JP2009294447A - Transparent electrode substrate of dot matrix display device, liquid crystal display element and reflective display element - Google Patents

Transparent electrode substrate of dot matrix display device, liquid crystal display element and reflective display element Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To materialize a new structure of a transparent strip electrode, which reduces reddish black phenomenon and sufficiently reduces the surface resistance of the transparent strip electrode so as to drive the display device. <P>SOLUTION: The display device is equipped with transparent substrates 11, 13, and a plurality of transparent strip electrodes 14, 15 arranged in parallel to one another on the transparent substrates, the transparent strip electrode 14 being formed of a single conductive material and partially different in thickness. The transparent strip electrode preferably is thin on a portion of a display section, and is thick on other portions thereof. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本実施形態は、ドットマトリクス表示装置に使用する透明電極基板、およびそれを使用した液晶表示素子、およびそれを積層した反射型表示素子に関し、特に黒表示の色調を改善した反射型表示素子を実現する透明電極基板に関する。   The present embodiment relates to a transparent electrode substrate used in a dot matrix display device, a liquid crystal display element using the same, and a reflective display element in which the transparent electrode substrate is laminated, and in particular, realizes a reflective display element with improved color tone of black display. The present invention relates to a transparent electrode substrate.

液晶表示素子のようなドットマトリクス型表示素子(パネル)が、テレビ受像機やコンピュータシステムのモニタとして広く使用されている。ドットマトリクス型表示素子には、パッシブ型とアクティブ型がある。開示の技術は、パッシブ型のドットマトリクス型表示素子に関係する。パッシブ型のドットマトリクス型表示素子は、平行に配列された複数の第1の帯状電極(スキャンライン)と、スキャンラインと垂直に交差するように配置された複数の第2の帯状電極(セグメントライン)とを有し、複数のスキャンラインと複数のセグメントラインの交差部に画素が形成される。表示する画像の書込みは、スキャンラインに順次スキャンパルスを印加し、スキャンパルスの印加に同期して複数のセグメントラインに1ライン分のデータを出力することにより行われる。ドットマトリクス型表示素子には、CRT、PDP、EL、液晶表示素子など各種の方式があるが、特に液晶表示素子が広く使用されている。   A dot matrix type display element (panel) such as a liquid crystal display element is widely used as a monitor for a television receiver or a computer system. The dot matrix type display element includes a passive type and an active type. The disclosed technology relates to a passive dot matrix display element. The passive dot matrix display element includes a plurality of first strip electrodes (scan lines) arranged in parallel and a plurality of second strip electrodes (segment lines) arranged to intersect the scan lines perpendicularly. ), And pixels are formed at intersections of the plurality of scan lines and the plurality of segment lines. Writing of an image to be displayed is performed by sequentially applying scan pulses to the scan lines and outputting data for one line to a plurality of segment lines in synchronization with the application of the scan pulses. There are various types of dot matrix type display elements such as CRT, PDP, EL, and liquid crystal display elements, and liquid crystal display elements are particularly widely used.

近年、電源を切っても表示内容を保持できる書換え可能な表示デバイスとして、各企業および大学などにおいて、電子ペーパーの開発が盛んに進められている。電子ペーパーは、電源を切ってもメモリ表示可能な超低消費電力と、目に優しく、見ていても疲れない反射型の表示と紙のような可撓性があるフレキシブルで薄型の表示体を目指して研究が進められている。電子ペーパーの応用先としては、電子ブック、電子新聞、電子ポスターなどが考えられている。   In recent years, electronic paper has been actively developed at companies and universities as rewritable display devices that can retain display contents even when the power is turned off. Electronic paper has an ultra-low power consumption that enables memory display even when the power is turned off, a reflective display that is gentle on the eyes and that does not get tired even when viewed, and a flexible and thin display body that is flexible like paper. Aiming at research. Applications of electronic paper include electronic books, electronic newspapers, and electronic posters.

電子ペーパーの表示方式として、電気泳動方式、電子粉流体方式、ツイストボール方式、液晶表示ディスプレイ、有機EL表示ディスプレイなど各種の表示方式が提案されている。電気泳動方式は、帯電粒子を液体で移動させる方式である。電子粉流体方式は、帯電トナーを気体中で移動させる方式である。ツイストボール方式は、二色に色分けされた帯電粒子を回転させる方式である。有機EL表示素子(有機エレクトロ・ルミネッセンス表示デバイス)は、有機材料からなる複数の薄膜を陰極と陽極で挟み込んだ構造の自発光型のディスプレイである。有機EL表示素子は、メモリ性が無いため、電子ペーパーの分類に入れない場合もある。液晶表示装置は、液晶層をそれぞれ画素電極と対向電極で挟み込んだ構造を有する非自発光型のディスプレイである。   Various display methods such as an electrophoretic method, an electronic powder fluid method, a twist ball method, a liquid crystal display, and an organic EL display have been proposed as display methods for electronic paper. The electrophoresis method is a method in which charged particles are moved by a liquid. The electronic powder fluid system is a system in which charged toner is moved in a gas. The twist ball method is a method of rotating charged particles that are color-coded in two colors. An organic EL display element (organic electroluminescence display device) is a self-luminous display having a structure in which a plurality of thin films made of an organic material are sandwiched between a cathode and an anode. Since the organic EL display element does not have a memory property, it may not be included in the classification of electronic paper. A liquid crystal display device is a non-self-luminous display having a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pixel electrode and a counter electrode.

液晶ディスプレイによる電子ペーパーは、液晶層の干渉反射を利用した双安定性のある選択反射型のコレステリック液晶を用いて研究・開発が進められている。コレステリック液晶は、カイラルネマティック液晶とも称されることがあり、ネマティック液晶にキラル性の添加剤(カイラル材)を比較的多く(数十%)添加することにより、ネマティック液晶の分子がらせん状のコレステリック相を形成する液晶である。ここで、双安定性とは、液晶が2つの異なった配向状態で安定性を示す性質であり、コレステリック液晶は、プレーナ状態とフォーカルコニック状態という2つの安定状態が電界除去後にも長時間保持される性質を有している。コレステリック液晶では、プレーナ状態で入射光が干渉反射され、フォーカルコニック状態では入射光が透過する。このため、液晶層にコレステリック液晶を用いた液晶パネルでは、液晶層での入射光の選択反射により光の明暗を表示できるため、偏光板が不要となる。コレステリック液晶は、半永久的な表示保持(メモリ性)や鮮やかなカラー表示、高コントラスト、高解像度といった優れた特徴を有している。   Electronic paper using liquid crystal displays is being researched and developed using bistable, selective-reflection cholesteric liquid crystals that utilize interference reflection of the liquid crystal layer. Cholesteric liquid crystals are sometimes referred to as chiral nematic liquid crystals. By adding a relatively large amount (several tens of percent) of chiral additives (chiral materials) to nematic liquid crystals, the nematic liquid crystal molecules are spirally cholesteric. It is a liquid crystal that forms a phase. Here, bistability is a property in which liquid crystal exhibits stability in two different alignment states, and cholesteric liquid crystal maintains two stable states, a planar state and a focal conic state, for a long time after electric field removal. It has the property. In the cholesteric liquid crystal, incident light is reflected and reflected in the planar state, and the incident light is transmitted in the focal conic state. For this reason, in a liquid crystal panel using cholesteric liquid crystal as a liquid crystal layer, light polarization can be displayed by selective reflection of incident light in the liquid crystal layer, so that a polarizing plate is not necessary. Cholesteric liquid crystal has excellent characteristics such as semi-permanent display retention (memory property), vivid color display, high contrast, and high resolution.

以上説明したように、各種電子ペーパーが開発され、電子ペーパーの定義も各種あるが、以下の説明では、コレステリック液晶を用いたフレキシブルなパッシブ型液晶表示素子を例として説明するが、本実施形態はこれに限定されるものではない。   As described above, various electronic papers have been developed, and there are various definitions of electronic paper.In the following description, a flexible passive liquid crystal display element using cholesteric liquid crystal will be described as an example. It is not limited to this.

特許文献1はコレステリック液晶表示装置の構成を記載している。本出願において、特許文献1の記載内容は参照され、コレステリック液晶表示装置の構成および動作についての説明は省略する。   Patent Document 1 describes the configuration of a cholesteric liquid crystal display device. In this application, the description of Patent Document 1 is referred to, and description of the configuration and operation of the cholesteric liquid crystal display device is omitted.

図1は、カラー表示用コレステリック液晶表示素子の基本構成を示す図である。図示のように、カラー表示用コレステリック液晶表示素子は、積層した3枚の液晶表示パネル10B、10G、10Rと、裏面に設けられた光吸収層17と、を有する。液晶表示パネル10B、10G、10Rの間にカラーフィルタを設ける場合もある。液晶表示パネル10B、10G、10Rは、類似の構成を有するが、波長反射特性が異なる。具体的には、液晶表示パネル10Bは主として480nm付近の光を反射するので青色を表示し、液晶表示パネル10Gは主として550nm付近の光を反射するので緑色を表示し、液晶表示パネル10Rは主として630nm付近の光を反射するので赤色を表示する。液晶表示パネル10B、10G、10Rのそれぞれは、上側透明基板11B、11G、11R、液晶層12B、12G、12R、下側透明基板13B、13G、13R、上側電極14B、14G、14R、および下側電極15B、15G、15Rを有する。ほかに、液晶を封止するシール材やスペーサが設けられるが図示を省略している。また、表示装置では、上側電極および下側電極をそれぞれ駆動する駆動回路が設けられる。   FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a cholesteric liquid crystal display element for color display. As illustrated, the cholesteric liquid crystal display element for color display includes three stacked liquid crystal display panels 10B, 10G, and 10R, and a light absorbing layer 17 provided on the back surface. A color filter may be provided between the liquid crystal display panels 10B, 10G, and 10R. The liquid crystal display panels 10B, 10G, and 10R have similar configurations, but have different wavelength reflection characteristics. Specifically, since the liquid crystal display panel 10B mainly reflects light near 480 nm, it displays blue, the liquid crystal display panel 10G mainly reflects light near 550 nm, and thus displays green, and the liquid crystal display panel 10R mainly displays 630 nm. It displays red because it reflects nearby light. Each of the liquid crystal display panels 10B, 10G, and 10R includes upper transparent substrates 11B, 11G, and 11R, liquid crystal layers 12B, 12G, and 12R, lower transparent substrates 13B, 13G, and 13R, upper electrodes 14B, 14G, and 14R, and a lower side, respectively. It has electrodes 15B, 15G, and 15R. In addition, a sealing material and a spacer for sealing the liquid crystal are provided, but the illustration is omitted. In the display device, driving circuits for driving the upper electrode and the lower electrode are provided.

図2は、図1のカラー表示用コレステリック液晶表示素子を構成する1枚分の液晶パネルの構成をより詳細に示す図であり、(A)は断面図であり、(B)は上面図である。   2 is a diagram showing in more detail the configuration of one liquid crystal panel constituting the cholesteric liquid crystal display element for color display in FIG. 1, wherein (A) is a sectional view and (B) is a top view. is there.

上側基板11と下側基板13を、その上に形成された上側電極14と下側電極15が対向するように所定の間隔で貼り合わされる。上側基板11と下側基板13を所定間隔で貼り合わせるために、スペーサと呼ばれる所定の直径を有する粒体が貼り合わせ面に散布されるが、ここでは図示を省略している。上側基板11と下側基板13の間にコレステリック液晶が充填され液晶層12が形成される。上側電極14と下側電極15は、平行に配置された複数の透明な帯状電極を有し、複数の帯状電極が互いに交差するように配置され、交差部分に画素が形成される。透明な帯状電極14、15は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)などの無機透明電極材料で形成されるのが一般的である。上側基板11と下側基板13は、ガラス基板でも形成されるが、可撓性を有するパネルの場合には、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PES(ポリエーテルサルホン)、PSF、PC(ポリカーボネート)、PEN(ポリエチレン)などのフィルムで形成される。   The upper substrate 11 and the lower substrate 13 are bonded together at a predetermined interval so that the upper electrode 14 and the lower electrode 15 formed thereon face each other. In order to bond the upper substrate 11 and the lower substrate 13 at a predetermined interval, particles having a predetermined diameter called a spacer are scattered on the bonding surface, but the illustration is omitted here. A cholesteric liquid crystal is filled between the upper substrate 11 and the lower substrate 13 to form the liquid crystal layer 12. The upper electrode 14 and the lower electrode 15 have a plurality of transparent strip electrodes arranged in parallel, and are arranged so that the plurality of strip electrodes cross each other, and a pixel is formed at the intersecting portion. The transparent strip electrodes 14 and 15 are generally formed of an inorganic transparent electrode material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). The upper substrate 11 and the lower substrate 13 are also formed of a glass substrate, but in the case of a flexible panel, PET (polyethylene terephthalate), PES (polyethersulfone), PSF, PC (polycarbonate), It is formed of a film such as PEN (polyethylene).

複数の帯状電極14、15は、フィルムの一方に引き出され、その上に設けられた電極端子18、19が、ドライバ回路を搭載したフレキシブル回路基板(FPC)と接続される。図2の(A)では、下側基板13の帯状電極15と接続されるFPC21が示されている。FPC21の配線パターン22は、ACF(Anisotropic Conductive Film)などを使用した接続層23により、電極端子19に接続される。貼り合わせ部分の周囲にはシール部材16が設けられ、液晶を封止する。   The plurality of strip electrodes 14 and 15 are drawn out to one side of the film, and the electrode terminals 18 and 19 provided thereon are connected to a flexible circuit board (FPC) on which a driver circuit is mounted. In FIG. 2A, the FPC 21 connected to the strip electrode 15 of the lower substrate 13 is shown. The wiring pattern 22 of the FPC 21 is connected to the electrode terminal 19 by a connection layer 23 using ACF (Anisotropic Conductive Film) or the like. A seal member 16 is provided around the bonded portion to seal the liquid crystal.

カラー液晶表示装置の場合には、反射波長の異なる3枚のパネルが積層され、最も下側に配置されるパネルの裏面に光吸収層17が形成される。帯状電極14、15間に電圧が印加されると、液晶の配列が変化し、特定の波長帯が双安定的に反射あるいは透過する。光を透過する状態では、透過した光は裏面の光吸収層で吸収されるので黒表示になる。   In the case of a color liquid crystal display device, three panels having different reflection wavelengths are laminated, and a light absorption layer 17 is formed on the back surface of the panel arranged on the lowermost side. When a voltage is applied between the strip electrodes 14 and 15, the alignment of the liquid crystal changes, and a specific wavelength band is bistable and transmitted. In the state of transmitting light, the transmitted light is absorbed by the light absorption layer on the back surface, so that black display is obtained.

図3は、図1のコレステリック液晶パネル(表示素子)を積層したカラー表示素子の反射波長特性の一例を示す図である。図3において、実線がプレーナ状態(白表示)の特性を、破線がフォーカルコニック状態(黒表示)の特性を、示す。図3に示すように、黒表示において赤色波長の反射が大きく、赤色を帯びた黒表示になる。これが、いわゆる「赤浮き」という現象である。以下、「赤浮き」現象の原因を説明する。   FIG. 3 is a diagram showing an example of the reflection wavelength characteristic of a color display element in which the cholesteric liquid crystal panel (display element) of FIG. 1 is laminated. In FIG. 3, the solid line indicates the characteristic in the planar state (white display), and the broken line indicates the characteristic in the focal conic state (black display). As shown in FIG. 3, in the black display, the reflection of the red wavelength is large, resulting in a black display with a red color. This is the so-called “red floating” phenomenon. The cause of the “red floating” phenomenon will be described below.

図4は、上記のパネルで使用する透明電極の厚さを、130nmとした場合と26nmとした場合の1枚の基板の透過波長特性を示す図であり、実線が130nmの場合を、破線が26nmの場合を示す。図4に示すように、透明電極の厚さが130nmの時には、透過率が550nm付近で最大になることが分かる。上側および下側基板の屈折率は、基板材料がPCあるいはPESの場合1.6〜1.65、ガラスの場合約1.5であり、電極材料の屈折率はITOあるいはIZOの場合約2.0であり、界面での反射が生じる。帯状電極は、厚さを130nmとすると、520nmの波長に対して反射防止膜として働き、520nm付近の光の反射率を低減して透過率を上昇させる。厚さが26nmの場合には、可視域では反射防止膜として機能しないため、波長特性はピークを有さず、長波長になるに従って透過率が上昇する。   FIG. 4 is a diagram showing the transmission wavelength characteristics of a single substrate when the thickness of the transparent electrode used in the above panel is 130 nm and 26 nm. When the solid line is 130 nm, the broken line is The case of 26 nm is shown. As shown in FIG. 4, it can be seen that when the thickness of the transparent electrode is 130 nm, the transmittance becomes maximum near 550 nm. The refractive index of the upper and lower substrates is 1.6 to 1.65 when the substrate material is PC or PES, and about 1.5 when glass is used, and the refractive index of the electrode material is about 2 when ITO or IZO is used. 0 and reflection at the interface occurs. When the thickness of the strip electrode is 130 nm, it acts as an antireflection film for a wavelength of 520 nm, and reduces the reflectance of light near 520 nm and increases the transmittance. When the thickness is 26 nm, it does not function as an antireflection film in the visible range, so the wavelength characteristic does not have a peak, and the transmittance increases as the wavelength becomes longer.

一方、帯状電極の表面抵抗は電極の厚みにほぼ反比例して小さくなるため、厚い方が駆動の上では好ましいが、あまり厚いと青色および緑色での反射の増加、電極材料での光吸収の増加という問題を生じ、製造効率の上からも好ましくない。そこで、電極の厚みは一般的に130nm前後が最適とされている。しかし、電極の厚みを130nmとした場合、緑色以外のほかの波長に対しては反射防止機能が低下するので、反射率は低下せず透過率は上昇しない。これが、図4において、緑色の波長帯の透過率が高い原因である。   On the other hand, since the surface resistance of the strip electrode decreases almost in inverse proportion to the thickness of the electrode, the thicker one is preferable for driving, but if it is too thick, the reflection in blue and green increases, and the light absorption in the electrode material increases. This is not preferable from the viewpoint of manufacturing efficiency. Therefore, the optimum electrode thickness is generally around 130 nm. However, when the thickness of the electrode is 130 nm, the antireflection function decreases for wavelengths other than green, so the reflectance does not decrease and the transmittance does not increase. This is the reason why the transmittance in the green wavelength band is high in FIG.

しかし、電極の厚みを130nmとした場合、図1に示すような3枚のパネルを積層したカラー表示素子の帯状電極の各層で、緑色(550nm付近)以外のほかの波長の反射が相対的に大きくなる。図1に示すように、黒表示において入射した光は、すべてパネルが透過状態(フォーカルコニック状態)であるから、青色パネル10B、緑色パネル10G、赤色パネル10Rの順に透過するが、各パネルには電極の層が2層設けられているので、電極での界面反射が6回行われる。さらに、入射光は各液晶層である程度散乱され、散乱光のうち裏面(光吸収層17)に向かう光は、上記と同様に電極での界面反射を受ける。このように、黒表示において、電極での界面反射の回数が多く、緑色に比べて、赤色や青色の反射光が相対的に多くなる。図1には図示していないが、青色パネル10Bと緑色パネル10Gの間には青色カットフィルタが、緑色パネル10Gと赤色パネル10Rの間には緑色カットフィルタが設けられるのが一般的であるが、赤色パネル10Rは一番裏面側に設けられるため、赤色カットフィルタは設けない。そのため、電極での界面反射光のうち青色はカットされるので青色は低減される。このため、黒表示における赤色の反射が大きくなり、「赤浮き」現象が発生する。上記のように、赤色の電極での界面反射の回数が多く、反射率も高いため、黒表示にかなり赤みがかかった表示になる。   However, when the thickness of the electrode is 130 nm, reflections of wavelengths other than green (near 550 nm) are relatively reflected in each layer of the strip electrode of the color display element in which three panels are laminated as shown in FIG. growing. As shown in FIG. 1, all the light incident in the black display is transmitted in the order of the blue panel 10B, the green panel 10G, and the red panel 10R because the panel is in the transmission state (focal conic state). Since two electrode layers are provided, interface reflection at the electrode is performed six times. Furthermore, incident light is scattered to some extent in each liquid crystal layer, and light that travels toward the back surface (light absorption layer 17) of the scattered light is subjected to interface reflection at the electrodes in the same manner as described above. Thus, in black display, the number of interface reflections on the electrode is large, and the reflected light of red and blue is relatively larger than that of green. Although not shown in FIG. 1, a blue cut filter is generally provided between the blue panel 10B and the green panel 10G, and a green cut filter is generally provided between the green panel 10G and the red panel 10R. Since the red panel 10R is provided on the back side, the red cut filter is not provided. For this reason, the blue color is reduced because the blue color of the interface reflected light at the electrode is cut. For this reason, red reflection in black display is increased, and a “red floating” phenomenon occurs. As described above, since the number of interface reflections on the red electrode is large and the reflectance is high, the black display is displayed with a very reddish appearance.

「赤浮き」を防止する1つの方法は、電極の厚みを26nm程度に極端に薄くすることである。この場合、550nm付近の透過率が低下して明るさが若干落ちるが、赤色の透過率が相対的に増加して、すなわち赤色の反射が相対的に減少して「赤浮き」現象がなくなる。しかし、帯状電極の表面抵抗が大きくなり、駆動ができないという問題を発生する。   One method of preventing “red float” is to extremely reduce the thickness of the electrode to about 26 nm. In this case, the transmittance near 550 nm is lowered and the brightness is slightly lowered, but the red transmittance is relatively increased, that is, the red reflection is relatively decreased, and the “red floating” phenomenon is eliminated. However, there arises a problem that the surface resistance of the belt-like electrode becomes large and cannot be driven.

国際公開WO2007/110949A1International Publication WO2007 / 110949A1 特開昭60−088986号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-088986 特開2007−128879号公報JP 2007-128879 A 特開2006−012785号公報JP 2006-012785 A

上記の問題を解決するには、電極を形成する材料の屈折率を小さくして」、基板との屈折率差を小さくすることが考えられる。基板と電極の屈折率差が小さくなれば、界面反射率が小さくなる。そのため、タッチパネルなどで実用化されている基板との屈折率差の小さい有機導電材料で電極を形成することが考えられるが、使用できる有機導電材料は、透過率が低く、表面抵抗も高いため、帯状電極には使用できない。   In order to solve the above problem, it is conceivable to reduce the refractive index difference from the substrate by reducing the refractive index of the material forming the electrode. When the refractive index difference between the substrate and the electrode is reduced, the interface reflectance is reduced. Therefore, it is conceivable to form the electrode with an organic conductive material having a small difference in refractive index from the substrate that is put into practical use in a touch panel or the like, but the organic conductive material that can be used has low transmittance and high surface resistance. Cannot be used for strip electrodes.

また、表面抵抗を小さくするために、銅などの金属補助配線を設ける方法も行われているが、金属材料は光を透過しないので、表示の明るさが低下するという問題がある。また、補助配線は、透明な電極とは別の工程で形成する必要があるため、製造コストが増加するという問題もある。   In addition, in order to reduce the surface resistance, a method of providing a metal auxiliary wiring such as copper is also performed, but there is a problem that the brightness of display is lowered because the metal material does not transmit light. In addition, since the auxiliary wiring needs to be formed in a separate process from the transparent electrode, there is a problem that the manufacturing cost increases.

特許文献2から4は、透明電極を2層構造にして、1層の厚さを薄くし、合成表面抵抗を小さくする構成を記載しているが、2層構造のため製造が複雑で、製造コストが増加するという問題がある。   Patent Documents 2 to 4 describe a configuration in which the transparent electrode has a two-layer structure, and the thickness of one layer is reduced to reduce the synthetic surface resistance. There is a problem that the cost increases.

本実施形態は、「赤浮き」が小さく、透明帯状電極の表面抵抗が駆動可能な程度に十分に小さい透明な帯状電極の新しい構造を実現するものである。   This embodiment realizes a new structure of a transparent strip electrode that has a small “red float” and is sufficiently small that the surface resistance of the transparent strip electrode can be driven.

上記目的を実現するため、本実施形態によれば、透明帯状電極を単一導電材料で形成され、部分的に厚みを異ならせる。   In order to achieve the above object, according to the present embodiment, the transparent strip electrode is formed of a single conductive material, and the thickness is partially varied.

透明帯状電極は、表示部の一部で薄く、それ以外の部分で厚くする。   The transparent strip electrode is thin at a part of the display part and thick at the other part.

このような構造の透明帯状電極を形成した基板を利用して製作した液晶表示素子、およびそのような液晶表示素子を積層したカラー表示用の反射型表示素子では、「赤浮き」現象が低減される。   In a liquid crystal display device manufactured using a substrate having a transparent strip electrode having such a structure, and a reflective display device for color display in which such liquid crystal display devices are stacked, the “red floating” phenomenon is reduced. The

本実施形態によれば、透明帯状電極の一部、特に表示部の一部が薄いため、可視域での反射波長特性に差がなく、「赤浮き」現象は発生しない。また、厚さが薄いのは一部であるので、透明帯状電極の表面抵抗は駆動可能な程度に十分に小さくできる。さらに、透明帯状電極は、部分的に厚さが異なるが、同一材料で形成されるため、若干の工程を加えるだけで製造可能であり、製造コストの増加は小さい。   According to the present embodiment, a part of the transparent belt-like electrode, particularly a part of the display unit, is thin, so there is no difference in the reflected wavelength characteristics in the visible range, and the “red floating” phenomenon does not occur. Moreover, since the thickness is only a part, the surface resistance of the transparent strip electrode can be made small enough to be driven. Furthermore, although the transparent belt-like electrode is partially different in thickness, since it is made of the same material, it can be manufactured with a few additional steps and the increase in manufacturing cost is small.

以下、3枚のパネルを積層した図1のカラー表示用コレステリック液晶表示素子を例として実施形態を説明する。   Hereinafter, an embodiment will be described by taking the cholesteric liquid crystal display element for color display of FIG. 1 in which three panels are laminated as an example.

図5は、カラー表示用コレステリック液晶表示素子を構成する1枚分の液晶表示素子(パネル)の構成を示す図であり、(A)は断面図であり、(B)は上面図である。図2と比較して明らかなように、実施形態の液晶表示素子(パネル)は、従来例と類似の構成を有するが、透明な帯状電極14および15の厚さが部分的に異なることが、従来例と違っている。   FIGS. 5A and 5B are diagrams showing a configuration of one liquid crystal display element (panel) constituting the cholesteric liquid crystal display element for color display, where FIG. 5A is a cross-sectional view and FIG. 5B is a top view. As apparent from comparison with FIG. 2, the liquid crystal display element (panel) of the embodiment has a configuration similar to that of the conventional example, but the thickness of the transparent strip electrodes 14 and 15 is partially different. It is different from the conventional example.

図5に示すように、下側帯状電極は、表示範囲内の薄い部分15bと、表示範囲外の電極の引き出し配線部に対応する厚い部分15aと、で構成される。厚い部分15aおよび薄い部分15bは、ITOあるいはIZOで作られ、厚い部分15aは、例えば150nmの厚さで、表面抵抗は20Ω/□、薄い部分15bは、例えば30nmの厚さで、表面抵抗は150Ω/□である。同様に、上側帯状電極も、表示範囲内の薄い部分14bと、表示範囲外の電極の引き出し配線部に対応する厚い部分14aと、で構成され、それぞれ30nmと150nmの厚さのITOあるいはIZOで作られる。   As shown in FIG. 5, the lower belt-like electrode is composed of a thin portion 15b within the display range and a thick portion 15a corresponding to the lead-out wiring portion of the electrode outside the display range. The thick portion 15a and the thin portion 15b are made of ITO or IZO. The thick portion 15a is, for example, 150 nm thick, the surface resistance is 20Ω / □, and the thin portion 15b is, for example, 30 nm thick, and the surface resistance is 150Ω / □. Similarly, the upper band-shaped electrode is also composed of a thin portion 14b within the display range and a thick portion 14a corresponding to the lead-out wiring portion of the electrode outside the display range, and is made of ITO or IZO having a thickness of 30 nm and 150 nm, respectively. Made.

図6は、実施形態の透明電極基板の製造プロセスを示す図である。図6の(1)に示すように、PCフィルム(基板)31の表面にITOあるいはIZOの電極層32を蒸着し、その上にレジスト層33を塗布するレジスト塗布プロセスAを行う。図6の(2)に示すように、帯状電極の間の部分を露光する露光プロセスAを行う。図6の(3)に示すように、レジスト層33を現像する現像プロセスAを行うと、帯状電極間の部分に対応するレジスト層が除去され、レジストのない部分34が形成される。図6の(4)に示すように、エッチングプロセスAを行い、レジストのない部分34に対応する電極層32が除去される。図6の(5)に示すように、レジスト層33の剥離プロセスAを行い、帯状電極32が形成される。   FIG. 6 is a diagram illustrating a manufacturing process of the transparent electrode substrate of the embodiment. As shown in FIG. 6A, a resist coating process A for depositing an ITO or IZO electrode layer 32 on the surface of a PC film (substrate) 31 and coating a resist layer 33 thereon is performed. As shown in (2) of FIG. 6, an exposure process A for exposing a portion between the strip electrodes is performed. As shown in FIG. 6 (3), when the development process A for developing the resist layer 33 is performed, the resist layer corresponding to the portion between the strip electrodes is removed, and a portion 34 without resist is formed. As shown in FIG. 6 (4), the etching process A is performed, and the electrode layer 32 corresponding to the portion 34 without the resist is removed. As shown in FIG. 6 (5), the stripping process A of the resist layer 33 is performed, and the strip electrode 32 is formed.

図6の(6)に示すように、帯状電極32の上にレジスト層35を塗布するレジスト塗布プロセスBを行う。図6の(7)に示すように、帯状電極のうち薄くする部分32bを露光する露光プロセスBを行う。図6の(8)に示すように、レジスト層33を現像する現像プロセスBを行うと、帯状電極のうち薄くする部分32bのレジスト層が除去される。図6の(9)に示すように、エッチングプロセスBを行い、レジストのない部分に対応する電極層32bが薄くされ、30nmの厚さになる。図6の(10)に示すように、レジスト層35の剥離プロセスBを行うと、厚い帯状電極32aと薄い帯状電極32bが形成される。   As shown in FIG. 6 (6), a resist coating process B for coating a resist layer 35 on the strip electrode 32 is performed. As shown in (7) of FIG. 6, an exposure process B for exposing the thinned portion 32b of the strip electrode is performed. As shown in (8) of FIG. 6, when the development process B for developing the resist layer 33 is performed, the resist layer in the thinned portion 32b of the strip electrode is removed. As shown in FIG. 6 (9), the etching process B is performed, and the electrode layer 32b corresponding to the portion without the resist is thinned to a thickness of 30 nm. As shown in (10) of FIG. 6, when the stripping process B of the resist layer 35 is performed, a thick strip electrode 32a and a thin strip electrode 32b are formed.

シール材の形成、スペーサの散布、組立て、液晶の注入などのほかのプロセスは、従来例と同じなので説明は省略する。   Since other processes such as the formation of the sealing material, the dispersion of the spacers, the assembly, and the injection of the liquid crystal are the same as those in the conventional example, the description is omitted.

上記のように厚い部分と薄い部分を有する帯状電極を有する基板を貼り合わせて製作した青色(B)、緑色(G)および赤色(R)の3枚のパネルを積層したカラー表示素子で、白表示および黒表示の時の反射波長特性を図7に示す。図3の従来例の反射波長特性と比較すると、黒表示での赤色(長波長)反射が低下し、「赤浮き」が解消された。また、白表示における反射率はほとんど低下せず、表示の明るさも維持された。   A color display element obtained by laminating three panels of blue (B), green (G), and red (R), which are manufactured by laminating a substrate having a strip electrode having a thick part and a thin part as described above, FIG. 7 shows the reflection wavelength characteristics during display and black display. Compared with the reflection wavelength characteristic of the conventional example of FIG. 3, the red (long wavelength) reflection in black display was reduced, and “red floating” was eliminated. In addition, the reflectance in white display hardly decreased, and the brightness of the display was maintained.

電極全部にわたって厚さが130nmの従来例に比べて、実施形態においては、透明帯状電極の抵抗は、表示部が25kΩから125kΩに増大し、引き出し配線部が5kΩから3kΩに低下する。この結果、全体の抵抗は、実施形態では128kΩになり、30kΩであった従来例に比べて大きくなるが、表示素子を十分に駆動可能なレベルである。また、引き出し配線部の抵抗がかなり小さくなったため、設計上は引き出し配線部の電極幅を細くし、面積を低減することも可能である。さらに、図6で説明したように、電極材料は1種類であり、金属による補助電極に比べてコスト増加は小さい。   In the embodiment, the resistance of the transparent strip electrode increases from 25 kΩ to 125 kΩ and the lead-out wiring portion decreases from 5 kΩ to 3 kΩ in the embodiment as compared with the conventional example having a thickness of 130 nm over the entire electrode. As a result, the overall resistance is 128 kΩ in the embodiment, which is larger than the conventional example, which was 30 kΩ, but is at a level that can sufficiently drive the display element. Further, since the resistance of the lead-out wiring portion has become considerably small, it is possible to reduce the area by reducing the electrode width of the lead-out wiring portion in design. Further, as described with reference to FIG. 6, there is one kind of electrode material, and the cost increase is small compared to the auxiliary electrode made of metal.

図8は、実施形態の透明電極基板の製造プロセスの変形例を示す図である。(1)から(4)までは図6と同じである。エッチングプロセスAが終了した後もレジスト層33は剥離せず、図8の(5)に示すように、未露光のレジスト層のうち帯状電極のうち薄くする部分32bを露光する露光プロセスBを行う。図8の(6)に示すように、レジスト層を現像する現像プロセスBを行うと、帯状電極のうち薄くする部分32bのレジスト層が除去される。図8の(7)に示すように、エッチングプロセスBを行い、電極層32bが薄くされ、30nmの厚さになる。この時、基板31はエッチングされないエッチング処理方法を使用する。図8の(8)に示すように、レジスト層35の剥離プロセスBを行うと、厚い帯状電極32aと薄い帯状電極32bが形成される。   FIG. 8 is a diagram illustrating a modification of the manufacturing process of the transparent electrode substrate of the embodiment. (1) to (4) are the same as in FIG. Even after the etching process A is completed, the resist layer 33 is not peeled off, and as shown in FIG. 8 (5), an exposure process B is performed in which the thinned portion 32b of the strip electrode is exposed in the unexposed resist layer. . As shown in (6) of FIG. 8, when the development process B for developing the resist layer is performed, the resist layer in the thinned portion 32b of the strip electrode is removed. As shown in (7) of FIG. 8, the etching process B is performed, and the electrode layer 32b is thinned to a thickness of 30 nm. At this time, an etching process method in which the substrate 31 is not etched is used. As shown in (8) of FIG. 8, when stripping process B of resist layer 35 is performed, thick strip electrode 32a and thin strip electrode 32b are formed.

図8の製造プロセスでは、最初に塗布したレジスト層を2回露光して使用するので、図6の例に比べて2つの工程を省略できた。その結果、図8に示すプロセスでは、従来例の膜厚が一定の帯状電極を形成する場合に比べて、3工程が増大するだけであり、単一材料であることも考慮すると、コスト増加は非常に小さい。   In the manufacturing process of FIG. 8, since the resist layer applied first is exposed twice and used, two steps can be omitted compared to the example of FIG. As a result, in the process shown in FIG. 8, only three steps are added as compared to the case of forming a strip-shaped electrode having a constant film thickness in the conventional example, and considering that it is a single material, the cost increase is Very small.

図9は、透明帯状電極の形状の変形例を示す図である。図9の(A)は、電極の表示部すべての部分を薄くせずに、一部34bのみを薄くした例である。従って、引き出し配線部および表示部の一部は,電極が厚い部分34aを有する。例えば、薄くする部分の面積を表示部の50%程度にすると、表示の半分で赤浮きが削減できるので、全体としては「赤浮き」が半減できる。この場合、電極の電気抵抗は、引き出し配線部で5kΩから3kΩに、表示部で25kΩから50kΩになり、全体で53kΩになった。この抵抗は、300mm150dpi程度の表示を十分に行えるほど十分に小さい抵抗である。   FIG. 9 is a diagram showing a modification of the shape of the transparent strip electrode. FIG. 9A shows an example in which only a portion 34b is thinned without thinning all the display portions of the electrodes. Accordingly, part of the lead-out wiring portion and the display portion has a thick portion 34a. For example, if the area of the thinned portion is about 50% of the display portion, the red floating can be reduced in half of the display, so that “red floating” can be halved as a whole. In this case, the electrical resistance of the electrode was changed from 5 kΩ to 3 kΩ at the lead-out wiring portion, from 25 kΩ to 50 kΩ at the display portion, and as a whole 53 kΩ. This resistance is sufficiently small to sufficiently display about 300 mm and 150 dpi.

上側帯状電極と下側帯状電極の交差部に画素が形成され、帯状電極の隙間部分は画素外である。図9の(B)は、画素部に対応する電極部分34bの厚さを薄くし、画素を囲むように厚い電極部分34aを設けた例である。画素間には20〜30μmの電極ギャップがあり、この部分を厚い透明電極にしても明るさは低下しない。これにより、電極の電気抵抗をさらに低下させることができる。   Pixels are formed at the intersections of the upper strip electrode and the lower strip electrode, and the gap between the strip electrodes is outside the pixel. FIG. 9B shows an example in which the electrode portion 34b corresponding to the pixel portion is thinned and a thick electrode portion 34a is provided so as to surround the pixel. There is an electrode gap of 20 to 30 μm between the pixels, and even if this portion is a thick transparent electrode, the brightness does not decrease. Thereby, the electrical resistance of the electrode can be further reduced.

以上、実施形態を説明したが、記載した構成以外にも各種の変形例が可能であるのはいうまでもない。例えば、電極の厚さを薄くする部分の形状は各種の変形例が可能であり、電極の厚みの種類も2種類に限定されない。   Although the embodiment has been described above, it goes without saying that various modifications other than the described configuration are possible. For example, the shape of the portion where the thickness of the electrode is reduced can be variously modified, and the types of the electrode thickness are not limited to two.

以上説明したように、本実施形態では、電極の一部を薄くすることにより、「赤浮き」が軽減され、しかも実用上問題のない電気抵抗の電極が得られた。また、明るさもほぼ維持され、単一の電極材料で形成するためコスト増加も小さい。また、コレステリック液晶を利用した液晶表示素子を例として説明したが、ほかの液晶を利用する表示素子に適用することも可能である。さらに、実施形態で説明したように、この技術は積層型の反射型表示素子で特に有効であるが、積層型に限らず単層型でも効果が得られるのはいうまでもない。   As described above, in the present embodiment, by thinning a part of the electrode, “red floating” is reduced, and an electrode having an electrical resistance that has no practical problem is obtained. In addition, the brightness is substantially maintained, and the cost increase is small because it is formed of a single electrode material. Moreover, although the liquid crystal display element using a cholesteric liquid crystal was demonstrated as an example, it is also applicable to the display element using another liquid crystal. Furthermore, as described in the embodiment, this technique is particularly effective for a multilayer reflective display element, but it goes without saying that the effect is not limited to the multilayer type but can be obtained by a single layer type.

図1は、カラー表示用コレステリック液晶表示素子の基本構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a cholesteric liquid crystal display element for color display. 図2は、従来のカラー表示用コレステリック液晶表示素子を構成する1枚分の液晶パネルの構成をより詳細に示す図である。FIG. 2 is a diagram showing in more detail the configuration of one liquid crystal panel constituting a conventional cholesteric liquid crystal display element for color display. 図3は、従来例における白表示と黒表示時の反射波長特性を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the reflection wavelength characteristics during white display and black display in the conventional example. 図4は、透明電極基板の透過率波長特性を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the transmittance wavelength characteristic of the transparent electrode substrate. 図5は、実施形態のカラー表示用コレステリック液晶表示素子を構成する1枚分の液晶パネルの構成をより詳細に示す図である。FIG. 5 is a diagram showing in more detail the configuration of one liquid crystal panel constituting the cholesteric liquid crystal display element for color display of the embodiment. 図6は、実施形態の透明電極基板の製造プロセスを示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a manufacturing process of the transparent electrode substrate of the embodiment. 図7は、実施形態の透明電極基板で構成した表示素子における白表示と黒表示時の反射波長特性を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing reflection wavelength characteristics at the time of white display and black display in the display element configured by the transparent electrode substrate of the embodiment. 図8は、実施形態の透明電極基板の製造プロセスの変形例を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a modification of the manufacturing process of the transparent electrode substrate of the embodiment. 図9は、実施形態における透明電極基板の形状の変形例を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a modification of the shape of the transparent electrode substrate in the embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

11 上基板(フィルム)
12 液晶層
13 下基板(フィルム)
14 上側電極
15 下側電極
16 シール部材
17 光吸収層
14a、15a 厚い電極部分
14b、15b 薄い電極部分
11 Upper substrate (film)
12 Liquid crystal layer 13 Lower substrate (film)
14 Upper electrode 15 Lower electrode 16 Seal member 17 Light absorption layer 14a, 15a Thick electrode portion 14b, 15b Thin electrode portion

Claims (5)

基板と、
前記基板上に並行に配置された複数の帯状電極と、を備え、
前記帯状電極は、単一導電材料で形成され、部分的に厚みが異なる、ことを特徴とする表示装置。
A substrate,
A plurality of strip electrodes arranged in parallel on the substrate,
The strip-shaped electrode is formed of a single conductive material and partially has a different thickness.
前記帯状電極は、表示部の一部で薄く、それ以外の部分で厚い、ことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the strip electrode is thin at a part of the display unit and thick at the other part. 前記帯状電極は、インジウム、錫、亜鉛の酸化物のいずれかで形成される、ことを特徴とする請求項1または2に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the strip electrode is formed of an oxide of indium, tin, or zinc. 前記基板の一対を所定の間隔で対向して配置し、
前記基板間に液晶を配置したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の表示装置。
A pair of the substrates are arranged facing each other at a predetermined interval,
The display device according to claim 1, wherein a liquid crystal is disposed between the substrates.
前記帯状電極の厚い部分には、引き出し配線が接続されてなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の表示素子。   The display element according to claim 1, wherein a lead wiring is connected to a thick portion of the strip electrode.
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