JP2009239072A - Peeling device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、基板の一方主面に貼付されたシート状の基材を剥離する剥離装置に関するものである。なお、処理対象となる基板には、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示用ガラス基板、プラズマ表示用ガラス基板、FED(電界放出ディスプレイ:Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板等が含まれる。 The present invention relates to a peeling apparatus for peeling a sheet-like base material attached to one main surface of a substrate. The substrates to be processed include semiconductor wafers, glass substrates for photomasks, glass substrates for liquid crystal displays, glass substrates for plasma displays, FED (Field Emission Display) substrates, optical disk substrates, and magnetic disks. And a magneto-optical disk substrate.
近年、LSIの製造に用いるウエハの大口径化や液晶パネルなどの大面積化に伴い、大面積に適合した薄膜形成方法が必要となってきた。また、LSI製造技術における多層配線技術の分野においては、多層配線を実現するために絶縁膜の表面を高い精度で平坦化する必要があり、大面積化に加えて、薄膜形成における表面の平坦化技術への要求も高まってきている。そこで、これらの要求を満足すべく、加圧転写方法によって基板に薄膜を形成する薄膜形成技術が提案されている。 In recent years, with an increase in the diameter of a wafer used for manufacturing an LSI and an increase in the area of a liquid crystal panel or the like, a thin film forming method suitable for the large area has become necessary. In addition, in the field of multilayer wiring technology in LSI manufacturing technology, it is necessary to planarize the surface of the insulating film with high accuracy in order to realize multilayer wiring. In addition to increasing the area, planarizing the surface in thin film formation The demand for technology is also increasing. Accordingly, in order to satisfy these requirements, a thin film forming technique for forming a thin film on a substrate by a pressure transfer method has been proposed.
このような薄膜形成装置としては、例えば特許文献1に記載されたものがある。この薄膜形成装置では、パターン形成面(基板表面)を下向きに、すなわちフェースダウン状態に保持された基板に対し、シート状の基材上面に薄膜材料を塗布したもの(シートフィルム)を貼付し、これらを加熱・加圧して基板表面に薄膜を転写することで、基板表面に薄膜を形成している。
An example of such a thin film forming apparatus is described in
また、こうしてシートフィルム上の薄膜が基板表面に転写された後には基材を剥離する必要があり、このような剥離装置としては例えば特許文献2に記載されたものがある。この剥離装置では、シートフィルムが貼付された基板表面を上向きに、すなわちフェースアップ状態に保持するとともに、基板上方に設けられた巻き取りローラにより基材を巻き取ることにより、基板表面から基材を剥離する。
Further, after the thin film on the sheet film is transferred to the substrate surface in this way, it is necessary to peel off the base material. As such a peeling device, there is one described in
上記した従来技術において、基板から基材を剥離させる処理を複数の基板に対して連続的に実施しようとすると、基板から巻き取りローラに巻き取られた基材を速やかに除去することが必要となる。しかしながら、ローラに巻き取られた基材を取り除くための装置はこれまで実用化されておらず、1回の巻き取り動作ごとにローラを取り出して基材を取り除いたり、基材が巻き付いたローラごと交換するなどの作業を行っているのが実状である。そのため、処理のスループットが低く、また基板へのシートフィルムの貼付から剥離、回収までの一連の作業を連続的かつ自動的に行うことができず非効率的であるという問題があった。 In the above-described prior art, when the process of peeling the base material from the substrate is continuously performed on a plurality of substrates, it is necessary to quickly remove the base material wound on the winding roller from the substrate. Become. However, an apparatus for removing the substrate wound around the roller has not been put to practical use until now, and the roller is taken out for each winding operation to remove the substrate, or for each roller around which the substrate is wound. The actual situation is such as exchanging. Therefore, there is a problem that the throughput of processing is low, and a series of operations from sticking of a sheet film to a substrate to peeling and recovery cannot be performed continuously and automatically, which is inefficient.
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、シート状の基材を貼付された基板から基材を剥離する作業を効率よく行うことのできる剥離装置を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the said subject, and it aims at providing the peeling apparatus which can perform efficiently the operation | work which peels a base material from the board | substrate which affixed the sheet-like base material.
この発明にかかる剥離装置は、上記目的を達成するため、一方主面にシート状の基材を貼付された基板から剥離された前記基材を巻き取る巻き取り手段と、前記基材を巻き取った前記巻き取り手段の近傍に配置されて、前記巻き取り手段に巻き取られた前記基材の端部を取り出す基材取り出し手段と、前記基材取り出し手段により取り出された前記基材を受け取り、所定の搬送経路に沿って前記巻き取り手段から離間位置に搬送する搬送手段とを備えることを特徴としている。 In order to achieve the above object, a peeling apparatus according to the present invention winds up the base material peeled off from a substrate having a sheet-like base material attached to one main surface, and the base material. A base material take-out means that is disposed in the vicinity of the take-up means and takes out an end portion of the base material taken up by the take-up means, and receives the base material taken out by the base material take-out means, And a conveying unit that conveys the winding unit to a separation position along a predetermined conveying path.
このように構成された発明では、巻き取り手段に巻き取られた基材を取り出して離間位置に搬送するための手段(基材取り出し手段および搬送手段)を備えているため、巻き取り手段に巻き付いた基材を速やかに除去することができる。そのため、巻き取り手段をいったん取り出すことなく次の剥離作業に供することが可能となり、処理の効率を向上させることができる。また、複数の基板からのシートフィルムの剥離を連続的に行う場合には高いスループットを得ることができる。また、この剥離装置を用いることで、複数の基板からのシートフィルムの剥離を連続的かつ自動的に行う処理システムを構築することができる。 In the invention configured as described above, since there is provided a means (a base material take-out means and a transport means) for taking out the base material wound up by the take-up means and transporting it to the separated position, it is wound around the take-up means. The removed substrate can be quickly removed. Therefore, it becomes possible to use for the next peeling operation without taking out the winding means once, and the processing efficiency can be improved. In addition, when the sheet film is continuously peeled from a plurality of substrates, high throughput can be obtained. Moreover, by using this peeling apparatus, it is possible to construct a processing system that continuously and automatically peels a sheet film from a plurality of substrates.
ここで、例えば、前記巻き取り手段は、前記基材の一端部を把持しながら所定の方向に回転することにより前記基材を巻き取る巻き取りローラを備えるようにしてもよい。シート状の基材を巻き取りローラで巻き取るようにすれば、比較的簡単な構成で確実に基板から基材を剥離させることができる。また、剥離された基材はローラに巻き付いた状態となるため以後の取り扱いが容易である。 Here, for example, the winding means may include a winding roller that winds the base material by rotating it in a predetermined direction while gripping one end of the base material. If the sheet-like base material is taken up by the take-up roller, the base material can be reliably peeled from the substrate with a relatively simple configuration. Further, since the peeled base material is wound around the roller, subsequent handling is easy.
この場合においては、前記巻き取りローラへの前記基材の巻回数が1回未満であり、前記基材取り出し手段は、前記巻き取り手段により把持された前記基材の前記一端部を受け取るようにする、つまり、巻き取り手段から基材取り出し手段への基材の受け渡しがローラへの巻き始め側の一端部を介して行われるようにするのが好ましい。巻き取りローラへの巻き終わり位置では、シート状の基材が反り返ったり湾曲したりするためその位置や形状が安定しないおそれがある。これに対し、巻き始め側では形状等の制御が比較的容易であり、この部分を受け渡すようにすることで、確実で安定した受け渡しが可能となる。また、巻き始め側を受け渡すためには、巻き取りローラへの基材の巻回数を1回未満とすることが望ましい。 In this case, the number of windings of the base material around the take-up roller is less than 1, and the base material take-out means receives the one end of the base material gripped by the take-up means. In other words, it is preferable that the transfer of the base material from the winding means to the base material taking-out means is performed through one end portion on the winding start side of the roller. Since the sheet-like base material is warped or curved at the winding end position on the winding roller, the position and shape may not be stable. On the other hand, it is relatively easy to control the shape and the like on the winding start side, and by delivering this portion, reliable and stable delivery is possible. Moreover, in order to deliver the winding start side, it is desirable that the number of windings of the base material on the winding roller is less than one.
また、前記基材取り出し手段は、前記巻き取り手段に巻き取られた前記基材の一部を把持して前記巻き取り手段から離間する方向に引き出す基材把持部を備えるようにしてもよい。基材の一部を把持して引き出すことによって、巻き取り手段からの基材の取り出しおよび搬送手段への基材の受け渡しをより確実に行うことができる。 The base material take-out means may include a base material gripping part that grips a part of the base material wound up by the winding means and draws it away from the winding means. By grasping and pulling out a part of the base material, the base material can be taken out from the winding means and delivered to the transport means more reliably.
また、前記搬送手段は、回転するローラ対により形成したニップ部を含む前記搬送経路に前記基材を通送させることによって前記基材を搬送し、前記基材取り出し手段は、前記巻き取り手段から取り出した前記基材の一部を前記ニップ部に案内するようにしてもよい。こうすることで、基材取り出し手段から搬送手段への基材の受け渡しを簡単な構成で確実に行うことができる。 The transport means transports the base material by passing the base material through the transport path including a nip portion formed by a pair of rotating rollers, and the base material take-out means is transported from the winding means. A part of the substrate taken out may be guided to the nip portion. By doing so, the transfer of the base material from the base material take-out means to the transport means can be reliably performed with a simple configuration.
この場合、前記搬送手段は、前記ローラ対を構成するローラを離当接させることで前記ニップ部を開閉させる開閉機構を備え、前記ローラ対を構成するローラを離間させた状態で前記基材を前記基材取り出し手段から受け取った後、前記ローラ対を構成するローラを当接させて該基材を搬送するようにしてもよい。ニップ部を開閉させることにより、基材取り出し手段から搬送手段への基材の受け渡しをより簡単に行うことができる。 In this case, the conveying means includes an opening / closing mechanism that opens and closes the nip portion by separating and contacting the rollers that constitute the roller pair, and the substrate that is spaced apart from the rollers that constitute the roller pair. After receiving from the base material take-out means, the base material may be transported by contacting the rollers constituting the roller pair. By opening and closing the nip portion, the transfer of the base material from the base material take-out means to the transport means can be performed more easily.
また、前記搬送経路の後端に、前記基材を収容する収容部を設けることがより好ましい。このようにすると、途中で装置から基材を搬出することなく複数の基板を連続的に処理することができ、処理のスループットをさらに向上させることができる。また、剥離後のシートフィルムをまとめて収容しておくことにより、以後の取り扱いが容易になる。 In addition, it is more preferable to provide a storage unit that stores the base material at the rear end of the transport path. In this way, a plurality of substrates can be processed continuously without carrying out the substrate from the apparatus in the middle, and the processing throughput can be further improved. Moreover, subsequent handling becomes easy by storing the sheet | seat film after peeling collectively.
なお、この発明において基材の形状は特に限定されないが、特に略円形であるときにその効果が大きい。というのは、このような基材では端部が曲線をなしているため、複数の機構の間でこれを確実に受け渡すことが難しいからである。このような基材を扱う装置に本発明を適用することにより、剥離された基材を確実に搬送し除去することができる。 In the present invention, the shape of the substrate is not particularly limited, but the effect is particularly great when the substrate is substantially circular. This is because, in such a base material, the end portion is curved, so that it is difficult to reliably transfer it between a plurality of mechanisms. By applying the present invention to an apparatus that handles such a base material, the peeled base material can be reliably transported and removed.
この発明によれば、巻き取り手段に巻き取られた基材を取り出して離間位置に搬送するための手段(基材取り出し手段および搬送手段)を備えているため、巻き取り手段に巻き付いた基材を速やかに除去して巻き取り手段を次の剥離作業に供することが可能となり、処理の効率を向上させることができる。また、この発明を適用した剥離装置を用いることで、複数の基板からのシートフィルムの剥離を連続的かつ自動的に行う処理システムを構築することができる。 According to the present invention, since the base (winding means and transporting means) for taking out the base material taken up by the winding means and transporting it to the separated position is provided, the base material wound around the winding means. Can be quickly removed and the winding means can be used for the next peeling operation, and the efficiency of the treatment can be improved. Moreover, the processing system which peels the sheet film from a some board | substrate continuously and automatically can be constructed | assembled by using the peeling apparatus to which this invention is applied.
図1はこの発明にかかる剥離装置の一実施形態を示す図である。より詳しくは、図1(a)は剥離装置1の外観上面図、図1(b)はその側面図である。また、図2は図1の剥離装置の主要な制御構成を示すブロック図である。この剥離装置1は、シートフィルムを貼付された状態で外部から搬入される基板をワークとして受け入れて、該シートフィルムを基板から剥離・回収するための装置である。この剥離装置1は、基板からシートフィルムを剥離するための剥離ユニット10、剥離されたシートフィルムを回収するための回収ユニット50、装置全体の動作を制御する制御ユニット70およびこれらを固定するフレーム90を備えている。
FIG. 1 is a view showing an embodiment of a peeling apparatus according to the present invention. More specifically, FIG. 1 (a) is an external top view of the
剥離ユニット10は、基板をその上方から吸着保持するための吸着ステージブロック100、こうして吸着保持された基板の下方を移動しながらシートフィルムを巻き取り剥離するための巻き取りブロック200、巻き取りブロック200を略水平方向(図1のX方向)に移動させるためのガイドレールブロック300、および、外部から基板を受け入れて吸着ステージブロック100に受け渡すための仮置きステージブロック400を備えている。吸着ステージブロック100および巻き取りブロック200の詳細な構造については後に説明する。
The
ガイドレールブロック300は、巻き取りブロック200を水平移動させる際のガイドとなるガイドレール303、巻き取りブロック200を駆動するボールねじ機構を構成するボールねじ302、ボールねじ駆動部304およびこれらを保持するベース部301を備えている。
The
また、仮置きステージブロック400は、本装置の処理対象である基板およびシートフィルムを含むワークを外部から受け入れて一時的に支持する仮置きステージ410を備えている。仮置きステージ410の上面には、後述するワークを構成するリングを支持するためのリング支持ピン411と、シートフィルムが剥離された後の基板を支持する基板支持ピン412とが突設されている。リング支持ピン411および基板支持ピン412はそれぞれ3個以上設けられている。リング支持ピン411それぞれの先端には、後述するワークの下部リングに設けられた凹部と嵌合する先端突起部が設けられている。また、仮置きステージの下部には鉛直下向きにシャフト420が延びており、該シャフト420を保持するとともにこれを上下方向(Z軸方向)に駆動するステージ昇降機構430に取り付けられている。すなわち、この仮置きステージブロック400では、仮置きステージ410がステージ昇降機構430により昇降自在に保持されている。
In addition, the temporary
また、回収ユニット50は、基板から剥離されたシートフィルムを後方(図1において右方)に搬送する搬送ブロック500と、搬送ブロック500により搬送されてきた剥離後のシートフィルムを回収・貯留する回収ボックス600とを備えている。搬送ブロック500は、ハウジング昇降機構540により昇降自在に保持されたハウジング501に取り付けられた、シート剥がし機構510、上側搬送機構520および下側搬送機構530などを備えている。また、回収ボックス600は内部にシートフィルムを貯留可能な中空の筐体であり、その一部には貯留されたシートフィルムを取り出すための扉601が設けられている。
Further, the
上側搬送機構520と下側搬送機構530とに挟まれた領域は、基板から剥離されたシートフィルムを回収ボックス600に向けて搬送するための搬送経路となっている。上側搬送機構520は、基板から剥離されたシートフィルムを搬送経路に案内するためのシートガイド521、524と、これらに回転自在に軸着された複数の従動ローラ522と、シートガイド521を昇降させて搬送経路を開閉するガイド開閉機構523とを備えている。また下側搬送機構530は搬送ローラ駆動部532により回転駆動される複数の搬送ローラ531を備えている。従動ローラ522と搬送ローラ531とは互いに当接してニップ部を形成しており、搬送経路はこのニップ部を含んでいる。
A region sandwiched between the
図2に示した各構成のうちこれまで説明していないものについては、後にその動作とともに詳しく説明するが、その前に、この剥離装置1で取り扱うワークについて説明しておく。
2 which will not be described so far will be described in detail later along with the operation thereof, but before that, the work handled by the
図3はこの剥離装置の処理対象であるワークの構成を示す図である。本実施形態の剥離装置1では、ワークの分解図である図3(a)および断面図である図3(b)に示すように、円板状の基板Wに貼り付けたシートフィルムFをそれぞれ円環状で基板Wの中心軸Jと同軸の上部リングRup、下部リングRdwで挟み込んでなる構造体を処理対象たるワークWkとして取り扱う。図示を省略しているが、上部リングRupおよび下部リングRdwは内蔵された永久磁石により互いに磁気的に吸着結合される。図示していないが、下部リングRdwの下面にはリング支持ピン411の先端突起部と嵌合するための凹部が設けられており、これらの嵌合により仮置きステージ410に対する下部リングRdwの位置ズレが防止される。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a workpiece which is a processing target of the peeling apparatus. In the
シートフィルムFの上面Faには薄膜材料(例えばSOG;Spin-on-Glass)が塗布されており、これに基板Wがその表面(パターン形成面)Wfを下向きにして重ねられている。したがって、ワークWkにおいては基板の裏面Wbが上向きになっている。なお、このワークWkの構造は前記した特許文献1(特開2003−100727号公報)に開示されたものと同じであり、その詳細な構造やこれを作成するための装置・方法については同公報に詳しく記載されているので、ここではその詳しい説明を省略する。 A thin film material (for example, SOG; Spin-on-Glass) is applied to the upper surface Fa of the sheet film F, and a substrate W is overlaid thereon with its surface (pattern forming surface) Wf facing downward. Therefore, the back surface Wb of the substrate faces upward in the workpiece Wk. The structure of the workpiece Wk is the same as that disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-100727), and the detailed structure of the work Wk and the apparatus and method for creating the same are disclosed in the same publication. The detailed description is omitted here.
また、ワークWkは、図3(a)および図3(b)に示すように、シートフィルムFが貼付された基板表面Wfを下向きにして、いわゆるフェースダウン状態で剥離装置1に搬入されてくるものとする。
Further, as shown in FIGS. 3A and 3B, the workpiece Wk is carried into the
図4は吸着ステージブロックの構造を示す図である。より詳しくは、図4(a)は吸着ステージブロック100を下方から見た図であり、図4(b)は図4(a)のA−A’線断面図である。吸着ステージブロック100は第1プレート(トッププレート)101、第2プレート102および第3プレート103を重ね合わせた構造を有している。第3プレート103は基板Wとほぼ同じ直径を有する円板状をなしており、その下面は基板Wの上面(裏面Wb)と対向する対向平面130aとなっている。また、第3プレート103の周縁部近傍には、基板吸着制御弁123を介して吸着機構部130と接続されて基板Wを真空吸着するための基板吸着器113が複数設けられている。
FIG. 4 is a view showing the structure of the suction stage block. More specifically, FIG. 4A is a view of the
また、第2プレート102は上部リングRupの外径とほぼ同じ直径を有する円板状をなしており、その周縁部には、リング吸着制御弁121を介して吸着機構部130と接続されて上部リングRupを真空吸着するためのリング吸着器111が複数設けられている。また、リング吸着器111より内側に、シートフィルムFを吸着するためのシート吸着器112a、112bが複数設けられている。また、第1および第2プレート101、102を貫通して後述する突き出しピンを突出させるための突き出しピン用孔114が設けられており、シート吸着器のうち突き出しピン用孔114に隣接する位置に設けた2つの吸着器112aと、それ以外の吸着器112bとは、互いに独立したシート吸着制御弁122a、122bを介して吸着機構部130にそれぞれ接続されている。
The
ここで、シート吸着器112a、112bはリング吸着器111より内側に設けられているが、リング吸着器111と同一の円周上に設けるようにしてもよい。この場合、リング吸着器111の間にシート吸着器が配置され、これと対向する上部リングRupの部位に貫通孔が形成される。そして、シート吸着器は上部リングの貫通孔を通してシートフィルムの上面を吸着する構成とすることができる。 Here, the sheet adsorbers 112 a and 112 b are provided inside the ring adsorber 111, but may be provided on the same circumference as the ring adsorber 111. In this case, a sheet adsorber is disposed between the ring adsorbers 111, and a through hole is formed at a portion of the upper ring Rup facing the sheet adsorber. And a sheet | seat adsorption device can be set as the structure which adsorb | sucks the upper surface of a sheet film through the through-hole of an upper ring.
吸着機構部130および各制御弁121、122a、122bおよび123は制御ユニット70により制御されており、制御ユニット70は基板W、上部リングRupおよびシートフィルムFの吸着・解除をそれぞれ独立に行うことができる。さらにシートフィルムFに関しては、突き出しピン用孔114の近傍とそれ以外の領域とで独立に吸着・解除を行うことができる。
The
図5は図4(a)のB−B’線断面図であり、突き出し機構の動作を説明するための図である。図5(a)に示すように、第1プレート101の上部には突き出し機構140が設けられている。突き出し機構140はシリンダ141とその内部に上下動自在に設けられた突き出しピン142とを備えており、制御ユニット70からの制御指令に応じて突き出しピン142が上下動する。突き出し機構140の直下には第1プレート101および第2プレート102を貫通して突き出しピン用孔114が穿設されているので、突き出し機構140が作動すると突き出しピン142が突き出しピン用孔114を通して下方へ突出する。
FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line B-B ′ of FIG. As shown in FIG. 5A, a protruding
突き出しピン142の位置は、基板Wの中心軸Jからみてその外周部よりも外側かつ上部リングRupの内周部よりも内側に設けられているので、下方へ突出した突き出しピン142は、基板Wよりも外側に延びるシートフィルムFに当接してこれを下方に突き出す機能を有することになる。なお、詳しくは後述するが、この実施形態ではワークWkから下部リングRdwを取り外したものを吸着ステージブロック100に保持させるので、図5(b)に示すように、突き出されたシートフィルムFの周縁部は下向きに垂れ下がることとなる。
The position of the protruding
図6は巻き取りブロックの構成を示す斜視図である。巻き取りブロック200では、ベースフレーム211と、2つのサイドフレーム212および213とにより構成される略U字型のフレーム210に、巻き取りローラ220およびガイドローラ214が回転自在に軸着されている。ベースフレーム211には、ガイドレールブロック300に設けられたガイドレール303と摺動自在に嵌合するスライダ215が設けられて、巻き取りブロック200の移動方向がX方向に規制されている。また、ガイドレールブロック300に設けられたボールねじ302と嵌合するボールねじ用ナット216が設けられており、ボールねじ302とボールねじ用ナット216からなるボールねじ機構により、巻き取りブロック200全体がX方向に往復移動する。
FIG. 6 is a perspective view showing the configuration of the winding block. In the winding
巻き取りローラ220は略円柱状の包絡外形を有するが、その軸方向の中央部には周面の約1/4に相当する部分が取り除かれた切り欠き部221が設けられている。この切り欠き部221には、下向きに垂れ下がったシートフィルムFの周縁部を把持するためのシートクランプ223、225と、制御ユニット70により制御されてこれらをそれぞれ開閉させるためのモータ222、224とが設けられている。
The take-up
次に、上記のように構成された剥離装置の動作について説明する。この剥離装置1の動作は、(1)ワークを搬入する(搬入動作)、(2)基板からシートフィルムを剥離する(剥離動作)、(3)剥離したシートフィルムを回収する(回収動作)、(4)基板およびリングを搬出する(搬出動作)、という一連の動作を繰り返すことによって、多数のワークを連続的に処理するように構成されている。以下では、1つのワークWkに対する処理の流れについて、図7ないし図15を参照しながら説明する。
Next, the operation of the peeling apparatus configured as described above will be described. The operation of the
図7はこの剥離装置の動作の概略を示すフローチャートである。また、図8および図9はワークの搬入動作を説明するための模式図である。また、図10および図11は剥離動作を説明するための模式図である。また、図12ないし図15は回収動作を説明するための模式図である。 FIG. 7 is a flowchart showing an outline of the operation of the peeling apparatus. 8 and 9 are schematic diagrams for explaining the work loading operation. 10 and 11 are schematic views for explaining the peeling operation. 12 to 15 are schematic diagrams for explaining the collection operation.
まず最初に、ワークWkを搬入する搬入動作(ステップS101ないしS104)が行われる。すなわち、図8に示すように、ハウジング昇降機構540を作動させて、搬送ブロック500を収めたハウジング501を下方に移動させ、これによってできたスペース(右方)に巻き取りブロック200を退避させる(ステップS101)。また、ステージ昇降機構430を作動させて仮置きステージ410を下降させ、吸着ステージブロック100との間隔を広くする。この状態で、図示しない外部の搬送機構により図8および図9(a)の矢印方向に沿って搬入されてくるワークWkを受け入れる。搬入されたワークWkは仮置きステージ410に載置される(ステップS102)。ワークWkは仮置きステージ410の上面に設置されたリング支持ピン411によって下部リングRdwの下方から支持される(図9(a))。
First, a loading operation (steps S101 to S104) for loading the workpiece Wk is performed. That is, as shown in FIG. 8, the
このとき、外部からのワーク搬入は単なる水平移動と上下移動との組み合わせによって行うことができるので、従来から公知の搬送機構を用いることができる。また、ガイドレールブロック300は上から見ると図8の左方側が開口する略コの字型をしており、巻き取りブロック200は右端位置に退避しているので、いずれも左側からのワーク搬入の妨げとなることはない。
At this time, since the work can be carried in from the outside by a combination of simple horizontal movement and vertical movement, a conventionally known conveyance mechanism can be used. Further, the
こうして仮置きステージ410にワークWkが載置されると、ステージ昇降機構430により仮置きステージ410を吸着ステージブロック100に向けて上昇させる。そして、仮置きステージ410上のワークWkが吸着ステージブロック100の直下まで来ると、吸着機構部130によりワークWkを吸着保持する(ステップS103)。このとき、リング吸着器111はワークWkのうち上部リングRupを吸着する。また、シート吸着器112a、112bはシートフィルムFを吸着する。また、基板吸着器113は基板Wの裏面Wbを吸着する(図9(b))。
When the workpiece Wk is placed on the
次に、ワークWkから下部リングRdwのみを取り外す。この実施形態では、下部リングRdwを支持する仮置きステージ410を基板Wの回転軸J周りに回転させることにより上部リングRupとの磁気的な結合を切り離し、下部リングRdwを載せたまま仮置きステージ410を下降させることにより、下部リングRdwを下方へ退避させる(ステップS104、図9(c))。このときリング支持ピン411の先端突起部と下部リングRdwの凹部との嵌合が下部リングRdwの回り止めとして機能する。取り外した下部リングRdwについては仮置きステージ410と共に下方に退避させた状態としておくが、この時点で外部へ搬出してもよい。
Next, only the lower ring Rdw is removed from the work Wk. In this embodiment, the
次いで剥離動作を行う。この時点では、図10(a)に示すように、吸着ステージブロック100の下部に上部リングRup、基板WおよびシートフィルムFが一体的に吸着保持される一方、巻き取りブロック200が右方に退避した状態となっている。そこで、図10(b)に示すように巻き取りブロック200を左端に移動させるとともに、下方に退避させていた搬送ブロック500を元の位置に戻しておく(ステップS105)。また、モータ222、224を作動させてシートクランプ223、225を開く。
Next, a peeling operation is performed. At this time, as shown in FIG. 10A, the upper ring Rup, the substrate W and the sheet film F are integrally held by suction at the lower part of the
この状態で、シート吸着器112aによる吸着のみを解除する(ステップS106)。これにより、シートフィルムFのうち突き出しピン用孔114に隣接する領域のみが吸着されない一方、その他の領域は吸着された状態となる。ここで突き出し機構140を作動させ突き出しピン142を下方に突き出すと(ステップS107)、シートフィルムFの周縁の一部が下方に垂れ下がる。図10(c)に示すように、突き出し機構140は左端に位置決めされた巻き取りブロック200の真上に設けられて、垂れ下がったシートフィルムFの端部Fsが巻き取りローラ220にかかる位置関係となっている。ここでモータ222、224を作動させてシートクランプ223、225を閉じると(ステップS107)、図10(d)に示すように、垂れ下がったシートフィルムFの端部Fsがシートクランプ223、225によりクランプされ巻き取りローラ220に固定される。シートフィルムFの端部Fsがクランプされても残りのシート吸着器112bによる吸着については解除しない。
In this state, only the adsorption by the sheet adsorber 112a is canceled (step S106). Thereby, only the area | region adjacent to the protrusion pin hole 114 among the sheet | seat films F is not adsorb | sucked, but another area | region will be in the adsorbed state. Here, when the
このように、この実施形態では、重力によって垂れ下がるシートフィルムFの端部をクランプし、これを巻き取るようにしている。従来技術のように基板が下側、シートフィルムが上側になるよう設置してシートフィルムを上向きに引き剥がそうとすると、柔軟なシートフィルムの端部をクランプするための構成が複雑となり得るが、本実施形態のようにシートフィルムを下側に配置して下向きに引き剥がす構成とすれば、シートフィルムFの端部は重力によって垂れ下がるのでクランプしやすくなる。さらにこの実施形態では、基板Wの外周部よりも外側に延びたシートフィルムFのうち、突き出しピン142により突き出される領域の近傍のみを吸着解除する一方、その他の領域を吸着しておく。これにより、シートフィルムFの垂れ下がり箇所やその形状を制御することができ、シートクランプ223、225によるクランプを容易にしかも確実に行うことができる。
Thus, in this embodiment, the end portion of the sheet film F that hangs down due to gravity is clamped and wound up. As in the prior art, if the substrate is placed on the lower side and the sheet film is placed on the upper side and the sheet film is peeled upward, the configuration for clamping the end of the flexible sheet film may be complicated, If it is set as the structure which arrange | positions a sheet film downward and peels it down like this embodiment, since the edge part of the sheet film F will hang down with gravity, it will become easy to clamp. Further, in this embodiment, in the sheet film F extending outward from the outer peripheral portion of the substrate W, only the vicinity of the area protruding by the protruding
続いて、巻き取りローラ220を図11(a)の矢印D1方向に回転させながら基板Wの下方をX方向に移動させると(ステップS108)、シートフィルムFはクランプされた端部Fs側から順に基板Wから引き剥がされ巻き取りローラ220に巻き取られてゆく(図11(b))。このとき、巻き取りローラ220の位置にかかわりなく基板WからのシートフィルムFの引っ張り方向はガイドローラ214により一定に制御されており、基板表面Wfに均一な薄膜を残すことができる。
Subsequently, when the take-up
このときシート吸着器112bによる吸着は解除されていないため、巻き取りローラ220が吸着を強制的に解除しながら基板WからシートフィルムFを引き剥がすこととなる。そして、巻き取りブロック200が後述する終了位置(図11(c)の位置)に達するとシート吸着器112bによる吸引が解除される。こうすることで剥離動作中にシートフィルムFが垂れ下がることを防止する。なお、この際、シートフィルムFが引き剥がされることに起因する部分的な真空破壊が全体に広がらないようにするために、各シート吸着器112bには図示しないニードル弁が設けられている。
At this time, since the suction by the sheet suction unit 112b is not released, the take-up
巻き取りブロック200が基板の下部を通過し所定の終了位置(図1、図11(c)に示す位置)まで到達すると(ステップS110)、図11(c)に示すように、シートフィルムFは基板Wから完全に剥離され巻き取りローラ220に巻き取られた状態となる。
When the winding
なお、巻き取りブロック200が移動する間の巻き取りローラ220の回転量は約3/4回転(270度)である。このように、シートフィルムFを巻き取る際の巻き取りローラ220の回転量を1回転未満とすることにより、シートフィルムFの巻き取り開始位置(端部Fs)が巻回されたシートフィルムによって覆われることがない。このため、次に説明する回収動作において巻き取りローラ220からシートフィルムFを引き剥がす際、その巻き取り開始位置(端部Fs)から引き剥がすことができる。このことは、巻き取りローラ220からシートフィルムFを確実に除去するという目的の達成のために大きな意味を持っている。
The rotation amount of the winding
こうして基板WとシートフィルムFが分離されると、回収動作によってシートフィルムFが回収ボックス600に回収される一方、搬出動作によって基板Wが外部に搬出される。
When the substrate W and the sheet film F are thus separated, the sheet film F is collected in the
まず、剥離されたシートフィルムFを回収するための回収動作(ステップS121ないしS124)について説明する。剥離動作の終了後には、図12(a)に示すように、巻き取りローラ220にシートフィルムFが巻き取られた状態で巻き取りブロック200が搬送ブロック500のすぐ左隣の終了位置に位置している。このとき、巻き取りローラ220上におけるシートフィルムFの巻き始め位置が搬送ブロック500側(同図において右側)に向くようにしておく。
First, the collecting operation (steps S121 to S124) for collecting the peeled sheet film F will be described. After the end of the peeling operation, as shown in FIG. 12A, the winding
搬送ブロック500に設けられたシート剥がし機構510は、その本体511に対しX方向に摺動自在に装着されたシート剥がし爪512を備えている。巻き取りローラ220上のシートクランプ223、225がクランプを解除するのとほぼ同時にシート剥がし爪512が巻き取りローラ220方向に伸びて、シートフィルムFの端部を引っ掛ける。そのままシート剥がし爪512が後退し(図12(b))、元の位置に戻ってくると(図12(c))、シート剥がし機構510はシートフィルムFの端部Fsを保持することとなる(ステップS121)。
The
図13(a)に示すように、シート剥がし爪512は、弾性を有する金属板または樹脂板により形成された先端部材512bを本体512aの先端部から下向きに突出させて装着した構造となっている。そのため、シート剥がし爪512が巻き取りローラ220に向かって進行するときには、図13(b)に示すように、その進行方向とは逆方向に、先端部材512bが巻き取りローラ220の切り欠き部221の平坦面に沿って弾性的に変形する。そして、シート剥がし爪512が巻き取りローラ220から離間方向に後退するときには、図13(c)に示すように、こうして弾性変形した先端部材512bがシートフィルムFの先端部Fsをすくい上げるように作用するため、シートフィルムFの端部を確実に引っ掛けて保持することができる。
As shown in FIG. 13A, the
また、前記したように、こうしてシート剥がし爪512により引き出されるシートフィルムFの端部は、巻き取りローラ220により最初に巻き取られる巻き始めの端部Fsである。基板Wから薄いシート状のシートフィルムFを剥離し巻き取ったとき、その終端部が反り返ったり湾曲したり、甚だしい場合には筒状に丸まってしまうことがあり、このように様々な形状を取り得る終端部を把持することは極めて困難である。これに対し、巻き始めの端部Fsにおいてはシートクランプ223、225によって巻き取りローラ220の切り欠き部221に押し付けられた状態となっているためこのような問題が少ない。このように、シートフィルムFのうち、巻き取りローラ220による巻き取り始め側の端部Fsをシート剥がし爪512により引き出すことにより、この実施形態では、巻き取りローラ220からシート剥がし機構510へのシートフィルムFの受け渡しをスムーズにかつ確実に行うことができる。
In addition, as described above, the end portion of the sheet film F drawn out by the
シートフィルムFの端部がシート剥がし機構510に把持されると、図14(a)に示すように、上側搬送ローラ機構520のうち巻き取りブロック200に近い側に設けられたガイドローラ521を従動ローラ522とともにガイド開閉機構522により上昇させる。これにより、上側搬送機構520と下側搬送機構530とにより挟まれた搬送経路Pが巻き取りローラ220側に向けて大きく開口する。シート剥がし機構510によるシートフィルムFの把持よりも先に開口させておいてもよい。
When the end portion of the sheet film F is gripped by the
シート剥がし機構510は、その本体511を図14(a)の矢印D2方向に沿って斜め下方に移動させる斜行機構513を備えており、該斜行機構513の作動によりシート剥がし機構本体510およびシート剥がし爪512はシートフィルムFの端部Fsを把持したまま矢印D2方向に下降移動する(ステップS122)。これにより、図14(b)に示すように、巻き取りローラ220に巻き取られていたシートフィルムが引っ張られて次第に剥がされてゆく。
The
図14(c)に示すように、シート剥がし機構510が最下端にまで移動してくると、ガイド開閉機構523によりシートガイド521が下降され搬送経路が閉じられる。このため、シート剥がし機構510とともに下降してきたシートフィルムFの端部Fsが上下ローラ522、531によりクランプされる(ステップS123、図15(a))。この状態でシート剥がし爪512によるシートフィルムの保持を解除し、搬送ローラ531を図15(a)の矢印D3方向に回転駆動することにより、シートフィルムFはさらに巻き取りローラ220から引き剥がされて、搬送経路Pに沿って矢印D4方向に搬送されてゆく(図15(b))。搬送されたシートフィルムについては、最終的に回収ボックス600に回収する(ステップS124、図15(c))。
As shown in FIG. 14C, when the
次に、基板Wの搬出動作について説明する。基板Wの搬出に先立って、仮置きステージ410の昇降動作や外部の搬送機構の動作と干渉しないようにするためのスペースを創出する。すなわち、ワーク搬入時と同様に、搬送ブロック500を収めたハウジング501を下方へ退避させるとともに、これによって生じたスペース(右方)に巻き取りブロック200を退避させる(ステップS125)。
Next, the carrying-out operation of the substrate W will be described. Prior to unloading the substrate W, a space is created so as not to interfere with the raising / lowering operation of the
剥離動作が完了した時点では、シートフィルムが剥離された後の基板Wと上部リングRupとは互いに切り離されてそれぞれが個別に吸着ステージブロック100に吸着された状態となっている。そこで、これらを受け取るべく仮置きステージ410を上昇させる(ステップS126)。具体的には、仮置きステージ410上に退避されていた下部リングRdwが上部リングRupに近接し永久磁石により両者が結合すると、リング吸着器111による吸着を解除する。これにより、上部リングRupと下部リングRdwとが結合してなるリング体が仮置きステージ410のリング支持ピン411により支持された状態となる。また、基板吸着器113による吸着を解除することにより、基板Wが仮置きステージ410の基板支持ピン412により支持された状態となる。この状態で仮置きステージ410を下降させ、基板W、リング体をそれぞれ個別に外部に搬出することができる(ステップS127)。
When the peeling operation is completed, the substrate W and the upper ring Rup after the sheet film is peeled are separated from each other and are individually sucked by the
なお、ここでは仮置きステージ410に基板Wとリング体とを載せてこれらを同時に下降させるようにしているが、基板Wとリング体とをそれぞれ別のタイミングで吸着ステージブロック100から取り外し搬出するようにしてもよい。基板吸着器113とリング吸着器111とを個別に制御することにより、いずれにも対応することができる。
Here, the substrate W and the ring body are placed on the
これにより、1つのワークWkについて、基板WからのシートフィルムFの剥離および回収が完了する。上記一連の動作をワークごとに繰り返すことで多数のワークについての処理を連続的に行うことができる。なお、上記実施形態では剥離されたシートフィルムFを回収ボックス600に回収した後で基板W等の搬出を行っている。しかしながら、シートフィルムFが剥がされた後の巻き取りブロック200は初期状態に戻り回収ユニット50の動作とは切り離されるため、各部の動作が干渉しない範囲で、回収ユニット50によるシートフィルムの回収と、剥離ユニット10による基板W等の搬出や次のワークに対する処理とを併行して行うようにしてもよい。こうすることで複数のワークに対する処理をさらに効率よく行って、処理のスループットを向上させることが可能となる。
Thereby, peeling and collection | recovery of the sheet film F from the board | substrate W are completed about one workpiece | work Wk. By repeating the above series of operations for each workpiece, it is possible to continuously perform processing for a large number of workpieces. In the above embodiment, after the peeled sheet film F is collected in the
こうして回収ボックス600に回収・貯留されたシートフィルムについては、オペレータが必要なタイミングで扉601から取り出し、再利用または廃棄することができる。
The sheet film thus collected and stored in the
以上のように、この実施形態では、シートフィルムFを貼付された基板Wを、該貼付面Wfを下向きにした状態で受け入れ、これを上方から吸着保持してシートフィルムFを下方から剥離している。すなわち、この実施形態では、シートフィルム貼付面を下向きにした状態で搬送されてくる基板Wを反転させることなく、シートフィルムの剥離を行う。このため、反転のための構成および工程が不要となり、簡単な装置構成で、しかも高いスループットで基板からのシートフィルムの剥離作業を行うことができる。 As described above, in this embodiment, the substrate W on which the sheet film F is pasted is received in a state in which the pasting surface Wf faces downward, and this is sucked and held from above, and the sheet film F is peeled off from below. Yes. That is, in this embodiment, the sheet film is peeled without inverting the substrate W conveyed with the sheet film application surface facing downward. For this reason, the structure and process for inversion become unnecessary, and the peeling operation | work of the sheet film from a board | substrate can be performed by a simple apparatus structure with high throughput.
また、シートフィルムFが基板の下面に貼付された状態から下向きに剥離を行うため、シートフィルムの端部を重力により垂れ下がらせて容易にかつ確実に巻き取ることができる。 Further, since the sheet film F is peeled downward from the state where the sheet film F is attached to the lower surface of the substrate, the end portion of the sheet film can be hung down by gravity and easily and reliably wound.
また、搬送されてくる基板Wをいったん仮置きステージ410に載置し、仮置きステージ410を上昇させて吸着ステージブロック100に受け渡す構成としているので、外部からの基板の搬入については公知の搬送機構を用いることができる。また、基板の搬出に関しても、仮置きステージ410に載置された処理済みの基板を公知の搬送機構により搬出することができる。
In addition, since the substrate W to be transported is temporarily placed on the
また、基板Wから剥離されたシートフィルムFについては、巻き取りローラ220から引き剥がして後方に搬送し回収する回収ユニット50を設けているので、シートフィルムの剥離から回収に至る一連の処理を連続的に行うことができる。また、シートフィルムFは回収ボックス600に回収・貯留されるので、1つのワークに対する処理の終了後シートフィルムの取り出しのために作業を中断することなく、続けて次のワークに対する処理を開始することができる。このため、複数のワークを連続的に高いスループットで処理することが可能である。
In addition, the sheet film F peeled off from the substrate W is provided with a
また、この実施形態の剥離装置と、シートフィルムを貼付した基板をフェースダウン状態で出力する貼付装置や薄膜形成装置とを組み合わせることにより、シートフィルムの貼付から剥離までを反転工程を介在させずに連続的に行う処理システムを構築することができ、システムの生産性を大きく向上させることができる。 In addition, by combining the peeling device of this embodiment with a sticking device or a thin film forming device that outputs the substrate to which the sheet film is stuck in a face-down state, the reversal process is not involved from the sticking to peeling of the sheet film. A continuous processing system can be constructed, and the productivity of the system can be greatly improved.
以上説明したように、この実施形態では、巻き取りローラ220を備える巻き取りブロック200が本発明の「巻き取り手段」として機能している。また、シート剥がし機構510が本発明の「基材取り出し手段」として機能しており、特にシート剥がし爪512が本発明の「基材把持部」として機能している。また、上側搬送機構520および下側搬送機構530が本発明の「搬送手段」として機能しており、搬送ローラ531および従動ローラ522が本発明の「ローラ対」を構成している。また、搬送ローラ531と従動ローラ522とのニップ部を開閉するガイド開閉機構523が本発明の「開閉機構」として機能している。また、この実施形態では、回収ボックス600が本発明の「収容部」として機能している。さらに、この実施形態では、シートフィルムFが本発明の「基材」に相当している。
As described above, in this embodiment, the winding
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば上記実施形態の剥離装置は、基板Wに貼付したシートフィルムFを上部および下部リングで挟持した状態で受け入れるものであるが、本発明はこのようにリングを付したもののみに限定されず、基板とシートフィルムのみからなるワークを処理対象とする剥離装置にも適用可能である。この場合においても、リングの着脱を省くことにより上記実施形態と同様にして基板からのシートフィルムの剥離・回収処理を行うことができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the peeling device of the above embodiment is to accept the sheet film F attached to the substrate W in a state of being sandwiched between the upper and lower rings, but the present invention is not limited only to those with the ring attached in this way, The present invention can also be applied to a peeling apparatus for processing a workpiece consisting only of a substrate and a sheet film. Also in this case, the sheet film can be peeled and collected from the substrate in the same manner as in the above embodiment by omitting the attachment / detachment of the ring.
また、上記実施形態の剥離装置は、円板状の基板Wに同じく円板状のシートフィルムFを貼り付けたものをワークとしているが、これに限定されない。例えば、いずれも四角形のものや、円板状の基板に四角形等のシートフィルムを貼り付けたものをワークとする装置に対しても本発明を適用可能である。ただし、円形のシートフィルムを用いる場合には、シートフィルムの周縁部が曲線状であり端部を確実に把持することが容易でないため、特に本実施形態の構成とすることが有効である。 Moreover, although the peeling apparatus of the said embodiment makes the workpiece | work which stuck the disk-shaped sheet film F on the disk-shaped board | substrate W similarly, it is not limited to this. For example, the present invention can also be applied to an apparatus that uses a workpiece that has a rectangular shape or a sheet film having a rectangular shape attached to a disk-shaped substrate. However, when a circular sheet film is used, the configuration of the present embodiment is particularly effective because the peripheral edge of the sheet film is curved and it is not easy to securely grip the end.
また、本実施形態におけるワークWkでは基板Wの周囲全体にシートフィルムが延出した状態となっているが、シートフィルムの延出は必ずしも基板の周囲全体である必要はない。 Moreover, in the workpiece | work Wk in this embodiment, it is in the state which the sheet film extended to the whole circumference | surroundings of the board | substrate W, However, The extension of a sheet film does not necessarily need to be the whole circumference | surroundings of a board | substrate.
また、上記実施形態では、ワークの保持を真空吸着によって行っているが、特に基板Wを上方から保持することのできるものであれば、他の方法によってもよい。また、例えば基板Wの保持を真空吸着により行う一方、上部リングRupの保持を磁力によって行うようにしてもよい。 Moreover, in the said embodiment, although holding | maintenance of the workpiece | work is performed by vacuum suction, if the board | substrate W can be hold | maintained from upper direction, you may use another method. Further, for example, the upper ring Rup may be held by magnetic force while the substrate W is held by vacuum suction.
また、上記実施形態では突き出しピン142によってシートフィルムを下向きに突き出す構成としているが、例えばガス圧によってシートフィルムを突き出すように構成してもよい。
Moreover, in the said embodiment, it is set as the structure which protrudes a sheet film downward by the
また、上記実施形態では、ワークから取り外した下部リングRdwを仮置きステージ410に載置したまま下方に退避させておき、剥離動作の終了後に再び上部リングRupと結合させてから搬出するようにしているが、ワークから取り外した直後に外部へ搬出してもよい。この場合には、剥離動作の終了後再び下部リングRdwを戻し入れて上部リングRupとともに搬出するか、上部リングRupのみを単体で搬出するようにすればよい。
Further, in the above embodiment, the lower ring Rdw removed from the work is retracted downward while being placed on the
また、上記実施形態の回収ユニット50は、搬送ローラ531の回転によりシートフィルムを搬送するものであるが、これ以外に、例えばベルトを回転させたりローラに巻きつけることによってシートフィルムを搬送するようにしてもよい。
Further, the
また、上記実施形態における剥離ユニット10と回収ユニット50とは、これらを組み合わせることは必須でなくそれぞれ単独で使用可能なものである。したがって、各ユニットを別の処理ユニットと組み合わせて使用してもよい。特に、剥離ユニット10については、基板にシートフィルムを貼付する処理ユニットと組み合わせることにより効率的な処理が可能な処理システムを構築することが可能となる。また、回収ユニット50については、例えば特許文献2に記載されているようなフェースアップ状態で基板からシートフィルムを剥離する装置と組み合わせて使用することも可能である。
Moreover, it is not essential to combine the peeling
この発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示用ガラス基板、プラズマ表示用ガラス基板、FED(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板などを含む基板全般を処理対象とし、これらの基板に貼付されたシート状基材を剥離する剥離装置に適用することができる。また、特にシート状基材を表面に貼付した基板をフェースダウン状態で出力する処理ユニットと組み合わせれば、装置構成が簡単でスループットの高い処理システムを構築することができる。 The present invention relates to a semiconductor wafer, a glass substrate for photomask, a glass substrate for liquid crystal display, a glass substrate for plasma display, a substrate for FED (Field Emission Display), a substrate for optical disk, a substrate for magnetic disk, a substrate for magneto-optical disk, etc. The present invention can be applied to a peeling apparatus that peels off a sheet-like base material that is a target of processing for all substrates including the substrate. In particular, when a substrate with a sheet-like base material attached to the surface thereof is combined with a processing unit that outputs in a face-down state, a processing system with a simple apparatus configuration and high throughput can be constructed.
200…巻き取りブロック(巻き取り手段)
220…巻き取りローラ
510…シート剥がし機構(基材取り出し手段)
512…シート剥がし爪(基材把持部)
520…上側搬送機構(搬送手段)
522…従動ローラ(ローラ対を構成するローラ)
523…ガイド開閉機構(開閉機構)
530…下側搬送機構(搬送手段)
531…搬送ローラ(ローラ対を構成するローラ)
600…回収ボックス(収容部)
F…シートフィルム(基材)
W…基板
Wf…基板表面
Wk…ワーク
200: Winding block (winding means)
220 ... take-up
512 ... Sheet peeling nail (base material gripping part)
520 ... Upper transport mechanism (transport means)
522 .. Followed roller (roller constituting roller pair)
523 ... Guide opening / closing mechanism (opening / closing mechanism)
530 ... Lower transport mechanism (transport means)
531: Conveying roller (roller constituting a roller pair)
600 ... Collection box (container)
F ... Sheet film (base material)
W ... Substrate Wf ... Substrate surface Wk ... Workpiece
Claims (8)
前記基材を巻き取った前記巻き取り手段の近傍に配置されて、前記巻き取り手段に巻き取られた前記基材の端部を取り出す基材取り出し手段と、
前記基材取り出し手段により取り出された前記基材を受け取り、所定の搬送経路に沿って前記巻き取り手段から離間位置に搬送する搬送手段と
を備えることを特徴とする剥離装置。 On the other hand, a winding means for winding the base material peeled from the substrate having a sheet-like base material attached to the main surface;
A base material take-out means that is disposed in the vicinity of the take-up means that has wound up the base material and takes out an end of the base material wound up by the take-up means;
A peeling apparatus comprising: a transport unit that receives the base material taken out by the base material take-out unit and transports the base material from the winding unit to a separation position along a predetermined transport path.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008084031A JP2009239072A (en) | 2008-03-27 | 2008-03-27 | Peeling device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008084031A JP2009239072A (en) | 2008-03-27 | 2008-03-27 | Peeling device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009239072A true JP2009239072A (en) | 2009-10-15 |
Family
ID=41252657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008084031A Withdrawn JP2009239072A (en) | 2008-03-27 | 2008-03-27 | Peeling device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009239072A (en) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20110607 |