JP2009262370A - Original printing plate for laser engraving and resin composition used for manufacturing this original printing plate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は高精細かつ表面べとつきの少ないレーザー彫刻用印刷原版および印刷版と、それらの製造に適した樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a printing plate and printing plate for laser engraving with high definition and little surface stickiness, and a resin composition suitable for their production.
近年、フィルムなどの軟包装に印刷を施す方法としてフレキソ印刷やグラビア印刷が広汎に用いられている。グラビア印刷に使用される凹版は一般に金属製の凹版である。この凹版の表面には、通常、クロムメッキ層が設けられている。この金属製の凹版は磨耗に強く耐久性の高いものであるが、製版工程が非常に複雑であり、またメッキ工程などで大量の廃水処理が必要となる。そこで、特許文献1には熱可塑性樹脂をベースをとした樹脂層を直接レーザーで凹版を作成し、この凹版を利用してグラビア印刷を行う方法が提案されている。
また、特許文献2にはフレキソ印刷分野では高解像度なレーザー彫刻用印刷版として、伝導性カーボンブラックをレーザー吸収剤として用いた例がある。
Patent Document 2 discloses an example in which conductive carbon black is used as a laser absorbent as a high-resolution printing plate for laser engraving in the flexographic printing field.
しかし、特許文献1は熱可塑性樹脂、ニトロセルロース、カーボンブラックからなる組成が開示されているが、版を形成する際に多量の溶剤を使用する事、また、溶剤を使用するため、厚膜の印刷版を作製する事が非常に困難であるなどの問題がある。特許文献2に開示されている技術ではバインダーを伝導性カーボンブラックに関する記載があるが、カーボンブラックの1次凝集体が大きく、高精細な彫刻をする際には1次凝集体が欠け、所望の印刷パターンが得られないという問題がある。また、大気下で組成物を熱硬化させる場合には、表面のべとつきが問題になる。
表面がべとつく場合は印刷原版の研磨が困難になる事、研磨に必要な樹脂量が多くなるなどの問題があった。架橋方法として電子線を用いた場合には、架橋反応だけでなく、分解反応も起き、硬度が低下する問題、気泡が発生するなどの問題がある。そのため、高解像度なレーザー彫刻用印刷原版の製造は困難であった。
However, Patent Document 1 discloses a composition comprising a thermoplastic resin, nitrocellulose, and carbon black. However, when a plate is formed, a large amount of solvent is used, and since a solvent is used, a thick film is used. There is a problem that it is very difficult to produce a printing plate. In the technique disclosed in Patent Document 2, there is a description relating to conductive carbon black as a binder. However, the primary aggregate of carbon black is large, and the primary aggregate lacks when engraving with high definition. There is a problem that a print pattern cannot be obtained. Further, when the composition is thermally cured in the atmosphere, the stickiness of the surface becomes a problem.
When the surface is sticky, there are problems such as difficulty in polishing the printing original plate and an increase in the amount of resin required for polishing. When an electron beam is used as a crosslinking method, not only a crosslinking reaction but also a decomposition reaction occurs, resulting in problems such as a decrease in hardness and bubbles. Therefore, it has been difficult to produce a high-resolution printing master for laser engraving.
以上のことより、硬化後の表面べとつきが低減され、環境対応性を考慮して製版工程で溶剤不要であるレーザーによる彫刻が可能な樹脂製印刷原版、さらには近赤外線レーザーで高解像度な彫刻が可能な樹脂製印刷原版の開発が求められている。
すなわち本発明は、表面べとつきが少なく、環境対応性を考慮し近赤外線レーザー彫刻で凹凸部の形成が可能な高解像度なレーザー彫刻用印刷原版及び印刷版を提供するものである。更に当該印刷原版の製造に適した樹脂組成物をも提供するものである。
From the above, the surface stickiness after curing is reduced, and in consideration of environmental friendliness, a resin-made printing original plate that can be engraved with a laser that does not require a solvent in the plate-making process, and also a high-resolution engraving with a near-infrared laser There is a need for the development of possible resin printing masters.
That is, the present invention provides a high-resolution printing original plate for laser engraving and a printing plate that have less surface stickiness and can form uneven portions by near infrared laser engraving in consideration of environmental compatibility. Furthermore, the present invention also provides a resin composition suitable for producing the printing original plate.
本発明者等は、前記課題を解決するために樹脂組成物について鋭意検討した結果、数平均分子量が300〜30万である樹脂(a)、1分子中に2個以上のチオール基を有する多官能チオール化合物(b)、レーザー吸収剤(c)、熱重合開始剤(d)を含む樹脂組成物からなる樹脂層を熱硬化して得られるレーザー彫刻用印刷原版用いて、上記課題を解決できる事を見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies on the resin composition in order to solve the above problems, the present inventors have found that a resin having a number average molecular weight of 300 to 300,000 (a) and having two or more thiol groups in one molecule. The above problems can be solved by using a laser engraving printing original plate obtained by thermosetting a resin layer comprising a resin composition containing a functional thiol compound (b), a laser absorber (c), and a thermal polymerization initiator (d). As a result, the present invention was completed.
すなわち、本発明は以下の通りである。
[1]
数平均分子量が300〜30万である樹脂(a)100質量部に対して、1分子中に重合性官能基を2個以上有しかつ該官能基の少なくとも一つがチオール基である多官能チオール化合物(b)を0.1〜150質量部、レーザー吸収剤(c)を1〜100質量部、熱重合開始剤(d)を0.1〜10質量部を含む樹脂組成物からなる樹脂層を熱硬化して得られるレーザー彫刻用印刷原版。
[2]
多官能チオール化合物(b)がチオグリコール酸誘導体及び/又はメルカプトプロピオン酸誘導体である前項1記載のレーザー彫刻用印刷原版。
[3]
樹脂組成物が更に重合性不飽和基を有する数平均分子量が1万以下の単量体(e)を1〜300質量部含む前項1又は2記載のレーザー彫刻用印刷原版。
[4]
樹脂組成物が更に安定剤を0.01〜10質量部含む前項1〜3いずれか一項記載のレーザー彫刻用印刷原版。
[5]
(a)成分がウレタン結合及び/又はエステル結合を有する前項1〜4いずれか一項記載のレーザー彫刻用印刷原版。
[6]
(d)成分が有機過酸化物である前項1〜5いずれか一項記載のレーザー彫刻用印刷原版。
[7]
印刷原版の表面の中心線平均粗さRaが0.01μm以上、0.4μm以下である前項1〜7いずれか一項記載のレーザー彫刻用印刷原版。
[8]
前項1〜7いずれか一項に記載のレーザー彫刻用印刷原版を波長2μm以下のレーザーで彫刻して得られる印刷版。
[9]
数平均分子量が300〜30万である樹脂(a)100質量部に対して、1分子中に重合性官能基を2個以上有し、かつ該官能基の少なくとも一つがチオール基である多官能チオール化合物(b)を0.1〜150質量部、レーザー吸収剤(c)を1〜100質量部、熱重合開始剤(d)を0.1〜10質量部を含む印刷原版用樹脂組成物。
[10]
樹脂組成物が更に重合性不飽和基を有する数平均分子量が1万以下の単量体(e)を1〜300質量部含む前項9記載の印刷原版用樹脂組成物。
[11]
樹脂組成物が更に安定剤を0.01〜10質量部含む前項9又は10記載の印刷原版用樹脂組成物。
[12]
(a)成分がウレタン結合及び/又はエステル結合を有する前項9〜11いずれか一項記載の印刷原版用樹脂組成物。
[13]
前記(d)成分が有機過酸化物である前項9〜12いずれか一項記載の印刷原版用樹脂組成物。
[14]
円筒状支持体上に前項9〜13いずれか一項に記載の樹脂組成物を厚みが50μm以上、7mm未満の厚みになるように塗布して樹脂層を成型する工程と、該円筒状に成形された樹脂層を加熱し硬化せしめる工程とを含むレーザー彫刻用印刷原版の製造方法。
[15]
前記加熱し硬化せしめる工程の後に、更に、表面粗度を調整する工程を含む前項14に記載のレーザー彫刻用印刷原版の製造方法。
[16]
前記表面粗度を調整する工程において、切削、研削、および研磨からなる群より選択される少なくとも1種類の工程を含む前項15に記載のレーザー彫刻用印刷原版の製造方法。
[17]
前項1〜7のいずれか一項に記載のレーザー彫刻用印刷原版を発振波長2μm以下のレーザーで彫刻する工程を含む印刷版の製造方法。
That is, the present invention is as follows.
[1]
Polyfunctional thiol having two or more polymerizable functional groups in one molecule and at least one of the functional groups being a thiol group with respect to 100 parts by mass of the resin (a) having a number average molecular weight of 300 to 300,000 A resin layer comprising a resin composition containing 0.1 to 150 parts by mass of the compound (b), 1 to 100 parts by mass of the laser absorber (c), and 0.1 to 10 parts by mass of the thermal polymerization initiator (d). Printing master plate for laser engraving obtained by heat curing.
[2]
2. The printing original plate for laser engraving according to item 1, wherein the polyfunctional thiol compound (b) is a thioglycolic acid derivative and / or a mercaptopropionic acid derivative.
[3]
3. The printing original plate for laser engraving according to item 1 or 2, wherein the resin composition further comprises 1 to 300 parts by mass of a monomer (e) having a polymerizable unsaturated group and a number average molecular weight of 10,000 or less.
[4]
The printing original plate for laser engraving according to any one of the preceding items 1 to 3, wherein the resin composition further comprises 0.01 to 10 parts by mass of a stabilizer.
[5]
(A) The printing original plate for laser engraving as described in any one of 1 to 4 above, wherein the component has a urethane bond and / or an ester bond.
[6]
(D) The printing original plate for laser engraving as described in any one of 1 to 5 above, wherein the component is an organic peroxide.
[7]
8. The printing original plate for laser engraving as described in any one of 1 to 7 above, wherein the center line average roughness Ra of the surface of the printing original plate is from 0.01 μm to 0.4 μm.
[8]
A printing plate obtained by engraving the laser engraving printing original plate according to any one of the preceding items 1 to 7 with a laser having a wavelength of 2 μm or less.
[9]
Polyfunctional having two or more polymerizable functional groups in one molecule and at least one of the functional groups is a thiol group with respect to 100 parts by mass of the resin (a) having a number average molecular weight of 300 to 300,000 Resin composition for printing original plate containing 0.1 to 150 parts by mass of thiol compound (b), 1 to 100 parts by mass of laser absorber (c), and 0.1 to 10 parts by mass of thermal polymerization initiator (d). .
[10]
10. The resin composition for printing original plate as described in 9 above, wherein the resin composition further contains 1 to 300 parts by mass of a monomer (e) having a polymerizable unsaturated group and a number average molecular weight of 10,000 or less.
[11]
11. The resin composition for a printing original plate as described in 9 or 10 above, wherein the resin composition further comprises 0.01 to 10 parts by mass of a stabilizer.
[12]
(A) The resin composition for printing original plates as described in any one of 9 to 11 above, wherein the component has a urethane bond and / or an ester bond.
[13]
13. The resin composition for a printing original plate as described in any one of 9 to 12 above, wherein the component (d) is an organic peroxide.
[14]
Forming a resin layer by applying the resin composition according to any one of the preceding items 9 to 13 to a thickness of 50 μm or more and less than 7 mm on a cylindrical support, and molding into the cylindrical shape And a step of heating and curing the formed resin layer.
[15]
15. The method for producing a printing plate precursor for laser engraving according to 14 above, further comprising a step of adjusting the surface roughness after the step of heating and curing.
[16]
16. The method for producing a printing plate precursor for laser engraving according to item 15 above, wherein the step of adjusting the surface roughness includes at least one step selected from the group consisting of cutting, grinding, and polishing.
[17]
A method for producing a printing plate comprising a step of engraving the printing plate precursor for laser engraving according to any one of items 1 to 7 with a laser having an oscillation wavelength of 2 μm or less.
本発明によれば表面べとつきが少なく近赤外線レーザー彫刻による凹凸部形成が可能な印刷原版及び印刷版、およびそれらの製造に適した樹脂組成物を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a printing original plate and a printing plate that have less surface stickiness and can form an uneven portion by near infrared laser engraving, and a resin composition suitable for their production.
以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、本実施の形態)について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
[樹脂組成物]
本実施の形態の樹脂組成物は、数平均分子量が300〜30万である樹脂(a)、1分子中に重合性官能基を2個以上有し、かつ該官能基の少なくとも一つがチオール基である多官能チオール化合物(b)、レーザー吸収剤(c)、熱重合開始剤(d)の各成分を少なくとも1種類ずつ含有する。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as the present embodiment) will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement by changing variously within the range of the summary.
[Resin composition]
In the resin composition of the present embodiment, the resin (a) having a number average molecular weight of 300 to 300,000 has two or more polymerizable functional groups in one molecule, and at least one of the functional groups is a thiol group. At least one of each component of the polyfunctional thiol compound (b), the laser absorber (c), and the thermal polymerization initiator (d).
[樹脂(a)]
本実施の形態の樹脂(a)は、数平均分子量が300以上30万以下、好ましくは500以上20万以下、より好ましくは1000以上10万以下の樹脂である。印刷原版及び印刷板の強度が向上するため繰り返しの使用にも耐え得る傾向にある点から、数平均分子量が300以上である。一方、樹脂組成物の成形加工時の粘度が過度に上昇することがなく、熱重合開始反応が起こらない温度で円筒状に印刷体を容易に作製し得る傾向にある点から30万以下である。ここで言う数平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィーを用いて測定し、分子量既知のポリスチレンで検量し換算した値である。
[Resin (a)]
The resin (a) of the present embodiment is a resin having a number average molecular weight of 300 to 300,000, preferably 500 to 200,000, more preferably 1000 to 100,000. The number average molecular weight is 300 or more because the strength of the printing original plate and the printing plate is improved and it tends to withstand repeated use. On the other hand, the viscosity at the time of molding of the resin composition does not increase excessively, and is 300,000 or less because it tends to easily produce a printed body in a cylindrical shape at a temperature at which thermal polymerization initiation reaction does not occur. . The number average molecular weight referred to here is a value measured by gel permeation chromatography, calibrated with polystyrene having a known molecular weight, and converted.
また、樹脂(a)は、熱により硬化する場合、分子内に重合性不飽和基を有する必要はない場合もあるが、分子内に重合性不飽和基を有することが好ましい。1分子あたり平均で0.3個以上の重合性不飽和基を有しているのが好ましい。1分子あたり平均で0.3個以上の重合性不飽和基を有している場合、印刷原版及び印刷版の機械強度が向上し、耐久性も良好となる傾向にあり好ましい。また、印刷原版及び印刷版の機械強度を考慮すると、樹脂(a)中の重合性不飽和基の個数は1分子あたり0.5個以上がより好ましく、0.7個以上がさらに好ましい。硬化後の樹脂の機械的物性が向上すること、および重合性不飽和基を付与するプロセスが簡便である観点から、樹脂(a)中の重合性不飽和基の個数は1分子あたり2以下が好ましい。ここで「重合性不飽和基」とは、ラジカル重合反応又は付加重合反応に関与する重合性官能基を意味する。重合性不飽和基の位置は、高分子主鎖、高分子側鎖の末端あるいは高分子主鎖中や側鎖中に直接結合していることが好ましい。樹脂(a)1分子に含まれる重合性不飽和基の個数の平均は、核磁気共鳴スペクトル法(NMR法)による分子構造解析法で求めることができる。 In addition, when the resin (a) is cured by heat, it may not be necessary to have a polymerizable unsaturated group in the molecule, but it is preferable to have a polymerizable unsaturated group in the molecule. It is preferable to have 0.3 or more polymerizable unsaturated groups on an average per molecule. When it has an average of 0.3 or more polymerizable unsaturated groups per molecule, it is preferable because the mechanical strength of the printing original plate and the printing plate is improved and the durability tends to be good. In consideration of the mechanical strength of the printing original plate and the printing plate, the number of polymerizable unsaturated groups in the resin (a) is more preferably 0.5 or more, more preferably 0.7 or more per molecule. The number of polymerizable unsaturated groups in the resin (a) is 2 or less per molecule from the viewpoint of improving the mechanical properties of the cured resin and simplifying the process of adding polymerizable unsaturated groups. preferable. Here, the “polymerizable unsaturated group” means a polymerizable functional group involved in radical polymerization reaction or addition polymerization reaction. The position of the polymerizable unsaturated group is preferably directly bonded to the polymer main chain, the end of the polymer side chain, or the polymer main chain or side chain. The average number of polymerizable unsaturated groups contained in one molecule of the resin (a) can be determined by a molecular structure analysis method using a nuclear magnetic resonance spectrum method (NMR method).
樹脂(a)の具体的な例としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのポリジエン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロオレフィン類、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリアクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸エステル類、ポリ(メタ)アクリルアミド、ポリビニルエーテル等のC−C連鎖高分子の他、ポリフェニレンエーテル等のポリエーテル類、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリウレタン、ポリアミド、ポリウレア、ポリイミド等の主鎖にヘテロ原子を有する重合体等が挙げられる。樹脂(a)としては、1種若しくは2種以上の重合体を用いることができる。複数の重合体を用いる場合の形態としては共重合体とブレンドのどちらでもよい。 Specific examples of the resin (a) include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polydienes such as polybutadiene and polyisoprene, polyhaloolefins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polystyrene, polyacrylonitrile, and polyvinyl alcohol. In addition to C-C chain polymers such as polyvinyl acetate, polyvinyl acetal, polyacrylic acid, poly (meth) acrylic esters, poly (meth) acrylamide, and polyvinyl ether, polyethers such as polyphenylene ether, polyethylene terephthalate , Polymers having a hetero atom in the main chain, such as polycarbonate, polyacetal, polyurethane, polyamide, polyurea and polyimide. As the resin (a), one type or two or more types of polymers can be used. As a form in the case of using a plurality of polymers, either a copolymer or a blend may be used.
さらに、樹脂(a)は、分子内にカーボネート結合、ウレタン結合、又はエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも1種の結合を有しているのが好ましい。樹脂(a)が前記結合を有する場合、印刷で用いられる芳香族水素やエステル系溶剤に対する印刷版の耐性が向上する傾向にあるため好ましい。
樹脂(a)を製造する方法としては、特に限定されず、例えば、カーボネート結合、エステル結合を有し、かつ、水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、ケトン基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、環状カーボネート基、アルコキシカルボニル基等の反応性基を複数有する数千程度の分子量の化合物と、上記反応性基と結合し得る官能基を複数有する化合物(例えば、水酸基やアミノ基等を有するポリイソシアネート等)を反応させ、分子量の調節及び分子末端の結合性基への変換等を行った後、この末端結合性基と反応し得る官能基と重合性不飽和基を有する有機化合物とを反応させて末端に重合性不飽和基を導入する方法等を用いることができる。
Furthermore, the resin (a) preferably has at least one bond selected from the group consisting of a carbonate bond, a urethane bond, and an ester bond in the molecule. It is preferable that the resin (a) has the above bond because the printing plate has a tendency to improve resistance to aromatic hydrogen and ester solvents used in printing.
The method for producing the resin (a) is not particularly limited. For example, the resin (a) has a carbonate bond and an ester bond, and has a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, an acid anhydride group, a ketone group, and a hydrazine residue. A compound having a molecular weight of about several thousand having a plurality of reactive groups such as a group, an isocyanate group, an isothiocyanate group, a cyclic carbonate group, and an alkoxycarbonyl group, and a compound having a plurality of functional groups capable of binding to the reactive group (for example, A polyisocyanate having a hydroxyl group or an amino group, etc.), adjusting the molecular weight, converting the molecular end to a binding group at the molecular end, and the like, and then reacting with the functional group capable of reacting with this terminal binding group and polymerizable unsaturated For example, a method of introducing a polymerizable unsaturated group at the terminal by reacting with an organic compound having a group can be used.
樹脂(a)の製造に用いられるカーボネート結合を有する化合物としては、例えば、4,6−ポリアルキレンカーボネートジオール、8,9−ポリアルキレンカーボネートジオール、5,6−ポリアルキレンカーボネートジオール等の脂肪族ポリカーボネートジオール等を挙げることができる。また、芳香族系分子構造を分子内に有する脂肪族ポリカーボネートジオールを用いてもよい。これらの化合物の末端水酸基に、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物、トリフェニルメタントリイソシアネート、1−メチルベンゼン―2,4,6―トリイソシアネート、ナフタリン−1,3,7−トリイソシアネート、ビフェニル−2,4,4’−トリイソシアネート等のトリイソシアネート化合物を縮合反応させることにより、ウレタン結合を導入するとともに、高分子量化させることができる。さらに、末端の水酸基あるいはイソシアネート基を、重合性不飽和基を導入するために用いることもできる。 Examples of the compound having a carbonate bond used in the production of the resin (a) include aliphatic polycarbonates such as 4,6-polyalkylene carbonate diol, 8,9-polyalkylene carbonate diol, and 5,6-polyalkylene carbonate diol. A diol etc. can be mentioned. Moreover, you may use the aliphatic polycarbonate diol which has an aromatic type molecular structure in a molecule | numerator. The terminal hydroxyl groups of these compounds include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate, xylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, cyclohexylene. Diisocyanate compounds such as diisocyanate, lysine diisocyanate, triphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, 1-methylbenzene-2,4,6-triisocyanate, naphthalene-1,3,7-triisocyanate, biphenyl-2,4 , 4'-Triisocyanate, etc. By condensation reaction of the cyanate compound, together with introducing a urethane bond may be high molecular weight. Furthermore, a terminal hydroxyl group or isocyanate group can also be used for introducing a polymerizable unsaturated group.
樹脂(a)の製造に用いられるエステル結合を有する化合物としては、例えば、アジピン酸、フタル酸、マロン酸、コハク酸、イタコン酸、シュウ酸、グルタル酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼラン酸、セバシン酸、フマル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等のジカルボン酸化合物と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、ピコナール、シクロペンタンジオール、シクロヘキサンジオール等の分子内に2個以上の水酸基を有する化合物とを縮合反応させて得られるポリエステル類、ポリカプロラクトン等のポリエステル類等を挙げることができる。これらの化合物の末端水酸基あるいはカルボキシル基にジイソシアネート化合物を縮合反応させることにより、ウレタン結合を導入するとともに、高分子量化させることができる。さらに、末端の水酸基、カルボキシル基あるいはイソシアネート基を、重合性不飽和基を導入するために用いることもできる。
また、本実施の形態の樹脂(a)は、印刷原版の各種溶剤に対し卓越した耐溶剤性を発現させるために下記式(1)で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートジオールから製造されることができる。
Examples of the compound having an ester bond used in the production of the resin (a) include adipic acid, phthalic acid, malonic acid, succinic acid, itaconic acid, oxalic acid, glutaric acid, pimelic acid, speric acid, azelanic acid, and sebacin. Dicarboxylic acid compounds such as acid, fumaric acid, isophthalic acid, terephthalic acid and the like, ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, trimethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1 , 6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, piconal, cyclopentanediol, cyclohexanediol, etc. Has a hydroxyl group Polyesters obtained a compound with condensation reaction, polyesters such as polycaprolactone and the like. By subjecting a diisocyanate compound to a condensation reaction with the terminal hydroxyl group or carboxyl group of these compounds, a urethane bond can be introduced and the molecular weight can be increased. Furthermore, a terminal hydroxyl group, carboxyl group or isocyanate group can also be used for introducing a polymerizable unsaturated group.
In addition, the resin (a) of the present embodiment is manufactured from a polycarbonate diol composed of a repeating unit represented by the following formula (1) in order to develop excellent solvent resistance with respect to various solvents of the printing original plate. Can do.
(式中、R1は、炭素数2〜50の直鎖又は分岐した炭化水素基を表し、nは、2〜50の整数を表す。)
前記式(1)において、R1は、炭素数2〜50の直鎖又は分岐した炭化水素基を表す。R1は不飽和結合を含んでも構わない。R1の炭素数が2以上であることが、安定性及び耐溶剤性の観点から好ましい。R1の炭素数が50以下であることによりポリカーボネートジオールの工業的製造を良好に行うことができる。
前記式(1)において、R1は単一成分であっても複数の成分からなっても構わない。R1としては、下記式(2)
(CH2)x (2)
(式中、xは2〜50の整数を表す。)
で表されるポリメチレン基が好ましく、より好ましくは、xが2〜30のポリメチレン基である。
(In the formula, R1 represents a linear or branched hydrocarbon group having 2 to 50 carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 50.)
In the formula (1), R 1 represents a linear or branched hydrocarbon group having 2 to 50 carbon atoms. R 1 may contain an unsaturated bond. R1 preferably has 2 or more carbon atoms from the viewpoints of stability and solvent resistance. When the carbon number of R 1 is 50 or less, the industrial production of polycarbonate diol can be performed satisfactorily.
In the formula (1), R 1 may be a single component or a plurality of components. The R 1, the following formula (2)
(CH 2 ) x (2)
(In the formula, x represents an integer of 2 to 50.)
The polymethylene group represented by these is preferable, More preferably, x is a polymethylene group of 2-30.
前記式(1)において、nは、2〜50の整数を表す。nが2以上であることが、耐溶剤性の観点から好ましい。nが50以下であることが、耐溶剤性の観点から好ましく、ポリカーボネートジオールの工業的製造を良好に行うことができる。入手容易性や取り扱いの容易性の観点から、nのより好ましい範囲は2〜30であり、さらに好ましい範囲は2〜12である。
なお上記ポリカーボネートジオールは、前記式(1)に対応するジオール化合物であるHO−(R1−O)n−Hより、公知の方法(例えば、特公平5−29648号公報)などにより製造することが可能である。
前記ポリカーボネートジオールとしては特に制限されないが、下記式(3)で表される化合物がより好ましい。
In said Formula (1), n represents the integer of 2-50. It is preferable from the viewpoint of solvent resistance that n is 2 or more. n is preferably 50 or less from the viewpoint of solvent resistance, and the industrial production of polycarbonate diol can be carried out satisfactorily. From the viewpoint of availability and ease of handling, a more preferable range of n is 2 to 30, and a more preferable range is 2 to 12.
The polycarbonate diol is produced from HO— (R 1 —O) n—H, which is a diol compound corresponding to the formula (1), by a known method (for example, Japanese Patent Publication No. 5-29648). Is possible.
Although it does not restrict | limit especially as said polycarbonate diol, The compound represented by following formula (3) is more preferable.
(式中、R1は、各々独立して炭素数2〜50の直鎖及び/又は分岐した炭化水素基を表し、nは、各々独立して2〜50の整数を表し、aは、1以上の整数を表す。)
上記ポリカーボネートジオールを用いて樹脂(a)を製造する方法としては、末端水酸基と他の化合物との間で化学結合の形成を伴って製造される事が好ましい。化学結合の種類に特に制限はされないが、化学結合としては、ウレタン結合が好ましい。
樹脂(a)としては、上記ポリカーボネートジオールの末端水酸基が、ポリイソシアナート化合物、イソシアナトアルキルアクリレート及びイソシアナトアルキルメタクリレートなどのイソシアナート基を有する化合物など並びにヒドロキシアルキルアクリレート及びヒドロキシアルキルメタクリレートなどと化学結合を伴って製造されるポリマーであることが好ましく、アクリル基及びメタクリル基などの重合性不飽和基を有するポリマーであることが好ましい。
(In the formula, each R 1 independently represents a straight chain and / or branched hydrocarbon group having 2 to 50 carbon atoms, n represents each independently an integer of 2 to 50, and a represents 1 (It represents the integer above.)
As a method for producing the resin (a) using the polycarbonate diol, it is preferable to produce the resin (a) with formation of a chemical bond between the terminal hydroxyl group and another compound. The type of chemical bond is not particularly limited, but the chemical bond is preferably a urethane bond.
As the resin (a), the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol is chemically bonded to a polyisocyanate compound, a compound having an isocyanate group such as isocyanatoalkyl acrylate and isocyanatoalkyl methacrylate, and a hydroxyalkyl acrylate and hydroxyalkyl methacrylate. It is preferable that it is a polymer manufactured with, and it is preferable that it is a polymer which has polymerizable unsaturated groups, such as an acryl group and a methacryl group.
樹脂(a)の好ましい第1の例は、前記式(1)で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートジオールと、当該ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量未満のイソシアナート基当量のポリイソシアナート化合物と、がウレタン結合により重合し、前記重合しているポリカーボネートジオールの残存する末端水酸基と、イソシアナトアルキルアクリレート及び/又はイソシアナトアルキルメタクリレートと、がウレタン結合により結合しているポリマーが挙げられる。
前記第1の例の樹脂(a)は、前記ポリカーボネートジオールの末端水酸基を、当該ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量未満のイソシアナート基当量のポリイソシアナート化合物と、イソシアナトアルキルアクリレート及び/又はイソシアナトアルキルメタクリレートと、を反応させることにより製造される。
A preferred first example of the resin (a) is a polycarbonate diol composed of the repeating unit represented by the formula (1), and a polyisocyanate compound having an isocyanate group equivalent less than the equivalent of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol, Is a polymer in which the terminal hydroxyl group remaining in the polymerized polycarbonate diol and the isocyanatoalkyl acrylate and / or isocyanatoalkyl methacrylate are bonded by a urethane bond.
In the resin (a) of the first example, the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol is a polyisocyanate compound having an isocyanate group equivalent less than the equivalent of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol, and an isocyanate alkyl acrylate and / or an isocyanate. It is produced by reacting with alkyl methacrylate.
本実施の形態におけるポリイソシアナート化合物としては、1分子中にイソシアナート基を2個以上有する化合物であれば制限はないが、例えば、ジイソシアナート化合物を例示すると、芳香族ジイソシアナートとしては、ジフェニルメタンジイソシアナート、トリレンジイソシアナート、テトラメチルキシリレンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナート、ナフチレンジイソシアナート、トリジンジイソシアナート、p−フェニレンジイソシアナートなど;脂肪族又は脂環式ジイソシアナートとしては、ヘキサメチレンジイソシアナート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアナート、シクロヘキシレンジイソシアナート、水素化キシリレンジイソシアナートなどが挙げられる。トリイソシアナート化合物を例示すると、トリフェニルメタントリイソシアナート、トリ(イソシアナトフェニル)トリホスフェートなどが挙げられ、多官能ポリイソシアナート化合物を例示すると、ポリメリック(ジフェニルメタンジイソシアナート)などが挙げられる。印刷版又は印刷原版の耐溶剤性の観点から、ジイソシアナート化合物が好ましく、芳香族ジイソシアナートがより好ましく、トリレンジイソシアナートがさらに好ましい。 The polyisocyanate compound in the present embodiment is not limited as long as it is a compound having two or more isocyanate groups in one molecule. For example, when a diisocyanate compound is illustrated, as an aromatic diisocyanate, , Diphenylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthylene diisocyanate, tolidine diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, etc .; aliphatic or cycloaliphatic diisocyanate As hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate And the like. Examples of triisocyanate compounds include triphenylmethane triisocyanate and tri (isocyanatophenyl) triphosphate. Examples of polyfunctional polyisocyanate compounds include polymeric (diphenylmethane diisocyanate). From the viewpoint of solvent resistance of the printing plate or printing original plate, a diisocyanate compound is preferable, an aromatic diisocyanate is more preferable, and tolylene diisocyanate is more preferable.
ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量未満のイソシアナート基当量とは、ポリイソシアナート化合物のイソシアナート基の当量(mol)が、ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量(mol)未満であることを意味する。該イソシアナート基当量としては、ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量未満であれば制限はされないが、ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量の50〜95%当量であることが好ましく、60〜90%当量であることがより好ましい。
イソシアナトアルキルアクリレート及び/又はイソシアナトアルキルメタクリレートとしては、例えば、該アクリレート化合物中のアルキル部分が炭素数2〜10のアルキレン基などである化合物が好ましく、炭素数2又は3のアルキレン基などである化合物がより好ましい。イソシアナトアルキルアクリレート及び/又はイソシアナトアルキルメタクリレートの具体例としては、イソシアナトエチル(メタ)アクリレート、イソシアナトプロピル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
このようなポリマー(a)の中でも、下記式(4)で表されるポリマーが、極めて優れた耐溶剤性を示すことから好ましい。
The isocyanate group equivalent less than the equivalent of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol means that the equivalent (mol) of the isocyanate group of the polyisocyanate compound is less than the equivalent (mol) of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol. The isocyanate group equivalent is not limited as long as it is less than the equivalent of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol, but is preferably 50 to 95% equivalent of the equivalent of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol, and preferably 60 to 90% equivalent. It is more preferable.
As the isocyanatoalkyl acrylate and / or isocyanatoalkyl methacrylate, for example, a compound in which the alkyl portion in the acrylate compound is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms is preferable, and an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms is preferable. Compounds are more preferred. Specific examples of isocyanatoalkyl acrylate and / or isocyanatoalkyl methacrylate include isocyanatoethyl (meth) acrylate and isocyanatopropyl (meth) acrylate.
Among such polymers (a), a polymer represented by the following formula (4) is preferable because it exhibits extremely excellent solvent resistance.
(式中、Rpは、各々独立して、前記式(1)で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートジオールから両末端水酸基を除いた残基を表し、Rqは、ジイソシアナート化合物からイソシアナート基を除いた残基を表し、Rrは、イソシアナトアルキルアクリレート及び/又はイソシアナトアルキルメタクリレートのアルキル部分を表し、RS、RTは、各々独立して、メチル基又は水素原子を表し、Lは、1以上の整数を表す。)
樹脂(a)の好ましい第2の例は、前記式(1)で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートジオールと、当該ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量のポリイソシアナート化合物と、がウレタン結合により重合し、前記重合しているポリイソシアナート化合物の残存するイソシアナート基と、ヒドロキシアルキルアクリレート及び/又はヒドロキシアルキルメタクリレートと、がウレタン結合により結合しているポリマーが挙げられる。
前記第2の例の樹脂(a)は、前記ポリカーボネートジオールの末端水酸基を、当該ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量を超えるイソシアナート基当量のポリイソシアナート化合物と、ヒドロキシアルキルアクリレート及び/又はヒドロキシアルキルメタクリレートとを反応させることにより製造される。
(In the formula, each R p independently represents a residue obtained by removing both terminal hydroxyl groups from the polycarbonate diol composed of the repeating unit represented by the formula (1), and R q represents a diisocyanate compound to an isocyanate. Represents a residue excluding a nate group, R r represents an alkyl moiety of isocyanatoalkyl acrylate and / or isocyanatoalkyl methacrylate, and R S and R T each independently represents a methyl group or a hydrogen atom. , L represents an integer of 1 or more.)
A preferred second example of the resin (a) is that a polycarbonate diol composed of the repeating unit represented by the formula (1) and a polyisocyanate compound equivalent to the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol are polymerized by a urethane bond. And a polymer in which the remaining isocyanate group of the polymerized polyisocyanate compound and hydroxyalkyl acrylate and / or hydroxyalkyl methacrylate are bonded by a urethane bond.
The resin (a) of the second example includes a polyisocyanate compound having an isocyanate group equivalent of a terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol exceeding the equivalent of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol, and a hydroxyalkyl acrylate and / or a hydroxyalkyl methacrylate. It is manufactured by making it react.
本実施の形態におけるポリイソシアナート化合物としては、1分子中にイソシアナート基を2個以上有する化合物であれば制限はないが、例えば、ジイソシアナート化合物を例示すると、芳香族ジイソシアナートとしては、ジフェニルメタンジイソシアナート、トリレンジイソシアナート、テトラメチルキシリレンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナート、ナフチレンジイソシアナート、トリジンジイソシアナート、p−フェニレンジイソシアナートなど;脂肪族又は脂環式ジイソシアナートとしては、ヘキサメチレンジイソシアナート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアナート、シクロヘキシレンジイソシアナート、水素化キシリレンジイソシアナートなどが挙げられる。トリイソシアナート化合物を例示すると、トリフェニルメタントリイソシアナート、トリ(イソシアナトフェニル)トリホスフェートなどが挙げられ、多官能ポリイソシアナート化合物を例示すると、ポリメリック(ジフェニルメタンジイソシアナート)などが挙げられる。印刷版又は印刷原版の耐溶剤性の観点から、ジイソシアナート化合物が好ましく、芳香族ジイソシアナートがより好ましく、トリレンジイソシアナートがさらに好ましい。 The polyisocyanate compound in the present embodiment is not limited as long as it is a compound having two or more isocyanate groups in one molecule. For example, when a diisocyanate compound is illustrated, as an aromatic diisocyanate, , Diphenylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthylene diisocyanate, tolidine diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, etc .; aliphatic or cycloaliphatic diisocyanate As hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate And the like. Examples of triisocyanate compounds include triphenylmethane triisocyanate and tri (isocyanatophenyl) triphosphate. Examples of polyfunctional polyisocyanate compounds include polymeric (diphenylmethane diisocyanate). From the viewpoint of solvent resistance of the printing plate or printing original plate, a diisocyanate compound is preferable, an aromatic diisocyanate is more preferable, and tolylene diisocyanate is more preferable.
ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量を超えるイソシアナート基当量とは、ポリイソシアナート化合物のイソシアナート基の当量(mol)が、ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量(mol)を超えることを意味する。該イソシアナート基当量としては、ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量を超えていれば制限はされないが、ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量の105〜150%当量であることが好ましく、110〜140%当量であることがより好ましい。
ヒドロキシアルキルアクリレート及び/又はヒドロキシアルキルメタクリレートとしては、例えば、該アクリレート化合物中のアルキル部分が炭素数2〜10のアルキレン基などである化合物が好ましく、炭素数2又は3のアルキレン基などである化合物がより好ましい。ヒドロキシアルキルアクリレート及び/又はヒドロキシアルキルメタクリレートの具体例としては、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
このような樹脂(a)の中でも、下記式(5)で表されるポリマーが、極めて優れた耐溶剤性を示すことから好ましい。
The isocyanate group equivalent exceeding the equivalent of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol means that the equivalent (mol) of the isocyanate group of the polyisocyanate compound exceeds the equivalent (mol) of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol. The isocyanate group equivalent is not limited as long as it exceeds the equivalent of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol, but is preferably 105 to 150% equivalent of the equivalent of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol. More preferably.
As the hydroxyalkyl acrylate and / or hydroxyalkyl methacrylate, for example, a compound in which the alkyl moiety in the acrylate compound is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms is preferable, and a compound having an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms is preferable. More preferred. Specific examples of hydroxyalkyl acrylate and / or hydroxyalkyl methacrylate include hydroxyethyl (meth) acrylate and hydroxypropyl (meth) acrylate.
Among such resins (a), a polymer represented by the following formula (5) is preferable because it exhibits extremely excellent solvent resistance.
(式中、Rpは、各々独立して、前記式(1)で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートジオールから両末端水酸基を除いた残基を表し、Rqは、ジイソシアナート化合物からイソシアナート基を除いた残基を表し、Ruは、ヒドロキシアルキルアクリレート及び/又はヒドロキシアルキルメタクリレートのアルキル部分を表し、RS、RTは、各々独立して、メチル基又は水素原子を表し、mは、1以上の任意の整数を表す。)
前記式(4)及び式(5)において、Rr、Ruとしては、炭素数2〜10のアルキレン基が好ましく、より好ましくは、炭素数2〜5のアルキレン基であり、さらに好ましくは、エチレン基又はプロピレン基であり、よりさらに好ましくはエチレン基である。
(In the formula, each R p independently represents a residue obtained by removing both terminal hydroxyl groups from the polycarbonate diol composed of the repeating unit represented by the formula (1), and R q represents a diisocyanate compound to an isocyanate. Represents a residue excluding a nate group, R u represents an alkyl moiety of hydroxyalkyl acrylate and / or hydroxyalkyl methacrylate, R S and R T each independently represents a methyl group or a hydrogen atom, m Represents an arbitrary integer of 1 or more.)
In the formulas (4) and (5), R r and R u are preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and still more preferably It is an ethylene group or a propylene group, more preferably an ethylene group.
樹脂(a)の製造方法としては、特に制限はされないが、例えば、以下の方法などにより樹脂(a)を製造することができる。前記ポリカーボネートジオールと、該ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量未満のイソシアナート基当量のポリイソシアナート化合物と、ウレタン化触媒とを50〜90℃で1〜5時間反応させた後、イソシアナトアルキル(メタ)アクリレートとウレタン化触媒とを加え、50〜90℃で1〜5時間反応させることにより、樹脂(a)を製造することができる。
また、前記ポリカーボネートジオールと、該ポリカーボネートジオールの末端水酸基の当量を超えるイソシアナート基当量のポリイソシナネート化合物と、ウレタン化触媒とを50〜90℃で1〜5時間反応させた後、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとウレタン化触媒とを加え、50〜90℃で1〜5時間反応させることにより、樹脂(a)を製造することができる。
Although it does not restrict | limit especially as a manufacturing method of resin (a), For example, resin (a) can be manufactured with the following methods. The polycarbonate diol, a polyisocyanate compound having an isocyanate group equivalent less than the equivalent of the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol, and the urethanization catalyst are reacted at 50 to 90 ° C. for 1 to 5 hours. ) A resin (a) can be manufactured by adding an acrylate and a urethanization catalyst and making it react at 50-90 degreeC for 1 to 5 hours.
Moreover, after making the said polycarbonate diol, the isocyanate group equivalent polyisocyanate compound exceeding the equivalent of the terminal hydroxyl group of this polycarbonate diol, and a urethanization catalyst react at 50-90 degreeC for 1 to 5 hours, hydroxyalkyl Resin (a) can be manufactured by adding (meth) acrylate and a urethanization catalyst and making it react at 50-90 degreeC for 1 to 5 hours.
樹脂(a)は、ガラス転移温度が20℃以下の液状樹脂、より好ましくはガラス転移温度0℃以下の液状樹脂を含むことができる。そのような液状樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリブタジエン、水添ポリブタジエン、ポリイソプレン等の炭化水素鎖を有する化合物、アジペート、ポリカプロラクトン等のエステル結合を有するポリエステル化合物、脂肪族ポリカーボネート構造を有する化合物、ポリジメチルシロキサン骨格を有する化合物等が挙げられる。特に、耐候性の観点からポリカーボネート構造を有する不飽和ポリウレタン類がより好ましい。ここでいう液状樹脂とは、容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する高分子体を意味し、外力を加えたときに、その外力に応じて瞬時に変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するエラストマーに対応する用語である。 The resin (a) can contain a liquid resin having a glass transition temperature of 20 ° C. or lower, more preferably a liquid resin having a glass transition temperature of 0 ° C. or lower. Examples of such a liquid resin include compounds having a hydrocarbon chain such as polyethylene, polybutadiene, hydrogenated polybutadiene, and polyisoprene, polyester compounds having an ester bond such as adipate and polycaprolactone, compounds having an aliphatic polycarbonate structure, Examples thereof include compounds having a polydimethylsiloxane skeleton. In particular, unsaturated polyurethanes having a polycarbonate structure are more preferable from the viewpoint of weather resistance. Liquid resin here means a polymer that has the property of being easily deformed by flow and solidified into a deformed shape by cooling. When an external force is applied, the liquid resin is instantly deformed according to the external force. However, it is a term corresponding to an elastomer having the property of recovering its original shape in a short time when external force is removed.
[多官能チオール化合物(b)]
多官能チオール化合物(b)は1分子中に重合性官能基を2個以上有し、かつ該重合性官能基の少なくとも一つがチオール基である多官能チオール化合物である。本実施の形態において、重合性官能基とは水酸基、カルボキシル基、アミノ基、フェノール性水酸基、(メタ)アクリロイル基、チオール基、エポキシ基などの重合性官能基を意味する。
具体的な多官能チオール化合物(b)の形態としては特に制限されないが、例えばアルキル基にチオール基が結合した重合性官能基を2つ以上有する化合物、重合性官能基を2つ以上有するチオグリコール酸誘導体、および重合性官能基を2つ以上有するメルカプトプロピオン酸誘導体等が挙げられる。チオグリコール酸誘導体やメルカプトプロピオン酸誘導体は、任意のポリオールとチオグリコール酸やメルカプトプロピオン酸とのエステル化により、さまざまな構造の多官能チオール化合物が得られる。また、特に制限されないが、多官能チオール化合物(b)の価数(1分子あたりのチオール基の数)は表面硬化性の観点から2価以上が好ましく、3価以上がより好ましい。
[Polyfunctional thiol compound (b)]
The polyfunctional thiol compound (b) is a polyfunctional thiol compound having two or more polymerizable functional groups in one molecule and at least one of the polymerizable functional groups being a thiol group. In the present embodiment, the polymerizable functional group means a polymerizable functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a phenolic hydroxyl group, a (meth) acryloyl group, a thiol group, and an epoxy group.
The form of the specific polyfunctional thiol compound (b) is not particularly limited. For example, a compound having two or more polymerizable functional groups in which a thiol group is bonded to an alkyl group, or a thioglycol having two or more polymerizable functional groups Examples include acid derivatives and mercaptopropionic acid derivatives having two or more polymerizable functional groups. A thioglycolic acid derivative or a mercaptopropionic acid derivative is obtained by esterifying an arbitrary polyol with thioglycolic acid or mercaptopropionic acid to obtain polyfunctional thiol compounds having various structures. Further, although not particularly limited, the valence (number of thiol groups per molecule) of the polyfunctional thiol compound (b) is preferably 2 or more and more preferably 3 or more from the viewpoint of surface curability.
多官能チオール化合物(b)の分子量は、樹脂(a)との相溶性が良好であるという観点と、樹脂加工時の粘度が過度に上昇する事が無く円筒成形が容易であるという観点から、好ましくは1万以下、より好ましくは1000以下である。ここで言う分子量とは、分子構造式から計算した値である。
本発明に用いられる多官能チオール化合物(b)の具体例としては1分子中に官能基を2個以上有し、かつ該官能基の少なくとも一つがチオール基であれば特に制限はされないが、
チオグリコール酸、チオグリコール酸アンモニウム、チオグリコール酸モノエタノールアミン、3‐メルカプトプロピオン酸、メルカプトプロピオン酸メトキシブチル、チオリンゴ酸、2―メルカプトエタノ−ル、2−メルカプトプロピオン酸、チオジグリコ−ル、チオグリセロ−ル、2−アミノ−3−メルカプト−1−プロパノ−ル、4,6−ジアミノピリミジン−2−チオ−ル、2−アミノ−3−メルカプトプロピオン酸、4−アミノチオフェノ−ル、3−アミノ−N−(2−メルカプトエチル)プロピオンアミド、6−アミノ−2−チオウラシル、2−アミノ−4−クロロベンゼンチオ−ル、1−アミノ−2−メチル−2−メルカプトプロパン−1−カルボン酸、等の2個以上の重合性官能基を有し、かつ該重合性官能基の1つがチオール基である化合物、
The molecular weight of the polyfunctional thiol compound (b) is from the viewpoint that the compatibility with the resin (a) is good, and from the viewpoint that the viscosity at the time of resin processing does not increase excessively and cylindrical molding is easy. Preferably it is 10,000 or less, More preferably, it is 1000 or less. The molecular weight referred to here is a value calculated from the molecular structural formula.
A specific example of the polyfunctional thiol compound (b) used in the present invention is not particularly limited as long as it has two or more functional groups in one molecule and at least one of the functional groups is a thiol group.
Thioglycolic acid, ammonium thioglycolate, monoethanolamine thioglycolate, 3-mercaptopropionic acid, methoxybutyl mercaptopropionate, thiomalic acid, 2-mercaptoethanol, 2-mercaptopropionic acid, thiodiglycol, thioglycero- 2-amino-3-mercapto-1-propanol, 4,6-diaminopyrimidine-2-thiol, 2-amino-3-mercaptopropionic acid, 4-aminothiophenol, 3-amino -N- (2-mercaptoethyl) propionamide, 6-amino-2-thiouracil, 2-amino-4-chlorobenzenethiol, 1-amino-2-methyl-2-mercaptopropane-1-carboxylic acid, etc. Two or more polymerizable functional groups, and one of the polymerizable functional groups is thio Compound is a group,
1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,4−ブタンジチオール、2,3−ブタンジチオール、1,5−ペンタンジチオール、1,6−ヘキサンジチオール、1,8−オクタンジチオール、1,9−ノナンジチオール、2,3−ジメルカプト−1−プロパノール、ジチオエリスリトール、2,3−ジメルカプトサクシン酸、1,2−ベンゼンジチオール、1,2−ベンゼンジメタンチオール、1,3−ベンゼンジチオール、1,3−ベンゼンジメタンチオール、1,4−ベンゼンジメタンチオール、3,4−ジメルカプトトルエン、o−,m−あるいはp−キシレンジチオール、4−クロロ−1,3−ベンゼンジチオール、2,4,6−トリメチル−1,3−ベンゼンジメタンチオール、4,4’−チオジフェノール、2−ヘキシルアミノ−4,6−ジメルカプト−1,3,5−トリアジン、2−ジエチルアミノ−4,6−ジメルカプト−1,3,5−トリアジン、2−シクロヘキシルアミノ−4,6−ジメルカプト−1,3,5−トリアジン、2−ジ−n−ブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−1,3,5−トリアジン、エチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ヘキサンジオールビスチオグリコレート、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2,2’−(エチレンジチオ)ジエタンチオール、2,2−ビス(2−ヒドロキシ−3−メルカプトプロポキシフェニルプロパン)、1,4−ビス(3−メルカプトブチリルオキシ)ブタン、2−(ジメチルアミノ)−1,3−プロパンビスチオール、1,3−ジメルカプト−2−プロパノール、2,3−ジメルカプト−1−プロパノール、2,5−ジアミノ−1,4−ベンゼンジチオール、等の2個以上の重合性官能基を有し、かつ該重合性官能基の2個がチオール基である化合物、 1,2-ethanedithiol, 1,3-propanedithiol, 1,4-butanedithiol, 2,3-butanedithiol, 1,5-pentanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,8-octanedithiol, , 9-nonanedithiol, 2,3-dimercapto-1-propanol, dithioerythritol, 2,3-dimercaptosuccinic acid, 1,2-benzenedithiol, 1,2-benzenedimethanethiol, 1,3-benzenedithiol 1,3-benzenedimethanethiol, 1,4-benzenedimethanethiol, 3,4-dimercaptotoluene, o-, m- or p-xylenedithiol, 4-chloro-1,3-benzenedithiol, 2 , 4,6-trimethyl-1,3-benzenedimethanethiol, 4,4'-thiodiphenol, -Hexylamino-4,6-dimercapto-1,3,5-triazine, 2-diethylamino-4,6-dimercapto-1,3,5-triazine, 2-cyclohexylamino-4,6-dimercapto-1,3 , 5-triazine, 2-di-n-butylamino-4,6-dimercapto-1,3,5-triazine, ethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), butanediol bisthioglycolate, ethylene glycol bis Thioglycolate, ethylene glycol bisthiopropionate, butanediol bisthiopropionate, hexanediol bisthioglycolate, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2,2 ′-(ethylenedithio) Diethanethiol, 2,2-bis (2-hydroxy-3-mercapto (Ropoxyphenylpropane), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, 2- (dimethylamino) -1,3-propanebisthiol, 1,3-dimercapto-2-propanol, 2,3- A compound having two or more polymerizable functional groups such as dimercapto-1-propanol and 2,5-diamino-1,4-benzenedithiol, and two of the polymerizable functional groups being a thiol group,
1,2,6−ヘキサントリオールトリチオグリコレート、1,3,5−トリチオシアヌル酸、1,3,5−トリス(3−メルカブトブチルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリヒドロキシエチルトリイソシアヌール酸トリスチオプロピオネート、トリスー[(エチルー3−メルカプトプロピオニロキシ)−エチル]イソシアヌレート等の3個以上の重合性官能基を有し、かつ該重合性官能基の3個がチオール基である化合物、
ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ジペンタエリスリトールヘキサキスー3−メルカプトプロピオネート等の4個以上の重合性官能基を有し、かつ該重合性官能基の4個以上がチオール基である化合物等が挙げられるがこの限りではない。
1,2,6-hexanetriol trithioglycolate, 1,3,5-trithiocyanuric acid, 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4 , 6, trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), trimethylolpropane tristhioglycolate, trimethylolpropane tristhiopropionate, trihydroxyethyl triisocyanuric acid tristhiopropionate, tris [ 3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] isocyanurate and other compounds having three or more polymerizable functional groups, and three of the polymerizable functional groups are thiol groups,
Four or more polymerizable functional groups such as pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakisthioglycolate, dipentaerythritol hexakis-3-mercaptopropionate Examples thereof include, but are not limited to, compounds having a group and four or more of the polymerizable functional groups being a thiol group.
これらの多官能チオール化合物(b)には、市販のものとして、エチレングリコールビスチオプロピオネート(EGTG)(商標)、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート(TMTG)(商標)、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート(PETG)(商標)(いずれも淀化学株式会社製)、や
1,4−ビス(3−メルカプトブチリルオキシ)ブタン(カレンズMT BD1)(商標)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)(カレンズMT PE1)(商標)、1,3,5−トリス(3−メルカブトブチルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン(カレンズMT NR1)(商標)(いずれも昭和電工株式会社製)や、
トリメチロールプロパントリスー3−メルカプトプロピオネート(TMMP)(商標)、ペンタエリスリトールテトラキスー3−メルカプトプロピオネート(PEMP)(商標)、ジペンタエリスリトールヘキサキスー3−メルカプトプロピオネート(DPMP)(商標)、トリスー[(エチルー3−メルカプトプロピオニロキシ)−エチル]イソシアヌレート(TEMPIC)(商標)(いずれも堺化学工業株式会社製)等があるが、本発明の多官能チオール化合物(b)が限定される訳ではない。
These polyfunctional thiol compounds (b) include commercially available ethylene glycol bisthiopropionate (EGTG) (trademark), trimethylolpropane tristhiopropionate (TMTG) (trademark), pentaerythritol tetrakisthiol. Propionate (PETG) (trademark) (all manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane (Karenz MT BD1) (trademark), pentaerythritol tetrakis (3-mercapto Butyrate) (Karenz MT PE1) (trademark), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H)- Trion (Karenzu MT NR1) (trademark) (both made by Showa Denko KK)
Trimethylolpropane tris-3-mercaptopropionate (TMMP) (trademark), pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate (PEMP) (trademark), dipentaerythritol hexakis-3-mercaptopropionate (DPMP) ( Trademark), tris-[(ethyl-3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] isocyanurate (TEMPIC) (trademark) (both manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), etc., but the polyfunctional thiol compound (b) of the present invention Is not limited.
多官能チオール化合物(b)の含有量としては、樹脂(a)100質量部に対して0.1質量部以上、150質量部以下、好ましくは0.2質量部以上、100質量部以下、とりわけ好ましくは、0.5質量部以上、50質量部以下が好ましい。
多官能チオール化合物(b)が0.1質量部以上であると、表面硬化性に優れ、表面タックの少ない樹脂硬化物が得られる傾向にあり、100質量部以下であると、貯蔵安定性の良好な樹脂組成物が得られる傾向にある。
The content of the polyfunctional thiol compound (b) is 0.1 parts by mass or more and 150 parts by mass or less, preferably 0.2 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, particularly 100 parts by mass of the resin (a). Preferably, 0.5 part by mass or more and 50 parts by mass or less are preferable.
When the polyfunctional thiol compound (b) is 0.1 part by mass or more, a cured resin product having excellent surface curability and less surface tack tends to be obtained, and when it is 100 parts by mass or less, storage stability is obtained. A good resin composition tends to be obtained.
[レーザー吸収剤(c)]
本実施の形態の樹脂組成物は、レーザー吸収剤(c)を含有する。一般に、有機化合物は近赤外線領域にレーザー波長に対応する吸収度が低い。そのため、近赤外線領域に波長を持つレーザーで印刷用原版を作製するには、レーザーの波長領域に吸収を持つレーザー吸収剤が必要になる。レーザー吸収剤としては、その波長領域に吸収を持つものであれば特に制限されないが、好適な例として、遠赤外スペクトル領域において強力に吸収する染料、例えばフタロシアニン、ナフタロシアニン、シアニン、キノン、金属錯体染料、例えばジチオレン、またはホトクロミック染料である。また、別の好適なレーザー吸収剤としては、無機顔料、特に濃く着色された無機顔料、例えば酸化クロム、酸化鉄、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、フラーレンなどの炭素材料、または金属粒子である。レーザーに対する吸光度、取り扱い製の容易さなどからレーザー吸収剤として、特にカーボンブラックが好ましい。また、カーボンブラックがレーザーの彫刻時における彫刻閾値を下げる事は、例えば特許文献GB2071574Aなどに記載されている。
[Laser Absorber (c)]
The resin composition of the present embodiment contains a laser absorber (c). In general, an organic compound has a low absorbance corresponding to a laser wavelength in the near infrared region. Therefore, in order to produce a printing original plate with a laser having a wavelength in the near infrared region, a laser absorbent having absorption in the laser wavelength region is required. The laser absorber is not particularly limited as long as it has absorption in the wavelength region, but preferable examples include dyes that absorb strongly in the far infrared spectral region, such as phthalocyanine, naphthalocyanine, cyanine, quinone, metal Complex dyes such as dithiolenes or photochromic dyes. Another suitable laser absorber is an inorganic pigment, particularly a darkly colored inorganic pigment, for example, a carbon material such as chromium oxide, iron oxide, carbon black, carbon nanotube, fullerene, or metal particles. Carbon black is particularly preferred as a laser absorber because of its light absorbency to laser and ease of handling. Moreover, it is described in patent document GB2071574A etc. that carbon black reduces the engraving threshold value at the time of laser engraving.
カーボンブラック(c)の平均1次粒径は、好ましくは45nm〜70nm、より好ましくは45nm〜68nmである。樹脂組成物中の分散性の観点から45nm以上であり、高解像度なレーザー彫刻という観点から70nm以下である。また、カーボンブラック(c)のDBP吸油量は、好ましくは45mL/100gより大きく、150mL/100g未満であり、より好ましくは45mL/100gより大きく、130mL/100g未満である。樹脂中の分散性の観点から50mL/100g以上であり、高解像度なレーザー彫刻という観点から130mL/100g以下である。
カーボンブラックのpHとしては、分散性の観点から好ましくは5以下、より好ましくは4以下である。pHを当該範囲に設定することは、カーボンブラックの凝集をより低減させ、カーボンブラックの配合量が少量でもレーザー光を効率良く吸収可能であり且つ光硬化も容易な印刷原版を実現させる観点からより好適である。
The average primary particle size of carbon black (c) is preferably 45 nm to 70 nm, more preferably 45 nm to 68 nm. It is 45 nm or more from the viewpoint of dispersibility in the resin composition, and is 70 nm or less from the viewpoint of high-resolution laser engraving. The DBP oil absorption of carbon black (c) is preferably greater than 45 mL / 100 g and less than 150 mL / 100 g, more preferably greater than 45 mL / 100 g and less than 130 mL / 100 g. From the viewpoint of dispersibility in the resin, it is 50 mL / 100 g or more, and from the viewpoint of high-resolution laser engraving, it is 130 mL / 100 g or less.
The pH of the carbon black is preferably 5 or less, more preferably 4 or less from the viewpoint of dispersibility. Setting the pH within the above range is more from the viewpoint of realizing a printing original plate that can further reduce the aggregation of carbon black, can efficiently absorb laser light even with a small amount of carbon black, and can be easily photocured. Is preferred.
なお、本実施の形態における「平均1次粒径」、「DBP吸油量」、「pH」は、後述の実施例における測定法に準じて測定できる。
本実施の形態の樹脂組成物において、前記(c)成分の含有量は特に制限されないが、樹脂(a)100質量部に対して、1質量部以上、100質量部以下が好ましく、より好ましくは、3質量部以上80質量部以下、更に好ましくは5質量部以上、60質量部以下である。レーザー彫刻性の観点から1質量部以上が好ましい。印刷原版の製造効率の観点から100質量部以下が好ましい。このとき、前記(c)成分は単独で用いても良いし、2種類以上を添加しても良い。
The “average primary particle size”, “DBP oil absorption”, and “pH” in the present embodiment can be measured according to the measurement methods in the examples described later.
In the resin composition of the present embodiment, the content of the component (c) is not particularly limited, but is preferably 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass of the resin (a). 3 parts by mass or more and 80 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or more and 60 parts by mass or less. 1 mass part or more is preferable from a viewpoint of laser engraving property. From the viewpoint of production efficiency of the printing original plate, 100 parts by mass or less is preferable. At this time, the component (c) may be used alone or in combination of two or more.
[熱重合開始剤(d)]
本実施の形態において、レーザー彫刻用印刷原版を得るために、樹脂組成物からなる樹脂層に含まれる熱重合開始剤(d)によって該樹脂層を熱硬化する。樹脂組成物中の熱重合開始剤(d)の含有量は特に制限されないが、樹脂(a)100質量部に対し、0.1質量部以上、10質量部以下が好ましく、より好ましくは0.3質量部以上、5質量部以下、更に好ましくは0.5質量部以上、5質量部以下である。熱重合開始剤(d)の含有率が上記範囲であれば、樹脂組成物を十分に硬化させることができ、機械的強度の優れた熱硬化物を形成する事が可能となる。
成形加工時の温度幅を広く保つという観点から熱重合開始剤(d)の熱安定性は高いことが好ましい。熱重合開始剤(d)の熱安定性は、通常、10時間半減期の温度10h−t1/2の方法によって、即ち、熱重合開始剤(d)の当初の量の50%が、10時間後に分解してフリーラジカルを形成する温度で示される。これに関する更なる詳細については、「Encyclopedia of Polymer Science and Engineering」,11巻、1頁以降、John Wiley & Sons,ニューヨーク,1988年、に示されている。
特に好適な熱重合開始剤(d)は、通常、好ましくは少なくとも60℃、より好ましくは少なくとも70℃の10h−t1/2を有する。特に好ましくは80℃〜150℃の10h−t1/2である。
[Thermal polymerization initiator (d)]
In the present embodiment, in order to obtain a printing original plate for laser engraving, the resin layer is thermally cured by a thermal polymerization initiator (d) contained in the resin layer made of the resin composition. Although content in particular of the thermal-polymerization initiator (d) in a resin composition is not restrict | limited, 0.1 mass part or more and 10 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of resin (a), More preferably, it is 0.00. 3 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, more preferably 0.5 parts by mass or more and 5 parts by mass or less. If the content rate of a thermal-polymerization initiator (d) is the said range, a resin composition can fully be hardened and it becomes possible to form the thermosetting material excellent in mechanical strength.
From the viewpoint of keeping a wide temperature range during the molding process, the thermal polymerization initiator (d) preferably has high thermal stability. The thermal stability of the thermal polymerization initiator (d) is usually determined by the method with a 10 hour half-life temperature of 10 h-t1 / 2, ie 50% of the initial amount of thermal polymerization initiator (d) is 10 hours. It is the temperature at which it later decomposes to form free radicals. Further details on this are given in “Encyclopedia of Polymer Science and Engineering”, Vol. 11, page 1 onwards, John Wiley & Sons, New York, 1988.
Particularly suitable thermal polymerization initiators (d) usually have a 10 h-t1 / 2 of preferably at least 60 ° C., more preferably at least 70 ° C. Especially preferably, it is 10 h-t1 / 2 of 80 to 150 degreeC.
熱重合開始剤(d)としては、熱硬化性の観点および樹脂組成物との相溶性の観点から有機過酸化物が特に好ましい。化合物の具体例としては、モノパーオキシカーボネート類、例えば、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、パーオキシエステル類、例えば、過オクタン酸t−ブチル、過オクタン酸t−アミル、パーオキシイソ酪酸t−ブチル、パーオキシマレイン酸t−ブチル、過安息香酸t−アミル、ジパーオキシフタール酸ジ−t−ブチル、過安息香酸t−ブチル、過酢酸t−ブチル及び2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)−2,5−ジメチルヘキサン、ある種のジパーオキシケタール、例えば、1,1−ジ(t−アミルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)パーシクロヘキサン、2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン及びエチル3,3−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブチレート、ある種のジアルキルパーオキシド、例えば、ジ−t−ブチルパーオキシド、t−ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキシド及び2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)−2,5−ジメチルヘキサン、ある種のジアシルパーオキシド、例えば、ジベンゾイルパーオキシド及びジアセチルパーオキシド、ある種のt−アルキルヒドロパーオキシド、例えばt−ブチルヒドロパーオキシド、t−アミルヒドロパーオキシド、ピナンヒドロパーオキシド及びクミルヒドロパーオキシドである。また、気泡を含有させるクッション層を形成する際に好ましいものとして、アゾ化合物を挙げることができる。例えば、1−(t−ブチルアゾ)ホルムアミド、2−(t−ブチルアゾ)イソブチロニトリル、1−(t−ブチルアゾ)シクロヘキサンカルボニトリル、2−(t−ブチルアゾ)−2−メチルブタンニトリル、2,2’−アゾビス(2−アセトキシプロパン)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)及び2,2’−アゾビス(2−メチルブタンニトリル)等の化合物である。 As the thermal polymerization initiator (d), an organic peroxide is particularly preferable from the viewpoint of thermosetting and compatibility with the resin composition. Specific examples of the compound include monoperoxycarbonates such as t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, peroxyesters such as t-butyl peroctanoate, t-amyl peroctanoate, and peroxyisobutyric acid. t-butyl, t-butyl peroxymaleate, t-amyl perbenzoate, di-t-butyl diperoxyphthalate, t-butyl perbenzoate, t-butyl peracetate and 2,5-di ( Benzoylperoxy) -2,5-dimethylhexane, certain diperoxyketals such as 1,1-di (t-amylperoxy) cyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) percyclohexane, 2,2-di (t-butylperoxy) butane and ethyl , 3-di (t-butylperoxy) butyrate, certain dialkyl peroxides such as di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide and 2,5-di (t- Butylperoxy) -2,5-dimethylhexane, certain diacyl peroxides, such as dibenzoyl peroxide and diacetyl peroxide, certain t-alkyl hydroperoxides, such as t-butyl hydroperoxide, t- Amyl hydroperoxide, pinane hydroperoxide and cumyl hydroperoxide. Moreover, an azo compound can be mentioned as a preferable thing when forming the cushion layer containing a bubble. For example, 1- (t-butylazo) formamide, 2- (t-butylazo) isobutyronitrile, 1- (t-butylazo) cyclohexanecarbonitrile, 2- (t-butylazo) -2-methylbutanenitrile, 2, 2'-azobis (2-acetoxypropane), 1,1'-azobis (cyclohexanecarbonitrile), 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2-methylbutanenitrile), etc. It is a compound of this.
[単量体(e)]
本実施の形態の樹脂組成物は樹脂組成物の粘度や印刷原版の硬度を調整する観点から、重合性不飽和基を有し、数平均分子量が1万未満の単量体(e)を含んでも良い。樹脂組成物が単量体(e)を含有する場合、単量体(e)は1種類であっても良いし、2種類以上を併用しても良い。樹脂(a)との希釈のし易さから数平均分子量は1万未満が好ましく、更に好ましくは数平均分子量が5000未満、とりわけ好ましくは2000未満であり、低揮発性など取扱いの観点から100以上が好ましい。重合性不飽和基の定義は、樹脂(a)の箇所でも記載したように、ラジカル又は付加重合反応に関与する重合性不飽和基である。
[Monomer (e)]
The resin composition of the present embodiment includes a monomer (e) having a polymerizable unsaturated group and a number average molecular weight of less than 10,000 from the viewpoint of adjusting the viscosity of the resin composition and the hardness of the printing original plate. But it ’s okay. When the resin composition contains the monomer (e), the monomer (e) may be one type, or two or more types may be used in combination. For ease of dilution with the resin (a), the number average molecular weight is preferably less than 10,000, more preferably the number average molecular weight is less than 5000, particularly preferably less than 2000, and is 100 or more from the viewpoint of handling such as low volatility. Is preferred. The definition of a polymerizable unsaturated group is a polymerizable unsaturated group that participates in a radical or addition polymerization reaction as described in the section of the resin (a).
単量体(e)は、重合性不飽和基を有する数平均分子量が1万未満の(a)とは異なる単量体(e)である。樹脂(a)との希釈のし易さから単量体(e)の数平均分子量は1万未満であり、好ましくは数平均分子量が5000未満、さらに好ましくは2000未満である。また、低揮発性など取り扱いの観点から100以上が好ましい。重合性不飽和基の定義は、樹脂(a)の箇所でも記載したように、ラジカル又は付加重合反応に関与する重合性不飽和基である。
単量体(e)の含有量(2種類以上を併用する場合はその合計の含有量)は、樹脂(a)100質量部に対して1質量部以上、300質量部以下が好ましく、より好ましくは5質量部以上250質量部以下、さらに好ましくは10質量部以上、200質量部以下である。単量体(e)の含有量が1質量部以上であると、樹脂硬化物が十分な機械的強度が得られる傾向にあるため好ましく、300質量部以下であると、樹脂硬化物の硬化収縮が低減される傾向にあるため好ましい。
The monomer (e) is a monomer (e) different from (a) having a polymerizable unsaturated group and a number average molecular weight of less than 10,000. In view of ease of dilution with the resin (a), the number average molecular weight of the monomer (e) is less than 10,000, preferably the number average molecular weight is less than 5000, and more preferably less than 2000. Moreover, 100 or more are preferable from a viewpoint of handling, such as low volatility. The definition of a polymerizable unsaturated group is a polymerizable unsaturated group that participates in a radical or addition polymerization reaction as described in the section of the resin (a).
The content of the monomer (e) (the total content when two or more types are used in combination) is preferably 1 part by mass or more and 300 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass of the resin (a). Is 5 parts by weight or more and 250 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or more and 200 parts by weight or less. When the content of the monomer (e) is 1 part by mass or more, the resin cured product tends to provide sufficient mechanical strength, and when it is 300 parts by mass or less, the curing shrinkage of the resin cured product Is preferable because it tends to be reduced.
単量体(e)の具体例としては、ラジカル反応性化合物として、エチレン、プロピレン、スチレン、ジビニルベンゼン等のオレフィン類、アセチレン類、(メタ)アクリル酸及びその誘導体、ハロオレフィン類、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類、(メタ)アクリルアミド及びその誘導体、アリールアルコール、アリールイソシアネート等のアリール化合物、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸及びその誘導体、酢酸ビニル類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール等が挙げられる。その種類の豊富さ、価格、レーザー光照射時の分解性等の観点から(メタ)アクリル酸及びその誘導体が好ましい例である。該誘導体として、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、シクロアルケン基、ビシクロアルケン基などを有する脂環族化合物、ベンジル基、フェニル基、フェノキシ基、フルオレン基などを有する芳香族化合物、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、グリシジル基等を有する化合物、アルキレングリコール、トリメチロールプロパン等の多価アルコールとのエステル化合物などが挙げられる。具体的な誘導体例としては、また、印刷版の強度、レーザー照射時の分解性等の観点から、(メタ)アクリロイル基を有し、更に芳香族を有する事が好ましい。例えば、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、などが挙げられる。 Specific examples of the monomer (e) include radical reactive compounds such as olefins such as ethylene, propylene, styrene and divinylbenzene, acetylenes, (meth) acrylic acid and derivatives thereof, haloolefins, acrylonitrile and the like. Unsaturated nitriles, (meth) acrylamide and derivatives thereof, aryl compounds such as aryl alcohol and aryl isocyanate, unsaturated dicarboxylic acids such as maleic anhydride, maleic acid and fumaric acid and derivatives thereof, vinyl acetates, N-vinylpyrrolidone , N-vinylcarbazole and the like. (Meth) acrylic acid and its derivatives are preferable examples from the viewpoints of the abundance of the kind, price, decomposability upon laser light irradiation, and the like. Examples of the derivatives include alicyclic compounds having a cycloalkyl group, a bicycloalkyl group, a cycloalkene group, a bicycloalkene group, an aromatic compound having a benzyl group, a phenyl group, a phenoxy group, a fluorene group, an alkyl group, and a halogenated group. Examples thereof include compounds having an alkyl group, alkoxyalkyl group, hydroxyalkyl group, aminoalkyl group, glycidyl group, and the like, and ester compounds with polyhydric alcohols such as alkylene glycol and trimethylolpropane. Specific examples of the derivatives preferably have a (meth) acryloyl group and further an aromatic group from the viewpoint of the strength of the printing plate, the decomposability upon laser irradiation, and the like. Examples thereof include phenoxyethyl acrylate and phenoxyethyl methacrylate.
また、単量体(e)としての、付加重合反応するエポキシ基を有する化合物としては、種々のジオールやトリオールなどのポリオールにエピクロルヒドリンを反応させて得られる化合物、分子中のエチレン結合に過酸を反応させて得られるエポキシ化合物などを挙げることができる。具体的には、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールAにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドが付加した化合物のジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物を挙げることができる。 In addition, as the compound having an epoxy group that undergoes addition polymerization reaction as the monomer (e), compounds obtained by reacting various diols and polyols such as triol with epichlorohydrin, and peracids in the ethylene bonds in the molecule. An epoxy compound obtained by reacting can be mentioned. Specifically, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, tetraethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol A with ethylene oxide or propylene oxide Epoxy compounds of added compounds such as diglycidyl ether It can be mentioned.
重合性不飽和基を有する単量体(e)は、印刷インキの溶剤である芳香族炭化水素やエステル等の有機溶剤に対する耐溶剤性の観点から、長鎖脂肪族の誘導体、脂環族の誘導体及び芳香族の誘導体からなる群より選ばれる少なくとも1種類以上の誘導体有することが好ましい。
単量体(e)は、耐溶剤性の観点から、分子鎖中にカーボネート結合、エステル結合、エーテル結合からなる群から選ばれる少なくとも1種類の結合を有するか、及び/又は脂肪族飽和炭化水素鎖、及び脂肪族不飽和炭化水素鎖からなる群から選ばれる少なくとも1種類の分子鎖を有し、かつウレタン結合を有する化合物であることが、好ましい。
The monomer (e) having a polymerizable unsaturated group is a long-chain aliphatic derivative or alicyclic group from the viewpoint of solvent resistance to an organic solvent such as an aromatic hydrocarbon or an ester which is a solvent for printing ink. It is preferable to have at least one derivative selected from the group consisting of derivatives and aromatic derivatives.
The monomer (e) has at least one bond selected from the group consisting of a carbonate bond, an ester bond and an ether bond in the molecular chain and / or an aliphatic saturated hydrocarbon from the viewpoint of solvent resistance. A compound having at least one molecular chain selected from the group consisting of a chain and an aliphatic unsaturated hydrocarbon chain and having a urethane bond is preferable.
[微粒子]
本実施の形態の樹脂組成物には、更に、無機系微粒子、有機系微粒子、有機無機複合微粒子等の微粒子を添加することができる。これらの微粒子を添加することにより熱硬化させて得られる樹脂硬化物の機械的物性の向上、樹脂硬化物表面の濡れ性改善、あるいは樹脂組成物の粘度の調整、樹脂硬化物の粘弾性特性の調整等が可能となる。無機系微粒子あるいは有機系微粒子の材質は特に限定するものではなく、公知のものを用いることができる。また、有機無機複合微粒子として、無機系微粒子の表面に有機物層あるいは有機系微粒子を形成した微粒子、あるいは有機系微粒子表面に無機物層あるいは無機微粒子を形成した微粒子等をあげることができる。
[Fine particles]
Further, fine particles such as inorganic fine particles, organic fine particles, and organic-inorganic composite fine particles can be added to the resin composition of the present embodiment. Addition of these fine particles improves the mechanical properties of the cured resin obtained by thermosetting, improves the wettability of the surface of the cured resin, or adjusts the viscosity of the resin composition, and improves the viscoelastic properties of the cured resin. Adjustment and the like are possible. The material of the inorganic fine particles or organic fine particles is not particularly limited, and known materials can be used. Examples of the organic / inorganic composite fine particles include fine particles in which an organic layer or organic fine particles are formed on the surface of inorganic fine particles, or fine particles in which an inorganic layer or inorganic fine particles are formed on the surface of organic fine particles.
樹脂硬化物の機械的物性を向上させる目的では、窒化珪素、窒化ホウ素、炭化珪素等の剛性の高い無機系微粒子あるいはポリイミド等の有機系微粒子を用いることができる。更に、得られた樹脂硬化物の耐溶剤特性を向上させる目的で、無機系微粒子や、使用する溶剤への膨潤特性の良好な材質で形成された有機系微粒子を添加することもできる。
また、レーザー彫刻法により樹脂硬化物層表面あるいは樹脂硬化物を貫通したパターンを形成する目的のために、レーザー彫刻時に発生する粘稠性液状残渣の吸着除去特性に優れる数平均粒子径が5nm以上10μm以下の多孔質微粒子、あるいは1次粒子の数平均粒子径が5nm以上100nm以下の無孔質微粒子を添加しても構わない。特に限定するものではないが、例えば、多孔質シリカ、メソポーラスシリカ、シリカ−ジルコニア多孔質ゲル、ポーラスアルミナ、多孔質ガラス等を挙げることができる。
For the purpose of improving the mechanical properties of the cured resin, inorganic fine particles having high rigidity such as silicon nitride, boron nitride, and silicon carbide, or organic fine particles such as polyimide can be used. Further, for the purpose of improving the solvent resistance of the obtained resin cured product, inorganic fine particles and organic fine particles formed of a material having a good swelling property in the solvent to be used can be added.
In addition, for the purpose of forming a pattern that penetrates the surface of the cured resin layer or the cured resin by the laser engraving method, the number average particle diameter that is excellent in the adsorption removal property of the viscous liquid residue generated at the time of laser engraving is 5 nm or more. You may add the porous fine particle of 10 micrometers or less, or the nonporous fine particle whose number average particle diameter of a primary particle is 5 nm or more and 100 nm or less. Although not particularly limited, for example, porous silica, mesoporous silica, silica-zirconia porous gel, porous alumina, porous glass and the like can be mentioned.
微粒子の粒子形状は特に限定するものではなく、球状、扁平状、針状、無定形、あるいは表面に突起のある粒子などを使用することができる。特に耐磨耗性の観点からは、球状粒子が好ましい。
また、微粒子の表面をシランカップリング剤、チタンカップリング剤、その他の単量体(e)で被覆し表面改質処理を行い、より親水性化あるいは疎水性化した粒子を用いることもできる。これらの微粒子は1種類もしくは2種類以上のものを選択できる。
樹脂組成物に微粒子を用いる場合特に限定されないが、樹脂(a)100質量部に対して、1〜100質量部が好ましく、2〜50質量部の範囲がより好ましい。更に好ましい範囲は、2〜20質量部である。
The particle shape of the fine particles is not particularly limited, and spherical, flat, needle-like, amorphous, or particles having protrusions on the surface can be used. In particular, spherical particles are preferable from the viewpoint of wear resistance.
Further, the surface of the fine particles can be coated with a silane coupling agent, a titanium coupling agent, or other monomer (e) and subjected to a surface modification treatment to make the particles more hydrophilic or hydrophobic. These fine particles can be selected from one type or two or more types.
Although it does not specifically limit when using microparticles | fine-particles for a resin composition, 1-100 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of resin (a), and the range of 2-50 mass parts is more preferable. A more preferable range is 2 to 20 parts by mass.
[安定剤]
本実施の形態の樹脂組成物には安定剤として、樹脂材料又はゴム材料の分野において通常使用されるものを添加することができる。その具体例としては、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤等を挙げることができる。
フェノール系酸化防止剤の具体例としては、ビタミンE、テトラキス−(メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)メタン、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、4,4’−チオビス−(6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、4,4’−チオビス−(6−t−ブチルフェノール)、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス〔3‐(3,5−ジ−t−ブチル−4‐ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,6−ジ−(t−ブチル)−4−メチルフェノール、2,2’−メチレンビス−(6−t−ブチル−p−クレゾール)、1,3,5−トリス(3,5−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)−トリオン、2,6−ジ−t−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)フェノール等を挙げることができる。
[Stabilizer]
As the stabilizer, those usually used in the field of resin materials or rubber materials can be added to the resin composition of the present embodiment. Specific examples thereof include phenolic antioxidants and phosphite antioxidants.
Specific examples of phenolic antioxidants include vitamin E, tetrakis- (methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate) methane, 2,5-di- t-butylhydroquinone, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4'-thiobis- (6-t-butylphenol), 2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6 t-butylphenol), octadecyl-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate, 4,4′-thiobis- (6-t-butylphenol), 2-t-butyl -6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, pentaerythritol tetrakis (3-laurylthiopropionate), pentae Thritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,6-di- (t-butyl) -4-methylphenol, 2,2′-methylenebis- ( 6-t-butyl-p-cresol), 1,3,5-tris (3,5-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) -trione, 2,6-di-t-butyl-4- (4,6-bis (octylthio) -1,3,5-triazin-2-ylamino) phenol, and the like.
また、ホスファイト系酸化防止剤の具体例としては、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2−エチルヘキシル)ホスファイト、トリスデシルホスファイト、トリス(トリデシル)ホスファイト、ジフェニルモノ(2−エチルヘキシル)ホスファイト、ジフェニルモノデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジフェニルモノ(トリデシル)ホスファイト、ジラウリルハイドロジェンホスファイト、ジフェニルハイドロゲンホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、テトラフェニルテトラ(トリデシル)ペンタエリスリトールテトラホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、水添ビスフェノールA・ペンタエリスリトールホスファイトポリマー、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−3−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、及び下記式(1)〜(4)で表されるホスファイト化合物等が挙げられる。 Specific examples of the phosphite antioxidant include 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite and tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphine. Phyto, triphenyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (2-ethylhexyl) phosphite, trisdecyl phosphite, tris (tridecyl) phosphite, diphenyl mono (2-ethylhexyl) phosphite, diphenyl monodecyl phosphite Phyto, didecyl monophenyl phosphite, diphenyl mono (tridecyl) phosphite, dilauryl hydrogen phosphite, diphenyl hydrogen phosphite, tetraphenyl dipropylene glycol diphosphite, tetraphenyl tetra (tridecyl) Intererythritol tetraphosphite, tetra (tridecyl) -4,4'-isopropylidene diphenyl diphosphite, bis (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, hydrogenated bisphenol A pentaerythritol phosphite Phytopolymer, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-t-butyl-3-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, and the following formula (1 Phosphite compounds represented by (4) to (4).
これらの酸化防止剤は、単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 特に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤との併用が好ましい。
樹脂組成物に安定剤を用いる場合特に限定されないが、樹脂(a)100質量部に対して、0.01〜10質量部が好ましく、0.05〜7.5質量部の範囲がより好ましい。更に好ましい範囲は、0.1〜5質量部である。
These antioxidants may be used alone or in combination of two or more. In particular, the combined use of a hindered phenol antioxidant and a phosphorus antioxidant is preferred.
Although it does not specifically limit when using a stabilizer for a resin composition, 0.01-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of resin (a), and the range of 0.05-7.5 mass parts is more preferable. A more preferable range is 0.1 to 5 parts by mass.
[その他添加物]
その他添加物として、樹脂組成物には用途や目的に応じて紫外線吸収剤、滑剤、界面活性剤、可塑剤、香料などを添加することができる。
樹脂組成物にその他添加物を用いる場合特に限定されないが、樹脂(a)100質量部に対して、0.1〜20質量部が好ましく、0.5〜15質量部の範囲がより好ましい。更に好ましい範囲は、1〜10質量部である。
[Other additives]
As other additives, an ultraviolet absorber, a lubricant, a surfactant, a plasticizer, a fragrance, and the like can be added to the resin composition according to the use and purpose.
Although it does not specifically limit when using another additive for a resin composition, 0.1-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of resin (a), and the range of 0.5-15 mass parts is more preferable. A more preferable range is 1 to 10 parts by mass.
[組成物の粘度]
本実施の形態の樹脂組成物の粘度は特に制限されないが、好ましくは50℃において10Pa・s以上10kPa・s以下である。さらに好ましくは、50℃において50Pa・s以上5kPa・s以下である。粘度が50℃において10Pa・s以上であれば、作製される印刷原版の機械的強度が十分であり、樹脂組成物を円筒状に成形する際であっても形状を保持し易く、加工し易い。粘度が50℃において10kPa・s以下であれば、変形し易く、加工が容易である。。特に厚み精度の高い印刷原版を得るためには、該樹脂組成物が重力により液ダレ等の現象を起こさないように粘度が50℃において10Pa・s以上、より好ましくは20Pa・s以上、更に好ましくは50Pa・s以上の樹脂組成物であることが望ましい。
[Viscosity of composition]
The viscosity of the resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 10 Pa · s or more and 10 kPa · s or less at 50 ° C. More preferably, it is 50 Pa · s or more and 5 kPa · s or less at 50 ° C. If the viscosity is 10 Pa · s or higher at 50 ° C., the mechanical strength of the produced printing original plate is sufficient, and it is easy to maintain the shape even when the resin composition is formed into a cylindrical shape and easy to process. . If the viscosity is 10 kPa · s or less at 50 ° C., it is easily deformed and processed easily. . In particular, in order to obtain a printing original plate having high thickness accuracy, the viscosity of the resin composition is 10 Pa · s or more, more preferably 20 Pa · s or more, more preferably 20 Pa · s or more at 50 ° C. so that the resin composition does not cause a phenomenon such as liquid dripping due to gravity. Is desirably a resin composition of 50 Pa · s or more.
[成形方法]
本実施の形態のレーザー彫刻原版用樹脂組成物から得られるレーザー彫刻印刷原版は、前記樹脂組成物を(i)シート状あるいは円筒状支持体上に塗布し樹脂層を形成する工程、(ii)形成された樹脂層を熱硬化する工程を含む方法により得られることが好ましい。
(i)の工程においては、溶剤を使用しないことが、環境対応型である観点、塗布工程を簡略化する観点および樹脂中に気泡を有しない樹脂層を形成する観点から好ましい。
樹脂組成物をシート状、もしくは円筒状に塗布する方法は、既存の樹脂の塗布方法を用いることができる。例えば、注型法、ポンプや押し出し機等の機械で樹脂をノズルやダイスから押し出し、ブレードで厚みを合わせる、ロールによりカレンダー加工して厚みを合わせる方法等、スプレー等を用いて噴霧する方法が例示できる。その際、樹脂組成物が反応を起こさない範囲で加熱しながら成形を行うことも可能である。また、必要に応じて圧延処理、研削処理などをほどこしても良い。
[Molding method]
The laser engraving printing original plate obtained from the resin composition for laser engraving original plate according to the present embodiment comprises (i) a step of applying the resin composition on a sheet-like or cylindrical support to form a resin layer, (ii) It is preferably obtained by a method including a step of thermosetting the formed resin layer.
In the step (i), it is preferable not to use a solvent from the viewpoint of being environmentally friendly, simplifying the coating process, and forming a resin layer having no bubbles in the resin.
As a method of applying the resin composition in a sheet shape or a cylindrical shape, an existing resin application method can be used. For example, a casting method, a method of spraying resin using a spray, such as a method of extruding a resin from a nozzle or a die with a machine such as a pump or an extruder, adjusting the thickness with a blade, adjusting the thickness by calendaring with a roll, etc. it can. In that case, it is also possible to perform the molding while heating the resin composition within a range that does not cause a reaction. Moreover, you may perform a rolling process, a grinding process, etc. as needed.
このとき、樹脂組成物の厚みは50μm以上、7mm未満である事が好ましい。厚みが50μm以上、7mm未満であると、レーザー彫刻時に凹凸差の大きいパターンが得られる。凹凸の大きい印刷版を用いて印刷した場合、凹版であれば、多量のインクを受理・転移でき、ベタ濃度が大きくなり、凸版であれば、白抜き線の埋まりが少ない印刷物を得る事ができる。
グラビア印刷では、研磨処理された後の金属性シリンダー上に銅メッキを施す工程があり、その後彫刻、ハードクロムメッキ処理をする。本実施の形態では、直接金属シリンダー上に樹脂を塗布しても良いし、銅メッキやハードクロムメッキ処理を施した後に樹脂を塗布しても良い。
At this time, the thickness of the resin composition is preferably 50 μm or more and less than 7 mm. When the thickness is 50 μm or more and less than 7 mm, a pattern having a large unevenness can be obtained during laser engraving. When printing using a printing plate with large irregularities, a large amount of ink can be received and transferred if it is an intaglio plate, the solid density increases, and if it is a relief plate, a printed matter with less filling of white lines can be obtained. .
In gravure printing, there is a step of copper plating on the metallic cylinder after the polishing treatment, and then engraving and hard chrome plating treatment are performed. In the present embodiment, the resin may be applied directly on the metal cylinder, or the resin may be applied after performing copper plating or hard chrome plating.
また、PETやニッケルなどの素材からなるシート状支持体上に塗布する事や円筒状支持体(スリーブ)に直接塗布することも好ましい。円筒状支持体が、繊維強化プラスチック、フィルム強化プラスチック、金属、ゴムから選択される少なくとも1種類の材料を構成成分とする円筒状支持体であることが好ましい。また、ガラス繊維、アラミド繊維、炭素繊維等の繊維で強化されたポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック製スリーブ、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルチューブ等の円筒状支持体を具体例として挙げることができる。円筒状支持体は中空状であることが、印刷版の軽量化および取り扱いの容易さの観点から好ましい。シート状支持体あるいは円筒状支持体の役割は、樹脂硬化物の寸法安定性を確保することである。したがって、寸法安定性の高いものを選択することが好ましい。線熱膨張係数を用いて評価すると、好ましい材料の上限値は100ppm/℃以下、更に好ましくは70ppm/℃以下である。材料の具体例としては、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビスマレイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンチオエーテル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂からなる液晶樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。また、これらの樹脂を積層して用いることもできる。 Moreover, it is also preferable to apply | coat on the sheet-like support body which consists of raw materials, such as PET and nickel, and to apply | coat directly to a cylindrical support body (sleeve). The cylindrical support is preferably a cylindrical support having at least one material selected from fiber reinforced plastic, film reinforced plastic, metal, and rubber as a constituent component. Specific examples include cylindrical supports such as polyester resins reinforced with fibers such as glass fibers, aramid fibers, and carbon fibers, plastic sleeves such as epoxy resins, and polyester tubes such as polyethylene terephthalate. The cylindrical support is preferably hollow from the viewpoint of weight reduction of the printing plate and ease of handling. The role of the sheet-like support or the cylindrical support is to ensure the dimensional stability of the cured resin. Therefore, it is preferable to select one having high dimensional stability. When evaluated using the linear thermal expansion coefficient, the upper limit value of a preferable material is 100 ppm / ° C. or less, more preferably 70 ppm / ° C. or less. Specific examples of materials include polyester resin, polyimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polybismaleimide resin, polysulfone resin, polycarbonate resin, polyphenylene ether resin, polyphenylene thioether resin, polyethersulfone resin, all Examples thereof include liquid crystal resins composed of aromatic polyester resins, wholly aromatic polyamide resins, and epoxy resins. Further, these resins can be laminated and used.
また、多孔質性のシート、例えば繊維を編んで形成したクロスや、不織布、フィルムに細孔を形成したもの等をシート状支持体として用いることができる。シート状支持体として多孔質性シートを用いる場合、樹脂組成物を孔に含浸させた後に熱硬化させることで、樹脂硬化物層とシート状支持体とが一体化するために高い接着性を得ることができる。クロスあるいは不織布を形成する繊維としては、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、アルミナ・シリカ繊維、ホウ素繊維、高珪素繊維、チタン酸カリウム繊維、サファイア繊維などの無機系繊維、木綿、麻などの天然繊維、レーヨン、アセテート等の半合成繊維、ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリイミド、アラミド等の合成繊維を挙げることができる。また、バクテリアの生成するセルロースは、高結晶性ナノファイバーであり、薄くて寸法安定性の高い不織布を作製することのできる材料である。 Moreover, a porous sheet, for example, a cloth formed by knitting fibers, a nonwoven fabric, a film in which pores are formed, or the like can be used as the sheet-like support. When a porous sheet is used as the sheet-like support, high adhesion is obtained because the resin cured product layer and the sheet-like support are integrated by thermosetting after impregnating the resin composition into the pores. be able to. The fibers forming the cloth or nonwoven fabric include glass fibers, alumina fibers, carbon fibers, alumina / silica fibers, boron fibers, high silicon fibers, potassium titanate fibers, inorganic fibers such as sapphire fibers, natural materials such as cotton and hemp Examples thereof include semi-synthetic fibers such as fibers, rayon and acetate, and synthetic fibers such as nylon, polyester, acrylic, vinylon, polyvinyl chloride, polyolefin, polyurethane, polyimide, and aramid. Further, cellulose produced by bacteria is a highly crystalline nanofiber, and is a material capable of producing a thin nonwoven fabric with high dimensional stability.
前記工程(ii)では、シート状支持体あるいは円筒状支持体の寸法安定性や、樹脂組成物を円筒状支持体上に塗布した場合の円筒状支持体を回転させることによる重力方向の液ダレを効果的に抑制できる観点から、80℃以上250℃以下に加熱する工程を有することが好ましい。より好ましくは、80℃以上200℃以下、更に好ましくは100℃以上150℃以下である。これらの温度は、樹脂層表面の温度とする。
前記工程(ii)において、樹脂層を加熱する方法として、熱線を照射する方法、熱風を吹きつける方法、熱風が対流する雰囲気に曝される方法、加熱したロールと接触させる方法から選択される少なくとも1種類の方法を使用することが好ましい。特に作業性の容易さの観点から熱線を照射する方法、加熱したロールと接触させる方法が好ましい。熱線としては、近赤外線、赤外線を挙げることができる。
本実施の形態の樹脂組成物を熱硬化させて得られる印刷原版の厚みは、その使用目的に応じて20μm以上50mm以下の範囲で任意に設定して構わないが、印刷原版として用いる場合には、一般的に50μm以上10mm以下の範囲である。場合によっては、組成の異なる材料を複数積層していても構わない。
In the step (ii), the dimensional stability of the sheet-like support or the cylindrical support, or the liquid dripping in the gravity direction by rotating the cylindrical support when the resin composition is applied on the cylindrical support. It is preferable to have the process heated to 80 to 250 degreeC from a viewpoint which can suppress effectively. More preferably, they are 80 degreeC or more and 200 degrees C or less, More preferably, they are 100 degreeC or more and 150 degrees C or less. These temperatures are the temperatures of the resin layer surface.
In the step (ii), the method for heating the resin layer is at least selected from a method of irradiating with hot rays, a method of blowing hot air, a method of being exposed to an atmosphere in which hot air is convected, and a method of contacting with a heated roll. It is preferred to use one type of method. In particular, from the viewpoint of ease of workability, a method of irradiating with heat rays and a method of contacting with a heated roll are preferable. Examples of the heat rays include near infrared rays and infrared rays.
The thickness of the printing original plate obtained by thermosetting the resin composition of the present embodiment may be arbitrarily set in the range of 20 μm or more and 50 mm or less depending on the purpose of use, but when used as a printing original plate Generally, it is in the range of 50 μm or more and 10 mm or less. In some cases, a plurality of materials having different compositions may be stacked.
[クッション層]
印刷原版と支持体との間に、クッション層を有することもできる。該クッション層は、印刷工程での振動による衝撃を吸収する役割を果たす。クッション層としては、ショアA硬度が10以上70度以下、あるいはASKER−C型硬度計で測定したASKER−C硬度が20度以上85度以下のエラストマー層であることが好ましい。ショアA硬度が10度以上あるいはASKER−C硬度が20度以上である場合、適度に変形するため、印刷品質を確保することができる。また、ショアA硬度が70度以下あるいはASKER−C硬度が85度以下であれば、クッション層としての役割を果たすことができる。より好ましいショアA硬度の範囲は20〜60度、ASKER−C硬度では45〜75度の範囲である。ショアA硬度とASKER−C硬度は、クッション層に使用する材質により使い分けることが好ましい。2種類の硬度の違いは、測定に用いる硬度計の押針形状の違いに由来する。均一な樹脂組成の場合、ショアA硬度を用いることが好ましく、発泡ポリウレタン、発泡ポリエチレン等の発泡性基材のように不均一な樹脂組成の場合には、ASKER−C硬度を用いることが好ましい。ASKER−C硬度は、JIS K7312規格に準拠する測定法である。
[Cushion layer]
A cushion layer can also be provided between the printing original plate and the support. The cushion layer plays a role of absorbing an impact caused by vibration in the printing process. The cushion layer is preferably an elastomer layer having a Shore A hardness of 10 to 70 degrees, or an ASKER-C hardness of 20 to 85 degrees as measured with an ASKER-C hardness meter. When the Shore A hardness is 10 degrees or more or the ASKER-C hardness is 20 degrees or more, the print quality can be ensured because the film is appropriately deformed. Moreover, if Shore A hardness is 70 degrees or less or ASKER-C hardness is 85 degrees or less, it can serve as a cushion layer. A more preferable range of Shore A hardness is 20 to 60 degrees, and an ASKER-C hardness is 45 to 75 degrees. The Shore A hardness and the ASKER-C hardness are preferably selected depending on the material used for the cushion layer. The difference between the two types of hardness stems from the difference in the shape of the pushers of the hardness meter used for measurement. In the case of a uniform resin composition, Shore A hardness is preferably used, and in the case of a non-uniform resin composition such as a foamable base material such as foamed polyurethane and foamed polyethylene, ASKER-C hardness is preferably used. ASKER-C hardness is a measurement method based on JIS K7312 standard.
[耐溶剤性]
本実施の形態において、耐溶剤性は下記で定義される質量変化率により評価した。質量変化率が低いほど版に溶剤が侵食しにくく、溶剤による版の膨潤が少ないことを意味し、耐溶剤性が優れていると評価する。印刷原版のトルエンに対する質量変化率は50質量%以下である事が好ましく、更に好ましくは40質量%以下である事が好ましい。これらの好適な範囲では印刷時に版の膨潤が抑えられ、数十万mのロングラン印刷でも文字の太りが無いなど優れた印刷品質を再現できる。
質量変化率は試験片の大きさが幅2cm、長さ5cm、厚さ1mmの試験片をトルエン溶剤に温度20℃の条件下で、24時間浸漬させ、浸漬前後の質量増加分として下記(式1)で定義する。
質量変化率(%)=[浸漬後の質量(g)/浸漬前の質量−1]×100 (式1)
[Solvent resistance]
In the present embodiment, the solvent resistance was evaluated by the mass change rate defined below. The lower the mass change rate, the harder the solvent erodes into the plate, and the smaller the swelling of the plate by the solvent, the better the solvent resistance. The mass change rate of the printing original plate with respect to toluene is preferably 50% by mass or less, and more preferably 40% by mass or less. In these preferable ranges, swelling of the plate is suppressed during printing, and excellent print quality such as no thickening of characters can be reproduced even in long run printing of several hundred thousand meters.
The rate of mass change is as follows: a test piece having a width of 2 cm, a length of 5 cm, and a thickness of 1 mm is immersed in a toluene solvent at a temperature of 20 ° C. for 24 hours. It is defined in 1).
Mass change rate (%) = [mass after immersion (g) / mass before immersion-1] × 100 (formula 1)
[表面粗さ]
グラビア印刷では印刷版上のインキをドクターで掻き取る工程を含む。そのため、グラビア印刷における印刷原版及び印刷版表面の表面粗さは画像形成における重要な要素である。本実施の形態の印刷原版及び印刷版の印刷面側の中心線平均粗さRaは0.01μm以上、0.4μm以下である事が好ましい。さらに好ましくは0.02μm以上、0.3μm以下である。これらの好適な範囲で表面粗さは、ドクターによるインキ掻き取り性に優れ、ドットの階調表現性が良く、非画像部のインキ残存量が問題のない程度に低減できる。
ここで、中心線平均粗さRaは粗さ曲線を中心線から折り返し、その粗さ曲線と中心線によって得られた面積を長さLで割った値をマイクロメートル(μm)で表わす。表面粗さを測定する方法としてはJIS B0651に準拠する方法で測定を行う。
[Surface roughness]
Gravure printing includes a step of scraping ink on a printing plate with a doctor. Therefore, the surface roughness of the printing original plate and the printing plate surface in gravure printing is an important factor in image formation. The center line average roughness Ra on the printing surface side of the printing original plate and the printing plate of the present embodiment is preferably 0.01 μm or more and 0.4 μm or less. More preferably, it is 0.02 μm or more and 0.3 μm or less. Within these preferred ranges, the surface roughness is excellent in the ink scraping property by the doctor, the tone expression of the dots is good, and the ink remaining amount in the non-image area can be reduced to the extent that there is no problem.
Here, the centerline average roughness Ra represents a value obtained by dividing the roughness curve from the centerline and dividing the area obtained by the roughness curve and the centerline by the length L in micrometers (μm). As a method for measuring the surface roughness, the measurement is carried out by a method according to JIS B0651.
[表面調整]
表面を加工する際には、切削、研削、研磨から選択される少なくとも1種類の方法で表面調整することが好ましい。切削加工のみを用いて表面を加工することも可能であるが、切削工程、もしくは研削工程後に研摩加工を行うと印刷原版の表面形状をより精密に調節できるため好ましい。
印刷原版表面の切削による加工としては、特に制限するものではないが、例えば旋盤、ボール盤、フライス盤、形削り盤、平削り盤、NC工作機械などの刃物による加工が挙げられる。また、印刷原版表面の研削による加工としては、砥石による加工などが挙げられる。研削加工に用いられる研削砥石の材質は、特に制限するものではないが、例としてアルミナ系や炭化珪素系の材質が挙げられる。該砥石の材質としては、例えば、アルミナ系では褐色アルミナ、白色アルミナ、淡紅色アルミナ、解砕形アルミナ等が挙げられ、炭化珪素系では黒色炭化珪素、緑色炭化珪素等が挙げられる。
研削加工に用いられる研削砥石の砥粒の粒度については、8番以上、5000番以下の砥石が好ましく用いられる。砥粒を結合させる結合剤の主要成分としては、例えば、長石可溶性粘度・フラックス、ベークライト人造樹脂、珪酸ソーダフラックス、天然・人造ゴム・硫黄、セラック天然樹脂、金属箔などが挙げられる。
[Surface adjustment]
When processing the surface, it is preferable to adjust the surface by at least one method selected from cutting, grinding, and polishing. Although it is possible to process the surface using only the cutting process, it is preferable to perform the polishing process after the cutting process or the grinding process because the surface shape of the printing original plate can be adjusted more precisely.
Processing by cutting the surface of the printing original plate is not particularly limited, and examples thereof include processing with a blade such as a lathe, a drilling machine, a milling machine, a shaper, a planer, and an NC machine tool. Examples of the processing by grinding the surface of the printing original plate include processing by a grindstone. The material of the grinding wheel used for grinding is not particularly limited, but examples thereof include alumina-based and silicon carbide-based materials. Examples of the material of the grindstone include brown alumina, white alumina, light red alumina, and pulverized alumina in the case of alumina, and black silicon carbide and green silicon carbide in the case of silicon carbide.
Regarding the particle size of the abrasive grains of the grinding wheel used for grinding, a grinding wheel of 8 or more and 5000 or less is preferably used. Examples of the main component of the binder for bonding abrasive grains include feldspar soluble viscosity / flux, bakelite artificial resin, sodium silicate flux, natural / artificial rubber / sulfur, shellac natural resin, metal foil, and the like.
印刷原版表面の研磨加工に用いる研磨体としては、特に制限するものでないが、例えば研磨紙、ラッピングフィルム、ミラーフィルムなどの研磨フィルム、研磨ホイールが挙げられる。
該研磨紙や該研磨フィルム表面上の研磨剤の材質としては、金属、セラミックス、炭素化合物から選択される少なくとも1種類の微粒子が好ましい。金属微粒子の例としては、クロム、チタン、ニッケル、鉄等の比較的硬質の材料が好ましい。また、セラミックスの具体例としては、アルミナ、シリカ、窒化珪素、窒化ホウ素、ジルコニア、珪酸ジルコニウム、炭化珪素などが挙げられる。アルミナ質砥粒の素材質としては、褐色アルミナ質、解砕型アルミナ質研摩剤、淡紅色アルミナ質研摩剤、白色アルミナ質研削剤、人造エメリー研削剤などが挙げられる。炭化珪素質砥粒の素材質としては黒色炭化珪素質研磨剤、緑色炭化珪素質研摩剤などが挙げられる。また、炭素化合物としては、ダイヤモンド、グラファイト等の化合物を挙げることができる。特に人造ダイヤモンドは研磨剤として好ましい。他の研磨剤の材質として、ガラスビーズなどのガラス系研磨剤、ナイロン、ポリカーボネート、ポリエステル、メチルメタルアクリレートなどの樹脂系研磨剤、クルミ殻、杏の種、桃の種などの植物系研磨剤などを用いることもできる。さらに、研磨布と上記の研磨剤を組み合わせて用いることも可能である。
The polishing body used for polishing the surface of the printing original plate is not particularly limited, and examples thereof include polishing films such as polishing paper, wrapping films, and mirror films, and polishing wheels.
As a material for the abrasive on the surface of the abrasive paper or the abrasive film, at least one kind of fine particles selected from metals, ceramics, and carbon compounds is preferable. As an example of the metal fine particles, a relatively hard material such as chromium, titanium, nickel, and iron is preferable. Specific examples of ceramics include alumina, silica, silicon nitride, boron nitride, zirconia, zirconium silicate, silicon carbide, and the like. Examples of the material quality of the alumina abrasive grains include brown alumina, pulverized alumina abrasive, light red alumina abrasive, white alumina abrasive, and artificial emery abrasive. Examples of the material quality of the silicon carbide abrasive grains include a black silicon carbide abrasive and a green silicon carbide abrasive. Examples of the carbon compound include compounds such as diamond and graphite. In particular, artificial diamond is preferable as an abrasive. Other abrasive materials include glass-based abrasives such as glass beads, resin-based abrasives such as nylon, polycarbonate, polyester, and methyl metal acrylate, plant-based abrasives such as walnut shell, apricot seed, and peach seed. Can also be used. Furthermore, it is also possible to use a polishing cloth in combination with the above abrasive.
研磨剤の数平均粒子径は、0.1μm以上100μm以下のものが好ましい。より好ましい粒度は3μm以上100μm以下である。さらに好ましくは粒度が9μm以上30μm以下である。100μm以下の範囲であれば印刷評価に好適に利用できる印刷原版が簡便に作成できる。
特に、得られる印刷原版の表面の凹凸を小さくすることにより、被印刷体へのインキ転移性や印刷品質を向上する点からは、研磨剤の数平均粒子径は20μm以下であることが好ましい。一方、表面加工に要する時間を短縮化し、印刷原版の生産性を向上する点からは、研磨剤の数平均粒子径は12μm以下であることが好ましい。
The number average particle size of the abrasive is preferably from 0.1 μm to 100 μm. A more preferable particle size is 3 μm or more and 100 μm or less. More preferably, the particle size is 9 μm or more and 30 μm or less. If it is in the range of 100 μm or less, a printing original plate that can be suitably used for printing evaluation can be easily prepared.
In particular, the number average particle size of the abrasive is preferably 20 μm or less from the viewpoint of improving the ink transfer property to the printing medium and the printing quality by reducing the unevenness of the surface of the obtained printing original plate. On the other hand, the number average particle diameter of the abrasive is preferably 12 μm or less from the viewpoint of shortening the time required for surface processing and improving the productivity of the printing original plate.
研磨ホイール表面の粒度としては、60番から3000番までが好ましく用いられる。研磨ホイールの材質としては、特に制限されるものではないが、鉄、アルミナ、セラミックス、炭素化合物、砥石、木、ブラシ、フェルト、コルクなどが挙げられる。
研磨紙や研磨フイルム等の支持体の厚み、材質などは特に制限するものではないが、厚みは1μm以上1000μm以下の範囲が好ましい。より好ましくは10μm以上500μm、さらに好ましくは25μm〜125μmである。25μm以上125μm以下の範囲であれば巻き取りなどの取り扱い性が簡便である。支持体の形状は特に制限するものではないが、ロール、ディスク、シート、ベルトなどが挙げられる。
As the particle size of the grinding wheel surface, 60 to 3000 is preferably used. The material of the polishing wheel is not particularly limited, and examples thereof include iron, alumina, ceramics, carbon compound, grindstone, wood, brush, felt, cork and the like.
The thickness and material of the support such as abrasive paper or abrasive film are not particularly limited, but the thickness is preferably in the range of 1 μm to 1000 μm. More preferably, they are 10 micrometers or more and 500 micrometers, More preferably, they are 25 micrometers-125 micrometers. If it is in the range of 25 μm or more and 125 μm or less, handling such as winding is easy. The shape of the support is not particularly limited, and examples thereof include rolls, disks, sheets, and belts.
また、研磨体を用いた研磨の際に液体を介在させない乾式研磨でも印刷原版表面の研磨は可能であるが、研磨力、研磨後の印刷原版表面の均一性、粉塵の発生が少ないこと、研磨中に発生する熱の除去などを考慮すると、液体を介在させながら印刷原版に研磨剤を接触させることが好ましい。使用する液体としては、特に限定するものではないが、例えば石油、機械油、アルカリ溶液、水などが挙げられる。
特に、研磨の際に介在させる液体として、水を用いることによって他の液体を用いるよりも印刷原版の変性が少なくなり、また廃液の処理も容易となる。
本実施の形態においては表面調整の好ましい別の態様として、金属、セラミックス、炭素化合物等から選択される少なくとも1種類の物質からなる数平均粒子径が0.1μm以上100μm以下程度の微粒子を印刷原版表面に衝突させる方法も挙げられる。
微粒子を印刷原版に衝突させる方法は、特に限定されるものではないが、例えばサンドブラスト、ショットブラスト、エアーブラスト、ブロワブラストなどが挙げられる。また、微粒子の材質としては、特に限定するものではないが、例えばガラスビーズなどのガラス系粒子、ナイロン、ポリカーボネート、ポリエステル、メチルメタルアクリレートなどの樹脂系粒子、クルミ殻、杏の種、桃の種などの植物系粒子などが挙げられる。
In addition, it is possible to polish the printing original plate surface even with dry polishing without interposing liquid when polishing using the polishing body, but the polishing power, uniformity of the printing original plate surface after polishing, less dust generation, polishing In consideration of the removal of heat generated inside, it is preferable to bring the abrasive into contact with the printing original plate while interposing a liquid. Although it does not specifically limit as a liquid to be used, For example, petroleum, machine oil, an alkaline solution, water etc. are mentioned.
In particular, when water is used as a liquid to be interposed during polishing, the printing original plate is less denatured than when other liquids are used, and the waste liquid can be easily treated.
In this embodiment, as another preferable aspect of the surface adjustment, fine particles having a number average particle diameter of at least about 0.1 μm to 100 μm made of at least one substance selected from metals, ceramics, carbon compounds, etc. The method of making it collide with the surface is also mentioned.
The method for causing the fine particles to collide with the printing original plate is not particularly limited, and examples thereof include sand blast, shot blast, air blast, blower blast and the like. The material of the fine particles is not particularly limited. For example, glass particles such as glass beads, resin particles such as nylon, polycarbonate, polyester, and methyl metal acrylate, walnut shell, apricot seed, and peach seed. And plant-based particles.
[レーザー]
印刷原版表面にレーザーを用いて彫刻し凹凸形成して印刷版として使用する場合、レーザー彫刻法においては、形成したい画像をデジタル型のデータとしてコンピューターを利用してレーザー装置を操作し、印刷原版にレリーフ画像を作成する。レーザー彫刻に用いるレーザーは、樹脂硬化物層が吸収を有する波長を含むものであればどのようなものを用いてもよい。彫刻を高速度で行うためには出力の高いものが望ましく、炭酸ガスレーザー、ファイバーレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー等の赤外線あるいは赤外線放出固体レーザーが好ましい。しかし、レーザーの波長としてはファイバーレーザーのようにレーザー波長が2μm以下のものを用いる方が、高解像度な彫刻版を得るのに好ましい。また、可視光線領域に発振波長を有するYAGレーザーの第2高調波、銅蒸気レーザー、紫外線領域に発振波長を有する紫外線レーザー、例えばエキシマレーザー、第3あるいは第4高調波へ波長変換したYAGレーザーは、有機分子の結合を切断するアブレージョン加工が可能であり、微細加工に適する。また、レーザーは連続照射でも、パルス照射でも良い。
レーザーによる彫刻は酸素含有ガス下、一般には空気存在下もしくは気流下に実施するが、炭酸ガス、窒素ガス下でも実施できる。彫刻終了後、レリーフ印刷版面にわずかに発生する粉末状もしくは液状の物質は適当な方法、例えば溶剤や界面活性剤の入った水等で洗いとる方法、高圧スプレー等により水系洗浄剤を照射する方法、高圧スチームを照射する方法などを用いて除去しても良い。
[laser]
When engraving with a laser on the surface of the printing original plate to form irregularities and using it as a printing plate, the laser engraving method uses a computer as a digital data for the image to be formed and operates the laser device to create the printing original plate. Create a relief image. Any laser used for laser engraving may be used as long as the cured resin layer includes a wavelength having absorption. In order to carry out engraving at a high speed, a high output is desirable, and an infrared ray or infrared emitting solid laser such as a carbon dioxide laser, a fiber laser, a YAG laser, or a semiconductor laser is preferable. However, it is preferable to use a laser having a laser wavelength of 2 μm or less, such as a fiber laser, in order to obtain a high-resolution engraving plate. In addition, the second harmonic of a YAG laser having an oscillation wavelength in the visible light region, a copper vapor laser, an ultraviolet laser having an oscillation wavelength in the ultraviolet region, such as an excimer laser, and a YAG laser wavelength-converted to the third or fourth harmonic are It can be ablated by cutting the bonds of organic molecules and is suitable for fine processing. The laser may be continuous irradiation or pulse irradiation.
Laser engraving is carried out in an oxygen-containing gas, generally in the presence of air or an air stream, but can also be carried out in the presence of carbon dioxide or nitrogen gas. After engraving is finished, the powdery or liquid substance slightly generated on the relief printing plate surface is washed with an appropriate method such as water containing a solvent or a surfactant, or a water-based cleaning agent is irradiated by a high-pressure spray or the like. Alternatively, it may be removed using a method of irradiating high-pressure steam.
[印刷版]
本実施の形態の印刷版は、前記印刷原版をレーザーで彫刻することにより表面に凹凸形成し得られうる。また、高解像度な印刷パターンが要求される場合、発振波長2μm以下のレーザーで彫刻されることが好ましい。
本実施の形態の印刷版は特に限定されないが、グラビア印刷、フレキソ印刷、レタープレス印刷、ドライオフセット印刷、ロータリースクリーン印刷などの用途で用いることが出来る。また、印刷版を鋳型として使用し、該印刷版表面と、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂が接触し、前記印刷版表面の凹部パターンが転写される用途で用いることもできる。
[Printed version]
The printing plate of the present embodiment can be obtained by forming irregularities on the surface by engraving the printing original plate with a laser. When a high-resolution print pattern is required, it is preferable to engrave with a laser having an oscillation wavelength of 2 μm or less.
Although the printing plate of this Embodiment is not specifically limited, It can be used for uses, such as gravure printing, flexographic printing, letter press printing, dry offset printing, and rotary screen printing. It can also be used in applications where a printing plate is used as a mold and the surface of the printing plate is brought into contact with a thermoplastic resin, thermosetting resin, or photocurable resin, and the concave pattern on the printing plate surface is transferred. .
[表面処理]
本実施の形態の印刷版は研磨後もしくはレーザー彫刻後、表面に改質層を形成させる事により、印刷版のタックを低減させたり、インク濡れ性を向上させたりする事もできる。改質層としては、シランカップリング剤あるいはチタンカップリング剤等の表面水酸基と反応する化合物で処理した被膜、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜等を挙げる事ができる。
[surface treatment]
The printing plate of the present embodiment can reduce the tack of the printing plate or improve the ink wettability by forming a modified layer on the surface after polishing or laser engraving. Examples of the modified layer include a film treated with a compound that reacts with a surface hydroxyl group such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent, and a diamond-like carbon (DLC) film.
本実施の形態を更に詳細に説明するために、以下に、実施例及び比較例を示すが、これらの実施例は本実施の形態の説明及びそれによって得られる効果などを具体的に示すものであって、本実施の形態を何ら制限するものではない。なお、以下の実施例及び比較例における諸特性は、下記の方法に従って測定した。
<測定方法>
(1)カーボンブラックの平均1次粒径
カーボンブラックの平均1次粒径は日立製作所社製透過型電子顕微鏡HF−2000を用いて1次粒径を観察し、その10点の平均値を平均1次粒径とした。電子線の加速電圧は50kVで測定を行った。
(2)カーボンブラックのDBP吸油量の測定方法
JIS K 6217−4:2001に準じて測定した。
(3)カーボンブラックのpHの測定方法
JIS Z 8802−1984に準じて測定した。
In order to describe the present embodiment in more detail, examples and comparative examples are shown below, but these examples specifically illustrate the description of the present embodiment and the effects obtained thereby. Thus, the present embodiment is not limited at all. Various characteristics in the following examples and comparative examples were measured according to the following methods.
<Measurement method>
(1) Average primary particle size of carbon black The average primary particle size of carbon black was observed with a transmission electron microscope HF-2000 manufactured by Hitachi, Ltd., and the average value of 10 points was averaged. The primary particle size was used. The acceleration voltage of the electron beam was measured at 50 kV.
(2) Measuring method of DBP oil absorption of carbon black It measured according to JISK6217-4: 2001.
(3) Measuring method of pH of carbon black It measured according to JISZ8802-1984.
(4)ポリカーボネートジオールのOH価
無水酢酸12.5gをピリジン50mlでメスアップしアセチル化試薬を調製した。100mlナスフラスコに、サンプルを1.0g精秤した。アセチル化試薬2mlとトルエン4mlをホールピペットで添加後、冷却管を取り付けて、100℃で1時間撹拌加熱した。蒸留水1mlをホールピペットで添加、さらに10分間加熱撹拌した。
2〜3分間冷却後、エタノールを5ml添加し、指示薬として1%フェノールフタレイン/エタノール溶液を2〜3滴入れた後に、0.5mol/lエタノール性水酸化カリウムで滴定した。
空試験としてアセチル化試薬2ml、トルエン4ml、蒸留水1mlを100mlナスフラスコに入れ、10分間加熱撹拌した後、同様に滴定を行った。この結果をもとに、下記数式(i)を用いてOH価を計算した。
OH価(mg−KOH/g)={(b−a)×28.05×f}/e (i)
a:サンプルの滴定量(ml)
b:空試験の滴定量(ml)
e:サンプル質量(g)
f:滴定液のファクター
(4) OH value of polycarbonate diol 12.5 g of acetic anhydride was diluted with 50 ml of pyridine to prepare an acetylating reagent. 1.0 g of the sample was precisely weighed into a 100 ml eggplant flask. After adding 2 ml of acetylating reagent and 4 ml of toluene with a whole pipette, a condenser tube was attached, and the mixture was stirred and heated at 100 ° C. for 1 hour. 1 ml of distilled water was added with a whole pipette, and the mixture was further heated and stirred for 10 minutes.
After cooling for 2 to 3 minutes, 5 ml of ethanol was added, and 2 to 3 drops of 1% phenolphthalein / ethanol solution was added as an indicator, followed by titration with 0.5 mol / l ethanolic potassium hydroxide.
As a blank test, 2 ml of an acetylating reagent, 4 ml of toluene, and 1 ml of distilled water were placed in a 100 ml eggplant flask and heated and stirred for 10 minutes, followed by titration in the same manner. Based on this result, the OH value was calculated using the following formula (i).
OH value (mg-KOH / g) = {(ba) × 28.05 × f} / e (i)
a: Titration volume of sample (ml)
b: Titrate of blank test (ml)
e: Sample mass (g)
f: Factor of titrant
(5)ポリカーボネートジオールの分子量
実施例、比較例中のポリカーボネートジオールの末端は、13C−NMR(270MHz)の測定により、実質的に全てがヒドロキシル基であった。また、ポリカーボネートジオール中の酸価をKOHによる滴定により測定したところ、実施例、比較例の全てが0.01以下であった。
そこで、得られたポリマーの数平均分子量を下式(ii)により求めた。
数平均分子量Mn=2/(OH価×10―3/56.11) (ii)
(6)粘度の測定
樹脂組成物の粘度は、東京計器社製のB型粘度計「B8H型」(商標)を用いて50℃で測定した。
(5) Molecular weight of polycarbonate diol The terminals of the polycarbonate diol in Examples and Comparative Examples were substantially all hydroxyl groups as determined by 13 C-NMR (270 MHz). Moreover, when the acid value in polycarbonate diol was measured by the titration with KOH, all of the Examples and Comparative Examples were 0.01 or less.
Therefore, the number average molecular weight of the obtained polymer was determined by the following formula (ii).
Number average molecular weight Mn = 2 / (OH value × 10 −3 /56.11) (ii)
(6) Measurement of viscosity The viscosity of the resin composition was measured at 50 ° C. using a B-type viscometer “B8H type” (trademark) manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.
(7)樹脂(a)の数平均分子量の測定
樹脂(a)の平均分子量は、GPC法を用いて求めた多分散度(Mw/Mn)が1.1より大きいものであったため、GPC法で求めた数平均分子量Mnを採用した。具体的には、樹脂(a)の数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ法(GPC法)を用いて、分子量既知のポリスチレンで換算して求めた。東ソー社製の高速GPC装置「HLC−8020」(商標)と東ソー社製のポリスチレン充填カラム「TSKgel GMHXL」(商標)を用い、テトラヒドロフラン(THF)で展開して測定した。カラムの温度は40℃に設定した。GPC装置に注入する試料としては、樹脂濃度が1wt%のTHF溶液を調製し、注入量10μlとした。また、検出器としては、樹脂紫外吸収検出器を使用し、モニター光として254nmの光を用いた。
(7) Measurement of the number average molecular weight of the resin (a) The average molecular weight of the resin (a) was such that the polydispersity (Mw / Mn) obtained by using the GPC method was greater than 1.1. The number average molecular weight Mn obtained in (1) was adopted. Specifically, the number average molecular weight of the resin (a) was obtained by conversion with polystyrene having a known molecular weight using a gel permeation chromatography method (GPC method). Using a high-speed GPC device “HLC-8020” (trademark) manufactured by Tosoh Corporation and a polystyrene-filled column “TSKgel GMHXL” (trademark) manufactured by Tosoh Corporation, the measurement was performed with tetrahydrofuran (THF). The column temperature was set to 40 ° C. As a sample to be injected into the GPC apparatus, a THF solution having a resin concentration of 1 wt% was prepared, and the injection amount was 10 μl. Further, a resin ultraviolet absorption detector was used as a detector, and light at 254 nm was used as monitor light.
(8)重合性不飽和基の数の測定
樹脂(a)の分子内に存在する重合性不飽和基の平均数は、未反応の低分子成分を液体クロマトグラフ法を用いて除去した後、核磁気共鳴スペクトル法(NMR法、Bruker Biospin社製「Avance 600」(商標))を用いて分子構造解析し求めた。例えば「1.7官能」とは、分子内に存在する重合性不飽和基の平均数が1.7個であることを意味する。
(9)表面のべとつき
表面のべとつきは研磨前の樹脂硬化物の表面に触れた時に、触れた後にべとつく場合もしくは、触れた跡が目視で確認できる場合はべとつきあり、目視で確認できない場合はべとつきなしとして評価した。
(8) Measurement of the number of polymerizable unsaturated groups The average number of polymerizable unsaturated groups present in the molecule of the resin (a) is determined after removing unreacted low molecular components using a liquid chromatographic method. Molecular structure analysis was performed using a nuclear magnetic resonance spectrum method (NMR method, “Avance 600” (trademark) manufactured by Bruker Biospin). For example, “1.7 functionality” means that the average number of polymerizable unsaturated groups present in the molecule is 1.7.
(9) Stickiness of the surface Stickiness of the surface is sticky when touching the surface of the cured resin before polishing, or after touching, or when the touch mark can be visually confirmed, and stickiness when it cannot be visually confirmed. Rated as none.
(10)表面タック
表面タックは研磨前の樹脂硬化物を東洋精機製作所製タックテスター「PCIMA TACKYMETER」を用いて行なった。タック測定は、20℃において、試料片の平滑な部分に半径50mm、幅13mmのアルミニウム輪の幅13mmの部分を接触させ、該アルミニウム輪に0.5kgの荷重を加え4秒間放置した後、毎分30mmの一定速度で前記アルミニウム輪を引き上げ、アルミニウム輪が試料片から離れる際の抵抗力をプッシュプルゲージで読み取る。この値が大きいもの程、べとつき度が大きい。
(11)ショアA硬度
ショアA硬度は研磨前の硬化物をテクロック社製、商標「GS−710」を用いて測定した。測定に用いた錘の重量は、8kgであった。ショアA硬度の値は落錘後、60秒後の値を読み取った。
(10) Surface tack The surface tack was performed using a tack tester “PCIMA TACKYMETER” manufactured by Toyo Seiki Seisakusho. Tack measurement was performed at 20 ° C. by contacting a smooth portion of a sample piece with a portion of an aluminum ring having a radius of 50 mm and a width of 13 mm, applying a load of 0.5 kg to the aluminum ring and leaving it for 4 seconds. The aluminum ring is pulled up at a constant speed of 30 mm and the resistance force when the aluminum ring is separated from the sample piece is read with a push-pull gauge. The larger the value, the greater the stickiness.
(11) Shore A hardness The Shore A hardness was measured using a trademark “GS-710” manufactured by Teclock Corporation for the cured product before polishing. The weight of the weight used for the measurement was 8 kg. The value of Shore A hardness was read 60 seconds after dropping the weight.
(12)質量変化率
質量変化率は以下の方法で測定した。レーザー彫刻用印刷原版を幅2cm、長さ5cm、厚さ1mmに切り、試験片を作製し、あらかじめ、試験片の質量を測定し、その試験片をサンプル瓶に入れて溶剤(トルエン)に入れ、サンプル瓶の蓋をして、温度20℃、24時間浸漬した。その後、再び試験片の質量を測定し、以下の式(iii)により、質量変化率を算出した。
質量変化率(%)=[浸漬後の質量(g)/浸漬前の質量−1]*100 (iii)
(13)表面粗さ測定
表面粗さは研磨後の印刷原版を小坂研究所社製の表面粗さ測定機「SE500」(商標)を用いて、触針R2μm, カットオフλc=0.8mm、測定長さ4mm、送り速さ0.5m/sの条件で中心線平均粗さRaを測定し評価した。中心線平均粗さは、粗さ曲線を中心線から折り返し、その粗さ曲線と中心線によって得られた面積を長さLで割った値をマイクロメートル(μm)で表わす。
(14)彫刻深さ
彫刻深さはオリンパス社製の顕微鏡「BX−61」(商標)を用いて、彫刻されたグラデーションのシャドウ部セルの底と土手(未彫刻の部分)の差を測定した。
(12) Mass change rate The mass change rate was measured by the following method. The laser engraving printing original plate is cut to a width of 2 cm, a length of 5 cm, and a thickness of 1 mm, a test piece is prepared, the mass of the test piece is measured in advance, and the test piece is placed in a sample bottle and placed in a solvent (toluene). The sample bottle was capped and immersed at a temperature of 20 ° C. for 24 hours. Thereafter, the mass of the test piece was measured again, and the mass change rate was calculated by the following equation (iii).
Mass change rate (%) = [mass after immersion (g) / mass before immersion-1] * 100 (iii)
(13) Surface roughness measurement The surface roughness was measured by using a surface roughness measuring machine “SE500” (trademark) manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd. as a stylus R2 μm, cutoff λc = 0.8 mm. Centerline average roughness Ra was measured and evaluated under the conditions of a measurement length of 4 mm and a feed rate of 0.5 m / s. The centerline average roughness is expressed in micrometer (μm) by dividing the roughness curve from the centerline and dividing the area obtained by the roughness curve and the centerline by the length L.
(14) Sculpture Depth The sculpture depth was measured using an Olympus microscope “BX-61” (trademark) and the difference between the bottom of the engraved gradation shadow cell and the bank (unengraved part). .
<製造方法>
(1)樹脂組成物の成形
樹脂組成物の支持体としてポリエステルフィルム(PET)を用いた。PET上に厚さ1mmの金属枠(内幅150mm*200mm)を使用し、50℃に加温しておいた樹脂組成物を塗工し、さらに50℃*30min保持した。その後、樹脂組成物を140℃*30min保持させ、樹脂組成物をギヤオーブン中(大気中)で硬化させ、厚さが1.1mmになるように成形し、レーザー彫刻用印刷原版を作製した。
(2)表面調整
研磨ホイール3000番を用いてレーザー彫刻用印刷原版の表面を研磨し、厚さ1mmのレーザー彫刻用印刷原版を作製した。
(3)レーザー彫刻
レーザー彫刻は、ESKO社製のファイバーレーザー彫刻機「Spark4260」(商標)(波長1μm)を用いて行った。彫刻条件として、シリンダーの回転数200rpm、レーザー出力62.952W、エネルギーは12.J/cm2である。彫刻画像は解像度2450dot per inch、線数175Lines per inchで作成した。画像はグラビア印刷におけるセルのグラデーションパターン、細字3pt、5pt、7ptを明朝体で作製した。
<Manufacturing method>
(1) Molding of resin composition A polyester film (PET) was used as a support for the resin composition. A metal frame (inner width 150 mm * 200 mm) having a thickness of 1 mm was used on PET, and the resin composition heated to 50 ° C. was applied, and further maintained at 50 ° C. * 30 min. Thereafter, the resin composition was held at 140 ° C. * 30 min, the resin composition was cured in a gear oven (in the air), and molded to a thickness of 1.1 mm, to prepare a printing original plate for laser engraving.
(2) Surface adjustment The surface of the printing plate precursor for laser engraving was polished using a polishing wheel No. 3000 to prepare a printing plate precursor for laser engraving having a thickness of 1 mm.
(3) Laser Engraving Laser engraving was performed using a fiber laser engraving machine “Spark 4260” (trademark) (wavelength: 1 μm) manufactured by ESKO. As engraving conditions, the rotation speed of the cylinder is 200 rpm, the laser output is 62.952 W, and the energy is 12. J / cm 2 . The engraving image was created with a resolution of 2450 dots per inch and a line number of 175 Lines per inch. For the image, a gradation pattern of cells in gravure printing, fine letters 3pt, 5pt, and 7pt were produced in Mincho.
[製造例1]
規則充填物ヘリパックパッキンNo.3を充填した、充填高さ300mm、内径30mmの蒸留塔、及び分留頭を備えた500ml四口フラスコに、ジエチレングリコール214g(2.01mol)、エチレンカーボネート186g(2.12mol)を仕込み、70℃で撹拌溶解し、系内を窒素置換した後、触媒としてテトラブトキシチタンを0.177gを加えた。このフラスコを、フラスコの内温が145〜150℃、圧力が2.5〜3.5kPaとなるように、分留頭から還流液の一部を抜き出しながら、オイルバスで加熱し、22時間反応した。その後、充填式蒸留塔を外して、単蒸留装置に取り替え、フラスコの内温170℃に上げ、圧力を0.2kPaまで落として、フラスコ内に残った、ジエチレングリコール、エチレンカーボネートを1時間かけて留去した。その後、フラスコの内温170℃、圧力0.1kPaでさらに5時間反応した。この反応により、室温で粘稠な液状のポリカーボネートジオールが174g得られた。得られたポリカーボネートジオールのOH価は60.9(数平均分子量Mn=1843)であった。
[Production Example 1]
Regular packing Helipak packing No. 3 was charged in a 500 ml four-necked flask equipped with a distillation tower having a packing height of 300 mm and an inner diameter of 30 mm, and a fractionation head, and diethylene glycol 214 g (2.01 mol) and ethylene carbonate 186 g (2.12 mol) were charged at 70 ° C. Then, the system was purged with nitrogen, and 0.177 g of tetrabutoxy titanium was added as a catalyst. This flask was heated in an oil bath while extracting a part of the reflux liquid from the fractionation head so that the internal temperature of the flask was 145 to 150 ° C. and the pressure was 2.5 to 3.5 kPa, and the reaction was continued for 22 hours. did. Then, remove the packed distillation column, replace it with a simple distillation apparatus, raise the internal temperature of the flask to 170 ° C., drop the pressure to 0.2 kPa, and distill the diethylene glycol and ethylene carbonate remaining in the flask over 1 hour. Left. Thereafter, the reaction was further continued for 5 hours at an internal temperature of the flask of 170 ° C. and a pressure of 0.1 kPa. By this reaction, 174 g of a liquid polycarbonate diol that was viscous at room temperature was obtained. The polycarbonate diol thus obtained had an OH value of 60.9 (number average molecular weight Mn = 1844).
撹拌機を備えた300mlのセパラブルフラスコにこのポリカーボネートジオール65.0g、リン酸モノブチル0.05gを入れ、80℃で3時間撹拌することにより、テトラブトキシチタンを失活させた。その後、トリレンジイソシアネート4.63g、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール0.07g、アジピン酸0.01g、ジ−n−ブチルスズジラウレート0.001gを加えて、乾燥空気雰囲気で80℃で3時間撹拌した。その後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート2.77g、ジ−n−ブチルスズジラウレート0.001gを加えて、乾燥空気雰囲気で80℃で2時間撹拌した。この段階で、赤外分光分析によりポリカーボネートジオールの末端水酸基がウレタン結合により連結され、且つ二重結合を有すことを確認し、末端がメタアクリル基(分子内の重合性不飽和基が1分子あたり平均約1.8個)であり、数平均分子量約7000の樹脂(Lp−A)を調製した。 A 300 ml separable flask equipped with a stirrer was charged with 65.0 g of this polycarbonate diol and 0.05 g of monobutyl phosphate, and stirred at 80 ° C. for 3 hours to deactivate tetrabutoxytitanium. Thereafter, 4.63 g of tolylene diisocyanate, 0.07 g of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, 0.01 g of adipic acid, and 0.001 g of di-n-butyltin dilaurate were added in a dry air atmosphere. Stir at 80 ° C. for 3 hours. Thereafter, 2.77 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate and 0.001 g of di-n-butyltin dilaurate were added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours in a dry air atmosphere. At this stage, it is confirmed by infrared spectroscopic analysis that the terminal hydroxyl group of the polycarbonate diol is linked by a urethane bond and has a double bond, and the terminal is a methacrylic group (one molecule of polymerizable unsaturated group in the molecule). Resin (Lp-A) having a number average molecular weight of about 7000 was prepared.
[製造例2]
温度計、攪拌機、還流器を備えた2Lのセパラブルフラスコに旭化成株式会社製のポリカーボネートジオール「PCDL T4672」(商標)(数平均分子量2059、OH価54.5)1318gとトリレンジイソシアナート76.8gを加え、80℃加温下で約3時間反応させた後、2−メタクリロイルオキシイソシアネート52.6gを添加し、さらに約3時間反応させて、末端がメタアクリル基(分子内の重合性不飽和基が1分子あたり平均約1.7個)である数平均分子量約7000の樹脂(Lp−B)を調製した。
[Production Example 2]
Into a 2 L separable flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser, 1318 g of polycarbonate diol “PCDL T4672” (trademark) (number average molecular weight 2059, OH number 54.5) manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd. After adding 8 g and reacting at 80 ° C. for about 3 hours, 52.6 g of 2-methacryloyloxyisocyanate was added, and further reacted for about 3 hours, and the terminal was a methacrylic group (polymerizable non-polymerizable in the molecule). A resin (Lp-B) having a number average molecular weight of about 7000 with an average of about 1.7 saturated groups per molecule) was prepared.
[実施例1]
樹脂(a)として製造例1より得られたLp−A100質量部に対して、多官能チオール(b)として、堺化学工業株式会社製トリメチロールプロパントリス−3−メルカプトプロピオネート「TMMP」(商標)(3価チオール、分子量399)25質量部、さらに、樹脂(a)100質量部に対してレーザー吸収剤(c)として東海カーボン社製のカーボンブラック「TB#A700F」(商標)(平均1次粒径62nm、DBPの吸油量121mL/100g)12.5質量部、熱重合開始剤(d)として、日本油脂株式会社製の1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)パーシクロヘキサン「パーヘキサC−75(EB)」(商標)1.25質量部、安定剤としてリン酸トリフェニル1.25質量部を加えて50℃で撹拌しながら、13kPaに減圧して脱泡し、室温で粘稠な液体状の組成物を得た。さらに、樹脂組成物を東洋精機社製のラボプラストミルで30分混練した。その後、得られた樹脂組成物を前記の方法で、支持体上に塗工、成形、研磨、レーザー彫刻、印刷を行った。なお、ここでいう多官能チオール(b)の分子量とは分子構造式から算出した値である。(以下同様)
[Example 1]
As a polyfunctional thiol (b), trimethylolpropane tris-3-mercaptopropionate “TMMP” (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) with respect to 100 parts by mass of Lp-A obtained from Production Example 1 as the resin (a) (Trademark) (trivalent thiol, molecular weight 399) 25 parts by mass, and further, carbon black “TB # A700F” (trademark) manufactured by Tokai Carbon Co., Ltd. as a laser absorber (c) with respect to 100 parts by mass of resin (a) (average) The primary particle size is 62 nm, the DBP oil absorption is 121 mL / 100 g, 12.5 parts by mass, and 1,1-di (t-butylperoxy) percyclohexane “manufactured by NOF Corporation as a thermal polymerization initiator (d)”. While adding 1.25 parts by mass of Perhexa C-75 (EB) "(trademark) and 1.25 parts by mass of triphenyl phosphate as a stabilizer and stirring at 50 ° C, Under reduced pressure to Pa defoamed to give a viscous liquid composition at room temperature. Further, the resin composition was kneaded for 30 minutes with a Laboplast mill manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. Thereafter, the obtained resin composition was coated, molded, polished, laser engraved, and printed on the support by the above method. The molecular weight of the polyfunctional thiol (b) here is a value calculated from the molecular structural formula. (The same applies hereinafter)
[実施例2]
多官能チオール(b)として、堺化学工業株式会社製トリメチロールプロパントリス−3−メルカプトプロピオネート「TMMP」(商標)(3価チオール、分子量399)0.8質量部、単量体(e)としてフェノキシエチルメタクリレート18.75質量部、もう一つの単量体(e)としてトリメチロールプロパントリメタクリレート5.45質量部した以外は実施例1と同様にした。
[実施例3]
多官能チオール化合物(b)として、堺化学工業株式会社製トリメチロールプロパントリス−3−メルカプトプロピオネート「TMMP」(商標)(3価チオール、分子量399)6.25質量部、単量体(e)としてフェノキシエチルメタクリレート18.75質量部のみにした以外は実施例2と同様にした。
[実施例4]
多官能チオール化合物(b)として、堺化学工業株式会社製トリス−[(エチル−3−メルカプトプロピオニロキシ)−エチル]イソシアヌレート「TEMPIC」(商標)(3価チオール、数平均分子量526)0.8質量部とした以外は実施例2と同様にした。
[Example 2]
As polyfunctional thiol (b), trimethylolpropane tris-3-mercaptopropionate “TMMP” (trademark) (trivalent thiol, molecular weight 399) 0.8 parts by mass, monomer (e ) Was used in the same manner as Example 1 except that 18.75 parts by mass of phenoxyethyl methacrylate and 5.45 parts by mass of trimethylolpropane trimethacrylate as another monomer (e) were used.
[Example 3]
As polyfunctional thiol compound (b), 6.25 parts by mass of trimethylolpropane tris-3-mercaptopropionate “TMMP” (trademark) (trivalent thiol, molecular weight 399) manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., monomer ( Example 2 was the same as Example 2 except that only 18.75 parts by mass of phenoxyethyl methacrylate was used.
[Example 4]
As a polyfunctional thiol compound (b), Tris-[(ethyl-3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] isocyanurate “TEMPIC” (trademark) (trivalent thiol, number average molecular weight 526) 0 manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd. The procedure was the same as Example 2 except that the content was 8 parts by mass.
[実施例5]
多官能チオール化合物(b)として、堺化学工業株式会社製トリス−[(エチル−3−メルカプトプロピオニロキシ)−エチル]イソシアヌレート「TEMPIC」(商標)(3価チオール、数平均分子量526)6.25質量部、単量体(e)としてフェノキシエチルメタクリレート18.75質量部のみにした以外は実施例2と同様にした。
[実施例6]
多官能チオール化合物(b)として、堺化学工業株式会社製ペンタエリスリトールテトラキス−3−メルカプトプロピオネート「PEMP」(商標)(4価チオール、数平均分子量489)0.8質量部とした以外は実施例2と同様にした。
[実施例7]
多官能チオール化合物(b)として、堺化学工業株式会社製ジペンタエリスリトールヘキサキスー3−メルカプトプロピオネート「DPMP」(商標)(6価チオール、数平均分子量783)0.8質量部とした以外は実施例2と同様にした。
[実施例8]
樹脂(a)として、製造例2により得られたLp−Bを用いた以外は実施例2と同様にした。
[Example 5]
As the polyfunctional thiol compound (b), Tris-[(ethyl-3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] isocyanurate “TEMPIC” (trademark) (trivalent thiol, number average molecular weight 526) 6 manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd. 6 The same procedure as in Example 2 was conducted except that the monomer (e) was only 18.75 parts by mass of phenoxyethyl methacrylate.
[Example 6]
As polyfunctional thiol compound (b), except that it was 0.8 parts by mass of Pentaerythritol Tetrakis-3-mercaptopropionate “PEMP” (trademark) (tetravalent thiol, number average molecular weight 489) manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Same as Example 2.
[Example 7]
As polyfunctional thiol compound (b), except dipentaerythritol hexakis-3-mercaptopropionate “DPMP” (trademark) (hexavalent thiol, number average molecular weight 783) 0.8 parts by mass manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Was the same as in Example 2.
[Example 8]
The same procedure as in Example 2 was conducted except that Lp-B obtained in Production Example 2 was used as the resin (a).
[比較例1]
樹脂(a)として製造例1より得られたLp−A100質量部に対して、単量体(e)としてフェノキシエチルメタクリレート18.75質量部、もう一つの単量体(e)としてトリメチロールプロパントリメタクリレート6.25質量部を加え、さらに、樹脂(a)100質量部に対してレーザー吸収剤(c)として東海カーボン社製のカーボンブラック「TB#A700F」(商標)(平均1次粒径62nm、DBPの吸油量121mL/100g)12.5質量部、熱重合開始剤(d)として、日本油脂株式会社製の1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)パーシクロヘキサン「パーヘキサC−75(EB)」(商標)1.25質量部、安定剤としてリン酸トリフェニル1.25質量部を加えて50℃で撹拌しながら、13kPaに減圧して脱泡し、室温で粘稠な液体状の組成物を得た。さらに、樹脂組成物を東洋精機社製のラボプラストミルで30分混練した。その後、得られた樹脂組成物を前記の方法で、支持体上に塗工、成形、レーザー彫刻、印刷を行った。
上記各実施例及び比較例の組成と、樹脂組成物の50℃における粘度、印刷原版の表面べとつき、タック、質量変化率、ショアA硬度、中心線平均粗さRa、印刷版の彫刻深さの測定結果を表1にまとめた。
[Comparative Example 1]
With respect to 100 parts by mass of Lp-A obtained in Production Example 1 as resin (a), 18.75 parts by mass of phenoxyethyl methacrylate as monomer (e) and trimethylolpropane as another monomer (e) 6.25 parts by mass of trimethacrylate was added, and carbon black “TB # A700F” (trademark) (average primary particle diameter) manufactured by Tokai Carbon Co., Ltd. as a laser absorber (c) with respect to 100 parts by mass of resin (a). 62 nm, DBP oil absorption 121 mL / 100 g) 12.5 parts by mass, 1,1-di (t-butylperoxy) percyclohexane “Perhexa C-75 manufactured by NOF Corporation as a thermal polymerization initiator (d) (EB) "(trademark) 1.25 parts by mass, 1.25 parts by mass of triphenyl phosphate as a stabilizer and stirring at 50 ° C, the pressure was reduced to 13 kPa Te defoamed to give a viscous liquid composition at room temperature. Further, the resin composition was kneaded for 30 minutes with a Laboplast mill manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. Thereafter, the obtained resin composition was coated, molded, laser engraved, and printed on the support by the method described above.
The composition of each of the above examples and comparative examples, the viscosity of the resin composition at 50 ° C., the surface tackiness of the printing original plate, tack, mass change rate, Shore A hardness, centerline average roughness Ra, and engraving depth of the printing plate The measurement results are summarized in Table 1.
実施例と比較例の表面のべとつきおよびタック測定の結果を比較すると、本発明の印刷原版は表面のべとつき低減効果が極めて優れている事が分かる。 Comparing the results of surface tackiness and tack measurement of Examples and Comparative Examples, it can be seen that the printing original plate of the present invention has an extremely excellent surface tackiness reducing effect.
本発明はレーザー彫刻による高精細なグラビア、フレキソ、ドライオフセットなどの印刷版用レリーフ画像形成に最適である。また、電子部品の導体、半導体、絶縁体、パターン形成、光学部品の反射防止膜、カラーフィルター、(近)赤外線カットフィルター等の機能性材料のパターン形成、更には液晶ディスプレイあるいは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の表示素子の製造における配向膜、下地層、発光層、電子輸送層、封止材層の塗膜・パターン形成に適したレーザー彫刻可能な印刷原版に用いる事のできる円筒状印刷原版として最適である。 The present invention is most suitable for forming relief images for printing plates such as high-definition gravure, flexo, and dry offset by laser engraving. In addition, conductors for electronic components, semiconductors, insulators, pattern formation, antireflection films for optical components, color filters, pattern formation of functional materials such as (near) infrared cut filters, and liquid crystal displays or organic electroluminescence displays Ideal as a cylindrical printing plate that can be used as a laser-engravable printing plate suitable for forming coating films and patterns for alignment films, underlayers, light-emitting layers, electron transport layers, and sealing material layers is there.
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012002128A1 (en) * | 2010-06-29 | 2012-01-05 | 富士フイルム株式会社 | Resin composition for laser engraving, relief printing original plate for laser engraving, method for producing the relief printing original plate for laser engraving, relief printing plate, and method for producing the relief printing plate |
JP2012030587A (en) * | 2010-06-29 | 2012-02-16 | Fujifilm Corp | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, process for producing relief printing plate and relief printing plate |
EP2439069A2 (en) | 2010-07-27 | 2012-04-11 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving and process for producing the same, and relief printing plate and process for making the same |
CN102531607A (en) * | 2012-02-22 | 2012-07-04 | 中国人民解放军63983部队 | Porous laser absorption surface mount device and processing method thereof |
EP2481583A2 (en) | 2011-01-28 | 2012-08-01 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, and relief printing plate and process for making the same |
EP2492296A2 (en) | 2011-02-22 | 2012-08-29 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor and process for producing the same, and relief printing plate |
WO2013046679A2 (en) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition and inkjet recording method |
EP2842743A1 (en) * | 2013-08-30 | 2015-03-04 | Fujifilm Corporation | Relief printing plate precursor for laser engraving and process for producing same, and relief printing plate and process for making same |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11235882A (en) * | 1998-02-23 | 1999-08-31 | Toray Ind Inc | Laser sensitive lithographic printing plate master |
JP2002090984A (en) * | 2000-09-13 | 2002-03-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Original plate of planographic printing plate |
JP2004522618A (en) * | 2001-01-08 | 2004-07-29 | ビーエーエスエフ ドルクズュステーメ、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | Method for manufacturing flexographic printing element capable of thermally cross-linking laser engraving |
JP2004255812A (en) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Cylindrical flexographic printing original plate capable of undergoing laser engraving |
JP2008056888A (en) * | 2006-07-31 | 2008-03-13 | Fujifilm Corp | Laser-decomposable resin composition and pattern forming material using the same |
JP2008068432A (en) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Original plate of letterpress printing and manufacturing method thereof |
-
2008
- 2008-04-23 JP JP2008112796A patent/JP5261014B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11235882A (en) * | 1998-02-23 | 1999-08-31 | Toray Ind Inc | Laser sensitive lithographic printing plate master |
JP2002090984A (en) * | 2000-09-13 | 2002-03-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Original plate of planographic printing plate |
JP2004522618A (en) * | 2001-01-08 | 2004-07-29 | ビーエーエスエフ ドルクズュステーメ、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | Method for manufacturing flexographic printing element capable of thermally cross-linking laser engraving |
JP2004255812A (en) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Cylindrical flexographic printing original plate capable of undergoing laser engraving |
JP2008056888A (en) * | 2006-07-31 | 2008-03-13 | Fujifilm Corp | Laser-decomposable resin composition and pattern forming material using the same |
JP2008068432A (en) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Original plate of letterpress printing and manufacturing method thereof |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012002128A1 (en) * | 2010-06-29 | 2012-01-05 | 富士フイルム株式会社 | Resin composition for laser engraving, relief printing original plate for laser engraving, method for producing the relief printing original plate for laser engraving, relief printing plate, and method for producing the relief printing plate |
JP2012030587A (en) * | 2010-06-29 | 2012-02-16 | Fujifilm Corp | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, process for producing relief printing plate and relief printing plate |
CN102958704A (en) * | 2010-06-29 | 2013-03-06 | 富士胶片株式会社 | Resin composition for laser engraving, relief printing original plate for laser engraving, method for producing the relief printing original plate for laser engraving, relief printing plate, and method for producing the relief printing plate |
US8431637B2 (en) | 2010-06-29 | 2013-04-30 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, process for producing relief printing plate and relief printing plate |
EP2439069A2 (en) | 2010-07-27 | 2012-04-11 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving and process for producing the same, and relief printing plate and process for making the same |
EP2481583A2 (en) | 2011-01-28 | 2012-08-01 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, and relief printing plate and process for making the same |
EP2492296A2 (en) | 2011-02-22 | 2012-08-29 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor and process for producing the same, and relief printing plate |
WO2013046679A2 (en) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition and inkjet recording method |
CN102531607A (en) * | 2012-02-22 | 2012-07-04 | 中国人民解放军63983部队 | Porous laser absorption surface mount device and processing method thereof |
EP2842743A1 (en) * | 2013-08-30 | 2015-03-04 | Fujifilm Corporation | Relief printing plate precursor for laser engraving and process for producing same, and relief printing plate and process for making same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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