JP2009271709A

JP2009271709A - Touch panel

Info

Publication number: JP2009271709A
Application number: JP2008121288A
Authority: JP
Inventors: Masami Shimamura; 島村正美; Masatake Yoshida; 吉田正武; Shunichi Motai; 物袋俊一
Original assignee: TECHNO PRINT KK
Current assignee: TECHNO PRINT KK
Priority date: 2008-05-07
Filing date: 2008-05-07
Publication date: 2009-11-19

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that the display quality of a display device installed under a touch panel 10 is deteriorated by a Newton ring generated due to the interference of the rays of light between a first transparent substrate 1 and a second transparent substrate 2 configuring the touch panel 10. <P>SOLUTION: A first transparent substrate 1 on whose surface a first transparent conductive film 4 is formed and a second transparent substrate 2 on whose surface a second transparent conductive film 5 is formed are separately adhered to each other via a seal material 3 with the first and second transparent conductive films faced inside, and a first reflection prevention film 6a is formed between the first transparent conductive film 4 and the first transparent substrate 1. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、外部から押圧された押圧部の位置を検出して、情報入力可能とするタッチパネルに関し、特に、光の干渉により生ずるニュートンリングを見え難くしたタッチパネルに関する。 The present invention relates to a touch panel that detects the position of a pressing portion that is pressed from the outside and enables information input, and more particularly, to a touch panel that makes it difficult to see Newton rings caused by light interference.

液晶表示パネル等の表示装置の表面に取り付けて、表示画面を見ながら表示位置に対応する位置情報を入力可能とするタッチパネルが実用化されている。図７（ａ）は、この種のタッチパネル５０の模式的な縦断面図であり、図７（ｂ）は、このタッチパネル５０の模式的な上面図である。タッチパネル５０は、上透明電極５４が形成された上透明基板５１と、下透明電極５６が形成された下透明基板５２とが、上透明電極５４及び下透明電極５６を内側にしてシール材５３により互いに離間して貼り付けられている。 A touch panel, which is attached to the surface of a display device such as a liquid crystal display panel and can input position information corresponding to a display position while viewing a display screen, has been put into practical use. FIG. 7A is a schematic longitudinal sectional view of this type of touch panel 50, and FIG. 7B is a schematic top view of the touch panel 50. The touch panel 50 includes an upper transparent substrate 51 on which an upper transparent electrode 54 is formed, and a lower transparent substrate 52 on which a lower transparent electrode 56 is formed, and a sealing material 53 with the upper transparent electrode 54 and the lower transparent electrode 56 inside. They are pasted away from each other.

一般的に上透明基板５１と下透明基板５２の間隔は１０μｍ〜１００μｍの一定間隔とする。まず、上透明基板５１の表面に上透明電極５４を形成する。下透明基板５２に下透明電極５６を形成する。次に、例えば、直径１０μｍのギャップ材を混入したシール材５３を下透明基板５２の表面外周部に印刷する。その後、上透明電極５４及び下透明電極５６を内側にして、上透明基板５１と下透明基板５２を圧着してシール材５３を固化する。これにより、上透明基板５１と下透明基板５２との間隙はギャップ材の直径により規定される。 Generally, the interval between the upper transparent substrate 51 and the lower transparent substrate 52 is set to a constant interval of 10 μm to 100 μm. First, the upper transparent electrode 54 is formed on the surface of the upper transparent substrate 51. A lower transparent electrode 56 is formed on the lower transparent substrate 52. Next, for example, a sealing material 53 mixed with a gap material having a diameter of 10 μm is printed on the outer peripheral portion of the surface of the lower transparent substrate 52. Thereafter, with the upper transparent electrode 54 and the lower transparent electrode 56 inside, the upper transparent substrate 51 and the lower transparent substrate 52 are pressure-bonded to solidify the sealing material 53. Thereby, the gap between the upper transparent substrate 51 and the lower transparent substrate 52 is defined by the diameter of the gap material.

更に、上透明基板５１と下透明基板５２の間隙に空気を充填して外気に対して陽圧とし、タッチパネル５０中央部を膨らませる。これは、外気の温度が低下して内部に充填された空気の体積が収縮したときに、上透明電極５４と下透明電極５６とが接触する誤動作を防止するためである。タッチパネル５０の中央部が膨らむために、この中央部の領域には必ず上透明基板５１の表面と下透明基板５２の表面とが平行となる領域が形成される。 Further, the gap between the upper transparent substrate 51 and the lower transparent substrate 52 is filled with air to make positive pressure against the outside air, and the center portion of the touch panel 50 is expanded. This is to prevent a malfunction in which the upper transparent electrode 54 and the lower transparent electrode 56 come into contact when the temperature of the outside air decreases and the volume of the air filled therein contracts. Since the central portion of the touch panel 50 swells, a region in which the surface of the upper transparent substrate 51 and the surface of the lower transparent substrate 52 are always formed in the central region is always formed.

図７（ｂ）に示すように、タッチパネル５０のこの上下透明基板が認識可能な比較的広い面積で概ね平行となる場合に、ニュートンリング５９が現れる。タッチパネル５０は、表示装置、例えば液晶表示装置の上に設置される。操作者は、表示装置の表示面を見ながらタッチパネル５０を操作する。この場合に、タッチパネル５０にニュートンリングが現れると、表示装置により表示される表示画像の品質が低下する。 As shown in FIG. 7B, a Newton ring 59 appears when the upper and lower transparent substrates of the touch panel 50 are substantially parallel with a relatively large area that can be recognized. The touch panel 50 is installed on a display device such as a liquid crystal display device. The operator operates the touch panel 50 while looking at the display surface of the display device. In this case, when a Newton ring appears on the touch panel 50, the quality of the display image displayed by the display device deteriorates.

図８は、特許文献１の図１（ａ）に示されているタッチパネル５０の縦断面図である。このタッチパネル５０は、上透明電極５４が形成された上透明基板５１と、下透明電極５６が形成された下透明基板５２とがシール材５３を介して対向接着されている。下透明電極５６の膜内部には、球状シリカ５８が混入されている。下透明電極５６の上にはドットスペーサ５７が設置されている。下透明電極５６の端部には銀電極からなる下引き回し電極５５ｂが、上透明電極５４の端部近傍には銀電極からなる上引き回し電極５５ａが形成されている。タッチパネル５０に入射した光は、下透明電極５６の球状シリカ５８により乱反射される。この乱反射により、ニュートンリングの発生を防止することができる、というものである。 FIG. 8 is a longitudinal sectional view of the touch panel 50 shown in FIG. In the touch panel 50, an upper transparent substrate 51 on which an upper transparent electrode 54 is formed and a lower transparent substrate 52 on which a lower transparent electrode 56 is formed are oppositely bonded via a seal material 53. Spherical silica 58 is mixed in the film of the lower transparent electrode 56. A dot spacer 57 is disposed on the lower transparent electrode 56. A lower lead electrode 55 b made of a silver electrode is formed at the end of the lower transparent electrode 56, and an upper lead electrode 55 a made of a silver electrode is formed near the end of the upper transparent electrode 54. Light incident on the touch panel 50 is irregularly reflected by the spherical silica 58 of the lower transparent electrode 56. This irregular reflection can prevent the occurrence of Newton rings.

また、特許文献２には、透明電極に多数の微細凹部を形成してニュートンリングの発生を防止することが記載されている。この場合も、上記特許文献１と同様に、透明電極において入射光を散乱させて、ニュートンリングの生成を防止する、というものである。
特開２００４−２４６４２０号公報特開２００４−２３４３８６号公報 Patent Document 2 describes that a large number of fine recesses are formed in a transparent electrode to prevent the occurrence of Newton rings. In this case as well, similar to Patent Document 1, incident light is scattered at the transparent electrode to prevent the generation of Newton rings.
JP 2004-246420 A JP 2004-234386 A

しかしながら、特許文献１及び特許文献２に記載の方法では、入射した光を透明電極に形成した光散乱手段により散乱させることによりニュートンリングの生成を防止する。そのために、タッチパネルの背面側に設けた表示装置に表示される画像がぼやける。また、画像光のような直進する光が光散乱手段により散乱されるために、直進光の光強度が低下する。そのために、表示画像が暗くなる。 However, in the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2, the generation of Newton rings is prevented by scattering incident light by a light scattering means formed on a transparent electrode. Therefore, the image displayed on the display device provided on the back side of the touch panel is blurred. In addition, since light traveling straight like image light is scattered by the light scattering means, the light intensity of the straight light decreases. For this reason, the display image becomes dark.

上記課題を解決するために以下の手段を講じた。 In order to solve the above problems, the following measures were taken.

請求項１に係る発明においては、表面に第１透明導電膜が形成された第１透明基板と、表面に第２透明導電膜が形成された第２透明基板とが、前記第１及び第２透明導電膜を内側にして、シール材を介して互いに離間して接着されており、前記第１透明導電膜と前記第１透明基板との間には、第１反射防止膜が形成されているタッチパネルとした。 In the invention which concerns on Claim 1, the 1st transparent substrate in which the 1st transparent conductive film was formed in the surface, and the 2nd transparent substrate in which the 2nd transparent conductive film was formed in the surface are said 1st and 2nd The transparent conductive film is placed inside, and they are bonded to each other with a sealant interposed therebetween. A first antireflection film is formed between the first transparent conductive film and the first transparent substrate. A touch panel was used.

請求項２に係る発明においては、前記第２透明導電膜と前記第２透明基板との間には、第２反射防止膜が形成されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネルとした。 In the invention which concerns on Claim 2, the 2nd antireflection film is formed between the said 2nd transparent conductive film and the said 2nd transparent substrate, The touch panel of Claim 1 characterized by the above-mentioned did.

請求項３に係る発明においては、前記シール材は、前記第１透明基板及び前記第２透明基板の外周部に形成されており、前記第１透明基板には、前記シール材よりも内側であって前記シール材に近接して、前記第１透明導電膜に電気的に接続する第１電極が形成されており、前記第２透明基板には、前記シール材よりも内側であって前記シール材に近接して、前記第２透明導電膜に電気的に接続する第２電極が形成されており、前記第１電極及び前記第２電極は、前記第１透明基板又は前記第２透明基板の表面からの高さが、前記シール材の前記表面からの高さよりも高いことを特徴とする請求項１又は２に記載のタッチパネルとした。 In the invention according to claim 3, the sealing material is formed on outer peripheral portions of the first transparent substrate and the second transparent substrate, and the first transparent substrate has an inner side than the sealing material. A first electrode that is electrically connected to the first transparent conductive film is formed in the vicinity of the sealing material, and the second transparent substrate has an inner side than the sealing material and the sealing material. A second electrode electrically connected to the second transparent conductive film is formed in proximity to the first transparent substrate or the surface of the second transparent substrate. 3. The touch panel according to claim 1, wherein a height from the surface is higher than a height from the surface of the sealing material.

請求項４に係る発明においては、前記第１透明基板又は前記第２透明基板の中央部を外部から荷重して前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜とが電気的に導通する作動荷重は、５グラム〜４０グラムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネルとした。 In the invention which concerns on Claim 4, the operation | movement which loads the center part of the said 1st transparent substrate or the said 2nd transparent substrate from the outside, and electrically connects the said 1st transparent conductive film and the said 2nd transparent conductive film 4. The touch panel according to claim 1, wherein the load is 5 grams to 40 grams.

表面に透明導電膜が形成された２枚の透明基板を、透明導電膜を内側にしてシール材を介して互いに離間して接着し、少なくとも一方の透明基板と透明導電膜との間に反射防止膜を形成した。これにより、透明基板の内表面での光反射強度が低下して、ニュートンリングをほとんど視認できなくすることができた。同時に、光透過率が向上し背面に設置した表示装置の表示画像を明るくすることができた。 Two transparent substrates having a transparent conductive film formed on the surface are bonded to each other with a transparent conductive film on the inside with a sealing material spaced apart from each other, and antireflection between at least one transparent substrate and the transparent conductive film A film was formed. As a result, the light reflection intensity at the inner surface of the transparent substrate was lowered, and the Newton ring was hardly visible. At the same time, the light transmittance was improved and the display image of the display device installed on the back surface could be brightened.

以下、図面を用いて本発明について詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

＜第１の実施形態＞
図１は、本発明の第１の実施形態を表すタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２とがシール材３を介して離間して接着されている。第１透明基板１の第２透明基板２側の表面（以下、内表面という）には、第１反射防止膜６ａと、第１反射防止膜６ａの上に形成された第１透明導電膜４が形成されている。第２透明基板２の第１透明基板１側に表面（以下、内表面という）には第２透明導電膜５が形成されている。 <First Embodiment>
FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view of a touch panel 10 representing the first embodiment of the present invention. In the touch panel 10, the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2 are bonded to each other with a sealant 3 interposed therebetween. A first antireflection film 6a and a first transparent conductive film 4 formed on the first antireflection film 6a are formed on the surface of the first transparent substrate 1 on the second transparent substrate 2 side (hereinafter referred to as an inner surface). Is formed. A second transparent conductive film 5 is formed on the surface of the second transparent substrate 2 on the first transparent substrate 1 side (hereinafter referred to as an inner surface).

この構成により、第２透明基板２の上部から押圧すると、その押圧した位置において第１透明導電膜４と第２透明導電膜５とが接触する。第１透明導電膜４の両端間に電圧を印加して第２透明導電膜５によりその電圧を検出し、また、第２透明導電膜５の両端間に電圧を印加して第１透明導電膜４によりその電圧を検出して、その接触点の位置を特定する。 With this configuration, when pressed from above the second transparent substrate 2, the first transparent conductive film 4 and the second transparent conductive film 5 come into contact with each other at the pressed position. A voltage is applied across the first transparent conductive film 4 and the voltage is detected by the second transparent conductive film 5, and a voltage is applied across the second transparent conductive film 5 to apply the first transparent conductive film 5. The voltage is detected by 4 and the position of the contact point is specified.

第１透明基板１の表面と第１透明導電膜４の間に第１反射防止膜６ａを形成したことにより、第１透明基板１の内表面側の反射率が低下する。その結果、第１透明基板１の内表面と第２透明基板２の内表面との間の光の反射に基づくニュートンリングがほとんど視認できなくなった。また、タッチパネル１０の光の透過率が向上した。そのため、第１透明基板１の背面側に設けた表示装置に表示される表示画像の品質が向上した。 By forming the first antireflection film 6 a between the surface of the first transparent substrate 1 and the first transparent conductive film 4, the reflectance on the inner surface side of the first transparent substrate 1 is lowered. As a result, the Newton ring based on the reflection of light between the inner surface of the first transparent substrate 1 and the inner surface of the second transparent substrate 2 is hardly visible. Moreover, the light transmittance of the touch panel 10 was improved. Therefore, the quality of the display image displayed on the display device provided on the back side of the first transparent substrate 1 is improved.

ここで、第１透明基板１及び第２透明基板２として、ソーダ石灰ガラスやホウケイ酸ガラス等の透明ガラスを使用することができる。第１透明基板１は厚さを０．１ｍｍ〜２ｍｍとし、第２透明基板２は厚さを０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍとする。第１及び第２透明基板１、２は、シール材３により接着後にその外面をエッチング又は研磨して、所定の板厚とすることができる。第１透明基板１と第２透明基板の間隔は、１０μｍ〜４００μｍとする。この間隔は、シール材３に所定の粒径を有するギャップ材を混入させることにより高精度に制御することができる。まず、シール材３に所定の粒径を有するギャップ材を混入させる。次に、シール材３を第１透明基板１の表面の周辺部に印刷する。次に、第２透明基板２を第１透明基板１の上に載置して押圧し、シール材を硬化させる。このように形成することにより、第１透明基板１と第２透明基板２のシール材３の部位における間隔をギャップ材の粒径とすることができる。 Here, as the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2, transparent glass such as soda lime glass or borosilicate glass can be used. The first transparent substrate 1 has a thickness of 0.1 mm to 2 mm, and the second transparent substrate 2 has a thickness of 0.05 mm to 0.5 mm. The first and second transparent substrates 1 and 2 can be made to have a predetermined thickness by etching or polishing their outer surfaces after bonding with the sealing material 3. The distance between the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate is 10 μm to 400 μm. This interval can be controlled with high accuracy by mixing a gap material having a predetermined particle diameter into the sealing material 3. First, a gap material having a predetermined particle size is mixed into the sealing material 3. Next, the sealing material 3 is printed on the peripheral portion of the surface of the first transparent substrate 1. Next, the second transparent substrate 2 is placed on the first transparent substrate 1 and pressed to cure the sealing material. By forming in this way, the space | interval in the site | part of the sealing material 3 of the 1st transparent substrate 1 and the 2nd transparent substrate 2 can be made into the particle size of a gap material.

第１反射防止膜６ａは、例えば酸化チタン（ＴｉＯ２）と酸化シリコン（ＳｉＯ２）を交互に積層した多層構造、例えば４層構造とすることができる。酸化チタン膜や酸化シリコン膜は蒸着やスパッタリングにより形成することができる。第１透明導電膜４及び第２透明導電膜５はインジウムスズ酸化物（以下、ＩＴＯという）を使用する。ＩＴＯ膜はスパッタリング法や電子ビーム蒸着法等により８ｎｍ〜１６ｎｍ堆積させる。第１透明基板１と第２透明基板２とシール材３により囲まれる空間には、所定の圧力で空気又はＮ_２を封入している。なお、第１及び第２透明導電膜４、５として、酸化スズや酸化亜鉛を使用することができる。 The first antireflection film 6a can have, for example, a multilayer structure in which titanium oxide (TiO2) and silicon oxide (SiO2) are alternately stacked, for example, a four-layer structure. The titanium oxide film and the silicon oxide film can be formed by vapor deposition or sputtering. The first transparent conductive film 4 and the second transparent conductive film 5 use indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO). The ITO film is deposited 8 nm to 16 nm by a sputtering method, an electron beam evaporation method or the like. In a space surrounded by the first transparent substrate 1, the second transparent substrate 2, and the sealing material 3, air or N ₂ is sealed at a predetermined pressure. In addition, tin oxide and zinc oxide can be used as the first and second transparent conductive films 4 and 5.

このように形成したタッチパネル１０の全光線透過率は８７％であった。第１反射防止膜６ａを形成しないで、他の構成要素を同一の材料を使用して同一の条件で作成した場合の全光線透過率は８５％であった。第１反射防止膜６ａを形成することにより第１透明基板１の内表面における反射率が低下してニュートンリングはほとんど視認できなくなった。更に、透過率が向上したことにより、背面に設置した表示装置の表示画像品質が向上した。 The total light transmittance of the touch panel 10 thus formed was 87%. When the first antireflection film 6a was not formed and the other components were formed using the same material and under the same conditions, the total light transmittance was 85%. By forming the first antireflection film 6a, the reflectance on the inner surface of the first transparent substrate 1 was lowered and the Newton ring was hardly visible. Furthermore, the display image quality of the display device installed on the back surface has improved due to the improved transmittance.

タッチパネル１０の中央部を押圧荷重して第１透明導電膜４と第２透明導電膜５とが導通を開始する最低の荷重を作動荷重とする。上記第１実施形態においては、作動荷重を５グラム〜４０グラムとしている。この作動荷重よりも高くすると、特に先端部の尖ったペン入力等による入力ができ難くなる。また、この作動荷重よりも低くすると、全体的に干渉縞が発生しやすくなる。加えて、例えば周囲温度が−２０℃低下すると、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隙が収縮し、第１透明導電膜４と第２透明導電膜５とが接触して誤動作を起こしやすくなる。作動荷重は、より好ましくは略１０グラム〜２０グラムに設定する。 The lowest load at which the first transparent conductive film 4 and the second transparent conductive film 5 start to conduct by pressing the center portion of the touch panel 10 is defined as an operating load. In the first embodiment, the operating load is 5 grams to 40 grams. When the operating load is higher than this, it becomes difficult to input by pen input or the like having a sharp tip. Moreover, if it is made lower than this operating load, interference fringes tend to be generated as a whole. In addition, for example, when the ambient temperature decreases by −20 ° C., the gap between the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2 contracts, and the first transparent conductive film 4 and the second transparent conductive film 5 come into contact with each other. It is easy to cause malfunction. The operating load is more preferably set to approximately 10 to 20 grams.

なお、タッチパネル１０の大きさ及び作動荷重とニュートンリングの発生との間には相関関係がある。タッチパネル１０の外形の大きさ、即ちパネルの対角線の長さが小さくなるほど、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隙が狭くなり、中央部にニュートンリングが発生しやすくなる。 Note that there is a correlation between the size and operating load of the touch panel 10 and the occurrence of Newton rings. As the size of the outer shape of the touch panel 10, that is, the length of the diagonal line of the panel becomes smaller, the gap between the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2 becomes narrower, and Newton rings are more likely to occur at the center.

本第１の実施形態においては、大きさが２インチ〜４インチのタッチパネル１０を構成して作動荷重を５グラム〜４０グラムとした場合でも、ニュートンリングが見え難くなり、背面側に設置した表示装置の表示画像の品質低下を防止することができる。 In the first embodiment, even when the touch panel 10 having a size of 2 inches to 4 inches is configured and the operating load is 5 grams to 40 grams, the Newton ring becomes difficult to see, and the display installed on the back side It is possible to prevent deterioration in the quality of the display image of the apparatus.

＜第２の実施形態＞
図２は、本発明の第２の実施形態に係るタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。図２に示すように、タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２とがシール材３を介して離間して接着されている。第２透明基板２の内表面には第２反射防止膜６ｂと、第２反射防止膜６ｂの上に形成された第２透明導電膜５が形成されている。第１透明基板１の内表面には第２透明導電膜４が形成されている。なお、第２反射防止膜６ｂは、第１の実施形態と同様に、例えば酸化チタンと酸化シリコンを交互に積層した多層構造、例えば４層構造とすることができる。酸化チタン膜や酸化シリコン膜は蒸着やスパッタリングにより形成することができる。 <Second Embodiment>
FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view of the touch panel 10 according to the second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, in the touch panel 10, the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2 are bonded to each other with a sealant 3 interposed therebetween. On the inner surface of the second transparent substrate 2, a second antireflection film 6b and a second transparent conductive film 5 formed on the second antireflection film 6b are formed. A second transparent conductive film 4 is formed on the inner surface of the first transparent substrate 1. Note that the second antireflection film 6b may have a multilayer structure in which, for example, titanium oxide and silicon oxide are alternately stacked, for example, a four-layer structure, as in the first embodiment. The titanium oxide film and the silicon oxide film can be formed by vapor deposition or sputtering.

このように形成したタッチパネル１０の全光線透過率は８７％であった。第２反射防止膜６ｂを形成しないで、他の構成要素を同一の材料を使用して同一の条件で作成した場合の全光線透過率は８５％であった。第１反射防止膜６ａを形成することにより第１透明基板１の内表面における反射率が低下してニュートンリングはほとんど視認できなくなった。更に、透過率が向上したことにより、背面に設置した表示装置の表示画像品質が向上した。その他の構成は第１の実施形態と同様である。 The total light transmittance of the touch panel 10 thus formed was 87%. When the second antireflection film 6b was not formed and other components were formed using the same material under the same conditions, the total light transmittance was 85%. By forming the first antireflection film 6a, the reflectance on the inner surface of the first transparent substrate 1 was lowered and the Newton ring was hardly visible. Furthermore, the display image quality of the display device installed on the back surface has improved due to the improved transmittance. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

＜第３の実施形態＞
図３は、本発明の第３の実施形態に係るタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。図３に示すように、タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２とがシール材３を介して離間して接着されている。第１透明基板１の内表面には第１反射防止膜６ａと、第１反射防止膜６ａの上に形成された第１透明導電膜４が形成されている。第２透明基板２の内表面には第２反射防止膜６ｂと、第２反射防止膜６ｂの上に形成された第２透明導電膜５が形成されている。 <Third Embodiment>
FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view of the touch panel 10 according to the third embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, in the touch panel 10, the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2 are bonded to each other with a sealant 3 interposed therebetween. On the inner surface of the first transparent substrate 1, a first antireflection film 6a and a first transparent conductive film 4 formed on the first antireflection film 6a are formed. On the inner surface of the second transparent substrate 2, a second antireflection film 6b and a second transparent conductive film 5 formed on the second antireflection film 6b are formed.

このように形成したタッチパネル１０の全光線透過率は９１％であった。すでに説明したように、いずれか一方の透明基板の透明導電膜と透明基板の間に反射防止膜を設けた場合の透過率は８７％であった。第１反射防止膜６ａを形成することにより第１透明基板１の内表面における反射率が低下してニュートンリングはほとんど視認できなくなった。更に、透過率が向上したことにより、背面に設置した表示装置の表示画像品質が向上した。 The total light transmittance of the touch panel 10 thus formed was 91%. As already described, the transmittance was 87% when an antireflection film was provided between the transparent conductive film of one of the transparent substrates and the transparent substrate. By forming the first antireflection film 6a, the reflectance on the inner surface of the first transparent substrate 1 was lowered and the Newton ring was hardly visible. Furthermore, the display image quality of the display device installed on the back surface has improved due to the improved transmittance.

＜第４の実施形態＞
図４は、本発明の第４の実施形態に係るタッチパネル１０の模式的な縦断面図である。本実施形態においては、第３の実施形態に係るタッチパネル１０の上下の外面に、第３反射防止膜６ｃ及び第４反射防止膜６ｄを設けた。その他の構成は、図３に示した第３の実施形態と同様なので、説明を省略する。 <Fourth Embodiment>
FIG. 4 is a schematic longitudinal sectional view of the touch panel 10 according to the fourth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the third antireflection film 6c and the fourth antireflection film 6d are provided on the upper and lower outer surfaces of the touch panel 10 according to the third embodiment. Other configurations are the same as those of the third embodiment shown in FIG.

第３反射防止膜６ｃ及び第４反射防止膜６ｄは、既に説明したと同様に、例えば酸化チタンと酸化シリコンを交互に積層した多層構造、例えば４層構造とすることができる。酸化チタン膜や酸化シリコン膜は蒸着やスパッタリングにより形成することができる。また、このような薄膜の反射防止膜に代えて、反射防止フィルムを貼り付けることができる。これにより、タッチパネル１０の全光線透過率は９７％〜９９％となった。従って、第１及び第２透明基板１、２の両内面に第１及び第２反射防止膜６ａ、６ｂを形成した場合よりも、略６％〜８％透過率が向上した。その結果、背面に設置した表示装置の表示画像品質が更に向上した。 As described above, the third antireflection film 6c and the fourth antireflection film 6d can have a multilayer structure in which, for example, titanium oxide and silicon oxide are alternately stacked, for example, a four-layer structure. The titanium oxide film and the silicon oxide film can be formed by vapor deposition or sputtering. Further, instead of such a thin antireflection film, an antireflection film can be attached. Thereby, the total light transmittance of the touch panel 10 became 97%-99%. Therefore, the transmittance is improved by about 6% to 8%, compared to the case where the first and second antireflection films 6a and 6b are formed on both inner surfaces of the first and second transparent substrates 1 and 2. As a result, the display image quality of the display device installed on the back surface is further improved.

＜第５の実施形態＞
図５は、本発明の第５の実施形態に係るタッチパネル１０の説明図である。図５（ａ）は、タッチパネル１０の模式的な縦断面図であり、図５（ｂ）は、タッチパネル１０の左端部Ｘの部分拡大図であり、図５（ｃ）は、タッチパネル１０の模式的な上面図である。同一の部分又は同一の機能を有する部分には同一の符号を付した。 <Fifth Embodiment>
FIG. 5 is an explanatory diagram of the touch panel 10 according to the fifth embodiment of the present invention. 5A is a schematic longitudinal sectional view of the touch panel 10, FIG. 5B is a partially enlarged view of the left end portion X of the touch panel 10, and FIG. 5C is a schematic view of the touch panel 10. FIG. The same reference numerals are assigned to the same parts or parts having the same function.

図５（ａ）に示すように、タッチパネル１０は、第１透明基板１と第２透明基板２がシール材３を介して互いに離間して接着されている。第１透明基板１の内表面には、第１反射防止膜６ａと、その上に第１透明導電膜４が積層して形成されている。第２透明基板２の内表面には、第２透明導電膜５が形成されている。更に、第１透明基板１の内表面側には、シール材３よりも内側であってシール材３に近接して第１電極７ａが形成されている。第１電極７ａは第１透明導電膜４に電気的に接続している。同様に、第２透明基板２の内表面側には、シール材３よりも内側であってシール材３に近接して第２電極７ｂが形成されている。第２電極７ｂは第２透明導電膜５に電気的に接続している。 As shown in FIG. 5A, in the touch panel 10, the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2 are bonded to each other with a sealant 3 interposed therebetween. On the inner surface of the first transparent substrate 1, a first antireflection film 6a and a first transparent conductive film 4 are formed on the first antireflection film 6a. A second transparent conductive film 5 is formed on the inner surface of the second transparent substrate 2. Further, on the inner surface side of the first transparent substrate 1, a first electrode 7 a is formed on the inner side of the sealing material 3 and close to the sealing material 3. The first electrode 7 a is electrically connected to the first transparent conductive film 4. Similarly, on the inner surface side of the second transparent substrate 2, a second electrode 7 b is formed on the inner side of the sealing material 3 and close to the sealing material 3. The second electrode 7 b is electrically connected to the second transparent conductive film 5.

図５（ｂ）に示すように、第１電極７ａは、第１透明基板１の内表面からの高さがシール材３よりもδｈ高く形成されている。つまり、第１透明基板１と第２透明基板２の間隔は、シール材３が形成されている場所よりも第１電極７ａが形成されている場所のほうが広い。同様に、第２電極７ｂは、第２透明基板２の内表面からの高さがシール材３よりもδｈ高く形成されている。 As shown in FIG. 5B, the first electrode 7 a is formed such that the height from the inner surface of the first transparent substrate 1 is higher than the sealing material 3 by δh. That is, the distance between the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2 is wider in the place where the first electrode 7a is formed than in the place where the sealing material 3 is formed. Similarly, the second electrode 7 b is formed such that the height from the inner surface of the second transparent substrate 2 is higher than the sealing material 3 by δh.

図５（ｃ）に示すように、第１電極７ａは対向する両辺においてシール材３に沿って平行して形成されている。同様に第２電極７ｂは対向する両辺においてシール材３に沿って平行して形成されている。このように、第１電極７ａ、第２電極７ｂをシール材３よりも内側に、しかもシール材３の高さよりも高く形成することにより、内部空間を大気圧とした場合でも第１透明基板１と第２透明基板２の中央部における間隙が広くなる。 As shown in FIG. 5C, the first electrode 7a is formed in parallel along the sealing material 3 on both opposing sides. Similarly, the second electrode 7b is formed in parallel along the sealing material 3 on both opposing sides. As described above, the first transparent substrate 1 is formed even when the internal space is at atmospheric pressure by forming the first electrode 7a and the second electrode 7b on the inner side of the sealing material 3 and higher than the height of the sealing material 3. And the gap at the center of the second transparent substrate 2 is widened.

ここで、第１電極７ａ及び第２電極７ｂは、例えば所定の直径を有するファイバーを混入した銀電極により形成する。また、シール材３には上記ファイバーよりも径の小さなギャップ材を混入している。例えば、第１電極７ａ及び第２電極７ｂに混入するファイバーの直径を１２μｍとする。シール材３に混入するギャップ材の径を１０μｍにする。これにより、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隔を高精度に制御することができるとともに、中央部より周辺部のほうが間隙の広い膨らんだタッチパネル１０を構成することができる。 Here, the 1st electrode 7a and the 2nd electrode 7b are formed with the silver electrode which mixed the fiber which has a predetermined diameter, for example. Further, a gap material having a diameter smaller than that of the fiber is mixed in the sealing material 3. For example, the diameter of the fiber mixed in the first electrode 7a and the second electrode 7b is 12 μm. The diameter of the gap material mixed in the sealing material 3 is set to 10 μm. Thereby, while being able to control the space | interval between the 1st transparent substrate 1 and the 2nd transparent substrate 2 with high precision, the peripheral part can comprise the swelled touch panel 10 with a space | interval wider than a center part. .

一般に、所定の径のギャップ材を混入したシール材３の内側に、このギャップ材よりも径の若干大きなギャップ材を混入した電極を近接して形成すると、間隙の均一性が向上してニュートンリングが発生しやすくなる。特にタッチパネル１０の外形（対角線）が４インチ以下においてニュートンリングの発生が顕著となる。また、作動荷重を５グラム〜４０グラムとするためには内部空間の空気圧を低下させる必要があり、そのためにニュートンリングが発生しやすくなる。 Generally, when an electrode mixed with a gap material having a diameter slightly larger than the gap material is formed inside the seal material 3 mixed with a gap material having a predetermined diameter, the uniformity of the gap is improved and the Newton ring is improved. Is likely to occur. In particular, when the outer shape (diagonal line) of the touch panel 10 is 4 inches or less, the occurrence of Newton rings becomes significant. Further, in order to set the operating load to 5 grams to 40 grams, it is necessary to reduce the air pressure in the internal space, and therefore Newton rings are likely to occur.

そこで、上記第５の実施形態に示すように、第１透明基板１の表面と第１透明導電膜４との間に第１反射防止膜６ａを形成することにより、このニュートンリングの発生を低減させることができる。特に、タッチパネル１０の外形を４インチ以下とし、作動荷重を５グラム〜４０グラムに低減した場合においても、ニュートンリングの発生を低減させ、同時に光の透過率を向上させることができる。これにより、下部に設置した表示装置に表示される表示画像の品質低下を防止することができる。 Therefore, as shown in the fifth embodiment, by forming a first antireflection film 6a between the surface of the first transparent substrate 1 and the first transparent conductive film 4, the generation of this Newton ring is reduced. Can be made. In particular, even when the outer shape of the touch panel 10 is set to 4 inches or less and the operating load is reduced to 5 to 40 grams, the generation of Newton rings can be reduced and the light transmittance can be improved at the same time. Thereby, the quality degradation of the display image displayed on the display apparatus installed in the lower part can be prevented.

なお、第１反射防止膜６ａに代えて、第２透明基板２の内表面と第２透明導電膜５との間に第２反射防止膜６ｂを形成してもよいし、第１透明基板１の表面と第１透明導電膜４との間、及び第２透明基板２の表面と第２透明導電膜５との間の両方に第１及び第２反射防止膜６ａ、６ｂを形成してもよいし、更に、第１透明基板１と第２透明基板２の外面に第３及び第４反射防止膜６ｃ、６ｄ又は反射防止フィルムを形成してもよい。 Instead of the first antireflection film 6a, a second antireflection film 6b may be formed between the inner surface of the second transparent substrate 2 and the second transparent conductive film 5, or the first transparent substrate 1 Even if the first and second antireflection films 6 a and 6 b are formed both between the surface of the first transparent conductive film 4 and between the surface of the second transparent substrate 2 and the second transparent conductive film 5. In addition, third and fourth antireflection films 6c and 6d or antireflection films may be formed on the outer surfaces of the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2.

また、第１及び第２反射防止膜６ａ、６ｂとして、酸化チタンと酸化シリコンの多層膜から構成することができる。また、第１透明導電膜４及び第２透明導電膜５として、例えば膜厚８ｎｍ〜１２ｎｍのＩＴＯ、酸化スズ、酸化亜鉛又はこれらの複合物を使用することができる。また、第１透明基板１及び第２透明基板２として、ソーダ石灰ガラスやホウケイ酸ガラス等のガラスを使用することができる。第１透明基板１の厚さを０．１ｍｍ〜２．０ｍｍ、第２透明基板２の厚さを０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍとすることができる。タッチパネル１０の外形は１０インチ以上であっても良いし、１０インチ以下であっても良い。ニュートンリングの発生が顕著となる対角が２インチ〜４インチの外形を有するタッチパネル１０に本発明を適用した場合、特に有効である。 The first and second antireflection films 6a and 6b can be composed of a multilayer film of titanium oxide and silicon oxide. Moreover, as the 1st transparent conductive film 4 and the 2nd transparent conductive film 5, ITO, tin oxide, zinc oxide, or these composites with a film thickness of 8-12 nm can be used, for example. Moreover, as the 1st transparent substrate 1 and the 2nd transparent substrate 2, glass, such as soda-lime glass and borosilicate glass, can be used. The thickness of the first transparent substrate 1 can be 0.1 mm to 2.0 mm, and the thickness of the second transparent substrate 2 can be 0.05 mm to 0.5 mm. The outer shape of the touch panel 10 may be 10 inches or more, or may be 10 inches or less. The present invention is particularly effective when the present invention is applied to the touch panel 10 having an outer shape with a diagonal of 2 inches to 4 inches in which Newton's rings are conspicuous.

図６は、タッチパネル１０に発生するニュートンリングについて、第２透明基板２の板厚及び中心部に対する荷重と、反射防止膜６との間の関係を表すグラフである。タッチパネル１０の外形（対角の長さ）は２．６インチである。横軸が第２透明基板２の板厚（ｍｍ）であり、縦軸がペン等により入力可能な中心部の作動荷重（ｇ）である。一般的に、第２透明基板２の板厚が厚くなるほど、第１透明基板１と第２透明基板２との間の間隔の均一性が良くなり、ニュートンリングが見えやすくなる。同様に、ペン等により入力可能な作動荷重が小さくなるほど、中心部のふくらみが減少して、ニュートンリングが見えやすくなる。 FIG. 6 is a graph showing the relationship between the antireflection film 6 and the thickness of the second transparent substrate 2 and the load applied to the central portion of the Newton ring generated in the touch panel 10. The outer shape (diagonal length) of the touch panel 10 is 2.6 inches. The horizontal axis is the plate thickness (mm) of the second transparent substrate 2, and the vertical axis is the operating load (g) at the center that can be input with a pen or the like. Generally, as the plate thickness of the second transparent substrate 2 increases, the uniformity of the distance between the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2 is improved, and the Newton ring becomes easier to see. Similarly, the smaller the operating load that can be input with a pen or the like, the smaller the bulge at the center and the easier it is to see the Newton ring.

グラフＡは、第１透明基板１の内面と第２透明基板２の内面の夫々に反射防止膜６ａ、６ｂを形成した場合（図３の場合）の、ニュートンリングが見えやすい領域と見え難い領域の境界を表している。即ち、グラフＡより上部の領域ではニュートンリングが見え難くなり、グラフＡより下部の領域ではニュートンリングが見えやすくなる。具体的には、第２透明基板２の板厚を０．１ｍｍとした場合には、タッチパネル１０の中心部の作動荷重を約２グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．１５ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約１０グラム以上とすればニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．２ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約２７グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。 Graph A shows regions where Newton rings are easily visible and regions where the antireflection films 6a and 6b are formed on the inner surface of the first transparent substrate 1 and the inner surface of the second transparent substrate 2, respectively (in the case of FIG. 3). Represents the boundary. That is, the Newton ring is difficult to see in the region above the graph A, and the Newton ring is easily visible in the region below the graph A. Specifically, when the thickness of the second transparent substrate 2 is 0.1 mm, the Newton ring becomes difficult to see if the operating load at the center of the touch panel 10 is about 2 grams or more. When the thickness of the second transparent substrate 2 is 0.15 mm, the Newton ring becomes difficult to see if the operating load at the center is about 10 grams or more. When the thickness of the second transparent substrate 2 is 0.2 mm, the Newton ring becomes difficult to see if the operating load at the center is about 27 grams or more.

グラフＢは、第１透明基板１の内面又は第２透明基板２の内面のいずれか一方に反射防止膜６ａ又は６ｂを形成した場合（図１又は図２の場合）の、ニュートンリングが見えやすい領域と見え難い領域の境界を表している。即ち、グラフＢより上部の領域ではニュートンリングが見え難くなり、グラフＢより下部の領域ではニュートンリングが見えやすくなる。具体的には、第２透明基板２の板厚を０．１ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約２６グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．１５ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約３２グラム以上とすればニュートンリングが見え難くなる。第２透明基板２の板厚を０．２ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約６０グラム以上とすれば、ニュートンリングが見え難くなる。 In the graph B, the Newton ring is easily seen when the antireflection film 6a or 6b is formed on either the inner surface of the first transparent substrate 1 or the inner surface of the second transparent substrate 2 (in the case of FIG. 1 or FIG. 2). It represents the boundary between the area and the difficult-to-see area. That is, the Newton ring is difficult to see in the region above the graph B, and the Newton ring is easy to see in the region below the graph B. Specifically, when the plate thickness of the second transparent substrate 2 is 0.1 mm, the Newton ring becomes difficult to see if the operation load at the center is about 26 grams or more. When the thickness of the second transparent substrate 2 is 0.15 mm, the Newton ring becomes difficult to see if the operating load at the center is about 32 grams or more. When the thickness of the second transparent substrate 2 is 0.2 mm, the Newton ring becomes difficult to see if the operating load at the center is about 60 grams or more.

グラフＣは、第１透明基板１及び第２透明基板２の内面のいずれにも反射防止膜を形成しない従来例の場合の、ニュートンリングが見えやすい領域と見え難い領域の境界を表している。即ち、グラフＣより上部の領域ではニュートンリングが見え難くなり、グラフＣより下部の領域ではニュートンリングが見えやすくなる。具体的には、第２透明基板２の板厚を０．１ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約４０グラム以上としなければ、ニュートンリングが発生する。また、第２透明基板２の板厚を０．１５ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約６２グラム以上としなければニュートンリングが発生する。第２透明基板２の板厚を０．２ｍｍとした場合には、中心部の作動荷重を約１００グラム以上としなければ、ニュートンリングが発生する。 Graph C represents the boundary between the region where the Newton ring is easily visible and the region where it is difficult to see, in the case of the conventional example in which no antireflection film is formed on the inner surfaces of the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 2. That is, the Newton ring is difficult to see in the region above the graph C, and the Newton ring is easily visible in the region below the graph C. Specifically, when the thickness of the second transparent substrate 2 is 0.1 mm, Newton rings are generated unless the operating load at the center is about 40 grams or more. Further, when the thickness of the second transparent substrate 2 is 0.15 mm, Newton rings are generated unless the operating load at the center is about 62 grams or more. When the thickness of the second transparent substrate 2 is 0.2 mm, Newton rings are generated unless the operating load at the center is about 100 grams or more.

以上の説明から明らかに、第１透明基板１の内面又は／及び第２透明基板２の内面に反射防止膜を形成することにより、ペン先等により書き込む際の中心部の作動荷重を低下させることができる。また、第２透明基板２の板厚も低減して、薄いタッチパネル１０を形成することができる。 Obviously from the above description, by forming an antireflection film on the inner surface of the first transparent substrate 1 and / or the inner surface of the second transparent substrate 2, the operating load at the center when writing with a pen tip or the like is reduced. Can do. Further, the thickness of the second transparent substrate 2 can be reduced, and the thin touch panel 10 can be formed.

本発明の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal section showing a touch panel concerning an embodiment of the present invention. 本発明の他の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal section showing a touch panel concerning other embodiments of the present invention. 本発明の他の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal section showing a touch panel concerning other embodiments of the present invention. 本発明の他の実施形態に係るタッチパネルを表す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal section showing a touch panel concerning other embodiments of the present invention. 本発明の他の実施形態に係るタッチパネルの説明図である。It is explanatory drawing of the touchscreen which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るタッチパネル１０に発生するニュートンリングについて、第２透明基板２の板厚及び中心部に対する荷重と反射防止膜６との間の関係を表すグラフである。It is a graph showing the relationship between the thickness with respect to Newton ring which generate | occur | produces in the touch panel 10 which concerns on embodiment of this invention, the thickness and the center part of the 2nd transparent substrate 2, and the antireflection film 6. FIG. 従来公知のタッチパネルの説明図である。It is explanatory drawing of a conventionally well-known touch panel. 従来公知のタッチパネルの模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal cross-sectional view of a conventionally well-known touch panel.

Explanation of symbols

１第１透明基板
２第２透明基板
３シール材
４第１透明導電膜
５第２透明導電膜
６反射防止膜
７ａ第１電極
７ｂ第２電極
１０タッチパネル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st transparent substrate 2 2nd transparent substrate 3 Sealing material 4 1st transparent conductive film 5 2nd transparent conductive film 6 Antireflection film 7a 1st electrode 7b 2nd electrode 10 Touch panel

Claims

A first transparent substrate having a first transparent conductive film formed on the surface and a second transparent substrate having a second transparent conductive film formed on the surface are sealed with the first and second transparent conductive films inside. Are spaced apart from each other via a material,
A touch panel in which a first antireflection film is formed between the first transparent conductive film and the first transparent substrate.

The touch panel as set forth in claim 1, wherein a second antireflection film is formed between the second transparent conductive film and the second transparent substrate.

The sealing material is formed on the outer periphery of the first transparent substrate and the second transparent substrate,
The first transparent substrate is formed with a first electrode electrically connected to the first transparent conductive film on the inner side of the sealing material and in proximity to the sealing material,
The second transparent substrate is formed with a second electrode that is inside the sealing material and in proximity to the sealing material and electrically connected to the second transparent conductive film,
The height from the surface of the first transparent substrate or the second transparent substrate of the first electrode and the second electrode is higher than the height from the surface of the sealing material. Or the touch panel of 2.

The operating load for electrically connecting the first transparent conductive film and the second transparent conductive film by externally loading the central portion of the first transparent substrate or the second transparent substrate is 5 to 40 grams. The touch panel according to claim 1, wherein the touch panel is provided.