JP2009270093A - Perfluoropolyether compound, lubricant containing the same, and magnetic disk - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound having reduced film thickness per one molecule and fluidity compatibly, to provide a lubricant using the compound, and to provide a magnetic disk. <P>SOLUTION: The compound is represented by formula (1), the lubricant uses the compound, and the magnetic disk uses the lubricant, formula (1): [HO-(CH<SB>2</SB>-R<SP>2</SP>-CH<SB>2</SB>O-A-O)<SB>n</SB>-CH<SB>2</SB>-R<SP>2</SP>-CH<SB>2</SB>-O-CH<SB>2</SB>]<SB>p</SB>-R<SP>1</SP>. In formula, n is an integer of 0-6, and A is a group represented by -CH<SB>2</SB>CH(OH)CH<SB>2</SB>-. R<SP>1</SP>is an aromatic group of C<SB>6</SB>H<SB>6-p</SB>, C<SB>6</SB>H<SB>5-q</SB>-O-C<SB>6</SB>H<SB>5-r</SB>, and C<SB>10</SB>H<SB>8-p</SB>. p is an integer of 3-6, q and r are respectively integers of 0 or more, and p=q+r. R<SP>2</SP>is -CF<SB>2</SB>O(CF<SB>2</SB>CF<SB>2</SB>O)<SB>x</SB>(CF<SB>2</SB>O)<SB>y</SB>CF<SB>2</SB>- or -CF<SB>2</SB>CF<SB>2</SB>O(CF<SB>2</SB>CF<SB>2</SB>CF<SB>2</SB>O)<SB>z</SB>CF<SB>2</SB>CF<SB>2</SB>-. x and y are respectively real numbers of 0-30, and z is a real number of 1-30. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤、ならびにこれを用いた磁気ディスクに関する。   The present invention relates to a perfluoropolyether compound having an aromatic group and a hydroxyl group, a lubricant containing the same, and a magnetic disk using the same.

磁気ディスクの記録密度の増大に伴い、記録媒体である磁気ディスクと情報の記録・再生を行うヘッドとの距離は殆ど接触するまで狭くなっている。磁気ディスク表面にはヘッドとの接触・摺動の際の摩耗抑制や、ディスク表面の汚染防止等の目的で、炭素保護膜や潤滑剤被膜が設けられている。   As the recording density of the magnetic disk increases, the distance between the magnetic disk, which is a recording medium, and the head for recording / reproducing information is reduced until it almost comes into contact. A carbon protective film and a lubricant film are provided on the surface of the magnetic disk for the purpose of suppressing wear during contact / sliding with the head and preventing contamination of the disk surface.

炭素保護膜は、一般にスパッタ法やCVD法で製膜される。ディスクの表面保護は、炭素保護膜と、この上層に位置する潤滑剤被膜の両者で担うことになるため、炭素保護膜と潤滑剤との相互作用が重要である。   The carbon protective film is generally formed by sputtering or CVD. Since the surface protection of the disk is carried out by both the carbon protective film and the lubricant film located in the upper layer, the interaction between the carbon protective film and the lubricant is important.

潤滑剤としては一般に官能基を有するパーフルオロポリエーテルが用いられている。官能基としては、水酸基やアミノ基、さらにはシクロホスファゼン基などがある。具体的には、分子末端に水酸基を有する潤滑剤としてSolvay Solexis製のFomblin ZTETRAOL、さらには分子の一方の末端に水酸基、他方の末端にシクロホスファゼン基を有する松村石油研究所製のPHOSFAROL A20Hなどがある。さらに、分子末端に加えて分子鎖中にも水酸基を有する潤滑剤も提案されている(特許文献1参照)。   As the lubricant, a perfluoropolyether having a functional group is generally used. Examples of the functional group include a hydroxyl group, an amino group, and a cyclophosphazene group. Specifically, Fomblin ZTETRAOL manufactured by Solvay Solexis as a lubricant having a hydroxyl group at the molecular end, PHOSFAROL A20H manufactured by Matsumura Oil Research Institute, which has a hydroxyl group at one end of the molecule and a cyclophosphazene group at the other end, etc. is there. Further, a lubricant having a hydroxyl group in the molecular chain in addition to the molecular end has been proposed (see Patent Document 1).

Fomblin ZTETRAOLは、分子両末端に位置する水酸基によりディスクへの良好な吸着性を示し、ディスクが高速回転しても飛散せず、潤滑剤被膜を維持することができる。また、PHOSFAROL A20Hは、ディスクへの吸着に寄与する水酸基が分子の片末端に、さらにルイス酸によるパーフルオロポリエーテル主鎖の切断を抑制するシクロホスファゼン基が他方の末端に存在するため、ヘッドの部材中のAlによる化合物の分解も抑制し、ディスク上で潤滑剤被膜を維持することができる(例えば、特許文献2参照)。 Fomblin ZTETRAOL exhibits good adsorptivity to the disk due to the hydroxyl groups located at both ends of the molecule, and does not scatter even when the disk rotates at high speed and can maintain the lubricant coating. In addition, PHOSFAROL A20H has a hydroxyl group that contributes to adsorption to the disk at one end of the molecule and a cyclophosphazene group that suppresses cleavage of the perfluoropolyether main chain by Lewis acid at the other end. The decomposition of the compound by Al 2 O 3 in the member is also suppressed, and the lubricant film can be maintained on the disk (see, for example, Patent Document 2).

さらに、特許文献1では、ヘッドとディスクのスペーシングに対する潤滑剤の膜厚の影響について記されている。スペーシングを低減するには潤滑剤一分子分の膜厚を低減することが有効であり、分子末端に加えて分子鎖中にも水酸基を有する潤滑剤が、潤滑剤一分子分の膜厚を低減できると提案されている。この技術により潤滑剤一分子分の膜厚を低く維持した上で、潤滑剤の高分子量化が可能となり、潤滑剤の蒸発も防止できる。   Further, Patent Document 1 describes the influence of the lubricant film thickness on the head and disk spacing. In order to reduce the spacing, it is effective to reduce the film thickness of one molecule of the lubricant, and the lubricant having a hydroxyl group in the molecular chain in addition to the molecular end increases the film thickness of one molecule of the lubricant. It has been proposed that it can be reduced. With this technique, the film thickness of one molecule of the lubricant can be kept low, and the lubricant can have a high molecular weight, and the lubricant can be prevented from evaporating.

しかし、潤滑剤が有する水酸基は、炭素保護膜上の水酸基との水素結合や、ダングリングボンド(未結合手)と共有結合を形成するため(例えば、非特許文献1)、分子中に多数の水酸基を有する化合物からなる潤滑剤被膜は、炭素保護膜に固着した被膜となる。潤滑剤被膜の固着化は、相反する特性である流動性の低下につながるため、ヘッドとディスクの接触確率が高くなる低スペーシング条件において、摺動耐久性が大きく不足する可能性がある。   However, since the hydroxyl group of the lubricant forms hydrogen bonds with hydroxyl groups on the carbon protective film and covalent bonds with dangling bonds (unbonded hands) (for example, Non-Patent Document 1), The lubricant film made of a compound having a hydroxyl group is a film fixed to the carbon protective film. Fixing the lubricant film leads to a decrease in fluidity, which is a contradictory characteristic, and therefore there is a possibility that the sliding durability is greatly insufficient under low spacing conditions where the contact probability between the head and the disk is high.

特開2006−70173JP 2006-70173 A 米国特許第6608009号US Pat. No. 6,608,090

IEEE Transactions on Magnetics,vol.37,No.2,March 2001IEEE Transactions on Magnetics, vol. 37, No. 2, March 2001

本発明の課題は、ヘッドとディスクのスペーシングの低減化に貢献でき、かつディスク表面で良好な流動性を示すことにより摺動耐久性を発現する化合物を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a compound that can contribute to a reduction in the spacing between the head and the disk, and that exhibits good fluidity on the disk surface, thereby exhibiting sliding durability.

本発明は以下の発明に係る。
1.式(1)で表される化合物。
[HO−(CH−R−CHO−A−O)−CH−R−CH−O−CH−R (1)
式中nは0〜6の整数であり、Aは−CHCH(OH)CH−で表される基である。RはC6−p、C5−q−O−C5−r、C108−pの芳香族基である。pは3〜6の整数である。q、rはそれぞれ0以上の整数であり、p=q+rである。Rは、−CFO(CFCFO)(CFO)CF−又は−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−である。x、yは、それぞれ0〜30の実数である。zは1〜30の実数である。
The present invention relates to the following inventions.
1. The compound represented by Formula (1).
[HO— (CH 2 —R 2 —CH 2 O—AO) n —CH 2 —R 2 —CH 2 —O—CH 2 ] p —R 1 (1)
In the formula, n is an integer of 0 to 6, and A is a group represented by —CH 2 CH (OH) CH 2 —. R 1 is C 6 H 6-p, C 6 H 5-q -O-C 6 H 5-r, aromatic group C 10 H 8-p. p is an integer of 3-6. q and r are each an integer of 0 or more, and p = q + r. R 2 is —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 — or —CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 CF 2 —. x and y are real numbers of 0 to 30, respectively. z is a real number of 1-30.

2.式(1)の化合物を含有する潤滑剤。
3.支持体上に少なくとも記録層、保護層を形成し、その表面に潤滑層を有する磁気ディスクにおいて、該潤滑層が式(1)で表される化合物を含有する磁気ディスク。
2. A lubricant containing a compound of formula (1).
3. A magnetic disk having at least a recording layer and a protective layer formed on a support and having a lubricating layer on the surface thereof, wherein the lubricating layer contains a compound represented by the formula (1).

本発明の芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物は、一分子あたりの膜厚低減と流動性という2つの課題を同時に解決する潤滑剤である。また、本発明の化合物を潤滑剤として用いた磁気ディスクは、ヘッドとディスクのスペーシングを低減でき、かつヘッドとディスクの接触摺動においても優れた耐久性を有する。   The perfluoropolyether compound having an aromatic group and a hydroxyl group of the present invention is a lubricant that simultaneously solves two problems of film thickness reduction and fluidity per molecule. In addition, a magnetic disk using the compound of the present invention as a lubricant can reduce the spacing between the head and the disk, and has excellent durability even in sliding contact between the head and the disk.

本発明の磁気ディスクの構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the structure of the magnetic disk of this invention.

本発明の式(1)で表されるパーフルオロポリエーテルは、芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物である。   The perfluoropolyether represented by the formula (1) of the present invention is a perfluoropolyether compound having an aromatic group and a hydroxyl group.

式(1)で表される本発明の芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物は、例えば以下の方法により合成される。   The perfluoropolyether compound having an aromatic group and a hydroxyl group of the present invention represented by the formula (1) is synthesized, for example, by the following method.

アルゴン雰囲気下、HOCH−R−CHOHで表される両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルを、t−ブタノールおよびt−ブトキシカリウムとともに加熱攪拌する。反応温度は60〜80℃、好ましくは65〜70℃である。ここにエピハロヒドリン化合物、例えばエピブロモヒドリンを滴下し、3〜8時間、好ましくは4〜6時間、加熱攪拌を継続する。その後、例えば水洗、カラムクロマトグラフィーにより分画し、中間体化合物が得られる。これをアルゴン雰囲気下、金属ナトリウムとともに加熱攪拌する。反応温度は50〜100℃、好ましくは60〜80℃である。反応時間は10〜70時間、好ましくは20〜50時間である。パーフルオロポリエーテルに対して金属ナトリウムを0.7〜1当量使用するのが好ましい。つづいて、これにX −Yで表されるハロゲン原子をp個有する芳香族化合物を加える。反応温度は50〜100℃、好ましくは60〜80℃である。反応時間は20〜50時間、好ましくは30〜40時間である。パーフルオロポリエーテルに対してハロゲン原子をp個有する芳香族化合物を0.2〜0.8当量使用するのが好ましい。反応は溶剤中で行ってもよい。その後、例えば水洗、カラムクロマトグラフィーにより分画し、目的とする化合物がフラクションとして得られる。 Under an argon atmosphere, a perfluoropolyether having hydroxyl groups at both ends represented by HOCH 2 —R 2 —CH 2 OH is heated and stirred together with t-butanol and t-butoxypotassium. The reaction temperature is 60 to 80 ° C, preferably 65 to 70 ° C. An epihalohydrin compound, for example, epibromohydrin is dropped here, and the heating and stirring are continued for 3 to 8 hours, preferably 4 to 6 hours. Thereafter, fractionation is performed by, for example, washing with water and column chromatography to obtain an intermediate compound. This is heated and stirred together with metallic sodium under an argon atmosphere. The reaction temperature is 50 to 100 ° C, preferably 60 to 80 ° C. The reaction time is 10 to 70 hours, preferably 20 to 50 hours. It is preferable to use 0.7 to 1 equivalent of metallic sodium based on perfluoropolyether. Subsequently, an aromatic compound having p halogen atoms represented by X 1 p -Y is added thereto. The reaction temperature is 50 to 100 ° C, preferably 60 to 80 ° C. The reaction time is 20 to 50 hours, preferably 30 to 40 hours. It is preferable to use 0.2 to 0.8 equivalent of an aromatic compound having p halogen atoms relative to perfluoropolyether. The reaction may be performed in a solvent. Thereafter, fractionation is performed by, for example, washing with water and column chromatography, and the target compound is obtained as a fraction.

HOCH−R−CHOHで表される両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルとしては、例えば、HOCH−CFO(CFCFO)(CFO)CF−CHOHや、HOCH−CFCFO(CFCFCFO)CF
−CHOHを例示できる。ここでx、yは、それぞれ0〜30の実数であり、好ましくは0〜25、より好ましくは0〜20、さらに好ましくは0〜15である。zは1〜30の実数であり、好ましくは1〜25、より好ましくは1〜20、さらに好ましくは1〜15である。いずれも分子量分布を持つ化合物である。
As a perfluoropolyether having a hydroxyl group at both ends represented by HOCH 2 —R 2 —CH 2 OH, for example, HOCH 2 —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 and -CH 2 OH, HOCH 2 -CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 C
An example is F 2 —CH 2 OH. Here, x and y are each a real number of 0 to 30, preferably 0 to 25, more preferably 0 to 20, and still more preferably 0 to 15. z is a real number of 1 to 30, preferably 1 to 25, more preferably 1 to 20, and still more preferably 1 to 15. Both are compounds having a molecular weight distribution.

−Yで表されるハロゲン原子を有する芳香族化合物において、Xは、例えば塩素や臭素、沃素、さらにはCHCl、CHBr、CHIを例示できる。Xの付加位置は、オルト、メタ、パラのいずれでも良い。ここでpは3〜6の実数である。Yは、例えば−C6−p、−C5−q−O−C5−r−(ここでp=q+r)、−C108−pを例示できる。 In the aromatic compound having a halogen atom represented by X 1 p -Y, X 1 can be exemplified by chlorine, bromine and iodine, and further CH 2 Cl, CH 2 Br and CH 2 I. Adding position of the X 1 is ortho, meta, either para good. Here, p is a real number of 3-6. Y is, for example -C 6 H 6-p, -C 6 H 5-q -O-C 6 H 5-r - ( where p = q + r), - C 10 H 8-p to be exemplified.

式(1)で表される本発明の芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を潤滑剤として使用する場合には、n=0〜6が好ましく、より好ましくはn=0〜3であり、さらに好ましくはn=0〜2である。   When the perfluoropolyether compound having an aromatic group and a hydroxyl group of the present invention represented by the formula (1) is used as a lubricant, n = 0 to 6 is preferable, and n = 0 to 3 is more preferable. Yes, more preferably n = 0-2.

本発明の化合物を磁気ディスク表面に塗布するには、化合物を溶剤に希釈して塗布する方法が好ましい。溶剤としては、例えば3M製PF−5060、PF−5080、HFE−7100,HFE−7200、DuPont製Vertrel−XF等が挙げられる。希釈後の化合物の濃度は1wt%以下、好ましくは0.001〜0.1wt%である。   In order to apply the compound of the present invention to the surface of the magnetic disk, a method in which the compound is diluted with a solvent and applied is preferred. Examples of the solvent include 3M PF-5060, PF-5080, HFE-7100, HFE-7200, and DuPont Vertrel-XF. The concentration of the diluted compound is 1 wt% or less, preferably 0.001 to 0.1 wt%.

本発明の化合物を単独使用する以外にも、例えば松村石油研究所製のPHOSFAROLA20Hや、Solvay Solexis製のFomblin ZdolやZtetraol、Zdol TX、AM、ダイキン工業製のDemnum、Dupont製のKrytoxなどと任意の比率で混合して使用することもできる。   In addition to using the compound of the present invention alone, for example, PHOSFAROLA 20H manufactured by Matsumura Oil Research Institute, Fomblin Zdol or Ztetraol, Zdol TX, AM manufactured by Solvay Solexis, Demnum manufactured by Daikin Industries, Krytox manufactured by Dupont, etc. It can also be used by mixing at a ratio.

本発明の化合物は、磁気ディスク装置内の磁気ディスクとヘッドの低スペーシング化を実現し、さらに摺動耐久性を向上させるための潤滑剤としての用途が挙げられる。また、本発明の化合物は、分子末端の水酸基による炭素保護膜に存在する極性部位との相互作用、加えて分子鎖中の芳香族基による炭素保護膜に存在する炭素の不飽和結合との相互作用を形成することを特徴とする。従って、磁気ディスク以外にも炭素保護膜を有する磁気ヘッドや、光磁気記録装置、磁気テープ等や、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ、プラスチックなどの有機材料の表面保護膜、さらにはSi、SiC、SiOなどの無機材料の表面保護膜としても応用できる。 The compound of the present invention can be used as a lubricant for realizing low spacing between the magnetic disk and the head in the magnetic disk apparatus and further improving the sliding durability. In addition, the compound of the present invention interacts with polar sites present in the carbon protective film due to hydroxyl groups at the molecular ends, and also with carbon unsaturated bonds present in the carbon protective film due to aromatic groups in the molecular chain. It is characterized by forming an action. Therefore, in addition to the magnetic disk, a magnetic head having a carbon protective film, a magneto-optical recording device, a magnetic tape, etc., a surface protective film of an organic material such as carbon fiber, carbon nanotube, and plastic, and further Si 3 N 4 , SiC It can also be applied as a surface protective film of inorganic materials such as SiO 2 .

本発明の磁気ディスクは、まず支持体1上に少なくとも1層以上の記録層2、その上に保護層3、更にその上に本発明の化合物を含有する潤滑層4を最外層として有する構成である。図1に本発明の磁気ディスク断面の模式図を示す。
支持体としてはアルミニウム合金、ガラス等のセラミックス、ポリカーボネート等が挙げられる。
The magnetic disk of the present invention has at least one recording layer 2 on a support 1, a protective layer 3 thereon, and a lubricating layer 4 containing the compound of the present invention as an outermost layer. is there. FIG. 1 shows a schematic diagram of a cross section of a magnetic disk of the present invention.
Examples of the support include aluminum alloys, ceramics such as glass, polycarbonate, and the like.

磁気ディスクの記録層である磁性層の構成材料としては鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性体を形成可能な元素を中心として、これにクロム、白金、タンタル等を加えた合金、又はそれらの酸化物が挙げられる。これらはメッキ法、或いはスパッタ法等で形成される。
保護層の材料はカーボン、SiC、SiO等が挙げられる。これらはスパッタ法、或いはCVD法で形成される。
The constituent material of the magnetic layer that is the recording layer of the magnetic disk is mainly an element capable of forming a ferromagnetic material such as iron, cobalt, nickel, etc., and an alloy obtained by adding chromium, platinum, tantalum, etc. to this, or oxidation thereof. Things. These are formed by plating or sputtering.
Examples of the material for the protective layer include carbon, SiC, and SiO 2 . These are formed by sputtering or CVD.

現在、流通している潤滑層の厚さは30Å以下であるため、粘性が20℃で100mPa・s程度以上の潤滑剤をそのまま塗布したのでは膜厚が大きくなりすぎる恐れがある。そこで塗布の際は溶剤に溶解したものを用いる。本発明の化合物を潤滑剤として単独で使用する場合も、他の潤滑剤と混合して使用する場合も、溶剤に溶解した方が必要な膜厚に制御しやすい。但し、濃度は塗布方法・条件、混合割合等により異なる。本発明の潤滑剤の膜厚は、5〜15Åが好ましい。   Since the thickness of the currently distributed lubricating layer is 30 mm or less, if a lubricant having a viscosity of about 100 mPa · s or more at 20 ° C. is applied as it is, the film thickness may be too large. Therefore, a solution dissolved in a solvent is used for coating. Whether the compound of the present invention is used alone as a lubricant or mixed with other lubricants, it is easier to control the required film thickness when dissolved in a solvent. However, the concentration varies depending on the application method, conditions, mixing ratio, and the like. The film thickness of the lubricant of the present invention is preferably 5 to 15 mm.

下地層に対する潤滑剤の吸着を促進させるために、熱処理や紫外線処理を行うことができる。熱処理温度は、60〜150℃、好ましくは80〜150℃である。紫外線処理では、185nmと254nmの波長を主波長とする紫外線を用いるのが好ましい。   In order to promote the adsorption of the lubricant to the underlayer, heat treatment or ultraviolet treatment can be performed. The heat treatment temperature is 60 to 150 ° C, preferably 80 to 150 ° C. In the ultraviolet treatment, it is preferable to use ultraviolet rays having wavelengths of 185 nm and 254 nm as main wavelengths.

本発明の磁気ディスクは、ディスクを格納し、情報の記録・再生・消去を行うためのヘッドやディスクを回転するためのモーター等が装備されている磁気ディスクドライブとそのドライブを制御するための制御系からなる磁気ディスク装置に応用できる。磁気ディスク装置の記録方式としては、面内磁気記録、垂直磁気記録、熱アシスト磁気記録等が挙げられる。ディスクリートトラック型磁気ディスクやビットパターンド型磁気ディスクにも適用できる。
本発明の磁気ディスク、およびそれを応用した磁気ディスク装置の用途としては電子計算機、ワードプロセッサー等の外部メモリーが挙げられる。またナビゲーションシステム、ゲーム、携帯電話、PHS等の各種機器、及びビルの防犯、発電所等の管理・制御システムの内部・外部記録装置等にも適用可能である。
The magnetic disk of the present invention is a magnetic disk drive equipped with a head for storing the disk and recording / reproducing / erasing information, a motor for rotating the disk, etc., and a control for controlling the drive. The present invention can be applied to magnetic disk devices composed of a system. Examples of the recording method of the magnetic disk device include in-plane magnetic recording, perpendicular magnetic recording, and heat-assisted magnetic recording. It can also be applied to a discrete track type magnetic disk and a bit patterned type magnetic disk.
Applications of the magnetic disk of the present invention and the magnetic disk device to which the magnetic disk is applied include an external memory such as an electronic computer and a word processor. It can also be applied to various devices such as navigation systems, games, mobile phones, PHS, and crime prevention of buildings, internal / external recording devices of management / control systems such as power plants.

以下、参考例、実施例および試験例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例等に限定されるものではない。なお、19F−NMRは溶媒;なし、基準物質:主成分または微量不純物として含まれるOCF2 2CF2Oを−129.7ppmとして、H−NMRは溶媒:なし、基準物質:DOの条件で測定した。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference examples, examples, and test examples, but the present invention is not limited to these examples. 19 F-NMR is a solvent; none, reference substance: OCF 2 C F 2 CF 2 O contained as a main component or a trace impurity is set to −129.7 ppm, 1 H-NMR is a solvent: none, reference substance: D The measurement was performed under the condition of 2O.

参考例1
HO−(CH−R−CHO−CHCH(OH)CH−O)−CH−R−CH−OH(中間体1、2、3)の合成
ここで、Rは−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−である。中間体1はn=1、中間体2はn=2、中間体3はn=3である。
アルゴン雰囲気下、HOCH−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−CHOHで表されるパーフルオロポリエーテル(42g)を、t−ブタノール(18g)およびt−ブトキシカリウム(5.4g)とともに70℃で攪拌する。エピブロモヒドリン(3.3g)を滴下し、4〜6時間攪拌を継続する。その後、水洗、超臨界抽出により5分画し、第2分画品として中間体1(15g)、第3分画品として中間体2(26g)、第4分画品として中間体3(17g)を得た。
Reference example 1
Synthesis of HO— (CH 2 —R 2 —CH 2 O—CH 2 CH (OH) CH 2 —O) n —CH 2 —R 2 —CH 2 —OH (Intermediates 1, 2, 3) where R 2 is —CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 CF 2 —. Intermediate 1 has n = 1, Intermediate 2 has n = 2, and Intermediate 3 has n = 3.
Under an argon atmosphere, HOCH 2 -CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) a perfluoropolyether represented by z CF 2 CF 2 -CH 2 OH and (42 g), t-butanol (18 g) and Stir at 70 ° C. with potassium t-butoxy (5.4 g). Epibromohydrin (3.3 g) is added dropwise and stirring is continued for 4-6 hours. Thereafter, it was washed with water and subjected to supercritical extraction to give 5 fractions. Intermediate 1 (15 g) as the second fraction, Intermediate 2 (26 g) as the third fraction, and Intermediate 3 (17 g) as the fourth fraction. )

参考例2
HO−(CH−R−CHO−CHCH(OH)CH−O)−CH−R−CH−OH(中間体4、5、6)の合成
ここで、Rは−CFO(CFCFO)(CFO)CF−である。中間体4はn=1、中間体5はn=2、中間体6はn=3である。
アルゴン雰囲気下、HOCH−CFO(CFCFO)(CFO)CF−CHOHで表されるパーフルオロポリエーテル(42g)を、t−ブタノール(18g)およびt−ブトキシカリウム(5.4g)とともに70℃で攪拌する。エピブロモヒドリン(3.3g)を滴下し、4〜6時間攪拌を継続する。その後、水洗、超臨界抽出により5分画し、第2分画品として中間体4(17g)、第3分画品として中間体5(24g)、第4分画品として中間体6(13g)を得た。
Reference example 2
Synthesis of HO— (CH 2 —R 2 —CH 2 O—CH 2 CH (OH) CH 2 —O) n —CH 2 —R 2 —CH 2 —OH (Intermediates 4, 5, 6) R 2 is —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 —. Intermediate 4 has n = 1, Intermediate 5 has n = 2, and Intermediate 6 has n = 3.
Under an argon atmosphere, perfluoropolyether (42 g) represented by HOCH 2 —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 —CH 2 OH, t-butanol (18 g) and Stir at 70 ° C. with potassium t-butoxy (5.4 g). Epibromohydrin (3.3 g) is added dropwise and stirring is continued for 4-6 hours. Thereafter, it was washed with water and subjected to supercritical extraction to give 5 fractions, intermediate 4 (17 g) as the second fraction, intermediate 5 (24 g) as the third fraction, and intermediate 6 (13 g) as the fourth fraction. )

実施例1
[HO−CH−R−CHO−CHCH(OH)CH−O−CH−R−CH−O−CH−R(化合物1)の合成
ここで、Rは下記式(a)で表される基であり、Rは−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−である。
Example 1
Synthesis of [HO—CH 2 —R 2 —CH 2 O—CH 2 CH (OH) CH 2 —O—CH 2 —R 2 —CH 2 —O—CH 2 ] 3 —R 1 (Compound 1) , R 1 is a group represented by the following formula (a), and R 2 is —CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 CF 2 —.

Figure 2009270093
Figure 2009270093

アルゴン雰囲気下、参考例1で得られた中間体1(15g)を、金属ナトリウム(0.15g)とともに80℃で24時間攪拌する。つづいて、これに1,3,5−トリスブロモメチルベンゼン(0.8g)と3M製HFE7300を滴下し、80℃で35時間攪拌する。その後、水洗、カラムクロマトグラフィーにより3分画し、第2分画品として化合物1(5g)を得た。
化合物1は、無色透明液体であり、20℃での密度は、1.7g/cmであった。NMRを用いて行った化合物1の同定結果を示す。
Under an argon atmosphere, Intermediate 1 (15 g) obtained in Reference Example 1 is stirred with metal sodium (0.15 g) at 80 ° C. for 24 hours. Subsequently, 1,3,5-trisbromomethylbenzene (0.8 g) and 3M HFE7300 are added dropwise thereto and stirred at 80 ° C. for 35 hours. Thereafter, the product was washed with water and subjected to 3 fractions by column chromatography to obtain Compound 1 (5 g) as a second fraction.
Compound 1 was a colorless and transparent liquid, and the density at 20 ° C. was 1.7 g / cm 3 . The identification result of the compound 1 performed using NMR is shown.

化合物1
19F−NMR
δ=−86.4ppm
〔18F,−C CFCHOCHCH(OH)CHOCHCF O−,−C CFCHOH〕,
δ=−86.2ppm
〔6F,(−C CFCHOCH−C〕,
δ=−83.7ppm
〔134F,−C CF O−〕,
δ=−129.7ppm
〔67F,−CF CFO−〕,
δ=−127.5ppm
〔6F,−CF CHOH〕,
δ=−124.3ppm
〔12F,−CF CHOCHCH(OH)CHOCH CFO−〕,
δ=−123.6ppm
〔6F,(−CF CHOCH−C〕,
z=5.6
Compound 1
19 F-NMR
δ = −86.4 ppm
[18F, -C F 2 CF 2 CH 2 OCH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 CF 2 C F 2 O -, - C F 2 CF 2 CH 2 OH ],
δ = −86.2 ppm
[6F, (- C F 2 CF 2 CH 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = −83.7 ppm
[134F, —C F 2 CF 2 C F 2 O—],
δ = -129.7 ppm
[67F, -CF 2 C F 2 CF 2 O- ],
δ = -127.5 ppm
[6F, -CF 2 C F 2 CH 2 OH ],
δ = −124.3 ppm
[12F, -CF 2 C F 2 CH 2 OCH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 C F 2 CF 2 O- ],
δ = -123.6 ppm
[6F, (- CF 2 C F 2 CH 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],
z = 5.6

H−NMR
δ=3.85ppm
〔6H,(−CFCF OCH−C〕,
δ=4.18ppm
〔6H,−CFCF OH〕,
δ=4.50ppm
〔24H,−CFCF OC CH(OH)C OC CFCFO−〕,
δ=4.63ppm
〔6H,(−CFCFCHOC −C〕,
δ=7.37ppm
〔3H,(−CFCFCHOCH−C 〕,
1 H-NMR
δ = 3.85 ppm
[6H, (- CF 2 CF 2 C H 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = 4.18 ppm
[6H, -CF 2 CF 2 C H 2 OH ]
δ = 4.50 ppm
[24H, -CF 2 CF 2 C H 2 OC H 2 CH (OH) C H 2 OC H 2 CF 2 CF 2 O- ],
δ = 4.63 ppm
[6H, (- CF 2 CF 2 CH 2 OC H 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = 7.37 ppm
[3H, (- CF 2 CF 2 CH 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],

実施例2
(HO−CH−R−CH−O−CH−R(化合物2)の合成
ここで、Rは下記式(a)で表される基であり、Rは−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−である。
Example 2
Synthesis of (HO—CH 2 —R 2 —CH 2 —O—CH 2 ) 3 —R 1 (Compound 2) where R 1 is a group represented by the following formula (a), and R 2 is — CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 CF 2 - is.

Figure 2009270093
Figure 2009270093

アルゴン雰囲気下、HOCH−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−CHOHで表されるパーフルオロポリエーテル(50g)を、金属ナトリウム(0.5g)とともに80℃で24時間攪拌する。つづいて、これに1,3,5−トリスブロモメチルベンゼン(2.7g)と3M製HFE7300を滴下し、80℃で48時間攪拌する。その後、水洗、カラムクロマトグラフィーにより3分画し、第2分画品として化合物2(17g)を得た。
化合物2は、無色透明液体であり、20℃での密度は、1.6g/cmであった。NMRを用いて行った化合物2の同定結果を示す。
Under an argon atmosphere, perfluoropolyether (50 g) represented by HOCH 2 —CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 CF 2 —CH 2 OH was added to metallic sodium (0.5 g). And stir at 80 ° C. for 24 hours. Subsequently, 1,3,5-trisbromomethylbenzene (2.7 g) and 3M HFE7300 are added dropwise thereto and stirred at 80 ° C. for 48 hours. Then, it was washed with water and subjected to 3 fractions by column chromatography to obtain Compound 2 (17 g) as a second fraction.
Compound 2 was a colorless and transparent liquid, and the density at 20 ° C. was 1.6 g / cm 3 . The identification result of the compound 2 performed using NMR is shown.

化合物2
19F−NMR
δ=−86.4ppm
〔6F,−C CFCHOH〕,
δ=−86.2ppm
〔6F,(−C CFCHOCH−C〕,
δ=−83.7ppm
〔126F,−C CF O−〕,
δ=−129.7ppm
〔63F,−CF CFO−〕,
δ=−127.5ppm
〔6F,−CF CHOH〕,
δ=−123.6ppm
〔6F,(−CF CHOCH−C〕,
z=10.5
Compound 2
19 F-NMR
δ = −86.4 ppm
[6F, —C F 2 CF 2 CH 2 OH],
δ = −86.2 ppm
[6F, (- C F 2 CF 2 CH 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = −83.7 ppm
[126F, —C F 2 CF 2 C F 2 O—],
δ = -129.7 ppm
[63F, -CF 2 C F 2 CF 2 O- ],
δ = -127.5 ppm
[6F, -CF 2 C F 2 CH 2 OH ],
δ = -123.6 ppm
[6F, (- CF 2 C F 2 CH 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],
z = 10.5

H−NMR
δ=3.85ppm
〔6H,(−CFCF OCH−C〕,
δ=4.18ppm
〔6H,−CFCF OH〕,
δ=4.63ppm
〔6H,(−CFCFCHOC −C〕,
δ=7.37ppm
〔3H,(−CFCFCHOCH−C 〕,
1 H-NMR
δ = 3.85 ppm
[6H, (- CF 2 CF 2 C H 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = 4.18 ppm
[6H, -CF 2 CF 2 C H 2 OH ]
δ = 4.63 ppm
[6H, (- CF 2 CF 2 CH 2 OC H 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = 7.37 ppm
[3H, (- CF 2 CF 2 CH 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],

実施例3
(HO−CH−R−CH−O−CH−R(化合物3)の合成
ここで、Rは下記式(b)で表される基であり、Rは−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−である。
Example 3
Synthesis of (HO—CH 2 —R 2 —CH 2 —O—CH 2 ) 6 —R 1 (Compound 3) Here, R 1 is a group represented by the following formula (b), and R 2 is — CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 CF 2 - is.

Figure 2009270093
Figure 2009270093

アルゴン雰囲気下、HOCH−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−CHOHで表されるパーフルオロポリエーテル(50g)を、金属ナトリウム(0.9g)とともに80℃で24時間攪拌する。つづいて、これに1,2,3,4,5,6−ヘキサキスブロモメチルベンゼン(6.4g)と3M製HFE7300を滴下し、80℃で48時間攪拌する。その後、水洗、カラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物3(13g)を得た。
化合物3は、無色透明液体であり、20℃での密度は、1.6g/cmであった。NMRを用いて行った化合物3の同定結果を示す。
Under an argon atmosphere, perfluoropolyether (50 g) represented by HOCH 2 —CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 CF 2 —CH 2 OH was added to sodium metal (0.9 g). And stir at 80 ° C. for 24 hours. Subsequently, 1,2,3,4,5,6-hexakisbromomethylbenzene (6.4 g) and 3M HFE7300 are added dropwise thereto and stirred at 80 ° C. for 48 hours. Then, it refine | purified by water washing and column chromatography, and the compound 3 (13g) was obtained.
Compound 3 was a colorless and transparent liquid, and the density at 20 ° C. was 1.6 g / cm 3 . The identification result of the compound 3 performed using NMR is shown.

化合物3
19F−NMR
δ=−86.4ppm
〔12F,−C CFCHOH〕,
δ=−86.2ppm
〔12F,(−C CFCHOCH−C〕,
δ=−83.7ppm
〔144F,−C CF O−〕,
δ=−129.7ppm
〔72F,−CF CFO−〕,
δ=−127.5ppm
〔12F,−CF CHOH〕,
δ=−123.6ppm
〔12F,(−CF CHOCH−C〕,
z=6.0
Compound 3
19 F-NMR
δ = −86.4 ppm
[12F, —C F 2 CF 2 CH 2 OH],
δ = −86.2 ppm
[12F, (- C F 2 CF 2 CH 2 OCH 2) 6 -C 6 ],
δ = −83.7 ppm
[144F, —C F 2 CF 2 C F 2 O—],
δ = -129.7 ppm
[72F, -CF 2 C F 2 CF 2 O- ],
δ = -127.5 ppm
[12F, -CF 2 C F 2 CH 2 OH ],
δ = -123.6 ppm
[12F, (- CF 2 C F 2 CH 2 OCH 2) 6 -C 6 ],
z = 6.0

H−NMR
δ=3.85ppm
〔12H,(−CFCF OCH−C〕,
δ=4.18ppm
〔12H,−CFCF OH〕,
δ=4.63ppm
〔12H,(−CFCFCHOC −C〕,
1 H-NMR
δ = 3.85 ppm
[12H, (- CF 2 CF 2 C H 2 OCH 2) 6 -C 6 ],
δ = 4.18 ppm
[12H, -CF 2 CF 2 C H 2 OH ]
δ = 4.63 ppm
[12H, (- CF 2 CF 2 CH 2 OC H 2) 6 -C 6 ],

実施例4
[HO−CH−R−CHO−CHCH(OH)CH−O−CH−R−CH−O−CH−R(化合物4)の合成
ここで、Rは下記式(a)で表される基であり、Rは−CFO(CFCFO)(CFO)CF−である。
Example 4
Synthesis of [HO—CH 2 —R 2 —CH 2 O—CH 2 CH (OH) CH 2 —O—CH 2 —R 2 —CH 2 —O—CH 2 ] 3 —R 1 (Compound 4) , R 1 is a group represented by the following formula (a), and R 2 is —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 —.

Figure 2009270093
Figure 2009270093

アルゴン雰囲気下、参考例2で得られた中間体4(15g)を、金属ナトリウム(0.15g)とともに80℃で24時間攪拌する。つづいて、これに1,3,5−トリスブロモメチルベンゼン(0.8g)と3M製HFE7300を滴下し、80℃で35時間攪拌する。その後、水洗、カラムクロマトグラフィーにより3分画し、第2分画品として化合物4(5g)を得た。
化合物4は、無色透明液体であり、20℃での密度は、1.7g/cmであった。NMRを用いて行った化合物4の同定結果を示す。
Under an argon atmosphere, Intermediate 4 (15 g) obtained in Reference Example 2 is stirred with metal sodium (0.15 g) at 80 ° C. for 24 hours. Subsequently, 1,3,5-trisbromomethylbenzene (0.8 g) and 3M HFE7300 are added dropwise thereto and stirred at 80 ° C. for 35 hours. Thereafter, the product was washed with water and subjected to fractionation by column chromatography to obtain Compound 4 (5 g) as a second fraction.
Compound 4 was a colorless and transparent liquid, and the density at 20 ° C. was 1.7 g / cm 3 . The identification result of the compound 4 performed using NMR is shown.

化合物4
19F−NMR
δ=−52.1ppm、−53.7ppm、−55.4ppm
〔64F,−OC O−〕,
δ=−77.9ppm、−79.9ppm
〔6F,(−C CHOCH−C〕,
δ=−78.2,−80.2ppm
〔12F,−C CHOCHCH(OH)CHOCH O−〕,
δ=−81.3ppm、−83.3ppm
〔6F,−C CHOH〕,
δ=−89.1ppm、−90.7ppm
〔137F,−OC O−〕
x=5.7 y=5.3
Compound 4
19 F-NMR
δ = −52.1 ppm, −53.7 ppm, −55.4 ppm
[64F, -OC F 2 O-],
δ = -77.9 ppm, -79.9 ppm
[6F, (- C F 2 CH 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = −78.2, −80.2 ppm
[12F, —C F 2 CH 2 OCH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 C F 2 O—],
δ = −81.3 ppm, −83.3 ppm
[6F, —C F 2 CH 2 OH],
δ = −89.1 ppm, −90.7 ppm
[137F, -OC F 2 C F 2 O- ]
x = 5.7 y = 5.3

H−NMR
δ=3.85ppm
〔6H,(−CF OCH−C〕,
δ=4.18ppm
〔6H,−CF OH〕,
δ=4.50ppm
〔24H,−CF OC CH(OH)C OC CFO−〕,
δ=4.63ppm
〔6H,(−CFCHOC −C〕,
δ=7.37ppm
〔3H,(−CFCHOCH−C 〕,
1 H-NMR
δ = 3.85 ppm
[6H, (- CF 2 C H 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = 4.18ppm
[6H, -CF 2 C H 2 OH]
δ = 4.50 ppm
[24H, -CF 2 C H 2 OC H 2 CH (OH) C H 2 OC H 2 CF 2 O- ],
δ = 4.63 ppm
[6H, (- CF 2 CH 2 OC H 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = 7.37 ppm
[3H, (- CF 2 CH 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],

実施例5
(HO−CH−R−CH−O−CH−R(化合物5)の合成
ここで、Rは下記式(a)で表される基であり、Rは−CFO(CFCFO)(CFO)CF−である。
Example 5
Synthesis of (HO—CH 2 —R 2 —CH 2 —O—CH 2 ) 3 —R 1 (Compound 5) where R 1 is a group represented by the following formula (a), and R 2 is — CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 - is.

Figure 2009270093
Figure 2009270093

アルゴン雰囲気下、HOCH−CFO(CFCFO)(CFO)CF−CHOHで表されるパーフルオロポリエーテル(50g)を、金属ナトリウム(0.5g)とともに80℃で24時間攪拌する。つづいて、これに1,3,5−トリスブロモメチルベンゼン(2.7g)と3M製HFE7300を滴下し、80℃で48時間攪拌する。その後、水洗、カラムクロマトグラフィーにより3分画し、第2分画品として化合物5(14g)を得た。
化合物5は、無色透明液体であり、20℃での密度は、1.7g/cmであった。NMRを用いて行った化合物5の同定結果を示す。
In an argon atmosphere, perfluoropolyether (50 g) represented by HOCH 2 —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 —CH 2 OH was converted to metallic sodium (0.5 g). And stir at 80 ° C. for 24 hours. Subsequently, 1,3,5-trisbromomethylbenzene (2.7 g) and 3M HFE7300 are added dropwise thereto and stirred at 80 ° C. for 48 hours. Thereafter, the product was washed with water and subjected to 3 fractions by column chromatography to obtain Compound 5 (14 g) as a second fraction.
Compound 5 was a colorless and transparent liquid, and the density at 20 ° C. was 1.7 g / cm 3 . The identification result of the compound 5 performed using NMR is shown.

化合物5
19F−NMR
δ=−52.1ppm、−53.7ppm、−55.4ppm
〔56F,−OC O−〕,
δ=−77.9ppm、−79.9ppm
〔12F,(−C CHOCH−C〕,
δ=−81.3ppm、−83.3ppm
〔6F,−C CHOH〕,
δ=−89.1ppm、−90.7ppm
〔122F,−OC O−〕
x=10.2 y=9.3
Compound 5
19 F-NMR
δ = −52.1 ppm, −53.7 ppm, −55.4 ppm
[56F, —OC F 2 O—],
δ = -77.9 ppm, -79.9 ppm
[12F, (- C F 2 CH 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = −81.3 ppm, −83.3 ppm
[6F, —C F 2 CH 2 OH],
δ = −89.1 ppm, −90.7 ppm
[122F, —OC F 2 C F 2 O—]
x = 10.2 y = 9.3

H−NMR
δ=3.85ppm
〔6H,(−CF OCH−C〕,
δ=4.18ppm
〔6H,−CF OH〕,
δ=4.63ppm
〔6H,(−CFCHOC −C〕,
δ=7.37ppm
〔3H,(−CFCHOCH−C 〕,
1 H-NMR
δ = 3.85 ppm
[6H, (- CF 2 C H 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = 4.18ppm
[6H, -CF 2 C H 2 OH]
δ = 4.63 ppm
[6H, (- CF 2 CH 2 OC H 2) 3 -C 6 H 3 ],
δ = 7.37 ppm
[3H, (- CF 2 CH 2 OCH 2) 3 -C 6 H 3 ],

実施例6
(HO−CH−R−CH−O−CH−R(化合物6)の合成
ここで、Rは下記式(b)で表される基であり、Rは−CFO(CFCFO)(CFO)CF−である。
Example 6
Synthesis of (HO—CH 2 —R 2 —CH 2 —O—CH 2 ) 6 —R 1 (Compound 6) where R 1 is a group represented by the following formula (b), and R 2 is — CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 - is.

Figure 2009270093
Figure 2009270093

アルゴン雰囲気下、HOCH−CFO(CFCFO)(CFO)CF−CHOHで表されるパーフルオロポリエーテル(50g)を、金属ナトリウム(0.9g)とともに80℃で24時間攪拌する。つづいて、これに1,2,3,4,5,6−ヘキサキスブロモメチルベンゼン(6.4g)と3M製HFE7300を滴下し、80℃で48時間攪拌する。その後、水洗、カラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物6(10g)を得た。
化合物6は、無色透明液体であり、20℃での密度は、1.7g/cmであった。NMRを用いて行った化合物6の同定結果を示す。
In an argon atmosphere, perfluoropolyether (50 g) represented by HOCH 2 —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 —CH 2 OH was converted to metallic sodium (0.9 g). And stir at 80 ° C. for 24 hours. Subsequently, 1,2,3,4,5,6-hexakisbromomethylbenzene (6.4 g) and 3M HFE7300 are added dropwise thereto and stirred at 80 ° C. for 48 hours. Then, it refine | purified by water washing and column chromatography, and the compound 6 (10g) was obtained.
Compound 6 was a colorless and transparent liquid, and the density at 20 ° C. was 1.7 g / cm 3 . The identification result of the compound 6 performed using NMR is shown.

化合物6
19F−NMR
δ=−52.1ppm、−53.7ppm、−55.4ppm
〔65F,−OC O−〕,
δ=−77.9ppm、−79.9ppm
〔12F,(−C CHOCH−C〕,
δ=−81.3ppm、−83.3ppm
〔12F,−C CHOH〕,
δ=−89.1ppm、−90.7ppm
〔134F,−OC O−〕
x=5.6 y=5.2
Compound 6
19 F-NMR
δ = −52.1 ppm, −53.7 ppm, −55.4 ppm
[65F, —OC F 2 O—],
δ = -77.9 ppm, -79.9 ppm
[12F, (- C F 2 CH 2 OCH 2) 6 -C 6 ],
δ = −81.3 ppm, −83.3 ppm
[12F, —C F 2 CH 2 OH],
δ = −89.1 ppm, −90.7 ppm
[134F, —OC F 2 C F 2 O—]
x = 5.6 y = 5.2

H−NMR
δ=3.85ppm
〔12H,(−CF OCH−C〕,
δ=4.18ppm
〔12H,−CF OH〕,
δ=4.63ppm
〔12H,(−CFCHOC −C〕,
1 H-NMR
δ = 3.85 ppm
[12H, (- CF 2 C H 2 OCH 2) 6 -C 6 ],
δ = 4.18 ppm
[12H, -CF 2 C H 2 OH]
δ = 4.63 ppm
[12H, (- CF 2 CH 2 OC H 2) 6 -C 6 ],

実施例7
単分子膜厚および拡散係数の測定
磁気ディスク上に塗布された潤滑剤の単分子膜厚(一分子あたりの膜厚)および拡散係数は、非特許文献2にも記載されているように、ディスク上での潤滑剤の拡散挙動をエリプソメーターで観察する際に確認される。単分子膜厚は、潤滑剤被膜のテラス部位の膜厚として得られる。拡散係数は、T時間後の潤滑剤の移動距離(L)を用いて、下記式から算出される。
Example 7
Measurement of Monomolecular Film Thickness and Diffusion Coefficient As described in Non-Patent Document 2, the monomolecular film thickness (film thickness per molecule) and the diffusion coefficient of the lubricant applied on the magnetic disk This is confirmed when the diffusion behavior of the lubricant is observed with an ellipsometer. The monomolecular film thickness is obtained as the film thickness of the terrace portion of the lubricant film. The diffusion coefficient is calculated from the following formula using the movement distance (L) of the lubricant after T time.

Journal of Tribology,October 2004,vol.126,page751Journal of Tribology, October 2004, vol. 126, page 751

拡散係数(mm/s)=L/T Diffusion coefficient (mm 2 / s) = L 2 / T

具体的には、実施例1〜3で合成した化合物1〜3を、それぞれDuPont製Vertrel−XFに溶解する。この溶液の化合物1、3の濃度はいずれも0.1重量%である。直径2.5インチの磁気ディスクの一部分(約1/4)をこの溶液に浸漬し、速度4mm/sで引き上げることにより、潤滑層として化合物1〜3が塗布された部分と塗布されていない部分からなるディスクを作製した。塗布された部分の平均膜厚は、32Åであった。
上記のディスクを作製後すぐに、エリプソメーターに装着し、50℃の温度条件下にて一定時間毎に塗布部と非塗布部の境界付近における膜厚の変化を測定し、形成するテラス部位の膜厚として潤滑剤の単分子膜厚を得た。さらに潤滑層の移動距離から拡散係数を得た。また、比較のために、分子鎖中と分子末端に水酸基を有する化合物7を使用した。
Specifically, the compounds 1 to 3 synthesized in Examples 1 to 3 are dissolved in Vertrel-XF manufactured by DuPont. The concentrations of compounds 1 and 3 in this solution are both 0.1% by weight. A part (about ¼) of a 2.5 inch diameter magnetic disk is immersed in this solution and pulled up at a speed of 4 mm / s, whereby a part where compounds 1 to 3 are applied as a lubricating layer and a part where it is not applied A disk made of The average film thickness of the applied part was 32 mm.
Immediately after producing the above disk, it is mounted on an ellipsometer, and the change in film thickness near the boundary between the coated part and the non-coated part is measured at a constant time under a temperature condition of 50 ° C. A monomolecular film thickness of the lubricant was obtained as the film thickness. Furthermore, the diffusion coefficient was obtained from the moving distance of the lubricating layer. For comparison, Compound 7 having a hydroxyl group in the molecular chain and at the molecular end was used.

HO−(CH−R−CHO−E−O)−CH−R−CH−OH (化合物7)
Eは−CH−CH(OH)−CH−で表される基である。Rは、−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−である。sは5、tは6.0である。
HO— (CH 2 —R 3 —CH 2 O—E—O) s —CH 2 —R 3 —CH 2 —OH (Compound 7)
E is a group represented by —CH 2 —CH (OH) —CH 2 —. R 3 is —CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) t CF 2 CF 2 —. s is 5 and t is 6.0.

化合物1〜3、7の数平均分子量と単分子膜厚、および拡散係数を表1に記す。これらの結果から、本発明の芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物は、分子末端と分子鎖中に水酸基を有する化合物7に比べて、同等の単分子膜厚を示しつつ、かつ高い拡散係数を示すことが確認された。   Table 1 shows the number average molecular weight, monomolecular film thickness, and diffusion coefficient of Compounds 1 to 3 and 7. From these results, the perfluoropolyether compound having an aromatic group and a hydroxyl group of the present invention shows an equivalent monomolecular film thickness and is higher than that of the compound 7 having a hydroxyl group in the molecular terminal and molecular chain. It was confirmed to show a diffusion coefficient.

Figure 2009270093
Figure 2009270093

実施例8
磁気ディスクの作製
実施例1で得られた化合物1をDuPont製Vertrel−XFに溶解する。この溶液の化合物1の濃度は0.1重量%である。直径2.5インチの磁気ディスクをこの溶液に1分間浸漬し、速度2mm/sで引き上げた。その後150℃で10分間乾燥し、塗布された化合物の膜厚をFT−IRで測定したところ、20Åであった。これより、一分子あたりの膜厚を低減できる分子末端と分子鎖中に水酸基を有する化合物と同程度の単分子膜厚を示し、かつ高い拡散係数を示す本発明の化合物を有する磁気ディスクを作製できることが確認された。
Example 8
Production of Magnetic Disk Compound 1 obtained in Example 1 is dissolved in Vertrel-XF manufactured by DuPont. The concentration of Compound 1 in this solution is 0.1% by weight. A 2.5 inch diameter magnetic disk was immersed in this solution for 1 minute and pulled up at a speed of 2 mm / s. Thereafter, it was dried at 150 ° C. for 10 minutes, and the film thickness of the applied compound was measured by FT-IR. As a result, a magnetic disk having the compound of the present invention showing a monomolecular film thickness comparable to that of a compound having a hydroxyl group in the molecular end and molecular chain capable of reducing the film thickness per molecule and having a high diffusion coefficient is produced. It was confirmed that it was possible.

本発明は、芳香族基と水酸基を有する新規なパーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤、ならびにこれを用いた磁気ディスクを提供することができる。   The present invention can provide a novel perfluoropolyether compound having an aromatic group and a hydroxyl group, a lubricant containing the compound, and a magnetic disk using the same.

1 支持体
2 記録層
3 保護層
4 潤滑層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support body 2 Recording layer 3 Protective layer 4 Lubrication layer

Claims (6)

式(1)で表される化合物。
[HO−(CH−R−CHO−A−O)−CH−R−CH−O−CH−R (1)
式中nは0〜6の整数であり、Aは−CHCH(OH)CH−で表される基である。RはC6−p、C5−q−O−C5−r、C108−pの芳香族基である。pは3〜6の整数である。q、rはそれぞれ0以上の整数であり、p=q+rである。Rは、−CFO(CFCFO)(CFO)CF−又は−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−である。x、yは、それぞれ0〜30の実数である。zは1〜30の実数である。
The compound represented by Formula (1).
[HO— (CH 2 —R 2 —CH 2 O—AO) n —CH 2 —R 2 —CH 2 —O—CH 2 ] p —R 1 (1)
In the formula, n is an integer of 0 to 6, and A is a group represented by —CH 2 CH (OH) CH 2 —. R 1 is C 6 H 6-p, C 6 H 5-q -O-C 6 H 5-r, aromatic group C 10 H 8-p. p is an integer of 3-6. q and r are each an integer of 0 or more, and p = q + r. R 2 is —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 — or —CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 CF 2 —. x and y are real numbers of 0 to 30, respectively. z is a real number of 1-30.
x、yが、それぞれ0〜20であり、zが1〜20である請求項1に記載の化合物。 The compound according to claim 1, wherein x and y are each 0 to 20, and z is 1 to 20. 式(1)の化合物を含有する潤滑剤。
[HO−(CH−R−CHO−A−O)−CH−R−CH−O−CH−R (1)
式中nは0〜6の整数であり、Aは−CHCH(OH)CH−で表される基である。RはC6−p、C5−q−O−C5−r、C108−pの芳香族基である。pは3〜6の整数である。q、rはそれぞれ0以上の整数であり、p=q+rである。Rは、−CFO(CFCFO)(CFO)CF−又は−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−である。x、yは、それぞれ0〜30の実数である。zは1〜30の実数である。
A lubricant containing a compound of formula (1).
[HO— (CH 2 —R 2 —CH 2 O—AO) n —CH 2 —R 2 —CH 2 —O—CH 2 ] p —R 1 (1)
In the formula, n is an integer of 0 to 6, and A is a group represented by —CH 2 CH (OH) CH 2 —. R 1 is C 6 H 6-p, C 6 H 5-q -O-C 6 H 5-r, aromatic group C 10 H 8-p. p is an integer of 3-6. q and r are each an integer of 0 or more, and p = q + r. R 2 is —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 — or —CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 CF 2 —. x and y are real numbers of 0 to 30, respectively. z is a real number of 1-30.
x、yが、それぞれ0〜20であり、zが1〜20である請求項3に記載の潤滑剤。 The lubricant according to claim 3, wherein x and y are each 0 to 20, and z is 1 to 20. 支持体上に少なくとも記録層、保護層を形成し、その表面に潤滑層を有する磁気ディスクにおいて、該潤滑層が下記式(1)で表される化合物を含有する磁気ディスク。
[HO−(CH−R−CHO−A−O)−CH−R−CH−O−CH−R (1)
式中nは0〜6の整数であり、Aは−CHCH(OH)CH−で表される基である。RはC6−p、C5−q−O−C5−r、C108−pの芳香族基である。pは3〜6の整数である。q、rはそれぞれ0以上の整数であり、p=q+rである。Rは、−CFO(CFCFO)(CFO)CF−又は−CFCFO(CFCFCFO)CFCF−である。x、yは、それぞれ0〜30の実数である。zは1〜30の実数である。
A magnetic disk having at least a recording layer and a protective layer formed on a support and having a lubricating layer on the surface thereof, wherein the lubricating layer contains a compound represented by the following formula (1).
[HO— (CH 2 —R 2 —CH 2 O—AO) n —CH 2 —R 2 —CH 2 —O—CH 2 ] p —R 1 (1)
In the formula, n is an integer of 0 to 6, and A is a group represented by —CH 2 CH (OH) CH 2 —. R 1 is C 6 H 6-p, C 6 H 5-q -O-C 6 H 5-r, aromatic group C 10 H 8-p. p is an integer of 3-6. q and r are each an integer of 0 or more, and p = q + r. R 2 is —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) x (CF 2 O) y CF 2 — or —CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) z CF 2 CF 2 —. x and y are real numbers of 0 to 30, respectively. z is a real number of 1-30.
x、yが、それぞれ0〜20であり、zが1〜20である請求項5に記載の磁気ディスク。
6. The magnetic disk according to claim 5, wherein x and y are each 0 to 20, and z is 1 to 20.
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