JP2009236627A - Voltage measurement apparatus, integrated circuit substrate, and voltage measurement method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば集積回路基板における任意の測定点の電圧値を測定する電圧測定装置、集積回路基板、及び、電圧測定方法に関するものである。 The present invention relates to a voltage measurement device, an integrated circuit board, and a voltage measurement method for measuring a voltage value at an arbitrary measurement point on an integrated circuit board, for example.
ある時間における電圧を測定する電圧測定装置は、従来から、アナログ/デジタル変換器(A/D変換器)やセンサなどに適用されている。 2. Description of the Related Art A voltage measuring device that measures a voltage at a certain time is conventionally applied to an analog / digital converter (A / D converter), a sensor, and the like.
A/D変換器では、スイッチと容量からなるサンプルホールド回路により変換対象の電圧を保持し、比較器により保持電圧と基準電圧とを逐次、また並列に比較して、対応するデジタル出力を得ている。ここで、ホールド回路中の容量は、電荷漏れによる保持電圧誤差を低減するために面積縮小が困難である。バラツキの大きい微細プロセスでは、デバイスサイズを意図的に大きく設計する必要があり、プロセススケーリングに従う回路面積低減が困難になりつつある。 In the A / D converter, the voltage to be converted is held by a sample and hold circuit consisting of a switch and a capacitor, and the holding voltage and the reference voltage are sequentially and parallelly compared by a comparator to obtain a corresponding digital output. Yes. Here, it is difficult to reduce the area of the capacitor in the hold circuit in order to reduce a holding voltage error due to charge leakage. In a fine process with large variations, it is necessary to intentionally design a large device size, and it is becoming difficult to reduce a circuit area according to process scaling.
これは、次のような理由による。すなわち、バラツキはチャネル領域下の不純物の揺らぎやその位置の揺らぎなどにより生じる。非特許文献1に示されているように、デバイス閾値分布の分散で代表されるバラツキは、デバイスサイズすなわちチャネル面積に反比例するからである。
This is due to the following reason. That is, the variation is caused by the fluctuation of impurities under the channel region, the fluctuation of its position, or the like. This is because, as shown in
また、電圧測定装置は、集積回路上の電源電圧変動を実現する既存のオンチップ電圧測定回路として、例えば次のようなものがある。 In addition, the voltage measuring apparatus includes, for example, the following as an existing on-chip voltage measuring circuit that realizes power supply voltage fluctuation on an integrated circuit.
非特許文献2に記載されている電圧測定回路は、測定点における電圧を電流に変換してチップ外に導き、チップ外のオシロスコープなどで電流を電圧に変換して電圧変動を読み取る回路である。
The voltage measurement circuit described in
非特許文献3に記載されている電圧測定回路は、電圧を電流に変換する回路と、電圧測定精度を高めるために、測定回路の前段に測定すべき電圧を保持するサンプリング回路とを備えている。
The voltage measurement circuit described in
非特許文献4に記載されている電圧測定回路は、ソースフォロアの電圧を基準電圧と比較して、その比較結果をラッチコンパレータで保持して、保持した電圧を電流に変換してチップ外に導き、チップ外でオシロスコープなどで電流を電圧に変換して電圧変動を読み取る回路である。
The voltage measurement circuit described in
以上のような非特許文献2〜4に記載されている電圧測定回路には、例えば次のような問題点がある。
The voltage measurement circuits described in
非特許文献2に記載された電圧測定回路では、キャリブレーションを行う際に用いるトランジスタと、測定時に用いるトランジスタの特性とが精度良く一致している必要がある。よって、測定精度を向上するためには、測定点毎に設けるトランジスタのサイズを大幅に小さくすることはできない。また、チップ端において電流から電圧に変換するときに十分な電圧を得てノイズマージンを確保するためには、電流増幅用のトランジスタをより大きくすることを要する。また、測定値の電圧はアナログ量で行われるため、チップ内で測定した値をデジタル化するには、さらにアナログ/デジタル変換器を付加するなどといったように、さらに大きな面積を要することとなる。
In the voltage measurement circuit described in
また、非特許文献3に記載された電圧測定回路では、高精度な電圧電流変換を行うために、電圧をサンプリングするためのキャパシタを設けているが、このキャパシタで保持される電圧がリーク電流や外来ノイズの影響によって変化しないようにする必要がある。こため、このキャパシタのサイズは、一定以上の大きさにする必要があり、回路の微細化に伴って小さくすることは困難である。また、電圧電流変換を行った後の回路構成は、非特許文献2に記載された電圧測定回路と同様に、電流増幅用のトランジスタのサイズが大きくなり、チップ上での電圧観測にはアナログ/デジタル変換器等を要するために面積が大きくなってしまう。
In addition, in the voltage measurement circuit described in
また、非特許文献4に記載された電圧測定回路では、差動トランジスタを有するラッチコンパレータが保持するオフセット電圧を小さくする必要があり、このためラッチコンパレータに係る回路面積を小さくすることが困難である。また、電圧電流変換を行った後の回路構成は、電流増幅用のトランジスタのサイズが大きくなり、チップ上での電圧観測にはアナログ/デジタル変換器等を要するために面積が大きくなってしまう。
Further, in the voltage measurement circuit described in
本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、回路面積の増大を抑えつつ、高精度に電圧値を測定する電圧測定装置、この電圧測定装置が実装された集積回路基板、及び、電圧測定方法を提供することを目的とする。 The present invention has been proposed in view of such circumstances, a voltage measuring device that measures a voltage value with high accuracy while suppressing an increase in circuit area, an integrated circuit board on which the voltage measuring device is mounted, And it aims at providing the voltage measuring method.
上述した課題を解決するための手段として、本発明に係る電圧測定装置は、測定対象となる測定電圧値を基準電圧値と比較する単位比較器を複数有し、各々の単位比較器に同一の規範電圧値が入力され、各々の単位比較器が測定電圧値を規範電圧値に応じて決定される基準電圧値と比較する比較部と、各々の単位比較器を構成する回路素子の特性のバラツキによる変動分を含む、各々の単位比較器から得られる比較結果を分析して、測定電圧値を求める分析部とを備える。 As a means for solving the above-described problem, the voltage measuring apparatus according to the present invention has a plurality of unit comparators for comparing a measurement voltage value to be measured with a reference voltage value, and is identical to each unit comparator. A reference voltage value is input, and each unit comparator compares a measured voltage value with a reference voltage value determined according to the reference voltage value, and variations in characteristics of circuit elements constituting each unit comparator And an analysis unit for analyzing a comparison result obtained from each unit comparator including a variation due to the above and obtaining a measurement voltage value.
また、本発明に係る集積回路基板は、電圧値を測定する測定点に対して並列接続され、測定点の測定電圧値を基準電圧値と比較する単位測定回路を複数有し、各々の単位比較器に同一の規範電圧値が入力され、各々の単位比較器が測定電圧値を規範電圧値に応じて設定された基準電圧値と比較する比較部と、各々の単位比較器を構成する回路素子の特性のバラツキによる変動分を含む、各々の単位比較器から得られる比較結果を分析して、測定電圧値を求める分析部とを備える。 The integrated circuit board according to the present invention includes a plurality of unit measurement circuits that are connected in parallel to the measurement point for measuring the voltage value and compare the measurement voltage value at the measurement point with the reference voltage value. The same reference voltage value is input to the comparator, and each unit comparator compares the measured voltage value with a reference voltage value set according to the reference voltage value, and circuit elements constituting each unit comparator And an analysis unit for analyzing a comparison result obtained from each unit comparator including a variation due to variation in the characteristics of each of the two to obtain a measured voltage value.
また、本発明に係る電圧測定方法は、測定対象となる測定電圧値を基準電圧値と比較する複数の単位測定回路に、それぞれ同一の規範電圧値が入力され、各々の単位比較器が測定電圧値を規範電圧値に応じて設定された基準電圧値と比較する比較ステップと、各々の単位比較器を構成する回路素子の特性のバラツキによる変動分を含む、各々の単位比較器から得られる比較結果を分析して、測定電圧値を求める分析ステップとを有する。 In the voltage measurement method according to the present invention, the same reference voltage value is input to each of the plurality of unit measurement circuits that compare the measurement voltage value to be measured with the reference voltage value, and each unit comparator measures the measurement voltage. Comparison obtained from each unit comparator, including a comparison step for comparing the value with a reference voltage value set according to the reference voltage value, and a variation due to variation in characteristics of circuit elements constituting each unit comparator Analyzing the result to obtain a measured voltage value.
本発明は、測定対象となる測定電圧値を基準電圧値と比較する複数の単位比較回路に、それぞれ同一の規範電圧値が入力され、各々の単位比較器が測定電圧値を規範電圧値に応じて設定された基準電圧値と比較し、各々の単位比較器を構成する回路素子の特性のバラツキによる変動分を含む、各々の単位比較器から得られる比較結果を分析して、測定電圧値を求めるので、回路面積の増大を抑えつつ、高精度に電圧値を測定することができる。 In the present invention, the same reference voltage value is input to each of the plurality of unit comparison circuits that compare the measurement voltage value to be measured with the reference voltage value, and each unit comparator determines the measurement voltage value according to the reference voltage value. The comparison result obtained from each unit comparator including the variation due to the variation in the characteristics of the circuit elements constituting each unit comparator is analyzed, and the measured voltage value is calculated. Therefore, the voltage value can be measured with high accuracy while suppressing an increase in circuit area.
本発明が適用された電圧測定装置は、集積回路基板における任意の測定点の電圧を測定する装置である。本実施の形態では、まず、図1に示すような構成を有する第1の実施形態に係る電圧測定装置1について詳細に説明する。
The voltage measuring device to which the present invention is applied is a device that measures the voltage at an arbitrary measurement point on an integrated circuit board. In the present embodiment, first, the
電圧測定装置1は、複数の単位比較器100を有する比較部11と、比較部11が有する各単位比較器100から得られる比較結果を保持するシフトレジスタ12と、シフトレジスタ12に保持された比較結果を分析する分析部13と、これらの各部を制御する各種制御信号を出力する制御部14を備える。
The
比較部11は、例えばアレイ状に8×8の合計64個の単位比較器100が配列されている。そして、比較部11は、電源電圧VDDによって各単位比較器100を駆動させる。また、比較部11は、例えば、図示しない集積回路基板における任意の測定点の測定電圧値Vmeasが入力され、制御部14から、規範電圧値Vrefと、制御信号PRECBと制御信号EVALとが入力され、入力されたVmeas、Vref、PRECB、EVALを、各単位比較器100に供給する。
In the
なお、比較部11は、測定精度の向上を実現するためには、より多数の単位比較器100を備えていることが望ましいが、以下では、便宜上、単位比較器100を合計64個備えていることを前提として説明する。
The
そして、比較部11は、具体的には後述する各単位比較器100から得られる比較結果M_OUT[00]〜M_OUT[63]をそれぞれシフトレジスタ12に出力する。
Specifically, the
図2は、比較部11が有する単位比較器100の構成を示した図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of the
単位比較器100は、図2に示すように、制御部14から供給される制御信号PRECB、EVALに従って、測定電圧値Vmeasを、規範電圧値Vrefに応じて決定される基準電圧値と比較して、比較結果を出力する回路である。
As shown in FIG. 2, the
このような処理を行うため、単位比較器100は、トランジスタM1〜M7と、キャパシタC1、C2とNOT演算素子Nとにより構成される。
In order to perform such processing, the
トランジスタM1は、ノードV1の電圧値がHIGHのとき導通することによって、ノードV2からトランジスタM7を介して接地側に電流を流すスイッチング素子である。なお図中のL1、W1は、それぞれ集積回路基板上に実装されたトランジスタM1のゲート電極パターン長とゲート電極パターン幅を示している。 The transistor M1 is a switching element that conducts when the voltage value of the node V1 is HIGH, and causes a current to flow from the node V2 to the ground side via the transistor M7. In the figure, L1 and W1 indicate the gate electrode pattern length and the gate electrode pattern width of the transistor M1 mounted on the integrated circuit substrate, respectively.
トランジスタM2は、ノードV2の電圧値がHIGHのとき導通することによって、ノードV1からトランジスタM7を介して接地側に電流を流すスイッチング素子である。なお、図中のL2、W2は、それぞれ集積回路基板上に実装されたトランジスタM2のゲート電極パターン長とゲート電極パターン幅を示している。 The transistor M2 is a switching element that conducts when the voltage value of the node V2 is HIGH, and causes a current to flow from the node V1 to the ground side via the transistor M7. In the figure, L2 and W2 indicate the gate electrode pattern length and the gate electrode pattern width of the transistor M2 mounted on the integrated circuit substrate, respectively.
トランジスタM3は、ノードV1の電圧値がLOWのとき、すなわち、ノードV2の電圧値がHIGHのとき導通することによって、電源電圧VDDをノードV2を介してトランジスタM2に印加して、ノードV2をHIGHに維持させるスイッチング素子である。 The transistor M3 conducts when the voltage value of the node V1 is LOW, that is, when the voltage value of the node V2 is HIGH, so that the power supply voltage VDD is applied to the transistor M2 via the node V2, and the node V2 is HIGH. It is a switching element to be maintained.
トランジスタM4は、ノードV2の電圧値がLOWのとき、すなわち、ノードV1の電圧値がHIGHのとき導通することによって、電源電圧VDDをノードV1を介してトランジスタM1に印加して、ノードV1をHIGHに維持させるスイッチング素子である。 The transistor M4 conducts when the voltage value of the node V2 is LOW, that is, when the voltage value of the node V1 is HIGH, so that the power supply voltage VDD is applied to the transistor M1 via the node V1, and the node V1 is HIGH. It is a switching element to be maintained.
トランジスタM5は、制御信号PRECBがLOWのとき導通することによって、測定電圧値Vmeasを寄生キャパシタC1に印加させるスイッチング素子である。 The transistor M5 is a switching element that conducts when the control signal PRECB is LOW to apply the measured voltage value Vmeas to the parasitic capacitor C1.
トランジスタM6は、制御信号PRECBがLOWのとき導通することによって、規範電圧値Vrefを寄生キャパシタC2に印加させるスイッチング素子で、トランジスタM1、M3は反転増幅器を形成し、トランジスタM2、M4もまた反転増幅器を形成し、これらが互いの出力を入力に接続する形となっている。二つの反転増幅器の正帰還動作により、ノードV1,ノードV2の電位は一方がHIGH、一方がLOWとなる。 The transistor M6 is a switching element that conducts when the control signal PRECB is LOW to apply the reference voltage value Vref to the parasitic capacitor C2. The transistors M1 and M3 form an inverting amplifier, and the transistors M2 and M4 are also inverting amplifiers. Which connect each other's output to the input. Due to the positive feedback operation of the two inverting amplifiers, one of the potentials of the node V1 and the node V2 is HIGH and one is LOW.
トランジスタM7は、制御信号EVALがHIGHのとき導通することによって正帰還動作のON/OFFを行う。すなわち、ノードV1と、ノードV2の電位を確定させるためのスイッチング素子である。 The transistor M7 conducts the positive feedback operation by turning on when the control signal EVAL is HIGH. That is, it is a switching element for determining the potentials of the node V1 and the node V2.
NOT演算素子Nは、トランジスタM1が接地側に導通することによりノードV2がLOWになったことを、HIGHの比較結果M_OUTとして出力する回路素子である。 The NOT operation element N is a circuit element that outputs, as a HIGH comparison result M_OUT, that the node V2 becomes LOW due to the transistor M1 conducting to the ground side.
以上のような構成からなる単位比較器100では、測定電圧値Vmeasを、規範電圧値Vrefに応じて決定される基準電圧値(Vref+Voff)と比較するため、次のような動作を行う。
The
まず、単位比較器100は、制御信号PRECBがLOWのとき、トランジスタM5、M6を導通させて、キャパシタC1、C2にそれぞれ測定電圧値Vmeas、規範電圧値Vrefを印加する。
First, when the control signal PRECB is LOW, the
そして、単位比較器100は、制御信号PRECBがHIGHになりトランジスタM5、M6が開放されると、制御信号EVALがHIGHになりトランジスタM7が導通して、トランジスタM1〜M4が動作する。
In the
ここで、トランジスタM1とトランジスタM2とのペア、トランジスタM3とトランジスタM4とのペア、トランジスタM5とトランジスタM6とのペアにおいて、回路素子のバラツキによる変動分が無視できるほど小さく、設計された特性が完全一致する場合には、下記の式(1)、(2)式に示すような比較結果M_OUTを得ることとなる。 Here, in the pair of the transistor M1 and the transistor M2, the pair of the transistor M3 and the transistor M4, and the pair of the transistor M5 and the transistor M6, the variation due to the variation of the circuit elements is so small that it can be ignored, and the designed characteristics are completely If they match, a comparison result M_OUT as shown in the following equations (1) and (2) is obtained.
Vmeas>Vrefならば、M_OUT=1 (1)式
Vmeas<Vrefならば、M_OUT=0 (2)式
If Vmeas> Vref, M_OUT = 1 (1) Expression If Vmeas <Vref, M_OUT = 0 (2) Expression
厳密には、測定電圧値Vmeasと規範電圧値Vrefとが完全に等しい場合には比較結果が決定されないことになるが、現実世界においては熱揺らぎなどにより、測定電圧値Vmeasと規範電圧値Vrefとが完全に等しい時間は長時間継続せず、上記(1)式、(2)式のいずれかの状態となる。 Strictly speaking, when the measured voltage value Vmeas and the reference voltage value Vref are completely equal, the comparison result is not determined. However, in the real world, the measured voltage value Vmeas and the reference voltage value Vref are caused by thermal fluctuation or the like. The time when is completely equal does not continue for a long time, and either of the above formulas (1) and (2) is obtained.
設計された特性が完全に一致する場合には以上の比較結果が得られるが、近年の微細化された回路基板では、不純物濃度のバラツキなどにより、同じ動作特性となるように設計されたペアをなすトランジスタを、たとえ互いに最近傍に配置したとしても、ペアを構成するトランジスタ間で閾値やゲート寸法が異なるのが実情である。 The above comparison results can be obtained when the designed characteristics completely match.However, in recent miniaturized circuit boards, pairs designed to have the same operating characteristics due to variations in impurity concentration, etc. Even if the formed transistors are arranged closest to each other, the actual situation is that the threshold value and the gate size are different among the transistors constituting the pair.
したがって、各々の単位比較器100では、トランジスタの特性のバラツキやキャパシタの寄生容量のバラツキに起因するオフセット電圧値Voffの変動分に応じて、上述したように、測定電圧値Vmeasを、規範電圧値Vrefにオフセット電圧値Voffを加えた基準電圧値(Vref+Voff)と比較して、下記の(3)式、(4)式の比較結果M_OUTを得ることとなる。
Therefore, in each
Vmeas>Vref+Voffならば、M_OUT=1 (3)式
Vmeas<Vref+Voffならば、M_OUT=0 (4)式
If Vmeas> Vref + Voff, M_OUT = 1 (3) If Vmeas <Vref + Voff, then M_OUT = 0 (4)
ここで、オフセット電圧値Voffは、上述したバラツキによって、単位比較器100毎に異なる固有の値となる。これは、実質的に、各単位比較器100は、規範電圧値Vrefが同一であっても、互いに異なる基準電圧値を用いて比較処理を行っているからである。
Here, the offset voltage value Voff is a unique value that differs for each
規範電圧値Vrefを固定して、様々な値の測定電圧値Vmeasを単位比較器100に入力すれば、比較結果が1と0とが切り替わる点を検出することによって、オフセット電圧値Voffを求めることができる。
If the reference voltage value Vref is fixed and various measured voltage values Vmeas are input to the
このようにして求められた各単位比較器100のオフセット電圧値Voffは、例えば、次のように分布する。
The offset voltage value Voff of each
図3に示される実線は、N(Nは自然数。)個の単位比較器100に対して同一の規範電圧値Vref(1[V])を印加して、測定電圧Vmeasを0.8[V]〜1.2[V]まで変化させてそれぞれ比較を行った場合に、比較出力にn1(n1は自然数。)個の1が表れたときの比率n1/Nをプロットしたものである。この具体例から、各単位比較器100におけるVoffの値が、約±0.15[V]の範囲内にあることがわかる。
The solid line shown in FIG. 3 indicates that the same reference voltage value Vref (1 [V]) is applied to N (N is a natural number)
電圧測定装置1では、上述したように比較部11を構成する各単位比較器100から得られるオフセット電圧値Voffの分布を分析して、任意の測定電圧値に対して同一の比較結果を出力する比較部11における単位比較器100の比率と測定電圧値Vmeasとの対応関係を、予め分析部13が有する内部メモリ131に記憶しておき、分析部13が比較結果と内部メモリ131に記憶されている情報とを参照することによって測定電圧値Vmeasを求める。
In the
次に、上述した単位比較器100から得られる複数の比較結果M_OUT[00]〜M_OUT[63]を保持して、順次分析部13に供給するシフトレジスタ12について説明する。
Next, the
シフトレジスタ12は、比較部11を構成する各単位比較器100からの比較結果M_OUTを保持する記憶素子からなり、図4に示すようなタイミングチャートに従って、順次、比較部11を構成する各単位比較器100からの比較結果M_OUT[00]〜M_OUT[63]を分析部13に出力する。
The
すなわち、制御部14は、プリチャージ動作として、制御信号PRECBをHIGHからLOWにすることによって、比較部11を構成する各単位比較器100のキャパシタC1、C2にそれぞれ測定電圧値Vmeas、規範電圧値Vrefを印加させる。
That is, as the precharge operation, the
次に、制御部14は、制御信号PRECBをLOWからHIGHにするとともに、制御信号EVALをLOWからHIGHにして、各単位比較器100に対して、上述した比較処理をさせる。すなわち、制御信号EVALがLOWからHIGHになると、各単位比較器100では、測定電圧値Vmeasと基準電圧値(Vref+Voff)との大小関係に応じて、ノードV1及びノードV2のうち何れか一方がHIGHに他方がLOWになり、比較結果として出力される。
Next, the
シフトレジスタ12を構成する記憶素子に比較結果が保持されると、制御部14は、制御信号LOADをHIGHにすることによって、各単位比較器100により得られる比較結果を、シフトレジスタ12を構成する各記憶素子に書き込む。次に、制御部14は、制御信号LOADをLOWにするとともに、シフトレジスタ12にクロック信号S_CLKを入力することで、出力信号S_OUTとして順次分析部13に出力する。
When the comparison result is held in the storage element constituting the
以上のようなタイミングチャートに従って、比較部11及びシフトレジスタ12が動作することによって、比較部11を構成する各単位比較器100により得られた比較結果が分析部13に供給される。
As the
制御部14は、分析部13に、各々の単位比較器100から得られる比較結果に基づいて、各々の単位比較器100を構成する回路素子の特性のバラツキによる変動分を分析させる。具体的には、制御部14は、規範電圧値を変化させたときの単位比較器100のオフセット電圧値Voffの変動と、同一の比較結果を出力する単位比較器100の比率との対応関係を得るため、次に示すような処理を各処理部に行わせる。
The
具体的に、電圧測定装置1では、図5に示すフローチャートに従った処理を制御部14が行うことによって、分析部13が測定電圧値を求めるために用いるテーブルを作成する。
Specifically, in the
ステップS11において、制御部14は、測定電圧値Vmeasを測定電圧範囲の中央値付近の電圧Vcに設定する。制御部14は、例えば電源電圧変動を測定したい場合として、Vc=1.0[V]に設定する。
In step S11, the
ステップS12において、制御部14は、規範電圧値Vrefを初期電圧Vrefiに設定する。ここで、制御部14は、Vrefiを、測定したい電圧範囲に応じて適宜設定する。この例において、制御部14は、測定範囲を0.6[V]から1.4[V]として、Vrefiを1.4[V]としている。
In step S12, the
ステップS13において、各制御信号を比較部11及びシフトレジスタ12に供給して、上述した図4に示したタイミングチャートに従った一連の測定動作「プリチャージ・評価・状態読み出し」の処理を行う。この結果、分析部13には、各単位比較器100により得られる比較結果として、1又は0が入力される。
In step S13, the control signals are supplied to the
ステップS14において、制御部14は、次のような評価処理を分析部13に行わせる。すなわち、分析部13は、評価結果として“1”の出力数を計数して、図6に示したテーブルのC列にその計数した個数を書き込む。すなわち、分析部13は、Vrefiに対応付けた行番号のうち、行番号1の欄Cにその個数を書き込む。また、分析部13は、例えばC列に書き込まれた数に対応する個数の単位比較器100が、Voff=Vref−Vcの関係から求まるオフセット電圧値Voff以下であるものとして、このオフセット電圧値VoffをVrefiと対応付けて行番号1の欄Bに書き込む。
In step S14, the
ステップS15において、制御部14は、電圧VrefをΔvrefだけ下げる。ここで、Δvrefは、説明を簡単にするために0.1[V]としているが、希望する精度に応じてより細かい電圧や粗い電圧を用いることは可能である。応用によっては必ずしも一定電圧とする必要はなく、この場合には不等間隔のテーブルとなる。
In step S15, the
ステップS16において、制御部14は、Vrefが下限電圧Vreflを下回っているか否かを判断する。ここで、制御部14は、Vrefが下限電圧Vreflを下回っている場合は、テーブルが完成しているものとして、本処理工程を終了する。また、制御部14は、Vrefが下限電圧Vreflに達していない場合には、再び、ステップS13に戻って「プリチャージ・評価・状態読み出し」の処理を行い、ステップS14の処理に従って、比較結果から得られる値を行番号2以降の各欄に書き込む処理を行う。
In step S16, the
以上のようにして、電圧測定装置1では、図6に示すようなテーブル、すなわち、測定電圧値Vmeasを1[V]に固定したときに、規範電圧値を0.6[V]〜1.4[V]に0.1[V]刻みで変化させたときの、比較結果“1”を出力する単位比較器100の数の変化を示したテーブルを作成する。
As described above, in the
図6に示すテーブルは、例えば、図7に示すような対応関係に変換されて分析部13の内部メモリ131に管理されることとなる。
The table shown in FIG. 6 is converted into a correspondence relationship as shown in FIG. 7 and managed in the
すなわち、分析部13は、図7に示すように、規範電圧値がVrefの状態で、同一の比較結果“1”を出力する単位比較器100の総数の変化と、測定電圧値Vmeasの変化との対応関係を内部メモリ131に記憶する。
That is, as illustrated in FIG. 7, the
分析部13は、図7に示すようなテーブルを用いて、比較部11を構成する単位比較器100の合計数に対する同一の比較結果が得られた単位比較器100の数の比率を算出して、算出した比率に基づいて、測定電圧値Vmeasを求める。
The
例えば、規範電圧値がVrefを入力したときの比較結果が1であった単位比較器100の数が合計64個に対して52個であったとき、分析部13は、シフトレジスタ12から供給される値“1”を計数して上述した図7に示すテーブルを参照することにより、測定電圧値VmeasがVref+0.2[V]であると求めることができる。
For example, when the number of
なお、このようなオフセット電圧値Voffの分布に関する関係を示す情報は、上述したように実際に測定を行っても良いし、図3の実線が平均0、分散σ2の正規分布の累積度数分布でよく近似できることから、別途、何らかの方法でオフセット電圧値Voffの分布の平均値と分散を事前に知っていれば、必ずしも事前測定は必要ないため、これを省略して測定手順を簡略化できる。より具体的には、例えば、ウェハー内の数チップにおける分散の測定で、ウェハー上全てのチップにおける電圧測定回路のオフセット電圧値Voffの分散を代表させるなどの方法で可能となる。
Note that information indicating the relationship of the distribution of such offset voltage Voff may be actually performing measurements as described above, the
以上のようにして、電圧測定装置1では、測定対象となる測定電圧値Vmeasを基準電圧値(Vref+Voff)と比較する複数の単位比較器100に、それぞれ同一の規範電圧値Vrefを入力し、各々の単位比較器100が測定電圧値Vmeasを規範電圧値Vrefに応じて設定された基準電圧値(Vref+Voff)と比較し、各々の単位比較器100を構成する回路素子の特性のバラツキによる変動分を含む、各々の単位比較器100から得られる比較結果を分析して、測定電圧値Vmeasを求めるので、回路面積の増大を抑えつつ、高精度に電圧値を測定することができる。
As described above, in the
このようにして、回路面積の増大を抑えることができるのは、まず、第1に、微細化の進展により生じてきた問題のひとつである素子特性のバラツキの補償をする必要がないため、回路構成が単純になり回路実装面積を削減できるからである。また、第2に、電圧を測定するために、単位比較器100を構成する素子特性のバラツキを利用するため、必然的に寸法の小さいトランジスタを用いる設計が可能となり、スケーリングに従う回路面積の低減が可能となるからである。
In this way, the increase in the circuit area can be suppressed, first, because it is not necessary to compensate for variations in element characteristics, which is one of the problems caused by the progress of miniaturization. This is because the configuration becomes simple and the circuit mounting area can be reduced. Second, in order to measure the voltage, the variation in the element characteristics constituting the
また、高精度に電圧値を測定することができるのは、1つの測定点に対して多数の比較部11を並列接続することが可能であり、高速な測定が期待できるからである。多くの単位比較器を並列接続することで、オフセット電圧値Voffが互いに近いがわずかに異なる単位比較器数を増加させることができることも電圧測定精度を向上できる理由である。
The reason why the voltage value can be measured with high accuracy is that a large number of
また、電圧測定装置1は、測定電圧値を数サンプリング保持して各サンプリングの電圧値を比較することによって高精度に電圧測定を行う従来の電圧測定処理では困難であった非繰返し波形に対する測定が可能となるといった利点がある。
In addition, the
以上のようにして、電圧測定装置1では、測定電圧値を測定する測定可能な範囲が、各々の単位比較器100を構成する回路素子の特性のバラツキによる変動分のみによって決定される。例えば、上述した図3に示すような各単位比較器100の基準電圧値の分布に関する情報の場合、精度良く測定可能な範囲は、規範電圧値に対して±0.15[V]の範囲内となる。
As described above, in the
このように、電圧測定装置1では、基準電圧値を調整することで、測定範囲の中心値をある程度変更可能であるが、2種類以上の動作特性が異なる単位比較器100を比較部11が有することにより、例えば、次のような理由から、電圧測定範囲(最大値と最小値)を変更することができる。
As described above, in the
まず、単位比較器100のオフセット電圧値Voffの分布を、次のような物理モデルによって導出する導出過程について説明する。
First, a derivation process for deriving the distribution of the offset voltage value Voff of the
単位比較器100に入力する測定電圧値Vmeasと規範電圧値Vrefとの初期電圧をそれぞれV_ref、V_measとし、それぞれが電源電圧値Vddに近い値であるものとする。そして、制御信号PRECBをHIGHに維持することによって、トランジスタM5とトランジスタM6をオフ状態にする。初期状態においてペアのトランジスタM1、M2は飽和領域で動作する。これら両方のトランジスタM1、M2が飽和領域で動作する範囲において、ノードV1とノードV2についてキルヒホッフの電流則から、下記の連立微分方程式が得られる。
Assume that initial voltages of the measured voltage value Vmeas and the reference voltage value Vref input to the
(5)式において、Vt1、Vt2はそれぞれトランジスタM1、M2が導通する閾値となる電圧値を、μはキャリア移動度を、Coxは単位ゲート酸化膜容量を、αはトランジスタ電流のα乗則モデルにおけるキャリアの速度飽和指数を表す。トランジスタM1、M2が飽和領域で動作する範囲は短いことから、測定電圧値Vmeasと規範電圧値Vrefを1次のTailor展開により線形化して解くと、下記の(6)式が得られる。 In equation (5), Vt1 and Vt2 are voltage values that are thresholds for conducting the transistors M1 and M2, respectively, μ is carrier mobility, Cox is a unit gate oxide film capacity, α is an α-power law model of transistor current. Represents the velocity saturation index of the carrier at. Since the range in which the transistors M1 and M2 operate in the saturation region is short, when the measured voltage value Vmeas and the reference voltage value Vref are linearized by first-order Taylor expansion and solved, the following equation (6) is obtained.
ここで、P1、P2は、それぞれ、(7)式、(8)式で与えられる。 Here, P1 and P2 are given by Equation (7) and Equation (8), respectively.
また、トランジスタM3、M4が導通するために必要な電圧をそれぞれVd1、Vd2とし、その電圧に達するまでの時間tをそれぞれt1、t2として、これを求めると、下記の(9)式が得られる。 Further, when the voltages necessary for the transistors M3 and M4 to become conductive are Vd1 and Vd2, respectively, and the times t until reaching the voltages are t1 and t2, respectively, the following equation (9) is obtained. .
(9)式の右辺のパラメータが既知である場合、t1とt2の大小関係からトランジスタM3、M4のどちらの一方が先に導通するかを判定することができる。ここで、一方のトランジスタが導通状態になると、そのトランジスタが接続されているノード(例えばV1とする。)には、トランジスタを介して電源線から電流がさらに流入し電位がさらに上昇する一方、逆側のノード(例えばV2とする。)の電位は降下する。つまり、(9)式から、各パラメータのバラツキに対してt1とt2のいずれが大きいかを調べることで、オフセット電圧が同一である単位比較器100の累積度数分布を知ることができる。
If the parameter on the right side of equation (9) is known, it can be determined from the magnitude relationship between t1 and t2 which one of the transistors M3 and M4 is conductive first. Here, when one of the transistors becomes conductive, a current further flows from the power supply line through the transistor to a node (for example, V1) to which the transistor is connected, and the potential further increases. The potential of the side node (for example, V2) drops. That is, the cumulative frequency distribution of the
図8は、上述した(9)式を用いて求めた、同一の比較結果が得られる単位比較器100の累積度数分布であり、SPICEモンテカルロシミュレーションとよく一致することがわかる。図8では、曲線の傾きが大きい部分ほど電圧測定感度が高いことになる。
FIG. 8 shows the cumulative frequency distribution of the
したがって、電圧測定装置1の設計においては、感度の高い領域を測定したい電圧の範囲と一致させるように各単位比較器100の特性を設定する必要がある。特性を決定するための方法としては、まずVrefを測定したい電圧近傍とすることである。
Therefore, in the design of the
また、電圧測定装置1は、上述した式を用いて、規範電圧値Vrefを変化させる以外に、パラメータの変更により測定電圧範囲を調整できる。
Moreover, the
ここで、図8の(1)で示される実線は、単位比較器100を構成するペアのトランジスタのパターン長Lとパターン幅W、及び、キャパシタC1、C2の容量が同じような特性となるように設計された比較部11に対応するオフセット電圧の累積度数分布を示している。
Here, the solid line shown in (1) of FIG. 8 indicates that the pattern length L and the pattern width W of the pair of transistors constituting the
また、図8の(2)で示される破線は、例えば容量C1=2×C2のように、単位比較器100においてペアをなす素子が不平衡に設計された比較部11に対応するオフセット電圧の累積度数分布を示している。
Also, the broken line indicated by (2) in FIG. 8 indicates the offset voltage corresponding to the
図8の(1)で示される実線に対応する単位比較器100では、測定範囲(a)において測定感度が高い部分であり、また、図8の(2)で示される破線に対応する単位比較器100では、測定範囲(b)が測定感度の高い部分である。
In the
よって、測定電圧値Vmeasが1[V]付近であれば図8の(1)で示される実線に対応する回路構成を比較部11がとり、測定電圧値Vmeasが0.9[V]付近であれば図8の(2)で示される破線に対応する回路構成を比較部11がとることで、Vrefを1[V]とした状態で、例えば、新たな電源ピンや電源生成回路を追加することなく、測定範囲を調整することができる。すなわち、電圧測定装置1では、比較部11が有する単位比較器100の特性に応じて、電圧測定範囲における測定感度を適応的に設定することができる。
Therefore, if the measured voltage value Vmeas is around 1 [V], the
さらに、測定可能な電圧範囲についても、例えば2種類以上の設計特性が異なる単位測定回路をアレイ中に組合せて使用することで調整することが可能である。図8の場合、(1)の累積度数分布を示す単位比較器100の回路群と(2)の累積度数分布を示す単位比較器100の回路群を組み合わせた比較部11では、図5の測定範囲(c)で示されるように、上述した測定範囲(a)、(b)の幅である約50[mV]に対して、測定可能範囲の幅を約80[mV]に広くすることができる。
Furthermore, the measurable voltage range can also be adjusted by using, for example, two or more unit measurement circuits having different design characteristics in the array. In the case of FIG. 8, the
以上のようにして、電圧測定装置1では、設計された動作特性が異なる2種類以上の単位比較器100を組み合わせて比較部11を構成することによって、電圧測定範囲(最大値と最小値)を変更することができる。
As described above, in the
また、測定したい電圧の絶対値を知りたい場合だけでなく、電圧観測の用途によっては、測定電圧がある値を上回るかまたは下回るかだけを知れば十分な場合がある。例えば、電源電圧降下が許容値を超えたかどうかを常時監視して、許容値以下の電圧であることを検出したら警告を発するなどの場合である。 In addition to knowing the absolute value of the voltage to be measured, it may be sufficient to know only whether the measured voltage is above or below a certain value depending on the application of voltage observation. For example, it is a case where it is constantly monitored whether or not the power supply voltage drop exceeds an allowable value, and a warning is issued when it is detected that the voltage is lower than the allowable value.
分析部13は、上述した同一の比較結果が得られた単位比較器100の比率に応じて測定電圧値Vmeasを求める処理に代えて、測定電圧値が任意に設定した閾値を越えているか否かを、次のような処理を行うことで容易に判定することができる。
The
図9は、単位比較回路100のオフセット電圧値の確率密度分布を示している。ここで、分析部13は、閾値となる測定すべき電圧が、−150[mV]を下回ったかどうかを判定するものとする。すなわち、分析部13は、比較部11を構成する単位比較器100のうち、例えば、判定基準の閾値電圧である−150[mV]を境に異なる比較結果が得られる単位比較器100として、図6に示す斜線部分に該当する単位比較器100を選択する。図6において、全体の面積に対する斜線部Aの面積を5%とすると、例えば64bitの単位比較器100からなる比較部11では、3個程度が斜線部Aに相当するオフセット電圧を持つこととなる。不純物の数や配置がバラツキの代表的な成因であることからもわかるように、オフセット電圧は単位比較器に固有の値をとり、チップが特定されれば、単位比較器100毎のオフセット電圧は、一意に決定されるからである。
FIG. 9 shows the probability density distribution of the offset voltage value of the
分析部13は、測定処理を行う前に予め比較部11を構成する各単位比較器100のオフセット電圧を測定することにより、斜線部Aに近い3個を特定しておけば、測定すべき電圧が−150[mV]を下回ったかどうかを、その3個の単位比較器100により得られる比較結果のみを監視することで判定できる。
The
例えば、分析部13は、3個の出力の過半数である2個以上が0を出力するときに、測定電圧値が−150[mV]を下回っていると判定する。逆に、分析部13は、3個の出力のうち0が1個以下である場合には、測定電圧値が−150[mV]よりも大きいと判定する。具体的に、分析部13は、このような判定を次のようにして行う。
For example, the
分析部13は、上述した斜線部Aに相当する3つの単位比較器100をそれぞれA1、A2、A3とし、これらの単位比較器100により得られる比較結果の出力をOA1、OA2、OA3とする。そして、分析部13は、図10に示すような、過半数が0であることを判定する論理回路Y=f(OA1,OA2,OA3)の真理値表を予め作成しておく。なお、図10を実現する論理回路は、論理合成プログラム等を用いることで簡単に作成可能である。この論理回路は、着目する3ビットのみが分析対象となる入力となる。逆に、それ以外の単位比較器100から得られる61ビットの比較結果については監視する必要がないため、これらの61ビットのデータに関する分析処理を停止することができる。
The
なお、分析部13は、より簡易的な論理演算として、斜線部Aを代表する1ビットの単位比較器100のみから得られる比較結果を判定の基準としてもよく、この場合、該当する1ビットの単位比較器100の出力を監視するだけでよいため、より回路構成を簡略化させることができる。
The
次に、図11を参照して、第2の実施形態に係る電圧測定装置2について説明する。
Next, with reference to FIG. 11, a
この電圧測定装置2は、第1の実施形態に係る電圧測定装置1と同様に、比較部11と、シフトレジスタ12と、分析部13と、制御部14とを備え、さらに、比較部11を構成する複数の単位比較器100から任意の単位比較器100を選択するためのレジスタ15をさらに備えるものである。
Similar to the
レジスタ15は、比較部11を構成する64ビットの単位比較器100に1対1に対応する記憶素子からなり、制御部14により各記憶素子の値が制御され、各記憶素子が1になったとき、この記憶素子に対応する単位比較器100を動作させる選択信号ELM_EN[01]〜[63]を比較部11に出力する。
The
このような構成を有する電圧測定装置2は、このレジスタ15に制御信号PREC、EVAL等の信号をゲーティングしておき、出力を監視すべき対象となる単位比較器100を示すレジスタ15の各記憶素子からの出力に応じて、任意の単位比較器100のみを動作させることにより、所望の単位比較器100から得られる比較結果のみを分析部13に供給させることができる。
The
以上のような、第1の実施形態に係る電圧測定装置1、及び、第2の実施形態に係る電圧測定装置2は、次に示すような集積回路基板における任意の測定点に対して、上述した比較部11が有する単位比較器100を並列して接続して、この測定点における電圧値を測定することができる。特に、第1の実施形態に係る電圧測定装置1、及び、第2の実施形態に係る電圧測定装置2では、比較部11を構成する各単位比較器100の構成が、半導体上で実装しやすい回路構成を有しているので、以下に示すように、種々の集積回路基板内において測定対象となる測定点付近に容易に実装することができる。
The
図12は、本発明が適用された電圧測定装置が実装された集積回路基板5の構成例である。集積回路基板5は、図12に示すように、5つの電圧測定回路51、52、53、54、55を備える。電圧測定回路51、52、53、54は、それぞれ、本発明が適用された電圧測定装置であって、電源電圧降下を随時監視する。すなわち、集積回路基板5では、電圧測定回路51〜54が規定の電源電圧以下となる状態を検出することによって、例えば、電圧低下を知らせる警告の信号を発生させることができる。
FIG. 12 is a configuration example of the integrated
図13は、本発明が適用された電圧測定装置を用いて電源電圧を測定及び監視する機能を持つ集積回路基板6の構成例である。集積回路基板6では、回路ブロック61と、回路ブロック62と、これらの回路ブロック61、62の動作を制御する動作制御回路63と、本発明が適用された電圧測定回路64、65とを備える。集積回路基板6では、回路ブロック61と回路ブロック62に、それぞれ支線VDDA2とVDDB2を介して電源配線VDD2が接続されている。集積回路基板6では、例えば電圧測定回路64、65を、それぞれVDDA2とVDDB2に接続して、回路ブロック61、62における電圧変動を監視する。電圧測定回路64、65は、電圧測定結果を、動作制御回路63に送信する。そして、動作制御回路63は、送信されてきた電圧変動量に応じて、回路ブロック61と回路ブロック62とに制御信号を送信することによって、例えば、クロック周波数を低下させるなど回路動作を変更して更なる電圧降下を防止することができ、または、回路ブロック61、62に供給する電源電圧を発生させる電源電圧発生回路に対し、降下した電圧を補うよう供給する電源電圧をわずかに上昇させることができる。
FIG. 13 is a configuration example of an
図14は、本発明が適用された電圧測定装置をクロストークノイズの検出に用いた集積回路基板7の構成例である。集積回路基板7は、4つの回路ブロック71、72、73、74と、本発明が適用された電圧測定回路75とを備える。集積回路基板7では、回路ブロック71と回路ブロック73とを回路ブロック72を介して接続するため、平行に配線された長距離配線のクロストークノイズを電圧測定回路75で監視して、例えば、図示しない動作制御回路により監視結果から信号の送出タイミングを変更することで、ノイズによる誤動作を防止することができる。
FIG. 14 is a configuration example of an
図15は、本発明が適用された電圧測定装置を信号受信回路として用いた集積回路基板8の構成例である。集積回路基板8は、4つの回路ブロック81、82、83、84と、本発明が適用された電圧測定回路85とを備える。集積回路基板8では、電圧測定回路85が、回路ブロック81から回路ブロック84に入力されるある瞬間における信号レベルを検出してデジタル値として出力し、それを保持することが可能である。このようにして、集積回路基板8では、電圧測定回路85を、信号を受信する受信回路として用いることができる。
FIG. 15 is a configuration example of an
例えば、集積回路基板8において、64ビットの単位比較器100を有する電圧測定回路を用いて2値信号の受信を行う場合には、64ビットの半数である32ビットよりも“1”の出力数が多い場合にはレベルHを受信したと判定し、少ない場合にはレベルLを受信したと判定することができる。また、集積回路基板8では、比較部11が多数の単位比較器100を有することを利用すれば、最適なしきい値を動的に決めることにより、より安定した信号の送受信が可能となる。なお、2値信号の受信に限らず、4値の信号送信など、任意信号レベルに拡張可能である。
For example, when the binary signal is received using the voltage measurement circuit having the 64-
さらに、単一の集積回路基板内部の回路間の信号伝送に限定されず、図16に示すように、集積回路基板91と集積回路基板92との間での信号伝送における受信回路として、電圧測定装置93、94を実装することも可能である。
Further, the present invention is not limited to signal transmission between circuits within a single integrated circuit board, and as shown in FIG. 16, voltage measurement is performed as a receiving circuit in signal transmission between the integrated circuit board 91 and the
なお、本発明は、以上の実施形態のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の変更が可能であることは勿論である。 In addition, this invention is not limited only to the above embodiment, Of course, a various change is possible in the range which does not deviate from the summary of this invention.
1、2、93 電圧測定装置、11 比較部、12 シフトレジスタ、13 分析部、14 制御部、15 レジスタ、100 単位比較器、5、6、7、8、91、92 集積回路基板、51−54、64、75、85 電圧測定回路、61、62、71−73、81−84 回路ブロック、63 動作制御回路 1, 2, 93 Voltage measuring device, 11 comparison unit, 12 shift register, 13 analysis unit, 14 control unit, 15 register, 100 unit comparator, 5, 6, 7, 8, 91, 92 integrated circuit board, 51- 54, 64, 75, 85 Voltage measurement circuit, 61, 62, 71-73, 81-84 circuit block, 63 operation control circuit
Claims (6)
各々の上記単位比較器を構成する回路素子の特性のバラツキによる変動分を含む、各々の該単位比較器から得られる比較結果を分析して、上記測定電圧値を求める分析部とを備える電圧測定装置。 A plurality of unit comparators for comparing the measurement voltage value to be measured with a reference voltage value, and the same reference voltage value is input to each of the unit comparators, and each of the unit comparators outputs the measurement voltage value. A comparison unit for comparing with a reference voltage value determined according to the reference voltage value;
A voltage measurement comprising: an analysis unit that analyzes a comparison result obtained from each unit comparator, including a variation due to variations in characteristics of circuit elements constituting each unit comparator, and obtains the measured voltage value apparatus.
各々の上記単位比較器を構成する回路素子の特性のバラツキによる変動分を含む、各々の該単位比較器から得られる比較結果を分析して、上記測定電圧値を求める分析部とを備える集積回路基板。 A plurality of unit measurement circuits that are connected in parallel to the measurement point for measuring the voltage value and compare the measurement voltage value at the measurement point with the reference voltage value, and the same reference voltage value is input to each unit comparator. Each of the unit comparators compares the measured voltage value with a reference voltage value set according to the reference voltage value;
An integrated circuit comprising: an analysis unit that analyzes a comparison result obtained from each unit comparator including a variation due to variation in characteristics of circuit elements constituting each unit comparator and obtains the measured voltage value substrate.
各々の上記単位比較器を構成する回路素子の特性のバラツキによる変動分を含む、各々の該単位比較器から得られる比較結果を分析して、上記測定電圧値を求める分析ステップとを有する電圧測定方法。 The same reference voltage value is input to each of the plurality of unit measurement circuits that compare the measurement voltage value to be measured with the reference voltage value, and each of the unit comparators determines the measurement voltage value according to the reference voltage value. A comparison step for comparing with a set reference voltage value;
A voltage measurement including an analysis step of analyzing a comparison result obtained from each unit comparator including a variation due to variations in characteristics of circuit elements constituting each unit comparator and obtaining the measured voltage value Method.
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014003241A (en) * | 2012-06-20 | 2014-01-09 | Fujitsu Ltd | Substrate potential detection circuit, semiconductor integrated circuit and calibration method of substrate potential detection circuit |
JP2014134498A (en) * | 2013-01-11 | 2014-07-24 | Advantest Corp | Detection device, wafer and electronic device |
CN103995169A (en) * | 2014-04-25 | 2014-08-20 | 嘉兴泰鼎光电集成电路有限公司 | Test circuit for testing voltages of internal nodes of chips |
WO2023218598A1 (en) * | 2022-05-12 | 2023-11-16 | ファナック株式会社 | Voltage monitoring circuit and voltage monitoring method |
-
2008
- 2008-03-26 JP JP2008081781A patent/JP2009236627A/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014003241A (en) * | 2012-06-20 | 2014-01-09 | Fujitsu Ltd | Substrate potential detection circuit, semiconductor integrated circuit and calibration method of substrate potential detection circuit |
JP2014134498A (en) * | 2013-01-11 | 2014-07-24 | Advantest Corp | Detection device, wafer and electronic device |
CN103995169A (en) * | 2014-04-25 | 2014-08-20 | 嘉兴泰鼎光电集成电路有限公司 | Test circuit for testing voltages of internal nodes of chips |
WO2023218598A1 (en) * | 2022-05-12 | 2023-11-16 | ファナック株式会社 | Voltage monitoring circuit and voltage monitoring method |
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