JP2009251121A - Device for pattern correction - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、パターン部品に発生するパターン(配線)の欠陥部を修正することが可能なパターン修正装置に関するものであり、より特定的には、フラットパネルディスプレイやプリント基板、露光用マスクの製造工程において形成させるパターンに発生する欠陥部を修正する、パターン修正装置に関するものである。 The present invention relates to a pattern correction apparatus capable of correcting a defective portion of a pattern (wiring) generated in a pattern component, and more specifically, a manufacturing process of a flat panel display, a printed board, and an exposure mask. The present invention relates to a pattern correction apparatus that corrects a defect portion generated in a pattern to be formed.
近年、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ELディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの大型化、高精細化に伴い、ガラス基板の表面上に形成されたパターン、たとえば配線に、欠損などの欠陥部が形成される確率が高くなっている。そこで、歩留まりの向上を図るため欠陥部を修正する方法が提案されている。 In recent years, with the increase in size and definition of flat panel displays such as plasma displays, liquid crystal displays, and EL displays, the probability that defects such as defects are formed in patterns formed on the surface of a glass substrate, for example, wiring. Is high. Therefore, a method for correcting a defective portion has been proposed in order to improve the yield.
たとえば、液晶ディスプレイのガラス基板の表面上には微細なパターン、たとえば配線が形成されている。この配線の一部が欠損により断線している場合、以下のような方法で修正が行なわれている。たとえば、導電性の修正ペースト(修正液)を欠損により断線している欠陥部に塗布してから焼成する方法がある。また、レーザCVD装置を用いてレーザ光を照射された位置に、材料ガス中に含まれる金属を析出させることにより欠陥部を修正する方法がある。あるいは、レーザ光を透過可能な透明基材の一方の主表面上に金属膜を形成した転写部材を欠陥部に対向させた状態で、レーザ光を照射することにより、金属膜の一部を昇華させて欠陥部にスパッタ転写して修正する方法がある。 For example, a fine pattern such as a wiring is formed on the surface of a glass substrate of a liquid crystal display. When a part of the wiring is disconnected due to a defect, correction is performed by the following method. For example, there is a method in which a conductive correction paste (correction liquid) is applied to a defective portion that is disconnected due to a defect and then fired. Further, there is a method of correcting a defect portion by depositing a metal contained in a material gas at a position irradiated with laser light using a laser CVD apparatus. Alternatively, a part of the metal film is sublimated by irradiating the laser beam with a transfer member having a metal film formed on one main surface of a transparent base material capable of transmitting the laser beam facing a defective portion. There is a method for correcting the defect by sputter transfer.
上述した、導電性の修正ペースト(修正液)を欠損により断線している欠陥部に塗布してから焼成する方法では、たとえば、特開平8−203898号公報(特許文献1)に開示されているように、有機金属溶液をディスペンサで配線の欠陥部に滴下した後で、レーザ光を照射させることにより焼成する。このことにより、有機金属化合物を分解し、配線の欠陥部に金属膜を析出させて、欠陥部を修正させる。 The above-described method of applying a conductive correction paste (correction liquid) to a defective portion that has been disconnected due to a defect and then firing it is disclosed, for example, in JP-A-8-203898 (Patent Document 1). As described above, after the organometallic solution is dropped onto the defective portion of the wiring with a dispenser, firing is performed by irradiating laser light. This decomposes the organometallic compound, deposits a metal film on the defective portion of the wiring, and corrects the defective portion.
また、レーザCVD装置(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)による欠陥部の修正方法では、たとえば、特開2002−131888号公報(特許文献2)に開示されているように、金属原料ガスにレーザ光を照射することにより金属原料ガスを分解して、生成した金属(タングステン)を、配線の欠陥部に被着させる。 Further, in a defect correction method using a laser CVD apparatus (Chemical Vapor Deposition), as disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-131888 (Patent Document 2), a laser is applied to a metal source gas. By irradiating light, the metal source gas is decomposed and the generated metal (tungsten) is deposited on the defective portion of the wiring.
転写による修正では、たとえば、特開2000−31013号公報(特許文献3)に開示されているように、導電性の金属膜を一方の主表面上に形成させた転写板を欠陥部と対向するように重ね合わせ、転写板の背後からレーザ光を照射して導電性の金属膜を欠陥部にスパッタ転写することにより、欠陥部を修正させる。 In correction by transfer, for example, as disclosed in JP 2000-31013 A (Patent Document 3), a transfer plate having a conductive metal film formed on one main surface is opposed to a defective portion. In this way, the defective portion is corrected by irradiating laser light from behind the transfer plate and sputter-transferring the conductive metal film to the defective portion.
あるいは、特開2007−19105号公報(特許文献4)に示すように、基材と熱溶融層と微粒金属層(たとえば金、銀、アルミ、パラジウムなどのナノサイズ微粒子を含むペーストを塗布して、溶媒成分を揮発させた金属層)からなる積層材にレーザ光を照射して、熱溶融層および微粒金属層を断線している欠陥部に転写する。その後、熱溶融層に再度レーザ光を照射して熱分解除去し、さらに微粒金属層にレーザ光を照射して溶融焼成することで、欠陥部の導通を確保する。
特許文献1に開示されている、有機金属溶液をディスペンサで配線の欠陥部に滴下した後で、レーザ光を照射させることにより焼成する修正方法では、配線が微細になると、先端が数μmの内径とされたディスペンサを用いる必要がある。この場合、ディスペンサの先端が詰まりやすく、微細な配線を描画するための制御が難しくなる。また、有機金属溶液を塗布した後で焼成すると、修正部の膜厚は1/10程度まで収縮して非常に薄くなるため、欠陥部の段差部でクラックを生じやすく、低抵抗を得るのが難しい。
In the correction method disclosed in
特許文献2に開示されている、レーザCVD装置を用いた修正方法では、複数の原料ガスを配線の欠陥部が含まれる局所空間に供給し、また、排出を行なう手段が必要となり、装置構成が複雑で装置価格が高価となっている。また、修正材料として使用されるタングステンは、融点が3422℃と高いため、配線材料と合金を作り難く、配線材料との接触抵抗が大きくなって修正した部分の電気抵抗が高くなる傾向がある。このため、電気抵抗を低くするためには、使用ガスの濃度を濃くしたり、レーザ走査の速度を遅くしたり、あるいは、複数回積層させて膜厚を厚くする必要がある。
In the correction method using the laser CVD apparatus disclosed in
特許文献3に開示されている、転写部材の金属膜にレーザ光を照射して、金属膜を溶融飛散(レーザスパッタリング)させて断線している欠陥部に転写させる修正方法では、1回の修正で得られる膜厚は非常に薄いため、修正抵抗を低くするためには、転写部材の位置を変えながら同一の欠陥部に対して複数回繰り返し転写を行なって金属膜を積層して膜厚を増やす必要がある。
In the correction method disclosed in
また、特許文献4に開示されている、基材と熱溶融層と微粒金属層からなる積層材にレーザ光を照射して、熱溶融層および微粒金属層を断線している欠陥部に転写後、熱溶融層にレーザ光を照射して熱分解除去し、さらに微粒金属層にレーザ光を照射して溶融焼成する修正方法では、以下の問題がある。すなわち、欠陥部に転写する工程だけでなく、欠陥部に一緒に転写された熱溶融層を除去する工程と、微粒金属層を溶融焼成する工程とが必要なため、修正工程が煩雑で修正時間が長くなることが想定される。 In addition, after the laser beam is irradiated to the laminated material composed of the base material, the heat-melting layer, and the fine metal layer, disclosed in Patent Document 4, the heat-melting layer and the fine metal layer are transferred to the defective portion. In the correction method in which the heat melting layer is irradiated with laser light for thermal decomposition and removed, and the fine metal layer is irradiated with laser light for melting and firing, there are the following problems. That is, not only the process of transferring to the defective part, but also the process of removing the heat-melted layer transferred together with the defective part and the process of melting and firing the fine metal layer are necessary, so the correction process is complicated and the correction time Is expected to be long.
本発明は、上記の問題に鑑みなされたものである。その目的は、繰り返し操作を必要とせず、簡単な工程にて断線しているパターン(配線)の欠陥部に対して、均一な膜厚の金属薄膜の修正層を形成することで電気抵抗の低いパターンとなるよう修正することが可能な、パターン修正装置を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems. Its purpose is low repetitive operation and low electrical resistance by forming a metal thin film repair layer with a uniform film thickness on the defective part of the pattern (wiring) that is disconnected in a simple process. It is an object of the present invention to provide a pattern correction apparatus that can correct a pattern.
本発明に係るパターン修正装置は、基板の表面上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正装置である。そのパターン修正装置は、レーザ光を透過可能な基材の一方の主表面上に、パターンを形成する第1の金属膜との密着境界面で加熱により溶融して合金層を形成して固着することが可能な第2の金属膜を少なくとも1層形成させた転写部材を備える。また、第2の金属膜を欠陥部に対峙させる転写部材供給手段を備える。また、転写部材に形成された第2の金属膜を欠陥部に密着させるために、転写部材の、第2の金属膜を形成させた一方の主表面に対向する他方の主表面方向から転写部材を基板に向けて押圧する押圧手段を備える。さらに、第2の金属膜を第1の金属膜を含む欠陥部に密着させた状態で、転写部材の基材の上方から欠陥部を含む範囲に対してレーザ光を照射して加熱するレーザ加熱手段を備える。 The pattern correction apparatus according to the present invention is a pattern correction apparatus that corrects a defective portion of a pattern formed on the surface of a substrate. The pattern correcting apparatus forms an alloy layer and adheres to one main surface of a base material capable of transmitting laser light by melting at an adhesion boundary surface with a first metal film forming a pattern by heating. And a transfer member on which at least one second metal film is formed. The image forming apparatus further includes a transfer member supply unit that makes the second metal film face the defect portion. Further, in order to bring the second metal film formed on the transfer member into close contact with the defective portion, the transfer member from the direction of the other main surface of the transfer member facing the one main surface on which the second metal film is formed. A pressing means for pressing the substrate toward the substrate. Furthermore, laser heating is performed by irradiating a range including the defective portion from above the substrate of the transfer member with the second metal film in close contact with the defective portion including the first metal film. Means.
上述したパターン修正装置は、元々のパターンを形成する第1の金属膜の欠損により断線している欠陥部に対して、転写部材に形成された第2の金属膜を、押圧手段で密着した状態で、レーザ加熱手段が欠陥部と第2の金属膜との密着した領域にレーザ光を照射することにより加熱する。そして、第1の金属膜と第2の金属膜との密着境界面でそれらの金属が溶融した合金層を形成する。したがって、このパターン修正装置は、上述の各工程を1回行なうだけで、欠陥部を修正することができる。修正した欠陥部は、修正前の元々のパターンを形成する第1の金属膜と、転写部材の基材の一方の主表面上に形成された第2の金属膜との密着境界面が溶融して、第1の金属膜と第2の金属膜との合金層を形成して強固に固着する。このため、電気抵抗を低くすることができる。 The above-described pattern correction apparatus is in a state in which the second metal film formed on the transfer member is in close contact with the defective portion that is disconnected due to the defect of the first metal film that forms the original pattern by the pressing unit. Thus, the laser heating means heats the region where the defect portion and the second metal film are in close contact with each other by irradiating the laser beam. And the alloy layer which those metals fuse | melted is formed in the contact | adherence boundary surface of a 1st metal film and a 2nd metal film. Therefore, this pattern correction apparatus can correct the defective portion by performing each of the above-described steps once. In the corrected defect portion, the adhesion boundary surface between the first metal film that forms the original pattern before correction and the second metal film formed on one main surface of the base material of the transfer member is melted. Thus, an alloy layer of the first metal film and the second metal film is formed and firmly fixed. For this reason, electrical resistance can be made low.
また、本発明に係るパターン修正装置は、パターンを形成した基板においてパターンの下部に位置する領域、たとえばガラスまたはシリコンオキサイドで形成された表面にも第2の金属膜を強固に固着させることもできる。転写部材の第2の金属膜は、パターンの下部に位置する領域に存在するSi−OHと第2の金属膜との密着境界面で界面反応、たとえばシラノール結合を起こすことにより、第2の金属膜が欠陥部の第1の金属膜が欠落した領域の表面と固着することが可能な材料よりなる。そのため、たとえパターン部品のパターンを構成する材料が金属ではなくても、パターンの欠陥部の表面、つまりパターンの下部に位置する層(基板)の材質がガラスまたはシリコンオキサイドであれば、第2の金属膜との密着境界面で、Si−OHとシラノール結合を起こすことにより強固に固着させることが可能となる。なお、転写部材を構成する第2の金属膜は、その融点が基材の耐熱温度以下となるように材質を選定する。なお、シラノール結合の他、界面反応には、たとえば密着境界面の凹凸部にそれぞれの材料が入り込んで固着するアンカー効果も含まれる。 In addition, the pattern correction apparatus according to the present invention can firmly fix the second metal film to a region located below the pattern on the substrate on which the pattern is formed, for example, a surface formed of glass or silicon oxide. . The second metal film of the transfer member causes the second metal film by causing an interfacial reaction, for example, silanol bonding, at the adhesion boundary surface between the Si—OH and the second metal film existing in the region located below the pattern. The film is made of a material capable of fixing to the surface of the region where the first metal film in the defective portion is missing. Therefore, even if the material constituting the pattern of the pattern component is not a metal, the second portion is formed if the surface of the defective portion of the pattern, that is, the layer (substrate) located under the pattern is glass or silicon oxide. It is possible to firmly fix the Si-OH and the silanol bond at the contact boundary surface with the metal film. The material of the second metal film constituting the transfer member is selected so that the melting point thereof is lower than the heat resistant temperature of the substrate. In addition to the silanol bond, the interface reaction includes, for example, an anchor effect in which each material enters and adheres to the concavo-convex portion of the adhesion boundary surface.
また、本発明に係るパターン修正装置は、転写部材として、基材の一方の主表面上に形成された第2の金属膜を部分的に除去することにより、周囲の領域とは空隙を介して独立した金属膜領域が形成された転写部材を用いてもよい。あるいは、第2の金属膜を部分的に未形成にしてもよい。たとえば、欠陥を修正するのに必要な幅の、第2の金属膜を残して、第2の金属膜をあらかじめパターン形成する。パターン長は、欠陥修正が必要な長さに形成してもよいし、連続パターンとしてあってもよい。修正する際には、修正用転写領域(第2の金属膜のパターン)を欠陥部の上方と対峙するように重ね合わせた状態で押圧密着させ、転写する範囲にレーザ光を照射して加熱する。この場合、第2の金属膜からなる薄膜は周囲の領域とは絶縁された状態にあるため、加熱時には、周囲の領域への放熱を抑制する。結果としてレーザ光を照射する強度を低く設定することが可能となり、基材の損傷を防止することができる。 Moreover, the pattern correction apparatus according to the present invention partially removes the second metal film formed on one main surface of the base material as a transfer member, so that the surrounding area is interposed through a gap. A transfer member in which an independent metal film region is formed may be used. Alternatively, the second metal film may be partially not formed. For example, the second metal film is patterned in advance, leaving the second metal film having a width necessary for correcting the defect. The pattern length may be formed to a length that requires defect correction, or may be a continuous pattern. When correcting, the correction transfer region (the pattern of the second metal film) is pressed and adhered in a state of being superimposed so as to face the upper part of the defect portion, and the transfer area is irradiated with laser light and heated. . In this case, since the thin film made of the second metal film is insulated from the surrounding area, heat dissipation to the surrounding area is suppressed during heating. As a result, the intensity of laser light irradiation can be set low, and damage to the substrate can be prevented.
また、本発明に係るパターン修正装置を構成する押圧手段には、転写部材の、第2の金属膜を形成させた一方の主表面に対向する他方の主表面方向から転写部材を基板に向けて押圧する、レーザ光を透過可能な押圧部材を含む。 Further, the pressing means constituting the pattern correction apparatus according to the present invention has the transfer member facing the substrate from the direction of the other main surface of the transfer member facing the one main surface on which the second metal film is formed. A pressing member that presses and transmits laser light is included.
押圧部材を用いて、転写修正の材料となる第2の金属膜を欠陥部に密着させる。その上でレーザ光を、押圧部材を透過させて欠陥部を含む修正範囲(転写範囲)に照射させる。このことにより、第2の金属膜を密着させた欠陥部に、元々のパターンを形成する第1の金属膜と第2の金属膜との密着境界面に合金層を、容易に形成して固着する。また、押圧部材は、転写部材と接する面が球面形状であることがさらに好ましい。押圧部材を形成する球面形状の凸面が、転写部材と接する面となるように配置することにより、転写部材に形成させた第2の金属膜を欠陥部を含むパターン(配線)上により強く密着させることができる。 Using the pressing member, the second metal film serving as a transfer correction material is brought into close contact with the defective portion. Then, the laser beam is transmitted through the pressing member to irradiate the correction range (transfer range) including the defective portion. As a result, an alloy layer can be easily formed and adhered to the adhesion boundary surface between the first metal film and the second metal film forming the original pattern at the defect portion where the second metal film is adhered. To do. Further, it is more preferable that the pressing member has a spherical shape in contact with the transfer member. By arranging the spherical convex surface forming the pressing member to be a surface in contact with the transfer member, the second metal film formed on the transfer member is more closely adhered to the pattern (wiring) including the defective portion. be able to.
また、本発明に係るパターン修正装置における転写部材供給手段および押圧手段には、レーザ加熱手段に対して、基板の主表面に沿った方向において相対的に移動可能となる手段を備えている。たとえば、転写部材供給手段には、転写部材が基板の主表面に沿った方向において微小区間で相対的に移動できるように、位置決めゲインを低くする手段を備えている。さらに、押圧手段に固定される押圧部材が基板の主表面に沿った方向においてレーザ加熱手段に対して微小区間で相対的に移動できるように、押圧手段にはスライド部材を備える。 In addition, the transfer member supply means and the pressing means in the pattern correction apparatus according to the present invention include means that can move relative to the laser heating means in the direction along the main surface of the substrate. For example, the transfer member supply means includes means for lowering the positioning gain so that the transfer member can move relatively in a minute section in the direction along the main surface of the substrate. Further, the pressing means includes a slide member so that the pressing member fixed to the pressing means can move relative to the laser heating means in a minute section in a direction along the main surface of the substrate.
または、レーザ加熱手段に対して、転写部材が基板の主表面に沿った方向において微小区間で相対的に移動できるように、転写部材を支持する転写部材供給手段には、転写部材の張力を調整(緩和)する機能を含んでいてもよい。または、レーザ加熱手段に対して、押圧手段に固定される押圧部材が基板の主表面に沿った方向において微小区間で相対的に移動できるように、押圧部材は弾性体を介して支持されていてもよい。 Alternatively, the tension of the transfer member is adjusted to the transfer member supply unit that supports the transfer member so that the transfer member can move relative to the laser heating unit in a minute section in the direction along the main surface of the substrate. A function of (relaxing) may be included. Alternatively, the pressing member is supported via an elastic body so that the pressing member fixed to the pressing unit can move relative to the laser heating unit in a minute section in the direction along the main surface of the substrate. Also good.
このことにより、押圧部材で転写部材を基板側に押圧した状態で、押圧部材の上方からスポット状に絞ったレーザ光をXY方向に走査しながら照射しても、押圧部材と基板、あるいは転写部材と基板との相対移動を吸収可能となる。このため、基板と押圧部材、および転写部材との相対移動量を打ち消し、押圧部材や転写部材が基板上を滑ることを抑制する。すなわち、押圧部材と転写部材および基板とが元の密着位置にて密着された状態を保持することが可能となる。 Thus, even when the pressing member is pressed against the substrate side with the pressing member, the pressing member and the substrate or the transferring member can be irradiated even if the laser beam focused in a spot shape is scanned in the XY direction from above the pressing member. The relative movement between the substrate and the substrate can be absorbed. For this reason, the relative movement amount of the substrate, the pressing member, and the transfer member is canceled, and the pressing member and the transfer member are prevented from sliding on the substrate. That is, it is possible to maintain a state in which the pressing member, the transfer member, and the substrate are in close contact at the original contact position.
本発明に係るパターン修正装置を用いてパターン(配線)の欠陥部を修正すれば、1回の修正でも、均一な膜厚の金属薄膜の修正層を欠陥部に転写することができる。また、基板の表面上の第1の金属膜からなるパタ−ンおよびその下部に位置する基板の表面と、転写部材の第2の金属膜とは強固に固着するため、欠陥部の修正後の電気抵抗を低くすることができる。このため、以上のパターン修正装置により修正したパターン部品の信頼性が向上する。 If a defective portion of a pattern (wiring) is corrected using the pattern correcting device according to the present invention, a corrected layer of a metal thin film having a uniform film thickness can be transferred to the defective portion even with a single correction. In addition, since the pattern made of the first metal film on the surface of the substrate and the surface of the substrate located below the pattern are firmly fixed to the second metal film of the transfer member, Electric resistance can be lowered. For this reason, the reliability of the pattern components corrected by the above pattern correction apparatus is improved.
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態が説明される。なお、各実施の形態において、同一の機能を果たす部位には同一の参照符号が付されており、その説明は、特に必要がなければ、繰り返さない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each embodiment, portions having the same function are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will not be repeated unless particularly necessary.
(実施の形態1)
最初に本発明における、基板の一方の主表面上に形成されたパターン、たとえば配線の欠陥部を修正するパターン修正装置について説明する。図1は、本発明のパターン修正装置の概略図である。図1に示すパターン修正装置1は、欠陥部の修正が必要なパターン部品2を搭載するXYステージ3と、Zステージ4と、パターン部品2の表面を観察する観察光学系5と、観察された画像を映し出すモニタ6とを備える。また、レーザ光源としては、観察光学系5を介してレーザ光を照射し不要部をカット、あるいはレーザアブレーションする第1のレーザ光源7と、レーザ加熱手段である第2のレーザ光源8とを備える。さらに、パターン部品2の欠陥部の修正に使用する転写部材15をパターン部品2上でXY方向に相対移動あるいは、Z軸方向に移動可能な転写部材供給手段9、転写部材15をパターン部品2の欠陥部に押圧する押圧手段10とを備える。また、欠陥部を認識する画像処理部11と、装置全体を制御するホストコンピュータ12と、装置機構部の動作を制御する制御用コンピュータ13とを備える。なお、転写部材供給手段9には、図1に図示しない、後述する小型のXYZステージが内蔵され、たとえば、Zステージ4を固定する部材に固定される。
(Embodiment 1)
First, a pattern correcting apparatus for correcting a pattern formed on one main surface of a substrate, for example, a defective portion of wiring, in the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic view of a pattern correction apparatus according to the present invention. The
図2は、図1に示すパターン修正装置の主要部分の内部構成を示す概略図である。パターン、たとえば配線24の一部に欠損により断線している欠陥部24aが存在するパターン部品2は、チャック14に固定され、そのチャック14はXYステージ3によりXY方向に沿った方向に移動可能とされる。なお、パターン部品2が大型になる場合には、X軸とY軸とを重ねたXYステージ3の構成に代えて、X軸とY軸がそれぞれ独立駆動可能なガントリタイプのステージを採用して小スペース化が図られる。なお、ここでX軸の方向とは、図1に示すパターン修正装置1の左右に延びる方向を指し、Y軸の方向とは、図1に示すパターン修正装置1の手前から奥に延びる奥行き方向を指す。したがって、XY方向とは、図1に示すパターン修正装置1の水平面の方向に沿った方向を指す。
FIG. 2 is a schematic diagram showing an internal configuration of a main part of the pattern correction apparatus shown in FIG. A
第1のレーザ光源7としては、YAGパルス発振レーザ、たとえば第1、第2、第3高調波の切り替えが可能なレーザ光を照射可能な光源が、図2に示すように、観察光学系5の上部に搭載される。また、転写部材供給手段9により位置合わせされた転写部材15を加熱する第2のレーザ光を照射可能な第2のレーザ光源8、たとえばYAG第2連続発振レーザが観察光学系5に固定される。第1のレーザ光源7と第2のレーザ光源8との切り替えは、ミラー5aの移動により行われる。なお、ミラー5aをビームスプリッタに置き換えてもよい。
As the first
第1のレーザ光源7、または第2のレーザ光源8から発射されたレーザ光は、図2に示すビームスプリッタ5b、スリット機構5c、ビームスプリッタ5d、結像レンズ5e、ビームスプリッタ5f、対物レンズ5gを通過し、パターン部品2または転写部材15上に照射される。ビームスプリッタ5dに関連してCCDカメラ5hが設けられ、パターン部品2などからの反射光が撮像される。その他、観察光学系5には、スリット光照明5iや落射照明5jが取り付けられる。
The laser light emitted from the first
転写部材15は、後述するように、パターン部品2の基板の表面上に形成された配線24を形成する第1の金属膜と加熱により溶融して合金層を形成して固着することが可能な第2の金属膜を少なくとも1層形成させている。第1の金属膜と第2の金属膜とが合金層を形成するためには、両者を密着させた状態で加熱させる必要がある。そのためにまず、転写部材供給手段9を用いて転写部材15を、転写部材15の一方の主表面上に形成させた第2の金属膜を欠陥部24aに対向させるように配置する。そして転写部材15の第2の金属膜をパターン部品2の欠陥部24aに密着させるために、転写部材15の、第2の金属膜を形成させた一方の主表面に対向する他方の主表面方向、すなわち転写部材15の上側から、転写部材15をパターン部品2に向けて押圧部材16を介して押圧する。図2では略図として示している押圧手段10の先端部すなわち押圧手段10の下端部には、レーザ光を透過可能な押圧部材16を含む。押圧部材16は、レーザ光を透過可能な材質、たとえばガラスからなり、平面ガラス板、あるいは、転写部材15を確実に押圧させるために転写部材15と接する側の面が球面形状である平凸レンズなどが固定される。押圧部材16を形成する球面形状の凸面16aが、転写部材15と接する面となるように配置することにより、転写部材15に形成させた、第2の金属膜を欠陥部24aに対してより強く密着させることができる。
As will be described later, the
第2のレーザ光源8のレーザ光は、その光路途中に設けられ、予め転写範囲の形状に合わせて調整されたスリット機構5cを通過した後、押圧部材16で転写部材15を押圧した状態にある、第2の金属膜を欠陥部24aに対して密着させた領域を一括加熱する。なお、一括加熱に代えて、レーザ光を直径10μm前後のスポット状に集光させてから(絞ってから)転写部材15上の、欠陥部24aの修正範囲(必要な長さ)分だけ走査しながらレーザ光を照射加熱することもある。このようにして、必要な長さの修正層を得ることもできる。この場合、スリット機構5cは使わないので全開としておけばよい。
The laser beam of the second
図3は、図2に示すパターン修正装置の主要部分の構成の変形例を示す概略図である。図3では、加熱用の第2のレーザ光源8のみが観察光学系5に搭載される。この場合、パターン部品2の表面上に形成された配線24の不要部をカット、あるいはレーザアブレーションする第1のレーザ光源7は、図示しない別の観察光学系5に搭載して、それぞれの観察光学系5をZステージ4上に固定して使用してもよい。なお、ここでZ軸の方向とは、図1に示すパターン修正装置1の上下に延びる方向を指す。したがって、Zステージ4とは、パターン修正装置1の上下方向(鉛直方向)に沿った方向へ移動させることができるステージである。第2のレーザ光源8のレーザ光をスポット状に絞って、第2の金属膜上を走査して使用する場合には、レーザ光の照射範囲をスリット機構5cで調整する必要がないので、ビームスプリッタ5b、スリット機構5cおよびスリット光照明5iは不要であり、これらは観察光学系5から除去してあってもよい。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a modification of the configuration of the main part of the pattern correction apparatus shown in FIG. In FIG. 3, only the second
図4は、押圧手段の構成を示す概略図である。押圧手段10はベース板17を介して観察光学系5に固定される。なお、ベース板17を直接、Zステージ4に固定してもよい。ベース板17と移動板18とは、直動スライド19を介して固定されるため、移動板18は先述したY軸に沿った方向(図4では紙面に交差する方向)に移動させることが可能となる。また、押圧部材16をその下方に固着する押圧板20は、先述したZ軸に沿った方向(図4では紙面の上下方向)に移動させることが可能なように直動スライド21を介して移動板18に固定される。移動板18に固定される駆動手段22(たとえばエアシリンダ)の出力軸22aの下側の先端は、押圧板20に固定され、押圧板20をZ軸に沿った方向に移動させることを可能とする。押圧板20には、その下方に存在する、たとえば欠陥部24aの状態を観察したり、レーザ光を照射可能な貫通孔20aが形成され、その開口部の下端には、たとえばガラスからなる押圧部材16が固定される。
FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of the pressing means. The pressing means 10 is fixed to the observation
図示しないY軸に沿った方向に移動可能な駆動手段により直動スライド19上で移動板18をY軸に沿った方向に移動(紙面に交差する方向)すれば、押圧部材16を含む押圧板20を対物レンズ5g下方から遠ざけて、対物レンズ5gで直接基板を観察、あるいはレーザ加工することが可能となる。なお、押圧部材16越しに対物レンズ5gで観察、あるいはレーザ加工することも可能であり、この場合にはY軸に沿った方向に移動可能な駆動手段を不要とすることも可能である。
If the moving
ここで、本発明の実施の形態1におけるパターン修正装置を用いた、修正方法について説明する。図5は、パターン修正方法の各工程の手順を示すフローチャートである。これは、基板の表面上に形成された、たとえば配線24(図2参照)などのパターンの欠陥部を修正する修正方法である。図5に示すようにまず、修正が必要な基板の、欠陥部を観察する工程(S10)で、修正範囲(転写範囲)を決定する。その後、欠陥部上に転写部材を配置する工程(S20)、欠陥部に密着させる工程(S30)、レーザ光を照射させる工程(S40)を経て最後に、転写部材を除去する工程(S50)を行なえば、欠陥部の修正が完了する。以下、上述した各工程について、より詳細に説明する。 Here, a correction method using the pattern correction apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a flowchart showing the procedure of each step of the pattern correction method. This is a correction method for correcting a defective portion of a pattern such as the wiring 24 (see FIG. 2) formed on the surface of the substrate. As shown in FIG. 5, first, a correction range (transfer range) is determined in a step (S10) of observing a defective portion of a substrate that needs to be corrected. Thereafter, a step of disposing the transfer member (S50), a step of placing the transfer member on the defective portion (S20), a step of closely contacting the defective portion (S30), and a step of irradiating laser light (S40) and finally a step of removing the transfer member (S50). If done, the defect is corrected. Hereinafter, each process mentioned above is demonstrated in detail.
まず、欠陥部を観察する工程(S10)を実施する。具体的には、パターン、たとえば配線24(図2参照)の欠陥部の位置情報を元に、欠陥部の位置に移動させた観察光学系5を用いて欠陥を観察、確認する工程である。この工程で、修正に必要な転写範囲を決定する。また、必要があれば、修正が容易になるように、加工用の第1のレーザ光源7等を用いてレーザアブレーションあるいはカットすることにより、欠陥部の整形を行なってもよい。
First, the process (S10) of observing a defective part is implemented. Specifically, it is a step of observing and confirming the defect using the observation
図6は、パターンの一部が欠損により断線している欠陥部を有するパターン部品を示す概略図である。パターン部品2は、基板23とその表面上に形成されたパターンである、配線24から構成される。図6に示すように、配線24には、その一部が欠損により断線して途切れている領域である欠陥部24aが存在する。パターン部品2は、たとえば液晶パネルのTFT基板である。この場合、基板23はガラス、配線24は、第1の金属膜、たとえばAl−NdやAl−Cuなどのアルミ合金からなる金属薄膜を微細線状に形成させたものとなる。パターン部品2がTFT基板の場合、配線24の上部に絶縁膜が形成されるため、絶縁膜を付ける前の状態で欠陥部24aの修正を行なう。なお、配線24を形成後、時間と共に配線24の表面が酸化する場合も想定されるが、その場合には、欠陥部24aを含む配線24の表面をレーザアブレーションすることにより、酸化された層を除去してもよい。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a pattern component having a defective portion in which a part of the pattern is disconnected due to a defect. The
欠陥部24aの導通を確保するためには、欠陥部24aを含み、その両端の正常な配線24にも重なるように導電性を有する修正部材を固着させる修正が必要となる。したがって次に、転写部材を配置する工程(S20)を実施する。具体的には、転写部材15を欠陥部24a上に対峙するように重ね合わせる工程である。そこで以下に、基材の一方の主表面上に第2の金属膜を蒸着等により形成した転写部材15について説明する。
In order to ensure the conduction of the
図7は、パターン、たとえば配線の欠陥部を修正する転写部材の構造を示す概略図である。図7に示すように、転写部材15は、基材26と、その一方の主表面上に形成された第2の金属膜27とから構成される。基材26は450℃程度の耐熱性があって、加熱用のレーザ光を透過可能な材料からなり、たとえばポリイミド、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂であるシリコーンシートからなるフィルムや、もしくはガラス板などが使用される。加熱用のレーザ光としては、たとえばYAG第2高調波連続発振のレーザ光(波長532nm)を用いる。基材26として有色のポリイミドフィルムを用いる場合、基材26の厚みが厚くなるに従って、波長532nmの光透過性が悪くなるので、必要に応じてその膜厚は適時選択されるが、より薄いものを用いる方が好ましい。たとえば、厚みが12.5μmの有色ポリイミドフィルムであれば、YAG第2高調波レーザ(波長532nm)の透過率は約65%であるが、厚みが25μmであれば透過率は約40%、厚みが50μmであれば透過率は約20%と低下する。したがって、ポリイミドフィルムを基材26として使用する場合には、厚みが25μm以下のものを使用することが好ましい。なかでも、厚みが12.5μm前後(7μm以上15μm以下)がさらに好ましい。なお、最近では透明なポリイミドフィルムも入手可能であり、耐熱性を十分満足すれば、基材26として使用してもよい。
FIG. 7 is a schematic diagram showing the structure of a transfer member that corrects a pattern, for example, a defective portion of a wiring. As shown in FIG. 7, the
基材26の一方の主表面上には、パターン部品2(基板23)の配線24を形成する第1の金属膜(たとえばアルミ合金)と、加熱により容易に溶融して合金を形成することが可能な第2の金属膜27が形成されているが、第2の金属膜27の融点は、基材26の耐熱温度以下であることが好ましい。たとえば、第2の金属膜27の材料としては比較的融点の低い、亜鉛(融点420℃)、亜鉛合金(例:亜鉛アルミ合金、融点350℃〜400℃)、金合金(例:金錫合金、融点280℃前後)、錫(融点450℃)などの金属材料を用いる。なお、第2の金属膜27は金属薄膜が1層のみの単層であってもよいし、あるいは異なる金属材料からなる金属層が互いに接するように複数の層に形成されていてもよい。
On one main surface of the
亜鉛合金の一つである亜鉛アルミ合金を第2の金属膜27とした場合、アルミの含有率などによって溶融温度は異なるが、350℃〜400℃程度のものを使用する。特に、転写部材15を用いて配線24の欠陥部24aを修正した後、後工程にて基板23の温度を上げる場合には、後工程により修正部分が溶融しない程度の融点を持つ金属材料からなる薄膜を1層以上持った第2の金属膜27を形成することが好ましい。なお、欠陥部24aを修正後の後工程で、基板23に対して加温する温度やパターン部品2を使用する環境温度が十分低い場合には、第2の金属膜27として、金錫合金のように約280℃の融点を持つ低融点金属を1層のみ形成した転写部材15を使用してもよい。
When a zinc aluminum alloy, which is one of the zinc alloys, is used as the
第2の金属膜27は、一般的に広く使用されている真空蒸着法やスパッタリング法を用いて基材26の一方の主表面上に薄膜形成されるため、薄膜の状態で導電性を有し、低い電気抵抗を示す。第2の金属膜27は、配線24の欠陥部24aを均一な膜厚の修正層となるように修正することが可能である。修正層の電気抵抗をより小さくするためには、第2の金属膜27の厚みをより厚くすることが好ましい。たとえば、欠陥部24aの修正を行なう対象であるパターン部品2が液晶パネルに使用されるTFT基板の場合には、配線24の厚みはたとえば0.4μmである。この場合、第2の金属膜27の厚みは0.1μm以上0.5μm以下に設定することが好ましい。なお、欠陥部24aが凹凸面を含む場合には、凹凸面の形状に従って隙間なく第2の金属膜27を転写するために、第2の金属膜27の厚みはより薄く、0.1μm以上0.3μm以下に設定することが好ましい。また、第2の金属膜27の厚みが厚くなるほど、加熱時のレーザ光の照射によるレーザパワーをより多く必要とする。このため、使用環境に合わせて第2の金属膜27の厚みを設定すればよい。
Since the
図8は、第2の金属膜の最表面の金属層として、酸化防止用金属膜を形成させた転写部材の構造を示す概略図である。先の図7における転写部材15は、基材26に第2の金属膜27が1層存在する構造となっている。しかし、図8に示す転写部材15aのように、第2の金属膜27を2層構造としてもよい。第2の金属膜27は、たとえば、基材26の一方の主表面上から、転写させる金属材料の母材膜27aとなる亜鉛アルミ合金の層(薄膜)と、その酸化防止用金属膜27bとなる金錫合金の層(薄膜)とを、それぞれ真空蒸着法やスパッタリング法などにより積層形成する。
FIG. 8 is a schematic view showing the structure of a transfer member in which an antioxidant metal film is formed as the outermost metal layer of the second metal film. The
図8における第2の金属膜27の2層構造の最表面にある酸化防止用金属膜27bとしての金錫合金の層は、その下部に位置する層である亜鉛アルミ合金の層が酸化することを防止する機能を有する。特に、亜鉛アルミ合金は酸化しやすい金属であり、酸化するとシラノール結合が難しくなって、転写性が低下する。このため、酸化防止用金属膜27bが必要となる。酸化防止用金属膜27bとして、たとえば、金、白金、イリジウム、金合金、白金合金、イリジウム合金などが使用できる。したがって、たとえば、先述した金錫合金を酸化防止用金属膜27bとして用いる。
In the gold-tin alloy layer as the
ここでは酸化防止用金属膜27bは、母材膜27aの酸化を抑制させることを主目的にしている。このため、その厚みは母材膜27a(亜鉛アルミ合金)の酸化を抑制させることができる厚みがあればよく、母材膜27aの厚みよりも薄いことが好ましい。具体的にはたとえば0.01μm以上0.03μm以下の膜厚に設定される。
Here, the main purpose of the oxidation-preventing
酸化防止用金属膜27bとした最表面の薄膜である金錫合金の融点は、母材膜27aとした亜鉛アルミ合金の融点よりも低い。このため、転写時には始めに金錫合金が溶融して、配線24の欠陥部24aとの密着境界面で溶融固着し易くなるので、転写性が良くなって好都合である。
The melting point of the gold-tin alloy, which is the thinnest outermost film as the
図9は、図8に示した2層構造に、基材と母材膜との間に光吸収特性のよい金属の層からなる光吸収層を追加した3層構造を有する転写部材の構造を示す概略図である。上述した図8に示す転写部材15aのように、第2の金属膜27は、異なる金属材料からなる金属層が互いに接するように複数の層に形成されていてもよい。したがって、図9のように3層構造であってもよい。図9に示す、3層構造の第2の金属膜27を有する転写部材15bにおいて、光吸収層27cとしては、低融点金属であって、かつ、第2の金属膜27の母材膜27a(亜鉛アルミ合金)よりも光吸収特性のよい金属材料を用いることが好ましい。たとえば、酸化防止用金属膜27bが金錫合金の層である場合、同じ金錫合金を光吸収層27cの金属材料とすれば、使用する金属の種類を低減できて好都合である。したがって転写部材15bにおける第2の金属膜27は、金錫合金で構成させた光吸収層27cを、基材26の一方の主表面上にさらに備えた、すなわち金錫合金の層と亜鉛アルミ合金の層と、金錫合金の層との3層構造とする。なお、第2の金属膜27が複数の層により形成されている場合は、その最表面の層と第1の金属膜とが密着した状態にあるため、溶融時には、これらの合金層を形成する。なお、複数の層とした第2の金層膜27の各層は非常に薄いため、第1の金属膜と接していない層であっても、拡散等により合金層内に溶融する。
FIG. 9 shows a structure of a transfer member having a three-layer structure in which a light-absorbing layer made of a metal layer having a good light-absorbing property is added between the base material film and the base material film in the two-layer structure shown in FIG. FIG. Like the
金属薄膜の材質が亜鉛アルミ合金の場合、加熱源としての波長532nmのレーザ光の反射率がアルミ(92%)とほぼ同じ、また、金錫合金の波長532nmに対するレーザ光の反射率が金(80%)とほぼ同じであって、残りがすべて吸収されると仮定すると、金錫合金の方が照射したレーザ光を高い割合で吸収させることができる。光吸収層27cは、照射したレーザ光を効率よく吸収できればよく、あまり厚くする必要はない。たとえば、光吸収層27cの厚みは0.1μm以下であることが好ましく、0.01μm以上0.03μm以下であることがさらに好ましい。光吸収層27cを形成すれば、より少ないレーザパワーで光吸収層27c、母材膜27a、酸化防止用金属膜27bからなる3層構造を有する第2の金属膜27を転写可能な温度まで加熱することができる。したがって、特に転写部材15bの基材26がポリイミドフィルムの場合には、基材26が高温になって炭化するなどの、損傷の可能性を低減できる。
When the metal thin film is made of zinc-aluminum alloy, the reflectance of the laser beam with a wavelength of 532 nm as the heating source is almost the same as that of aluminum (92%), and the reflectance of the laser beam with respect to the wavelength of 532 nm of the gold-tin alloy is gold ( 80%), and assuming that all the remainder is absorbed, the laser beam irradiated by the gold-tin alloy can be absorbed at a higher rate. The
また、基材26と接する光吸収層27cの材料として、母材膜27aよりも低い融点特性を示す金属を選択すれば、転写時に基材26と光吸収層27cとの剥離性がよくなり、好都合である。
Further, if a metal having a melting point characteristic lower than that of the
図7に示した転写部材15の構造は、基材26の一方の主表面上に形成される第2の金属膜27は1層(たとえば亜鉛アルミ合金)であり、この場合、1層の薄膜が欠陥部24aに転写される。また、図8や図9に示した転写部材15aや転写部材15bのように、第2の金属膜27が複数の層になっている場合には、これら複数の層になった第2の金属膜27全体が欠陥部24aに転写され、導通を確保する。なお、第2の金属膜27は、4層以上であってもよい。
In the structure of the
ここで、修正工程に戻って説明を続ける。転写部材を配置する工程(S20)を経て、欠陥部に密着させる工程(S30)を実施する。具体的には、先のパターン修正装置1に備えられ、押圧手段10に固定された押圧部材16を用いて、たとえば転写部材15(図7参照)の基材26の一方の主表面上に形成させた第2の金属膜27に対向する他方の主表面の方向から、パターン部品2側に押圧して、第2の金属膜27を配線24の欠陥部24aに密着させる工程である。
Here, returning to the correction process, the description will be continued. Through the step (S20) of arranging the transfer member, a step (S30) of closely attaching to the defective portion is performed. Specifically, for example, formed on one main surface of the
図10の(A)から(D)は、工程(S20)およびそれに続く工程(S30)、(S40)、(S50)に含まれる各段階における状態を図示したものである。図10(A)は、押圧部材および転写部材を、パターン部品の欠陥部を含む範囲に対峙させた状態を示す概略図である。図10(B)は、押圧部材を下降させて転写部材をその下方に押圧して、転写部材をパターン部品の欠陥部を含む範囲に密着させた状態を示す概略図である。これらの図10(A)および図10(B)が、それぞれ工程(S20)、(S30)に係る各段階である。 (A) to (D) of FIG. 10 illustrate states in each stage included in the step (S20) and the subsequent steps (S30), (S40), and (S50). FIG. 10A is a schematic view showing a state in which the pressing member and the transfer member are confronted with a range including a defective part of the pattern component. FIG. 10B is a schematic view showing a state in which the pressing member is lowered and the transfer member is pressed downward to bring the transfer member into close contact with a range including a defective portion of the pattern component. These FIG. 10A and FIG. 10B are the respective stages relating to the steps (S20) and (S30), respectively.
図10(A)に示すように、転写部材15の基材26の一方の主表面上に形成させた第2の金属膜27を、パターン部品2の基板23の表面上に形成された配線24上に発生した、欠陥部24aを含む範囲に対峙させる。なお、転写部材15の基材26の一方の主表面上に形成された第2の金属膜27は、1層の金属膜(図7の転写部材15参照)、または異なる金属材料からなる金属層が互いに接するように形成された複数の層(図8の転写部材15a参照)となる。しかし、図10においては図面を分かり易くするため、第2の金属膜27は1層の金属膜として説明を行なう。
As shown in FIG. 10 (A), the
この状態で、図10(B)に示すように、レーザ光を良好に透過可能な、たとえば透明のガラスで形成された押圧部材16を、転写部材15の第2の金属膜27を形成させた主表面に対向する主表面方向から、すなわち転写部材15の基材26の上方から下降させる。すると、押圧部材16を介して転写部材15をパターン部品2側に押圧し、第2の金属膜27と欠陥部24aを含む配線24とを密着させることができる。このとき、修正部に気泡が入らないように完全に密着させる方が好ましい。そのためには、押圧部材16の面圧を最適に調整する。通常、欠陥部24aの長さは数十μmと微小であるため、押圧する範囲は必要最低限の範囲にするのがよく、実際に第2の金属膜27が欠陥部24aを含む配線24に密着する領域は直径50μm以上200μm以下、あるいは50μm角以上200μm角以下であることが好ましい。押圧部材16を形成する球面形状の凸面16aが、転写部材15と接する面となるように配置することにより、押圧させる範囲を必要最低限に限定させることができる。また、転写部材15に形成された第2の金属膜27を欠陥部24aに対してより強く密着させることができる。このため後述する工程(S40)では、元々の配線24を形成する第1の金属膜と第2の金属膜27との密着境界面に合金層を、容易に形成して固着させることができる。この場合、凸面16aを持つ押圧部材16として、たとえば平凸レンズを用いてもよいし、凸面16aを持たない、平面板状の押圧部材16を用いてもよい。なお、押圧は、先の図4に示した押圧手段10を用いて行なう。
In this state, as shown in FIG. 10B, the
そして、レーザ光を照射させる工程(S40)を実施する。具体的には、押圧部材16で第2の金属膜27を欠陥部24aを含む配線24上に押圧して、第2の金属膜27と欠陥部24aを含む配線24とを密着させた状態(図10(B)の状態)のまま、押圧部材16の上方からレーザ光を、転写範囲である、欠陥部24aと接する第2の金属膜27に照射する。そして、レーザ光により欠陥部24aと接する第2の金属膜27の密着境界面を溶融させて、第2の金属膜27と、配線24を構成する第1の金属膜との合金層を形成させることにより、欠陥部24aに第2の金属膜27を強固に固着させる。次に、工程(S40)を詳細に説明する。
And the process (S40) of irradiating a laser beam is implemented. Specifically, the
図10(C)は、配線の欠陥部に転写部材を密着させた状態で、レーザ光を照射した状態を示す概略図である。工程(S40)に係る図10(C)に示すように、転写部材15の基材26を介して、押圧部材16で第2の金属膜27を押圧密着させた状態で、転写部材15の、第2の金属膜27に対向する方向、すなわち押圧部材16の上方からレーザ光29(たとえばYAG第2高調波CWレーザ)を照射する。レーザ光29の照射範囲は、たとえば図示しない、先述したスリット機構5cを通過することで設定される。基材26を透過したレーザ光29によって、修正領域の第2の金属膜27が加熱され、配線24を形成する第1の金属膜と、第2の金属膜27との密着境界面でこれらの金属が溶融して合金層を形成して固着する。
FIG. 10C is a schematic diagram illustrating a state in which laser light is irradiated in a state where the transfer member is in close contact with the defective portion of the wiring. As shown in FIG. 10C relating to the step (S40), the
なお、断線している欠陥部24aは、配線24を形成する第1の金属膜が欠落していて、その下部に位置する領域、たとえば基板23を構成するガラスやシリコンオキサイドが露出した状態にある場合もある。この場合、ガラスまたはシリコンオキサイドと転写部材15との密着境界面で、その密着境界面(配線24の下部に位置するガラスやシリコンオキサイドの表面)に含まれるSi−OHと、転写部材15に形成されている押圧密着させた第2の金属膜27との間で界面反応、たとえばシラノール結合が起こって化学的に強固に固着する。この場合、転写部材15のベースとなる基材26の一方の主表面上に形成される第2の金属膜27の材料として、たとえば亜鉛、亜鉛合金(たとえば亜鉛アルミ合金)、錫、錫合金(たとえば金錫合金)などの低融点金属を用いることが好ましい。なお、シラノール結合の他、界面反応には、たとえば密着境界面の凹凸部にそれぞれの材料が入り込んで固着するアンカー効果も含まれる。
The disconnected
したがって、たとえ断線している欠陥部24aが、配線24を形成する第1の金属膜を含まず、基板23が露出した状態であったとしても、基板23を形成する材料と、転写部材15の第2の金属膜27との間でシラノール結合で固着させることにより欠陥部24a内にも第2の金属膜27を転写固着することができる。上述したとおり、基板23の表面層と転写部材15の第2の金属膜27との間での固着の効果は、基板23の表面層がガラスやシリコンオキサイドで形成されている場合に、特に顕著になる。
Therefore, even if the
また、レーザ光29の照射において、基板23および基材26の耐熱温度以下の加熱状態でも、第2の金属膜27を欠陥部24aに転写できるような金属材料を第2の金属膜27として選定することが好ましい。すなわち、第2の金属膜27は、その融点が基板23および基材26の耐熱温度以下であることが好ましい。
In addition, a metal material that can transfer the
最後に、転写部材を除去する工程(S50)により、パターン部品2に密着した状態の転写部材15を除去する工程を実施する。図10(D)は、欠陥部の修正を終えた後のパターンの状態を示す概略図である。工程(S50)に係る概略図が図10(D)である。レーザ光29を照射後、押圧部材16による押圧を解除してから、転写部材15をパターン部品2から上方に剥離退避する。すると図10(D)に示すように、レーザ光29が照射された領域に限定して転写部材15の第2の金属膜27が欠陥部24aに転写され、修正層27dが残る。修正層27dは、第2の金属膜27とほぼ同じ膜厚で転写されるので、図10(D)に示すようにたとえ欠陥部24aに段差部が存在しても、修正層27dの膜厚は均一であり、転写と同時に低い電気抵抗で導通が確保される。以上のように、本発明の実施の形態1におけるパターン修正装置1を用いれば、転写部材15の基材26の一方の主表面に形成された第2の金属膜27は、欠陥部24aを含む配線24と密着した状態でレーザ加熱され、欠陥部24aと第2の金属膜27との密着境界面で溶融固着させるか、あるいはシラノール結合により強固に固着させて欠陥修正を行なうことができる。したがって、1回の転写工程でも均一な膜厚の修正層27dを形成して、電気的抵抗をより低くすることが可能である。
Finally, a step of removing the
図11は、パターンの欠陥部に、転写部材の表面に形成された第2の金属膜からなる修正層が転写された状態のパターン部品を示す概略図である。一般的には、図11におけるパターン部品2が示すように、修正層27d(クロスハッチング層)の幅は配線24の幅とほぼ同じ幅となるよう、修正層27dを形成させる。なお、配線24の幅からのはみ出しが許容される場合には、配線24の幅より太くなってもよい。また、配線24の幅より細くなってもよいが、この場合は、修正後の配線24の電気抵抗が設計値以下となるように設定することが好ましい。なお、修正層27dの形状は、転写後、先述した第1のレーザ光源7を用いて整形してもよい。
FIG. 11 is a schematic view showing the pattern component in a state where the correction layer made of the second metal film formed on the surface of the transfer member is transferred to the defective portion of the pattern. In general, as shown by the
欠陥部24aに転写された修正層27dの周囲にバリ等が発生する場合があるが、その場合には、図11に示す状態のパターン部品2に対して再度、修正層27d全体にレーザ光29を照射して、修正層27d全体を加熱してバリを溶かして除去してもよい。また、再度加熱することにより、修正層27dと、基板23との密着をより強固にすることができる。ここで、再度加熱する際には、たとえば修正層27dに窒素ガスなどを吹き付けて、修正層27dの酸化を防止することがより好ましい。
In some cases, burrs or the like may occur around the correction layer 27d transferred to the
以上の説明は、たとえば図7に示す転写部材15のように、第2の金属膜27が1層(単層)の転写部材を用いて行なった。しかし、たとえば図8、図9に示した転写部材15a、転写部材15bのように、第2の金属膜27が複数の層から形成される転写部材を用いて修正を行なった場合においても、図10と同様に修正が行なわれる。ここで、第2の金属膜27が2層構造である転写部材15a(図8参照)を用いた転写形態について概略を説明する。
The above description has been made using a transfer member in which the
転写部材15aの、基材26の一方の主表面上には、図8に示すように、その内側から母材膜27aと、酸化防止用金属膜27bとからなる2層構造の第2の金属膜27が形成される。たとえば、母材膜27aの材質としては亜鉛アルミ合金で形成され、酸化防止用金属膜27bは金錫合金で形成される。酸化防止用金属膜27bとして用いる金錫合金は、母材膜27aとして用いる亜鉛アルミ合金よりも融点が低い。このため、レーザ光29による加熱時には、金錫合金と配線24を形成する第1の金属膜との密着境界面で、先に金錫合金が溶融して、それらの合金層を形成して固着する。特に金は拡散し易い材料であるため、金錫合金と接する第1の金属膜、あるいは亜鉛アルミ合金内にも金が拡散するので、これらの膜は強固に固着する。
As shown in FIG. 8, on the one main surface of the
質量%比がAu:Sn=80:20である金錫合金の融点は約280℃と低いため、欠陥部24aを修正した後の後工程でパターン部品2全体を300℃から350℃程度の温度で処理する場合には、金錫合金の再溶融が懸念される。しかし、上述のように、酸化防止用として形成される金錫合金は厚みが非常に薄い。また、配線24を形成する第1の金属膜や、転写部材15aの母材膜27aと溶融して合金化すると、その合金層の融点は単体の融点よりも上昇する。したがって、再度加熱することによる溶融が起きにくくなる。さらに、金錫合金より融点が高い、亜鉛アルミ合金(融点は350℃〜400℃近辺)がほぼそのままの膜厚で残るので、これを再度加熱させることによる、再溶融などの影響はない。また、金錫合金は非酸化性で、金属材料との接合材としてよく利用されるものである。したがって、配線24の欠陥部24aに対する密着状態を良好に保つことができる。以上により、転写される金属材料が2層構造をなす転写部材15aを用いた場合についても、欠陥部24aを良好に転写修正することができる。
Since the melting point of the gold-tin alloy whose mass% ratio is Au: Sn = 80: 20 is as low as about 280 ° C., the
(実施の形態2)
図12は、配線の欠陥部に転写部材を密着させた状態で、スポット状に絞ったレーザ光を走査しながら照射した状態を示す概略図である。本発明の実施の形態1においては、レーザ光29を照射させる範囲は、たとえば図10(C)に示すように、スリット機構5cを用いてレーザ光29の照射範囲を決定して一括照射していた。これに対して、図12に示すように、たとえば径が5μmから30μm程度のスポット状に集光した(絞った)レーザ光29aを、第2の金属膜27上を走査しながら加熱してもよい。この方法を用いて、必要な長さ分だけ、レーザ光29aを走査させることにより、必要な長さの修正層27dを得ることができる。なお、この場合、修正層27dの幅は、レーザ光29aの径(照射させる領域)により決定される。
(Embodiment 2)
FIG. 12 is a schematic view showing a state in which a laser beam focused in a spot shape is irradiated while scanning while the transfer member is in close contact with the defective portion of the wiring. In
図12に示すように、転写部材15の上方から照射させたレーザ光29aを転写部材15の一方の主表面上で相対移動させるためには、転写部材15の主表面はXYステージ3に沿った方向であるため、たとえば、XYステージ3の一軸(X軸またはY軸)を移動させる。ここで仮に、レーザ光29aを照射するレーザ加熱手段となる第2のレーザ光源8、転写部材15を配置させる転写部材供給手段9、および押圧部材16を配置させる押圧手段10がZステージ4やその固定部材に固定支持されていれば、レーザ加熱手段である第2のレーザ光源8から照射されるレーザ光29aの走査移動に伴って、転写部材15と押圧手段10も同一方向に同様に移動することになる。このため、図12に示すように密着した状態にある、パターン部品2の基板23と転写部材15と押圧部材16とは、XY方向に沿った方向の元の密着位置で密着された状態を保持することができなくなり、お互いに滑りを生じて、それらの位置関係が崩れる。そのため、想定した位置に転写ができなくなる。
As shown in FIG. 12, in order to relatively move the laser beam 29 a irradiated from above the
そこで、レーザ光29aを転写部材15の一方の主表面であるXY方向に沿った方向で相対移動させる際には、押圧手段10に配置された押圧部材16および、転写部材供給手段9に配置された転写部材15がレーザ光29aと同じ方向に移動しないようにする機構を備えることが好ましい。すなわち、Zステージ4に固定されている、レーザ光29aを照射する第2のレーザ光源8が、転写部材15ないし基板23の主表面に沿った方向の走査により移動しても、転写部材15および押圧部材16が釣られて移動しないように、転写部材15および押圧部材16を、第2のレーザ光源8に対して相対的に自由移動可能とすることにより、相対移動量を吸収する。パターン部品2の基板23がTFT基板であれば、欠陥部24aの長さは数十μm程度が多く、その修正に必要なレーザ光29aの走査量は数百μmあれば十分であり、相対移動量を吸収する機構は、数百μm以内の微小範囲の移動を吸収できればよい。
Therefore, when the laser beam 29a is relatively moved in the direction along the XY direction which is one main surface of the
始めに、押圧部材16によって転写部材15を基板23に密着させたパターン部品2を搭載するXYステージ3が、たとえばY軸方向に沿って移動する場合を考える。この場合、基板23と転写部材15と押圧部材16とは押圧点で密着した状態にある。XYステージ3がY軸方向に沿った方向に移動すると、それに合わせて基板23のみが移動するため、基板23は、転写部材15や押圧部材16との間で滑りを生じる。基板23と、転写部材15や押圧部材16との相対移動(滑り)を回避するため、たとえば先の図4に示した押圧手段10に設けた、スライド部材としての直動スライド19を、押圧手段10が直動スライド19に沿った方向に自由に移動可能となるように拘束を解除する。直動スライド19に固定された移動板18のY軸に沿った方向の移動(紙面に交差する方向の移動)を自由として、押圧手段10に配置された押圧部材16が、基板23に対して自由に移動可能となるため、基板23に対する押圧部材16の相対移動量を吸収できる。
First, consider a case where the
なお、直動スライド19を常時拘束解除にすると、押圧部材16の位置が不安定になる。このため、移動板18の左右に、図4において図示しない弾性部材(たとえば、ばね)を配置して、直動スライド19の位置を、押圧手段10が移動できる範囲のほぼ中央に戻すようにしてあってもよい。または、押圧部材16が転写部材15を押圧するまでは、移動板18がY軸に沿った方向の移動を不可として、ほぼ中央に拘束しておき、押圧終了後に拘束を解除して自由移動を可能にしてもよい。
If the
ここで、先の図4に示した押圧手段10は、転写部材15を押圧した状態では、XYステージ3に沿った方向については、Y軸に沿った方向にしか自由に移動できない。このため、先述した第2のレーザ光源8を、転写部材15や基板23の主表面に沿った方向すなわちXY方向に沿った方向に走査しても、XY方向に沿った方向の相対移動を吸収可能とするために、X軸に沿った方向(紙面の左右方向)にも自由に移動可能とする新たなスライド部材を、押圧手段10に設置させることが好ましい。
Here, the pressing means 10 shown in FIG. 4 can move freely only in the direction along the Y axis in the direction along the
図13は、本発明の実施の形態2における、レーザ加熱手段に対して、XY方向に沿った方向に相対的に移動可能とする、押圧手段の構成を示す概略図である。図13に示す押圧手段40は、それぞれに交差する直動スライド19、30を配置して、X軸とY軸とに沿った方向の相対移動を吸収可能とする。この場合、図4における移動板18を、L字型を有する移動板18a、18bに分割し、その間に、押圧部材16をX軸に沿った方向にも自由に移動可能とする直動スライド30を配置した構造となる。なお、X軸方向の中央の位置での拘束、また、その拘束方法や拘束解除方法は上述したY軸方向の場合と同じである。このため、ここではその説明を省略する。
FIG. 13 is a schematic diagram illustrating a configuration of a pressing unit that is relatively movable in a direction along the XY direction with respect to the laser heating unit in the second embodiment of the present invention. The pressing means 40 shown in FIG. 13 arranges the linear motion slides 19 and 30 that intersect with each other, and can absorb the relative movement in the direction along the X axis and the Y axis. In this case, the moving
また、転写部材15と基板23との相対移動(滑り)を回避するため、上述した押圧手段10、40と同様の直動スライドを配置した機構を転写部材供給手段9に設置して、基板23に対して自由に移動可能となるようにしてもよい。しかし、上述した押圧手段10、40と同様の直動スライドをさらに1台設置すると、パターン修正装置1全体が大掛かりなものになる。また、転写部材15の場合は、欠陥部24aに直接密着させるため、欠陥部24aと位置合わせする精度も要求される。このため、転写部材15に対しては、直動スライドよりもさらに高精度に位置を制御することが可能な機構を設置することが好ましい。
Further, in order to avoid relative movement (slip) between the
図14は、リニアモータを用いて転写部材供給手段の位置決め制御を行なう機構の概略図である。図14に示すように、転写部材供給手段9に、リニアモータ駆動のXステージ52、Yステージ53と、ボールねじ駆動のZステージ54を固定したXYZステージをさらに備える。Xステージ52はXYステージ3のX軸に沿った方向に、Yステージ53はY軸に沿った方向に対して転写部材15の位置決め制御ができるように設置する。また、Zステージ54はZ軸に沿った方向に対して転写部材15の位置決め制御ができる。Xステージ52、Yステージ53およびZステージ54は、それぞれ図14に示すようにモータドライバ55、56、57に接続され、それぞれX軸、Y軸、Z軸に沿った方向に位置決め制御される。その位置指令は、制御用コンピュータ13から受ける。
FIG. 14 is a schematic view of a mechanism for performing positioning control of the transfer member supply unit using a linear motor. As shown in FIG. 14, the transfer member supply means 9 further includes an XYZ stage to which a linear motor driven
転写部材15は、その両端部に配置したローラ51に固定支持され、左右のローラ51の間で一定の張力が加えられ、基板23に対してほぼ平行に対峙される。ローラ51を含めて転写部材15は、Zステージ54に支持され、転写部材15をX軸、Y軸、Z軸のそれぞれに沿った方向に位置決めすることが可能となる。以上のような小型のXYZステージが設けられた転写部材供給手段9を用いて、図14に示すように、押圧手段10または40に支持された押圧部材16は、転写部材15の第2の金属膜27と欠陥部24aを含む配線24とを密着させた状態にする。そして、XYステージ3の移動により、スポット状に集光したレーザ光29aを転写部材15上で、第2の金属膜27と欠陥部24aとが密着されている領域に照射されるように走査させる。
The
ここで仮に、レーザ光29aを照射するレーザ加熱手段となる第2のレーザ光源8と転写部材15を配置させる転写部材供給手段9とが、たとえばZステージ4やその固定部材に固定支持されていれば、第2のレーザ光源8から照射されるレーザ光29aの走査移動に伴って、転写部材15も同一方向に同様に移動しようとする。しかし、転写部材供給手段9に内蔵されるXステージ52とYステージ53とのモータ(リニアモータ)を位置決め制御するモータドライバ55、56の位置決めゲインや積分ゲインを下げておけば、転写部材供給手段9に配置される転写部材15の微小な範囲の移動を容易とし、第2のレーザ光源8に対する転写部材15の相対移動を吸収することができる。特に、リニアモータ駆動であれば、これらのステージを構成する部材はガイドとリニアモータのみであり、X軸またはY軸に沿った方向に容易に移動させることができる。以上のように、転写部材供給手段9に配置された転写部材15が、基板23に対して自由に移動可能となるため、基板23に対する転写部材15の相対移動量(滑り)を吸収できる。
Here, it is assumed that the second
したがって、以上のように直動スライドおよびリニアモータを適宜組み合わせて使用することにより、パターン部品2の基板23と転写部材15と押圧部材16とは、XY方向に沿った方向の元の密着位置で密着された状態を保持することができる。そして、修正が必要な範囲にレーザ光29aの照射ができた段階で、XYステージ3の移動を停止して、レーザ光29aの走査を終了するとともに、レーザ光29aの照射を停止する。その後、押圧部材16による押圧を解除し、転写部材15を剥離退避させれば、欠陥部24aの修正が完了する。
Therefore, by using a combination of a linear motion slide and a linear motor as described above, the
このとき、Xステージ52およびYステージ53に加えられていた、それぞれX軸およびY軸に沿った方向の外力が解除されるため、Xステージ52とYステージ53とは元の位置に制御され戻される。なお、モータドライバ55、56の位置決めゲインや積分ゲインを低く設定すれば、第2のレーザ光源8に対する転写部材15の相対移動を容易に吸収することができるが、その分、位置決め精度が低下する。このため、位置決め精度を考慮しながら位置決めゲインや積分ゲインの値を設定することが好ましい。なお、レーザ走査が開始される前に、位置決めゲインや積分ゲインを下げ、押圧部材15の押圧が解除された時点で、これらのゲインを元に戻してもよい。
At this time, since the external forces applied to the
以上の例は、転写部材供給手段9には、転写部材15がXY方向に沿った方向において、すなわちレーザ加熱手段の走査方向に沿った方向において相対的に移動可能となるように、転写部材供給手段9に設けた小型のXYZステージのうち、XYステージを制御するモータドライバの位置ゲインを調整した。これに伴い、転写部材15が基板23に対してXY方向に沿った方向に相対移動(滑り)を起こす可能性を小さくしている。しかし、これに代えて、フィルム状の転写部材15の張力を緩和させるようにして、転写部材15が基板23の主表面に沿った方向に相対的に移動可能となるようにしてもよい。図15は、転写部材を基板に対してほぼ平行となるよう対峙させることが可能なカセット構造を示す。カセット50は、転写部材15をロール状に巻いたリール45と、転写部材15を回収する回収リール46と、転写部材15を基板23に対してほぼ平行となるように対峙させる鍔なしの2つのローラ47と、回収リール46を回転させ、転写部材15を巻き取るモータ48と、リール45にトルクを与えるトルク調整手段49とを備える。カセット50は転写部材供給手段9に装着される。
In the above example, the transfer
転写部材15は、2つのローラ47の区間内で一定の張力が張られ、基板23に対してほぼ平行となるように対峙され、2つのローラ47の間にある転写部材15が、欠陥部24aの修正に利用される。トルク調整手段49は、リール45の回転を抑制するものであり、転写部材15の張力を均一にする機能を有する。
The
押圧部材16によって、転写部材15を基板23に押圧した状態でレーザ光29aを走査する場合、モータ48を微小角度で、巻き取り方向とは、逆方向に回転させて、転写部材15の張力を緩和する。すると転写部材15は、欠陥部24aの修正に必要なレーザ光29aの走査量である、200μm程度の微小な範囲内において、基板23および押圧部材15に対する相対移動を吸収することができる。
When the laser beam 29a is scanned in a state where the
また、押圧部材16に対しては、基板23に対して自由に移動可能とさせるために、上述した直動スライドを用いた、相対移動を吸収させる構造の他に、以下に述べる構造を用いることもできる。図16は、弾性体の変形を利用した、押圧部材に対するレーザ光の走査による相対移動を吸収可能とした構造を示す概略図である。図16に示すように、押圧部材16を固定し、その中央に貫通孔31aを持つホルダ31は、押圧板20に設けられた鍔20b付きの貫通孔20aに隙間を持って内挿され、ホルダ31の上部方向および左右方向に弾性部材33、34を介して貫通孔32aを中央に持つ蓋32で固定される。弾性部材33、34として、たとえばOリングを用いる。先述した要領にて押圧部材16が転写部材15を押圧する場合、押圧部材16は弾性部材34の変形により、ホルダ31が上方に微小移動して、鍔20bとホルダ31とは離れる。このとき、ホルダ31は弾性部材33、34のみによって支持される。先述したように、パターン部品2の基板23がTFT基板であれば、欠陥部24aの長さは数十μm程度が多く、その修正に必要なレーザ光29aの、基板23の主表面に沿った方向の走査量は数百μm程度あれば十分であり、相対移動量を吸収する機構は、数百μm程度の微小範囲の移動を吸収できればよい。したがって、数百μm程度の微小な領域であれば、弾性部材33の変形によって押圧部材16が、レーザ加熱手段に対して、基板23の主表面に沿った方向に自由に移動することが可能となり、相対移動量が吸収される。また、押圧部材16の、転写部材15と接する面が球面形状ではなく平面形状のガラスの場合であっても、弾性部材34による調心機能で片当たりするのを防止して、均一に転写部材15を押圧可能となる。
In addition, in order to make the pressing
以上により、押圧部材16の下降によって転写部材15を基板23に押圧した状態で、押圧部材16の上方にあるレーザ加熱手段から照射されるレーザ光29aをXYステージ3の移動により走査しても、押圧部材16および転写部材15のXY方向に沿った方向の相対移動量を吸収して打ち消し、押圧部材16と転写部材15および基板23とが元の密着位置にて密着された状態を保持することが可能となる。
As described above, even when the
さらに、本発明のパターン修正装置に用いる転写部材としては、以下のような態様も考えられる。図17は、第2の金属膜の溶融を必要としない領域への放熱を抑制するための転写部材を示しており、基材に対して第2の金属膜が形成されていない主表面側から見た状態を示す概略図である。なお、図17〜図26においては、第2の金属膜27として、2層構造を例としたが、先述した1層であっても、また3層構造であっても同様である。また、図18は、図17の線分XVIII−XVIIIにおける断面模式図である。たとえば先述した転写部材15(図7参照)、15a(図8参照)、15b(図9参照)を用いたパターン修正方法は、基材26の一方の主表面上の全面に第2の金属膜27が形成された状態で、欠陥部24a(図6参照)など必要な領域にのみ、レーザ光29(図10(C)参照)またはレーザ光29a(図12参照)を照射することにより加熱して配線24(図6参照)の欠陥部24aに転写する方法である。これに対して、転写部材15cは、図18に示すように、基材26の一方の主表面上に形成された第2の金属膜27は、修正に必要な大きさの第2の金属膜27Pを残すように、その周囲の第2の金属膜27を除去して空隙35を形成する。このように第2の金属膜27を部分的に除去することにより、周囲の領域とは空隙35を介して独立した金属膜領域が形成されている。
Further, as the transfer member used in the pattern correction apparatus of the present invention, the following modes are also conceivable. FIG. 17 shows a transfer member for suppressing heat radiation to a region where the second metal film does not need to be melted, from the main surface side where the second metal film is not formed on the base material. It is the schematic which shows the state seen. In FIG. 17 to FIG. 26, the
このような構造の転写部材15cを用いることにより、たとえば欠陥部24aに密着させた第2の金属膜27Pにレーザ光29またはレーザ光29aを照射させて加熱させても、第2の金属膜27Pの周囲には第2の金属膜27がなく、空隙35により絶縁された状態にあるので、周囲の領域への放熱を防止できる。そのため、レーザ光29またはレーザ光29aのパワーを低く抑えることが可能となる。また、レーザパワーを低減できるので、転写部材15の一方の主表面上に形成させた基材26がたとえばポリイミドフィルムの場合には、たとえば基材26が焦げて炭化することなどの損傷を防止することができる。以上により、修正が必要な長さ、すなわち転写範囲の第2の金属膜27Pを欠陥部24aに転写させることができる。
By using the transfer member 15c having such a structure, for example, even if the
また、第2の金属膜27Pは、欠陥部24aを修正する形状に合わせて既に形成されているため、基材26からの剥離性も良好である。さらに第2の金属膜27Pと同じ形状で欠陥部24aに転写されるので、修正層27d(図11参照)の幅は均一となる。このため、修正したパターン部品2(図11参照)の品質および信頼性を向上させることができる。ここで空隙35は、たとえば、YAG第2高調波パルスレーザで第2の金属膜27をレーザアブレーションして除去すれば形成可能である。なお、空隙35の幅は、第2の金属膜27Pを加熱する際に、空隙35の外周にある第2の金属膜27に熱が伝達しない程度に設定されればよい。
Further, since the
図19は、欠陥部を修正する形状に合わせて、あらかじめ第2の金属膜をパターン状に形成した転写部材を示しており、基材に対して第2の金属膜が形成されていない主表面側から見た状態を示す概略図である。図20は、図19の線分XX−XXにおける断面模式図である。また、図21は、欠陥部を修正するのに必要な幅、たとえば配線とほぼ同じ幅で第2の金属膜を連続的に形成した転写部材を示しており、図19と同じ方向から見た状態を示す概略図である。図22は、図21の線分XXII−XXIIにおける断面模式図である。 FIG. 19 shows a transfer member in which a second metal film is formed in a pattern in advance in accordance with the shape for correcting a defective portion, and the main surface on which the second metal film is not formed on the substrate It is the schematic which shows the state seen from the side. 20 is a schematic cross-sectional view taken along line XX-XX in FIG. FIG. 21 shows a transfer member in which the second metal film is continuously formed with a width necessary for correcting the defective portion, for example, substantially the same width as the wiring, as viewed from the same direction as FIG. It is the schematic which shows a state. 22 is a schematic cross-sectional view taken along line XXII-XXII in FIG.
先の図17、図18に示す転写部材15cは、先に基材26の一方の主表面上の全面に第2の金属膜27を形成した後、レーザアブレーションにより空隙35を形成して、空隙35の内側(基材26の中央部分)に第2の金属膜27をパターン化させた第2の金属膜27Pを形成していた。これに対して、図19から図22に示す転写部材15d、15eにおける、パターン化した第2の金属膜27は、たとえば、マスクを介して真空蒸着またはスパッタリング処理を行う方法、あるいは、第2の金属膜27を基材26の一方の主表面上の全面に形成した後で露光、現像処理することで形成できる。図21、図22に示した転写部材15eを用いて欠陥部24aを修正する場合、パターン化された修正用転写領域としての第2の金属膜27のパターンを欠陥部24aの上方に重なるように位置合わせする。そして、転写部材15eの基材26を介して、押圧部材16で第2の金属膜27を押圧密着させた状態で、転写部材15eの、第2の金属膜27に対向する方向、すなわち押圧部材16の上方からレーザ光29またはレーザ光29aを照射して加熱する。以上により、修正が必要な長さ、すなわち転写範囲の第2の金属膜27を欠陥部24aに転写させることができる。
In the transfer member 15c shown in FIGS. 17 and 18, the
この場合も、第2の金属膜27からなる薄膜はパターン化され、独立した金属膜領域として絶縁された状態にある。このため、加熱時には、周囲の領域への放熱を抑制する。結果としてレーザ光29を照射する強度を低く設定することが可能となり、たとえば基材26が焦げて炭化することなどの損傷を防止することができる。
Also in this case, the thin film made of the
なお、この場合、第2の金属膜27は延在方向に長く形成されているため、1回の転写修正で使用する長さは、第2の金属膜27のうち一部分となる。そのため、転写部材15eの場所を移動して、第2の金属膜27の位置を変えて転写修正を行うことができるので、1つのパターン化された第2の金属膜27を用いて複数の欠陥部24aを修正することが可能となる。
In this case, since the
図23は、パターン化された第2の金属膜を複数個有する転写部材を示しており、基材に対して第2の金属膜が形成されていない主表面側から見た状態を示す概略図である。図24は、図23の線分XXIV−XXIVにおける断面模式図である。また、図25は、図21の転写部材で説明したパターン化した第2の金属膜を複数個有する転写部材を示しており、図21と同じ方向から見た状態を示す概略図である。図26は、図25の線分XXVI−XXVIにおける断面模式図である。 FIG. 23 shows a transfer member having a plurality of patterned second metal films, and is a schematic view showing a state viewed from the main surface side where the second metal film is not formed on the substrate. It is. 24 is a schematic cross-sectional view taken along line XXIV-XXIV in FIG. FIG. 25 shows a transfer member having a plurality of patterned second metal films described with reference to the transfer member of FIG. 21, and is a schematic view showing a state seen from the same direction as FIG. 26 is a schematic cross-sectional view taken along line XXVI-XXVI in FIG.
先の図19〜図22に示した転写部材15d、15eは、パターン化した第2の金属膜27は1個であるが、図23〜図26に示す転写部材15f、15gは、基材26の一方の主表面上に、複数個のパターン化した第2の金属膜27を形成させている。したがって、それぞれの第2の金属膜27を選択しながら複数個の欠陥部24aを修正することができる。
The transfer members 15d and 15e shown in FIGS. 19 to 22 have a single patterned
以上のように、欠陥部24aを修正するのに必要な幅の、第2の金属膜27を残して、第2の金属膜27をあらかじめパターン形成した転写部材(15c〜15g)を用いてもよい。パターン長は、たとえば図19、20に示した転写部材15dのように欠陥修正が必要な長さ、すなわち転写範囲に等しい長さに形成してもよいし、たとえば図21、22に示した転写部材15eのように連続パターンとしてあってもよい。また、サイズを変えた複数のパターン形成した第2の金属膜27を配置してもよい。
As described above, a transfer member (15c to 15g) in which the
以上に述べた各点についてのみ、本発明の実施の形態2は、本発明の実施の形態1と異なる。すなわち、本発明の実施の形態2の説明において、上述しなかった構成や条件、工程などは、全て本発明の実施の形態1に順ずる。 The second embodiment of the present invention is different from the first embodiment of the present invention only in respect of each point described above. That is, in the description of the second embodiment of the present invention, the configurations, conditions, processes, and the like not described above are all in accordance with the first embodiment of the present invention.
以上に述べたパターン修正装置を用いたパターン修正方法では、元々の配線24を形成する第1の金属膜の欠損により断線している欠陥部24aに対して、第2の金属膜27を密着した状態で、レーザ光29またはレーザ光29aの照射により加熱する。そして、第1の金属膜と、転写部材15の第2の金属膜27との密着境界面で溶融して合金層を形成することにより固着させる。したがって、上述した各工程(S10)から工程(S50)を1回行なうだけで、容易に、かつ、修正層27dの膜厚が均一になるように欠陥部24aを修正することができる。また、配線24の第1の金属膜と、転写部材15の第2の金属膜27との密着境界面で溶融して合金層を形成するので、固着性も良好であり、また欠陥部24aの電気抵抗を低くすることができる。そのため、配線24などのパターンの欠陥部24aを修正したパターン部品2、たとえばTFT基板やプリント基板は、元々欠陥部24aが存在しないパターン部品2と同等の機能を有し、通常の信頼性の高い良品部品として使用することができる。
In the pattern correction method using the pattern correction apparatus described above, the
また、修正を行なった修正層27dは、欠陥部24aに対する固着性が良好のため、露光用マスクの欠陥修正にも、以上に述べたパターン修正方法を用いることができる。この場合、欠陥部24aよりも広い領域に転写部材(15および15a〜15g)の第2の金属膜27を転写し、その後で転写された第2の金属膜27の端部をカット用の第1のレーザ光源7(図3参照)を用いてカットすることにより、所望の領域にのみ第2の金属膜27が存在するよう整形する工程を行なうことが好ましい。
The corrected layer 27d that has been corrected has good adhesion to the
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
本発明は、TFT基板に形成された配線などのパターンの欠陥部を、繰り返し操作を必要とせず、簡単な工程にて十分な膜厚の金属膜を熱転写することにより電気抵抗の低い、均一な膜厚の修正層が得られるパターン修正装置の技術として、特に優れている。 The present invention does not require repetitive operations for pattern defects such as wiring formed on a TFT substrate, and is a uniform and low electric resistance by thermally transferring a metal film having a sufficient thickness in a simple process. It is particularly excellent as a technique of a pattern correction apparatus that can obtain a correction layer having a film thickness.
1 パターン修正装置、2 パターン部品、3 XYステージ、4 Zステージ、5 観察光学系、5a ミラー、5b ビームスプリッタ、5c スリット機構、5d ビームスプリッタ、5e 結像レンズ、5f ビームスプリッタ、5g 対物レンズ、5h CCDカメラ、5i スリット光照明、5j 落射照明、6 モニタ、7 第1のレーザ光源、8 第2のレーザ光源、9 転写部材供給手段、10 押圧手段、11 画像処理部、12 ホストコンピュータ、13 制御用コンピュータ、14 チャック、15 転写部材、15a 転写部材、15b 転写部材、15d 転写部材、15e 転写部材、15f 転写部材15g 転写部材、15g 転写部材、16 押圧部材、16a 凸面、17 ベース板、18 移動板、18a 移動板、18b 移動板、19 直動スライド、20 押圧板、20a 貫通孔、20b 鍔、21 直動スライド、22 駆動手段、22a 出力軸、23 基板、24 配線、24a 欠陥部、26 基材、27 第2の金属膜、27a 母材膜、27b 酸化防止用金属膜、27c 光吸収層、27d 修正層、27P 第2の金属膜、29 レーザ光、29a レーザ光、30 直動スライド、31 ホルダ、31a 貫通孔、32 蓋、32a 貫通孔、33 弾性部材、34 弾性部材、35 空隙、40 押圧手段、45 リール、46 回収リール、47 ローラ、48 モータ、49 トルク調整手段、50 カセット、51 ローラ、52 Xステージ、53 Yステージ、54 Zステージ、55 モータドライバ、56 モータドライバ、57 モータドライバ。 1 pattern correction device, 2 pattern parts, 3 XY stage, 4 Z stage, 5 observation optical system, 5a mirror, 5b beam splitter, 5c slit mechanism, 5d beam splitter, 5e imaging lens, 5f beam splitter, 5g objective lens, 5h CCD camera, 5i slit light illumination, 5j epi-illumination, 6 monitor, 7 first laser light source, 8 second laser light source, 9 transfer member supply means, 10 pressing means, 11 image processing section, 12 host computer, 13 Computer for control, 14 chuck, 15 transfer member, 15a transfer member, 15b transfer member, 15d transfer member, 15e transfer member, 15f transfer member 15g transfer member, 15g transfer member, 16 pressing member, 16a convex surface, 17 base plate, 18 Moving plate, 18a Moving plate, 18 Moving plate, 19 linear motion slide, 20 pressure plate, 20a through hole, 20b rod, 21 linear motion slide, 22 driving means, 22a output shaft, 23 substrate, 24 wiring, 24a defective portion, 26 base material, 27 second Metal film, 27a Base material film, 27b Antioxidation metal film, 27c Light absorption layer, 27d Correction layer, 27P Second metal film, 29 Laser light, 29a Laser light, 30 Linear slide, 31 Holder, 31a Through hole , 32 Lid, 32a Through-hole, 33 Elastic member, 34 Elastic member, 35 Air gap, 40 Pressing means, 45 reel, 46 Recovery reel, 47 roller, 48 motor, 49 Torque adjusting means, 50 cassette, 51 roller, 52 X stage 53 Y stage, 54 Z stage, 55 Motor driver, 56 Motor driver, 57 Motor driver .
Claims (9)
レーザ光を透過可能な基材の一方の主表面上に、前記パターンを形成する第1の金属膜と加熱により溶融して合金層を形成して固着することが可能な第2の金属膜を少なくとも1層形成させた転写部材と、
前記第2の金属膜を、前記欠陥部に対峙させる転写部材供給手段と、
前記第2の金属膜を前記欠陥部に密着させるために、前記転写部材の、前記第2の金属膜を形成させた前記一方の主表面に対向する他方の主表面方向から前記転写部材を前記基板に向けて押圧する押圧手段と、
前記第2の金属膜を前記第1の金属膜を含む前記欠陥部に密着させた状態で、前記転写部材の前記基材の上方から前記欠陥部を含む範囲にレーザ光を照射して加熱するレーザ加熱手段とを備える、パターン修正装置。 A pattern correction device for correcting a defective portion of a pattern formed on a surface of a substrate,
On one main surface of a substrate capable of transmitting laser light, a first metal film that forms the pattern and a second metal film that can be fixed by melting and forming an alloy layer by heating. A transfer member formed with at least one layer;
Transfer member supply means for causing the second metal film to face the defective portion;
In order to bring the second metal film into close contact with the defect portion, the transfer member is moved from the other main surface facing the one main surface on which the second metal film is formed. Pressing means for pressing toward the substrate;
In a state where the second metal film is in close contact with the defect portion including the first metal film, a region including the defect portion is irradiated from above the base material of the transfer member and heated. A pattern correction apparatus comprising a laser heating means.
前記押圧手段には、前記押圧手段に固定される前記押圧部材が前記基板の主表面に沿った方向において前記レーザ加熱手段に対して微小区間で相対的に移動できるように、スライド部材を備える、請求項6に記載のパターン修正装置。 The transfer member supply means includes means for lowering a positioning gain so that the transfer member can move relative to the laser heating means in a minute section in a direction along the main surface of the substrate,
The pressing means includes a slide member so that the pressing member fixed to the pressing means can move relative to the laser heating means in a minute section in a direction along the main surface of the substrate. The pattern correction apparatus according to claim 6.
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