21と略一致する接着層28を透明基材21の表面21aに設け、接着層28を介して標準粒子23が透明基材21に固定された構成としても良い。さらには、第1実施形態に示したように透明基材21の表面21a上に反射防止膜22を設け、反射防止膜22を介して標準粒子23が固定された構成としても良い。この場合、反射防止膜22と充填材26の効果により、透明基材21の表面21aでの反射をより低減することができる。   In 2nd Embodiment, the example which the resin-made standard particle 23 is directly fixed to the surface 21a of the transparent base material 21 by welding was shown. However, the structure for fixing the standard particles 23 to the surface 21a of the transparent substrate 21 is not limited to the above example. For example, as described above, resin is used as the constituent material of the transparent base material 21, and a material (for example, glass) having a melting point higher than that of the transparent base material 21 is used as the constituent material of the standard particles 23. The surface (including the surface 21a) may be melted to fix the standard particles 23. Alternatively, an adhesive layer 28 having a refractive index substantially identical to that of the transparent substrate 21 may be provided on the surface 21 a of the transparent substrate 21, and the standard particles 23 may be fixed to the transparent substrate 21 via the adhesive layer 28. Furthermore, as shown in the first embodiment, an antireflection film 22 may be provided on the surface 21 a of the transparent substrate 21 and the standard particles 23 may be fixed via the antireflection film 22. In this case, the reflection on the surface 21 a of the transparent substrate 21 can be further reduced by the effects of the antireflection film 22 and the filler 26.

第3実施形態においては、屈折率が透明基材21と略一致する接着層28を透明基材21の表面21aに設け、接着層28を介して標準粒子23が透明基材21に固定される例を示した。しかしながら、被測定体100での媒体に対する粒子100aの屈折率の比によっては、透明基材21と標準粒子23とを直接固定する構造とすることも可能である。   In the third embodiment, an adhesive layer 28 whose refractive index substantially matches the transparent base material 21 is provided on the surface 21 a of the transparent base material 21, and the standard particles 23 are fixed to the transparent base material 21 via the adhesive layer 28. An example is shown. However, depending on the ratio of the refractive index of the particle 100a to the medium in the object to be measured 100, a structure in which the transparent base material 21 and the standard particle 23 are directly fixed can be used.

図1は、被測定体の光学測定装置による粒度分布測定の概略構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of particle size distribution measurement by an optical measurement device for a measurement object. 第1実施形態に係る校正装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the calibration apparatus which concerns on 1st Embodiment. 図2に示すIII−III線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the III-III line | wire shown in FIG. 図2に示す校正装置のうち、主たる特徴部分である積層ユニットの概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the lamination | stacking unit which is a main characteristic part among the calibration apparatuses shown in FIG. 校正方法を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the calibration method. 第2実施形態に係る校正装置のうち、主たる特徴部分である積層ユニットの概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the lamination | stacking unit which is a main characteristic part among the calibration apparatuses which concern on 2nd Embodiment. 校正装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of a calibration apparatus. 図7に示すVIII−VIII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the VIII-VIII line shown in FIG. 光学測定装置により撮影された画像を模式的に示した図であり、(a)は充填材の屈折率を透明基材と略一致させた場合の画像、(b)は充填材の屈折率を透明基材よりも小さく1よりも大きくした場合の画像、(c)は参考例としての被測定体の画像を示している。It is the figure which showed typically the image image | photographed with the optical measuring device, (a) is an image at the time of making the refractive index of a filler substantially correspond with a transparent base material, (b) is the refractive index of a filler. An image in the case of being smaller than the transparent substrate and larger than 1, (c) shows an image of the measured object as a reference example. 第3実施形態に係る校正装置のうち、主たる特徴部分である積層ユニットの概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the lamination | stacking unit which is a main characteristic part among the calibration apparatuses which concern on 3rd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10・・・校正装置
20・・・積層ユニット
21・・・透明基材
21a・・・表面
22・・・反射防止膜
23・・・標準粒子
24・・・スペーサ
25・・・空気
26,27・・・充填材
100・・・被測定体
100a・・・燃料微粒子(粒子)
101・・・インジェクター
102・・・測定光
103・・・撮像装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Calibration apparatus 20 ... Laminating unit 21 ... Transparent base material 21a ... Surface 22 ... Antireflection film 23 ... Standard particle 24 ... Spacer 25 ... Air 26, 27 ... Filler 100 ... Measurement object 100a ... Fuel fine particles (particles)
101 ... Injector 102 ... Measurement light 103 ... Imaging device

Claims (10)

3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を校正するための校正装置であって、
前記光学測定装置の測定光に対して透明で、前記測定光が透過される両表面の少なくとも一方に反射防止膜が設けられた平板状の複数の透明基材と、
前記透明基材とは異なる屈折率及び前記被測定体と略一致する透過率を有しており、各透明基材の両表面の少なくとも一方に対し、直接若しくは前記反射防止膜を介して固定された標準粒子と、
前記透明基材と交互に前記測定光の光軸方向に積層され、前記測定光が透過される各透明基材の表面を互いに略平行に保つスペーサと、を備え、
前記スペーサを介して積層された複数の前記透明基材において、前記測定光の入射側端部と出射側端部との間の距離が、前記被測定体における前記測定光の光路長と略一致され、
前記透明基材の同一表面に固定された前記標準粒子の、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、前記被測定体の同一位置に対応する断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致され、
積層方向において、互いに隣接する前記標準粒子がそれぞれ固定された前記透明基材の表面間の距離が、前記被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致するように、前記反射防止膜を含む透明基材の厚さと前記スペーサの厚さがそれぞれ設定されていることを特徴とする校正装置。
A calibration device for calibrating an optical measurement device that measures the particle size distribution of a three-dimensionally arranged object to be measured,
A plurality of flat transparent substrates that are transparent to the measurement light of the optical measurement device and are provided with antireflection films on at least one of both surfaces through which the measurement light is transmitted;
It has a refractive index different from that of the transparent substrate and a transmittance that substantially matches the object to be measured, and is fixed to at least one of both surfaces of each transparent substrate directly or via the antireflection film. Standard particles,
A spacer that is alternately laminated with the transparent base material in the optical axis direction of the measurement light, and that keeps the surfaces of the transparent base materials through which the measurement light is transmitted substantially parallel to each other,
In the plurality of transparent substrates stacked via the spacer, the distance between the measurement light incident side end and the output side end is substantially the same as the optical path length of the measurement light in the measurement object. And
The standard particles fixed on the same surface of the transparent substrate, the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle interval in the cross section corresponding to the same position of the measured object, the particle size distribution, It is approximately the same as the number per unit area and the average particle spacing,
In the laminating direction, the antireflection film so that the distance between the surfaces of the transparent base material to which the standard particles adjacent to each other are fixed substantially coincides with the average particle spacing at the corresponding position in the measurement object. A calibration apparatus characterized in that the thickness of the transparent base material including the thickness of each of the spacers is set.
前記標準粒子は樹脂からなり、その表面の溶着により前記透明基材に対して固定されていることを特徴とする請求項1に記載の校正装置。   The calibration apparatus according to claim 1, wherein the standard particles are made of a resin and are fixed to the transparent base material by welding of the surfaces thereof. 前記標準粒子は、各透明基材の両表面に対してそれぞれ固定され、
前記反射防止膜を含む透明基材の厚さと前記スペーサの厚さが、前記被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の校正装置。
The standard particles are fixed to both surfaces of each transparent substrate,
The thickness of the transparent base material including the antireflection film and the thickness of the spacer are substantially the same as the average particle spacing at corresponding positions in the measured object. The calibration device described in 1.
3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を校正するための校正装置であって、
前記光学測定装置の測定光に対して透明で、屈折率n1を有する平板状の複数の透明基材と、
前記屈折率n1とは異なる屈折率n2と、前記被測定体と略一致する透過率とを有し、前記測定光が透過される各透明基材の両表面の少なくとも一方に対して固定された標準粒子と、
前記透明基材と交互に前記測定光の光軸方向に積層され、前記測定光が透過される各透明基材の表面を互いに略平行に保つスペーサと、
前記スペーサを介して隣接する前記透明基材の相対する表面間の領域に充填され、前記測定光に対して透明で、前記屈折率n1と略一致する屈折率n3を有する充填材と、を備え、
前記スペーサを介して積層された複数の前記透明基材において、前記測定光の入射側端部と出射側端部との間の距離が、前記被測定体における前記測定光の光路長と略一致され、
前記透明基材の同一表面に固定された前記標準粒子の、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、前記被測定体の同一位置に対応する断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致され、
積層方向において、互いに隣接する前記標準粒子がそれぞれ固定された前記透明基材の表面間の距離が、前記被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致するように、前記透明基材の厚さと前記スペーサの厚さがそれぞれ設定されていることを特徴とする校正装置。
A calibration device for calibrating an optical measurement device that measures the particle size distribution of a three-dimensionally arranged object to be measured,
A plurality of flat transparent substrates transparent to the measuring light of the optical measuring device and having a refractive index n1,
It has a refractive index n2 different from the refractive index n1 and a transmittance that substantially matches the measured object, and is fixed to at least one of both surfaces of each transparent substrate through which the measurement light is transmitted Standard particles,
Alternatingly stacked in the optical axis direction of the measurement light alternately with the transparent base material, and a spacer that keeps the surfaces of the transparent base materials through which the measurement light is transmitted substantially parallel to each other;
A filler filled in a region between opposing surfaces of the transparent bases adjacent via the spacer, transparent to the measurement light, and having a refractive index n3 that substantially matches the refractive index n1. ,
In the plurality of transparent substrates stacked via the spacer, the distance between the measurement light incident side end and the output side end is substantially the same as the optical path length of the measurement light in the measurement object. And
The standard particles fixed on the same surface of the transparent substrate, the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle interval in the cross section corresponding to the same position of the measured object, the particle size distribution, It is approximately the same as the number per unit area and the average particle spacing,
In the stacking direction, the transparent substrate so that the distance between the surfaces of the transparent substrate on which the standard particles adjacent to each other are fixed substantially coincides with the average particle interval at the corresponding position in the measured object. And a thickness of each of the spacers are set.
3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を校正するための校正装置であって、
前記光学測定装置の測定光に対して透明で、屈折率n1を有する平板状の複数の透明基材と、
前記屈折率n1よりも大きい屈折率n2と、前記被測定体と略一致する透過率とを有し、前記測定光が透過される各透明基材の両表面の少なくとも一方に対して固定された標準粒子と、
前記透明基材と交互に前記測定光の光軸方向に積層され、前記測定光が透過される各透明基材の表面を互いに略平行に保つスペーサと、
前記スペーサを介して隣接する前記透明基材の相対する表面間の領域に充填され、前記測定光に対して透明で、前記屈折率n1よりも小さく屈折率1よりも大きい屈折率n3を有する充填材と、を備え、
前記スペーサを介して積層された複数の前記透明基材において、前記測定光の入射側端部と出射側端部との間の距離が、前記被測定体における前記測定光の光路長と略一致され、
前記透明基材の同一表面に固定された前記標準粒子の、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、前記被測定体の同一位置に対応する断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致され、
積層方向において、互いに隣接する前記標準粒子がそれぞれ固定された前記透明基材の表面間の距離が、前記被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致するように、前記透明基材の厚さと前記スペーサの厚さがそれぞれ設定されていることを特徴とする校正装置。
A calibration device for calibrating an optical measurement device that measures the particle size distribution of a three-dimensionally arranged object to be measured,
A plurality of flat transparent substrates transparent to the measuring light of the optical measuring device and having a refractive index n1,
It has a refractive index n2 larger than the refractive index n1 and a transmittance that substantially matches the measured object, and is fixed to at least one of both surfaces of each transparent substrate through which the measurement light is transmitted Standard particles,
Alternatingly stacked in the optical axis direction of the measurement light alternately with the transparent base material, and a spacer that keeps the surfaces of the transparent base materials through which the measurement light is transmitted substantially parallel to each other;
Filled in a region between the opposing surfaces of the transparent bases adjacent via the spacer, transparent to the measuring light, and having a refractive index n3 smaller than the refractive index n1 and larger than the refractive index 1 With materials,
In the plurality of transparent substrates stacked via the spacer, the distance between the measurement light incident side end and the output side end is substantially the same as the optical path length of the measurement light in the measurement object. And
The standard particles fixed on the same surface of the transparent substrate, the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle interval in the cross section corresponding to the same position of the measured object, the particle size distribution, It is approximately the same as the number per unit area and the average particle spacing,
In the stacking direction, the transparent substrate so that the distance between the surfaces of the transparent substrate on which the standard particles adjacent to each other are fixed substantially coincides with the average particle interval at the corresponding position in the measured object. And a thickness of each of the spacers are set.
3次元配置された被測定体の粒度分布を測定する光学測定装置を校正するための校正装置であって、
前記光学測定装置の測定光に対して透明で、屈折率n1を有する平板状の複数の透明基材と、
前記屈折率n1よりも小さい屈折率n2と、前記被測定体と略一致する透過率とを有し、前記測定光が透過される各透明基材の両表面の少なくとも一方に対して固定された標準粒子と、
前記透明基材と交互に前記測定光の光軸方向に積層され、前記測定光が透過される各透明基材の表面を互いに略平行に保つスペーサと、
前記スペーサを介して隣接する前記透明基材の相対する表面間の領域に充填され、前記測定光に対して透明で、前記屈折率n1よりも大きく、前記屈折率n1との差が屈折率n1と屈折率1との差よりも小さい屈折率n3を有する充填材と、を備え、
前記スペーサを介して積層された複数の前記透明基材において、前記測定光の入射側端部と出射側端部との間の距離が、前記被測定体における前記測定光の光路長と略一致され、
前記透明基材の同一表面に固定された前記標準粒子の、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔が、前記被測定体の同一位置に対応する断面での、粒径分布、単位面積当たりの個数、及び平均粒子間隔と略一致され、
積層方向において、互いに隣接する前記標準粒子がそれぞれ固定された前記透明基材の表面間の距離が、前記被測定体における対応する位置での平均粒子間隔と略一致するように、前記透明基材の厚さと前記スペーサの厚さがそれぞれ設定されていることを特徴とする校正装置。
A calibration device for calibrating an optical measurement device that measures the particle size distribution of a three-dimensionally arranged object to be measured,
A plurality of flat transparent substrates transparent to the measuring light of the optical measuring device and having a refractive index n1,
It has a refractive index n2 smaller than the refractive index n1 and a transmittance substantially equal to the measured object, and is fixed to at least one of both surfaces of each transparent substrate through which the measurement light is transmitted Standard particles,
Alternatingly stacked in the optical axis direction of the measurement light alternately with the transparent base material, and a spacer that keeps the surfaces of the transparent base materials through which the measurement light is transmitted substantially parallel to each other;
A region between the opposing surfaces of the transparent bases adjacent to each other through the spacer is filled, transparent to the measurement light, larger than the refractive index n1, and a difference from the refractive index n1 is a refractive index n1. And a filler having a refractive index n3 smaller than the difference between refractive index 1 and
In the plurality of transparent substrates stacked via the spacer, the distance between the measurement light incident side end and the output side end is substantially the same as the optical path length of the measurement light in the measurement object. And
The standard particles fixed on the same surface of the transparent substrate, the particle size distribution, the number per unit area, and the average particle interval in the cross section corresponding to the same position of the measured object, the particle size distribution, It is approximately the same as the number per unit area and the average particle spacing,
In the stacking direction, the transparent substrate so that the distance between the surfaces of the transparent substrate on which the standard particles adjacent to each other are fixed substantially coincides with the average particle interval at the corresponding position in the measured object. And a thickness of each of the spacers are set.
前記標準粒子は樹脂からなり、その表面の溶着により前記透明基材に対して固定されていることを特徴とする請求項4〜6いずれか1項に記載の校正装置。   The calibration apparatus according to any one of claims 4 to 6, wherein the standard particles are made of resin and fixed to the transparent base material by welding of the surfaces thereof. 前記屈折率n1と略一致する屈折率n4を有し、前記透明基材の両表面の少なくとも一方に設けられた紫外線硬化樹脂からなる接着層をさらに備え、
前記標準粒子は、各透明基材における前記接着層に接着固定されていることを特徴とする請求項4〜6いずれか1項に記載の校正装置。
A refractive index n4 substantially equal to the refractive index n1, further comprising an adhesive layer made of an ultraviolet curable resin provided on at least one of both surfaces of the transparent substrate;
The calibration apparatus according to claim 4, wherein the standard particles are bonded and fixed to the adhesive layer in each transparent substrate.
前記標準粒子は、各透明基材の両表面に対してそれぞれ固定され、
前記透明基材の厚さと前記スペーサの厚さが、前記被測定体における対応する位置での前記平均粒子間隔と略一致されていることを特徴とする請求項4〜8いずれか1項に記載の校正装置。
The standard particles are fixed to both surfaces of each transparent substrate,
The thickness of the transparent base material and the thickness of the spacer are approximately the same as the average particle spacing at corresponding positions in the measured object. Calibration equipment.
複数の前記透明基材は、前記スペーサを介して互いに積層された状態で、積層方向における両端側から保持部材によって挟持され、一体化されていることを特徴とする請求項1〜9いずれか1項に記載の校正装置。   A plurality of said transparent base materials are clamped by the holding member from the both ends in the lamination direction in a state of being laminated with each other via the spacer, and are integrated. The calibration device according to item.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014524013A (en) * 2011-06-06 2014-09-18 メディパン・ゲーエムベーハー Method and system for automatically determining immunofluorescent lesions by cell-based immunofluorescence assay using synthetic calibration particles
WO2014170054A1 (en) * 2013-04-19 2014-10-23 Robert Bosch Gmbh Testing device for a scattered-light measuring device, production method for a testing device for a scattered-light measuring device, and method for checking a scattered-light measuring device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014524013A (en) * 2011-06-06 2014-09-18 メディパン・ゲーエムベーハー Method and system for automatically determining immunofluorescent lesions by cell-based immunofluorescence assay using synthetic calibration particles
WO2014170054A1 (en) * 2013-04-19 2014-10-23 Robert Bosch Gmbh Testing device for a scattered-light measuring device, production method for a testing device for a scattered-light measuring device, and method for checking a scattered-light measuring device

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