JP2009227881A - Surface structure-modified polyimide benzoxazole film - Google Patents

Surface structure-modified polyimide benzoxazole film Download PDF

Info

Publication number
JP2009227881A
JP2009227881A JP2008077046A JP2008077046A JP2009227881A JP 2009227881 A JP2009227881 A JP 2009227881A JP 2008077046 A JP2008077046 A JP 2008077046A JP 2008077046 A JP2008077046 A JP 2008077046A JP 2009227881 A JP2009227881 A JP 2009227881A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
treatment
polyimide benzoxazole
bis
aminophenoxy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2008077046A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Okuyama
哲雄 奥山
Nobushi Taniguchi
信志 谷口
Takeshi Yoshida
武史 吉田
Atsushi Okamoto
淳 岡本
Satoshi Maeda
郷司 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP2008077046A priority Critical patent/JP2009227881A/en
Publication of JP2009227881A publication Critical patent/JP2009227881A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide benzoxazole film whose adhesiveness is easily improved and also can be maintained even in a severe environment of high temperature and high humidity. <P>SOLUTION: The surface structure-modified polyimide benzoxazole film is produced by ion beam treatment of a polyimide benzoxazole film, and its surface area factor became ≥1.2 and ≤2.8, and polar component (γ<SB>sh</SB>) of the surface free energy of the film became 5 mN/m or less, and the polar component (γ<SB>sh</SB>) of the surface free energy of the film can be made at least 15 mN/m by electric discharge treatment or by active energy beam treatment of the film. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムに関し、詳しくは、接着剤に対する接着性が改善され、フレキシブルプリント配線板などの用途に好適な表面改質されたポリイミドベンゾオキサゾールフィルムに関する。   The present invention relates to a polyimide benzoxazole film, and more particularly to a surface-modified polyimide benzoxazole film having improved adhesion to an adhesive and suitable for applications such as flexible printed wiring boards.

ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムは、機械的特性などが他のポリイミドフィルムより優れているが(例えば、特許文献1、2)、一般的なポリイミドフィルムと同様に、接着剤を用いても金属に対する密着性が乏しいという問題があった。これまで、ポリイミドフィルムの表面改質による接着性の改良が種々提案されている。例えば、ポリイミドフィルムをアルカリ処理して表面改質する方法(例えば、特許文献3)、ポリイミドフィルムの表面をプラズマ処理する方法(例えば、特許文献4)、コロナ放電処理する方法(例えば、特許文献5)、反応性ガスを吹き込みながらエネルギーを有するイオン粒子を表面に照射し、表面の接触角を低下させ、接着力を制御する方法(特許文献6参照)などが提案されている。   The polyimide benzoxazole film is superior in mechanical properties to other polyimide films (for example, Patent Documents 1 and 2). However, as with general polyimide films, adhesion to metal is also possible using an adhesive. There was a problem of being scarce. Until now, various improvement of adhesiveness by surface modification of a polyimide film has been proposed. For example, a method of surface-modifying a polyimide film by alkali treatment (for example, Patent Document 3), a method of plasma-treating the surface of the polyimide film (for example, Patent Document 4), a method of corona discharge treatment (for example, Patent Document 5) ), A method of irradiating the surface with ion particles having energy while blowing a reactive gas, reducing the contact angle of the surface, and controlling the adhesive force (see Patent Document 6).

しかしながら、アルカリによる表面処理では、薬品に浸漬させるために、工程が複雑になることや、フィルムの強度が低下するなどという問題点がある。また、プラズマ処理やコロナ処理は、処理の初期にはそれなりの効果が認められるものの、経時的に効果が低下することが問題視されている。
以上のように、ポリイミドフィルムの表面改質技術については多くの検討がなされているが、ポリイミドフィルムより機械的特性などが優れているポリイミドベンゾオキサゾールフィルムについての提案は少なく、その接着性の改善が望まれている。
However, the surface treatment with alkali has problems that the process is complicated and the strength of the film is lowered because it is immersed in a chemical. In addition, although plasma treatment and corona treatment have some effects at the beginning of the treatment, it has been regarded as a problem that the effects decrease with time.
As described above, many studies have been made on the surface modification technology for polyimide films, but there are few proposals for polyimide benzoxazole films that have better mechanical properties than polyimide films, and the improvement in adhesion is not. It is desired.

特表平6−56992号公報Japanese National Patent Publication No. 6-56992 特表平10−508059号公報Japanese National Patent Publication No. 10-508059 特開平7−3055号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-3055 特開2004−51712号公報JP 2004-51712 A 特開平7−149929号公報JP-A-7-149929 特表平11−501696号公報Japanese National Patent Publication No. 11-501696

本発明者らは、先に、イオンを用いたイオンビームをフィルムに照射し、かつその際処理フィルムの近傍に酸素を導入するなどして、表面構造が特定のポリイミドベンゾオキサゾールフィルムが得られ、その接着性が優れたものであることを見出して提案した(特願2008−8781号)が、得られた表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムは、常温、常圧、一定の湿度下で短期間保存では、初期の接着性は維持するものの、数ヶ月以上の長期保存後に使用した場合には、その接着性を維持できないことが認められた。
本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。
すなわち、本発明の目的は、長期的にその接着性を維持でき、一旦接着性が失われても、簡単な処理で接着性が回復でき、接着後に高温多湿の過酷な環境下におかれても接着性を維持できる表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムを提供することである。
The present inventors previously obtained a polyimide benzoxazole film having a specific surface structure by, for example, irradiating the film with an ion beam using ions and introducing oxygen in the vicinity of the treated film. The surface structure-modified polyimide benzoxazole film obtained and proposed by finding that the adhesiveness is excellent (Japanese Patent Application No. 2008-8781) is a short period of time under normal temperature, normal pressure and constant humidity. In storage, the initial adhesiveness was maintained, but when used after long-term storage for several months or more, it was confirmed that the adhesiveness could not be maintained.
The present invention has been made against the background of such prior art problems.
That is, the object of the present invention is to maintain the adhesiveness for a long time, and even if the adhesiveness is once lost, the adhesiveness can be recovered by a simple treatment, and after adhesion, it is placed in a severe environment of high temperature and humidity. Is to provide a surface structure modified polyimide benzoxazole film that can maintain adhesion.

本発明者らの原因究明の結果、接着性を維持できない理由は、表面改質フィルムの表面エネルギーのうちの極性成分が低下することが原因であることが判明し、本発明に到達した。
すなわち本発明は以下の構成になる。1. ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムがイオンビーム処理されて表面積率が1.2以上、2.8以下で、該フィルムの表面エネルギーのうちの極性成分(γsh)が5mN/m以下となったフィルムであって、該フィルムの表面自由エネルギーのうちの極性成分(γsh)が5mN/m以下となったフィルムであって、該フィルムを放電処理又は活性エネルギー線処理して前記表面自由エネルギーのうちの極性成分(γsh)を15mN/m以上とすることが可能であることを特徴とする表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルム。
2. ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムが、引張弾性率が4GPa以上10GPa以下、厚さが7μm以下1μm以上である1.の表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルム。
3. イオンビーム処理に用いるガスが、酸素と窒素との混合ガスである1.又は2.の表面構造改質ポリイミドフィルム。
4. イオンビーム処理が、イオンガンを備えたロールツウロールフィルム処理装置においてなされ、処理して得られたフィルムが幅250mm以上2m以下、長さ10m以上20000m以下である1.〜3.いずれかに記載の表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルム。
5. ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムがイオンビーム処理されて該フィルムの表面積率が1.2以上、2.8以下で、かつ表面エネルギーのうちの極性成分(γsh)が5mN/m以下となったポリイミドベンゾオキサゾールフィルムを、放電処理又は活性エネルギー線処理して前記γshを15mN/m以上にすることを特徴とする表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの処理方法。
As a result of investigating the cause of the present inventors, it has been found that the reason why the adhesiveness cannot be maintained is that the polar component of the surface energy of the surface modified film is reduced, and the present invention has been reached.
That is, the present invention has the following configuration. 1. A film in which a polyimide benzoxazole film has been subjected to ion beam treatment to have a surface area ratio of 1.2 or more and 2.8 or less, and a polar component (γ sh ) of the surface energy of the film is 5 mN / m or less. A polar component (γ sh ) of the surface free energy of the film is 5 mN / m or less, and the polar component of the surface free energy is obtained by subjecting the film to discharge treatment or active energy ray treatment. A surface structure modified polyimide benzoxazole film characterized in that (γ sh ) can be 15 mN / m or more.
2. 1. The polyimide benzoxazole film has a tensile modulus of 4 GPa or more and 10 GPa or less, and a thickness of 7 μm or less and 1 μm or more. Surface modified polyimide benzoxazole film.
3. 1. Gas used for ion beam treatment is a mixed gas of oxygen and nitrogen Or 2. Surface structure modified polyimide film.
4). The ion beam treatment is performed in a roll-to-roll film processing apparatus equipped with an ion gun, and the film obtained by the treatment has a width of 250 mm to 2 m and a length of 10 m to 20000 m. ~ 3. The surface structure-modified polyimide benzoxazole film according to any one of the above.
5. A polyimide benzoxazole film whose surface area ratio is 1.2 to 2.8 and the polar component (γ sh ) of the surface energy is 5 mN / m or less by ion beam treatment of the polyimide benzoxazole film. A method for treating a surface structure-modified polyimide benzoxazole film, characterized in that the film is subjected to discharge treatment or active energy ray treatment so that the γ sh is 15 mN / m or more.

本発明の表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムは、常温、常圧、一定の湿度のもと数ヶ月以上の長期保存でそのままでは接着性が低い場合であっても、簡便なプラズマ処理などでその表面自由エネルギーの極性成分を容易に高くすることができるため、接着性を向上させることができる。しかも、表面未処理のポリイミドベンゾオキサゾールフィルムと同等のフィルム機械特性を保有することができる。
また、本発明の表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムは、その特異な表面構造と表面自由エネルギーの極性成分が高い値となるため、接着後に熱処理や湿熱処理などの高温多湿の過酷な環境下でも高い接着性を維持することができ、信頼性が要求されるプリント配線板(PWB)、FPC、TABテープ等の電子部品へ好適に用いることができる。
The surface structure-modified polyimide benzoxazole film of the present invention can be obtained by simple plasma treatment, etc., even if the adhesiveness is low as it is after long-term storage for several months or more under normal temperature, normal pressure, and constant humidity. Since the polar component of the surface free energy can be easily increased, the adhesiveness can be improved. Moreover, film mechanical properties equivalent to those of the untreated polyimide benzoxazole film can be retained.
In addition, since the surface structure modified polyimide benzoxazole film of the present invention has a high value for its unique surface structure and the polar component of surface free energy, it can be used in a severe environment of high temperature and high humidity such as heat treatment or wet heat treatment after bonding. High adhesiveness can be maintained, and it can be suitably used for electronic components such as a printed wiring board (PWB), FPC, and TAB tape that require reliability.

本発明におけるポリイミドベンゾオキサゾールフィルムは、ベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類(アミン、およびアミド結合性誘導体を総称して類という、以下同)と、芳香族テトラカルボン酸無水物類(無水物、酸、およびアミド結合性誘導体を総称して類という、以下同)とを反応させて得られるポリイミドを主成分とするフィルムである。反応は、まず、溶媒中でジアミン類とテトラカルボン酸無水物類とを開環重付加反応に供してポリアミド酸溶液を得て、次いで、このポリアミド酸溶液からグリーンフィルムなどを成形した後に脱水縮合(イミド化)することによりなされる。
<芳香族ジアミン類>
本発明で用いるベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類の分子構造は特に限定されるものではなく、具体的には以下のものが挙げられる。
The polyimide benzoxazole film in the present invention is composed of aromatic diamines having a benzoxazole structure (hereinafter collectively referred to as amines and amide-bonded derivatives), and aromatic tetracarboxylic acid anhydrides (anhydrides, It is a film mainly composed of polyimide obtained by reacting acid and amide bond derivatives generically, referred to below as the same). In the reaction, diamines and tetracarboxylic acid anhydrides are first subjected to a ring-opening polyaddition reaction in a solvent to obtain a polyamic acid solution, and then a green film or the like is formed from the polyamic acid solution, followed by dehydration condensation. (Imidization) is performed.
<Aromatic diamines>
The molecular structure of aromatic diamines having a benzoxazole structure used in the present invention is not particularly limited, and specific examples include the following.

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

これらの中でも、合成のし易さの観点から、アミノ(アミノフェニル)ベンゾオキサゾールの各異性体が好ましく、5−アミノ−2−(p−アミノフェニル)ベンゾオキサゾールがより好ましい。ここで、「各異性体」とは、アミノ(アミノフェニル)ベンゾオキサゾールが有する2つアミノ基が配位位置に応じて定められる各異性体である(例;上記「化1」〜「化4」に記載の各化合物)。これらのジアミンは、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。   Among these, from the viewpoint of easy synthesis, each isomer of amino (aminophenyl) benzoxazole is preferable, and 5-amino-2- (p-aminophenyl) benzoxazole is more preferable. Here, “each isomer” refers to each isomer in which two amino groups of amino (aminophenyl) benzoxazole are determined according to the coordination position (eg, the above “formula 1” to “formula 4”). Each compound described in the above. These diamines may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、全ジアミンの30モル%以下であれば下記に例示されるベンゾオキサゾール構造を有しないジアミン類を一種または二種以上を併用しても構わない。そのようなジアミン類としては、例えば、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、m−アミノベンジルアミン、p−アミノベンジルアミン、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホキシド、3,4’−ジアミノジフェニルスルホキシド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホキシド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、   In the present invention, one or two or more diamines having no benzoxazole structure exemplified below may be used as long as they are 30 mol% or less of the total diamine. Examples of such diamines include 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, and bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl]. Sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, p-phenylenediamine, m-aminobenzylamine, p-aminobenzylamine, 3,3′-diamino Diphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dia Nodiphenyl sulfide, 3,3′-diaminodiphenyl sulfoxide, 3,4′-diaminodiphenyl sulfoxide, 4,4′-diaminodiphenyl sulfoxide, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, 3,4′-diaminodiphenyl sulfone, 4 , 4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminobenzophenone, 3,4′-diaminobenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone,

3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、1,4−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、2,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、2−[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−2−[4−(4−アミノフェノキシ)−3−メチルフェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−3−メチルフェニル]プロパン、2−[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−2−[4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、 3,3′-diaminodiphenylmethane, 3,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 1,1-bis [4- (4-amino) Phenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,1- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 1,4-bis [4- 4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2,3-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2- [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -2- [4- (4-aminophenoxy) -3-methylphenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) -3-methylphenyl] propane, 2- [4- (4-Aminophenoxy) phenyl] -2- [4- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy)- 3,5-dimethylphenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane,

1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホキシド、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、4,4’−ビス[(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) ) Biphenyl, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- ( 4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) ) Benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [4- (3 Aminophenoxy) benzoyl] benzene, 4,4-bis [(3-aminophenoxy) benzoyl] benzene,

1,1−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、2,2−ビス[3−(3−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、1,1−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホキシド、4,4’−ビス[3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4’−ビス[3−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4’−ビス[4−(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ]ベンゾフェノン、4,4’−ビス[4−(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホン、ビス[4−{4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ}フェニル]スルホン、1,4−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノ−6−トリフルオロメチルフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノ−6−フルオロフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノ−6−メチルフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノ−6−シアノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、 1,1-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide, 2,2-bis [3- (3-Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] methane, 1,1-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ethane, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, 4,4′-bis [3 -(4-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [3- (3-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [4 (4-Amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4,4′-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenylsulfone, bis [4- {4- ( 4-aminophenoxy) phenoxy} phenyl] sulfone, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) Phenoxy-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-trifluoromethylphenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- ( 4-amino-6-fluorophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-methylphenoxy) -α, α- Methylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-cyanophenoxy)-.alpha., alpha-dimethylbenzyl] benzene,

3,3’−ジアミノ−4,4’−ジフェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5,5’−ジフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4,5’−ジフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−5’−フェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジビフェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5,5’−ジビフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4,5’−ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−ビフェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5−ビフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4−ビフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−5’−ビフェノキシベンゾフェノン、1,3−ビス(3−アミノ−4−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−5−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−5−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−5−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−5−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、2,6−ビス[4−(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)フェノキシ]ベンゾニトリルおよび上記芳香族ジアミンの芳香環上の水素原子の一部もしくは全てがハロゲン原子、炭素数1〜3のアルキル基またはアルコキシル基、シアノ基、またはアルキル基またはアルコキシル基の水素原子の一部もしくは全部がハロゲン原子で置換された炭素数1〜3のハロゲン化アルキル基またはアルコキシル基で置換された芳香族ジアミン等が挙げられる。 3,3′-diamino-4,4′-diphenoxybenzophenone, 4,4′-diamino-5,5′-diphenoxybenzophenone, 3,4′-diamino-4,5′-diphenoxybenzophenone, 3, 3'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 4,4'-diamino-5-phenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-5'-phenoxybenzophenone, 3,3 '-Diamino-4,4'-dibiphenoxybenzophenone, 4,4'-diamino-5,5'-dibiphenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-4,5'-dibiphenoxybenzophenone, 3,3'- Diamino-4-biphenoxybenzophenone, 4,4′-diamino-5-biphenoxybenzophenone, 3,4 -Diamino-4-biphenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-5'-biphenoxybenzophenone, 1,3-bis (3-amino-4-phenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino- 4-phenoxybenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-5-phenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-5-phenoxybenzoyl) benzene, 1,3-bis (3-amino) -4-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-4-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-5-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-Amino-5-biphenoxybenzoyl) benzene, 2,6-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) pheno Si] A part or all of hydrogen atoms on the aromatic ring of benzonitrile and the above aromatic diamine are halogen atoms, alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms or alkoxyl groups, cyano groups, or hydrogen atoms of alkyl groups or alkoxyl groups. Examples thereof include aromatic diamines substituted with a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms partially or wholly substituted with a halogen atom or an alkoxyl group.

<芳香族テトラカルボン酸無水物類>
本発明で用いられるテトラカルボン酸無水物は芳香族テトラカルボン酸無水物類である。芳香族テトラカルボン酸無水物類としては、具体的には、以下のものが挙げられる。
<Aromatic tetracarboxylic acid anhydrides>
The tetracarboxylic acid anhydrides used in the present invention are aromatic tetracarboxylic acid anhydrides. Specific examples of the aromatic tetracarboxylic acid anhydrides include the following.

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
Figure 2009227881

Figure 2009227881
これらのテトラカルボン酸二無水物は単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
Figure 2009227881
These tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、全テトラカルボン酸二無水物の30モル%以下であれば下記に例示される非芳香族のテトラカルボン酸二無水物類を一種または二種以上を併用しても構わない。そのようなテトラカルボン酸無水物としては、例えば、ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、ペンタン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサ−1−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3−エチルシクロヘキサ−1−エン−3−(1,2),5,6−テトラカルボン酸二無水物、1−メチル−3−エチルシクロヘキサン−3−(1,2),5,6−テトラカルボン酸二無水物、1−メチル−3−エチルシクロヘキサ−1−エン−3−(1,2),5,6−テトラカルボン酸二無水物、1−エチルシクロヘキサン−1−(1,2),3,4−テトラカルボン酸二無水物、1−プロピルシクロヘキサン−1−(2,3),3,4−テトラカルボン酸二無水物、1,3−ジプロピルシクロヘキサン−1−(2,3),3−(2,3)−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル−3,4,3’,4’−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、1−プロピルシクロヘキサン−1−(2,3),3,4−テトラカルボン酸二無水物、1,3−ジプロピルシクロヘキサン−1−(2,3),3−(2,3)−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル−3,4,3’,4’−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらのテトラカルボン酸二無水物は単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。   In the present invention, one or two or more non-aromatic tetracarboxylic dianhydrides exemplified below may be used in combination as long as they are 30 mol% or less of the total tetracarboxylic dianhydrides. Examples of such tetracarboxylic acid anhydrides include butane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, pentane-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, and cyclobutanetetracarboxylic acid. Acid dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, cyclohex-1-ene-2,3 5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3-ethylcyclohex-1-ene-3- (1,2), 5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1-methyl-3-ethylcyclohexane-3 -(1,2), 5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1-methyl-3-ethylcyclohex-1-ene-3- (1,2), 5,6-tetracarboxylic dianhydride 1-ethylcyclohexane -(1,2), 3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1-propylcyclohexane-1- (2,3), 3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1,3-dipropylcyclohexane- 1- (2,3), 3- (2,3) -tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,4,3 ′, 4′-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.1] Heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 1-propylcyclohexane-1- (2,3), 3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1,3-dipropylcyclohexane-1 -(2,3), 3- (2,3) -tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.1] heptane -2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, Cyclo [2.2.2] octane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid A dianhydride etc. are mentioned. These tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more.

ジアミン類と、テトラカルボン酸無水物類とを重合してポリアミド酸を得るときに用いる溶媒は、原料となるモノマーおよび生成するポリアミド酸のいずれをも溶解するものであれば特に限定されないが、極性有機溶媒が好ましく、例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N−アセチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックアミド、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、スルホラン、ハロゲン化フェノール類等があげられる。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。溶媒の使用量は、原料となるモノマーを溶解するのに十分な量であればよく、具体的な使用量としては、モノマーを溶解した溶液に占めるモノマーの質量が、通常5〜40質量%、好ましくは10〜30質量%となるような量が挙げられる。   The solvent used when polymerizing diamines and tetracarboxylic acid anhydrides to obtain polyamic acid is not particularly limited as long as it dissolves both the raw material monomer and the polyamic acid to be produced. Organic solvents are preferred, such as N-methyl-2-pyrrolidone, N-acetyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphos Examples include hollic amide, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol dimethyl ether, sulfolane, and halogenated phenols. These solvents can be used alone or in combination. The amount of the solvent used may be an amount sufficient to dissolve the monomer as a raw material. As a specific amount used, the mass of the monomer in the solution in which the monomer is dissolved is usually 5 to 40% by mass, The amount is preferably 10 to 30% by mass.

ポリアミド酸を得るための重合反応(以下、単に「重合反応」ともいう)の条件は従来公知の条件を適用すればよく、具体例として、有機溶媒中、0〜80℃の温度範囲で、10分〜30時間連続して撹拌および/または混合することが挙げられる。必要により重合反応を分割したり、温度を上下させてもかまわない。この場合に、両モノマーの添加順序には特に制限はないが、芳香族ジアミン類の溶液中に芳香族テトラカルボン酸無水物類を添加するのが好ましい。重合反応によって得られるポリアミド酸溶液に占めるポリアミド酸の質量は、好ましくは5〜40質量%、より好ましくは10〜30質量%であり、前記溶液の粘度はブルックフィールド粘度計による測定(25℃)で、送液の安定性の点から、好ましくは10〜2000Pa・sであり、より好ましくは100〜1000Pa・sである。   Conventionally known conditions may be applied for the polymerization reaction for obtaining the polyamic acid (hereinafter also simply referred to as “polymerization reaction”). As a specific example, in a temperature range of 0 to 80 ° C., 10 Stirring and / or mixing continuously for 30 minutes. If necessary, the polymerization reaction may be divided or the temperature may be increased or decreased. In this case, the order of adding both monomers is not particularly limited, but it is preferable to add aromatic tetracarboxylic anhydrides to the solution of aromatic diamines. The mass of the polyamic acid in the polyamic acid solution obtained by the polymerization reaction is preferably 5 to 40 mass%, more preferably 10 to 30 mass%, and the viscosity of the solution is measured by a Brookfield viscometer (25 ° C.). And from the stability point of liquid feeding, Preferably it is 10-2000 Pa.s, More preferably, it is 100-1000 Pa.s.

重合反応中に真空脱泡することは、良質なポリアミド酸溶液を製造するのに有効である。また、重合反応の前に芳香族ジアミン類に少量の末端封止剤を添加して重合を制御することを行ってもよい。末端封止剤としては、無水マレイン酸等といった炭素−炭素二重結合を有する化合物が挙げられる。無水マレイン酸を使用する場合の使用量は、芳香族ジアミン類1モル当たり好ましくは0.001〜1.0モルである。
重合反応により得られるポリアミド酸溶液から、ポリイミドフィルムを形成するためには、ポリアミド酸溶液を支持体上に塗布して乾燥することによりグリーンフィルム(自己支持性の前駆体フィルムを得て、次いで、グリーンフィルムを熱処理に供することでイミド化反応させる方法が挙げられる。
支持体へのポリアミド酸溶液の塗布は、スリット付き口金からの流延、押出機による押出し、等を含むが、これらに限られず、従来公知の溶液の塗布手段を適宜用いることができる。
Vacuum defoaming during the polymerization reaction is effective for producing a good quality polyamic acid solution. Moreover, you may perform superposition | polymerization by adding a small amount of terminal blockers to aromatic diamines before a polymerization reaction. Examples of the end capping agent include compounds having a carbon-carbon double bond such as maleic anhydride. The amount of maleic anhydride used is preferably 0.001 to 1.0 mol per mol of aromatic diamine.
In order to form a polyimide film from the polyamic acid solution obtained by the polymerization reaction, a green film (a self-supporting precursor film is obtained by applying the polyamic acid solution on a support and drying, then, A method of imidizing the green film by subjecting it to a heat treatment can be mentioned.
Application of the polyamic acid solution to the support includes, for example, casting from a die with a slit and extrusion by an extruder, but is not limited thereto, and conventionally known solution application means can be appropriately used.

支持体上に塗布したポリアミド酸を乾燥してグリーンシートを得る条件は特に限定はなく、温度としては70〜150℃が例示され、乾燥時間としては、5〜180分間が例示される。そのような条件を達する乾燥装置も従来公知のものを適用でき、熱風、熱窒素、遠赤外線、高周波誘導加熱などを挙げることができる。次いで、得られたグリーンシートから目的のポリイミドベンゾオキサゾールフィルムを得るために、イミド化反応を行わせる。その具体的な方法としては、従来公知のイミド化反応を適宜用いることが可能である。例えば、閉環触媒や脱水剤を含まないポリアミド酸溶液を用いて、必要により延伸処理を施した後に、加熱処理に供することでイミド化反応を進行させる方法(所謂、熱閉環法)が挙げられる。この場合の加熱温度は100〜500℃が例示され、フィルム物性の点から、より好ましくは、150〜250℃で3〜20分間処理した後に350〜500℃で3〜20分間処理する2段階熱処理が挙げられる。   The conditions for drying the polyamic acid coated on the support to obtain a green sheet are not particularly limited, and examples include a temperature of 70 to 150 ° C. and a drying time of 5 to 180 minutes. A conventionally known drying apparatus that satisfies such conditions can be applied, and examples thereof include hot air, hot nitrogen, far infrared rays, and high frequency induction heating. Subsequently, in order to obtain the target polyimide benzoxazole film from the obtained green sheet, an imidization reaction is performed. As a specific method thereof, a conventionally known imidization reaction can be appropriately used. For example, there may be mentioned a method (so-called thermal ring closure method) in which an imidization reaction proceeds by subjecting to a heat treatment after performing a stretching treatment as necessary using a polyamic acid solution not containing a ring closure catalyst or a dehydrating agent. The heating temperature in this case is exemplified by 100 to 500 ° C., and from the viewpoint of film physical properties, more preferably, a two-stage heat treatment in which treatment is performed at 350 to 500 ° C. for 3 to 20 minutes after treatment at 150 to 250 ° C. for 3 to 20 minutes. Is mentioned.

別のイミド化反応の例として、ポリアミド酸溶液に閉環触媒および脱水剤を含有させておいて、上記閉環触媒および脱水剤の作用によってイミド化反応を行わせる、化学閉環法を挙げることもできる。この方法では、ポリアミド酸溶液を支持体に塗布した後、イミド化反応を一部進行させて自己支持性を有するフィルムを形成した後に、加熱によってイミド化を完全に行わせることができる。この場合、イミド化反応を一部進行させる条件としては、好ましくは100〜200℃による3〜20分間の熱処理であり、イミド化反応を完全に行わせるための条件は、好ましくは200〜400℃による3〜20分間の熱処理である。 As another example of the imidization reaction, a chemical ring closure method in which a ring-closing catalyst and a dehydrating agent are contained in a polyamic acid solution and the imidization reaction is performed by the action of the ring-closing catalyst and the dehydrating agent can be exemplified. In this method, after applying the polyamic acid solution to the support, the imidization reaction is allowed to partially proceed to form a film having self-supporting properties, and then imidization can be performed completely by heating. In this case, the condition for partially proceeding with the imidization reaction is preferably a heat treatment for 3 to 20 minutes at 100 to 200 ° C., and the condition for allowing the imidization reaction to be completely performed is preferably 200 to 400 ° C. For 3 to 20 minutes.

本発明のポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、その効果の発現の顕著さにおいて7μm以下が好ましい。
従来7μm以下、特に5μm以下のポリイミドフィルムの長尺フィルムを工業的に安定的に製造することが困難であり、また得られたこれらの極薄ポリイミドフィルムはその厚さ斑が極端に大きく、例えば市販の7.5μmのポリイミドフィルムの厚さ斑は25%程度のものであり、寸法精度の要求される電子部品などにおいては品質上問題があった。
このポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの厚さはポリアミド酸溶液を支持体に塗布する際の塗布量や、ポリアミド酸溶液の濃度によって容易に制御し得る。
The thickness of the polyimide benzoxazole film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 7 μm or less in terms of the manifestation of the effect.
Conventionally, it is difficult to industrially stably produce a long film of a polyimide film of 7 μm or less, particularly 5 μm or less, and these ultrathin polyimide films obtained have extremely large thickness spots, for example, The thickness unevenness of a commercially available 7.5 μm polyimide film is about 25%, and there is a problem in quality in electronic parts that require dimensional accuracy.
The thickness of the polyimide benzoxazole film can be easily controlled by the amount of the polyamic acid solution applied to the support and the concentration of the polyamic acid solution.

本発明において、これらの厚さ斑が20%以下である7μm以下の厚さであるポリイミドベンゾオキサゾールフィルムを得る方法は、特に限定されるものではないが、好ましい方法として、(1)芳香族テトラカルボン酸類とベンゾオキサゾール骨格を有する芳香族ジアミン類とを反応させて得られるポリアミド酸を流延・乾燥し前駆体フィルム(ポリアミド酸フィルム)を得て、該前駆体フィルムを、フィルムの幅方向の両側端部におけるフィルム端部把持が、多数のクリップで挟み込むことやピンシートに設けられた多数のピンで突き刺すことによってなされ、幅方向およびまたは搬送方向に張設した状態でフィルムを搬送するテンター方式でイミド化させる厚さが7μm以下のポリイミドベンゾオキサゾールフィルムを得るポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの製造方法で、前駆体フィルムの幅方向の両側端部におけるフィルム把持が、イミド化される前駆体(ポリアミド酸)フィルムと細幅のポリイミドフィルムに接着剤層を設けた易接着性ポリイミドフィルムとを重ねて把持およびまたは突き刺すことで固定するポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの製造方法、(2)前記の細幅のポリイミドフィルムが、芳香族テトラカルボン酸類と芳香族ジアミン類とを反応させて得られるポリアミド酸を流延・乾燥して得られる前駆体フィルムのスリットした所謂前駆体フィルム(グリーンフィルム)である前記(1)の方法が挙げられる。   In the present invention, a method for obtaining a polyimide benzoxazole film having a thickness of 7 μm or less, in which these thickness spots are 20% or less, is not particularly limited, but a preferred method is (1) aromatic tetra A polyamic acid obtained by reacting a carboxylic acid with an aromatic diamine having a benzoxazole skeleton is cast and dried to obtain a precursor film (polyamic acid film). A tenter system that transports the film in a state of being stretched in the width direction and / or the transport direction, in which the film edge gripping at both ends is sandwiched by a large number of clips or pierced by a large number of pins provided on the pin sheet. To obtain a polyimide benzoxazole film having a thickness of 7 μm or less. In the manufacturing method of nzooxazole film, the film gripping at both ends in the width direction of the precursor film is easy adhesion by providing an adhesive layer on the precursor (polyamic acid) film to be imidized and the thin polyimide film A method for producing a polyimide benzoxazole film which is fixed by holding and / or piercing with a conductive polyimide film, and (2) the narrow polyimide film reacts with an aromatic tetracarboxylic acid and an aromatic diamine. The method of said (1) which is what is called a precursor film (green film) which slit the precursor film obtained by casting and drying the obtained polyamic acid is mentioned.

ここで、別に用意された細幅のフィルムは、前駆体フィルムの場合も接着剤層を設けた易接着性ポリイミドフィルムの場合も特に限定されるものではないが、処理される前駆体フィルムと同ジアミンと同テトラカルボン酸からのものが好ましく、製造されるポリイミドフィルムとは別に、同じポリアミド酸溶液を流延・乾燥して別の前駆体フィルムを作成し予め細幅にスリットし用意した細幅ポリイミド前駆体フィルムであるか前駆体フィルムをイミド化させたポリイミドフィルムが好ましく、これらをそのままスリットするか、接着剤層を設けた易接着性ポリイミドフィルムとして後スリットして作製することができる。 その細幅フィルムの幅は20〜80mmが好ましい。またこの別に用意された細幅のフィルムの厚さは、特に限定されないが好ましくは処理される(ポリイミドフィルムとして製造される)前駆体フィルムと同程度の厚さが好ましく、5〜13μmであり、5μm未満の場合には重ね合わせの補強効果が低減しがちとなり、また13μmを超える場合には重ね合わせの補強効果が、ポリイミドフィルムとして製造されるべき前駆体フィルムにおよび難くなりがちとなる。
本発明において7μm以下のポリイミドベンゾオキサゾールフィルムをロールツウロールでイオンガン処理などを行う場合は、ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムにポリエステルフィルムなどの剛性のあるフィルムを耐熱性接着剤などを介して裏打ちして使用し、処理後にこの裏打ちフィルムを剥離除去する方法を採用することが好ましい。
Here, the thin film prepared separately is not particularly limited in the case of the precursor film or the easily adhesive polyimide film provided with the adhesive layer, but it is the same as the precursor film to be processed. The diamine and the same tetracarboxylic acid are preferable, and apart from the polyimide film to be produced, the same polyamic acid solution is cast and dried to create another precursor film and prepared in advance by slitting to a narrow width. A polyimide precursor film or a polyimide film obtained by imidizing the precursor film is preferable, and these can be prepared by slitting them as they are or by slitting them as easy-adhesive polyimide films provided with an adhesive layer. The width of the narrow film is preferably 20 to 80 mm. The thickness of the thin film prepared separately is not particularly limited, but preferably the same thickness as the precursor film to be processed (manufactured as a polyimide film), preferably 5 to 13 μm, If it is less than 5 μm, the reinforcing effect of the overlay tends to be reduced, and if it exceeds 13 μm, the reinforcing effect of the overlay tends to be difficult for the precursor film to be produced as a polyimide film.
In the present invention, when a polyimide benzoxazole film having a thickness of 7 μm or less is subjected to ion gun treatment with roll-to-roll, a rigid film such as a polyester film is lined with a polyimide benzoxazole film through a heat-resistant adhesive or the like. It is preferable to employ a method of peeling and removing the backing film after the treatment.

本発明においては、表面構造改質処理後の表面積率が1.2以上、2.8以下であることが必須である。本発明における表面積率とは、表面が理想平面に対し、何倍の表面積を持つかを示すものであり、表面物性評価機能付走査型プローブ顕微鏡によって好適に求めることができる。具体的には、例えば、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製のSPA300/SPI3800Nを使用することができる。
この表面積率の範囲はより好ましくは1.3以上、2.6以下、さらに好ましくは1.4以上、2.5以下である。
In the present invention, it is essential that the surface area ratio after the surface structure modification treatment is 1.2 or more and 2.8 or less. The surface area ratio in the present invention indicates how many times the surface has a surface area with respect to an ideal plane, and can be suitably obtained by a scanning probe microscope with a surface physical property evaluation function. Specifically, for example, SPA300 / SPI3800N manufactured by SII Nano Technology can be used.
The range of the surface area ratio is more preferably 1.3 or more and 2.6 or less, and further preferably 1.4 or more and 2.5 or less.

本発明のフィルムの表面自由エネルギーのうちの極性成分(γsh)とは、D.K.Owens:J.Appl.Polym.Sci.,13巻,1741頁(1969)に基づいて、表面自由エネルギーγsv(単位:mN/m)は、γsv=γsd+γshであるとの定義に基づいて、ポリイミドベンゾオキサゾールフィルム上で実験的に求められるものである。
すなわち、ポリイミドベンゾオキサゾールフィルム上での純水(HO)とヨウ化メチレン(CH)のそれぞれの接触角θH2O、θCH2I2を測定し、以下の連立方程式a、bから求めることができる。
a.1+cosθH2O
2(γsd0.5((γH2Od0.5/γH2Ov)+2(γsh0.5((γH2Oh0.5/γH2Ov
b.1+cosθCH2I2
2(γsd0.5((γCH2I2d0.5/γCH2I2v)+2(γsh0.5((γCH2I2h0.5/γCH2I2v
γH2Od=21.8、γH2Oh=51.0、γH2Ov=72.8、
γCH2I2d=48.5、γCH2I2h=2.3、γCH2I2v=50.8
そこで、ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの表面自由エネルギーγsvは、γsdとγshの和で表され、本発明で言う極性成分とは、γshを意味する。
The polar component (γ sh ) in the surface free energy of the film of the present invention is D.I. K. Owens: J.M. Appl. Polym. Sci. , Vol. 13, p. 1741 (1969), the surface free energy γ sv (unit: mN / m) is tested on a polyimide benzoxazole film based on the definition that γ sv = γ sd + γ sh. Is required.
That is, the contact angles θ H2O and θ CH2I2 of pure water (H 2 O) and methylene iodide (CH 2 I 2 ) on the polyimide benzoxazole film are measured and obtained from the following simultaneous equations a and b. Can do.
a. 1 + cos θ H2O =
2 (γ sd ) 0.5 ((γ H2Od ) 0.5 / γ H2Ov ) +2 (γ sh ) 0.5 ((γ H2Oh ) 0.5 / γ H2Ov )
b. 1 + cos θ CH2I2 =
2 (γ sd ) 0.5 ((γ CH2I2d ) 0.5 / γ CH2I2v ) +2 (γ sh ) 0.5 ((γ CH2I2h ) 0.5 / γC H2I2v )
γ H2Od = 21.8, γ H2Oh = 51.0, γ H2Ov = 72.8,
γ CH2I2d = 48.5, γCH2I2h = 2.3, γCH2I2v = 50.8
Therefore, the surface free energy γ sv of the polyimide benzoxazole film is represented by the sum of γ sd and γ sh , and the polar component in the present invention means γ sh .

本発明におけるポリイミドベンゾオキサゾールフィルムは、フィルムの表面自由エネルギーのうちの極性成分(γsh)が5mN/m以下となって接着特性が著しく劣るようになっても、容易に表面自由エネルギーの極性成分(γsh)を15mN/m以上に高くすることができ、接着特性を向上させることができるフィルムである。表面自由エネルギーの極性成分(γsh)は、好ましくは、20mN/m以上、より好ましくは、25mN/m以上である。
表面自由エネルギーの極性成分(γsh)を15mN/m以上に高くする方法としては、該フィルムを放電処理又は活性エネルギー線処理する方法がある。
放電処理としては、減圧プラズマ処理、大気圧プラズマ処理、コロナ処理などを挙げることができ、活性エネルギー線処理としては、紫外線、電子線などを挙げることができる。
したがって、本発明のポリイミドベンゾオキサゾールフィルムは、イオンビーム処理されて該フィルムの表面積率が1.2以上、2.8以下であっても、最初からあるいは長期間の保存によって、表面自由エネルギーのうちの極性成分(γsh)が5mN/m以下であるフィルムを、放電処理又は活性エネルギー線処理することによって、前記γshを15mN/m以上にすることができるものでなければならない。
The polyimide benzoxazole film according to the present invention is easily polarized even if the polar component (γ sh ) of the surface free energy of the film is 5 mN / m or less and the adhesive properties are significantly deteriorated. (Γ sh ) is a film that can be increased to 15 mN / m or more and can improve adhesive properties. The polar component (γ sh ) of the surface free energy is preferably 20 mN / m or more, more preferably 25 mN / m or more.
As a method of increasing the polar component (γ sh ) of the surface free energy to 15 mN / m or more, there is a method of subjecting the film to a discharge treatment or an active energy ray treatment.
Examples of the discharge treatment include reduced-pressure plasma treatment, atmospheric pressure plasma treatment, corona treatment, and the like, and examples of the active energy ray treatment include ultraviolet rays and electron beams.
Therefore, even if the polyimide benzoxazole film of the present invention is subjected to ion beam treatment and the surface area ratio of the film is 1.2 or more and 2.8 or less, the surface free energy is reduced from the beginning or by long-term storage. The film should have a γ sh of 15 mN / m or more by subjecting a film having a polar component (γ sh ) of 5 mN / m or less to a discharge treatment or an active energy ray treatment.

本発明におけるポリイミドベンゾオキサゾールフィルムにおいては、表面積率が上記のの範囲で、かつ、表面自由エネルギーの極性成分(γsh)を15mN/m以上に高くすることによって、はじめてPCT処理(飽和水蒸気圧、121℃、2気圧)を96時間した後の接着性を示す剥離強度が4(N/cm)以上を維持するものとなる。表面積率が1.2に満たない場合はPCT処理(飽和水蒸気圧、121℃、2気圧)を96時間した後の接着性を示す剥離強度が4(N/cm)に満たないものとなり、表面積率が2.8を超える場合はPCT処理(飽和水蒸気圧、121℃、2気圧)を96時間した後の接着性を示す剥離強度が4(N/cm)以上であっても処理後フィルムの強度が実用に耐えるものとならない。また表面構造改質処理後の表面積率が1.2以上、2.8以下であって、かつRaが12〜30(nm)であることが好ましく、その機構は明白ではないがPCT処理(飽和水蒸気圧、121℃、2気圧)を96時間した後の接着性を示す剥離強度が十分実用に供することができないものとなる。 In the polyimide benzoxazole film of the present invention, the surface area ratio is in the above range, and the polar component (γ sh ) of the surface free energy is increased to 15 mN / m or more for the first time, by PCT treatment (saturated water vapor pressure, The peel strength showing the adhesiveness after 96 hours at 121 ° C. and 2 atmospheres is maintained at 4 (N / cm) or more. When the surface area ratio is less than 1.2, the peel strength indicating adhesion after 96 hours of PCT treatment (saturated water vapor pressure, 121 ° C., 2 atm) is less than 4 (N / cm). When the rate exceeds 2.8, even if the peel strength showing adhesion after 96 hours of PCT treatment (saturated water vapor pressure, 121 ° C., 2 atm) is 4 (N / cm) or more, Strength will not withstand practical use. Further, the surface area ratio after the surface structure modification treatment is preferably 1.2 or more and 2.8 or less, and Ra is preferably 12 to 30 (nm). The mechanism is not clear, but the PCT treatment (saturation) The peel strength showing the adhesiveness after 96 hours of water vapor pressure (121 ° C., 2 atm) is not sufficiently practical.

以下、実施例および比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。なお、以下の実施例における物性の評価方法は以下の通りである。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited by a following example. In addition, the evaluation method of the physical property in the following examples is as follows.

1.ポリアミド酸の還元粘度(ηsp/C)
ポリマー濃度が0.2g/dlとなるようにN−メチル−2−ピロリドン(又は、N,N−ジメチルアセトアミド)に溶解した溶液をウベローデ型の粘度管により30℃で測定した。
2.フィルムの厚さ
測定対象のフィルムについて、マイクロメーター(ファインリューフ社製、ミリトロン1245D)を用いて測定した。
1. Reduced viscosity of polyamic acid (ηsp / C)
A solution dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone (or N, N-dimethylacetamide) so that the polymer concentration was 0.2 g / dl was measured at 30 ° C. with an Ubbelohde type viscosity tube.
2. Film thickness The film to be measured was measured using a micrometer (Finereuf, Millitron 1245D).

3.表面積率、表面粗さRa測定法
表面形態の計測は表面物性評価機能付走査型プローブ顕微鏡(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製SPA300/SPI3800N)を使用した。計測はDFMモードで行い、カンチレバーはエスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製DF3又はDF20を使用した。スキャナーはFS−20Aを使用し、走査範囲は2mm四方、測定分解能は512×512ピクセルとした。計測像については二次傾き補正を行った後、装置付属のソフトウエアで表面積率、表面粗さRaを算出した。
4.剥離強度測定法
上記で得られた各フィルムの処理面同士を向かい合わせて接着した後に、PCT処理(飽和水蒸気圧、121℃、2気圧)を96時間した後の剥離強度を評価した。なお、接着は、京セラケミカル社製TFA880−CAを接着剤として用い、100℃でロールラミ後に160℃、1時間のプレスで硬化させた。試料の剥離強度は、下記測定条件のT字剥離試験で求めた。
装置名 ; 島津製作所社製 オートグラフAG−IS
測定温度 ; 室温
剥離速度 ; 50mm/min
雰囲気 ; 大気
測定サンプル幅; 1cm
3. Surface Area Ratio, Surface Roughness Ra Measurement Method The surface morphology was measured using a scanning probe microscope with a surface physical property evaluation function (SP300 / SPI3800N manufactured by SII Nanotechnology Inc.). The measurement was performed in the DFM mode, and DF3 or DF20 manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd. was used as the cantilever. The scanner used was FS-20A, the scanning range was 2 mm square, and the measurement resolution was 512 × 512 pixels. For the measurement image, after correcting the secondary inclination, the surface area ratio and the surface roughness Ra were calculated by the software attached to the apparatus.
4). Peel strength measurement method The treated surfaces of the films obtained above were bonded face to face, and then the peel strength after 96 hours of PCT treatment (saturated water vapor pressure, 121 ° C., 2 atm) was evaluated. The adhesive was TFA880-CA manufactured by Kyocera Chemical Co., Ltd. as an adhesive, and was cured by press at 160 ° C. for 1 hour after roll lamination at 100 ° C. The peel strength of the sample was determined by a T-shaped peel test under the following measurement conditions.
Device name: Autograph AG-IS, manufactured by Shimadzu Corporation
Measurement temperature; Room temperature Peeling speed; 50mm / min
Atmosphere: Air Measurement sample width: 1cm

5.表面自由エネルギー(γsv)の極性成分(γsh)の測定法
(1)フィルムの接触角の測定
測定フィルムを20℃、26%RHの条件下で1時間以上調湿した後に、純水(HO)とヨウ化メチレン(CH)のそれぞれの接触角θH2O、θCH2I2を測定した。
すなわち、協和界面科学(株)製、自動接触角計CA−X型を用い、1.8μlの液滴をフィルム上に滴下して液滴を作り、フィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接触角として測定した。接触角は1サンプル・1種類の液体につき5回測定し、5回の平均値をθH2O、θCH2I2とした。
(2)表面自由エネルギーの極性成分(γsh)の算出法
上記で得られた接触角θH2O、θCH2I2を、前記の文献(D.K.Owens:J.Appl.Polym.Sci.,13巻,1741頁(1969))に基づいて、文献中の連立方程式a、bに代入して表面自由エネルギーを計算し、γsv(表面自由エネルギー)=γsd+γsh(極性成分)の関係あるγsh(mN/m)を求めた。
5. Measurement method of polar component (γ sh ) of surface free energy (γ sv ) (1) Measurement of contact angle of film After conditioning the film at 20 ° C. and 26% RH for 1 hour or more, pure water ( The contact angles θ H2O and θ CH2I2 of H 2 O) and methylene iodide (CH 2 I 2 ) were measured.
That is, using the automatic contact angle meter CA-X type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., the liquid surface at the point where the film and the liquid come into contact with each other by forming 1.8 μl droplets on the film. The angle formed by the tangent to the film surface and the film surface was measured as the contact angle. The contact angle was measured five times for one sample and one kind of liquid, and the average value of the five times was defined as θ H2O and θ CH2I2 .
(2) Calculation method of polar component (γ sh ) of surface free energy The contact angles θ H2O and θ CH2I2 obtained above are calculated using the above-mentioned document (DK Owens: J. Appl. Polym. Sci., 13). Volume, p. 1741 (1969)), the surface free energy is calculated by substituting into simultaneous equations a and b in the literature, and γ sv (surface free energy) = γ sd + γ sh (polar component) γ sh (mN / m) was determined.

<重合例1>
<ベンゾオキサゾール構造を有するジアミンからなるポリアミド酸の重合>
窒素導入管、温度計、攪拌棒を備えた反応容器内を窒素置換した後、5−アミノ−2−(p−アミノフェニル)ベンゾオキサゾール500質量部を仕込んだ。次いで、N、N−ジメチルアセトアミド8000質量部を加えて完全に溶解させた後、ピロメリット酸二無水物485質量部を加え,25℃の反応温度で48時間攪拌すると、淡黄色で粘調なポリアミド酸溶液(A)が得られた。得られた溶液のηsp/Cは4.0dl/gであった。
<Polymerization Example 1>
<Polymerization of a polyamic acid composed of a diamine having a benzoxazole structure>
After the inside of the reaction vessel equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirring rod was purged with nitrogen, 500 parts by mass of 5-amino-2- (p-aminophenyl) benzoxazole was charged. Next, after 8000 parts by mass of N, N-dimethylacetamide was added and completely dissolved, 485 parts by mass of pyromellitic dianhydride was added and stirred at a reaction temperature of 25 ° C. for 48 hours. A polyamic acid solution (A) was obtained. The solution obtained had a ηsp / C of 4.0 dl / g.

<フィルム作成例1>
ポリアミド酸溶液(A)をステンレスベルトにスキージ/ベルト間のギャップを450μmとしてコーティングし、第一乾燥工程として3つの熱風式乾燥ゾーンにて雰囲気温度で90℃×7分間、90℃×7分間、90℃×7分間乾燥した。
乾燥後に自己支持性となった前駆体フィルムをステンレスベルトから剥離し、厚さ40μmのポリイミドベンゾオキサゾール前駆体フィルムを得た。
この剥離した前駆体フィルムを、熱風式乾燥ゾーンにて雰囲気温度150℃で10分間、両面乾燥を行った。
なお、ポリイミドベンゾオキサゾール前駆体フィルムの残留溶媒量は35.5質量%であった。
得られたポリイミドベンゾオキサゾール前駆体フィルムを、連続式の乾燥炉に通し、200℃にて3分間熱処理した後、450℃まで、約20秒間にて昇温し、450℃にて7分間熱処理し、5分間かけて室温まで冷却、褐色のポリイミドベンゾオキサゾールフィルム(A)を得た。同様に、膜厚のみを変えて、褐色のポリイミドベンゾオキサゾールフィルム(A2)、(A3)などを得た。
<Film creation example 1>
The polyamic acid solution (A) was coated on a stainless steel belt with a squeegee / belt gap of 450 μm, and as a first drying step, three hot-air drying zones at ambient temperature of 90 ° C. × 7 minutes, 90 ° C. × 7 minutes, Dry at 90 ° C. for 7 minutes.
The precursor film which became self-supporting after drying was peeled from the stainless steel belt to obtain a polyimide benzoxazole precursor film having a thickness of 40 μm.
This peeled precursor film was double-sided dried at an atmospheric temperature of 150 ° C. for 10 minutes in a hot air drying zone.
The residual solvent amount of the polyimide benzoxazole precursor film was 35.5% by mass.
The obtained polyimide benzoxazole precursor film was passed through a continuous drying furnace and heat-treated at 200 ° C. for 3 minutes, then heated to 450 ° C. for about 20 seconds and heat-treated at 450 ° C. for 7 minutes. The mixture was cooled to room temperature over 5 minutes to obtain a brown polyimide benzoxazole film (A). Similarly, brown polyimide benzoxazole films (A2) and (A3) were obtained by changing only the film thickness.

<参考例1〜5>
これらのフィルムを使用して真空槽中でロール走行させながら、イオンガンにて酸素イオン照射を行い、フィルムの表面を処理した。スパッタ装置を使い、表面処理を行った。スパッタ装置はロールツウロール方式の装置であり、巻き出し室、スパッタ室、予備室、巻き取り室へとロールからフィルムが移動されながら、順次、表面処理が行われ、その後に、ロールに巻き取られる。
各室の間は、スリットによって概略仕切られている。イオンガン室ではフィルムはチルロールに接しており、チルロールの温度(−5℃)によって冷やされ、ロール幅方向に均一な、イオン照射が出来るよう幅の広いイオンガンを用いた。イオンガンはAdvanced Energy Industries社の38CMLISを用いた。イオンガンに導入するガスとして酸素を用い、放電電圧520V、放電電流0.6A 放電電力300W、ビームガス流量45sccm、差動圧力3×10−1Paでイオンガンを動作させた。それぞれのポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの250mm幅のものを用い、ロール送り速度は0.05m/minとした。酸素はイオンガン以外からの導入はしなかった。
イオンガン処理のガスと使用フィルムを変えた以外は上記と同様にしてイオンガン処理を実施した。得られた各表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの処理後1日(空気中、20℃、70%RH)経過後のフィルムについての評価結果を参考例1〜5として表1に示した。
<Reference Examples 1-5>
While these films were rolled in a vacuum chamber, oxygen ions were irradiated with an ion gun to treat the film surface. Surface treatment was performed using a sputtering apparatus. The sputter device is a roll-to-roll type device, in which the film is moved from the roll to the unwinding chamber, the sputtering chamber, the spare chamber, and the winding chamber. It is done.
Each chamber is roughly partitioned by a slit. In the ion gun chamber, the film was in contact with the chill roll, cooled by the temperature of the chill roll (−5 ° C.), and a wide ion gun was used so that ion irradiation was uniform in the roll width direction. As the ion gun, 38CMLIS manufactured by Advanced Energy Industries was used. Oxygen was used as a gas to be introduced into the ion gun, and the ion gun was operated at a discharge voltage of 520 V, a discharge current of 0.6 A, a discharge power of 300 W, a beam gas flow rate of 45 sccm, and a differential pressure of 3 × 10 −1 Pa. Each polyimide benzoxazole film having a width of 250 mm was used, and the roll feed rate was 0.05 m / min. Oxygen was not introduced from anything other than the ion gun.
Ion gun treatment was carried out in the same manner as above except that the ion gun treatment gas and the film used were changed. Table 1 shows the evaluation results of the films after one day (in air, 20 ° C., 70% RH) after treatment of the obtained surface structure-modified polyimide benzoxazole films as Reference Examples 1 to 5.

Figure 2009227881
Figure 2009227881

<参考例6〜8>
イオンガン処理を行わないポリイミドベンゾオキサゾールフィルム(A)について、上記と同様の評価を行い、その結果を参考例6として表2に示した。
単位面積に加わるエネルギーを下げるために、フィルム送り速度を0.2m/minとした以外は実施例1と同様に表面処理したフィルムについての評価結果を参考例7として表2に示した。
ポリイミドベンゾオキサゾールフィルム(A)の250mm幅のものを、酸素のグロー放電でポリイミドフィルムの表面を処理した。処理時の条件は、O(酸素)ガス圧2×10−3Torr、流量50SCCM、放電周波数13.56MHz、出力450Wであり、処理時間は、フィルム送り速度0.1m/minで有効プラズマ照射幅が10cm程度のため、1箇所のプラズマ照射時間が1分間である。処理フィルムの評価結果を参考例8として、表2に示した。
なお、各処理フィルムの評価は、処理後1日(空気中、20℃、70%RH)経過後のフィルムについて実施した。
<Reference Examples 6-8>
The polyimide benzoxazole film (A) not subjected to ion gun treatment was evaluated in the same manner as described above, and the results are shown in Table 2 as Reference Example 6.
Table 2 shows the evaluation results for the surface-treated film in the same manner as in Example 1 except that the film feed rate was set to 0.2 m / min in order to reduce the energy applied to the unit area.
A polyimide benzoxazole film (A) having a width of 250 mm was subjected to oxygen glow discharge to treat the surface of the polyimide film. The processing conditions are O 2 (oxygen) gas pressure 2 × 10 −3 Torr, flow rate 50 SCCM, discharge frequency 13.56 MHz, output 450 W, and processing time is effective plasma irradiation at a film feed rate of 0.1 m / min. Since the width is about 10 cm, the plasma irradiation time at one place is 1 minute. The evaluation results of the treated film are shown in Table 2 as Reference Example 8.
In addition, evaluation of each process film was implemented about the film after 1 day (in air, 20 degreeC, 70% RH) progress after a process.

Figure 2009227881
Figure 2009227881

上記参考例1〜8のフィルムを、空気中、20℃、70%RHの環境下に保存(1日(初期)、60日及び120日)した場合の表面自由エネルギーの極性成分の経時変化について表3に示す。

Figure 2009227881
Change over time of polar components of surface free energy when the films of Reference Examples 1 to 8 are stored in air at 20 ° C. and 70% RH (1 day (initial), 60 days and 120 days). Table 3 shows.
Figure 2009227881

なお、60日及び120日保存経過後の各ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムについて、処理面同士を向かい合わせて接着した後に、PCT処理(飽和水蒸気圧、121℃、2気圧)を96時間した後の剥離強度は、いずれも2mN/m以下であった。   In addition, about each polyimide benzoxazole film after 60-day and 120-day preservation | save progress, after bonding a process surface facing each other, PCT process (saturated water vapor pressure, 121 degreeC, 2 atmospheres) after 96 hours peel strength All were 2 mN / m or less.

<実施例1〜5、比較例1〜3>
上記参考例1〜8のポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの120日保存経過後の各フィルムを、A4サイズにカットして、バッチ式のスパッタ装置を用いて、RIEモードで、酸素のグロー放電でポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの表面をプラズマ処理した。処理時の条件は、Oガス圧2×10−3Torr、流量50SCCM、放電周波数13.56MHz、出力450Wで、処理時間は、プラズマ照射時間が1分間である。
これらの簡便なプラズマ処理で得られた各ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムについての評価結果を表4に示した。
<Examples 1-5, Comparative Examples 1-3>
Each of the polyimide benzoxazole films in Reference Examples 1 to 8 after storage for 120 days is cut to A4 size, and is used in a RIE mode with a batch-type sputtering apparatus, and polyimide benzoxazole by glow discharge of oxygen. The surface of the film was plasma treated. The processing conditions are O 2 gas pressure 2 × 10 −3 Torr, flow rate 50 SCCM, discharge frequency 13.56 MHz, output 450 W, and processing time is plasma irradiation time 1 minute.
Table 4 shows the evaluation results for each polyimide benzoxazole film obtained by these simple plasma treatments.

Figure 2009227881
Figure 2009227881

本発明の表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムは、簡便なプラズマ処理で表面自由エネルギーの極性成分の値が容易に高くなるとともに、接着剥離試験による剥離強度が高く、接着性が向上していることがわかる。   The surface structure-modified polyimide benzoxazole film of the present invention has a high value of the polar component of the surface free energy by simple plasma treatment, high peel strength by an adhesion peel test, and improved adhesion. I understand.

本発明の表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムは、簡単な処理で接着性を向上させることができ、かつポリイミドベンゾオキサゾールフィルムのPCT処理後の接着性(剥離強度)を実用的な値にすることができる。このため、フレキシブルプリント配線板などの電子部品における高温多湿の過酷な環境でも使用することがより可能となり、しかも、その表面構造改質処理方法が非常に容易であることからも、産業界に大きく寄与することが期待できる。   The surface structure-modified polyimide benzoxazole film of the present invention can improve the adhesion by a simple treatment, and the adhesion (peel strength) after the PCT treatment of the polyimide benzoxazole film should be a practical value. Can do. For this reason, it can be used even in harsh environments of high temperature and high humidity in electronic parts such as flexible printed wiring boards, and the surface structure modification treatment method is very easy. We can expect to contribute.

Claims (5)

ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムがイオンビーム処理されて表面積率が1.2以上、2.8以下で、該フィルムの表面自由エネルギーのうちの極性成分(γsh)が5mN/m以下となったフィルムであって、該フィルムを放電処理又は活性エネルギー線処理して前記表面自由エネルギーのうちの極性成分(γsh)を15mN/m以上とすることが可能であることを特徴とする表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルム。 This is a film in which a polyimide benzoxazole film has been subjected to ion beam treatment to have a surface area ratio of 1.2 or more and 2.8 or less and a polar component (γ sh ) of the surface free energy of the film of 5 mN / m or less. The surface structure modified polyimide benzo, wherein the film can be subjected to a discharge treatment or an active energy ray treatment so that the polar component (γ sh ) of the surface free energy can be 15 mN / m or more. Oxazole film. ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムが、引張弾性率が4GPa以上10GPa以下、厚さが7μm以下1μm以上である請求項1記載の表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルム。   The surface structure-modified polyimide benzoxazole film according to claim 1, wherein the polyimide benzoxazole film has a tensile modulus of 4 GPa to 10 GPa and a thickness of 7 µm to 1 µm. イオンビーム処理に用いるガスが、酸素と窒素との混合ガスである請求項1又は2に記載の表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルム。   The surface structure-modified polyimide benzoxazole film according to claim 1 or 2, wherein the gas used for the ion beam treatment is a mixed gas of oxygen and nitrogen. イオンビーム処理が、イオンガンを備えたロールツウロールフィルム処理装置においてなされ、処理して得られたフィルムが幅250mm以上2m以下、長さ10m以上20000m以下である請求項1〜3いずれかに記載の表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルム。 The ion beam treatment is performed in a roll-to-roll film processing apparatus equipped with an ion gun, and the film obtained by the treatment has a width of 250 mm or more and 2 m or less and a length of 10 m or more and 20000 m or less. Surface structure modified polyimide benzoxazole film. ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムがイオンビーム処理されて該フィルムの表面積率が1.2以上、2.8以下で、かつ表面自由エネルギーのうちの極性成分(γsh)が5mN/m以下となったポリイミドベンゾオキサゾールフィルムを、放電処理又は活性エネルギー線処理して前記γshを15mN/m以上にすることを特徴とする表面構造改質ポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの処理方法。 The polyimide benzoxazole film is subjected to ion beam treatment so that the surface area ratio of the film is 1.2 or more and 2.8 or less, and the polar component (γ sh ) of the surface free energy is 5 mN / m or less. A method for treating a surface structure-modified polyimide benzoxazole film, characterized in that an oxazole film is subjected to discharge treatment or active energy ray treatment so that the γ sh is set to 15 mN / m or more.
JP2008077046A 2008-03-25 2008-03-25 Surface structure-modified polyimide benzoxazole film Withdrawn JP2009227881A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008077046A JP2009227881A (en) 2008-03-25 2008-03-25 Surface structure-modified polyimide benzoxazole film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008077046A JP2009227881A (en) 2008-03-25 2008-03-25 Surface structure-modified polyimide benzoxazole film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009227881A true JP2009227881A (en) 2009-10-08

Family

ID=41243644

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008077046A Withdrawn JP2009227881A (en) 2008-03-25 2008-03-25 Surface structure-modified polyimide benzoxazole film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009227881A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012102205A (en) * 2010-11-09 2012-05-31 Ihi Corp Method for hydrophilicizing plastic surface

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012102205A (en) * 2010-11-09 2012-05-31 Ihi Corp Method for hydrophilicizing plastic surface

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI403408B (en) Novel polyimine film and use thereof
JP3953051B2 (en) Polyimide film and copper-clad laminated film using the same
JP2011020399A (en) Peelable polyimide film laminate
JP2003165850A (en) Polyimide film and method for producing the same
JP5402254B2 (en) Multilayer polyimide film
JP4774901B2 (en) Method for producing polyimide film
US20070221096A1 (en) Novel Polyimide Film
JP2007320058A (en) Laminated polyimide film with reinforcing backing film
JP4807073B2 (en) Method for producing polyimide film
JP3953057B2 (en) Polyimide benzoxazole film and method for producing the same
JP2009227881A (en) Surface structure-modified polyimide benzoxazole film
JP2007277493A (en) Polyimide film and its manufacturing method
JP5310345B2 (en) Laminated body
JP2007277494A (en) Polyimide film and its manufacturing method
JP2014201632A (en) Polyimide film and method for manufacturing the same
JP2006348259A (en) Polyimide film and method for producing the same
TW202112912A (en) Polyimide film, metal-clad laminate and circuit board featuring low dielectric loss tangent and excellent long-term heat-resistant adhesiveness
JP2007254643A (en) Slippery polyimide film, copper-clad laminated substrate, and circuit board
JP2006327022A (en) Apparatus for manufacturing polyimide film
JP2007191692A (en) Aromatic polyamide film and method for producing the same
JP2008138105A (en) Method for producing polyimide film
JP2009166406A (en) Laminated body and flexible wiring board using it
JP2008285514A (en) Method for producing polyimide film
JP2009167332A (en) Surface structure-modified polyimidebenzoxazole film
JP2007177116A (en) Process for producing polyimide film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110208

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20120605