JP2009251205A - Display device and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active matrix display device capable of correcting variation of characteristics of drive transistors formed in respective pixels. <P>SOLUTION: The pixel 2 includes the drive transistor Trd outputting a drive current according to a picture signal and a light emitting element EL emitting light at the luminance according to the drive current. The drive transistor Trd includes a pair of current ends connected between a power supply and the light emitting element EL, a channel region between the pair of current ends, a first gate electrode into which a signal is written from a signal line, and a second gate electrode disposed facing the first gate electrode via the channel region. A correction circuit 6 applies a correction electric potential for correcting the variation of the characteristics of the drive transistor Trd to the second gate electrode via a control line CL. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は発光素子を画素に用いたアクティブマトリクス型の表示装置に関する。より詳しくは、発光素子を駆動するトランジスタの閾電圧のばらつきを補正する技術に関する。   The present invention relates to an active matrix display device using a light emitting element for a pixel. More specifically, the present invention relates to a technique for correcting variation in threshold voltage of a transistor that drives a light emitting element.

従来のアクティブマトリクス型表示装置は、画素アレイ部と回路部とからなる。画素アレイ部は、行状の走査線と、列状の信号線と、各走査線と各信号線とが交差する部分に配された行列状の画素とを含む。回路部は、各走査線を介して画素を行単位で選択する走査回路と、選択された画素に各信号線を介して信号を供給する信号回路とを含む。画素は、信号に応じて駆動電流を出力する駆動トランジスタと、駆動電流に応じた輝度で発光する発光素子とを含む。かかる構成を有するアクティブマトリクス型の表示装置は、例えば以下の特許文献1に記載されている。
特開2007−310311
A conventional active matrix display device includes a pixel array portion and a circuit portion. The pixel array section includes row-like scanning lines, column-like signal lines, and matrix-like pixels arranged at portions where each scanning line and each signal line intersect. The circuit unit includes a scanning circuit that selects pixels in units of rows via each scanning line, and a signal circuit that supplies signals to the selected pixels via each signal line. The pixel includes a driving transistor that outputs a driving current in accordance with a signal and a light emitting element that emits light with luminance corresponding to the driving current. An active matrix display device having such a configuration is described in Patent Document 1 below, for example.
JP2007-310311

各画素に形成された駆動トランジスタは、回路部から供給される映像信号に応じて駆動電流を出力し、発光素子を駆動している。しかしながら駆動トランジスタはその電気特性が必ずしも均一ではなく、画素間でばらつきがある。この特性ばらつきの結果駆動電流がばらつき、画素アレイ部内で画素の発光輝度にムラが生じ、ユニフォーミティを損ねているという課題がある。   The driving transistor formed in each pixel outputs a driving current in accordance with the video signal supplied from the circuit unit, and drives the light emitting element. However, the drive transistor does not necessarily have uniform electrical characteristics and varies among pixels. As a result of this characteristic variation, the drive current varies, and there is a problem in that unevenness occurs in the light emission luminance of the pixels in the pixel array portion, thereby impairing uniformity.

上述した従来の技術の課題に鑑み、本発明は各画素に形成された駆動トランジスタの特性ばらつきを補正可能なアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。かかる目的を達成するために以下の手段を講じた。即ち、本発明にかかる表示装置は、画素アレイ部と回路部とからなり、前記画素アレイ部は、行状の走査線と、列状の信号線と、各走査線と各信号線とが交差する部分に配された行列状の画素とを含み、前記回路部は、各走査線を介して画素を行単位で選択する走査回路と、選択された画素に各信号線を介して信号を供給する信号回路とを含む。前記画素は、該信号に応じて駆動電流を出力する駆動トランジスタと、該駆動電流に応じた輝度で発光する発光素子とを含み、前記駆動トランジスタは、電源と該発光素子との間に接続する一対の電流端と、一対の電流端の間にあるチャネル領域と、該信号線から信号が書き込まれる第1ゲート電極と、該チャネル領域を間にして該第1ゲート電極と対向する第2ゲート電極とを有し、前記回路部は、該駆動トランジスタの特性のバラツキを補正するための補正電位を該第2ゲート電極に印加する補正回路を含む。   In view of the above-described problems of the related art, an object of the present invention is to provide an active matrix display device capable of correcting variation in characteristics of drive transistors formed in each pixel. In order to achieve this purpose, the following measures were taken. That is, the display device according to the present invention includes a pixel array unit and a circuit unit, and the pixel array unit intersects row-like scanning lines, column-like signal lines, and each scanning line and each signal line. The circuit unit includes a scanning circuit that selects pixels in units of rows via each scanning line, and supplies a signal to each of the selected pixels via each signal line. Signal circuit. The pixel includes a driving transistor that outputs a driving current in accordance with the signal and a light emitting element that emits light with a luminance in accordance with the driving current, and the driving transistor is connected between a power source and the light emitting element. A pair of current ends, a channel region between the pair of current ends, a first gate electrode to which a signal is written from the signal line, and a second gate facing the first gate electrode with the channel region in between The circuit unit includes a correction circuit that applies a correction potential for correcting variation in characteristics of the drive transistor to the second gate electrode.

好ましくは、前記画素アレイ部は、各画素に含まれる駆動トランジスタの第2ゲート電極を行単位又は列単位で共通接続する制御線を有し、前記補正回路は、各制御線毎に補正電位を印加する。又前記駆動トランジスタは、その閾電圧特性のバラツキに応じて駆動電流が変動し、前記補正回路は、該閾電圧のバラツキを補正する補正電位を該第2ゲート電極に印加する。又前記回路部は該補正回路を含めて該画素アレイ部と同じパネル上に配されており、前記補正回路は、各制御線単位で補正電位を自動的に検出し、且つ検出した補正電位を対応する制御線に印加する。又前記補正回路は、各制御線に対応して配された補正ユニットの集合からなり、前記補正ユニットは、電源ラインと接地ラインとの間で直列接続された検出トランジスタと抵抗素子とからなり、各補正ユニットに対応する制御線は、該検出トランジスタと該抵抗素子の中点に接続している。或いは前記補正ユニットは、電源ラインと接地ラインとの間で直列接続された一対の検出トランジスタと相補トランジスタからなり、各補正ユニットに対応する制御線は、該検出トランジスタと該相補トランジスタの中点に接続している。又前記一対の検出トランジスタ及び相補トランジスタをオンして補正電位を自動的に検出し、その後前記一対の検出トランジスタ及び相補トランジスタをオフして該検出した補正電位を該中間点に保持し対応する制御線に印加する。又前記検出トランジスタは、対応する制御線に接続している駆動トランジスタと同一サイズで同一ライン上に位置する。   Preferably, the pixel array unit includes a control line for commonly connecting the second gate electrodes of the driving transistors included in each pixel in a row unit or a column unit, and the correction circuit applies a correction potential to each control line. Apply. The drive transistor has a drive current that varies in accordance with variations in threshold voltage characteristics, and the correction circuit applies a correction potential for correcting variations in the threshold voltage to the second gate electrode. The circuit unit including the correction circuit is arranged on the same panel as the pixel array unit, and the correction circuit automatically detects a correction potential for each control line and outputs the detected correction potential. Apply to the corresponding control line. The correction circuit comprises a set of correction units arranged corresponding to each control line, and the correction unit comprises a detection transistor and a resistance element connected in series between a power supply line and a ground line, A control line corresponding to each correction unit is connected to the midpoint of the detection transistor and the resistance element. Alternatively, the correction unit includes a pair of detection transistors and complementary transistors connected in series between a power supply line and a ground line, and a control line corresponding to each correction unit is at the midpoint between the detection transistor and the complementary transistor. Connected. Also, the correction potential is automatically detected by turning on the pair of detection transistors and complementary transistors, and then the pair of detection transistors and complementary transistors are turned off to hold the detected correction potential at the intermediate point and corresponding control. Apply to the wire. The detection transistors are on the same line and have the same size as the drive transistors connected to the corresponding control lines.

本発明によれば、駆動トランジスタがいわゆるダブルゲート構造(サンドイッチゲート構造)を有している。即ち、駆動トランジスタは、チャネル領域を間にして互いに対向した第1ゲート電極及び第2ゲート電極を有している。第1ゲート電極は直接的もしくは間接的に信号線に接続している。一方第2ゲート電極は補正回路に接続している。この補正回路は各駆動トランジスタの第2ゲート電極に補正電位を印加して、特性のばらつきを補正している。かかる構成により、画素アレイ部は局所的な輝度のムラがなくなり、ユニフォーミティを改善することができる。   According to the present invention, the driving transistor has a so-called double gate structure (sandwich gate structure). That is, the drive transistor has a first gate electrode and a second gate electrode that face each other with the channel region interposed therebetween. The first gate electrode is directly or indirectly connected to the signal line. On the other hand, the second gate electrode is connected to the correction circuit. This correction circuit corrects variations in characteristics by applying a correction potential to the second gate electrode of each drive transistor. With this configuration, the pixel array unit can eliminate local luminance unevenness and improve uniformity.

以下図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図1は本発明にかかる表示装置の第1実施形態を示す模式的な平面図である。図示するように、本表示装置は、画素アレイ部1と回路部とからなる。画素アレイ部1はパネル0に形成されている。また回路部の一部も、パネル0に搭載されている。画素アレイ部1は、行状の走査線と、列状の信号線と、各走査線と各信号線とが交差する部分に配された行列状の画素2とを含む。本実施形態の場合、画素2には赤緑青三原色(RGB)のいずれかが割り当てられており、カラー表示を行う。但し本発明はカラー表示装置に限られるものではなく、例えば白黒の単色表示装置も含まれる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic plan view showing a first embodiment of a display device according to the present invention. As shown in the figure, this display device includes a pixel array section 1 and a circuit section. The pixel array unit 1 is formed on the panel 0. A part of the circuit unit is also mounted on the panel 0. The pixel array unit 1 includes row-like scanning lines, column-like signal lines, and matrix-like pixels 2 arranged at portions where each scanning line and each signal line intersect. In the present embodiment, any one of the three primary colors red, green, and blue (RGB) is assigned to the pixel 2 to perform color display. However, the present invention is not limited to a color display device, and includes, for example, a monochrome single-color display device.

一方回路部は、セレクタ3とスキャナ4とを含む。本実施形態では、スキャナ4はパネル0に搭載されており、各走査線を介して画素2を行単位で選択する走査回路となっている。またセレクタ3もパネル0に搭載されており、選択された画素2に各信号線を介して映像信号を供給する。パネル0には端子9が形成されている。この端子9は、外部の回路部からパネル内のスキャナ4やセレクタ3に映像信号や制御信号を供給するためのものである。   On the other hand, the circuit unit includes a selector 3 and a scanner 4. In this embodiment, the scanner 4 is mounted on the panel 0 and is a scanning circuit that selects the pixels 2 in units of rows via each scanning line. The selector 3 is also mounted on the panel 0 and supplies a video signal to each selected pixel 2 via each signal line. A terminal 9 is formed on the panel 0. The terminal 9 is for supplying a video signal and a control signal from an external circuit unit to the scanner 4 and the selector 3 in the panel.

個々の画素2は、少なくとも駆動トランジスタTrdと発光素子ELを含んでいる。駆動トランジスタTrdはセレクタ3から供給された映像信号(以下単に信号と呼ぶ場合がある)に応じて駆動電流を出力する。発光素子ELは例えば二端子型の有機エレクトロルミネッセンス素子からなり、駆動電流に応じた輝度で発光する。この駆動トランジスタTrdは、電源と発光素子ELとの間に接続する一対の電流端(ソース/ドレイン)と、一対の電流端の間にあるチャネル領域と、第1ゲート電極と、第2ゲート電極とを有する。この駆動トランジスタTrdは一対のゲート電極を備えており、いわゆるダブルゲート型もしくはサンドイッチゲート構造となっている。第1ゲート電極は、直接的もしくは間接的に信号線に接続している。一方第2ゲート電極は、チャネル領域を間にして第1ゲート電極に対向している。回路部は、前述したセレクタ3やスキャナ4に加え、補正回路を含んでいる。本実施形態では、この補正回路はパネル0の外部に設けてある。補正回路は、所定の補正電位を各駆動トランジスタTrdの第2ゲート電極に印加する。この補正電位は個々の駆動トランジスタTrdの特性ばらつきを補正する。これにより画素アレイ部0の全体にわたって駆動電流のばらつきがなくなり、各画素の発光輝度が均一化し、画面のユニフォーミティを改善することができる。   Each pixel 2 includes at least a drive transistor Trd and a light emitting element EL. The drive transistor Trd outputs a drive current in accordance with a video signal (hereinafter sometimes simply referred to as a signal) supplied from the selector 3. The light emitting element EL is composed of, for example, a two-terminal type organic electroluminescence element, and emits light with a luminance corresponding to the drive current. The drive transistor Trd includes a pair of current ends (source / drain) connected between the power source and the light emitting element EL, a channel region between the pair of current ends, a first gate electrode, and a second gate electrode. And have. The drive transistor Trd includes a pair of gate electrodes and has a so-called double gate type or sandwich gate structure. The first gate electrode is directly or indirectly connected to the signal line. On the other hand, the second gate electrode faces the first gate electrode with the channel region in between. The circuit unit includes a correction circuit in addition to the selector 3 and the scanner 4 described above. In this embodiment, this correction circuit is provided outside the panel 0. The correction circuit applies a predetermined correction potential to the second gate electrode of each drive transistor Trd. This correction potential corrects the characteristic variation of each drive transistor Trd. As a result, there is no variation in drive current over the entire pixel array unit 0, the light emission luminance of each pixel is made uniform, and the uniformity of the screen can be improved.

本実施形態では、画素アレイ部1は前述した行状の走査線や列状の信号線に加え制御線CLを有している。この制御線CLは各画素2に含まれる駆動トランジスタTrdの第2ゲート電極を行単位で共通接続している。換言すると、制御線CLは走査線と平行に行状に配されている。各制御線CLはパネル0の外周部に設けた端子に接続している。これらの端子にはパネル外の補正回路が接続している。補正回路は行状の各制御線CLに補正電位Vbg(1)〜Vbg(n)を印加している。なお括弧で示した数字は画素アレイ部1の行番号を表している。nは最終段の行番号を表している。換言すると画素アレイ部1は本実施形態の場合n行の画素で構成されていることになる。なお本発明の場合、補正電位はダブルゲート構造の駆動トランジスタTrdの第2ゲート電極(バックゲート電極)に印加されるので、補正電位をバックゲート電位(Vbg)と呼ぶ場合がある。   In the present embodiment, the pixel array section 1 has a control line CL in addition to the row-like scanning lines and column-like signal lines described above. The control line CL commonly connects the second gate electrodes of the drive transistors Trd included in each pixel 2 in units of rows. In other words, the control lines CL are arranged in rows in parallel with the scanning lines. Each control line CL is connected to a terminal provided on the outer peripheral portion of the panel 0. A correction circuit outside the panel is connected to these terminals. The correction circuit applies correction potentials Vbg (1) to Vbg (n) to the row-like control lines CL. The numbers shown in parentheses indicate the row numbers of the pixel array unit 1. n represents the last row number. In other words, the pixel array unit 1 is composed of n rows of pixels in this embodiment. In the present invention, since the correction potential is applied to the second gate electrode (back gate electrode) of the drive transistor Trd having a double gate structure, the correction potential may be referred to as a back gate potential (Vbg).

駆動トランジスタTrdは、製造プロセスなどの影響を受けて、種々の特性ばらつきが現れる。この中には、特にチャネル領域の閾電圧のばらつきが含まれる。駆動トランジスタTrdは、このチャネル領域の閾電圧のばらつきに応じて駆動電流が変動し、画面のユニフォーミティを損なう。そこで本実施形態では特に、補正回路は駆動トランジスタTrdの閾電圧のばらつきを補正する補正電位Vbgを第2ゲート電極(バックゲート)に印加している。   The drive transistor Trd exhibits various characteristic variations under the influence of the manufacturing process. This includes in particular variations in the threshold voltage of the channel region. In the drive transistor Trd, the drive current fluctuates according to the variation in the threshold voltage of the channel region, and the uniformity of the screen is impaired. Therefore, in this embodiment, in particular, the correction circuit applies the correction potential Vbg for correcting the variation in the threshold voltage of the drive transistor Trd to the second gate electrode (back gate).

図2は、本発明にかかる表示装置の第2実施形態を示す模式的な平面図である。理解を容易にするため、図1に示した第1実施形態と対応する部分には対応する参照番号を付してある。第1実施形態と異なる点は、制御線CLが、信号線と平行になるように列状に配されていることである。即ち本実施形態では、制御線CLは、各画素2に含まれる駆動トランジスタTrdの第2ゲート電極(バックゲート電極)を列単位で共通接続している。各制御線CLの列に対応して、パネル0の外周端に端子が配されている。これらの端子にはパネル外の補正回路から補正電位(バックゲート電位Vbg)が印加される。この制御線CLは各画素2に割り当てられたRGB三原色に分かれて配されている。各色ごとにm本の制御線CLが含まれる。なおパネル0には外部の補正回路と接続するための端子に加え、別の端子9も含まれている。この端子9は、外部の回路部からパネル内のスキャナ4やセレクタ3に映像信号や制御信号を供給するためのものである。   FIG. 2 is a schematic plan view showing a second embodiment of the display device according to the present invention. In order to facilitate understanding, parts corresponding to those in the first embodiment shown in FIG. The difference from the first embodiment is that the control lines CL are arranged in a row so as to be parallel to the signal lines. That is, in this embodiment, the control line CL commonly connects the second gate electrodes (back gate electrodes) of the drive transistors Trd included in each pixel 2 in units of columns. Terminals are arranged on the outer peripheral edge of the panel 0 corresponding to the columns of the control lines CL. A correction potential (back gate potential Vbg) is applied to these terminals from a correction circuit outside the panel. The control line CL is divided into the three RGB primary colors assigned to each pixel 2. M control lines CL are included for each color. The panel 0 includes another terminal 9 in addition to a terminal for connecting to an external correction circuit. The terminal 9 is for supplying a video signal and a control signal from an external circuit unit to the scanner 4 and the selector 3 in the panel.

図3は、図1または図2に示した実施形態に含まれる駆動トランジスタの電流電圧特性を示すグラフである。駆動トランジスタTrdはNチャネル型の薄膜トランジスタ(TFT)からなる。グラフはこのNチャネル型TFTのゲート電圧Vgsとドレイン電流Idsとの関係を表している。ゲート電圧Vgsはソース(S)を基準にしたゲート(G)の電圧を表し、ダブルゲート構造の駆動トランジスタの第1ゲート電極に印加される。従ってセレクタ3から供給される映像信号に対応している。一方ドレイン電流Idsは駆動トランジスタTrdの一対の電流端(ソース/ドレイン)に流れる駆動電流であり、発光素子に供給される。   FIG. 3 is a graph showing the current-voltage characteristics of the drive transistor included in the embodiment shown in FIG. 1 or FIG. The drive transistor Trd is an N-channel thin film transistor (TFT). The graph represents the relationship between the gate voltage Vgs and the drain current Ids of the N-channel TFT. The gate voltage Vgs represents the voltage of the gate (G) with reference to the source (S), and is applied to the first gate electrode of the drive transistor having a double gate structure. Therefore, it corresponds to the video signal supplied from the selector 3. On the other hand, the drain current Ids is a drive current that flows through a pair of current ends (source / drain) of the drive transistor Trd, and is supplied to the light emitting element.

グラフに示すように、個々の駆動トランジスタの閾電圧特性は必ずしも狙い特性どおりではなく、エンハンス側もしくはデプレション側にばらついている。Nチャネル型TFTの場合、エンハンスTFT特性になると閾電圧Vthは正側にシフトする一方、デプレションTFT特性では閾電圧が負側にシフトする。この様な閾電圧のばらつきにより、ゲート電圧Vgsが一定であっても、ドレイン電流Idsにばらつきが生じるため、各画素で必ずしも発光輝度が一様にならず、画面のユニフォーミティが損なわれる。そこで本発明では、駆動トランジスタTrdの第2ゲート電極(バックゲート電極)に補正電位Vbgを印加することで、閾電圧のばらつきを取り除くようにしている。具体的には、エンハンスTFT特性の駆動トランジスタに対しては、相対的に高めのバックゲート電位を印加することで、特性をデプレション方向にシフトさせ、その閾電圧特性を目標の狙い特性に近づけることができる。逆にデプレションTFT特性の駆動トランジスタには相対的に低めのバックゲート電位(補正電位)を印加することで、特性をエンハンス方向にシフトさせ、その閾電圧特性を目標の狙い特性に近付けることができる。この様にして、画面全体にわたり駆動トランジスタの閾電圧を目標の狙い特性に合わせ込むことで、画面のユニフォーミティを改善することができる。   As shown in the graph, the threshold voltage characteristics of the individual drive transistors are not always as intended, but vary on the enhancement side or the depletion side. In the case of an N-channel TFT, the threshold voltage Vth shifts to the positive side when the enhanced TFT characteristic is reached, while the threshold voltage shifts to the negative side in the depletion TFT characteristic. Due to such variations in threshold voltage, even if the gate voltage Vgs is constant, the drain current Ids varies, so that the light emission luminance is not necessarily uniform in each pixel, and the uniformity of the screen is impaired. Therefore, in the present invention, the variation in the threshold voltage is removed by applying the correction potential Vbg to the second gate electrode (back gate electrode) of the drive transistor Trd. Specifically, by applying a relatively high back gate potential to the driving transistor having the enhanced TFT characteristics, the characteristics are shifted in the depletion direction, and the threshold voltage characteristics are brought close to the target aimed characteristics. be able to. Conversely, by applying a relatively low back gate potential (correction potential) to the drive transistor having the depletion TFT characteristic, the characteristic can be shifted in the enhancement direction, and the threshold voltage characteristic can be brought close to the target aimed characteristic. it can. In this way, the uniformity of the screen can be improved by matching the threshold voltage of the driving transistor with the target characteristic over the entire screen.

以下図4〜図11を参照して、本発明の背景、構成、作用および効果を詳細に説明する。図4は、表示装置の典型的な構成例を示す模式的な平面図である。図示するように、画素アレイ部1は、行状の走査線WSと、列状の信号線SLと、各走査線WSと各信号線SLとが交差する部分に配された行列状の画素2とを含む。スキャナ4は各走査線WSを介して画素2を行単位で選択する。セレクタ3は、選択された画素2に各信号線SLを介して信号を供給する。   Hereinafter, the background, configuration, operation and effect of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 4 is a schematic plan view illustrating a typical configuration example of the display device. As shown in the figure, the pixel array section 1 includes row-like scanning lines WS, column-like signal lines SL, and matrix-like pixels 2 arranged at the intersections of the scanning lines WS and the signal lines SL. including. The scanner 4 selects the pixels 2 in units of rows via each scanning line WS. The selector 3 supplies a signal to the selected pixel 2 via each signal line SL.

画素2は、サンプリングトランジスタTr1と駆動トランジスタTrdと発光素子ELとで構成されている。サンプリングトランジスタTr1及び駆動トランジスタTrdはNチャネル型のTFTである。サンプリングトランジスタTr1の一方の電流端は信号線SLに接続されている。他方の電流端は駆動トランジスタTrdのゲートに接続されている。サンプリングトランジスタTr1のゲートは走査線WSに接続されている。駆動トランジスタTrdの一方の電流端であるドレインは電源Vccpに接続されている。駆動トランジスタTrdの他方の電流端であるソースは発光素子ELのアノードに接続されている。発光素子ELのカソードは接地電位に接続している。即ちこの接地電位はカソード電位Vcathとなっている。前述したように駆動トランジスタTrdの制御端となる第1のゲート電極はサンプリングトランジスタTr1を介して信号線SLに接続している。   The pixel 2 includes a sampling transistor Tr1, a drive transistor Trd, and a light emitting element EL. The sampling transistor Tr1 and the drive transistor Trd are N-channel TFTs. One current end of the sampling transistor Tr1 is connected to the signal line SL. The other current end is connected to the gate of the drive transistor Trd. The gate of the sampling transistor Tr1 is connected to the scanning line WS. The drain which is one current end of the drive transistor Trd is connected to the power supply Vccp. The source which is the other current end of the driving transistor Trd is connected to the anode of the light emitting element EL. The cathode of the light emitting element EL is connected to the ground potential. That is, this ground potential is the cathode potential Vcath. As described above, the first gate electrode serving as the control terminal of the drive transistor Trd is connected to the signal line SL via the sampling transistor Tr1.

図5は、図4に示した画素2の動作説明に供する模式図である。図示するように、サンプリングトランジスタTr1は走査線WSにより選択されたときオンして、信号線SLから映像信号Vsigをサンプリングし、駆動トランジスタTrdのゲートGに書き込む。駆動トランジスタTrdはゲートGに書き込まれたゲート電圧Vgsに応じて、ドレイン電流Idsを出力する。発光素子ELはこのドレイン電流(駆動電流)Idsに応じた輝度で発光する。このとき駆動電流Idsは電源Vccpから駆動トランジスタTrd及び発光素子ELの直列接続を通して接地ライン(カソード電位Vcath)に流れる。   FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the operation of the pixel 2 shown in FIG. As shown in the figure, the sampling transistor Tr1 is turned on when selected by the scanning line WS, samples the video signal Vsig from the signal line SL, and writes it to the gate G of the drive transistor Trd. The drive transistor Trd outputs a drain current Ids according to the gate voltage Vgs written to the gate G. The light emitting element EL emits light with a luminance corresponding to the drain current (drive current) Ids. At this time, the drive current Ids flows from the power supply Vccp to the ground line (cathode potential Vcath) through the series connection of the drive transistor Trd and the light emitting element EL.

図5のグラフに示すように、発光素子ELの電流Iと輝度Lは比例関係にある。即ち駆動トランジスタTrdから供給される電流Iが大きいほど、発光素子ELの輝度Lが高くなる。駆動電流Idsはゲート電圧Vgsにより制御される。ゲート電圧Vgsは映像信号Vsigに対応している。従ってこの画素2は映像信号Vsig(即ち階調を表すデータ電圧)に応じて発光素子の輝度Lを制御しており、電圧プログラム−電流駆動タイプとなっている。   As shown in the graph of FIG. 5, the current I and the luminance L of the light emitting element EL are in a proportional relationship. That is, as the current I supplied from the drive transistor Trd increases, the luminance L of the light emitting element EL increases. The drive current Ids is controlled by the gate voltage Vgs. The gate voltage Vgs corresponds to the video signal Vsig. Therefore, the pixel 2 controls the luminance L of the light emitting element in accordance with the video signal Vsig (that is, a data voltage representing gradation), and is a voltage program-current drive type.

電圧プログラム−電流駆動タイプの画素2に組み込まれる駆動トランジスタTrdは飽和領域で動作し、図5に示したトランジスタ特性式に従って駆動電流Idsを出力している。トランジスタ特性式から明らかなように、駆動トランジスタTrdは飽和領域で動作するとき、ゲート電圧Vgsが閾電圧Vthを超えた時点でドレイン電流Idsが流れ始め、以降ゲート電圧Vgsが大きくなるほど、ドレイン電流Idsが増大する。なおトランジスタ特性式に含まれる係数βは、パラメータW、L、μ、Coxで決まる定数である。ここでWは駆動トランジスタTrdのチャネル幅を表し、Lは同じくチャネル長を表し、μは同じく移動度を表し、Coxはゲート酸化膜の単位容量を表している。   The drive transistor Trd incorporated in the voltage program-current drive type pixel 2 operates in a saturation region, and outputs the drive current Ids according to the transistor characteristic equation shown in FIG. As is apparent from the transistor characteristic equation, when the driving transistor Trd operates in the saturation region, the drain current Ids starts flowing when the gate voltage Vgs exceeds the threshold voltage Vth, and the drain current Ids increases as the gate voltage Vgs increases thereafter. Will increase. Note that the coefficient β included in the transistor characteristic formula is a constant determined by the parameters W, L, μ, and Cox. Here, W represents the channel width of the drive transistor Trd, L represents the channel length, μ represents the mobility, and Cox represents the unit capacitance of the gate oxide film.

以上の説明から明らかなように、図5に示した電圧プログラム−電流駆動タイプの画素回路は、セレクタ(ソースドライバ)から供給される映像信号VsigをノードGに書き込み、駆動トランジスタTrdを飽和領域で動作させることで、これを電流源として利用している。一方この電流源に接続した発光素子ELは輝度が電流に比例する。この様にして駆動トランジスタTrdは信号Vsig(データ電圧)を発光電流に変換する役割を担っている。映像信号Vsig(データ電圧)は階調に応じたレベルを有している。VsigとVgsが対応しているため、発光素子ELの輝度を階調制御することができる。   As is clear from the above description, the voltage program-current drive type pixel circuit shown in FIG. 5 writes the video signal Vsig supplied from the selector (source driver) to the node G and sets the drive transistor Trd in the saturation region. By operating it, it is used as a current source. On the other hand, the luminance of the light emitting element EL connected to this current source is proportional to the current. In this manner, the drive transistor Trd plays a role of converting the signal Vsig (data voltage) into a light emission current. The video signal Vsig (data voltage) has a level corresponding to the gradation. Since Vsig and Vgs correspond, the luminance of the light emitting element EL can be controlled in gradation.

図5のトランジスタ特性式に示すように、閾電圧Vthやパラメータβにばらつきがなければ、ゲート電圧Vgsに応じて正確にIdsが得られるため、各画素の発光輝度にばらつきは生じない。しかしながら実際には製造プロセスの影響を受けて、閾電圧Vthやパラメータβ中の移動度μにばらつきが生じ、画面のユニフォーミティが乱される。   As shown in the transistor characteristic formula of FIG. 5, if there is no variation in the threshold voltage Vth and the parameter β, Ids can be accurately obtained according to the gate voltage Vgs, and therefore, there is no variation in the light emission luminance of each pixel. However, actually, due to the influence of the manufacturing process, the threshold voltage Vth and the mobility μ in the parameter β vary, and the uniformity of the screen is disturbed.

図6は、薄膜トランジスタ(TFT)の製造プロセスを示す模式図である。薄膜トランジスタは素子領域が例えば多結晶シリコン薄膜からなる。多結晶シリコンは非晶質シリコン(以下、アモルファスシリコンと呼ぶ場合もある)の薄膜にレーザー光を照射しアニールすることで得られる。図6は、このレーザーアニールプロセスを示す模式図である。エキシマレーザーから放射したレーザー光はミラーM1で反射された後、バリアブルアッテネータを通過する。その後ミラーM2で光路が折り曲げられ、ビーム整形器、ホモジナイザー、フィールドレンズ、ミラーM3、投影レンズを通ってラインビームLBに整形される。ラインビームLBは真空チャンバのウインドウを通過して、ガラス基板100に照射される。ガラス基板100には予め非晶質シリコン薄膜が成膜されており、これにラインビームLBを照射することで、多結晶シリコンに転換する。   FIG. 6 is a schematic diagram showing a manufacturing process of a thin film transistor (TFT). The element region of the thin film transistor is, for example, a polycrystalline silicon thin film. Polycrystalline silicon is obtained by annealing a thin film of amorphous silicon (hereinafter sometimes referred to as amorphous silicon) by irradiating it with laser light. FIG. 6 is a schematic diagram showing this laser annealing process. The laser light emitted from the excimer laser is reflected by the mirror M1, and then passes through the variable attenuator. Thereafter, the optical path is bent by the mirror M2, and shaped into a line beam LB through a beam shaper, a homogenizer, a field lens, a mirror M3, and a projection lens. The line beam LB passes through the vacuum chamber window and irradiates the glass substrate 100. An amorphous silicon thin film is formed on the glass substrate 100 in advance, and is converted into polycrystalline silicon by irradiating it with a line beam LB.

図示するように、ラインビームLBは長軸及び短軸を有する短冊状になっている。このラインビームLBを基板100に対して短軸方向にシフトしながら照射することで、基板100全面のアモルファスシリコンを多結晶シリコンに転換することができる。実際のプロセスでは、ラインビームLBの位置を固定する一方、基板100をスライドシフトしながら照射を行う。   As shown in the drawing, the line beam LB has a strip shape having a major axis and a minor axis. By irradiating the line beam LB to the substrate 100 while shifting in the minor axis direction, the amorphous silicon on the entire surface of the substrate 100 can be converted into polycrystalline silicon. In the actual process, irradiation is performed while the position of the line beam LB is fixed and the substrate 100 is slid and shifted.

ラインビームLBの強度は常に一定となるように調整しているが、実際にはその強度が時間的に変動してしまう。これにより多結晶シリコンの結晶ばらつきが生じ、結果的に薄膜トランジスタの特性にばらつきが生じる。このTFT特性のばらつきが表示装置のユニフォーミティの低下原因となっている。   Although the intensity of the line beam LB is adjusted to be always constant, the intensity actually varies with time. As a result, the crystal variation of the polycrystalline silicon occurs, and as a result, the characteristics of the thin film transistor vary. This variation in TFT characteristics causes a decrease in uniformity of the display device.

図7は、画素アレイ部1の表示状態を示す写真図である。図7は、パネル0の画面を写真撮影した図である。前述したように、レーザーアニールは、短冊状のラインビームLBをパネル0になる基板に対して断続的に照射していく。基板を短軸方向にずらしてはラインビームLBを照射するという処理を繰り返すことで、基板全面のアモルファスシリコンを多結晶化できる。ラインビームは照射するたびにエネルギーばらつきがあるため、ラインビームLBの照射領域ごとにTFT特性の差が発生する。ラインビームLB内では、長軸方向に沿って多少のエネルギー分布もあるが、これは連続的であるため大きな影響はない。長軸方向に沿ったTFTの特性ばらつきは連続的であるため、発光輝度のムラもグラデーションを持った状態となり、視覚的には目立たない。これに対して短軸方向に沿って重なり合うラインビームLBの境界ではTFT特性が非連続的に変化するため、TFT特性のばらつきも非連続的となる。このため、画面上では輝度の差が横スジとして認識され、目立つようになってしまう。図のパネル写真では、ラインビームLBの長軸方向に沿った横スジが現れてしまい、パネル0のユニフォーミティの低下原因となっている。   FIG. 7 is a photograph showing the display state of the pixel array unit 1. FIG. 7 is a photograph of the screen of panel 0 taken. As described above, in the laser annealing, the strip-shaped line beam LB is intermittently applied to the substrate that becomes the panel 0. By repeating the process of irradiating the line beam LB while shifting the substrate in the minor axis direction, the amorphous silicon on the entire surface of the substrate can be polycrystallized. Since the line beam varies in energy every time it is irradiated, a difference in TFT characteristics occurs for each irradiation region of the line beam LB. In the line beam LB, there is some energy distribution along the long axis direction, but since this is continuous, there is no significant influence. Since the TFT characteristic variation along the long axis direction is continuous, the unevenness of the light emission luminance also has a gradation and is not visually noticeable. On the other hand, since the TFT characteristics change discontinuously at the boundary of the line beam LB that overlaps along the minor axis direction, the variation in TFT characteristics also becomes discontinuous. For this reason, the difference in brightness is recognized as a horizontal streak on the screen and becomes noticeable. In the panel photograph in the figure, a horizontal stripe along the long axis direction of the line beam LB appears, which causes the uniformity of the panel 0 to decrease.

図8は多結晶シリコン薄膜を素子領域とする薄膜トランジスタTFTの構成を示す模式的な断面図である。上側はボトムゲート構造のTFTを表し、下側はトップゲート構造のTFTを表している。いずれも画素の駆動トランジスタTrdとして用いられる。   FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a thin film transistor TFT having a polycrystalline silicon thin film as an element region. The upper side represents a TFT having a bottom gate structure, and the lower side represents a TFT having a top gate structure. Both are used as a pixel drive transistor Trd.

ボトムゲート構造では、基板100の上にゲート電極Gが形成され、その上にゲート絶縁膜101を介して多結晶シリコン膜102が形成されている。前述したように、この多結晶シリコン薄膜102はレーザアニールによりアモルファスシリコンから転換されたものである。多結晶シリコン膜102は、ゲート電極Gの直上に位置するチャネル領域と、その両側に位置するソース領域S及びドレイン領域Dに分かれている。多結晶シリコン膜102は層間絶縁膜103で被覆されており、その上にソース電極S及びドレイン電極Dが形成されている。   In the bottom gate structure, a gate electrode G is formed on a substrate 100, and a polycrystalline silicon film 102 is formed thereon via a gate insulating film 101. As described above, this polycrystalline silicon thin film 102 has been converted from amorphous silicon by laser annealing. The polycrystalline silicon film 102 is divided into a channel region located immediately above the gate electrode G, and a source region S and a drain region D located on both sides thereof. The polycrystalline silicon film 102 is covered with an interlayer insulating film 103, on which a source electrode S and a drain electrode D are formed.

トップゲート構造の駆動トランジスタTrdは、基板100の上に下地膜104を介して多結晶シリコン膜102が形成されている。その上にはゲート絶縁膜101を介してゲート電極Gが形成されている。ゲート電極Gは層間絶縁膜103により被覆されており、その上にソース電極S及びドレイン電極Dが形成されている。   In the top-gate driving transistor Trd, a polycrystalline silicon film 102 is formed on a substrate 100 via a base film 104. A gate electrode G is formed thereon via a gate insulating film 101. The gate electrode G is covered with an interlayer insulating film 103, and a source electrode S and a drain electrode D are formed thereon.

いずれの構造においても、駆動トランジスタTrdのチャネル領域は多結晶シリコン膜102で形成されており、レーザアニールプロセスの変動の影響を受けている。具体的には、チャネル領域の閾電圧Vthや移動度μが個々の画素ごとにばらつく。より具体的には、ラインビームの照射領域と対応した関係で駆動トランジスタの閾電圧Vthや移動度μにばらつきが生じる。図5に示したトランジスタ特性式から明らかなように、Vthやμがばらつくと、駆動電流が変動するため、画素の発光輝度に差が生じる。この発光輝度差はラインビームの長軸方向に沿って現れるため、画面上ではスジとなって現れてしまう。なお、トランジスタ特性式を見ると、Vthやμの他、パラメータとしてチャネル幅W、チャネル長L、ゲート酸化膜単位容量Coxなどが含まれるが、これらは成膜プロセスや露光プロセスと関係するため、局所的なムラの原因にはなるが、スジの原因とはなり得ない。
なお、これらのプロセスに関係するムラは、連続的な変化であるため、スジのように非連続的に特性が変化すことはない。ユニフォーミティを最も悪化させるのは非連続な特性の変化であるり、この原因となるのは、LTPS(低温ポリシリコン)プロセスのELA(エキシマレーザーアニール)である。
In any structure, the channel region of the drive transistor Trd is formed of the polycrystalline silicon film 102 and is affected by fluctuations in the laser annealing process. Specifically, the threshold voltage Vth and mobility μ of the channel region vary for each pixel. More specifically, the threshold voltage Vth and mobility μ of the drive transistor vary depending on the relationship corresponding to the line beam irradiation region. As is clear from the transistor characteristic equation shown in FIG. 5, when Vth and μ vary, the drive current varies, so that a difference occurs in the light emission luminance of the pixels. Since this emission luminance difference appears along the long axis direction of the line beam, it appears as a streak on the screen. The transistor characteristic equation includes channel width W, channel length L, gate oxide unit capacitance Cox, etc. as parameters in addition to Vth and μ, but these are related to the film formation process and the exposure process. Although it causes local unevenness, it cannot cause streaks.
In addition, since the unevenness related to these processes is a continuous change, the characteristic does not change discontinuously like a streak. It is the discontinuous characteristic change that causes the uniformity to deteriorate most, and this is caused by ELPS (Excimer Laser Annealing) of LTPS (Low Temperature Polysilicon) process.

以上の説明から明らかなように、画面のユニフォーミティを改善するためには、個々の駆動トランジスタの閾電圧Vthや移動度μのばらつきを抑制する必要がある。しかしながらレーザアニールプロセスを用いてアモルファスシリコンを多結晶シリコンに転換する場合、ラインビームの境界で現れるTFT特性のばらつきは抑えることができない。そのため、この様な特性ばらつきを補正する手段が必要である。この目的で、本発明はダブルゲート構造の薄膜トランジスタを駆動トランジスタTrdに採用している。図9は、このダブルゲート構造の駆動トランジスタTrdを示す模式的な断面図である。図示するように基板100の上に第1ゲート電極Gが形成されている。その上にはゲート絶縁膜101を介して多結晶シリコン膜(以下、ポリシリコン膜と呼ぶ場合がある)102が形成されている。その上には層間絶縁膜103を介して第2ゲート電極(バックゲート電極)BGが形成されている。即ち層間絶縁膜103がポリシリコン膜102のチャネル領域と第2ゲート電極BGとの間のゲート絶縁膜となっている。この層間絶縁膜103の上にはソース電極Sとドレイン電極Dも形成されている。ポリシリコン膜102のチャネル領域を間にして、第1ゲート電極Gと第2ゲート電極BGは互いに対向している。   As is clear from the above description, in order to improve the uniformity of the screen, it is necessary to suppress variations in the threshold voltage Vth and mobility μ of the individual drive transistors. However, when amorphous silicon is converted to polycrystalline silicon using a laser annealing process, variations in TFT characteristics appearing at the boundary of the line beam cannot be suppressed. Therefore, a means for correcting such characteristic variation is necessary. For this purpose, the present invention employs a thin film transistor having a double gate structure for the drive transistor Trd. FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing the drive transistor Trd having the double gate structure. As shown in the figure, a first gate electrode G is formed on the substrate 100. A polycrystalline silicon film (hereinafter sometimes referred to as a polysilicon film) 102 is formed thereon with a gate insulating film 101 interposed therebetween. A second gate electrode (back gate electrode) BG is formed thereon via an interlayer insulating film 103. That is, the interlayer insulating film 103 is a gate insulating film between the channel region of the polysilicon film 102 and the second gate electrode BG. A source electrode S and a drain electrode D are also formed on the interlayer insulating film 103. The first gate electrode G and the second gate electrode BG are opposed to each other with the channel region of the polysilicon film 102 in between.

チャネル領域の閾電圧Vthや移動度μはレーザアニールプロセスの影響を受けてラインごとにばらつく。Vthばらつきに対してμばらつきの影響は1/10程度である。従って画面のユニフォーミティを改善するためには、Vth補正が重要である。閾電圧Vthはゲート電界によって補正することができる。そこで本発明では、図9に示したダブルゲート構造を採用し、閾電圧のばらつきを補正する補正電位(バックゲート電位)を第2ゲート電極BGに印加している。なお図9のダブルゲート構造では、第1ゲート電極Gと第2ゲート電極BGのサイズはチャネル領域と合わせて同じになるようにしている。但し本発明はこれに限られるものではなく、駆動トランジスタTrdの閾電圧Vthを調整可能な範囲でバックゲート電極BGのサイズを設定することができる。   The threshold voltage Vth and mobility μ of the channel region vary from line to line under the influence of the laser annealing process. The influence of μ variation on the Vth variation is about 1/10. Therefore, in order to improve the uniformity of the screen, Vth correction is important. The threshold voltage Vth can be corrected by the gate electric field. Therefore, in the present invention, the double gate structure shown in FIG. 9 is adopted, and a correction potential (back gate potential) for correcting variation in threshold voltage is applied to the second gate electrode BG. In the double gate structure of FIG. 9, the sizes of the first gate electrode G and the second gate electrode BG are made to be the same as the channel region. However, the present invention is not limited to this, and the size of the back gate electrode BG can be set within a range in which the threshold voltage Vth of the drive transistor Trd can be adjusted.

図10は、ダブルゲート構造のトランジスタの回路図である。左側はNチャネル型であり、右側はPチャネル型である。いずれの場合も、一対の電流端(ソース領域S及びドレイン領域D)の間に位置するチャネル部に対して、第1ゲート電極G及び第2ゲート電極BGが対向配置されている。回路図の上にある模式図に示すように、ポリシリコン膜PSがソース領域S及びドレイン領域Dとその間のチャネル領域(チャネル部)に分かれている。チャネル部の下側に第1ゲート電極(Gate1)が配されている一方、チャネル部の上側に第2ゲート電極(Gate2)が配されている。第1ゲート電極Gate1はチャネル部の導通状態(電気抵抗)を制御する。これに対し第2ゲート電極Gate2はチャネル部に加える電界によってチャネル部の閾電圧を調整する。   FIG. 10 is a circuit diagram of a transistor having a double gate structure. The left side is an N channel type, and the right side is a P channel type. In any case, the first gate electrode G and the second gate electrode BG are disposed to face the channel portion located between the pair of current ends (source region S and drain region D). As shown in the schematic diagram above the circuit diagram, the polysilicon film PS is divided into a source region S and a drain region D and a channel region (channel portion) therebetween. A first gate electrode (Gate1) is disposed below the channel portion, while a second gate electrode (Gate2) is disposed above the channel portion. The first gate electrode Gate1 controls the conduction state (electric resistance) of the channel portion. On the other hand, the second gate electrode Gate2 adjusts the threshold voltage of the channel portion by an electric field applied to the channel portion.

図11はダブルゲート型トランジスタの動作説明に供する回路図及び特性グラフである。図示するように、ダブルゲートトランジスタのドレインD、第1ゲートG及び第2ゲートBGに対し、ソースSを基準として所定の電位が印加され、チャネル部の状態を決定している。第1ゲート電極Gにゲート電圧Vgsが印加されている。前述したように、このゲート電圧Vgsは映像信号に対応しており、ソースSとドレインDの間に流れる電流Idsを制御している。またソースSとドレインDとの間に印加される電圧Vdsは駆動トランジスタTrdが飽和領域で動作するように、十分な電圧幅となるように設定されている。最後に第2ゲート電極BGに印加されるバックゲート電圧Vbgsが本発明にかかる補正電位であり、チャネル領域の閾電圧Vthのばらつきを抑制している。   FIG. 11 is a circuit diagram and a characteristic graph for explaining the operation of the double gate transistor. As shown in the figure, a predetermined potential is applied to the drain D, the first gate G, and the second gate BG of the double-gate transistor with reference to the source S to determine the state of the channel portion. A gate voltage Vgs is applied to the first gate electrode G. As described above, the gate voltage Vgs corresponds to the video signal, and controls the current Ids flowing between the source S and the drain D. The voltage Vds applied between the source S and the drain D is set to have a sufficient voltage width so that the drive transistor Trd operates in the saturation region. Finally, the back gate voltage Vbgs applied to the second gate electrode BG is a correction potential according to the present invention, and suppresses variations in the threshold voltage Vth in the channel region.

Nチャネル型のTFT(NMOS)の場合、バックゲート電位Vbgsを高レベルHiから低レベルLoに変化することで、NMOSの特性はデプレション側からエンハンス側に変化する。この様に適切な補正電位Vbgsを駆動トランジスタのバックゲートに印加することで、駆動トランジスタの閾電圧Vthを所定の狙い値に近付けることができる。   In the case of an N-channel TFT (NMOS), the NMOS characteristics change from the depletion side to the enhancement side by changing the back gate potential Vbgs from the high level Hi to the low level Lo. Thus, by applying an appropriate correction potential Vbgs to the back gate of the drive transistor, the threshold voltage Vth of the drive transistor can be brought close to a predetermined target value.

またPチャネル型のトランジスタ(PMOS)の場合も、バックゲート電位Vbgsを低レベルLo側からハイレベルHi側に変化させると、PMOSのトランジスタ特性はデプレション側からエンハンス側に変化する。Vbgsを適切に設定することで、個々のPMOSトランジスタの閾電圧Vthを狙い値に揃えることが可能である。   Also in the case of a P-channel transistor (PMOS), when the back gate potential Vbgs is changed from the low level Lo side to the high level Hi side, the PMOS transistor characteristics change from the depletion side to the enhancement side. By appropriately setting Vbgs, the threshold voltage Vth of each PMOS transistor can be set to a target value.

TFT特性のばらつきのほとんどがVthばらつきである。よってバックゲートによるVthシフトを用いれば、Vthばらつきを補正することができる。実際のTFTでは、Vthばらつきの1/10程度がμばらつきである。Vthばらつきが10%ならば、μばらつきは1%程度である。人間の輝度差視認能力は1%以上なので、本発明に従ってVthばらつきを画面全体にわたって1%以下に補正すれば、画質ユニフォーミティは実際上問題のないレベルまで改善できる。換言すると、駆動トランジスタのバックゲートに印加する補正電位を適切に制御することで、駆動トランジスタのVthばらつきを1%以内に収める。   Most variations in TFT characteristics are Vth variations. Therefore, Vth variation can be corrected by using the Vth shift by the back gate. In an actual TFT, μ variation is about 1/10 of Vth variation. If the Vth variation is 10%, the μ variation is about 1%. Since the human luminance difference visual recognition ability is 1% or more, if the Vth variation is corrected to 1% or less over the entire screen according to the present invention, the image quality uniformity can be improved to a level that is practically no problem. In other words, by appropriately controlling the correction potential applied to the back gate of the drive transistor, the Vth variation of the drive transistor is kept within 1%.

図12は、本発明にかかる表示装置の第3実施形態を示す模式的な平面図である。図1に示した第1実施形態と対応する部分には対応する参照番号を付して理解を容易にしている。第1実施形態と異なる点は、各画素2の駆動トランジスタがNチャネル型ではなくPチャネル型としたことである。このPチャネル型の駆動トランジスタTrdもポリシリコンを素子領域としたTFTである。このポリシリコンはレーザアニールでアモルファスシリコンをポリシリコンに転換したものである。各駆動トランジスタTrdの第2ゲート電極(バックゲート電極)は制御線CLによって共通接続されている。この制御線CLは画素2の行と平行に配されている。レーザアニールに用いたラインビームの長軸方向は、同じく画素2の行方向と平行に設定されている。レーザアニールでアモルファスシリコンをポリシリコンに転換したTFTは、ラインビームの長軸方向に沿ってTFT特性が揃っている。そこで本実施形態は行方向に沿って駆動トランジスタTrdのバックゲートを共通接続している。バックゲートを共通接続した制御線CLに対し、外部の補正回路から補正電位Vbgを印加する。   FIG. 12 is a schematic plan view showing a third embodiment of the display device according to the present invention. Portions corresponding to those in the first embodiment shown in FIG. 1 are given corresponding reference numbers for easy understanding. The difference from the first embodiment is that the driving transistor of each pixel 2 is not an N-channel type but a P-channel type. This P-channel type drive transistor Trd is also a TFT having polysilicon as an element region. This polysilicon is obtained by converting amorphous silicon into polysilicon by laser annealing. The second gate electrodes (back gate electrodes) of the drive transistors Trd are commonly connected by a control line CL. The control line CL is arranged in parallel with the row of the pixels 2. The major axis direction of the line beam used for laser annealing is also set in parallel with the row direction of the pixels 2. A TFT in which amorphous silicon is converted to polysilicon by laser annealing has the same TFT characteristics along the long axis direction of the line beam. Therefore, in this embodiment, the back gates of the drive transistors Trd are commonly connected along the row direction. A correction potential Vbg is applied from an external correction circuit to the control line CL commonly connected to the back gate.

図13は、図12に示したPチャネル型駆動トランジスタTrdの電流電圧特性を示すグラフである。理解を容易にするため、図3に示したNチャネル型トランジスタの電流電圧特性グラフと同様の表記を採用している。図11で説明したように、Pチャネル型のTFTの場合、バックゲート電位を低レベルLoから高レベルHiに変化させると、TFT特性はデプレション側からエンハンス側に変化する。そこで画素の駆動トランジスタTrdがデプレション特性を示す場合、相対的に高いバックゲート電圧を印加して、TFT特性を目標の狙い特性に近づける。逆に画素の駆動トランジスタTrdがエンハンス特性を示す場合、相対的に低い補正電位をバックゲートに印加して、TFT特性を目標となる狙い特性に近づける。   FIG. 13 is a graph showing the current-voltage characteristics of the P-channel type drive transistor Trd shown in FIG. In order to facilitate understanding, the same notation as the current-voltage characteristic graph of the N-channel transistor shown in FIG. 3 is adopted. As described in FIG. 11, in the case of a P-channel TFT, when the back gate potential is changed from the low level Lo to the high level Hi, the TFT characteristics change from the depletion side to the enhancement side. Therefore, when the pixel drive transistor Trd exhibits depletion characteristics, a relatively high back gate voltage is applied to bring the TFT characteristics closer to the target characteristics. Conversely, when the pixel drive transistor Trd exhibits enhancement characteristics, a relatively low correction potential is applied to the back gate to bring the TFT characteristics closer to the target characteristics.

レーザアニールを用いた低温ポリシリコンプロセスで生じるTFT特性ばらつきの内で、最も目立つものはVthばらつきである。これは、レーザアニールに用いるラインビームの長軸方向と平行に、TFTの閾電圧特性が揃うためである。従って、本発明ではラインビームの長軸方向に合わせてバックゲート補正を行っている。画素の行または列に沿ったスジ状のTFTばらつきは、主としてレーザアニールプロセスによるものであるが、これ以外にシリコン薄膜の膜厚やシリコン薄膜に注入する不純物の濃度に起因する、ムラ状のTFT特性ばらつきもある。このムラに対処するためには、画素アレイ部を格子状に領域分割し、個々の領域ごとにバックゲート補正を行うようにすればよい。究極的には、各駆動トランジスタを画素単位で個別にバックゲート補正すれば、理想的な状態で画面のユニフォーミティを高めることができる。本発明の技術は、TFT特性ばらつきを抑える手法として、画素アレイ部に形成されるTFTの他、画素アレイ部1と同じパネル0上に形成される周辺回路のTFTにも適応できる。例えばスキャナ4やセレクタ3を構成するTFTにも、その閾電圧ばらつきを補正するために本発明のバックゲート補正を採用することができる。本発明にかかるバックゲート補正は、様々な種類のTFTに適用できる。低温ポリシリコンTFTだけでなく、高温ポリシリコンTFT、アモルファスシリコンTFTにも応用できる。さらにはLSI製造プロセスにも適用可能である。   Among the TFT characteristic variations caused by the low-temperature polysilicon process using laser annealing, the most conspicuous is the Vth variation. This is because the threshold voltage characteristics of the TFT are aligned in parallel with the long axis direction of the line beam used for laser annealing. Therefore, in the present invention, the back gate correction is performed in accordance with the long axis direction of the line beam. The stripe-like TFT variation along the pixel row or column is mainly due to the laser annealing process, but in addition to this, the uneven TFT caused by the film thickness of the silicon thin film and the concentration of impurities implanted into the silicon thin film There is also characteristic variation. In order to deal with this unevenness, the pixel array section may be divided into a grid and the back gate correction may be performed for each area. Ultimately, if each drive transistor is individually back gate-corrected for each pixel, the uniformity of the screen can be increased in an ideal state. The technique of the present invention can be applied not only to TFTs formed in the pixel array section but also to peripheral circuit TFTs formed on the same panel 0 as the pixel array section 1 as a technique for suppressing variations in TFT characteristics. For example, the back gate correction of the present invention can be adopted for the TFTs constituting the scanner 4 and the selector 3 in order to correct the threshold voltage variation. The back gate correction according to the present invention can be applied to various types of TFTs. It can be applied not only to low-temperature polysilicon TFTs but also to high-temperature polysilicon TFTs and amorphous silicon TFTs. Further, it can be applied to an LSI manufacturing process.

図14は、本発明にかかる表示装置の第4実施形態を示す模式的な平面図である。理解を容易にするため、図1に示した第1実施形態と対応する部分には対応する参照番号を付してある。本実施形態の表示装置も、基本的に画素アレイ部1と回路部とからなる。画面を構成する画素アレイ部1はパネル0に配されている。画素アレイ部1を駆動する周辺回路部も同じパネル0上に搭載されている。パネル0に搭載された回路部は、セレクタ3やスキャナ4ばかりでなく、補正回路6も含んでいる。この補正回路6は、各制御線CL単位で補正電位を自動的に検出し、且検出した補正電位を対応する制御線CLに印加する。   FIG. 14 is a schematic plan view showing a fourth embodiment of the display device according to the present invention. In order to facilitate understanding, parts corresponding to those in the first embodiment shown in FIG. The display device of this embodiment also basically includes a pixel array unit 1 and a circuit unit. A pixel array unit 1 constituting the screen is arranged on the panel 0. A peripheral circuit unit for driving the pixel array unit 1 is also mounted on the same panel 0. The circuit unit mounted on the panel 0 includes not only the selector 3 and the scanner 4 but also the correction circuit 6. The correction circuit 6 automatically detects a correction potential for each control line CL, and applies the detected correction potential to the corresponding control line CL.

以上の説明から明らかなように第4実施形態は補正回路6をパネル0に内蔵する点で、先の第1実施形態と異なる。図1に示した第1実施形態は、補正電位(バックゲート電位)をパネルの外部から入力する構成になっている。そのためにパネルの外周端に沿って端子を設けている。その端子数(パッド数)は画素アレイ部の行数もしくは列数と同じである。例えば制御線CLを走査線と平行に配する場合、画素の行ごとにパッドを設ける必要がある。画素アレイ部が高精細化して画素密度が高くなると、非常に細かい間隔でパッドを形成する必要があり、外部の補正回路との接続が難しくなってくる。また各制御線CLごとに適切なバックゲート電位を決定するために工数がかかるなどの問題がある。これに対し本実施形態はパネル0内に補正回路6を内蔵し、各制御線CLごとに最適な補正電位を自動的に検出すると共に、この検出した補正電位を対応する制御線CLに印加している。かかる構成により、パネル0の内側の画素アレイ部1と、外側の補正回路を結線する必要がなくなる。   As is clear from the above description, the fourth embodiment is different from the first embodiment in that the correction circuit 6 is built in the panel 0. The first embodiment shown in FIG. 1 is configured to input a correction potential (back gate potential) from the outside of the panel. For this purpose, terminals are provided along the outer peripheral edge of the panel. The number of terminals (the number of pads) is the same as the number of rows or columns of the pixel array section. For example, when the control line CL is arranged in parallel with the scanning line, it is necessary to provide a pad for each row of pixels. When the pixel array portion has a high definition and a high pixel density, it is necessary to form pads at very fine intervals, and connection with an external correction circuit becomes difficult. Further, there is a problem that it takes time to determine an appropriate back gate potential for each control line CL. In contrast, the present embodiment incorporates the correction circuit 6 in the panel 0, and automatically detects the optimum correction potential for each control line CL and applies the detected correction potential to the corresponding control line CL. ing. With this configuration, it is not necessary to connect the pixel array unit 1 inside the panel 0 and the outside correction circuit.

図15は、図14に示した第4実施形態に含まれる補正回路6の具体的な構成例を示す回路図である。図示するように、補正回路6は、各制御線CLに対応して配された補正ユニットの集合からなる。この補正ユニットは、電源ライン(高電位Vh)と接地ライン(低電位Vl)との間で直列接続された検出トランジスタTrnと抵抗素子Rからなる。各補正ユニットに対応する制御線CLは、検出トランジスタTrnと抵抗素子Rの中点(中間ノード)に接続している。本実施形態では、この中間ノードの電位をバックゲート電位(補正電位)として各制御線CLに印加している。   FIG. 15 is a circuit diagram showing a specific configuration example of the correction circuit 6 included in the fourth embodiment shown in FIG. As shown in the drawing, the correction circuit 6 is composed of a set of correction units arranged corresponding to each control line CL. This correction unit includes a detection transistor Trn and a resistance element R connected in series between a power supply line (high potential Vh) and a ground line (low potential Vl). The control line CL corresponding to each correction unit is connected to the midpoint (intermediate node) of the detection transistor Trn and the resistance element R. In this embodiment, the potential of this intermediate node is applied to each control line CL as a back gate potential (correction potential).

検出トランジスタTrnは、対応する制御線CLに接続している駆動トランジスタTrdと同一サイズで同一ライン上に位置する。駆動トランジスタTrdはNチャネル型であり、検出トランジスタTrnもこれに対応してNチャネル型となっている。同一の制御線CLに接続している駆動トランジスタTrdと検出トランジスタTrnは同一ライン上に位置し、同じタイミングでラインビームの照射を受けている。従って同じ制御線CLに接続した駆動トランジスタTrdと検出トランジスタTrnは同一の特性を備えている。このことを利用して行単位(ライン単位)で駆動トランジスタTrdの特性を検出し、それに合わせた補正電位を自動的に設定している。   The detection transistor Trn has the same size and the same size as the drive transistor Trd connected to the corresponding control line CL. The drive transistor Trd is an N-channel type, and the detection transistor Trn is also an N-channel type correspondingly. The drive transistor Trd and the detection transistor Trn connected to the same control line CL are located on the same line and are irradiated with a line beam at the same timing. Therefore, the drive transistor Trd and the detection transistor Trn connected to the same control line CL have the same characteristics. By utilizing this fact, the characteristics of the drive transistor Trd are detected in units of rows (lines), and a correction potential corresponding to the characteristics is automatically set.

引き続き図15を参照して、補正回路6の動作を詳細に説明する。各補正ユニットに含まれる検出トランジスタTrnのゲートに外部から所定の動作電圧Vgを印加する。これにより、各補正ユニットの検出トランジスタTrnはオン状態となり、負荷抵抗Rに高電位Vh側から低電位Vl側に向かって電流が流れる。   With continued reference to FIG. 15, the operation of the correction circuit 6 will be described in detail. A predetermined operating voltage Vg is applied from the outside to the gate of the detection transistor Trn included in each correction unit. Accordingly, the detection transistor Trn of each correction unit is turned on, and a current flows through the load resistor R from the high potential Vh side toward the low potential Vl side.

かかる動作で、狙いTFT特性(平均TFT特性)よりも駆動トランジスタTrdがデプレションのTFT特性を示すラインでは、対応する補正ユニットの中間ノード電位は比較的低くなる。このため対応する制御線CLには比較的低いバックゲート電位が印加される。これにより図3に示したとおりTFT特性がエンハンス方向にずれる。デプレション特性がエンハンス方向にシフトすることで、狙いのTFT特性が得られる。   In such an operation, the intermediate node potential of the corresponding correction unit is relatively low in the line in which the drive transistor Trd shows the depletion TFT characteristic than the target TFT characteristic (average TFT characteristic). Therefore, a relatively low back gate potential is applied to the corresponding control line CL. As a result, the TFT characteristics are shifted in the enhancement direction as shown in FIG. The target TFT characteristic can be obtained by shifting the depletion characteristic in the enhancement direction.

逆に狙いTFT特性(平均TFT特性)よりもエンハンスのTFT特性を示すラインでは、対応する補正ユニットの中間ノード電位は比較的高レベルになる。そのため対応する制御線CLにはバックゲート電位(補正電位)として比較的高い電位が印加され、TFT特性がデプレション方向にシフトする。エンハンス特性がデプレション方向にずれることで、狙いのTFT特性になる。この様な動作により、各駆動トランジスタの特性がライン単位で調節され、画素アレイ部1全体として均一になる為、図7に示したようなスジムラが改善される。   On the other hand, in the line that shows enhanced TFT characteristics rather than the target TFT characteristics (average TFT characteristics), the intermediate node potential of the corresponding correction unit is relatively high. Therefore, a relatively high potential is applied as a back gate potential (correction potential) to the corresponding control line CL, and the TFT characteristics shift in the depletion direction. When the enhancement characteristic is shifted in the depletion direction, the target TFT characteristic is obtained. By such an operation, the characteristics of each drive transistor are adjusted in units of lines, and the pixel array unit 1 as a whole becomes uniform, so that unevenness as shown in FIG. 7 is improved.

補正回路6に動作電圧Vg、電源電圧Vh及び接地電圧Vlを供給するため、パネル0の外周端には3個の端子(パッド)が形成されている。図1に示した実施形態と比較すれば明らかなように、外部接続用のバッド数が大幅に削減できる。外部からゲート電位Vg、高電位Vh及び低電位Vlを調整することで、補正回路6で行われるバックゲート補正の程度(かかり具合)を調整することができる。   In order to supply the correction circuit 6 with the operating voltage Vg, the power supply voltage Vh, and the ground voltage Vl, three terminals (pads) are formed on the outer peripheral edge of the panel 0. As apparent from the comparison with the embodiment shown in FIG. 1, the number of external connection pads can be greatly reduced. By adjusting the gate potential Vg, the high potential Vh, and the low potential Vl from the outside, it is possible to adjust the degree of the back gate correction performed by the correction circuit 6 (how it is applied).

図16を参照して、図15に示した補正回路6の動作を詳細に説明する。図16は1個の補正ユニットの等価回路図である。また検出トランジスタTrnのVgs−Ids特性を示すグラフも併せて載せてある。検出トランジスタTrnがデプレション特性を示す場合、ドレイン電流Idsが高いため、中間ノードはVlよりの電位となる。中間ノードに現れる補正電位Vbgが低くなるため、検出トランジスタTrnと同じくデプレション特性を示す同一ライン上のNチャネル駆動トランジスタTrdはエンハンス方向にシフトし、狙いのTFT特性となる。逆に検出トランジスタTrdがエンハンス特性の場合、ドレイン電流Idsが低いため、中間ノードはVhよりの電位となる。中間ノードに現れる補正電位Vbgが高いため、エンハンス特性を示す同一ライン上のNチャネル駆動トランジスタTrdはデプレション方向にシフトし、やはり狙いのTFT特性となる。   The operation of the correction circuit 6 shown in FIG. 15 will be described in detail with reference to FIG. FIG. 16 is an equivalent circuit diagram of one correction unit. A graph showing the Vgs-Ids characteristic of the detection transistor Trn is also shown. When the detection transistor Trn exhibits depletion characteristics, the drain current Ids is high, so that the intermediate node has a potential higher than Vl. Since the correction potential Vbg appearing at the intermediate node is lowered, the N-channel drive transistor Trd on the same line showing the depletion characteristics as the detection transistor Trn is shifted in the enhancement direction to have the target TFT characteristics. Conversely, when the detection transistor Trd has an enhancement characteristic, the drain current Ids is low, so that the intermediate node has a potential higher than Vh. Since the correction potential Vbg appearing at the intermediate node is high, the N-channel drive transistor Trd on the same line showing the enhancement characteristic shifts in the depletion direction, and the desired TFT characteristic is obtained.

図17は、本発明にかかる表示装置の第5実施形態を示す模式的な平面図である。図14及び図15に示した第4実施形態と対応する部分には対応する参照番号を付して理解を容易にしている。図15に示した第4実施形態と異なり、この第5実施形態は駆動トランジスタTrdがPチャネル型である。これに対応して補正回路6側の各補正ユニットにはPチャネル型の検出トランジスタTrpを用いている。   FIG. 17 is a schematic plan view showing a fifth embodiment of the display device according to the present invention. Portions corresponding to those in the fourth embodiment shown in FIGS. 14 and 15 are given corresponding reference numerals for easy understanding. Unlike the fourth embodiment shown in FIG. 15, in the fifth embodiment, the drive transistor Trd is a P-channel type. Correspondingly, a P-channel detection transistor Trp is used for each correction unit on the correction circuit 6 side.

図18は、図17に示した第5実施形態に含まれる補正回路の動作説明に供する模式図である。1個の補正ユニットの等価回路図と、この補正ユニットに含まれる検出トランジスタTrpのVgs−Ids特性を示すグラフである。図示するように補正ユニットは高電位Vhと低電位Vlとの間に直列接続された検出トランジスタTrpと負荷抵抗Rからなり、両者の中間ノードに補正電位(バックゲート電位)Vbgが現れる。外部から供給される動作電位Vgに応じて検出トランジスタTrpがオンすると、高電位Vhから低電位Vlに向かってドレイン電流Idsが流れる。   FIG. 18 is a schematic diagram for explaining the operation of the correction circuit included in the fifth embodiment shown in FIG. It is the graph which shows the equivalent circuit diagram of one correction | amendment unit, and the Vgs-Ids characteristic of the detection transistor Trp contained in this correction | amendment unit. As shown in the figure, the correction unit includes a detection transistor Trp and a load resistor R connected in series between a high potential Vh and a low potential Vl. A correction potential (back gate potential) Vbg appears at an intermediate node between the two. When the detection transistor Trp is turned on according to the operating potential Vg supplied from the outside, the drain current Ids flows from the high potential Vh toward the low potential Vl.

検出トランジスタTrpがデプレション特性の場合、Idsが高いため中間ノードはVhよりの電位になる。中間ノードに現れるVbg電位が高いため、同じくデプレション特性を示す同一ライン上の駆動トランジスタTrpはエンハンス方向にシフトし、狙いのTFT特性になる。逆に検出トランジスタTrpがエンハンス特性を示す場合、Idsが低いため中間ノードはVlよりの電位となる。中間ノードに現れるバックゲート電位Vbgが低いため、同じくエンハンス特性を示す同一ライン上のPチャネル駆動トランジスタTrpはデプレション方向にシフトし、狙いのTFT特性になる。   When the detection transistor Trp has a depletion characteristic, since the Ids is high, the intermediate node is at a potential higher than Vh. Since the Vbg potential appearing at the intermediate node is high, the drive transistors Trp on the same line, which also show the depletion characteristics, shift in the enhancement direction and become the target TFT characteristics. Conversely, when the detection transistor Trp exhibits enhancement characteristics, the intermediate node is at a potential higher than Vl because Ids is low. Since the back gate potential Vbg appearing at the intermediate node is low, the P-channel drive transistor Trp on the same line, which also exhibits enhancement characteristics, shifts in the depletion direction and becomes the target TFT characteristics.

図19は、本発明にかかる表示装置の第6実施形態を示す模式的な平面図である。図15に示した第4実施形態と対応する部分には対応する参照番号を付してある。第4実施形態と異なる点は、各補正ユニットの負荷抵抗Rを負荷トランジスタで置き換えていることである。即ち各制御線CLに対応する各補正ユニットは、電源ラインVhと接地ラインVlとの間で直列接続された一対の検出トランジスタTrnとこれに相補的な負荷トランジスタTrpとからなる。各補正ユニットに対応する制御線CLは、検出トランジスタTrnと負荷トランジスタTrpの中点(中間ノード)に接続している。検出トランジスタTrnのゲートには外部からゲート電圧Vgnが印加され、負荷トランジスタTrpのゲートにも外部からゲート電圧Vgpが印加される。   FIG. 19 is a schematic plan view showing a sixth embodiment of the display device according to the present invention. Portions corresponding to those in the fourth embodiment shown in FIG. 15 are denoted by corresponding reference numerals. The difference from the fourth embodiment is that the load resistance R of each correction unit is replaced with a load transistor. That is, each correction unit corresponding to each control line CL includes a pair of detection transistors Trn connected in series between the power supply line Vh and the ground line Vl and a load transistor Trp complementary thereto. The control line CL corresponding to each correction unit is connected to the midpoint (intermediate node) of the detection transistor Trn and the load transistor Trp. A gate voltage Vgn is applied to the gate of the detection transistor Trn from the outside, and a gate voltage Vgp is also applied to the gate of the load transistor Trp from the outside.

図15に示した第4実施形態は、補正回路6を動作させるために、検出トランジスタTrnを常に通電状態におく必要がある。常に高電位Vhから低電位Vlに向かって動作電流が流れることになり、結果的にパネルの消費電力が高くなってしまう。これに対処するため、本実施形態は一対の相補トランジスタを直列接続して補正ユニットとし、消費電力の節約を図っている。即ち図19に示した第6実施形態は一対の相補トランジスタをオンして補正電位を自動的に検出し、その後一対の相補トランジスタをオフして検出した補正電位を中間ノードに保持する構成としている。この保持された補正電位をバックゲート電位として対応する制御線CLに印加する。かかる構成により補正電位の検出及び印加に要する消費電力を大幅に削減できる。直列接続されたNチャネルトランジスタTrn及びPチャネルトランジスタTrpのゲート電位を同時にオフすることで、中間ノードに補正電位が保持される。これにより常時貫通電流が流れるという状態がなくなる。定期的に相補トランジスタTrn,Trpのゲートをオンにすることで、中間ノードの電位をリフレッシュできる。   In the fourth embodiment shown in FIG. 15, it is necessary to keep the detection transistor Trn in an energized state in order to operate the correction circuit 6. The operating current always flows from the high potential Vh toward the low potential Vl, resulting in an increase in power consumption of the panel. In order to cope with this, in the present embodiment, a pair of complementary transistors are connected in series to form a correction unit to save power consumption. That is, the sixth embodiment shown in FIG. 19 is configured to automatically detect the correction potential by turning on the pair of complementary transistors, and then turn off the pair of complementary transistors and hold the detected correction potential at the intermediate node. . The held correction potential is applied as a back gate potential to the corresponding control line CL. With this configuration, power consumption required for detection and application of the correction potential can be greatly reduced. The correction potential is held at the intermediate node by simultaneously turning off the gate potentials of the N-channel transistor Trn and the P-channel transistor Trp connected in series. As a result, a state in which a through current always flows is eliminated. By periodically turning on the gates of the complementary transistors Trn and Trp, the potential of the intermediate node can be refreshed.

図20は、本発明にかかる表示装置の第7実施形態を示す模式的な平面図である。理解を容易にするため、図19に示した第6実施形態と対応する部分には対応する参照番号を付してある。第6実施形態と同様にこの第7実施形態も、各補正ユニットが一対の相補トランジスタTrn,Trpの直列接続からなる。異なる点は、図19に示した第6実施形態がNチャネル型の駆動トランジスタを用いているのに対し、本実施形態では各画素2がPチャネル型の駆動トランジスタTrdを用いていることである。これに対応して補正ユニット側ではPチャネルトランジスタTrpが検出トランジスタになり、NチャネルトランジスタTrnが負荷トランジスタとなる。但し補正回路6の各ユニットの構成は第6実施形態と第7実施形態で同様となっており、動作もまったく同じようになる。   FIG. 20 is a schematic plan view showing a seventh embodiment of the display device according to the present invention. In order to facilitate understanding, portions corresponding to those of the sixth embodiment shown in FIG. 19 are denoted by corresponding reference numerals. As in the sixth embodiment, in the seventh embodiment, each correction unit is formed of a series connection of a pair of complementary transistors Trn and Trp. The difference is that the sixth embodiment shown in FIG. 19 uses an N-channel type drive transistor, whereas each pixel 2 uses a P-channel type drive transistor Trd in this embodiment. . Correspondingly, on the correction unit side, the P-channel transistor Trp becomes a detection transistor, and the N-channel transistor Trn becomes a load transistor. However, the configuration of each unit of the correction circuit 6 is the same between the sixth embodiment and the seventh embodiment, and the operation is exactly the same.

図21を参照して、第6実施形態及び第7実施形態の動作を詳細に説明する。図21は1個の補正ユニットの等価回路と、PチャネルトランジスタTrpのVgs−Ids特性及びNチャネルトランジスタTrnのVgs−Ids特性を示している。図示するようにPチャネルトランジスタTrpとNチャネルトランジスタTrnは高電位Vhと低電位Vlとの間で直列接続されており、両トランジスタの中間ノードに補正電位Vbgが現れる。ゲート電位Vgp及びVgnを制御することで、トランジスタTrp,Trnをオンオフ切換できる。   With reference to FIG. 21, the operation of the sixth embodiment and the seventh embodiment will be described in detail. FIG. 21 shows an equivalent circuit of one correction unit, the Vgs-Ids characteristic of the P-channel transistor Trp, and the Vgs-Ids characteristic of the N-channel transistor Trn. As shown in the figure, the P-channel transistor Trp and the N-channel transistor Trn are connected in series between the high potential Vh and the low potential Vl, and the correction potential Vbg appears at the intermediate node of both transistors. The transistors Trp and Trn can be switched on and off by controlling the gate potentials Vgp and Vgn.

第6実施形態及び第7実施形態では、トランジスタTrn及びTrpが同一層のポリシリコンで形成されている。即ちトランジスタTrnとTrpはチャネル領域が共通のポリシリコンで形成されている。この場合、NチャネルトランジスタTrnがデプレション特性を示すときPチャネルトランジスタはエンハンス特性を示す特徴がある。逆にNチャネルトランジスタTrnがエンハンス特性を示すとき、PチャネルトランジスタTrpはデプレション特性を示す特徴がある。この様に、NMOSとPMOSのチャネル部が共通となっている場合には、NMOSとPMOSの間でTFT特性に逆の相関がある。   In the sixth and seventh embodiments, the transistors Trn and Trp are formed of the same polysilicon layer. That is, the transistors Trn and Trp are formed of polysilicon having a common channel region. In this case, when the N-channel transistor Trn exhibits depletion characteristics, the P-channel transistor has a characteristic of exhibiting enhancement characteristics. Conversely, when the N-channel transistor Trn exhibits enhancement characteristics, the P-channel transistor Trp has a characteristic of exhibiting depletion characteristics. As described above, when the channel portions of the NMOS and PMOS are common, there is an inverse correlation in TFT characteristics between the NMOS and PMOS.

トランジスタTrnがデプレション特性で且トランジスタTrpがエンハンス特性の場合、両トランジスタをオンすると中間ノードの電位はVlよりになる。補正電位Vbgが低いため、駆動トランジスタTrdがNチャネル型であればエンハンス特性にシフトする。逆に駆動トランジスタTrdがPチャネル型であればデプレション傾向にシフトする。従って駆動トランジスタTrdはNチャネル型及びPチャネル型のいずれの場合でも狙いのTFT特性に近づくことになる。   When the transistor Trn has a depletion characteristic and the transistor Trp has an enhancement characteristic, the potential of the intermediate node becomes Vl when both transistors are turned on. Since the correction potential Vbg is low, if the drive transistor Trd is an N-channel type, it shifts to an enhancement characteristic. Conversely, if the drive transistor Trd is a P-channel type, it shifts to a depletion tendency. Accordingly, the drive transistor Trd approaches the target TFT characteristics in both the N channel type and the P channel type.

逆にトランジスタTrnがエンハンスメント特性でトランジスタTrpがデプレション特性を示す場合、両者の中間ノード電位はVhよりになる。中間ノードに現れる補正電位Vbgが高いため、駆動トランジスタTrdがNチャネル型であればデプレションシフト傾向となり、逆にPチャネル型であればエンハンスシフト傾向となる。よって駆動トランジスタTrdがNMOS及びPMOSのいずれの場合も、共に狙いのTFT特性になる。   Conversely, when the transistor Trn exhibits enhancement characteristics and the transistor Trp exhibits depletion characteristics, the intermediate node potential between them is Vh. Since the correction potential Vbg appearing at the intermediate node is high, if the drive transistor Trd is an N-channel type, it tends to be a depletion shift. Therefore, when the drive transistor Trd is either NMOS or PMOS, the target TFT characteristics are obtained.

トランジスタTrn,Trpに印加するゲート電圧を変更することで簡単に各トランジスタTrn,Trpのオン抵抗を変更でき、従って両者の中間ノードに現れる補正電位Vbgを上下方向に調整できる。消費電力を抑えた補正回路とするためには、トランジスタTrn,Trpに印加するゲート電位をパルス状とし、定期的に補正ユニットをオンオフすればよい。この様にすることで、各補正ユニットはオンのときのみ貫通電流が流れる。このオンタイミングは中間ノードの電位保持状態によって決めることが可能である。   By changing the gate voltage applied to the transistors Trn and Trp, the on-resistances of the transistors Trn and Trp can be easily changed, so that the correction potential Vbg appearing at the intermediate node between them can be adjusted in the vertical direction. In order to obtain a correction circuit with reduced power consumption, the gate potential applied to the transistors Trn and Trp may be pulsed, and the correction unit may be turned on and off periodically. By doing so, a through current flows only when each correction unit is on. This ON timing can be determined by the potential holding state of the intermediate node.

第6実施形態や第7実施形態のように、補正ユニットをPMOSとNMOSの直列接続で構成すると、その中間電位はバックゲート補正をかけ易い方向に働く。第4実施形態や第5実施形態のように負荷抵抗とTFTの直列接続で構成した補正ユニットと比較すると、PMOSとNMOSの直列接続の方が、特性ばらつきの差を検出し易くなる。各補正ユニットの中間ノードに現れる補正電位は、外部から供給される電位Vgn,Vgp,Vh,Vlで適切に調整可能である。デプレション特性のトランジスタとエンハンス特性のトランジスタでIdsの差が大きくなる動作点で、Vgp−Vh,Vgn−Vlを設定すれば、中間ノードに現れる補正電位はTFT特性によって大きな差を出すことが可能である。Vgn,Vgp,Vh,Vlの電位は画質を確認しながら調整することができる。調整電源数が4個なので工数を大幅に短縮できる。   When the correction unit is configured by connecting a PMOS and an NMOS in series as in the sixth embodiment and the seventh embodiment, the intermediate potential works in a direction in which back gate correction is easily performed. Compared with a correction unit configured by connecting a load resistor and a TFT in series as in the fourth embodiment and the fifth embodiment, it is easier to detect a difference in characteristic variation in the series connection of PMOS and NMOS. The correction potential appearing at the intermediate node of each correction unit can be appropriately adjusted by potentials Vgn, Vgp, Vh, and Vl supplied from the outside. If Vgp-Vh and Vgn-Vl are set at the operating point where the difference in Ids between the depletion characteristics transistor and the enhancement characteristics transistor is large, the correction potential appearing at the intermediate node can make a large difference depending on the TFT characteristics. It is. The potentials of Vgn, Vgp, Vh, and Vl can be adjusted while confirming the image quality. Since the number of adjustment power supplies is 4, the man-hours can be greatly reduced.

図22は、画素アレイ部側の駆動トランジスタTrdと、補正回路側のトランジスタTrn,Trpの配置関係を示す模式図である。前述したようにTFT特性はレーザアニールに用いるラインビームの長軸方向に揃うため、これに合わせて各画素2の駆動トランジスタTrdと、補正回路側の検出トランジスタTrnが長軸ライン上に並ぶように配置することが好ましい。またトランジスタサイズも駆動トランジスタTrdと検出トランジスタTrnで揃えておく必要がある。トランジスタサイズが異なると、チャネル内の多結晶シリコン結晶数が異なってしまい、TFT特性に若干のずれが生まれる原因となる。またトランジスタ構造やその周辺のレイアウトも駆動トランジスタTrdと検出トランジスタTrnで同じにしておくことが好ましい。レーザアニールでは加熱状態がレイアウトによって異なるためである。   FIG. 22 is a schematic diagram showing an arrangement relationship between the drive transistor Trd on the pixel array side and the transistors Trn and Trp on the correction circuit side. As described above, since the TFT characteristics are aligned in the major axis direction of the line beam used for laser annealing, the drive transistor Trd of each pixel 2 and the detection transistor Trn on the correction circuit side are aligned on the major axis line accordingly. It is preferable to arrange. Also, the transistor size needs to be matched between the drive transistor Trd and the detection transistor Trn. If the transistor size is different, the number of polycrystalline silicon crystals in the channel is different, which causes a slight shift in TFT characteristics. The transistor structure and its peripheral layout are preferably the same for the drive transistor Trd and the detection transistor Trn. This is because in laser annealing, the heating state varies depending on the layout.

以上に説明したように本発明は駆動トランジスタをダブルゲート構造とし、そのバックゲート電圧を調整することで閾電圧のばらつきを補正している。本発明は、個々の画素内に閾電圧補正機能や移動度補正機能を組み込んだ表示装置にも適用可能である。本発明に従ってライン単位で大まかに閾電圧のばらつきを補正し、さらに各画素に組み込まれた閾電圧補正機能で閾電圧のばらつきを精密に補正することで、画面のユニフォーミティをさらに一層改善することができる。   As described above, according to the present invention, the drive transistor has a double gate structure, and the variation in threshold voltage is corrected by adjusting the back gate voltage. The present invention is also applicable to a display device in which a threshold voltage correction function and a mobility correction function are incorporated in each pixel. According to the present invention, the variation in threshold voltage is roughly corrected in line units, and the uniformity of the screen is further improved by precisely correcting the variation in threshold voltage with the threshold voltage correction function incorporated in each pixel. Can do.

図23は、各画素内に閾電圧補正機能と移動度補正機能を組み込んだ表示装置の一例を示す模式的なブロック図である。閾電圧と異なり移動度はバックゲート電位で補正することが難しい。従って移動度は個々の画素内で補正することにより、本発明と組み合わせることでより一層画面のユニフォーミティを高めることができる。   FIG. 23 is a schematic block diagram illustrating an example of a display device in which a threshold voltage correction function and a mobility correction function are incorporated in each pixel. Unlike the threshold voltage, the mobility is difficult to correct with the back gate potential. Therefore, the mobility can be corrected within each pixel, and the uniformity of the screen can be further enhanced by combining with the present invention.

図示する様に本表示装置は、画素アレイ部1とこれを駆動する回路部とからなる。画素アレイ部1は、行状の走査線WSと、列状の信号線SLと、両者が交差する部分に配された行列状の画素2と、画素2の各行に対応して配された給電線DSとを備えている。回路部は、各走査線WSに順次制御信号を供給して画素2を行単位で線順次走査するライトスキャナ4と、この線順次走査に合わせて各給電線DSに高電位と低電位で切換わる電源電圧を供給するドライブスキャナ5と、この線順次走査に合わせて列状の信号線SLに映像信号となる信号電位と基準電位を供給する水平セレクタ3とを備えている。ここでライトスキャナ4とドライブスキャナ5がスキャナ部を構成し、水平セレクタ3が信号ドライバを構成している。   As shown in the figure, the display device includes a pixel array unit 1 and a circuit unit for driving the pixel array unit 1. The pixel array unit 1 includes a row-like scanning line WS, a column-like signal line SL, a matrix-like pixel 2 arranged at a portion where both intersect, and a power supply line arranged corresponding to each row of the pixels 2 DS. The circuit unit supplies a control signal to each scanning line WS sequentially to scan the pixels 2 line-sequentially in units of rows, and switches each power supply line DS to a high potential and a low potential according to the line sequential scanning. A drive scanner 5 for supplying a power supply voltage to be replaced, and a horizontal selector 3 for supplying a signal potential as a video signal and a reference potential to the columnar signal lines SL in accordance with the line sequential scanning are provided. Here, the write scanner 4 and the drive scanner 5 constitute a scanner unit, and the horizontal selector 3 constitutes a signal driver.

個々の画素2は、サンプリングトランジスタTr1と駆動トランジスタTrdと保持容量Csと発光素子ELとで構成されている。個々の発光素子ELはRGB三原色のいずれかの色で発光するようになっている。赤色発光素子を備えた画素(RED)と緑色発光素子を備えた画素(GREEN)と青色発光素子を備えた画素(BLUE)とで画素トリオを構成している。この画素トリオを画素アレイ部1上でマトリクス状に配列することによりカラー表示ができる。   Each pixel 2 includes a sampling transistor Tr1, a drive transistor Trd, a storage capacitor Cs, and a light emitting element EL. Each light emitting element EL emits light in one of the three primary colors RGB. A pixel trio is composed of a pixel (RED) including a red light emitting element, a pixel (GREEN) including a green light emitting element, and a pixel (BLUE) including a blue light emitting element. Color display can be performed by arranging the pixel trio in a matrix on the pixel array section 1.

図24は、図23に示した表示装置に含まれる画素2の具体的な構成及び結線関係を示す回路図である。図示する様に、この画素2は、有機ELデバイスなどで代表される発光素子ELと、サンプリングトランジスタTr1と、駆動トランジスタTrdと、保持容量Csとを含む。サンプリングトランジスタTr1はそのゲートが対応する走査線WSに接続し、そのソース及びドレインの一方が対応する信号線SLに接続し、他方が駆動トランジスタTrdのゲートGに接続する。駆動トランジスタTrdは、そのソースSが発光素子ELに接続し、ドレインが対応する給電線DSに接続している。発光素子ELのカソードは接地電位Vcathに接続している。なおこの接地配線は全ての画素2に対して共通に配線されている。保持容量(画素容量)Csは、駆動トランジスタTrdのソースSとゲートGとの間に接続している。   FIG. 24 is a circuit diagram showing a specific configuration and connection relationship of the pixels 2 included in the display device shown in FIG. As illustrated, the pixel 2 includes a light emitting element EL represented by an organic EL device, a sampling transistor Tr1, a driving transistor Trd, and a storage capacitor Cs. The sampling transistor Tr1 has its gate connected to the corresponding scanning line WS, one of its source and drain connected to the corresponding signal line SL, and the other connected to the gate G of the driving transistor Trd. The drive transistor Trd has a source S connected to the light emitting element EL and a drain connected to the corresponding power supply line DS. The cathode of the light emitting element EL is connected to the ground potential Vcath. This ground wiring is wired in common to all the pixels 2. The storage capacitor (pixel capacitor) Cs is connected between the source S and the gate G of the drive transistor Trd.

図24に示した画素構成は一例であって、本発明が適用される表示装置はこの回路構成に限られるものではない。基本的に各画素2は、サンプリングトランジスタTr1と駆動トランジスタTrdと発光素子ELと保持容量Csとを含む。サンプリングトランジスタTr1は、その制御端(ゲート)が走査線WSに接続し、その一対の電流端(ソース及びドレイン)が信号線SLと駆動トランジスタTrdの制御端との間に接続している。駆動トランジスタTrdは一対の電流端(ソース及びドレイン)の一方が発光素子ELに接続し、他方が給電線DSに接続している。保持容量Csは、駆動トランジスタTrdの制御端(ゲートG)と駆動トランジスタTrdの一対の電流端(ソース及びドレイン)の片方(ソースS)との間に接続している。   The pixel configuration illustrated in FIG. 24 is an example, and a display device to which the present invention is applied is not limited to this circuit configuration. Basically, each pixel 2 includes a sampling transistor Tr1, a drive transistor Trd, a light emitting element EL, and a storage capacitor Cs. The sampling transistor Tr1 has a control terminal (gate) connected to the scanning line WS, and a pair of current terminals (source and drain) connected between the signal line SL and the control terminal of the drive transistor Trd. The drive transistor Trd has one of a pair of current ends (source and drain) connected to the light emitting element EL and the other connected to the power supply line DS. The storage capacitor Cs is connected between the control end (gate G) of the drive transistor Trd and one of the pair of current ends (source and drain) (source S) of the drive transistor Trd.

図25は、図24に示した画素2の動作説明に供するタイミングチャートである。時間軸を共通にして、走査線WSの電位変化、給電線DSの電位変化及び信号線SLの電位変化を表してある。またこれらの電位変化と並行に、駆動トランジスタTrdのゲートG及びソースSの変化も表してある。   FIG. 25 is a timing chart for explaining the operation of the pixel 2 shown in FIG. The change in the potential of the scanning line WS, the change in the potential of the power supply line DS, and the change in the potential of the signal line SL are shown with a common time axis. In parallel with these potential changes, changes in the gate G and source S of the drive transistor Trd are also shown.

このタイミングチャートは、画素2の動作の遷移に合わせて期間を(0)〜(7)まで便宜的に区切ってある。まず発光期間(0)では、給電線DSが高電位Vccpにあり、駆動トランジスタTrdが駆動電流Idsを発光素子ELに供給している。駆動電流Idsは高電位Vccpにある給電線DSから駆動トランジスタTrdを介して発光素子ELを通り、共通接地配線Vcathに流れ込んでいる。   In this timing chart, the period is divided into (0) to (7) for convenience in accordance with the transition of the operation of the pixel 2. First, in the light emission period (0), the power supply line DS is at the high potential Vccp, and the drive transistor Trd supplies the drive current Ids to the light emitting element EL. The drive current Ids flows from the power supply line DS at the high potential Vccp through the light emitting element EL through the drive transistor Trd and flows into the common ground wiring Vcath.

続いて期間(1)に入ると、給電線DSを高電位Vccpから低電位Viniに切換える。これにより給電線DSはViniまで放電され、さらに駆動トランジスタTrdのソース電位はViniに近い電位まで遷移する。給電線DSの配線容量が大きい場合は比較的早いタイミングで給電線DSを高電位Vccpから低電位Viniに切換えると良い。   Subsequently, in the period (1), the feeder line DS is switched from the high potential Vccp to the low potential Vini. As a result, the power supply line DS is discharged to Vini, and the source potential of the drive transistor Trd transits to a potential close to Vini. When the wiring capacity of the feeder line DS is large, the feeder line DS may be switched from the high potential Vccp to the low potential Vini at a relatively early timing.

次に期間(2)に進むと、走査線WSを低レベルから高レベルに切換えることで、サンプリングトランジスタTr1が導通状態になる。このとき信号線SLは基準電位Vofsにある。よって駆動トランジスタTrdのゲート電位は導通したサンプリングトランジスタTr1を通じて信号線SLの基準電位Vofsとなる。これと同時に駆動トランジスタTrdのソース電位は即座に低電位Viniに固定される。以上により駆動トランジスタTrdのソース電位が映像信号線SLの基準電位Vofsより十分低い電位Viniに初期化(リセット)される。具体的には駆動トランジスタTrdのゲート‐ソース間電圧Vgs(ゲート電位とソース電位の差)が駆動トランジスタTrdの閾電圧Vthより大きくなるように、給電線DSの低電位Viniを設定する。   Next, in the period (2), the sampling transistor Tr1 becomes conductive by switching the scanning line WS from the low level to the high level. At this time, the signal line SL is at the reference potential Vofs. Therefore, the gate potential of the drive transistor Trd becomes the reference potential Vofs of the signal line SL through the conducting sampling transistor Tr1. At the same time, the source potential of the drive transistor Trd is immediately fixed to the low potential Vini. Thus, the source potential of the drive transistor Trd is initialized (reset) to the potential Vini that is sufficiently lower than the reference potential Vofs of the video signal line SL. Specifically, the low potential Vini of the power supply line DS is set so that the gate-source voltage Vgs (the difference between the gate potential and the source potential) of the drive transistor Trd is larger than the threshold voltage Vth of the drive transistor Trd.

以上の説明から明らかなように、期間(1)と期間(2)が閾電圧補正動作の準備過程となっている。即ちこの準備過程では、駆動トランジスタTrdのゲートGである制御端を基準電位Vofsに保持する一方、駆動トランジスタTrdのソースSとなる電流端の間のゲート/ソース間電圧Vgsを閾電圧Vthより大きく設定して、駆動トランジスタTrdをオン状態にする。   As is clear from the above description, the period (1) and the period (2) are preparation processes for the threshold voltage correction operation. That is, in this preparation process, the control terminal, which is the gate G of the driving transistor Trd, is held at the reference potential Vofs, while the gate / source voltage Vgs between the current terminals serving as the source S of the driving transistor Trd is larger than the threshold voltage Vth. Then, the drive transistor Trd is turned on.

次にVthキャンセル期間(3)に進むと、給電線DSが低電位Viniから高電位Vccpに遷移し、駆動トランジスタTrdのソース電位が上昇を開始する。やがて駆動トランジスタTrdのゲート‐ソース間電圧Vgsが閾電圧Vthとなったところで電流がカットオフする。このようにして駆動トランジスタTrdの閾電圧Vthに相当する電圧が保持容量(画素容量)Csに書き込まれる。これが閾電圧補正動作である。このとき電流が専ら保持容量Cs側に流れ、発光素子EL側には流れないようにするため、発光素子ELがカットオフとなるように共通接地配線Vcathの電位を設定しておく。   Next, in the Vth cancellation period (3), the power supply line DS changes from the low potential Vini to the high potential Vccp, and the source potential of the drive transistor Trd starts to rise. Eventually, the current is cut off when the gate-source voltage Vgs of the drive transistor Trd reaches the threshold voltage Vth. In this way, a voltage corresponding to the threshold voltage Vth of the drive transistor Trd is written into the storage capacitor (pixel capacitor) Cs. This is the threshold voltage correction operation. At this time, in order to prevent current from flowing exclusively to the storage capacitor Cs and not to the light emitting element EL, the potential of the common ground wiring Vcath is set so that the light emitting element EL is cut off.

以上の説明から明らかなように、このVthキャンセル期間(3)が閾電圧補正動作の通電過程となっている。この通電過程では、ゲートGを基準電位Vofsに維持したまま駆動トランジスタTrdに通電し駆動トランジスタTrdがカットオフしたときそのゲート/ソース間に現れる閾電圧相当の電圧を保持容量Csに保持する。   As is apparent from the above description, this Vth cancellation period (3) is the energization process of the threshold voltage correction operation. In this energization process, the drive transistor Trd is energized while maintaining the gate G at the reference potential Vofs, and when the drive transistor Trd is cut off, a voltage corresponding to the threshold voltage appearing between the gate and the source is held in the holding capacitor Cs.

期間(4)に進むと、走査線WSが低電位側に遷移し、サンプリングトランジスタTr1が一端オフ状態になる。このとき駆動トランジスタTrdのゲートGはフローティングになるが、ゲート‐ソース間電圧Vgsは駆動トランジスタTrdの閾電圧Vthに等しいためカットオフ状態であり、ドレイン電流Idsは流れない。   In the period (4), the scanning line WS shifts to the low potential side, and the sampling transistor Tr1 is turned off once. At this time, although the gate G of the drive transistor Trd is in a floating state, the gate-source voltage Vgs is equal to the threshold voltage Vth of the drive transistor Trd, so that it is in a cut-off state and no drain current Ids flows.

続いて期間(5)に進むと、信号線SLの電位が基準電位Vofsからサンプリング電位(信号電位)Vsigに遷移する。これにより次のサンプリング動作及び移動度補正動作(信号書込み及び移動度μキャンセル)の準備が完了する。   Subsequently, in period (5), the potential of the signal line SL changes from the reference potential Vofs to the sampling potential (signal potential) Vsig. Thus, preparations for the next sampling operation and mobility correction operation (signal writing and mobility μ cancellation) are completed.

信号書込み/移動度μキャンセル期間(6)に入ると、走査線WSが高電位側に遷移してサンプリングトランジスタTr1がオン状態となる。従って駆動トランジスタTrdのゲート電位は信号電位Vsigとなる。ここで発光素子ELは始めカットオフ状態(ハイインピーダンス状態)にあるため、駆動トランジスタTrdのドレイン‐ソース間電流Idsは発光素子容量に流れ込み、充電を開始する。したがって駆動トランジスタTrdのソース電位は上昇を開始し、やがて駆動トランジスタTrdのゲート‐ソース間電圧VgsはVsig+Vth−ΔVとなる。このようにして、信号電位Vsigのサンプリングと補正量ΔVの調整が同時に行われる。Vsigが高いほどIdsは大きくなり、ΔVの絶対値も大きくなる。したがって発光輝度レベルに応じた移動度補正が行われる。Vsigを一定とした場合、駆動トランジスタTrdの移動度μが大きいほどΔVの絶対値が大きくなる。換言すると移動度μが大きいほど負帰還量ΔVが大きくなるので、画素ごとの移動度μのばらつきを取り除くことができる。   In the signal writing / mobility μ cancel period (6), the scanning line WS transits to the high potential side, and the sampling transistor Tr1 is turned on. Therefore, the gate potential of the drive transistor Trd becomes the signal potential Vsig. Here, since the light emitting element EL is initially in the cut-off state (high impedance state), the drain-source current Ids of the driving transistor Trd flows into the light emitting element capacitance, and charging is started. Therefore, the source potential of the drive transistor Trd starts to rise, and the gate-source voltage Vgs of the drive transistor Trd eventually becomes Vsig + Vth−ΔV. In this way, the signal potential Vsig is sampled and the correction amount ΔV is adjusted simultaneously. Ids increases as Vsig increases, and the absolute value of ΔV also increases. Therefore, the mobility correction according to the light emission luminance level is performed. When Vsig is constant, the absolute value of ΔV increases as the mobility μ of the drive transistor Trd increases. In other words, since the negative feedback amount ΔV increases as the mobility μ increases, it is possible to remove variations in the mobility μ from pixel to pixel.

最後に発光期間(7)になると、走査線WSが低電位側に遷移し、サンプリングトランジスタTr1はオフ状態となる。これにより駆動トランジスタTrdのゲートGは信号線SLから切り離される。同時にドレイン電流Idsが発光素子ELを流れ始める。これにより発光素子ELのアノード電位は駆動電流Idsに応じて上昇する。発光素子ELのアノード電位の上昇は、即ち駆動トランジスタTrdのソース電位の上昇に他ならない。駆動トランジスタTrdのソース電位が上昇すると、保持容量Csのブートストラップ動作により、駆動トランジスタTrdのゲート電位も連動して上昇する。ゲート電位の上昇量はソース電位の上昇量に等しくなる。ゆえに発光期間(7)中駆動トランジスタTrdのゲート‐ソース間電圧VgsはVsig+Vth−ΔVで一定に保持される。なお以上の説明では、Vofs=Vcath=0VとしてVgsを計算している。   Finally, in the light emission period (7), the scanning line WS shifts to the low potential side, and the sampling transistor Tr1 is turned off. As a result, the gate G of the drive transistor Trd is disconnected from the signal line SL. At the same time, the drain current Ids starts to flow through the light emitting element EL. As a result, the anode potential of the light emitting element EL rises according to the drive current Ids. The increase in the anode potential of the light emitting element EL is nothing but the increase in the source potential of the drive transistor Trd. When the source potential of the drive transistor Trd rises, the gate potential of the drive transistor Trd also rises in conjunction with the bootstrap operation of the storage capacitor Cs. The amount of increase in gate potential is equal to the amount of increase in source potential. Therefore, the gate-source voltage Vgs of the driving transistor Trd is kept constant at Vsig + Vth−ΔV during the light emission period (7). In the above description, Vgs is calculated with Vofs = Vcath = 0V.

本発明にかかる表示装置は、図26に示すような薄膜デバイス構成を有する。本図は、絶縁性の基板に形成された画素の模式的な断面構造を表している。図示するように、画素は、複数の薄膜トランジタを含むトランジスター部(図では1個のTFTを例示)、保持容量などの容量部及び有機EL素子などの発光部とを含む。基板の上にTFTプロセスでトランジスター部や容量部が形成され、その上に有機EL素子などの発光部が積層されている。その上に接着剤を介して透明な対向基板を貼り付けてフラットパネルとしている。   The display device according to the present invention has a thin film device configuration as shown in FIG. This figure shows a schematic cross-sectional structure of a pixel formed on an insulating substrate. As shown in the figure, the pixel includes a transistor part (a single TFT is illustrated in the figure) including a plurality of thin film transistors, a capacitor part such as a storage capacitor, and a light emitting part such as an organic EL element. A transistor portion and a capacitor portion are formed on a substrate by a TFT process, and a light emitting portion such as an organic EL element is laminated thereon. A transparent counter substrate is pasted thereon via an adhesive to form a flat panel.

本発明にかかる表示装置は、図27に示すようにフラット型のモジュール形状のものを含む。例えば絶縁性の基板上に、有機EL素子、薄膜トランジスタ、薄膜容量等からなる画素をマトリックス状に集積形成した画素アレイ部を設ける、この画素アレイ部(画素マトリックス部)を囲むように接着剤を配し、ガラス等の対向基板を貼り付けて表示モジュールとする。この透明な対向基板には必要に応じて、カラーフィルタ、保護膜、遮光膜等を設けてももよい。表示モジュールには、外部から画素アレイ部への信号等を入出力するためのコネクタとして例えばFPC(フレキシブルプリントサーキット)を設けてもよい。   The display device according to the present invention includes a flat module shape as shown in FIG. For example, a pixel array unit in which pixels made up of organic EL elements, thin film transistors, thin film capacitors and the like are integrated in a matrix is provided on an insulating substrate, and an adhesive is disposed so as to surround the pixel array unit (pixel matrix unit). Then, a counter substrate such as glass is attached to form a display module. If necessary, this transparent counter substrate may be provided with a color filter, a protective film, a light shielding film, and the like. For example, an FPC (flexible printed circuit) may be provided in the display module as a connector for inputting / outputting a signal to / from the pixel array unit from the outside.

以上説明した本発明における表示装置は、フラットパネル形状を有し、様々な電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピューター、携帯電話、ビデオカメラなど、電子機器の本体部に入力された、若しくは、電子機器の本体部内で生成した情報を画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器のディスプレイ(表示部)に適用することが可能である。以下この様な表示部を備えた電子機器の例を示す。   The display device according to the present invention described above has a flat panel shape and is input to a main body of various electronic devices such as a digital camera, a notebook personal computer, a mobile phone, and a video camera, or The present invention can be applied to displays (display units) of electronic devices in various fields that display information generated in the main unit of the electronic device as an image or video. Examples of electronic devices provided with such a display unit are shown below.

図28は本発明が適用されたテレビであり、フロントパネル12、フィルターガラス13等から構成される映像表示画面11を含み、本発明の表示装置をその映像表示画面11に用いることにより作製される。   FIG. 28 shows a television to which the present invention is applied, which includes a video display screen 11 composed of a front panel 12, a filter glass 13, and the like, and is produced by using the display device of the present invention for the video display screen 11. .

図29は本発明が適用されたデジタルカメラであり、上が正面図で下が背面図である。このデジタルカメラは、撮像レンズ、フラッシュ用の発光部15、表示部16、コントロールスイッチ、メニュースイッチ、シャッター19等を含み、本発明の表示装置をその表示部16に用いることにより作製される。   FIG. 29 shows a digital camera to which the present invention is applied, in which the top is a front view and the bottom is a back view. This digital camera includes an imaging lens, a light emitting unit 15 for flash, a display unit 16, a control switch, a menu switch, a shutter 19, and the like, and is manufactured by using the display device of the present invention for the display unit 16.

図30は本発明が適用されたノート型パーソナルコンピュータであり、本体20には文字等を入力するとき操作されるキーボード21を含み、本体カバーには画像を表示する表示部22を含み、本発明の表示装置をその表示部22に用いることにより作製される。   FIG. 30 shows a notebook personal computer to which the present invention is applied. The main body 20 includes a keyboard 21 that is operated when inputting characters and the like, and the main body cover includes a display unit 22 that displays an image. This display device is used for the display portion 22.

図31は本発明が適用された携帯端末装置であり、左が開いた状態を表し、右が閉じた状態を表している。この携帯端末装置は、上側筐体23、下側筐体24、連結部(ここではヒンジ部)25、ディスプレイ26、サブディスプレイ27、ピクチャーライト28、カメラ29等を含み、本発明の表示装置をそのディスプレイ26やサブディスプレイ27に用いることにより作製される。   FIG. 31 shows a mobile terminal device to which the present invention is applied. The left side shows an open state and the right side shows a closed state. The portable terminal device includes an upper housing 23, a lower housing 24, a connecting portion (here, a hinge portion) 25, a display 26, a sub-display 27, a picture light 28, a camera 29, and the like, and includes the display device of the present invention. The display 26 and the sub-display 27 are used.

図32は本発明が適用されたビデオカメラであり、本体部30、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ34、撮影時のスタート/ストップスイッチ35、モニター36等を含み、本発明の表示装置をそのモニター36に用いることにより作製される。   FIG. 32 shows a video camera to which the present invention is applied. The video camera includes a main body 30, a lens 34 for photographing a subject, a start / stop switch 35 at the time of photographing, a monitor 36, etc. It is manufactured by using the device for its monitor 36.

本発明にかかる表示装置の第1実施形態を示す模式的な平面図である。1 is a schematic plan view showing a first embodiment of a display device according to the present invention. 同じく第2実施形態を示す模式的な平面図である。It is a typical top view showing a 2nd embodiment similarly. Nチャネル型駆動トランジスタの特性を示すグラフである。It is a graph which shows the characteristic of an N channel type drive transistor. 表示装置の典型的な構成例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the typical structural example of a display apparatus. 図4に示した表示装置の動作説明に供する模式図である。It is a schematic diagram with which it uses for operation | movement description of the display apparatus shown in FIG. レーザアニール処理を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a laser annealing process. 表示装置の画面写真図である。It is a screen photograph figure of a display apparatus. 駆動トランジスタの断面図である。It is sectional drawing of a drive transistor. ダブルゲート構造を有する駆動トランジスタの断面図である。It is sectional drawing of the drive transistor which has a double gate structure. ダブルゲートトランジスタの等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of a double gate transistor. ダブルゲートトランジスタの動作特性を示す回路図及びグラフである。It is the circuit diagram and graph which show the operating characteristic of a double gate transistor. 本発明にかかる表示装置の第3実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows 3rd Embodiment of the display apparatus concerning this invention. Pチャネル型駆動トランジスタの特性式である。It is a characteristic formula of a P-channel type driving transistor. 本発明にかかる表示装置の第4実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows 4th Embodiment of the display apparatus concerning this invention. 同じく第4実施形態を示す回路図である。It is a circuit diagram which similarly shows 4th Embodiment. 第4実施形態の動作説明に供する模式図である。It is a schematic diagram with which it uses for operation | movement description of 4th Embodiment. 本発明にかかる表示装置の第5実施形態を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows 5th Embodiment of the display apparatus concerning this invention. 第5実施形態の動作説明に供する模式図である。It is a schematic diagram with which it uses for operation | movement description of 5th Embodiment. 本発明にかかる表示装置の第6実施形態を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows 6th Embodiment of the display apparatus concerning this invention. 同じく第7実施形態を示す模式的な平面図である。It is a typical top view showing a 7th embodiment similarly. 第6実施形態及び第7実施形態の動作説明に供するグラフである。It is a graph with which it uses for operation | movement description of 6th Embodiment and 7th Embodiment. 駆動トランジスタと検出トランジスタのレイアウトを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the layout of a drive transistor and a detection transistor. 本発明が適用される表示装置の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of the display apparatus with which this invention is applied. 図23に示した表示装置の動作説明に供する回路図である。FIG. 24 is a circuit diagram for explaining an operation of the display device shown in FIG. 23. 図23に示した表示装置の動作説明に供するタイミングチャートである。24 is a timing chart for explaining operations of the display device shown in FIG. 本発明にかかる表示装置のデバイス構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the device structure of the display apparatus concerning this invention. 本発明にかかる表示装置のモジュール構成を示す平面図である。It is a top view which shows the module structure of the display apparatus concerning this invention. 本発明にかかる表示装置を備えたテレビジョンセットを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the television set provided with the display apparatus concerning this invention. 本発明にかかる表示装置を備えたデジタルスチルカメラを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the digital still camera provided with the display apparatus concerning this invention. 本発明にかかる表示装置を備えたノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。1 is a perspective view illustrating a notebook personal computer including a display device according to the present invention. 本発明にかかる表示装置を備えた携帯端末装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the portable terminal device provided with the display apparatus concerning this invention. 本発明にかかる表示装置を備えたビデオカメラを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the video camera provided with the display apparatus concerning this invention.

符号の説明Explanation of symbols

0・・・パネル、1・・・画素アレイ部、2・・・画素、3・・・セレクタ(信号回路)、4・・・スキャナ(走査回路)、Trd・・・駆動トランジスタ、Trn・・・検出トランジスタ、Trp・・・検出トランジスタ、EL・・・発光素子、6・・・補正回路、CL・・・制御線、WS・・・走査線、SL・・・信号線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 0 ... Panel, 1 ... Pixel array part, 2 ... Pixel, 3 ... Selector (signal circuit), 4 ... Scanner (scanning circuit), Trd ... Drive transistor, Trn ... Detection transistor, Trp ... detection transistor, EL ... light emitting element, 6 ... correction circuit, CL ... control line, WS ... scanning line, SL ... signal line

Claims (9)

画素アレイ部と回路部とからなり、
前記画素アレイ部は、行状の走査線と、列状の信号線と、各走査線と各信号線とが交差する部分に配された行列状の画素とを含み、
前記回路部は、各走査線を介して画素を行単位で選択する走査回路と、選択された画素に各信号線を介して信号を供給する信号回路とを含み、
前記画素は、該信号に応じて駆動電流を出力する駆動トランジスタと、該駆動電流に応じた輝度で発光する発光素子とを含み、
前記駆動トランジスタは、電源と該発光素子との間に接続する一対の電流端と、一対の電流端の間にあるチャネル領域と、該信号線から信号が書き込まれる第1ゲート電極と、該チャネル領域を間にして該第1ゲート電極と対向する第2ゲート電極とを有し、
前記回路部は、該駆動トランジスタの特性のバラツキを補正するための補正電位を該第2ゲート電極に印加する補正回路を含む表示装置。
It consists of a pixel array part and a circuit part,
The pixel array unit includes row-shaped scanning lines, column-shaped signal lines, and matrix-shaped pixels arranged at portions where each scanning line and each signal line intersect,
The circuit unit includes a scanning circuit that selects pixels in units of rows through each scanning line, and a signal circuit that supplies signals to the selected pixels through each signal line,
The pixel includes a driving transistor that outputs a driving current according to the signal, and a light emitting element that emits light with a luminance according to the driving current,
The driving transistor includes a pair of current ends connected between a power source and the light emitting element, a channel region between the pair of current ends, a first gate electrode to which a signal is written from the signal line, and the channel A second gate electrode facing the first gate electrode with a region in between,
The display device includes a correction circuit that applies a correction potential to the second gate electrode to correct variation in characteristics of the drive transistor.
前記画素アレイ部は、各画素に含まれる駆動トランジスタの第2ゲート電極を行単位又は列単位で共通接続する制御線を有し、
前記補正回路は、各制御線毎に補正電位を印加する請求項1記載の表示装置。
The pixel array unit includes a control line that commonly connects the second gate electrodes of the drive transistors included in each pixel in units of rows or columns,
The display device according to claim 1, wherein the correction circuit applies a correction potential to each control line.
前記駆動トランジスタは、その閾電圧特性のバラツキに応じて駆動電流が変動し、
前記補正回路は、該閾電圧特性のバラツキを補正する補正電位を該第2ゲート電極に印加する請求項2記載の表示装置。
The drive transistor has a drive current that fluctuates according to variations in its threshold voltage characteristics,
The display device according to claim 2, wherein the correction circuit applies a correction potential for correcting variation in the threshold voltage characteristic to the second gate electrode.
前記回路部は該補正回路を含めて該画素アレイ部と同じパネル上に配されており、
前記補正回路は、各制御線単位で補正電位を自動的に検出し、且つ検出した補正電位を対応する制御線に印加する請求項2記載の表示装置。
The circuit unit is arranged on the same panel as the pixel array unit including the correction circuit,
The display device according to claim 2, wherein the correction circuit automatically detects a correction potential for each control line, and applies the detected correction potential to a corresponding control line.
前記補正回路は、各制御線に対応して配された補正ユニットの集合からなり、
前記補正ユニットは、電源ラインと接地ラインとの間で直列接続された検出トランジスタと抵抗素子からなり、
各補正ユニットに対応する制御線は、該検出トランジスタと該抵抗素子の中点に接続している請求項4記載の表示装置。
The correction circuit comprises a set of correction units arranged corresponding to each control line,
The correction unit includes a detection transistor and a resistance element connected in series between a power supply line and a ground line,
The display device according to claim 4, wherein a control line corresponding to each correction unit is connected to a midpoint of the detection transistor and the resistance element.
前記補正回路は、各制御線に対応して配された補正ユニットの集合からなり、
前記補正ユニットは、電源ラインと接地ラインとの間で直列接続された一対の検出トランジスタと相補トランジスタからなり、
各補正ユニットに対応する制御線は、該検出トランジスタと該相補トランジスタの中点に接続している請求項4記載の表示装置。
The correction circuit comprises a set of correction units arranged corresponding to each control line,
The correction unit includes a pair of detection transistors and complementary transistors connected in series between a power supply line and a ground line,
The display device according to claim 4, wherein a control line corresponding to each correction unit is connected to a midpoint of the detection transistor and the complementary transistor.
前記一対の検出トランジスタ及び相補トランジスタをオンして補正電位を自動的に検出し、その後前記一対の検出トランジスタ及び相補トランジスタをオフして該検出した補正電位を該中間点に保持し対応する制御線に印加する請求項6記載の表示装置。   The pair of detection transistors and complementary transistors are turned on to automatically detect a correction potential, and then the pair of detection transistors and complementary transistors are turned off to hold the detected correction potential at the intermediate point and corresponding control lines The display device according to claim 6, which is applied to the display. 前記検出トランジスタは、対応する制御線に接続している駆動トランジスタと同一サイズで同一ライン上に位置する請求項5又は請求項6記載の表示装置。   The display device according to claim 5, wherein the detection transistor is on the same line as the drive transistor connected to the corresponding control line. 表示部とこれに情報を表示する本体部とを有し、
前記表示部は、画素アレイ部と回路部とからなり、
前記画素アレイ部は、行状の走査線と、列状の信号線と、各走査線と各信号線とが交差する部分に配された行列状の画素とを含み、
前記回路部は、各走査線を介して画素を行単位で選択する走査回路と、選択された画素に各信号線を介して信号を供給する信号回路とを含み、
前記画素は、該信号に応じて駆動電流を出力する駆動トランジスタと、該駆動電流に応じた輝度で発光する発光素子とを含み、
前記駆動トランジスタは、電源と該発光素子との間に接続する一対の電流端と、一対の電流端の間にあるチャネル領域と、該信号線から信号が書き込まれる第1ゲート電極と、該チャネル領域を間にして該第1ゲート電極と対向する第2ゲート電極とを有し、
前記回路部は、該駆動トランジスタの特性のバラツキを補正するための補正電位を該第2ゲート電極に印加する補正回路を含む電子機器。
A display unit and a main body unit for displaying information on the display unit;
The display unit includes a pixel array unit and a circuit unit,
The pixel array unit includes row-shaped scanning lines, column-shaped signal lines, and matrix-shaped pixels arranged at portions where each scanning line and each signal line intersect,
The circuit unit includes a scanning circuit that selects pixels in units of rows through each scanning line, and a signal circuit that supplies signals to the selected pixels through each signal line,
The pixel includes a driving transistor that outputs a driving current according to the signal, and a light emitting element that emits light with a luminance according to the driving current,
The driving transistor includes a pair of current ends connected between a power source and the light emitting element, a channel region between the pair of current ends, a first gate electrode to which a signal is written from the signal line, and the channel A second gate electrode facing the first gate electrode with a region in between,
The electronic device includes a correction circuit that applies a correction potential for correcting variation in characteristics of the drive transistor to the second gate electrode.
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