JP2009241520A - Transparent substrate - Google Patents

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Koji Kishimoto
広次 岸本
Masaya Tsujimoto
雅哉 辻本
Naemi Minami
名栄美 南
Hideo Nakanishi
秀雄 中西
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent substrate which has excellent gas barrier properties against water vapor or the like and is high in surface smoothness. <P>SOLUTION: The transparent substrate includes a transparent laminated sheet 1 which is manufactured by impregnating a glass fiber substrate with a resin composition adjusted to have a refractive index close to that of glass fibers by mixing a high refractive index resin having a refractive index higher than that of the glass fibers with a low refractive index resin having a refractive index lower than that of the glass fibers and curing the resin composition. A transparent gas barrier layer 2 having gas barrier properties and a transparent gas absorption layer 3 having gas absorption properties are laminated on the transparent laminated sheet 1. The permeation of gas can be intercepted by the gas barrier layer 2, and gas which passed through the gas-barrier layer 2 can be absorbed by the gas absorption layer 3, improving an effect to intercept the gas permeation. The unevenness of the surface of the transparent laminated sheet 1 is filled with the gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3 to flatten the surface so that the smoothness of the surface can be improved. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶ディスプレイなどに用いられる透明基板に関するものである。   The present invention relates to a transparent substrate used for a liquid crystal display or the like.

透明積層板によって形成される透明基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイなどにおいて、ガラス板に代わる材料として検討されている(例えば特許文献1等)。   A transparent substrate formed of a transparent laminated plate has been studied as a material to replace a glass plate in flat panel displays such as a liquid crystal display, a plasma display, and an EL display (for example, Patent Document 1).

透明基板として用いられるこのような透明積層板の一例として、ガラスクロスなどガラス繊維からなる基材に、ガラス繊維と屈折率が近似する透明熱硬化性樹脂を含浸してプリプレグを調製し、このプリプレグを加熱加圧成形することによって作製したものを挙げることができる。透明熱硬化性樹脂としては一般にエポキシ樹脂が使用されているが、樹脂の屈折率をガラス繊維の屈折率に近似させるために、ガラス繊維より屈折率の大きいエポキシ樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さいエポキシ樹脂とを混合し、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように混合比率を調整した樹脂組成物を用いるようにしている。このように基材のガラス繊維とマトリクス樹脂の屈折率を合わせることによって、透明積層板内での光の屈折を抑え、視認性に優れたディスプレイの透明基板として使用することができるものである。   As an example of such a transparent laminate used as a transparent substrate, a prepreg is prepared by impregnating a substrate made of glass fiber such as glass cloth with a transparent thermosetting resin having a refractive index similar to that of glass fiber. What was produced by heat-press-molding can be mentioned. An epoxy resin is generally used as the transparent thermosetting resin. In order to approximate the refractive index of the resin to the refractive index of the glass fiber, an epoxy resin having a higher refractive index than the glass fiber and a refractive index higher than that of the glass fiber are used. A resin composition is used in which a small epoxy resin is mixed and the mixing ratio is adjusted so that the refractive index approximates the refractive index of the glass fiber. Thus, by combining the refractive index of the glass fiber of the base material and the matrix resin, the refraction of light in the transparent laminate can be suppressed and used as a transparent substrate of a display excellent in visibility.

図3はこのような透明積層板によって形成される透明基板Aを用いて作製した液晶ディスプレイの概略構成の一例を示すものであり、一対の透明基板Aを平行に配置し、この透明基板A間に駆動素子10が搭載されるようになっている。この駆動素子10は、一方の透明基板Aに設けられた画素電極11とTFT12、他方の透明基板Aに設けられた共通電極13、透明基板A間に充填される液晶分子14などを備えて形成されるものである。
特開2004−307851号公報
FIG. 3 shows an example of a schematic configuration of a liquid crystal display produced using a transparent substrate A formed by such a transparent laminated plate. A pair of transparent substrates A are arranged in parallel, and the space between the transparent substrates A is shown. The drive element 10 is mounted on the board. The drive element 10 includes a pixel electrode 11 and TFT 12 provided on one transparent substrate A, a common electrode 13 provided on the other transparent substrate A, and liquid crystal molecules 14 filled between the transparent substrates A. It is what is done.
JP 2004-307851 A

上記のような液晶ディスプレイにあって、対向して配置される透明基板Aの間隔が不均一であると、充填されている液晶分子14の厚みが不均一になって、液晶分子14の配向性が部分的に乱れ、光の散乱が生じるおそれがある。また液晶分子14は水蒸気や酸素などが作用すると劣化し易く、水蒸気などの作用で液晶ディスプレイの寿命が低下するおそれがある。   In the liquid crystal display as described above, if the distance between the transparent substrates A arranged opposite to each other is non-uniform, the thickness of the liquid crystal molecules 14 filled becomes non-uniform, and the orientation of the liquid crystal molecules 14 May be partially disturbed and light scattering may occur. Further, the liquid crystal molecules 14 are liable to deteriorate when water vapor, oxygen, or the like acts on them, and the life of the liquid crystal display may be shortened by the action of water vapor or the like.

しかし透明基板Aは、ガラス基材に樹脂を含浸・硬化して作製した透明積層板によって形成されているものであり、樹脂をマトリクスとするため、ガラス板のような高いガス遮断性を有するものではない。従ってこのような透明基板Aを液晶ディスプレイの基板として用いると、水蒸気や酸素などのガスが透明基板Aを透過することを完全に遮断することはできず、液晶分子14に水蒸気や酸素などが作用して劣化するおそれがあるという問題があった。   However, the transparent substrate A is formed by a transparent laminated plate produced by impregnating and curing a resin on a glass substrate, and has a high gas barrier property like a glass plate because the resin is used as a matrix. is not. Therefore, when such a transparent substrate A is used as a substrate for a liquid crystal display, it is not possible to completely block gas such as water vapor or oxygen from passing through the transparent substrate A, and water vapor or oxygen acts on the liquid crystal molecules 14. There was a problem that it may deteriorate.

また透明基板Aは、ガラス基材に樹脂を含浸・硬化して作製した透明積層板によって形成されているため、表面の平滑性をガラス基板のように高く形成することは困難であり、特にガラスクロスなどで形成されるガラス基材の凹凸が表面に表れて、平滑性が低くなる傾向にある。従ってこのような透明基板Aを液晶ディスプレイの基板として用いると、対向して配置される透明基板Aの間隔が不均一になって、充填されている液晶分子14に配向の乱れが生じて光の散乱が起こり、鮮明な画像を得ることができなくなるおそれがあるという問題があった。   Further, since the transparent substrate A is formed by a transparent laminated plate prepared by impregnating and curing a resin on a glass base material, it is difficult to form a surface with high smoothness like a glass substrate. The unevenness of the glass substrate formed by cloth or the like appears on the surface, and the smoothness tends to be lowered. Accordingly, when such a transparent substrate A is used as a substrate for a liquid crystal display, the interval between the transparent substrates A arranged opposite to each other becomes non-uniform, and the alignment of the liquid crystal molecules 14 that are filled is disturbed. There is a problem that scattering may occur and a clear image may not be obtained.

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、水蒸気などのガスの遮断性が高く、また表面の平滑性が高い透明基板を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a transparent substrate having a high barrier property against gas such as water vapor and a high surface smoothness.

本発明に係る透明基板は、ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板1を備え、ガスバリア性を有する透明なガスバリア層2とガス吸収性を有する透明なガス吸収層3とが透明積層板1に積層されていることを特徴とするものである。   The transparent substrate according to the present invention is a mixture of a high refractive index resin having a refractive index larger than that of glass fiber and a low refractive index resin having a refractive index smaller than that of glass fiber so that the refractive index approximates that of glass fiber. A transparent laminate 1 prepared by impregnating and curing a glass fiber base material with the resin composition prepared in the above, a transparent gas barrier layer 2 having gas barrier properties and a transparent gas absorbing layer 3 having gas absorbability Are laminated on the transparent laminated plate 1.

この発明によれば、ガスバリア層2で水蒸気などのガスが透過することを遮断することができると共に、透過する水蒸気などのガスをガス吸収層3で吸収することができ、水蒸気などのガスの透過を遮断する効果を高く得ることができるものであり、また透明積層板1の表面の凹凸をこれらのガスバリア層2やガス吸収層3で埋めて平坦にならすことができ、表面の平滑性を高めることができるものである。   According to the present invention, the gas barrier layer 2 can block the passage of gas such as water vapor, and the gas absorption layer 3 can absorb the permeated gas such as water vapor. In addition, the surface of the transparent laminate 1 can be flattened with the gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3 to improve the surface smoothness. It is something that can be done.

また本発明は、透明基板にディスプレイの駆動素子を搭載して用いる場合、ガスバリア層2がガス吸収層3よりも、駆動素子10より遠い側に配置されるようにしたことを特徴とするものである。   Further, the present invention is characterized in that, when a display driving element is mounted on a transparent substrate, the gas barrier layer 2 is arranged on the side farther from the driving element 10 than the gas absorbing layer 3. is there.

この発明によれば、水蒸気などのガスがガスバリア層2を透過したとしても、このガスはガス吸収層3に吸収されて駆動素子10に作用することを確実に防ぐことができるものである。   According to the present invention, even if a gas such as water vapor passes through the gas barrier layer 2, the gas can be reliably prevented from being absorbed by the gas absorption layer 3 and acting on the driving element 10.

また本発明において、上記のガス吸収層3はガス吸収成分を含有して形成され、ガス吸収成分は有機金属化合物からなることを特徴とするものであり、水蒸気などのガス吸収性が高いガス吸収層3を形成することができるものである。   In the present invention, the gas absorption layer 3 is formed by containing a gas absorption component, and the gas absorption component is made of an organometallic compound. The gas absorption layer 3 has a high gas absorptivity such as water vapor. The layer 3 can be formed.

また本発明において、ガス吸収層3に含有されるこの有機金属化合物は、2価以上の金属を含み、且つその金属が酸素との化学結合を有する化合物であることを特徴とするものであり、水蒸気などのガス吸収性が高いガス吸収層3を形成することができるものである。   In the present invention, the organometallic compound contained in the gas absorption layer 3 contains a divalent or higher metal, and the metal is a compound having a chemical bond with oxygen. The gas absorption layer 3 having high gas absorbability such as water vapor can be formed.

また本発明において、この有機金属化合物は、アルキルアルミニウムとシラノール基を有するポリシロキサンとの反応によって得られる化合物であることを特徴とするものであり、水蒸気などのガス吸収性が高いガス吸収層3を形成することができるものである。   In the present invention, the organometallic compound is a compound obtained by a reaction between an alkylaluminum and a polysiloxane having a silanol group. The gas-absorbing layer 3 having a high gas-absorbing property such as water vapor. Can be formed.

また本発明において、上記の有機金属化合物は、3価金属−ジアルキルオキサイド−モノエチルアセトアセテートであることを特徴とするものであり、水蒸気などのガス吸収性が高いガス吸収層3を形成することができるものである。   In the present invention, the organometallic compound is a trivalent metal-dialkyl oxide-monoethyl acetoacetate, and forms a gas absorption layer 3 having high gas absorbency such as water vapor. It is something that can be done.

また本発明において、この3価金属は、アルミニウム、ランタン、イットリウム、ガリウムから選ばれる少なくとも1つであることを特徴とするものであり、水蒸気などのガス吸収性が高いガス吸収層3を形成することができるものである。   In the present invention, the trivalent metal is at least one selected from aluminum, lanthanum, yttrium, and gallium, and forms the gas absorption layer 3 having high gas absorbability such as water vapor. It is something that can be done.

また本発明において、上記の有機金属化合物は、4価金属−ジアルキルオキサイド−ジエチルアセトアセテートであることを特徴とするものであり、水蒸気などのガス吸収性が高いガス吸収層3を形成することができるものである。   In the present invention, the organometallic compound is a tetravalent metal-dialkyl oxide-diethyl acetoacetate, and can form the gas absorption layer 3 having high gas absorbency such as water vapor. It can be done.

また本発明において、この4価金属は、ゲルマニウム、シリコンから選ばれる少なくとも1つであることを特徴とするものであり、水蒸気などのガス吸収性が高いガス吸収層3を形成することができるものである。   In the present invention, the tetravalent metal is at least one selected from germanium and silicon, and can form the gas absorption layer 3 having high gas absorbency such as water vapor. It is.

また本発明において、上記の有機金属化合物は、(−3価金属−酸素−)の6員環の3つの3価金属にカルボキシレート基が配位した化合物、(−3価金属−酸素−)の6員環の3つの3価金属にフェノキシ基が配位した化合物から選ばれる少なくとも1つであることを特徴するものであり、水蒸気などのガス吸収性が高いガス吸収層3を形成することができるものである。   In the present invention, the organometallic compound includes a compound in which a carboxylate group is coordinated to three trivalent metals of a (3-valent metal-oxygen-) 6-membered ring, and (-3valent metal-oxygen-). Forming at least one compound selected from compounds in which a phenoxy group is coordinated to three trivalent metals having a six-membered ring, and forming a gas absorption layer 3 having a high gas absorbency such as water vapor It is something that can be done.

また本発明において、この3価金属は、アルミニウムであることを特徴とするものであり、水蒸気などのガス吸収性が高いガス吸収層3を形成することができるものである。   In the present invention, the trivalent metal is aluminum, and can form the gas absorption layer 3 having high gas absorbency such as water vapor.

また本発明において、ガス吸収層3は、外気から遮断する第2のガスバリア層4で覆われていることを特徴とするものである。   Moreover, in this invention, the gas absorption layer 3 is covered with the 2nd gas barrier layer 4 interrupted | blocked from external air, It is characterized by the above-mentioned.

本発明によれば、ガス吸収層3が外気から水蒸気などのガスを直接に吸収して短期間で飽和状態になることを第2のガスバリア層4で防ぐことができ、ガス遮断性能を長期に亘って維持することができるものである。   According to the present invention, the second gas barrier layer 4 can prevent the gas absorption layer 3 from directly absorbing a gas such as water vapor from the outside air and becoming saturated in a short period of time, and the gas blocking performance can be extended for a long time. It can be maintained over time.

また本発明において、この第2のガスバリア層4は、透明であることを特徴とするものであり、第2のガスバリア層4をガス吸収層3に被覆した状態で使用しても、透明基板の透明性を保持することができるものである。   In the present invention, the second gas barrier layer 4 is characterized by being transparent. Even when the second gas barrier layer 4 is covered with the gas absorption layer 3, the second gas barrier layer 4 can be used as a transparent substrate. It can maintain transparency.

また本発明は、透明なガスバリア層2と透明なガス吸収層3の少なくとも一方が複数層形成されていることを特徴とするものであり、ガスの遮断や吸収を複数層で行なうことができ、ガス遮断性能を高く得ることができるものである。   Further, the present invention is characterized in that at least one of the transparent gas barrier layer 2 and the transparent gas absorption layer 3 is formed in a plurality of layers, and gas blocking and absorption can be performed in a plurality of layers, High gas shutoff performance can be obtained.

また本発明は、ガスバリア層2やガス吸収層3によって形成される表面は、粗さ(Ra)が20nm以下であることを特徴とするものである。   In the present invention, the surface formed by the gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3 has a roughness (Ra) of 20 nm or less.

透明基板の表面の平滑性が粗さ(Ra)20nm以下であることによって、透明基板を平行に配置して液晶分子を充填するにあたって、液晶分子に配向の乱れが生じることをより有効に防いで光の散乱を防止することができ、鮮明な画像を得ることができるものである。   When the smoothness of the surface of the transparent substrate is less than or equal to the roughness (Ra) 20 nm, the liquid crystal molecules are more effectively prevented from being disturbed in alignment when the transparent substrates are arranged in parallel and filled with the liquid crystal molecules. Light scattering can be prevented and a clear image can be obtained.

また本発明は、最外層に配置される第2のガスバリア層4は剥離可能であることを特徴とするものであり、透明基板を使用する前は、この第2のガスバリア層4でガス吸収層3を被覆しておき、透明基板をディスプレイの基板などに組み付けるときには、この第2のガスバリア層4を剥離した状態で使用することができるものである。   Further, the present invention is characterized in that the second gas barrier layer 4 disposed in the outermost layer is peelable, and the gas absorption layer is formed by the second gas barrier layer 4 before using the transparent substrate. When the transparent substrate is assembled to a display substrate or the like, the second gas barrier layer 4 can be used in a peeled state.

本発明によれば、ガスバリア層2で水蒸気などのガスが透過することを遮断することができると共に、透過する水蒸気などのガスをガス吸収層3で吸収することができるものであり、水蒸気などのガスの透過を遮断する効果を高く得ることができるものである。また透明積層板1の表面の凹凸をこれらのガスバリア層2やガス吸収層3で埋めて平坦にならすことができるものであり、表面の平滑性を高めることができるものである。   According to the present invention, gas such as water vapor can be blocked from passing through the gas barrier layer 2, and gas such as water vapor that can pass through can be absorbed by the gas absorption layer 3. A high effect of blocking gas permeation can be obtained. Moreover, the unevenness | corrugation of the surface of the transparent laminated board 1 can be filled with these gas barrier layers 2 and the gas absorption layer 3, and can be made flat, and the smoothness of the surface can be improved.

以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described.

まず、本発明において使用する透明積層板について説明する。この透明積層板は、ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製されるものである。   First, the transparent laminated board used in this invention is demonstrated. This transparent laminate is adjusted so that the refractive index approximates the refractive index of the glass fiber by mixing a high refractive index resin having a higher refractive index than that of the glass fiber and a low refractive index resin having a lower refractive index than that of the glass fiber. The resin composition prepared is impregnated into a glass fiber substrate and cured.

上記のガラス繊維より高屈折率の樹脂として、シアネートエステル樹脂を用いるのが好ましい。シアネートエステル樹脂は、1分子中に2個以上のシアネート基を有するシアネートエステル化合物が3量化でトリアジン環を生成して重合したものであり、シアネートエステル化合物としては、例えば、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−シアナートフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)エタン等、あるいはこれらの誘導体など、芳香族シアネートエステル化合物を用いることができる。これらは単独で用いる他、複数種を組み合わせて用いるようにしてもよい。このシアネートエステル樹脂は剛直な分子骨格を有するものであり、このため、硬化物に高いガラス転移温度を与えるものである。またシアネートエステル樹脂は常温で固形であるので、後述のように樹脂組成物をガラス繊維の基材に含浸して乾燥することによってプリプレグを調製する際に、指触乾燥することが容易になるので、プリプレグの取り扱い性が良好になるものである。   It is preferable to use a cyanate ester resin as a resin having a higher refractive index than the glass fiber. The cyanate ester resin is obtained by polymerization of a cyanate ester compound having two or more cyanate groups in one molecule by generating a triazine ring by trimerization. Examples of the cyanate ester compound include 2,2-bis ( Aromatic cyanate ester compounds such as 4-cyanatophenyl) propane, bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) ethane, and derivatives thereof Can be used. These may be used alone or in combination of a plurality of types. This cyanate ester resin has a rigid molecular skeleton, and therefore imparts a high glass transition temperature to the cured product. Further, since cyanate ester resin is solid at normal temperature, it becomes easy to dry by touch when preparing a prepreg by impregnating a resin composition into a glass fiber substrate and drying it as described later. The prepreg is easy to handle.

ここで、ガラス繊維の屈折率が例えば1.562である場合、高屈折率樹脂として用いるシアネートエステル樹脂は屈折率が1.6前後のものが好ましく、ガラス繊維の屈折率をnとすると、n+0.03〜n+0.06の範囲のものであることが望ましい。尚、本発明において、樹脂の屈折率は、いずれも硬化した樹脂の状態での屈折率をいうものであり、ASTM D542で試験した値である。   Here, when the refractive index of the glass fiber is, for example, 1.562, the cyanate ester resin used as the high refractive index resin preferably has a refractive index of around 1.6. When the refractive index of the glass fiber is n, n + 0 It is desirable that it is in the range of 0.03 to n + 0.06. In the present invention, the refractive index of the resin refers to the refractive index in the state of the cured resin, and is a value tested by ASTM D542.

一方、上記のガラス繊維より低屈折率の樹脂としては、低屈折率であれば任意のエポキシ樹脂を用いることができるが、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いるのが好ましい。ガラス繊維の屈折率が例えば1.562である場合、この低屈折率のエポキシ樹脂としては屈折率が1.5前後のものが好ましく、ガラス繊維の屈折率をnとすると、n−0.04〜n−0.08の範囲のものであることが望ましい。   On the other hand, as the resin having a lower refractive index than the glass fiber, any epoxy resin can be used as long as it has a low refractive index, but it is preferable to use a hydrogenated bisphenol type epoxy resin. When the refractive index of the glass fiber is 1.562, for example, the low refractive index epoxy resin preferably has a refractive index of around 1.5, where n−0.04, where n is the refractive index of the glass fiber. It is desirable to be in the range of ˜n−0.08.

低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂において、ビスフェノール型としては、ビスフェノールA型の他に、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型などを用いることもできる。   In the low refractive index hydrogenated bisphenol type epoxy resin, as the bisphenol type, bisphenol F type, bisphenol S type and the like can be used in addition to the bisphenol A type.

また、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、常温で固形の固形型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いるのが好ましい。常温で液状の液状型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を使用することもできるが、プリプレグを調製する際に、指触で粘着性のある状態にまでしか乾燥することができず、プリプレグの取り扱い性が悪くなるので、固形型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を使用するのが好ましいのである。さらに、低屈折率のエポキシ樹脂として、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂以外のものを併用することも可能であり、例えば1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサンを含むエポキシ樹脂を併用することができる。このエポキシ樹脂は屈折率を微調整するために併用するものであり、また常温で固体であるために透明積層板の製造を容易にするためにも最適な樹脂である。   Further, as the hydrogenated bisphenol type epoxy resin having a low refractive index, it is preferable to use a solid type hydrogenated bisphenol type epoxy resin that is solid at room temperature. Liquid type hydrogenated bisphenol type epoxy resin that is liquid at room temperature can be used, but when preparing the prepreg, it can only be dried to a sticky state with the touch, and the prepreg is easy to handle. Since it becomes worse, it is preferable to use a solid-type hydrogenated bisphenol-type epoxy resin. Furthermore, it is possible to use other than the hydrogenated bisphenol type epoxy resin as the low refractive index epoxy resin. For example, an epoxy resin containing 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane is used in combination. be able to. This epoxy resin is used in combination to finely adjust the refractive index, and is an optimal resin for facilitating the production of a transparent laminate because it is solid at room temperature.

そして、上記の高屈折率のシアネートエステル樹脂と、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などエポキシ樹脂とを混合して、ガラス繊維の屈折率に近似した樹脂組成物を調製して用いるものである。高屈折率のシアネートエステル樹脂と低屈折率のエポキシ樹脂の混合比率は、ガラス繊維の屈折率に近似させるように、任意に調整されるものである。ここで、樹脂組成物の屈折率はガラス繊維の屈折率にできるだけ近いことが望ましいが、ガラス繊維の屈折率をnとすると、n−0.02〜n+0.02の範囲で近似するように調整するのが好ましい。   Then, the above-described high refractive index cyanate ester resin is mixed with an epoxy resin such as a low refractive index hydrogenated bisphenol type epoxy resin to prepare and use a resin composition that approximates the refractive index of glass fiber. is there. The mixing ratio of the high refractive index cyanate ester resin and the low refractive index epoxy resin is arbitrarily adjusted so as to approximate the refractive index of the glass fiber. Here, it is desirable that the refractive index of the resin composition be as close as possible to the refractive index of the glass fiber. It is preferable to do this.

またこの樹脂組成物は、その硬化樹脂のガラス転移温度(Tg)が170℃以上になるように調製されるのが好ましい。ガラス転移温度が170℃以上であることによって、透明積層板の耐熱性を高めることができるものである。ガラス転移温度の上限は特に設定されるものではないが、実用的には280℃程度がガラス転移温度の上限である。ガラス転移温度の調整は、樹脂組成物中の上記のシアネートエステル樹脂の配合比率を変えることによって行なうことができるものであり、併用する低屈折率樹脂の種類に左右されるが、樹脂組成物の樹脂分中、シアネートエステル樹脂が約30質量%以上であれば、樹脂組成物のガラス転移温度を170℃以上に調整することができる。   The resin composition is preferably prepared such that the cured resin has a glass transition temperature (Tg) of 170 ° C. or higher. When the glass transition temperature is 170 ° C. or higher, the heat resistance of the transparent laminate can be increased. The upper limit of the glass transition temperature is not particularly set, but practically about 280 ° C. is the upper limit of the glass transition temperature. The glass transition temperature can be adjusted by changing the blending ratio of the cyanate ester resin in the resin composition, and depends on the type of low refractive index resin used together. If the cyanate ester resin is about 30% by mass or more in the resin component, the glass transition temperature of the resin composition can be adjusted to 170 ° C. or more.

さらに樹脂組成物には、硬化開始剤(硬化剤)を配合することができる。この硬化開始剤としては、有機金属塩を用いることができる。この有機金属塩としては、例えば、オクタン酸、ステアリン酸、アセチルアセトネート、ナフテン酸、サリチル酸等の有機酸と、Zn、Cu、Fe等の金属との塩を挙げることができる。これらは一種を単独で用いる他に、二種以上を併用することもできるが、中でも、オクタン酸亜鉛が好ましい。硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を用いることによって、硬化樹脂のガラス転移温度を高めることができるものである。樹脂組成物中のオクタン酸亜鉛など有機金属塩の含有量は、特に限定されるものではないが、0.01〜0.1PHRの範囲が好ましい。   Furthermore, a curing initiator (curing agent) can be blended in the resin composition. An organic metal salt can be used as the curing initiator. Examples of the organic metal salt include salts of an organic acid such as octanoic acid, stearic acid, acetylacetonate, naphthenic acid, and salicylic acid with a metal such as Zn, Cu, and Fe. These may be used alone or in combination of two or more. Among them, zinc octoate is preferable. By using zinc octoate as the curing initiator, the glass transition temperature of the cured resin can be increased. The content of the organic metal salt such as zinc octoate in the resin composition is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 0.1 PHR.

また硬化開始剤として、カチオン系硬化剤を用いることもできる。このようにカチオン系硬化剤を用いることによって樹脂の透明性を高めることができるものである。カチオン系硬化剤としては、特に限定されるものではないが、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体などを用いることができる。樹脂組成物中のカチオン系硬化剤の含有量は、特に限定されるものではないが、0.2〜3.0PHRの範囲が好ましい。   A cationic curing agent can also be used as the curing initiator. Thus, by using a cationic curing agent, the transparency of the resin can be enhanced. The cationic curing agent is not particularly limited, and aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, ammonium salts, aluminum chelates, boron trifluoride amine complexes, and the like can be used. The content of the cationic curing agent in the resin composition is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.2 to 3.0 PHR.

さらに硬化開始剤として、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の3級アミン、2−エチル−4−イミダゾール、4−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチル−イミダゾール(2E4MZ)などの硬化触媒を用いることもできる。樹脂組成物中の硬化触媒の含有量は、特に限定されるものではないが、0.5〜5PHRの範囲が好ましい。   Further, a curing catalyst such as a tertiary amine such as triethylamine or triethanolamine, 2-ethyl-4-imidazole, 4-methylimidazole, 2-ethyl-4-methyl-imidazole (2E4MZ) may be used as a curing initiator. it can. The content of the curing catalyst in the resin composition is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.5 to 5 PHR.

上記のように高屈折率のシアネートエステル樹脂、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などエポキシ樹脂、硬化開始剤を配合することによって樹脂組成物を調製することができるものである。この樹脂組成物は、必要に応じて溶剤に溶解乃至分散して樹脂ワニスとして使用するものである。この溶剤としては、特に限定されるものではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、2−ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジアセトンアルコール、N,N’−ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。   As described above, a resin composition can be prepared by blending an epoxy resin such as a high refractive index cyanate ester resin, a low refractive index hydrogenated bisphenol type epoxy resin, and a curing initiator. This resin composition is used as a resin varnish after being dissolved or dispersed in a solvent as required. The solvent is not particularly limited, but benzene, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, 2-butanol, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monomethyl ether acetate, diacetone alcohol, N, N′-dimethylacetamide and the like can be used.

一方、ガラス繊維としては、透明積層板の耐衝撃性を高める効果の点からEガラスやNEガラスであることが好ましい。Eガラスは無アルカリガラスとも称され、樹脂強化用ガラス繊維として汎用されるガラスであり、NEガラスはNewEガラスのことである。またガラス繊維には、耐衝撃性を向上させる目的で、ガラス繊維処理剤として通常使用されているシランカップリング剤によって表面処理しておくことが好ましい。ガラス繊維の屈折率は1.55〜1.57の範囲であることが好ましく、1.555〜1.565の範囲であることがさらに好ましい。ガラス繊維の屈折率がこの範囲であれば、視認性に優れた透明積層板を得ることができるものである。ガラス繊維の基材としては、ガラス繊維の織布あるいは不織布を使用することができる。   On the other hand, the glass fiber is preferably E glass or NE glass in view of the effect of increasing the impact resistance of the transparent laminate. E glass is also called non-alkali glass and is a glass that is widely used as a glass fiber for resin reinforcement, and NE glass is NewE glass. Moreover, it is preferable to surface-treat glass fiber with the silane coupling agent normally used as a glass fiber processing agent in order to improve impact resistance. The refractive index of the glass fiber is preferably in the range of 1.55 to 1.57, and more preferably in the range of 1.555 to 1.565. If the refractive index of glass fiber is this range, the transparent laminated board excellent in visibility can be obtained. As the glass fiber base material, a glass fiber woven fabric or non-woven fabric can be used.

そしてガラス繊維の基材に樹脂組成物のワニスを含浸し、加熱して乾燥することによって、プリプレグを調製することができる。乾燥条件は特に限定されるものではないが、乾燥温度100〜160℃、乾燥時間1〜10分間の範囲が好ましい。   A prepreg can be prepared by impregnating a glass fiber base material with a varnish of a resin composition, heating and drying. The drying conditions are not particularly limited, but a drying temperature of 100 to 160 ° C. and a drying time of 1 to 10 minutes are preferable.

次にこのプリプレグを1枚、あるいは複数枚重ね、加熱加圧成形することによって、樹脂組成物を硬化させて、透明積層板を得ることができるものである。加熱加圧成形の条件は、特に限定されるものではないが、温度150〜200℃、圧力1〜4MPa、時間10〜120分間の範囲が好ましい。   Next, one or a plurality of the prepregs are stacked and heated and pressed to cure the resin composition, thereby obtaining a transparent laminate. The conditions for the heat and pressure molding are not particularly limited, but a temperature range of 150 to 200 ° C., a pressure of 1 to 4 MPa, and a time of 10 to 120 minutes are preferable.

上記のようにして得られる透明積層板にあって、高屈折率のシアネートエステル樹脂と低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂が重合して形成される樹脂マトリクスは、シアネートエステル樹脂を含有することによってガラス転移温度が高いものであり、耐熱性に優れた透明積層板を得ることができるものである。またシアネートエステル樹脂や水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂はいずれも透明性に優れるものであり、高い透明性を確保した透明積層板を得ることができるものである。この透明積層板において、ガラス繊維の基材の含有率は25〜65質量%の範囲であることが好ましく、この範囲であれば、ガラス繊維による補強効果で高い耐衝撃性を得ることができると共に、十分な透明性を得ることができるものである。   In the transparent laminate obtained as described above, a resin matrix formed by polymerizing an epoxy resin such as a high refractive index cyanate ester resin and a low refractive index hydrogenated bisphenol type epoxy resin is a cyanate ester resin. By containing the glass, a glass transition temperature is high, and a transparent laminate having excellent heat resistance can be obtained. In addition, epoxy resins such as cyanate ester resin and hydrogenated bisphenol type epoxy resin are all excellent in transparency, and a transparent laminate having high transparency can be obtained. In this transparent laminated plate, the glass fiber base material content is preferably in the range of 25 to 65% by mass, and within this range, high impact resistance can be obtained due to the reinforcing effect of the glass fiber. Sufficient transparency can be obtained.

ここで、ガラス繊維の基材としては、透明性を高く得るために、厚みの薄いものを複数枚重ねて用いるのが好ましい。具体的には、ガラス繊維基材として厚み50μm以下のものを用い、この50μm以下の厚みのガラス繊維基材を2枚以上重ねて使用するのが好ましい。ガラス繊維基材の厚みの下限は特に限定されるものではないが、10μm程度が実用上の下限である。またガラス繊維基材の枚数も特に限定されるものではないが、20枚程度が実用上の上限である。このように複数枚のガラス繊維基材を用いて透明積層板を製造する場合、各ガラス繊維基材に樹脂組成物を含浸・乾燥してプリプレグを作製し、このプリプレグを複数枚重ねて加熱加圧成形することによって透明積層板を得ることができるが、複数枚のガラス繊維基材を重ねた状態で樹脂組成物を含浸・乾燥してプリプレグを作製し、このプリプレグを加熱加圧成形して透明積層板を得るようにしてもよい。   Here, as a glass fiber base material, in order to obtain high transparency, it is preferable to use a plurality of thinly laminated ones. Specifically, it is preferable to use a glass fiber substrate having a thickness of 50 μm or less and to use two or more glass fiber substrates having a thickness of 50 μm or less. Although the minimum of the thickness of a glass fiber base material is not specifically limited, About 10 micrometers is a practical minimum. The number of glass fiber substrates is not particularly limited, but about 20 is the practical upper limit. When producing a transparent laminate using a plurality of glass fiber base materials in this way, each glass fiber base material is impregnated with a resin composition and dried to produce a prepreg, and a plurality of the prepregs are stacked and heated. A transparent laminate can be obtained by pressure molding, but a prepreg is produced by impregnating and drying a resin composition in a state where a plurality of glass fiber base materials are stacked, and this prepreg is heated and pressure-molded. A transparent laminate may be obtained.

そして、上記のように作製した透明積層板1の表面に、ガスバリア性を有する透明なガスバリア層2とガス吸収性を有する透明なガス吸収層3とを積層することによって、本発明に係る透明基板Aを得ることができるものである。   Then, the transparent substrate according to the present invention is formed by laminating the transparent gas barrier layer 2 having gas barrier properties and the transparent gas absorbing layer 3 having gas absorbability on the surface of the transparent laminate 1 produced as described above. A can be obtained.

透明積層板1へのガスバリア層2とガス吸収層3の積層は、図1(a)のように、透明積層板1の表面にガスバリア層2を形成し、このガスバリア層2の上にガス吸収層3を形成するようにした構成であってもよく、また図1(b)のように、透明積層板1の片側の表面にガスバリア層2を形成し、他方の片側の表面にガス吸収層3を形成するようにした構成であってもよい。この透明基板Aを図3のようにディスプレイの基板として使用する場合、ディスプレイの駆動素子10は図1(a)(b)における図の下側に配置して搭載されるものであり、いずれも場合も、ガスバリア層2はガス吸収層3よりも、駆動素子10から遠い側に配置されるものであり、ディスプレイにおいてガスバリア層2はガス吸収層3より外側に配置されるものである。   The gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3 are laminated on the transparent laminate 1 by forming the gas barrier layer 2 on the surface of the transparent laminate 1 and absorbing the gas on the gas barrier layer 2 as shown in FIG. The layer 3 may be formed, and as shown in FIG. 1B, the gas barrier layer 2 is formed on one surface of the transparent laminate 1, and the gas absorbing layer is formed on the other surface. 3 may be formed. When this transparent substrate A is used as a display substrate as shown in FIG. 3, the display driving element 10 is mounted on the lower side of the figure in FIGS. 1 (a) and 1 (b). In this case, the gas barrier layer 2 is disposed on the side farther from the driving element 10 than the gas absorption layer 3, and the gas barrier layer 2 is disposed outside the gas absorption layer 3 in the display.

そしてこのように透明積層板1にガスバリア層2とガス吸収層3を積層して形成される透明基板Aにあって、外気の水蒸気や酸素等のガスは、まずガスバリア層2で遮断することができ、ガスが駆動素子10へと透過することを防ぐことができる。またこれらのガスが仮にガスバリア層2を透過しても、この透過したガスはガス吸収層3で吸収されるものである。従って、透明基板Aにディスプレイの駆動素子10を搭載するにあたって、これらのガスが駆動素子10に作用し、駆動素子10の液晶分子14を劣化させたりすることを防ぐことができるものである。   In the transparent substrate A formed by laminating the gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3 on the transparent laminate 1 as described above, the gas such as water vapor or oxygen in the outside air can be blocked by the gas barrier layer 2 first. It is possible to prevent the gas from being transmitted to the driving element 10. Even if these gases permeate the gas barrier layer 2, the permeated gas is absorbed by the gas absorption layer 3. Therefore, when the display driving element 10 is mounted on the transparent substrate A, it is possible to prevent these gases from acting on the driving element 10 and deteriorating the liquid crystal molecules 14 of the driving element 10.

透明積層板1にガスバリア層2とガス吸収層3を積層して形成される透明基板Aのガス透過性は、水蒸気透過率(WVTR)が0.1g/m・24h以下であることが望ましい。透明基板Aの水蒸気透過率(WVTR)が0.1g/m・24h以下であることによって、水蒸気などのガスが駆動素子10に作用して劣化させることを有効に防ぐことができるものである。この水蒸気透過率(WVTR)は小さければ小さいほど望ましいのはいうまでもない。ここで、水蒸気透過率は、JIS Z0208(1976)に準拠した方法で測定した値である。 The gas permeability of the transparent substrate A formed by laminating the gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3 on the transparent laminate 1 is desirably a water vapor permeability (WVTR) of 0.1 g / m 2 · 24 h or less. . When the water vapor transmission rate (WVTR) of the transparent substrate A is 0.1 g / m 2 · 24 h or less, it is possible to effectively prevent a gas such as water vapor from acting on the driving element 10 and deteriorating. . It goes without saying that the water vapor transmission rate (WVTR) is preferably as small as possible. Here, the water vapor transmission rate is a value measured by a method based on JIS Z0208 (1976).

また透明積層板1の表面にガスバリア層2やガス吸収層3を設けることによって、透明積層板1の表面の凹凸をガスバリア層2やガス吸収層3で埋めて平坦にならすことができるものであり、ガスバリア層2やガス吸収層3によって形成される透明基板Aの表面の平滑性を高めることができるものである。このように透明基板Aの表面の平滑性を高めることによって、既述の図3のように一対の透明基板Aを平行に配置して駆動素子10の液晶分子14を充填するにあたって、透明基板A間の間隔を均一な寸法に設定することができ、液晶分子14に配向の乱れが生じることを防いで、光の散乱が発生することを防止することができるものであり、鮮明な画像のディスプレイを作製することができるものである。   Further, by providing the gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3 on the surface of the transparent laminate 1, the irregularities on the surface of the transparent laminate 1 can be filled with the gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3 to be flattened. The smoothness of the surface of the transparent substrate A formed by the gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3 can be improved. In this way, by increasing the smoothness of the surface of the transparent substrate A, when the liquid crystal molecules 14 of the driving element 10 are filled with the pair of transparent substrates A arranged in parallel as shown in FIG. The interval between the electrodes can be set to a uniform size, the liquid crystal molecules 14 can be prevented from being disturbed in alignment, and light scattering can be prevented from occurring. Can be produced.

ガスバリア層2やガス吸収層3によって形成される透明基板Aの表面の平滑性は、表面粗さRaが20μm以下であることが望ましい。表面粗さRaが20μm以下であることによって、透明基板A間の間隔をより均一に設定することができ、液晶分子に配向の乱れが生じることをより確実に防いで、光の散乱が発生することを防止することができるものである。この表面粗さRaは小さければ小さいほど望ましいのはいうまでもない。ここで、表面粗さRaはJIS B0601(1994)で規定される算術平均粗さであり、測定は次のようにして行なった。株式会社東京精密製の蝕針式表面粗さ計「SURFCOM 130A」を用いて、透明積層板の表面凹凸を縦、横、45°バイアス方向についてそれぞれ3点測定し、合計9点の測定値の平均値をRa値とした。   As for the smoothness of the surface of the transparent substrate A formed by the gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3, the surface roughness Ra is preferably 20 μm or less. When the surface roughness Ra is 20 μm or less, the interval between the transparent substrates A can be set more uniformly, and it is possible to more reliably prevent the occurrence of alignment disorder in the liquid crystal molecules, and light scattering occurs. This can be prevented. Needless to say, the surface roughness Ra is preferably as small as possible. Here, the surface roughness Ra is an arithmetic average roughness defined by JIS B0601 (1994), and the measurement was performed as follows. Using a surface roughness meter "SURFCOM 130A" manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., the surface irregularities of the transparent laminate were measured at 3 points in the vertical, horizontal and 45 ° bias directions, respectively. The average value was taken as the Ra value.

ガスバリア性を有する透明なガスバリア層2としては、特に限定されるものではないが、珪素窒化物(SiN)、珪素酸窒化物(SiON)、酸化珪素(SiO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化マグネシウム(MgO)など無機質材料の薄膜で形成することができる。これらの無機質材料の薄膜の形成は、気相蒸着法を用いて行なうことができるものであり、例えば、熱CVD、プラズマCVD、レーザCVDなどの化学蒸着法(CVD)や、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、レーザアブレーションなどの物理蒸着法(PVD)を採用することができる。ガスバリア層2の膜厚は特に限定されるものではないが、10〜1000nm程度の範囲が好ましい。 The transparent gas barrier layer 2 having gas barrier properties is not particularly limited, but silicon nitride (SiN 3 ), silicon oxynitride (SiON), silicon oxide (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O) 3 ) and a thin film of an inorganic material such as magnesium oxide (MgO). Formation of a thin film of these inorganic materials can be performed using a vapor deposition method. For example, a chemical vapor deposition method (CVD) such as thermal CVD, plasma CVD, or laser CVD, vacuum deposition, or ion plating is used. Physical vapor deposition (PVD) such as coating, sputtering, and laser ablation can be employed. The thickness of the gas barrier layer 2 is not particularly limited, but is preferably in the range of about 10 to 1000 nm.

またガス吸収性を有する透明なガス吸収層3の膜厚は、特に限定されるものではないが、1〜1000μm程度の範囲が好ましい。そしてこのガス吸収層3としては特に限定されるものではないが、ガス吸収成分として有機金属化合物を含有するものが好ましい。   Moreover, the film thickness of the transparent gas absorption layer 3 which has gas absorptivity is although it does not specifically limit, The range of about 1-1000 micrometers is preferable. The gas absorption layer 3 is not particularly limited, but preferably contains an organometallic compound as a gas absorption component.

この有機金属酸化物としては、2価以上の金属を含み、且つその金属が酸素との化学結合を有する化合物が挙げられる。   Examples of the organometallic oxide include a compound containing a divalent or higher metal and the metal having a chemical bond with oxygen.

このような2価以上の金属を含み、且つその金属が酸素との化学結合を有する有機金属化合物の一つに、アルキルアルミニウムとシラノール基を有するポリシロキサンとの反応によって得られる化合物がある。   One such organometallic compound containing a metal having a valence of 2 or more and having a chemical bond with oxygen is a compound obtained by a reaction between an alkylaluminum and a polysiloxane having a silanol group.

アルキルアルミニウムとしては、例えばトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムエトキシドなどを挙げることができる。   Examples of the alkylaluminum include trimethylaluminum, triethylaluminum, tripropylaluminum, tributylaluminum, trihexylaluminum, trioctylaluminum, diisobutylaluminum hydride, diethylaluminum ethoxide and the like.

そして例えばアルキルアルミニウムとしてトリオクチルアルミニウムを用い、トリオクチルアルミニウムとシラノール基を有するポリシロキサンとを反応させることによって、[化1]に示すような、有機金属化合物を得ることができる。   For example, by using trioctylaluminum as the alkylaluminum and reacting trioctylaluminum with a polysiloxane having a silanol group, an organometallic compound as shown in [Chemical Formula 1] can be obtained.

Figure 2009241520
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そしてこの有機金属化合物は、[化2]に示すように、水分と化学的に反応して捕捉し、水蒸気を吸収することができるものである。   And, as shown in [Chemical Formula 2], this organometallic compound is capable of chemically reacting with water to trap it and absorb water vapor.

Figure 2009241520
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またこの有機金属化合物は、[化3]に示すように、酸素とも反応して捕捉し、酸素を吸収することができる。   Further, as shown in [Chemical Formula 3], this organometallic compound can also react with oxygen to be captured and absorb oxygen.

Figure 2009241520
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また、上記の2価以上の金属を含み、且つその金属が酸素との化学結合を有する有機金属化合物の一つに、3価金属−ジアルキルオキサイド−モノエチルアセトアセテートがある。3価金属は、アルミニウム、ランタン、イットリウム、ガリウムから選ばれるものである。    Further, as one of organometallic compounds containing the above divalent or higher metal and the metal having a chemical bond with oxygen, there is trivalent metal-dialkyl oxide-monoethyl acetoacetate. The trivalent metal is selected from aluminum, lanthanum, yttrium, and gallium.

この有機金属化合物は、[化4]の一般式で示されるものである(式中、R1〜R3、R5は独立に炭素数1個以上のアルキル基,アリール基,シクロアルキル基,複素環基,アシル基を含む有機基を示し、Mは3価の金属原子を示す)。この金属有機化合物は、水分と化学的に反応して捕捉し、水蒸気を吸収することができるものである。   This organometallic compound is represented by the general formula [Chemical Formula 4] (wherein R1 to R3 and R5 are each independently an alkyl group having 1 or more carbon atoms, an aryl group, a cycloalkyl group, or a heterocyclic group. , Represents an organic group containing an acyl group, and M represents a trivalent metal atom). This metal organic compound reacts and traps chemically with moisture, and can absorb water vapor.

Figure 2009241520
Figure 2009241520

具体例を例示すると、次の[化5]〜[化10]のもの挙げることができる。   As specific examples, the following [Chemical 5] to [Chemical 10] can be mentioned.

Figure 2009241520
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Figure 2009241520
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また、上記の2価以上の金属を含み、且つその金属が酸素との化学結合を有する有機金属化合物の一つに、4価金属−ジアルキルオキサイド−ジエチルアセトアセテートがある。4価金属は、ゲルマニウム、シリコンから選ばれるものである。   One of organometallic compounds containing the above divalent metal and having a chemical bond with oxygen is tetravalent metal-dialkyl oxide-diethyl acetoacetate. The tetravalent metal is selected from germanium and silicon.

この有機金属化合物は、[化11]の一般式で示されるものである(式中、R1,R3,R4は独立に炭素数1個以上のアルキル基,アリール基,シクロアルキル基,複素環基,アシル基を含む有機基を示し、Mは4価の金属原子を示す)。この金属有機化合物は、水分と化学的に反応して捕捉し、水蒸気を吸収することができるものである。   This organometallic compound is represented by the general formula of [Chemical Formula 11] (wherein R1, R3 and R4 are each independently an alkyl group having 1 or more carbon atoms, an aryl group, a cycloalkyl group or a heterocyclic group). , Represents an organic group containing an acyl group, and M represents a tetravalent metal atom). This metal organic compound reacts and traps chemically with moisture, and can absorb water vapor.

Figure 2009241520
Figure 2009241520

具体例を例示すると、次の[化12]〜[化13]のもの挙げることができる。   As specific examples, the following [Chemical 12] to [Chemical 13] can be mentioned.

Figure 2009241520
Figure 2009241520

Figure 2009241520
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また、上記の2価以上の金属を含み、且つその金属が酸素との化学結合を有する有機金属化合物として、(−3価金属−酸素−)の6員環の3つの3価金属にカルボキシレート基が配位した化合物や、(−3価金属−酸素−)の6員環の3つの3価金属にフェノキシ基が配位した化合物がある。この3価金属としてはアルミニウムが好ましい。   In addition, as an organometallic compound containing a metal having a divalent or higher valence and having a chemical bond with oxygen, a carboxylate is added to three trivalent metals having a (3-valent metal-oxygen-) 6-membered ring. There are compounds in which a group is coordinated, and compounds in which a phenoxy group is coordinated to three trivalent metals of a (3-valent metal-oxygen-) 6-membered ring. The trivalent metal is preferably aluminum.

この有機金属化合物は、[化14]の一般式で示されるものである(式中、R1〜R3は独立に炭素数1個以上のアルキル基,アリール基,シクロアルキル基,複素環基,アシル基を含む有機基を示し、Mは3価の金属原子を示す)。この金属有機化合物は、水分と化学的に反応して捕捉し、水蒸気を吸収することができるものである。   This organometallic compound is represented by the general formula of [Chemical Formula 14] (wherein R1 to R3 are independently an alkyl group having 1 or more carbon atoms, an aryl group, a cycloalkyl group, a heterocyclic group, an acyl group) An organic group containing a group, and M represents a trivalent metal atom). This metal organic compound reacts and traps chemically with moisture, and can absorb water vapor.

Figure 2009241520
Figure 2009241520

具体例を示すと、[化15]のアルミニウム オキサイド オクチレートの他に、[化16]〜[化17]のものが挙げられる。   Specific examples include those represented by [Chemical 16] to [Chemical 17] in addition to the aluminum oxide octylate represented by [Chemical 15].

Figure 2009241520
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Figure 2009241520
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Figure 2009241520
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図2(a)(b)は本発明の他の実施の形態を示すものであり、ガス吸収層3の露出する側の表面に第2のガスバリア層4を積層し、ガス吸収層3が外気に触れないように第2のガスバリア層4で被覆するようにしたものである。ガス吸収層3が露出して外気に触れていると、大気中の水蒸気などのガスがガス吸収層3に常時吸収されるので、ガス吸収層3のガス吸収能は短時間で飽和して低下することになり、透明基板Aを透過する水蒸気などのガスをガス吸収層3で吸収して遮断する効果を長時間持続できなくなるおそれがある。このため、ガス吸収層3が外気に触れないように第2のガスバリア層4で被覆するようにしたものであり、透明基板Aを透過するガスをガス吸収層3で吸収して遮断する効果を長時間持続することができるものである。この第2のガスバリア層4は、上記の透明なガスバリア層2と同じ材料で形成することができるものであり、第2のガスバリア層4を透明に形成することによって、第2のガスバリア層4をガス吸収層3に被覆した状態で使用しても、透明基板Aの透明性を保持することができるものである。   2 (a) and 2 (b) show another embodiment of the present invention, in which a second gas barrier layer 4 is laminated on the exposed surface of the gas absorption layer 3, and the gas absorption layer 3 is outside air. In this case, the second gas barrier layer 4 is used so as not to touch. When the gas absorption layer 3 is exposed and exposed to the outside air, gas such as water vapor in the atmosphere is constantly absorbed by the gas absorption layer 3, so that the gas absorption capacity of the gas absorption layer 3 is saturated and decreases in a short time. Therefore, there is a possibility that the effect of absorbing and blocking the gas such as water vapor that passes through the transparent substrate A by the gas absorption layer 3 cannot be maintained for a long time. For this reason, the gas absorption layer 3 is covered with the second gas barrier layer 4 so as not to come into contact with the outside air, and the gas absorption layer 3 absorbs and blocks the gas that passes through the transparent substrate A. It can last for a long time. The second gas barrier layer 4 can be formed of the same material as that of the transparent gas barrier layer 2 described above. By forming the second gas barrier layer 4 transparently, the second gas barrier layer 4 is formed. Even if the gas absorbing layer 3 is used while being coated, the transparency of the transparent substrate A can be maintained.

ここで、ガス吸収層3が外気に触れて大気中の水蒸気などのガスを吸収することの問題は、透明積層板1にガスバリア層2とガス吸収層3を積層して透明基板Aを製造した後、透明基板Aをディスプレイなどの製品に組み込むまでの間で発生することが多く、透明基板Aを組み込んだ後は、むしろ上記の第2のガスバリア層4は不要になることがある。この場合には、第2のガスバリア層4は剥離可能なものであることが望ましい。   Here, the problem that the gas absorption layer 3 touches the outside air and absorbs gas such as water vapor in the atmosphere is that the transparent substrate A is manufactured by laminating the gas barrier layer 2 and the gas absorption layer 3 on the transparent laminate 1. This often occurs until the transparent substrate A is incorporated into a product such as a display. After the transparent substrate A is incorporated, the second gas barrier layer 4 is sometimes unnecessary. In this case, it is desirable that the second gas barrier layer 4 be peelable.

このような剥離可能な第2のガスバリア層4としては、例えば、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリアミド、セルロース、アクリル樹脂等の樹脂フィルムおよびアルミ箔、銅箔などの金属箔を用いることができる。そしてこれらの樹脂フィルムまたは金属箔をガス吸収層3の表面に熱圧着してラミネートすることによって、ガス吸収層3に剥離可能な第2のガスバリア層4として被覆することができるものであり、第2のガスバリア層4が不要になったときには、容易に剥離して除去することができるものである。   As such a peelable second gas barrier layer 4, for example, a resin film such as polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol copolymer, polyamide, cellulose, acrylic resin, or a metal foil such as aluminum foil or copper foil is used. Can do. And, by laminating these resin films or metal foils on the surface of the gas absorption layer 3 by thermocompression bonding, the gas absorption layer 3 can be coated as a second gas barrier layer 4 that can be peeled off. When the second gas barrier layer 4 becomes unnecessary, it can be easily peeled off and removed.

また、上記の実施の形態では、ガスバリア層2やガス吸収層3をそれぞれ1層設けるようにしたが、ガスバリア層2やガス吸収層3を複数層設けるようにしてもよく、この場合には、ガスの遮断や吸収を複数の層で行なうことができ、透明基板Aのガス遮断性能を高めることができるものである。   Further, in the above embodiment, one gas barrier layer 2 and one gas absorption layer 3 are provided. However, a plurality of gas barrier layers 2 and gas absorption layers 3 may be provided. Gas blocking and absorption can be performed in a plurality of layers, and the gas blocking performance of the transparent substrate A can be enhanced.

次に、本発明を実施例によって具体的に説明する。   Next, the present invention will be specifically described with reference to examples.

(実施例1)
高屈折率樹脂として、固形型のシアネートエステル樹脂(Lonza社製「BADCy」、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)プロパン:屈折率1.59)を52質量部、低屈折率樹脂として、固形型の1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサンを含むエポキシ樹脂(ダイセル化学工業(株)製「EHPE3150」:屈折率1.51)を48質量部配合し、さらに硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を0.02質量部配合し、これにトルエン50質量部、メチルエチルケトン50質量部を添加して、温度70℃で攪拌溶解することによって、樹脂組成物のワニスを調製した。この樹脂組成物の硬化物の屈折率は1.56であった。
Example 1
As a high refractive index resin, solid cyanate ester resin (“BADCy” manufactured by Lonza, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane: refractive index 1.59) is 52 parts by mass, as a low refractive index resin. 48 parts by mass of an epoxy resin containing solid 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane (“EHPE3150” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd .: refractive index 1.51) was added, and further curing started 0.02 parts by mass of zinc octoate was blended as an agent, 50 parts by mass of toluene and 50 parts by mass of methyl ethyl ketone were added thereto, and the mixture was stirred and dissolved at a temperature of 70 ° C. to prepare a varnish of the resin composition. The refractive index of the cured product of this resin composition was 1.56.

次に、厚み25μmのガラス繊維クロス(旭化成エレクトロニクス(株)製品番「1037」、Eガラス、屈折率1.562)に、上記の樹脂組成物のワニスを含浸し、150℃で5分間加熱することによって、溶剤を除去すると共に樹脂を半硬化させてプリプレグを調製した。   Next, a glass fiber cloth having a thickness of 25 μm (Asahi Kasei Electronics Co., Ltd., product number “1037”, E glass, refractive index 1.562) is impregnated with the varnish of the above resin composition and heated at 150 ° C. for 5 minutes. Thus, the solvent was removed and the resin was semi-cured to prepare a prepreg.

そしてこのプリプレグを2枚重ね、離型処理をしたガラス板に挟んでプレス機にセットし、170℃、2MPa、15分の条件で加熱加圧成形することによって、樹脂の含有率が63質量%、厚みが80μmの透明積層板1を得た。   Then, two sheets of this prepreg are stacked, sandwiched between release-molded glass plates, set in a press machine, and heated and pressed under conditions of 170 ° C., 2 MPa, 15 minutes, whereby the resin content is 63% by mass. A transparent laminate 1 having a thickness of 80 μm was obtained.

この透明積層板1の表面粗さRaは90nm、水蒸気透過率(WVTR)は2.6g/m24hであった。 The transparent laminate 1 had a surface roughness Ra of 90 nm and a water vapor transmission rate (WVTR) of 2.6 g / m 2 24 h.

次にこの透明積層板1の表面に、プラズマCVD法によって、厚み100nmの珪素窒化物(SiN)からなる透明なガスバリア層2を形成した。透明積層板1に形成したガスバリア層の側の表面の粗さRaは20nmであり、このガスバリア層2を形成した透明積層板1の水蒸気透過率(WVTR)は0.01g/m24hであった。 Next, a transparent gas barrier layer 2 made of silicon nitride (SiN 3 ) having a thickness of 100 nm was formed on the surface of the transparent laminate 1 by plasma CVD. The surface roughness Ra of the gas barrier layer formed on the transparent laminate 1 is 20 nm, and the water vapor transmission rate (WVTR) of the transparent laminate 1 on which the gas barrier layer 2 is formed is 0.01 g / m 2 24 h. It was.

次に、透明積層板1に形成したこのガスバリア層2の表面に、トリオクチルアルミニウム(Sigma Aldrich社製)と両末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサン(YT3807、GE−Toshiba Silicone社製)を同質量ずつヘキサン溶液中で撹拌反応させた溶液組成物を、スピンコート塗布して乾燥することによって、膜厚50μmの透明なガス吸収層3を形成し、ガス吸収層3とガスバリア層2を積層した透明基板Aを得た(図1(a)参照)。   Next, trioctyl aluminum (manufactured by Sigma Aldrich) and polydimethylsiloxane having silanol groups at both ends (YT3807, manufactured by GE-Toshiba Silicone) are formed on the surface of the gas barrier layer 2 formed on the transparent laminate 1. A solution composition obtained by stirring and reacting in mass in a hexane solution was spin-coated and dried to form a transparent gas absorption layer 3 having a thickness of 50 μm, and the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 were laminated. A transparent substrate A was obtained (see FIG. 1 (a)).

この透明基板Aにおいて、ガス吸収層3とガスバリア層2を形成した側の表面の粗さRaは17nmであり、ガス吸収層3とガスバリア層2を形成したこの透明基板Aの水蒸気透過率(WVTR)は0.007g/m24hであった。 In this transparent substrate A, the roughness Ra of the surface on which the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 are formed is 17 nm, and the water vapor transmission rate (WVTR) of the transparent substrate A on which the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 are formed. ) Was 0.007 g / m 2 24 h.

(実施例2)
実施例1で得た透明積層板1の表面に、スパッタリング法によって、厚み100nmの珪素酸窒化物(SiON)からなる透明なガスバリア層2を形成した。透明積層板1に形成したガスバリア層2の側の表面の粗さRaは20nmであり、このガスバリア層2を形成した透明積層板1の水蒸気透過率(WVTR)は0.01g/m24hであった。
(Example 2)
A transparent gas barrier layer 2 made of silicon oxynitride (SiON) having a thickness of 100 nm was formed on the surface of the transparent laminate 1 obtained in Example 1 by sputtering. The surface roughness Ra of the gas barrier layer 2 formed on the transparent laminate 1 is 20 nm, and the water vapor transmission rate (WVTR) of the transparent laminate 1 on which the gas barrier layer 2 is formed is 0.01 g / m 2 24 h. there were.

次に、透明積層板1に形成したこのガスバリア層2の表面に、アルミニウムオキサイドオクチレート(ホープ製薬社製 商品名:オリープAOO)のトルエン50質量%溶液組成物を、ロールコート塗布して乾燥することによって、膜厚50μmの透明なガス吸収層3を形成し、ガス吸収層3とガスバリア層2を積層した透明基板Aを得た(図1(a)参照)。   Next, a toluene 50 mass% solution composition of aluminum oxide octylate (trade name: Olipe AOO, manufactured by Hope Pharmaceutical Co., Ltd.) is roll coated on the surface of the gas barrier layer 2 formed on the transparent laminate 1 and dried. Thus, a transparent gas absorption layer 3 having a film thickness of 50 μm was formed, and a transparent substrate A in which the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 were laminated was obtained (see FIG. 1A).

この透明基板Aにおいて、ガス吸収層3とガスバリア層2を形成した側の表面の粗さRaは17nmであり、ガス吸収層3とガスバリア層2を形成したこの透明基板Aの水蒸気透過率(WVTR)は0.007g/m24hであった。 In this transparent substrate A, the roughness Ra of the surface on which the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 are formed is 17 nm, and the water vapor transmission rate (WVTR) of the transparent substrate A on which the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 are formed. ) Was 0.007 g / m 2 24 h.

(実施例3)
実施例1で得た、ガス吸収層3とガスバリア層2を形成した透明基板Aを用い、そしてこのガス吸収層3の表面に、スパッタリング法によって、厚み100nmの珪素酸窒化物(SiON)からなる透明な第2のガスバリア層4を形成し、第2のガスバリア層4とガス吸収層3とガスバリア層2を積層した透明基板Aを得た(図2(a)参照)。
(Example 3)
The transparent substrate A formed with the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 obtained in Example 1 is used, and the surface of the gas absorption layer 3 is made of silicon oxynitride (SiON) having a thickness of 100 nm by sputtering. A transparent second gas barrier layer 4 was formed, and a transparent substrate A in which the second gas barrier layer 4, the gas absorption layer 3, and the gas barrier layer 2 were laminated was obtained (see FIG. 2A).

この透明基板Aにおいて、第2のガスバリア層4とガス吸収層3とガスバリア層2を形成した側の表面の粗さRaは15nmであり、第2のガスバリア4とガス吸収層3とガスバリア層2を形成したこの透明基板Aの水蒸気透過率(WVTR)は0.008g/m24hであった。 In this transparent substrate A, the roughness Ra of the surface on which the second gas barrier layer 4, the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 are formed is 15 nm. The second gas barrier 4, the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 The water vapor transmission rate (WVTR) of this transparent substrate A having formed was 0.008 g / m 2 24 h.

(実施例4)
実施例2で得た、ガス吸収層3とガスバリア層2を形成した透明基板Aを用い、そしてこのガス吸収層3の表面に、スパッタリング法によって、厚み100nmの珪素酸窒化物(SiON)からなる透明な第2のガスバリア層4を形成し、第2のガスバリア層4とガス吸収層3とガスバリア層2を積層した透明基板Aを得た(図2(a)参照)。
Example 4
The transparent substrate A formed with the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 obtained in Example 2 is used, and the surface of the gas absorption layer 3 is made of silicon oxynitride (SiON) having a thickness of 100 nm by sputtering. A transparent second gas barrier layer 4 was formed, and a transparent substrate A in which the second gas barrier layer 4, the gas absorption layer 3, and the gas barrier layer 2 were laminated was obtained (see FIG. 2A).

この透明基板Aにおいて、第2のガスバリア層4とガス吸収層3とガスバリア層2を形成した側の表面の粗さRaは13nmであり、第2のガスバリア4とガス吸収層3とガスバリア層2を形成したこの透明基板Aの水蒸気透過率(WVTR)は0.008g/m24hであった。 In this transparent substrate A, the roughness Ra of the surface on which the second gas barrier layer 4, the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 are formed is 13 nm. The second gas barrier 4, the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 are formed. The water vapor transmission rate (WVTR) of this transparent substrate A having formed was 0.008 g / m 2 24 h.

(実施例5)
実施例1で得た、ガス吸収層3とガスバリア層2を形成した透明基板1を用い、そしてこのガス吸収層3の表面に、厚み50μmのポリビニルアルコールフィルムを熱ロールで圧着することによって、剥離可能な第2のガスバリア層4を形成し、剥離可能な第2のガスバリア層4とガス吸収層3とガスバリア層2を積層した透明基板Aを得た(図2(a)参照)。
(Example 5)
The transparent substrate 1 formed with the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 obtained in Example 1 was used, and a polyvinyl alcohol film having a thickness of 50 μm was pressure-bonded to the surface of the gas absorption layer 3 with a hot roll. A possible second gas barrier layer 4 was formed, and a transparent substrate A in which the peelable second gas barrier layer 4, the gas absorption layer 3, and the gas barrier layer 2 were laminated was obtained (see FIG. 2A).

この透明基板Aにおいて、剥離可能な第2のガスバリア層4とガス吸収層3とガスバリア層2を形成した側の表面の粗さRaは13nmであり、第2のガスバリア4とガス吸収層3とガスバリア層2を形成したこの透明基板Aの水蒸気透過率(WVTR)は0.008g/m24hであった。 In this transparent substrate A, the surface roughness Ra on the side where the peelable second gas barrier layer 4, gas absorption layer 3 and gas barrier layer 2 are formed is 13 nm, and the second gas barrier 4, gas absorption layer 3, The transparent substrate A on which the gas barrier layer 2 was formed had a water vapor transmission rate (WVTR) of 0.008 g / m 2 24 h.

(実施例6)
実施例2で得た、ガス吸収層3とガスバリア層2を形成した透明基板Aを用い、そしてこのガス吸収層3の表面に、厚み50μmのポリビニルアルコールフィルムを熱ロールで圧着することによって、剥離可能な第2のガスバリア層4を形成し、剥離可能な第2のガスバリア層4とガス吸収層3とガスバリア層4を積層した透明基板Aを得た。
(Example 6)
Using the transparent substrate A on which the gas absorption layer 3 and the gas barrier layer 2 formed in Example 2 were formed, and a polyvinyl alcohol film having a thickness of 50 μm was pressure-bonded to the surface of the gas absorption layer 3 with a hot roll. A possible second gas barrier layer 4 was formed, and a transparent substrate A in which the peelable second gas barrier layer 4, the gas absorption layer 3, and the gas barrier layer 4 were laminated was obtained.

この透明基板Aにおいて、剥離可能な第2のガスバリア層4とガス吸収層3とガスバリア層2を形成した側の表面の粗さRaは13nmであり、第2のガスバリア4とガス吸収層3とガスバリア層2を形成したこの透明基板Aの水蒸気透過率(WVTR)は0.008g/m24hであった。 In this transparent substrate A, the surface roughness Ra on the side where the peelable second gas barrier layer 4, gas absorption layer 3 and gas barrier layer 2 are formed is 13 nm, and the second gas barrier 4, gas absorption layer 3, The transparent substrate A on which the gas barrier layer 2 was formed had a water vapor transmission rate (WVTR) of 0.008 g / m 2 24 h.

上記の実施例1〜6にみられるように、透明積層板1は表面粗さRaが90nm、水蒸気透過率(WVTR)が2.6g/m24hであるが、この透明積層板1にガスバリア層2とガス吸収層3を積層し、またこれに加えて第2のガスバリア層4を積層して得た透明基板Aは、表面粗さRaが13〜20nmに、水蒸気透過率(WVTR)が0.007〜0.008g/m24hになっており、表面平滑性やガス遮断性を大きく高めることができることが確認される。 As seen in Examples 1 to 6 above, the transparent laminate 1 has a surface roughness Ra of 90 nm and a water vapor transmission rate (WVTR) of 2.6 g / m 2 24 h. The transparent substrate A obtained by laminating the layer 2 and the gas absorption layer 3 and additionally the second gas barrier layer 4 has a surface roughness Ra of 13 to 20 nm and a water vapor transmission rate (WVTR). It is 0.007-0.008 g / m < 2 > 24h, and it is confirmed that surface smoothness and gas barrier property can be improved greatly.

本発明の実施の形態の一例を示すものであり、(a)(b)はそれぞれ概略図である。1 shows an example of an embodiment of the present invention, and (a) and (b) are schematic views. 本発明の他の実施の形態の一例を示すものであり、(a)(b)はそれぞれ概略図である。An example of other embodiments of the present invention is shown, and (a) and (b) are schematic views, respectively. 液晶ディスプレイの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a liquid crystal display.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明積層板
2 ガスバリア層
3 ガス吸収層
4 第2のガスバリア層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent laminated board 2 Gas barrier layer 3 Gas absorption layer 4 2nd gas barrier layer

Claims (16)

ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板を備え、ガスバリア性を有する透明なガスバリア層とガス吸収性を有する透明なガス吸収層とが透明積層板に積層されていることを特徴とする透明基板。   A resin composition prepared by mixing a high refractive index resin having a refractive index higher than that of glass fiber and a low refractive index resin having a refractive index lower than that of glass fiber so that the refractive index approximates the refractive index of glass fiber. A transparent laminated plate produced by impregnating and curing a glass fiber substrate, and a transparent gas barrier layer having a gas barrier property and a transparent gas absorbing layer having a gas absorbing property are laminated on the transparent laminated plate A transparent substrate characterized by. ディスプレイの駆動素子が搭載される透明基板であって、ガスバリア層はガス吸収層よりも、駆動素子から遠い側に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の透明基板。   2. The transparent substrate according to claim 1, wherein the transparent substrate is mounted with a display drive element, and the gas barrier layer is disposed on a side farther from the drive element than the gas absorption layer. ガス吸収層はガス吸収成分を含有して形成され、ガス吸収成分は有機金属化合物からなることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 1, wherein the gas absorption layer is formed to contain a gas absorption component, and the gas absorption component is made of an organometallic compound. ガス吸収層に含有される有機金属化合物は、2価以上の金属を含み、且つその金属が酸素との化学結合を有する化合物であることを特徴とする請求項3に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 3, wherein the organometallic compound contained in the gas absorption layer is a compound containing a metal having a valence of 2 or more, and the metal has a chemical bond with oxygen. 有機金属化合物は、アルキルアルミニウムとシラノール基を有するポリシロキサンとの反応によって得られる化合物であることを特徴とする請求項4に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 4, wherein the organometallic compound is a compound obtained by a reaction between an alkylaluminum and a polysiloxane having a silanol group. 有機金属化合物は、3価金属−ジアルキルオキサイド−モノエチルアセトアセテートであることを特徴とする請求項4に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 4, wherein the organometallic compound is a trivalent metal-dialkyl oxide-monoethyl acetoacetate. 3価金属が、アルミニウム、ランタン、イットリウム、ガリウムから選ばれる少なくとも1つであることを特徴とする請求項6に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 6, wherein the trivalent metal is at least one selected from aluminum, lanthanum, yttrium, and gallium. 有機金属化合物は、4価金属−ジアルキルオキサイド−ジエチルアセトアセテートであることを特徴とする請求項4に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 4, wherein the organometallic compound is tetravalent metal-dialkyl oxide-diethyl acetoacetate. 4価金属が、ゲルマニウム、シリコンから選ばれる少なくとも1つであることを特徴とする請求項8に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 8, wherein the tetravalent metal is at least one selected from germanium and silicon. 有機金属化合物は、(−3価金属−酸素−)の6員環の3つの3価金属にカルボキシレート基が配位した化合物、(−3価金属−酸素−)の6員環の3つの3価金属にフェノキシ基が配位した化合物から選ばれる少なくとも1つであることを特徴とする請求項4に記載の透明基板。   An organometallic compound is a compound in which a carboxylate group is coordinated to three trivalent metals of a (-3valent metal-oxygen-) six-membered ring, and three (3-valent metal-oxygen-) six-membered rings The transparent substrate according to claim 4, wherein the transparent substrate is at least one selected from compounds in which a phenoxy group is coordinated to a trivalent metal. 3価金属が、アルミニウムであることを特徴とする請求項10に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 10, wherein the trivalent metal is aluminum. ガス吸収層は、外気から遮断する第2のガスバリア層で覆われていることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の透明基板。   The transparent substrate according to any one of claims 1 to 11, wherein the gas absorption layer is covered with a second gas barrier layer that is shielded from outside air. 第2のガスバリア層は、透明であることを特徴とする請求項12に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 12, wherein the second gas barrier layer is transparent. 透明なガスバリア層と透明なガス吸収層の少なくとも一方が複数層形成されていることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか一方に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 1, wherein at least one of a transparent gas barrier layer and a transparent gas absorption layer is formed in a plurality of layers. 表面の粗さ(Ra)が20nm以下であることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の透明基板。   The transparent substrate according to claim 1, wherein the surface roughness (Ra) is 20 nm or less. 最外層に配置される第2のガスバリア層は剥離可能であることを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の透明基板。   The transparent substrate according to any one of claims 1 to 15, wherein the second gas barrier layer disposed in the outermost layer is peelable.
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