JP2009237092A - Phase retarder and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phase retarder superior in slidability, blocking preventability and foreign matter mixture avoidance. <P>SOLUTION: In the phase retarder, an optical anisotropic layer contains fine particles as a blocking-preventing agent. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、製造工程において、滑り性、ブロッキング防止性、異物混入回避性に優れた、位相差体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a phase difference body excellent in slipperiness, antiblocking property, and foreign matter avoidance in a production process, and a method for producing the same.

液晶表示装置は、その基本構成として、液晶セル、偏光素子および位相差体(光学補償シート)を備えてなる。位相差体は、ディスプレイに表示される画像の着色を防止し、また、ディスプレイに表示される画像の視野角を広げるために、使用されるものである(特許文献1:特開2007−304375)。位相差体は、一般に、光透過性基材に、光学異方性層、配向層等の任意の機能層を形成させることにより製造される。位相差体の製造にあっては、生産効率及び運搬性、ディスプレイ生産高率の向上等の観点から、比較的幅広(1m乃至2m)で、かつ、薄膜な板状体のものを形成し、ロール状に巻き取ることが一般的である。   The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell, a polarizing element, and a phase difference body (optical compensation sheet) as its basic configuration. The phase difference body is used to prevent coloring of the image displayed on the display and to widen the viewing angle of the image displayed on the display (Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-304375). . The phase difference body is generally produced by forming an arbitrary functional layer such as an optically anisotropic layer or an alignment layer on a light-transmitting substrate. In the production of the phase difference body, from the viewpoint of improving production efficiency and transportability, display production rate, etc., a relatively wide (1 m to 2 m) and thin plate-like body is formed, It is common to wind in a roll.

しかし、ディスプレイの大画面化に伴う幅広化、ディスプレイの薄型に伴う薄膜化等に対応した位相差体を製造する場合に、その製造工程中において、或いは製造後に位相差体をロール状に巻き取る際に、ブロッキング又はロール状体の円周上に黒い帯状に見えるブラックバンドが生じることがあり、歩留まり低下の原因となることがあった。また、ブロッキング現象により、巻き取り形状に異常が生じ、ロール状の位相差体自体が変形を生ずることがあった。この為、ロール状態から切り出した位相差体自体が使用できないものであるか、または、ディスプレイへの実装が困難となることがあった。   However, when manufacturing a phase difference body corresponding to the widening of the display with an increase in screen size, the thinning of the display with a thin film, etc., the phase difference body is wound into a roll during or after the manufacturing process. In some cases, a black band appearing as a black band on the circumference of the blocking or roll-shaped body may be generated, which may cause a decrease in yield. Further, due to the blocking phenomenon, an abnormality occurs in the winding shape, and the roll-like phase difference body itself may be deformed. For this reason, the phase difference body itself cut out from the roll state cannot be used, or mounting on a display may be difficult.

従って、位相差体の製造において、特に、巻き取り工程において、ブロッキング及びブラックバンドの発生を防止することが急務となっている。   Therefore, it is an urgent task to prevent the occurrence of blocking and black bands in the production of the phase difference body, particularly in the winding process.

特開2007−304375JP2007-304375A

本発明者は、本発明時において、位相差体を構成する光学異方性層の表面を凹凸形状とすることにより、位相差体の巻き取り工程において、ブロッキング及びブラックバンドの発生を有効に防止すると共に、特定の微粒子を添加することでその着脱により液晶装置内の光学機能層に異物が混入することを有効に回避することができることを見出した。本発明は係る知見に基づいてなされたものである。
従って、本発明は、光透過性基材と、光学異方性層とを備えてなる位相差体であって、
前記光学異方性層が、ブッロキング防止剤として微粒子を含有してなり、
前記光学異方性層の表面が凹凸形状を有して成るものである。
The present inventor effectively prevents the generation of blocking and black bands in the winding process of the phase difference body by making the surface of the optically anisotropic layer constituting the phase difference body uneven in the present invention. In addition, it has been found that the addition of specific fine particles can effectively prevent foreign matters from being mixed into the optical functional layer in the liquid crystal device due to the attachment / detachment thereof. The present invention has been made based on such knowledge.
Therefore, the present invention is a phase difference body comprising a light-transmitting substrate and an optically anisotropic layer,
The optically anisotropic layer contains fine particles as a blocking inhibitor,
The surface of the optically anisotropic layer has an uneven shape.

また、本発明は、光透過性基材と、光学異方性層とを備えてなる位相差体の製造方法を提案することができ、その製造方法は、
前記光透過性基材と、ブッロキング防止剤としての微粒子を含んでなる光学異方性層形成用組成物とを用意し、
前記光透過性基材に、前記光学異方性層形成用組成物を付与し、凹凸形状の表面を有した光学異方性層を形成することを含んでなるものである。
In addition, the present invention can propose a method for producing a phase difference body comprising a light-transmitting substrate and an optically anisotropic layer,
Preparing the light-transmitting substrate and an optically anisotropic layer-forming composition comprising fine particles as a blocking inhibitor,
Applying the optically anisotropic layer forming composition to the light transmissive substrate to form an optically anisotropic layer having an uneven surface.

本発明による位相差体及びその製造方法によれば、位相差体の製造工程において、滑り性を向上させると伴に、位相差体の巻き取り時におけるブロッキング及びブラックバンドの発生を有効に抑制することができ、また、異物の混入を回避し、優れた液晶構造を構成することができる。   According to the phase difference body and the method for manufacturing the same according to the present invention, in the manufacturing process of the phase difference body, the slipping property is improved, and at the same time, blocking and black band generation during winding of the phase difference body are effectively suppressed. In addition, it is possible to avoid mixing of foreign matters and to form an excellent liquid crystal structure.

I.定義
黒輝度
液晶パネルは原理的に黒を表示しても光が漏れるため、どれだけ引き締まった黒が表示されるか指標となるのが「黒輝度」と呼ばれるパラメータであり、一般的に言われる黒輝度とはパネル黒表示時に測定される輝度値(cd/m2)で表される。本発明にあっては、「黒輝度」とは、予め受光部側に偏光板(日東電工(株)製、商品名:G1220DUN)を設置した可視光分光器(日本分光(株)製、商品名:JASCO V−7100)を用いて、位相差体を測定したときに表示されたY値を示す。本発明にあっては、黒輝度(Y)値は使用目的において適宜定めることが出来るが、0.02以下であり、好ましくは0.015以下である。Y値が上記の数値内にあることにより、偏光板化された場合、表示パネルのコントラストが優れたものとなる。
I. Definition
Since the black luminance liquid crystal panel in principle displays light even when black is displayed, the parameter called “black luminance” is an indicator of how much black is displayed. The luminance is represented by a luminance value (cd / m2) measured when the panel is displayed black. In the present invention, “black luminance” means a visible light spectrometer (manufactured by JASCO Corporation, manufactured by Nitto Denko Co., Ltd., trade name: G1220DUN) in advance on the light receiving part side. Name: JSCO V-7100) is used to indicate the Y value displayed when measuring the phase difference body. In the present invention, the black luminance (Y) value can be appropriately determined for the purpose of use, but is 0.02 or less, preferably 0.015 or less. When the Y value is within the above numerical values, the contrast of the display panel is excellent when the polarizing plate is formed.

凹凸の平均間隔Sm(μm)および平均傾斜角θa(度)および平均粗さRa(μm)
本発明による位相差体を構成する光学異方性層は凹凸形状を有する。Sm(μm)とは、この光学異方性層の凹凸の平均間隔を表し、θa(度)は凹凸部の平均傾斜角を表す。これらは、JIS B0601 1994に準拠し、表面粗さ測定器(型番:SE−3400/社小坂研究所製)の取り扱い説明書(1995,07,20改訂)に記載の内容と同様に定義することができる。θa(度)は角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔaである場合、Δa=tanθaが成立する(各凹凸の極小部と極大部の差(各凸部の高さに相当)の総和/基準長さ)で求められる。ここで、「基準長さ」とは、下記の測定条件と同じで、SE-3400で実際に蝕針測定する測定長さ(カットオフ値λc)である。
Average spacing Sm (μm), average inclination angle θa (degrees), and average roughness Ra (μm)
The optically anisotropic layer constituting the phase difference body according to the present invention has an uneven shape. Sm (μm) represents the average interval between the irregularities of the optically anisotropic layer, and θa (degree) represents the average inclination angle of the irregularities. These shall be defined in accordance with JIS B0601 1994 in the same way as the contents described in the instruction manual (1995, 07, 20 revision) of the surface roughness measuring instrument (model number: SE-3400 / manufactured by Kosaka Laboratory). Can do. θa (degrees) is a unit of angle, and Δa = tanθa is established when the inclination is expressed by an aspect ratio (Δa = tan θa) (the difference between the minimum and maximum portions of each unevenness (corresponding to the height of each convex portion) ) (Total / reference length). Here, the “reference length” is the same as the following measurement conditions, and is the measurement length (cut-off value λc) that is actually measured by the SE-3400.

測 定
本発明による光学積層体の表面粗さを表すパラメーター(Sm、θa、Ra)を測定する場合、例えば、上記表面粗さ測定器を用いて、表面粗さ測定器の測定条件 JIS B0601 1994に準拠し、基準長さ、評価長さを選択して測定を行うことができ、この測定は本発明にあっては好ましいものである。
1)表面粗さ検出部の触針:
型番/SE2555N(2μ標準)(株)小坂研究所製
(先端曲率半径2μm/頂角:90度/材質:ダイヤモンド)
2)表面粗さ測定器の測定条件:
基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):
1]0.25、または2]0.8、または3]1.25、または4]2.5mm
評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):
1]1.25、または2]4.0、または3]6.25、または4]12.5mm
触針の送り速さ:0.1〜0.5mm/s
(基準長さ、1]〜4]のとき、評価長さは対応して1]〜4]となる)
When measuring the parameters (Sm, θa, Ra) representing the surface roughness of the optical stack according to measurements present invention, for example, using the surface roughness measuring instrument, the measurement conditions of a surface roughness measuring instrument JIS B0601 1994 The measurement can be performed by selecting the reference length and the evaluation length, and this measurement is preferable in the present invention.
1) Surface roughness detector stylus:
Model No./SE2555N (2μ standard) manufactured by Kosaka Laboratory Ltd. (tip radius of curvature 2μm / vertical angle: 90 degrees / material: diamond)
2) Measurement conditions of surface roughness measuring instrument:
Reference length (cutoff value λc of roughness curve):
1] 0.25, or 2] 0.8, or 3] 1.25, or 4] 2.5 mm
Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5):
1] 1.25, or 2] 4.0, or 3] 6.25, or 4] 12.5 mm
Feeding speed of stylus: 0.1 to 0.5 mm / s
(When the reference length is 1] to 4], the evaluation length is correspondingly 1] to 4])

樹脂
モノマー、オリゴマー、プレポリマーなどの硬化性樹脂前駆体を、特別な記載がない限り、総称して「樹脂」という。
Unless otherwise specified, curable resin precursors such as resin monomers, oligomers, and prepolymers are collectively referred to as “resins”.

II.位相差体
本発明は、光透過性基材と、光学異方性層とを備えてなる、位相差体である。本発明にあっては、位相差体がロール状に形成されてなるものであってよい。
1)光学異方性層
本発明における光学異方性層はブッロキング防止剤としての微粒子と、光学異方性を有する材料(主に液晶材料)を備えてなり、光学異方性層の表面が凹凸形状を有して成る。この凹凸形状の存在が、位相差体の製造工程において、滑り性の向上、ブロッキング及びブラックバンドの発生を有効に抑制する。
表面の凹凸形状
光学異方性層は、その表面に凹凸形状を有する。この凹凸形状は微粒子の存在により、達成される。本発明にあっては、この凹凸形状における凸構造の高さは、凸構造の基底から垂直方向で計測して、60nm以上1000nm以下程度であり、好ましくは上限値が500nm以下程度であり、より好ましくは上限値が200nm以下程度である。
II. Retardant The present invention is a retarder comprising a light-transmitting substrate and an optically anisotropic layer. In this invention, a phase difference body may be formed in roll shape.
1) Optically anisotropic layer The optically anisotropic layer in the present invention comprises fine particles as an anti-blocking agent and a material having optical anisotropy (mainly a liquid crystal material). It has an uneven shape. The presence of the uneven shape effectively suppresses improvement in slipperiness, blocking, and generation of black bands in the manufacturing process of the phase difference body.
The uneven optical anisotropic layer on the surface has an uneven shape on the surface. This uneven shape is achieved by the presence of fine particles. In the present invention, the height of the convex structure in the concavo-convex shape is about 60 nm to 1,000 nm, preferably the upper limit is about 500 nm or less, as measured in the vertical direction from the base of the convex structure. Preferably, the upper limit is about 200 nm or less.

Sm、θa、Ra
本発明における光学異方性層は、凹凸形状の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRaとした場合に、下記数値を満たすものが好ましい。
Smが0.01μm以上5μm以下であり、好ましくは下限値が0.05μm以上であり、上限値が3μm以下である。
θaが0.1度以上1.2度以下であり、好ましくは下限値が0.3度以上であり、上限値が0.9度以下である。
Raが1000nm以下であり、好ましくは下限値が3nm以上であり、下限値が500nm以下であり、より好ましくは下限値が5nm以上であり、下限値が100nm以下である。
Sm, θa, Ra
The optically anisotropic layer according to the present invention preferably satisfies the following numerical values when the average interval of the unevenness of the unevenness is Sm, the average inclination angle of the unevenness is θa, and the average roughness of the unevenness is Ra. .
Sm is 0.01 μm or more and 5 μm or less, preferably the lower limit is 0.05 μm or more, and the upper limit is 3 μm or less.
θa is 0.1 degree or more and 1.2 degree or less, preferably the lower limit value is 0.3 degree or more and the upper limit value is 0.9 degree or less.
Ra is 1000 nm or less, preferably the lower limit is 3 nm or more, the lower limit is 500 nm or less, more preferably the lower limit is 5 nm or more, and the lower limit is 100 nm or less.

微粒子
本発明による微粒子は、ブロッキング防止剤として使用される。本発明による微粒子は、液晶構造を構成する他の部材に混入しないものが好ましい。特に、位相差体が鹸化処理された場合にも、脱落しない微粒子であることが好ましい。微粒子の形状は、球状、例えば真球状、楕円状、不定形等のものであってよい。また、微粒子は凝集型微粒子であってよい。本発明にあっては、微粒子の平均粒子径R(nm)が10nm以上1000nm以下であり、好ましくは上限が500nm以下であり、より好ましくは200nm以下であり、好ましくは下限が、20nm以上であるものが好ましい。微粒子の平均粒子径Rが上記の範囲内にあることにより、適切な凹凸形状を形成することができ、ブロッキング性の向上となるからである。上記平均粒子径とは、微粒子が、単分散型の粒子(形状が単一な粒子)であれば、その平均粒子径を表し、ブロードな粒度分布を持つ粒子であれば、粒度分布測定により、最も多く存在する粒子の粒径を平均粒子径として表している。上記微粒子の粒径は、主に、コールターカウンター法により計測できる。また、この方法以外に、レーザー回折法、SEM写真撮影による測定によっても計測できる。
Fine particles The fine particles according to the present invention are used as antiblocking agents. The fine particles according to the present invention are preferably those which are not mixed into other members constituting the liquid crystal structure. In particular, fine particles that do not fall off even when the retardation is saponified are preferable. The shape of the fine particles may be spherical, for example, a true sphere, an ellipse, or an indefinite shape. The fine particles may be aggregated fine particles. In the present invention, the average particle diameter R (nm) of the fine particles is 10 nm or more and 1000 nm or less, preferably the upper limit is 500 nm or less, more preferably 200 nm or less, and preferably the lower limit is 20 nm or more. Those are preferred. This is because when the average particle diameter R of the fine particles is within the above range, an appropriate uneven shape can be formed and the blocking property is improved. The average particle diameter is the average particle diameter if the fine particles are monodisperse particles (particles having a single shape), and if the particles have a broad particle size distribution, The particle diameter of the most abundant particles is expressed as an average particle diameter. The particle diameter of the fine particles can be measured mainly by the Coulter counter method. In addition to this method, measurement can also be performed by laser diffraction or SEM photography.

本発明では、前記微粒子の全体の80%以上(好ましくは90%以上)において、前記微粒子の粒径平均分布がR±100nm、好ましくはR±50nm、さらに好ましくはR±30nmの範囲内にあるものが好ましい。微粒子の粒径平均分布が上記の範囲とされてなることにより、光学異方性層の凹凸形状の均一性を良好なものとすることが可能となる。また、前記微粒子を、第一微粒子とし、その平均粒径が異なる第二微粒子、第三微粒子又は第n微粒子(nは自然数)等の複数の微粒子をさらに含んでなるものを有するものであってもよく、例えば、第一微粒子の平均粒子径R(nm)が100nm程度の小粒子径については、単分散微粒子ではなく、平均粒子径が100nmの粒度分布をもつ微粒子で効率良く凹凸形状を形成させることが可能となる。平均粒子径が異なる複数の微粒子を含む場合、第二、第三、第n微粒子の各平均粒子径は、上記微粒子(第一微粒子)と同じ範囲であることが好ましい。   In the present invention, in 80% or more (preferably 90% or more) of the whole fine particles, the average particle size distribution of the fine particles is in the range of R ± 100 nm, preferably R ± 50 nm, more preferably R ± 30 nm. Those are preferred. By making the average particle size distribution of the fine particles within the above range, the uniformity of the uneven shape of the optically anisotropic layer can be improved. The fine particles may be first fine particles, and may further include a plurality of fine particles such as second fine particles, third fine particles or n-th fine particles (n is a natural number) having different average particle diameters. For example, for small particles with an average particle size R (nm) of the first fine particles of about 100 nm, irregular shapes can be efficiently formed with fine particles having a particle size distribution with an average particle size of 100 nm instead of monodispersed fine particles. It becomes possible to make it. When a plurality of fine particles having different average particle diameters are included, the average particle diameters of the second, third and nth fine particles are preferably in the same range as the fine particles (first fine particles).

〔凝集型微粒子〕
本発明では、微粒子の中でも凝集型微粒子を用いることができる。凝集型微粒子は、同一の微粒子であっても、または平均粒径が異なる複数の微粒子で構成されてよい。従って、複数の凝集微粒子を使用する場合は、(凝集)第一微粒子とその平均粒径が異なる(凝集)第二微粒子、(凝集)第三微粒子又は(凝集)第n微粒子(nは自然数)を含んでなるものを用いてもよい。凝集型微粒子の場合は、二次粒子径が上記平均粒子径範囲内であることが好ましい。
[Aggregated fine particles]
In the present invention, among the fine particles, aggregated fine particles can be used. Aggregation type fine particles may be the same fine particle or may be composed of a plurality of fine particles having different average particle diameters. Accordingly, when a plurality of aggregated fine particles are used, (aggregated) second fine particles, (aggregated) third fine particles, or (aggregated) nth fine particles (n is a natural number) whose average particle size is different from the (aggregated) first fine particles. You may use what comprises. In the case of agglomerated fine particles, the secondary particle size is preferably within the above average particle size range.

本発明にあっては、第一微粒子の平均粒子径をR(nm)とし、第二微粒子の平均粒子径をR(nm)とした場合に、下記式:
0.25R(好ましくは0.50)≦R≦1.0R(好ましくは0.70)
を満たすものが好ましい。
In the present invention, when the average particle diameter of the first fine particles is R (nm) and the average particle diameter of the second fine particles is R 2 (nm), the following formula:
0.25R (preferably 0.50) ≦ R 2 ≦ 1.0R (preferably 0.70)
Those satisfying these conditions are preferred.

が上記範囲内にあることにより、組成物の分散が容易となり、粒子が凝集することがない。また、塗布後の乾燥工程においてフローティング時の風の影響を受けることなく、均一な凹凸形状を形成することができる。第三微粒子及び第n微粒子が存在する場合には、第一微粒子と第二微粒子と同じような粒径関係になるようにするとよい。この場合は、第二微粒子がR、第三微粒子がRとなる。 When R 2 is within the above range, the composition is easily dispersed and the particles are not aggregated. Moreover, a uniform uneven | corrugated shape can be formed, without receiving to the influence of the wind at the time of floating in the drying process after application | coating. When the third fine particles and the n-th fine particles are present, it is preferable that the particle size relationship be the same as that of the first fine particles and the second fine particles. In this case, the second particles R, the third particle is R 2.

〔種類〕
微粒子(第一、第二、第三、第n微粒子)は、特に限定されず、無機系、有機系のものが使用することができ、好ましくは透明性のものがよい。有機系材料により形成されてなる微粒子の具体例としては、プラスチックポリマービーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、スチレンビーズ(屈折率1.60)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49〜1.535)、アクリル−スチレンビーズ(屈折率1.54〜1.58)、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒドビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、スチレンビーズを挙げることができる。無機系微粒子としては、不定形シリカ(SiO2)・酸化アルミニウム・ジルコニア・チタニア・酸化亜鉛・酸化ゲルマニウム・酸化インジウム・酸化スズ・インジウムスズ酸化物(ITO)・酸化アンチモン・酸化セリウム等の金属酸化物微粒子を挙げられる。
〔type〕
The fine particles (first, second, third, and nth fine particles) are not particularly limited, and inorganic and organic particles can be used, and preferably transparent. Specific examples of the fine particles formed of an organic material include plastic polymer beads. Plastic beads include styrene beads (refractive index 1.60), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49 to 1.535), acrylic-styrene beads (refractive index 1.54 to 1.58), benzoguanamine-formaldehyde beads, polycarbonate beads, polyethylene beads and the like. The plastic beads preferably have a hydrophobic group on the surface, and examples thereof include styrene beads. Inorganic fine particles include amorphous silica (SiO2), aluminum oxide, zirconia, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, cerium oxide, and other metal oxides Examples include fine particles.

硬度が高い点からは、シリカ・酸化アルミニウムが好ましい。また、本発明においては、あまり重要ではないが、相対的に高屈折率層とするためには、ジルコニア・チタニア・酸化アンチモン等の膜形成時に屈折率が高くなる微粒子を適時選択して用いることができる。   From the viewpoint of high hardness, silica / aluminum oxide is preferable. Further, in the present invention, although not so important, in order to obtain a relatively high refractive index layer, fine particles having a high refractive index when forming a film such as zirconia, titania, antimony oxide, etc. should be selected and used as appropriate. Can do.

〔化学処理微粒子〕
また、本発明にあっては、粒子表面への有機物処理等を施すことも可能である。粒子表面に有機物処理を施す場合には、疎水化処理が好ましい。この有機物処理には、ビーズ表面に化合物を化学的に結合させる方法、ビーズ表面と化学的な結合をせずに、ビーズを形成する組成物にあるボイドなどに浸透させるような物理的な方法があり、どちらを使用してもよい。一般的には、水酸基またはシラノール基等のシリカ表面の活性基を利用する化学的処理法が、処理効率の観点で好ましく用いられる。
[Chemically treated fine particles]
Moreover, in this invention, it is also possible to give the organic substance process etc. to the particle | grain surface. When the organic substance treatment is performed on the particle surface, a hydrophobic treatment is preferable. This organic treatment includes a method in which a compound is chemically bonded to the bead surface, and a physical method in which the voids in the composition forming the bead are infiltrated without being chemically bonded to the bead surface. Yes, you can use either one. In general, a chemical treatment method using an active group on a silica surface such as a hydroxyl group or a silanol group is preferably used from the viewpoint of treatment efficiency.

処理に使用する化合物の具体例としては、上述活性基と反応性の高いシラン系、シロキサン系、シラザン系剤料などが用いられる。例えば、メチルトリクロロシラン等の、直鎖アルキル単基置換シリコーン剤料、分岐アルキル単置換シリコーン剤料、或いはジ-n-ブチルジクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン等の多置換直鎖アルキルシリコーン化合物や、多置換分岐鎖アルキルシリコーン化合物が挙げられる。同様に、直鎖アルキル基若しくは分岐アルキル基の単置換、多置換シロキサン剤料、シラザン剤料も有効に使用することができる。   Specific examples of the compound used for the treatment include silane-based, siloxane-based, and silazane-based agents that are highly reactive with the active group. For example, a linear alkyl single group substituted silicone agent such as methyltrichlorosilane, a branched alkyl monosubstituted silicone agent, or a polysubstituted linear alkyl silicone compound such as di-n-butyldichlorosilane or ethyldimethylchlorosilane, Examples thereof include substituted branched alkyl silicone compounds. Similarly, monosubstituted, polysubstituted siloxane agents and silazane agents having a straight chain alkyl group or a branched alkyl group can also be used effectively.

必要機能に応じ、アルキル鎖の末端又は中間部位に、ヘテロ原子、不飽和結合基、環状結合基、芳香族官能基等を有するものを使用してもよい。これらの化合物は、含まれるアルキル基が疎水性を示すため、被処理剤料表面を、親水性から疎水性に容易に変換することが可能となり、未処理では親和性の乏しい高分子剤料とも、高い親和性を得ることができる。   Depending on the required function, those having a hetero atom, an unsaturated bond group, a cyclic bond group, an aromatic functional group or the like may be used at the terminal or intermediate part of the alkyl chain. In these compounds, since the alkyl group contained is hydrophobic, the surface of the material to be treated can be easily converted from hydrophilic to hydrophobic. High affinity can be obtained.

前記微粒子において、複数のものを混合して用いる場合は、各微粒子は、平均粒子径が異なるもの以外に、素剤が異なるもの、形状が異なるもの、これら全て異なるものなどを、前記したように、各微粒子の役割を区分しながら、適宜選択して用いることができる。   In the case of using a mixture of a plurality of fine particles, in addition to those having different average particle sizes, the fine particles have different raw materials, different shapes, all different ones as described above. These can be appropriately selected and used while classifying the role of each fine particle.

〔空隙を有する微粒子〕
本発明の好ましい態様によれば、「空隙を有する微粒子」を利用してもよい。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。
[Fine particles with voids]
According to a preferred embodiment of the present invention, “fine particles having voids” may be used. In the present invention, the term “fine particles having voids” refers to a structure in which a gas is filled with gas and / or a porous structure containing gas, and the gas in the fine particle is compared with the original refractive index of the fine particle. It means fine particles whose refractive index decreases in inverse proportion to the occupation ratio. The present invention also includes fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface depending on the form, structure, aggregation state, and dispersion state of the fine particles inside the coating film. It is.

空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開2001−233611号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。その他、特開平7−133105、特開2002−79616号公報、特開2006−106714号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して光学異方性層を形成した際、その層強度が向上される。空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。   As specific examples of the inorganic fine particles having voids, silica fine particles prepared by using the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611 are preferably exemplified. In addition, it may be silica fine particles obtained by the production methods described in JP-A-7-133105, JP-A-2002-79616, JP-A-2006-106714, and the like. Since silica fine particles having voids are easy to manufacture and have high hardness, the layer strength is improved when an optically anisotropic layer is formed by mixing with a binder. Specific examples of the organic fine particles having voids preferably include hollow polymer fine particles prepared by using the technique disclosed in JP-A-2002-80503.

塗膜の内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放剤、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱剤や低誘電剤に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業社製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。   The fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface of the coating film are manufactured for the purpose of increasing the specific surface area in addition to the silica fine particles, and the packing column and the surface porosity Examples include sustained-release agents that adsorb various chemical substances on the mass part, porous fine particles used for catalyst fixation, or dispersions and aggregates of hollow fine particles intended to be incorporated into heat insulating agents and low dielectric agents. it can. Specifically, as a commercial product, an assembly of porous silica fine particles from the product names Nippil and Nipgel manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd., and a structure in which silica fine particles manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. are connected in a chain form. From the colloidal silica UP series (trade name), it is possible to use those within the preferred particle diameter range of the present invention.

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、5nm以上500nm以下であり、好ましくは下限が8nm以上であり上限が300nm以下であり、より好ましくは下限が10nm以上であり上限が200nm以下である。   The average particle diameter of the “fine particles having voids” is 5 nm or more and 500 nm or less, preferably the lower limit is 8 nm or more and the upper limit is 300 nm or less, more preferably the lower limit is 10 nm or more and the upper limit is 200 nm or less.

〔コロイダルシリカ〕
本発明にあっては、コロイダルシリカも使用することができる。「コロイダルシリカ」とは、コロイド状態のシリカ粒子を水又は有機溶媒に分散させたコロイド溶液を意味する。上記コロイダルシリカの粒子径(直径)は、1〜200nm程度の超微粒子のものであることが好ましい。なお、本発明におけるコロイダルシリカの粒子径は、BET法による平均粒子径である。平均粒子径は、具体的には、BET法により表面積を測定し、粒子が真球であるとして換算して算出する。
[Colloidal silica]
In the present invention, colloidal silica can also be used. “Colloidal silica” means a colloidal solution in which silica particles in a colloidal state are dispersed in water or an organic solvent. The colloidal silica preferably has a particle size (diameter) of ultrafine particles of about 1 to 200 nm. In addition, the particle diameter of the colloidal silica in this invention is an average particle diameter by BET method. Specifically, the average particle diameter is calculated by measuring the surface area by the BET method and converting the particle as a true sphere.

上記コロイダルシリカは、公知のものであり、市販のものとしては、例えば、「メタノールシリカゾル」、「MA−ST−M」、「IPA−ST」、「EG−ST」、「EG−ST−ZL」、「NPC−ST」、「DMAC−ST」、「MEK」、「XBA−ST」、「MIBK−ST」(以上、日産化学工業(株)製品、いずれも商品名)、「OSCAL1132」、「OSCAL1232」、「OSCAL1332」、「OSCAL1432」、「OSCAL1532」、「OSCAL1632」、「OSCAL1132」、(以上、触媒化成工業(株)製品、いずれも商品名)で市販されているものを挙げることができる。   The colloidal silica is a known one, and commercially available ones include, for example, “methanol silica sol”, “MA-ST-M”, “IPA-ST”, “EG-ST”, “EG-ST-ZL”. ”,“ NPC-ST ”,“ DMAC-ST ”,“ MEK ”,“ XBA-ST ”,“ MIBK-ST ”(all products of Nissan Chemical Industries, Ltd., all trade names),“ OSCAL1132, ” “OSCAL1232”, “OSCAL1332”, “OSCAL1432”, “OSCAL1532”, “OSCAL1632”, “OSCAL1132” (above, products of Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., all trade names) may be mentioned. it can.

微粒子の添加量は、光学異方性層形成用組成物の全量に対して、0.10重量%以上5.0重量%以下であり、好ましくは下限値が0.2重量%以上であり上限値が3.0重量%以下であり、より好ましくは下限値が0.25重量%以上であり上限値が1.0重量%以下である。添加量が上記範囲内にあることにより、製造工程における滑り性が好ましく、また、製造された位相差体の黒輝度が十分となり、コントラスト比を所望の値とすることが可能となる。   The addition amount of the fine particles is 0.10% by weight or more and 5.0% by weight or less with respect to the total amount of the optically anisotropic layer forming composition, preferably the lower limit is 0.2% by weight or more and the upper limit. The value is 3.0% by weight or less, more preferably the lower limit is 0.25% by weight or more, and the upper limit is 1.0% by weight or less. When the addition amount is within the above range, the slipping property in the manufacturing process is preferable, the black luminance of the manufactured retardation body is sufficient, and the contrast ratio can be set to a desired value.

〔反応性無機微粒子〕
本発明の好ましい態様によれば、反応性無機微粒子、例えば、少なくとも表面の一部を有機成分で被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する無機微粒子を利用することができる。反応性無機微粒子は、硬度が高いため外部から粒子にかかる圧力(外圧)で潰れ難く、耐圧性に優れる為、優れた耐擦傷性を有する。また、反応性無機微粒子を使用した光学異方性層の表面を鹸化処理した際に、その表面からアルカリ溶液に溶出又は脱落する反応性無機微粒子の数を相当程度低減することができるので、耐鹸化性を向上させることが可能となる。この結果、光学異方性層を鹸化処理する際の保護膜が不要となり、工程数及び材料費の削減が可能となる。ここで、「反応性無機微粒子」とは、コアとなる無機微粒子の少なくとも表面の一部に有機成分が被覆し、当該有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する無機微粒子のことである。反応性無機微粒子には、1粒子あたりコアとなる無機微粒子の数が2つ以上のものも含まれる。
[Reactive inorganic fine particles]
According to a preferred embodiment of the present invention, it is possible to use reactive inorganic fine particles, for example, inorganic fine particles that have at least a part of the surface coated with an organic component and have reactive functional groups introduced by the organic component on the surface. it can. Reactive inorganic fine particles have high hardness and are not easily crushed by pressure (external pressure) applied to the particles from the outside, and have excellent pressure resistance, and therefore have excellent scratch resistance. Further, when the surface of the optically anisotropic layer using reactive inorganic fine particles is saponified, the number of reactive inorganic fine particles eluted or dropped from the surface into the alkaline solution can be considerably reduced. It becomes possible to improve saponification property. As a result, a protective film for saponifying the optically anisotropic layer becomes unnecessary, and the number of processes and material costs can be reduced. Here, the “reactive inorganic fine particles” are inorganic fine particles in which at least a part of the surface of the inorganic fine particles as a core is coated with an organic component and the surface has a reactive functional group introduced by the organic component. is there. The reactive inorganic fine particles include those having two or more inorganic fine particles as a core per particle.

本明細書中の反応性官能基には、光硬化性官能基及び熱硬化性官能基が含まれる。光硬化性官能基とは、光照射により重合反応やまたは架橋反応等を進行させて塗膜を硬化させることができる官能基を意味し、例えば、光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニオン重合のような重合反応、あるいは、光二量化を経て進行する付加重合または縮重合等の反応形式により反応が進行するものが挙げられる。「熱硬化性官能基」とは、加熱によって同じ官能基同士または他の官能基との間で重合反応または架橋反応等を進行させて塗膜を硬化させることができる官能基を意味し、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基等を例示することができる。本発明に用いられる反応性官能基としては、特に、硬化膜の硬度を向上させる観点から、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合及びエポキシ基等が挙げられる。   The reactive functional group in this specification includes a photocurable functional group and a thermosetting functional group. The photocurable functional group means a functional group capable of curing a coating film by proceeding a polymerization reaction or a crosslinking reaction by light irradiation. For example, photo radical polymerization, photo cation polymerization, photo anion polymerization Examples of the polymerization reaction include those in which the reaction proceeds by a reaction mode such as addition polymerization or condensation polymerization that proceeds through photodimerization. “Thermosetting functional group” means a functional group capable of curing a coating film by causing a polymerization reaction or a crosslinking reaction to proceed between the same functional groups or other functional groups by heating, for example, , Hydroxyl groups, carboxyl groups, amino groups, epoxy groups, isocyanate groups, and the like. As the reactive functional group used in the present invention, particularly from the viewpoint of improving the hardness of the cured film, a polymerizable unsaturated group is preferably used, preferably a photocurable unsaturated group, particularly preferably an ionization. It is a radiation curable unsaturated group. Specific examples thereof include ethylenically unsaturated bonds such as (meth) acryloyl group, vinyl group and allyl group, and epoxy group.

無機微粒子としては、例えば、シリカ(SiO)、酸化アルミニウム、ジルコニア、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物微粒子などが挙げられる。金属微粒子、金属硫化物微粒子、金属窒化物微粒子等を用いても良い。 Examples of the inorganic fine particles include metal oxides such as silica (SiO 2 ), aluminum oxide, zirconia, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, and cerium oxide. Examples thereof include fine particles, fine metal fluoride particles such as magnesium fluoride and sodium fluoride. Metal fine particles, metal sulfide fine particles, metal nitride fine particles and the like may be used.

反応性無機微粒子は、中空粒子のような粒子内部に空孔や多孔質組織を有する粒子よりも、粒子内部に空孔や多孔質組織を有しない中実粒子を用いることが好ましい。中空粒子では、当該粒子内部に空孔や多孔質組織を有するため、中実粒子に比べ硬度が低く、また、中空粒子は見かけ上の比重(中空部を含めて平均化した単位体積当たりの質量)が中実粒子に比べて小さい。このことから、反応性無機微粒子は、硬度が高く、中空粒子に比べ比重が大きい中実粒子を用いることが好ましい。   As the reactive inorganic fine particles, it is preferable to use solid particles having no voids or porous structure inside the particles, rather than particles having voids or a porous structure inside the particles such as hollow particles. Since hollow particles have pores and porous structure inside the particles, the hardness is lower than that of solid particles, and the hollow particles have an apparent specific gravity (mass per unit volume averaged including the hollow part). ) Is smaller than solid particles. For this reason, it is preferable to use solid particles having high hardness and high specific gravity as compared with hollow particles.

反応性無機微粒子は、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、この有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する。ここで、「有機成分」とは、炭素を含有する成分であってよい。また、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆されている態様としては、例えば金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様の他、金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、ポリマー粒子中に1個又は2個以上の無機微粒子を含有する態様などが含まれる。   The reactive inorganic fine particles have at least a part of the surface coated with an organic component, and have a reactive functional group introduced by the organic component on the surface. Here, the “organic component” may be a component containing carbon. Further, as an aspect in which at least a part of the surface is coated with an organic component, for example, a compound containing an organic component such as a silane coupling agent reacts with a hydroxyl group present on the surface of the metal oxide fine particles, thereby In addition to the mode in which the organic component is bonded to the part, the mode in which the organic component is attached to the hydroxyl group present on the surface of the metal oxide fine particles by an interaction such as hydrogen bonding, or one or more inorganics in the polymer particle An embodiment containing fine particles is included.

当該被覆している有機成分は、無機微粒子同士の凝集を抑制し、且つ無機微粒子表面への反応性官能基数を多く導入して膜の硬度を向上させる点から、粒子表面のほぼ全体を被覆していることが好ましい。このような観点から、無機微粒子を被覆している前記有機成分は、反応性無機微粒子中に1.00×10−3g/m以上含まれることが好ましい。無機微粒子表面に有機成分を付着乃至結合させた態様においては、無機微粒子を被覆している前記有機成分が、反応性無機微粒子中に2.00×10−3g/m以上含まれることが更に好ましく、反応性無機微粒子中に3.50×10−3g/m以上含まれることが特に好ましい。ポリマー粒子中に無機微粒子を含有する態様においては、無機微粒子を被覆している前記有機成分が、反応性無機微粒子中に3.50×10−3g/m以上含まれることが更に好ましく、反応性無機微粒子中に5.50×10−3g/m以上含まれることが特に好ましい。この被覆している有機成分の割合は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼させた場合の重量減少の恒量値として、例えば空気中で室温から通常800℃までの熱重量分析により求めることができる。 The coating organic component covers almost the entire particle surface from the viewpoint of suppressing aggregation of inorganic fine particles and increasing the number of reactive functional groups on the surface of the inorganic fine particles to improve the hardness of the film. It is preferable. From such a viewpoint, the organic component covering the inorganic fine particles is preferably contained in the reactive inorganic fine particles in an amount of 1.00 × 10 −3 g / m 2 or more. In an aspect in which an organic component is attached to or bonded to the surface of the inorganic fine particle, the organic component covering the inorganic fine particle may be contained in the reactive inorganic fine particle at 2.00 × 10 −3 g / m 2 or more. More preferably, the reactive inorganic fine particles are particularly preferably contained in an amount of 3.50 × 10 −3 g / m 2 or more. In an embodiment in which inorganic fine particles are contained in the polymer particles, the organic component covering the inorganic fine particles is more preferably contained in the reactive inorganic fine particles in an amount of 3.50 × 10 −3 g / m 2 or more. It is particularly preferable that the reactive inorganic fine particles are contained in an amount of 5.50 × 10 −3 g / m 2 or more. The ratio of the organic component to be coated is usually determined by a thermogravimetric analysis from room temperature to normal 800 ° C. in air, for example, as a constant value of weight reduction when the dry powder is completely burned in air. be able to.

例えば、単位面積当りの有機成分量は、以下の方法により求めることができる。まず、示差熱重量分析(Differential Thermogravimetry:DTG)により、有機成分重量を無機成分重量で割った値(有機成分重量/無機成分重量)を測定する。次に、無機成分重量と用いた無機微粒子の比重から無機成分全体の体積を計算する。また、被覆前の無機微粒子が真球状であると仮定し、被覆前の無機微粒子の平均粒子径から被覆前の無機微粒子1個当りの体積、及び表面積を計算する。次に、無機成分全体の体積を被覆前の無機微粒子1個当たりの体積で割ることにより、反応性無機微粒子の個数を求める。更に、有機成分重量を反応性無機微粒子の個数で割ることにより、反応性無機微粒子A1個当たりの有機成分量を求める。最後に、反応性無機微粒子1個当りの有機成分重量を、被覆前の無機微粒子1個当りの表面積で割ることにより、単位面積当たりの有機成分量を求めることができる。   For example, the amount of organic components per unit area can be determined by the following method. First, the value obtained by dividing the organic component weight by the inorganic component weight (organic component weight / inorganic component weight) is measured by differential thermogravimetry (DTG). Next, the volume of the whole inorganic component is calculated from the inorganic component weight and the specific gravity of the used inorganic fine particles. Further, assuming that the inorganic fine particles before coating are spherical, the volume and surface area per inorganic fine particle before coating are calculated from the average particle diameter of the inorganic fine particles before coating. Next, the number of reactive inorganic fine particles is obtained by dividing the volume of the entire inorganic component by the volume per inorganic fine particle before coating. Further, by dividing the organic component weight by the number of reactive inorganic fine particles, the amount of organic component per reactive inorganic fine particle A is obtained. Finally, by dividing the organic component weight per reactive inorganic fine particle by the surface area per inorganic fine particle before coating, the amount of organic component per unit area can be obtained.

反応性無機微粒子の平均粒子径は、10nm以上1000nm以下であるが、特に好ましくは20nm以上300nm以下である。反応性無機微粒子の平均粒子径を20nm以上とすることにより、適切な凹凸形状を形成することが出来、ブロッキング性の向上が得られる。また、前記反応性無機微粒子は、透明性を損なうことなく、黒輝度を著しく向上させない点から、粒径分布が狭く、単分散であることが好ましい。反応性無機微粒子の平均粒子径は、溶液中の当該粒子を動的光散乱方法で測定し、粒子径分布を累積分布で表したときの50%粒子径(d50 メジアン径)を意味する。この平均粒子径は、日機装(株)製のMicrotrac粒度分析計を用いて測定することができる。反応性無機微粒子は、凝集粒子であっても良く、凝集粒子である場合は、一次粒子径だけでなく二次粒子径も上記範囲内であれば良い。   The average particle size of the reactive inorganic fine particles is 10 nm or more and 1000 nm or less, and particularly preferably 20 nm or more and 300 nm or less. By setting the average particle size of the reactive inorganic fine particles to 20 nm or more, an appropriate uneven shape can be formed, and the blocking property can be improved. The reactive inorganic fine particles preferably have a narrow particle size distribution and are monodispersed from the viewpoint of not significantly improving black luminance without impairing transparency. The average particle diameter of the reactive inorganic fine particles means a 50% particle diameter (d50 median diameter) when the particles in the solution are measured by a dynamic light scattering method and the particle diameter distribution is represented by a cumulative distribution. This average particle size can be measured using a Microtrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. The reactive inorganic fine particles may be agglomerated particles. In the case of agglomerated particles, not only the primary particle size but also the secondary particle size may be within the above range.

少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する反応性無機微粒子を調製する方法としては、当該無機微粒子に導入したい反応性官能基により、従来公知の方法を適宜選択して用いることができる。中でも、本発明においては、被覆している有機成分が反応性無機微粒子中に、被覆前の無機微粒子の単位面積当たり1.00×10−3g/m以上含まれることが可能で、無機微粒子同士の凝集を抑制し、膜の硬度を向上させる点から、以下の(i)(ii)の無機微粒子のいずれかを適宜選択して用いることが好ましい。 As a method for preparing reactive inorganic fine particles having a reactive functional group introduced on the surface thereof, the organic component being coated on at least a part of the surface, depending on the reactive functional group to be introduced into the inorganic fine particles, Conventionally known methods can be appropriately selected and used. Among them, in the present invention, the organic component that is coated can be contained in the reactive inorganic fine particles in an amount of 1.00 × 10 −3 g / m 2 or more per unit area of the inorganic fine particles before coating. From the viewpoint of suppressing the aggregation of the fine particles and improving the hardness of the film, it is preferable to select and use any of the following inorganic fine particles (i) and (ii).

(i)飽和又は不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステル及び酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β‐ジカルボニル化合物、シラン、及び官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される1種以上の分子量500以下の表面修飾化合物の存在下、分散媒としての水及び/又は有機溶媒の中に無機微粒子を分散させることにより得られる、表面に反応性官能基を有する無機微粒子。
(ii)被覆前の無機微粒子に導入する反応性官能基、下記化学式(1)に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、金属酸化物微粒子とを結合することにより得られる、表面に反応性官能基を有する無機微粒子。
−Q−C(=Q)−NH− (1)
(上記式中、
は、NH、O(酸素原子)、またはS(硫黄原子)を示し、
はO又はSを示す。)
以下、上記本発明において好適に用いられる反応性無機微粒子を順に説明する。
(I) Saturated or unsaturated carboxylic acid, acid anhydride, acid chloride, ester and acid amide corresponding to the carboxylic acid, amino acid, imine, nitrile, isonitrile, epoxy compound, amine, β-dicarbonyl compound, silane, And by dispersing inorganic fine particles in water and / or an organic solvent as a dispersion medium in the presence of one or more surface modification compounds having a molecular weight of 500 or less selected from the group consisting of metal compounds having functional groups. Inorganic fine particles having a reactive functional group on the surface.
(Ii) A compound containing a reactive functional group to be introduced into inorganic fine particles before coating, a group represented by the following chemical formula (1), and a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis is combined with metal oxide fine particles. Inorganic fine particles having reactive functional groups on the surface, obtained by
-Q 1 -C (= Q 2) -NH- (1)
(In the above formula,
Q 1 represents NH, O (oxygen atom), or S (sulfur atom);
Q 2 represents O or S. )
Hereinafter, the reactive inorganic fine particles preferably used in the present invention will be described in order.

(i)の無機微粒子
上記(i)の反応性無機微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、カルボキシル基、酸無水物基、酸塩化物基、酸アミド基、エステル基、イミノ基、ニトリル基、イソニトリル基、水酸基、チオール基、エポキシ基、第一級、第二級及び第三級アミノ基、Si−OH基、シランの加水分解性残基、又はβ−ジカルボニル化合物のようなC−H酸基等の、分散条件下において上記無機微粒子の表面に存在する基と化学結合可能な官能基を有する。ここでの化学結合は、好ましくは、共有結合、イオン結合又は配位結合が含まれるが、水素結合も含まれる。配位結合は錯体形成であると考えられる。例えば、ブレンステッド又はルイスに従う酸性/塩基反応、錯体形成又はエステル化が、上記表面修飾化合物の官能基と無機微粒子表面の基の間で生じる。上記(i)の反応性無機微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、1種又は2種以上を混合して用いることができる。
(I) Inorganic fine particles The surface modifying compound used for the reactive inorganic fine particles (i) is a carboxyl group, an acid anhydride group, an acid chloride group, an acid amide group, an ester group, an imino group, a nitrile group, C—H such as isonitrile group, hydroxyl group, thiol group, epoxy group, primary, secondary and tertiary amino group, Si—OH group, hydrolyzable residue of silane, or β-dicarbonyl compound It has a functional group such as an acid group that can chemically bond with a group present on the surface of the inorganic fine particles under dispersion conditions. The chemical bond here preferably includes a covalent bond, an ionic bond or a coordinate bond, but also includes a hydrogen bond. The coordination bond is considered to be complex formation. For example, acidic / base reaction, complex formation or esterification according to Bronsted or Lewis occurs between the functional group of the surface modifying compound and the group on the surface of the inorganic fine particle. The surface modification compound used in the reactive inorganic fine particles (i) can be used alone or in combination of two or more.

上記表面修飾化合物は通常、無機微粒子の表面の基との化学結合に関与できる少なくとも1つの官能基(以下、第1の官能基という)に加えて、当該官能基を介して上記表面修飾化合物に結びついた後に、無機微粒子に新たな特性を付与する分子残基を有する。分子残基又はその一部は疎水性又は親水性であり、例えば無機微粒子を安定化、融和化、又は活性化させる。例えば、疎水性分子残基としては、不活性化又は反発作用をもたらす、アルキル、アリール、アルカリル、アラルキル又はフッ素含有アルキル基等が挙げられる。親水性基としてはヒドロキシ基、アルコキシ基又はポリエステル基等が挙げられる。   The surface modifying compound is usually added to the surface modifying compound via the functional group in addition to at least one functional group (hereinafter referred to as a first functional group) capable of participating in chemical bonding with the surface group of the inorganic fine particles. After linking, it has molecular residues that impart new properties to the inorganic particulates. The molecular residue or a part thereof is hydrophobic or hydrophilic, and stabilizes, integrates, or activates the inorganic fine particles, for example. For example, examples of the hydrophobic molecular residue include an alkyl, aryl, alkaryl, aralkyl, or fluorine-containing alkyl group that causes inactivation or repulsion. Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, an alkoxy group, and a polyester group.

反応性無機微粒子が後述の樹脂と反応できるように表面に導入される反応性官能基を採用してもよく、このような反応性官能基は、この樹脂に応じて、適宜選択される。反応性官能基としては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合及びエポキシ基等が挙げられる。表面修飾化合物の上記分子残基中に、樹脂と反応できる反応性官能基が含まれる場合には、上記表面修飾化合物中に含まれる第1の官能基を無機微粒子表面に反応させることによって、上記(i)の反応性無機微粒子の表面に樹脂と反応できる反応性官能基を導入することが可能である。例えば、第1の官能基のほかに、更に重合性不飽和基を有する表面修飾化合物が、好適なものとして挙げられる。一方で、上記表面修飾化合物の上記分子残基中に、第2の反応性官能基を含有させ、当該第2の反応性官能基を足掛かりにして、上記(i)の反応性無機微粒子の表面に樹脂と反応できる反応性官能基が導入されても良い。例えば、第2の反応性官能基として水酸基及びオキシ基のような水素結合が可能な基(水素結合形成基)を導入し、当該微粒子表面上に導入された水素結合形成基に、更に別の表面修飾化合物の水素結合形成基が反応することにより、上記バインダー成分Bと反応できる反応性官能基を導入されることが好ましい。すなわち、表面修飾化合物として、水素結合形成基を有する化合物と、重合性不飽和基などの上記バインダー成分Bと反応できる反応性官能基と水素結合形成基を有する化合物とを併用して用いることが好適な例として挙げられる。水素結合形成基の具体例としては、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、グリシジル基、アミド基、といった官能基、もしくはアミド結合を示すものである。ここで、アミド結合とは、−NHC(O)、及び>NC(O)−を結合単位に含むものを示す旨である。本発明の表面修飾化合物に用いられる水素結合形成基としては、中でもカルボキシル基、水酸基、アミド基が好ましい。   A reactive functional group introduced on the surface may be adopted so that the reactive inorganic fine particles can react with the resin described later, and such a reactive functional group is appropriately selected according to the resin. As the reactive functional group, a polymerizable unsaturated group is suitably used, preferably a photocurable unsaturated group, and particularly preferably an ionizing radiation curable unsaturated group. Specific examples thereof include ethylenically unsaturated bonds such as (meth) acryloyl group, vinyl group and allyl group, and epoxy group. When a reactive functional group capable of reacting with a resin is contained in the molecular residue of the surface modification compound, the first functional group contained in the surface modification compound is reacted with the surface of the inorganic fine particles, thereby It is possible to introduce a reactive functional group capable of reacting with the resin on the surface of the reactive inorganic fine particles (i). For example, in addition to the first functional group, a surface modification compound further having a polymerizable unsaturated group is preferable. On the other hand, the surface of the reactive inorganic fine particles of (i) above is obtained by containing a second reactive functional group in the molecular residue of the surface modifying compound and using the second reactive functional group as a foothold. A reactive functional group capable of reacting with the resin may be introduced. For example, a group capable of hydrogen bonding (hydrogen bond forming group) such as a hydroxyl group and an oxy group is introduced as the second reactive functional group, and another hydrogen bond forming group introduced on the surface of the fine particles It is preferable that a reactive functional group capable of reacting with the binder component B is introduced by the reaction of the hydrogen bond forming group of the surface modification compound. That is, a compound having a hydrogen bond-forming group and a compound having a reactive functional group capable of reacting with the binder component B such as a polymerizable unsaturated group and a compound having a hydrogen bond-forming group are used in combination as the surface modification compound. A suitable example is given. Specific examples of the hydrogen bond-forming group indicate a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, a glycidyl group, an amide group, or an amide bond. Here, the amide bond is meant to indicate a bond unit containing —NHC (O) and> NC (O) —. Among the hydrogen bond forming groups used in the surface modification compound of the present invention, among them, a carboxyl group, a hydroxyl group, and an amide group are preferable.

上記(i)の反応性無機微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は500以下、より好ましくは400、特に200を超えない分子量を有する。このような低分子量を有するため、無機微粒子表面を急速に占有し、無機微粒子同士の凝集を妨げることが可能であると推定される。上記(i)の反応性無機微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、表面修飾のための反応条件下で好ましくは液体であり、分散媒中で溶解性又は少なくとも乳化可能であるのが好ましい。中でも分散媒中で溶解し、分散媒中で離散した分子又は分子イオンとして一様に分布して存在することが好ましい。   The surface-modifying compound used in the reactive inorganic fine particles (i) has a molecular weight of 500 or less, more preferably 400, particularly 200. Since it has such a low molecular weight, it is presumed that the surface of the inorganic fine particles can be rapidly occupied and aggregation of the inorganic fine particles can be prevented. The surface modifying compound used in the reactive inorganic fine particles (i) is preferably a liquid under the reaction conditions for surface modification, and is preferably soluble or at least emulsifiable in a dispersion medium. Among these, it is preferable that the polymer is dissolved in the dispersion medium and uniformly distributed as discrete molecules or molecular ions in the dispersion medium.

飽和又は不飽和カルボン酸としては、1〜24の炭素原子を有しており、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、クエン酸、アジピン酸、琥珀酸、グルタル酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸及びステアリン酸、並びに対応する酸無水物、塩化物、エステル及びアミド、例えばカプロラクタム等が挙げられる。また、不飽和カルボン酸を用いると、重合性不飽和基を導入することができる。   Saturated or unsaturated carboxylic acids have 1 to 24 carbon atoms, such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, citric acid, adipine Examples include acids, succinic acid, glutaric acid, oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and stearic acid, and the corresponding acid anhydrides, chlorides, esters and amides such as caprolactam. Further, when an unsaturated carboxylic acid is used, a polymerizable unsaturated group can be introduced.

好ましいアミンの例は、化学式Q−nNHn(n=0,1又は2)を有するものであり、残基Qは独立して、1〜12、特に1〜6、特別好ましくは1〜4の炭素原子を有するアルキル(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル及びブチル)、並びに6〜24の炭素原子を有するアリール、アルカリル又はアラルキル(例えば、フェニル、ナフチル、トリル及びベンジル)を表す。また、好ましいアミンの例としては、ポリアルキレンアミンが挙げられ、具体例は、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、アニリン、N−メチルアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、トルイジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミンである。 Examples of preferred amines are those having the formula Q 3 -nNHn (n = 0,1 or 2), residues Q are independently 1 to 12, especially 1 to 6, particularly preferably is from 1 to 4 Represents alkyl having carbon atoms (e.g. methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl and butyl), and aryl, alkaryl or aralkyl having 6 to 24 carbon atoms (e.g. phenyl, naphthyl, tolyl and benzyl) . Examples of preferred amines include polyalkyleneamines, and specific examples are methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, aniline, N-methylaniline, diphenylamine, triphenylamine, toluidine, ethylenediamine, and diethylenetriamine. .

好ましいβ−ジカルボニル化合物は4〜12、特に5〜8の炭素原子を有するものであり、例えば、ジケトン(アセチルアセトンなど)、2,3−ヘキサンジオン、3,5−ヘプタンジオン、アセト酢酸、アセト酢酸−C1−C4−アルキルエステル(アセト酢酸エチルエステルなど)、ジアセチル及びアセトニルアセトンが挙げられる。 アミノ酸の例としては、β−アラニン、グリシン、バリン、アミノカプロン酸、ロイシン及びイソロイシンが挙げられる。   Preferred β-dicarbonyl compounds are those having 4 to 12, particularly 5 to 8 carbon atoms, such as diketones (such as acetylacetone), 2,3-hexanedione, 3,5-heptanedione, acetoacetic acid, acetoacetate. Examples include acetic acid-C1-C4-alkyl esters (such as acetoacetic acid ethyl ester), diacetyl, and acetonylacetone. Examples of amino acids include β-alanine, glycine, valine, aminocaproic acid, leucine and isoleucine.

好ましいシランは、少なくとも1つの加水分解性基又はヒドロキシ基と、少なくとも1つの非加水分解性残基を有する加水分解性オルガノシランである。ここで加水分解性基としては、例えば、ハロゲン、アルコキシ基及びアシルオキシ基が挙げられる。非加水分解性残基としては、反応性官能基を有する及び/又は反応性官能基を有しない非加水分解性残基が用いられる。また、フッ素で置換されている有機残基を少なくとも部分的に有するシランを使用しても良い。   Preferred silanes are hydrolyzable organosilanes having at least one hydrolyzable group or hydroxy group and at least one non-hydrolyzable residue. Here, examples of the hydrolyzable group include a halogen, an alkoxy group, and an acyloxy group. As the non-hydrolyzable residue, a non-hydrolyzable residue having a reactive functional group and / or not having a reactive functional group is used. Silanes having at least partially organic residues substituted with fluorine may also be used.

用いられるシランとしては特に限定されないが、例えば、CH=CHSi(OOCCH、CH=CHSiCl、CH=CHSi(OC、CH=CH−Si(OCOCH、CH=CH−CH−Si(OC、CH=CH−CH−Si(OOCCH、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(GPTS)、γ−グリシジルオキシプロピルジメチルクロロシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン(APTS)、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−[N'−(2'−アミノエチル)−2−アミノエチル]−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、2−[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリメトキシシラン、ビス−(ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアミノプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン及び3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。 As the silane used is not particularly limited, for example, CH 2 = CHSi (OOCCH 3 ) 3, CH 2 = CHSiCl 3, CH 2 = CHSi (OC 2 H 5) 3, CH 2 = CHSi (OC 2 H 4 OCH 3) 3, CH 2 = CH-CH 2 -Si (OC 2 H 5) 3, CH 2 = CH-CH 2 -Si (OOCCH 3) 3, γ- glycidyloxypropyltrimethoxysilane (GPTS), γ-glycidyloxypropyldimethylchlorosilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane (APTS), 3-aminopropyltriethoxysilane (APTES), N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- [ N '-(2'-aminoethyl) -2-aminoethyl] -3-aminopropyltrimethoxy Sisilane, hydroxymethyltrimethoxysilane, 2- [methoxy (polyethyleneoxy) propyl] trimethoxysilane, bis- (hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N-hydroxyethyl-N-methylaminopropyltriethoxysilane , 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, and the like.

官能基を有する金属化合物としては、元素周期表の第1群III〜V及び/又は第2群II〜IVからの金属Mの金属化合物が挙げられる。ジルコニウム及びチタニウムのアルコキシド、M(OR)(M=Ti、Zr)、(式中、OR基の一部はβ−ジカルボニル化合物又はモノカルボン酸などの錯生成剤により置換される。)が挙げられる。重合性不飽和基を有する化合物(メタクリル酸など)が錯生成剤として使用される場合には、重合性不飽和基を導入することができる。 As a metal compound which has a functional group, the metal compound of the metal M from 1st group III-V and / or 2nd group II-IV of an element periodic table is mentioned. Zirconium and titanium alkoxides, M (OR) 4 (M = Ti, Zr), wherein part of the OR group is replaced by a complexing agent such as a β-dicarbonyl compound or a monocarboxylic acid. Can be mentioned. When a compound having a polymerizable unsaturated group (such as methacrylic acid) is used as a complexing agent, a polymerizable unsaturated group can be introduced.

分散媒として、水及び/又は有機溶媒が好適に使用される。特に好ましい分散媒は、蒸留された(純粋な)水である。有機溶媒として、極性及び非極性及び非プロトン性溶媒が好ましい。それらの例として、炭素数1〜6の脂肪族アルコール(特にメタノール、エタノール、n−及びi−プロパノール及びブタノール)等のアルコール、アセトン及びブタノン等のケトン類、酢酸エチルなどのエステル類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びテトラヒドロピランなどのエーテル類;ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類;スルホラン及びジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類及びスルホン類;及びペンタン、ヘキサン及びシクロヘキサン等の脂肪族(任意にハロゲン化された)炭化水素類が挙げられる。これらの分散媒は混合物として使用することができる。分散媒は、蒸留(任意に減圧下)により容易に除去できる沸点を有することが好ましく、沸点が200℃以下、特に150℃以下の溶媒が好ましい。   As the dispersion medium, water and / or an organic solvent is preferably used. A particularly preferred dispersion medium is distilled (pure) water. As the organic solvent, polar, nonpolar and aprotic solvents are preferred. Examples thereof include alcohols such as aliphatic alcohols having 1 to 6 carbon atoms (particularly methanol, ethanol, n- and i-propanol and butanol), ketones such as acetone and butanone, esters such as ethyl acetate; , Ethers such as tetrahydrofuran and tetrahydropyran; amides such as dimethylacetamide and dimethylformamide; sulfoxides and sulfones such as sulfolane and dimethylsulfoxide; and aliphatic (optionally halogenated) such as pentane, hexane and cyclohexane And hydrocarbons. These dispersion media can be used as a mixture. The dispersion medium preferably has a boiling point that can be easily removed by distillation (optionally under reduced pressure), and a solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower, particularly 150 ° C. or lower is preferable.

(i)の反応性無機微粒子の調製に際し、分散媒の濃度は、通常40〜90、好ましくは50〜80、特に55〜75重量%である。分散液の残りは、未処理の無機微粒子および上記表面修飾化合物から構成される。ここで、無機微粒子/表面修飾化合物の重量比は、100:1〜4:1とすることが好ましく、更に50:1〜8:1、より更に25:1〜10:1とすることが好ましい。   In the preparation of the reactive inorganic fine particles (i), the concentration of the dispersion medium is usually 40 to 90, preferably 50 to 80, particularly 55 to 75% by weight. The rest of the dispersion is composed of untreated inorganic fine particles and the surface modifying compound. Here, the weight ratio of the inorganic fine particles / surface modification compound is preferably 100: 1 to 4: 1, more preferably 50: 1 to 8: 1, and even more preferably 25: 1 to 10: 1. .

(i)の反応性無機微粒子の調製は、好ましくは室温(約20℃)〜分散媒の沸点で行われる。特に好ましくは、分散温度は50〜100℃である。分散時間は、特に使用される材料のタイプに依存するが、一般に数分から数時間、例えば1〜24時間である。   The reactive inorganic fine particles (i) are preferably prepared at room temperature (about 20 ° C.) to the boiling point of the dispersion medium. Particularly preferably, the dispersion temperature is 50 to 100 ° C. The dispersion time depends in particular on the type of material used, but is generally from a few minutes to a few hours, for example 1 to 24 hours.

(ii)の無機微粒子
(ii)の無機微粒子は、被覆前の無機微粒子に導入する反応性官能基、下記化学式(1)に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、コアとなる無機微粒子としての金属酸化物微粒子とを結合することにより得られる、表面に反応性官能基を有するものである。
−Q−C(=Q)−NH− (1)
(化学式(1)中、Qは、NH、O(酸素原子)、またはS(硫黄原子)を示し、QはO又はSを示す。)
上記(ii)の反応性無機微粒子を用いる場合には、有機成分量が高まり、分散性、および膜強度がより高まるというメリットがある。
(Ii) Inorganic fine particles
The inorganic fine particles (ii) include a reactive functional group introduced into the inorganic fine particles before coating, a group represented by the following chemical formula (1), and a compound containing a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis, a core, It has a reactive functional group on the surface obtained by bonding with metal oxide fine particles as inorganic fine particles.
-Q 1 -C (= Q 2) -NH- (1)
(In the chemical formula (1), Q 1 represents NH, O (oxygen atom), or S (sulfur atom), and Q 2 represents O or S.)
When the reactive inorganic fine particles (ii) are used, there are merits that the amount of organic components is increased, and dispersibility and film strength are further increased.

まず、被覆前の無機微粒子に導入したい反応性官能基、上記化学式(1)に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物(以下、反応性官能基修飾加水分解性シランという場合がある。)について説明する。反応性官能基修飾加水分解性シランにおいて、当該無機微粒子に導入したい反応性官能基は、樹脂と反応可能なように適宜選択することも可能である。上述したような重合性不飽和基を導入するのに適している。   First, a compound containing a reactive functional group to be introduced into inorganic fine particles before coating, a group represented by the above chemical formula (1), and a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis (hereinafter, reactive functional group-modified hydrolysis) In some cases, it may be referred to as a functional silane). In the reactive functional group-modified hydrolyzable silane, the reactive functional group desired to be introduced into the inorganic fine particles can be appropriately selected so that it can react with the resin. Suitable for introducing polymerizable unsaturated groups as described above.

反応性官能基修飾加水分解性シランにおいて、上記化学式(1)に示す基[−Q−C(=Q)−NH−]は、具体的には、[−O−C(=O)−NH−]、[−O−C(=S)−NH−]、[−S−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=S)−NH−]、及び[−S−C(=S)−NH−]の6種である。これらの基は、1種単独で又は2種以上を組合わせて用いることができる。中でも、熱安定性の観点から、[−O−C(=O)−NH−]基と、[−O−C(=S)−NH−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基の少なくとも1種を併用することが好ましい。前記化学式(1)に示す基[−Q−C(=Q)−NH−]は、分子間において水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした場合、優れた機械的強度、基材との密着性及び耐熱性等の特性を付与することが可能になると考えられる。 In the reactive functional group-modified hydrolyzable silane, the group [—Q 1 —C (═Q 2 ) —NH—] represented by the chemical formula (1) is specifically [—O—C (═O). —NH—], [—O—C (═S) —NH—], [—S—C (═O) —NH—], [—NH—C (═O) —NH—], [—NH. -C (= S) -NH-] and [-S-C (= S) -NH-]. These groups can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among them, from the viewpoint of thermal stability, [—O—C (═O) —NH—] group, [—O—C (═S) —NH—] group and [—S—C (═O) — It is preferable to use at least one NH-] group in combination. The group [—Q 1 —C (= Q 2 ) —NH—] represented by the chemical formula (1) generates an appropriate cohesive force due to hydrogen bonding between molecules, and has excellent mechanical strength when formed into a cured product. It is considered that properties such as adhesion to the substrate and heat resistance can be imparted.

また、加水分解によってシラノ−ル基を生成する基としては、ケイ素原子上にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等を有する基を挙げることができ、アルコキシシリル基又はアリールオキシシリル基が好ましい。シラノール基又は、加水分解によってシラノ−ル基を生成する基は、縮合反応又は加水分解に続いて生じる縮合反応によって、金属酸化物微粒子と結合することができる。   Examples of the group that generates a silanol group by hydrolysis include groups having an alkoxy group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, a halogen atom, etc. on the silicon atom. An oxysilyl group is preferred. A silanol group or a group that forms a silanol group by hydrolysis can be combined with the metal oxide fine particles by a condensation reaction or a condensation reaction that occurs following hydrolysis.

上記反応性官能基修飾加水分解性シランの好ましい具体例としては、例えば、下記化学式(2)に示す化合物を挙げることができる。
(OR
| H H
3−m−Si−R−S−C−N−R−N−C−O−R−(Y’) (2)
‖ ‖
O O
Preferable specific examples of the reactive functional group-modified hydrolyzable silane include, for example, compounds represented by the following chemical formula (2).
(OR a ) m
| H H
R b 3-m —Si—R c —S—C—N—R d —N—C—O—R e — (Y ′) n (2)
‖ ‖
O O

化学式(2)中、Ra、Rbは同一でも異なっていてもよいが、水素原子又はC1からC8のアルキル基若しくはアリール基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル基等を挙げることができる。ここでmは1、2又は3である。[(RaO)mRb‐mSi−]で示される基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基又はトリエトキシシリル基等が好ましい。 In the chemical formula (2), Ra and Rb may be the same or different, and are a hydrogen atom or a C1 to C8 alkyl group or aryl group, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, octyl, phenyl, xylyl group Etc. Here, m is 1, 2 or 3. Examples of the group represented by [(RaO) mRb 3 -mSi-] include a trimethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, a triphenoxysilyl group, a methyldimethoxysilyl group, and a dimethylmethoxysilyl group. Of these groups, a trimethoxysilyl group or a triethoxysilyl group is preferable.

RcはC1からC12の脂肪族又は芳香族構造を有する2価の有機基であり、鎖状、分岐状又は環状の構造を含んでいてもよい。そのような有機基としては例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、キシリレン、ドデカメチレン等を挙げることができる。これらのうち好ましい例は、メチレン、プロピレン、シクロヘキシレン、フェニレン等である。
また、Rdは2価の有機基であり、通常、分子量14から1万、好ましくは、分子量76から500の2価の有機基の中から選ばれる。例えば、ヘキサメチレン、オクタメチレン、ドデカメチレン等の鎖状ポリアルキレン基;シクロヘキシレン、ノルボルニレン等の脂環式又は多環式の2価の有機基;フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、ポリフェニレン等の2価の芳香族基;及びこれらのアルキル基置換体、アリール基置換体を挙げることができる。また、これら2価の有機基は炭素及び水素原子以外の元素を含む原子団を含んでいてもよく、ポリエーテル結合、ポリエステル結合、ポリアミド結合、ポリカーボネート結合、さらには前記化学式(1)に示す基を含むこともできる。
Rc is a divalent organic group having a C1 to C12 aliphatic or aromatic structure, and may contain a chain, branched or cyclic structure. Examples of such an organic group include methylene, ethylene, propylene, butylene, hexamethylene, cyclohexylene, phenylene, xylylene, and dodecamethylene. Among these, preferred examples are methylene, propylene, cyclohexylene, phenylene and the like.
Rd is a divalent organic group, and is usually selected from divalent organic groups having a molecular weight of 14 to 10,000, preferably a molecular weight of 76 to 500. For example, chain polyalkylene groups such as hexamethylene, octamethylene, dodecamethylene; alicyclic or polycyclic divalent organic groups such as cyclohexylene and norbornylene; divalent groups such as phenylene, naphthylene, biphenylene and polyphenylene Aromatic group; and these alkyl group-substituted and aryl group-substituted products. In addition, these divalent organic groups may contain an atomic group containing an element other than carbon and hydrogen atoms, and include a polyether bond, a polyester bond, a polyamide bond, a polycarbonate bond, and a group represented by the chemical formula (1). Can also be included.

Reは(n+1)価の有機基であり、好ましくは鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基の中から選ばれる。
Y’は反応性官能基を有する1価の有機基を示す。上述のような反応性官能基そのものであっても良い。例えば反応性官能基を重合性不飽和基から選択する場合、(メタ)アクリロイル(オキシ)基、ビニル(オキシ)基、プロペニル(オキシ)基、ブタジエニル(オキシ)基、スチリル(オキシ)基、エチニル(オキシ)基、シンナモイル(オキシ)基、マレエート基、(メタ)アクリルアミド基等を挙げることができる。また、nは好ましくは1〜20の正の整数であり、さらに好ましくは1〜10、特に好ましくは1〜5である。
Re is an (n + 1) -valent organic group, and is preferably selected from a chain, branched or cyclic saturated hydrocarbon group and unsaturated hydrocarbon group.
Y ′ represents a monovalent organic group having a reactive functional group. The reactive functional group itself as described above may be used. For example, when the reactive functional group is selected from polymerizable unsaturated groups, (meth) acryloyl (oxy) group, vinyl (oxy) group, propenyl (oxy) group, butadienyl (oxy) group, styryl (oxy) group, ethynyl (Oxy) group, cinnamoyl (oxy) group, maleate group, (meth) acrylamide group and the like can be mentioned. N is preferably a positive integer of 1 to 20, more preferably 1 to 10, particularly preferably 1 to 5.

本発明で用いられる反応性官能基修飾加水分解性シランの合成は、例えば特開平9−100111号公報に記載された方法を用いることができる。すなわち、例えば重合性不飽和基を導入したい場合、(イ)メルカプトアルコキシシランと、ポリイソシアネート化合物と、イソシアネート基と反応可能な活性水素基含有重合性不飽和化合物との付加反応により行うことができる。また、(ロ)分子中にアルコキシシリル基及びイソシアネート基を有する化合物と、活性水素基含有重合性不飽和化合物との直接的反応により行うことができる。さらに、(ハ)分子中に重合性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物と、メルカプトアルコキシシラン又はアミノシランとの付加反応により直接合成することもできる。   For the synthesis of the reactive functional group-modified hydrolyzable silane used in the present invention, for example, a method described in JP-A-9-100111 can be used. That is, for example, when it is desired to introduce a polymerizable unsaturated group, (i) it can be carried out by an addition reaction of a mercaptoalkoxysilane, a polyisocyanate compound, and an active hydrogen group-containing polymerizable unsaturated compound capable of reacting with an isocyanate group. . Further, (b) the reaction can be carried out by a direct reaction between a compound having an alkoxysilyl group and an isocyanate group in the molecule and an active hydrogen group-containing polymerizable unsaturated compound. Furthermore, (c) it can also be directly synthesized by an addition reaction of a compound having a polymerizable unsaturated group and an isocyanate group in the molecule with mercaptoalkoxysilane or aminosilane.

(ii)の反応性無機微粒子の製造においては、反応性官能基修飾加水分解性シランを別途加水分解操作を行った後、これと無機微粒子を混合し、加熱、攪拌操作を行う方法、もしくは反応性官能基修飾加水分解性シランの加水分解を無機微粒子の存在下に行う方法、また、他の成分、例えば多価不飽和有機化合物、単価不飽和有機化合物、放射線重合開始剤等の存在下、無機微粒子の表面処理を行う方法を選ぶことができるが、反応性官能基修飾加水分解性シランの加水分解を無機微粒子の存在下行う方法が好ましい。(ii)の反応性無機微粒子を製造する際、その温度は、通常20℃以上150℃以下であり、また処理時間は5分〜24時間の範囲である。   In the production of the reactive inorganic fine particles (ii), a method in which a reactive functional group-modified hydrolyzable silane is separately hydrolyzed and then mixed with the inorganic fine particles, followed by heating and stirring, or a reaction A method of hydrolyzing a functional functional group-modified hydrolyzable silane in the presence of inorganic fine particles, and in the presence of other components such as a polyunsaturated organic compound, a monounsaturated organic compound, a radiation polymerization initiator, A method for surface treatment of the inorganic fine particles can be selected, but a method in which the reactive functional group-modified hydrolyzable silane is hydrolyzed in the presence of the inorganic fine particles is preferable. When the reactive inorganic fine particles (ii) are produced, the temperature is usually 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and the treatment time is in the range of 5 minutes to 24 hours.

加水分解反応を促進するため、触媒として酸、塩もしくは塩基を添加してもよい。酸としては有機酸および不飽和有機酸;塩基としては3級アミンまたは4級アンモニウムヒドロキシドが好適な物として挙げられる。これら酸もしくは塩基触媒の添加量は反応性官能基修飾加水分解性シランに対して0.001〜1.0重量%、好ましくは0.01〜0.1重量%である。   In order to accelerate the hydrolysis reaction, an acid, salt or base may be added as a catalyst. Preferable examples of the acid include organic acids and unsaturated organic acids; examples of the base include tertiary amines or quaternary ammonium hydroxides. The amount of the acid or base catalyst added is 0.001 to 1.0% by weight, preferably 0.01 to 0.1% by weight, based on the reactive functional group-modified hydrolyzable silane.

反応性無機微粒子としては、分散媒を含有しない粉末状の微粒子を用いてもよいが、分散工程を省略でき、生産性が高い点から微粒子を溶剤分散ゾルとしたものを用いることが好ましい。反応性無機微粒子の含有量は全固形分に対し、0〜5重量%であることが好ましく、更に0.25〜1重量%であることが好ましい。含有量が上記範囲内にあることにより、光学異方性層の凹凸が十分となりブロッキングを有効に防止することができるとともに、表面凹凸を適切な大きさにすることがきるので、黒輝度の大幅な上昇を抑制することができる。   As the reactive inorganic fine particles, powdery fine particles that do not contain a dispersion medium may be used. However, it is preferable to use a fine particle in a solvent-dispersed sol because the dispersion step can be omitted and the productivity is high. The content of reactive inorganic fine particles is preferably 0 to 5% by weight, more preferably 0.25 to 1% by weight, based on the total solid content. When the content is in the above range, the unevenness of the optically anisotropic layer is sufficient and blocking can be effectively prevented, and the surface unevenness can be appropriately sized, so that the black luminance is greatly increased. Increase can be suppressed.

光学異方性剤(液晶材料)
本発明に用いられる光学異方性剤は、所望の位相差性を発現できる材料であれば特に限定されない。本発明にあっては、ネマチック相を示す光学異方性剤が好適に用いられる。ネマチック液晶は、他の液晶相を示す光学異方性剤と比較して規則的に配列させることが可能なものである。
Optical anisotropy (liquid crystal material)
The optical anisotropy agent used for this invention will not be specifically limited if it is a material which can express desired retardation. In the present invention, an optical anisotropic agent exhibiting a nematic phase is preferably used. A nematic liquid crystal can be regularly arranged as compared with an optically anisotropic agent exhibiting another liquid crystal phase.

本発明に用いられる光学異方性剤としては、重合性官能基を有する重合性光学異方性剤を用いることが好ましい。重合性光学異方性剤は重合性官能基を介して互いに重合して、分子の配向状態を固定化することができるため、光学異方性層の機械強度を向上することができる。また、光学異方性剤の配向の安定性も向上させ、かつ、経時変化及び高温環境下における分子配向変動に起因するReやRthの変動等を有効に防止することが可能となる。   As the optical anisotropic agent used in the present invention, a polymerizable optical anisotropic agent having a polymerizable functional group is preferably used. The polymerizable optically anisotropic agent can be polymerized with each other via a polymerizable functional group to fix the alignment state of the molecules, so that the mechanical strength of the optically anisotropic layer can be improved. In addition, it is possible to improve the orientation stability of the optical anisotropy and to effectively prevent fluctuations in Re and Rth due to changes with time and molecular orientation fluctuations in a high temperature environment.

重合性官能基としては、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する各種重合性官能基が用いられる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基(アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称)等が挙げられる。又、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和3重結合等が挙げられる。本発明においては、これらの重合性官能基のなかでもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。   As the polymerizable functional group, various polymerizable functional groups that are polymerized by the action of ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams, or heat are used. Representative examples of these polymerizable functional groups include radical polymerizable functional groups or cationic polymerizable functional groups. Further, representative examples of radically polymerizable functional groups include functional groups having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond, and specific examples include vinyl groups having or not having substituents, An acrylate group (generic name including an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group) and the like can be given. Specific examples of the cationic polymerizable functional group include an epoxy group. In addition, examples of the polymerizable functional group include an isocyanate group and an unsaturated triple bond. In the present invention, among these polymerizable functional groups, a functional group having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used from the viewpoint of the process.

重合性光学異方性剤は、上記した重合性官能基を一又は複数有するものであって良い。また、重合性官能基を複数有する重合性光学異方性剤と、重合性官能基を1つのみを有する重合性光学異方性剤とを混合して用いても良い。重合性光学異方性剤の具体例としては、例えば、特開平7−258638号公報、特表平10−508882号公報、及び特開2003−287623号公報に記載されている化合物を挙げることができる。これらに開示された事項は本願明細書の一部をなす。   The polymerizable optical anisotropic agent may have one or more polymerizable functional groups described above. Further, a polymerizable optical anisotropic agent having a plurality of polymerizable functional groups and a polymerizable optical anisotropic agent having only one polymerizable functional group may be mixed and used. Specific examples of the polymerizable optical anisotropic agent include compounds described in JP-A-7-258638, JP-A-10-508882, and JP-A-2003-287623. it can. The matters disclosed therein form part of the present specification.

本発明にあっては、重合性光学異方性剤として、下記化学式(1)〜(10)で表される化合物を用いることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to use compounds represented by the following chemical formulas (1) to (10) as the polymerizable optical anisotropic agent.

Figure 2009237092
Figure 2009237092

光学異方性剤は一種又は二種以上を混合して用いても良い。本発明において、二種類以上の光学異方性剤を混合して用いる場合は、重合性光学異方性剤と、重合性官能基を有さない光学異方性剤とを混合して用いても良い。   You may use an optically anisotropic agent 1 type or in mixture of 2 or more types. In the present invention, when two or more kinds of optical anisotropy agents are mixed and used, a polymerizable optical anisotropy agent and an optical anisotropy agent having no polymerizable functional group are mixed and used. Also good.

その他材料
光学異方性層には、光学異方性剤以外のその他の剤が含まれていても良い。その他材料は、光学異方性剤の配列状態や、光学異方性層の光学特性発現性を損なわないものであれば特に限定されるものではなく、用途等に応じて適宜選択して用いることができる。その他の剤としては、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、樹脂、カイラル剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。
Other materials The optically anisotropic layer may contain other agents other than the optically anisotropic agent. Other materials are not particularly limited as long as they do not impair the alignment state of the optical anisotropy agent and the optical properties of the optical anisotropic layer, and may be appropriately selected and used depending on the application. Can do. Examples of other agents include a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a resin, a chiral agent, a plasticizer, a surfactant, and a silane coupling agent.

〔重合開始剤/重合禁止剤〕
重合性光学異方性剤を用いる場合、重合開始剤または重合禁止剤を用いることが好ましい。重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンジルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n−フェニルチオアクリドン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製N1717、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。
[Polymerization initiator / polymerization inhibitor]
When using a polymerizable optical anisotropic agent, it is preferable to use a polymerization initiator or a polymerization inhibitor. Examples of the polymerization initiator include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamine) benzophenone, α-amino acetophenone, 4,4-dichlorobenzophenone. 4-benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p-tert -Butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, benzylmethoxyethyl acetal, benzoin Tyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzsuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzylacetophenone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene ) Cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadion-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2- ( o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) oxime Michler's ketone, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, naphthalenesulfonyl chloride Quinolinesulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, N1717 manufactured by Adeka, carbon tetrabromide, tribromophenyl Examples include a combination of a photoreductive dye such as sulfone, benzoin peroxide, eosin, and methylene blue with a reducing agent such as ascorbic acid or triethanolamine.

本発明では、これらの光重合開始剤を1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。さらに、上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の3級アミン類や、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。   In this invention, these photoinitiators can be used 1 type or in combination of 2 or more types. Furthermore, when using the said photoinitiator, a photoinitiator adjuvant can be used together. Examples of such photopolymerization initiation assistants include tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine, and benzoic acid derivatives such as ethyl 2-dimethylaminoethylbenzoate and ethyl 4-dimethylamidebenzoate. Yes, but not limited to these.

重合禁止剤としては、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−p−ニトロフェニルメチル,p−ベンゾキノン、p−tert−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、tert−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を挙げることができ、保存安定性の点からハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。   Examples of the polymerization inhibitor include reactions of diphenylpicrylhydrazide, tri-p-nitrophenylmethyl, p-benzoquinone, p-tert-butylcatechol, picric acid, copper chloride, methylhydroquinone, methoquinone, tert-butylhydroquinone, etc. In view of storage stability, hydroquinone polymerization inhibitors are preferred, and methyl hydroquinone is particularly preferred.

〔樹脂等〕
本発明にあっては、樹脂等を添加することができ、例えば、多価アルコールと1塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリエステル(メタ)アクリレート;ポリオール基と2個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン(メタ)アクリレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート等の光重合性化合物;アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。
[Resin etc.]
In the present invention, a resin or the like can be added. For example, the polyester prepolymer obtained by condensing a polyhydric alcohol and a monobasic acid or polybasic acid is reacted with (meth) acrylic acid. Polyester (meth) acrylate obtained: Polyurethane (meth) acrylate obtained by reacting a compound having a polyol group and two isocyanate groups with each other and then reacting the reaction product with (meth) acrylic acid; Bisphenol A type Epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolak type epoxy resin, polycarboxylic acid polyglycidyl ester, polyol polyglycidyl ether, aliphatic or cycloaliphatic epoxy resin, amino group epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, dihydroxybenzene type Epoxy such as epoxy resin It includes photopolymerizable liquid crystal compound having an acryl group or a methacryl group or the like; and fat, (meth) photopolymerizable compound in epoxy (meth) acrylate obtained by reacting an acrylic acid.

〔カイラル剤〕
光学異方性層中の光学異方性剤の配列状態としては、例えば、光透過性基材に対して光学異方性剤が平行に配向した状態や、光透過性基材に対して光学異方性剤が垂直に配向した状態を挙げることができる。前者の液晶構造はホモジニアス構造(平行配向構造)と称され、このような構造を有することにより、本発明に用いられる位相差体に光学的にAプレートとしての性質を付与することができる。また、後者の液晶構造はホメオトロピック構造(垂直配向構造)と称され、このような構造を有することにより、本発明の位相差体に光学的に正のCプレートとしての性質を付与することができる。
[Chiral agent]
Examples of the arrangement state of the optical anisotropy agent in the optically anisotropic layer include a state where the optical anisotropy agent is oriented in parallel with respect to the light-transmitting substrate, A state in which the anisotropic agent is vertically oriented can be mentioned. The former liquid crystal structure is called a homogeneous structure (parallel alignment structure). By having such a structure, the retardation member used in the present invention can be optically imparted with properties as an A plate. Further, the latter liquid crystal structure is called a homeotropic structure (vertical alignment structure), and by having such a structure, the retardation member of the present invention can be imparted with properties as an optically positive C plate. it can.

光学異方性剤の配列状態としては、光学異方性剤が規則的な螺旋構造を示すコレステリック配列状態であっても良い。このような配列状態を有することにより、本発明に用いられる位相差体に光学的に負のCプレートとしての性質を付与することができる。   The arrangement state of the optical anisotropy agent may be a cholesteric arrangement state in which the optical anisotropy agent exhibits a regular helical structure. By having such an arrangement state, the property as an optically negative C plate can be imparted to the phase difference body used in the present invention.

光学異方性剤の配列状態をコレステリック配列状態とする場合は、通常、光学異方性層に螺旋構造を誘起させるカイラル剤が添加される。このようなカイラル剤としては、分子内に軸不斉を有する低分子化合物が好ましく用いられる。本発明に用いられるカイラル剤としては、例えば、下記一般式(11)、(12)又は(13)で表される化合物を挙げることができる。   When the arrangement state of the optically anisotropic agent is changed to the cholesteric arrangement state, a chiral agent that induces a helical structure in the optically anisotropic layer is usually added. As such a chiral agent, a low molecular compound having axial asymmetry in the molecule is preferably used. As a chiral agent used for this invention, the compound represented by the following general formula (11), (12) or (13) can be mentioned, for example.

Figure 2009237092
〔上記一般式(11)又は(12)中、
は水素又はメチル基を示し、
c及びdは、アルキレン基の鎖長を示し、それぞれ個別に2〜12の範囲の整数であり、好ましくは4〜10の範囲であり、より好ましく6〜9の範囲であり、
Yは下記一般式(i)〜(xxiv)の任意の一つであり、式(i)、(ii)、(iii)、(v)及び(vii)のいずれか一つであることが好ましい。〕
Figure 2009237092
[In the above general formula (11) or (12),
R 1 represents hydrogen or a methyl group,
c and d each represent the chain length of the alkylene group, and are each individually an integer in the range of 2 to 12, preferably in the range of 4 to 10, more preferably in the range of 6 to 9,
Y is any one of the following general formulas (i) to (xxiv), and is preferably any one of formulas (i), (ii), (iii), (v), and (vii). . ]

Figure 2009237092
Figure 2009237092

Figure 2009237092
Figure 2009237092

光学異方性層の厚さは特に限定されないが、10μm以下程度の範囲であり、好ましくは下限値が0.1μm以上であり上限値が8μm以下程度であり、より好ましくは下限値が0.5μm以上であり上限値が5μm以下程度であることが好ましい。   The thickness of the optically anisotropic layer is not particularly limited, but is in the range of about 10 μm or less, preferably the lower limit is 0.1 μm or more and the upper limit is about 8 μm or less, more preferably the lower limit is 0.00. It is preferably 5 μm or more and the upper limit is about 5 μm or less.

光学異方性層は位相差性を示すものであるが、このような位相差性は用途等に応じて任意に調整することができる。好ましくは、波長550nmにおけるReが0.1nm以上400nm以下程度の範囲内であることが好ましい。これは、液晶パネルの各モードを光学補償するために必要な範囲であるためである。   The optically anisotropic layer exhibits retardation, but such retardation can be arbitrarily adjusted according to the application. Preferably, Re at a wavelength of 550 nm is in the range of about 0.1 nm to 400 nm. This is because the range is necessary to optically compensate each mode of the liquid crystal panel.

「Re」とは、光学異方性層の面内方向において、遅相軸方向(屈折率が最も大きい方向)の屈折率Nx、および、進相軸方向(屈折率が最も小さい方向)の屈折率Nyと、光学異方性層の厚みdとにより、Re=(Nx−Ny)×dの式で表される値である。「Rth」とは、光学異方性層の面内における遅相軸方向(面内屈折率が最も大きい方向)の屈折率Nx、および、進相軸方向(面内屈折率が最も小さい方向)の屈折率Nyと、厚み方向の屈折率Nzと、光学異方性層の厚みdとにより、Rth={(Nx+Ny)/2−Nz}×dの式で表される値である。これらの値は、自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製、商品名:KOBRA−21ADH)により測定することができる。   “Re” means the refractive index Nx in the slow axis direction (the direction with the highest refractive index) and the refraction in the fast axis direction (the direction with the smallest refractive index) in the in-plane direction of the optically anisotropic layer. It is a value represented by the formula of Re = (Nx−Ny) × d by the rate Ny and the thickness d of the optically anisotropic layer. “Rth” means the refractive index Nx in the slow axis direction (the direction with the largest in-plane refractive index) in the plane of the optically anisotropic layer, and the fast axis direction (the direction with the smallest in-plane refractive index). The refractive index Ny, the refractive index Nz in the thickness direction, and the thickness d of the optically anisotropic layer are values represented by the formula Rth = {(Nx + Ny) / 2−Nz} × d. These values can be measured by an automatic birefringence measuring apparatus (manufactured by Oji Scientific Instruments, trade name: KOBRA-21ADH).

本発明の好ましい態様によれば、位相差体は、光学異方性層の面内の、遅相軸方向xの屈折率をNx、進相軸方向yの屈折率をNy、厚み方向zの屈折率をNzとした場合に、下記一般式(I):
Nx>Ny≧Nz (I)
を充足するものが好ましい。
According to a preferred aspect of the present invention, the phase difference body has a refractive index in the slow axis direction x of Nx, a refractive index in the fast axis direction y of Ny, and a thickness direction of z in the plane of the optically anisotropic layer. When the refractive index is Nz, the following general formula (I):
Nx> Ny ≧ Nz (I)
Those satisfying the above are preferable.

また、本発明の好ましい別の態様によれば、位相差体は、
前記光学異方性層の面内の、遅相軸方向xの屈折率をNx、進相軸方向yの屈折率をNy、厚み方向zの屈折率をNzとした場合に、下記一般式(II):
Nx≦Ny<Nz (II)
を充足するものが好ましい。
According to another preferred aspect of the present invention, the phase difference body is
In the plane of the optically anisotropic layer, when the refractive index in the slow axis direction x is Nx, the refractive index in the fast axis direction y is Ny, and the refractive index in the thickness direction z is Nz, the following general formula ( II):
Nx ≦ Ny <Nz (II)
Those satisfying the above are preferable.

また、本発明の好ましいさらに別の態様によれば、位相差体は、前記光学異方性層の面内の、遅相軸方向xの屈折率をNx、進相軸方向yの屈折率をNy、厚み方向zの屈折率をNzとした場合に、下記一般式(III):
Nx≒Ny>Nz (III)
を充足するものが好ましい。
According to still another preferred aspect of the present invention, the retardation member has a refractive index in the slow axis direction x of Nx and a refractive index in the fast axis direction y in the plane of the optically anisotropic layer. Ny, where Nz is the refractive index in the thickness direction z, the following general formula (III):
Nx≈Ny> Nz (III)
Those satisfying the above are preferable.

本発明にあっては、位相差値は、使用目的において適宜定めることができるが、以下の通りとすることができる。VA用光学補償フィルムの場合、位相差値の範囲は、Reは0nm以上10nm以下程度であり、Rthは120nm以上400nm以下程度であり、又は、Reが40nm以上70nm以下程度であり、Rthが150nm以上300nm以下程度である。また、IPS用光学補償フィルムの場合、Reが60nm以上140nm以下程度であり、Rthが−400nm以上200nm以下程度である。さらに、本発明にあっては、TN用光学補償フィルムの場合、Reが120nm以上280nm以下程度であり、Rthは60nm以上140nm以下程度である。   In the present invention, the phase difference value can be appropriately determined for the purpose of use, but can be as follows. In the case of the optical compensation film for VA, the range of the retardation value is such that Re is about 0 nm to 10 nm and Rth is about 120 nm to 400 nm, or Re is about 40 nm to 70 nm and Rth is 150 nm. It is about 300 nm or less. In the case of the IPS optical compensation film, Re is about 60 nm to 140 nm and Rth is about −400 nm to 200 nm. Furthermore, in the present invention, in the case of the optical compensation film for TN, Re is about 120 nm to 280 nm and Rth is about 60 nm to 140 nm.

2)光透過性基材
光透過性基材は、透明性を有するものであり、光学異方性層及びその他層を支持する機能を有するものである。また、必要に応じて、添加剤を含有する光透過性基材であっても好適に用いることができる。
2) Light-transmitting substrate The light-transmitting substrate is transparent and has a function of supporting the optically anisotropic layer and other layers. Moreover, even if it is a light transmissive base material containing an additive as needed, it can be used conveniently.

本発明に用いられる光透過性基材の透明度は、好ましくは、可視光領域における透過率が80%以上であり、好ましくは90%以上である。透過率が上記範囲であることにより、例えば、本発明の位相差体を液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いた場合に、液晶表示装置の表示輝度が低下すること等を防止することができる。光透過性基材の透過率は、JIS K7361−1(プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。   The transparency of the light-transmitting substrate used in the present invention is preferably such that the transmittance in the visible light region is 80% or more, preferably 90% or more. When the transmittance is in the above range, for example, when the retardation of the present invention is used as a viewing angle compensation film for a liquid crystal display device, it is possible to prevent the display luminance of the liquid crystal display device from being lowered. . The transmittance of the light transmissive substrate can be measured according to JIS K7361-1 (Testing method for total light transmittance of plastic transparent material).

光透過性基材は、可撓性を有するフレキシブル材でも、可撓性のないリジッド材であってもよく、フレキシブル材を用いることが好ましい。フレキシブル材を用いることにより、本発明の位相差体の製造工程をRoll to Roll(基材を帯状の薄膜(ウェブの形態とし、巻芯上に巻き取ったRollの状態から巻き出して、加工し、その後再度巻芯上に巻き取る加工形態)プロセスとすることが可能になるため、生産性に優れた位相差体を得ることができる。   The light-transmitting substrate may be a flexible material having flexibility or a rigid material having no flexibility, and it is preferable to use a flexible material. By using a flexible material, the manufacturing process of the phase difference body of the present invention can be performed by rolling to roll (the substrate is in the form of a strip-shaped thin film (web, unrolled from the roll state wound on the core). Then, after that, it is possible to obtain a process that is wound again on the core again, so that a phase difference body with excellent productivity can be obtained.

フレキシブル材を構成する材料としては、後述の各種セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、アモルファスポリオレフィン等のポリオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、変性アクリル系ポリマー等のアクリル系ポリマー、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類などを例示することができ、セルロース誘導体またはシクロオレフィン系ポリマーが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れ、シクロオレフィン系ポリマーは耐久性に優れるからである。   Examples of the material constituting the flexible material include various cellulose derivatives described later, norbornene polymers, cycloolefin polymers, polyolefin polymers such as amorphous polyolefins, acrylic polymers such as polymethyl methacrylate and modified acrylic polymers, polyvinyl alcohol, and polyimides. And polyester polymers such as polyarylate and polyethylene terephthalate, polysulfone, polyethersulfone, amorphous polyolefin, modified acrylic polymer, polystyrene, epoxy resin, polycarbonate, polyester, etc., cellulose derivatives or cycloolefin polymers Is preferred. This is because the cellulose derivative is particularly excellent in optical isotropy, and the cycloolefin polymer is excellent in durability.

セルロース誘導体としては、セルロースエステルを用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類のなかでも、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く生産され、入手が容易である。   As the cellulose derivative, it is preferable to use a cellulose ester, and among the cellulose esters, it is preferable to use cellulose acylates. Cellulose acylates are widely produced industrially and are easily available.

セルロースアシレート類としては、炭素数2〜4の低級脂肪酸エステルが好ましい。このような低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであっても良い。   As the cellulose acylates, lower fatty acid esters having 2 to 4 carbon atoms are preferable. Such a lower fatty acid ester may contain only a single lower fatty acid ester, for example, cellulose acetate, and a plurality of fatty acid esters such as cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate may be used. It may be included.

本発明においては、低級脂肪酸エステルのなかでもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。また、セルロースアセテートとしては、平均酢化度が57.5〜62.5%(置換度:2.6〜3.0)のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験方法)におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。なお、トリアセチルセルロースフィルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。   In the present invention, cellulose acetate can be particularly preferably used among the lower fatty acid esters. Moreover, as a cellulose acetate, it is most preferable to use the triacetyl cellulose whose average acetylation degree is 57.5-62.5% (substitution degree: 2.6-3.0). Here, the degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose. The degree of acetylation can be determined by measurement and calculation of the degree of acetylation in ASTM: D-817-91 (testing method for cellulose acetate, etc.). In addition, the acetylation degree of the triacetyl cellulose which comprises a triacetyl cellulose film can be calculated | required by said method, after removing impurities, such as a plasticizer contained in a film.

上記シクロオレフィン系ポリマーとしては、シクロオレフィンポリマー(COP)またはシクロオレフィンコポリマー(COC)を挙げることができ、シクロオレフィンポリマーが好ましい。シクロオレフィンポリマーは、水分の吸収性および透過性が低いため、位相差体の光学特性を経時的に安定させることが可能となる。シクロオレフィンポリマーの具体例としては、例えば、JSR株式会社製、商品名:ARTONや日本ゼオン株式会社製、商品名ゼオノア等を挙げることができる。   Examples of the cycloolefin polymer include a cycloolefin polymer (COP) or a cycloolefin copolymer (COC), and a cycloolefin polymer is preferable. Since the cycloolefin polymer has low moisture absorption and permeability, it is possible to stabilize the optical characteristics of the retardation body over time. Specific examples of the cycloolefin polymer include, for example, JSR Corporation, trade name: ARTON, Nippon Zeon Corporation, trade name ZEONOR, and the like.

光透過性基材の厚みは、特に限定されないが、25μm以上1000μm以下程度の範囲内であり、好ましくは下限値が30μm以上であり上限値が100μm以下程度であることが好ましい。光透過性基材の厚みが上記の範囲内にあることにより、支持体としての性能を発揮することができると共に、裁断工程等において加工屑が少なく、又裁断刃の磨耗を防止することが可能となる。光透過性基材は、単一又は複数の層から構成されてよく、また、同一又はことなる組成のもので構成されてもよい。
(基材自体が延伸化されたものを下記に記載しました。)
The thickness of the light-transmitting substrate is not particularly limited, but is in the range of about 25 μm to 1000 μm, preferably the lower limit is 30 μm and the upper limit is about 100 μm. When the thickness of the light-transmitting substrate is within the above range, the performance as a support can be exhibited, the processing waste is reduced in the cutting process, etc., and the cutting blade can be prevented from being worn. It becomes. The light-transmitting substrate may be composed of a single layer or a plurality of layers, and may be composed of the same or different composition.
(The base material itself is drawn below.)

延伸化
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材それ自体が延伸化されたものであっても用いることができる。延伸化された光透過性基材は、それ自体が配向能を有するものであり、その延伸方向に沿って液晶材料を配向させることが可能となる。従って、延伸化された光透過性基材は、上記した光透過性基材を延伸処理したものを使用することができる。
Stretching According to a preferred embodiment of the present invention, the light-transmitting substrate itself can be used even if it is stretched. The stretched light-transmitting substrate itself has alignment ability, and the liquid crystal material can be aligned along the stretching direction. Therefore, the stretched light-transmitting substrate can be obtained by stretching the above-described light-transmitting substrate.

また、市販の延伸化光透過性基材を用いることも可能であり、また必要に応じて種々の材料の光透過性基材を延伸化処理することも可能である。具体的には、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレートやポリエチレンテレフタレートの如きポリエステル系高分子、ポリイミド系高分子、ポリスルホン系高分子、ポリエーテルスルホン系高分子、ポリスチレン系高分子、ポリエチレンやポリプロピレンの如きポリオレフィン系高分子、ポリビニルアルコール系高分子、酢酸セルロース系高分子、ポリ塩化ビニル系高分子、ポリメチルメタクリレート系高分子等の熱可塑性ポリマーなどからなるフィルムや、液晶ポリマーからなるフィルムなどを挙げることができる。本発明においては、中でもポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムが、延伸倍率のレンジ幅が広い点、さらには入手のしやすさ等の観点から好ましく用いられる。   Moreover, it is also possible to use a commercially available stretched light-transmitting substrate, and it is possible to stretch a light-transmitting substrate made of various materials as required. Specifically, polycarbonate polymers, polyester polymers such as polyarylate and polyethylene terephthalate, polyimide polymers, polysulfone polymers, polyethersulfone polymers, polystyrene polymers, polyolefins such as polyethylene and polypropylene Film made of thermoplastic polymer such as polymer based polymer, polyvinyl alcohol polymer, cellulose acetate polymer, polyvinyl chloride polymer, polymethyl methacrylate polymer, or film made of liquid crystal polymer. it can. In the present invention, among them, a polyethylene terephthalate (PET) film is preferably used from the viewpoints of a wide range of stretch ratio and availability.

本発明に用いられる延伸フィルムの延伸率としては、配向能が発揮し得る程度の延伸率であれば特に限定されるものはない。したがって、2軸延伸フィルムであっても2軸間で延伸率が異なるものであれば用いることが可能である。   The stretch ratio of the stretched film used in the present invention is not particularly limited as long as the stretch ratio is such that the orientation ability can be exhibited. Therefore, even if it is a biaxially stretched film, it can be used as long as the stretch ratio differs between the two axes.

3)その他の層
本発明にあっては、光透過性基材及び光学異方性層以外に、配向層、表面処理層、遮蔽層、応力緩和層等の他の層を備えてなるものであってもよい。本発明にあっては、配向層について以下に説明する。
3) Other layers In the present invention, in addition to the light-transmitting substrate and the optically anisotropic layer, other layers such as an alignment layer, a surface treatment layer, a shielding layer, and a stress relaxation layer are provided. There may be. In the present invention, the alignment layer will be described below.

配向層
配向層は、光学異方性層に含有される液晶材料に対する配向規制力を備えたものである。本発明に用いられる配向膜としては、高分子フィルムの表面をラビング処理することにより配向規制力を発現させたラビング膜、または、光配向法により配向規制力を発現する光配向材料を含有する光配向膜が挙げられ、光配向膜を用いることが好ましい。光配向膜を用いることにより液晶材料の配列方向を調整することが容易となるため、任意方向の遅相軸を有する位相差体を得ることが容易になるからである。また、上記ラビング膜は、配向規制力を発現させるためのラビング処理で発生する塵に起因して、例えば、本発明の位相差体を液晶表示装置等に用いた場合に輝点欠陥が生じる可能性があるが、上記光配向膜は光を照射することにより非接触で配向規制力を発現することが可能であるためそのような問題が少ないからである。「光配向法」とは、任意の偏光状態を有する光(偏光)を配向層に照射することにより配向層の配向規制力(異方性)を発現させる方法である。
Alignment layer The alignment layer has an alignment regulating force for the liquid crystal material contained in the optically anisotropic layer. As the alignment film used in the present invention, a light containing a rubbing film in which an alignment regulating force is expressed by rubbing the surface of a polymer film, or a photo-alignment material that expresses an alignment regulating force by a photo-alignment method. An alignment film is mentioned, and it is preferable to use a photo-alignment film. This is because by using the photo-alignment film, it becomes easy to adjust the alignment direction of the liquid crystal material, so that it is easy to obtain a phase difference body having a slow axis in an arbitrary direction. In addition, the rubbing film may cause a bright spot defect when, for example, the phase difference body of the present invention is used in a liquid crystal display device due to dust generated in the rubbing treatment for expressing the alignment regulating force. However, since the photo-alignment film can express the alignment regulating force in a non-contact manner by irradiating light, there are few such problems. The “photo-alignment method” is a method for expressing the alignment regulating force (anisotropy) of the alignment layer by irradiating the alignment layer with light having an arbitrary polarization state (polarized light).

光配向材料は、偏光を照射することにより分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本発明においては光反応材料を用いることがより好ましい。光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能にとなり、配向規制力の経時安定性が優れる。   Photoalignment materials are largely divided into photoisomerization materials that reversibly change the alignment regulation force by changing only the molecular shape by irradiating polarized light, and photoreactive materials that change the molecule itself by irradiating polarized light. Can be separated. In the present invention, it is more preferable to use a photoreactive material. The photoreactive material is a material that reacts with polarized light and reacts with molecules to develop an orientation regulating force. Therefore, it becomes possible to irreversibly develop an orientation regulating force, and the stability over time of the orientation regulating force is achieved. Is excellent.

光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および、光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本発明においては光二量化型材料を用いることがより好ましい。   The photoreactive material can be further classified according to the type of reaction caused by polarized light irradiation. Specifically, a photodimerization type material that develops an alignment regulation force by causing a photodimerization reaction, a photodegradable material that produces an orientation regulation force by producing a photodecomposition reaction, an orientation regulation by producing a photobinding reaction It can be divided into a photocoupled material that expresses force, and a photolytic-coupled material that develops alignment regulation force by causing a photodecomposition reaction and a photocoupled reaction. In the present invention, it is more preferable to use a photodimerization type material.

光二量化型材料は、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されない。なかでも本発明においては光二量化反応を生じる光の波長が200nm〜300nmの範囲内であることが好ましい。   The photodimerization-type material is not particularly limited as long as it is a material that can exhibit an orientation regulating force by causing a photodimerization reaction. Especially in this invention, it is preferable that the wavelength of the light which produces a photodimerization reaction exists in the range of 200 nm-300 nm.

光二量化型材料としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーを挙げることができ、シンナメート、または、クマリンの少なくとも一方を有するポリマー、シンナメートおよびクマリンを有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平9−118717号公報、特表10−506420号公報、および、特表2003−505561号公報に記載された化合物を挙げることができる。シンナメート、および、クマリンとしては、下記一般紙式Ia、Ibで表されるものが好適に用いられる。   Examples of the photodimerization type material include cinnamate, coumarin, benzylidenephthalimidine, benzylideneacetophenone, diphenylacetylene, stilbazole, uracil, quinolinone, maleimide, or a polymer having a cinnamylidene acetic acid derivative, cinnamate, or , A polymer having at least one of coumarin, a polymer having cinnamate and coumarin are preferably used. Specific examples of such a photodimerization type material include compounds described in JP-A-9-118717, JP-A-10-506420, and JP-A-2003-505561. As cinnamate and coumarin, those represented by the following general paper formulas Ia and Ib are preferably used.

Figure 2009237092
〔上記式中、
Aは、ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイル、2,5−チオフェニレン、2,5−フラニレン、1,4−もしくは2,6−ナフチレンを表すか、非置換であるか、フッ素、塩素または炭素原子1〜18個の環式、直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル残基(非置換であるか、フッ素、塩素によって一または多置換されており、1個以上の隣接しない−CH2−基が独立して基Cによって置換されていてもよい)によって一または多置換されているフェニレンを表し、
Bは、水素原子を表すか、第二の物質、たとえばポリマー、オリゴマー、モノマー、光活性ポリマー、光活性オリゴマーおよび/または光活性モノマーもしくは表面と反応または相互作用することができる基を表し、
Cは、−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−NR1−、−NR1−CO−、−CO−NR1−、−NR1−CO−O−、−O−CO−NR1−、−NR1−CO−NR1−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−CO−O−および−Si(CH32−O−Si(CH32−(R1は水素原子または低級アルキルを表す)から選択される基を表し、
Dは、−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−NR1−、−NR1−CO−、−CO−NR1−、−NR1−CO−O−、−O−CO−NR1−、−NR1−CO−NR1−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−CO−O−および−Si(CH32−O−Si(CH32−(R1は水素原子または低級アルキルを表す)から選択される基、芳香族基または脂環式基を表し、
1およびS2は、互いに独立して、単結合またはスペーサー単位、たとえば炭素原子1〜40個の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキレン基(非置換であるか、フッ素、塩素によって一または多置換されており、1個以上の隣接しない−CH2−基が独立して基Dによって置換されていてもよいが、酸素原子が互いに直接的には結合していない)を表し、
Qは、酸素原子または−NR1−(R1は水素原子または低級アルキルを表す)を表し、
XおよびYは、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、シアノ、炭素原子1〜12個のアルキル(場合によってはフッ素によって置換されており、場合によっては1個以上の隣接しない−CH2−基が−O−、−CO−O−、−O−CO−および/または−CH=CH−によって置換されている)を表す。〕
Figure 2009237092
[In the above formula,
A represents pyrimidine-2,5-diyl, pyridine-2,5-diyl, 2,5-thiophenylene, 2,5-furylene, 1,4- or 2,6-naphthylene, or unsubstituted. Or a cyclic, linear or branched alkyl residue of 1 to 18 carbon atoms (unsubstituted or mono- or polysubstituted by fluorine or chlorine, one or more adjacent Represents a phenylene which is mono- or polysubstituted by a —CH 2 — group which may be independently substituted by the group C),
B represents a hydrogen atom or a group capable of reacting or interacting with a second substance, such as a polymer, oligomer, monomer, photoactive polymer, photoactive oligomer and / or photoactive monomer or surface;
C is, -O -, - CO -, - CO-O -, - O-CO -, - NR 1 -, - NR 1 -CO -, - CO-NR1 -, - NR 1 -CO-O-, —O—CO—NR 1 —, —NR 1 —CO—NR 1 —, —CH═CH—, —C≡C—, —O—CO—O— and —Si (CH 3 ) 2 —O—Si Represents a group selected from (CH 3 ) 2 — (R 1 represents a hydrogen atom or lower alkyl);
D represents —O—, —CO—, —CO—O—, —O—CO—, —NR 1 —, —NR 1 —CO—, —CO—NR 1 —, —NR 1 —CO—O—. , —O—CO—NR 1 —, —NR 1 —CO—NR 1 —, —CH═CH—, —C≡C—, —O—CO—O— and —Si (CH 3 ) 2 —O—. A group selected from Si (CH 3 ) 2 — (R 1 represents a hydrogen atom or lower alkyl), an aromatic group or an alicyclic group;
S 1 and S 2 are independently of each other a single bond or a spacer unit, for example a linear or branched alkylene group of 1 to 40 carbon atoms (unsubstituted or mono- or polysubstituted by fluorine, chlorine And one or more non-adjacent —CH 2 — groups may be independently substituted by the group D, but the oxygen atoms are not directly bonded to each other),
Q represents an oxygen atom or —NR 1 — (R 1 represents a hydrogen atom or lower alkyl);
X and Y are independently of each other hydrogen, fluorine, chlorine, cyano, alkyl of 1 to 12 carbon atoms (optionally substituted by fluorine and optionally one or more non-adjacent —CH 2 — Group is substituted by -O-, -CO-O-, -O-CO- and / or -CH = CH-). ]

本発明においては、上記式で表されるシンナメート、および、クマリンのなかでも、特表2004−536185号公報に記載のものを用いることが好ましい。
光配向膜を用いる場合、光配向材料以外に他の材料が含まれていても良い。このような他の材料としては、通常、一つ以上の官能基を持つモノマー又はオリゴマーが用いられる。このようなモノマー又はオリゴマーとしては、例えば、アクリレート系の官能基を有する単官能モノマー(例えば、反応性エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン)及び多官能モノマー(例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリエチレン(ポリプロピレン)グリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ポリ(メタ)アクリレート(例えば、イソシアヌル酸EOジアクリレート等))や、ビスフェノールフルオレン誘導体(例えば、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノールフルオレンジエポキシアクリレート)等を単体もしくは混合したものとして用いることができる。
In the present invention, among the cinnamates represented by the above formula and coumarins, those described in JP-T-2004-536185 are preferably used.
When using a photo-alignment film, other materials may be included in addition to the photo-alignment material. As such other materials, monomers or oligomers having one or more functional groups are usually used. Examples of such a monomer or oligomer include monofunctional monomers having an acrylate functional group (for example, reactive ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone) and many others. Functional monomers (for example, polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, triethylene (polypropylene) glycol diacrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri ( (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate And isocyanuric acid poly (meth) acrylate (for example, isocyanuric acid EO diacrylate)) and bisphenol fluorene derivatives (for example, bisphenoxyethanol full orange acrylate, bisphenol full orange epoxy acrylate), etc. be able to.

モノマー又はオリゴマーは重合性液晶材料であることが好ましい。光学異方性層に重合性液晶材料が含まれる場合、重合性液晶材料は、光学異方性層に含まれる重合性液晶材料と同一種類のものを含むことが好ましい。モノマー又はオリゴマーは、本発明に用いられる位相差体を製造する方法として、光透過性基材上に配向層が積層された時点でロール巻きされる方法を用いる場合は、配向層が常温(20〜25℃)で固体になるものを用いることが好ましい。この場合、モノマー又はオリゴマーの種類としては、常温(20〜25℃)において固体であるものを用いることが好ましい。これにより、光透過性基材上に配向層が積層された時点でロール巻きされる場合でも、光透過性基材の裏面に配向層が貼り付くことに起因するブロッキングが生じることを防止できる。   The monomer or oligomer is preferably a polymerizable liquid crystal material. When a polymerizable liquid crystal material is included in the optically anisotropic layer, the polymerizable liquid crystal material preferably includes the same type of polymerizable liquid crystal material as included in the optically anisotropic layer. In the case of using a method in which the monomer or oligomer is rolled when the alignment layer is laminated on the light-transmitting substrate as a method for producing the retardation member used in the present invention, the alignment layer is at room temperature (20 It is preferable to use a material that becomes solid at ˜25 ° C.). In this case, it is preferable to use a monomer or oligomer that is solid at room temperature (20 to 25 ° C.). Thereby, even when it rolls at the time of alignment layer being laminated | stacked on the light transmissive base material, it can prevent that the blocking resulting from sticking an alignment layer on the back surface of a light transmissive base material arises.

モノマー又はオリゴマーの含有量は、配向層と光学異方性層とを所望の強度で密着できる範囲内であれば特に限定されるものではない。光反応材料の質量に対して0.01倍〜3倍の範囲内が好ましく、特に0.05倍〜1.5倍の範囲内であることが好ましい。含有量が上記範囲内にあることにより、配向層と、光学異方性層とを所望の強度で密着することが可能となり、かつ、配向層の配向規制力を十分に発揮することが可能となる。配向層の厚みは、0.01μm以上0.5μm以下程度の範囲内、好ましくは下限値が0.02μm以上であり上限値が0.2μm以下程度が好ましい。   The content of the monomer or oligomer is not particularly limited as long as it is within a range in which the alignment layer and the optically anisotropic layer can be adhered with desired strength. The range of 0.01 to 3 times the mass of the photoreactive material is preferable, and the range of 0.05 to 1.5 times is particularly preferable. When the content is in the above range, the alignment layer and the optically anisotropic layer can be adhered with a desired strength, and the alignment regulating force of the alignment layer can be sufficiently exhibited. Become. The thickness of the alignment layer is preferably in the range of about 0.01 μm to 0.5 μm, preferably the lower limit is 0.02 μm and the upper limit is about 0.2 μm.

配向層形成用組成物として、溶媒を使用することができる。溶剤は、光配向材料およびモノマー又はオリゴマーを所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されるものではない。例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、本発明に用いられる溶媒は、1種類でもよく、2種類以上の溶媒の混合溶媒でもよい。   A solvent can be used as the composition for forming an alignment layer. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the photo-alignment material and the monomer or oligomer at a desired concentration. For example, hydrocarbon solvents such as benzene and hexane, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, ether solvents such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, alkyl halide solvents such as chloroform and dichloromethane, Ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, anan solvents such as cyclohexane, methanol, Examples of the alcohol solvent include ethanol and propanol, but are not limited thereto. Further, the solvent used in the present invention may be one kind or a mixed solvent of two or more kinds of solvents.

II.位相差体の製造方法
本発明の位相差体の製造方法は、光透過性基材に、光学異方性層と、その他の層を形成させることを含んでなるものである。本発明による製造方法の概要を以下に説明する。
II. Method for producing phase difference body The method for producing a phase difference body of the present invention comprises forming an optically anisotropic layer and other layers on a light-transmitting substrate. The outline of the production method according to the present invention will be described below.

(1)材料の準備工程
光透過性基材、光学異方性層及びその他の層形成用組成物を用意する。
(2)光学異方性層と、その他の層形成工程
光学異方性層形成組成物の塗膜を形成した後、当該塗膜に含まれる液晶材料を配列させることにより光学異方性層を形成する。本工程において液晶材料を配列させる方法としては、通常、上記塗膜を液晶材料の液晶層形成温度以上に加温する方法が用いられる。また、光学異方性層を形成する前に、配向層を形成することができる。本発明にあっては、配向層は、配向膜用組成物の吸収波長をカットしながら、モノマーもしくはオリゴマーを硬化させ、その後、任意の偏光状態を持つ紫外線を照射して配向規制力を発現させることにより配向層とすることができる。
(1) Material preparation step A light-transmitting substrate, an optically anisotropic layer, and other layer forming compositions are prepared.
(2) Optically anisotropic layer and other layer forming steps After forming the coating film of the optically anisotropic layer forming composition, the liquid crystal material contained in the coating film is aligned to form the optically anisotropic layer. Form. As a method of aligning the liquid crystal material in this step, a method of heating the coating film to a temperature higher than the liquid crystal layer forming temperature of the liquid crystal material is usually used. In addition, an alignment layer can be formed before forming the optically anisotropic layer. In the present invention, the alignment layer cures the monomer or oligomer while cutting the absorption wavelength of the alignment film composition, and then irradiates ultraviolet rays having an arbitrary polarization state to express the alignment regulating force. Thus, an alignment layer can be obtained.

光透過性基材の上に、光学異方性層、又はその他の層形成用組成物を塗工する方法の具体例としては、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、プリント法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、E型塗布方法などを例示することができる。   Specific examples of the method of coating the optically anisotropic layer or other layer forming composition on the light transmissive substrate include a gravure coating method, a reverse coating method, a knife coating method, a dip coating method, Examples thereof include a spray coating method, an air knife coating method, a roll coating method, a printing method, a curtain coating method, a die coating method, a casting method, a bar coating method, an extrusion coating method, and an E-type coating method.

乾燥方法は、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本発明における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。   As a drying method, a commonly used drying method such as a heat drying method, a vacuum drying method, a gap drying method, or the like can be used. In addition, the drying method in the present invention is not limited to a single method, and a plurality of drying methods may be employed, for example, by changing the drying method sequentially according to the amount of solvent remaining.

(3)延伸化処理
本発明においては、光学異方性層及びその他の層を形成した後に、光透過性基材を延伸化してもよい。本発明にあっては、延伸化した光透過性基材を用いる以外に、偏光体を構成した後に、延伸化することが可能であり、より好ましい。各層が形成された光透過性基材を延伸することから、延伸条件のバラツキによる屈折率異方性の発現の程度のバラツキを少なくして、屈折率異方性を安定化させやすいという利点を有する。
(3) Stretching treatment In the present invention, the light-transmitting substrate may be stretched after forming the optically anisotropic layer and other layers. In the present invention, in addition to using a stretched light-transmitting substrate, it is possible to stretch the polarizer after constituting the polarizer, which is more preferable. Since the light-transmitting substrate on which each layer is formed is stretched, there is an advantage that it is easy to stabilize the refractive index anisotropy by reducing variations in the degree of expression of refractive index anisotropy due to variations in stretching conditions. Have.

本発明においては、上記乾燥工程の後に、上記高分子フィルムを延伸する延伸工程を有し、さらに当該延伸工程の後に、前記高分子フィルム内に浸透した上記屈折率異方性材料を固定化する固定化工程を有しても良い。このように上記屈折率異方性材料を固定化する前に延伸する場合には、延伸工程において位相差フィルムのリタデーション値の変化を大きくすることが可能である。   In this invention, it has the extending process which extends the said polymer film after the said drying process, and also the said refractive index anisotropic material which penetrate | infiltrated in the said polymer film is fixed after the said extending process. You may have an immobilization process. Thus, when extending | stretching before fixing the said refractive index anisotropic material, it is possible to enlarge the change of the retardation value of retardation film in an extending | stretching process.

また、本発明においては、上記高分子フィルムを延伸する延伸工程の後に、前記位相差強化領域形成用塗工液を塗布する塗布工程を有しても良い。このような場合にも、面内方向及び厚み方向の両方のリタデーション値を強化することが可能であり、延伸後に屈折率異方性材料を塗布、浸透させることにより、塗布後に延伸したものよりも、後に行われる高温高湿試験において延伸戻りが少なくなるというメリットを有する。   Moreover, in this invention, you may have the application | coating process which apply | coats the said coating liquid for phase difference strengthening area | region formation after the extending | stretching process of extending | stretching the said polymer film. Even in such a case, it is possible to reinforce both the in-plane direction and the thickness direction retardation value, and by applying and infiltrating a refractive index anisotropic material after stretching, than that stretched after coating. In the high-temperature and high-humidity test to be performed later, there is a merit that the stretching return is reduced.

III.位相差体の物性及び用途
位相差体は、薄膜(フィルム)、板、シート等の形態として形成することができる。位相差体の厚さは、30μm以上200μm以下程度の範囲内、好ましくは下限値が30μm以上であり上限値が100μm以下程度が好ましい。
III. Physical properties and application of phase difference body The phase difference body can be formed in the form of a thin film (film), a plate, a sheet or the like. The thickness of the phase difference body is in the range of about 30 μm to 200 μm, preferably the lower limit is 30 μm or more and the upper limit is about 100 μm.

位相差体のReの波長分散は、波長が短くなるほどRe値が小さくなる逆分散型であっても良く、波長が短くなるほどRe値が大きくなる正分散型であっても良く、または、Re値に波長依存性を有さないフラット型であっても良い。   The chromatic dispersion of Re in the phase difference body may be a reverse dispersion type in which the Re value decreases as the wavelength becomes shorter, or a forward dispersion type in which the Re value increases as the wavelength becomes shorter, or the Re value. May be a flat type having no wavelength dependency.

本発明による位相差体は、例えば、液晶表示装置に用いられる光学補償フィルム(例えば、視野角補償フィルム)、楕円偏光板、輝度向上板等を挙げることができる。なかでも本発明の位相差体は、液晶表示装置の視野角依存性改善のための光学補償フィルムとして好適に用いることができる。   Examples of the retardation member according to the present invention include an optical compensation film (for example, a viewing angle compensation film), an elliptically polarizing plate, and a brightness enhancement plate used for a liquid crystal display device. Especially, the phase difference body of this invention can be used suitably as an optical compensation film for the viewing angle dependency improvement of a liquid crystal display device.

実施例
本発明の内容を下記の例により詳細に説明するが、本発明の内容は下記例により限定して解釈されるものではない。
EXAMPLES The contents of the present invention will be described in detail by the following examples, but the contents of the present invention should not be construed as being limited by the following examples.

反応性無機微粒子の調製
反応性無機微粒子1
(1)表面吸着イオン除去
粒子径90nmの水分散コロイダルシリカ(スノーテックスZL、商品名、日産化学工業(株)製、pH9〜10)を陽イオン交換樹脂(ダイヤイオンSK1B、三菱化学(株)製)400gを用いて3時間イオン交換を行い、次いで、陰イオン交換樹脂(ダイヤイ
オンSA20A、三菱化学(株)製)200gを用いて3時間イオン交換を行った後、洗浄し固形分濃度20重量%の無機微粒子の水分散体を得た。この時、無機微粒子の水分散体のNaO含有量は、無機微粒子当たり各7ppmであった。
(2)表面処理(単官能モノマーの導入)
上記(1)の処理を行った無機微粒子の水分散液10gに150mlのイソプロパノール、4.0gの3,6,9−トリオキサデカン酸、及び4.0gのメタクリル酸を加え、30分間撹拌し混合した。得られた混合液を、60℃で5時間加熱しながら撹拌する事で、無機微粒子表面にメタクリロイル基が導入された無機微粒子分散液を得た。得られた無機微粒子分散液を、ロータリーエバポレーターを用いて蒸留水、及びイソプロパノールを留去させ、乾固させないようにメチルエチルケトンを加えながら、最終的に残留する水やイソプロパノールを0.1重量%とし、固形分50重量%のシリカ分散メチルエチルケトン溶液を得た。このようにして得られた反応性無機微粒子1は、日機装(株)社製Microtrac粒度分析計により測定した結果、d50=93nmの平均粒子径を有していた。また、無機微粒子表面を被覆する有機成分量は、熱重量分析法により測定した結果4.05×10−3g/mであった。
Preparation of reactive inorganic fine particles
Reactive inorganic fine particles 1
(1) Surface adsorbed ion removal Water-dispersed colloidal silica (Snowtex ZL, trade name, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., pH 9 to 10) having a particle diameter of 90 nm is exchanged with a cation exchange resin (Diaion SK1B, Mitsubishi Chemical Corporation). Ion exchange is performed for 3 hours using 400 g, and then ion exchange is performed for 3 hours using 200 g of anion exchange resin (Diaion SA20A, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), followed by washing and solid content concentration of 20 An aqueous dispersion of wt% inorganic fine particles was obtained. At this time, the Na 2 O content of the aqueous dispersion of inorganic fine particles was 7 ppm for each inorganic fine particle.
(2) Surface treatment (introduction of monofunctional monomer)
150 g of isopropanol, 4.0 g of 3,6,9-trioxadecanoic acid, and 4.0 g of methacrylic acid are added to 10 g of the aqueous dispersion of inorganic fine particles subjected to the treatment of (1) above and stirred for 30 minutes. Mixed. The obtained mixed liquid was stirred while being heated at 60 ° C. for 5 hours to obtain an inorganic fine particle dispersion liquid in which methacryloyl groups were introduced on the surface of the inorganic fine particles. Distilled water and isopropanol were distilled off using a rotary evaporator to the obtained inorganic fine particle dispersion, and while adding methyl ethyl ketone so as not to dry, the final residual water and isopropanol were 0.1% by weight, A silica-dispersed methyl ethyl ketone solution having a solid content of 50% by weight was obtained. The reactive inorganic fine particles 1 thus obtained had an average particle size of d50 = 93 nm as a result of measurement with a Microtrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. The amount of the organic component covering the surface of the inorganic fine particles was 4.05 × 10 −3 g / m 2 as a result of measurement by thermogravimetric analysis.

反応性無機微粒子2
メタクリル酸をジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR399、商品名、サートマー(株)製)に変更した以外は、反応性無機微粒子1の調製と同様の手法で表面処理を行った。このようにして得られた反応性無機微粒子2は、上記粒度分析計により測定した結果、d50=93nmの平均粒子径を有していた。また、無機微粒子表面を被覆する有機成分量は熱重量分析法により測定した結果3.84×10−3g/mであった。
Reactive inorganic fine particles 2
Surface treatment was performed in the same manner as the preparation of the reactive inorganic fine particles 1 except that methacrylic acid was changed to dipentaerythritol pentaacrylate (SR399, trade name, manufactured by Sartomer Co., Ltd.). The reactive inorganic fine particles 2 thus obtained had an average particle diameter of d50 = 93 nm as a result of measurement by the particle size analyzer. The amount of the organic component covering the surface of the inorganic fine particles was 3.84 × 10 −3 g / m 2 as a result of measurement by thermogravimetric analysis.

反応性無機微粒子3
乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン7.8部、ジブチルスズジラウレート0.2部からなる溶液に対し、イソフォロンジイソシアネート20.6部を撹拌しながら50℃で1時間かけて滴下後、60℃で3時間撹拌した。これにペンタエリスリトールトリアクリレート71.4部を30℃で1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱撹拌することで化合物を得た。次に、窒素気流下、メタノールシリカゾル(触媒化成(株)製、商品名、OSCALシリーズ、メタノール分散液、数平均粒子径45nm)88.5部(固形分26.6部)、上記で合成した化合物8.5部、p−メトキシフェノール0.01部の混合液を、60℃、4時間撹拌した。続いて、この混合溶液に化合物(2)としてメチルトリメトキシシラン3部を添加し、60℃、1時間撹拌した後、オルト蟻酸メチルエステル9部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱撹拌することで架橋性無機微粒子を得た。このようにして得られた反応性無機微粒子3は、上記粒度分析計により測定した結果、d50=49nmの平均粒子径を有していた。また、表面を被覆する有機成分量は熱重量分析法により測定した結果7.08×10−3g/mであった。
Reactive inorganic fine particles 3
To a solution consisting of 7.8 parts of mercaptopropyltrimethoxysilane and 0.2 part of dibutyltin dilaurate in dry air, 20.6 parts of isophorone diisocyanate was added dropwise at 50 ° C. over 1 hour and then at 60 ° C. Stir for 3 hours. To this, 71.4 parts of pentaerythritol triacrylate was added dropwise at 30 ° C. over 1 hour, and then heated and stirred at 60 ° C. for 3 hours to obtain a compound. Next, 88.5 parts (solid content 26.6 parts) of methanol silica sol (manufactured by Catalyst Chemicals Co., Ltd., trade name, OSCAL series, methanol dispersion, number average particle size 45 nm) under the nitrogen stream was synthesized as described above. A mixed solution of 8.5 parts of the compound and 0.01 parts of p-methoxyphenol was stirred at 60 ° C. for 4 hours. Subsequently, 3 parts of methyltrimethoxysilane as compound (2) is added to this mixed solution, and after stirring for 1 hour at 60 ° C., 9 parts of methyl orthoformate is added, and further heated and stirred at the same temperature for 1 hour. Thus, crosslinkable inorganic fine particles were obtained. The reactive inorganic fine particles 3 thus obtained had an average particle diameter of d50 = 49 nm as a result of measurement by the particle size analyzer. Moreover, the amount of organic components covering the surface was 7.08 × 10 −3 g / m 2 as a result of measurement by thermogravimetric analysis.

反応性無機微粒子4
(1)表面吸着イオン除去
粒子径20nmの水分散コロイダルシリカを反応性無機微粒子1と同様の製法により精製したところ、d50=23nmの平均粒子径を有していた。また、無機微粒子表面を被覆する有機成分量は、熱重量分析法により測定した結果4.00×10−3g/mであった。
Reactive inorganic fine particles 4
(1) Removal of surface adsorbed ions When water-dispersed colloidal silica having a particle size of 20 nm was purified by the same production method as that for reactive inorganic fine particles 1, it had an average particle size of d50 = 23 nm. The amount of the organic component covering the surface of the inorganic fine particles was 4.00 × 10 −3 g / m 2 as a result of measurement by thermogravimetric analysis.

反応性無機微粒子5
(1)表面吸着イオン除去
粒子径300nmの水分散コロイダルシリカを反応性無機微粒子1と同様の製法により精製したところ、d50=350nmの平均粒子径を有していた。また、無機微粒子表面を被覆する有機成分量は、熱重量分析法により測定した結果5.00×10−3g/mであった。
Reactive inorganic fine particles 5
(1) Removal of surface adsorbed ions When water-dispersed colloidal silica having a particle size of 300 nm was purified by the same production method as reactive inorganic fine particles 1, it had an average particle size of d50 = 350 nm. The amount of the organic component covering the surface of the inorganic fine particles was 5.00 × 10 −3 g / m 2 as a result of measurement by thermogravimetric analysis.

位相差体の製造
例1
光重合性ネマチック液晶をシクロヘキサノンに20重量%溶解した溶液にラジカル重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名:イルガキュア184)を固形分に対して4重量%添加したのち、反応性無機微粒子1を液晶固形分に対して0.5重量%添加させた光学異方性層形成用組成物を調製した。この光学異方性層形成用組成物をTACフィルム(富士フィルム株式会社製、商品名:TF80UL)から成る光透過性基材の表面に、バーコーティングにより乾燥後の塗工量が2.5g/mとなるように塗布し、50℃で4分加熱して溶剤を除去した後、塗布面に紫外線を100mJ/cm照射することにより、上記光重合性液晶を固定した位相差フィルムを作製した。
Production of phase difference body
Example 1
A radical polymerization initiator (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) is added to a solution obtained by dissolving 20% by weight of a photopolymerizable nematic liquid crystal in cyclohexanone. A composition for forming an optically anisotropic layer was prepared by adding 0.5% by weight to the liquid crystal solid content. This optically anisotropic layer forming composition was coated on the surface of a light-transmitting substrate made of a TAC film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., trade name: TF80UL) with a coating amount of 2.5 g / d after drying by bar coating. After coating to m 2 and heating at 50 ° C. for 4 minutes to remove the solvent, the coated surface is irradiated with ultraviolet rays of 100 mJ / cm 2 to produce a retardation film with the photopolymerizable liquid crystal fixed. did.

例2
反応性無機微粒子1の代わりに反応性無機微粒子2を0.5重量%添加した以外は、例1と同様にして位相差フィルムを得た。
Example 2
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.5% by weight of the reactive inorganic fine particles 2 was added in place of the reactive inorganic fine particles 1.

例3
反応性無機微粒子1の代わりに反応性無機微粒子3を0.5重量%添加した以外は、例1と同様にして位相差フィルムを得た。
Example 3
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.5% by weight of the reactive inorganic fine particles 3 was added in place of the reactive inorganic fine particles 1.

例4
例1で作製した位相差フィルムを、延伸実験装置により延伸倍率が1.2倍となるように160℃で加熱しながら面内方向に一軸延伸して位相差フィルムを作製した。
Example 4
The retardation film produced in Example 1 was uniaxially stretched in the in-plane direction while being heated at 160 ° C. so as to have a stretching ratio of 1.2 times by a stretching experiment apparatus, thereby preparing a retardation film.

例5
ホメオトロピック配向を示す光重合性液晶をトルエンに20重量%溶解した溶液にラジカル重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名:イルガキュア184)を固形分に対して4重量%添加したのち、反応性無機微粒子1を液晶固形分に対して0.3重量%添加させた光学異方性層形成用組成物を調製した。そして、この光学異方性層形成用組成物をTACフィルム(富士フィルム株式会社製、商品名:TF80UL)から成る光透過性基材の表面に、バーコーティングにより乾燥後の塗工量が1.5g/mとなるように塗布し、50℃で4分加熱して溶剤を除去した後、塗布面に紫外線を100mJ/cm照射することにより、上記光重合性液晶を固定した位相差フィルムを作製した。
Example 5
A radical polymerization initiator (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) is added to a solution obtained by dissolving 20% by weight of a photopolymerizable liquid crystal exhibiting homeotropic alignment in toluene, and then reacted. A composition for forming an optically anisotropic layer was prepared by adding 0.3% by weight of the inorganic fine particles 1 to the solid content of the liquid crystal. And the coating amount after drying this barium coating on the surface of the light-transmitting base material which consists of this composition for optically anisotropic layer formation from a TAC film (Fuji Film Co., Ltd. brand name: TF80UL) is 1. Retardation film which fixed the said photopolymerizable liquid crystal by apply | coating so that it might become 5 g / m < 2 >, heating at 50 degreeC for 4 minutes, removing a solvent, and irradiating an ultraviolet-ray to an application surface 100mJ / cm < 2 >. Was made.

比較例1
反応性無機微粒子1を添加せずに光学異方性層形成用組成物を用いた以外は、例1と同様にして位相差フィルムを作製した。
Comparative Example 1
A retardation film was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming an optically anisotropic layer was used without adding the reactive inorganic fine particles 1.

比較例2
比較例1の位相差フィルムを用いて実施例4と同様の延伸を行った。
Comparative Example 2
Using the retardation film of Comparative Example 1, the same stretching as in Example 4 was performed.

比較例3
比較例2の位相差フィルムを用いて実施例5と同様の塗工を行った。
Comparative Example 3
The same coating as in Example 5 was performed using the retardation film of Comparative Example 2.

比較例4
反応性無機微粒子4を固形分に対し0.5重量%添加した以外は、例1と同様にして位相差フィルムを得た。
Comparative Example 4
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reactive inorganic fine particles 4 were added in an amount of 0.5% by weight based on the solid content.

比較例5
反応性無機微粒子1を固形分に対し1.0重量%添加した以外は、例1と同様にして位相差フィルムを得た。
Comparative Example 5
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reactive inorganic fine particles 1 were added in an amount of 1.0% by weight based on the solid content.

比較例6
反応性無機微粒子5を固形分に対し0.5重量%添加した以外は、例1と同様にして位相差フィルムを得た。
Comparative Example 6
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.5% by weight of the reactive inorganic fine particles 5 was added to the solid content.

評価試験
例と比較例の位相差フィルムについて以下の評価試験を行い、その結果を下記表1に記載した。
The following evaluation tests were performed on the retardation films of the evaluation test example and the comparative example, and the results are shown in Table 1 below.

評価1:貼り合わせ評価試験
位相差フィルムの凹凸形状が存在する面と、その反対側の光透過性基材の面とをφ1.5cmの円形の金属の間で貼り合せ、3kg/cmの加重をかけた状態で5日間(120hr)室温放置した後、引き剥がして、その状態を下記評価基準にて評価した。この試験条件は、比重が0.8〜1.2程度であり、膜厚が40〜100μm程度である光透過性基材が、4000M巻のロールの中心部に存在する場合に受ける荷重と同等の数値である。
評価基準
評価◎:光透過性基材の面に、凹凸形状の跡が全く確認されなかった。
評価○:光透過性基材の面に、凹凸形状の跡が3分の1未満の面積で確認された。
評価△:光透過性基材の面に、凹凸形状の跡が3分の1以上3分の2未満の面積で確認された。
評価×:光透過性基材の面に、凹凸形状の跡が全面に確認された。
Evaluation 1: Bonding evaluation test The surface of the retardation film having the uneven shape and the surface of the light-transmitting substrate on the opposite side were bonded between circular metals of φ1.5 cm, and 3 kg / cm 2 . After being left at room temperature for 5 days (120 hr) under a weighted condition, it was peeled off, and the state was evaluated according to the following evaluation criteria. This test condition is equivalent to the load applied when a light-transmitting substrate having a specific gravity of about 0.8 to 1.2 and a film thickness of about 40 to 100 μm is present in the center of a 4000 M roll. It is a numerical value.
Evaluation Criteria Evaluation A: No trace of uneven shape was confirmed on the surface of the light-transmitting substrate.
Evaluation (circle): The trace of uneven | corrugated shape was confirmed by the area of less than 1/3 on the surface of the transparent base material.
Evaluation (triangle | delta): The trace of uneven | corrugated shape was confirmed in the surface of the transparent base material in the area of 1/3 or more and less than 2/3.
Evaluation x: Irregular traces were confirmed on the entire surface of the light-transmitting substrate.

評価2,3:Re,Rth測定
位相差フィルムについて、自動複屈折測定装置(王子計測機器株式会社製、商品名:KOBRA−21ADH)を用いてNx、Ny、Nzを測定し、それぞれのRe及びRthの値を下記式に導入して得た。
(1) Re =(Nx−Ny)×d
(2) Rth={(Nx+Ny)/2−Nz}×d
Evaluation 2, 3: Re, Rth measurement About the retardation film, Nx, Ny, Nz were measured using an automatic birefringence measuring device (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., trade name: KOBRA-21ADH). The value of Rth was obtained by introducing it into the following formula.
(1) Re = (Nx−Ny) × d
(2) Rth = {(Nx + Ny) / 2−Nz} × d

評価4:黒輝度測定評価
黒輝度測定は、予め受光部側にクロスニコルとなるように偏光板(日東電工(株)製、商品名:G1220DUN)を設置した可視光分光器(日本分光(株)製、商品名:JASCO V−7100)をもちい(このときのY値は0.005となるようにする)、位相差体を偏光板と投光器との間で光学積層体を面内の法線方向が入射方向と一致するように設置したときのY値を示す。
Evaluation 4: Black Luminance Measurement Evaluation Black luminance measurement was performed using a visible light spectrometer (Nippon Bunko Co., Ltd.) in which a polarizing plate (manufactured by Nitto Denko Corporation, trade name: G1220DUN) was previously set so as to be crossed Nicol on the light receiving side. ), Product name: JASCO V-7100) (Y value at this time is set to 0.005), and the phase difference body is between the polarizing plate and the projector, and the optical laminate is in-plane method. The Y value when the linear direction is set to coincide with the incident direction is shown.

評価5:凹凸構造の高さ
凹凸高さは原子間力顕微鏡(Veeco社製、商品名:AFM NanoscopeV Multimode)にて以下の条件で測定し、光学積層体表面を評価したときの高さ方向の最大値と最小値の差を表す。
AFM測定条件
測定方法:タッピングモード
走査範囲:1μm,5μm
スキャンレート:1.1Hz
ピクセル数:512×512
Evaluation 5: Height of the concavo-convex structure The concavo-convex height was measured with an atomic force microscope (manufactured by Veeco, trade name: AFM Nanoscope V Multimode) under the following conditions, and the height of the optical laminate surface was evaluated. Represents the difference between the maximum and minimum values.
AFM measurement condition measurement method: tapping mode Scanning range: 1 μm 2 , 5 μm 2
Scan rate: 1.1Hz
Number of pixels: 512 × 512

Figure 2009237092
Figure 2009237092

Claims (9)

光透過性基材と、光学異方性層とを備えてなる、位相差体であって、
前記光学異方性層が、ブッロキング防止剤として微粒子を含有してなり、
前記光学異方性層の表面が凹凸形状を有して成るものである、位相差体。
A phase difference body comprising a light-transmitting substrate and an optically anisotropic layer,
The optically anisotropic layer contains fine particles as a blocking inhibitor,
A phase difference body, wherein the surface of the optically anisotropic layer has an uneven shape.
前記光学異方性層の面内の、遅相軸方向xの屈折率をNx、進相軸方向yの屈折率をNy、厚み方向zの屈折率をNzとした場合に、下記一般式(I):
Nx>Ny≧Nz (I)
を充足する、請求項1に記載の位相差体。
In the plane of the optically anisotropic layer, when the refractive index in the slow axis direction x is Nx, the refractive index in the fast axis direction y is Ny, and the refractive index in the thickness direction z is Nz, the following general formula ( I):
Nx> Ny ≧ Nz (I)
The phase difference body according to claim 1, wherein
前記光学異方性層の面内の、遅相軸方向xの屈折率をNx、進相軸方向yの屈折率をNy、厚み方向zの屈折率をNzとした場合に、下記一般式(II):
Nx≦Ny<Nz (II)
を充足する、請求項1に記載の位相差体。
In the plane of the optically anisotropic layer, when the refractive index in the slow axis direction x is Nx, the refractive index in the fast axis direction y is Ny, and the refractive index in the thickness direction z is Nz, the following general formula ( II):
Nx ≦ Ny <Nz (II)
The phase difference body according to claim 1, wherein
前記光学異方性層の面内の、遅相軸方向xの屈折率をNx、進相軸方向yの屈折率をNy、厚み方向zの屈折率をNzとした場合に、下記一般式(III):
Nx≒Ny>Nz (III)
を充足する、請求項1に記載の位相差体。
In the plane of the optically anisotropic layer, when the refractive index in the slow axis direction x is Nx, the refractive index in the fast axis direction y is Ny, and the refractive index in the thickness direction z is Nz, the following general formula ( III):
Nx≈Ny> Nz (III)
The phase difference body according to claim 1, wherein
前記凹凸形状における凸構造の高さが60nm以上200nm以下である、請求項1〜4の何れか一項に記載の位相差体。   The phase difference body as described in any one of Claims 1-4 whose height of the convex structure in the said uneven | corrugated shape is 60 nm or more and 200 nm or less. 前記光学異方性層が付与された前記光透過性基材が延伸されてなる、請求項1〜5の何れか一項に記載の位相差体。   The phase difference body according to any one of claims 1 to 5, wherein the light-transmitting substrate provided with the optically anisotropic layer is stretched. 偏光板の表面に使用される、請求項1〜6の何れか一項に記載の位相差体。   The phase difference body as described in any one of Claims 1-6 used for the surface of a polarizing plate. 光透過性基材と、光学異方性層とを備えてなる位相差体の製造方法であって、
前記光透過性基材と、ブッロキング防止剤としての微粒子を含んでなる光学異方性層形成用組成物とを用意し、
前記光透過性基材に、前記光学異方性層形成用組成物を付与し、凹凸形状の表面を有した光学異方性層を形成することを含んでなる、製造方法。
A method for producing a phase difference body comprising a light-transmitting substrate and an optically anisotropic layer,
Preparing the light-transmitting substrate and an optically anisotropic layer-forming composition comprising fine particles as a blocking inhibitor,
The manufacturing method which comprises providing the said composition for optically anisotropic layer formation to the said optically transparent base material, and forming the optically anisotropic layer which has the uneven | corrugated shaped surface.
前記光学異方性層が付与された前記光透過性基材を延伸してなることをさらに含んでなる、請求項8に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 8, further comprising stretching the light-transmitting substrate provided with the optically anisotropic layer.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012032623A (en) * 2010-07-30 2012-02-16 Nitto Denko Corp Retardation film and method for manufacturing the same
JP2016141145A (en) * 2015-02-05 2016-08-08 大日本印刷株式会社 Optical film, optical film winding body, and picture display unit
JP2018205712A (en) * 2017-06-01 2018-12-27 三菱ケミカル株式会社 Composition for anisotropic membrane, anisotropic membrane, and optical element

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003222713A (en) * 2002-01-31 2003-08-08 Fuji Photo Film Co Ltd Glare shielding optical film, polarizing plate and display device using the same
JP2005283973A (en) * 2004-03-30 2005-10-13 Tomoegawa Paper Co Ltd Optical film and its production method
JP2007163754A (en) * 2005-12-13 2007-06-28 Sekisui Chem Co Ltd Coating agent for antireflection and antireflection film
JP2008014988A (en) * 2006-07-03 2008-01-24 Nitto Denko Corp Liquid crystal panel and liquid crystal display device
JP2008058589A (en) * 2006-08-31 2008-03-13 Fujifilm Corp Optical compensation film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2008063531A (en) * 2006-09-11 2008-03-21 Fujifilm Corp Cellulose acylate composition, cellulose acylate pellet, cellulose acylate film and method for producing the same, polarizing plate, optical compensation film, antireflection film, and liquid crystal display

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003222713A (en) * 2002-01-31 2003-08-08 Fuji Photo Film Co Ltd Glare shielding optical film, polarizing plate and display device using the same
JP2005283973A (en) * 2004-03-30 2005-10-13 Tomoegawa Paper Co Ltd Optical film and its production method
JP2007163754A (en) * 2005-12-13 2007-06-28 Sekisui Chem Co Ltd Coating agent for antireflection and antireflection film
JP2008014988A (en) * 2006-07-03 2008-01-24 Nitto Denko Corp Liquid crystal panel and liquid crystal display device
JP2008058589A (en) * 2006-08-31 2008-03-13 Fujifilm Corp Optical compensation film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2008063531A (en) * 2006-09-11 2008-03-21 Fujifilm Corp Cellulose acylate composition, cellulose acylate pellet, cellulose acylate film and method for producing the same, polarizing plate, optical compensation film, antireflection film, and liquid crystal display

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012032623A (en) * 2010-07-30 2012-02-16 Nitto Denko Corp Retardation film and method for manufacturing the same
JP2016141145A (en) * 2015-02-05 2016-08-08 大日本印刷株式会社 Optical film, optical film winding body, and picture display unit
JP2018205712A (en) * 2017-06-01 2018-12-27 三菱ケミカル株式会社 Composition for anisotropic membrane, anisotropic membrane, and optical element

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