JP2009218841A - High frequency substrate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば、無線信号等の高周波信号を伝送するトリプレート線路及びマイクロストリップ線路による高周波基板に関する。 The present invention relates to a high-frequency substrate using a triplate line and a microstrip line that transmit a high-frequency signal such as a radio signal, for example.
高周波信号の伝送において、信号を送信先に伝達する際に所望の電力値に設定するため、線路内に電力を減衰させる機構を設けることがある(例えば、特許文献1参照)。一般に同軸線路のようなケーブル線路の場合は、線路間にコネクタを介してアッテネータ等を挿入し、適宜挿入損失を調整するようにしている。しかしながら、基板線路の場合は、線路回路を一旦製造してしまうと線路途中に上記のような減衰手段を挿入することは困難であるため、挿入損失を調整することができない。
以上のように、挿入損失を調整する従来の方法では、基板線路に適用させることが困難であった。 As described above, the conventional method of adjusting the insertion loss is difficult to apply to the substrate line.
本発明は、上記事情によりなされたもので、その目的は、基板線路の製造後であっても線路の挿入損失を簡単に調整することが可能な高周波基板を提供することにある。 The present invention has been made under the circumstances described above, and an object of the present invention is to provide a high-frequency substrate capable of easily adjusting the insertion loss of the line even after the production of the substrate line.
上記目的を達成するため本発明は、1対のグランド層と、当該1対のグランド層間に積層される誘電体層と、当該誘電体層間に配置される信号線路とで形成されるトリプレート線路による高周波基板において、前記1対のグランド層の少なくとも一方は、前記信号線路と対向した位置の一部に一又は複数のスリットを備え、前記スリットの少なくとも一つは、前記グランド層の導電率よりも低い導電率の導電材料で閉塞されることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a triplate line formed by a pair of ground layers, a dielectric layer laminated between the pair of ground layers, and a signal line disposed between the dielectric layers. In the high-frequency substrate according to
上記構成における高周波基板は、グランド層に一又は複数のスリットを備え、このスリットの少なくとも一つをグランド層の導電率よりも導電率の低い導電材料で閉塞するようになっている。高周波基板は、スリットの導電材料による閉塞により、信号線路を伝送する信号の電力を減衰させて出力することが可能となる。 The high-frequency substrate in the above configuration includes one or a plurality of slits in the ground layer, and at least one of the slits is closed with a conductive material having a conductivity lower than that of the ground layer. The high-frequency substrate can attenuate and output the power of the signal transmitted through the signal line by blocking the slit with the conductive material.
本発明によれば、線路製作後であっても基板線路の挿入損失を簡単に調整することが可能な高周波基板を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a high-frequency substrate capable of easily adjusting the insertion loss of a substrate line even after the line is manufactured.
以下、図面を参照しながら本発明に係る高周波基板について詳細に説明する。 Hereinafter, a high-frequency substrate according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る高周波基板の斜視図である。本実施形態では、トリプレート線路による高周波基板について説明する。
(First embodiment)
FIG. 1 is a perspective view of a high-frequency substrate according to the first embodiment of the present invention. In the present embodiment, a high-frequency substrate using a triplate line will be described.
高周波基板は、1対のグランド(GND)層1,2と、GND層1,2の間に積層される誘電体層3と、誘電体層3に配線される信号線路4とを備える。ここで、本実施形態におけるGND層1,2及び信号線路4は、導箔からなる。
The high-frequency substrate includes a pair of ground (GND)
上記GND層1は、GND層1における信号線路4と対向する位置の一部に、誘電体層3まで貫通するスリット5を備える。
The
図2は、本実施例に係る高周波基板の平面図を示す。GND層1における信号線路4と対向する位置には、長方形形状のスリット5−1〜5−6が設置される。スリット5−1〜5−3及びスリット5−4〜5−6は、信号線路4の幅方向に整列して設置される。また、スリット5−1〜5−6の沿線方向の長さは、互いに同一である。また、伝送する高周波信号の波長をλとしたとき、スリット5−1〜5−3とスリット5−4〜5−6とは、λ/4離れた位置に設置される。
FIG. 2 is a plan view of the high-frequency substrate according to the present embodiment. At the position facing the
スリット5−1〜5−3は、高周波基板製造時におけるGND層1のエッチング工程により製造される。そのため、基板製造時のエッチング精度により寸法精度が確保される。また、スリットの開口寸法、及びスリットの個数等は、線路で要求される損失調整量や変化させる損失量のステップに応じて決定すればよい。
The slits 5-1 to 5-3 are manufactured by an etching process of the
図3は、本実施形態に係るスリット5−3,5−6を導電性樹脂6により閉塞した際の高周波基板の平面図を示す。スリット5−1〜5−3は、高周波基板の挿入損失が調整される場合、導電性樹脂6により閉塞される。スリット5−1〜5−3の閉塞は、スリット5−1〜5−3のうちの1箇所及びスリット5−4〜5−6のうちの1箇所(図3ではスリット5−3,5−6)、つまりλ/4間隔離れて同位置のスリットに対して行うものとする。
FIG. 3 is a plan view of the high-frequency substrate when the slits 5-3 and 5-6 according to the present embodiment are closed with the
導電性樹脂6は、導体の粉末を液状の樹脂に混入させたものであり、導電性と容量性の性質を併せ持つ。
The
次に上記構成の高周波基板において、スリット5の閉塞が、伝送する信号の電力値に与える影響を説明する。
Next, in the high-frequency substrate having the above-described configuration, the influence of the blocking of the
図4(a)〜(d)は、本実施形態に係るスリット5を導電性樹脂6により閉塞する際の高周波基板の平面図を示す図である。図4(a)はスリット5が未閉塞の状態を示す。このときの信号の電力値を、スリット5−1〜5−3が段階的に閉塞される際の基準とする。図4(b)はスリット5−3とスリット5−6とが閉塞されている状態を示し、図4(c)はスリット5−2,5−3とスリット5−5,5−6とが閉塞されている状態を示し、図4(d)はスリット5−1〜5−6が閉塞されている状態を示す。図4における区間A〜Eは、線路を区間ごとに分けたものである。
4A to 4D are plan views of the high-frequency substrate when the
図5は、高周波基板の区間A〜Eそれぞれにおける等価回路を示す。トリプレート線路は、等価回路としては同軸線路と同様に表現できる。そのため、トリプレート線路の等価回路は、抵抗値Rと誘導性Lを直列に接続し、GNDとの間に容量性Cを持つと考えることができる。ここで、スリット区間以外の区間A,C,EについてはR,L,Cは等しい(図中のR1,L1,C1)。しかし、区間B及びDについては、これらの区間とはインピーダンスが異なる。 FIG. 5 shows an equivalent circuit in each of the sections A to E of the high-frequency substrate. A triplate line can be expressed as an equivalent circuit in the same way as a coaxial line. Therefore, it can be considered that the equivalent circuit of the triplate line has a resistance value R and an inductive L connected in series and has a capacitive C between GND. Here, R, L, and C are equal in the sections A, C, and E other than the slit section (R1, L1, and C1 in the figure). However, the impedances of sections B and D are different from those sections.
スリット5−1〜5−6のいずれかを導電性樹脂6により閉塞した場合、インピーダンスはR1,L1,C1とは異なる値となる(図中のR2,L2,C2)。このインピーダンスの変化は、基準である図4(a)の挿入損失と比較して、高周波基板の挿入損失を増加させる方向に作用する。また、この作用は、閉塞されるスリット5の個数を増やすことでより強くなる。
When any of the slits 5-1 to 5-6 is closed by the
図6は、図4(a)〜(d)それぞれの場合における、高周波基板から出力される信号の電力値を示すグラフである。図6に示すように、高周波基板から出力される信号の電力値は、閉塞されるスリットの個数が増加するに従い、減衰する。スリットを導電性樹脂6で閉塞することにより、高周波基板の挿入損失が増加していることがわかる。つまり、基準である図4(a)の挿入損失を予め計測しておき、所望値との差分を導出した上で、必要数のスリットを導電性樹脂6で閉塞するだけで、挿入損失をコントロールすることができる。
FIG. 6 is a graph showing the power value of the signal output from the high-frequency substrate in each of the cases shown in FIGS. As shown in FIG. 6, the power value of the signal output from the high-frequency substrate attenuates as the number of closed slits increases. It can be seen that the insertion loss of the high-frequency substrate is increased by closing the slit with the
以上のように、上記第1の実施形態では、トリプレート線路のGND層1における信号線路4と対向する位置にスリット5−1〜5−6を作成する。そして、高周波基板の挿入損失を調整する際には、その挿入損失の度合いに基づいてスリット5−1〜5−6のうちのいずれかを導電性樹脂6で閉塞するようにしている。導電性樹脂6は、微量ながら電気を通すため、スリットを閉塞した導電性樹脂6から伝送される信号が漏れ、信号の電力が低下する。つまり、スリット5−1〜5−6を導電性樹脂6で閉塞することで、高周波基板の挿入損失を増加させることが可能となる。
As described above, in the first embodiment, the slits 5-1 to 5-6 are formed at positions facing the
また、GND層1は、信号線路4の幅方向に複数のスリットを備えるようにしている。このため、高周波基板は、導電性樹脂6により閉塞するスリットを信号線路4の幅方向に配置されたスリットから選択することで、高周波基板の挿入損失の増加量を操作することが可能となる。
Further, the
また、GND層1は、信号線路4の信号伝送方向にλ/4離間して1対のスリットを備えるようにしている。高周波信号の伝送では、線路の途中でインピーダンスが変化することは、線路の不整合を招き、反射波が発生し、リターンロス及びVSWR(Voltage Standing Wave Ratio)が悪化することが知られている。本発明において、λ/4隔ててスリットを作成することにより、区間B及び区間Dで発生する不要反射波を相殺して、線路の整合を保持することが可能となる。
Further, the
したがって、本発明の第1の実施形態に係る高周波基板は、線路製作後であっても基板線路の挿入損失を簡単に調整することができる。 Therefore, the high-frequency substrate according to the first embodiment of the present invention can easily adjust the insertion loss of the substrate line even after the line is manufactured.
なお、本実施形態では、スリット5がGND層1のみに配置される例について説明したが、GND層2のみに配置される場合、及び、GND層1,2共に配置される場合でも同様に実施可能である。
In the present embodiment, the example in which the
(第2の実施形態)
図7は、本発明の第2の実施形態に係る高周波基板の斜視図である。本実施形態では、マイクロストリップ線路による高周波基板について説明する。
(Second Embodiment)
FIG. 7 is a perspective view of a high-frequency substrate according to the second embodiment of the present invention. In the present embodiment, a high-frequency substrate using a microstrip line will be described.
マイクロストリップ線路である高周波基板は、GND層7と、GND層7に積層される誘電体層8と、誘電体層8に配線される信号線路9とを備える。
The high-frequency substrate which is a microstrip line includes a
上記GND層7は、GND層7における信号線路9と対向する位置の一部に、誘電体層8まで貫通するスリット10を備える。スリット10は、信号線路4の幅方向に2列に整列して設置される。また、スリットの沿線方向の長さは、互いに同一である。また、伝送する高周波信号の波長をλとしたとき、各列のスリットは、λ/4離間して設置される。
The
以上のように構成される第2の実施形態に係る高周波基板においても、上記第1の実施形態に係る高周波基板と同様の効果が得られる。つまり、マイクロストリップ線路のGND層7における信号線路9と対向する位置にスリット10を作成し、このスリット10を導電性樹脂6により閉塞することで、高周波基板の挿入損失を調整するようにしている。
Also in the high frequency board according to the second embodiment configured as described above, the same effects as those of the high frequency board according to the first embodiment can be obtained. That is, a
また、GND層7は、信号線路9の幅方向に複数のスリットを備えるようにしている。このため、高周波基板は、導電性樹脂6により閉塞するスリットを信号線路9の幅方向に配置されたスリットから選択することで、高周波基板の挿入損失の増加量を操作することが可能となる。
Further, the
また、GND層7は、信号線路9の信号伝送方向にλ/4離間して1対のスリットを備えるようにしている。これにより、区間B及び区間Dで発生する不要反射波を相殺して、線路の整合を保持することが可能となる。
Further, the
したがって、本発明の第2の実施形態に係る高周波基板は、線路製作後であっても基板線路の挿入損失を簡単に調整することができる。 Therefore, the high-frequency substrate according to the second embodiment of the present invention can easily adjust the insertion loss of the substrate line even after the line is manufactured.
なお、本実施形態では、スリット10がGND層7のみに配置される例について説明したが、信号線路9のみに配置される場合、及びGND層7と信号線路9との両方に配置される場合でも実施可能である。
In this embodiment, the example in which the
1…GND層、2…GND層、3…誘電体層、4…信号線路、5,5−1〜5−6…スリット、6…導電性樹脂、7…GND層、8…誘電体層、9…信号線路、10…スリット。
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記1対のグランド層の少なくとも一方は、前記信号線路と対向した位置の一部に一又は複数のスリットを備え、
前記スリットの少なくとも一つは、前記グランド層の導電率よりも低い導電率の導電材料で閉塞されることを特徴とする高周波基板。 In a high-frequency substrate by a triplate line formed by a pair of ground layers, a dielectric layer laminated between the pair of ground layers, and a signal line disposed between the dielectric layers,
At least one of the pair of ground layers includes one or a plurality of slits in a part of a position facing the signal line,
At least one of the slits is closed with a conductive material having a conductivity lower than that of the ground layer.
前記グランド層における前記信号線路と対向した位置の一部及び前記信号線路の一部の少なくとも一方に、一又は複数のスリットが形成され、
前記スリットの少なくとも一つは、前記グランド層及び前記信号線路の導電率よりも低い導電率の導電材料で閉塞されることを特徴とする高周波基板。 In a high-frequency substrate by a microstrip line formed by a ground layer, a dielectric layer laminated on the ground layer, and a signal line disposed on the dielectric layer,
One or more slits are formed in at least one of a part of the ground layer facing the signal line and a part of the signal line,
At least one of the slits is closed with a conductive material having a conductivity lower than that of the ground layer and the signal line.
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2008
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